DE102010006607A1 - Method for inspecting structures of semiconductor devices - Google Patents
Method for inspecting structures of semiconductor devices Download PDFInfo
- Publication number
- DE102010006607A1 DE102010006607A1 DE201010006607 DE102010006607A DE102010006607A1 DE 102010006607 A1 DE102010006607 A1 DE 102010006607A1 DE 201010006607 DE201010006607 DE 201010006607 DE 102010006607 A DE102010006607 A DE 102010006607A DE 102010006607 A1 DE102010006607 A1 DE 102010006607A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- image
- test substrate
- overview
- inspection
- inspection unit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING OR CALCULATING; COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T7/00—Image analysis
- G06T7/0002—Inspection of images, e.g. flaw detection
- G06T7/0004—Industrial image inspection
- G06T7/001—Industrial image inspection using an image reference approach
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/956—Inspecting patterns on the surface of objects
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B2210/00—Aspects not specifically covered by any group under G01B, e.g. of wheel alignment, caliper-like sensors
- G01B2210/52—Combining or merging partially overlapping images to an overall image
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/8851—Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges
- G01N2021/8854—Grading and classifying of flaws
- G01N2021/8861—Determining coordinates of flaws
- G01N2021/8864—Mapping zones of defects
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
- G01R31/28—Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
- G01R31/2851—Testing of integrated circuits [IC]
- G01R31/2886—Features relating to contacting the IC under test, e.g. probe heads; chucks
- G01R31/2891—Features relating to contacting the IC under test, e.g. probe heads; chucks related to sensing or controlling of force, position, temperature
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING OR CALCULATING; COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T2207/00—Indexing scheme for image analysis or image enhancement
- G06T2207/10—Image acquisition modality
- G06T2207/10056—Microscopic image
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING OR CALCULATING; COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T2207/00—Indexing scheme for image analysis or image enhancement
- G06T2207/30—Subject of image; Context of image processing
- G06T2207/30108—Industrial image inspection
- G06T2207/30148—Semiconductor; IC; Wafer
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Quality & Reliability (AREA)
- Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
Die Erfindung ein Verfahren zur Inspektion von Testsubstraten in einem Prober, welcher einen Chuck zur Aufnahme des Testsubstrats 2, eine Inspektionseinheit mit einer Kamera zur Inspektion des Testsubstrats 2, eine Bewegungsvorrichtung zur Bewegung des Chucks und/oder der Inspektionseinheit relativ zueinander, eine Steuereinheit zur Steuerung der Bewegungsvorrichtung und eine Anzeige zur Darstellung eines mittels der Kamera aufgenommenen Bildes aufweist. Zur Inspektion wird ein Übersichtsbild 1 erzeugt vom Testsubstrat 2 mittels der Kamera, indem eine Mehrzahl von Einzelbildern 4 in verschiedenen Positionen des Testsubstrats 2 aufgenommen und auf der Anzeige zum Übersichtsbild 1 zusammengefügt werden. Jedes Einzelbild 4 wird zusammen mit den Koordinaten der Position, in der es aufgenommen wurde, gespeichert. Zur Navigation auf dem Testsubstrat wird ein Einzelbild 4 im Übersichtsbild 1 ausgewählt, worauf eine mit dem Einzelbild 4 verknüpfte Position mittels der Bewegungsvorrichtung angefahren und dort eine Abbildung des dann im Sichtfeld 6 der Inspektionseinheit befindlichen Ausschnitts des Testsubstrats 2 erzeugt wird.The invention relates to a method for inspecting test substrates in a prober, which has a chuck for receiving the test substrate 2, an inspection unit with a camera for inspecting the test substrate 2, a movement device for moving the chuck and / or the inspection unit relative to one another, a control unit for controlling of the movement device and a display for displaying an image recorded by the camera. For the inspection, an overview image 1 is generated of the test substrate 2 by means of the camera, in that a plurality of individual images 4 are recorded in different positions of the test substrate 2 and combined to form the overview image 1 on the display. Each individual image 4 is stored together with the coordinates of the position in which it was recorded. For navigation on the test substrate, an individual image 4 is selected in the overview image 1, whereupon a position linked to the individual image 4 is approached by means of the movement device and an image of the section of the test substrate 2 then located in the field of view 6 of the inspection unit is generated.
Description
Die Erfindung betrifft allgemein ein Verfahren zur Inspektion von Testsubstraten mittels einer Inspektionseinheit eines Probers. Es betrifft insbesondere die Inspektion von Testsubstraten, die gröber sind als das Sichtfeld der Inspektionseinheit, so dass zur Inspektion des gesamten Testsubstrats oder außerhalb des Sichtfeldes liegender Bereiche des Testsubstrats der zu inspizierende Bereich mittels einer Bewegungsvorrichtung des Probers im Sichtfeld positioniert werden muss.The invention relates generally to a method for inspecting test substrates by means of an inspection unit of a prober. In particular, it concerns the inspection of test substrates which are coarser than the field of view of the inspection unit, so that the area to be inspected must be positioned in the field of view by means of a movement device of the tester in order to inspect the entire test substrate or regions of the test substrate lying outside the field of view.
Bekanntermaßen werden die unterschiedlichsten Testsubstrate hinsichtlich verschiedener Eigenschaften geprüft oder speziellen Test unterzogen. Dabei können die Testsubstrate in verschiedenen Fertigungs- und Integrationsstufen vorliegen. So werden Tests von Halbleiterchips, Hybridbauelementen, mikromechanische sowie mikrooptischen Bauelementen und dergleichen durchgeführt, die sich noch im Waferverbund befinden oder vereinzelt oder bereits in mehr oder weniger komplexen Schaltungen integriert sind. Nachfolgend soll als Testsubstrat jene Komponente bezeichnet sein, die jeweils zu inspizieren ist. Dies kann sowohl ein ganzer Wafer sein als auch dessen einzelne Bauelemente oder bereits vereinzelte Bauelemente, je nach der aktuellen Inspektionsaufgabe. Dabei ist es gleichermaßen möglich, dass zunächst ein einzelnes Bauelement eines Wafers und anschließend ein weiteres zu inspizieren ist und zwar jeweils unter Anwendung des gleichen Inspektionsverfahrens einmal auf das einzelne Bauelement und zum anderen auf den gesamten Wafer.As is known, a wide variety of test substrates are tested for various properties or subjected to special tests. The test substrates can be present in various stages of production and integration. Thus, tests of semiconductor chips, hybrid components, micromechanical and micro-optical components and the like are performed, which are still in the wafer assembly or isolated or already integrated in more or less complex circuits. In the following, the component to be inspected is the test substrate. This can be both an entire wafer and its individual components or already isolated components, depending on the current inspection task. It is equally possible that first a single component of a wafer and then another is to inspect each time using the same inspection method once on the single component and the other on the entire wafer.
Zur Prüfung und Inspektion von Testsubstraten werden Prüfstationen verwendet, die einen Chuck mit einer Oberfläche zur Aufnahme von Testsubstraten umfassen. Der Chuck ist mittels einer Bewegungsvorrichtung meist zumindest in X- und Y-Richtung verfahrbar. Die Prüfstation weist weiterhin eine Inspektionseinheit auf, eine Kamera und/oder ein Mikroskop, mit der die Testsubstrate inspiziert werden können. Dies erfolgt z. B. vor oder während der Kontaktierung der Kontaktpads der Testsubstrate durch Sondenspitzen.For testing and inspection of test substrates, test stations are used which comprise a chuck with a surface for receiving test substrates. The chuck is usually movable by means of a movement device at least in the X and Y directions. The inspection station also has an inspection unit, a camera and / or a microscope, with which the test substrates can be inspected. This is done z. B. before or during the contacting of the contact pads of the test substrates by probe tips.
Bei der manuellen Inspektion von Strukturen von Testsubstraten ist infolge des beschränkten Sichtfeldes der Inspektionseinheit meist nur ein Teil des gesamten Wafers oder auch nur ein Teil des Testsubstrats sichtbar. Die Größe des Abbildes hängt zum einen von Größe und Auflösung des in der Inspektionseinheit vom verwendeten Objektiv und/oder vom eingesetzten Sensors ab. Umso größer die Objektivvergrößerung, je kleiner der in einer Abbildung darzustellende Bereich des Testsubstrats, allgemein als Bildfeld bezeichnet. Bei einer nur teilweisen Darstellung des Testsubstrats muss die Inspektionseinheit vom Bediener der Prüfstation, dem Operator, relativ zum Chuck so positioniert werden, dass der für die Inspektion interessante Teil in ihrem Blickfeld ist.In the case of manual inspection of structures of test substrates, only a part of the entire wafer or only a part of the test substrate is usually visible due to the limited field of view of the inspection unit. The size of the image depends on the one hand on the size and resolution of the lens used in the inspection unit and / or the sensor used. The larger the objective magnification, the smaller the region of the test substrate to be displayed in an image, generally referred to as the image field. In a partial representation of the test substrate, the inspection unit operator must be positioned relative to the chuck by the operator of the inspection station, the operator, so that the part of interest for the inspection is within their field of vision.
Die Positionierung der Inspektionseinheit relativ zum Chuck erfolgt häufig allein durch eine Bewegung des Chucks. Alternativ sind aber auch Prober bekannt, deren Inspektionseinheit beweglich ist, so dass auch Chuck und Inspektionseinheit zueinander oder nur die Inspektionseinheit zum Chuck zugestellt werden. Nachfolgend soll die Beschreibung beispielhaft anhand der Bewegung allein des Chucks beschrieben sein. Eine Beschränkung auf eine solche Positionierung zu Inspektionszwecken ist damit nicht beabsichtigt.The positioning of the inspection unit relative to the chuck is often done solely by a movement of the chuck. Alternatively, however, probes are also known whose inspection unit is movable, so that the chuck and inspection unit are delivered to one another or only the inspection unit to the chuck. In the following, the description will be described by way of example with reference to the movement of the chuck alone. A limitation to such positioning for inspection purposes is not intended.
Liegen zu inspizierende Strukturen ein und desselben Testsubstrats räumlich weit auseinander, so passen sie nicht mehr gleichzeitig in das Bildfeld der Inspektionseinheit. Der Operator muss die erforderlichen Positionen manuell anfahren. Dieser Vorgang ist zeitaufwändig und insbesondere bei häufiger Wiederholung monoton. Schnelles manuelles inspizieren eines Testsubstrats ist nur insoweit möglich, wie die zu inspizierenden Strukturen nah beieinander bzw. innerhalb des Bildfeldes liegen.If structures to be inspected of one and the same test substrate are spatially far apart, they no longer fit into the image field of the inspection unit at the same time. The operator must manually approach the required positions. This process is time consuming and monotonous, especially with frequent repetition. Quick manual inspection of a test substrate is possible only insofar as the structures to be inspected are close to each other or within the image field.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, das Bildfeld einer Inspektionseinheit eines Probers zu erweitern und die Navigation auf dem Testsubstrat während der Inspektion zu verbessern.The object of the invention is to expand the image field of an inspection unit of a prober and to improve the navigation on the test substrate during the inspection.
Es ein Inspektionsverfahren angegeben, mit dem das Bildfeld der Inspektionseinheit virtuell erweitert wird, indem ein virtuelles Übersichtsbild des Testsubstrats oder zumindest eines Teils davon erstellt wird. Das Übersichtbild wird durch zweidimensionale Aneinanderreihung von mittels einer Kamera aufgenommenen Bildern erhalten, so genannte Kachelung, die an verschiedenen Positionen des Chucks aufgenommen wurden. Die einzelnen Kacheln des Übersichtbildes können entweder in verschiedenen Chuckpositionen innerhalb der X-Y-Ebene aufgenommen sein. Sie können aber auch Sprünge in Z-Richtung umfassen, je nach Struktur des Testsubstrats und Ziel der Inspektion.There is provided an inspection method with which the image field of the inspection unit is virtually expanded by creating a virtual overview image of the test substrate or at least part of it. The overview image is obtained by two-dimensional juxtaposition of images taken by a camera, so-called tiling, which were taken at different positions of the chuck. The individual tiles of the overview image can either be recorded in different chuck positions within the X-Y plane. However, they can also include Z-direction jumps, depending on the structure of the test substrate and the target of the inspection.
Dieses aus Einzelbildern zusammengesetzte Übersichtsbild ist ein Standbild, das erst durch explizite Nutzerinteraktion aktualisiert wird. Es dient als Referenz für die weitere Navigation für die Inspektionseinheit, z. B. im Rahmen der Einstellung oder Inspektion der Kontaktposition der Sondenspitzen. Die Größe des virtuellen Bildfeldes des Übersichtsbilds wird dabei so gewählt, dass auf einem Testsubstrat, das größer ist als der mit der Inspektionseinheit abbildbare Bildausschnitt, mit ausreichender Genauigkeit grob navigiert werden kann. Die Feinpositionierung erfolgt dann im Live-Bild, das nach dem Anfahren der im Übersichtsbild ausgewählten Position gewonnen wird.This overview image composed of individual images is a still image that is only updated by explicit user interaction. It serves as a reference for further navigation for the inspection unit, eg. As in the context of adjustment or inspection of the contact position of the probe tips. The size of the virtual Image field of the overview image is chosen so that can be roughly navigated with sufficient accuracy on a test substrate, which is greater than the imageable with the inspection unit image detail. The fine positioning then takes place in the live image, which is obtained after starting the position selected in the overview image.
Zur Herstellung des Übersichtsbildes werden die interessierenden Chuckpositionen angefahren. In jeder Position wird ein Einzelbild aufgenommen, diesem die jeweiligen X- und Y-Koordinaten der Chuckposition und gegebenenfalls auch Z-Koordinaten und Skalierungsdaten zugeordnet und das Bild in Verbindung mit diesen Daten im Speicher der Steuereinheit des Probers gespeichert. Die Aufnahme der Einzelbilder kann auf verschiedene Weise erfolgen. So ist eine automatisierte Aufnahme mit voreinstellbaren Positionierungsschritten des Chucks innerhalb eines zuvor, z. B. manuell, begrenztem Bereich auf dem Testsubstrat möglich. Dies kann insbesondere dann erfolgen, wenn regelmäßige Strukturen auf dem Testsubstrat zu inspizieren sind, wie z. B. Kontaktpadreihen oder Kontaktpadarrays. Auch manuelles Positionierungen zur Aufnahme jedes Bildes oder eine Kombination von beidem sind möglich. Die aufzunehmenden Einzelbilder können unmittelbar aneinander anschließend den interessierenden Bereich des Testsubstrats vollständig abbilden oder nur ausgewählte Bereiche davon.To produce the overview image, the chuck positions of interest are approached. In each position, a single image is taken, assigned to this the respective X and Y coordinates of Chuckposition and possibly also Z coordinates and scaling data and stored the image in connection with these data in the memory of the control unit of the Probers. The recording of the individual images can be done in various ways. Thus, an automated recording with presettable positioning steps of the chuck within a previously, z. B. manual, limited range on the test substrate possible. This can be done in particular when regular structures on the test substrate are to be inspected, such. B. Kontaktpadreihen or Kontaktpadarrays. Also, manual positioning to capture each image or a combination of both are possible. The individual images to be photographed can then be completely directly next to one another to completely map the region of interest of the test substrate or only selected regions thereof.
Die Einzelbilder mit den zugehörigen Daten werden nachfolgend als Kacheln bezeichnet. Aus diesen Kacheln wird anhand von Kriterien, die für die jeweilige Inspektionsaufgabe günstig ist, das Übersichtsbild zusammengesetzt. Meist werden diese Kriterien durch den räumlichen Zusammenhang der einzelnen Kacheln bedingt sein.The individual images with the associated data are referred to below as tiles. From these tiles, the overview image is assembled on the basis of criteria that are favorable for the respective inspection task. Most of these criteria will be due to the spatial relationship of the individual tiles.
Alternativ können aber auch funktionelle Zusammenhänge, die sich aus den Bildinhalten ergeben, maßgeblich für die Aneinanderreihung der einzelnen sein. In jedem Fall aber erfolgt das Zusammenfügen der Kacheln auf der Basis der Koordinaten ohne Berücksichtigung des Bildinhaltes. Aus letzterem folgt, dass auch keine Positionierungsfehler in der gewünschten Chuckposition oder Objektivverzeichnungen berücksichtigt werden, die Bilderkennungsverfahren erfordern würden.Alternatively, however, functional relationships that result from the image contents can also be decisive for the juxtaposition of the individual. In any case, the tiles are assembled on the basis of the coordinates without consideration of the image content. It follows from the latter that no positioning errors in the desired chuck position or lens distortions that would require image recognition methods are taken into account.
Ein Anhaltspunkt für die Anzahl der Kacheln je Übersichtsbild ist neben der Inspektionsaufgabe auch der Speicherbedarf, wobei zu berücksichtigen ist, dass sowohl die einzelnen Kacheln als auch das Übersichtsbild zumindest kurzzeitig parallel vorgehalten werden müssen und das Übersichtsbild auch in der vollen Auflösung gespeichert werden kann. So kann es hilfreich sein, die Bilder nur in Schwarz-Weiß zu speichern, da sich bei farbigen Bildern sowohl der Rechen- und damit verbundenen Zeitaufwand als auch der Speicherbedarf vervielfacht. Eine Verminderung des Speicherbedarfs kann alternativ oder ergänzend auch durch eine Abwärtsskalierung der Auflösung der Einzelbilder erfolgen. Dies hat auf die spätere Inspektion keinen Einfluss, da die Kacheln lediglich der Navigation dienen und die Inspektion nach dem Anfahren der mit der Kachel verbundenen Koordinaten am dann erhaltenen Abbild, dem Live-Bild erfolgt.An indication of the number of tiles per overview image is, in addition to the inspection task, also the memory requirement, whereby it must be taken into account that both the individual tiles and the overview image must be kept in parallel at least briefly and the overview image can also be stored in the full resolution. So it can be helpful to save the images only in black and white, because in the case of colored images, both the computational and associated time expenditure as well as the storage requirements multiply. A reduction of the memory requirement can alternatively or additionally also be effected by a downward scaling of the resolution of the individual images. This has no effect on the subsequent inspection, since the tiles are used only for navigation and the inspection takes place after the start of the coordinates associated with the tile on the then obtained image, the live image.
Das Übersichtsbild wird auf einem Display der Steuereinheit des Probers angezeigt, vorzugsweise gemeinsam mit dem aktuellen, mit der Inspektionseinheit zu gewinnenden Live-Bild des Testsubstrats. Mittels eines Cursors, entweder einem Mauszeiger, einem Fadenkreuz oder ähnlichem, kann der Operator im Übersichtsbild jede der Kacheln auswählen und aktivieren. Auf eine Aktivierung einer Kachel hin wird in der Steuereinheit ein Signal an die Bewegungsvorrichtung generiert, welches das Anfahren jener Chuckposition bewirkt, in welcher die aktivierte Kachel aufgenommen wurde.The overview image is displayed on a display of the control unit of the prober, preferably together with the current live image of the test substrate to be obtained with the inspection unit. By means of a cursor, either a mouse pointer, a crosshair or similar, the operator can select and activate each of the tiles in the overview image. Upon activation of a tile, a signal is generated in the control unit to the movement device, which causes the start of the chuck position in which the activated tile was taken.
Bei dieser so genannten statischen Positionierung beziehen sich Koordinaten und Daten der aktivierten Kachel stets auf den für die Erstellung des Übersichtsbildes aufgenommenen Bereich des Testsubstrats, unabhängig davon wie weit die aktuelle Position von der Aufnahmeposition der Kachel entfernt ist.In the case of this so-called static positioning, coordinates and data of the activated tile always relate to the area of the test substrate recorded for the creation of the overview image, regardless of how far away the current position is from the location of the tile.
In einer Ausgestaltung der Erfindung, der so genannten dynamischen Positionierung, werden die Koordinaten der Kacheln des Übersichtbildes auf regelmäßig wiederkehrende, vergleichbare Teilstrukturen des Testsubstrats übertragen, indem die Schrittweite der Wiederholung der Teilstruktur auf die Koordinaten jeder Kachel des Übersichtsbildes angerechnet wird. Dabei wird jede Koordinate jeder Kachel um ein Mehrfaches der Werte in X-, Y und gegebenenfalls auch Z-Richtung korrigiert, die die Lage zweier benachbarter Teilstrukturen zueinander definieren. Anhand des Vergleichs der aktuellen Position mit dem Aufnahmebereich des Übersichtsbildes ist die Anzahl der Wiederholungen der Teilstruktur zu ermitteln, die zwischen beiden Positionen liegen, und somit wie oft und in welche Richtungen die Korrekturen der X-, Y- und Z-Koordinaten anzuwenden sind. Der Aufnahmebereich des Übersichtsbildes ist z. B. anhand einer Referenzkachel zu definieren.In one embodiment of the invention, the so-called dynamic positioning, the coordinates of the tiles of the overview image are transferred to regularly recurring, comparable substructures of the test substrate by counting the step size of the repetition of the substructure to the coordinates of each tile of the overview image. Each coordinate of each tile is corrected by a multiple of the values in the X, Y and possibly also the Z direction, which define the position of two neighboring substructures to each other. Based on the comparison of the current position with the recording area of the overview image, the number of repetitions of the substructure that lie between the two positions and thus how often and in which directions the corrections of the X, Y and Z coordinates are to be applied. The recording area of the overview image is z. B. based on a reference tile to define.
Auf diese Weise ist sowohl eine Wiederholung in nur einer Richtung als auch in mehreren Richtungen zu berücksichtigen. Zudem ist auch diese Erweiterung der Navigation auf eine Vielzahl von vergleichbaren Strukturen, z. B. bei Bauelementen im Waferverbund, auch ohne Bilderkennung anwendbar. Die aktuelle Position ist allein aus dem Koordinatenvergleich zu ermitteln, wenn das Schrittmaß der Wiederholungen bekannt ist oder zuvor ermittelt wurde. Damit ist eine Navigation in der Umgebung des Live-Bildes und auf die dort abgebildete Teilstruktur möglich, auch wenn sich die Inspektionseinheit außerhalb des Bereiches des Übersichtsbilds befindet. Mit jeder Aktivierung einer Kachel im Übersichtsbild wird automatisch in eine Position innerhalb der aktuellen, d. h. im Live-Bild abgebildeten Teilstruktur umgerechnet. Auch eine Navigation im Umfeld des Live-Bildes ist grundsätzlich möglich, setzt allerdings voraus, dass das Übersichtsbild eine komplette Teilstruktur erfasst hat. In this way, both a repetition in one direction and in several directions must be considered. In addition, this extension of the navigation on a variety of comparable structures, eg. B. applicable to components in the wafer composite, even without image recognition. The current position can only be determined from the coordinate comparison if the increment of the repetitions is known or previously determined. This allows navigation in the environment of the live image and on the substructure depicted there, even if the inspection unit is outside the area of the overview image. Each time a tile is activated in the overview image, it is automatically converted into a position within the current substructure, ie in the live image. It is also possible to navigate around the live image, but this assumes that the overview image has captured a complete substructure.
Die Erfindung soll nachfolgend anhand eines Ausführungsbeispieles näher erläutert werden. In der zugehörigen Zeichnung zeigtThe invention will be explained in more detail with reference to an embodiment. In the accompanying drawing shows
Die 16 Einzelbilder
Das Übersichtsbild
Die Einzelbilder
Auf Basis der Größe eines Live-Bilds mit 3 mal 3 mm ergibt sich für die gewählte Kachelung ein theoretisches Bildfeld von 12 mal 12 mm2. Der Unterschied zur tatsächlichen Bildfeldgröße von im Ausführungsbeispiel 10 mal 10 mm2 liegt an der Überlappung
Ein reales Übersichtsbild
Im Ausführungsbeispiel gemäß
Aufgrund der in diesem Ausführungsbeispiel geringeren Detailauflösung, würde ein Einzelbild
Bei der dargestellten dynamischen Positionierung eines Chips
Nachdem das Übersichtsbild
Bei der dynamischen Positionierung wird aus der Differenz der aktuell angefahrenen Position unter dem Sichtfeld der Kamera, dessen X- und Y-Koordinaten bekannt sind, und den Positionskoordinaten der aktivierten Kachel
Nachdem der angefahrene Chip
Im Übersichtsbild
BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS
- 11
- ÜbersichtsbildOverview screen
- 22
- Testsubstrat, ChipTest substrate, chip
- 33
- Waferwafer
- 44
- Einzelbild, KachelSingle picture, tile
- 55
- Überlappungoverlap
- 66
- Sichtfeldfield of view
- 1010
- Anzeige, DisplayDisplay, display
- 1111
- Cursor, FadenkreuzCursor, crosshair
Claims (4)
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE201010006607 DE102010006607A1 (en) | 2010-02-01 | 2010-02-01 | Method for inspecting structures of semiconductor devices |
| PCT/EP2010/068996 WO2011091894A1 (en) | 2010-02-01 | 2010-12-06 | Method for inspecting structures of test substrates |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE201010006607 DE102010006607A1 (en) | 2010-02-01 | 2010-02-01 | Method for inspecting structures of semiconductor devices |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE102010006607A1 true DE102010006607A1 (en) | 2011-12-15 |
Family
ID=43629167
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE201010006607 Withdrawn DE102010006607A1 (en) | 2010-02-01 | 2010-02-01 | Method for inspecting structures of semiconductor devices |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE102010006607A1 (en) |
| WO (1) | WO2011091894A1 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11754511B2 (en) * | 2017-11-21 | 2023-09-12 | Formfactor, Inc. | Method and device for optically representing electronic semiconductor components |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6469529B1 (en) * | 2000-05-30 | 2002-10-22 | Advanced Micro Devices, Inc. | Time-resolved emission microscopy system |
| DE102004058655B4 (en) * | 2004-09-07 | 2009-04-02 | Werth Messtechnik Gmbh | Method and arrangement for measuring geometries of an object by means of a coordinate measuring machine |
| CN101275831B (en) * | 2007-03-26 | 2011-06-22 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | Image offline processing system and method |
-
2010
- 2010-02-01 DE DE201010006607 patent/DE102010006607A1/en not_active Withdrawn
- 2010-12-06 WO PCT/EP2010/068996 patent/WO2011091894A1/en active Application Filing
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2011091894A1 (en) | 2011-08-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE102014206309B4 (en) | System and method for obtaining offset images to be used for improved edge resolution | |
| DE102006000946B4 (en) | Method and system for inspecting a periodic structure | |
| DE102011084095A1 (en) | Hardness Tester | |
| DE3750189T2 (en) | System for the automatic inspection of periodic samples. | |
| DE68928162T2 (en) | Method and device for compressing high resolution images | |
| DE202019105838U1 (en) | Arrangement with a coordinate measuring machine or microscope | |
| DE10253717B4 (en) | Device for contacting for the test of at least one test object, test system and method for testing test objects | |
| DE102013207598A1 (en) | Placement device and placement method | |
| DE102008002753B4 (en) | Method for optical inspection, detection and visualization of defects on disc-shaped objects | |
| DE3505331A1 (en) | METHOD AND DEVICE FOR MEASURING THE IMPRESSION LEAVED IN A SPECIMEN DURING HARDENING TESTING | |
| DE102018124401A1 (en) | Method for taking an image with a particle microscope | |
| DE3879015T2 (en) | METHOD AND DEVICE FOR SURVEYING PUNCH MASKS. | |
| DE112008004172T5 (en) | Structural measuring device and structural measuring method | |
| CH709657A1 (en) | A method for detecting the presence or absence of disposable pipette tips in the pipette tip carriers. | |
| DE112011104912T5 (en) | Using a charged particle microscope and method of image correction therewith | |
| DE69430976T2 (en) | Scanning electron microscope and imaging method using such a microscope | |
| EP3692409A1 (en) | High-resolution confocal microscope | |
| DE102017112976A1 (en) | Method for calibrating an optical arrangement of a coordinate measuring machine | |
| DE3411720C2 (en) | ||
| DE112016003308T5 (en) | Device with a beam of charged particles and alignment adjustment method of a sample platform | |
| DE19614896A1 (en) | Field-determining method for deformation conditions in microscopic-size specimen regions | |
| DE102010006607A1 (en) | Method for inspecting structures of semiconductor devices | |
| DE10317778B4 (en) | A method of increasing the accuracy of positioning a first object relative to a second object | |
| DE10141423A1 (en) | Method and device for checking for pattern errors | |
| DE69321090T2 (en) | Method and device for analyzing moving objects using radiography |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R082 | Change of representative |
Representative=s name: PATENTANWAELTE LIPPERT, STACHOW & PARTNER, DE Representative=s name: PATENTANWAELTE LIPPERT, STACHOW & PARTNER, 01309 D |
|
| R119 | Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee |
Effective date: 20120901 |