CN113267517A - 物体接纳容器、物体固定系统、辐射设备 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种用于接纳物体的物体接纳容器，一种物体固定系统，一种辐射设备，一种用于加工物体的设备，一种用于在使用物体接纳容器或物体固定系统的情况下研究、分析和/或加工物体的方法。该物体接纳容器具有：第一容器单元；用于接纳该物体的空腔，其中该空腔布置在该第一容器单元处；第二容器单元，该第二容器单元形成为相对于该第一容器单元能够移动，其中该第二容器单元相对于该第一容器单元能够进入第一位置和/或第二位置中，其中该第二容器单元在该第二位置中遮盖布置在该第一容器单元处的空腔；以及至少一个紧固装置，该紧固装置布置在该第一容器单元或该第二容器单元处，以便将该物体接纳容器布置在固定装置处。

Description

物体接纳容器、物体固定系统、辐射设备

技术领域

本发明涉及一种用于接纳至少一个物体的物体接纳容器，该物体可以在深冷温度下被研究、分析和/或加工。本发明还涉及一种带有物体接纳容器的物体固定系统。此外，本发明涉及一种辐射设备和/或一种带有物体接纳容器或带有物体固定系统的用于加工物体的设备。例如，该辐射设备被形成为光辐射设备和/或形成为粒子辐射设备和/或形成为X射线辐射设备。例如用于加工物体的该设备可以为显微切片机。本发明还涉及一种用于在使用物体接纳容器或物体固定系统的情况下研究、分析和/或加工物体的方法。

背景技术

长久以来已知的是以光学显微方式研究和/或分析物体。在光学显微方法中使用光学显微镜，该光学显微镜具有用于产生光辐射的射束发生器、用于将光辐射聚焦到物体上的物镜和用于显示图像和/或对物体的分析的显示装置。显示装置例如形成为目镜。

另外，长久以来已知的是用电子辐射设备来研究物体。电子辐射设备、尤其扫描电子显微镜(以下也称为SEM)和/或透射电子显微镜(以下也称为TEM)例如用于研究物体(样品)，以获得在某些条件下特性和行为方面的认知。

在SEM的情况下，借助于射束发生器来产生电子射束(以下也称为初级电子射束)并且通过射束引导系统将其聚焦到待研究的物体上。借助于呈扫描装置形式的偏转装置以扫描方式在待研究的物体的表面上引导初级电子射束。初级电子射束的电子在此与待研究的物体进行相互作用。作为相互作用的结果，尤其从物体发射电子(所谓的次级电子)并且将初级电子射束的电子返回散射(所谓的返回散射电子)。检测次级电子和返回散射电子并将其用于形成图像。由此获得待研究物体的像。

在TEM的情况下，同样借助于射束发生器来产生初级电子射束并且借助于射束引导系统将其引导至待研究的物体。初级电子射束透射待研究的物体。在初级电子射束穿过待研究的物体时，初级电子射束的电子与待研究的物体的材料进行相互作用。穿透待研究的物体的电子通过由物镜和透射透镜(Projektiv)组成的系统在光屏上或在检测器(例如摄影机)上成像。在此成像还可以在TEM的扫描模式下进行。此类TEM一般称为STEM。另外可以提出，在待研究的物体处借助于另外的检测器来检测返回散射的电子和/或由待研究的物体发射的次级电子，以便将待研究的物体成像。

另外，从现有技术中已知，将组合设备用于研究物体，其中不仅可以将电子还可以将离子引导到待研究的物体上。例如已知的是，使SEM额外地配备离子辐射柱。借助于布置在离子辐射柱中的离子射束发生器来产生离子，这些离子用于制备物体(例如削磨物体的材料或将材料施加到物体上)或者还用于成像。为此用呈扫描装置形式的偏转装置使粒子在物体上扫过。SEM在此尤其用于观察制备过程，但是也用于进一步研究所制备的或未制备的物体。

已知的是，将待用粒子辐射设备来研究的物体布置在物体固定件处，该物体固定件进而布置在载物台处。载物台布置在粒子辐射设备的样品室中。载物台形成为可移动的，其中载物台的可移动的设计通过组成载物台的多个移动单元来保证。这些移动单元能够使载物台在至少一个特定方向上移动。尤其已知具有多个平移移动单元(例如3至4个平移运动单元)以及多个旋转移动单元(例如2至3个旋转移动单元)的载物台。例如已知沿着第一平移轴线(例如x轴)、沿着第二平移轴线(例如y轴)以及沿着第三平移轴线(例如z轴)可移动地布置的载物台。第一平移轴线、第二平移轴线和第三平移轴线是彼此垂直定向的。另外，已知的载物台形成为可以围绕第一旋转轴线并围绕与第一旋转轴线垂直定向的第二旋转轴线旋转。

在现有技术中，用于借助于移动单元来移动的驱动力通过步进电机来提供。对于沿着这些平移轴线之一的移动或者围绕这些旋转轴线之一的转动分别设置各一个步进电机。这些步进电机布置在粒子辐射设备的样品室中或者粒子辐射设备的样品室外部。在后一种情况下，设置有真空通道和机械装置，以便保证通过步进电机来操控载物台。

从现有技术中还已知，用光学显微镜和/或用粒子辐射设备来研究冷冻的物体。例如在研究生物物体时这是有利的。为此将冷冻的物体布置在可冷却的物体固定件处。例如，可以借助于液氮或液氦将物体固定件冷却到-140℃或低于-140℃的温度。低于-50℃的温度在上文和下文中被称为深冷温度。上述物体固定件布置在光学显微镜或粒子辐射设备的载物台处。

例如从DE 11 2010 001 712 B4和CN 209388997 U已知物体固定件。

已知不仅可以用一个设备而且还可以用多个设备来研究、分析和/或加工冷冻的物体。例如首先用光学显微镜然后用SEM和/或离子辐射设备来研究和/或加工冷冻的物体。在此要确保布置在物体固定件处的冷冻的物体可靠地从第一个设备输送到第二个设备。另外还要确保物体固定件能够实现对待研究且被冷冻的物体的较长时间(例如数天或数月)的可靠支撑。上述内容还附加地或替代地适用于用来对冷冻的物体进行机械加工的设备，例如显微切片机和/或用于切割冷冻的物体的激光辐射设备。上述内容另外附加地或替代地适用于用来在冷冻的物体上覆层的设备，例如用于施加层的溅射设备或者用于电子束诱导的层沉积(例如在使用气体的情况下)或用于离子束诱导的层沉积(例如在使用气体的情况下)的设备。

然而已经显示出，在研究、分析、加工和/或运输冷冻的物体时总是存在污染冷冻物体的风险，例如由于大气水分沉积在冷冻的物体上。即使在例如将冷冻的物体储存在液氮中的情况下，仍然存在水沉积在冷冻的物体上的风险，尤其由于在液氮中漂浮的水晶体沉积在待研究的物体上。即使在制备完成的冷冻物体在辐射设备的样品室中长期停留的情况下，污染物也可能沉降在冷冻的物体上。在冷冻的物体上形成的水层使得用光学显微镜和/或粒子辐射设备对冷冻的物体的研究、分析和/或加工变得更困难。

此外已知的是，来自不同制造商的光学显微镜和/或粒子辐射设备分别要求非常特定的物体固定件设计，否则物体固定件不能被布置在特定的光学显微镜处或不能被布置在特定的粒子辐射设备的样品室中。换言之，例如被设置为用于第一种粒子辐射设备的第一种物体固定件，由于其实体设计而不适合于被接纳在第二种粒子辐射设备或光学显微镜中。在这种情况下，在现有技术中提出，将待研究且被冷冻的物体从第一种物体固定件中取出并且布置在第二种物体固定件处，该第二种物体固定件由于其实体设计而适合于被接纳在第二种粒子辐射设备或光学显微镜中。这是非常麻烦的并且通常一方面还导致物体的污染而另一方面导致物体的损坏。另外已经显示出，维持冷冻的物体的定向(对于冷冻的物体的研究和加工而言可能是重要的)很难实现。

发明内容

因此本发明的基本目的在于给出一种用于固定和运输冷冻的物体的装置，利用该装置可以可靠且简单地在两个研究设备之间进行运输并且该装置可以布置在尽可能多的不同的研究设备和/或加工设备中。另外，该装置应能够实现对冷冻的物体的可靠支撑。

根据本发明，该目的通过具有下文所述特征的用于接纳至少一个物体的物体接纳容器来实现。具有物体接纳容器的物体固定系统通过下文所述的特征给出。另外，本发明涉及一种具有下文所述特征的用于对物体进行成像、分析和/或加工的辐射设备。本发明还涉及一种具有下文所述特征的用于加工物体的设备，尤其一种机械切割装置和/或激光切割装置。此外，本发明涉及一种具有下文所述特征的用于在深冷温度下对物体进行研究、分析和/或加工的方法。本发明的其他特征由以下的说明书、所附权利要求书和/或附图得出。

本发明的物体接纳容器被形成为用于接纳至少一个物体，该物体可以在深冷温度下被研究、分析和/或加工。本发明的物体接纳容器具有至少一个第一容器单元。至少一个用于接纳物体的空腔布置在该第一容器单元处。例如用于分别接纳一个物体的多个空腔布置在该第一容器单元处。尤其在一个实施方式中提出，在第一容器单元处布置用于接纳第一物体的第一空腔以及用于接纳第二物体的第二空腔。

另外，本发明的物体接纳容器具有至少一个第二容器单元，该第二容器单元形成为相对于第一容器单元能够移动。换言之，第一容器单元和/或第二容器单元被形成为能够如此移动，使得第二容器单元相对于第一容器单元占据不同的位置。尤其提出，第二容器单元相对于第一容器单元可以进入第一位置和/或第二位置中。在第二容器单元的第二位置中，第二容器单元遮盖布置在第一容器单元处的该空腔或者布置在第一容器单元处的这些空腔。换言之，由于空腔被处于第二位置中的第二容器单元遮盖，无法接近布置在第一容器单元处的空腔以及布置在空腔中的物体。当相反地第二容器单元处于相对于第一容器单元的第一位置中时，可以接近空腔和布置在其中的物体。当第一容器单元处布置有多个空腔时，由于这些空腔被处于第二位置中的第二容器单元遮盖，无法接近布置在第一容器单元处的这些空腔以及布置在这些空腔中的物体。当相反地第二容器单元处于相对于第一容器单元的第一位置中时，可以接近这些空腔和布置在其中的物体。

另外，本发明的物体接纳容器具有至少一个紧固装置，该紧固装置布置在第一容器单元或第二容器单元处，以便将物体接纳容器布置在固定装置处。固定装置例如是可以被布置在辐射设备和/或用于加工物体的设备和/或安装装置的接收装置处的适配器装置。换言之，固定装置例如是可以被布置在该辐射设备和/或该用于加工物体的设备和/或该安装装置的接收装置处的适配器装置。

利用本发明的物体接纳容器可以可靠且简单地在两个研究设备之间进行运输。由于第二容器单元相对于第一容器单元向第二位置中的相对移动并且由于由此实现的遮盖，本发明的物体接纳容器尤其保证了保护布置在空腔中的物体免受污染。此外，本发明的物体接纳容器保证了可以长时间(例如在数天或数月中)可靠地储存物体。因为在将物体储存在例如氮冷的储存容器中时无需从物体接纳容器中取出，所以物体在物体接纳容器中的取向不会改变。这简化了借助于研究设备对物体的后续研究，因为在从储存容器中取出物体接纳容器之后，物体接纳容器可以被装入研究设备中，其中物体的取向是已知的。尤其提出，借助于标记将关于物体的对齐和取向的信息布置在物体接纳容器处。另外，本发明的物体接纳容器保证了可以将其布置在尽可能多的不同的研究设备中。例如本发明的物体接纳容器可以被布置在呈适配器装置形式的固定装置处。适配器装置被设计为，使得物体接纳容器可以借助于适配器装置被布置在相应的辐射设备和/或用于加工物体的设备和/或安装装置的接收装置处。与现有技术不同，本发明由此可以实现，无须将物体布置在分别不同的物体固定件(这些物体固定件具有对于相应设备确定的实体设计)处，即可在不同设备中对物体进行研究和/或加工。相反，在本发明中提出，仅将物体在本发明的物体接纳容器处布置一次，然后就可以将其接收到不同的研究设备中。

上述固定装置可以具有任何适合的设计。例如，固定装置可以具有斜面，物体接纳容器布置在该斜面处。以此方式，不再一定必需将固定装置以及由此还有物体接纳容器例如在粒子辐射设备的样品室中围绕旋转轴线转动。此外，固定装置可以具有用于接收操作装置(尤其机械手)的至少一个接收件，利用这些操作装置可以移动固定装置。

在本发明物体接纳容器的一个实施方式中，附加地或替代地提出，该第二容器单元如下布置在推移装置处，使得该第二容器单元相对于该第一容器单元能够被推移到该第一位置和/或该第二位置中。换言之，第一容器单元和/或第二容器单元是可推移的，使得第二容器单元相对于第一容器单元可以被布置在第一位置和/或第二位置中。在第二容器单元相对于第一容器单元的第二位置中，第二容器单元遮盖布置在第一容器单元处的空腔。如果在第一容器单元处布置多个空腔，则第二容器单元遮盖布置在第一容器单元处的这些空腔。当相反地第二容器单元处于相对于第一容器单元的第一位置中时，可以接近空腔和布置在其中的物体。当在第一容器单元处布置多个空腔时，则可以接近这些空腔和布置在其中的物体。在另一个实施方式中，第二容器单元形成为推移装置。

在本发明物体接纳容器的另一个实施方式中，附加地或替代地提出，该物体接纳容器具有至少一个铰接装置，该铰接装置如下地布置在该第一容器单元处以及该第二容器单元处，使得该第二容器单元相对于该第一容器单元能够进入该第一位置和/或该第二位置中。换言之，由于铰接装置，第一容器单元和/或第二容器单元被形成为能够移动，使得第二容器单元相对于第一容器单元可以被布置在第一位置和/或第二位置中。在第二容器单元相对于第一容器单元的第二位置中，第二容器单元遮盖布置在第一容器单元处的空腔。如果在第一容器单元处布置多个空腔，则第二容器单元遮盖布置在第一容器单元处的这些空腔。当相反地第二容器单元处于相对于第一容器单元的第一位置中时，可以接近空腔和布置在其中的物体。当在第一容器单元处布置多个空腔时，则可以接近这些空腔和布置在其中的物体。

在本发明物体接纳容器的一个实施方式中，附加地或替代地提出，第二容器单元相对于第一容器单元可以转动到第一位置和/或第二位置中。例如第二容器单元相对于第一容器单元可以围绕第一容器单元和/或第二容器单元的平面法线转动到第一位置和/或第二位置中。

在本发明物体接纳容器的另一个实施方式中，附加地或替代地提出，第二容器单元具有至少一个通孔。例如第二容器单元形成为孔板，即形成为具有至少一个通孔的板。在第二容器单元相对于第一容器单元的第一位置中，通孔布置在空腔处，使得可以接近空腔和布置在其中的物体。当在第一容器单元处布置多个空腔时，则可以接近这些空腔和布置在其中的物体，其中该通孔布置在这些空腔处，或者其中在该多个空腔中的每个空腔处分别布置一个通孔。

在本发明的物体接纳容器的仍另一个实施方式中，附加地或替代地提出，第二容器单元形成为片式闸门(Lamellenverschluss)。片式闸门具有形成为可移动的片，该片可以移动到第一位置和/或第二位置中。

在本发明的物体接纳容器的再另一个实施方式中，附加地或替代地提出，该紧固装置具有至少一个弹簧装置。紧固装置例如形成为弹簧装置。尤其提出，该紧固装置具有至少一个卡环和/或被形成为卡环。将紧固装置形成为弹簧装置则设计简单并且因此制造价格低廉。

在本发明的物体接纳容器的仍另一个实施方式中，附加地或替代地提出，该紧固装置具有夹持装置和/或被形成为夹持装置。尤其提出，该紧固装置具有第一夹持件和第二夹持件。附加于此或替代于此提出，该紧固装置具有螺钉和/或偏心盘，其中该螺钉和/或偏心盘用于将该物体接纳容器夹持到固定装置处。将紧固装置形成为夹持装置同样设计简单并且因此制造价格低廉。

在本发明物体接纳容器的一个实施方式中，附加地或替代地提出，该紧固装置具有至少一个第一弹簧末端和至少一个第二弹簧末端。第一弹簧末端和第二弹簧末端彼此间隔开地布置。另外，第一弹簧末端形成为能够相对于第二弹簧末端移动。换言之，第一弹簧末端和/或第二弹簧末端形成为能够移动的。由此保证了本发明的物体接纳容器可以以夹持方式被固定在固定装置处并且可以从固定装置简单地再次松脱。

在本发明物体接纳容器的另一个实施方式中，附加地或替代地提出，第一弹簧末端具有用于接合操作工具的第一接合开口，并且第二弹簧末端具有用于接合该操作工具的第二接合开口。由此保证了对呈弹簧装置形式的紧固装置的简单操作，使得本发明的物体接纳容器可以简单地安装在固定装置处并且可以从固定装置简单地再次松脱。

在本发明的物体接纳容器的再另一个实施方式中，附加地或替代地提出，该第一容器单元具有第一面，其中该第一面布置在第一平面中。另外该第二容器单元具有第二面，其中该第二面布置在第二平面中。此外提出，在该第二容器单元相对于该第一容器单元的第二位置中，该第一容器单元的该第一面如下地贴靠该第二容器单元的该第二面，使得布置在该第一容器单元处的该空腔被该第二容器单元的该第二面遮盖。当在第一容器单元处布置有多个空腔时，这些空腔被该第二容器单元的该第二面遮盖。相反，在该第二容器单元相对于该第一容器单元的第一位置中，该第一容器单元的该第一面如下地相对于该第二容器单元的该第二面布置，使得该第一平面相对于该第二平面如下地定向：(i)该第一平面并行于该第二平面定向，或者(ii)该第一平面与该第二平面完全相同，或者(iii)该第一平面以相对于该第二平面大于5°的角度定向。

在本发明的物体接纳容器的仍另一个实施方式中，附加地或替代地提出，该空腔具有至少一个第一空腔开口和至少一个第二空腔开口。如果在第一容器单元处布置有多个空腔，则这些空腔中的至少一个空腔具有第一空腔开口和第二空腔开口。在一个实施方式中，多个空腔分别具有一个第一空腔开口并且分别具有一个第二空腔开口。在第二容器单元相对于第一容器单元的第二位置中，第二容器单元遮盖该第一空腔开口或这些第一空腔开口。此外，在该第二空腔开口处或在这些第二空腔开口处布置有遮盖装置，该遮盖装置用于遮盖该第二空腔开口或这些第二空腔开口。由此在这个实施方式中提出，该空腔的开口被不同的单元遮盖。第一空腔开口被第二容器单元遮盖。相反，第二空腔开口被遮盖装置遮盖。当存在多个第一空腔开口和多个第二空腔开口时，该多个第一空腔开口被第二容器单元遮盖。相反，该多个第二空腔开口被遮盖装置遮盖。在另一个实施方式中提出，该多个第二空腔开口分别具有一个遮盖装置，该遮盖装置用于遮盖相应的第二空腔开口。

在本发明物体接纳容器的一个实施方式中，附加地或替代地提出，该第一空腔开口和该第二空腔开口相反地布置。尤其附加地或替代地提出，该遮盖装置形成为滑动板装置。换言之，遮盖装置相对于第二空腔开口是能够推移的，使得遮盖装置可以进入遮盖位置和露出位置中。在遮盖位置中，遮盖装置遮盖第二空腔开口。在露出位置中，通过第二空腔开口可以接近物体。当在第一容器单元处布置有多个空腔，这些空腔分别具有一个第一空腔开口并且分别具有一个第二空腔开口时，则在这个实施方式中提出，该遮盖装置相对于这些第二空腔开口可以如下地推移，使得该遮盖装置可以进入遮盖位置和露出位置。在遮盖位置中，遮盖装置遮盖这些第二空腔开口。在露出位置中，通过这些第二空腔开口可以接近布置在这些空腔中的物体。当在每一个第二空腔开口处分别布置一个遮盖装置时，则在这个实施方式中提出，相应的遮盖装置相对于这些相应的第二空腔开口可以如下地推移，使得相应的遮盖装置可以进入遮盖位置和露出位置。在遮盖位置中，相应的遮盖装置遮盖相应的第二空腔开口。在露出位置中，通过相应的第二空腔开口可以接近布置在相应的空腔中的物体。上述实施方式在对如下物体进行研究的情况下是有利的：在该物体的情况下，粒子射束的粒子透射穿过物体和/或由于粒子射束与物体的相互作用而产生的相互作用粒子在物体的布置在第二空腔开口处的侧面处从物体离开。然后可以用检测器检测透射的粒子和/或相互作用粒子。

本发明还涉及一种具有至少一个物体接纳容器的物体固定系统，该物体接纳容器具有至少一个再上文或再下文提及的特征或者再上文或再下文提及的至少两个特征的组合。此外，本发明的物体固定系统配备有至少一个固定装置，该固定装置具有接收件。物体接纳容器的紧固装置可以被布置在接收件处。固定装置例如是可以被布置在辐射设备和/或用于加工物体的设备和/或安装装置的接收装置处的适配器装置。适配器装置被设计为，使得物体接纳容器可以借助于适配器装置被布置在相应的辐射设备和/或相应的用于加工物体的设备和/或相应的安装装置的该接收装置处。与现有技术不同，本发明由此可以实现，无须将待研究的物体多次布置在不同的物体固定件处，而是将物体一次布置在本发明的物体接纳容器处，然后该物体接纳容器可以被接收到不同的研究设备中。

本发明物体固定系统的上述固定装置可以具有任何适合的设计。例如，固定装置可以具有斜面，物体接纳容器布置在该斜面处。以此方式，不再一定必需将固定装置以及由此还有物体接纳容器例如在粒子辐射设备的样品室中围绕旋转轴线转动。此外，固定装置可以具有用于接收操作装置(尤其机械手)的接收件，利用这些操作装置可以移动固定装置。

本发明还涉及一种用于对物体进行成像、分析和/或加工的辐射设备。本发明的辐射设备具有至少一个用于产生射束的射束发生器、至少一个用于将射束聚焦到物体上的物镜、至少一个用于显示物体的图像和/或分析的显示装置以及至少一个用于将物体冷却到深冷温度的冷却装置。例如在冷却装置中布置有液氮或液氦。此外，本发明的辐射设备配备有物体接纳容器，该物体接纳容器具有至少一个再上文或再下文提及的特征或者再上文或再下文提及的至少两个特征的组合。替代于此提出，该辐射设备具有至少一个物体固定系统，该物体固定系统具有至少一个再上文或再下文提及的特征或者再上文或再下文提及的至少两个特征的组合。

在本发明辐射设备的一个实施方式中，该辐射设备形成为粒子辐射设备。该射束发生器于是形成为用于产生具有带电粒子的粒子射束的射束发生器。带电粒子例如为电子或离子。本发明粒子辐射设备的物镜用于将粒子射束聚焦到物体上。此外，本发明的粒子辐射设备例如具有至少一个扫描装置，该扫描装置用于使该粒子射束在该物体上扫过。另外，本发明的粒子辐射设备具有至少一个检测器，该检测器用于检测在粒子射束击中物体时由粒子射束与物体的相互作用产生的相互作用粒子和/或相互作用辐射。

在本发明粒子辐射设备的一个实施方式中，射束发生器形成为第一射束发生器并且粒子射束形成为具有第一带电粒子的第一粒子射束。另外，该物镜形成为第一物镜，该第一物镜用于将第一粒子射束聚焦到物体上。此外，本发明的粒子辐射设备具有至少一个第二射束发生器，该第二射束发生器用于产生具有第二带电粒子的第二粒子射束。本发明的粒子辐射设备还具有至少一个第二物镜，该第二物镜用于将第二粒子射束聚焦到物体上。

尤其提出，该辐射设备形成为电子辐射设备和/或离子辐射设备。

在本发明的辐射设备的仍另一个实施方式中，附加地或替代地提出，该辐射设备为光辐射设备。因此，该射束发生器被形成为用于产生光辐射。

本发明还涉及一种用于加工物体的设备，该设备具有至少一个用于加工物体的加工装置以及至少一个用于将物体冷却到深冷温度的冷却装置。此外，本发明的设备配备有布置在该冷却装置处的物体接纳容器，该物体接纳容器具有至少一个再上文或再下文提及的特征或者再上文或再下文提及的至少两个特征的组合。替代于此提出，该设备具有至少一个布置在该冷却装置处的物体固定系统，该物体固定系统具有至少一个再上文或再下文提及的特征或者再上文或再下文提及的至少两个特征的组合。例如加工装置形成为机械切割装置和/或形成为激光切割装置和/或形成为用于电子束诱导地在物体上沉积层的装置(例如在使用气体的情况下)和/或形成为用于离子束诱导地在物体上沉积层的装置(例如在使用气体的情况下)和/或形成为溅射设备。

本发明还涉及一种用于在深冷温度下对物体进行研究、分析和/或加工的方法，该方法具有以下步骤之一：(i)使用物体接纳容器，该物体接纳容器具有再上文或再下文提及的特征或者再上文或再下文提及的至少两个特征的组合；(ii)使用物体固定系统，该物体固定系统具有再上文或再下文提及的特征或者再上文或再下文提及的至少两个特征的组合；(iii)使用辐射设备，该辐射设备具有再上文或再下文提及的特征或者再上文或再下文提及的至少两个特征的组合；或者(iv)使用用于加工物体的设备，该设备具有再上文或再下文提及的特征或者再上文或再下文提及的至少两个特征的组合。

在本发明方法的一个实施方式中，附加地或替代地提出，本发明的方法具有以下步骤：

-使第二容器单元相对于第一容器单元相对移动，使得第二容器单元相对于第一容器单元占据第一位置并且能够接近布置在第一容器单元处的该空腔或者布置在第一容器单元处的这些空腔。换言之，使第一容器单元和/或第二容器单元移动，使得第二容器单元相对于第一容器单元占据第一位置，从而能够接近布置在第一容器单元处的该空腔或者布置在第一容器单元处的这些空腔。例如借助于工件来移动第一容器单元和/或第二容器单元。附加于此或替代于此提出，如下移动物体接纳容器，使得第一容器单元和/或第二容器单元由于重力而移动，从而使第二容器单元相对于第一容器单元进入第一位置；

-将物体布置在该空腔中或者将每一个物体布置在该多个空腔中的每一个空腔中。将物体布置在第一容器单元的空腔中例如在安装装置中进行。安装装置例如具有内部空间，该内部空间被隔热壁部包围。在内部空间中例如布置有用于物体接纳容器的支架。通过例如用液氮或液氦填充内部空间将固定装置以及物体接纳容器冷却到深冷温度，从而可以在深冷温度下将物体布置在空腔中；

-使第二容器单元相对于第一容器单元相对移动，使得第二容器单元占据第二位置并且布置在第一容器单元中的该空腔或布置在第一容器单元中的这些空腔被第二容器单元遮盖。换言之，使第一容器单元和/或第二容器单元移动，使得第二容器单元相对于第一容器单元占据第二位置，使得布置在第一容器单元处的该空腔或者布置在第一容器单元处的这些空腔被第二容器单元遮盖。例如借助于工件来移动第一容器单元和/或第二容器单元。附加于此或替代于此提出，移动物体接纳容器，使得第一容器单元和/或第二容器单元由于重力而移动，从而使第二容器单元相对于第一容器单元进入第二位置；

-通过将物体接纳容器的紧固装置布置在物体固定系统的固定装置的接收件处来将物体接纳容器布置在固定装置处，使得紧固装置被固定在接收件处。例如使用弹簧装置作为紧固装置。尤其提出，该紧固装置具有至少一个卡环和/或被形成为卡环。另外尤其提出，该弹簧装置具有第一弹簧末端和第二弹簧末端。第一弹簧末端和第二弹簧末端彼此间隔开地布置。另外，第一弹簧末端形成为能够相对于第二弹簧末端移动。第一弹簧末端例如具有用于接合操作工具的第一接合开口，并且第二弹簧末端具有用于接合该操作工具的第二接合开口。由此保证了对弹簧装置的简单的操作，使得本发明的物体接纳容器可以简单地安装在固定装置处、被夹持式固定在固定装置处并且可以从固定装置简单地再次松脱。附加地或替代地提出，该紧固装置具有夹持装置和/或被形成为夹持装置，使得该物体接纳容器被夹持式地固定在该物体固定系统的固定装置处。为此尤其提出，该紧固装置具有第一夹持件和第二夹持件。附加于此或替代于此提出，该紧固装置具有螺钉和/或偏心盘，其中该螺钉和/或偏心盘用于将该物体接纳容器夹持到该固定装置处；

-将物体固定系统的固定装置引入到辐射设备或用于加工物体的设备中；

-将固定装置布置在辐射设备或用于加工物体的设备的冷却装置处；

-使第二容器单元相对于第一容器单元相对移动，使得第二容器单元占据第一位置并且能够接近布置在该空腔中的物体或者布置在这些空腔中的物体。换言之，使第一容器单元和/或第二容器单元移动，使得第二容器单元相对于第一容器单元占据第一位置，从而能够接近布置在第一容器单元处的该空腔或者布置在第一容器单元处的这些空腔。例如借助于工件来移动第一容器单元和/或第二容器单元。附加于此或替代于此提出，如下移动物体接纳容器，使得第一容器单元和/或第二容器单元由于重力而移动，从而使第二容器单元相对于第一容器单元进入第一位置；以及

-用辐射设备或用于加工物体的设备对物体进行研究、分析和/或加工。

在本发明方法的仍另一个实施方式中，附加地或替代地提出，该方法具有以下步骤：

-将固定装置布置在运输装置处。运输装置例如为可以借助于机械手移动的装置，该装置尤其可以从布置在辐射设备或用于加工物体的设备处的工作站移动到辐射设备或用于加工物体的设备的样品室中。此类运输装置例如被称为“穿梭器(Shuttle)”；

-将运输装置引入到辐射设备或用于加工物体的设备中；以及

-将运输装置布置在冷却装置处。

在本发明方法的再另一个实施方式中，附加地或替代地提出，该方法具有以下步骤：使遮盖装置相对移动，以便遮盖或露出第二空腔开口或第二空腔开口。

要明确地指出，本发明方法的各个步骤的时间顺序可以任意选择。据此，本发明的方法不限于本发明方法的步骤的上述顺序。

本发明的物体接纳容器、本发明的物体固定系统、本发明的辐射设备和/或本发明的用于加工物体的设备和/或本发明的方法确保可以用不同的工作程序在深冷温度下简单地研究、分析和/或加工布置在本发明物体接纳容器中的物体。本发明的物体接纳容器例如可以用于借助于X射线光谱法、借助于扫描近场显微法、借助于扫描力学显微法、借助于具有离子辐射设备和电子辐射设备的组合设备、借助于透射电子显微法、借助于拉曼光谱法和/或借助于次级离子质谱法来研究和/或分析物体。附加于此或替代于此提出，本发明的物体接纳容器用于抛光物体、用于借助于刀具或激光器来切割物体和/或用于将材料施加到物体上。上述清单应理解为是示例性的。本发明的物体接纳容器可以用于每种任意的且适合的方法。

再上文或再下文阐述的本发明的辐射设备或本发明的用于加工物体的设备例如具有处理器。在处理器中加载有计算机程序产品，该计算机程序产品控制辐射设备或用于加工物体的设备，从而实施本发明的方法，该方法具有再上文或再下文提及的特征或者再上文或再下文提及的至少两个特征的组合。

附图说明

以下通过附图借助于实施方式详细说明本发明。在附图中：

图1示出粒子辐射设备的第一实施方式；

图2示出粒子辐射设备的第二实施方式；

图3示出粒子辐射设备的第三实施方式；

图4示出光学显微镜的示意图；

图4A示出用于加工物体的设备的示意图；

图5示出用于粒子辐射设备和/或光学显微镜和/或用于加工物体的设备的可移动地形成的载物台的实施方式的示意图；

图6示出根据图5的载物台的另一个示意图；

图7示出物体接纳容器的第一示意图；

图8示出根据图7的物体接纳容器的第二示意图；

图9示出根据图7的物体接纳容器的第三示意图；

图10示出根据图7的物体接纳容器的第四示意图；

图11示出另一个物体接纳容器的示意图；

图12示出用于物体接纳容器的安装装置的第一示意图；

图13示出根据图12的安装装置的第二示意图；

图14以截面图示出根据图12的安装装置的第三示意图；

图15示出根据图7的物体接纳容器的第五示意图；

图16示出用于该物体接纳容器的固定装置的第一实施方式的示意图；

图17示出用于该物体接纳容器的固定装置的第二实施方式的示意图；

图18示出根据图16的用于该物体接纳容器的固定装置的第一实施方式的另一个示意图；

图19示出用于该物体接纳容器的固定装置的第三实施方式的示意图；

图20示出本发明方法的第一实施方式的流程图的示意图；

图21示出本发明方法的第二实施方式的流程图的示意图；

图22示出本发明方法的第三实施方式的流程图的示意图；

图23示出本发明方法的第四实施方式的流程图的示意图；

图24示出用于物体接纳容器的另一个安装装置的示意图；

图24示出用于物体接纳容器的另一个安装装置的示意图；

图25示出根据图24的该另一个安装装置的第一部分视图的示意图；

图26示出根据图24的该另一个安装装置的第二部分视图的示意图；以及

图27示出根据图24的该另一个安装装置的第三部分视图的示意图。

具体实施方式

现在借助于呈SEM形式以及呈具有电子辐射柱和粒子辐射柱的组合设备形式的粒子辐射设备来详细解说本发明。要明确地指出，本发明可以用在每种粒子辐射设备中，尤其在每种电子辐射设备和/或每种离子辐射设备中。另外，借助于光学显微镜和用于加工物体的设备详细阐释本发明。

图1示出SEM 100的示意图。SEM 100具有第一射束发生器，该第一射束发生器呈电子源101形式，该电子源形成为阴极。另外SEM 100设置有提取电极102以及阳极103，该阳极插接到SEM 100的射束引导管104的一端上。例如电子源101形成为热场发射器。然而本发明并不受限于此类电子源101。反而可以使用任何电子源。

从电子源101出来的电子形成初级电子射束。电子由于电子源101与阳极103之间的电势差而被加速到阳极电势。在此处展示的实施方式中阳极电势相对于样品室120的壳体的接地电势为100V至35kV，例如5kV至15kV，尤其8kV。但是替代地也可以处于接地电势。

在射束引导管104处布置有两个会聚透镜，即第一会聚透镜105和第二会聚透镜106。在此，从电子源101出发在第一物镜107的方向上看，先布置第一会聚透镜105然后布置第二会聚透镜106。要明确地指出，SEM 100的其他实施方式可以仅具有单一的会聚透镜。在阳极103与第一会聚透镜105之间布置有第一挡板单元108。第一挡板单元108与阳极103和射束引导管104一起处于高压电势，即阳极103的电势或接地。第一挡板单元108具有多个第一挡板开口108A，在图1中展示了其中之一。例如存在两个第一挡板开口108A。该多个第一挡板开口108A中的每一个具有不同的开口直径。借助于调整机构(未展示)可以将所希望的第一挡板开口108A调节到SEM 100的光轴OA上。要明确地指出，在其他的实施方式中第一挡板单元108可以仅设置有单一的第一挡板开口108A。在这种实施方式中可以不设置调整机构。第一挡板单元108此时形成为位置固定的。在第一会聚透镜105与第二会聚透镜106之间布置有位置固定的第二挡板单元109。替代于此提出，可移动地形成第二挡板单元109。

第一物镜107具有极靴110，其中形成有通孔。将射束引导管104引导穿过这个通孔。在极靴110中布置有线圈111。

在射束引导管104的下部区域中布置有静电减速装置。这个减速装置具有单独的电极112和管状电极113。管状电极113布置在射束引导管104的朝向物体接纳容器125的一端。物体接纳容器125布置在固定装置114处。物体布置在物体接纳容器125处。这将在再下文中详细解说。

管状电极113与射束引导管104共同处于阳极103的电势，而单独的电极112以及布置在物体接纳容器125处的物体处于相对于阳极103的电势较低的电势。在当前情况下，这是样品室120的壳体的接地电势。以此方式，初级电子射束的电子可以被制动到所希望的能量，该能量对于研究物体而言是必需的。

SEM 100还具有扫描装置115，通过该扫描装置可以将初级电子射束偏转并且扫过物体。初级电子射束的电子在此与物体进行相互作用。相互作用的结果是产生被检测到的相互作用粒子。作为相互作用粒子，尤其从物体的表面发射电子——所谓的次级电子——或者将初级电子射束的电子返回散射——所谓返回散射电子。

物体和单独的电极112还可以处于不同的且与接地不同的电势。由此可能的是，相对于物体来调节初级电子射束的减速位置。如果例如在相当接近物体之处进行减速，则成像误差较小。

为了检测次级电子和/或返回散射电子，在射束引导管104中布置有检测器组件，该检测器组件具有第一检测器116和第二检测器117。第一检测器116在此沿着光轴OA布置在源侧，而第二检测器117在射束引导管104中沿着光轴OA布置在物体侧。第一检测器116和第二检测器117在SEM 100的光轴OA的方向上彼此错开地布置。第一检测器116以及第二检测器117分别具有通过开口，初级电子射束可以穿过这些通过开口。第一检测器116和第二检测器117近似处于阳极103和射束引导管104的电势。SEM 100的光轴OA穿过相应的通过开口延伸。

第二检测器117主要用于检测次级电子。次级电子在从物体离开时首先具有较小的动能和任意的移动方向。通过从管状电极113发出的强吸入场，次级电子在第一物镜107的方向上加速。次级电子近似平行地进入第一物镜107中。次级电子的射束的束直径在第一物镜107中也保持较小。第一物镜107现在强烈作用于次级电子并且产生具有相对于光轴OA足够陡的角度的相对短的次级电子聚焦，使得次级电子在聚焦之后进一步彼此分散并且在第二检测器117的有效面积上命中第二检测器。相反，在物体处返回散射的电子(即在从物体中离开时相对于次级电子具有相对较高动能的返回散射电子)仅有很小一部分被第二检测器117记录。在从物体中离开时返回散射电子的高动能和相对于光轴OA角度导致返回散射电子的射束腰部，即具有最小直径的射束区域，位于第二检测器117附近。返回散射电子的大部分穿过第二检测器117的通过开口。第一检测器116因此基本上用于记录返回散射电子。

在SEM 100的另一个实施方式中，第一检测器116可以形成为另外具有反向场格栅116A。反向场格栅116A布置在第一检测器116的指向物体的一侧。反向场格栅116A相对于射束引导管104的电势具有负电势，使得仅具有高能量的返回散射电子穿过反向场格栅116A到达第一检测器116。附加地或替代地，第二检测器117具有另外的反向场格栅，该另外的反向场格栅类似于前述的第一检测器116的反向场格栅116A而形成并且具有类似的功能。

另外，SEM 100在样品室120中具有样品室检测器119，例如Everhart-Thornley检测器或者具有用金属涂覆的屏蔽光的检测表面的离子检测器。

用第一检测器116、第二检测器117和样品室检测器119产生的检测信号用于产生物体的表面的图像。

要明确地指出，第一挡板单元108和第二挡板单元109的挡板开口以及第一检测器116和第二检测器117的通过开口被夸大地展示。第一检测器116和第二检测器117的通过开口具有在0.5mm至5mm范围内的垂直于光轴OA的尺寸。例如，它们形成为圆形的并且具有在1mm至3mm范围内的垂直于光轴OA的直径。

第二挡板单元109在所展示的实施方式中构型为孔板并且设置有用于使初级电子射束通过的第二挡板开口118，该第二挡板开口具有在5μm至500μm范围内、例如35μm的尺寸。替代于此，在另一个实施方式中提出，第二挡板单元109设置有多个挡板开口，这些挡板开口可以被机械地向初级电子射束偏移或者在使用电和/或磁偏转元件的情况下初级电子射束可以到达这些挡板开口。第二挡板单元109形成为压力分级板。该压力分级板将布置有电子源101并且超高真空占主导(10^-7hPa至10^-12hPa)的第一区域与具有高真空(10^-3hPa至10^-7hPa)的第二区域分开。第二区域是射束引导管104导向样品室120的中间压力区域。

样品室120处于真空下。为了产生真空，在样品室120处布置有泵(未展示)。在图1中展示的实施方式中，样品室120在第一压力范围内或第二压力范围内工作。第一压力范围仅包括小于或等于10^-3hPa的压力，而第二压力范围仅包括大于10^-3hPa的压力。为了保证这些压力范围，样品室120在真空技术方面是封闭的。

固定装置114布置在载物台122处。载物台122形成为在三个彼此垂直布置的方向上可移动，即在x方向(第一载物台轴线)、y方向(第二载物台轴线)和z方向(第三载物台轴线)上。此外，载物台122可以围绕两条彼此垂直布置的旋转轴线(载物台旋转轴线)旋转。本发明并不受限于上述载物台122。而是载物台122可以具有其他的平移轴线和旋转轴线，载物台122可以沿其或围绕其运动。

在SEM 100的另一个实施方式中提出，固定装置114形成为物体接收装置，例如呈用于固定物体接纳容器125的机械手和/或抓握器的形式。固定装置114于是例如像上文和再下文中关于载物台122所详述的那样形成为可移动的。

SEM 100还具有第三检测器121，该第三检测器布置在样品室120中。确切地说，第三检测器121从电子源101看沿着光轴OA布置在固定装置114之后。固定装置114可以如下旋转，使得布置在物体接纳容器125中的物体可以被初级电子射束透射。在初级电子射束穿过待研究的物体时，初级电子射束的电子与待研究的物体的材料进行相互作用。穿过待研究的物体的电子由第三检测器121检测。

在样品室120处布置有辐射检测器500，通过该辐射检测器来检测相互作用辐射，例如X光辐射和/或阴极发射光。辐射检测器500、第一检测器116、第二检测器117和样品室检测器119与控制单元123相连，该控制单元具有监视器124。第三检测器121也与控制单元123相连。出于简洁原因，没有对其进行图示。控制单元123处理检测信号，这些检测信号由第一检测器116、第二检测器117、样品室检测器119、第三检测器121和/或辐射检测器500产生并且以图像的形式显示在监视器124上。

控制单元123具有数据库126，控制单元123可以将数据存储在该数据库中和/或可以从该数据库中将数据加载到控制单元123的处理器中。

在固定装置114处布置有冷却和/或加热装置127，该冷却和/或加热装置用于冷却和/或加热固定装置114和/或物体接纳容器125以及布置在其中的物体。这将在再下文中详细解释。

为了确定物体的温度、固定装置114的温度、物体接纳容器125的温度和/或载物台122的温度，在样品室120中布置有温度测量单元128。温度测量单元128例如形成为红外测量设备或半导体温度传感器。但是，本发明并不限于使用此类温度测量单元。而是可以使用适用于本发明的任何温度测量单元作为温度测量单元。

SEM 100的控制单元123具有处理器或形成为处理器。将计算机程序产品加载到处理器中，该计算机程序产品控制SEM 100，从而执行本发明的方法。这将在再下文中详细解释。

图2示出呈组合设备200形式的粒子辐射设备。组合设备200具有两个粒子辐射柱。一方面，组合设备200设置有SEM 100，如在图1中已经展示的，但是没有样品室120。而是将SEM 100布置在样品室201处。样品室201处于真空下。为了产生真空，在样品室201处布置有泵(未展示)。在图2中展示的实施方式中，样品室201在第一压力范围内或第二压力范围内工作。第一压力范围仅包括小于或等于10^-3hPa的压力，而第二压力范围仅包括大于10^-3hPa的压力。为了保证这些压力范围，样品室201在真空技术方面是封闭的。

在样品室201中布置有样品室检测器119，该样品室检测器形成为Everhart-Thornley检测器或离子检测器并且具有用金属涂覆的屏蔽光的检测表面。另外，样品室201中布置有第三检测器121。

SEM 100用于产生第一粒子射束，即在更上文已经说明的初级电子射束，并且具有已经在上文提及的光轴，该光轴在图2中设置有附图标记709并且在下文中也称为第一射束轴线。另一方面，组合设备200设置有离子辐射设备300，该离子辐射设备同样布置在样品室201处。离子辐射设备300同样具有光轴，该光轴在图2中设置有附图标记710并且在下文中也称为第二射束轴线。

将SEM 100相对于样品室201竖直布置。相反，离子辐射设备300布置为相对于SEM100倾斜约0°至90°的角度。在图2中例如展示了约50°的布置。离子辐射设备300具有呈离子射束发生器301形式的第二射束发生器。通过离子射束发生器301产生了离子，这些离子构成呈离子射束形式的第二粒子射束。借助于处于可预设的电势下的提取电极302来加速离子。第二粒子射束然后穿过离子辐射设备300的离子光学器件，其中，其中该离子光学器件具有会聚透镜303和第二物镜304。第二物镜304最终产生离子探头，该离子探头聚焦到布置在物体接纳容器125处的物体上。物体接纳容器125布置在固定装置114处。固定装置114进而布置在载物台122处。

在组合设备200的另一个实施方式中提出，固定装置114形成为物体接收装置，例如呈用于固定物体接纳容器125的机械手和/或抓握器的形式。固定装置114于是例如像上文和再下文中关于载物台122所详述的那样形成为可移动的。

在第二物镜304上方(即在离子射束发生器301的方向上)布置有可调节或可选择的挡板306、第一电极组件307和第二电极组件308，其中第一电极组件307和第二电极组件308形成为扫描电极。借助于第一电极组件307和第二电极组件308，第二粒子射束扫过物体的表面，其中第一电极组件307在第一方向上作用并且第二电极组件308在与第一方向相反的第二方向上作用。因此例如在x方向上进行扫描。通过将第一电极组件307和第二电极组件308处的电极(未展示)进一步旋转90°，在与之垂直的y方向上进行扫描。

如上所述，固定装置114布置在载物台122处。在图2中所示的实施例中，载物台122也形成为在三个彼此垂直布置的方向上可移动，即在x方向(第一载物台轴线)、y方向(第二载物台轴线)和z方向(第三载物台轴线)上。此外，载物台122可以围绕两条彼此垂直布置的旋转轴线(载物台旋转轴线)旋转。

在图2中展示的组合设备200的单独的单元之间的间距是夸大地展示的，以便更好地展示组合设备200的单独的单元。

在样品室201处布置有辐射检测器500，通过该辐射检测器来检测相互作用辐射，例如X光辐射和/或阴极发射光。辐射检测器500与控制单元123相连，该控制单元具有监视器124。控制单元123处理检测信号，这些检测信号由第一检测器116、第二检测器117(在图2中未示出)、样品室检测器119、第三检测器121和/或辐射检测器500产生并且以图像的形式显示在监视器124上。

控制单元123具有数据库126，控制单元123可以将数据存储在该数据库中和/或可以从该数据库中将数据加载到控制单元123的处理器中。

在固定装置114处布置有冷却和/或加热装置127，该冷却和/或加热装置用于冷却和/或加热固定装置114、物体接纳容器125和/或物体。这将在再下文中详细解释。

为了确定物体的温度、固定装置114的温度、物体接纳容器125的温度和/或载物台122的温度，在样品室201中布置有温度测量单元128。温度测量单元128例如形成为红外测量设备或半导体温度传感器。但是，本发明并不限于使用此类温度测量单元。而是可以使用适用于本发明的任何温度测量单元作为温度测量单元。

组合设备200的控制单元123具有处理器或形成为处理器。将计算机程序产品加载到处理器中，该计算机程序产品控制组合设备200，从而执行本发明的方法。这将在再下文中详细解释。

图3示出根据本发明的粒子辐射设备的另一个实施方式的示意图。粒子辐射设备的这个实施方式设有附图标记400并且包括用于例如校正颜色失真和/或球形失真的反射镜校正器。粒子辐射设备400包括粒子辐射柱401，该粒子辐射柱形成为电子辐射柱并且基本上对应于经校正的SEM的电子辐射柱。粒子辐射设备400并不受限于具有反射镜校正器的SEM。而是粒子辐射设备可以包括任何类型的校正器单元。

粒子辐射柱401包括呈电子源402(阴极)形式的粒子射束发生器、提取电极403和阳极404。例如电子源402形成为热场发射器。从电子源402离开的电子由于电子源402与阳极404之间的电势差而朝向阳极404加速。据此，呈电子射束形式的粒子射束沿着第一光轴OA1形成。

在粒子射束从电子源402中离开之后沿着射束路径引导粒子射束，该射束路径对应于第一光轴OA1。为了引导粒子射束，使用第一静电透镜405、第二静电透镜406和第三静电透镜407。

另外在使用射束引导装置的情况下沿着射束路径调节粒子射束。这个实施方式的射束引导装置包括源调节单元，该源调节单元具有沿着第一光轴OA1布置的两个磁性偏转单元408。此外，粒子辐射设备400包括静电射束偏转单元。在另一个实施方式中还形成为四极杆的第一静电射束偏转单元409布置在第二静电透镜406与第三静电透镜407之间。第一静电射束偏转单元409同样布置在磁性偏转单元408之后。呈第一磁性偏转单元形式的第一多极单元409A布置在第一静电射束偏转单元409的一侧。此外，呈第二磁性偏转单元形式的第二多极单元409B布置在第一静电射束偏转单元409的另一侧。第一静电射束偏转单元409、第一多极单元409A和第二多极单元409B被调节为用于相对于第三静电透镜407的轴线和射束偏转装置410的进入窗口来调节粒子射束。第一静电射束偏转单元409、第一多极单元409A和第二多极单元409B可以如维恩过滤器(Wienfilter)一样共同作用。在射束偏转装置410的入口处布置有另一个磁性偏转元件432。

射束偏转装置410用作粒子射束偏转器，该粒子射束偏转器以特定方式偏转粒子射束。射束偏转装置410包括多个磁性扇区，即第一磁性扇区411A、第二磁性扇区411B、第三磁性扇区411C、第四磁性扇区411D、第五磁性扇区411E、第六磁性扇区411F和第七磁性扇区411G。粒子射束沿着第一光轴OA1进入射束偏转装置410并且通过射束偏转装置410向第二光轴OA2的方向偏转。射束偏转借助于第一磁性扇区411A、第二磁性扇区411B和第三磁性扇区411C以30°至120°的角度进行。第二光轴OA2以与第一光轴OA1相同的角度定向。射束偏转装置410还将沿着第二光轴OA2被引导的粒子射束偏转，确切地说是在第三光轴OA3的方向上。通过第三磁性扇区411C、第四磁性扇区411D和第五磁性扇区411E来提供射束偏转。在图3中的实施方式中，向第二光轴OA2和向第三光轴OA3的偏转通过将粒子射束以90°的角度偏转来提供。因此第三光轴OA3与第一光轴OA1共轴地延伸。但是要指出的是，粒子辐射设备400在此处说明的本发明中不限于90°的偏转角度。而是可以通过射束偏转装置410选择任何适合的偏转角度，例如70°或110°，使得第一光轴OA1与第三光轴OA3不共轴延伸。在射束偏转装置410的其他细节方面参照WO 2002/067286 A2。

在粒子射束已经被第一磁性扇区411A、第二磁性扇区411B和第三磁性扇区411C偏转之后，沿着第二光轴OA2引导粒子射束。将粒子射束引导到静电反射镜414并且粒子射束在其通向静电反射镜414的路径上沿着第四静电透镜415、呈磁性偏转单元形式的第三多极单元416A、第二静电射束偏转单元416、第三静电射束偏转单元417和呈磁性偏转单元形式的第四多极单元416B前进。静电反射镜414包括第一反射镜电极413A、第二反射镜电极413B和第三反射镜电极413C。在静电反射镜414处返回反射的粒子射束的电子再次沿着第二光轴OA2前进并且再次进入射束偏转装置410。这些电子然后被第三磁性扇区411C、第四磁性扇区411D和第五磁性扇区411E偏转到第三光轴OA3。

粒子射束的电子从射束偏转装置410离开并且沿着第三光轴OA3被引导到物体接纳容器425，待研究的物体被布置在该物体接纳容器处。物体接纳容器425进而布置在固定装置114处。在通向物体的路径上，粒子射束被引导到第五静电透镜418、射束引导管420、第五多极单元418A、第六多极单元418B和物镜421。第五静电透镜418是静电的浸没透镜。粒子射束被第五静电透镜418制动或加速到射束引导管420的电势上。

粒子射束通过物镜421聚焦到焦平面中，物体布置在该焦平面中。固定装置114布置在可移动的载物台424处。可移动的载物台424布置在粒子辐射设备400的样品室426中。载物台424形成为在三个彼此垂直布置的方向上可移动，即在x方向(第一载物台轴线)、y方向(第二载物台轴线)和z方向(第三载物台轴线)上。此外，载物台424可以围绕两条彼此垂直布置的旋转轴线(载物台旋转轴线)旋转。

在粒子辐射设备400的另一个实施方式中提出，固定装置114形成为物体接收装置，例如呈用于固定物体接纳容器425的机械手和/或抓握器的形式。固定装置114于是例如像上文和再下文中关于载物台424所详述的那样形成为可移动的。

样品室426处于真空下。为了产生真空，在样品室426处布置有泵(未展示)。在图3中展示的实施方式中，样品室426在第一压力范围内或第二压力范围内工作。第一压力范围仅包括小于或等于10^-3hPa的压力，而第二压力范围仅包括大于10^-3hPa的压力。为了保证这些压力范围，样品室426在真空技术方面是封闭的。

物镜421可以形成为磁性透镜422和第六静电透镜423的组合。射束引导管420的末端也可以是静电透镜的电极。粒子辐射设备400的粒子——在其从射束引导管420离开之后——被制动到物体的电势。物镜421并不受限于磁性透镜422和第六静电透镜423的组合。而是，物镜421可以采取任何适合的形式。例如物镜421还可以形成为纯粹的磁性透镜或纯粹的静电透镜。

聚焦到物体上的粒子射束与物体发生相互作用。产生了相互作用粒子。尤其从物体发射了次级电子或者在物体处返回散射了返回散射电子。次级电子或返回散射电子再次被加速并且沿着第三光轴OA3被引导到射束引导管420中。次级电子和返回散射电子的轨迹尤其在粒子射束的射束走向的路程上与粒子射束反方向延伸。

粒子辐射设备400包括第一分析检测器419，该第一分析检测器沿着射束路径布置在射束偏转装置410与物镜421之间。在相对于第三光轴OA3以较大角度定向的方向上前进的次级电子被第一分析检测器419检测。相对于第三光轴OA3在第一分析检测器419的位置处具有小的轴间距的返回散射电子和次级电子(也就是说，在第一分析检测器419处与第三光轴OA3具有小间距的返回散射电子和次级电子)进入射束偏转装置410并且被第五磁性扇区411E、第六磁性扇区411F和第七磁性扇区411G沿着检测射束路径427偏转到第二分析检测器428。偏转角度例如为90°或110°。

第一分析检测器419产生检测信号，这些检测信号基本上通过所发射的次级电子产生。由第一分析检测器419产生的检测信号被引导到控制单元123并被用于获取关于所聚焦的粒子射束与物体的相互作用范围的特性的信息。尤其在使用扫描装置429的情况下将所聚焦的粒子射束扫过物体。通过由第一分析检测器419产生的检测信号，然后可以产生物体的所扫描区域的图像并且显示在展示单元上。显示单元例如为布置在控制单元123处的监视器124。

第二分析检测器428也与控制单元123相连。第二分析检测器428的检测信号被引导到控制单元123并且用于产生物体的所扫描区域的图像并且显示在展示单元上。展示单元例如为布置在控制单元123处的监视器124。

在样品室426处布置有辐射检测器500，通过该辐射检测器来检测相互作用辐射，例如X光辐射和/或阴极发射光。辐射检测器500与控制单元123相连，该控制单元具有监视器124。控制单元123处理辐射检测器500的检测信号并且以图像的形式将其显示在监视器124上。

控制单元123具有数据库126，控制单元123可以将数据存储在该数据库中和/或可以从该数据库中将数据加载到控制单元123的处理器中。

在固定装置114处布置有冷却和/或加热装置127，该冷却和/或加热装置用于冷却和/或加热固定装置114、物体接纳容器425和/或物体。这将在再下文中详细解释。

为了确定物体的温度、固定装置114的温度、物体接纳容器125的温度和/或载物台424的温度，在样品室426中布置有温度测量单元128。温度测量单元128例如形成为红外测量设备或半导体温度传感器。但是，本发明并不限于使用此类温度测量单元。而是可以使用适用于本发明的任何温度测量单元作为温度测量单元。

粒子辐射设备400的控制单元123具有处理器或形成为处理器。将计算机程序产品加载到处理器中，该计算机程序产品控制粒子辐射设备400，从而执行本发明的方法。这将在再下文中详细解释。

图4示出光学显微镜800的示意图。光学显微镜800具有用于产生光的光源801和呈物镜形式的用于将光引导到物体上的光学单元802，该物体被布置在物体接纳容器125处。另外，光学显微镜800配备有固定装置114，该固定装置用于固定物体接纳容器125。此外，光学显微镜800形成有可移动地形成的载物台122，固定装置114并且因此还有物体接纳容器125布置在该载物台处。

光学显微镜800的载物台122例如形成为可以沿着第一平移轴线(尤其x轴)、沿着第二平移轴线(尤其y轴)以及沿着第三平移轴线(尤其z轴)移动。第一平移轴线、第二平移轴线和第三平移轴线例如是彼此垂直定向的。另外，载物台122例如形成为可以围绕第一旋转轴线并围绕与第一旋转轴线垂直定向的第二旋转轴线旋转。在光学显微镜800的一个实施方式中，对于上述轴线中的所有轴线分别设置一个电机，该电机使得能够沿着对应的轴线移动。

在光学显微镜800的另一个实施方式中提出，固定装置114形成为物体接收装置，例如呈用于固定物体接纳容器125的机械手和/或抓握器的形式。固定装置114于是例如像上文和再下文中关于载物台122所详述的那样形成为可移动的。

光学显微镜800具有控制单元123，该控制单元配备有监视器124，在该监视器上可以展示用光学显微镜800拍摄的物体的图像。

控制单元123具有数据库126，控制单元123可以将数据存储在该数据库中和/或可以从该数据库中将数据加载到控制单元123的处理器中。

在固定装置114处布置有冷却和/或加热装置127，该冷却和/或加热装置用于冷却和/或加热固定装置114、物体接纳容器125和/或物体。这将在再下文中详细解释。

为了确定物体的温度、固定装置114的温度和/或载物台122的温度，光学显微镜800具有温度测量单元128。温度测量单元128例如形成为红外测量设备或半导体温度传感器。但是，本发明并不限于使用此类温度测量单元。而是可以使用适用于本发明的任何温度测量单元作为温度测量单元。

光学显微镜800的控制单元123具有处理器或形成为处理器。将计算机程序产品加载到处理器中，该计算机程序产品控制光学显微镜800，从而执行本发明的方法。这将在再下文中详细解释。

图4A示出用于加工物体的设备800A的示意图。用于加工物体的设备800A具有用于加工物体的加工装置801A。例如加工装置801A形成为机械切割装置和/或形成为激光切割装置和/或形成为用于电子束诱导地在物体上沉积层的装置(例如在使用气体的情况下)和/或形成为用于离子束诱导地在物体上沉积层的装置(例如在使用气体的情况下)和/或形成为溅射设备。物体布置在物体接纳容器125处。另外，用于加工物体的设备800A配备有固定装置114，该固定装置用于固定物体接纳容器125。此外，用于加工物体的设备800A形成有可移动地形成的载物台122，固定装置114并且因此还有物体接纳容器125布置在该载物台处。

用于加工物体的设备800A的载物台122例如形成为可以沿着第一平移轴线(尤其x轴)、沿着第二平移轴线(尤其y轴)以及沿着第三平移轴线(尤其z轴)移动。第一平移轴线、第二平移轴线和第三平移轴线例如是彼此垂直定向的。另外，载物台122例如形成为可以围绕第一旋转轴线并围绕与第一旋转轴线垂直定向的第二旋转轴线旋转。在加工物体的设备800A的一个实施方式中，对于上述轴线中的所有轴线分别设置一个电机，该电机使得能够沿着对应的轴线移动。

在用于加工物体的设备800A的另一个实施方式中提出，固定装置114形成为物体接收装置，例如呈用于固定物体接纳容器125的机械手和/或抓握器的形式。固定装置114于是例如像上文和再下文中关于载物台122所详述的那样形成为可移动的。

在固定装置114处布置有冷却和/或加热装置127，该冷却和/或加热装置用于冷却和/或加热固定装置114、物体接纳容器125和/或物体。这将在再下文中详细解释。

为了确定物体的温度、固定装置114的温度和/或载物台122的温度，用于加工物体的设备800A具有温度测量单元128。温度测量单元128例如形成为红外测量设备或半导体温度传感器。但是，本发明并不限于使用此类温度测量单元。而是可以使用适用于本发明的任何温度测量单元作为温度测量单元。

用于加工物体的设备800A的控制单元123具有处理器或者形成为处理器。将计算机程序产品加载到处理器中，该计算机程序产品控制用于加工物体的设备800A，从而执行本发明的方法。这将在再下文中详细解释。

下面将详细介绍上文解说的粒子辐射设备100、200和400、光学显微镜800以及用于加工物体的设备800A的载物台122、424。载物台122、424形成为可移动的载物台，该载物台在图5和图6中示意性展示。要注意，本发明并不受限于在此说明的载物台122、424。而是，本发明可以具有适合本发明的任何可移动的载物台。在另一个实施方式中提出，固定装置114形成为物体接收装置，例如呈用于固定物体接纳容器125的机械手和/或抓握器的形式。固定装置114于是例如像上文和再下文中关于载物台122、424所详述的那样形成为可移动的。

固定装置114直接地或在使用运输装置的情况下布置在载物台122、424处，其中在固定装置114中进而布置有带有物体的物体接纳容器125、425。载物台122、424具有移动元件，这些移动元件如此确保载物台122、424的移动，使得例如借助于粒子射束和/或光辐射可以研究物体上的感兴趣的区域。在图5和图6中示意性展示了移动元件并且在下文对其进行详述。

载物台122、424具有第一移动元件600，该第一移动元件例如布置在样品室120、201或426(载物台122、424进而布置在该样品室中)的壳体601处。通过第一移动元件600，能够实现载物台122、424沿着z轴(第三载物台轴线)的移动。另外设置有第二移动元件602。第二移动元件602能够实现载物台122、424围绕第一载物台旋转轴线603的旋转，该第一载物台旋转轴线也称为倾斜轴线。这个第二移动元件602用于将布置在物体接纳容器125、425处的物体围绕第一样品台旋转轴线603翻转，其中物体接纳容器125、425布置在固定装置114处。

在第二移动元件602处进而布置有第三移动元件604，该第三移动元件形成为用于滑动件的引导件并且保证载物台122、424在x方向上是可移动的(第一载物台轴线)。前述滑动件进而为另一个移动元件，即第四移动元件605。第四移动元件605形成为使得载物台122、424在y方向上是可移动的(第二载物台轴线)。为此，第四移动元件605具有引导件，在该引导件中引导另一个滑动件，在该另一个滑动件处进而布置有带有物体接纳容器125、425的固定装置114。

固定装置114进而形成为具有第五移动元件606，该第五移动元件能够使固定装置114以及还有物体接纳容器125、425围绕第二样品台旋转轴线607旋转。第二载物台旋转轴线607垂直于第一载物台旋转轴线603定向。

由于上述布置，此处讨论的实施方式的载物台122、424具有以下运动学链条：第一移动元件600(沿着z轴移动)-第二移动元件602(围绕第一载物台旋转轴线603旋转)-第三移动元件604(沿着x轴移动)-第四移动元件605(沿着y轴移动)-第五移动元件606(围绕第二载物台旋转轴线607旋转)。

在另一个(未展示)的实施方式中提出，在载物台122、424处布置其他的移动元件，使得能够实现沿着其他的平移轴线和/或围绕其他的旋转轴线的运动。

如从图6中可以看到的，上述移动元件中的每一个与呈电机M1至M5形式的驱动单元相连。因此第一移动元件600与第一驱动单元M1相连且由于由第一驱动单元M1提供的驱动力而被驱动。第二移动元件602与第二驱动单元M2相连，该第二驱动单元驱动第二移动元件602。第三移动元件604进而与第三驱动单元M3相连。第三驱动单元M3提供驱动力用于驱动第三移动元件604。第四移动元件605与第四驱动单元M4相连，其中第四驱动单元M4驱动第四移动元件605。另外第五移动元件606与第五驱动单元M5相连。第五驱动单元M5提供驱动力，该驱动力驱动第五移动元件606。

上述驱动单元M1至M5例如可以形成为步进电机并且通过控制单元608进行控制并且分别由控制单元608以电源电流进行供应(参见图6)。要明确地指出，本发明不限于通过步进电机进行移动。而是，可以使用任何驱动单元(例如无刷电机)作为驱动单元。通过将电源电流送至驱动单元M1至M5，驱动单元M1至M5如此受到控制，使得载物台122、424例如向样品室120、201、426中的所希望的位置移动。载物台122、424借助于驱动单元M1至M5保持在这个所希望的位置中。换言之，载物台122、424应不再从这个所希望的位置移开。这对于对布置在载物台122、424上的物体的良好分辨能力和/或准确成像而言是尤其期望的。在驱动单元M1至M5停机时，这些驱动单元M1至M5中每一个的电源电流的幅值被降低到可预设的保持幅值。具有这个保持幅值的供应电流也被称为保持电流。当驱动单元M1至M5中每一个的电源电流具有保持电流时，则载物台122、424保持则所希望的位置中。

图7示出物体接纳容器125的实施方式。物体接纳容器125具有第一容器单元129和第二容器单元130。在第一容器单元129处布置有第一空腔131和第二空腔132。第一空腔131被形成为用于接纳第一物体。另外，第二空腔132被形成为用于接纳第二物体。

此外，物体接纳容器125具有铰接装置134，该铰接装置不仅布置在第一容器单元129处而且还布置在第二容器单元130处。由于铰接装置134，第二容器单元130被形成为能够相对于第一容器单元129移动。第二容器单元130相对于第一容器单元129能够进入第一位置和/或第二位置中。

第一空腔131具有第一空腔开口136和第二空腔开口138(参照图7和图9)。第一空腔131的第一空腔开口136和第二空腔开口138限定第一空腔131。另外，第一空腔131的第一空腔开口136和第二空腔开口138相反地布置。此外，第二空腔132具有第一空腔开口137和第二空腔开口139(参照图7和图9)。第二空腔132的第一空腔开口137和第二空腔开口139限定第二空腔132。另外，第二空腔132的第一空腔开口137和第二空腔开口139相反地布置。

图8示出第二容器单元130相对于第一容器单元129的第二位置。在第二容器单元130相对于第一容器单元129的第二位置中，第一空腔131的第一空腔开口136以及第二空腔132的第一空腔开口137布置在第二容器单元130处。由此，在第二容器单元130相对于第一容器单元129的第二位置中，第二容器单元130遮盖第一空腔131的第一空腔开口136以及第二空腔132的第一空腔开口137。于是无法通过第一空腔131的第一空腔开口136来接近布置在第一空腔131中的第一物体。另外无法通过第二空腔132的第一空腔开口137来接近布置在第二空腔132中的第二物体。图7示出第二容器单元130相对于第一容器单元129的第一位置。在第二容器单元130相对于第一容器单元129的第一位置中，可以自由地接近第一容器单元129的第一空腔131的第一空腔开口136以及第二空腔132的第一空腔开口137。于是可以通过第一空腔131的第一空腔开口136来接近布置在第一空腔131中的第一物体。另外可以通过第二空腔132的第一空腔开口137来接近布置在第二空腔132中的第二物体。

在物体接纳容器125的一个实施方式中，在第一空腔131的第二空腔开口138处并且在第二空腔132的第二空腔开口139处布置有遮盖装置140，该遮盖装置用于遮盖第一空腔131的第二空腔开口138和第二空腔132的第二空腔开口139(参见图7和图9)。遮盖装置140形成为滑动板装置并且如下地布置在第一容器单元129的接收件中，使得遮盖装置140相对于第一空腔131的第二空腔开口138和第二空腔132的第二空腔开口139能够推移。以此方式可以使遮盖装置140进入遮盖位置(参见图7)和露出位置(参见图9)。在遮盖位置中，遮盖装置140遮盖第一空腔131的第二空腔开口138和第二空腔132的第二空腔开口139。换言之，遮盖装置140在遮盖位置中在第一空腔131的第二空腔开口138的区域中以及第二空腔132的第二空腔开口139的区域中封闭第一空腔131和第二空腔132。在露出位置中，遮盖装置140在第一空腔131的第二空腔开口138的区域中以及第二空腔132的第二空腔开口139的区域中不封闭第一空腔131和第二空腔132。于是可以通过第一空腔131的第二空腔开口138来接近布置在第一空腔131中的第一物体。另外可以通过第二空腔132的第二空腔开口139来接近布置在第二空腔132中的第二物体。当对第一物体和/或第二物体进行研究，其中粒子射束透射穿过第一物体和/或第二物体时，上述实施方式是有利的。然后可以检测粒子射束的透射的粒子。由于粒子射束与第一物体的相互作用产生的相互作用粒子从第一物体的布置在第一空腔131的第二空腔开口138一侧离开。另外，由于粒子射束与第二物体的相互作用产生的相互作用粒子从第二物体的布置在第二空腔132的第二空腔开口139一侧离开。然后可以用检测器、例如用第三检测器121检测相互作用粒子和/或粒子射束的透射的粒子。

由此在上述实施方式中提出，第一空腔131的第一空腔开口136和第二空腔132的第一空腔开口137与第一空腔131的第二空腔开口138和第二空腔132的第二空腔开口139被不同的单元遮盖。第一空腔开口136、137被第二容器单元130遮盖。相反，第二空腔开口138、139被遮盖装置140遮盖。

如在图7至图9中所示，物体接纳容器125具有紧固装置133，该紧固装置被布置在第一容器单元129处。附加于此或替代于此提出，紧固装置133布置在第二容器单元130处。紧固装置133用于将物体接纳容器125布置在固定装置114处，如再下文仍将阐释的。

在图7至图9中所示的物体接纳容器125的实施方式中，紧固装置133形成为弹簧装置。紧固装置133具有第一弹簧末端141和第二弹簧末端142。第一弹簧末端141和第二弹簧末端142彼此间隔开地布置。另外，第一弹簧末端141形成为相对于第二弹簧末端142能够移动。换言之，第一弹簧末端141和/或第二弹簧末端142形成为能够移动的。第一弹簧末端141具有用于接合操作工具的第一接合开口143。此外，第二弹簧末端142具有用于接合操作工具的第二接合开口144。由此保证了对呈弹簧装置形式的紧固装置133的简单操作，使得物体接纳容器125可以简单地安装在固定装置114处并且可以从固定装置114简单地再次松脱，如再下文详细阐释的。

在物体接纳容器125的另一个实施方式中提出，紧固装置133具有至少一个卡环和/或被形成为卡环。在物体接纳容器125的仍另一个实施方式中附加地或替代地提出，紧固装置133具有夹持装置或者被形成为夹持装置。尤其提出，紧固装置133具有第一夹持件和第二夹持件。附加于此或替代于此提出，紧固装置133具有螺钉和/或偏心盘，其中螺钉和/或偏心盘用于将该物体接纳容器125夹持到该固定装置114处。

在图7至图9中所示的物体接纳容器125的实施方式中，第一容器单元129具有第一面145，其中第一面145布置在第一平面中。另外，第二容器单元130具有第二面146，其中第二面146布置在第二平面中。如在图8中所示，在第二容器单元130相对于第一容器单元129的第二位置中，第一容器单元129的第一面145贴靠第二容器单元130的第二面146，使得布置在第一容器单元129处的第一空腔131和第二空腔132被第二容器单元130的第二面146遮盖。

图7示出第二容器单元130相对于第一容器单元129的第一位置。在第一位置中，第一容器单元129的第一面145如下地相对于第二容器单元130的第二面146布置，使得第一平面相对于第二平面如下地定向：(i)该第一平面并行于该第二平面定向，或者(ii)该第一平面与该第二平面完全相同，或者(iii)该第一平面以相对于该第二平面大于5°的角度定向。

图10示出具有已经在更上文讨论的特征的物体接纳容器125的另一个透视图。另外，图10示出夹持单元135，该夹持单元同样已在图7和图9中示出。关于夹持单元135的功能将在再下文详细解说。

图11示出物体接纳容器125的另一个实施方式。物体接纳容器125的这个实施方式也具有第一容器单元129和第二容器单元130。在第一容器单元129处布置有第一空腔131。第一空腔131被形成为用于接纳第一物体。第一空腔131具有第一空腔开口136。第一空腔开口136限定第一空腔131。

在图11中展示的物体接纳容器125的实施方式中，第二容器单元130被形成为推移装置，使得第二容器单元130相对于第一容器单元129能够被推移到第一位置和/或第二位置中。换言之，第一容器单元129和/或第二容器单元130是可推移的，使得第二容器单元130相对于第一容器单元129可以被布置在第一位置和/或第二位置中。在第二容器单元130相对于第一容器单元129的第二位置中，第二容器单元130遮盖布置在第一容器单元129处的第一空腔131。如果在第一容器单元129处布置有多个空腔，则在第二容器单元130相对于第一容器单元129的第二位置中，第二容器单元130遮盖该多个空腔。图11示出第二容器单元130相对于第一容器单元129的第一位置。在第二容器单元130相对于第一容器单元129的第一位置中，可以接近第一空腔131以及由此布置在第一空腔131中的第一物体。因此可以研究、分析和/或加工第一物体。如果在第一容器单元129处布置有多个空腔，则在第二容器单元130相对于第一容器单元129的第一位置中可以接近该多个空腔以及由此布置在该多个空腔中的物体。

在图11中所示的物体接纳容器125的实施方式具有紧固装置133，该紧固装置被布置在第一容器单元129处。紧固装置133被形成为弹簧装置。这个实施方式的紧固装置133还具有第一弹簧末端141和第二弹簧末端142。第一弹簧末端141和第二弹簧末端142彼此间隔开地布置。另外，第一弹簧末端141形成为相对于第二弹簧末端142能够移动。换言之，第一弹簧末端141和/或第二弹簧末端142形成为能够移动的。由于呈弹簧装置形式的紧固装置133，保证了物体接纳容器125可以简单地安装在固定装置114处并且可以从固定装置114简单地再次松脱，如再下文详细阐释的。

图12示出安装装置147的实施方式，利用该安装装置例如将第一物体布置在根据图7至图10的物体接纳容器125的第一空腔131中并将第二物体布置在第二空腔132中。安装装置147例如具有内部空间148，该内部空间被隔热壁部149包围。在内部空间148中布置有用于物体接纳容器125的支架150。支架150具有第一支架零件151和第二支架零件152，这些支架零件经由铰接件153彼此相连。第一支架零件151相对于第二支架零件152可以被定位为保证可以简单地将第一物体安装到物体接纳容器125的第一空腔131中并且将第二物体安装到第二空腔132中。

为了将第一物体安装在物体接纳容器125的第一空腔131中并且将第二物体安装在第二空腔132中，将物体接纳容器125布置在支架150的接收件154中。借助于紧固装置133将物体接纳容器125紧固在接收件154中。此外，用操作工具接合到第一弹簧末端141的第一接合开口143和第二弹簧末端142的第二接合开口144中。然后使第一弹簧末端141和第二弹簧末端142相向移动。接着将物体接纳容器125插入接收件154中。通过从第一弹簧末端141的第一接合开口143和第二弹簧末端142的第二接合开口144中取出操作工具，第一弹簧末端141和第二弹簧末端142彼此背向移动，使得紧固装置133以其外表面贴靠接收件154的内表面。以此方式，将物体接纳容器125夹持式固定在接收件154中。

通过例如用液氮或液氦填充安装装置147的内部空间148，将物体接纳容器125冷却到深冷温度，从而可以在深冷温度下进行第一物体向物体接纳容器125的第一空腔131中以及第二物体像第二空腔132中的安装。此外，形成为弹簧的夹持单元135被棒状单元155抬升(参见图13和图14)，从而可以将第一物体插入到物体接纳容器125的第一空腔131中并且可以将第二物体插入到第二空腔132中。接着通过棒状单元155将夹持单元135降低，使得将第一物体可靠地夹持式固定在物体接纳容器125的第一空腔131中并且将第二物体可靠地夹持式固定在第二空腔132中。例如用滑槽引导件156来进行棒状单元155的抬升和降低。通过移动操作单元157，将棒状单元155一方面沿着滑槽引导件156移动且另一方面抬升或降低。

在另一个实施方式中提出，第一物体首先被布置在第一固定件处和/或第二物体被布置在第二固定件处。接着将第一固定件与第一物体一起插入到第一空腔131中。另外将第二固定件与第二物体一起插入到第二空腔132中。接着通过棒状单元155将夹持单元135降低，使得将第一固定件与第一物体一起可靠地夹持式固定在物体接纳容器125的第一空腔131中并且将第二固定件与第二物体一起可靠地夹持式固定在第二空腔132中。这个实施方式在图15中示出。图15示出物体接纳容器125的另一个透视图，其中在第一空腔131处布置有第一固定件160，其中在第一固定件160处进而布置有第一物体158。在第二空腔132处布置有第二固定件161，其中在第二固定件161处进而布置有第二物体159。第一固定件160和/或第二固定件161例如可以设计为呈所谓格栅或U形构造的固定件形式的可商购TEM样品固定件。

图16示出固定装置114的实施方式。固定装置114例如为适配器装置，该适配器装置布置在SEM 100、组合设备200、粒子辐射设备400和/或光学显微镜800的载物台122、424处。附加地或替代地提出，固定装置114被布置在用于加工物体的设备800A(例如显微切片机、激光切割设备和/或抛光设备)的接收装置处。

为了将物体接纳容器125布置在固定装置114处，

将物体接纳容器125布置在固定装置114的接收件162中。此外，用操作工具接合到第一弹簧末端141的第一接合开口143和第二弹簧末端142的第二接合开口144中。然后使第一弹簧末端141和第二弹簧末端142相向移动。接着将物体接纳容器125插入固定装置114的接收件162中。通过从第一弹簧末端141的第一接合开口143和第二弹簧末端142的第二接合开口144中取出操作工具，第一弹簧末端141和第二弹簧末端142彼此背向移动，使得紧固装置133以其外表面贴靠固定装置114的接收件162的内表面。以此方式，将物体接纳容器125夹持式固定在固定装置114的接收件162中。

在固定装置114的另一个实施方式中提出，物体接纳容器125的布置通过不同设计的紧固装置133来进行。例如紧固装置133具有至少一个卡环和/或被形成为卡环。在仍另一个实施方式中，附加地或替代地提出，紧固装置133具有夹持装置和/或被形成为夹持装置。尤其提出，紧固装置133具有第一夹持件和第二夹持件。附加于此或替代于此提出，紧固装置133具有螺钉和/或偏心盘，其中螺钉和/或偏心盘用于将该物体接纳容器125夹持到该固定装置114处。

如上所述，固定装置114可以具有对于例如为了被布置在SEM 100、组合设备200、粒子辐射设备400和/或光学显微镜800的载物台122、424处所需的任何适合的设计。附加地或替代地提出，固定装置114被设计为，可以将固定装置114布置在用于加工物体的设备800A处，例如显微切片机、激光切割设备和/或抛光设备处。

图17示出固定装置114的另一个实施方式。固定装置114的这个实施方式具有基板163，其侧面受第一接片164、第二接片165和第三接片166限定，使得第一接片164、第二接片165和第三接片166限定固定装置114的接收件162。接收件162布置在物体接纳容器125中。在图17中，第二容器单元130相对于第一容器单元129布置在第二位置中。

图18示出根据图16的固定装置114的实施方式，但是从另一个角度。因此首先参照上文做出的实施方式。另外，在图18中，第二容器单元130相对于第一容器单元129布置在第二位置中。

图19示出固定装置114的再另一个实施方式。固定装置114的实施方式具有相对于基体168倾斜的面167。倾斜的面167受第一接片164、第二接片165和第三接片166限定，使得第一接片164、第二接片165和第三接片166包围固定装置114的接收件162。接收件162被布置在物体接纳容器125中。由于倾斜的面167，不再强制必须使固定装置114以及由此还有物体接纳容器125例如在SEM 100的样品室120中、在组合设备200的样品室201中、在粒子辐射设备400的样品室426中和/或在光学显微镜800中围绕旋转轴线转动。

下面将详细阐释根据本发明的方法的实施方式。要明确地指出，这些实施方式仅应理解为是示例性的，并且本发明不受限于这些实施方式。

图20示出用于对物体进行研究、分析和/或加工的方法的首先准备性的方法步骤。在方法步骤S1中首先将物体、例如第一物体158或第二物体159布置在固定件处。固定件例如为可商购的TEM物体固定件。接着将方法步骤S2中将固定件与物体158、159一起例如布置在物体接纳容器125的第一空腔131中或第二空腔132中。这利用安装装置147来进行，物体接纳容器125布置在该安装装置中。固定件与物体158、159一起例如在物体接纳容器125的第一空腔131中或第二空腔132中的布置已经在上文说明。因此关于固定件与物体158、159在物体接纳容器125中的布置，参考上文做出的所有实施方案。在方法步骤S3中，将至少一个标记施加在物体接纳容器125处，该标记在设备中(例如在上文已经阐释的设备中)继续研究、分析和/或加工时用作关于定向和导航的参考标记。在方法步骤S4中，清洁物体158、159，例如清洁掉由冰组成的杂质。另外，在方法步骤S5中确立了例如借助于通过使用光学显微镜800对物体158、159的光学显微研究获得的信息。这些信息尤其包括物体158、159的取向、物体158、159上存在的杂质的位置和/或物体158、159上的冰层的厚度。此外，在方法步骤S6中，物体接纳容器125布置在保存容器或运输容器中。保存容器以及运输容器例如用液氮或液氦冷却。在运输容器中可以将物体接纳容器125从用于研究、分析和/或加工的第一设备运输到用于研究、分析和/或加工的第二设备。

图21示出用于对物体158、159进行研究、分析和/或加工的方法的任选的方法步骤S7。在此，在方法步骤S6之后，在方法步骤S7中将运输容器中的物体158、159运输到光学显微镜800。将物体接纳容器125从运输容器移出并且布置在固定装置114处。固定装置114适合用于引入到光学显微镜800中。固定装置114与物体接纳容器125一起被引入光学显微镜800中。接着使第二容器单元130相对于第一容器单元129移动，使得第二容器单元130相对于第一容器单元129布置在第一位置中。在第二容器单元130的第一位置中，例如可以接近布置在第一空腔131或第二空腔132中的物体158、159并且可以在使用远场光学显微法的情况下用光学显微镜800对其进行研究。以此方式实现的关于物体158、159的研究结果和分析结果、尤其用光学显微镜800拍摄的物体158、159的图像，例如被用于与例如用SEM 100实现的物体158、159的研究结果以及分析结果进行关联。用不同设备实现的研究结果和分析结果的这种关联还被称为关联性显微法。在用光学显微镜800的研究结束之后，使第二容器单元130相对于第一容器单元129进入第二位置，从而将物体158、159位于其中的第一空腔131和/或第二空腔132关闭并且不再能接近物体158、159。然后再次将物体接纳容器125从固定装置114取出并且引入到运输容器中。

接着执行该方法的用于对物体158、159进行研究、分析和/或加工的其他方法步骤。

图22示出用于对物体158、159进行研究、分析和/或加工的方法的另一个任选的方法步骤S8。在方法步骤S6或S7之后，在方法步骤S8中将在运输容器中的、具有物体158、159的物体接纳容器125运输到共聚焦激光显微镜。将物体接纳容器125从运输容器移出并且布置在固定装置114处。固定装置114适合用于引入到共聚焦激光显微镜中。固定装置114与物体接纳容器125一起被引入共聚焦激光显微镜中。接着使第二容器单元130相对于第一容器单元129移动，使得第二容器单元130相对于第一容器单元129布置在第一位置中。在第二容器单元130的第一位置中，例如可以接近布置在第一空腔131或第二空腔132中的物体158、159并且可以在使用荧光成像法的情况下用共聚焦激光显微镜对其进行研究。以此方式实现的关于物体158、159的研究结果和分析结果例如被用于与例如用SEM 100实现的物体158、159的研究结果以及分析结果进行关联。在用共聚焦激光显微镜的研究结束之后，使第二容器单元130相对于第一容器单元129进入第二位置，从而尤其将物体158、159位于其中的第一空腔131和第二空腔132关闭并且不再能接近物体158、159。然后再次将物体接纳容器125从固定装置114取出并且引入到运输容器中。

接着执行该方法的用于对物体进行研究、分析和/或加工的其他方法步骤。图23示出用于对物体158、159进行研究、分析和/或加工的方法的实施方式的各方法步骤。

在方法步骤S9中，在运输容器中的具有物体158、159的物体接纳容器125被运输到辐射设备(例如SEM 100)、组合设备200和/或粒子辐射设备400、或者用于加工物体的设备800A。将物体接纳容器125从运输容器移出并且布置在固定装置114处。固定装置114适合用于引入到SEM 100、组合设备200、粒子辐射设备400和/或用于加工物体的设备800A中。在方法步骤S10中，将固定装置114布置在运输装置处。运输装置例如为可以借助于机械手移动的装置，该装置尤其可以从布置在SEM 100、组合设备200和/或粒子辐射设备400处的工作站移动到SEM 100的样品室120、组合设备200的样品室201和/或粒子辐射设备400的样品室426中。此类运输装置例如被称为“穿梭器”。在方法步骤S11中将运输装置运输到工作站并且引入其中。在该工作站中，使第二容器单元130相对于第一容器单元129移动，使得第二容器单元130相对于第一容器单元129布置在第一位置中。在第二容器单元130的第一位置中，例如可以接近布置在第一空腔131或第二空腔132中的物体158、159并且对其进行加工。例如借助于显微切片机从物体158、159去掉层或者用溅射装置向物体158、159上施加层。该工作站可以布置在SEM 100、组合设备200和/或粒子辐射设备400处。替代于此提出，该工作站(例如用于加工物体的设备800A)不与SEM 100、组合设备200和/或粒子辐射设备400耦合并且在地点上与SEM 100、组合设备200和/或粒子辐射设备400分开。在对物体158、159的加工结束之后，任选地使第二容器单元130相对于第一容器单元129进入第二位置，从而将物体158、159位于其中的第一空腔131和/或第二空腔132关闭并且不再能接近物体158、159。

在方法步骤S12中，将运输装置以及由此布置在固定装置114处的物体接纳容器125布置在SEM 100、组合设备200和/或粒子辐射设备400中。

接着在方法步骤S13中对物体158、159进行研究、分析和/或加工。为此，如果第二容器单元130相对于第一容器单元129处于第二位置中，使第二容器单元130相对于第一容器单元129移动，使得第二容器单元130相对于第一容器单元129布置在第一位置中。在第二容器单元130的第一位置中，例如可以接近布置在第一空腔131或第二空腔132中的物体158、159并且对其进行研究、分析和/或加工。例如可以通过电子束诱导的沉积或离子束诱导的沉积将层施加在物体158、159上，例如在使用气体的情况下。附加地或替代地提出，借助于离子束来削磨物体158、159的层。附加于此或替代于此提出，借助于电子束和/或离子束将物体158、159成像。进而附加于此或替代于此提出，将相互作用辐射、尤其X光辐射用于检测和分析物体158、159。

在对物体158、159的研究、分析和/或加工结束之后，在方法步骤S14中使第二容器单元130相对于第一容器单元129进入第二位置，从而尤其将物体158、159位于其中的第一空腔131和第二空腔132关闭并且不再能接近物体158、159。运输装置再次可以从SEM 100、组合设备200和/或粒子辐射设备400中取出。在方法步骤S15中，将固定装置114从运输装置中取出。此外，在方法步骤S16中，从固定装置114再次取出物体接纳容器125。在方法步骤S17中，将物体接纳容器125引入到运输容器中。替代于此提出，将物体158、159与其固定件一起从物体接纳容器125中取出并且布置在样品容器中。样品容器进而布置在用氮气填充的杜瓦瓶中。将样品容器在其中储存直至对物体进行进一步研究、分析和/或加工。

在本发明方法的实施方式中将物体接纳容器125引入到组合设备200中。在这个实施方式中，在方法步骤S13中通过将一方面已经用光学显微镜800和另一方面已经用SEM100建立的图像叠加来标识物体的区域。附加地或替代地，通过用SEM 100或离子辐射设备300成像来标识这些区域。另外，例如提出，在这些区域处布置前体材料，尤其通过离子束引导的沉积，例如在使用气体的情况下。前体材料尤其用于保护所标识的区域。接着在所标识的区域中用离子辐射设备300削磨物体158、159的材料，直至物体158、159具有约300nm至500nm的厚度。接着在所标识的区域中用离子辐射设备300削磨物体158、159的材料，直至物体158、159具有200nm或更薄的厚度。当将运输装置以及由此还有物体接纳容器125从组合设备200的样品室201中取出时，任选地提出，运输装置与固定装置114一起被引入上述工作站中，以便借助于溅射装置将材料层施加到物体158、159上，从而减少在借助于TEM的后续研究中对物体158、159的加电(Aufladung)。

在本发明方法的另一个实施方式中，其中物体接纳容器125被引入到组合设备200中，借助于离子辐射设备300将物体158、159的感兴趣的子区域从物体158、159中切割出来并且紧固在机械手处。借助于机械手将感兴趣的子区域从物体158、159中拿起并且固定在布置于物体接纳容器125处的TEM物体固定件处。在这个实施方式中执行再上文已经详述的方法步骤中的至少一个。在TEM中研究感兴趣的子区域。

要明确地指出，在必须接近布置在物体接纳容器125处的物体158、159的每个方法步骤之前，使第二容器单元130相对于第一容器单元129进入第一位置，使得尤其打开物体158、159布置在其中的第一空腔131和/或第二空腔132并且可以接近物体158、159。在运输物体接纳容器125时，则使第二容器单元130相对于第一容器单元129进入第二位置，从而尤其将物体158、159位于其中的第一空腔131和第二空腔132关闭并且不再能接近物体158、159。

利用物体接纳容器125可以可靠且简单地在两个研究设备之间进行运输。由于第二容器单元130相对于第一容器单元129向第二位置中的相对移动并且由于由此实现的遮盖，物体接纳容器125尤其保证了保护布置在第一空腔131和/或第二空腔132中的物体158、159免受污染。此外，物体接纳容器125保证了可以长时间(例如在数天或数月中)可靠地储存物体158、159。因为在将物体158、159储存在例如氮冷的储存容器中时无需从物体接纳容器125中取出，所以物体158、159在物体接纳容器125中的取向不会改变。这简化了借助于研究设备对物体158、159的后续研究，因为在从储存容器中取出物体接纳容器125之后，物体接纳容器125可以被装入研究设备中，其中物体158、159的取向是已知的。尤其提出，借助于标记将关于物体158、159的对齐和取向的信息布置在物体接纳容器125处。另外，物体接纳容器125保证了可以将其布置在尽可能多的不同的研究设备中。物体接纳容器125布置在固定装置114处。固定装置114被设计为，使得物体接纳容器125可以借助于固定装置114布置在例如SEM 100、组合设备200、粒子辐射设备400、光学显微镜800、安装装置147的接收装置(例如载物台122、424)处和/或上文阐释的工作站处。与现有技术不同，本发明由此可以实现，无须将物体158、159布置在分别不同的物体固定件(这些物体固定件具有对于相应设备确定的实体设计)处，即可在不同设备中对物体158、159进行研究和/或加工。而是在本发明中提出，仅将物体158、159在本发明的物体接纳容器125处布置一次，然后就可以将其接收到不同的研究设备中。

本发明确保以不同的工作流程在深冷温度下可以简单地研究、分析和/或加工布置在物体接纳容器125的物体158、159。物体接纳容器125例如可以用于借助于X射线光谱法、借助于扫描近场显微法、借助于扫描力学显微法、借助于组合设备200、借助于透射电子显微法、借助于拉曼光谱法和/或借助于次级离子质谱法来研究和/或分析物体158、159。附加于此或替代于此提出，物体接纳容器125用于抛光物体158、159、用于借助于刀具或激光器来切割物体158、159和/或用于将材料施加到物体158、159上。上述清单应理解为是示例性的。物体接纳容器125可以用于每种任意的且适合的方法。

图24示出安装装置147A的另一个实施方式，利用该安装装置例如将第一物体布置在根据图7至图10的物体接纳容器125的第一空腔131中并将第二物体布置在第二空腔132中。安装装置147A例如具有内部空间148A，该内部空间被隔热壁部149A包围。在内部空间148A中布置有用于物体接纳容器125的支架150A。为了将第一物体安装在物体接纳容器125的第一空腔131中并且将第二物体安装在第二空腔132中，将物体接纳容器125布置在支架150A的接收件154A中。借助于紧固装置133将物体接纳容器125紧固在接收件154A中。此外，用操作工具接合到第一弹簧末端141的第一接合开口143和第二弹簧末端142的第二接合开口144中(参见图7至图9)。然后使第一弹簧末端141和第二弹簧末端142相向移动。接着将物体接纳容器125插入接收件154A中。通过从第一弹簧末端141的第一接合开口143和第二弹簧末端142的第二接合开口144中取出操作工具，第一弹簧末端141和第二弹簧末端142彼此背向移动，使得紧固装置133以其外表面贴靠接收件154A的内表面。以此方式，将物体接纳容器125夹持式固定在接收件154A中。

通过例如用液氮或液氦填充安装装置147A的内部空间148A，将物体接纳容器125冷却到深冷温度，从而可以在深冷温度下进行第一物体向物体接纳容器125的第一空腔131中以及第二物体像第二空腔132中的安装。此外，形成为弹簧的夹持单元135被棒状单元抬升(在图24中未示出)。棒状单元的抬升和降低例如利用滑槽引导件通过移动操作单元157A来进行(参见图25)。接着使支架150A转动可预设的角度。例如将支架150A如下转动(参见图26)，使得物体接纳容器125被定向为使得第一物体可以插入滑动装置170A中并且科通重力被引导到第一空腔131中。此外，将第一物体从保存容器171A中拿出并且安置并插入到滑动装置170A处。另外，将第二物体从保存容器171A中拿出并且安置并插入到滑动装置170A中。第二物体由于重力滑动到第二空腔132。尤其提出，如下定向物体接纳容器125，使得第一物体基本上垂直或垂直于滑动装置170A滑动到第一空腔131中。另外尤其提出，如下定向物体接纳容器125，使得第二物体基本上垂直或垂直于滑动装置170A滑动到第二空腔132中。接着通过棒状单元155将夹持单元135降低，使得将第一物体可靠地夹持式固定在物体接纳容器125的第一空腔131中并且将第二物体可靠地夹持式固定在第二空腔132中。

在一个实施方式中提出，接着使支架150A再次向原始位置转动该可预设的角度。然后物体接纳容器125例如可以布置在固定装置114处或者另外的固定装置114A处(参见图24)。固定装置114和另外的固定装置114A的不同之处在于其实体设计。例如，固定装置114只能用在用于研究、分析和/或加工的第一设备中。相反，另外的固定装置114A只能用在用于研究、分析和/或加工的第二设备中。替代于此提出，将物体接纳容器125插入运输盒172A中。然后用布置在固定装置150A处的盖子173A封闭运输盒172A。

在本说明书中、附图中以及在权利要求书中公开的本发明特征单独地以及以任意组合对于以其不同实施方式实现本发明而言是重要的。本发明并不受限于所说明的实施方式。本发明可以在权利要求书的范围内并且在考虑到相关领域技术人员的知识的情况下改变。

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附图标记清单

100 SEM

101 电子源

102 提取电极

103 阳极

104 射束引导管

105 第一会聚透镜

106 第二会聚透镜

107 第一物镜

108 第一挡板单元

108A 第一挡板开口

109 第二挡板单元

110 极靴

111 线圈

112 单独的电极

113 管状电极

114 固定装置

114A 另外的固定装置

115 扫描装置

116 第一检测器

116A 反向场格栅

117 第二检测器

118 第二挡板开口

119 样品室检测器

120 样品室

121 第三检测器

122 载物台

123 控制单元(处理器)

124 监视器

125 物体接纳容器

126 数据库

127 冷却和/或加热装置

128 温度测量单元

129 第一容器单元

130 第二容器单元

131 第一空腔

132 第二空腔

133 紧固装置

134 铰接装置

135 夹持单元

136 第一空腔的第一空腔开口

137 第二空腔的第一空腔开口

138 第一空腔的第二空腔开口

139 第二空腔的第二空腔开口

140 遮盖装置

141 第一弹簧末端

142 第二弹簧末端

143 第一接合开口

144 第二接合开口

145 第一容器单元的第一面

146 第二容器单元的第二面

147 安装装置

147A 另外的安装装置

148 内部空间

148A 另外的安装装置的内部空间

149 隔热壁部

149A 另外的安装装置的隔热壁部

150 支架

150A 另外的安装装置的支架

151 第一支架零件

152 第二支架零件

153 铰接件

154 支架的接收件

154A 另外的安装装置的支架的接收件

155 棒状单元

156 滑槽引导件

157 操作单元

157A 另外的安装装置的操作单元

158 第一物体

159 第二物体

160 第一固定件

161 第二固定件

162 固定装置的接收件

163 底板

164 第一接片

165 第二接片

166 第三接片

167 斜面

168 基体

170A 滑动装置

171A 保存容器

172A 运输盒

173A 盖子

200 组合设备

201 样品室

300 离子辐射设备

301 离子射束发生器

302 离子辐射设备中的提取电极

303 离子辐射设备的会聚透镜

304 第二物镜

306 可设定的或可选择的挡板

307 第一电极组件

308 第二电极组件

400 具有校正器单元的粒子辐射设备

401 粒子辐射柱

402 电子源

403 提取电极

404 阳极

405 第一静电透镜

406 第二静电透镜

407 第三静电透镜

408 磁性偏转单元

409 第一静电射束偏转单元

409A 第一多极单元

409B 第二多极单元

410 射束偏转装置

411A 第一磁性扇区

411B 第二磁性扇区

411C 第三磁性扇区

411D 第四磁性扇区

411E 第五磁性扇区

411F 第六磁性扇区

411G 第七磁性扇区

413A 第一镜面电极

413B 第二镜面电极

413C 第三镜面电极

414 静电反射镜

415 第四静电透镜

416 第二静电射束偏转单元

416A 第三多极单元

416B 第四多极单元

417 第三静电射束偏转单元

418 第五静电透镜

418A 第五多极单元

418B 第六多极单元

419 第一分析检测器

420 射束引导管

421 物镜

422 磁性透镜

423 第六静电透镜

424 载物台

425 物体接纳容器

426 样品室

427 检测射束路径

428 第二分析检测器

429 扫描装置

432 另外的磁性偏转元件

500 辐射检测器

600 第一移动元件

601 壳体

602 第二移动元件

603 第一载物台旋转轴线

604 第三移动元件

605 第四移动元件

606 第五移动元件

607 第二载物台旋转轴线

608 控制单元

709 第一射束轴线

710 第二射束轴线

800 光学显微镜

800A 用于加工物体的设备

801 光源

801A 加工装置

802 光学单元

M1 第一驱动单元

M2 第二驱动单元

M3 第三驱动单元

M4 第四驱动单元

M5 第五驱动单元

OA 光轴

OA1 第一光轴

OA2 第二光轴

OA3 第三光轴

S1至S17 方法步骤

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Claims (23)

1.一种用于接纳至少一个物体(158，159)的物体接纳容器(125)，该物体能够在深冷温度下被研究、分析和/或加工，该物体接纳容器具有

-至少一个第一容器单元(129)，

-用于接纳该物体(158，159)的至少一个空腔(131，132)，其中该空腔(131，132)布置在该第一容器单元(129)处，

-至少一个第二容器单元(130)，该第二容器单元形成为相对于该第一容器单元(129)能够移动，其中该第二容器单元(130)相对于该第一容器单元(129)能够进入第一位置和/或第二位置中，其中该第二容器单元(130)在该第二位置中时遮盖布置在该第一容器单元(129)处的空腔(131，132)，以及

-至少一个紧固装置(133)，该紧固装置布置在该第一容器单元(129)或该第二容器单元(130)处，以便将该物体接纳容器(125)布置在固定装置(114，114A)处。

2.根据权利要求1所述的物体接纳容器(125)，其中该第二容器单元(130)如下布置在推移装置处，使得该第二容器单元(130)相对于该第一容器单元(129)能够被推移到该第一位置和/或该第二位置中。

3.根据权利要求1或2所述的物体接纳容器(125)，其中该物体接纳容器(125)具有至少一个铰接装置(134)，该铰接装置如下地布置在该第一容器单元(129)处以及该第二容器单元(130)处，使得该第二容器单元(130)相对于该第一容器单元(129)能够进入该第一位置和/或该第二位置中。

4.根据以上权利要求之一所述的物体接纳容器(125)，其中该物体接纳容器(125)具有以下特征中的至少一个特征：

(i)该紧固装置(133)具有弹簧装置；

(ii)该紧固装置(133)具有夹持装置；

(iii)该紧固装置(133)具有第一夹持件和第二夹持件；

(iv)该紧固装置(133)具有卡环；

(v)该紧固装置(133)具有螺钉；

(vi)该紧固装置(133)具有偏心盘。

5.根据以上权利要求之一所述的物体接纳容器(125)，其中

-该紧固装置(133)具有至少一个第一弹簧末端(141)和至少一个第二弹簧末端(142)，

-该第一弹簧末端(141)和该第二弹簧末端(142)彼此间隔开，并且其中

-该第一弹簧末端(141)形成为相对于该第二弹簧末端(142)能够移动。

6.根据权利要求5所述的物体接纳容器(125)，其中

-该第一弹簧末端(141)具有用于接合操作工具的第一接合开口(143)，并且其中

-该第二弹簧末端(142)具有用于接合该操作工具的第二接合开口(144)。

7.根据以上权利要求之一所述的物体接纳容器(125)，其中

-该第一容器单元(129)具有第一面(145)，其中该第一面(145)布置在第一平面中，

-该第二容器单元(130)具有第二面(146)，其中该第二面(146)布置在第二平面中，

-在该第二容器单元(130)相对于该第一容器单元(129)的第二位置中，该第一容器单元(129)的该第一面(145)如下地贴靠该第二容器单元(130)的该第二面(146)，使得该空腔(131，132)被该第二容器单元(130)的该第二面(146)遮盖，并且其中

-在该第二容器单元(130)相对于该第一容器单元(129)的第一位置中，该第一容器单元(129)的该第一面(145)如下地相对于该第二容器单元(130)的该第二面(146)布置，使得该第一平面相对于该第二平面如下地定向：

(i)该第一平面并行于该第二平面定向；或者

(ii)该第一平面与该第二平面完全相同；或者

(iii)该第一平面以相对于该第二平面大于5°的角度定向。

8.根据以上权利要求之一所述的物体接纳容器(125)，其中

-该空腔(131，132)具有至少一个第一空腔开口(136，137)和至少一个第二空腔开口(138，139)，

-在该第二容器单元(130)相对于该第一容器单元(129)的第二位置中，该第二容器单元(130)遮盖该第一空腔开口(136，137)，并且其中

-在该第二空腔开口(138，139)处布置有用于遮盖该第二空腔开口(138，139)的遮盖装置(140)。

9.根据权利要求8所述的物体接纳容器(125)，其中该第一空腔开口(136，137)和该第二空腔开口(138，139)相反地布置。

10.根据权利要求8或9所述的物体接纳容器(125)，其中该遮盖装置(140)形成为滑动板装置。

11.一种物体固定系统，具有

-至少一个根据以上权利要求之一所述的物体接纳容器(125)，以及

-至少一个固定装置(114，114A)，该固定装置具有接收件(162)，其中该物体接纳容器(125)的该紧固装置(133)布置在该接收件(162)处。

12.一种辐射设备(100，200，400，800)，用于对物体(158，159)进行成像、分析和/或加工，该辐射设备具有

-至少一个射束发生器(101，301，402，801)，该射束发生器用于产生射束，

-至少一个物镜(107，304，421，802)，该物镜用于将该辐射聚焦到该物体(158，159)上，

-至少一个显示装置(124)，该显示装置用于显示该物体(158，159)的图像和/或分析，

-至少一个冷却装置(127)，该冷却装置用于将该物体(158，159)冷却到深冷温度，以及

-至少一个根据权利要求1至10之一所述的物体接纳容器(125)，该物体接纳容器布置在该冷却装置(127)处。

13.一种辐射设备(100，200，400，800)，用于对物体(158，159)进行成像、分析和/或加工，该辐射设备具有

-至少一个射束发生器(101，301，402，801)，该射束发生器用于产生射束，

-至少一个物镜(107，304，421，802)，该物镜用于将该辐射聚焦到该物体(158，159)上，

-至少一个显示装置(124)，该显示装置用于显示该物体(158，159)的图像和/或分析，

-至少一个冷却装置(127)，该冷却装置用于将该物体(158，159)冷却到深冷温度，以及

-至少一个根据权利要求11所述的物体固定系统，该物体固定系统布置在该冷却装置(127)处。

14.根据权利要求12或13所述的辐射设备(100，200，400)，其中

-该辐射设备(100，200，400)形成为粒子辐射设备，

-该射束发生器(101，301，402)被形成为用于产生具有带电粒子的粒子射束，

-该辐射设备具有至少一个扫描装置(115，307，308，429)，该扫描装置用于使该粒子射束在该物体(158，159)上扫过，并且

-该辐射设备(100，200，400)具有至少一个检测器(116，117，119，121，419，428，500)，该检测器用于检测由该粒子射束与该物体(158，159)的相互作用产生的相互作用粒子和/或相互作用辐射。

15.根据权利要求14所述的辐射设备(200)，其中该射束发生器(101)形成为第一射束发生器并且该粒子射束形成为具有第一带电粒子的第一粒子射束，其中该物镜(107)形成为用于将该第一粒子射束聚焦到该物体(158，159)上的第一物镜，并且其中该粒子辐射设备(200)还具有：

-至少一个第二射束发生器(301)，该第二射束发生器用于产生具有第二带电粒子的第二粒子射束；以及

-至少一个第二物镜(304)，该第二物镜用于将该第二粒子射束聚焦到该物体(158，159)上。

16.根据权利要求14或15所述的辐射设备(100，200，400)，其中该辐射设备(100，200，400)为电子辐射设备和/或离子辐射设备。

17.根据权利要求12至16之一所述的辐射设备(800)，其中

-该辐射设备(800)为光辐射设备，并且

-该射束发生器(801)被形成为用于产生光辐射。

18.一种用于加工物体(158，159)的设备(800A)，该设备具有

-至少一个加工装置(801A)，该加工装置用于加工该物体(158，159)，

-至少一个冷却装置(127)，该冷却装置用于将该物体(158，159)冷却到深冷温度，以及

-至少一个根据权利要求1至10之一所述的物体接纳容器(125)，该物体接纳容器布置在该冷却装置(127)处，或者至少一个根据权利要求11所述的物体固定系统，该物体固定系统布置在该冷却装置(127)处。

19.根据权利要求18所述的设备(800A)，其中该加工装置(801A)形成为：

(i)机械切割装置；和/或

(ii)激光切割装置；和/或

(iii)用于电子束诱导地在该物体(158，159)上沉积层的装置；和/或

(iv)用于离子束诱导地在该物体(158，159)上沉积层的装置；和/或

(v)溅射设备。

20.一种用于在深冷温度下对物体(158，159)进行研究、分析和/或加工的方法，该方法具有以下步骤：

(i)使用根据权利要求1至10之一所述的物体接纳容器(125)；

(ii)使用根据权利要求11所述的物体固定系统；

(iii)使用根据权利要求12至17之一所述的辐射设备(100，200，400，800)；

(iv)使用根据权利要求18或19所述的用于加工物体(158，159)的设备(800A)。

21.根据权利要求20所述的方法，具有以下步骤：

-使该第二容器单元(130)相对于该第一容器单元(129)相对移动，使得该第二容器单元(130)相对于该第一容器单元(129)占据该第一位置并且能够接近布置在该第一容器单元(129)处的该空腔(131，132)；

-将该物体(158，159)布置在该空腔(131，132)中；

-使该第二容器单元(130)相对于该第一容器单元(129)相对移动，使得该第二容器单元(130)占据该第二位置并且布置在该第一容器单元(129)中的空腔(131，132)被该第二容器单元(130)遮盖；

-通过将该物体接纳容器(125)的该紧固装置(133)布置在该固定装置(114，114A)的该接收件(162)处来将该物体接纳容器(125)布置在该固定装置(114，114A)处，使得该紧固装置(133)被固定在该接收件(162)处；

-将该固定装置(114，114A)引入到该辐射设备(100，200，400，800)中或者该用于加工该物体(158，159)的设备(800A)中；

-将该固定装置(114，114A)布置在该冷却装置(127)处；

-使该第二容器单元(130)相对于该第一容器单元(129)相对移动，使得该第二容器单元(130)占据该第一位置并且能够接近布置在该空腔(131，132)中的该物体(158，159)；以及

-用该辐射设备(100，200，400，800)或者用该用于加工该物体(158，159)的设备(800A)对该物体(158，159)进行研究、分析和/或加工。

22.根据权利要求21所述的方法，具有以下步骤：

-将该固定装置(114，114A)布置在运输装置处；

-将该运输装置引入到该辐射设备(100，200，400，800)中；以及

-将该运输装置布置在该冷却装置(127)处。

23.根据权利要求20或21所述的方法，具有以下步骤：

-使该遮盖装置(140)相对移动，以便遮盖或露出该第二空腔开口(138，139)。

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