DE102015111369A1 - Processing arrangement and method for operating a processing arrangement - Google Patents
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Abstract
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Prozessieranordnung (100) Folgendes aufweisen: eine Prozessierquelle (106) zum Prozessieren eines Substrats; eine Generatoranordnung (102) zum Bereitstellen von Versorgungspotentialen für einen DC-Betriebsmodus der Prozessierquelle (106) sowie für einen AC-Betriebsmodus der Prozessierquelle (106); und eine zwischen die Generatoranordnung (102) und die Prozessierquelle (106) geschaltete Schaltnetzeinrichtung (104), die generatorseitig Eingangsanschlüsse (104e) aufweist zum Anschließen von ersten Versorgungspotential-Kabeln (107e) und prozessierquellenseitig Ausgangsanschlüsse (104a) aufweist zum Anschließen von zweiten Versorgungspotential-Kabeln (107a), wobei die Schaltnetzeinrichtung (104) eine Konfigurationseinrichtung (108) aufweist, die eingerichtet ist zum Zuordnen der Eingangsanschlüsse (104e) zu den Ausgangsanschlüssen (104a) abhängig von dem jeweiligen Betriebsmodus.According to various embodiments, a processing assembly (100) may include: a processing source (106) for processing a substrate; a generator arrangement (102) for providing supply potentials for a DC operating mode of the processing source (106) as well as for an AC operating mode of the processing source (106); and a switching network device (104) which is connected between the generator arrangement (102) and the processing source (106) and has input terminals (104e) on the generator side for connecting first supply potential cables (107e) and has output terminals (104a) on the processing source side for connecting second supply potentials. Cables (107a), wherein the switching network means (104) comprises a configuration means (108) arranged to allocate the input terminals (104e) to the output terminals (104a) depending on the respective operation mode.
Description
Die Erfindung betrifft eine Prozessieranordnung und ein Verfahren zum Betreiben einer Prozessieranordnung.The invention relates to a processing arrangement and a method for operating a processing arrangement.
Im Allgemeinen kann eine Behandlungsquelle, auch als Prozessierquelle bezeichnet, zum Behandeln bzw. Prozessieren eines Substrats verwendet werden. Prozessierquellen können beispielsweise in verschiedenen elektrischen Betriebsmodi betrieben werden, z.B. in einem Gleichspannungs-Betriebsmodus (DC-Modus) oder in einem Wechselspannungs-Betriebsmodus (AC-Modus), wobei herkömmlicherweise eine Prozessierquelle speziell entweder auf den DC-Modus oder auf den AC-Modus angepasst ist, und somit im Allgemeinen nur in einem der beiden Betriebsmodi betrieben wird. Ferner kann eine Prozessierquelle, z.B. eine Plasmaquelle, eine Sputterquelle, eine Ionenquelle, etc., eine hohe elektrische Leistung umsetzen (z.B. gepulst oder kontinuierlich), z.B. von mehr als einem Kilowatt oder mehr als einem Megawatt, z.B. in einem Bereich von ungefähr 1 kW bis ungefähr 1 MW. Somit kann beispielsweise ein Generator nicht ohne weiteres an die Prozessierquelle angeschlossen werden bzw. von der Prozessierquelle getrennt werden, z.B. kann eine speziell ausgebildete Elektrofachkraft notwendig sein, um elektrische Umverdrahtungen bzw. ein Umpinnen vorzunehmen.In general, a treatment source, also referred to as a processing source, can be used to process a substrate. Processing sources may, for example, be operated in different electrical modes of operation, e.g. in a DC operating mode (DC mode) or in an AC operating mode (AC mode), wherein conventionally a processing source is specifically adapted to either the DC mode or the AC mode, and thus generally only in one of the both operating modes is operated. Furthermore, a processing source, e.g. a plasma source, a sputtering source, an ion source, etc., to convert high electrical power (e.g., pulsed or continuous), e.g. more than one kilowatt or more than one megawatt, e.g. in a range of about 1 kW to about 1 MW. Thus, for example, a generator can not be readily connected to the processing source or disconnected from the processing source, e.g. a specially trained electrician may be necessary to make electrical rewiring or a Umpinnen.
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen wird eine Anordnung mit mindestens einer Prozessierquelle und mindestens einem Generator (auch als Generatoranordnung bezeichnet) zum Versorgen der Prozessierquelle mit elektrischer Energie bereitgestellt, wobei die Prozessierquelle wahlweise im DC-Betriebsmodus oder im AC-Betriebsmodus betrieben werden kann und mittels des Generators ebenfalls wahlweise für beide Betriebsmodi die elektrische Versorgung bereitgestellt werden kann. Dabei kann, wenn sowohl der Generator und als auch die Prozessierquelle im AC-Modus betrieben werden, eine erste Verschaltung (AC-Verschaltung) zwischen dem Generator und der Prozessierquelle notwendig sein, und, in analoger Weise kann, wenn sowohl der Generator und als auch die Prozessierquelle im DC-Modus betrieben werden, eine zweite Verschaltung (DC-Verschaltung) zwischen dem Generator und der Prozessierquelle notwendig sein. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen wird zwischen die Prozessierquelle und den Generator eine Schaltnetzeinrichtung mit einer Konfigurationsvorrichtung geschaltet, wobei die Konfigurationsvorrichtung derart eingerichtet ist, dass der entsprechende Verschaltungsmodus (d.h. AC-Verschaltung oder DC-Verschaltung) zu dem ausgewählten Betriebsmodus des Generators und der Prozessierquelle bereitgestellt werden kann.According to various embodiments, an arrangement is provided with at least one processing source and at least one generator (also referred to as a generator arrangement) for supplying the processing source with electrical energy, wherein the processing source can be operated either in the DC operating mode or in the AC operating mode and by means of the generator as well optionally for both modes of operation, the electrical supply can be provided. In this case, if both the generator and the processing source are operated in AC mode, a first interconnection (AC interconnection) between the generator and the processing source may be necessary, and, in an analogous manner, if both the generator and the processing source are operated in DC mode, a second interconnection (DC interconnection) between the generator and the processing source be necessary. According to various embodiments, a switching network device with a configuration device is switched between the processing source and the generator, wherein the configuration device is set up in such a way that the corresponding connection mode (ie, AC connection or DC connection) can be provided for the selected operating mode of the generator and the processing source ,
Dazu kann die Konfigurationsvorrichtung, um eine erste elektrische Verschaltung des Generators und der Prozessierquelle für den AC-Modus zu ermöglichen, ein AC-Konfigurationselement und, um eine zweite elektrische Verschaltung des Generators und der Prozessierquelle für den DC-Modus zu ermöglichen, ein DC-Konfigurationselement aufweisen. Dabei können die Konfigurationselemente beispielsweise als Stecker ausgestaltet sein oder werden, welche lediglich eingesteckt werden müssen, um die jeweilige elektrische Verschaltungsvariante (d.h. die AC-Verschaltung oder die DC-Verschaltung) bereitzustellen.For this, the configuration device, in order to enable a first electrical connection of the generator and the processing source for the AC mode, an AC configuration element and, in order to enable a second electrical connection of the generator and the processing source for the DC mode, a DC Have configuration element. In this case, the configuration elements can be configured, for example, as plugs, which merely have to be plugged in to provide the respective electrical connection variant (i.e., the AC interconnection or the DC interconnection).
Beispielsweise kann als Prozessierquelle eine Sputterquelle (auch als Sputterquellen-Anordnung bezeichnet) verwendet werden, oder auch eine beliebige geeignete Plasmaquelle, Beschichtungsquelle, etc.For example, a sputter source (also referred to as a sputter source arrangement) can be used as the processing source, or any suitable plasma source, coating source, etc.
Eine Sputterquelle kann beispielsweise mindestens eine Kathode aufweisen, wobei zum Beschichten eines Substrats die mindestens eine Kathode selbst zerstäubt wird. Dies wird als Sputterprozess (oder auch als Kathodenzerstäubung, Sputterbeschichtung oder Sputterdeposition) bezeichnet. Anschaulich dient die Kathode dabei selbst als Target, welches in dem Sputterprozess zerstäubt wird. Die Sputterquelle kann beispielsweise als Magnetron-Sputterquelle (oder, kurz, als Magnetron bezeichnet) eingerichtet sein oder werden, wobei dazu eine Magnetanordnung verwendet wird, welche relativ zu der mindestens einen Kathode derart angeordnet und welche derart eingerichtet ist, dass die Zerstäubung der mindestens einen Kathode mittels eines Magnetfelds unterstützt wird. Das magnetfeldunterstützte Sputtern wird auch als Magnetron-Sputtern bezeichnet.For example, a sputtering source may include at least one cathode, wherein for coating a substrate, the at least one cathode itself is sputtered. This is referred to as a sputtering process (or sputtering, sputter coating or sputter deposition). Illustratively, the cathode itself serves as a target, which is atomized in the sputtering process. The sputtering source may be, for example, set up as a magnetron sputtering source (or, in short, as a magnetron) using a magnet arrangement which is arranged relative to the at least one cathode and which is arranged such that the sputtering of the at least one Cathode is supported by means of a magnetic field. Magnetic field assisted sputtering is also referred to as magnetron sputtering.
Eine Sputterquelle, z.B. ein Magnetron, kann herkömmlicherweise derart eingerichtet sein, dass mittels dieser nur ein einziger Betriebsmodus aus einer Vielzahl von möglichen Betriebsmodi umgesetzt werden kann. Die verschiedenen Betriebsmodi einer Sputterquelle, einzeln oder in Kombination, können beispielsweise aufweisen: Sputtern mit oder ohne Magnetfeldunterstützung, geregeltes oder ungeregeltes reaktives Sputtern, nicht reaktives Sputtern, Gleichspannungs-Sputtern (DC-Sputtern oder Unipolares-Sputtern), Wechselspannungs-Sputtern (AC-Sputtern oder Bipolares-Sputtern, z.B. MF-(Mittelfrequenz)-Sputtern), gepulstes Gleichspannungs-Sputtern (z.B. Hochleistungs-Impulsmagnetronsputtern; als HiPIMS oder HPPMS abgekürzt). Herkömmlicherweise werden beispielsweise für verschiedene Betriebsarten eines Magnetrons verschiedene speziell an die Betriebsart angepasste Magnetrons bereitgestellt, wobei diese Magnetrons eingerichtet sein können, nur einen speziellen Betriebsmodus optimal umzusetzen.A sputter source, e.g. a magnetron, may conventionally be arranged such that only a single operating mode can be implemented from a plurality of possible operating modes by means of the latter. The different operating modes of a sputtering source, singly or in combination, may include, for example, sputtering with or without magnetic field assist, controlled or unregulated reactive sputtering, non-reactive sputtering, DC sputtering (DC sputtering or unipolar sputtering), AC sputtering (AC sputtering). Sputtering or bipolar sputtering, eg MF (mid frequency) sputtering), pulsed DC sputtering (eg high power pulsed magnetron sputtering, abbreviated as HiPIMS or HPPMS). Conventionally, for example, different magnetrons specially adapted to the operating mode are provided for different operating modes of a magnetron, wherein these magnetrons can be set up to optimally implement only a specific operating mode.
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen wird eine Prozessieranordnung (z.B. eine Sputteranordnung oder eine Magnetron-Sputteranordnung) bereitgestellt, mittels derer auf einfache Weise zwischen mindestens zwei verschiedenen Betriebsmodi, d.h. zumindest einem Gleichspannungs-(DC)-Betriebsmodus und einem Wechselspannungs-(AC)-Betriebsmodus, der Prozessieranordnung umgeschaltet werden kann, z.B. ohne eine elektrische Verdrahtung zu öffnen. According to various embodiments, a processing arrangement (eg, a sputtering arrangement or a magnetron sputtering arrangement) is provided, by means of which easily between at least two different operating modes, ie at least a DC (DC) operating mode and an AC (AC) operating mode Processing arrangement can be switched, for example, without opening an electrical wiring.
Ein Magnetron kann beispielsweise zwei Kathoden aufweisen, z.B. kann ein Doppel-Rohr-Magnetron zwei im Wesentlichen parallel nebeneinander angeordnete rohrförmige Kathoden aufweisen oder ein Doppel-Planar-Magnetron kann zwei im Wesentlichen parallel nebeneinander angeordnete planare Kathoden aufweisen, wobei das Magnetron derart eingerichtet sein kann oder werden kann, dass dieses auf einfache Weise in mehreren Betriebsmodi (z.B. reaktives oder metallisches DC-Sputtern bzw. reaktives oder metallisches AC-Sputtern) betrieben werden kann. Dazu kann das Magnetron beispielsweise derart bereitgestellt sein, dass mittels lösbarer Verbindungen die Gasführung und/oder die Anoden des Magnetrons an den jeweils gewünschten Betriebsmodus angepasst werden können. Ferner kann das Magnetron ein Anschluss-Terminal aufweisen zum Verbinden des Magnetrons an die externen Versorgungsvorrichtungen, z.B. Strom/Spannungs-Versorgungen (auch als Generator bezeichnet), oder Gasversorgungen (Arbeitsgas-Versorgungen oder Reaktivgas-Versorgungen). Dabei kann das Anschluss-Terminal derart eingerichtet sein, dass die verschiedenen Betriebsmodi berücksichtigt sind.For example, a magnetron may have two cathodes, e.g. For example, a double-tube magnetron may have two substantially parallel juxtaposed tubular cathodes, or a double-planar magnetron may have two substantially parallel juxtaposed planar cathodes, which magnetron may be or may be configured to be simple in several operating modes (eg reactive or metallic DC sputtering or reactive or metallic AC sputtering) can be operated. For this purpose, the magnetron can be provided, for example, such that the gas guide and / or the anodes of the magnetron can be adapted to the respective desired operating mode by means of detachable connections. Further, the magnetron may have a terminal terminal for connecting the magnetron to the external supply devices, e.g. Power / voltage supplies (also referred to as generators), or gas supplies (working gas supplies or reactive gas supplies). In this case, the connection terminal can be set up such that the various operating modes are taken into account.
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann ein Magnetron in Form eines Magnetron-Deckels bereitgestellt sein oder werden, wobei mittels des Magnetrondeckels eine entsprechend passende Deckelöffnung in einer Vakuumprozesskammer gasdicht bzw. vakuumdicht abgedeckt werden kann.According to various embodiments, a magnetron may be provided in the form of a magnetron lid, wherein by means of the magnetron lid, a correspondingly fitting lid opening in a vacuum process chamber can be covered gas-tight or vacuum-tight.
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen wird eine elektrische Leistungsversorgung für einen Magnetron-Deckel bereitgestellt, z.B. für eine Durchlaufbeschichtungsanlage oder eine Folienbeschichtungsanlage, wobei der Magnetron-Deckel ausreichend freien Bauraum aufweist zum Konfigurieren des Magnetron-Deckels für verschiedene Betriebsmodi, so dass der Magnetron-Deckel universell eingesetzt werden kann. Dabei können die jeweiligen Umbauteile in dem freien Bauraum mittels Klemm-, Steck- und/oder Schraubverbindungen lösbar befestigt sein oder werden. Zu den Umbauteilen können beispielsweise Anodenstrukturen gehören, zum Bereitstellen verschiedener Anodenformen, oder Gasleitstrukturen (z.B. Gasleitbleche) zum Anpassen der Gasflüsse, welche die Magnetronkathoden mit Prozessgas (Arbeitsgas und/oder Reaktivgas) versorgen, z.B. zum Beeinflussen des Gasflusses von einem Gaseinlass oder mehreren Gaseinlässen (einem Gaskanal und/oder mehreren Gasverteilern) zu einer oder mehreren Absaugöffnungen (Pumpöffnungen) hin.According to various embodiments, an electric power supply is provided for a magnetron lid, e.g. for a continuous coating installation or a film coating installation, wherein the magnetron cover has sufficient free space for configuring the magnetron cover for different operating modes, so that the magnetron cover can be used universally. The respective conversion parts can be releasably secured in the free space by means of clamping, plug and / or screw connections or be. The conversion parts may include, for example, anode structures for providing various anode shapes, or gas guide structures (e.g., gas baffles) for adjusting the gas flows that supply the magnetron cathodes with process gas (working gas and / or reactive gas), e.g. for influencing the gas flow from one or more gas inlets (one gas duct and / or multiple gas distributors) to one or more exhaust ports (pumping orifices).
Ein Magnetron kann beispielsweise Folgendes aufweisen: eine erste Magnetronkathode mit einer ersten Magnetanordnung, welche einen ersten Plasmabereich unterhalb der ersten Magnetronkathode definiert; eine zweite Magnetronkathode mit einer zweiten Magnetanordnung, welche einen zweiten Plasmabereich unterhalb der zweiten Magnetronkathode definiert; mindestens eine Anodenstruktur, welche den beiden Magnetronkathoden zugeordnet ist.For example, a magnetron may include: a first magnetron cathode having a first magnet assembly defining a first plasma region below the first magnetron cathode; a second magnetron cathode having a second magnet assembly defining a second plasma region below the second magnetron cathode; at least one anode structure associated with the two magnetron cathodes.
Ein Magnetron kann beispielsweise Folgendes aufweisen: eine erste Magnetronkathode mit einer ersten Magnetanordnung, welche einen ersten Plasmabereich unterhalb der ersten Magnetronkathode definiert; eine zweite Magnetronkathode mit einer zweiten Magnetanordnung, welche einen zweiten Plasmabereich unterhalb der zweiten Magnetronkathode definiert; einen ersten Anodenträger mit mindestens einer ersten Haltestruktur zum Halten und elektrischen Versorgen mindestens einer ersten Anodenstruktur, wobei der erste Anodenträger oberhalb der ersten Magnetronkathode angeordnet ist; einen zweiten Anodenträger mit mindestens einer zweiten Haltestruktur zum Halten und elektrischen Versorgen mindestens einer zweiten Anodenstruktur, wobei der zweite Anodenträger oberhalb der zweiten Magnetronkathode angeordnet ist.For example, a magnetron may include: a first magnetron cathode having a first magnet assembly defining a first plasma region below the first magnetron cathode; a second magnetron cathode having a second magnet assembly defining a second plasma region below the second magnetron cathode; a first anode support having at least one first support structure for holding and electrically supplying at least a first anode structure, wherein the first anode support is disposed above the first magnetron cathode; a second anode support having at least one second support structure for holding and electrically supplying at least one second anode structure, wherein the second anode support is disposed above the second magnetron cathode.
Ein Verfahren zum Betreiben der Sputteranordnung kann beispielsweise Folgendes aufweisen: Koppeln einer ersten Energieversorgung zum Versorgen der beiden Sputterkathoden und/oder der beiden Anodenträger mit elektrischer Energie in einem Gleichspannungs-Betriebsmodus, wobei mittels der ersten Energieversorgung ein negatives Potential an den beiden Sputterkathoden und ein positives Potential an den Anodenträgern bereitgestellt wird; und/oder Koppeln einer zweiten Energieversorgung zum Versorgen der beiden Sputterkathoden mit elektrischer Energie in einem Wechselspannungs-Betriebsmodus, wobei mittels der zweiten Energieversorgung eine Wechselspannung an die beiden Sputterkathoden angelegt wird und wobei die beiden Anodenträger auf elektrische Masse (Massepotential) gelegt sind.A method of operating the sputtering arrangement may comprise, for example: coupling a first power supply for supplying the two sputtering cathodes and / or the two anode supports with electrical energy in a DC operating mode, wherein by means of the first power supply a negative potential is provided to the two sputtering cathodes and a positive potential is applied to the anode supports; and / or coupling a second power supply for supplying the two sputtering cathodes with electrical energy in an alternating voltage operating mode, wherein an alternating voltage is applied to the two sputtering cathodes by means of the second power supply and wherein the two anode supports are connected to electrical ground (ground potential).
Ein Verfahren zum Betreiben der Sputteranordnung kann beispielsweise Folgendes aufweisen: Koppeln einer Energieversorgung zum Versorgen der beiden Sputterkathoden und/oder der beiden Anodenträger mit elektrischer Energie in einem Gleichspannungs-Betriebsmodus und/oder in einem Wechselspannungs-Betriebsmodus, wobei im Gleichspannungs-Betriebsmodus mittels der Energieversorgung ein negatives Potential an den beiden Sputterkathoden und ein positives Potential an den Anodenträgern bereitgestellt wird, und wobei im Wechselspannungs-Betriebsmodus mittels der Energieversorgung eine Wechselspannung an die beiden Sputterkathoden angelegt wird und die beiden Anodenträger auf elektrische Masse (Massepotential) gelegt sind.A method of operating the sputtering arrangement may comprise for example: coupling a power supply for supplying the two sputtering cathodes and / or the two anode supports with electrical energy in a DC operating mode and / or in an AC operating mode, wherein in the DC operating mode by means of the power supply a negative potential is provided to the two sputtering cathodes and a positive potential to the anode carriers, and wherein in the alternating voltage operating mode by means of the power supply, an alternating voltage is applied to the two sputtering cathodes and the two anode supports are connected to electrical ground (ground potential).
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Prozessieranordnung Folgendes aufweisen: eine Prozessierquelle, eine Generatoranordnung zum Bereitstellen von Versorgungspotentialen für einen DC-Betriebsmodus der Prozessierquelle sowie für einen AC-Betriebsmodus der Prozessierquelle; und eine zwischen die Generatoranordnung und die Prozessierquelle geschaltete Schaltnetzeinrichtung, die generatorseitig Eingangsanschlüsse aufweist zum Anschließen von ersten Versorgungspotential-Kabeln und prozessierquellenseitig Ausgangsanschlüsse aufweist zum Anschließen von zweiten Versorgungspotential-Kabeln, wobei die Schaltnetzeinrichtung eine Konfigurationseinrichtung aufweist, die eingerichtet ist zum Zuordnen der Eingangsanschlüsse zu den Ausgangsanschlüssen abhängig von dem jeweiligen Betriebsmodus.According to various embodiments, a processing arrangement may include: a processing source, a generator arrangement for providing supply potentials for a DC operating mode of the processing source and for an AC operating mode of the processing source; and a switching network device connected between the generator arrangement and the processing source and having input terminals for connecting first supply potential cables and processing source side terminals for connecting second supply potential cables, wherein the switching network device has configuration means arranged for assigning the input terminals to Output connections depending on the respective operating mode.
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Konfigurationseinrichtung ein erstes Konfigurationselement aufweisen, welches eingerichtet ist zum Zuordnen der Eingangsanschlüsse zu den Ausgangsanschlüssen entsprechend dem DC-Betriebsmodus; und ferner kann die Konfigurationseinrichtung ein zweites Konfigurationselement aufweisen, welches eingerichtet ist zum Zuordnen der Eingangsanschlüsse zu den Ausgangsanschlüssen entsprechend dem AC-Betriebsmodus.According to various embodiments, the configuration device may include a first configuration element configured to associate the input ports with the output ports according to the DC operation mode; and further, the configuration means may comprise a second configuration element arranged to associate the input ports with the output ports according to the AC operating mode.
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Konfigurationseinrichtung eine Steckschnittstelle (oder eine andere geeignete Schnittstelle) aufweisen, und die beiden Konfigurationselemente können derart passend zu der Steckschnittstelle eingerichtet sein oder werden, dass diese zum Zuordnen der Eingangsanschlüsse zu den Ausgangsanschlüssen zu dem jeweiligen Betriebsmodus an die Steckschnittstelle steckbar (bzw. mit der Schnittstelle koppelbar) sind. Dabei können die Eingangsanschlüsse zu den Ausgangsanschlüssen entsprechend dem DC-Betriebsmodus zugeordnet sein oder werden, wenn das erste Konfigurationselement an die Steckschnittstelle gesteckt ist oder in die Steckschnittstelle eingesteckt ist, und die Eingangsanschlüsse können zu den Ausgangsanschlüssen entsprechend dem AC-Betriebsmodus zugeordnet sein oder werden, wenn das zweite Konfigurationselement an die Steckschnittstelle gesteckt ist oder in die Steckschnittstelle eingesteckt ist.According to various embodiments, the configuration device can have a plug-in interface (or another suitable interface), and the two configuration elements can be or are adapted to the plug-in interface such that they can be plugged into the plug-in interface for assigning the input connections to the output connections to the respective operating mode ( or coupled to the interface) are. Herein, the input terminals may be assigned to the output terminals according to the DC operation mode when the first configuration element is plugged into the plug-in interface or plugged into the plug-in interface, and the input terminals may be assigned to the output terminals according to the AC operation mode. if the second configuration element is plugged into the plug-in interface or plugged into the plug-in interface.
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Konfigurationseinrichtung mechanisch fingersicher und/oder elektrisch hochspannungssicher eingerichtet sein oder werden.According to various embodiments, the configuration device can be or be set up mechanically finger-proof and / or electrically high-voltage-proof.
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Prozessierquelle eine erste Kathode, eine zweite Kathode und mindestens eine Anodenstruktur aufweisen, wobei die beiden Kathoden und die Anodenstruktur mittels der zweiten Versorgungspotential-Kabel mit den prozessierquellenseitigen Ausgangsanschlüssen der Schaltnetzeinrichtung verbunden sind.According to various embodiments, the processing source may include a first cathode, a second cathode, and at least one anode structure, wherein the two cathodes and the anode structure are connected to the processing source side output terminals of the switching network device via the second supply potential cables.
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Prozessieranordnung ferner eine Steuerung aufweisen, wobei die Steuerung ein erstes Signalisierungsprotokoll zum Erkennen seitens der Generatoranordnung, welcher Betriebsmodus bereitgestellt ist, aufweist und wobei die Steuerung ein zweites Signalisierungsprotokoll zum Erkennen seitens der Konfigurationseinrichtung, nach welchem Betriebsmodus die Eingangsanschlüsse zu den Ausgangsanschlüssen zugeordnet sind, aufweist.According to various embodiments, the processing arrangement may further comprise a controller, wherein the controller has a first signaling protocol for recognizing by the generator arrangement, which operating mode is provided, and wherein the controller is a second signaling protocol for recognizing by the configuration device, according to which operating mode the input ports to the output ports are associated.
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Steuerung ferner ein Sicherungsprotokoll zum elektrischen Separieren der Generatoranordnung von der Schaltnetzeinrichtung aufweisen, wenn der erkannte Betriebsmodus des ersten Signalisierungsprotokolls nicht gleich dem erkannten Betriebsmodus des zweiten Signalisierungsprotokolls ist. Anschaulich wird beispielsweise verglichen, ob sowohl die Generatoranordnung als auch die Prozessierquelle im gleichen Betriebsmodus sind, so dass ein sicherer Betrieb trotz der wählbaren Betriebsmodi der verschieden Komponenten sichergestellt sein kann oder werden kann.According to various embodiments, the controller may further comprise a backup protocol for electrically isolating the generator assembly from the switch fabric device when the detected operational mode of the first signaling protocol is not equal to the recognized operational mode of the second signaling protocol. Illustratively, for example, it is compared whether both the generator arrangement and the processing source are in the same operating mode, so that reliable operation can or can be ensured despite the selectable operating modes of the various components.
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann ein Verfahren zum Betreiben einer Prozessieranordnung Folgendes aufweisen: Umstellen einer Generatoranordnung von einem ersten Betriebsmodus, in welchem Versorgungspotentiale für einen ersten Betriebsmodus einer Prozessierquelle bereitgestellt werden, auf einen zweiten Betriebsmodus, in welchem Versorgungspotentiale für einen zweiten Betriebsmodus der Prozessierquelle bereitgestellt werden, wobei zwischen die Generatoranordnung und die Prozessierquelle eine Schaltnetzeinrichtung geschaltet ist, welche generatorseitig Eingangsanschlüsse aufweist zum Anschließen von ersten Versorgungspotential-Kabeln und prozessierquellenseitig Ausgangsanschlüsse aufweist zum Anschließen von zweiten Versorgungspotential-Kabeln, und wobei die Schaltnetzeinrichtung eine Konfigurationseinrichtung aufweist zum Zuordnen der Eingangsanschlüsse zu den Ausgangsanschlüssen abhängig von dem jeweiligen Betriebsmodus; und Umstellen der Konfigurationseinrichtung von einer ersten Konfiguration, in welcher die Eingangsanschlüsse zu den Ausgangsanschlüssen entsprechend dem ersten Betriebsmodus zugeordnet sind, auf eine zweite Konfiguration, in welcher die Eingangsanschlüsse zu den Ausgangsanschlüssen entsprechend dem zweiten Betriebsmodus zugeordnet sind.According to various embodiments, a method for operating a processing arrangement may comprise: converting a generator arrangement from a first operating mode, in which supply potentials are provided for a first operating mode of a processing source, to a second operating mode, in which supply potentials are provided for a second operating mode of the processing source, wherein a switching network device is connected between the generator arrangement and the processing source, which has input terminals for connecting first supply potential cables and processing source side for connecting second supply potential cables, and wherein the switching network device has a configuration device for assigning the input terminals to the output terminals dependent from the respective operating mode; and switching the configuration device from a first configuration in which the input ports are connected to the output ports in accordance with assigned to the first operating mode, to a second configuration in which the input terminals are assigned to the output terminals according to the second operating mode.
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann ein Verfahren zum Betreiben einer Sputteranordnung Folgendes aufweisen: Auswählen aus einem AC-Betriebsmodus und einem DC-Betriebsmodus einer Generatoranordnung, wobei im AC-Betriebsmodus der Generatoranordnung Versorgungspotentiale für einen AC-Betriebsmodus einer Sputterquelle bereitgestellt werden und wobei im DC-Betriebsmodus der Generatoranordnung Versorgungspotentiale für einen DC-Betriebsmodus der Sputterquelle bereitgestellt werden; Einstecken eines AC-Konfigurationselements oder DC-Konfigurationselements in eine Konfigurationseinrichtung entsprechend dem ausgewählten Betriebsmodus der Generatoranordnung, wobei dadurch der Sputterquelle die Versorgungspotentiale für den entsprechenden Betriebsmodus zugeführt werden. Mit anderen Worten, wenn der AC-Betriebsmodus ausgewählt ist, kann das Verfahren aufweisen: Einstecken eines AC-Konfigurationselements in eine Konfigurationseinrichtung einer zwischen die Generatoranordnung und die Sputterquelle geschalteten Schaltnetzeinrichtung, wobei dadurch der Sputterquelle die Versorgungspotentiale für den AC-Betriebsmodus zugeführt werden; oder wenn der DC-Betriebsmodus ausgewählt ist, kann das Verfahren aufweisen: Einstecken eines DC-Konfigurationselements in die Konfigurationseinrichtung der zwischen die Generatoranordnung und die Sputterquelle geschalteten Schaltnetzeinrichtung, wobei dadurch der Sputterquelle die Versorgungspotentiale für den DC-Betriebsmodus zugeführt werden.According to various embodiments, a method of operating a sputtering arrangement may include: selecting from an AC mode of operation and a DC mode of operation of a generator assembly, wherein in the AC mode of operation of the generator assembly supply potentials are provided for an AC mode of operation of a sputtering source and wherein in the DC mode of operation the generator arrangement supply potentials are provided for a DC operating mode of the sputtering source; Plugging an AC configuration element or DC configuration element into a configuration device corresponding to the selected operating mode of the generator arrangement, thereby supplying the sputter source with the supply potentials for the corresponding operating mode. In other words, when the AC operation mode is selected, the method may include: inserting an AC configuration element into a configuration device of a switching device connected between the generator device and the sputter source, thereby supplying the sputter source with the supply potentials for the AC operation mode; or if the DC mode of operation is selected, the method may include: inserting a DC configuration element into the configuration device of the switching network device connected between the generator device and the sputter source, thereby supplying the sputter source with the supply potentials for the DC mode of operation.
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann ein Verfahren zum Betreiben einer Sputteranordnung Folgendes aufweisen: Einstecken eines AC-Konfigurationselements in eine Konfigurationseinrichtung einer zwischen eine Generatoranordnung und eine Sputterquelle geschalteten Schaltnetzeinrichtung, wobei dadurch generatorseitige Eingangsanschlüsse der Schaltnetzeinrichtung mit sputterquellenseitigen Ausgangsanschlüssen der Schaltnetzeinrichtung entsprechend einem AC-Betriebsmodus einer Sputterquelle verbunden werden; oder Einstecken eines DC-Konfigurationselements in die Konfigurationseinrichtung der zwischen die Generatoranordnung und die Sputterquelle geschalteten Schaltnetzeinrichtung, wobei dadurch die generatorseitigen Eingangsanschlüsse der Schaltnetzeinrichtung mit den sputterquellenseitigen Ausgangsanschlüssen der Schaltnetzeinrichtung entsprechend einem DC-Betriebsmodus der Sputterquelle verbunden werden; Auswählen aus einem AC-Betriebsmodus und einem DC-Betriebsmodus der Generatoranordnung entsprechend dem eingesteckten Konfigurationselement. Mit anderen Worten, wenn das AC-Konfigurationselement in die Konfigurationseinrichtung eingesteckt ist, kann das Verfahren aufweisen: Auswählen des AC-Betriebsmodus der Generatoranordnung; oder wenn das DC-Konfigurationselement in die Konfigurationseinrichtung eingesteckt ist, kann das Verfahren aufweisen: Auswählen des DC-Betriebsmodus der Generatoranordnung.According to various embodiments, a method for operating a sputtering arrangement may include: inserting an AC configuration element into a configuration device of a switching device connected between a generator device and a sputter source, thereby connecting generator side input terminals of the switching device to sputtering-side output terminals of the switching device according to an AC operation mode of a sputtering source become; or inserting a DC configuration element into the configuration device of the switching network device connected between the generator device and the sputtering source, thereby connecting the generator side input terminals of the switching network device to the sputtering source side terminals of the switching network device according to a DC operation mode of the sputtering source; Selecting from an AC operating mode and a DC operating mode of the generator arrangement according to the inserted configuration element. In other words, when the AC configuration element is plugged into the configuration device, the method may include: selecting the AC mode of operation of the generator assembly; or if the DC configuration element is plugged into the configuration device, the method may include: selecting the DC operating mode of the generator arrangement.
Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in den Figuren dargestellt und werden im Folgenden näher erläutert.Embodiments of the invention are illustrated in the figures and are explained in more detail below.
Es zeigenShow it
In der folgenden ausführlichen Beschreibung wird auf die beigefügten Zeichnungen Bezug genommen, die Teil dieser bilden und in denen zur Veranschaulichung spezifische Ausführungsformen gezeigt sind, in denen die Erfindung ausgeübt werden kann. In dieser Hinsicht wird Richtungsterminologie wie etwa "oben", "unten", "vorne", "hinten", "vorderes", "hinteres", usw. mit Bezug auf die Orientierung der beschriebenen Figur(en) verwendet. Da Komponenten von Ausführungsformen in einer Anzahl verschiedener Orientierungen positioniert werden können, dient die Richtungsterminologie zur Veranschaulichung und ist auf keinerlei Weise einschränkend. Es versteht sich, dass andere Ausführungsformen benutzt und strukturelle oder logische Änderungen vorgenommen werden können, ohne von dem Schutzumfang der vorliegenden Erfindung abzuweichen. Es versteht sich, dass die Merkmale der hierin beschriebenen verschiedenen beispielhaften Ausführungsformen miteinander kombiniert werden können, sofern nicht spezifisch anders angegeben. Die folgende ausführliche Beschreibung ist deshalb nicht in einschränkendem Sinne aufzufassen, und der Schutzumfang der vorliegenden Erfindung wird durch die angefügten Ansprüche definiert.In the following detailed description, reference is made to the accompanying drawings, which form a part hereof, and in which is shown by way of illustration specific embodiments in which the invention may be practiced. In this regard, directional terminology such as "top", "bottom", "front", "back", "front", "rear", etc. used with respect to the orientation of the figure (s) described. Because components of embodiments can be positioned in a number of different orientations, the directional terminology is illustrative and is in no way limiting. It should be understood that other embodiments may be utilized and structural or logical changes may be made without departing from the scope of the present invention. It should be understood that the features of the various exemplary embodiments described herein may be combined with each other unless specifically stated otherwise. The following detailed description is therefore not to be taken in a limiting sense, and the scope of the present invention is defined by the appended claims.
Im Rahmen dieser Beschreibung werden die Begriffe "verbunden", "angeschlossen" sowie "gekoppelt" verwendet zum Beschreiben sowohl einer direkten als auch einer indirekten Verbindung, eines direkten oder indirekten Anschlusses sowie einer direkten oder indirekten Kopplung. In den Figuren werden identische oder ähnliche Elemente mit identischen Bezugszeichen versehen, soweit dies zweckmäßig ist.As used herein, the terms "connected," "connected," and "coupled" are used to describe both direct and indirect connection, direct or indirect connection, and direct or indirect coupling. In the figures, identical or similar elements are provided with identical reference numerals, as appropriate.
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen wird ein Multi-Mode-Magnetron bereitgestellt, welches es erlaubt die Betriebsart des Magnetrons von AC-Betrieb auf DC-Betrieb umzuschalten, und umgekehrt. Dabei wird ein personensicheres Umschalten von Leitungen, welche Hochspannung (z.B. mehr als 200 V, z.B. 200 V bis 500 V) führen, auf wechselseitig nutzbare Anschlussklemmen eines Verbrauchers gewährleistet.According to various embodiments, a multi-mode magnetron is provided which allows the operating mode of the magnetron to be switched from AC operation to DC operation, and vice versa. In this case, a person-safe switching of lines carrying high voltage (for example, more than 200 V, for example, 200 V to 500 V) is ensured on mutually usable terminals of a consumer.
Mittels einer Hochspannungs-Hochstromquelle (auch als Generator bezeichnet) werden wahlweise AC-oder DC-Spannungen erzeugt. In einer Ausführungsform werden diese Betriebsarten Plasmaquellen zugeführt. Ein Plasma kann sowohl im AC- als auch DC-Modus erzeugt werden. Im AC-Modus geschieht im Vakuum dieses mittels eines alternierenden Stroms (AC) zwischen beispielsweise zwei Kathoden (beispielsweise Rohrkathoden, planare Kathoden, etc.) oder im DC-Modus mittels Gleichstroms (DC) zwischen einer Kathode und Anode (beispielsweise zwischen jeweils einer Rohrkathode und einer der Rohrkathode zugeordnete Anodenstruktur).By means of a high voltage high current source (also referred to as a generator) optionally AC or DC voltages are generated. In one embodiment, these modes are supplied to plasma sources. A plasma can be generated in both AC and DC modes. In AC mode, this is done in vacuum this by means of an alternating current (AC) between, for example, two cathodes (for example tube cathodes, planar cathodes, etc.) or in DC mode by means of direct current (DC) between a cathode and anode (for example, between each tube cathode and an anode structure associated with the tube cathode).
Das bedeutet, bei einer Betriebsartumschaltung der Hochspannungs-Hochstromquelle, ist eine gleichzeitige Umschaltung der Anschlussklemmen an der Plasmaquelle erforderlich. Beispielsweise wäre die Umschaltung der Betriebsart mittels eines manuellen, zeitaufwendigen Umpinnens oder mittels Adapterkabeln möglich. Diese Arbeiten müssten dann beispielsweise von speziell geschulten Fachkräften (d.h. einer Elektrofachkraft) durchgeführt werden.That is, in a mode switching of the high voltage high current source, a simultaneous switching of the terminals on the plasma source is required. For example, it would be possible to switch the operating mode by means of manual, time-consuming re-spinning or by means of adapter cables. This work would then have to be carried out by specially trained professionals (i.e.
Daher wird, gemäß verschiedenen Ausführungsformen, die Umschaltung mit einer Umschaltbox (auch als Patchbox oder Konfigurationseinrichtung bezeichnet) realisiert. Sowohl zwischen dem Generator und der Umschaltbox, als auch zwischen der Umschaltbox und der Plasmaquelle werden die Leistungführenden Kabel mit der Umschaltbox fest verbunden.Therefore, according to various embodiments, switching with a switch box (also referred to as a patch box or configuration device) is realized. Between the generator and the switch box, as well as between the switch box and the plasma source, the power cables are firmly connected to the switch box.
Die Umschaltbox kann in eine Schaltnetzeinrichtung (z.B. einen entsprechend geeignet ausgestalteten Schaltschrank) integriert sein oder werden, wobei dabei eine Koppelstelle für sowohl die generatorseitigen Kabel, als auch die plasmaquellenseitigen Kabel nach Außen geführt sein können.The switching box can be integrated into a switching network device (for example a correspondingly suitably designed switching cabinet), whereby a coupling point for both the generator-side cables and the plasma-source-side cables can be led to the outside.
Alternativ kann beispielsweise eine Umschaltbox (z.B. ein entsprechend eingerichteter Umschalter bzw. Konfigurationsstecker) in ein Magnetron (oder in die jeweils verwendete Prozessierquelle) integriert sein oder werden. Beispielsweise kann das Magnetron als ein so genannter Magnetrondeckel ausgestaltet sein, wobei der Magnetrondeckel auf eine entsprechend dazu passende Kammeröffnung einer Vakuumprozessierkammer aufgelegt werden kann, wobei dann die Umschaltbox in den Magnetrondeckel integriert sein kann oder werden kann.Alternatively, for example, a switch box (e.g., a suitably configured switch) may be integrated into a magnetron (or the processing source used). For example, the magnetron can be designed as a so-called magnetron cover, wherein the magnetron cover can be placed on a correspondingly matching chamber opening of a vacuum processing chamber, in which case the switching box can be integrated in the magnetron cover or can be.
Durch eine geeignete Konfiguration der Steckerpinbrückung in der Steckerpinbelegung kann mittels eines Steckers die DC Betriebsart kontaktiert werden und mittels eines anderen Steckers die AC-Betriebsart. Weitere Konfigurationen wären möglich, sofern es die Prozessierquelle erfordert oder es hilfreich wäre. Beide Stecker werden hierin auch als Patchblöcke bezeichnet. Diese Patchblöcke können beispielsweise in den Sicherheitskreis eingebunden sein oder werden.By means of a suitable configuration of the plug pin bridging in the plug pin assignment, the DC operating mode can be contacted by means of a plug, and the AC operating mode can be contacted by means of another plug. Other configurations would be possible if the processing source required or would be helpful. Both connectors are also referred to herein as patch blocks. These patch blocks can be integrated into the safety circuit, for example.
Alternativ zu dem Umschalten der Betriebsmodi mittels der entsprechend konfigurierten Patchblöcke kann das Umschalten mittels elektrischer Schalter erfolgen, z.B. unter Verwendung mindestens eines Leistungsschützes. In diesem Fall kann die Ansteuerung des Umschaltvorgangs, d.h. die entsprechend eingerichtete Ansteuerung des Generators und der zum Umschalten verwendeten elektrischen Schalter von einer Bedienoberfläche oder einem Bedienfeld her (d.h. remote mittels der Anlagensteuerung) erfolgen.Alternatively to the switching of the operating modes by means of the appropriately configured patch blocks, the switching can take place by means of electrical switches, e.g. using at least one power contactor. In this case, the driving of the switching operation, i. the appropriately configured control of the generator and the electrical switches used for switching are effected from a user interface or a control panel (i.e., remotely by means of the plant control).
Die Stecker (bzw. andere geeignete Anschlusselemente) sind mittels eines Sicherheitskreises (auch als Sicherungsprotokoll bezeichnet) abgesichert, so dass durch lösen eines Steckers die Verbindung sicher stromlos geschalten wird.The plug (or other suitable connection elements) are protected by means of a safety circuit (also referred to as a backup protocol), so that by releasing a plug, the connection is switched safely de-energized.
Ferner können die Patchblöcke derart eingerichtet sein, dass ein Fehlstecken vermieden werden kann. Damit ist ein personensicherer Wechsel der Betriebsart der Prozessierquelle (z.B. einem Doppel-Kathoden-Magnetron) realisiert. Furthermore, the patch blocks can be set up in such a way that a miscarriage can be avoided. This realizes a person-safe change of the operating mode of the processing source (eg a double-cathode magnetron).
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen ist eine Elektronik (auch als Steuerung bezeichnet) bereitgestellt, welche derart ausgestaltet ist, dass eine Prozessierquelle (z.B. Plasmaquelle), z.B. wenn die Elektronik zumindest teilweise in diese integriert ist, in der Lage ist, zu erkennen, welche Art von Patchblock an der Umschaltbox gesteckt ist. Dabei kann die Elektronik derart eingerichtet sein, dass mittels eines datenvernetzten Systems auch der Generator in die jeweilige korrespondierende Betriebsart umgeschaltet werden kann. Beispielsweise wird auch sichergestellt, dass der Generator, die Umschaltbox und beispielsweise das Magnetron stets in der gleichen Betriebsart konfiguriert sind.According to various embodiments, an electronics (also referred to as a controller) is provided which is configured such that a processing source (e.g., plasma source), e.g. if the electronics are at least partially integrated into it, it is able to recognize which type of patch block is plugged into the switch box. In this case, the electronics can be set up such that by means of a data-networked system, the generator can also be switched to the respective corresponding operating mode. For example, it is also ensured that the generator, the switch box and, for example, the magnetron are always configured in the same operating mode.
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann beispielsweise ein Wechsel der Patchblöcke zum Wechseln der Betriebsart mittels eines mechatronischen/elektrischen Systems erfolgen. Damit ist beispielsweise kein unmittelbarer Operatoreingriff mehr erforderlich.According to various embodiments, for example, a change of the patch blocks for changing the operating mode can take place by means of a mechatronic / electrical system. Thus, for example, no immediate operator intervention is required.
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die mittels der Generatoranordnung
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann nur ein einziger Generator verwendet werden. Alternativ können mehrere Generatoren verwendet werden, z.B. jeweils für jede zu Versorgende Kathode einer Sputterquelle ein separater Generator, so dass beispielsweise auch die Sputterleistung für den DC-Betriebsmodus für jede Kathode der Sputterquelle separat geregelt werden kann, wobei im AC-Betriebsmodus ein symmetrischer Betrieb jeweils zumindest eines Kathodenpaares erfolgt, wobei eine Kathode des Kathodenpaares auf der Null und die andere auf der Phase liegt.According to various embodiments, only a single generator may be used. Alternatively, multiple generators may be used, e.g. in each case a separate generator for each cathode of a sputtering source to be supplied, so that, for example, the sputtering power for the DC operating mode can be regulated separately for each cathode of the sputtering source, wherein in the AC operating mode a symmetrical operation takes place respectively of at least one cathode pair, wherein one cathode of the cathode pair is at zero and the other is at the phase.
Wie vorangehend beschrieben ist, kann die Prozessieranordnung
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen weist die Prozessieranordnung
Zum Versorgen eines Magnetrons mit zwei Kathoden können beispielsweise drei (siehe
Zum Versorgen eines Magnetrons mit zwei Kathoden können beispielsweise vier (siehe
Entsprechend kann auch die Anzahl der Adern des jeweiligen Versorgungspotential-Kabels
Entsprechend werden auch die Anzahl der generatorseitigen Eingangsanschlüsse
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können die ersten Versorgungspotential-Kabel
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen weist die Prozessieranordnung
Wie in
Dazu kann die Konfigurationseinrichtung
Aufgrund des mechanischen Vorgangs des Steckens wird eine Sicherheit erzeugt, da beispielsweise unbeabsichtigtes Schalten mechanisch ausgeschlossen werden kann. Auch ist kein manuelles Umverdrahten (auch als Umpinnen bezeichnet) notwendig, so dass eine sicherheitsrelevante Fehlerquelle (z.B. das falsche Zuordnen von Hochspannung/Hochstrom führenden Kabeln) vermieden werden kann.Due to the mechanical operation of the plugging a security is generated because, for example, unintentional switching can be mechanically excluded. Also, no manual rewiring (also referred to as re-spinning) is necessary so that a safety-relevant source of error (e.g., incorrect assignment of high voltage / high current cables) can be avoided.
Die Konfigurationseinrichtung
In
In
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Prozessierquelle
In analoger Weise können aber auch zwei planare Kathoden (auch als planare Targets bezeichnet) verwendet werden. In analoger Weise können Sputterkathoden ohne Magnetanordnung verwendet werden.In an analogous manner, however, two planar cathodes (also referred to as planar targets) can be used. In an analogous manner, sputtering cathodes without a magnet arrangement can be used.
Ferner kann die Prozessierquelle
Die Generatoranordnung
Die Generatoranordnung
Die mittels der Generatoranordnung
Wie in
Die mittels der Generatoranordnung
Je nach Leistungsbedarf der Prozessierquelle
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen ist die Konfiguration der elektrischen Leitungsführung außerhalb der Konfigurationseinrichtung
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Prozessieranordnung
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine allgemeine Energieversorgung (PCC, Power-Control-Center)
Ferner kann eine weitere Leistungsversorgung
Die Anlagensteuerung
Mittels eines ersten Signalisierungsprotokolls
Mittels eines zweiten Signalisierungsprotokolls
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann zur Prozesssteuerung ein PROFIBUS (Process Field Bus) oder ein beliebiger anderer geeigneter Feldbus für die Feldbus-Kommunikation verwendet werden, z.B. zur Kommunikation zwischen Anlagensteuerung
Sofern der Betriebsmodus der Konfigurationseinrichtung
Ferner kann die Prozessieranordnung
Mittels eines Sicherungsprotokolls, z.B. integriert in der Anlagensteuerung
In
Beispielsweise kann eine speicherprogrammierbare Steuerung SPS in die Anlagensteuerung
Ferner kann eine Visualisierung
Mittels der speicherprogrammierbaren Steuerung SPS, z.B. in der Prozessierquelle
In
In
In
Claims (9)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102015111369.4A DE102015111369A1 (en) | 2015-07-14 | 2015-07-14 | Processing arrangement and method for operating a processing arrangement |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102015111369.4A DE102015111369A1 (en) | 2015-07-14 | 2015-07-14 | Processing arrangement and method for operating a processing arrangement |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE102015111369A1 true DE102015111369A1 (en) | 2017-01-19 |
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ID=57629894
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|---|---|---|---|
| DE102015111369.4A Withdrawn DE102015111369A1 (en) | 2015-07-14 | 2015-07-14 | Processing arrangement and method for operating a processing arrangement |
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| DE (1) | DE102015111369A1 (en) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6114655A (en) * | 1997-06-11 | 2000-09-05 | Illinois Tool Works Inc. | Method and apparatus for producing welding power |
| US20040015245A1 (en) * | 2001-04-06 | 2004-01-22 | Keane Anthony R. A. | Modular architecture for industrial power delivery system |
| DE102009015698A1 (en) * | 2009-03-31 | 2010-10-14 | Rohde & Schwarz Gmbh & Co. Kg | Power lines adaptation device for consumer load in e.g. broadcasting stations, has connectors connecting feeding conductors with distributor conductors, and power line connected such that configuration of conductors remains unchanged |
| US20130166088A1 (en) * | 2011-12-27 | 2013-06-27 | Intermolecular Inc. | Combinatorial High Power Coaxial Switching Matrix |
-
2015
- 2015-07-14 DE DE102015111369.4A patent/DE102015111369A1/en not_active Withdrawn
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6114655A (en) * | 1997-06-11 | 2000-09-05 | Illinois Tool Works Inc. | Method and apparatus for producing welding power |
| US20040015245A1 (en) * | 2001-04-06 | 2004-01-22 | Keane Anthony R. A. | Modular architecture for industrial power delivery system |
| DE102009015698A1 (en) * | 2009-03-31 | 2010-10-14 | Rohde & Schwarz Gmbh & Co. Kg | Power lines adaptation device for consumer load in e.g. broadcasting stations, has connectors connecting feeding conductors with distributor conductors, and power line connected such that configuration of conductors remains unchanged |
| US20130166088A1 (en) * | 2011-12-27 | 2013-06-27 | Intermolecular Inc. | Combinatorial High Power Coaxial Switching Matrix |
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