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CN112683794A - 基于波前调制的相位成像及元件检测的装置和方法 - Google Patents

基于波前调制的相位成像及元件检测的装置和方法 Download PDF

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CN112683794A
CN112683794A CN202011459692.8A CN202011459692A CN112683794A CN 112683794 A CN112683794 A CN 112683794A CN 202011459692 A CN202011459692 A CN 202011459692A CN 112683794 A CN112683794 A CN 112683794A
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light
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light source
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detected
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CN202011459692.8A
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潘兴臣
刘诚
朱健强
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Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics of CAS
Original Assignee
Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics of CAS
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Publication date
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Abstract

一种基于波前调制的相位成像及元件检测的装置和方法,本发明针对现有干涉测量技术在孪生像消除、极限分辨率、欠采样波前测量、多模态测量等方面的不足,提出一种基于波前调制的相位成像及元件检测的装置和方法,从光场编码的角度,完全通过迭代计算实现对待测光场复振幅的精确测量,同时能够有效消除孪生像问题、具备多模态(多波长)重建能力、理论上能够达到衍射极限分辨率,能够广泛应用于相位成像、光学元件面型检测、偏振分布测量等,具备广泛的适用范围。

Description

基于波前调制的相位成像及元件检测的装置和方法
技术领域
本发明涉及波前相位恢复、波前检测及成像,特别是一种基于波前调制的相位成像及元件检测的装置和方法。
背景技术
为获得波前分布的完整信息,不仅需要得到振幅分布,还需要完整的相位信息,但不同于强度信息,波前相位信息无法通过探测器直接测量,只能通过间接测量的方式实现,干涉测量和数字全息是极为重要的相位测量及成像技术,广泛应用于材料化学、生物医学、精密检测及制造等领域,但孪生像的消除问题是干涉测量技术所面临的关键问题,目前商业化的干涉仪通常采用四步相移法来消除孪生像,但这种方法结构复杂,需要精密相移系统,随着测量口径的增加,成本随指数增加,且核心技术被国外所垄断,同时干涉法主要的数据来源为干涉条纹,因此常规干涉法必须满足采样要求,当采样间隔过大时,将难以实现相位测量。除此之外,相位恢复技术同样能够实现相位测量,其利用记录的强度信息,通过迭代计算可实现对相位信息的重建,理论上能够达到甚至超过衍射极限分辨率分辨率,具备欠采样下相位恢复、多模态相位恢复能力,这是干涉法难以比拟的,由于不需要参考光,理论上是一种优于干涉法的相位测量技术,但由于其收敛性要求较高,通常需要多幅衍射光斑或者严格的约束条件,虽然能够广泛应用于X射线和电子束成像领域,但在可见光波段的实用性优势并不明显,因此发展适用性强、无孪生像问题、计算速度快、理论上能够达到衍射极限分辨率、能够实现欠采样下相位测量、具备多模态测量能力的相位检测及成像技术,是基础研究和工业应用领域中的迫切需求。
发明内容
本发明针对上述现有干涉测量技术在孪生像消除、极限分辨率、欠采样波前测量、多模态测量等方面的不足,提出一种基于波前调制的相位成像及元件检测的装置和方法,从光场编码的角度,完全通过迭代计算实现对待测光场复振幅的精确测量,同时能够有效消除孪生像问题、具备多模态(多波长)重建能力、理论上能够达到衍射极限分辨率,能够广泛应用于相位成像、光学元件面型检测、偏振分布测量等,具备广泛的适用范围。
本发明的技术解决方案如下:
一种基于波前调制的相位成像装置,其特点在于,包括:光源模块、光场分束模块、偏振控制模块、合束编码模块、光斑探测器和控制与数据处理模块;
所述的光源模块,用于输出相干光源;
所述的光场分束模块,用于将相干光源分为两束复振幅分布已知的光束,一束作为待测样品的照明光,一束作为波前调制光;
所述的偏振控制模块,用来控制照明光束和波前调制光束之间的偏振态,根据测量需求不同控制两束光偏振态为平行、垂直或0到90度之间的角度;
所述的合束编码模块,用于将经待测样品的出射光或反射光作为待测物光,以及将待测物光与波前调制光进行空间重叠,形成编码光场,重叠区域位于光斑探测器;
所述的光斑探测器,用于接收待测物光光束,获得待测物光强度分布图,并输出至控制与数据处理模块;以及获得编码光场强度分布图;
所述的控制与数据处理模块,用于控制光斑探测器记录数据,并对待测物光强度分布图和编码光场强度分布图进行处理,重建待测样品的复振幅分布。
进一步,还包括成像模块,用于接收待测物光光束,使待测样品在光斑探测器上成像。
所述的相干光源是单波长相干光源、宽谱相干光源,或者是激光器簇,包含多个相同或不同波长的光源,相同光源或同一波长的激光是相干的,不同光源或不同波长之间非相干;所述的第一扩束器和第二扩束器将入射光扩束为平行光、球面波或者结构光。
所述的光源模块为相干光源,所述的光场分束模块由分束镜、第一反射镜、第一扩束器、第二扩束器组成,所述的偏振控制模块为第一偏振片,所述的合束编码模块通过控制分束镜和第一反射镜角度实现待测物光与波前调制光的空间重叠;所述的控制与数据处理模块为计算机;
所述的相干光源产生的光依次经过第一偏振片、分束镜后分为透射光和反射光,所述的透射光经过第一扩束器入射至光斑探测器,所述的反射光依次经过第一反射镜、第二扩束器、待测样品后,到达光斑探测器;所述的第一扩束器的出射光作为波前调制光,所述的第二扩束器的出射光作为待测物光;所述分束镜分出的透射光和反射光在光斑探测器靶面上进行波前编码,对应的干涉条纹不受限于采样要求,光斑探测器由计算机控制。
所述的光源模块为相干光源,所述的光场分束模块由分束镜、第一反射镜、第一扩束器、第二扩束器组成,所述的偏振控制模块由第二偏振片、第三偏振片组成,所述的合束编码模块通过控制分束镜和第一反射镜角度实现待测物光与波前调制光的空间重叠;所述的控制与数据处理模块为计算机;
所述的相干光源经过分束镜后分为透射光和反射光,所述的透射光依次经过第二偏振片和第一扩束器入射至光斑探测器,所述的反射光依次经过第一反射镜、第二扩束器、待测样品后到达光斑探测器;所述的第一扩束器的出射光作为波前调制光,所述的第二扩束器的出射光作为待测物光,光斑探测器同时记录包含两个偏振态的编码光场强度分布图,以及待测物光强度分布图,该光斑探测器由计算机控制。
所述的光源模块为相干光源,所述的光场分束模块由分束镜、第一反射镜、第一扩束器、第二扩束器组成,所述的偏振控制模块为第一偏振片,所述的合束编码模块通过控制分束镜和第一反射镜角度实现待测物光与波前调制光的空间重叠,所述的成像模块为透镜组;所述的控制与数据处理模块为计算机;
所述的相干光源依次经过第一偏振片和分束镜后分为透射光和反射光,所述的透射光经过第一扩束器入射至光斑探测器,所述的反射光依次经过第一反射镜、第二扩束器、待测样品和透镜组后,到达光斑探测器;所述的第一扩束器的出射光作为波前调制光,所述的透镜组的出射光作为待测物光;当待测样品为大口径元件时,透镜组对待测样品出射光进行缩束,当待测样品为微小样品时,透镜组对待测样品出射光进行放大,光斑探测器由计算机控制。
所述的光源模块为相干光源,所述的光场分束模块由光纤分束器、光纤准直器、透反镜和准直透镜组成,所述的偏振控制模块通过相干光源及光纤分束器的偏振参数实现,所述的合束编码模块通过控制光纤准直器角度来实现,所述的成像模块为透镜组,反射型样品为反射式样品,所述的控制与数据处理模块为计算机;
所述的相干光源光纤耦合进光纤分束器后分为二束,一束经过光纤准直器准直为平行光或球面波后到达光斑探测器,另一束作为点光源经过透反镜反射后经过准直透镜变为平行光,照射到反射型样品上,经该反射型样品反射后,依次经准直透镜、透反镜和透镜组后入射到光斑探测器并成像,光斑探测器由计算机控制。
所述的光源模块为相干光源,所述的光场分束模块由分束镜、第一反射镜、第一扩束器和第二扩束器组成,所述的偏振控制模块时第一偏振片,所述的合束编码模块由第二反射镜和透反镜组成,所述的成像模块为透镜组,待测样品为透射式样品,所述的控制与数据处理模块为计算机;
所述的相干光源依次经过第一偏振片和分束镜后分为透射光和反射光,所述的透射光依次经过第一扩束器、第二反射镜和透反镜后,入射至光斑探测器,所述的反射光依次经过第一反射镜、第二扩束器、待测样品、透镜组和透反镜后,到达光斑探测器;所述的第一扩束器的出射光作为波前调制光,所述的透镜组的出射光作为待测物光;当待测样品为大口径元件时,透镜组对待测样品出射光进行缩束,当待测样品为微小样品时,透镜组对待测样品出射光进行放大,光斑探测器由计算机控制。
所述的光源模块为相干光源,所述的光场分束模块由光纤分束器、光纤准直器和可变光阑组成,所述的偏振控制模块通过相干光源及光纤分束器的偏振参数实现,所述的合束编码模块通过控制光纤分束器光纤输出头的角度来实现,所述的成像模块为透镜组,待测样品为透射式样品,所述的控制与数据处理模块为计算机;
所述的相干光源经光纤耦合进光纤分束器后分为二束,一束经过光纤准直器准直为平行光或球面波后,依次经过可变光阑、待测样品后,作为待测物光到达光斑探测器,另一束作为点光源入射到光斑探测器,并作为波前调制光,光斑探测器由计算机控制。
所述的光源模块为由第一单波长激光器、第二单波长激光器和光纤合束器组成,所述的光源模块作为激光器簇,包括但不限于由2台单波长激光器组成,可以是多台激光器共同组成,或者是包含多个波长的单台激光器,所述的光场分束模块由光纤分束器、光纤准直器、透反镜和球面反射镜组成,所述的偏振控制模块通过第一单波长激光器、第二单波长激光器和光纤合束器的偏振参数实现,所述的合束编码模块通过控制光纤准直器的出射角度来实现,所述的控制与数据处理模块为计算机;
所述的第一单波长激光器、第二单波长激光器经光纤合束器合束后,再次经过光纤分束器分为两束,每束都同时包含第一单波长激光器、第二单波长激光器的激光,其中一束经过光纤准直器准直为平行光或球面波后作为波前调制光到达光斑探测器,另外一束作为点光源经过透反镜和球面反射镜准直为平行光或者球面波后作为反射型样品的照明光,反射型样品为平面、球面、自由曲面或者非规则球面结构,反射样品的反射光经过球面反射镜反射后,穿过透反镜到达光斑探测器,并作为待测物光,光斑探测器由计算机控制。
所述的光源模块为相干光源,所述的光场分束模块由分束镜、第一反射镜、第一物镜、第一小孔、第二物镜、第二小孔、透反镜和准直透镜组成,所述的偏振控制模块由相干光源的偏振参数决定,所述的合束编码模块通过控制第一反射镜角度和第一物镜的光轴来实现,所述的成像模块为透镜组;所述的控制与数据处理模块为计算机;
所述的相干光源经过分束镜后分为透射光和反射光,所述的透射光依次经过第一反射镜、第一物镜和第一小孔后,成为球面波入射至光斑探测器并作为波前调制光,所述的反射光依次经过第二物镜、第二小孔、透反镜和准直透镜后,准直为平行光,作为反射型样品的照明光,经过反射型样品反射后,依次透过准直透镜、透反镜和透镜组后,作为待测物光到达光斑探测器,当反射型样品为大口径元件时,透镜组对反射型样品反射光进行缩束,当反射型样品为微小样品时,透镜组对反射型样品反射光进行放大,光斑探测器由计算机控制。
所述的光源模块为相干光源,所述的光场分束模块由棱镜、第一反射镜和准直透镜组成,所述的偏振控制模块由相干光源的偏振参数决定,所述的合束编码模块通过控制第一反射镜角度来实现,所述的控制与数据处理模块为计算机;
所述的相干光源为光纤输出,作为点光源被棱镜分为透射光和反射光,其中透射光经过第一反射镜反射后,再次被棱镜反射后到达光斑探测器并作为波前调制光,其中反射光经过准直透镜准直后变为平行光,并作为反射型样品的照明光,反射型样品的反射光依次透过准直透镜、棱镜后,到达光斑探测器并作为待测物光,光斑探测器由计算机控制。
利用上述基于波前调制的相位成像装置进行相位测量的方法,其特点在于,包括以下步骤:
S1.打开光源模块,输出相干光源,调整相干光源的光强和偏振控制模块,利用光斑探测器分别记录待测物光强度分布图IO和存在波前调制光束时的编码光场强度图IC
S2.对待测物光强度分布图IO的相位分布进行重建,具体是:
①设待测物光强度分布图IO对应的初始相位分布
Figure BDA0002831020720000061
得到待测物光复振幅
Figure BDA0002831020720000062
②计算待测物光与波前调制光重叠后的编码光场EC,公式如下:
EC=EO+ER
式中,ER为波前调制光复振幅,同时计算误差函数
Figure BDA0002831020720000063
其中∑表示像素点求和;
③利用实际记录的编码光场强度图IC对波前调制光复振幅EC进行振幅更新,得到更新后的编码光场复振幅
Figure BDA0002831020720000064
其中angle()表示取相位,j表示虚数;
④从更新后的编码光场复振幅E′C中去掉波前调制过程,得到更新的待测物光复振幅E′O=E′C-ER
⑤对更新后的待测物光光复振幅E′O进行空间有限的条件约束并得到进一步更新的待测物光复振幅E″O,并作为下一次迭代的初始猜测,根据具体情况选择,空间有限包括频谱有限、焦平面分布有限及特定位置面上空间分布有限等;
⑥重复步骤②-⑤,直到误差函数RMS值趋于稳定或不变,得到最终的待测物光复振幅
Figure BDA0002831020720000071
⑦将
Figure BDA0002831020720000072
传播到待测物体所在的面或者像面后,除以对应的照明光复振幅,即得到待测物体的复振幅透过率或者反射率函数,完成迭代计算。
利用上述基于波前调制的相位成像装置进行多模态相位测量的方法,其特点在于,包括以下步骤:
S1.打开光源模块,输出相干光源,调整相干光源的光强和偏振控制模块,利用光斑探测器分别记录包含多个模态的待测物光强度分布图IO和存在多个模态波前调制光束时的编码光场强度图IC,所述的多模态表示光场中包含多个非相干模式,可以是不同偏振态、不同波长或者不同激光器发出的相同波长激光;
S2.对待测物光强度分布图IO的相位分布进行重建,具体是:
①设待测物光强度分布图IO由N个非相干模式组成,对应的初始相位分布分别为:
Figure BDA0002831020720000073
得到对应的待测物光复振幅分别为
Figure BDA0002831020720000074
Figure BDA0002831020720000075
N≥2,其中Nα表示待测物光强度分布图中第N个模式在不同像素点所占的能量比,是一个二维矩阵;
②计算编码光场分布,其中待测物光第N个模式与波前调制光第N个模式重叠后的编码光场NEC,公式如下:
NECNEO+NER
式中,NER为波前调制光第N个模式的复振幅,同时计算误差函数
Figure BDA0002831020720000076
其中
Figure BDA0002831020720000077
表示像素点求和;
③利用实际记录的编码光场强度图IC对所有模式下的编码光场进行更新,其中波前调制光第N个模式的复振幅NEC更新方法如下:
Figure BDA0002831020720000078
其中Nβ表示编码光场强度图中第N个模式在不同像素点所占的能量比,是一个二维矩阵;
④去掉不同模式下的波前调制过程,得到更新的待测物光第N个模式复振幅NE′ONE′C-NER
⑤对更新后的不同模式下待测物光光复振幅NE′O分别进行空间有限的条件约束并得到进一步更新的不同模式下待测物光复振幅NE″O,并作为下一次迭代的初始猜测,根据具体情况选择,空间有限包括频谱有限、焦平面分布有限及特定位置面上空间分布有限等;
⑥重复步骤②-⑤,直到误差函数RMS值趋于稳定或不变,得到最终的不同模式下待测物光复振幅
Figure BDA0002831020720000081
⑦将
Figure BDA0002831020720000082
传播到待测物体所在的面或者像面后,除以对应模式的照明光复振幅,即得到待测物体第N个模式对应的复振幅透过率或者反射率函数,完成迭代计算。
与现有技术相比,本发明的技术效果:
1)在不增加光斑数量的条件下,只需要通过迭代计算就可以消除孪生像问题,不需要常规的四步相移等方法。
2)由于不存在数字全息中频率截取过程,高频信息不丢失,结合相位恢复技术能够达到衍射极限分辨率的特点,本发明具备更高的空间分辨率。
3)本发明具备宽松的采样要求,干涉条纹在欠采样下仍然可以实现波前重建。
4)具备多状态测量能力,可实现对不同偏振态或不同波长复振幅分布的同时重建。
附图说明
图1是本发明基于波前调制的相位成像装置实施例1结构示意图。
图2是本发明基于波前调制的相位成像装置实施例2结构示意图。
图3是本发明基于波前调制的相位成像装置实施例3结构示意图。
图4是本发明基于波前调制的相位成像装置实施例4结构示意图。
图5是本发明基于波前调制的相位成像装置实施例5结构示意图。
图6是本发明基于波前调制的相位成像装置实施例6结构示意图。
图7是本发明基于波前调制的相位成像装置实施例7结构示意图。
图8是本发明基于波前调制的相位成像装置实施例8结构示意图。
图9是本发明基于波前调制的相位成像装置实施例9结构示意图。
图中:1-相干光源,2-第一偏振片,3-分束镜,4-第一扩束器,5-第一反射镜,6-第二扩束器,7-待测样品,8-光斑探测器,9-第二偏振片,10-第三偏振片,11-透镜组,12-光纤分束器,13-光纤准直器,14-反射型样品,15-准直透镜,16-透反镜,17-第一单波长激光器,18-第二单波长激光器,19-光纤合束器,20-球面反射镜,21-第一物镜,22-第一小孔,23-第二物镜,24-第二小孔,25-待测物光,26-波前调制光,27-棱镜,28-可变光阑,29-计算机,30-第二反射镜。
具体实施方式
为让本发明的上述优点能明显易懂,以下结合附图对本发明的具体实施方式进行详细说明。需要说明的是,本发明不应局限于下述的具体实施的内容,本领域的技术人员应该从下述实施方式所体现的精神来理解本发明,各技术术语可以基于本发明的精神实质来做最宽泛的理解。
实施例1
一种生物样品复振幅透射率测量装置,采用图1所示光路进行排布,光源模块为He-Ne激光器,所产生的光依次经过第一偏振片、分束镜后分为透射光和反射光,所述的透射光经过第一扩束器后准直为30mm口径平行光,入射至光斑探测器,并作为波前调制光,光斑探测器像素尺数为4096×4096,像素尺寸为9微米,所述的反射光依次经过第一反射镜、第二扩束器后,变为平行光束照射到待测样品生物切片上,其透射光传播10mm后到达光斑探测器并作为待测物光;待测物光和波前调制光在光斑探测器靶面上进行波前编码,两束光光轴夹角10度。
实施例2
一种双折射光学元件复振幅透射率检测装置,采用图2所示光路进行排布,相干光源为波长526.5nm激光,经过分束镜后分为透射光和反射光,所述的透射光依次经过第二偏振片和第一扩束器入射至光斑探测器,第一扩束器的出射光为发散球面波,同时作为波前调制光,所述的反射光依次经过第一反射镜、第二扩束器变为平行光后,作为待测元件照明光,待测元件出射光作为待测物光。
打开光源模块,输出相干光源,调整相干光源的光强和偏振控制模块,使波前调制光和待测样品照明光偏振角度为45度,利用光斑探测器分别记录包含两个偏振态的待测物光强度分布图IO和存在两个偏振态波前调制光束时的编码光场强度图IC
对待测物光强度分布图IO的相位分布进行重建,具体是:
①设待测物光强度分布图IO由2个非相干偏振模式模式组成,即认为光场中同时存在p偏振和s偏振两种光场,对应的初始相位分布分别为:
Figure BDA0002831020720000101
得到对应的待测物光复振幅分别为
Figure BDA0002831020720000102
其中Nα表示待测物光强度分布图中第N个模式在不同像素点所占的能量比,是一个二维矩阵,N为1或2;
②计算编码光场分布,其中待测物光第N个模式与波前调制光第N个模式重叠后的编码光场NEC,公式如下:
NECNEO+NER
式中,NER为波前调制光第N个模式的复振幅,同时计算误差函数
Figure BDA0002831020720000103
其中
Figure BDA0002831020720000104
表示像素点求和;
③利用实际记录的编码光场强度图IC对所有模式下的编码光场进行更新,其中波前调制光第N个模式的复振幅NEC更新方法如下:
Figure BDA0002831020720000105
其中Nβ表示编码光场强度图中第N个模式在不同像素点所占的能量比,是一个二维矩阵;
④去掉不同模式下的波前调制过程,得到更新的待测物光第N个模式复振幅NE′ONE′C-NER
⑤对更新后的不同模式下待测物光光复振幅NE′O分别进行频谱空间有限的条件约束并得到进一步更新的不同模式下待测物光复振幅
Figure BDA0002831020720000106
并作为下一次迭代的初始猜测,其中
Figure BDA0002831020720000111
Figure BDA0002831020720000112
分别表示傅里叶变换和逆傅里叶变换,Fxy(r)表示半径为r的孔函数,中心为NE′O的频率最强点,r随迭代次数的增加逐渐增加;
⑥重复步骤②-⑤,直到误差函数RMS值趋于稳定或不变,得到最终的不同模式下待测物光复振幅
Figure BDA0002831020720000113
⑦将
Figure BDA0002831020720000114
传播到待测物体所在的面或者像面后,除以对应模式的照明光复振幅,即得到待测物体第N个模式对应的复振幅透过率或者反射率函数,完成迭代计算。
调整相干光源的光强和偏振控制模块,使波前调制光和待测样品照明光偏振角度分别为0度和90度,各记录一组数据,同时将待测样品照明光调整为圆偏振光再记录一组,重复上述迭代计算,利用重建结果分析待测样品的双折射特性。
实施例3
一种显微相位测量装置,采用图3所示光路进行排布,相干光源输出波长351nm的ns脉冲光,依次经过第一偏振片和分束镜后分为透射光和反射光,所述的透射光经过装有随机散射片的第一扩束器变为散斑光场,入射至光斑探测器,并作为波前调制光,所述的反射光依次经过第一反射镜、第二扩束器、待测样品和透镜组后,到达光斑探测器,透镜组将放大待测样品放大10倍后成像于光斑探测器上,并作为待测物光,光斑探测器(8)由计算机(29)控制。
实施例4
一种大口径元件面型检测装置,采用图4所示光路进行排布,相干光源产生的633nm相干激光经光纤分束器后分为二束,一束经过光纤准直器准直为平行光后到达光斑探测器,作为波前调制光,另一束作为点光源经过透反镜反射后,再经过准直透镜变为平行光,照射到反射型样品上,经该反射型样品反射后,依次经准直透镜、透反镜和透镜组后入射到光斑探测器并成像,该光束作为待测物光,光斑探测器由计算机控制。
实施例5
一种光学元件透射率测量装置,采用图5所示光路进行排布,相干光源经过第一偏振片后被分束镜分为两路,透射光经过第一扩束器后扩束为口径为球面波,经过反射镜和透反镜反射后到达光斑探测器作为波前调制光场,所述调制光场采用相干调制成像技术或者Ptychography相位恢复算法进行重建并作为已知条件,分束镜的反射光依次经过反射镜和第二扩束器后变为口径是300mm的平行光,经过成像系统后穿过透反镜到达光斑探测器并作为待测物光,此处成像系统为焦距1m的非球面透镜,光斑探测器位于焦点后10mm处,直径300mm的待测样品紧贴成像系统放置,此时光斑探测器位于待测元件离焦面上,当重建得到待测物光光场分布后,可以通过数字聚焦实现成像。
实施例6
一种生物样品相位成像装置,采用图6所示的光路进行排布,相干光源(ns脉冲光,中心内波长为1053nm)经过光纤分束器分束后,一束作为点光源照射到光斑探测器上作为波前调制光,另外一束经过光纤准直器变为平行光照射到待测样品上,待测样品前放置可变光阑,待测样品出射光作为待测物光到达光斑探测器。
实施例7
一种双波长反射式自由曲面元件检测装置,采用图7所示的光路进行排布,第一单波长激光器(λ1=632nm)和第二单波长激光器(λ2=633nm)经过光纤合束器合束后,再次经过光纤分束器分束,一束经过光纤准直器准直为口径50mm的平行光到达光斑探测器,作为波前调制光,一束作为点光源,经过透反镜反射后到达球面反射镜,并准直为包含两个波长的平行光照射到反射型自由曲面光学元件上,经过反射后,依次经过球面反射镜、透反镜后到达光斑探测器,作为待测物光。
打开光源模块,利用光斑探测器分别记录包含两个波长的待测物光强度分布图IO和存在两个波长波前调制光束时的编码光场强度图IC
对待测物光强度分布图IO的相位分布进行重建,具体是:
①设待测物光强度分布图IO由2个波长的光束强度叠加组成,分别对应λ1和λ2,对应的初始相位分布分别为:
Figure BDA0002831020720000121
得到对应的待测物光复振幅分别为
Figure BDA0002831020720000122
其中Nα表示待测物光强度分布图中第N个波长在不同像素点所占的能量比,是一个二维矩阵,N为1或2,此时不同波长对应不同模式;
②计算编码光场分布,其中待测物光第N个模式与波前调制光第N个模式重叠后的编码光场NEC,公式如下:
NECNEO+NER
式中,NER为波前调制光第N个模式的复振幅,同时计算误差函数
Figure BDA0002831020720000131
其中
Figure BDA0002831020720000132
表示像素点求和;
③利用实际记录的编码光场强度图IC对所有模式下的编码光场进行更新,其中波前调制光第N个模式的复振幅NEC更新方法如下:
Figure BDA0002831020720000133
其中Nβ表示编码光场强度图中第N个模式在不同像素点所占的能量比,是一个二维矩阵;
④去掉不同模式下的波前调制过程,得到更新的待测物光第N个模式复振幅NE′ONE′C-NER
⑤对更新后的不同模式下待测物光光复振幅NE′O分别进行频谱空间有限的条件约束并得到进一步更新的不同模式下待测物光复振幅
Figure BDA0002831020720000134
并作为下一次迭代的初始猜测,其中
Figure BDA0002831020720000135
Figure BDA0002831020720000136
分别表示傅里叶变换和逆傅里叶变换,Fxy(r)表示半径为r的孔函数,中心为NE′O的频率最强点,r随迭代次数的增加逐渐增加;
⑥重复步骤②-⑤,直到误差函数RMS值趋于稳定或不变,得到最终的不同模式下待测物光复振幅
Figure BDA0002831020720000137
Figure BDA0002831020720000138
传播到待测物体所在的面后,获得待测样品两个波长对应的反射光。将待测样品替换为标准反射镜后,按照上述步骤重复记录并重建标准反射镜不同波长对应的反射光,同自由曲面待测元件的反射光相除,得到两个波长下自由曲面待测元件的复振幅反射率,通过波长合成,可以得到无相位包裹的反射面型。
实施例8
一种反射式光学元件检测装置,采用图8所示的测量光路,波长526nm的准连续光激光器作为相干光源,经过分束镜分束后,透射光依次经过反射镜、第一物镜和第一小孔后成为发散球面波,到达光斑探测器并作为波前调制光,分束镜的反射光依次经过第二物镜、第二小孔后变为球面波,经过透反镜反射后到达焦距为2m的准直透镜后,成为直径为500mm的平行光,其照射到反射型样品上后,反射光依次经过透反镜和透镜组后,作为待测物光到达光斑探测器,光斑探测器靶面和反射型样品相对准直透镜和透镜组互为共轭关系,即反射型样品的像面位于光斑探测器靶面位置。当反射型样品为标准反射镜时,记录空腔校准数据,当反射型样品为待测样品时,记录测量数据,通过迭代计算重建得到两种情况下光斑探测面的复振幅分布,两者相位差除以2即为待测元件的面型分布。
实施例9
一种反射式光学元件检测装置,采用图9所示的测量光路,波长526nm相干光源(光纤激光器)出射光作为点光源,经过棱镜后,其透射光经过反射镜反射后再次经过棱镜反射,并照射到光斑探测器上作为波前调制光,棱镜反射光经过准直透镜后变为平行光照射到反射型样品上,反射型样品紧贴准直透镜,经过反射后,依次经过准直透镜、棱镜后到达光斑探测器并作为待测物光。当反射型样品为标准反射镜时,记录一组空腔校准数据,当反射型样品为待测样品时,记录一组测量数据,通过迭代计算重建得到两种情况下光斑探测面的复振幅分布,将其逆向传播到准直透镜所在频面,两者相位差处以2即为待测元件的面型分布。

Claims (14)

1.一种基于波前调制的相位成像装置,其特征在于,包括:光源模块、光场分束模块、偏振控制模块、合束编码模块、光斑探测器和控制与数据处理模块;
所述的光源模块,用于输出相干光源;
所述的光场分束模块,用于将相干光源分为两束复振幅分布已知的光束,一束作为待测样品的照明光,一束作为波前调制光;
所述的偏振控制模块,用来控制照明光束和波前调制光束之间的偏振态,根据测量需求不同控制两束光偏振态为平行、垂直或0到90度之间的角度;
所述的合束编码模块,用于将经待测样品的出射光或反射光作为待测物光,以及将待测物光与波前调制光进行空间重叠,形成编码光场,重叠区域位于光斑探测器;
所述的光斑探测器,用于接收待测物光光束,获得待测物光强度分布图,并输出至控制与数据处理模块;以及获得编码光场强度分布图;
所述的控制与数据处理模块,用于控制光斑探测器记录数据,并对待测物光强度分布图和编码光场强度分布图进行处理,重建待测样品的复振幅分布。
2.根据权利要求1所述的基于波前调制的相位成像装置,其特征在于,还包括成像模块,用于接收待测物光光束,使待测样品在光斑探测器上成像。
3.根据权利要求1所述的基于波前调制的相位成像装置,其特征在于,所述的相干光源(1)是单波长相干光源、宽谱相干光源,或者是激光器簇,包含多个相同或不同波长的光源,相同光源或同一波长的激光是相干的,不同光源或不同波长之间非相干;所述的第一扩束器(4)和第二扩束器(6)将入射光扩束为平行光、球面波或者结构光。
4.根据权利要求1所述的基于波前调制的相位成像装置,其特征在于,所述的光源模块为相干光源(1),所述的光场分束模块由分束镜(3)、第一反射镜(5)、第一扩束器(4)、第二扩束器(6)组成,所述的偏振控制模块为第一偏振片(2),所述的合束编码模块通过控制分束镜(3)和第一反射镜(5)角度实现待测物光(25)与波前调制光(26)的空间重叠;所述的控制与数据处理模块为计算机(29);
所述的相干光源(1)产生的光依次经过第一偏振片(2)、分束镜(3)后分为透射光和反射光,所述的透射光经过第一扩束器(4)入射至光斑探测器(8),所述的反射光依次经过第一反射镜(5)、第二扩束器(6)、待测样品(7)后,到达光斑探测器(8);所述的第一扩束器(4)的出射光作为波前调制光(26),所述的第二扩束器(6)的出射光作为待测物光(25);所述分束镜(3)分出的透射光和反射光在光斑探测器(8)靶面上进行波前编码,对应的干涉条纹不受限于采样要求,光斑探测器(8)由计算机(29)控制。
5.根据权利要求1所述的基于波前调制的相位成像装置,其特征在于,所述的光源模块为相干光源(1),所述的光场分束模块由分束镜(3)、第一反射镜(5)、第一扩束器(4)、第二扩束器(6)组成,所述的偏振控制模块由第二偏振片(9)、第三偏振片(10)组成,所述的合束编码模块通过控制分束镜(3)和第一反射镜(5)角度实现待测物光(25)与波前调制光(26)的空间重叠;所述的控制与数据处理模块为计算机(29);
所述的相干光源(1)经过分束镜(3)后分为透射光和反射光,所述的透射光依次经过第二偏振片(9)和第一扩束器(4)入射至光斑探测器(8),所述的反射光依次经过第一反射镜(5)、第二扩束器(6)、待测样品(7)后到达光斑探测器(8);所述的第一扩束器(4)的出射光作为波前调制光(26),所述的第二扩束器(6)的出射光作为待测物光(25),光斑探测器(8)同时记录包含两个偏振态的编码光场强度分布图,以及待测物光强度分布图,该光斑探测器(8)由计算机(29)控制。
6.根据权利要求2所述的基于波前调制的相位成像装置,其特征在于,所述的光源模块为相干光源(1),所述的光场分束模块由分束镜(3)、第一反射镜(5)、第一扩束器(4)、第二扩束器(6)组成,所述的偏振控制模块为第一偏振片(2),所述的合束编码模块通过控制分束镜(3)和第一反射镜(5)角度实现待测物光(25)与波前调制光(26)的空间重叠,所述的成像模块为透镜组(11);所述的控制与数据处理模块为计算机(29);
所述的相干光源(1)依次经过第一偏振片(2)和分束镜(3)后分为透射光和反射光,所述的透射光经过第一扩束器(4)入射至光斑探测器(8),所述的反射光依次经过第一反射镜(5)、第二扩束器(6)、待测样品(7)和透镜组(11)后,到达光斑探测器(8);所述的第一扩束器(4)的出射光作为波前调制光(26),所述的透镜组(11)的出射光作为待测物光(25);当待测样品(7)为大口径元件时,透镜组(11)对待测样品(7)出射光进行缩束,当待测样品(7)为微小样品时,透镜组(11)对待测样品(7)出射光进行放大,光斑探测器(8)由计算机(29)控制。
7.根据权利要求2所述的基于波前调制的相位成像装置,其特征在于,所述的光源模块为相干光源(1),所述的光场分束模块由光纤分束器(12)、光纤准直器(13)、透反镜(16)和准直透镜(15)组成,所述的偏振控制模块通过相干光源(1)及光纤分束器(12)的偏振参数实现,所述的合束编码模块通过控制光纤准直器(13)角度来实现,所述的成像模块为透镜组(11),反射型样品(14)为反射式样品,所述的控制与数据处理模块为计算机(29);
所述的相干光源(1)经光纤耦合进光纤分束器(12)后分为二束,一束经过光纤准直器(13)准直为平行光或球面波后到达光斑探测器(8),另一束作为点光源经过透反镜(16)反射后经过准直透镜(15)变为平行光,照射到反射型样品(14)上,经该反射型样品(14)反射后,依次经准直透镜(15)、透反镜(16)和透镜组(11)后入射到光斑探测器(8)并成像,光斑探测器(8)由计算机(29)控制。
8.根据权利要求2所述的基于波前调制的相位成像装置,其特征在于,所述的光源模块为相干光源(1),所述的光场分束模块由分束镜(3)、第一反射镜(5)、第一扩束器(4)和第二扩束器(6)组成,所述的偏振控制模块时第一偏振片(2),所述的合束编码模块由第二反射镜(30)和透反镜(16)组成,所述的成像模块为透镜组(11),待测样品(7)为透射式样品,所述的控制与数据处理模块为计算机(29);
所述的相干光源(1)依次经过第一偏振片(2)和分束镜(3)后分为透射光和反射光,所述的透射光依次经过第一扩束器(4)、第二反射镜(30)和透反镜(16)后,入射至光斑探测器(8),所述的反射光依次经过第一反射镜(5)、第二扩束器(6)、待测样品(7)、透镜组(11)和透反镜(16)后,到达光斑探测器(8);所述的第一扩束器(4)的出射光作为波前调制光(26),所述的透镜组(11)的出射光作为待测物光(25);当待测样品(7)为大口径元件时,透镜组(11)对待测样品(7)出射光进行缩束,当待测样品(7)为微小样品时,透镜组(11)对待测样品(7)出射光进行放大,光斑探测器(8)由计算机(29)控制。
9.根据权利要求1所述的基于波前调制的相位成像装置,其特征在于,所述的光源模块为相干光源(1),所述的光场分束模块由光纤分束器(12)、光纤准直器(13)和可变光阑(28)组成,所述的偏振控制模块通过相干光源(1)及光纤分束器(12)的偏振参数实现,所述的合束编码模块通过控制光纤分束器(12)光纤输出头的角度来实现,所述的成像模块为透镜组(11),待测样品(7)为透射式样品,所述的控制与数据处理模块为计算机(29);
所述的相干光源(1)经光纤耦合进光纤分束器(12)后分为二束,一束经过光纤准直器(13)准直为平行光或球面波后,依次经过可变光阑(28)、待测样品(7)后,作为待测物光(25)到达光斑探测器(8),另一束作为点光源入射到光斑探测器(8),并作为波前调制光(26),光斑探测器(8)由计算机(29)控制。
10.根据权利要求1所述的基于波前调制的相位成像装置,其特征在于,所述的光源模块为由第一单波长激光器(17)、第二单波长激光器(18)和光纤合束器(19)组成,所述的光源模块作为激光器簇,包括至少二台单波长激光器或者是包含多个波长的单台激光器,所述的光场分束模块由光纤分束器(12)、光纤准直器(13)、透反镜(16)和球面反射镜(20)组成,所述的偏振控制模块通过第一单波长激光器(17)、第二单波长激光器(18)和光纤合束器(19)的偏振参数实现,所述的合束编码模块通过控制光纤准直器(13)的出射角度来实现,所述的控制与数据处理模块为计算机(29);
所述的第一单波长激光器(17)、第二单波长激光器(18)的输出光经光纤合束器(19)合束后,再经过光纤分束器(12)分为两束,每束都同时包含第一单波长激光器(17)和第二单波长激光器(18)的激光,其中一束经过光纤准直器(13)准直为平行光或球面波后作为波前调制光(26)到达光斑探测器(8),另外一束作为点光源经过透反镜(16)和球面反射镜(20)准直为平行光或者球面波后作为反射型样品(14)的照明光,反射型样品(14)为平面、球面、自由曲面或者非规则球面结构,反射样品(14)的反射光经过球面反射镜(20)反射后,穿过透反镜(16)到达光斑探测器(8),并作为待测物光(25),光斑探测器(8)由计算机(29)控制。
11.根据权利要求2所述的基于波前调制的相位成像装置,其特征在于,所述的光源模块为相干光源(1),所述的光场分束模块由分束镜(3)、第一反射镜(5)、第一物镜(21)、第一小孔(22)、第二物镜(23)、第二小孔(24)、透反镜(16)和准直透镜(15)组成,所述的偏振控制模块由相干光源(1)的偏振参数决定,所述的合束编码模块通过控制第一反射镜(5)角度和第一物镜(21)的光轴来实现,所述的成像模块为透镜组(11);所述的控制与数据处理模块为计算机(29);
所述的相干光源(1)经过分束镜(3)后分为透射光和反射光,所述的透射光依次经过第一反射镜(5)、第一物镜(21)和第一小孔(22)后,成为球面波入射至光斑探测器(8)并作为波前调制光(26),所述的反射光依次经过第二物镜(23)、第二小孔(24)、透反镜(16)和准直透镜(15)后,准直为平行光,作为反射型样品(14)的照明光,经过反射型样品(14)反射后,依次透过准直透镜(15)、透反镜(16)和透镜组(11)后,作为待测物光(25)到达光斑探测器(8),当反射型样品(14)为大口径元件时,透镜组(11)对反射型样品(14)反射光进行缩束,当反射型样品(14)为微小样品时,透镜组(11)对反射型样品(14)反射光进行放大,光斑探测器(8)由计算机(29)控制。
12.根据权利要求1所述的基于波前调制的相位成像装置,其特征在于,所述的光源模块为相干光源(1),所述的光场分束模块由棱镜(27)、第一反射镜(5)和准直透镜(15)组成,所述的偏振控制模块由相干光源(1)的偏振参数决定,所述的合束编码模块通过控制第一反射镜(5)角度来实现,所述的控制与数据处理模块为计算机(29);
所述的相干光源(1)为光纤输出,作为点光源被棱镜(27)分为透射光和反射光,其中透射光经过第一反射镜(5)反射后,再次被棱镜(27)反射后到达光斑探测器(8)并作为波前调制光(26),其中反射光经过准直透镜(15)准直后变为平行光,并作为反射型样品(14)的照明光,反射型样品(14)的反射光依次透过准直透镜(15)、棱镜(27)后,到达光斑探测器(8)并作为待测物光(25),光斑探测器(8)由计算机(29)控制。
13.利用权利要求1所述的基于波前调制的相位成像装置进行相位测量的方法,其特征在于包括以下步骤:
S1.打开光源模块,输出相干光源,调整相干光源的光强和偏振控制模块,利用光斑探测器分别记录待测物光强度分布图IO和存在波前调制光束时的编码光场强度图IC
S2.对待测物光强度分布图IO的相位分布进行重建,具体是:
①设待测物光强度分布图IO对应的初始相位分布
Figure FDA0002831020710000061
得到待测物光复振幅
Figure FDA0002831020710000062
②计算待测物光与波前调制光重叠后的编码光场EC,公式如下:
EC=EO+ER
式中,ER为波前调制光复振幅,同时计算误差函数
Figure FDA0002831020710000063
其中∑表示像素点求和;
③利用实际记录的编码光场强度图IC对波前调制光复振幅EC进行振幅更新,得到更新后的编码光场复振幅
Figure FDA0002831020710000064
其中angle()表示取相位,j表示虚数;
④从更新后的编码光场复振幅E′C中去掉波前调制过程,得到更新的待测物光复振幅E′O=E′C-ER
⑤对更新后的待测物光光复振幅E′O进行空间有限的条件约束并得到进一步更新的待测物光复振幅E″O,并作为下一次迭代的初始猜测,根据具体情况选择,空间有限包括频谱有限、焦平面分布有限及特定位置面上空间分布有限等;
⑥重复步骤②-⑤,直到误差函数RMS值趋于稳定或不变,得到最终的待测物光复振幅
Figure FDA0002831020710000065
⑦将待测物光复振幅
Figure FDA0002831020710000066
传播到待测物体所在的面或者像面后,除以对应的照明光复振幅,即得到待测物体的复振幅透过率或者反射率函数,完成迭代计算。
14.利用权利要求1所述的基于波前调制的相位成像装置进行多模态相位测量的方法,其特征在于包括以下步骤:
S1.打开光源模块,输出相干光源,调整相干光源的光强和偏振控制模块,利用光斑探测器分别记录包含多个模态的待测物光强度分布图IO和存在多个模态波前调制光束时的编码光场强度图IC,所述的多模态表示光场中包含多个非相干模式,可以是不同偏振态、不同波长或者不同激光器发出的相同波长激光;
S2.对待测物光强度分布图IO的相位分布进行重建,具体是:
①设待测物光强度分布图IO由N个非相干模式组成,对应的初始相位分布分别为:
Figure FDA0002831020710000071
得到对应的待测物光复振幅分别为
Figure FDA0002831020710000072
Figure FDA0002831020710000073
N≥2,其中Nα表示待测物光强度分布图中第N个模式在不同像素点所占的能量比,是一个二维矩阵;
②计算编码光场分布,其中待测物光第N个模式与波前调制光第N个模式重叠后的编码光场NEC,公式如下:
NECNEO+NER
式中,NER为波前调制光第N个模式的复振幅,同时计算误差函数
Figure FDA0002831020710000074
其中
Figure FDA0002831020710000075
表示像素点求和;
③利用实际记录的编码光场强度图IC对所有模式下的编码光场进行更新,其中波前调制光第N个模式的复振幅NEC更新方法如下:
Figure FDA0002831020710000076
其中Nβ表示编码光场强度图中第N个模式在不同像素点所占的能量比,是一个二维矩阵;
④去掉不同模式下的波前调制过程,得到更新的待测物光第N个模式复振幅NE′ONE′C-NER
⑤对更新后的不同模式下待测物光光复振幅NE′O分别进行空间有限的条件约束并得到进一步更新的不同模式下待测物光复振幅NE″O,并作为下一次迭代的初始猜测,根据具体情况选择,空间有限包括频谱有限、焦平面分布有限及特定位置面上空间分布有限等;
⑥重复步骤②-⑤,直到误差函数RMS值趋于稳定或不变,得到最终的不同模式下待测物光复振幅
Figure FDA0002831020710000077
⑦将
Figure FDA0002831020710000081
传播到待测物体所在的面或者像面后,除以对应模式的照明光复振幅,即得到待测物体第N个模式对应的复振幅透过率或者反射率函数,完成迭代计算。
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