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DE10010456B4 - Device for reference voltage generation in ferroelectric memories - Google Patents

Device for reference voltage generation in ferroelectric memories Download PDF

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Abstract

Ferroelektrische Speicheranordnung, bei der einander an den ferroelektrischen Speicherzellen kreuzende Bit- und Wortleitungen (CLT, BLC und WLT, WLC) und Plateleitungen PL vorgesehen sind und mit logisch "0" und logisch "1" beaufschlagte Referenzzellen am Ende der Wortleitung (WLT, WLC), an welche auch die ferroelektrischen Speicherzellen angeschlossen sind, entlang einer Referenzbitleitung (BLTREF, BLCREF) angeordnet sind, dadurch gekennzeichnet, dass die ferroelektrische Speicheranordnung einen "selective read"-Speicher bildet, bei dem eine „pulsed plate" (PL) parallel zur Bitleitung (BL) angeordnet ist, wobei pro Plateleitung (PL) acht Bitleitungen (BLT, BLC) und zwei Referenzbitleitungen vorgesehen und pro Referenzbitleitung eine Referenzzelle (R1T, R2T und R1C und R2C) jeweils für eine logische "0" und eine logische "1" mit der wahren Wortleitung (WLT) und der komplementären Wortleitung (WLC) gekoppelt sind.ferroelectric Memory arrangement in which crossing each other at the ferroelectric memory cells Bit and word lines (CLT, BLC and WLT, WLC) and patch lines PL are provided and acted upon by logic "0" and logic "1" Reference cells at the end of the word line (WLT, WLC), to which also the ferroelectric memory cells are connected along a Reference bit line (BLTREF, BLCREF) are arranged, characterized the ferroelectric memory arrangement has a "selective read" memory forms, where a "pulsed plate "(PL) is arranged parallel to the bit line (BL), wherein per Plateleitung (PL) eight bit lines (BLT, BLC) and two reference bit lines provided and per reference bit line a reference cell (R1T, R2T and R1C and R2C) each for a logical "0" and a logical "1" with the true wordline (WLT) and the complementary Word line (WLC) are coupled.

Figure 00000001
Figure 00000001

Description

Diese Erfindung betrifft eine ferroelektrische Speicheranordnung, bei der einander an den ferroelektrischen Speicherzellen kreuzende Bit- und Wortleitungen und Plateleitungen vorgesehen und mit logisch "0" und logisch "1" beaufschlagte Referenzzellen am Ende der Wortleitung, an welche auch die ferroelektrischen Speicherzellen angeschlossen sind, entlang einer Referenzbitleitung zur Erzeugung einer Referenzspannung angeordnet sind. Eine derartige ferroelektrische Speicheranordnung ist aus der DE 199 21 259 A1 bekannt.This invention relates to a ferroelectric memory device in which bit and word lines and platelet lines crossing each other at the ferroelectric memory cells are provided, and logic cells "0" and logic "1" are applied at the end of the word line to which the ferroelectric memory cells are also connected a reference bit line for generating a reference voltage are arranged. Such a ferroelectric memory device is known from the DE 199 21 259 A1 known.

Um bei Speichern die gespeicherte Information auszulesen und hinsichtlich ihres Informationsgehalts zu bewerten, wird neben dem eigentlichen Signal noch eine Referenzspannung benötigt. Bei DRAM-Speicherbausteinen ergibt sich die Referenzspannung automatisch aus der auf eine Mittenspannung VBLEQ vorgeladenen Bitleitung BL. Dieser Sachverhalt ist in den Impulsdiagrammen der beiliegenden 1A und 1B jeweils für eine logische "1" und eine logische "0" dargestellt.In order to read out the stored information during storage and to evaluate its information content, a reference voltage is required in addition to the actual signal. In the case of DRAM memory chips, the reference voltage results automatically from the bit line BL pre-charged to a center voltage VBLEQ. This fact is in the impulse diagrams of the enclosed 1A and 1B each represented for a logical "1" and a logical "0".

Bei ferroelektrischen Speichern hingegen bewirkt sowohl eine logische "0" als auch eine logische "1" des Informationssignals einen Anstieg der Bitleitungsspannung, so dass das Referenzniveau für den zum Auslesen verwendeten Differenzverstärker generiert werden muss.at By contrast, ferroelectric memories cause both a logical "0" and a logic "1" of the information signal to increase the bit line voltage, so that the reference level for the Reading used differential amplifier must be generated.

Die Impulszeitdiagramme der beiliegenden 2A und 2B veranschaulichen jeweils die Verhältnisse für eine logische "0" und eine logische "1" auf der Bitleitung. Die zu erzeugende Referenzspannung URef muss so generiert werden, dass sie etwa in der Mitte zwischen den Spannungsniveaus für die logische "0" und die logische "1" liegt.The pulse timing diagrams of the enclosed 2A and 2 B respectively illustrate the ratios for a logical "0" and a logical "1" on the bitline. The reference voltage U Ref to be generated must be generated so that it lies approximately in the middle between the voltage levels for the logical "0" and the logic "1".

Bekannte Lösungen sind in "1999 Symposium on VLSI Circuits", Seite 97, ff beschrieben, bei denen a) die Referenzspannung entweder über eine externe Spannungsquelle eingespeist oder b) über ein paar von Dummyzellen am Ende der Bitleitung erzeugt wird.Known solutions are in "1999 Symposium on VLSI Circuits ", Page 97, ff, in which a) the reference voltage either via a external voltage source is fed or b) via a few of dummy cells is generated at the end of the bit line.

Die im Stand der Technik vorgeschlagenen Lösungen haben folgende Nachteile:
Ein Spannungsgenerator verhält sich bei technologischen Schwankungen anders als Speicherzellen und kann somit nicht die optimale Spannung erzielen.
The solutions proposed in the prior art have the following disadvantages:
A voltage generator behaves differently in the case of technological fluctuations than memory cells and thus can not achieve the optimum voltage.

Referenz- oder Dummyzellen auf der Bitleitung können durch eine Vielzahl von Zugriffen anders altern als die eigentlichen Speicherzellen. Im schlimmsten Fall kann es vorkommen, dass auf die Referenz- oder Dummyzelle 1015 mal zugegriffen wird und danach die erzeugte Referenzspannung mit einer noch nicht benutzten Speicherzelle verglichen wird.Reference or dummy cells on the bit line can age differently than the actual memory cells due to a large number of accesses. In the worst case, it may happen that the reference or dummy cell 10 is accessed 15 times and then the generated reference voltage is compared with a not yet used memory cell.

Bei dem aus der DE 199 21 259 A1 bekannten ferroelektrischen Speicher sind Plateleitungen parallel zur Wortleitung geführt. Dies bedingt einen langsamen Zugriff, da alle Bits bei aktiver Wortleitung mit der Plateleitung verbunden sind. Ferner sind die Plateleitungen in einer die Bitleitungen und Referenzbitleitungen schneidenden Richtung ausgebildet und außerdem ist die Anzahl der Sense Amplifier gleich der Anzahl der Bitleitungen. Es werden also alle Bits entlang der Wortleitung aktiviert.In the from the DE 199 21 259 A1 known ferroelectric memory Plateleitungen are performed parallel to the word line. This requires a slow access, since all bits are connected to the Plateleitung with active word line. Further, the platelines are formed in a direction intersecting the bit lines and reference bit lines, and moreover, the number of sense amplifiers is equal to the number of bit lines. So all bits along the word line are activated.

Es ist deshalb Aufgabe der Erfindung, eine ferroelektrische Speicheranordnung mit einer aus Referenzzellen gebildeten Vorrichtung zur Referenzspannungserzeugung so anzugeben, dass ein sehr schneller und platzsparender Speicher mit alterungfreier Referenzspannungserzeugung ermöglicht werden kann.It It is therefore an object of the invention to provide a ferroelectric memory device with a device for reference voltage generation formed from reference cells so specify that a very fast and space-efficient memory be made possible with age-free reference voltage generation can.

Die Aufgabe wird anspruchsgemäß gelöst.The Task is solved according to the claim.

Gemäß einem wesentlichen Aspekt wird die obige Aufgabe bei einer gattungsgemäßen ferroelektrischen Speicheranordnung gelöst, die daurch gekennzeichnet ist, dass die ferroelektrische Speicheranordnung einen "selective read"-Speicher bildet, bei dem eine „pulsed plate" parallel zur Bitleitung angeordnet ist, wobei pro Plateleitung acht Bitleitungen und zwei Referenzbitleitungen vorgesehen und pro Referenzbitleitung eine Referenzzelle jeweils für eine logische "0" und eine logische "1" mit der wahren Wortleitung und der komplementären Wortleitung gekoppelt sind.According to one essential aspect is the above object in a generic ferroelectric Memory arrangement solved, which is characterized in that the ferroelectric memory device a "selective read "memory forms, where a "pulsed plate "parallel is arranged to the bit line, wherein per Plateleitung eight bit lines and provided two reference bit lines and per reference bit line a reference cell for each a logical "0" and a logical "1" with the true word line and the complementary Word line are coupled.

Bei der Erfindung ist für einen "selective read"-Speicher, eine "pulsed plate" parallel zur Bitleitung angeordnet, und es werden nur 8 Bits pro aktiver Wortleitung gelesen. Dabei ist jeweils eine Referenzzelle für eine logische "0" und eine logische "1" jeweils an der wahren Wortleitung und der komplementären Wortleitung angeordnet. Das in der eingangs erwähnten Druckschrift "199 Symposium on VLSI Circuits" beschriebene Problem, dass eine gepulste Plateleitung in einer Architektur mit einer parallel zur Bitleitung geführten Plateleitung Störungen bei unselektierten Zellkondensatoren hervorruft, wird bei der Erfindung dadurch gelöst, dass die Plateleitungsweite auf eine recht geringe Anzahl, nämlich die erwähnten 8 Bitleitungen und die 2 Referenzbits beschränkt ist.at the invention is for a "selective read" memory, a "pulsed plate" parallel to the bit line and only 8 bits are read per active word line. In each case, a reference cell for a logical "0" and a logical "1" respectively arranged on the true word line and the complementary word line. That in the aforementioned Publication "199 Symposium on VLSI Circuits " Problem that a pulsed Plateleitung in an architecture with a parallel to the bit line out Plateleitung interference at causes unselected cell capacitors is in the invention solved by that the Plateleitungsweite to a very small number, namely the mentioned 8 bit lines and the 2 reference bits is limited.

Der Kern der vorliegenden Erfindung liegt somit in der Kombination der Maßnahmen, einerseits Referenzzellen zur Erzeugung der Referenzspannung zu verwenden, um technologische Schwankungen richtig abzubilden und des weiteren diese Referenzzellen entlang der Wortleitung anzuordnen, so dass sie genauso oft angesprochen werden wie die eigentlichen Speicherzellen.The core of the present invention thus lies in the combination of the measures, on the one hand to use reference cells for generating the reference voltage to properly map technological fluctuations and further to arrange these reference cells along the word line so that they are addressed as often as the actual memory cells.

Nachfolgend wird die Erfindung anhand der Zeichnung näher erläutert. Es zeigen:following The invention will be explained in more detail with reference to the drawing. Show it:

1 ein Impulszeitdiagramm zur Erläuterung der Referenzspannungserzeugung bei DRAMs, 1 a pulse timing diagram for explaining the reference voltage generation in DRAMs,

2 ein Impulszeitdiagramm zur Erläuterung der Referenz-spannungslage bei ferroelektrischen Speichern, 2 a pulse timing diagram for explaining the reference voltage position in ferroelectric memories,

3 ein Schaltbild eines Ausführungsbeispiels einer erfindungsgemäßen Vorrichtung zur Referenzspannungserzeugung bei ferroelektrischen Speichern und 3 a circuit diagram of an embodiment of a device according to the invention for reference voltage generation in ferroelectric memories and

4A, B, C Impulszeitdiagramme zur Erläuterung der Funktion der in 3 gezeigten Schaltung. 4A , B, C Pulse timing diagrams for explaining the function of in 3 shown circuit.

Die Impulsdiagramme der 1 und 2 sind bereits erläutert worden.The momentum diagrams of 1 and 2 have already been explained.

3 zeigt beispielhaft eine Schaltungsanordnung eines ferroelektrischen Speichers in MOS-Technologie, bei dem eine "pulsed plate" PL <0> parallel zur Bitleitung angeordnet ist und der einen "selective read"-Speicher bildet, bei dem nur 8 bits pro aktiver Wortleitung ausgelesen werden. In 3 ist beispielhaft angenommen, dass in der ersten Zelle ganz links eine "1" gespeichert ist. Am Ende jeder Wortleitung WLT, WLC sind Referenz- oder Dummyzellen R1T, R2T und R1C, R2C angeordnet. Diese Referenzzellen sind jeweils entlang einer Referenzbitleitung BLTREF1, BLTREF2, BLCREF1, BLCREF2 angeordnet. Die Referenzzellen R1T, R2T werden mit dem Taktsignal ϕ1 über einen ersten MOS-Schalter S1 miteinander kurzgeschlossen und mit der Wortleitung WLT verbunden. Die Referenzzellen R1C und R2C werden über einen zweiten MOS-Schalter S2 mit dem Taktsignal ϕ2 miteinander kurzgeschlossen. Durch diese Verbindung entsteht auf der Bitleitung BL jeweils die gewünschte Referenzspannung. Die Wortleitung aktiviert die Speicherzelle, wird jedoch nicht mit der Bitleitung verbunden. 3 shows an example of a circuit arrangement of a ferroelectric memory in MOS technology, in which a "pulsed plate" PL <0> is arranged parallel to the bit line and forms a "selective read" memory in which only 8 bits per active word line are read. In 3 By way of example, it is assumed that a "1" is stored in the leftmost cell on the left. At the end of each word line WLT, WLC reference or dummy cells R1T, R2T and R1C, R2C are arranged. These reference cells are each arranged along a reference bit line BLTREF1, BLTREF2, BLCREF1, BLCREF2. The reference cells R1T, R2T are short-circuited with the clock signal φ1 via a first MOS switch S1 and connected to the word line WLT. The reference cells R1C and R2C are short-circuited to each other via a second MOS switch S2 with the clock signal φ2. This connection produces the desired reference voltage on the bit line BL. The wordline activates the memory cell but is not connected to the bitline.

Die Impulszeitdiagramme in 4A, B und C zeigen jeweils Signale, die in der in 3 gezeigten Schaltungsanordnung mit der erfindungsgemäßen Referenzspannungserzeugung auftreten. Der Vorgang beginnt zum Zeitpunkt t1(4B) mit der Vorderflanke des Wortleitungssignals WLT. Nach einer gewissen Zeitverzögerung geht MUX C tief, danach kommt die Vorderflanke des Taktsignals ϕ1, der den MOS-Schalter S1 durchschaltet, und damit die beiden Referenzzellen R1T und R2T durch die Dummybitleitung miteinander verbindet.The pulse timing diagrams in 4A , B and C each show signals which are in the in 3 shown circuit arrangement with the reference voltage generation according to the invention occur. The process starts at time t1 ( 4B ) with the leading edge of the word line signal WLT. After a certain time delay MUX C goes low, then comes the leading edge of the clock signal φ1, which turns on the MOS switch S1, and thus the two reference cells R1T and R2T by the dummy bit line interconnects.

Der linke Teil der 4C zeigt das Informationssignal "1" auf der wahren Bitleitung BLT und die mit Hilfe der erfindungsgemäßen Referenzzellen R1T und R2T erzeugte Referenzspannung während der Zeit des Taktes ϕ1.The left part of the 4C shows the information signal "1" on the true bit line BLT and the reference voltage generated by means of the inventive reference cells R1T and R2T during the time of the clock φ1.

Claims (3)

Ferroelektrische Speicheranordnung, bei der einander an den ferroelektrischen Speicherzellen kreuzende Bit- und Wortleitungen (CLT, BLC und WLT, WLC) und Plateleitungen PL vorgesehen sind und mit logisch "0" und logisch "1" beaufschlagte Referenzzellen am Ende der Wortleitung (WLT, WLC), an welche auch die ferroelektrischen Speicherzellen angeschlossen sind, entlang einer Referenzbitleitung (BLTREF, BLCREF) angeordnet sind, dadurch gekennzeichnet, dass die ferroelektrische Speicheranordnung einen "selective read"-Speicher bildet, bei dem eine „pulsed plate" (PL) parallel zur Bitleitung (BL) angeordnet ist, wobei pro Plateleitung (PL) acht Bitleitungen (BLT, BLC) und zwei Referenzbitleitungen vorgesehen und pro Referenzbitleitung eine Referenzzelle (R1T, R2T und R1C und R2C) jeweils für eine logische "0" und eine logische "1" mit der wahren Wortleitung (WLT) und der komplementären Wortleitung (WLC) gekoppelt sind.A ferroelectric memory device in which bit and word lines crossing each other at the ferroelectric memory cells (CLT, BLC and WLT, WLC) and platelines PL are provided and reference cells loaded with logic "0" and logic "1" at the end of the word line (WLT, WLC ), to which the ferroelectric memory cells are also connected, are arranged along a reference bit line (BLTREF, BLCREF), characterized in that the ferroelectric memory arrangement forms a "selective read" memory in which a "pulsed plate" (PL) runs parallel to the 8 bit lines (BLT, BLC) and two reference bit lines per reference line, and one reference cell (R1T, R2T and R1C and R2C) for each logical "0" and logic "1" bit line (BL) "are coupled to the true word line (WLT) and the complementary word line (WLC). Ferroelektrische Speicheranordnung nach Anspruch 1 dadurch gekennzeichnet, dass sich die Segmentierung der acht Bitleitungen und der zwei Referenzbitleitungen pro Plateleitung entlang der Wortleitung (WLT, WLC) wiederholt.Ferroelectric memory arrangement according to claim 1, characterized in that the segmentation of the eight bit lines and the two reference bit lines per plateline along the word line (WLT, WLC) repeated. Ferroelektrische Speicheranordnung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die mit der wahren Wortleitung (WLT) gekoppelten Referenzzellen (R1T, R2T) mit einem ersten Taktsignal (ϕ1), mit dem die komplementäre Bitleitung (BLC) getaktet wird über einen ersten MOS-Schalter (S1) miteinander kurzgeschlossen werden, und dass die mit der komplementären Wortleitung (WLC) verbundenen Referenzzellen (R1C, R2C) mit einem zweiten Taktsignal (ϕ2), mit dem die wahren Bitleitungen und die zwei Referenzbitleitungen (BLT) getaktet werden, über einen zweiten MOS-Schalter (S2) miteinander kurzgeschlossen werden.Ferroelectric memory arrangement according to claim 1 or 2, characterized in that the with the true word line (WLT) coupled reference cells (R1T, R2T) with a first clock signal (φ1), with the the complementary one Bit line (BLC) is clocked via a first MOS switch (S1) are shorted together, and that with the complementary Word line (WLC) connected reference cells (R1C, R2C) with a second clock signal (φ2), with which the true bit lines and the two reference bit lines (BLT) are clocked via one second MOS switch (S2) are shorted together.
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5121353A (en) * 1989-07-06 1992-06-09 Kabushiki Kaisha Toshiba Ferroelectric capacitor memory circuit MOS setting and transmission transistor
DE19921259A1 (en) * 1998-05-13 1999-11-18 Lg Semicon Co Ltd Drive circuit for non-volatile RAM-type ferroelectric memory
US5999439A (en) * 1995-09-11 1999-12-07 Micron Technology, Inc. Ferroelectric memory using ferroelectric reference cells

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5121353A (en) * 1989-07-06 1992-06-09 Kabushiki Kaisha Toshiba Ferroelectric capacitor memory circuit MOS setting and transmission transistor
US5999439A (en) * 1995-09-11 1999-12-07 Micron Technology, Inc. Ferroelectric memory using ferroelectric reference cells
DE19921259A1 (en) * 1998-05-13 1999-11-18 Lg Semicon Co Ltd Drive circuit for non-volatile RAM-type ferroelectric memory

Non-Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
SHEIKHOLESLAMI, A., GULAK, P.G.: "A survey of circuit innovations in ferroelectric random- access memories" Proceedings of the IEEE, Bd. 88, Nr. 5, Mai 2000, 667-689 *
WOMACK, R., TOLSCH D.: "A 16 kb ferroelectric non- volatile memory with a bit parallel architecture", ISSCC Dig.Tech. Papers, 1989, 242-243, 351
WOMACK, R., TOLSCH D.: "A 16 kb ferroelectric non-volatile memory with a bit parallel architecture",ISSCC Dig.Tech. Papers, 1989, 242-243, 351 *
YEONBAE CHUNG ET AL: "A 3.3-V 4-Mb nonvolatile ferroelectric RAM with a selectively-driven double-pulsed plate read/write-back scheme" Sympo-sium on VLSI Circuits, Digest of Technical Papers,17-19. Juni 1999, 97-98 *
YEONBAE CHUNG; MUN-KYU CHOI; SEUNG-KYU OH; BYUNG- GIL JEON; KANG-DEOG SU: "A 3.3-V 4-Mb nonvolatile ferroelectric RAM with a selectively-driven double-pulsed plate read/write-back scheme" Sympo- sium on VLSI Circuits, Digest of Technical Papers, 17-19. Juni 1999, 97-98

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