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DE102010006607A1 - Method for inspecting structures of semiconductor devices - Google Patents

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DE102010006607A1
DE102010006607A1 DE201010006607 DE102010006607A DE102010006607A1 DE 102010006607 A1 DE102010006607 A1 DE 102010006607A1 DE 201010006607 DE201010006607 DE 201010006607 DE 102010006607 A DE102010006607 A DE 102010006607A DE 102010006607 A1 DE102010006607 A1 DE 102010006607A1
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DE
Germany
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image
test substrate
overview
inspection
inspection unit
Prior art date
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Withdrawn
Application number
DE201010006607
Other languages
German (de)
Inventor
Dipl.-Phys. Teich Michael
Frank FEHRMANN
Dr. Thärigen Thomas
Jens Fiedler
Ulf Hackius
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Cascade Microtech Dresden GmbH
Original Assignee
Cascade Microtech Dresden GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by Cascade Microtech Dresden GmbH filed Critical Cascade Microtech Dresden GmbH
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Priority to PCT/EP2010/068996 priority patent/WO2011091894A1/en
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Abstract

Die Erfindung ein Verfahren zur Inspektion von Testsubstraten in einem Prober, welcher einen Chuck zur Aufnahme des Testsubstrats 2, eine Inspektionseinheit mit einer Kamera zur Inspektion des Testsubstrats 2, eine Bewegungsvorrichtung zur Bewegung des Chucks und/oder der Inspektionseinheit relativ zueinander, eine Steuereinheit zur Steuerung der Bewegungsvorrichtung und eine Anzeige zur Darstellung eines mittels der Kamera aufgenommenen Bildes aufweist. Zur Inspektion wird ein Übersichtsbild 1 erzeugt vom Testsubstrat 2 mittels der Kamera, indem eine Mehrzahl von Einzelbildern 4 in verschiedenen Positionen des Testsubstrats 2 aufgenommen und auf der Anzeige zum Übersichtsbild 1 zusammengefügt werden. Jedes Einzelbild 4 wird zusammen mit den Koordinaten der Position, in der es aufgenommen wurde, gespeichert. Zur Navigation auf dem Testsubstrat wird ein Einzelbild 4 im Übersichtsbild 1 ausgewählt, worauf eine mit dem Einzelbild 4 verknüpfte Position mittels der Bewegungsvorrichtung angefahren und dort eine Abbildung des dann im Sichtfeld 6 der Inspektionseinheit befindlichen Ausschnitts des Testsubstrats 2 erzeugt wird.The invention relates to a method for inspecting test substrates in a prober, which has a chuck for receiving the test substrate 2, an inspection unit with a camera for inspecting the test substrate 2, a movement device for moving the chuck and / or the inspection unit relative to one another, a control unit for controlling of the movement device and a display for displaying an image recorded by the camera. For the inspection, an overview image 1 is generated of the test substrate 2 by means of the camera, in that a plurality of individual images 4 are recorded in different positions of the test substrate 2 and combined to form the overview image 1 on the display. Each individual image 4 is stored together with the coordinates of the position in which it was recorded. For navigation on the test substrate, an individual image 4 is selected in the overview image 1, whereupon a position linked to the individual image 4 is approached by means of the movement device and an image of the section of the test substrate 2 then located in the field of view 6 of the inspection unit is generated.

Description

Die Erfindung betrifft allgemein ein Verfahren zur Inspektion von Testsubstraten mittels einer Inspektionseinheit eines Probers. Es betrifft insbesondere die Inspektion von Testsubstraten, die gröber sind als das Sichtfeld der Inspektionseinheit, so dass zur Inspektion des gesamten Testsubstrats oder außerhalb des Sichtfeldes liegender Bereiche des Testsubstrats der zu inspizierende Bereich mittels einer Bewegungsvorrichtung des Probers im Sichtfeld positioniert werden muss.The invention relates generally to a method for inspecting test substrates by means of an inspection unit of a prober. In particular, it concerns the inspection of test substrates which are coarser than the field of view of the inspection unit, so that the area to be inspected must be positioned in the field of view by means of a movement device of the tester in order to inspect the entire test substrate or regions of the test substrate lying outside the field of view.

Bekanntermaßen werden die unterschiedlichsten Testsubstrate hinsichtlich verschiedener Eigenschaften geprüft oder speziellen Test unterzogen. Dabei können die Testsubstrate in verschiedenen Fertigungs- und Integrationsstufen vorliegen. So werden Tests von Halbleiterchips, Hybridbauelementen, mikromechanische sowie mikrooptischen Bauelementen und dergleichen durchgeführt, die sich noch im Waferverbund befinden oder vereinzelt oder bereits in mehr oder weniger komplexen Schaltungen integriert sind. Nachfolgend soll als Testsubstrat jene Komponente bezeichnet sein, die jeweils zu inspizieren ist. Dies kann sowohl ein ganzer Wafer sein als auch dessen einzelne Bauelemente oder bereits vereinzelte Bauelemente, je nach der aktuellen Inspektionsaufgabe. Dabei ist es gleichermaßen möglich, dass zunächst ein einzelnes Bauelement eines Wafers und anschließend ein weiteres zu inspizieren ist und zwar jeweils unter Anwendung des gleichen Inspektionsverfahrens einmal auf das einzelne Bauelement und zum anderen auf den gesamten Wafer.As is known, a wide variety of test substrates are tested for various properties or subjected to special tests. The test substrates can be present in various stages of production and integration. Thus, tests of semiconductor chips, hybrid components, micromechanical and micro-optical components and the like are performed, which are still in the wafer assembly or isolated or already integrated in more or less complex circuits. In the following, the component to be inspected is the test substrate. This can be both an entire wafer and its individual components or already isolated components, depending on the current inspection task. It is equally possible that first a single component of a wafer and then another is to inspect each time using the same inspection method once on the single component and the other on the entire wafer.

Zur Prüfung und Inspektion von Testsubstraten werden Prüfstationen verwendet, die einen Chuck mit einer Oberfläche zur Aufnahme von Testsubstraten umfassen. Der Chuck ist mittels einer Bewegungsvorrichtung meist zumindest in X- und Y-Richtung verfahrbar. Die Prüfstation weist weiterhin eine Inspektionseinheit auf, eine Kamera und/oder ein Mikroskop, mit der die Testsubstrate inspiziert werden können. Dies erfolgt z. B. vor oder während der Kontaktierung der Kontaktpads der Testsubstrate durch Sondenspitzen.For testing and inspection of test substrates, test stations are used which comprise a chuck with a surface for receiving test substrates. The chuck is usually movable by means of a movement device at least in the X and Y directions. The inspection station also has an inspection unit, a camera and / or a microscope, with which the test substrates can be inspected. This is done z. B. before or during the contacting of the contact pads of the test substrates by probe tips.

Bei der manuellen Inspektion von Strukturen von Testsubstraten ist infolge des beschränkten Sichtfeldes der Inspektionseinheit meist nur ein Teil des gesamten Wafers oder auch nur ein Teil des Testsubstrats sichtbar. Die Größe des Abbildes hängt zum einen von Größe und Auflösung des in der Inspektionseinheit vom verwendeten Objektiv und/oder vom eingesetzten Sensors ab. Umso größer die Objektivvergrößerung, je kleiner der in einer Abbildung darzustellende Bereich des Testsubstrats, allgemein als Bildfeld bezeichnet. Bei einer nur teilweisen Darstellung des Testsubstrats muss die Inspektionseinheit vom Bediener der Prüfstation, dem Operator, relativ zum Chuck so positioniert werden, dass der für die Inspektion interessante Teil in ihrem Blickfeld ist.In the case of manual inspection of structures of test substrates, only a part of the entire wafer or only a part of the test substrate is usually visible due to the limited field of view of the inspection unit. The size of the image depends on the one hand on the size and resolution of the lens used in the inspection unit and / or the sensor used. The larger the objective magnification, the smaller the region of the test substrate to be displayed in an image, generally referred to as the image field. In a partial representation of the test substrate, the inspection unit operator must be positioned relative to the chuck by the operator of the inspection station, the operator, so that the part of interest for the inspection is within their field of vision.

Die Positionierung der Inspektionseinheit relativ zum Chuck erfolgt häufig allein durch eine Bewegung des Chucks. Alternativ sind aber auch Prober bekannt, deren Inspektionseinheit beweglich ist, so dass auch Chuck und Inspektionseinheit zueinander oder nur die Inspektionseinheit zum Chuck zugestellt werden. Nachfolgend soll die Beschreibung beispielhaft anhand der Bewegung allein des Chucks beschrieben sein. Eine Beschränkung auf eine solche Positionierung zu Inspektionszwecken ist damit nicht beabsichtigt.The positioning of the inspection unit relative to the chuck is often done solely by a movement of the chuck. Alternatively, however, probes are also known whose inspection unit is movable, so that the chuck and inspection unit are delivered to one another or only the inspection unit to the chuck. In the following, the description will be described by way of example with reference to the movement of the chuck alone. A limitation to such positioning for inspection purposes is not intended.

Liegen zu inspizierende Strukturen ein und desselben Testsubstrats räumlich weit auseinander, so passen sie nicht mehr gleichzeitig in das Bildfeld der Inspektionseinheit. Der Operator muss die erforderlichen Positionen manuell anfahren. Dieser Vorgang ist zeitaufwändig und insbesondere bei häufiger Wiederholung monoton. Schnelles manuelles inspizieren eines Testsubstrats ist nur insoweit möglich, wie die zu inspizierenden Strukturen nah beieinander bzw. innerhalb des Bildfeldes liegen.If structures to be inspected of one and the same test substrate are spatially far apart, they no longer fit into the image field of the inspection unit at the same time. The operator must manually approach the required positions. This process is time consuming and monotonous, especially with frequent repetition. Quick manual inspection of a test substrate is possible only insofar as the structures to be inspected are close to each other or within the image field.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, das Bildfeld einer Inspektionseinheit eines Probers zu erweitern und die Navigation auf dem Testsubstrat während der Inspektion zu verbessern.The object of the invention is to expand the image field of an inspection unit of a prober and to improve the navigation on the test substrate during the inspection.

Es ein Inspektionsverfahren angegeben, mit dem das Bildfeld der Inspektionseinheit virtuell erweitert wird, indem ein virtuelles Übersichtsbild des Testsubstrats oder zumindest eines Teils davon erstellt wird. Das Übersichtbild wird durch zweidimensionale Aneinanderreihung von mittels einer Kamera aufgenommenen Bildern erhalten, so genannte Kachelung, die an verschiedenen Positionen des Chucks aufgenommen wurden. Die einzelnen Kacheln des Übersichtbildes können entweder in verschiedenen Chuckpositionen innerhalb der X-Y-Ebene aufgenommen sein. Sie können aber auch Sprünge in Z-Richtung umfassen, je nach Struktur des Testsubstrats und Ziel der Inspektion.There is provided an inspection method with which the image field of the inspection unit is virtually expanded by creating a virtual overview image of the test substrate or at least part of it. The overview image is obtained by two-dimensional juxtaposition of images taken by a camera, so-called tiling, which were taken at different positions of the chuck. The individual tiles of the overview image can either be recorded in different chuck positions within the X-Y plane. However, they can also include Z-direction jumps, depending on the structure of the test substrate and the target of the inspection.

Dieses aus Einzelbildern zusammengesetzte Übersichtsbild ist ein Standbild, das erst durch explizite Nutzerinteraktion aktualisiert wird. Es dient als Referenz für die weitere Navigation für die Inspektionseinheit, z. B. im Rahmen der Einstellung oder Inspektion der Kontaktposition der Sondenspitzen. Die Größe des virtuellen Bildfeldes des Übersichtsbilds wird dabei so gewählt, dass auf einem Testsubstrat, das größer ist als der mit der Inspektionseinheit abbildbare Bildausschnitt, mit ausreichender Genauigkeit grob navigiert werden kann. Die Feinpositionierung erfolgt dann im Live-Bild, das nach dem Anfahren der im Übersichtsbild ausgewählten Position gewonnen wird.This overview image composed of individual images is a still image that is only updated by explicit user interaction. It serves as a reference for further navigation for the inspection unit, eg. As in the context of adjustment or inspection of the contact position of the probe tips. The size of the virtual Image field of the overview image is chosen so that can be roughly navigated with sufficient accuracy on a test substrate, which is greater than the imageable with the inspection unit image detail. The fine positioning then takes place in the live image, which is obtained after starting the position selected in the overview image.

Zur Herstellung des Übersichtsbildes werden die interessierenden Chuckpositionen angefahren. In jeder Position wird ein Einzelbild aufgenommen, diesem die jeweiligen X- und Y-Koordinaten der Chuckposition und gegebenenfalls auch Z-Koordinaten und Skalierungsdaten zugeordnet und das Bild in Verbindung mit diesen Daten im Speicher der Steuereinheit des Probers gespeichert. Die Aufnahme der Einzelbilder kann auf verschiedene Weise erfolgen. So ist eine automatisierte Aufnahme mit voreinstellbaren Positionierungsschritten des Chucks innerhalb eines zuvor, z. B. manuell, begrenztem Bereich auf dem Testsubstrat möglich. Dies kann insbesondere dann erfolgen, wenn regelmäßige Strukturen auf dem Testsubstrat zu inspizieren sind, wie z. B. Kontaktpadreihen oder Kontaktpadarrays. Auch manuelles Positionierungen zur Aufnahme jedes Bildes oder eine Kombination von beidem sind möglich. Die aufzunehmenden Einzelbilder können unmittelbar aneinander anschließend den interessierenden Bereich des Testsubstrats vollständig abbilden oder nur ausgewählte Bereiche davon.To produce the overview image, the chuck positions of interest are approached. In each position, a single image is taken, assigned to this the respective X and Y coordinates of Chuckposition and possibly also Z coordinates and scaling data and stored the image in connection with these data in the memory of the control unit of the Probers. The recording of the individual images can be done in various ways. Thus, an automated recording with presettable positioning steps of the chuck within a previously, z. B. manual, limited range on the test substrate possible. This can be done in particular when regular structures on the test substrate are to be inspected, such. B. Kontaktpadreihen or Kontaktpadarrays. Also, manual positioning to capture each image or a combination of both are possible. The individual images to be photographed can then be completely directly next to one another to completely map the region of interest of the test substrate or only selected regions thereof.

Die Einzelbilder mit den zugehörigen Daten werden nachfolgend als Kacheln bezeichnet. Aus diesen Kacheln wird anhand von Kriterien, die für die jeweilige Inspektionsaufgabe günstig ist, das Übersichtsbild zusammengesetzt. Meist werden diese Kriterien durch den räumlichen Zusammenhang der einzelnen Kacheln bedingt sein.The individual images with the associated data are referred to below as tiles. From these tiles, the overview image is assembled on the basis of criteria that are favorable for the respective inspection task. Most of these criteria will be due to the spatial relationship of the individual tiles.

Alternativ können aber auch funktionelle Zusammenhänge, die sich aus den Bildinhalten ergeben, maßgeblich für die Aneinanderreihung der einzelnen sein. In jedem Fall aber erfolgt das Zusammenfügen der Kacheln auf der Basis der Koordinaten ohne Berücksichtigung des Bildinhaltes. Aus letzterem folgt, dass auch keine Positionierungsfehler in der gewünschten Chuckposition oder Objektivverzeichnungen berücksichtigt werden, die Bilderkennungsverfahren erfordern würden.Alternatively, however, functional relationships that result from the image contents can also be decisive for the juxtaposition of the individual. In any case, the tiles are assembled on the basis of the coordinates without consideration of the image content. It follows from the latter that no positioning errors in the desired chuck position or lens distortions that would require image recognition methods are taken into account.

Ein Anhaltspunkt für die Anzahl der Kacheln je Übersichtsbild ist neben der Inspektionsaufgabe auch der Speicherbedarf, wobei zu berücksichtigen ist, dass sowohl die einzelnen Kacheln als auch das Übersichtsbild zumindest kurzzeitig parallel vorgehalten werden müssen und das Übersichtsbild auch in der vollen Auflösung gespeichert werden kann. So kann es hilfreich sein, die Bilder nur in Schwarz-Weiß zu speichern, da sich bei farbigen Bildern sowohl der Rechen- und damit verbundenen Zeitaufwand als auch der Speicherbedarf vervielfacht. Eine Verminderung des Speicherbedarfs kann alternativ oder ergänzend auch durch eine Abwärtsskalierung der Auflösung der Einzelbilder erfolgen. Dies hat auf die spätere Inspektion keinen Einfluss, da die Kacheln lediglich der Navigation dienen und die Inspektion nach dem Anfahren der mit der Kachel verbundenen Koordinaten am dann erhaltenen Abbild, dem Live-Bild erfolgt.An indication of the number of tiles per overview image is, in addition to the inspection task, also the memory requirement, whereby it must be taken into account that both the individual tiles and the overview image must be kept in parallel at least briefly and the overview image can also be stored in the full resolution. So it can be helpful to save the images only in black and white, because in the case of colored images, both the computational and associated time expenditure as well as the storage requirements multiply. A reduction of the memory requirement can alternatively or additionally also be effected by a downward scaling of the resolution of the individual images. This has no effect on the subsequent inspection, since the tiles are used only for navigation and the inspection takes place after the start of the coordinates associated with the tile on the then obtained image, the live image.

Das Übersichtsbild wird auf einem Display der Steuereinheit des Probers angezeigt, vorzugsweise gemeinsam mit dem aktuellen, mit der Inspektionseinheit zu gewinnenden Live-Bild des Testsubstrats. Mittels eines Cursors, entweder einem Mauszeiger, einem Fadenkreuz oder ähnlichem, kann der Operator im Übersichtsbild jede der Kacheln auswählen und aktivieren. Auf eine Aktivierung einer Kachel hin wird in der Steuereinheit ein Signal an die Bewegungsvorrichtung generiert, welches das Anfahren jener Chuckposition bewirkt, in welcher die aktivierte Kachel aufgenommen wurde.The overview image is displayed on a display of the control unit of the prober, preferably together with the current live image of the test substrate to be obtained with the inspection unit. By means of a cursor, either a mouse pointer, a crosshair or similar, the operator can select and activate each of the tiles in the overview image. Upon activation of a tile, a signal is generated in the control unit to the movement device, which causes the start of the chuck position in which the activated tile was taken.

Bei dieser so genannten statischen Positionierung beziehen sich Koordinaten und Daten der aktivierten Kachel stets auf den für die Erstellung des Übersichtsbildes aufgenommenen Bereich des Testsubstrats, unabhängig davon wie weit die aktuelle Position von der Aufnahmeposition der Kachel entfernt ist.In the case of this so-called static positioning, coordinates and data of the activated tile always relate to the area of the test substrate recorded for the creation of the overview image, regardless of how far away the current position is from the location of the tile.

In einer Ausgestaltung der Erfindung, der so genannten dynamischen Positionierung, werden die Koordinaten der Kacheln des Übersichtbildes auf regelmäßig wiederkehrende, vergleichbare Teilstrukturen des Testsubstrats übertragen, indem die Schrittweite der Wiederholung der Teilstruktur auf die Koordinaten jeder Kachel des Übersichtsbildes angerechnet wird. Dabei wird jede Koordinate jeder Kachel um ein Mehrfaches der Werte in X-, Y und gegebenenfalls auch Z-Richtung korrigiert, die die Lage zweier benachbarter Teilstrukturen zueinander definieren. Anhand des Vergleichs der aktuellen Position mit dem Aufnahmebereich des Übersichtsbildes ist die Anzahl der Wiederholungen der Teilstruktur zu ermitteln, die zwischen beiden Positionen liegen, und somit wie oft und in welche Richtungen die Korrekturen der X-, Y- und Z-Koordinaten anzuwenden sind. Der Aufnahmebereich des Übersichtsbildes ist z. B. anhand einer Referenzkachel zu definieren.In one embodiment of the invention, the so-called dynamic positioning, the coordinates of the tiles of the overview image are transferred to regularly recurring, comparable substructures of the test substrate by counting the step size of the repetition of the substructure to the coordinates of each tile of the overview image. Each coordinate of each tile is corrected by a multiple of the values in the X, Y and possibly also the Z direction, which define the position of two neighboring substructures to each other. Based on the comparison of the current position with the recording area of the overview image, the number of repetitions of the substructure that lie between the two positions and thus how often and in which directions the corrections of the X, Y and Z coordinates are to be applied. The recording area of the overview image is z. B. based on a reference tile to define.

Auf diese Weise ist sowohl eine Wiederholung in nur einer Richtung als auch in mehreren Richtungen zu berücksichtigen. Zudem ist auch diese Erweiterung der Navigation auf eine Vielzahl von vergleichbaren Strukturen, z. B. bei Bauelementen im Waferverbund, auch ohne Bilderkennung anwendbar. Die aktuelle Position ist allein aus dem Koordinatenvergleich zu ermitteln, wenn das Schrittmaß der Wiederholungen bekannt ist oder zuvor ermittelt wurde. Damit ist eine Navigation in der Umgebung des Live-Bildes und auf die dort abgebildete Teilstruktur möglich, auch wenn sich die Inspektionseinheit außerhalb des Bereiches des Übersichtsbilds befindet. Mit jeder Aktivierung einer Kachel im Übersichtsbild wird automatisch in eine Position innerhalb der aktuellen, d. h. im Live-Bild abgebildeten Teilstruktur umgerechnet. Auch eine Navigation im Umfeld des Live-Bildes ist grundsätzlich möglich, setzt allerdings voraus, dass das Übersichtsbild eine komplette Teilstruktur erfasst hat. In this way, both a repetition in one direction and in several directions must be considered. In addition, this extension of the navigation on a variety of comparable structures, eg. B. applicable to components in the wafer composite, even without image recognition. The current position can only be determined from the coordinate comparison if the increment of the repetitions is known or previously determined. This allows navigation in the environment of the live image and on the substructure depicted there, even if the inspection unit is outside the area of the overview image. Each time a tile is activated in the overview image, it is automatically converted into a position within the current substructure, ie in the live image. It is also possible to navigate around the live image, but this assumes that the overview image has captured a complete substructure.

Die Erfindung soll nachfolgend anhand eines Ausführungsbeispieles näher erläutert werden. In der zugehörigen Zeichnung zeigtThe invention will be explained in more detail with reference to an embodiment. In the accompanying drawing shows

1 ein aus vier mal vier Kacheln zusammengesetztes Übersichtsbild; 1 a summary image composed of four by four tiles;

2A und 2B ein reales Übersichts- und Live-Bild mit den Bilddaten gemäß 1; 2A and 2 B a real overview and live image with the image data according to 1 ;

3 ein reales Übersichtsbild mit im Vergleich zu 2A größerem Bildfeld; 3 a real overview image compared to 2A larger field of view;

4 einen Wafer mit einem Raster von Bauelementen als sich wiederholende Teilstrukturen, mit räumlicher Zuordnung eines Übersichtsbilds und dazu benachbarten Teilstrukturen; 4 a wafer with a grid of components as repeating partial structures, with spatial assignment of an overview image and substructures adjacent thereto;

5 eine Anzeige eines Übersichtsbilds und eines Live-Bilds. 5 a display of an overview image and a live image.

1 stellt ein Übersichtsbild 1 dar, welches von einem Chip 2, im Ausführungsbeispiel das zu inspizierende Testsubstrat 2, erstellt ist. Der Chip 2 ist Teil eines Wafers 3, der eine Vielzahl von Chips 2 umfasst. Sofern der Wafer 3 oder zu inspizieren wäre, würde der Wafer 3 entsprechend der eingangs dargelegten Terminologie gleichermaßen ein Testsubstrat 2 sein. 1 provides an overview picture 1 which is from a chip 2 In the exemplary embodiment, the test substrate to be inspected 2 , is created. The chip 2 is part of a wafer 3 that has a variety of chips 2 includes. Unless the wafer 3 or to inspect, the wafer would 3 according to the terminology just described alike a test substrate 2 be.

Die 16 Einzelbilder 4 werden nacheinander von dem Chip 2 aufgenommen, indem für jedes Einzelbild 4 der Wafer 3 entsprechend neu positioniert wird. Jedes Einzelbild 4 wird zusammen mit den Positionskoordinaten, bei welchem das Einzelbild 4 aufgenommen wurde, und der Bildauflösung gespeichert. Die gespeicherten Einzelbilder 4 werden mit einer geeigneten Software zum Übersichtsbild 1 zusammengefügt und können dem Operator eines Probers auf einem Display angezeigt werden.The 16 frames 4 be successively from the chip 2 taken for each frame 4 the wafer 3 is repositioned accordingly. Every single picture 4 is combined with the position coordinates at which the frame 4 was recorded, and the image resolution saved. The saved frames 4 become an overview picture with suitable software 1 and can be displayed to the operator of a prober on a display.

Das Übersichtsbild 1 wurde aus vier mal vier Kacheln erstellt, deren Einzelbilder einander leicht überlappend den gesamten Chip 2 darstellen, was durch die verkleinerte Kopie des Übersichtsbildes 1 auf dem Wafer 3 in Verbindung mit den Verbindungslinien verdeutlicht sein soll.The overview picture 1 was created from four by four tiles whose frames overlap one another slightly over the entire chip 2 represent what through the reduced copy of the overview image 1 on the wafer 3 should be clarified in conjunction with the connecting lines.

Die Einzelbilder 4 haben jeweils eine Auflösung von 2048×2048 Pixeln. Die genauen Daten können der folgenden Tabelle entnommen werden: Auflösung 6971×6964 Anzahl der Kacheln 16 Auflösung der Kacheln 2048×2048 Bildfeld des Live-Bilds 3×3 mm2 Farbmodus S/W Größe eines Pixels 1,5 μm Objektiv 5x The single pictures 4 each have a resolution of 2048 × 2048 pixels. The exact data can be found in the following table: resolution 6971 × 6964 Number of tiles 16 Resolution of the tiles 2048 × 2048 Image field of the live image 3 × 3 mm 2 color mode S / W Size of a pixel 1.5 μm lens 5x

Auf Basis der Größe eines Live-Bilds mit 3 mal 3 mm ergibt sich für die gewählte Kachelung ein theoretisches Bildfeld von 12 mal 12 mm2. Der Unterschied zur tatsächlichen Bildfeldgröße von im Ausführungsbeispiel 10 mal 10 mm2 liegt an der Überlappung 5 der Einzelbilder 4, die hier mit ca. 20% vorgenommen wurde. Die Bildinformationen in überlappende Bildbereichen werden entweder übergeblendet oder exklusiv kombiniert, gegebenenfalls parametriert.Based on the size of a live image of 3 by 3 mm, the theoretical tiling of the selected tiling is 12 by 12 mm 2 . The difference to the actual image field size of 10 × 10 mm 2 in the exemplary embodiment is due to the overlap 5 the frames 4 , which was made here with about 20%. The image information in overlapping image areas is either overlaid or exclusively combined, if necessary parameterized.

Ein reales Übersichtsbild 1 mit einer vergleichbaren Kachelung und Auflösung ist in 2A dargestellt. Die Einzelbilder 4 fügen sich fast nahtlos aneinander. Mittels einer geeigneten Überlappung der Einzelbilder 4 sind Randeffekte am Einzelbild 4, die z. B. die Darstellung im Randbereich beeinflussen, minimierbar. Im Ausführungsbeispiel wurden die Einzelbilder 4 nicht herunterskaliert, so dass die hohe Auflösung auch in den Details des Übersichtsbildes 1 erhalten bleibt. Der besseren Darstellung in 2A wegen sind jedoch nicht alle 16 Einzelbilder 4 dargestellt. A real overview picture 1 with a comparable tiling and resolution is in 2A shown. The single pictures 4 almost seamlessly fit together. By means of a suitable overlap of the individual pictures 4 are edge effects on the single image 4 that z. B. affect the representation in the border area, minimizable. In the exemplary embodiment, the individual images 4 not scaled down, so the high resolution in the details of the overview image 1 preserved. The better representation in 2A because not all 16 frames are 4 shown.

2B stellt eine Detailaufnahme aus der Mitte des Übersichtsbildes 1 gemäß 2A dar. Die Strukturen des Testsubstrats 1 sind deutlich und scharf abgebildet. 2 B provides a detailed picture from the middle of the overview picture 1 according to 2A The structures of the test substrate 1 are clearly and sharply displayed.

Im Ausführungsbeispiel gemäß 3 wurde ein deutlich gröberes Bildfeld im Übersichtsbild 1 dargestellt. Es setzt sich aus 50 mal 50 Einzelbildern 4 zusammen und ergibt eine Bildfeldgröße von 150 mal 150 mm2, in diesem Fall ohne Überlappung. Um die Gesamtauflösung des Übersichtsbilds 1 zur Einsparung von Speicherkapazität und Rechenzeit möglichst klein zu halten wurden die Einzelbilder 4 diesmal stark herunterskaliert. Die Daten können der folgenden Tabelle entnommen werden: Auflösung 6870×6876 Anzahl der Kacheln 2500 Auflösung der Kacheln 135×135 Bildfeld des Live-Bilds 3×3 mm2 Farbmodus S/W Größe eines Pixels ca. 22 μm Objektiv 5x In the embodiment according to 3 a much coarser image field was displayed in the overview image 1. It consists of 50 by 50 individual images 4 together and gives an image field size of 150 by 150 mm 2 , in this case without overlap. To the total resolution of the overview picture 1 To keep the storage capacity and computing time as small as possible, the individual images were 4 scaled down a lot this time. The data can be found in the following table: resolution 6870 × 6876 Number of tiles 2500 Resolution of the tiles 135 × 135 Image field of the live image 3 × 3 mm 2 color mode S / W Size of a pixel approx. 22 μm lens 5x

Aufgrund der in diesem Ausführungsbeispiel geringeren Detailauflösung, würde ein Einzelbild 4 nur deutlich unschärfere Konturen des Testsubstrats 2 ergeben, die jedoch noch ausreichend währen, um z. B. Kontaktpads zu erkennen. Bei entsprechend geringer Strukturauflösung, ausreichender Speicherkapazität und Rechenzeit wäre auch eine vollständige Abbildung eines Wafers 3 im Übersichtsbild 1 möglich.Due to the lower detail resolution in this embodiment, a single image would be used 4 only significantly blurred contours of the test substrate 2 result, but still sufficient to z. B. detect contact pads. With a correspondingly low structure resolution, sufficient storage capacity and computing time, a complete image of a wafer would also be possible 3 in the overview picture 1 possible.

4 zeigt einen Wafer gemäß 1, bei welchem von einem der Chips 2 ein Übersichtsbild 1 aus zwei mal zwei Kacheln 4 mit einer Überlappung 5 erstellt wurde. Im Ausführungsbeispiel gemäß 4 wird dieses Übersichtsbild 1 durch die oben beschriebene dynamische Positionierung auch auf andere, nicht für die Erstellung des Übersichtsbilds 1 verwendete Chips 2 des Wafers 3 zur Navigation angewendet. Zur Unterscheidung der Ausgangsposition, in welcher das Übersichtsbild 1 aufgenommen wurde, von den späteren Positionen wo das gleiche Übersichtsbild 1 lediglich auf die sich wiederholenden, vergleichbar strukturierten Chips 2 auf dem Wafer 3 angewendet wird, ist erstere Position mit einer durchgezogenen Linie umrandet, wohingegen alle anderen Positionen eine gestrichelte Umrandung aufweisen. 4 shows a wafer according to 1 in which one of the chips 2 an overview picture 1 from two times two tiles 4 with an overlap 5 was created. In the embodiment according to 4 becomes this overview picture 1 through the dynamic positioning described above to others, not for the creation of the overview image 1 used chips 2 of the wafer 3 applied to navigation. For distinguishing the starting position, in which the overview image 1 was taken from the later positions where the same overview picture 1 only on the repetitive, comparably structured chips 2 on the wafer 3 is applied, the former position is surrounded by a solid line, whereas all other positions have a dashed border.

Bei der dargestellten dynamischen Positionierung eines Chips 2 zu Inspektionszwecken wird der Wafer 3 mittels der Bewegungsvorrichtung des Chucks des Probers (nicht dargestellt) relativ zur stationären Inspektionseinheit (nicht dargestellt), vorliegend einer Kamera, soweit bewegt, dass das Sichtfeld 6 der Kamera entfernt von dem Bereich des aufgenommenen Übersichtsbildes 1 liegt. In der Darstellung gemäß 4 ist der besseren Übersicht wegen das Sichtfeld 6 gegenüber dem Wafer 3 verschoben dargestellt.In the illustrated dynamic positioning of a chip 2 for inspection purposes, the wafer becomes 3 by means of the movement device of the chuck of the tester (not shown) relative to the stationary inspection unit (not shown), in this case a camera, insofar as the field of view is moved 6 the camera away from the area of the recorded overview image 1 lies. In the illustration according to 4 is for better clarity because of the field of vision 6 opposite the wafer 3 shown displaced.

Nachdem das Übersichtsbild 1 im unteren Bereich des Wafers 3 aufgenommen und der Wafer 3 so weit verfahren wurde, dass sich das Sichtfeld 6 im oberen Bereich des Wafers 3 befindet, würde eine statische Positionierung dazu führen, dass auf eine Auswahl und Aktivierung einer der vier Kacheln 4 des Übersichtsbildes 1 der Wafer 3 automatisch so zurückgefahren würde, dass die aktivierte Kachel 4 des ursprünglich aufgenommenen Chips 2 genau im Sichtfeld 6 der Kamera liegt.After the overview picture 1 in the lower part of the wafer 3 taken and the wafer 3 so far was that the field of view 6 in the upper area of the wafer 3 Static positioning would lead to a selection and activation of one of the four tiles 4 of the overview picture 1 the wafer 3 automatically reset so that the activated tile 4 of the originally recorded chip 2 exactly in the field of vision 6 the camera is lying.

Bei der dynamischen Positionierung wird aus der Differenz der aktuell angefahrenen Position unter dem Sichtfeld der Kamera, dessen X- und Y-Koordinaten bekannt sind, und den Positionskoordinaten der aktivierten Kachel 4 ermittelt, wie viele Chips 2 zwischen diesen beiden Positionen sowohl in X- als auch in Y-Richtung liegen. Aus der Kenntnis der Größe eines jeden Chips in X- und in Y-Richtung werden die Koordinaten der aktivierten Kachel 4 auf jene des Chips 2 umgerechnet, der sich in unmittelbarer Umgebung des Sichtfeldes 6 befindet, d. h. bei dem sich die größte Überschneidung mit dem Sichtfeld 6 ergibt. Diese größte Überschneidung kann z. B. ermittelt werden, indem festgestellt wird, über welchem Chip 2 sich das Zentrum des Sichtfeldes 6 befindet.In dynamic positioning, the difference between the currently approached position and the field of view of the camera, whose X and Y coordinates are known, and the position coordinates of the activated tile, are used 4 determines how many chips 2 lie between these two positions in both the X and Y directions. From the knowledge of the size of each chip in the X and Y directions, the coordinates of the activated tile become 4 on those of the chip 2 converted, located in the immediate vicinity of the field of view 6 is located, ie where the largest overlap with the field of view 6 results. This largest overlap can z. B. can be determined by determining which chip 2 itself the center of the field of vision 6 located.

Nachdem der angefahrene Chip 2 den Kacheln 4 des Übersichtsbilds 1 neu zugeordnet ist, wird die korrigierte Kachel 4 dieses Chips 2 angefahren. Auf diese Weise kann zunächst grob ein Bereich auf dem Wafer 3 angefahren und dort das Übersichtsbild 1 auf die im Umkreis des Sichtfeldes 6 befindlichen Chips 2 angewendet werden, um dort zu navigieren. In 4 wurde diese dynamische Positionierung in mehreren voneinander deutlich beabstandeten Bereichen eines Wafers 3 wiederholt.After the attacked chip 2 the tiles 4 of the overview picture 1 is reassigned, the corrected tile 4 this chip 2 approached. In this way, first roughly a region on the wafer 3 approached and there the overview picture 1 on the in the vicinity of the field of view 6 located chips 2 be used to navigate there. In 4 This dynamic positioning has been achieved in several distinctly spaced areas of a wafer 3 repeated.

5 stellt die Anzeige eine Übersichtsbildes 1 und eines Live-Bildes 7 auf einem Display 10. Das Übersichtsbild 1 ist aus 4 Kacheln zusammengesetzt. Da das Live-Bild 7 jenes ist, welches in der aktuellen Position mit der Kamera aufnehmbar ist, entspricht es dem Sichtfeld der Kamera gemäß 4. 5 the display presents an overview picture 1 and a live picture 7 on a display 10 , The overview picture 1 is composed of 4 tiles. Because the live picture 7 that is, which is in the current position with the camera recordable, it corresponds to the field of view of the camera according to 4 ,

Im Übersichtsbild 1 auf der Anzeige wird mittels eines Fadenkreuzes 11, welches als Cursor dient, das aktuelle Sichtfeld 6 der Kamera, d. h. der inspizierbare Bereich eines Testsubstrats 2 dargestellt. In 5 ist dies ein Ausschnitt aus einem Chip 2. Dementsprechend stellt auch das Live-Bild 7 diesen Ausschnitt dar, jedoch mit einer höheren Auflösung. Soll ein anderer Ausschnitt dargestellt werden, wird im Übersichtsbild 1 durch verschieben des Fadenkreuzes 11 navigiert, bis der gewünschte Ausschnitt im Fadenkreuz 11 liegt. An dieser Stelle wird durch Anklicken mittels des Fadenkreuzes 11 die Kachel 4 aktiviert, die sich unter dem Fadenkreuz befindet. Infolge der Aktivierung der Kachel 4 wird die Bewegungsvorrichtung des Probers (nicht dargestellt) aktiviert und der Chuck wird so positioniert, dass sich die aktivierte Kachel 4 oder eine dynamisch korrigierte Kachel 4 im Sichtfeld der Kamera befindet.In the overview picture 1 on the display is using a crosshair 11 , which serves as a cursor, the current field of view 6 the camera, ie the inspectable area of a test substrate 2 shown. In 5 This is an excerpt from a chip 2 , Accordingly, also presents the live picture 7 this section, but with a higher resolution. If another section is to be displayed, the overview screen appears 1 by moving the crosshair 11 navigates until the desired section in the crosshairs 11 lies. At this point you can click on it with the crosshairs 11 the tile 4 activated, which is located under the crosshair. As a result of the activation of the tile 4 The movement device of the prober (not shown) is activated and the chuck is positioned so that the activated tile 4 or a dynamically corrected tile 4 located in the field of view of the camera.

BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS

11
ÜbersichtsbildOverview screen
22
Testsubstrat, ChipTest substrate, chip
33
Waferwafer
44
Einzelbild, KachelSingle picture, tile
55
Überlappungoverlap
66
Sichtfeldfield of view
1010
Anzeige, DisplayDisplay, display
1111
Cursor, FadenkreuzCursor, crosshair

Claims (4)

Verfahren zur Inspektion von Testsubstraten in einem Prober, welcher einen Chuck zur Aufnahme des Testsubstrats (2), eine Inspektionseinheit mit einer Kamera zur Inspektion des Testsubstrats (2), eine Bewegungsvorrichtung zur Bewegung des Chucks und/oder der Inspektionseinheit relativ zueinander, eine Steuereinheit zur Steuerung der Bewegungsvorrichtung und eine Anzeige zur Darstellung eines mittels der Kamera aufgenommenen Bildes aufweist, folgende Verfahrensschritte umfassend: – halten des Testsubstrats (2) auf der Auflagefläche des Chucks und positionieren des Testsubstrats (2) mittels der Bewegungsvorrichtung im Sichtfeld (6) der Inspektionseinheit, – erzeugen eines Übersichtsbildes (1) von zumindest einem Abschnitt des Testsubstrats (2) mittels der Kamera, indem eine Mehrzahl von Einzelbildern (4) von besagtem Abschnitt in verschiedenen Positionen des Testsubstrats (2) relativ zum Sichtfeld (6) der Inspektionseinheit aufgenommen und auf der Anzeige zum Übersichtsbild (1) zusammengefügt werden, – speichern jedes Einzelbildes (4) zusammen mit den Koordinaten der Position, in der es aufgenommen wurde, – auswählen eines Einzelbildes (4) im Übersichtsbild (1), worauf ein Steuersignal in der Steuereinheit generiert wird zum Anfahren einer mit dem Einzelbild (4) verknüpften Position mittels der Bewegungsvorrichtung und – Anfahren dieser Position und Abbildung des in dieser Position im Sichtfeld (6) der Inspektionseinheit befindlichen Ausschnitts des Testsubstrats (2).Method for inspecting test substrates in a prober, which includes a chuck for holding the test substrate ( 2 ), an inspection unit with a camera for inspection of the test substrate ( 2 ), a movement device for moving the chuck and / or the inspection unit relative to one another, a control unit for controlling the movement device and a display for displaying an image recorded by means of the camera, comprising the following method steps: - holding the test substrate ( 2 ) on the contact surface of the chuck and position the test substrate ( 2 ) by means of the movement device in the field of vision ( 6 ) of the inspection unit, - generate an overview image ( 1 ) of at least a portion of the test substrate ( 2 ) by means of the camera by a plurality of individual images ( 4 ) of said section in different positions of the test substrate ( 2 ) relative to the field of view ( 6 ) of the inspection unit and on the display for the overview image ( 1 ), - save each frame ( 4 ) together with the coordinates of the position in which it was taken, - selecting a single image ( 4 ) in the overview screen ( 1 ), whereupon a control signal is generated in the control unit for starting up a frame (with 4 ) linked position by means of the movement device and - approaching this position and imaging of the position in this position in the field of view ( 6 ) section of the test substrate ( 2 ). Verfahren nach Anspruch 1, wobei die Koordinaten der mit einem Einzelbild (4) gespeicherten Position korrigiert werden durch ein ganzzahliges Vielfaches einer vordefinierten Schrittweite und die Anzahl der der Korrektur dienenden Schritte aus dem Abstand ermittelt werden, der zwischen einer Position während der Erzeugung des Übersichtsbildes (1) und einer aktuell eingestellten, davon abweichenden Position besteht.The method of claim 1, wherein the coordinates of the one frame ( 4 ) are determined by an integral multiple of a predefined step size and the number of correction steps from the distance determined between a position during the generation of the overview image (FIG. 1 ) and a currently set, deviating position. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei mit den Koordinaten der Position jedes Einzelbildes (4) auch die Skalierung der Einzelbilder (4), insbesondere deren Auflösung gespeichert wird. Method according to one of the preceding claims, wherein the coordinates of the position of each individual image ( 4 ) also the scaling of the individual images ( 4 ), in particular their resolution is stored. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei das Übersichtsbild (1) ein Testsubstrat (2) vollständig abbildet.Method according to one of the preceding claims, wherein the overview image ( 1 ) a test substrate ( 2 ) completely maps.
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