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CN114824138A - 一种显示面板及其制备方法、显示装置 - Google Patents

一种显示面板及其制备方法、显示装置 Download PDF

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CN114824138A
CN114824138A CN202210460875.4A CN202210460875A CN114824138A CN 114824138 A CN114824138 A CN 114824138A CN 202210460875 A CN202210460875 A CN 202210460875A CN 114824138 A CN114824138 A CN 114824138A
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display panel
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CN202210460875.4A
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高思明
颜志敏
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Kunshan Govisionox Optoelectronics Co Ltd
Original Assignee
Kunshan Govisionox Optoelectronics Co Ltd
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Abstract

本发明提供了一种显示面板及其制备方法、显示装置。其中，显示面板包括基板；像素层，包括开口区和非开口区，像素层还包括位于开口区和非开口区的第一电极层，第一电极层在非开口区包括第一开孔；掩膜层，包括第二开孔；光学层；其中，掩膜层位于基板和光学层之间，光学层位于掩膜层和第一电极层之间，第二开孔在基板上的正投影位于第一开孔在基板上的正投影内，光学层用于扩散自第二开孔入射的刻蚀光线，同时扩散后的刻蚀光线对第一电极层刻蚀形成第一开孔。以使第一开孔的开孔面积不小于第二开孔的开孔面积，提高第一电极层的光透过率，从而提高显示面板的光透过率，以满足屏下指纹或屏下摄像等功能元件的工作需求。

Description

一种显示面板及其制备方法、显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，更具体地说，涉及一种显示面板及其制备方法、显示装置。
背景技术
随着生活及显示技术水平的不断提升，用户对于显示屏的屏占比提出了更高的要求，追求全面屏的显示效果成为用户和厂家的共同追求。
目前的全面屏显示面板中通常需要用到屏下指纹和/或屏下摄像技术，这对于显示面板在上述区域的光学透过率提出了更高的要求。
发明内容
有鉴于此，本发明实施例致力于提供一种光学透过率好的显示面板及其制备方法、显示装置，以实现提高光学透过率的目的。
第一方面，本发明实施例提供了一种显示面板，包括：
基板；
像素层，所述像素层包括开口区和非开口区，所述像素层还包括位于所述开口区和所述非开口区的第一电极层，所述第一电极层在所述非开口区包括第一开孔；
掩膜层，所述掩膜层包括第二开孔；
光学层；
其中，所述掩膜层位于所述基板和所述光学层之间，所述光学层位于所述掩膜层和所述第一电极层之间，所述第二开孔在所述基板上的正投影位于所述第一开孔在所述基板上的正投影内，所述光学层用于扩散自所述第二开孔入射的刻蚀光线，同时扩散后的所述刻蚀光线对所述第一电极层刻蚀形成所述第一开孔。
可选地，所述显示面板还包括第一显示区和围绕所述第一显示区的第二显示区；
所述第一开孔在所述基板上的正投影位于所述第一显示区内，所述第二开孔在所述基板上的正投影位于所述第一显示区内。
可选地，所述第一显示区包括透明显示区和围绕所述透明显示区的过渡区；
所述第一开孔在所述基板上的正投影位于所述透明显示区内，所述第二开孔在所述基板上的正投影位于所述透明显示区内。
可选地，所述光学层包括多个扩散结构，所述扩散结构对应所述第二开孔，所述显示面板还包括：覆盖所述扩散结构的接触绝缘层；
所述扩散结构包括扩散表面，所述扩散表面与所述接触绝缘层接触。
可选地，所述扩散结构的折射率小于所述接触绝缘层的折射率。
可选地，所述扩散表面包括凸向所述接触绝缘层的弧形表面和/或凸向所述接触绝缘层的折线表面。
可选地，所述扩散结构包括平凸透镜和/或第一棱镜，所述平凸透镜的弧面为所述扩散表面，所述第一棱镜包括由第一表面和第二表面形成的凸面，所述凸面为所述扩散表面。
可选地，所述扩散结构的折射率大于所述接触绝缘层的折射率。
可选地，所述扩散表面包括凹向所述接触绝缘层的弧形表面和/或凹向所述接触绝缘层的折线表面。
可选地，所述扩散结构包括平凹透镜和/或第二棱镜，所述平凹透镜的弧面为所述扩散表面，所述第二棱镜包括由第三表面和第四表面形成的凹面，所述凹面为所述扩散表面。
第二方面，本发明实施例还提供了一种显示面板的制备方法，包括：
提供基板；
在所述基板的第一表面形成掩膜层、光学层、像素层和第一电极层，所述掩膜层位于所述基板与所述光学层之间，所述像素层位于所述光学层背离所述基板一侧，所述像素层包括开口区和非开口区，所述像素层还包括位于所述开口区和所述非开口区的第一电极层，所述第一电极层在所述非开口区包括待刻蚀区域，所述掩膜层包括多个与所述待刻蚀区域对应的第二开孔；
以所述掩膜层为掩膜，自所述第二开孔提供刻蚀光线，所述刻蚀光线经过所述扩散结构的扩散后，照射在所述第一电极层的待刻蚀区域，以去除所述第一电极层待刻蚀区域的部分，形成第一开孔。
可选地，所述光学层通过有机气相沉积工艺形成。
第三方面，本发明实施例一种显示装置，包括如上述任一项所述的显示面板。
从上述技术方案可以看出，本发明实施例提供了一种显示面板及其制备方法、显示装置。其中，所述显示面板包括基板；像素层，包括开口区和非开口区，像素层还包括位于开口区和非开口区的第一电极层，第一电极层在非开口区包括第一开孔；掩膜层，包括第二开孔；光学层；其中，掩膜层位于基板和光学层之间，光学层位于掩膜层和第一电极层之间，第二开孔在基板上的正投影位于第一开孔在基板上的正投影内，光学层用于扩散自第二开孔入射的刻蚀光线，同时扩散后的刻蚀光线对第一电极层刻蚀形成第一开孔。以使第一开孔的开孔面积不小于掩膜层中的第二开孔的开孔面积，提高第一电极层的光透过率，从而提高显示面板的光透过率，以满足屏下指纹或屏下摄像等功能元件的工作需求。
附图说明
图1为现有技术中一种显示面板的剖面结构示意图；
图2为本发明的一个实施例提供的一种显示面板的俯视结构示意图；
图3为本发明的一个实施例提供的一种显示面板的剖面结构示意图；
图4为本发明的另一个实施例提供的一种显示面板的剖面结构示意图；
图5为本发明的又一个实施例提供的一种显示面板的剖面结构示意图；
图6为本发明的再一个实施例提供的一种显示面板的剖面结构示意图；
图7为本发明的一个可选实施例提供的一种显示面板的剖面结构示意图；
图8为本发明的一个实施例提供的一种显示面板的制备方法的流程示意图；
图9为本发明的一个实施例提供的基板的剖面示意图；
图10为本发明的一个实施例提供的一种未经刻蚀的显示面板的剖面示意图；
图11为本发明的一个实施例提供的一种利用刻蚀光线对第一电极层进行刻蚀的示意图；
图12为本发明的另一个可选实施例提供的一种显示面板的剖面结构示意图；
图13为本发明的一个实施例提供的一种显示装置的示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
申请概述
本发明的发明人在研究中注意到，为了满足全面屏的要求，通常需要在显示面板中设置一个或多个高透过率显示区，高透过率显示区的光透过率要大于正常显示区的光透过率，以满足屏下指纹或屏下摄像头等功能元件的光学要求。
高透过率显示区通常需要做一些特殊设计，例如降低高透过率显示区中的像素密度、提高高透过率显示区的材料透明度和减少高透过率显示区的膜层数量等。
在通过减少高透过率显示区的膜层数量的技术方向中，可以采用将高透过率显示区中显示像素的部分阴极去除的方式，提高高透过率显示区的光透过率，阴极去除区域可以是与显示像素的阳极互不交叠的区域，以避免对显示显示像素的正常工作带来负面影响。
参考图1，1表示基板，2表示掩模板，3表示平坦化层，4、表示阳极、5表示发光层、6表示阴极，6’表示阴极的待去除部分，7表示像素定义层。发明人通过进一步研究发现，当采用激光照射的方式去除部分阴极6时，激光通过掩膜板2的开孔区域入射到显示面板内部，利用激光能量去除照射到的阴极的待去除部分6’，。掩膜板开孔区域的面积为工艺设计参数，理论上掩膜板开孔区域的面积应该与阴极的待去除部分6’相等，但通过实际的生产实践发现，阴极的待去除部分6’的面积总是小于掩模板2开孔区域的面积，导致实际的阴极去除效果不佳，对高透过率显示区的光透过率提升不明显。
因此，有必要提供一种显示面板，以改善利用光线照射方法去除部分阴极的效果，从而提高显示面板的光透过率。
下面通过几个示例或实施例对本发明实施例提供的显示面板进行非限制性的说明，如下面所描述的，在不互相抵触的情况下这些具体示例或实施例中不同特征可以相互组合，从而得到新的示例或实施例，这些新的示例或实施例也都属于本发明保护的范围。
示例性显示面板
参考图2，图2是本发明的一个示例性实施例提供的显示面板的俯视结构示意图，图3是图2的剖面结构示意图，为了示意清楚，图3中仅示出了显示面板的部分剖面。
参考图2和图3，本发明的一个示例性实施例提供了一种显示面板，包括：
基板100，可选地，在本发明的一些实施例中，基板100可以是衬底基板，也可以是阵列基板，基板100可以包括相对设置的第一表面110和第二表面120。
像素层，像素层包括开口区310a和非开口区310b，像素层还包括位于开口区310a和非开口区310b的第一电极层310，第一电极层310在非开口区310b包括第一开孔311。可选地，像素层还包括发光层320，发光层320用于构成像素层中的显示像素。
光学层，可选地，光学层包括多个扩散结构400，扩散结构400可以与第一开孔311一一对应。
其中，掩膜层200位于基板100与光学层之间，光学层位于掩膜层200与第一电极层310之间，第二开孔201在基板上的正投影位于第一开孔311在基板100上的正投影内。光学层用于扩散自第二开孔201入射的刻蚀光线，同时扩散后的刻蚀光线对第一电极层310刻蚀形成第一开孔311。
一般情况下，光学层中的扩散结构400、第一电极层310和掩膜层200之间的位置关系只要满足扩散结构400位于第一电极层310和掩膜层200之间，即可使得扩散结构400具有将从第二表面120入射的刻蚀光线进行扩散的作用。例如，参考图4，在显示面板的制备过程中，第一电极层310一般为整层结构，当需要对部分第一电极层310去除时，可利用刻蚀光线从第二表面120一侧对第一电极层310的第一开孔311所在位置进行照射，以利用刻蚀光线的能量去除第一开孔311所在位置的第一电极层310，从而形成第一开孔311。由于扩散结构400的存在，可以对入射的刻蚀光线进行扩散，使得在利用刻蚀光线对第一电极层310进行开孔获得第一开孔311时，可以使开孔获得的第一开孔311的尺寸不小于掩膜层200的第二开孔201开孔面积，进而使得第一开孔311的开孔尺寸满足设计要求，避免第一开孔311的开孔尺寸小于设计尺寸的情况出现，提高显示面板在第一开孔311所在区域的光透过率，满足例如指纹模组、摄像头等功能元件的工作要求。
结合图3和图4可知，只要满足扩散结构400位于第一电极层310和掩膜层200之间，即可实现上述目的，本发明对扩散结构400和掩膜层200的具体设置膜层并不做限定，具体视显示面板的实际结构而定。
在图3和图4中，还示出了第一绝缘层210、第二绝缘层220、第三绝缘层230以及显示像素的第二电极330，第二电极330、发光层320和第一电极层310共同构成了像素层。其中的第一绝缘层210、第二绝缘层220是用于隔离显示面板中金属层的绝缘层，例如可以是栅绝缘层、平坦化层和层间介质层中的一者。第三绝缘层230可以是用于限定显示像素所在区域的绝缘层，例如可以是像素定义层。不难理解的是，显示面板中的像素层中会设置大量的显示像素，图3和图4中为了显示清楚，仅示出了两个显示像素。
为了保证显示面板上各显示像素的正常工作，第一开孔311在基板100上的正投影通常与发光层320或第二电极330在基板上的正投影互不交叠，以保证第一开孔311位于非开口区310b内，以避免第一开孔311对显示像素的正常工作造成不良影响。
图3和图4中示出了两种可行的扩散结构400、掩膜层200的设置位置关系，本发明的一些实施例中，扩散结构400可以与绝缘层同层，也可与金属层(例如形成第二电极330的金属层)同层，掩膜层200可以与绝缘层同层，也可与金属层(例如形成薄膜晶体管的栅极或漏极的金属层)同层，本发明中如无特别说明，“同层”可以是指是指距离基板100之间的距离近似相等，也可以是指在同一道工序中形成。扩散结构400的制备工艺包括但不限于有机气相沉积法(Organic Vapor Phase Deposition)。本发明对扩散结构400和掩膜层200之间可行的相对位置关系并不做穷举，具体视实际情况而定。
刻蚀光线是指用于对特定膜层进行刻蚀的光线，该刻蚀光线可以是一些能量密度大的光线，例如激光等，本发明对此并不做限定。
可选地，在本发明的一个示例性实施例中，多个第一开孔311在基板100上的正投影互不交叠。当第一开孔311彼此之间互不连通时，可以使得第一电极层310仍然保持为一个整体膜层，在工作时，仅需要为第一电极层310提供一个电压信号即可满足所有显示像素的工作需求，无需为每个显示像素的第一电极(例如阴极)提供单独的电压信号，有利于简化显示面板的整体结构。
在本发明的其他示例性实施例中，也可以有两个或两个以上的第二开孔311彼此连通，此时如果多个彼此连通的第二开孔311将第一电极层310隔断为两个或两个以上的部分，可以通过搭接电极架桥将隔离的第一电极层310的各部分连接起来。
仍然参考图2和图3，在本发明的一个示例性实施例中，第一表面110包括第一显示区111和围绕第一显示区111的第二显示区112，第一开孔311在基板100上的正投影位于第一显示区111内，第二开孔201在基板100上的正投影位于第一显示区111内。
在本实施例中，第一显示区111可以是用于设置屏下摄像或屏下指纹等功能元件的显示区，第二显示区112围绕第一显示区111可以是部分围绕，也可以是如图2和图3所示的完全围绕。将第一开孔311设置在第一显示区111内，有利于提升第一显示区111的光透过率，满足屏下摄像头或屏下指纹等功能元件的光学要求，有利于改善屏下摄像头或屏下指纹等功能元件的工作效果(例如提高屏下指纹识别成功率等)。相应的，在形成第一显示区111时起到掩膜作用的掩膜层200和起到光扩散作用的扩散结构400也可以设置在第一显示区111内。由于第二显示区112通常没有严格的光透过率要求，因此，第一电极层310在第二显示区112的部分可以不设置第一开孔311，相应的，第二显示区112中也可以不设置掩膜层200和扩散结构400，这样在形成第一开孔311时，刻蚀光线的照射范围可以限定在第一区域内，减少光线能量消耗，也减少第二显示区112中的膜层数量，简化显示面板的结构与制备工艺。
可选地，在本发明的一个示例性实施例中，仍然参考图2，第一显示区111包括透明显示区1112和围绕透明显示区1112的过渡区1111；
第一开孔311在基板100上的正投影位于透明显示区1112内，第二开孔201在基板100上的正投影位于透明显示区1112内。
由于透明显示区1112为了满足摄像头等功能元件的光学要求，通常需要对透明显示区1112中的显示像素做一些特殊设计，这些特殊设计可能会导致透明显示区1112和第二显示区112之间的显示差异。因此，在本实施例中，将第一显示区111进一步划分为透明显示区1112和过渡区1111，其中，过渡区1111中的显示像素可以做一些过渡设计，从而使得过渡区1111可以避免透明显示区1112和过渡区1111直接相邻而出现的过于明显的显示差异。
在本实施例中，将第一开孔311设置在透明显示区1112内，有利于提升透明显示区1112的光透过率，满足屏下摄像头或屏下指纹等功能元件的光学要求，有利于改善屏下摄像头或屏下指纹等功能元件的工作效果，而过渡区1111和第二显示区112通常没有严格的光透过率要求，因此，第一电极层310在过渡区1111和第二显示区112的部分可以不设置第一开孔311，相应的，过渡区1111和第二显示区112也可不设置掩膜层200和扩散结构400，这样在形成第一开孔311时，刻蚀光线的照射范围可以限定在第一区域内，减少光线能量消耗，也减少过渡区1111和第二显示区112中的膜层数量，简化显示面板的结构与制备工艺。
在本发明的一个实施例中，仍然参考图3或图4，显示面板还包括：覆盖扩散结构400的接触绝缘层，扩散结构400包括扩散表面410，扩散表面410与接触绝缘层接触。
在本实施例中，接触绝缘层可以是上文的第二绝缘层220和第三绝缘层230中的一者，例如，在图3中，接触绝缘层是第三绝缘层230，在图4中，接触绝缘层是第二绝缘层220。
扩散结构400的扩散表面410和与其接触的接触绝缘层形成了一个光学器件(例如凸透镜或凹透镜)的光学表面，利用该光学表面即可实现对刻蚀光线的扩散作用，结构简单，有利于简化显示面板的整体结构。
在本发明的一个实施例中，参考图5并结合参考图3或图4，扩散结构400的折射率小于接触绝缘层的折射率。
扩散表面410包括凸向接触绝缘层的弧形表面(如图3、图4)或凸向接触绝缘层的折线表面(如图5)。
当扩散结构400的折射率小于接触绝缘层时，刻蚀光线从扩散结构400入射到接触绝缘层时，相当于从光疏介质进入光密介质，此时光线会偏向法线方向，因此可以将扩散表面410设计为凸向接触绝缘层的弧形表面或凸向接触绝缘层的折线表面，以将刻蚀光线发散。在图3和图4中，扩散表面410为凸向接触绝缘层的弧形表面，此时扩散结构400整体作为一个凸透镜存在，实现对入射的刻蚀光线的发散作用。在图5中，扩散表面410为凸向接触绝缘层的折线表面，此时扩散结构400整体作为一个棱镜存在，实现对入射的刻蚀光线的发散作用。
利用扩散表面410实现对刻蚀光线的发散作用，有利于提升扩散结构400的适用性，即在不同的应用环境中，只需要设计该扩散表面410凸向接触绝缘层一侧即可，满足不同应用场景的需求。
在本发明的一个示例性实施例中，仍然参考图3-图5，扩散结构包括平凸透镜和/或第一棱镜，平凸透镜的弧面为扩散表面，第一棱镜包括由第一表面和第二表面形成的凸面，凸面为扩散表面。
同一个显示面板中包括的扩散结构的形状可以相同，也可以不同，例如在本发明的一个实施例中，一个显示面板中包括的扩散结构均为平凸透镜或第一棱镜，而在本发明的另一个实施例中，一个显示面板中包括的扩散结构部分为平凸透镜，部分为第一棱镜，本发明对此并不做限定。
图3和图4示出的扩散结构400整体形状类似为一个平凸透镜，在本发明的其他实施例中，扩散结构400还可以为其他形状的凸透镜本发明对此并不做限定。图5示出的扩散结构400整体形状类似为一个三棱镜，在本发明的其他实施例中，扩散结构400还可以为四棱镜或五棱镜等，本发明对此并不做限定。
利用结构简单的平凸透镜或第一棱镜实现扩散结构400的扩散功能，有利于简化显示面板的结构，降低显示面板的制备难度。
在本发明的一个示例性实施例中，参考图6和图7，扩散结构400的折射率大于接触绝缘层的折射率。
扩散表面410包括凹向接触绝缘层的弧形表面(图6)或凹向接触绝缘层的折线表面(图7)。
与前文类似的，这里的接触绝缘层是指覆盖扩散结构400，与扩散表面410直接接触的接触绝缘层。
当扩散结构400的折射率大于接触绝缘层的折射率时，刻蚀光线从扩散结构400入射到覆盖其的接触绝缘层时，相当于从光密介质入射到光疏介质，光线会远离法线方向，因此将扩散表面410设置为凹向接触绝缘层的弧形表面和/或凹向接触绝缘层的折现表面即可使得扩散结构400具有光扩散功能，满足对刻蚀光线的扩散功能，结构简单，有利于简化显示面板的结构，降低显示面板的制备难度。
仍然参考图6和图7，在本发明的一个示例性实施例中，扩散结构400包括平凹透镜和/或第二棱镜，平凹透镜的弧面为扩散表面410，第二棱镜包括由第三表面和第四表面形成的凹面，凹面为扩散表面410。
图6示出的扩散结构400整体形状类似为一个平凹透镜，在本发明的其他实施例中，扩散结构400还可以为其他形状的凹透镜，本发明对此并不做限定。图7示出的扩散结构400整体形状类似为一个五棱镜，在本发明的其他实施例中，扩散结构400还可以为其他类型的棱镜，本发明对此并不做限定。
与前文类似的，同一个显示面板中包括的扩散结构的形状可以相同，也可以不同，例如在本发明的一个实施例中，一个显示面板中包括的扩散结构均为平凹透镜或第二棱镜，而在本发明的另一个实施例中，一个显示面板中包括的扩散结构部分为平凹透镜，部分为第二棱镜，本发明对此并不做限定。
利用结构简单的平凹透镜或第二棱镜实现扩散结构400的扩散功能，有利于简化显示面板的结构，降低显示面板的制备难度。
示例性制备方法
本发明实施例还提供了一种显示面板的制备方法，如图8所示，显示面板的制备方法包括：
步骤S101：提供基板100，基板100包括相对设置的第一表面110和第二表面120。参考图9，图9为基板的剖面示意图。
步骤S102：在基板100的第一表面110形成掩膜层200、光学层、像素层和第一电极层310，掩膜层200位于基板100与光学层之间，像素层位于光学层背离基板100一侧，像素层包括开口区和非开口区310b，像素层还包括位于开口区和非开口区310b的第一电极层，第一电极层在非开口区310b包括待刻蚀区域，第一电极层310在非开口区310b包括多个待刻蚀区域312，待刻蚀区域312与发光层320在基板100上的正投影互不交叠，掩膜层200包括多个与待刻蚀区域312对应的第二开孔201，可选地，光学层包括多个与第二开孔201位置对应的扩散结构400。
如前文，扩散结构400可以通过有机气相沉积法制备获得。参考图10，图10为经过步骤S102后的基板100及其表面结构的剖面结构示意图，图10中示出的其他膜层可参考上文示例性显示面板中的相应描述。
步骤S103：以掩膜层200为掩膜，自第二开孔201向基板100提供刻蚀光线，刻蚀光线经过扩散结构400的扩散后，照射在第一电极层310的待刻蚀区域312，以去除第一电极层310待刻蚀区域312的部分，形成第一开孔311。参考图11，图11为利用刻蚀光线对第一电极层310进行刻蚀的示意图。
利用显示面板的制备方法制备获得的显示面板的具体结构可参考上文示例性显示面板的相关描述，本发明在此不做赘述。
在本发明的一个示例性实施例中，如图12所示，显示面板还包括：对置基板A300。
图12为显示面板的剖面结构示意图，在图12中，A100表示上文描述的基板100及其表面结构(例如像素层、掩膜层200、光学层等结构)，显示面板除了包括上述结构之外，还包括位于像素层出光方向一侧的对置基板A300，该对置基板A300包括对置衬底303，位于对置衬底303上的黑矩阵302和位于黑矩阵302限定区域中的透明色阻304，除此之外还包括保护膜层301，以隔绝水氧对黑矩阵302和透明色阻304等结构的侵蚀。
如前文，第一电极层中的第一开孔在基板上的正投影与黑矩阵302在基板上的正投影重合，避免第一开孔对显示像素的正常工作造成不良影响。
当然地，在本发明的一些实施例中，当像素层用于出射单色光线(例如白光)时，对置基板A300上的透明色组304可对应替换为不同颜色的色阻(例如红色色阻、绿色色阻和蓝色色阻等)，本发明对此并不做限定。
示例性显示装置
本发明实施例还提供了一种显示装置，如图13所示，图13为显示装置B100的结构示意图，该显示装置B100包括上述任一实施例的显示面板。
综上所述，本发明实施例提供了一种显示面板及其制备方法、显示装置，其中，显示面板基板；像素层，包括开口区和非开口区，像素层还包括位于开口区和非开口区的第一电极层，第一电极层在非开口区包括第一开孔；掩膜层，包括第二开孔；光学层；其中，掩膜层位于基板和光学层之间，光学层位于掩膜层和第一电极层之间，第二开孔在基板上的正投影位于第一开孔在基板上的正投影内，光学层用于扩散自第二开孔入射的刻蚀光线，同时扩散后的刻蚀光线对第一电极层刻蚀形成第一开孔。以使第一开孔的开孔面积不小于掩膜层中的第二开孔的开孔面积，提高第一电极层的光透过率，从而提高显示面板的光透过率，以满足屏下指纹或屏下摄像等功能元件的工作需求。
本文参照作为理想化示例性附图的剖视图和/或平面图描述了示例性实施方式。在附图中，为了清楚，放大了层和区域的厚度。因此，可设想到由于例如制造技术和/或公差引起的相对于附图的形状的变动。因此，示例性实施方式不应解释为局限于本文示出的区域的形状，而是包括因例如制造而引起的形状偏差。例如，示为矩形的蚀刻区域通常将具有弯曲的特征。因此，附图中所示的区域本质上是示意性的，且它们的形状并非旨在示出设备的区域的实际形状，并且并非旨在限制示例性实施方式的范围。
除非另外定义，本发明实施例使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本发明实施例使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来避免构成要素的混同而设置的。
除非上下文另有要求，否则，在整个说明书中，术语“包括”被解释为开放、包含的意思，即为“包含，但不限于”。在说明书的描述中，术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例性实施例”、“示例”、“特定示例”或“一些示例”等旨在表明与该实施例或示例相关的特定特征、结构、材料或特性包括在本公开的至少一个实施例或示例中。上述术语的示意性表示不一定是指同一实施例或示例。此外，所述的特定特征、结构、材料或特点可以以任何适当方式包括在任何一个或多个实施例或示例中。在描述一些实施例时，可能使用了“耦接”和“连接”及其衍伸的表达。例如，描述一些实施例时可能使用了术语“连接”以表明两个或两个以上部件彼此间有直接物理接触或电接触。又如，描述一些实施例时可能使用了术语“耦接”以表明两个或两个以上部件有直接物理接触或电接触。然而，术语“耦接”或“通信耦合”也可能指两个或两个以上部件彼此间并无直接接触，但仍彼此协作或相互作用。这里所公开的实施例并不必然限制于本文内容。
在本发明的一些实施例中，显示面板还可以包括其他部件，例如可以包括用于向显示面板提供电信号，以驱动该显示面板发光的电路，该电路可以称为控制电路，可以包括与显示面板电连接的电路板和/或IC(Integrate Circuit，集成电路)。
在一些实施例中，该显示面板用于实现显示图像(即画面)功能。显示面板可以包括显示器或包含显示器的产品。其中，显示器可以是FPD(Flat Panel Display，平板显示器)，微型显示器等。
以上结合具体实施例描述了本发明的基本原理，但是，需要指出的是，在本发明中提及的优点、优势、效果等仅是示例而非限制，不能认为这些优点、优势、效果等是本发明的各个实施例必须具备的。另外，上述公开的具体细节仅是为了示例的作用和便于理解的作用，而非限制，上述细节并不限制本发明为必须采用上述具体的细节来实现。
本发明中涉及的器件、装置、设备、系统的方框图仅作为例示性的例子并且不意图要求或暗示必须按照方框图示出的方式进行连接、布置、配置。如本领域技术人员将认识到的，可以按任意方式连接、布置、配置这些器件、装置、设备、系统。
还需要指出的是，在本发明的装置、设备和方法中，各部件或各步骤是可以分解和/或重新组合的。这些分解和/或重新组合应视为本发明的等效方案。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：
基板；
像素层，所述像素层包括开口区和非开口区，所述像素层还包括位于所述开口区和所述非开口区的第一电极层，所述第一电极层在所述非开口区包括第一开孔；
掩膜层，所述掩膜层包括第二开孔；
光学层；
其中，所述掩膜层位于所述基板和所述光学层之间，所述光学层位于所述掩膜层和所述第一电极层之间，所述第二开孔在所述基板上的正投影位于所述第一开孔在所述基板上的正投影内，所述光学层用于扩散自所述第二开孔入射的刻蚀光线，同时扩散后的所述刻蚀光线对所述第一电极层刻蚀形成所述第一开孔。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，还包括第一显示区和围绕所述第一显示区的第二显示区；
所述第一开孔在所述基板上的正投影位于所述第一显示区内，所述第二开孔在所述基板上的正投影位于所述第一显示区内。
3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述第一显示区包括透明显示区和围绕所述透明显示区的过渡区；
所述第一开孔在所述基板上的正投影位于所述透明显示区内，所述第二开孔在所述基板上的正投影位于所述透明显示区内。
4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述光学层包括多个扩散结构，所述扩散结构对应所述第二开孔，所述显示面板还包括：覆盖所述扩散结构的接触绝缘层；
所述扩散结构包括扩散表面，所述扩散表面与所述接触绝缘层接触。
5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述扩散结构的折射率小于所述接触绝缘层的折射率；
优选地，所述扩散表面包括凸向所述接触绝缘层的弧形表面或凸向所述接触绝缘层的折线表面。
6.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述扩散结构包括平凸透镜和/或第一棱镜，所述平凸透镜的弧面为所述扩散表面，所述第一棱镜包括由第一表面和第二表面形成的凸面，所述凸面为所述扩散表面。
7.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述扩散结构的折射率大于所述接触绝缘层的折射率；
优选地，所述扩散表面包括凹向所述接触绝缘层的弧形表面或凹向所述接触绝缘层的折线表面。
8.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述扩散结构包括平凹透镜和/或第二棱镜，所述平凹透镜的弧面为所述扩散表面，所述第二棱镜包括由第三表面和第四表面形成的凹面，所述凹面为所述扩散表面。
9.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括：
提供基板；
在所述基板的第一表面形成掩膜层、光学层、像素层和第一电极层，所述掩膜层位于所述基板与所述光学层之间，所述像素层位于所述光学层背离所述基板一侧，所述像素层包括开口区和非开口区，所述像素层还包括位于所述开口区和所述非开口区的第一电极层，所述第一电极层在所述非开口区包括待刻蚀区域，所述掩膜层包括多个与所述待刻蚀区域对应的第二开孔；
以所述掩膜层为掩膜，自所述第二开孔提供刻蚀光线，所述刻蚀光线经过所述扩散结构的扩散后，照射在所述第一电极层的待刻蚀区域，以去除所述第一电极层待刻蚀区域的部分，形成第一开孔；
优选地，所述光学层通过有机气相沉积工艺形成。
10.一种显示装置，其特征在于，包括：如权利要求1-8任一项所述的显示面板。
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