CN111465165A - 自屏蔽回旋加速器系统 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种能够进一步提高得到放射性同位素时的对辐射的安全性的自屏蔽回旋加速器系统。输送部(22)从对靶(10)进行带电粒子束(B)的照射的靶保持部(20)向回收放射性同位素的溶解部(21)输送靶(10)。在此，靶保持部(20)、溶解部(21)及输送部(22)配置于自屏蔽体(4)内。从而，将带电粒子束(B)照射于靶(10)的工序、通过溶解放射性同位素进行回收的工序、以及两个工序之间的进行靶的输送的工序均在自屏蔽体(4)内进行。从而，在各工序中，从带电粒子束照射后的靶(10)释放的辐射通过自屏蔽体而被阻断。
Description
技术领域
本发明涉及一种自屏蔽回旋加速器系统。
背景技术
如专利文献1所示，已知有一种具备自屏蔽体的自屏蔽回旋加速器系统，该自屏蔽体在内部容纳回旋加速器，抑制从回旋加速器释放的辐射释放到外部。近年来，开发出一种通过对具有金属层的靶照射带电粒子束而得到固体放射性同位素(RI：Radio Isotope)的装置。这种放射性同位素用于制造在医院等中的PET检查(正电子断层摄影检查)等中使用的放射性药剂。例如，在专利文献2中，附着有固体放射性同位素的靶输送到溶解装置，在该溶解装置内溶解放射性同位素，由此进行该RI的回收。
专利文献1：日本特开2000-105293号公报
专利文献2：日本特开2014-115229号公报
在此，带电粒子束照射后的靶激活。从而，要求进一步提高从照射装置取出靶并安装于溶解装置时的对辐射的安全性。
发明内容
本发明的目的在于提供一种能够进一步提高在得到放射性同位素时的对辐射的安全性的自屏蔽回旋加速器系统。
本发明所涉及的自屏蔽回旋加速器系统具备：回旋加速器，射出带电粒子束；及自屏蔽体，配置于建筑物内，在内部容纳回旋加速器，抑制从回旋加速器释放的辐射释放到外部，所述自屏蔽回旋加速器系统具备：靶保持部，将具有金属层的靶保持于带电粒子束的照射位置；溶解部，使靶中的含有放射性同位素的金属层溶解；及输送部，从靶保持部向溶解部输送靶，靶保持部、溶解部及输送部配置于自屏蔽体内。
在本发明所涉及的自屏蔽回旋加速器系统中，靶保持部将具有金属层的靶保持于带电粒子束的照射位置。从而，在通过靶保持部保持的靶上被照射带电粒子束。由此，在靶的金属层中，在被照射带电粒子束的部位形成放射性同位素。并且，溶解部使靶中的含有放射性同位素的金属层溶解。由此，通过回收溶解液而能够回收放射性同位素。输送部从对靶进行带电粒子束的照射的靶保持部向回收放射性同位素的溶解部输送靶。在此，靶保持部、溶解部及输送部配置于自屏蔽体内。从而，将带电粒子束照射于靶的工序、通过溶解对放射性同位素进行回收的工序、及在两个工序之间的进行靶的输送的工序均在自屏蔽体内进行。从而，在各工序中，从带电粒子束照射后的靶释放的辐射通过自屏蔽体而被阻断。如上所述，能够进一步提高得到放射性同位素时的对辐射的安全性。
自屏蔽回旋加速器系统还具备控制部，控制部可以将输送部控制成在对金属层照射带电粒子束之后，将保持于靶保持部的靶输送到溶解部。由此，通过控制部自动地进行基于输送部的靶的输送。由此，能够进一步抑制对作业人员的辐射。并且，通过控制部自动地进行靶的输送而能够缩短作业时间。
发明的效果
根据本发明，能够提供一种能够进一步提高得到放射性同位素时的对辐射的安全性的自屏蔽回旋加速器系统。
附图说明
图1是表示本发明的一实施方式所涉及的自屏蔽回旋加速器系统的概略结构图。
图2是靶的立体图。
图3是放射性同位素制造部的放大图。
图4是表示控制部的处理内容的流程图。
图5是表示放射性同位素制造部的动作的放大图。
图6是表示放射性同位素制造部的动作的放大图。
图7是表示放射性同位素制造部的动作的放大图。
图8是表示放射性同位素制造部的动作的放大图。
图9是表示放射性同位素制造部的动作的放大图。
图10是表示变形例所涉及的自屏蔽回旋加速器系统的放大图。
符号的说明
2-回旋加速器，4-自屏蔽体，10-靶，11-金属层，20-靶保持部，21-溶解部，22-输送部，50-控制部，70-容纳部，71-排气部，100-自屏蔽回旋加速器系统。
具体实施方式
以下，参考附图，对本发明的优选实施方式进行详细的说明。另外，各图中对相同部分或等同部分标注相同的符号，并省略重复说明。
如图1所示，自屏蔽回旋加速器系统100是设置于建筑物150的内部的系统。本实施方式所涉及的自屏蔽回旋加速器系统100是使用带电粒子束制造放射性同位素(以下，有时称作RI)的系统。自屏蔽回旋加速器系统100例如能够用作PET用回旋加速器，该系统中制造出的RI例如用于制造作为放射性同位素标记化合物(RI化合物)的放射性药剂(包括放射性医药品)。作为在医院等中的PET检查(正电子断层摄影检查)中使用的放射性同位素标记化合物，有18F-FLT(氟代胸苷)、18F-FMISO(氟代噻唑)及11C-雷氯必利等。
自屏蔽回旋加速器系统100具备回旋加速器2、放射性同位素制造部3及自屏蔽体4。自屏蔽回旋加速器系统100在建筑物150的内部的回旋加速器室152中设置于该建筑物的地面151上。回旋加速器室152是用混凝土(屏蔽壁)覆盖的房间。从而，使用者通过使用自屏蔽回旋加速器系统100而能够在建筑物内当场获得放射性同位素。
回旋加速器2是射出带电粒子束的加速器。回旋加速器2是从离子源将带电粒子供给到加速空间内，并将加速空间内的带电粒子进行加速而输出带电粒子束的纵向放置的圆形加速器。回旋加速器2具有一对磁极、真空箱、包围这一对磁极及真空箱的环状轭。在真空箱内一对磁极的一部分的主表面彼此隔开规定间隔而面对。在这一对磁极的间隙内，带电粒子被多重加速。作为带电粒子，例如可举出质子、重粒子(重离子)等。在本实施方式中，回旋加速器2具备射出带电粒子束的多个端口2a。多个端口2a之一上形成有后述靶保持部20。回旋加速器2调整加速空间内的带电粒子束的轨道，从所希望的端口2a取出带电粒子束。
自屏蔽体4配置于建筑物内，在内部容纳回旋加速器2，并抑制从回旋加速器2释放的辐射释放到回旋加速器室152。自屏蔽体4通过全方位覆盖回旋加速器2而能够全方位屏蔽辐射。在本实施方式中，自屏蔽体4具有六面体的箱形构造，但形状并无特别的限定。自屏蔽体4将建筑物150的内部空间(回旋加速器室152)和自屏蔽回旋加速器系统100的内部空间120进行隔离。建筑物150的内部空间可以构成为设置其他设备，或者作业人员等能够通行的空间。从而，在建筑物的室内仅配置回旋加速器2的系统与本实施方式的自屏蔽回旋加速器系统100不同，构成建筑物房间的周围的墙壁不相当于自屏蔽体4。自屏蔽体4的墙壁例如通过聚乙烯、铁、铅、重混凝土等材质构成。在自屏蔽体4内，除了回旋加速器2以外，还配置有用于使该回旋加速器2运行的真空泵或配线等。并且，自屏蔽体4内还配置有放射性同位素制造部3的构成要件。
放射性同位素制造部3是对靶10照射带电粒子束，并使通过该照射而生成的放射性同位素溶解进行回收的部分。放射性同位素制造部3形成于回旋加速器2的外周部附近，并配置于自屏蔽体4内。通过放射性同位素制造部3得到的包含放射性同位素的溶解液经由输送管161而输送到进行溶解液中的放射性同位素的纯化的纯化装置或进行药剂合成的合成装置等装置160。
参考图2，对靶10进行说明。靶10具备靶基板13及金属层11。具体而言，如图2所示，靶10在由金属板构成的靶基板13上形成作为靶材料的金属层11。另外，金属层11并不限定于纯度高的金属层，也可为金属氧化物层。将该靶基板13设置于装置，带电粒子束B照射于金属层11，由此在被照射的部分生成微量的放射性同位素12。由此，在金属层11中含有放射性同位素12。作为靶基板13的材料，采用在溶解液中不溶解的材料，例如采用Au、Pt等。图2所示的靶基板13形成为圆板状，但形状、厚度并无特别的限定。作为靶材料即金属层11的材料，例如可举出64Ni、89Y、100Mo、68Zn等。作为对应于该金属层11而生成的放射性同位素12，可举出64Cu、89Zr、99mTc、68Ga等。金属层11通过对靶基板13的表面10a实施镀覆处理而形成。并且，并不限定于镀覆处理，也可将板状金属层贴附于靶基板13。图2所示的金属层11以圆形状形成于靶基板13的中央位置，但形状、位置并无特别的限定。另外，当带电粒子束B照射于金属层11时，在靶基板13的背面10b被供给冷却水等。由此，能够通过冷却水等而吸收由带电粒子束B的照射引起的金属层11(及靶基板13)的发热。
接着，参考图3对放射性同位素制造部3的结构进行详细的说明。放射性同位素制造部3具备靶保持部20、溶解部21、输送部22及控制部50。
靶保持部20将具有金属层11的靶10保持于带电粒子束B的照射位置。并且，在带电粒子束B对靶10的照射结束之后，靶保持部20解除靶10的保持。具体而言，靶保持部20具备固定单元23和可动单元24。靶保持部20通过用固定单元23和可动单元24夹持靶10而将靶10保持于照射位置RP。固定单元23及可动单元24均容纳于自屏蔽体4内。
固定单元23是固定于回旋加速器2的外周部的筒状构件。固定单元23以沿从回旋加速器2射出的带电粒子束B的照射轴BL延伸的状态、且以从回旋加速器2的外周突出的状态设置。固定单元23在与带电粒子束B的照射轴BL对应的位置，具备用于使该带电粒子束B穿过的内部空间26。内部空间26将照射轴BL作为中心线，以沿该照射轴BL延伸的方式形成。固定单元23及内部空间26配置成相对于水平方向朝下方倾斜。
固定单元23在下端侧具有作为与可动单元24的上表面对置的对置面23a而沿水平方向扩展的表面。固定单元23在对置面23a的位置保持靶10。在对置面23a上设置有O型环等密封构件。对置面23a经由密封构件而与靶10抵接，由此作为对于靶10的密封面也发挥功能。在本实施方式中，在对置面23a上，内部空间26开口的部位(并且，其中照射轴BL的位置)相当于照射位置RP。从而，当靶保持部20保持靶10时，保持成靶10中的金属层11配置于内部空间26的开口。
固定单元23在内部空间26的中途位置具备真空箔25。真空箔25将内部空间26中比真空箔25更靠上游侧的区域保持成真空。
固定单元23具有配置于照射位置上的带电粒子束B及对真空箔25喷吹氦等气体的流路27。流路27具有主流路27a和从该主流路27a分支的分支流路27b、27c。分支流路27b向真空箔25延伸，并对该真空箔25喷吹气体。分支流路27c向靶10的照射位置RP延伸，并对被保持的靶10喷吹气体。
可动单元24相对于固定单元23沿上下方向进行进退。当将靶10设置于输送托盘60时，可动单元24配置于从固定单元23朝下方隔开的位置。当将靶10保持于照射位置RP时，可动单元24配置于在与固定单元23之间夹持靶10的位置(参考图5)。
可动单元24具有沿上下方向延伸的圆柱状形状。可动单元24在外周面的一部分，与向上下方向移动的驱动机构28连接。在可动单元24的上端形成有朝上方突出的小径部29。小径部29的直径至少比后述输送托盘60的内周部的直径小。由此，小径部29穿过输送托盘60的内周侧的贯通孔并与靶10抵接，将该靶10按压于上方的固定单元23。
可动单元24在小径部29的上端侧具有作为与固定单元23的对置面23a对置的对置面24a沿水平方向扩展的表面。在对置面24a上设置有O型环等密封构件。对置面24a经由密封构件而与靶10抵接，由此作为对于靶10的密封面也发挥功能。当靶保持部20保持靶10时，对置面23a和对置面24a夹持靶10(参考图5)。
另外，可动单元24具有在对置面24a上开口的内部空间31。内部空间31是用于存储用于冷却靶10的冷却介质的空间。在内部空间31中，连接有用于供给冷却介质的供给管32与用于排出冷却介质的排出管33。
溶解部21使靶10中的含有放射性同位素的金属层11溶解。溶解部21具备固定单元40与可动单元41。溶解部21用固定单元40与可动单元41夹持靶10而进行保持。溶解部21在保持了靶10的状态下，至少对金属层11供给溶解液，使含有放射性同位素的金属层11的金属溶解于该溶解液中，并连同放射性同位素一起回收该溶解液。作为溶解液，可采用盐酸、硝酸等。固定单元40及可动单元41容纳于自屏蔽体4内。
固定单元40配置于从靶保持部20的固定单元23向回旋加速器2的相反侧隔开的位置。固定单元40具备沿上下方向延伸的圆筒状主体部48和在外周侧支承主体部48的支承部49。主体部48在下端侧具有作为与可动单元41对置的对置面40a而沿水平方向扩展的表面。靶10保持于对置面40a的位置。在对置面40a上设置有O型环等密封构件。对置面40a经由密封构件而与靶10抵接，由此作为对于靶10的密封面也发挥功能。靶10保持于对置面40a的位置。
主体部48具有在对置面40a上开口的内部空间42。内部空间42是用于存储溶解液的溶解槽，该溶解液用于使靶10的金属层11溶解。在内部空间42中，连接有用于供给溶解液的供给管43和吸入溶解液及吸入内部空间42内的气体的吸入管44。在对置面40a上开口的内部空间42的直径至少比靶10的直径小，比金属层11的直径大。另外，对置面40a本身的直径并无特别的限定，但在本实施方式中，比靶10的直径小。
支承部49是具有从主体部48的外周面向径向外侧扩展的端面壁的圆筒状构件。支承部49在中央位置具备用于插入主体部48的贯通孔49a。在主体部48的上端部附近形成有凸缘部。该凸缘部卡合于主体部48的贯通孔49a的上缘部。
可动单元41相对于固定单元40沿上下方向进行进退。当将靶10安装于固定单元40时，可动单元41配置于从固定单元40朝下方隔开的位置。在溶解部21中溶解靶10的金属层11时，可动单元41配置于在与固定单元40之间夹持靶10的位置(参考图9)。
可动单元41具备主体部46及设置于主体部46的上端侧的接盘部47。主体部46具有沿上下方向延伸的圆柱状形状。主体部46在外周面的一部分与向上下方向移动的驱动机构(未图示)连接。在主体部46的上端，形成有用于支承接盘部47的槽构造。
接盘部47具备在主体部46的上端沿水平方向扩展的底壁部47a和从底壁部47a的外周缘朝上方立起的侧壁部47b。底壁部47a具有作为与固定单元40的对置面40a对置的对置面41a而沿水平方向扩展的表面。对置面41a与靶10抵接。当溶解部21保持靶10时，对置面40a和对置面41a夹持靶10(参考图9)。侧壁部47b的内径比靶10的直径大。并且，当保持靶10时，侧壁部47b的上端部配置于比靶10高的位置。从而，在溶解靶10的金属层11时溶解液从内部空间42泄漏的情况下，接盘部47接收溶解液。另外，在底壁部47a的下表面侧，具有用于与主体部46的槽构造嵌合的凹凸构造。
在溶解部21中，与溶解液接触的主体部48及接盘部47构成为可更换的一次性部件。即，主体部48相对于支承部49以能够装卸的方式安装。接盘部47相对于主体部46以能够装卸的方式安装。在此，“能够装卸”表示即使安装一次，作业人员也能够通过通常的维护作业而容易拆卸的安装方式。例如，作为能够装卸的安装构造，可举出通过螺栓接合进行安装的构造、通过以在溶解中不脱离程度的强度进行嵌合、卡合而进行安装的构造等。例如，焊接或熔敷等固定构造并不适合于能够装卸的方式。可更换的主体部48及接盘部47的材质，例如，能够使用特氟龙(Teflon)(注册商标)等耐酸性高的材质。
输送部22从靶保持部20向溶解部21输送靶10。输送部22配置于自屏蔽体4内。输送部22具备以载置靶10的状态输送的输送托盘60和驱动输送托盘60的输送驱动部61。输送托盘60是在上表面侧具有用于支承靶10的支承部的圆环状构件。输送托盘60具有在上表面的内周侧缘部遍及全周形成的槽部，在该槽部载置靶10的下表面侧的外周缘。输送驱动部61通过未图示的驱动源及驱动力传递机构的组合而构成。输送驱动部61至少在将带电粒子束照射后的靶10向溶解部21进行输送时，通过使输送托盘60从靶保持部20的位置向水平方向移动而向溶解部21的位置进行输送。输送驱动部61从靶保持部20的固定单元23与可动单元24之间的区域向溶解部21的固定单元40与可动单元41之间的区域输送输送托盘60。另外，输送驱动部61只要使用旋转马达及线性马达等公知的驱动源和齿轮及杆等驱动力传递机构而构成即可。输送驱动部61只要构成为能够避免与其他构件发生干扰，而且能够进行所希望的动作，则可以是任何结构。另外，对各阶段中的输送托盘60的位置，在说明后述动作时，将进行详细的说明。
控制部50控制自屏蔽回旋加速器系统100。控制部50由CPU、RAM、ROM及输入输出接口等构成。控制部50根据来自装置内的各传感器的检测信号及保存于ROM的程序而确定控制内容，并控制自屏蔽回旋加速器系统100内的各构成要件。另外，控制部50可以不由一个处理装置构成，可以由多个处理装置构成。控制部50可以配置于自屏蔽体4内，也可配置于自屏蔽体4外。
控制部50具备照射控制部51、保持控制部52、溶解控制部53及输送控制部54。照射控制部51主要控制回旋加速器2，控制与通过回旋加速器2照射带电粒子束B相关的动作。保持控制部52主要控制靶保持部20，控制与通过靶保持部20保持靶10相关的动作。溶解控制部53主要控制溶解部21，控制与溶解靶10的金属层11相关的动作。输送控制部54主要控制输送部22，控制与输送靶10相关的动作。输送控制部54将输送部22控制成在对金属层11照射带电粒子束B之后，将保持于靶保持部20的靶10输送到溶解部21。
接着，参考图3～图9，与基于控制部50的控制处理的内容一同对自屏蔽回旋加速器系统100的动作进行说明。图4是表示控制部50的控制处理内容的流程图。图4～图9是表示动作中的各阶段中的放射性同位素制造部3的状态的图。另外，为了便于说明，在图4～图9中，省略表示控制部50及输送驱动部61。并且，对说明中未使用的符号，有时也适当地省略。
如图4所示，控制部50进行用于将靶10设置于放射性同位素制造部3的处理(步骤S10)。在S10的处理中，控制部50将靶保持部20、溶解部21及输送部22配置于初始状态的位置。控制部50通过驱动各构成要件的驱动部，将放射性同位素制造部3设为图3所示的状态。该状态下，可动单元24配置于从固定单元23朝下方隔开的位置。可动单元41配置于从固定单元40朝下方隔开的位置。输送托盘60配置于从固定单元23朝下方隔开的位置且基准高度的位置。在此，“基准高度”是指，在高度方向上，固定单元23与可动单元24之间且固定单元40与可动单元41之间的规定的高度位置。在该高度位置上，输送托盘60即使沿水平方向移动，也不会与各单元23、24、40、41发生干扰。控制部50可以通过监视器等对作业人员通知成为能够设置靶10的状态的情况。若检测出作业人员将靶10已载置于输送托盘60，则控制部50掌握靶10的设置完成的情况。控制部50可以通过基于传感器的检测或作业人员的输入而检测靶10的设置完成的情况。
接着，控制部50进行将靶10保持于带电粒子束B的照射位置RP的处理(步骤S20：图4)。在S20中，控制部50的保持控制部52控制可动单元24的驱动机构28，由此使可动单元24朝上方移动。由此，如图5所示，靶10在照射位置RP成为被固定单元23和可动单元24夹持的状态。另外，在可动单元24朝上方移动的过程中，载置于输送托盘60的靶10支承于从下方穿过该输送托盘60的贯通孔而来的可动单元24。此时，输送托盘60可以以支承于可动单元24的状态上升。或者，输送托盘60也可以以与可动单元24一同上升的方式驱动。
接着，控制部50进行对靶10照射带电粒子束B的处理(步骤S30：图4)。在S30中，控制部50的照射控制部51通过控制回旋加速器2而对靶10照射带电粒子束B。此时，保持控制部52将流路系统控制成从固定单元23的流路27向靶10及真空箔25喷吹氦气等。并且，保持控制部52控制供给管32及排出管33的管路系统，以使冷却介质流入到内部空间31而冷却靶10。
若S30的处理结束，则控制部50的保持控制部52通过控制可动单元24的驱动机构28而使可动单元24朝下方移动。由此，如图6所示，可动单元24返回到初始状态的位置。并且，输送托盘60也以载置靶10的状态返回到基准高度的位置。
接着，控制部50进行从靶保持部20向溶解部21输送靶10的处理(步骤S40：图4)。在S40中，控制部50的输送控制部54控制输送部22的输送驱动部61(参考图3)，使输送托盘60从靶保持部20向溶解部21的位置水平地移动。由此，如图7所示，输送托盘60在高度方向上维持基准高度的位置，并且配置于固定单元40与可动单元41之间。由此，靶10配置于在下方侧与内部空间42开口的对置面40a对置的位置。
接着，控制部50进行将靶10设置于溶解部21的处理(步骤S50：图4)。在S50中，如图8所示，控制部50的溶解控制部53控制吸入管44的管路系统，并经由内部空间42使靶10吸附到对置面40a。另外，在吸附靶10之前，通过输送托盘60的上升，将靶10按压于主体部48的对置面40a。由此，在将设置于靶10与主体部48之间的O型环(未图示)压溃了的状态下密封内部空间。此后，输送控制部54控制输送驱动部61(参考图3)，使输送托盘60向靶保持部20侧的位置移动。由此，避免输送托盘60与可动单元41发生干扰。
在S50中，溶解控制部53控制可动单元41的驱动部，使可动单元41朝上方移动。由此，如图9所示，靶10成为被固定单元40的对置面40a与可动单元41的对置面41a夹持的状态。此时，靶10成为容纳于接盘部47的状态、且从上方按压于主体部48的状态。
接着，控制部50进行通过使靶10的金属层11在溶解部21中溶解而回收金属层11中所含的放射性同位素的处理(步骤S60：图4)。在S60中，控制部50的溶解控制部53控制供给管43的管路系统，从供给管43向内部空间42供给溶解液SL。并且，溶解控制部53控制吸入管44的管路系统，用吸入管44吸入并回收放射性同位素溶解的溶解液SL。如上所述，图4所示的控制处理结束。另外，在放射性同位素的回收结束之后，作业人员将靶10连同主体部48及接盘部47一起进行拆卸，并向自屏蔽体4的外部移除。
如图1所示，放射性同位素溶解的溶解液SL向自屏蔽体4的外部排出，并输送到进行纯化溶解液SL中的放射性同位素的纯化装置，或进行药剂合成的合成装置等装置160。纯化装置或合成装置可以配置于同一建筑物150内，也可配置于另一个建筑物(设施)。在将溶解液SL输送到同一建筑物150内的合成装置等的情况下，通过与吸入管44相连的输送管161而将溶解液SL输送到合成装置等。由于从溶解液SL释放辐射，输送管161通过屏蔽件覆盖，或者在建筑物150的屏蔽壁(地板或墙壁)内穿过。向另一个建筑物输送溶解液SL的情况下，将已回收的溶解液SL存储于屏蔽箱(是抑制向外部释放辐射的箱，如铅箱那样的箱)中，并通过汽车等连同该屏蔽箱一起进行输送。
接着，对本实施方式所涉及的自屏蔽回旋加速器系统100的作用及效果进行说明。
在本实施方式所涉及的自屏蔽回旋加速器系统100中，靶保持部20将具有金属层11的靶保持于带电粒子束B的照射位置RP。从而，带电粒子束B照射于通过靶保持部20保持的靶10。由此，在靶10的金属层11中，带电粒子束B照射到的部位形成放射性同位素12。并且，溶解部21使靶10中的含有放射性同位素的金属层11溶解。由此，通过回收溶解液而能够回收放射性同位素。输送部22从对靶10进行带电粒子束B的照射的靶保持部20向回收放射性同位素的溶解部21输送靶10。在此，靶保持部20、溶解部21及输送部22配置于自屏蔽体4内。从而，将带电粒子束B照射于靶10的工序、通过溶解放射性同位素进行回收的工序、以及两个工序之间的进行靶的输送的工序均在自屏蔽体4内进行。从而，在各工序中，从带电粒子束照射后的靶10释放的辐射通过自屏蔽体而被阻断。如上所述，能够进一步提高得到放射性同位素时的对辐射的安全性。
自屏蔽回旋加速器系统100还具备控制部50，控制部50可以将输送部22控制成在对金属层11照射带电粒子束B之后，将保持于靶保持部20的靶10输送到溶解部21。由此，基于输送部22的靶10的输送通过控制部50自动地进行。由此，能够进一步提高对辐射的安全性。并且，通过控制部50自动地进行靶10的输送而能够缩短作业时间。
本发明并不限定于所述实施方式，在不脱离本发明的主旨的范围内，能够进行如下所述的各种变形。
例如，可以采用图10那样的结构。图10所示的自屏蔽回旋加速器系统可以具备：容纳部70，在自屏蔽体4内覆盖溶解部21；及排气部71，将容纳部70内的气体排出到自屏蔽体4的外部。容纳部70不覆盖靶保持部20，而仅覆盖溶解部21。另外，可以在容纳部70中，输送托盘所穿过的部位形成开口部70a。另外，该开口部70a在输送托盘不穿过时可以关闭。并且，排气部71可以具有从容纳部70穿过自屏蔽体4，并向自屏蔽体4的外部连通的排气管。该排气部71可以具备设置于排气管的泵等。
由此，在溶解部21的溶解液气化的情况下，可通过容纳部70抑制气体扩散到自屏蔽体4内。并且，容纳部70内的气体通过排气部71排出到自屏蔽体4外部。由此，能够抑制自屏蔽体4内的其他设备因气体腐蚀。
并且，上述实施方式的各图所示的放射性同位素制造部的结构仅为一例，只要在本发明的范围内，形状或配置可以适当地变更。例如，输送部例如可以采用把持靶的臂状把持部来代替输送托盘。
另外，通过控制部自动地进行了基于输送部的靶的输送。取而代的，可通过作业人员的手动操作而进行基于输送部的驱动本身。这种情况下，由于靶容纳于自屏蔽体内，因此也能够进一步提高对辐射的安全性。
Claims (3)
1.一种自屏蔽回旋加速器系统，其具备：
回旋加速器，射出带电粒子束；及
自屏蔽体，配置于建筑物内，在内部容纳所述回旋加速器，抑制从所述回旋加速器释放的辐射释放到外部，
所述自屏蔽回旋加速器系统具备：
靶保持部，将具有金属层的靶保持于所述带电粒子束的照射位置；
溶解部，使所述靶中的含有放射性同位素的所述金属层溶解；及
输送部，从所述靶保持部向所述溶解部输送所述靶，
所述靶保持部、所述溶解部及所述输送部配置于所述自屏蔽体内。
2.根据权利要求1所述的自屏蔽回旋加速器系统，其还具备控制部，
所述控制部将所述输送部控制成在对所述金属层照射所述带电粒子束之后，将保持于所述靶保持部的所述靶输送到所述溶解部。
3.根据权利要求1或2所述的自屏蔽回旋加速器系统，其具备：
容纳部，在所述自屏蔽体内覆盖所述溶解部；及
排气部，将所述容纳部内的气体排出到所述自屏蔽体的外部。
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