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DE102009012516B4 - Multi-layer substrate for highly integrated module - Google Patents

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DE102009012516B4
DE102009012516B4 DE102009012516A DE102009012516A DE102009012516B4 DE 102009012516 B4 DE102009012516 B4 DE 102009012516B4 DE 102009012516 A DE102009012516 A DE 102009012516A DE 102009012516 A DE102009012516 A DE 102009012516A DE 102009012516 B4 DE102009012516 B4 DE 102009012516B4
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Abstract

Mehrlagensubstrat (MLS), umfassend
– einen IC-Chip (IC), eine Bezugsmasselage (BML) und einen Balun (BU),
– eine oder mehrere untere Lagen (UL) eines dielektrischen Materials mit Dielektrizitätskonstante εu,
– eine oder mehrere obere Lagen (OL) eines dielektrischen Materials mit Dielektrizitätskonstante εo,
– eine oder mehrere zwischen den unteren und den oberen Lagen angeordnete mittlere Lagen (ML) eines dielektrischen Materials mit Dielektrizitätskonstante εm,
– strukturierte Metallisierungsflächen (SMF), die zwischen oder auf den Lagen (UL, ML, OL) angeordnet sind,
– strukturierte Metallisierungsleitungen (SML), die zwischen oder auf den Lagen (UL, ML, OL) angeordnet sind,
– ein aus mindestens zwei strukturierten Metallisierungsflächen (SMF) und aus mindestens einer dazwischen angeordneten mittleren Lage (ML) gebildetes kapazitives Element (KE),
– ein aus strukturierten Metallisierungsleitungen (SML) gebildetes induktives Element (IE), welches in direktem Kontakt zur oberen Lage (OL) oder unteren Lage (UL) angeordnet ist, wobei
– εm >=...
Multi-layer substrate (MLS) comprising
An IC chip (IC), a reference bulk layer (BML) and a balun (BU),
One or more lower layers (UL) of a dielectric material having a dielectric constant ε u ,
One or more upper layers (OL) of a dielectric material having a dielectric constant ε o ,
One or more middle layers (ML) of a dielectric material with dielectric constant ε m arranged between the lower and the upper layers,
Structured metallization areas (SMF) arranged between or on the layers (UL, ML, OL),
Structured metallization lines (SML) arranged between or on the layers (UL, ML, OL),
A capacitive element (KE) formed from at least two structured metallization areas (SMF) and from at least one middle layer (ML) arranged therebetween,
An inductive element (IE) formed of patterned metallization lines (SML) arranged in direct contact with the top layer (OL) or bottom layer (UL), wherein
- ε m > = ...

Figure 00000001
Figure 00000001

Description

Die Erfindung betrifft ein Mehrlagensubstrat zur Aufnahme von Schaltungskomponenten eines hochintegrierten Moduls.The The invention relates to a multi-layer substrate for receiving circuit components a highly integrated module.

Moderne Kommunikationsgeräte umfassen eine Vielzahl an elektrischen und elektronischen Komponenten in Sende- und Empfangsschaltungen. Dazu zählen zum einen aktive Komponenten wie rauscharme Verstärker, Mischer, Oszillatoren, Schaltelemente und Leistungsverstärker. Diese und evtl. weitere aktive Komponenten sind im Allgemeinen in einem oder mehreren Chips integriert, die integrierte Schaltkreise umfassen. In einem sog. Transceiver-IC z. B. können die aktiven Komponenten von Sende- und Empfangsschaltung zusammengefasst sein. Die ferner in modernen Kommunikationsgeräten enthaltenen Hochfrequenzschaltungskomponenten wie Bandpassfilter, Baluns, ohmsche Widerstände, Kondensatoren, Spulen oder Varistoren werden im Allgemeinen als passive Schaltungskomponenten ausgeführt. Schaltungskomponenten wie Antennenschalter, Bandpassfilter (z. B. mit Oberflächenwellen arbeitende Filter), Baluns und Impedanzanpassschaltungen werden häufig in einem sog. Frontend-Modul zusammengefasst. Werden alle Schaltungskomponenten von Sende- und Empfangspfaden eines mobilen Kommunikationsgeräts auf der Oberfläche einer Leiterplatte angeordnet, so beanspruchen diese Komponenten auf der Leiterplatine sehr viel Platz. Dem anhaltenden Trend zur Miniaturisierung von mobilen Kommunikationsgeräten folgt die Forderung nach einem verringerten Platzbedarf der Gesamtheit der Komponenten. Die Miniaturisierung ist nach wie vor die wichtigste Forderung, vor allem aus der Mobilfunkbranche, um Endgeräte noch weiter verkleinern, vor allem aber mit zusätzlichen Funktionen ausstatten zu können. Diesem Trend wird durch einen immer weiter gehenden Integrationsgrad Rechnung getragen. In Modulen auf LTCC-Basis werden beispielsweise aktive Schaltkreise umfassende Chips und passive Hochfrequenzschaltungskomponenten vertikal in Metallisierungsebenen, die durch dielektrische Lagen voneinander getrennt sind, integriert.modern communications equipment include a variety of electrical and electronic components in transmitting and receiving circuits. These include on the one hand active components like low-noise amplifiers, Mixers, oscillators, switching elements and power amplifiers. These and possibly other active components are generally in one or multiple chips incorporating integrated circuits. In a so-called transceiver IC z. For example, the active components be summarized by transmitting and receiving circuit. The further in modern communication devices contained high-frequency circuit components such as bandpass filters, Baluns, ohmic resistances, Capacitors, coils or varistors are generally referred to as passive circuit components executed. circuit components like antenna switches, bandpass filters (eg with surface waves working filters), baluns and impedance matching circuits often summarized in a so-called front-end module. Become all circuit components of transmitting and receiving paths of a mobile communication device on the surface a printed circuit board, so claim these components on the printed circuit board a lot of space. The ongoing trend towards Miniaturization of mobile communication devices follows the demand for a reduced space requirement of the entirety of the components. The Miniaturization is still the most important requirement before everything from the mobile industry, to downsize terminals even further ago but all with additional To equip functions. This trend is due to an ever-increasing degree of integration Taken into account. For example, in modules based on LTCC active circuits comprising chips and passive high frequency circuit components vertically in metallization levels caused by dielectric layers are separated from each other, integrated.

Aus der Druckschrift US 7,167,688 B2 beispielsweise sind Hochfrequenztransceivermodule bekannt, bei denen aktive und passive Hochfrequenzschaltungskomponenten in einem Mehrlagensubstrat vertikal integriert sind. Aktive Schaltungskomponenten umfassende Chips sowie Chips, die mit akustischen Oberflächenwellen arbeitende Schaltungskomponenten umfassen, sind auf einer Oberfläche eines Mehrlagensubstrats angeordnet und mit passiven Komponenten, die in Metallisierungsebenen zwischen den dielektrischen Lagen angeordnet sind, verschaltet.From the publication US 7,167,688 B2 For example, high frequency transceiver modules are known in which active and passive high frequency circuit components are vertically integrated in a multi-layer substrate. Chips incorporating active circuit components as well as chips incorporating surface acoustic wave circuit components are disposed on a surface of a multi-layer substrate and interconnected with passive components disposed in metallization planes between the dielectric layers.

Aus der Patentschrift DE 10 2006 059 137 B3 sind mehrlagige Array Antennen für Magnetresonanzanwendungen mit unterschiedlichen Dielektrizitätszahlen bekannt.From the patent DE 10 2006 059 137 B3 Multi-layer array antennas are known for magnetic resonance applications with different dielectric constants.

Aus der Druckschrift US 2002/0009577 A1 sind Mehrlagensubstrate für elektrische Bauelemente mit Lagen unterschiedlicher Dielektrizitätszahlen bekannt.From the publication US 2002/0009577 A1 Multi-layer substrates for electrical components with layers of different dielectric constants are known.

Die Druckschrift DE 100 53 205 A1 beschreibt Frontendschaltungen für drahtlose Übertragungssysteme.The publication DE 100 53 205 A1 describes frontend circuits for wireless transmission systems.

Aus der Druckschrift DE 102 28 328 A1 ist ein elektronisches Bauelement mit einem Mehrlagensubstrat und passive Schaltungskomponenten als strukturierte Metallisierungen bekannt.From the publication DE 102 28 328 A1 For example, an electronic component with a multilayer substrate and passive circuit components are known as structured metallizations.

Ein Problem des Stands der Technik ist, dass das für Schaltungskomponenten zur Verfügung stehende Volumen in mobilen Kommunikationsgeräten durch den andauernden Trend zur Miniaturisierung abnimmt, während die Komplexität von Sende- und Empfangsschaltungen aufgrund zusätzlich zu realisierender Funktionen weiter zunimmt. Es besteht also ein Bedarf an elektrischen Bauteilen, welche trotz einer hohen Zahl an Schaltungskomponenten ein geringes Volumen bzw. einen geringen Platzbedarf – d. h. eine geringe Baubreite und eine geringe Bauhöhe- aufweisen. Es besteht weiterhin ein Bedarf an elektrischen Bauteilen und Substraten, welche für eine Vielzahl an unterschiedlichen integrierten Schaltungskomponenten eine geeignete, vielseitig nutzbare räumliche Umgebung vorsehen.One The problem of the prior art is that for circuit components for disposal standing volumes in mobile communication devices due to the ongoing trend for miniaturization decreases while the complexity of transmitting and receiving circuits due to additional functions to be realized continues to increase. So there is a need for electrical components, which despite a high number of circuit components a low Volume or a small footprint - d. H. a small width and a low overall height exhibit. There is still a need for electrical components and substrates which are for a Variety of different integrated circuit components provide a suitable, versatile spatial environment.

Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es daher, elektrische Bauteile mit verringertem Platzbedarf bei gleicher oder erhöhter Funktionalität mit einer vielseitig nutzbaren räumlichen Umgebung anzugeben.task The present invention is therefore, electrical components with reduced space requirement for the same or increased functionality with a versatile usable spatial Specify the environment.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch ein Mehrlagensubstrat nach Anspruch 1 gelöst. Vorteilhafte Ausgestaltungen ergeben sich aus den Unteransprüchen.These The object is achieved by a Multi-layer substrate solved according to claim 1. Advantageous embodiments emerge from the dependent claims.

Es wird ein Mehrlagensubstrat angegeben, das eine untere Lage eines dielektrischen Materials mit Dielektrizitätskonstante ∊u, eine obere Lage eines dielektrischen Materials mit Dielektrizitätskonstante ∊o und eine zwischen oberer und unterer Lage angeordnete mittlere Lage eines dielektrischen Materials mit Dielektrizitätskonstante ∊m umfasst. Zwischen oder auf den Lagen sind strukturierte Metallisierungsflächen und strukturierte Metallisierungsleitungen angeordnet. Ein kapazitives Element ist aus mindestens zwei strukturierten Metallisierungsflächen und aus mindestens einer dazwischen angeordneten mittleren Lage gebildet. Ein induktives Element ist aus strukturierten Metallisierungsleitungen gebildet. Dieses ist in direktem Kontakt zur oberen Lage oder zur unteren Lage angeordnet. Die Dielektrizitätskonstante ∊m der mittleren Lage ist größer gleich dem 1,5-Fachen der Dielektrizitätskonstante der unteren Lage sowie größer gleich dem 1,5-Fachen der Dielektrizitätskonstante der oberen Lage. Ein Mehrlagensubstrat mit Mischkeramik, deren mittlere Lagen eine höhere Dielektrizitätskonstante aufweisen als obere und untere Lagen, weist folgende Vorteile auf: Durch eine erhöhte Dielektrizitätskonstante steigt die Kapazität eines kapazitiven Elements, wenn die Flächenbelegung im Mehrlagensubstrat und die Lagendicke der dielektrischen Lage konstant bleiben. Dies ist gleichbedeutend mit dem so erreichbaren Effekt, dass sich der laterale Flächenbedarf bei gleich bleibender Kapazität reduziert. Dies ist insbesondere bedeutend, wenn die Reproduzierbarkeit der Lagendicke durch eine Abnahme der Lagendicke verschlechtert würde, was mit dem erfindungsgemäßen Mehrlagensubstrat vermieden wird, da dieses z. B. höhere Kapazitäten ohne Verminderung der Dicke einer Lage ermöglicht. Der laterale Platzbedarf ist also verringert und die Lagendicke muss nicht verringert werden. Die Anordnung von Spulen ausbildenden Streifenleitungen/strukturierten Metallisierungsleitungen in Metallisierungsebenen zwischen dielektrischen Lagen niedriger Dielektrizitätskonstante bewirkt eine verringerte Kopplung zwischen den Metallisierungsleitungen verschiedener Metallisierungsebenen (parasitäre Kapazitäten), wodurch der Gütefaktor des entsprechenden induktiven Elements erhöht und Verluste reduziert sind. Allgemein gilt: Die Erfindung stellt unterschiedlichen Schaltungskomponenten mit unterschiedlichen Anforderungen an ein Mehrlagensubstrat ein solches Substrat zur Verfügung, welches besser – da individueller – an diese Anforderungen angepasst werden kann. Jedes integrierte Schaltungselement verfügt über eine – bezüglich der Dielektrizitätskonstanten oder der Lagendicke – individuell angepasste räumliche Umgebung.A multilayer substrate is specified, which comprises a lower layer of a dielectric material having a dielectric constant ε u , an upper layer of a dielectric material having a dielectric constant ε o, and a middle layer of a dielectric material having a dielectric constant ε m arranged between the upper and lower layers. Between or on the layers, structured metallization surfaces and structured metallization lines are arranged. A capacitive element is formed from at least two structured metallization areas and from at least one middle layer arranged therebetween. An inductive element is formed from structured metallization lines. This is arranged in direct contact with the upper layer or the lower layer. The dielectric constant ε m of the middle layer is greater than or equal to 1.5 times the dielectric constant of the lower layer and greater than or equal to 1.5 times the dielectric constant of the upper layer. A multilayer substrate with mixed ceramic whose middle layers have a higher dielectric constant than upper and lower layers has the following advantages: Increasing the dielectric constant increases the capacitance of a capacitive element if the area occupancy in the multilayer substrate and the layer thickness of the dielectric layer remain constant. This is equivalent to the effect that can be achieved in such a way that the lateral area requirement is reduced while the capacity remains the same. This is particularly significant if the reproducibility of the layer thickness would be degraded by a decrease in the layer thickness, which is avoided with the multilayer substrate according to the invention, since this z. B. allows higher capacities without reducing the thickness of a layer. The lateral space requirement is thus reduced and the layer thickness does not have to be reduced. The provision of coil forming striplines / patterned metallization lines in metallization planes between low dielectric constant dielectric layers results in reduced coupling between the metallization lines of different metallization levels (parasitic capacitances), thereby increasing the Q of the corresponding inductive element and reducing losses. In general, the invention provides different circuit components with different requirements for a multi-layer substrate such a substrate available, which better - because individual - can be adapted to these requirements. Each integrated circuit element has a - with respect to the dielectric constant or the layer thickness - individually adapted spatial environment.

Die zwischen verschiedenen Metallisierungsebenen angeordneten Schaltungskomponenten sind über Durchkontaktierungen durch die dielektrischen Lagen miteinander verschaltet.The between different metallization levels arranged circuit components are about Vias through the dielectric layers together connected.

Weiterhin ist ein integrierte Schaltungen umfassender Chip – im Folgenden IC-Chip genannt – in oder auf dem Substrat montiert. Er kann mit im Substrat integrierten Schaltungselementen verschaltet sein. Ein solcher Chip kann Schaltungskomponenten einer Transceiverschaltung umfassen. Insbesondere ist es bevorzugt, wenn er alle Schaltungskomponenten einer Transceiverschaltung umfasst.Farther is an integrated circuits comprehensive chip - below Called IC chip - in or mounted on the substrate. It can be integrated with in the substrate Circuit elements be interconnected. Such a chip can be circuit components of a Transceiver circuit include. In particular, it is preferred if it comprises all the circuit components of a transceiver circuit.

Das Mehrlagensubstrat weist einerseits einen IC-Chip auf, der auf der Oberfläche der obersten oberen Lage angeordnet ist, und andererseits ist ein Balun integriert, der eine Verschaltung aus kapazitiven Elementen, strukturierten Metallisierungsflächen, strukturierten Metallisierungsleitungen und eine Bezugsmasselage umfasst, wobei die Bezugsmasselage auf der obersten oberen Lage angeordnet ist und als Montagefläche des IC-Chips dient. Dabei sind die weiteren Schaltungskomponenten des Baluns vertikal unterhalb der Bezugsmasselage angeordnet. Die Bezugsmasselage ist vorzugsweise mit Masse verschaltet.The Multilayer substrate has on the one hand an IC chip on the surface the uppermost layer is disposed, and on the other hand is a balun integrated, which is an interconnection of capacitive elements, structured metallization, structured metallization lines and a reference ground layer includes, wherein the reference ground layer on the uppermost upper layer is arranged and as a mounting surface of the IC chip is used. Here are the other circuit components of the balun vertically below the reference ground layer. The Reference ground layer is preferably connected to ground.

In einer vorteilhaften Ausgestaltung sind die Dielektrizitätskonstanten der unteren und der oberen Lage εu und εo größer gleich 6 und kleiner gleich 10, während die Dielektrizitätskonstante εm der mittleren Lage größer gleich 15 und kleiner gleich 25 ist.In an advantageous embodiment, the dielectric constants of the lower and upper layers ε u and ε o are greater than or equal to 6 and less than 10, while the dielectric constant ε m of the middle layer is greater than or equal to 15 and less than or equal to 25.

Das Mehrlagensubstrat umfasst vorzugsweise mindestens eine Lage aus LTCC (Low Temperature Cofired Ceramics, HTCC (High Temperature Cofired Ceramics) oder Laminat.The Multilayer substrate preferably comprises at least one layer LTCC (Low Temperature Cofired Ceramics, HTCC (High Temperature Cofired Ceramics) or laminate.

Weiterhin ist es bevorzugt, wenn das Mehrlagensubstrat mindestens drei dielektrische Lagen aufweist, die bezüglich ihrer Dielektrizitätskonstanten symmetrisch um die mittlere Lage als Spiegelebene angeordnet sind.Farther it is preferable if the multi-layer substrate at least three dielectric Has layers that respect their dielectric constant symmetrical are arranged around the middle layer as a mirror plane.

In einer weiteren besonders bevorzugten Ausgestaltung umfasst das Mehrlagensubstrat Durchkontaktierungen durch zumindest eine der Lagen und Metallisierungsleitungen, die Teile der Signalpfade ausbilden. Die Metallisierungsleitungen dienen der Verschaltung von Schaltungskomponenten der Transceiverschaltung mit weiteren – z. B. passiven – Schaltungskomponenten, die in dem Mehrlagensubstrat realisiert sind. Solche Schaltungskomponenten können Impedanzanpassschaltungen, Baluns (sog. „balanced-unbalanced” Konverter; Symmetrier-Anpassschaltungen), Sende- oder Empfangsfilter oder andere Teile einer Frontend-Schaltung sein.In In a further particularly preferred embodiment, the multi-layer substrate comprises vias by at least one of the layers and metallization lines that Form parts of the signal paths. The metallization lines serve the interconnection of circuit components of the transceiver circuit with further - z. B. passive - circuit components, which are realized in the multi-layer substrate. Such circuit components can Impedance matching circuits, Baluns (so-called "balanced-unbalanced" converter; Symmetrizing matching circuits) Transmit or receive filter or other parts of a front-end circuit be.

Insbesondere Ausgestaltungen, in denen eine Sendefilterschaltung mit einem eine Verschaltung aus z. B. passiven Reaktanzelementen umfassenden Sendefilter, die mit einem Sendesignalpfad der Transceiverschaltung verschaltet ist, und eine Empfangsfilterschaltung mit einem mit akustischen Wellen arbeitenden Empfangsfilter mit einem Empfangssignalpfad der Transceiverschaltung verschaltet ist, stellen bevorzugte Ausführungsformen dar.Especially Embodiments in which a transmission filter circuit with a a Interconnection from z. B. passive reactance elements comprising transmission filter, which is connected to a transmission signal path of the transceiver circuit and a receiving filter circuit having acoustic waves operating receive filter with a received signal path of the transceiver circuit is interconnected, represent preferred embodiments.

Sowohl im Sendesignalpfad als auch im Empfangssignalpfad kann ein Balun verschaltet sein. Ein Balun ist ein Schaltungselement, das „balanced” (= symmetrisch) geführte Signale in „unbalanced” (d. h. gegen Masse) geführte Signale konvertiert oder umgekehrt „unbalanced” geführte Signale in „balanced” geführte Signale konvertiert. Ein entsprechender Balun umfasst vorzugsweise eine Verschaltung aus kapazitiven und induktiven Elementen, welche als strukturierte Metallisierungsflächen oder strukturierte Metallisierungsleitungen zwischen oder auf den dielektrischen Lagen ausgebildet sind.A balun can be connected both in the transmission signal path and in the reception signal path. A balun is a circuit element that converts balanced signals into unbalanced signals, or conversely converts unbalanced signals into balanced signals. A corresponding balun preferably comprises an interconnection of capacitive and inductive elements, which are formed as structured metallization areas or structured metallization lines between or on the dielectric layers.

Die Hochfrequenzsignale, mit denen eine Antenne eine Front-End-Schaltung versorgt, sind in der Regel „unbalanced” geführt. Der Vorteil von „balanced” geführten Signalleitungen besteht darin, dass Gleichtaktstörungen effektiv unterdrückt werden, da ein Störsignal, welches beiden „balanced” geführten Signalleitungen aufgeprägt wird, wirkungsvoll durch Differenzbildung wieder eliminiert werden kann. Nämlich dann, wenn eine Störung beiden „balanced” geführten Signalleitungen gleichsam aufgeprägt ist. Dadurch sind das „Signal-to-Noise” Verhältnis und die Empfindlichkeit erhöht und die Störfestigkeit verbessert.The High-frequency signals with which an antenna supplies a front-end circuit, are usually "unbalanced". Of the Advantage of "balanced" guided signal lines is that common-mode noise effectively suppressed be because a jamming signal, which two "balanced" guided signal lines imprinted is effectively eliminated by subtraction again. Namely then, if a fault both "balanced" guided signal lines as it were impressed is. This is the "signal-to-noise" ratio and the sensitivity increases and immunity to interference improved.

Insbesondere die Komponenten von Impedanzanpasselementen können in einem Mehrlagensubstrat integriert werden. So ist es vorteilhaft, wenn die kapazitiven und induktiven Elemente der Verschaltung eines Impedanzelements als strukturierte Metallisierungsflächen oder strukturierte Metallisierungsleitungen zwischen oder auf den Lagen ausgebildet sind.Especially the components of impedance matching elements may be in a multi-layer substrate to get integrated. So it is advantageous if the capacitive and inductive elements of the interconnection of an impedance element as structured metallization surfaces or structured metallization lines between or on the Layers are formed.

Ein im Sendesignalpfad verschalteter Sendeverstärker ist vorzugsweise auf der Substratoberfläche angeordnet. Auch ein Empfangsverstärker, der im Empfangssignalpfad verschaltet ist, ist bevorzugt auf der Substratoberfläche angeordnet. Der Chip, in dem der Sendeverstärker oder der Empfangsverstärker integriert ist oder allgemeiner, jeder Chip, der integrierte aktive Schaltungskomponenten oder passive Schaltungskomponenten wie SAW-Filter oder BAW-Filter umfasst, ist auf der oberen Lage angeordnet und verschaltet. Insbesondere aktive Hochfrequenzschaltungskomponenten umfassende Chips sind vorzugsweise oberhalb einer auf der oberen Lage angeordneten strukturierten Metallisierungsfläche angeordnet und – z. B. mit strukturierten Metallisierungsleitungen oder Durchkontaktierungen – verschaltet. Die Verschaltung kann dabei in Wire-Bond-Technologie oder in Flip-Chip-Technologie ausgeführt sein. Möglich sind auch Ausgestaltungen, in denen einige Chips in Wire-Bond-Technologie verschaltet und andere Chips in Flip-Chip-Technologie verschaltet sind. Auch in SMD (SMD = surface mounted device) Technik montierte Chips können eingesetzt werden.One in the transmission signal path interconnected transmission amplifier is preferably on the substrate surface arranged. Also a receive amplifier, in the receive signal path is connected, is preferably arranged on the substrate surface. The chip in which the transmission amplifier or the receiving amplifier is more integrated or more general, each chip, the integrated active Circuit components or passive circuit components such as SAW filters or BAW filter is arranged on the upper layer and connected. In particular, high frequency active circuit components Comprehensive chips are preferably above one on the top Position arranged structured metallization arranged and Z. B. with structured Metallisierungsleitungen or vias - interconnected. The interconnection can be embodied in wire-bond technology or in flip-chip technology. Possible are also embodiments in which some chips in wire-bond technology interconnected and other chips interconnected in flip-chip technology are. Also mounted in SMD (SMD = surface mounted device) technology Chips can be used.

Großflächig auf einer der Substratoberflächen angeordneten Metallisierungsflächen können zur HF-Abschirmung dienen. Dazu sind sie vorzugsweise mit Masse verschaltet. Solche großflächigen Metallisierungsebenen dienen insbesondere zum Schutz von Schaltungskomponenten vor den störenden elektromagnetischen Emissionen aktiver Schaltungskomponenten in einem Chip, d. h. vor unerwünschten Hochfrequenzsignalen. Dazu sind sie z. B. auf der Oberseite der obersten der oberen Lagen entsprechend unterhalb des Chips angeordnet. Die großflächigen Metallisierungsebenen können lokalisierte nicht leitende Bereiche auf der Oberfläche des Mehrlagensubstrats umschließen, welche beispielsweise Durchkontaktierungen umfassen und über welche die Chips mit internen Signalleitungselementen verschaltet sein können.Large area on one of the substrate surfaces arranged metallization can to HF shielding serve. For this purpose, they are preferably connected to ground. Such large-scale metallization levels serve in particular for the protection of circuit components from the disturbing electromagnetic emissions of active circuit components in a chip, d. H. against unwanted Radio frequency signals. These are z. B. on top of the arranged uppermost of the upper layers corresponding below the chip. The large-scale metallization levels can located non-conductive areas on the surface of the multi-layer substrate enclose, which comprise, for example, plated-through holes and via which the chips be interconnected with internal signal line elements can.

Dadurch ist eine hohe Isolation zwischen den aktiven Hochfrequenzkomponenten, z. B. in einem Transceiverchip und den integrierten passiven Elementen im Mehrlagensubstrat gewährleistet.Thereby is a high isolation between the active high frequency components, z. In a transceiver chip and the integrated passive elements ensured in multi-layer substrate.

Als Balun kommt insbesondere ein sog. Marchand-Balun in Frage, der miteinander gekoppelte strukturierte Metallisierungsleitungen und kapazitive Elemente umfasst. Durch die Verschaltung von kapazitiven Elementen in einem Balun können Streifenleiter des Baluns – sog. strip lines – verkürzt ausgeführt werden.When Balun comes in particular a so-called Marchand balun in question, the one with each other coupled structured metallization lines and capacitive elements includes. Through the interconnection of capacitive elements in one Balun can Strip conductor of the balun - so-called. strip lines - shortened.

Entsprechend den Ausführungsbeispielen der Erfindung ausgeführte Mehrlagensubstrate finden insbesondere in mobilen Kommunikationsgeräten Verwendung. Die Mehrlagensubstrate umfassen dann einen Antennenschalter, der mit einem Sendesignalpfad und einem Empfangssignalpfad des mobilen Kommunikationsgeräts verschaltet ist.Corresponding the embodiments of the Invention executed Multilayer substrates are used in particular in mobile communication devices. The multi-layer substrates then comprise an antenna switch which with a transmission signal path and a reception signal path of the mobile communication device is interconnected.

Insbesondere ist es vorteilhaft, wenn ein Mehrlagensubstrat einen Duplexer umfasst, der mit dem Sende- und dem Empfangssignalpfad verschaltet ist.Especially it is advantageous if a multilayer substrate comprises a duplexer, which is connected to the transmission and the received signal path.

Im Folgenden wird das Mehrlagensubstrat anhand von Ausführungsbeispielen und zugehörigen schematischen Figuren näher erläutert. Es zeigt:in the Next, the multi-layer substrate will be described based on embodiments and associated schematic Figures closer explained. It shows:

1 einen Querschnitt durch ein Mehrlagensubstrat, 1 a cross section through a multi-layer substrate,

2 ein schematisches Schaltbild einer Frontend-Schaltung, 2 a schematic diagram of a front-end circuit,

3 einen Querschnitt durch ein weiteres Mehrlagensubstrat 3 a cross section through another multi-layer substrate

1 zeigt einen Querschnitt durch ein erfindungsgemäßes Mehrlagensubstrat. Drei übereinander angeordnete mittlere Lagen ML sind zwischen oberen Lagen OL und unteren Lagen UL angeordnet. Auf der Oberseite OO des alle Lagen umfassenden Lagenaufbaus MLS bzw. auf der obersten oberen Lage OL ist ein Chip DU angeordnet, der eine Duplexerschaltung umfasst. Ebenfalls auf der oberen Oberfläche ist ein weiterer Chip IC angeordnet, der aktive Schaltungskomponenten umfasst. Der die Duplexerschaltung umfassende Chip ist in Flip-Chip-Technik mit strukturierten Metallisierungen (strukturierten Metallisierungsleitungen SML und strukturierten Metallisierungsflächen SMF) auf der oberen Oberfläche OO verschaltet, während der aktive Schaltungskomponenten umfassende Chip IC in Wire-Bonding-Technologie mit strukturierten Metallisierungselementen auf der oberen Oberfläche verschaltet ist. Strukturierte Metallisierungsleitungen SML und strukturierte Metallisierungsflächen SMS sind in Metallisierungsebenen zwischen und auf den dielektrischen Lagen des Mehrlagensubstrats angeordnet. Sie stellen passive, induktive IE oder kapazitive KE Schaltungselemente dar. Derart integrierte Schaltungselemente sind über Durchkontaktierungen DK miteinander verschaltet (KE, IE). 1 shows a cross section through a multi-layer substrate according to the invention. Three superposed middle layers ML are arranged between upper layers OL and lower layers UL. On the upper side OO of the layer structure MLS comprising all layers or on the uppermost upper layer OL, a chip DU is arranged which comprises a duplexer circuit. Also disposed on the top surface is another chip IC comprising active circuit components. The chip comprising the duplexer circuit is in Flip-chip technology with structured metallizations (structured metallization lines SML and structured metallization surfaces SMF) on the upper surface OO interconnected, while the active circuit components comprehensive chip IC in wire-bonding technology with structured metallization elements on the upper surface is connected. Structured metallization lines SML and structured metallization surfaces SMS are arranged in metallization planes between and on the dielectric layers of the multilayer substrate. They represent passive, inductive IE or capacitive KE circuit elements. Such integrated circuit elements are interconnected via feedthroughs DK (KE, IE).

Das Mehrlagensubstrat in 1 weist eine durch eine Spiegelebene SE definierte Spiegelsymmetrie auf. Die Spiegelsymmetrie bezieht sich dabei lediglich auf den Lagenaufbau der dielektrischen Lagen und nicht auf die Anordnung von Chips auf der Oberfläche oder von integrierten Schaltungselementen in Metallisierungsflächen. Durchkontaktierungen DK durch die unterste der unteren Lagen stellen Kontaktierungselemente Kon auf der unteren Substratoberfläche SO dar, über welche die Schaltungselemente des Mehrlagensubstrats mit einer externen Schaltungsumgebung verschaltet werden können.The multi-layer substrate in 1 has a mirror symmetry defined by a mirror plane SE. The mirror symmetry refers here only to the layer structure of the dielectric layers and not to the arrangement of chips on the surface or of integrated circuit elements in Metallisierungsflächen. Through-contacts DK through the lowermost of the lower layers represent contacting elements Kon on the lower substrate surface SO, via which the circuit elements of the multi-layer substrate can be connected to an external circuit environment.

2 illustriert die schematische Verschaltung einer Frontend-Schaltung FES. Eine Antenne A, welche in der Regel ein „unbalanced” geführtes Signal liefert, ist mit einem Antennenschalter AS verschaltet. Der Antennenschalter verschaltet Signalpfade SP mit der Antenne A. In Empfangssignalpfaden ESP sind Empfangsfilterschaltungen EFS verschaltet. Die Empfangsfilterschaltungen EFS umfassen eine Balun-Funktionalität, sodass die Signalleitungen, die die Empfangsfilterschaltung EFS mit der Transceiverschaltung TCS verschalten, balanced ausgeführt sind. Zwischen Empfangsfilterschaltung und Transceiverschaltung sind jeweils Impedanzanpasselemente IAE verschaltet. Die Transceiverschaltung TCS kann Empfangsverstärker EV, Sendeverstärker SV und andere integrierte Schaltkreise IC umfassen. Sendeverstärker SV und Empfangsverstärker EV müssen jedoch nicht im gleichen Chip realisiert sein. Sie können auch in verschiedenen Chips und sogar auf verschiedenen Substraten implementiert sein. Ferner umfasst die Frontend-Schaltung Sendefilterschaltungen SFS, die in Sendesignalpfaden SSP verschaltet sind. Die Sendefilterschaltungen sind jeweils zwischen dem Antennenschalter AS und der Transceiverschaltung TCS verschaltet. Weiterhin ist pro Sendesignalpfad SSP ein Sendeverstärker SV zwischen der jeweiligen Sendefilterschaltung und der Transceiverschaltung verschaltet. Zwischen dem entsprechenden Sendeverstärker SV und der Transceiverschaltung TCS sind Baluns BU verschaltet. 2 illustrates the schematic interconnection of a front-end circuit FES. An antenna A, which usually provides an "unbalanced" guided signal is connected to an antenna switch AS. The antenna switch connects signal paths SP with the antenna A. Reception filter circuits EFS are connected in receive signal paths ESP. The reception filter circuits EFS comprise balun functionality, so that the signal lines which interconnect the reception filter circuit EFS with the transceiver circuit TCS are designed to be balanced. Between receiving filter circuit and transceiver circuit impedance matching elements IAE are each connected. The transceiver circuit TCS may include receive amplifiers EV, transmit amplifiers SV and other integrated circuits IC. However, transmit amplifier SV and receive amplifier EV need not be implemented in the same chip. They can also be implemented in different chips and even on different substrates. Furthermore, the front-end circuit comprises transmission filter circuits SFS, which are connected in transmission signal paths SSP. The transmit filter circuits are respectively connected between the antenna switch AS and the transceiver TCS. Furthermore, a transmit amplifier SV is connected between the respective transmit filter circuit and the transceiver circuit per transmit signal path SSP. Baluns BU are connected between the corresponding transmission amplifier SV and the transceiver circuit TCS.

In 2 sind exemplarisch zwei Empfangssignalpfade, in denen Empfangsfilterschaltungen EFS verschaltet sind, und zwei Sendesignalpfade, in denen Sendefilterschaltungen SFS verschaltet sind, gezeigt. Diese Darstellung ist schematisch. Weitere verschaltete Empfangssignalpfade oder Sendesignalpfade – z. B. zur Abdeckung unterschiedlicher weiterer Frequenzbänder – sind denkbar. Es ist möglich, dass ein erfindungsgemäßes Mehrlagensubstrat sowohl die Schaltungselemente der Empfangssignalpfade als auch der Sendesignalpfade umfasst. Weiterhin ist es möglich, dass alle Empfangssignalpfade in einem ersten Mehrlagensubstrat und alle Sendesignalpfade in einem weiteren Mehrlagensubstrat integriert sind. Die Auftrennung von Sendesignalpfaden und Empfangssignalpfaden auf verschiedene Mehrlagensubstrate verbessert die Isolation zwischen Signalpfaden, die eine hohe HF-Leistung übermitteln (die Sendesignalpfade), und Signalpfaden, die eine geringe HF-Leistung übermitteln (die Empfangssignalpfade). Verschiedene Mehrlagensubstrate können übereinander angeordnet und elektrisch und mechanisch miteinander verbunden sein. Sie können aber auch nebeneinander auf einem gemeinsamen PCB angeordnet sein.In 2 For example, two receive signal paths in which receive filter circuits EFS are connected and two transmit signal paths in which transmit filter circuits SFS are connected are shown. This illustration is schematic. Further interconnected receive signal paths or transmit signal paths - z. B. to cover different other frequency bands - are conceivable. It is possible for a multi-layer substrate according to the invention to comprise both the circuit elements of the received signal paths and the transmission signal paths. Furthermore, it is possible for all the received signal paths in a first multi-layer substrate and all the transmit signal paths to be integrated in a further multi-layer substrate. The separation of transmit signal paths and receive signal paths onto different multi-layer substrates improves isolation between signal paths that transmit high RF power (the transmit signal paths) and signal paths that transmit low RF power (the receive signal paths). Various multi-layer substrates may be stacked and electrically and mechanically interconnected. But they can also be arranged side by side on a common PCB.

3 zeigt einen Querschnitt durch ein Mehrlagensubstrat MLS, welches bezüglich der Anordnung der dielektrischen Lagen nicht mehr symmetrisch ausgeführt ist. Oberhalb von drei übereinander angeordneten mittleren Lagen ML ist eine obere Lage OL angeordnet, wobei die drei mittleren Lagen ML oberhalb von drei übereinander angeordneten unteren Lagen UL angeordnet sind. Zwischen einem aktive Schaltungskomponenten umfassenden Chip IC und der oberen Lage OL ist eine strukturierte Metallisierungsfläche als großflächig ausgeführte Bezugsmasselage BML angeordnet. Vertikal unterhalb der Bezugsmasselage BML ist eine obere strukturierte Metallisierungsleitungen SML angeordnet. Diese ist durch die obere Lage OL von der Bezugsmasselage BML getrennt. Eine oberste mittlere Lage ML ist zwischen der oberen strukturierten Metallisierungsleitung SML und einer unteren strukturierte Metallisierungsleitung SML angeordnet. Eine weitere mittlere Lage ML, die unterhalb der obersten mittleren Lage angeordnet ist, trennt die untere strukturierte Metallisierungsleitung SML von einer strukturierten Metallisierungsfläche SMF. Die Bezugsmassefläche BMF, die strukturierte Metallisierungsfläche SMF und die zwei strukturierten Metallisierungsleitungen SML stellen Komponenten eines unter dem Chip IC angeordneten Baluns dar, der zwei der mittleren Lagen ML als Funktionslagen nutzt. Dabei stellt die Bezugsmasselage BML einerseits eine Massefläche des Baluns und andererseits eine wirkungsvolle HF-Abschirmung übriger Schaltungskomponenten vor der emittierten Hochfrequenzleistung des Chips IC dar. 3 shows a cross section through a multi-layer substrate MLS, which is no longer symmetrical with respect to the arrangement of the dielectric layers. Above three middle layers ML arranged one above the other, an upper layer OL is arranged, the three middle layers ML being arranged above three lower layers UL arranged one above the other. Between a chip IC comprising active circuit components and the upper layer OL, a structured metallization surface is arranged as a reference mass layer BML, which is made over a large area. Vertically below the reference ground layer BML, an upper structured metallization line SML is arranged. This is separated from the reference bulk layer BML by the upper layer OL. An uppermost middle layer ML is arranged between the upper structured metallization line SML and a lower structured metallization line SML. A further middle layer ML, which is arranged below the uppermost middle layer, separates the lower structured metallization line SML from a structured metallization surface SMF. The reference ground area BMF, the structured metallization area SMF and the two structured metallization lines SML are components of a balun arranged below the chip IC, which uses two of the middle layers ML as functional layers. The reference ground layer BML on the one hand represents a ground plane of the balun and on the other hand represents an effective RF shielding of remaining circuit components in front of the emitted high-frequency power of the chip IC.

Ein erfindungsgemäßes Mehrlagensubstrat ist nicht auf eine der beschriebenen Ausführungsbeispiele beschränkt. Kombinationen derer und Variationen, welche z. B. noch weitere induktive oder kapazitive Elemente, die als Metallisierungen zwischen den dielektrischen Lagen ausgeführt sein können, umfassen, stellen ebenso erfindungsgemäße Ausführungsbeispiele dar.A multi-layer substrate according to the invention is not limited to one of the described embodiments. Combinations of these and variations, which z. B. further inductive or capacitive elements that may be embodied as metallizations between the dielectric layers comprise, represent embodiments of the invention as well.

Bezugszeichenliste:LIST OF REFERENCE NUMBERS

  • AS:AS:
    Antennenschalterantenna switch
    BML:BML:
    BezugsmasselageGround for the position
    BU:BU:
    Balunbalun
    DK:DK:
    Durchkontaktierungvia
    DU:YOU:
    DuplexerchipDuplexerchip
    EFS:EFS:
    EmpfangsfilterschaltungReceive filter circuit
    ESP:ESP:
    EmpfangssignalpfadReceive signal path
    EV:EV:
    Empfangsverstärkerreceiver amplifier
    FES:FES:
    Frontend-SchaltungFront-end circuit
    IAE:IAE:
    Impedanzanpasselementimpedance matching
    IC:IC:
    IC-ChipIC chip
    IE:IE:
    Induktives ElementInductive element
    KE:KE:
    Kapazitives ElementCapacitive element
    Kon:Kon:
    Kontaktierungselementcontacting
    L:L:
    Lagelocation
    ML:ML:
    Mittlere LageMiddle location
    MLS:MLS:
    MehrlagensubstratMultilayer substrate
    OL:OIL:
    Obere LageUpper location
    OO:OO:
    obere Oberseiteupper top
    SE:SE:
    Spiegelebenemirror plane
    SFS:SFS:
    SendefilterschaltungTransmission filter circuit
    SMF:SMF:
    Strukturierte MetallisierungsflächeStructured metallization surface
    SML:SML:
    Strukturierte MetallisierungsleitungStructured metallization line
    SO:SO:
    Substratoberflächesubstrate surface
    SP:SP:
    Signalpfadsignal path
    SSP:SSP:
    SendesignalpfadTransmission signal path
    SV:SV:
    Sendeverstärkertransmission amplifier
    TCS:TCS:
    Transceiver-SchaltungTransceiver circuit
    UL:UL:
    Untere LageLower position

Claims (14)

Mehrlagensubstrat (MLS), umfassend – einen IC-Chip (IC), eine Bezugsmasselage (BML) und einen Balun (BU), – eine oder mehrere untere Lagen (UL) eines dielektrischen Materials mit Dielektrizitätskonstante εu, – eine oder mehrere obere Lagen (OL) eines dielektrischen Materials mit Dielektrizitätskonstante εo, – eine oder mehrere zwischen den unteren und den oberen Lagen angeordnete mittlere Lagen (ML) eines dielektrischen Materials mit Dielektrizitätskonstante εm, – strukturierte Metallisierungsflächen (SMF), die zwischen oder auf den Lagen (UL, ML, OL) angeordnet sind, – strukturierte Metallisierungsleitungen (SML), die zwischen oder auf den Lagen (UL, ML, OL) angeordnet sind, – ein aus mindestens zwei strukturierten Metallisierungsflächen (SMF) und aus mindestens einer dazwischen angeordneten mittleren Lage (ML) gebildetes kapazitives Element (KE), – ein aus strukturierten Metallisierungsleitungen (SML) gebildetes induktives Element (IE), welches in direktem Kontakt zur oberen Lage (OL) oder unteren Lage (UL) angeordnet ist, wobei – εm >= 1.5·εu und εm >= 1.5·εo, – die Bezugsmasselage (BML) auf der obersten oberen Lage (OL) angeordnet ist, – der IC-Chip (IC) auf Oberfläche der obersten der oberen Lagen angeordnet ist, – die Bezugsmasselage (BML) als Montagefläche des IC-Chips (IC) dient, – der Balun (BU) eine Verschaltung aus kapazitiven Elementen (KE), strukturierten Metallisierungsflächen (SMF), strukturierten Metallisierungsleitungen (SML) und der Bezugsmasselage (BML) umfasst, – die weiteren Schaltungskomponenten des Baluns (BU) vertikal unterhalb der Bezugsmasselage (BML) angeordnet sind.Multi-layer substrate (MLS), comprising - an IC chip (IC), a reference ground layer (BML) and a balun (BU), - one or more lower layers (UL) of a dielectric material with dielectric constant ε u , - one or more upper layers (OL) of a dielectric material with dielectric constant ε o , - one or more middle layers (ML) of a dielectric material with dielectric constant ε m , arranged between the lower and the upper layers, - structured metallization surfaces (SMF), which lie between or on the layers ( UL, ML, OL) are arranged, - structured metallization lines (SML), which are arranged between or on the layers (UL, ML, OL), - one of at least two structured metallization surfaces (SMF) and at least one intermediate layer arranged therebetween (ML) formed capacitive element (KE), - one of structured metallization lines (SML) formed inductive element (IE), which in directly em contact to the upper layer (OL) or lower layer (UL) is arranged, wherein - ε m > = 1.5 · ε u and ε m > = 1.5 · ε o , - the reference ground layer (BML) on the uppermost layer (OL ), - the IC chip (IC) is arranged on the surface of the uppermost of the upper layers, - the reference ground layer (BML) serves as a mounting surface of the IC chip (IC), - the balun (BU) has an interconnection of capacitive elements (KE), structured metallization areas (SMF), structured metallization lines (SML) and the reference ground layer (BML), - the further circuit components of the balun (BU) are arranged vertically below the reference ground layer (BML). Mehrlagensubstrat nach Anspruch 1, wobei 6 <= εu <= 10, 6 <= εo <= 10 und 15 <= εm <= 25.The multilayer substrate according to claim 1, wherein 6 <= ε u <= 10, 6 <= ε o <= 10 and 15 <= ε m <= 25. Mehrlagensubstrat nach einem der Ansprüche 1 oder 2, bei dem zumindest eine der Lagen (L) eines dielektrischen Materials, ausgewählt aus unterer, mittlerer und oberer Lage LTCC, HTCC oder Laminat umfasst.Multi-layer substrate according to one of claims 1 or 2, wherein at least one of the layers (L) of a dielectric material, selected from lower, middle and upper layer comprises LTCC, HTCC or laminate. Mehrlagensubstrat nach einem der Ansprüche 1 bis 3, bei dem insgesamt drei oder mehr der Lagen (L) eines dielektrischen Materials vorgesehen sind, die bezüglich ihrer Dielektrizitätskonstanten symmetrisch um die mittlere Lage (ML) als Spiegelebene (SE) angeordnet sind.Multi-layer substrate according to one of claims 1 to 3, wherein a total of three or more of the layers (L) of a dielectric Materials are provided, with respect to their dielectric constant arranged symmetrically about the middle layer (ML) as a mirror plane (SE) are. Mehrlagensubstrat nach einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei der IC-Chip (IC) eine Transceiver-Schaltung (TCS) umfasst.Multi-layer substrate according to one of claims 1 to 4, wherein the IC chip (IC) comprises a transceiver circuit (TCS). Mehrlagensubstrat nach Anspruch 5, mit Durchkontaktierungen (DK) durch zumindest eine der Lagen (L) eines dielektrischen Materials und mit aus Metallisierungsleitungen (ML) ausgeführten Signalpfaden (SP), die mit der Transceiver-Schaltung (TCS) verschaltet sind.Multi-layer substrate according to claim 5, with plated-through holes (DK) by at least one of the layers (L) of a dielectric material and with signal paths (SP) made of metallization lines (ML), the connected to the transceiver circuit (TCS). Mehrlagensubstrat nach einem der Ansprüche 5 oder 6, umfassend – eine Sendefilterschaltung (SFS) mit einem eine Verschaltung aus Reaktanzelementen umfassenden Sendefilter, die mit einem Sendesignalpfad (SSP) der Transceiver-Schaltung (TCS) verschaltet ist, und – eine Empfangsfilterschaltung (EFS) mit einem mit akustischen Wellen arbeitenden Empfangsfilter, die mit einem Empfangssignalpfad (ESP) der Transceiver-Schaltung (TCS) verschaltet ist.Multi-layer substrate according to one of claims 5 or 6, comprising - one Transmission filter circuit (SFS) with an interconnection of reactance elements comprehensive transmit filter, which interfaces with a transmit signal path (SSP) of the transceiver circuit (TCS) is and - one Reception filter circuit (EFS) with a working with acoustic waves Receive filter, with a received signal path (ESP) of the transceiver circuit (TCS) is interconnected. Mehrlagensubstrat nach Anspruch 7, bei dem der Balun (BU) in dem Sendesignalpfad (SSP) oder dem Empfangssignalpfad (ESP) verschaltet ist.The multi-layer substrate according to claim 7, wherein the balun (BU) in the transmit signal path (SSP) or receive signal path (ESP) is interconnected. Mehrlagensubstrat nach einem der Ansprüche 6 bis 8, in dessen Signalpfaden (SP) ein Impedanzanpasselement (IAE) verschaltet ist, das eine Verschaltung aus kapazitiven (KE) und induktiven (IE) Elementen umfasst, die als strukturierten Metallisierungsflächen (SMF) oder strukturierte Metallisierungsleitungen (SML) zwischen oder auf den Lagen (L) eines dielektrischen Materials ausgebildet sind.Multilayer substrate according to one of claims 6 to 8, in whose signal paths (SP) an impedance matching element (IAE) interconnected This is an interconnection of capacitive (KE) and inductive (IE) elements comprising, as structured metallization surfaces (SMF) or structured metallization lines (SML) between or are formed on the layers (L) of a dielectric material. Mehrlagensubstrat nach einem der Ansprüche 7 bis 9, in dessen Sendesignalpfad (SSP) ein Sendeverstärker (SV) verschaltet ist, der auf der Substratoberfläche (SO) angeordnet ist.Multi-layer substrate according to one of claims 7 to 9, in whose transmission signal path (SSP) a transmission amplifier (SV) is connected, which is arranged on the substrate surface (SO). Mehrlagensubstrat nach einem der Ansprüche 7 bis 10, in dessen Empfangssignalpfad (ESP) ein Empfangsverstärker (EV) verschaltet ist, der auf der Substratoberfläche (SO) angeordnet ist.Multi-layer substrate according to one of claims 7 to 10, in whose received signal path (ESP) a receive amplifier (EV) is connected, which is arranged on the substrate surface (SO). Mehrlagensubstrat nach einem der Ansprüche 5 bis 11, dessen IC-Chip (IC) in Wirebond-Technologie verschaltet ist.Multi-layer substrate according to one of claims 5 to 11, whose IC chip (IC) is wired in Wirebond technology. Mehrlagensubstrat zur Verwendung in einem mobilen Kommunikationsgerät nach einem der Ansprüche 7 bis 12, das einen Antennenschalter (AS) umfasst, der mit einem Sendesignal- (SSP) und einem Empfangssignalpfad (ESP) verschaltet ist.Multi-layer substrate for use in a mobile communication device according to one of the claims 7 to 12, which comprises an antenna switch (AS), which with a Send signal (SSP) and a received signal path (ESP) interconnected is. Mehrlagensubstrat zur Verwendung in einem mobilen Kommunikationsgerät nach einem der Ansprüche 7 bis 13, das einen Duplexer (DU) umfasst, der mit dem Sendesignal- (SSP) und dem Empfangssignalpfad (ESP) verschaltet ist.Multi-layer substrate for use in a mobile communication device according to one of the claims 7 to 13, which comprises a duplexer (DU) connected to the transmission signal (SSP) and the received signal path (ESP) is interconnected.
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