DE102015108430A1 - Device for generating a gas with a ring-cylindrical reaction chamber - Google Patents
Device for generating a gas with a ring-cylindrical reaction chamber Download PDFInfo
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- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
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Abstract
Vorrichtung zur Erzeugung eines Gases mit einer ringzylindrischen Reaktionskammer, die von einer zylindrischen Innenwand und einer zylindrischen Außenwand sowie von einem ringförmigen Bodenabschnitt und einem ringförmigen Kopfabschnitt über die zylindrische Innenwand und Außenwand miteinander verbunden sind, wobei mindestens eine zylindrische Trennwand vorgesehen ist, die ringförmig geschlossen ist und an einem Ende mit dem Kopfabschnitt oder dem Bodenabschnitt verbunden ist und mit ihrem anderen Ende einen Spalt zu dem Bodenabschnitt bzw. Kopfabschnitt bildet.Apparatus for producing a gas having a ring-cylindrical reaction chamber, which are connected by a cylindrical inner wall and a cylindrical outer wall and by an annular bottom portion and an annular head portion via the cylindrical inner wall and outer wall, wherein at least one cylindrical partition wall is provided, which is annularly closed and is connected at one end to the head portion or the bottom portion and forms with its other end a gap to the bottom portion or head portion.
Description
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Erzeugung eines Gases mit einer ringzylindrischen Reaktionskammer. The invention relates to a device for generating a gas with a ring-cylindrical reaction chamber.
Aus Offenlegungsschrift
Aus
Aus
Aus
Aus
Aus
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung zur Erzeugung eines Gases dahingehend zu verbessern, dass mit möglichst einfachen Mitteln eine vollständige und gleichmäßige Durchmischung bzw. Reaktion mit einem Feststoff erzielt werden kann. The invention has for its object to improve a device for generating a gas to the effect that with the simplest possible means a complete and uniform mixing or reaction with a solid can be achieved.
Erfindungsgemäß wird die Aufgabe durch eine Vorrichtung mit den Merkmalen aus Anspruch 1 gelöst. Vorteilhafte Ausgestaltungen bilden den Gegenstand der Unteransprüche. According to the invention the object is achieved by a device having the features of claim 1. Advantageous embodiments form the subject of the dependent claims.
Die erfindungsgemäße Vorrichtung zur Erzeugung eines Gases ist mit einer ringzylindrischen Reaktionskammer ausgestattet. Die Reaktionskammer wird von einer zylindrischen Innenwand und einer zylindrischen Außenwand sowie von einem ringförmigen Bodenelement und einem ringförmigen Kopfabschnitt begrenzt. Die Innen- und die Außenwand sind über Kopf- und Bodenabschnitt miteinander verbunden. Die erfindungsgemäße Vorrichtung besitzt mindestens eine zylindrische Trennwand, die ringförmig geschlossen ist und an einem Ende mit dem Kopfabschnitt oder dem Bodenabschnitt verbunden ist und mit ihrem anderen Ende einen Spalt zu dem Kopf- bzw. Bodenabschnitt bildet. Ist die Trennwand mit dem Kopfabschnitt verbunden, so bildet sie einen Spalt gegenüber dem Bodenabschnitt. Ist die Trennwand dagegen mit dem Bodenabschnitt verbunden, so bildet sie einen Spalt gegenüber dem Kopfabschnitt. Durch die mindestens eine Trennwand wird die Reaktionskammer in mindestens zwei Teilvolumina unterteilt. Durch den oder die Spalten strömt das Gas bei seiner Reaktion in der Reaktionskammer, wobei bevorzugt eine Reaktion mit einem in die Reaktionskammer eingebrachten Feststoff erfolgt. The inventive device for generating a gas is equipped with a ring-cylindrical reaction chamber. The reaction chamber is bounded by a cylindrical inner wall and a cylindrical outer wall and by an annular bottom member and an annular head portion. The inner and the outer wall are connected to each other via the top and bottom sections. The device according to the invention has at least one cylindrical partition which is annularly closed and connected at one end to the head section or the bottom section and forms at its other end a gap to the head or bottom section. If the partition wall is connected to the head section, it forms a gap with respect to the bottom section. On the other hand, if the dividing wall is connected to the bottom section, it forms a gap with respect to the head section. The at least one partition wall divides the reaction chamber into at least two partial volumes. Through the column or columns, the gas flows in its reaction in the reaction chamber, wherein preferably takes place a reaction with a introduced into the reaction chamber solid.
In einer bevorzugten Weiterbildung der Vorrichtung sind mindestens zwei zylindrische Trennwände vorgesehen, von denen eine erste Trennwand mit dem Kopfabschnitt und eine zweite Trennwand mit dem Bodenabschnitt verbunden ist. Benachbarte Trennwände sind stets an einander gegenüberliegenden Kopf-/Bodenabschnitten angeordnet, so dass das reagierende Gas nacheinander einen Spalt am Bodenabschnitt und danach einen Spalt am Kopfabschnitt oder umgekehrt durchlaufen muss. Hierdurch legt das Gas lange Wege in der Reaktionskammer zurück. In a preferred development of the device, at least two cylindrical partition walls are provided, of which a first partition wall is connected to the head section and a second partition wall is connected to the bottom section. Adjacent partition walls are always arranged on opposite head / bottom sections, so that the reacting gas must successively pass through a gap at the bottom section and then a gap at the head section or vice versa. This causes the gas to travel long distances in the reaction chamber.
In einer bevorzugten Ausgestaltung ist die erste Trennwand zwischen Außenwand und zweiter Trennwand angeordnet. Dies bedeutet, dass das radial am weitesten außenliegende Teilvolumen einen Spalt zum Übergang für das nächste Teilvolumen am Bodenabschnitt besitzt. In a preferred embodiment, the first partition between the outer wall and second partition wall is arranged. This means that the radially outermost sub-volume has a gap to transition for the next sub-volume at the bottom portion.
In einer weiter bevorzugten Ausgestaltung ist eine dritte Trennwand vorgesehen, die ebenso wie die erste Trennwand mit dem Kopfabschnitt verbunden ist. Die dritte Trennwand ist zwischen zweiter Trennwand und Innenwand angeordnet. Das durch die dritte Trennwand gebildete Teilvolumen ist das radial am weitesten innenliegende Teilvolumen. In a further preferred embodiment, a third partition wall is provided which, like the first partition wall, is connected to the head section. The third partition wall is arranged between the second partition wall and the inner wall. The partial volume formed by the third partition wall is the radially innermost partial volume.
In einer bevorzugten Ausgestaltung ist eine Einlassöffnung in dem Kopfabschnitt in einem Bereich zwischen erster Trennwand und Außenwand vorgesehen. Über die Einlassöffnung kann mit Hilfe von entsprechenden Einlassanschlüssen Gas eingebracht werden, wobei das Gas in einem ersten Teilvolumen entlang der Außenwand strömt und im Bereich des Bodenabschnitts, wo sich beispielsweise der Feststoff befindet, in das nächste Teilvolumen übertritt. In a preferred embodiment, an inlet opening is provided in the head portion in a region between the first partition wall and the outer wall. Gas can be introduced via the inlet opening with the aid of corresponding inlet connections, wherein the gas flows in a first partial volume along the outer wall and in the region of the bottom section, where, for example, the solids are present, into the next partial volume.
Eine Auslassöffnung ist bevorzugt in dem Kopfabschnitt zwischen Innenwand und zweiter oder dritter Trennwand vorgesehen. Bevorzugt befindet sich die Auslassöffnung bei einer Ausgestaltung mit zwei Trennwänden zwischen der zweiten Trennwand und der Innenwand, während bei einer Ausgestaltung mit drei Trennwänden die Auslassöffnung zwischen Innenwand und dritter Trennwand angeordnet ist. An outlet opening is preferably provided in the head portion between the inner wall and the second or third partition wall. Preferably, the outlet opening is in an embodiment with two partitions between the second partition wall and the inner wall, while in an embodiment with three partitions, the outlet opening between the inner wall and the third partition wall is arranged.
Durch die Anordnung der Auslassöffnung im Bereich der Innenwand wird sichergestellt, dass das Gas die gesamte Reaktionskammer durchläuft. Ferner liegen bevorzugt Einlass- und Auslassöffnung diametral einander gegenüber, so dass auch in radialer Richtung eine homogene Ausbreitung des Gases erfolgt. The arrangement of the outlet opening in the region of the inner wall ensures that the gas passes through the entire reaction chamber. Furthermore, inlet and outlet openings are preferably located diametrically opposite one another, so that homogeneous propagation of the gas also takes place in the radial direction.
In einer bevorzugten Ausgestaltung ist mindestens eine Einfüllöffnung in dem Kopfabschnitt im Bereich zwischen erster und dritter Trennwand vorgesehen. Über die Einfüllöffnung kann ein Feststoff in die Vorrichtung eingebracht werden. Auch ist es möglich, die Einfüllöffnung zur Inspektion der Reaktionskammer und/oder zur Reinigung dieser zu verwenden. In a preferred embodiment, at least one filling opening is provided in the head section in the region between the first and third partition walls. Via the filling opening, a solid can be introduced into the device. It is also possible to use the filling opening for inspecting the reaction chamber and / or for cleaning it.
In einer bevorzugten Ausgestaltung sind die Trennwände derart angeordnet, dass die durch die Trennwände abgetrennten Teilvolumina in radialer Richtung von außen nach innen kleiner werden, bevorzugt die Teilvolumina, deren Spalt am Bodenabschnitt liegt. Dies bedeutet, dass die Strömungsgeschwindigkeit des Gases auf dem Weg von außen nach innen größer wird. Die Sättigung des Gases erfolgt bei niedriger Flussgeschwindigkeit, also bevorzugt in dem radial außenliegenden Teilvolumen. In a preferred embodiment, the dividing walls are arranged such that the partial volumes separated by the dividing walls become smaller in the radial direction from outside to inside, preferably the partial volumes whose gap lies at the bottom section. This means that the flow velocity of the gas increases on the way from the outside to the inside. The saturation of the gas takes place at a low flow rate, that is to say preferably in the radially outer partial volume.
In einer zweckmäßigen Ausgestaltung sind Kopf- und Bodenabschnitt als Scheiben, vorzugsweise flach ausgebildet. In an expedient embodiment, the top and bottom sections are designed as slices, preferably flat.
Die Erfindung wird nachfolgend an einem Ausführungsbeispiel näher erläutert. Es zeigen: The invention will be explained in more detail using an exemplary embodiment. Show it:
Die erfindungsgemäße Vorrichtung für einen Feststoffbubbler besitzt einen Grundkörper
Der Reaktorbehälter
In der Reaktionskammer sind drei konzentrisch angeordnete Trennwände
Wie in
Die Abmessungen der Teilvolumina sind, wie in
Durch die Verwendung der Trennwände entsteht in der Reaktionskammer ein rotationssymmetrisches Kammersystem, durch welches ein Trägergasstrom mit zunehmender Durchflussgeschwindigkeit geleitet wird. Die Sättigung tritt dabei vorwiegend in dem ersten Teilvolumen ein, das das größte Volumen innerhalb der Reaktionskammer bildet. In Richtung zu kleinerem Durchmesser, also radial einwärts, wird die Flussgeschwindigkeit des Gases größer und die verbleibende Notwendigkeit zur Sättigung geringer. Die einzelnen Kammervolumina werden mit einem Füllgrad von 90 % befüllt und leeren sich von außen nach innen. By using the partitions, a rotationally symmetric chamber system is created in the reaction chamber, through which a carrier gas stream is passed with increasing flow velocity. The saturation occurs predominantly in the first partial volume, which forms the largest volume within the reaction chamber. In the direction of smaller diameter, ie radially inward, the flow velocity of the gas is greater and the remaining need for saturation less. The individual chamber volumes are filled with a degree of filling of 90% and empty from outside to inside.
Der Kopfabschnitt ist als Dreh-Fräskomponente ausgeführt und mit den Anschlüssen für Einlassventil, Auslassventil und Einfüllöffnung ausgestattet. Auch können mehrere Ports vorgesehen sein, die zur Inspektion der Reaktionskammer nach Fertigung oder Instandsetzung/Reinigung dienen. Die Befüllung der Reaktionskammer kann über diese ebenfalls überprüft werden. Die Ports sind bevorzugt als Male-Face-Seal-Anschlüsse ausgeführt und werden durch Entfernen der Muttern/Ventile zugänglich. The head section is designed as a turning-milling component and equipped with the connections for inlet valve, exhaust valve and filling opening. Also, multiple ports may be provided for inspection of the reaction chamber after fabrication or repair / cleaning. The filling of the reaction chamber can also be checked via this. The ports are preferably designed as male-face-seal connections and are accessible by removing the nuts / valves.
BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS
- 10 10
- Grundkörper body
- 12 12
- Reaktorbehälter reactor vessel
- 14 14
- Fußfoot
- 16 16
- Durchbrechungen perforations
- 18 18
- Bodenabschnitt bottom section
- 20 20
- Kopfabschnitt header
- 22 22
- Einlassanschluss inlet port
- 24 24
- Einlassarmatur inlet fitting
- 26 26
- Auslassanschluss outlet
- 28 28
- Auslassarmatur outlet fitting
- 30 30
- Anschluss/Einfüllöffnung Connection / fill opening
- 30‘ 30 '
- Einfüllöffnung fill opening
- 32 32
- Tragegriff handle
- 34 34
- Durchbrechung perforation
- 36 36
- Außenwand outer wall
- 38 38
- Innenwand inner wall
- 40 40
- Innenbereich interior
- 42 42
- Durchbrechung perforation
- 44 44
- erste Trennwand first partition
- 46 46
- zweite Trennwand second partition
- 48 48
- dritte Trennwand third partition
- 50 50
- erster Spalt first gap
- 52 52
- zweiter Spalt second gap
- 54 54
- dritter Spalt third gap
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG QUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION
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Zitierte PatentliteraturCited patent literature
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- EP 1160355 B1 [0003] EP 1160355 B1 [0003]
- WO 2007/057631 A2 [0004] WO 2007/057631 A2 [0004]
- WO 2004/010473 A2 [0005] WO 2004/010473 A2 [0005]
- US 6270839 B1 [0006] US 6270839 B1 [0006]
- EP 2730675 A1 [0007] EP 2730675 A1 [0007]
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Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1557222A1 (en) | 1967-02-04 | 1970-04-02 | Tech Bureau Moverwa | Method and device for mixing gaseous substances |
| US6270839B1 (en) | 1999-08-20 | 2001-08-07 | Pioneer Corporation | Device for feeding raw material for chemical vapor phase deposition and method therefor |
| WO2004010473A2 (en) | 2002-07-19 | 2004-01-29 | Asm America, Inc. | Bubbler for substrate processing |
| EP1160355B1 (en) | 2000-05-31 | 2004-10-27 | Shipley Company LLC | Bubbler |
| WO2007057631A2 (en) | 2005-11-17 | 2007-05-24 | Sigma-Aldrich Co. | Improved bubbler for the transportation of substances by a carrier gas |
| DE60222123T2 (en) * | 2001-06-04 | 2007-12-20 | Tokyo Gas Co. Ltd. | CYLINDRICAL WATER VAPOR REFORMING UNIT |
| EP2730675A1 (en) | 2012-10-31 | 2014-05-14 | Dockweiler AG | Device for generating a gas mixture |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| IN266811B (en) * | 2004-05-20 | 2015-06-03 | Akzo Nobel Nv | |
| US20100119734A1 (en) * | 2008-11-07 | 2010-05-13 | Applied Materials, Inc. | Laminar flow in a precursor source canister |
-
2015
- 2015-05-28 DE DE102015108430.9A patent/DE102015108430A1/en not_active Withdrawn
-
2016
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Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1557222A1 (en) | 1967-02-04 | 1970-04-02 | Tech Bureau Moverwa | Method and device for mixing gaseous substances |
| US6270839B1 (en) | 1999-08-20 | 2001-08-07 | Pioneer Corporation | Device for feeding raw material for chemical vapor phase deposition and method therefor |
| EP1160355B1 (en) | 2000-05-31 | 2004-10-27 | Shipley Company LLC | Bubbler |
| DE60222123T2 (en) * | 2001-06-04 | 2007-12-20 | Tokyo Gas Co. Ltd. | CYLINDRICAL WATER VAPOR REFORMING UNIT |
| WO2004010473A2 (en) | 2002-07-19 | 2004-01-29 | Asm America, Inc. | Bubbler for substrate processing |
| WO2007057631A2 (en) | 2005-11-17 | 2007-05-24 | Sigma-Aldrich Co. | Improved bubbler for the transportation of substances by a carrier gas |
| EP2730675A1 (en) | 2012-10-31 | 2014-05-14 | Dockweiler AG | Device for generating a gas mixture |
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| Publication number | Publication date |
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Legal Events
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