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DE102023120631A1 - Process for joining, casting or coating substrates and curable mass therefor - Google Patents

Process for joining, casting or coating substrates and curable mass therefor Download PDF

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DE102023120631A1
DE102023120631A1 DE102023120631.1A DE102023120631A DE102023120631A1 DE 102023120631 A1 DE102023120631 A1 DE 102023120631A1 DE 102023120631 A DE102023120631 A DE 102023120631A DE 102023120631 A1 DE102023120631 A1 DE 102023120631A1
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DE
Germany
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curable
mass
wavelength
photoinitiator
irradiation
Prior art date
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Application number
DE102023120631.1A
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German (de)
Inventor
Kilian Raucheisen
Martina Metzger
Markus True
Vitalij Schimpf
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Delo Industrieklebstoffe GmbH and Co Kgaa
Original Assignee
Delo Industrieklebstoffe GmbH and Co Kgaa
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Publication date
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Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Fügen, Vergießen oder Beschichten von Substraten unter Verwendung einer härtbaren Masse, eine härtbare Masse sowie eine Verwendung der härtbaren Masse zum Fügen, Vergießen oder Beschichten von Substraten. Die härtbare Masse umfasst eine erste härtbare Komponente (A) und eine zweite härtbare Komponente (B), einen ersten Photoinitiator (C) für die erste härtbare Komponente (A), der bei Bestrahlung mit aktinischer Strahlung einer ersten Wellenlänge λ1 aktivierbar ist, einen zweiten Photoinitiator (D) für die zweite härtbare Komponente (B), der bei Bestrahlung mit aktinischer Strahlung einer zweiten Wellenlänge λ2 aktivierbar ist, wobei die zweite Wellenlänge λ2 von der ersten Wellenlänge λ1 verschieden ist, und mindestens einen radikalfangenden Inhibitor (E) zum Abfangen von bei Bestrahlung der härtbaren Masse mit aktinischer Strahlung der ersten Wellenlänge λ1 erzeugten Radikalen. Im Verfahren wird die härtbare Masse auf ein erstes Substrat dosiert und durch Bestrahlen mit aktinischer Strahlung der ersten Wellenlänge λ1 aktiviert. Anschließend wird die aktivierte härtbaren Masse durch Bestrahlen mit aktinischer Strahlung der zweiten Wellenlänge λ2 fixiert.
Ferner wird eine härtbare Masse sowie eine Verwendung einer härtbaren Masse angegeben.
The invention relates to a method for joining, casting or coating substrates using a curable mass, a curable mass and a use of the curable mass for joining, casting or coating substrates. The curable mass comprises a first curable component (A) and a second curable component (B), a first photoinitiator (C) for the first curable component (A), which can be activated when irradiated with actinic radiation of a first wavelength λ 1 , a second photoinitiator (D) for the second curable component (B), which can be activated when irradiated with actinic radiation of a second wavelength λ 2 , the second wavelength λ 2 being different from the first wavelength λ 1 , and at least one radical-scavenging inhibitor (E) for scavenging radicals generated when the curable mass is irradiated with actinic radiation of the first wavelength λ 1 . In the process, the curable mass is dosed onto a first substrate and activated by irradiation with actinic radiation of the first wavelength λ 1. The activated curable mass is then fixed by irradiation with actinic radiation of the second wavelength λ 2 .
Furthermore, a hardenable mass and a use of a hardenable mass are specified.

Description

GEBIET DER ERFINDUNGFIELD OF THE INVENTION

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Fügen, Vergießen oder Beschichten von Substraten unter Verwendung einer härtbaren Masse, die durch Bestrahlen mit aktinischer Strahlung aktivierbar ist, eine härtbare Masse sowie die Verwendung einer solchen härtbaren Masse.The invention relates to a method for joining, casting or coating substrates using a curable mass which can be activated by irradiation with actinic radiation, a curable mass and the use of such a curable mass.

TECHNISCHER HINTERGRUNDTECHNICAL BACKGROUND

Die EP 3 894 458 B1 offenbart kationisch polymerisierbare Massen mit zwei Photoinitiatoren, die bei verschiedenen Wellenlängen eine Säure freisetzen können. Die Massen sind durch Bestrahlung mit einer ersten Wellenlänge aktivierbar und durch Bestrahlung mit einer zweiten Wellenlänge fixierbar. Die erreichbaren Lichtfixierfestigkeiten sind jedoch gering. In einer Ausgestaltung enthält die kationisch polymerisierbare Masse ein oder mehrere Acrylate, die jedoch bereits bei der Bestrahlung mit der ersten Wellenlänge zu einer Verfestigung der Masse führen, so dass die Masse nicht mehr uneingeschränkt dosierbar ist.The EP 3 894 458 B1 discloses cationically polymerizable masses with two photoinitiators that can release an acid at different wavelengths. The masses can be activated by irradiation with a first wavelength and fixed by irradiation with a second wavelength. However, the achievable light fixation strengths are low. In one embodiment, the cationically polymerizable mass contains one or more acrylates, which, however, already lead to solidification of the mass when irradiated with the first wavelength, so that the mass can no longer be dosed without restriction.

In dem wissenschaftlichen Artikel von Kostanski et al.: „Cationic polymerisation using mixed cationic photoinitiator systems“ (Designed Monomers and Polymers 2007, Vol. 10, No. 4, Seiten 327-345, doi: 10.1163/156855507781505110 ) werden Mischungen von Sulfonium- oder lodoniumsalzen mit Ferroceniumsalzen beschrieben. Die Ferroceniumsalze dienen als Sensibilisatoren für den Photoinitiator auf Basis des Sulfonium- oder lodoniumsalzes. Zur Bestrahlung wird eine Quecksilber-Hochdruckdampflampe verwendet. Die verschiedenen Photoinitiatoren der Mischungen werden jedoch nicht sequentiell bei spezifischen Wellenlängen aktiviert.In the scientific article von Kostanski et al.: “Cationic polymerisation using mixed cationic photoinitiator systems” (Designed Monomers and Polymers 2007, Vol. 10, No. 4, pages 327-345, doi: 10.1163/156855507781505110 ) describes mixtures of sulfonium or iodonium salts with ferrocenium salts. The ferrocenium salts serve as sensitizers for the photoinitiator based on the sulfonium or iodonium salt. A high-pressure mercury vapor lamp is used for irradiation. However, the various photoinitiators of the mixtures are not activated sequentially at specific wavelengths.

Die US 4 849 320 A beschreibt ein photolithographisches Verfahren unter Einsatz einer Masse, die zwei Photoinitiatoren und ein Gemisch von radikalisch und kationisch polymerisierbaren Komponenten umfasst. Zunächst wird die Masse mit Strahlung einer Wellenlänge bestrahlt, die zur Aktivierung des radikalischen Photoinitiators geeignet ist, um die Masse initial zu verfestigen. Anschließend wird die verfestigte Masse mit aktinischer Strahlung einer Wellenlänge bestrahlt, die zur Aktivierung des kationischen Photoinitiators geeignet ist, um in definierten Bereichen eine Strukturierung zu erzeugen. In einem anschließenden Waschprozess wird die außerhalb dieser Bereiche vorhandene Masse entfernt, die im ersten Schritt ausschließlich radikalisch teilgehärtet wurde. Die Photoinitiatoren werden so gewählt, dass deren Absorptionsbereiche keinen Überlapp besitzen und durch verschiedene Wellenlängen gezielt getrennt aktiviert werden können. Eine Aktivierung des radikalischen Photoinitiators im ersten Belichtungsschritt führt unmittelbar zu einer Verfestigung der Masse.The US 4 849 320 A describes a photolithographic process using a mass that includes two photoinitiators and a mixture of radically and cationically polymerizable components. First, the mass is irradiated with radiation of a wavelength that is suitable for activating the radical photoinitiator in order to initially solidify the mass. The solidified mass is then irradiated with actinic radiation of a wavelength that is suitable for activating the cationic photoinitiator in order to create a structure in defined areas. In a subsequent washing process, the mass outside these areas, which was only partially hardened radically in the first step, is removed. The photoinitiators are selected so that their absorption ranges do not overlap and can be specifically activated separately by different wavelengths. Activation of the radical photoinitiator in the first exposure step immediately leads to solidification of the mass.

Die US 5 707 780 A beschreibt ebenfalls Massen, die Gemische von radikalisch und kationisch polymerisierbaren Komponenten umfassen, welche durch Bestrahlung mit einem Argonlaser bei unterschiedlichen Wellenlängen gleichzeitig aktiviert werden können. Die Massen zeichnen sich durch eine hohe initiale Festigkeit nach Aushärtung aus, die durch die Einstellung des Verhältnisses der Extinktionskoeffizienten der radikalischen und kationischen Photoinitiatoren zueinander erzielt werden kann. Die beschriebenen Massen lassen sich in der additiven Fertigung verwenden. Eine sequenzielle Belichtung wird nicht offenbart. Nach der Belichtung tritt unmittelbar eine Verfestigung der Masse auf.The US 5 707 780 A also describes masses that comprise mixtures of radically and cationically polymerizable components that can be activated simultaneously by irradiation with an argon laser at different wavelengths. The masses are characterized by a high initial strength after curing, which can be achieved by adjusting the ratio of the extinction coefficients of the radical and cationic photoinitiators to one another. The described masses can be used in additive manufacturing. Sequential exposure is not disclosed. After exposure, the mass solidifies immediately.

Die US 5 472 991 A offenbart einen Prozess zum zweistufigen Härten einer Dentalmasse auf Basis von Acrylaten. Die verwendeten Dentalmassen enthalten mindestens zwei verschiedene Photoinitiatoren, die sequenziell durch Licht verschiedener Wellenlängen anregbar sind. Nach der ersten Belichtung mit einer Wellenlänge von 450 nm oder größer ist die Dentalmasse bereits in einem Maße verfestigt, dass diese durch mechanisches Modellieren in ihre finale Form gebracht werden kann. Die vollständige Härtung erfolgt durch Bestrahlung bei einer zweiten Wellenlänge, die kürzer als die erste Wellenlänge ist.The US 5 472 991 A discloses a process for the two-stage hardening of a dental mass based on acrylates. The dental masses used contain at least two different photoinitiators that can be sequentially excited by light of different wavelengths. After the first exposure to a wavelength of 450 nm or greater, the dental mass is already solidified to such an extent that it can be brought into its final shape by mechanical modeling. Complete hardening is achieved by irradiation at a second wavelength that is shorter than the first wavelength.

In der JP 2017 149 813 A werden strahlungshärtbare Acrylatmassen beschrieben, die neben mindestens einem (Meth)Acrylat, zwei Photoinitiatoren für die radikalische Polymerisation enthalten. Ferner wird der Einsatz von Verbindungen auf Styrenbasis zur gezielten Steuerung des Molekulargewichts offenbart. Eine separate Aktivierung und Fixierung ist trotz des Einsatzes zweier Initiatoren nicht vorgesehen.In the JP 2017 149 813 A describes radiation-curable acrylate compositions which contain at least one (meth)acrylate and two photoinitiators for radical polymerization. Furthermore, the use of styrene-based compounds for targeted control of the molecular weight is disclosed. Despite the use of two initiators, separate activation and fixation is not provided.

Die US 11 518 087 B2 beschreibt ein Verfahren zur additiven Fertigung, in dem härtbare Massen mit mindestens zwei verschiedenen Arten von Monomeren und mindestens zwei Photoinitiatoren, die voneinander verschiedene Anregungswellenlängen aufweisen, zum Einsatz kommen. Eine selektive Belichtung mit einer ersten Wellenlänge führt bereits zu einer mindestens teilweisen Härtung der Masse. Über die gezielte Steuerung der Anregungswellenlängen lässt sich das mechanische Verhalten der beschriebenen Systeme einstellen. Die Massen verfügen jedoch über keine Offenzeit und sind nicht für Fügeverfahren geeignet.The US 11 518 087 B2 describes a process for additive manufacturing in which curable masses with at least two different types of monomers and at least two photoinitiators that have different excitation wavelengths are used. Selective exposure with a first wavelength already leads to at least partial hardening of the mass. The mechanical behavior of the systems described can be adjusted by specifically controlling the excitation wavelengths. However, the masses do not have an open time and are not suitable for joining processes.

Die WO 2001 092 362 A1 beschreibt photoaktivierbare Beschichtungen auf Basis von Polyisocyanaten, Thiolen und einer photolatenten Base. Diese sind nach Bestrahlung bzw. Belichtung innerhalb von Minuten unter Ausbildung eines Polythiourethannetzwerkes aushärtbar.The WO 2001 092 362 A1 describes photoactivatable coatings based on polyisocyanates, thiols and a photolatent base. After irradiation or exposure, these can be cured within minutes to form a polythiourethane network.

In der EP 3 789 416 A1 werden strahlungshärtbare Massen beschrieben, die mindestens ein Polythiol, ein Polyisocyanat, eine ethylenisch ungesättigte Verbindung und eine photolatente Base umfassen. Ferner können Additive wie beispielweise ein Photoinitiator für die radikalische Polymerisation enthalten sein. Eine Härtung der Massen durch Belichtung bei verschiedenen Wellenlängen ist nicht vorgesehen. Ein Verfahren unter Verwendung der Masse sieht eine unmittelbare Verfestigung der Masse beim Belichten zum schichtweisen Aufbau additiv gefertigter Strukturen vor.In the EP 3 789 416 A1 describes radiation-curable compositions which comprise at least one polythiol, one polyisocyanate, one ethylenically unsaturated compound and one photolatent base. Additives such as a photoinitiator for radical polymerization can also be included. Curing of the compositions by exposure to different wavelengths is not provided for. A process using the composition provides for immediate solidification of the composition upon exposure for the layer-by-layer construction of additively manufactured structures.

ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNGSUMMARY OF THE INVENTION

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die oben beschriebenen Nachteile der aus dem Stand der Technik bekannten Verfahren und Zusammensetzungen zu vermeiden und härtbare Massen bereitzustellen, die vorteilhaft in einem ersten Bestrahlungsschritt aktiviert und in einem weiteren Bestrahlungsschritt fixiert werden können. Insbesondere sollen die Massen ein Verfahren ermöglichen, mit dem der Festigkeitsaufbau durch eine Lichtfixierung gezielt gesteuert werden kann und gleichzeitig ein zuverlässiges Aushärten in Schattenzonen sichergestellt ist, insbesondere bei nicht durchstrahlbaren Substraten.The invention is based on the object of avoiding the above-described disadvantages of the methods and compositions known from the prior art and of providing curable materials which can advantageously be activated in a first irradiation step and fixed in a further irradiation step. In particular, the materials should enable a method with which the strength build-up can be controlled in a targeted manner by means of light fixation and at the same time reliable curing in shadow zones is ensured, in particular in the case of substrates which cannot be penetrated by radiation.

Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe durch ein Verfahren nach Anspruch 1 unter Verwendung einer härtbaren Masse, durch eine härtbare Masse nach Anspruch 7 sowie die Verwendung einer solchen Masse nach Anspruch 10 gelöst.According to the invention, this object is achieved by a method according to claim 1 using a curable mass, by a curable mass according to claim 7 and the use of such a mass according to claim 10.

Weitere Ausführungsformen der Erfindung sind in den Unteransprüchen angegeben, die wahlweise miteinander kombiniert werden können.Further embodiments of the invention are specified in the subclaims, which can optionally be combined with one another.

Das erfindungsgemäße Verfahren zum Fügen, Vergießen oder Beschichten von Substraten unter Verwendung einer härtbaren Masse umfasst die folgenden Schritte:

  1. a) Bereitstellen der härtbaren Masse, wobei die härtbare Masse folgende Komponenten umfasst:
    1. (A) eine erste härtbare Komponente ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus kationisch polymerisierbaren Verbindungen, additionsvernetzbaren Verbindungen, durch Feuchtigkeit vernetzbaren Verbindungen und Kombinationen davon,
    2. (B) eine zweite härtbare Komponente bestehend aus mindestens einer radikalisch strahlungshärtbaren Verbindung,
    3. (C) einen ersten Photoinitiator für die erste härtbare Komponente (A), der bei Bestrahlung mit aktinischer Strahlung einer ersten Wellenlänge λ1 aktivierbar ist, wobei der erste Photoinitiator eine photolatente Säure oder eine photolatente Base ist,
    4. (D) einen zweiten Photoinitiator für die zweite härtbare Komponente (B), der bei Bestrahlung mit aktinischer Strahlung einer zweiten Wellenlänge λ2 aktivierbar ist, wobei die zweite Wellenlänge λ2 von der ersten Wellenlänge λ1 verschieden ist, und wobei der zweite Photoinitiator ein Radikalbildner ist, und
    5. (E) mindestens einen radikalfangenden Inhibitor zum Abfangen von bei Bestrahlung der härtbaren Masse mit aktinischer Strahlung der ersten Wellenlänge λ1 erzeugten Radikalen;
  2. b) Dosieren der härtbaren Masse auf ein erstes Substrat und Aktivieren der härtbaren Masse durch Bestrahlen mit aktinischer Strahlung der ersten Wellenlänge λ1;
  3. c) wahlweise Zuführen eines zweiten Substrats zur aktivierten härtbaren Masse auf dem ersten Substrat unter Bildung eines Substratverbunds; und
  4. d) Fixieren der aktivierten härtbaren Masse durch Bestrahlen mit aktinischer Strahlung der zweiten Wellenlänge λ2.
The method according to the invention for joining, casting or coating substrates using a curable mass comprises the following steps:
  1. a) Providing the hardenable mass, wherein the hardenable mass comprises the following components:
    1. (A) a first curable component selected from the group consisting of cationically polymerizable compounds, addition-curable compounds, moisture-curable compounds, and combinations thereof,
    2. (B) a second curable component consisting of at least one radically radiation-curable compound,
    3. (C) a first photoinitiator for the first curable component (A) which is activatable upon irradiation with actinic radiation of a first wavelength λ 1 , wherein the first photoinitiator is a photolatent acid or a photolatent base,
    4. (D) a second photoinitiator for the second curable component (B) which is activatable upon irradiation with actinic radiation of a second wavelength λ 2 , wherein the second wavelength λ 2 is different from the first wavelength λ 1 , and wherein the second photoinitiator is a radical former, and
    5. (E) at least one radical-scavenging inhibitor for scavenging radicals generated upon irradiation of the curable composition with actinic radiation of the first wavelength λ 1 ;
  2. b) dosing the curable mass onto a first substrate and activating the curable mass by irradiation with actinic radiation of the first wavelength λ 1 ;
  3. c) optionally adding a second substrate to the activated curable mass on the first substrate to form a substrate composite; and
  4. d) Fixing the activated curable mass by irradiation with actinic radiation of the second wavelength λ 2 .

Das erfindungsgemäße Verfahren zeichnet sich durch einen über die Bestrahlung bei verschiedenen Wellenlängen präzise kontrollierbaren Ablauf beim Aktivieren und Härten der Masse aus, der einerseits durch das (Vor-)Aktivieren der ersten härtbaren Komponente (A) eine zuverlässige Härtung auch in Schattenzonen ermöglicht - bei gleichzeitig noch gegebener Verarbeitungsmöglichkeit der aktivierten Masse während einer Offenzeit. Andererseits wird durch den Einsatz der zweiten härtbaren Komponente (B) auf Basis mindestens einer radikalisch strahlungshärtbaren Verbindung die Möglichkeit einer schnellen und zuverlässigen Fixierung der härtbaren Masse durch Bestrahlen bei einer zweiten Wellenlänge geschaffen, wobei das Bestrahlen in einem separaten Schritt erfolgt.The method according to the invention is characterized by a precisely controllable process for activating and hardening the mass by means of irradiation at different wavelengths, which on the one hand by (pre-)activating the first curable component (A), reliable curing is also possible in shadow areas - while at the same time allowing the activated mass to be processed during an open time. On the other hand, the use of the second curable component (B) based on at least one radically radiation-curable compound creates the possibility of fast and reliable fixing of the curable mass by irradiation at a second wavelength, with the irradiation taking place in a separate step.

Unter einem „Aktivieren“ der Masse wird hier und im Folgenden verstanden, dass die aktivierte Masse auch ohne weiteren Energieeintrag nach einer vorgegebenen Zeitdauer aushärtet, auch in Schattenzonen, in denen die Masse nicht mit aktinischer Strahlung der zweiten Wellenlänge λ2 bestrahlt werden kann. Die vorgegebene Zeitdauer beträgt insbesondere höchstens 24 Stunden. Innerhalb dieser Zeitspanne überschreitet die Masse den Gelpunkt und geht in den festen Zustand über. Die Endaushärtung der Masse muss zu diesem Zeitpunkt jedoch noch nicht abgeschlossen sein.Here and in the following, "activation" of the mass means that the activated mass hardens after a specified period of time without any further energy input, even in shadow zones where the mass cannot be irradiated with actinic radiation of the second wavelength λ 2. The specified period of time is in particular a maximum of 24 hours. Within this period of time, the mass exceeds the gel point and changes to the solid state. The final hardening of the mass does not have to be completed at this point, however.

Die Endaushärtung bezeichnet einen Zustand, an dem der maximale Festigkeitsaufbau der Masse abgeschlossen ist. Dies bedeutet, dass sich die mechanischen Eigenschaften der Masse im Wesentlichen nicht mehr ändern. Insbesondere findet keine Steigerung des Elastitätsmoduls der Masse mehr statt. Die Endaushärtung ist insbesondere innerhalb von höchstens sieben Tagen abgeschlossen, bevorzugt innerhalb von drei Tagen, besonders bevorzugt innerhalb von einem Tag, also innerhalb von 24 Stunden.Final curing refers to a state at which the maximum strength build-up of the mass is complete. This means that the mechanical properties of the mass essentially no longer change. In particular, there is no further increase in the elastic modulus of the mass. Final curing is completed in particular within a maximum of seven days, preferably within three days, particularly preferably within one day, i.e. within 24 hours.

Im Sinne des erfindungsgemäßen Verfahrens bezeichnet „Fixierung“ bzw. „Fixieren“ den Aufbau einer Festigkeit der Masse, ab der kein Verfließen der Masse mehr stattfinden kann, oder das Maß an Festigkeit, ab dem gefügte Teile, insbesondere Substrate, in Folgeprozessen gehandhabt werden können, ohne dass es zu einer Zerstörung des Klebeverbundes, insbesondere des Substratverbunds, kommt.In the sense of the method according to the invention, “fixation” or “fixing” refers to the build-up of a strength of the mass beyond which no more flow of the mass can take place, or the level of strength beyond which joined parts, in particular substrates, can be handled in subsequent processes without causing destruction of the adhesive bond, in particular the substrate bond.

Der Einsatz des radikalfangenden Inhibitors (E) stellt sicher, dass bei der Bestrahlung mit aktinischer Strahlung der ersten Wellenlänge λ1, also beim Aktivieren der Masse in Schritt b), in der härtbaren Masse erzeugte Radikale nicht zu einer zu diesem Zeitpunkt unerwünschten Polymerisation der zweiten härtbaren Komponente (B) führen. Auf diese Weise wird verhindert, dass die weitere Handhabung der aktivierten Masse während der Offenzeit erschwert oder unmöglich gemacht wird, und somit ein besonders flexibles Verfahren zum Fügen, Vergießen oder Beschichten bereitgestellt wird. Dies ist zudem insbesondere möglich, ohne auf Formulierungen der härtbaren Masse in getrennten Packungseinheiten angewiesen zu sein.The use of the radical-scavenging inhibitor (E) ensures that radicals generated in the curable mass during irradiation with actinic radiation of the first wavelength λ 1 , i.e. during activation of the mass in step b), do not lead to polymerization of the second curable component (B), which is undesirable at this time. This prevents further handling of the activated mass during the open time from being made difficult or impossible, and thus provides a particularly flexible process for joining, casting or coating. This is also possible in particular without having to rely on formulations of the curable mass in separate packaging units.

Der mehrstufige Verfahrensablauf wird ferner durch eine gezielte Aktivierung des ersten Photoinitiators (C) und des zweiten Photoinitiators (D) bei unterschiedlichen Wellenlängen ermöglicht. Anders ausgedrückt ist die zweite Wellenlänge λ2 von der ersten Wellenlänge λ1 verschieden.The multi-stage process is further made possible by a targeted activation of the first photoinitiator (C) and the second photoinitiator (D) at different wavelengths. In other words, the second wavelength λ 2 is different from the first wavelength λ 1 .

Bevorzugt ist die zweite Wellenlänge λ2 kürzer als die erste Wellenlänge λ1.Preferably, the second wavelength λ 2 is shorter than the first wavelength λ 1 .

Die Differenz zwischen der zum Bestrahlen und Aktivieren des ersten Photoinitiators (C) eingesetzten Wellenlänge λ1 und der zum Bestrahlen und Aktivieren des zweiten Photoinitiators (D) eingesetzten Wellenlänge λ2 beträgt insbesondere mindestens 20 nm, bevorzugt mindestens 30 nm.The difference between the wavelength λ 1 used for irradiating and activating the first photoinitiator (C) and the wavelength λ 2 used for irradiating and activating the second photoinitiator (D) is in particular at least 20 nm, preferably at least 30 nm.

Entsprechendes gilt für die Emissionsmaxima der zum Bestrahlen verwendeten Strahlungsquellen. Die Differenz der Wellenlängen λ1 und λ2 wird vorzugsweise so gewählt, dass zwischen den Emissionsspektren der Strahlungsquellen kein Überlapp besteht.The same applies to the emission maxima of the radiation sources used for irradiation. The difference between the wavelengths λ 1 and λ 2 is preferably chosen so that there is no overlap between the emission spectra of the radiation sources.

Zum Bestrahlen der Masse kann monochromatisches Laserlicht verwendet werden. Bevorzugt werden jedoch Strahlungsquellen eingesetzt, die ein singuläres Emissionsmaximum bei der jeweiligen vorbestimmten Wellenlänge λ1 bzw. λ2 aufweisen.Monochromatic laser light can be used to irradiate the mass. However, radiation sources that have a singular emission maximum at the respective predetermined wavelength λ 1 or λ 2 are preferably used.

Die Strahlungsquelle ist vorzugweise eine LED-Aushärtungslampe, wie sie im Handel verfügbar ist.The radiation source is preferably an LED curing lamp, as is commercially available.

Die erste Wellenlänge λ1 liegt insbesondere in einem Bereich von 380 bis 750 nm, während die zweite Wellenlänge λ2 insbesondere in einem Bereich von 200 bis 400 nm liegt.The first wavelength λ 1 lies in particular in a range from 380 to 750 nm, while the second wavelength λ 2 lies in particular in a range from 200 to 400 nm.

Nach der ersten Bestrahlung mit der ersten Wellenlänge λ1 in Schritt b) bleibt die Masse bis zum Ende der Offenzeit flüssig, wie nachfolgend beschrieben. Gleichzeitig ist durch die Bestrahlung mit der ersten Wellenlänge λ1, also der Aktivierung des ersten Photoinitiators (C), sichergestellt, dass in der ersten härtbaren Komponente (A) eine Polymerisationsreaktion initiiert wird, die auch in Schattenzonen eine zuverlässige Endaushärtung ermöglicht, auch wenn die Schattenzonen in einer späteren Bestrahlung gegebenenfalls nicht mehr zugänglich sind.After the first irradiation with the first wavelength λ 1 in step b), the mass remains liquid until the end of the open time, as described below. At the same time, the irradiation with the first wavelength λ 1 , i.e. the activation of the first photoinitiator (C), ensures that a polymerization reaction is initiated in the first curable component (A), which also ensures reliable curing in shadow areas. Final curing is possible even if the shadow zones may no longer be accessible during subsequent irradiation.

Entsprechend kann Schritt d) in einer Ausführungsform innerhalb einer Verarbeitungszeit durchgeführt werden, die bevorzugt höchstens der Offenzeit der härtbaren Masse nach Aktivieren der härtbaren Masse durch Bestrahlen mit aktinischer Strahlung der ersten Wellenlänge λ1 entspricht. Dies ermöglicht eine besonders flexible Prozessführung, ohne Nachteile hinsichtlich des Festigkeitsaufbaus bei der Endaushärtung in Kauf nehmen zu müssen.Accordingly, step d) can be carried out in one embodiment within a processing time which preferably corresponds at most to the open time of the curable mass after activation of the curable mass by irradiation with actinic radiation of the first wavelength λ 1. This enables a particularly flexible process control without having to accept disadvantages with regard to the strength build-up during the final curing.

Das Stoffmengenverhältnis von Inhibitor (E) zu erstem Photoinitiator (C) in der härtbaren Masse liegt insbesondere in einem Bereich von 0,4:1 bis kleiner 20:1. bevorzugt in einem Bereich von 0,4:1 bis kleiner 10:1 oder 1:1 bis 10:1, besonders bevorzugt in einem Bereich von 1:1 bis 5:1.The molar ratio of inhibitor (E) to first photoinitiator (C) in the curable mass is in particular in a range from 0.4:1 to less than 20:1, preferably in a range from 0.4:1 to less than 10:1 or 1:1 to 10:1, particularly preferably in a range from 1:1 to 5:1.

Ein zu geringer Stoffmengenanteil des Inhibitors (E), bezogen auf den ersten Photoinitiator (C), kann zu Massen führen, die bereits nach der ersten Bestrahlung, also dem Bestrahlen der Masse mit aktinischer Strahlung der ersten Wellenlänge λ1, zumindest teilweise fest werden und nicht mehr fügbar sind, insbesondere durch eine zu diesem Zeitpunkt unerwünschte Polymerisation der zweiten härtbaren Komponente (B).A molar fraction of the inhibitor (E) in relation to the first photoinitiator (C) that is too low can lead to masses that become at least partially solid after the first irradiation, i.e. the irradiation of the mass with actinic radiation of the first wavelength λ 1 , and are no longer joinable, in particular due to a polymerization of the second curable component (B) that is undesirable at that time.

Wird der Inhibitor (E) hingegen in einem zu hohen Anteil bzw. in einem zu großen Stoffmengenüberschuss eingesetzt, so kann dies dazu führen, dass die härtbare Masse bei Bestrahlen mit aktinischer Strahlung der zweiten Wellenlänge λ2 keine ausreichende Fixierfestigkeit aufbauen kann, da die vom zweiten Photoinitiator (D) erzeugten Radikale in zu großem Umfang vom Inhibitor (E) abgefangen werden und somit nicht für die Polymerisation der zweiten härtbaren Komponente (B) zur Verfügung stehen.If, however, the inhibitor (E) is used in too high a proportion or in too large an excess of the amount of substance, this can lead to the curable mass not being able to build up sufficient fixing strength when irradiated with actinic radiation of the second wavelength λ 2 , since the radicals generated by the second photoinitiator (D) are intercepted to too great an extent by the inhibitor (E) and are thus not available for the polymerization of the second curable component (B).

Um eine besonders hohe Fixierfestigkeit nach Bestrahlen mit aktinischer Strahlung der zweiten Wellenlänge λ2 zu erreichen, kann das Stoffmengenverhältnis von Inhibitor (E) zu zweitem Photoinitiator (D) in der härtbaren Masse 1:2 oder kleiner sein, bevorzugt 1:5 oder kleiner, besonders bevorzugt 1:10 oder kleiner.In order to achieve a particularly high fixing strength after irradiation with actinic radiation of the second wavelength λ 2 , the molar ratio of inhibitor (E) to second photoinitiator (D) in the curable composition can be 1:2 or less, preferably 1:5 or less, particularly preferably 1:10 or less.

In Schritt b) wird die härtbare Masse auf das erste Substrat dosiert und durch Bestrahlen mit aktinischer Strahlung der ersten Wellenlänge λ1 aktiviert. Die Reihenfolge von Dosieren und Aktivieren in Schritt b) ist lediglich von der im jeweiligen Verfahren genutzten Dosier- und Belichtungsvorrichtung abhängig. So kann zunächst die härtbare Masse auf das erste Substrat dosiert werden und anschließend das Aktivieren durch Bestrahlen mit aktinischer Strahlung der ersten Wellenlänge λ1 erfolgen. Bei Verwendung einer sogenannten Durchflussapparatur kann das Aktivieren der härtbaren Masse vor dem Dosieren auf das erste Substrat erfolgen. Geeignete Dosiervorrichtungen zur Durchflussaktivierung der härtbaren Masse durch Bestrahlung sind in der DE 3 702 999 A1 und der DE 10 2007 017 842 A1 beschrieben.In step b), the curable mass is dosed onto the first substrate and activated by irradiation with actinic radiation of the first wavelength λ 1. The order of dosing and activation in step b) depends only on the dosing and exposure device used in the respective process. Thus, the curable mass can first be dosed onto the first substrate and then activated by irradiation with actinic radiation of the first wavelength λ 1. When using a so-called flow apparatus, the activation of the curable mass can take place before dosing onto the first substrate. Suitable dosing devices for flow activation of the curable mass by irradiation are described in the DE 3 702 999 A1 and the DE 10 2007 017 842 A1 described.

Zwischen den Schritten b) und d) kann wahlweise als Schritt c) das zweite Substrat zur aktivierten härtbaren Masse auf dem ersten Substrat zugeführt werden. Insbesondere werden die beiden Substrate anschließend zueinander ausgerichtet. Somit lassen sich im erfindungsgemäßen Verfahren die zu fügenden Substrate innerhalb der Offenzeit exakt zueinander ausrichten. Dies ist besonders für Fügeverfahren zur Fertigung von elektro-optischen Bauteilen von Bedeutung, beispielsweise von Kameramodulen. Durch den zweiten Bestrahlungsschritt d) wird die aktivierte Masse anschließend fixiert und somit in einen formstabilen Zustand überführt.Between steps b) and d), the second substrate can optionally be added to the activated hardenable mass on the first substrate as step c). In particular, the two substrates are then aligned with each other. In the process according to the invention, the substrates to be joined can thus be aligned precisely with each other within the open time. This is particularly important for joining processes for the manufacture of electro-optical components, for example camera modules. The activated mass is then fixed in place by the second irradiation step d) and thus converted into a dimensionally stable state.

Weitere besonders geeignete Substrate zur Verklebung sind Displays, Sensoren, elektronische Bauteile und Gehäuse.Other particularly suitable substrates for bonding are displays, sensors, electronic components and housings.

Das erfindungsgemäße Verfahren ermöglicht es ferner, ohne zusätzlichen Wärmeeintrag eine sichere Aushärtung bzw. Fixierung der aktivierten Masse bei Raumtemperatur zu erreichen. Dies schließt allerdings nicht aus, dass die Aushärtung durch Erwärmen der fixierten Masse beschleunigt werden kann.The method according to the invention also makes it possible to achieve reliable curing or fixing of the activated mass at room temperature without additional heat input. However, this does not exclude the possibility that curing can be accelerated by heating the fixed mass.

Das Verfahren umfasst in einer Variante daher ferner folgenden Schritt:

  • e) Erwärmen der fixierten härtbaren Masse auf dem ersten Substrat oder in dem Substratverbund.
In one variant, the method therefore further comprises the following step:
  • e) heating the fixed curable mass on the first substrate or in the substrate composite.

Anders ausgedrückt kann das erfindungsgemäße Verfahren wahlweise einen zusätzlichen Temperschritt aufweisen, der insbesondere zum schnelleren Aushärten bzw. zum beschleunigten Erreichen der Endfestigkeit der Masse dient.In other words, the method according to the invention can optionally comprise an additional tempering step, which serves in particular for faster curing or for accelerated achievement of the final strength of the mass.

Ebenso kann es vorteilhaft sein, bei Bereitstelltung der härtbaren Masse in Schritt a) diese zu erwärmen und/oder eines oder mehrere der Substrate vor der Dosierung der härtbaren Masse in Schritt b) und/oder vor dem Fügen in Schritt c) zu erwärmen, wodurch die Endaushärtung ebenfalls beschleunigt werden kann.It may also be advantageous to heat the curable mass when providing it in step a) and/or to heat one or more of the substrates before dosing the curable mass in step b) and/or before joining in step c), which can also accelerate the final curing.

Es ist auch möglich, dass die Schritte d) und e) simultan ausgeführt werden, also ein Fixieren der aktivierten härtbaren Masse durch Bestrahlen mit aktinischer Strahlung der zweiten Wellenlänge λ2 erfolgt, während die härtbare Masse auf dem Substrat oder in dem Substratverbund erwärmt wird.It is also possible for steps d) and e) to be carried out simultaneously, i.e. the activated curable mass is fixed by irradiation with actinic radiation of the second wavelength λ 2 , while the curable mass is heated on the substrate or in the substrate composite.

Gegenstand der Erfindung ist ferner eine härtbare Masse, die insbesondere in dem zuvor beschriebenen erfindungsgemäßen Verfahren zum Fügen, Vergießen, oder Beschichten von Substraten eingesetzt werden kann.The invention further relates to a curable mass which can be used in particular in the above-described method according to the invention for joining, casting or coating substrates.

Die oben beschriebenen Ausführungen zum erfindungsgemäßen Verfahren gelten entsprechend für die erfindungsgemäße härtbare Masse und umgekehrt.The above-described statements regarding the process according to the invention apply accordingly to the curable composition according to the invention and vice versa.

Die erfindungsgemäße härtbare Masse zum Fügen, Vergießen oder Beschichten von Substraten umfasst folgende Komponenten:

  1. (A) eine erste härtbare Komponente ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus kationisch polymerisierbaren Verbindungen, additionsvernetzbaren Verbindungen, durch Feuchtigkeit vernetzbaren Verbindungen und Kombinationen davon,
  2. (B) eine zweite härtbare Komponente bestehend aus mindestens einer radikalisch strahlungshärtbaren Verbindung,
  3. (C) einen ersten Photoinitiator für die erste härtbare Komponente (A), der bei Bestrahlung mit aktinischer Strahlung einer ersten Wellenlänge λ1 aktivierbar ist, wobei der erste Photoinitiator eine photolatente Säure oder eine photolatente Base ist,
  4. (D) einen zweiten Photoinitiator für die zweite härtbare Komponente (B), der bei Bestrahlung mit aktinischer Strahlung einer zweiten Wellenlänge λ2 aktivierbar ist, wobei die zweite Wellenlänge λ2 von der ersten Wellenlänge λ1 verschieden ist, und wobei der zweite Photoinitiator ein Radikalbildner ist, und
  5. (E) mindestens einen radikalfangenden Inhibitor zum Abfangen von bei Bestrahlung der härtbaren Masse mit aktinischer Strahlung der ersten Wellenlänge λ1 erzeugten Radikalen.
The curable composition according to the invention for joining, casting or coating substrates comprises the following components:
  1. (A) a first curable component selected from the group consisting of cationically polymerizable compounds, addition-curable compounds, moisture-curable compounds, and combinations thereof,
  2. (B) a second curable component consisting of at least one radically radiation-curable compound,
  3. (C) a first photoinitiator for the first curable component (A) which is activatable upon irradiation with actinic radiation of a first wavelength λ 1 , wherein the first photoinitiator is a photolatent acid or a photolatent base,
  4. (D) a second photoinitiator for the second curable component (B) which is activatable upon irradiation with actinic radiation of a second wavelength λ 2 , wherein the second wavelength λ 2 is different from the first wavelength λ 1 , and wherein the second photoinitiator is a radical former, and
  5. (E) at least one radical-scavenging inhibitor for scavenging radicals generated upon irradiation of the curable composition with actinic radiation of the first wavelength λ 1 .

Gegenüber dem Stand der Technik zeichnen sich die erfindungsgemäßen Massen dadurch aus, dass sie eine hohe Lichtfixierfestigkeit und Lichtfixiergeschwindigkeit ermöglichen, während sie sich zugleich für einen kontrollierten Aushärtungsprozess eignen, der über die Bestrahlung der härtbaren Massen in einem mehrstufigen Prozess gesteuert werden kann.Compared to the prior art, the compositions according to the invention are characterized in that they enable a high light-fixing strength and light-fixing speed, while at the same time they are suitable for a controlled curing process that can be controlled by irradiating the curable compositions in a multi-stage process.

Weiter ist Gegenstand der Erfindung die Verwendung der härtbaren Masse wie zuvor beschrieben zum Fügen, Vergießen oder Beschichten von Substraten.The invention further relates to the use of the curable mass as described above for joining, casting or coating substrates.

AUSFÜHRLICHE BESCHREIBUNG BEVORZUGTERDETAILED DESCRIPTION OF PREFERRED

AUSFÜHRUNGSFORMENEMBODIMENTS

Die Erfindung wird im Folgenden anhand von bevorzugten Ausführungsformen ausführlich und beispielhaft beschrieben, die jedoch nicht in einem einschränkenden Sinn verstanden werden sollen.The invention is described in detail and by way of example below using preferred embodiments, which, however, should not be understood in a limiting sense.

„Einkomponentig“ oder „Einkomponentenmasse“ bedeutet im Sinne der Erfindung, dass die genannten Komponenten der Masse zusammen in einer Packungseinheit vorliegen.“One-component” or “one-component mass” means in the sense of the invention that the said components of the mass are present together in one packaging unit.

„Flüssig“ bedeutet im Sinne der Erfindung, dass bei 23 °C der durch Viskositätsmessung bestimmte Verlustmodul G'' größer als der Speichermodul G' der betreffenden Masse ist.In the sense of the invention, “liquid” means that at 23 °C the loss modulus G'' determined by viscosity measurement is greater than the storage modulus G' of the mass in question.

Die „Offenzeit“ bezeichnet die Zeit nach der ersten Bestrahlung der härtbaren Masse, also nach dem Bestrahlen mit aktinischer Strahlung der ersten Wellenlänge λ1, innerhalb der die aktivierte Masse ihren Gelpunkt noch nicht überschritten hat. Während dieser Zeit verändert die Masse nur unwesentlich ihre Eigenschaften im Hinblick auf Viskosität und Adhäsion. Das Fügen eines zweiten Substrates ist innerhalb der Offenzeit möglich.The “open time” refers to the time after the first irradiation of the curable mass, i.e. after irradiation with actinic radiation of the first wavelength λ 1 , during which the activated mass has not yet exceeded its gel point. During this time, the mass only changes its properties in terms of viscosity and adhesion insignificantly. It is possible to join a second substrate within the open time.

Die Offenzeit wird durch den Zeitpunkt eines Fadenzuges und/oder spätestens durch die Zeit bis zur Bildung einer Haut begrenzt, die durch haptische Messung ermittelt werden kann. Innerhalb der Offenzeit kann das erfindungsgemäße Verfahren prozesssicher, das heißt verlässlich, durchgeführt werden.The open time is limited by the time at which a thread is pulled and/or at the latest by the time until a skin is formed, which can be determined by haptic measurement. Within the open time, the method according to the invention can be carried out reliably.

Es ist jedoch auch möglich, dass die aktivierten Massen auch über die angegebene Offenzeit hinaus mindestens teilweise fügbar verbleiben bevor sich diese in einem Maße verfestigen, dass kein weiteres Anfließen oder Anpressen an ein weiteres Substrat mehr möglich ist.However, it is also possible that the activated masses remain at least partially joinable beyond the specified open time before they solidify to such an extent that no further flow or pressing onto another substrate is possible.

Um einen robusten Prozess zu ermöglichen, ist das Zuführen eines zweiten Substrats im Schritt c) des erfindungsgemäßen Verfahrens, sofern dieser durchgeführt wird, jedoch innerhalb der Offenzeit bevorzugt.In order to enable a robust process, the feeding of a second substrate in step c) of the method according to the invention, if carried out, is preferred within the open time.

Die Offenzeit kann, neben der Zusammensetzung der härtbaren Masse, unter anderem sowohl durch die eingestrahlte Energiedosis als auch durch die Temperatur beeinflusst werden.In addition to the composition of the curable mass, the open time can be influenced by the irradiated energy dose as well as by the temperature.

Soweit der unbestimmte Artikel „ein“ oder „eine“ verwendet wird, ist damit auch die Pluralform „ein oder mehrere“ umfasst, soweit diese nicht ausdrücklich ausgeschlossen wird.Where the indefinite article “a” or “an” is used, this also includes the plural form “one or more”, unless it is expressly excluded.

„Mindestens difunktionell“ bedeutet, dass pro Molekül zwei oder mehr Einheiten der jeweils genannten funktionellen Gruppe enthalten sind.“At least difunctional” means that each molecule contains two or more units of the respective functional group.

Alle im Folgenden aufgeführten Gewichtsanteile beziehen sich, wenn nicht anders angegeben, jeweils auf das Gesamtgewicht der Masse.Unless otherwise stated, all weight proportions listed below refer to the total weight of the mass.

Angaben von Äquivalenten beziehen sich im Folgenden jeweils auf 1 Äquivalent der funktionellen Gruppe und sind im Verhältnis zueinander angegeben.In the following, the equivalents refer to 1 equivalent of the functional group and are given in relation to each other.

In einer ersten Ausführungsform enthält die härtbare Masse zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens neben den Komponenten (B) bis (E) als erste härtbare Komponente (A) mindestens eine kationisch polymerisierbare Verbindung (A1). Bevorzugt ist der erste Photoinitiator (C) der härtbaren Masse der ersten Ausführungsform eine photolatente Säure (C1).In a first embodiment, the curable composition for carrying out the process according to the invention contains, in addition to components (B) to (E), at least one cationically polymerizable compound (A1) as the first curable component (A). The first photoinitiator (C) of the curable composition of the first embodiment is preferably a photolatent acid (C1).

In einer zweiten Ausführungsform enthält die härtbare Masse zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens neben den Komponenten (B) bis (E) als erste härtbare Komponente (A) mindestens eine additionsvernetzbare Verbindung (A2). Bevorzugt ist der erste Photoinitiator (C) der härtbaren Masse der zweiten Ausführungsform eine photolatente Base (C2).In a second embodiment, the curable composition for carrying out the process according to the invention contains, in addition to components (B) to (E), at least one addition-crosslinkable compound (A2) as the first curable component (A). The first photoinitiator (C) of the curable composition of the second embodiment is preferably a photolatent base (C2).

In einer dritten Ausführungsform enthält die härtbare Masse zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens neben den Komponenten (B) bis (E) als erste härtbare Komponente (A) mindestens eine durch Feuchtigkeit vernetzbare Verbindung (A3). Bevorzugt ist der erste Photoinitiator (C) der härtbaren Masse der dritten Ausführungsform eine photolatente Säure (C1).In a third embodiment, the curable composition for carrying out the process according to the invention contains, in addition to components (B) to (E), as the first curable component (A), at least one moisture-crosslinkable compound (A3). The first photoinitiator (C) of the curable composition of the third embodiment is preferably a photolatent acid (C1).

Die einzelnen Bestandteile der härtbaren Masse, die insbesondere im erfindungsgemäßen Verfahren verwendet werden können, sind im Folgenden näher beschrieben.The individual components of the curable mass, which can be used in particular in the process according to the invention, are described in more detail below.

Komponente (A): Erste härtbare KomponenteComponent (A): First curable component

Die härtbare Masse umfasst eine erste härtbare Komponente (A), die aus der Gruppe bestehend aus kationisch polymerisierbaren Verbindungen (A1), additionsvernetzbaren Verbindungen (A2), durch Feuchtigkeit vernetzbaren Verbindungen (A3) und Kombinationen davon ausgewählt ist.The curable composition comprises a first curable component (A) selected from the group consisting of cationically polymerizable compounds (A1), addition-crosslinkable compounds (A2), moisture-crosslinkable compounds (A3) and combinations thereof.

Die im Folgenden beschriebenen Bestandteile können somit alleinig oder in Kombination miteinander als Komponente (A) eingesetzt werden.The components described below can therefore be used alone or in combination with each other as component (A).

Die erste härtbare Komponente (A) stellt durch ihre jeweils verwendeten Bestandteile im Zusammenspiel mit dem auf die erste härtbare Komponente (A) abgestimmten ersten Photoinitiator (C) einen Härtungsmechanismus bereit, der eine zeitverzögerte Endaushärtung der härtbaren Masse auch in Schattenzonen ermöglicht.The first curable component (A), through its respective components used in interaction with the first photoinitiator (C) matched to the first curable component (A), provides a curing mechanism which enables a time-delayed final curing of the curable mass even in shadow zones.

Geeignete kationisch polymerisierbare Verbindungen (A1) umfassen bevorzugt eine oder mehrere mindestens difunktionelle epoxidhaltige Verbindungen. Mindestens „difunktionell“ bedeutet, dass die epoxidhaltige Verbindung mindestens zwei Epoxidgruppen enthält.Suitable cationically polymerizable compounds (A1) preferably comprise one or more at least difunctional epoxy-containing compounds. At least “difunctional” means that the epoxy-containing compound contains at least two epoxy groups.

Die Komponente (A1) kann beispielsweise cycloaliphatische Epoxide, aromatische und aliphatische Glycidylether, Glycidylester oder Glycidylamine und Mischungen davon umfassen.Component (A1) may comprise, for example, cycloaliphatic epoxides, aromatic and aliphatic glycidyl ethers, glycidyl esters or glycidyl amines and mixtures thereof.

Difunktionelle cycloaliphatische Epoxidharze sind im Stand der Technik bekannt und beinhalten Verbindungen, die sowohl eine cycloaliphatische Gruppe als auch mindestens zwei Oxiranringe tragen. Beispielhafte Vertreter sind 3-Cyclohexenylmethyl-3-cyclohexylcarboxylatdiepoxid, 3,4-Epoxycyclohexylalkyl-3`,4`-epoxycyclohexancarboxylat, 3,4-Epoxy-6-methylcyclohexylmethyl-3',4'-epoxy-6-methylcyclohexancarboxylat, Vinylcyclohexendioxid, Bis(3,4-Epoxycyclohexylmethyl)adipat, Dicyclopentadiendioxid und 1,2-Epoxy-6-(2,3-epoxypropoxy)hexahydro-4,7-methanindan sowie Mischungen davon.Difunctional cycloaliphatic epoxy resins are known in the art and include compounds that carry both a cycloaliphatic group and at least two oxirane rings. Examples of representatives are 3-cyclohexenylmethyl-3-cyclohexylcarboxylate diepoxide, 3,4-epoxycyclohexylalkyl-3`,4`-epoxycyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl-3',4'-epoxy-6-methylcyclohexanecarboxylate, vinylcyclohexene dioxide, bis(3,4-epoxycyclohexylmethyl)adipate, dicyclopentadiene dioxide and 1,2-epoxy-6-(2,3-epoxypropoxy)hexahydro-4,7-methanindane and mixtures thereof.

Aromatische Epoxidharze können ebenso verwendet werden. Beispiele für aromatische Epoxidharze sind Bisphenol-A-Epoxidharze, Bisphenol-F-Epoxidharze, Phenol-Novolak-Epoxidharze, Cresol-Novolak-Epoxidharze, Biphenylepoxidharze, 4,4'-Biphenylepoxidharze, Divinylbenzoldioxid, 2-Glycidylphenylglycidylether, Naphthalindioldiglycidylether, Glycidylether von Tris(hydroxyphenyl)methan und Glycidylether von Tris(hydroxyphenyl)ethan sowie Mischungen davon. Ferner können auch alle vollständig oder teilweise hydrierten Analoga aromatischer Epoxidharze eingesetzt werden.Aromatic epoxy resins can also be used. Examples of aromatic epoxy resins are bisphenol A epoxy resins, bisphenol F epoxy resins, phenol novolak epoxy resins, cresol novolak epoxy resins, biphenyl epoxy resins, 4,4'-biphenyl epoxy resins, divinylbenzene dioxide, 2-glycidylphenyl glycidyl ether, naphthalenediol diglycidyl ether, glycidyl ether of tris(hydroxyphenyl)methane and glycidyl ether of tris(hydroxyphenyl)ethane and mixtures thereof. Furthermore, all fully or partially hydrogenated analogues of aromatic epoxy resins can also be used.

Auch mit epoxidhaltigen Gruppen substituierte Isocyanurate und andere heterocyclische Verbindungen können in der härtbaren Masse verwendet werden. Isocyanurates and other heterocyclic compounds substituted with epoxy groups can also be used in the curable mass.

Beispielhaft seien Triglycidylisocyanurat und Monoallyldiglycidylisocyanurat genannt.Examples include triglycidyl isocyanurate and monoallyl diglycidyl isocyanurate.

Außerdem können auch polyfunktionelle Epoxidharze aller genannten Harzgruppen, zäh elastifizierte Epoxidharze sowie Gemische verschiedener Epoxidharze in der erfindungsgemäßen Masse eingesetzt werden.In addition, polyfunctional epoxy resins of all the resin groups mentioned, toughly elasticized epoxy resins and mixtures of different epoxy resins can also be used in the composition according to the invention.

Ebenfalls im Sinne der Erfindung ist eine Kombination mehrerer epoxidhaltiger Verbindungen, von denen mindestens eine di- oder höherfunktionell ist.Also within the meaning of the invention is a combination of several epoxy-containing compounds, of which at least one is di- or higher functional.

Zusätzlich zu den mindestens difunktionellen epoxidhaltigen Verbindungen können auch monofunktionelle Epoxide als reaktive Verdünner verwendet werden.In addition to the at least difunctional epoxy-containing compounds, monofunctional epoxides can also be used as reactive diluents.

Beispiele für kommerziell erhältliche epoxidhaltige Verbindungen sind Produkte, die unter den Handelsnamen CELLOXIDE™ 2021P, CELLOXIDE™ 8000 von Daicel Corporation, Japan, als EPlKOTE™ RESIN 828 LVEL, EPlKOTE™ RESIN 166, EPlKOTE™ RESIN 169 von Momentive Specialty Chemicals B.V., Niederlande, als Epilox™-Harze der Produktreihen A, T und AF von Leuna Harze, Deutschland, oder als EPICLON™ 840, 840-S, 850, 850-S, EXA850CRP, 850-LC von DIC K.K., Japan, Omnilane 1005 und Omnilane 2005 von IGM Resins B.V., Syna Epoxy 21 und Syna Epoxy 06 von Synasia Inc., TTA21, TTA26, TTA60 und TTA128 von Jiangsu Tetra New Material Technology Co. Ltd., und THI-DE, DE-102 und DE-103 von Nippon Oil verfügbar sind.Examples of commercially available epoxy-containing compounds are products sold under the trade names CELLOXIDE™ 2021P, CELLOXIDE™ 8000 by Daicel Corporation, Japan, as EPlKOTE™ RESIN 828 LVEL, EPlKOTE™ RESIN 166, EPlKOTE™ RESIN 169 by Momentive Specialty Chemicals B.V., the Netherlands, as Epilox™ resins of the product series A, T and AF by Leuna Harze, Germany, or as EPICLON™ 840, 840-S, 850, 850-S, EXA850CRP, 850-LC by DIC K.K., Japan, Omnilane 1005 and Omnilane 2005 by IGM Resins B.V., Syna Epoxy 21 and Syna Epoxy 06 by Synasia Inc., TTA21, TTA26, TTA60 and TTA128 from Jiangsu Tetra New Material Technology Co. Ltd., and THI-DE, DE-102 and DE-103 from Nippon Oil.

Anstelle von oder zusätzlich zu epoxidhaltigen Verbindungen können auch oxetanhaltige Verbindungen als kationisch polymerisierbare Verbindung (A1) in der härtbaren Masse eingesetzt werden. Verfahren zur Herstellung von Oxetanen sind insbesondere aus der US 2017/0198093 A1 bekannt.Instead of or in addition to epoxy-containing compounds, oxetane-containing compounds can also be used as cationically polymerizable compound (A1) in the curable mass. Processes for the preparation of oxetanes are known in particular from US 2017/0198093 A1 known.

Beispiele für kommerziell erhältliche Oxetane sind Bis(1-ethyl-3-oxetanylmethyl)ether (DOX), 3-Allyloxymethyl-3-ethyloxetane (AQX), 3-Ethyl-3-[(phenoxy)-methyloxetane (POX), 3-Ethyl-3-hydroxymethyl-oxetane (OXA), 1,4-Bis[(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy)methyl]benzol (XDO), 3-Ethyl-3-[(2-ethylhexyloxy)methyl]oxetan (EHOX). Die genannten Oxetane sind von der Firma TOAGOSEI CO., LTD. kommerziell verfügbar.Examples of commercially available oxetanes are bis(1-ethyl-3-oxetanylmethyl)ether (DOX), 3-allyloxymethyl-3-ethyloxetane (AQX), 3-ethyl-3-[(phenoxy)methyloxetane (POX), 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane (OXA), 1,4-bis[(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy)methyl]benzene (XDO), 3-ethyl-3-[(2-ethylhexyloxy)methyl]oxetane (EHOX). The above-mentioned oxetanes are commercially available from TOAGOSEI CO., LTD.

Die Epoxide und/oder Oxetane der erfindungsgemäßen Masse, insbesondere zur Verwendung im erfindungsgemäßen Verfahren, sind bevorzugt durch einen kationischen Photoinitiator (C1) härtbar, der später noch ausführlicher beschrieben werden wird.The epoxides and/or oxetanes of the composition according to the invention, in particular for use in the process according to the invention, are preferably curable by a cationic photoinitiator (C1), which will be described in more detail later.

Anstelle von oder zusätzlich zu Epoxiden oder Oxetanen können auch Vinylether als kationisch polymerisierbare Komponente (A1) in der erfindungsgemäßen Masse eingesetzt werden. Geeignete Vinylether sind Trimethylolpropan-Trivinylether, Ethylenglykol-Divinylether und cyclische Vinylether sowie deren Mischungen. Ferner können Vinylether polyfunktioneller Alkohole eingesetzt werden.Instead of or in addition to epoxides or oxetanes, vinyl ethers can also be used as cationically polymerizable component (A1) in the composition according to the invention. Suitable vinyl ethers are trimethylolpropane trivinyl ether, ethylene glycol divinyl ether and cyclic vinyl ethers and mixtures thereof. Vinyl ethers of polyfunctional alcohols can also be used.

Schließlich kann die kationisch polymerisierbare Komponente (A1) einen oder mehrere Alkohole umfassen, die als reaktive Flexibilisierungsmittel eingesetzt werden. Insbesondere höhermolekulare Polyole können zur Flexibilisierung von Massen mit mindestens einer kationisch polymerisierbaren Verbindung verwendet werden. Geeignete Polyole sind beispielsweise auf Basis von Polyethern, Polyestern, Polycaprolactonen, Polycarbonaten oder (hydrierten) Polybutadiendiolen verfügbar.Finally, the cationically polymerizable component (A1) can comprise one or more alcohols that are used as reactive flexibilizers. In particular, higher molecular weight polyols can be used to flexibilize masses with at least one cationically polymerizable compound. Suitable polyols are available, for example, based on polyethers, polyesters, polycaprolactones, polycarbonates or (hydrogenated) polybutadienediols.

Beispiele für kommerziell erhältliche höhermolekulare Polyole sind Produkte, die unter den Handelsnamen ETERNACOLL UM-90 (1/1), Eternacoll UHC50-200 der Firma UBE Industries Ltd., als Capa™ 2200, Capa™ 3091 der Firma Perstorp, als Liquiflex H von Petroflex, als Merginol 901 der Firma HOBUM Oleochemicals, als Placcel 305, Placcel CD 205 PL der Firma Daicel Corporation, als Priplast 3172, Priplast 3196 der Firma Croda, als Kuraray Polyol F-3010, Kuraray Polyol P-6010 von Kuraray Co., Ltd., als Krasol LBH-2000, Krasol HLBH-P3000 von Cray Valley oder als Hoopol S-1015-35 oder Hoopol S-1063-35 der Firma Synthesia Internacional SLU verfügbar sind.Examples of commercially available higher molecular weight polyols are products sold under the trade names ETERNACOLL UM-90 (1/1), Eternacoll UHC50-200 from UBE Industries Ltd., Capa™ 2200, Capa™ 3091 from Perstorp, Liquiflex H from Petroflex, Merginol 901 from HOBUM Oleochemicals, Placcel 305, Placcel CD 205 PL from Daicel Corporation, Priplast 3172, Priplast 3196 from Croda, Kuraray Polyol F-3010, Kuraray Polyol P-6010 from Kuraray Co., Ltd., as Krasol LBH-2000, Krasol HLBH-P3000 from Cray Valley or as Hoopol S-1015-35 or Hoopol S-1063-35 available from Synthesia Internacional SLU.

Die Aufzählung der kationisch polymerisierbaren Verbindungen (A1) ist als beispielhaft und nicht abschließend zu sehen. Eine Mischung der genannten kationisch polymerisierbaren Verbindungen (A1) ist ebenfalls im Sinne der Erfindung.The list of cationically polymerizable compounds (A1) is to be seen as exemplary and not exhaustive. A mixture of the cationically polymerizable compounds (A1) mentioned is also within the meaning of the invention.

Anstelle der Komponente (A1) kann die erfindungsgemäße Masse auch additionsvernetzbare Verbindungen (A2) enthalten.Instead of component (A1), the composition according to the invention can also contain addition-crosslinkable compounds (A2).

Bevorzugt umfasst die additionsvernetzbare Verbindung (A2) ein Isocyanat (A2-1), zusammen mit einer isocyanat-reaktiven Verbindung.Preferably, the addition-crosslinkable compound (A2) comprises an isocyanate (A2-1), together with an isocyanate-reactive compound.

Die Gruppe der geeigneten Isocyanate (A2-1) umfasst aliphatische, cycloaliphatische, heterocyclische und aromatische Isocyanate.The group of suitable isocyanates (A2-1) includes aliphatic, cycloaliphatic, heterocyclic and aromatic isocyanates.

Bevorzugt ist das Isocyanat (A2-1) mindestens difunktionell.Preferably, the isocyanate (A2-1) is at least difunctional.

Als Beispiele für geeignete Polyisocyanate seien genannt: dimeres 2,4-Diisocyanatotoluol, dimeres 4,4'-Diisocyanatodiphenylmethan, 3,3'-Diisocyanato-4,4'-dimethyl-N,N'-diphenylharnstoff, das Isocyanurat des Isophorondiisocyanats, Hexamethylendiisocyat sowie dessen Isocyanurat, Pentamethylendiisocyanat sowie dessen Isocyanurat, 1,4-Phenylendiisocyanat, Naphthalin-1,5-diisocyanat sowie Additionsprodukte von Diisocyanaten mit kurzkettigen Diolen wie beispielsweise 1,4-Butandiol oder 1,2-Ethandiol.Examples of suitable polyisocyanates are: dimeric 2,4-diisocyanatotoluene, dimeric 4,4'-diisocyanatodiphenylmethane, 3,3'-diisocyanato-4,4'-dimethyl-N,N'-diphenylurea, the isocyanurate of isophorone diisocyanate, hexamethylene diisocyanate and its isocyanurate, pentamethylene diisocyanate and its isocyanurate, 1,4-phenylene diisocyanate, naphthalene-1,5-diisocyanate and addition products of diisocyanates with short-chain diols such as 1,4-butanediol or 1,2-ethanediol.

Weiterhin können Additionsprodukte von Diisocyanten mit Polyethern, Polyestern, Polycarbonaten, Polybutadienen oder anderen Alkohlen, Aminen oder Thiolen eingesetzt werden.Furthermore, addition products of diisocyanates with polyethers, polyesters, polycarbonates, polybutadienes or other alcohols, amines or thiols can be used.

Bevorzugt sind Isocyanurate von Hexamethylendiamin, Pentamethylendiamin oder Isophorodinamin sowie Additionsprodukte von Hexamethylendiamin oder Isophorondiamin mit OH-terminierten Polymeren.Preferred are isocyanurates of hexamethylenediamine, pentamethylenediamine or isophoronediamine as well as addition products of hexamethylenediamine or isophoronediamine with OH-terminated polymers.

Die Isocyanate (A2-1) können allein oder im Gemisch von zweien oder mehreren der Isocyanate eingesetzt werden.The isocyanates (A2-1) can be used alone or in a mixture of two or more of the isocyanates.

Die additionsvernetzbare Verbindung (A2) kann als isocyanat-reaktive Verbindung mindestens ein Thiol (A2-2) umfassen. Bevorzugt ist das Thiol (A2-2) ein mindestens difunktionelles Thiol.The addition-crosslinkable compound (A2) can comprise at least one thiol (A2-2) as an isocyanate-reactive compound. The thiol (A2-2) is preferably an at least difunctional thiol.

Bevorzugt ist das mindestens difunktionelle Thiol aus der Gruppe ausgewählt, die aus esterbasierten Thiolen, Polyethern mit reaktiven Thiolgruppen, Polythioethern, Polythioetheracetalen, Polythioetherthioacetalen, Polysulfiden, thiolterminierten Urethanen, Thiolderivaten von Isocyanuraten und Glycoluril sowie Kombinationen davon besteht.Preferably, the at least difunctional thiol is selected from the group consisting of ester-based thiols, polyethers with reactive thiol groups, polythioethers, polythioether acetals, polythioether thioacetals, polysulfides, thiol-terminated urethanes, thiol derivatives of isocyanurates and glycoluril, and combinations thereof.

Beispiele für kommerziell erhältliche esterbasierte Thiole auf Basis der 2-Mercaptoessigsäure umfassen Trimethylolpropantrimercaptoacetat, Pentaerythritoltetramercaptoacetat und Glycoldimercaptoacetat, die unter den Markennamen Thiocure™ TMPMA, PETMA bzw. GDMA von der Firma Bruno Bock verfügbar sind.Examples of commercially available ester-based thiols based on 2-mercaptoacetic acid include trimethylolpropane trimercaptoacetate, pentaerythritol tetramercaptoacetate and glycol dimercaptoacetate, which are available under the brand names Thiocure™ TMPMA, PETMA and GDMA, respectively, from Bruno Bock.

Weitere Beispiele für kommerziell erhältliche esterbasierte Thiole umfassen Trimethylolpropan-tris(3-mercaptopropionat), Pentaerythritol-tetrakis(3-mercaptobutylat), Glykol-di(3-mercaptopropionat) und Tris[2-(3-mercaptopropionyloxy)ethyl]isocyanurat, die unter den Markennamen Thiocure™ TMPMP, PETMP, GDMP und TEMPIC von der Firma Bruno Bock verfügbar sind.Other examples of commercially available ester-based thiols include trimethylolpropane tris(3-mercaptopropionate), pentaerythritol tetrakis(3-mercaptobutylate), glycol di(3-mercaptopropionate) and tris[2-(3-mercaptopropionyloxy)ethyl]isocyanurate, which are available under the brand names Thiocure™ TMPMP, PETMP, GDMP and TEMPIC from Bruno Bock.

Beispiele für kommerziell verfügbare (thio)etherbasierte Thiole umfassen DMDO (1,8-Dimercapto-3,6-dioxaoctan), erhältlich von der Firma Arkema S.A., DMDS (Dimercaptodiethylsulfid) und DMPT (2,3-Di((2-mercaptoethyl)thio)-1-propan-thiol), beide erhältlich von der Firma Bruno Bock.Examples of commercially available (thio)ether-based thiols include DMDO (1,8-dimercapto-3,6-dioxaoctane), available from Arkema S.A., DMDS (dimercaptodiethyl sulfide) and DMPT (2,3-di((2-mercaptoethyl)thio)-1-propane-thiol), both available from Bruno Bock.

Mit Bezug auf eine erhöhte Beständigkeit der ausgehärteten Masse gegenüber Temperatur und Feuchte ist der Einsatz esterfreier Thiole besonders bevorzugt. Beispiele für esterfreie Thiole können der JP 2012 153 794 A entnommen werden, die durch Inbezugnahme in die Beschreibung aufgenommen wird.With regard to increased resistance of the cured mass to temperature and humidity, the use of ester-free thiols is particularly preferred. Examples of ester-free thiols can be JP 2012 153 794 A which is incorporated into the description by reference.

Bevorzugt ist in der Masse eine Verwendung von Tris(3-mercaptopropyl)isocyanurat (TMPI) als trifunktionelles esterfreies Thiol. Es hat sich gezeigt, dass dieses Thiol sowohl eine gute Hydrolysestabilität gewährleistet, als auch die Haftung auf verschiedenen Substraten verbessert.The preferred use in the composition is tris(3-mercaptopropyl)isocyanurate (TMPI) as a trifunctional ester-free thiol. This thiol has been shown to provide good hydrolytic stability and also improve adhesion to various substrates.

Gemäß einer besonders bevorzugten Ausführungsform umfasst das mindestens difunktionelle Thiol der Komponente (A2-1) daher Tris(3-mercaptopropyl)isocyanurat, allein oder im Gemisch mit anderen mindestens difunktionellen Thiolen.According to a particularly preferred embodiment, the at least difunctional thiol of component (A2-1) therefore comprises tris(3-mercaptopropyl)isocyanurate, alone or in admixture with other at least difunctional thiols.

Esterfreie Thiole auf Basis einer Glycolurilverbindung sind aus der EP 3 075 736 A1 bekannt. Auch diese können in den erfindungsgemäßen Massen weiterer additionsvernetzbarer Harzbestandteil verwendet werden, allein oder im Gemisch mit anderen mindestens difunktionellen Thiolen.Ester-free thiols based on a glycoluril compound are from the EP 3 075 736 A1 These can also be used in the compositions of the invention as further addition-crosslinkable resin components, alone or in a mixture with other at least difunctional thiols.

Esterfreie Thiole auf Basis von Olefinen oder Terpenen sind in der US 9 340 716 B2 offenbart. Auch diese können in den erfindungsgemäßen Massen weiterer additionsvernetzbarer Harzbestandteil verwendet werden, allein oder im Gemisch mit anderen mindestens difunktionellen Thiolen.Ester-free thiols based on olefins or terpenes are in the US 9 340 716 B2 These can also be used in the compositions of the invention as further addition-crosslinkable resin components, alone or in a mixture with other at least difunctional thiols.

Höherfunktionelle Thiole, die beispielsweise durch oxidative Dimerisierungsprozesse von mindestens difunktionellen Thiolen erhältlich sind, können ebenfalls eingesetzt werden.Higher functional thiols, which are obtainable, for example, by oxidative dimerization processes of at least difunctional thiols, can also be used.

Weiterhin können mindestens difunktionelle Thiole durch Reaktion von mindestens difunktionellen Thiiranen mit einem Thiol synthethisiert werden.Furthermore, at least difunctional thiols can be synthesized by reaction of at least difunctional thiiranes with a thiol.

Dem Fachmann ist bekannt, dass primäre Thiole schneller mit Isocyanaten reagieren als sekundäre oder tertiäre Thiole. Je nach Prozessgestaltung können primäre Thiole vorteilhaft sein, da diese eine schnellere Aushärtung ermöglichen, während in Prozessen, welche eine längere Offenzeit erfordern, sekundäre oder tertiäre Thiole bevorzugt sein können.It is known to those skilled in the art that primary thiols react more quickly with isocyanates than secondary or tertiary thiols. Depending on the process design, primary thiols may be advantageous because they enable faster curing, while in processes that require a longer open time, secondary or tertiary thiols may be preferred.

Anstelle der Komponenten (A1) und (A2) kann die erfindungsgemäße Masse auch durch Feuchtigkeit vernetzbare Verbindungen (A3) enthalten.Instead of components (A1) and (A2), the composition according to the invention can also contain moisture-crosslinkable compounds (A3).

Bevorzugt ist die durch Feuchtigkeit vernetzbare Verbindung (A3) aus der Gruppe der Silane ausgewählt.Preferably, the moisture-crosslinkable compound (A3) is selected from the group of silanes.

Geeignete Silane umfassen monofunktionelle, insbesondere niedermolekulare Silane, di- oder höherfunktionelle silanmodifizierte Oligomere und/oder Polymere. Diese sind strukturell nicht weiter eingeschränkt.Suitable silanes include monofunctional, particularly low molecular weight silanes, di- or higher functional silane-modified oligomers and/or polymers. These are not further restricted structurally.

Als silanmodifizierte Polymere kommen beispielsweise Polyether oder Polyacrylate mit endständigen Alkoxysilangruppen zum Einsatz. Bevorzugt kommen mindestens difunktionelle γ-Alkoxysilane zum Einsatz. Deren Herstellung wird bspw. in der US 5 364 955 A und den darin genannten Schriften ausführlich beschrieben.Examples of silane-modified polymers used are polyethers or polyacrylates with terminal alkoxysilane groups. Preferably, at least difunctional γ-alkoxysilanes are used. Their production is described, for example, in the US 5 364 955 A and the writings mentioned therein are described in detail.

Kommerziell sind γ-Alkoxysilane mit mindestens zwei alkoxysilanhaltigen Endgruppen zum Beispiel von der Firma Kaneka Belgium NV unter der Bezeichnung Kaneka MS Polymer oder Kaneka Silyl erhältlich. γ-Alkoxysilane auf Polyetherbasis sind zudem von der Firma Wacker Chemie AG unter den Bezeichnungen Geniosil STP-E15 und STP-E35 erhältlich.γ-Alkoxysilanes with at least two alkoxysilane-containing end groups are available commercially, for example from Kaneka Belgium NV under the names Kaneka MS Polymer or Kaneka Silyl. Polyether-based γ-Alkoxysilanes are also available from Wacker Chemie AG under the names Geniosil STP-E15 and STP-E35.

Anstelle von oder zusätzlich zu den γ-Alkoxysilanen können auch sogenannte α-Alkoxysilanverbindungen verwendet werden. Bevorzugt kommen mindestens difunktionelle α-Alkoxysilanverbindungen zum Einsatz. Die Herstellung von α-alkoxysilanterminierten Verbindungen ist u.a. in der WO 03/014226 A1 ausführlich beschrieben. Daneben sind viele der bevorzugten α-Silane auf Basis von Polyethern oder Polyurethanen kommerziell von der Firma Wacker Chemie AG verfügbar. Diese werden unter der Markenbezeichnung GENIOSIL STP-E kommerziell vertrieben. Beispielhaft seien die Typen Geniosil STP-E10, STP-E30 angeführt.Instead of or in addition to the γ-alkoxysilanes, so-called α-alkoxysilane compounds can also be used. Preferably, at least difunctional α-alkoxysilane compounds are used. The production of α-alkoxysilane-terminated compounds is, among other things, in the WO 03/014226 A1 described in detail. In addition, many of the preferred α-silanes based on polyethers or polyurethanes are commercially available from Wacker Chemie AG. These are sold commercially under the brand name GENIOSIL STP-E. Examples include the types Geniosil STP-E10 and STP-E30.

Neben den durch Feuchte vernetzbaren polymeren Verbindungen können auch monofunktionelle niedermolekulare Alkoxysilanverbindungen eingesetzt sein. Diese Alkoxysilane enthalten einen monovalenten organischen Rest und dienen in der Regel der Erhöhung der Lagerstabilität und zur Verbesserung der Haftung bzw. Flexibilisierung.In addition to the polymeric compounds that can be crosslinked with moisture, monofunctional low-molecular alkoxysilane compounds can also be used. These alkoxysilanes contain a monovalent organic residue and are generally used to increase storage stability and to improve adhesion or flexibility.

Geeignete monofunktionelle γ-Alkoxysilane mit unterschiedlichen organischen Resten sind beispielsweise unter den Handelsnamen Dynasylan VTMO, Dynasylan GLYMO, Dynasylan MEMO, Dynasylan MTMS von der Firma Evonik Industries AG erhätlich.Suitable monofunctional γ-alkoxysilanes with different organic radicals are available, for example, under the trade names Dynasylan VTMO, Dynasylan GLYMO, Dynasylan MEMO, Dynasylan MTMS from Evonik Industries AG.

Als Beispiele für kommerziell verfügbare monofunktionelle α-Alkoxysilane seien Produkte der Firma Wacker Chemie AG genannt. Entsprechende methacrylat- oder carbamatfunktionalisierte α-Alkoxysilane sind unter den Bezeichnungen GENIOSIL XL 32, XL 33, XL 63 oder XL 65 erhältlich. Auch höhermolekulare monofunktionelle Alkoxysilane können eingesetzt werden. Solche Verbindungen werden meist zur Flexibilisierung verwendet und könnnen zum Beispiel unter der Bezeichung Geniosil XM 20 und XM25 von der Firma Wacker Chemie AG bezogen werden.Examples of commercially available monofunctional α-alkoxysilanes are products from Wacker Chemie AG. Corresponding methacrylate- or carbamate-functionalized α-alkoxysilanes are available under the names GENIOSIL XL 32, XL 33, XL 63 or XL 65. Higher molecular weight monofunctional alkoxysilanes can also be used. Such compounds are usually used to increase flexibility and can be purchased from Wacker Chemie AG under the names Geniosil XM 20 and XM25, for example.

Auch teilkondensierte monofunktionelle Alkoxysilane können eingesetzt werden. Solche Produkte sind beispielsweise unter der Bezeichnung Dynasylan 6490 oder Dynasylan 1146 von der Firma Evonik Industries AG kommerziell erhältlich.Partially condensed monofunctional alkoxysilanes can also be used. Such products are commercially available, for example, under the name Dynasylan 6490 or Dynasylan 1146 from Evonik Industries AG.

In den vorliegenden Massen können jeweils eines oder mehrere der genannten Alkoxysilane als durch Feuchtigkeit vernetzbare Verbindung (A3) zum Einsatz kommen.In the present compositions, one or more of the alkoxysilanes mentioned can be used as moisture-crosslinkable compound (A3).

Mischungen der genannten α-Alkoxysilane und/oder γ-Alkoxysilane sind ebenfalls vorteilhaft für Massen zur Verwendung im erfindungsgemäßen Verfahren einsetzbar.Mixtures of the above-mentioned α-alkoxysilanes and/or γ-alkoxysilanes can also be advantageously used for compositions for use in the process according to the invention.

Die erste härtbare Komponente (A) liegt in der Masse, bezogen auf das Gesamtgewicht der Masse, insbesondere in einem Anteil von 5 bis 90 Gew.-% vor, bevorzugt in einem Anteil von 10 bis 85 Gew.-%.The first curable component (A) is present in the composition, based on the total weight of the composition, in particular in a proportion of 5 to 90 wt.%, preferably in a proportion of 10 to 85 wt.%.

Komponente (B): Zweite härtbare KomponenteComponent (B): Second curable component

Die erfindungsgemäßen Massen umfassen eine zweite härtbare Komponente (B) bestehend aus mindestens einer radikalisch strahlungshärtbaren Verbindung.The compositions according to the invention comprise a second curable component (B) consisting of at least one radically radiation-curable compound.

Die zweite härtbare Komponente (B) dient insbesondere dazu, eine schnelle, präzise, steuerbare und zuverlässige Fixierung der bereits aktivierten Masse durch Bestrahlen mit aktinischer Strahlung der zweiten Wellenlänge λ2 zu ermöglichen, insbesondere spätestens, sobald das Ende der Offenzeit der aktivierten Masse erreicht ist.The second curable component (B) serves in particular to enable rapid, precise, controllable and reliable fixing of the already activated mass by irradiation with actinic radiation of the second wavelength λ 2 , in particular at the latest as soon as the end of the open time of the activated mass is reached.

Die radikalisch strahlungshärtbare Verbindung (B) ist strukturell nicht weiter eingeschränkt, solange diese ethylenisch ungesättigte Doppel- und/oder Dreifachbindungen enthält.The radically radiation-curable compound (B) is not further restricted structurally as long as it contains ethylenically unsaturated double and/or triple bonds.

Geeignet sind beispielsweise (Meth)Acrylate, Allylverbindungen, Vinylverbindungen, Methallylverbindungen, Isoprene, Butadiene und Propargyle.Suitable examples include (meth)acrylates, allyl compounds, vinyl compounds, methallyl compounds, isoprenes, butadienes and propargyles.

Bevorzugt enthalten die Massen mindestens eine difunktionelle radikalisch strahlungshärtbare Verbindung.The compositions preferably contain at least one difunctional radically radiation-curable compound.

Bevorzugt kommen strahlungshärtbare Verbindungen auf der Basis von (Meth)Acrylaten zum Einsatz. Beispielsweise können sowohl aliphatische als auch aromatische (Meth)Acrylate verwendet werden.Preferably, radiation-curable compounds based on (meth)acrylates are used. For example, both aliphatic and aromatic (meth)acrylates can be used.

Als (Meth)Acrylate werden hier und im Folgenden sowohl die Derivate der Acrylsäure als auch der Methacrylsäure sowie Kombinationen und Mischungen davon bezeichnet.Here and in the following, (meth)acrylates refer to both the derivatives of acrylic acid and methacrylic acid as well as combinations and mixtures thereof.

Geeignet sind beispielsweise die folgenden strahlungshärtbaren Verbindungen: Isobornylacrylat, Stearylacrylat, Tetrahydrofurfurylacrylat, Cyclohexylacrylat, 3,3,5-Trimethylcyclohexanolacrylat, Behenylacrylat, 2-Methoxyethylacrylat und andere ein- oder mehrfach alkoxylierte Alkylacrylate, Isobutylacrylat, Isooctylacrylat, Laurylacrylat, Tridecylacrylat, Isostearylacrylat, 2-(o-Phenylphenoxy)ethylacrylat, Acryloylmorpholin, N,N-Dimethylacrylamid, 4-Butandioldiacrylat, 1,6-Hexandioldiacrylat, 1,10-Decandioldiacrylat, Tricyclodecandimethanoldiacrylat, Dipropylenglycoldiacrylat, Tripropylenglycoldiacrylat, Polybutadiendiacrylat, Cyclohexandimethanoldiacrylat, Diurethanacrylate von monomeren, oligomeren oder polymeren Diolen und Polyolen, Trimethylolpropantriacrylat (TMPTA), und Dipentaerythritolhexaacrylat (DPHA), und Kombinationen davon. Auch von mehrfach verzweigten oder dendrimeren Alkoholen abgeleitete höherfunktionelle Acrylate können vorteilhaft verwendet werdenThe following radiation-curable compounds are suitable, for example: isobornyl acrylate, stearyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, cyclohexyl acrylate, 3,3,5-trimethylcyclohexanol acrylate, behenyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate and other mono- or polyalkoxylated alkyl acrylates, isobutyl acrylate, isooctyl acrylate, lauryl acrylate, tridecyl acrylate, isostearyl acrylate, 2-(o-phenylphenoxy)ethyl acrylate, acryloylmorpholine, N,N-dimethylacrylamide, 4-butanediol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, 1,10-decanediol diacrylate, tricyclodecanedimethanol diacrylate, dipropylene glycol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, polybutadiene diacrylate, cyclohexanedimethanol diacrylate, diurethane acrylates of monomeric, oligomeric or polymeric Diols and polyols, trimethylolpropane triacrylate (TMPTA), and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA), and combinations thereof. Higher-functional acrylates derived from multiply branched or dendrimeric alcohols can also be used advantageously

Die analogen Methacrylate sind ebenfalls im Sinne der Erfindung.The analogous methacrylates are also within the meaning of the invention.

Weiterhin eignen sich auch strahlungshärtbare Verbindungen mit Allylgruppen, wie beispielsweise 1,3,5-Triallyl-1,3,5-triazin-2,4,6-(1H,3H,5H)-trion, das kommerziell als TAICROS® von der Firma Evonik erhältlich ist. Allylgruppenhaltige Verbindungen führen insbesondere bei Anwesenheit von Thiolen zu schnellen Fixierprozessen bei Bestahlung mit der zweiten Wellenlänge λ2.Radiation-curable compounds with allyl groups are also suitable, such as 1,3,5-triallyl-1,3,5-triazine-2,4,6-(1H,3H,5H)-trione, which is commercially available as TAICROS® from Evonik. Compounds containing allyl groups lead to rapid fixing processes when irradiated with the second wavelength λ 2 , particularly in the presence of thiols.

Auch unhydrierte Polybutadiene mit freien Doppelbindungen wie beispielsweise die Poly BD®-Typen können als strahlungshärtende Verbindung eingesetzt werden.Unhydrogenated polybutadienes with free double bonds, such as the Poly BD® types, can also be used as radiation-curing compounds.

Als höhermolekulare strahlungshärtbare Verbindung können Urethanacrylate auf Basis von Polyestern, Polyethern, Polycarbonatdiolen und/oder (hydrierten) Polybutadiendiolen in der zweiten härtbaren Komponente (B) zum Einsatz kommen.Urethane acrylates based on polyesters, polyethers, polycarbonate diols and/or (hydrogenated) polybutadiene diols can be used as higher molecular weight radiation-curable compounds in the second curable component (B).

Ferner können strahlungshärtbare Hybridverbindungen eingesetzt werden, die sowohl über radikalisch polymerisierbare Gruppen als auch über kationisch polymerisierbare Epoxidgruppen verfügen.Furthermore, radiation-curable hybrid compounds can be used which have both radically polymerizable groups and cationically polymerizable epoxy groups.

Beispiele für kommerziell erhältliche Produkte, die sowohl über radikalisch polymerisierbare Gruppen als auch kationisch polymerisierbare Epoxidgruppen verfügen, umfassen 3,4-Epoxycyclohexyl-methyl-methacrylat (TTA15) von der Firma Jiangsu Tetra New Material Technology Co., Ltd., UVACURE 1561 von der Firma UCB, Solmer SE 1605 von der Firma Melrob Ltd. und Miramer PE210HA von der Firma Miwon Europe GmbH.Examples of commercially available products that have both radically polymerizable groups and cationically polymerizable epoxy groups include 3,4-epoxycyclohexyl methyl methacrylate (TTA15) from Jiangsu Tetra New Material Technology Co., Ltd., UVACURE 1561 from UCB, Solmer SE 1605 from Melrob Ltd. and Miramer PE210HA from Miwon Europe GmbH.

Die genannten strahlungshärtbaren Hybridverbindungen können insbesondere in härtbaren Massen gemäß der ersten Ausführungsform vorteilhaft eingesetzt werden.The radiation-curable hybrid compounds mentioned can be used advantageously in particular in curable compositions according to the first embodiment.

Ferner können strahlungshärtbare Hybridverbindungen eingesetzt werden, die sowohl über radikalisch polymerisierbare Gruppen als auch über additionsvernetzbare Gruppen verfügen.Furthermore, radiation-curable hybrid compounds can be used which have both radically polymerizable groups and addition-crosslinkable groups.

Beispiele geeigneter Hybridverbindungen umfassen ferner Hydroxy(meth)acrylate, Isocyanato(meth)acrylate, Epoxy(meth)acrylate, Vinylether(meth)acrylate oder Oxetan(meth)acrylate.Examples of suitable hybrid compounds further include hydroxy(meth)acrylates, isocyanato(meth)acrylates, epoxy(meth)acrylates, vinyl ether(meth)acrylates or oxetane(meth)acrylates.

Beispiele für kommerziell erhältliche Produkte, die sowohl über radikalisch polymerisierbare Gruppen als auch additionsvernetzbare Gruppen verfügen, umfassen Karenz MOI und Karenz AOI von der Firma Resonac, Laromer PR 9000 von der Firma BASF, Glycidylmethacrylat, Ebecryl 4141 und Ebecryl 4596 von der Firma Allnex.Examples of commercially available products that contain both radically polymerizable groups and addition-crosslinkable groups include Karenz MOI and Karenz AOI from Resonac, Laromer PR 9000 from BASF, glycidyl methacrylate, Ebecryl 4141 and Ebecryl 4596 from Allnex.

Die genannten strahlungshärtbaren Hybridverbindungen können insbesondere in Massen gemäß der zweiten Ausführungsform vorteilhaft eingesetzt werden.The radiation-curable hybrid compounds mentioned can be used advantageously in particular in masses according to the second embodiment.

Eine Kombination mehrerer strahlungshärtbarer Verbindungen ist ebenfalls im Sinne der Erfindung.A combination of several radiation-curable compounds is also within the scope of the invention.

Die zweite härtbare Komponente (B) liegt in der erfindungsgemäßen Masse insbesondere in einem Anteil von 5 bis 50 Gew.-% vor, bevorzugt in einem Anteil von 10 bis 40 Gew.-%, jeweils bezogen auf das Gesamtgewicht der härtbaren Masse.The second curable component (B) is present in the composition according to the invention in particular in a proportion of 5 to 50% by weight, preferably in a proportion of 10 to 40% by weight, in each case based on the total weight of the curable composition.

Komponente (C): Erster PhotoinitiatorComponent (C): First photoinitiator

Die härtbare Masse umfasst einen ersten Photoinitiator (C), der eine photolatente Säure (C1) oder eine photolatente Base (C2) ist.The curable composition comprises a first photoinitiator (C), which is a photolatent acid (C1) or a photolatent base (C2).

Der erste Photoinitiator (C) ist bei Bestrahlung mit aktinischer Strahlung einer ersten Wellenlänge λ1 aktivierbar und initiiert in der härtbaren Masse eine Polymerisationsreaktion, die auch in Schattenzonen eine zuverlässige Endaushärtung ermöglicht.The first photoinitiator (C) can be activated upon irradiation with actinic radiation of a first wavelength λ 1 and initiates a polymerization reaction in the curable mass, which enables reliable final curing even in shadow zones.

Der erste Photoinitiator (C) ist in diesem Zusammenhang insbesondere auf die erste härtbare Komponente (A) abgestimmt. Das heißt, dass die Polymerisationsreaktion der ersten härtbaren Komponente (A) insbesondere durch die Aktivierung des ersten Photoinitiators (C) bestimmt wird.In this context, the first photoinitiator (C) is particularly matched to the first curable component (A). This means that the polymerization reaction of the first curable component (A) is determined in particular by the activation of the first photoinitiator (C).

Die photolatente Säure (C1) umfasst bevorzugt mindestens einen photolatenten Säurebildner, der bei Bestrahlung mit aktinischer Strahlung einer ersten Wellenlänge λ1 eine Säure freisetzt, und insbesondere einen photolatenten Säurebildner auf Basis einer Metalloceniumverbindung für die kationische Polymerisation.The photolatent acid (C1) preferably comprises at least one photolatent acid generator which releases an acid upon irradiation with actinic radiation of a first wavelength λ 1 , and in particular a photolatent acid generator based on a metallocenium compound for cationic polymerization.

Eine Übersicht über verschiedene Metalloceniumsalze wird in der EP 0 542 716 B1 offenbart. Als unterschiedliche Anionen der Metalloceniumsalze seien beispielhaft HSO4 -, PF6 -, SbF6 -, AsF6 -, Cl-, Br, I-, ClO4 -, PO4 -, SO3CF3 -, Tosylat, Aluminate oder ein Borat-Anion, wie etwa BF4 - und B(C6F5)4 -, angeführt.An overview of various metallocenium salts is given in the EP 0 542 716 B1 disclosed. Examples of different anions of the metallocenium salts are HSO 4 - , PF 6 - , SbF 6 - , AsF 6 - , Cl - , Br, I - , ClO 4 - , PO 4 - , SO 3 CF 3 - , tosylate, aluminates or a borate anion, such as BF 4 - and B(C 6 F 5 ) 4 - .

Bevorzugt ist die photolatente Säure (C1) auf Basis einer Metalloceniumverbindung aus der Gruppe der Ferroceniumsalze ausgewählt.Preferably, the photolatent acid (C1) based on a metallocenium compound is selected from the group of ferrocenium salts.

Beispiele für geeignete Ferroceniumsalze sind Cumenylcyclopentadienyleisen -(II)-Hexafluorophosphat (Irgacure 261); Naphthalenylcyclopentadienyleisen-(II)-Hexafluorophosphat, Benzylcyclopentadienyleisen-(II)-Hexafluorophosphat und Cyclopentadienylcarbazoleisen-(II)-hexafluorophosphat.Examples of suitable ferrocenium salts are cumenylcyclopentadienyliron(II) hexafluorophosphate (Irgacure 261); naphthalenylcyclopentadienyliron(II) hexafluorophosphate, benzylcyclopentadienyliron(II) hexafluorophosphate and cyclopentadienylcarbazoleiron(II) hexafluorophosphate.

Bevorzugt absorbiert die photolatente Säure (C1) im sichtbaren Bereich des elektromagnetischen Spektrums. Dies bedeutet, dass die photolatente Säure (C1) bevorzugt bei einer ersten Wellenlänge λ1 ≥ 380 nm aktivierbar ist. Vorzugsweise lässt sich die photolatente Säure (C1) durch Strahlung einer Wellenlänge von λ1 ≥ 400 nm, bevorzugt von λ1 ≥ 460 nm aktivieren.The photolatent acid (C1) preferably absorbs in the visible region of the electromagnetic spectrum. This means that the photolatent acid (C1) can preferably be activated at a first wavelength λ 1 ≥ 380 nm. The photolatent acid (C1) can preferably be activated by radiation with a wavelength of λ 1 ≥ 400 nm, preferably λ 1 ≥ 460 nm.

Besonders bevorzugt liegt die erste Wellenlänge λ1, also die Aktivierungswellenlänge der härtbaren Masse, in einem Bereich von 400 bis 750 nm.Particularly preferably, the first wavelength λ 1 , i.e. the activation wavelength of the curable mass, is in a range from 400 to 750 nm.

Geeignete photolatente Basen (C2) umfassen bevorzugt eine oder mehrere Verbindungen und Derivate abgeleitet aus der Gruppe der cyclischen Amidinbasen, cyclischen Guanidinbasen, alpha-Aminoacetophenone, Dihydropyridine, Imidazoliumverbindungen, Carbamate, Biguanidiniumverbindungen und Mischungen davon. Die entsprechenden Salze der genannten Substanzklassen sind ebenfalls als photolatente Base (C2) geeignet.Suitable photolatent bases (C2) preferably comprise one or more compounds and derivatives derived from the group of cyclic amidine bases, cyclic guanidine bases, alpha-aminoacetophenones, dihydropyridines, imidazolium compounds, carbamates, biguanidinium compounds and mixtures thereof. The corresponding salts of the substance classes mentioned are also suitable as photolatent bases (C2).

Cyclische Amidinbasen umfassen Verbindungen auf Basis von 1,5-Diazabicyclo[4.3.0]nonen, 1,8-Diazabicyclo[5.4.0]undecen, 1,11-diazabicyclo[8.4.0]tetradecen, wie beispielsweise 1,8-Diazabicyclo[5.4.0]undec-7-en-anthracen-tetraphenylborat.Cyclic amidine bases include compounds based on 1,5-diazabicyclo[4.3.0]nonene, 1,8-diazabicyclo[5.4.0]undecene, 1,11-diazabicyclo[8.4.0]tetradecene, such as 1,8-diazabicyclo[5.4.0]undec-7-ene-anthracene-tetraphenylborate.

Auch strukturelle Analoga wie 2,3,4,6,7,8-Hexahydropyrrolo[1,2-a]pyrimidin-1-ium- tetraphenylborat, 1-(Anthracen-9-ylmethyl)-2,3,4,6,7,8,9,10-octahydropyrimido[1,2-a]azepin-1-ium.tetraphenylborat oder oder 1-(Anthracen-9-ylmethyl)-2,3,4,6,7,8-hexahydropyrrolo[1,2-a]pyrimidin-1-ium-tetraphenylborat können vorteilhaft eingesetzt warden.Structural analogues such as 2,3,4,6,7,8-hexahydropyrrolo[1,2-a]pyrimidin-1-ium tetraphenylborate, 1-(anthracen-9-ylmethyl)-2,3,4,6,7,8,9,10-octahydropyrimido[1,2-a]azepin-1-ium tetraphenylborate or 1-(anthracen-9-ylmethyl)-2,3,4,6,7,8-hexahydropyrrolo[1,2-a]pyrimidin-1-ium tetraphenylborate can also be used advantageously.

Beispiele für cyclische Guanidinbasen können ausgewählt sein aus der Gruppe der bicyclischen Guanidinverbindungen und umfassen beispielsweise 1,5,7-Triazabicyclo[4.4.0]dec-5-en-H-tetraphenylborat, 1-(Anthracen-9-ylmethyl)-9-ethyl-3,4,6,7,8,9-hexahydro-2H-pyrimido[1,2-a]pyrimidin-1-ium-tetraphenylborat und 3,4,6,7,8,9-Hexahydro-2H-pyrimido[1,2-a]pyrimidin-1-ium-tetraphenylborat.Examples of cyclic guanidine bases can be selected from the group of bicyclic guanidine compounds and include, for example, 1,5,7-triazabicyclo[4.4.0]dec-5-ene-H-tetraphenylborate, 1-(anthracen-9-ylmethyl)-9-ethyl-3,4,6,7,8,9-hexahydro-2H-pyrimido[1,2-a]pyrimidin-1-ium tetraphenylborate and 3,4,6,7,8,9-hexahydro-2H-pyrimido[1,2-a]pyrimidin-1-ium tetraphenylborate.

Geeignete alpha-Aminoacetophenone sind beispielsweise 2-Benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-methoxyphenyl)butan-1-on, 2-Benzyl-2-dimethylamino-4'-morpholinobutyrophenon und 2-Dimethylamino-2-(4-methyl-benzyl)-1-(4-morpholin-4-yl-phenyl)-butan-1-on. Weitere Verbindungen können der EP 0 284 561 B1 entnommen werden.Suitable alpha-aminoacetophenones are, for example, 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-methoxyphenyl)butan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-4'-morpholinobutyrophenone and 2-dimethylamino-2-(4-methyl- benzyl)-1-(4-morpholin-4-yl-phenyl)-butan-1-one. Other compounds can be EP 0 284 561 B1 be taken.

Beispiele für photolatente Basen auf Basis von Dihydropyridin sind N-Methylnifedipin, N-Butyl-2,6-dimethyl-4-(2-nitrophenyl)-1,4-dihydropyridin-3,5-dicarbonsäurediethylester und N-Methyl-2,6-dimethyl-4-(4,5-dimethoxy-2-nitrophenyl)-1,4-dihydropyridin-3,5-dicarbonsäurediethylester.Examples of photolatent bases based on dihydropyridine are N-methylnifedipine, N-butyl-2,6-dimethyl-4-(2-nitrophenyl)-1,4-dihydropyridine-3,5-dicarboxylic acid diethyl ester and N-methyl-2,6-dimethyl-4-(4,5-dimethoxy-2-nitrophenyl)-1,4-dihydropyridine-3,5-dicarboxylic acid diethyl ester.

Eine geeignete photolatente Base auf Basis einer Imidazoliumverbindung ist 3-(Anthracen-9-ylmethyl)-1-methyl-1H-imidazol-3-ium-tetraphenylborat.A suitable photolatent base based on an imidazolium compound is 3-(anthracen-9-ylmethyl)-1-methyl-1H-imidazol-3-ium tetraphenylborate.

Eine geeignete photolatente Base auf Basis eines Carbamats ist Anthracen-9-ylmethyldiethylcarbamat.A suitable photolatent base based on a carbamate is anthracen-9-ylmethyldiethylcarbamate.

Beispiele für photolatente Basen auf Basis von Biguanidiniumverbindungen sind 1,2-Dicyclohexyl-4,4,5,5-tetramethylbiguanidium n-butyltriphenylborat, (Z)-([Bis(dimethylamino)methyliden]amino)-N-cyclohexyl(cyclohexylamino)-methaniminiumtetrakis(3-fluorophenyl)borat und 1,2-Diisopropyl-3-[bis(dimethylamino)methylen]guanidium-2- (3-benzoylphenyl)propionat.Examples of photolatent bases based on biguanidinium compounds are 1,2-dicyclohexyl-4,4,5,5-tetramethylbiguanidium n-butyltriphenylborate, (Z)-([bis(dimethylamino)methylidene]amino)-N-cyclohexyl(cyclohexylamino)methaniminium tetrakis(3-fluorophenyl)borate and 1,2-diisopropyl-3-[bis(dimethylamino)methylene]guanidium 2-(3-benzoylphenyl)propionate.

Kommerziell erhältlich sind die genannten Verbindungen unter anderem unter der Bezeichnung CGI 277 von der Firma BASF SE, Irgacure 369, Irgacure 907, Irgacure 379 jeweils von der Firma IGM Resins und WPBG-345, WPBG-300, WPBG-266, WPBG-018 von der Firma Wako Chemicals Europe GmbH.The compounds mentioned are commercially available under the name CGI 277 from BASF SE, Irgacure 369, Irgacure 907, Irgacure 379 each from IGM Resins and WPBG-345, WPBG-300, WPBG-266, WPBG-018 from Wako Chemicals Europe GmbH.

Die Zerfallsprodukte der photolatenten Base (C2) weisen nach Bestrahlung mit aktinischer Strahlung der ersten Wellenlänge λ1 bevorzugt einen pKs von größer als 7 auf. Durch Aktivierung der photolatenten Base (C2) ändert sich der pKs um mindestens eins.The decomposition products of the photolatent base (C2) preferably have a pKs of greater than 7 after irradiation with actinic radiation of the first wavelength λ 1. By activation of the photolatent base (C2), the pKs changes by at least one.

Bevorzugt absorbiert die photolatente Base (C2) im sichtbaren Bereich des elektromagnetischen Spektrums. Dies bedeutet, dass die photolatente Base (C2) bevorzugt bei einer ersten Wellenlänge λ1 ≥ 380 nm aktivierbar ist. Vorzugsweise lässt sich die photolatente Base (C2) durch Strahlung einer Wellenlänge von λ1 ≥ 400 nm aktivieren.The photolatent base (C2) preferably absorbs in the visible region of the electromagnetic spectrum. This means that the photolatent base (C2) can preferably be activated at a first wavelength λ 1 ≥ 380 nm. The photolatent base (C2) can preferably be activated by radiation with a wavelength of λ 1 ≥ 400 nm.

Der erste Photoinitiator (C), das heißt die photolatente Säure (C1) oder die photolatente Base (C2), ist bezogen auf das Gesamtgewicht der härtbaren Masse insbesondere in einem Anteil von 0,01 bis 5 Gew.-% enthalten, bevorzugt jedoch in Anteilen von 0,05 bis 3 Gew.-%.The first photoinitiator (C), i.e. the photolatent acid (C1) or the photolatent base (C2), is contained in particular in a proportion of 0.01 to 5 wt.%, based on the total weight of the curable mass, but preferably in proportions of 0.05 to 3 wt.%.

Komponente (D): Zweiter PhotoinitiatorComponent (D): Second photoinitiator

Neben den Komponenten (A), (B) und (C) enthält die Masse, insbesondere zur Verwendung im erfindungsgemäßen Verfahren, einen zweiten Photoinitiator (D) zur radikalischen Polymerisation der Komponente (B). Der zweite Photoinitiator (D) ist dementsprechend ein Radikalbildner.In addition to components (A), (B) and (C), the composition, in particular for use in the process according to the invention, contains a second photoinitiator (D) for the radical polymerization of component (B). The second photoinitiator (D) is accordingly a radical former.

Der zweite Photoinitiator (D) ermöglicht im erfindungsgemäßen Verfahren das Fixieren der zuvor in Schritt b) aktivierten Masse durch Bestrahlen mit aktinischer Strahlung der zweiten Wellenlänge λ2. Anders ausgedrückt bildet der zweite Photoinitiator (D) unter Einwirkung der aktinischen Strahlung der zweiten Wellenlänge λ2 Radikale, die eine Polymerisation der zweiten härtbaren Komponente (B) zur Folge haben bzw. eine Polymerisation der zweiten härtbaren Komponente (B) auslösen.In the process according to the invention, the second photoinitiator (D) enables the mass previously activated in step b) to be fixed by irradiation with actinic radiation of the second wavelength λ 2 . In other words, the second photoinitiator (D) forms radicals under the action of the actinic radiation of the second wavelength λ 2 , which result in a polymerization of the second curable component (B) or trigger a polymerization of the second curable component (B).

Als zweiter Photoinitiator (D) können alle üblichen, im Handel erhältlichen Verbindungen eingesetzt werden, wie beispielsweise α-Hydroxyketone, Benzophenon, α,α'-Diethoxyacetophenon, 4,4-Diethylaminobenzophenon, 2,2-Dimethoxy-2-phenyl-acetophenon, 4-Isopropylphenyl-2-hydroxy-2-propylketon, 1-Hydroxycyclohexylphenylketon, Isoamyl-p-dimethylaminobenzoat, Methyl-4-dimethylaminobenzoat, Methyl-o-benzoylbenzoat, Benzoin, Benzoinethylether, Benzoinisopropylether, Benzoinisobutylether, 2-Hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-on, 2-Isopropylthioxanthon, Dibenzosuberon, 2,4,6-Trimethylbenzoyl-diphenylphosphinoxid und Bisacylphosphinoxide, wobei die genannten Verbindungen allein oder in Kombination von zwei oder mehreren der genannten Verbindungen als zweiter Photoinitiator (D) verwendet werden können.All customary, commercially available compounds can be used as the second photoinitiator (D), such as, for example, α-hydroxy ketones, benzophenone, α,α'-diethoxyacetophenone, 4,4-diethylaminobenzophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 4-isopropylphenyl-2-hydroxy-2-propyl ketone, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, isoamyl p-dimethylaminobenzoate, methyl 4-dimethylaminobenzoate, methyl o-benzoylbenzoate, benzoin, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 2-isopropylthioxanthone, dibenzosuberone, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide and bisacylphosphine oxides, the compounds mentioned being used alone or in combination with two or more of the mentioned compounds can be used as a second photoinitiator (D).

Als zweiter Photoinitiator (D), der mittels UV-Strahlung aktivierbar ist, können die IRGACURE™-Typen von BASF SE eingesetzt werden, so beispielsweise die Typen IRGACURE 184, IRGACURE 500, IRGACURE 1179, IRGACURE 2959, IRGACURE 745, IRGACURE 651, IRGACURE 369, IRGACURE 907, IRGACURE 1300, IRGACURE 819, IRGACURE 819DW, IRGACURE 2022, IRGACURE 2100, IRGACURE 784, IRGACURE 250, IRGACURE TPO, IRGACURE TPO-L. Ferner sind die DAROCUR™-Typen von BASF SE verwendbar, so beispielsweise die Typen DAROCUR MBF, DAROCUR 1173, DAROCUR TPO und DAROCUR 4265.As a second photoinitiator (D), which can be activated by UV radiation, the IRGACURE™ types from BASF SE can be used, such as the types IRGACURE 184, IRGACURE 500, IRGACURE 1179, IRGACURE 2959, IRGACURE 745, IRGACURE 651, IRGACURE 369, IRGACURE 907, IRGACURE 1300, IRGACURE 819, IRGACURE 819DW, IRGACURE 2022, IRGACURE 2100, IRGACURE 784, IRGACURE 250, IRGACURE TPO, IRGACURE TPO-L. The DAROCUR™ types from BASF SE can also be used, such as the types DAROCUR MBF, DAROCUR 1173, DAROCUR TPO and DAROCUR 4265.

Die voranstehenden Aufzählungen sind als beispielhaft für den zweiten Photoinitiator (D) zu sehen und keineswegs als limitierend zu verstehen.The above lists are to be seen as examples for the second photoinitiator (D) and are in no way to be understood as limiting.

Der in den erfindungsgemäßen Massen als Komponente (D) eingesetzte zweite Photoinitiator ist vorzugsweise durch aktinische Strahlung einer Wellenlänge von 200 bis 400 nm aktivierbar, besonders bevorzugt von 250 bis 380 nm.The second photoinitiator used as component (D) in the compositions according to the invention can preferably be activated by actinic radiation having a wavelength of from 200 to 400 nm, particularly preferably from 250 to 380 nm.

Der zweite Photoinitiator (D) ist bevorzugt so gewählt, dass dieser nicht bereits bei der Bestrahlung der härtbaren Masse mit der ersten Wellenlänge λ1 aktiviert wird.The second photoinitiator (D) is preferably selected such that it is not activated upon irradiation of the curable mass with the first wavelength λ 1 .

Erfindungsgemäß wird der zweite Photoinitiator (D) im erfindungsgemäßen Verfahren durch Bestrahlung der Masse bei der zweiten Wellenlänge λ2 aktiviert.According to the invention, the second photoinitiator (D) is activated in the process according to the invention by irradiating the mass at the second wavelength λ 2 .

Bei Bedarf kann der zweite Photoinitiator (D) mit einem geeigneten Sensibilisierungsmittel kombiniert werden.If required, the second photoinitiator (D) can be combined with a suitable sensitizer.

Die Differenz zwischen der zum Bestrahlen und Aktivieren des ersten Photoinitiators (C) eingesetzten Wellenlänge λ1 und der zum Bestrahlen und Aktivieren des zweiten Photoinitiators (D) eingesetzten Wellenlänge λ2 beträgt insbesondere mindestens 20 nm, bevorzugt mindestens 30 nm.The difference between the wavelength λ 1 used for irradiating and activating the first photoinitiator (C) and the wavelength λ 2 used for irradiating and activating the second photoinitiator (D) is in particular at least 20 nm, preferably at least 30 nm.

Der zweite Photoinitiator (D) liegt in den Massen insbesondere in einem Anteil von 0,01 bis 5 Gew.-% vor, bevorzugt von 0,5 bis 3 Gew.-%, jeweils bezogen auf das Gesamtgewicht der Masse.The second photoinitiator (D) is present in the compositions in particular in a proportion of 0.01 to 5 wt.%, preferably 0.5 to 3 wt.%, in each case based on the total weight of the composition.

Die Summe der Anteile des ersten Photoinitiators (C) und des zweiten Photoinitiators (D) beträgt, bezogen auf das Gesamtgewicht der Masse, insbesondere höchstens 10 Gew. -%, bevorzugt höchstens 5 Gew.-%.The sum of the proportions of the first photoinitiator (C) and the second photoinitiator (D), based on the total weight of the mass, is in particular at most 10 wt.%, preferably at most 5 wt.%.

Komponente (E): InhibitorComponent (E): Inhibitor

Neben den Komponenten (A) bis (D) enthält die härtbare Masse, insbesondere zur Verwendung im erfindungsgemäßen Verfahren, als wesentlichen Bestandteil mindestens einen Inhibitor (E) zum Abfangen von bei Bestrahlung der härtbaren Masse mit aktinischer Strahlung der ersten Wellenlänge λ1 erzeugten Radikalen.In addition to components (A) to (D), the curable composition, in particular for use in the process according to the invention, contains as an essential constituent at least one inhibitor (E) for intercepting radicals generated when the curable composition is irradiated with actinic radiation of the first wavelength λ 1 .

Somit stellt der Inhibitor (E) sicher, dass die härtbare Masse bei Bestrahlung mit aktinischer Strahlung der ersten Wellenlänge λ1 eine Offenzeit aufweist, innerhalb der die aktivierte Masse weiter dosierfähig bzw. fügbar bleibt.Thus, the inhibitor (E) ensures that the curable mass has an open time when irradiated with actinic radiation of the first wavelength λ 1 , within which the activated mass remains dosable or joinable.

Dieser Effekt wird insbesondere darauf zurückgeführt, dass der Inhibitor (E) dafür sorgt, dass in der Masse etwaige, bei der Bestrahlung mit der ersten Wellenlänge λ1, gebildete Radikale nicht zu einer wesentlichen Viskositätserhöhung der härtbaren Masse führen, insbesondere durch zu diesem Zeitpunkt im erfindungsgemäßen Verfahren noch unerwünschte Polymerisationsreaktionen der zweiten härtbaren Komponente (B).This effect is attributed in particular to the fact that the inhibitor (E) ensures that any radicals formed in the mass during irradiation with the first wavelength λ 1 do not lead to a significant increase in the viscosity of the curable mass, in particular as a result of polymerization reactions of the second curable component (B) which are still undesirable at this point in time in the process according to the invention.

Der Inhibitor ist in Bezug auf seinen Anteil in der härtbaren Masse ferner so ausgewählt, dass beim Bestrahlen der bereits aktivierten Masse mit der zweiten Wellenlänge λ2 in Schritt d) durch den zweiten Photoinitiator (D) eine ausreichende Menge an Radikalen gebildet wird, welche die Polymerisation der zweiten härtbaren Komponente (B) ermöglichen und somit zu einer Fixierung der Masse führen.The inhibitor is further selected with respect to its proportion in the curable mass such that when the already activated mass is irradiated with the second wavelength λ 2 in step d) by the second photoinitiator (D), a sufficient amount of radicals is formed which enable the polymerization of the second curable component (B) and thus lead to a fixation of the mass.

Somit kann der Inhibitor (E) als ein Radikalfänger angesehen werden, der einerseits die strahlungshärtbare Komponente (B) vor einer verfrühten Umsetzung zum Zeitpunkt der Aktivierung der ersten härtbaren Komponente (A) schützt, und andererseits durch die bei Aktivierung des zweiten Photoinitiators (D) gebildeten Radikale verbraucht wird und damit die gezielte Umsetzung der strahlungshärtbaren Komponente (B) zum gewünschten Zeitpunkt ermöglicht. Anders ausgedrückt sorgt der Inhibitor (E) dafür, dass die strahlungshärtbare Komponente (B) für mindestens den Zeitraum der Offenzeit nicht aushärtet. Somit kann die Offenzeit über den Anteil und die Art des Inhibitors (E) gesteuert werden.The inhibitor (E) can therefore be regarded as a radical scavenger which, on the one hand, protects the radiation-curable component (B) from premature conversion at the time of activation of the first curable component (A), and, on the other hand, is consumed by the radicals formed when the second photoinitiator (D) is activated, thus enabling the targeted conversion of the radiation-curable component (B) at the desired time. In other words, the inhibitor (E) ensures that the radiation-curable component (B) does not cure for at least the period of the open time. The open time can therefore be controlled via the proportion and type of inhibitor (E).

Je nach Anteil des Inhibitors (E) in der Masse können die Bestrahlungsdosis zur Aktivierung des ersten Photoinitiators (C) und/oder dessen Anteil in der Masse variiert werden, und umgekehrt.Depending on the proportion of the inhibitor (E) in the mass, the irradiation dose for activating the first photoinitiator (C) and/or its proportion in the mass can be varied, and vice versa.

Bevorzugt werden die Bestrahlungsdosis, der Anteil des ersten Photoinitiators (C) und der Anteil des Inhibitors (E) so aufeinander abgestimmt, dass die Masse nach der Aktivierung des ersten Photoinitiators (C), während der Offenzeit, flüssig bleibt.Preferably, the irradiation dose, the proportion of the first photoinitiator (C) and the proportion of the inhibitor (E) are coordinated in such a way that the mass remains liquid during the open time after activation of the first photoinitiator (C).

Ferner kann über das Verhältnis der Anteile des Inhibitors (E) und des zweiten Photoinitiators (D) und/oder die Bestrahlungsdosis zur Aktivierung des zweiten Photoinitiators (D) eine weitere Steuerung des Aushärteverhaltens der Masse erfolgen, da der Abverbrauch des Inhibitors (E) umso schneller erfolgt, je mehr Radikale in diesem Schritt aus dem zweiten Photoinitiator (D) erzeugt werden.Furthermore, the curing behavior of the mass can be further controlled via the ratio of the proportions of the inhibitor (E) and the second photoinitiator (D) and/or the irradiation dose for activating the second photoinitiator (D), since the consumption of the inhibitor (E) occurs more quickly the more radicals are generated from the second photoinitiator (D) in this step.

Der Inhibitor (E) ist strukturell nicht weiter eingeschränkt. Beispielsweise umfasst der Inhibitor (E) eine oder mehrere Verbindungen, die aus der Gruppe bestehend aus gehinderten Phenolen, Thioethern, Phosphiten, gehinderten Aminen (HALS), wahlweise substituierten Styrolen, Salpetrigsäureestern, Alkylnitriten, Dithiocarbamaten und Kombinationen davon ausgewählt ist.The inhibitor (E) is not further restricted structurally. For example, the inhibitor (E) comprises one or more compounds selected from the group consisting of hindered phenols, thioethers, phosphites, hindered amines (HALS), optionally substituted styrenes, nitrous acid esters, alkyl nitrites, dithiocarbamates, and combinations thereof.

Beispiele für geeignete Inhibitoren (E) sind 2,6-Di-tert-butyl-4-methylphenol, 4-Methoxyphenol, 1,4-Dihydroxybenzol, 1,4-Benzochinon, (2,2,6,6-Tetramethylpiperidinyl-1-1)oxyl, Isoeugenol, α-Tocopherol, 4-tert-Butylcatechin, 1,2,3-Trihydroxybenzol, 3,4,5-Trihydroxybenzoesäure, Laurylgallate (Dodecylgallat), Triphenylphosphit, Phenylphosphonsäure, Tris(2,4-Di(tert-butyl)-phenyl)phosphit, 2,2-Diphenyl-1-pikryl-hydrazyl, Phenothiazin, 2-Methylpropylnitrit, 2-Propylnitrit, Bis(1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) [[3,5-bis(1,1-dimethylethyl)-4-hydroxyphenyl]methyl]butylmalonate, Sebacinsäure-bis-(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidylester), 3,5-Dimethylperhydro-1,3,5-thiadiazin-2-thion und N-Nitroso-N-phenylhydroxylaminato)-Aluminumsalze.Examples of suitable inhibitors (E) are 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol, 4-methoxyphenol, 1,4-dihydroxybenzene, 1,4-benzoquinone, (2,2,6,6-tetramethylpiperidinyl-1-1)oxyl, isoeugenol, α-tocopherol, 4-tert-butylcatechol, 1,2,3-trihydroxybenzene, 3,4,5-trihydroxybenzoic acid, lauryl gallate (dodecyl gallate), triphenyl phosphite, phenylphosphonic acid, tris(2,4-di(tert-butyl)-phenyl)phosphite, 2,2-diphenyl-1-picryl-hydrazyl, phenothiazine, 2-methylpropyl nitrite, 2-propyl nitrite, bis(1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) [[3,5-bis(1,1-dimethylethyl)-4-hydroxyphenyl]methyl]butylmalonate, sebacic acid bis-(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl ester), 3,5-dimethylperhydro-1,3,5-thiadiazine-2-thione and N-nitroso-N-phenylhydroxylaminato)-aluminium salts.

Ferner können 1,1-Diphenylethylen, α-Methylstryrol, tert-Butylnitrit, Tetraethylthiuramdisulfid und 2,4-Diphenyl-4-methyl-1-penten vorteilhaft in der härtbaren Masse, insbesondere zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens, eingesetzt werden.Furthermore, 1,1-diphenylethylene, α-methylstyrene, tert-butyl nitrite, tetraethylthiuram disulfide and 2,4-diphenyl-4-methyl-1-pentene can advantageously be used in the curable composition, in particular for carrying out the process according to the invention.

Weiterhin sind CTA-Reagenzien („chain transfer agents“-Reagenzien), die typischerweise für RAFT-Polymerisationen eingesetzt werden, als Inhibitor (E) verwendbar. Beispiele sind Dithiobenzoate wie Benzyl-benzodithioat, Trithiocarbonate wie zum Beispiel S,S-Dibenzyl-trithiocarbonat und Dithiocarbamate wie zum Beispiel Tetraethylthiuramdisulfid (TEDS) und Tetramethylthiuramdisulfid.Furthermore, CTA reagents (“chain transfer agents”), which are typically used for RAFT polymerizations, can be used as inhibitors (E). Examples are dithiobenzoates such as benzyl benzodithioate, trithiocarbonates such as S,S-dibenzyl trithiocarbonate and dithiocarbamates such as tetraethylthiuram disulfide (TEDS) and tetramethylthiuram disulfide.

In einigen Fällen kann der Inhibitor (E) auch Hexaarylbiimidazole (HABI) oder Derivate davon umfassen. Typische, kommerziell verfügbare Hexaarylbiimidazole sind 2,2'-Bis(2-chlorophenyl)-4,4',5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazol (BCIM HABI), 2,2'-bis(2-methoxyphenyl)-4,4',5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazol, 2-(2-ethoxyphenyl)-1-[2-(2-ethoxyphenyl)-4,5-diphenyl-2H-imidazol-2-yl]-4,5-diphenyl-1H-imidazol (LEDCUR 110), 2,2',4-tri(2-chlorophenyl)-5-(3,4-Dimethoxyphenyl)-4',5'-Diphenyl-1,1'-Biimidazol (TCDM HABI).In some cases, the inhibitor (E) may also comprise hexaarylbiimidazoles (HABI) or derivatives thereof. Typical commercially available hexaarylbiimidazoles are 2,2'-bis(2-chlorophenyl)-4,4',5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole (BCIM HABI), 2,2'-bis(2-methoxyphenyl)-4,4',5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2-(2-ethoxyphenyl)-1-[2-(2-ethoxyphenyl)-4,5-diphenyl-2H-imidazol-2-yl]-4,5-diphenyl-1H-imidazole (LEDCUR 110), 2,2',4-tri(2-chlorophenyl)-5-(3,4-dimethoxyphenyl)-4',5'-diphenyl-1,1'-biimidazole (TCDM HABI).

Der Inhibitor (E) liegt in der härtbaren Masse insbesondere in einem Anteil von 0,01 bis 1,5 Gew.-% vor, bezogen auf das Gesamtgewicht der Masse, bevorzugt in Anteilen von 0,1 bis 1,5 Gew.-%.The inhibitor (E) is present in the curable mass in particular in a proportion of 0.01 to 1.5 wt.%, based on the total weight of the mass, preferably in proportions of 0.1 to 1.5 wt.%.

Das Stoffmengenverhältnis von Inhibitor (E) zu erstem Photoinitiator (C) in der härtbaren Masse liegt insbesondere in einem Bereich von 0,4:1 bis 20:1. bevorzugt in einem Bereich von 0,4:1 bis 10:1 oder 1:1 bis 10:1, besonders bevorzugt in einem Bereich von 1:1 bis 5:1.The molar ratio of inhibitor (E) to first photoinitiator (C) in the curable composition is in particular in a range from 0.4:1 to 20:1, preferably in a range from 0.4:1 to 10:1 or 1:1 to 10:1, particularly preferably in a range from 1:1 to 5:1.

Das Stoffmengenverhältnis von Inhibitor (E) zu zweitem Photoinitiator (D) in der härtbaren Masse kann 1:2 oder kleiner sein, bevorzugt 1:5 oder kleiner, besonders bevorzugt 1:10 oder kleiner.The molar ratio of inhibitor (E) to second photoinitiator (D) in the curable composition can be 1:2 or less, preferably 1:5 or less, particularly preferably 1:10 or less.

Komponente (F): ZusatzstoffeComponent (F): Additives

Die erfindungsgemäßen Massen können ferner noch fakultative Bestandteile als Zusatzstoffe (F) enthalten.The compositions according to the invention may further contain optional constituents as additives (F).

Die Zusatzstoffe (F) sind vorzugsweise aus der Gruppe der Füllstoffe, Farbstoffe, Photosensibilisatoren, Pigmente, Alterungsschutzmittel, Fluoreszenzmittel, Beschleuniger (F1), Haftvermittler, Trockenmittel, Vernetzer, Fließverbesserer, Benetzungsmittel, Thixotropierungsmittel, Verdünnungsmittel, nicht-reaktiven Flexibilisierer, nicht-reaktiven polymeren Verdickungsmittel, Flammschutzmittel, Korrosionsinhibitoren, Weichmacher, Tackyfier und Kombinationen davon ausgewählt.The additives (F) are preferably selected from the group of fillers, dyes, photosensitizers, pigments, anti-aging agents, fluorescent agents, accelerators (F1), adhesion promoters, drying agents, crosslinkers, flow improvers, wetting agents, thixotropic agents, diluents, non-reactive flexibilizers, non-reactive polymeric thickeners, flame retardants, corrosion inhibitors, plasticizers, tackifiers and combinations thereof.

Beschleuniger (F1):Accelerator (F1):

Insbesondere im Fall, dass die erste härtbare Komponente (A) eine kationische polymerisierbare Verbindung (A1) enthält, kann der härtbaren Masse ein Beschleuniger (F1) für die Aushärtung der Masse durch kationische Polymerisation zugesetzt sein.In particular, in the case that the first curable component (A) contains a cationic polymerizable compound (A1), an accelerator (F1) for curing the mass by cationic polymerization can be added to the curable mass.

Als Beschleuniger (F1) können insbesondere Peroxyverbindungen vom Typ der Perester, der Diacylperoxide, der Peroxydicarbonate und/oder der Hydroperoxide eingesetzt werden. Bevorzugt werden Hydroperoxide verwendet. Als besonders bevorzugter Beschleuniger kommt Cumolhydroperoxid in 70 bis 90%iger (v/v) Lösung in Cumol zum Einsatz.Peroxy compounds of the perester, diacyl peroxide, peroxydicarbonate and/or hydroperoxide type can be used as accelerators (F1). Hydroperoxides are preferably used. Cumene hydroperoxide in a 70 to 90% (v/v) solution in cumene is used as a particularly preferred accelerator.

Durch den Einsatz von Peroxyverbindungen wird die Hautbildung der härtbaren Masse nach Bestrahlen und Aktivieren des ersten Photoinitiators (C1) mit der ersten Wellenlänge λ1 beschleunigt.By using peroxy compounds, the skin formation of the curable mass is accelerated after irradiation and activation of the first photoinitiator (C1) with the first wavelength λ 1 .

Der Anteil an Peroxyverbindungen wird so gewählt, dass im erfindungsgemäßen Verfahren eine ausreichende Offenzeit für das Fügen und wahlweise Ausrichten eines zweiten Substrates verbleibt. Die Dauer der benötigten Offenzeit ist abhängig von dem jeweils durchgeführten Verarbeitungsprozess.The proportion of peroxy compounds is selected so that a sufficient open time remains in the process according to the invention for joining and optionally aligning a second substrate. The length of the open time required depends on the processing process carried out in each case.

Der Beschleuniger (F1), insbesondere die Peroxyverbindung, ist insbesondere in einem Anteil von 0 bis 5 Gew.-% enthalten, bezogen auf Gesamtgewicht der Masse.The accelerator (F1), in particular the peroxy compound, is contained in particular in a proportion of 0 to 5 wt.%, based on the total weight of the mass.

Das Massenverhältnis zwischen dem ersten Photoinitiator (C1), beispielsweise Ferroceniumhexafluoroantimonat, und der Peroxyverbindung, beispielsweise Cumolhydroperoxid, kann in weiten Grenzen variiert werden. Vorzugsweise wird ein Massenverhältnis von 1:0,1 bis 1:6 verwendet, besonders bevorzugt von 1:2 bis 1:4.The mass ratio between the first photoinitiator (C1), for example ferrocenium hexafluoroantimonate, and the peroxy compound, for example cumene hydroperoxide, can be varied within wide limits. Preferably, a mass ratio of 1:0.1 to 1:6 is used, particularly preferably from 1:2 to 1:4.

Formulierung der härtbaren Massenformulation of the curable masses

Eine Formulierung der erfindungsgemäßen Massen, insbesondere für die Verwendung in dem erfindungsgemäßen Verfahren, umfasst mindestens die zuvor beschriebenen Komponenten (A) bis (E).A formulation of the compositions according to the invention, in particular for use in the process according to the invention, comprises at least the components (A) to (E) described above.

Bevorzugt besteht die Masse aus den folgenden Komponenten, jeweils bezogen auf das Gesamtgewicht der Masse:

  1. (A) 5 bis 90 Gew.-% der ersten härtbaren Komponente,
  2. (B) 5 bis 50 Gew.-% der zweiten härtbaren Komponente,
  3. (C) 0,01 bis 5 Gew.-% des ersten Photoinitiators,
  4. (D) 0,01 bis 5 Gew.-% des zweiten Photoinitiators,
  5. (E) 0,01 bis 1,5 Gew.-% des Inhibitors, und
  6. (F) 0 bis 80 Gew.-% an Zusatzstoffen.
Preferably, the mass consists of the following components, each based on the total weight of the mass:
  1. (A) 5 to 90 wt.% of the first curable component,
  2. (B) 5 to 50 wt.% of the second curable component,
  3. (C) 0.01 to 5 wt.% of the first photoinitiator,
  4. (D) 0.01 to 5 wt.% of the second photoinitiator,
  5. (E) 0.01 to 1.5 wt.% of the inhibitor, and
  6. (F) 0 to 80 wt.% of additives.

Der Inhibitor ist bevorzugt aus der Gruppe bestehend aus gehinderten Phenolen, Thioethern, Phosphiten, gehinderten Aminen (HALS), wahlweise substituierten Styrolen, Salpetrigsäureestern, Alkylnitriten, Dithiocarbamaten und Kombinationen davon ausgewählt. Weiter bevorzugt umfasst der Inhibitor 1,1-Diphenylethylen, α-Methylstryrol, tert-Butylnitrit, Tetraethylthiuramdisulfid und 2,4-Diphenyl-4-methyl-1-penten sowie Kombinationen davon.The inhibitor is preferably selected from the group consisting of hindered phenols, thioethers, phosphites, hindered amines (HALS), optionally substituted styrenes, nitrous acid esters, alkyl nitrites, dithiocarbamates and combinations thereof. More preferably, the inhibitor comprises 1,1-diphenylethylene, α-methylstyrene, tert-butyl nitrite, tetraethylthiuram disulfide and 2,4-diphenyl-4-methyl-1-pentene and combinations thereof.

Gemäß einer ersten Ausführungsform umfasst oder besteht die Masse bevorzugt aus den folgenden Komponenten, jeweils bezogen auf das Gesamtgewicht der Masse:

  • (A) 10 bis 85 Gew.-% einer kationisch polymerisierbaren Verbindung (A1) umfassend mindestens ein difunktionelles Epoxid als erste härtbare Komponente,
  • (B) 5 bis 50 Gew.-% mindestens einer radikalisch strahlungshärtbaren Verbindung als zweite härtbare Komponente,
  • (C) 0,1 bis 3 Gew.-% einer photolatenten Säure (C1) als ersten Photoinitiator,
  • (D) 0,5 bis 3 Gew.-% eines radikalischen Photoinitiators als zweiten Photoinitiator,
  • (E) 0,1 bis 1,5 Gew.-% des Inhibitors, und
  • (F) 0 bis 80 Gew.-% an Zusatzstoffen.
According to a first embodiment, the mass preferably comprises or consists of the following components, each based on the total weight of the mass:
  • (A) 10 to 85 wt.% of a cationically polymerizable compound (A1) comprising at least one difunctional epoxide as the first curable component,
  • (B) 5 to 50 wt.% of at least one radically radiation-curable compound as a second curable component,
  • (C) 0.1 to 3 wt.% of a photolatent acid (C1) as first photoinitiator,
  • (D) 0.5 to 3 wt.% of a radical photoinitiator as a second photoinitiator,
  • (E) 0.1 to 1.5 wt.% of the inhibitor, and
  • (F) 0 to 80 wt.% of additives.

Gemäß einer zweiten Ausführungsform umfasst oder besteht die Masse bevorzugt aus den folgenden Komponenten, jeweils bezogen auf das Gesamtgewicht der Masse:

  • (A) 20 bis 85 Gew.-% einer additionsvernetzbaren Verbindung (A2) umfassend mindestens ein mindestens difunktionelles Isocyanat (A2-1) und ein mindestens difunktionelles Thiol (A2-2) als erste härtbare Komponente,
  • (B) 5 bis 50 Gew.-% mindestens einer radikalisch strahlungshärtbaren Verbindung als zweite härtbare Komponente,
  • (C) 0,1 bis 3 Gew.-% einer photolatenten Base (C2) als ersten Photoinitiator,
  • (D) 1 bis 5 Gew.-% eines radikalischen Photoinitiators als zweiten Photoinitiator,
  • (E) 0,01 bis 1,5 Gew.-% des Inhibitors, und
  • (F) 0 bis 80 Gew.-% an Zusatzstoffen.
According to a second embodiment, the mass preferably comprises or consists of the following components, each based on the total weight of the mass:
  • (A) 20 to 85% by weight of an addition-crosslinkable compound (A2) comprising at least one at least difunctional isocyanate (A2-1) and at least difunctional thiol (A2-2) as the first curable component,
  • (B) 5 to 50 wt.% of at least one radically radiation-curable compound as a second curable component,
  • (C) 0.1 to 3 wt.% of a photolatent base (C2) as first photoinitiator,
  • (D) 1 to 5 wt.% of a radical photoinitiator as a second photoinitiator,
  • (E) 0.01 to 1.5 wt.% of the inhibitor, and
  • (F) 0 to 80 wt.% of additives.

Das mindestens difunktionelle Isocyanat (A2-1) kann ganz oder teilweise durch eine Hybridverbindung der Komponente (B) ersetzt sein, die radikalisch strahlungshärtbare Gruppen zusammen mit Isocyanatgruppen trägt.The at least difunctional isocyanate (A2-1) can be completely or partially replaced by a hybrid compound of component (B) which carries radically radiation-curable groups together with isocyanate groups.

Als Inhibitor (E) eignen sich in den Massen der zweiten Ausführungsform insbesondere substituierte Styrole, Salpetrigsäureester bzw. Alkylnitrite und Dithiocarbamate.Suitable inhibitors (E) in the compositions of the second embodiment are particularly substituted styrenes, nitrous acid esters or alkyl nitrites and dithiocarbamates.

Die Massen der zweiten Ausführungsform bilden im gehärteten Zustand ein Polythiourethannetzwerk aus. Dieses zeichnet sich durch eine hohe Medienbeständigkeit aus.The masses of the second embodiment form a polythiourethane network in the cured state. This is characterized by high media resistance.

Gemäß einer dritten Ausführungsform umfasst oder besteht die Masse bevorzugt aus den folgenden Komponenten, jeweils bezogen auf das Gesamtgewicht der Masse:

  • (A) 15 bis 85 Gew.-% einer durch Feuchtigkeit vernetzbaren Verbindung (A3) umfassend mindestens ein Silan als erste härtbare Komponente,
  • (B) 5 bis 50 Gew.-% mindestens einer radikalisch strahlungshärtbaren Verbindung als zweite härtbare Komponente,
  • (C) 0,05 bis 3 Gew.-% einer photolatenten Säure (C1) als ersten Photoinitiator,
  • (D) 0,1 bis 3 Gew.-% eines radikalischen Photoinitiators als zweiten Photoinitiator,
  • (E) 0,01 bis 1,5 Gew.-% des Inhibitors, und
  • (F) 0 bis 80 Gew.-% an Zusatzstoffen.
According to a third embodiment, the mass preferably comprises or consists of the following components, each based on the total weight of the mass:
  • (A) 15 to 85 wt.% of a moisture-crosslinkable compound (A3) comprising at least one silane as the first curable component,
  • (B) 5 to 50 wt.% of at least one radically radiation-curable compound as a second curable component,
  • (C) 0.05 to 3 wt.% of a photolatent acid (C1) as first photoinitiator,
  • (D) 0.1 to 3 wt.% of a radical photoinitiator as a second photoinitiator,
  • (E) 0.01 to 1.5 wt.% of the inhibitor, and
  • (F) 0 to 80 wt.% of additives.

Die erfindungsgemäßen Massen aller Ausführungsformen werden bevorzugt als Einkomponentenmassen bereitgestellt.The compositions according to the invention of all embodiments are preferably provided as one-component compositions.

Verwendung der härtbaren MasseUse of the hardenable mass

Die zuvor beschriebene härtbare Masse eignet sich insbesondere für die Verwendung zum Fügen, Vergießen oder Beschichten von Substraten. Darunter wird auch das Verkleben, Abformen oder Abdichten von Substraten verstanden.The curable mass described above is particularly suitable for use in joining, casting or coating substrates. This also includes gluing, molding or sealing substrates.

Insbesondere eignen sich die härtbaren Massen für Anwendungen, in denen der Festigkeitsaufbau durch eine Lichtfixierung gezielt gesteuert und gleichzeitig ein zuverlässiges Aushärten in Schattenzonen sichergestellt werden soll, insbesondere im Fall von nicht durchstrahlbaren Substraten. Dieses Eigenschaftsprofil wird inbesondere in der Fertigung elektro-optischer Bauteile, wie Kameramodulen, dem Fügen von Displays oder Vergüssen mit komplexen Geometrien, beispielsweise Sensorvergüssen, benötigt.The curable masses are particularly suitable for applications in which the strength build-up is to be controlled in a targeted manner by fixing light and at the same time reliable curing in shadow zones is to be ensured, especially in the case of non-transparent substrates. This property profile is particularly required in the production of electro-optical components, such as camera modules, the joining of displays or encapsulations with complex geometries, for example sensor encapsulations.

Auch Gehäuseverklebungen oder die Anwendung in Brennstoffzellen sind mit den zuvor beschriebenen Massen denkbar, insbesondere bei Einsatz von kationisch polymerisierbaren Verbindungen (A1) mit 1,1-Diphenylethylen, tert-Butylnitrit und/oder 2,4-Diphenyl-4-methyl-1-penten als Inhibitor (E).Housing bonding or application in fuel cells are also conceivable with the previously described masses, especially when using cationically polymerizable compounds (A1) with 1,1-diphenylethylene, tert-butyl nitrite and/or 2,4-diphenyl-4-methyl-1-pentene as inhibitor (E).

Gemäß einer Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens kann die Aktivierung der Massen durch Bestrahlen mit der ersten Wellenlänge λ1 im Durchfluss erfolgen. Dies bedeutet, dass die flüssige Masse beispielsweise während des Dosierens vor dem Verlassen der Dosierapparatur mit aktinischer Strahlung bestrahlt und dadurch aktiviert wird. Dosiergeräte, die eine durchstrahlbare Zone und geeignete LED-Bestrahlungsvorrichtungen aufweisen, sind von der Firma DELO Industrie Klebstoffe GmbH & Co. KGaA unter der Handelbezeichnung DELO-ACTIVIS kommerziell erhältlich und beispielsweise in der DE 10 2021 133 731 A1 beschrieben. Die Verwendung einer derartigen Durchflussaktivierungsapparatur bietet den Vorteil, dass das Dosieren und Aktivieren der Masse in einem einzelnen Prozessschritt stattfinden kann. Dies reduziert den apparativen Aufwand und spart Bauraum in industriellen Anlagen.According to one embodiment of the method according to the invention, the masses can be activated by irradiation with the first wavelength λ 1 in the flow. This means that the liquid mass is irradiated with actinic radiation, for example during dosing, before leaving the dosing device and is thereby activated. Dosing devices which have a penetrable zone and suitable LED irradiation devices are commercially available from DELO Industrie Klebstoffe GmbH & Co. KGaA under the trade name DELO-ACTIVIS and can be found, for example, in the DE 10 2021 133 731 A1 described. The use of such a flow activation device offers the advantage that the dosing and activation of the mass can take place in a single process step. This reduces the equipment required and saves installation space in industrial plants.

Der Dosierdruck der Masse in einer Durchflussaktivierungsapparatur beträgt bevorzugt 15 bar oder weniger. Besonders bevorzugt liegt der Dosierdruck unter 10 bar, um eine prozesssichere und zuverlässige Aktivierung der Masse zu gewährleisten. Typische Dosierraten weisen Volumenströme von 1 bis 15 cm3/min, bevorzugt 2 bis 10 cm3/min, auf. Zu niedrige Dosierraten können zu einem vorzeitigen Aushärten innherhalb der Apparatur führen. Zu hohe Dosierraten dagegen können bei vorgegebener Bestrahlungsleistung zu einer unvollständigen Aktivierung der Masse führen.The dosing pressure of the mass in a flow activation apparatus is preferably 15 bar or less. The dosing pressure is particularly preferably below 10 bar in order to ensure process-safe and reliable activation of the mass. Typical dosing rates have volume flows of 1 to 15 cm 3 /min, preferably 2 to 10 cm 3 /min. Dosing rates that are too low can lead to premature hardening within the apparatus. Dosing rates that are too high, on the other hand, can lead to incomplete activation of the mass at a given irradiation power.

Nach der Aktivierung der Masse durch aktinische Strahlung mit der ersten Wellenlänge λ1 weist diese eine Offenzeit auf, innerhalb der die aktivierte Masse flüssig bleibt und den Gelpunkt noch nicht überschreitet. Innerhalb der Offenzeit können die nachfolgenden Prozessschritte, insbesondere das Zuführen und Fügen eines weiteren Substrats (Schritt c) verlässlich durchgeführt werden.After activation of the mass by actinic radiation with the first wavelength λ 1 , it has an open time during which the activated mass remains liquid and does not yet exceed the gel point. The subsequent process steps, in particular the feeding and joining of another substrate (step c), can be carried out reliably within the open time.

Es ist jedoch auch möglich, dass die aktivierte Masse auch über die angegebene Offenzeit hinaus mindestens teilweise fügbar bleibt, bevor sie sich in einem Maß verfestigt, dass kein weiteres Anfließen oder Anpressen an ein weiteres Substrat mehr möglich ist. Um einen robusten Prozess zu ermöglichen, ist das Zuführen eines zweiten Substrats im Schritt c) des erfindungsgsgemäßen Verfahrens, sofern dieser durchgeführt wird, jedoch innerhalb der Offenzeit bevorzugt.However, it is also possible for the activated mass to remain at least partially joinable beyond the specified open time before it solidifies to such an extent that no further flow or pressing onto another substrate is possible. In order to enable a robust process, the addition of a second substrate in step c) of the method according to the invention, if this is carried out, is preferred within the open time.

Die Offenzeit der aktvierten Massen beträgt bevorzugt mindestens 0,1 Minute, sowie bis zu 30 Minuten, weiter bevorzugt bis zu 15 Minuten oder bis zu 5 Minuten. Kürzere Offenzeiten von 0,1 bis 1 Minute eignen sich insbesondere für schnelle industrielle Fertigungsprozesse. Bei Verwendung einer Durchflussaktivierungsapparatur kann dagegen eine längere Offenzeit aus Gründen der Prozesssicherheit von Vorteil sein, insbesondere eine Offenzeit von 1 Minute oder mehr, bevorzugt eine Offenzeit im Bereich von mehr als 5 bis 30 Minuten.The open time of the activated masses is preferably at least 0.1 minute, and up to 30 minutes, more preferably up to 15 minutes or up to 5 minutes. Shorter open times of 0.1 to 1 minute are particularly suitable for fast industrial production processes. When using a flow activation apparatus, however, a longer open time can be advantageous for reasons of process reliability, in particular an open time of 1 minute or more, preferably an open time in the range of more than 5 to 30 minutes.

Üblicherweise besteht eine Korrelation der Offenzeit mit der Aushärtungszeit, d.h. eine kürzere Offenzeit ist nicht per se vorteilhaft sondern kann aufgrund der schnelleren Aushärtung der Masse für den jeweiligen Gesamtprozess Vorteile bieten.There is usually a correlation between the open time and the curing time, i.e. a shorter open time is not advantageous per se but can offer advantages for the overall process due to the faster curing of the mass.

Härtbare Massen mit sehr kurzen Offenzeiten von weniger als einer Minute lassen sich nach der Aktivierung jedoch nur eingeschränkt in einem Fügeprozess verarbeiten und sind im Übrigen auch nicht für eine Durchflussaktivierung geeignet.However, hardenable masses with very short open times of less than one minute can only be processed to a limited extent in a joining process after activation and are also not suitable for flow activation.

Nach der Fixierung durch aktinische Strahlung mit der zweiten Wellenlänge λ2 weist die Masse mindestens eine sogenannte „green strength“ oder Handlingsfestigkeit auf. Dies bedeutet, dass nach dem Fixieren kein Verfließen mehr stattfindet. Bauteile in Fügeverbindungen bleiben relativ zueinander fixiert und lassen sich so weiteren Produktionsschritten zuführen, beispielsweise auch manuell.After fixing by actinic radiation with the second wavelength λ 2 , the mass has at least a so-called "green strength" or handling strength. This means that after fixing, no more flowing occurs. Components in joints remain fixed relative to one another and can thus be fed into further production steps, for example manually.

Die nach dem erfindungsgemäßen Verfahren aktivierte und fixierte Masse härtet typischweise innerhalb von 7 Tagen bei Raumtemperatur vollständig aus, bevorzugt innerhalb von 3 Tagen, besonders bevorzugt innerhalb von einem Tag, also innerhalb von 24 Stunden. Zum schnelleren Aushärten bzw. zum beschleunigten Erreichen der Endaushärtung der Masse kann die Masse wahlweise während oder nach der Lichtfixierung in Schritt d) erwärmt werden.The mass activated and fixed according to the method according to the invention typically hardens completely within 7 days at room temperature, preferably within 3 days, particularly preferably within one day, i.e. within 24 hours. For faster hardening or to accelerate the final hardening of the mass, the mass can be heated either during or after the light fixation in step d).

Verwendete Messverfahren und DefinitionenMeasurement methods and definitions used

Bestrahlungradiation

Zur Aktivierung der härtbaren Masse mit aktinischer Strahlung der ersten Wellenlänge λ1 und zur Fixierung mit aktinischer Strahlung der zweiten Wellenlänge λ2 wurden die Massen jeweils mit einer LED-Lampe des Typs DELOLUX 20 der Firma DELO Industrie Klebstoffe GmbH & Co. KGaA bestrahlt. Für unterschiedliche Wellenlängen kamen jeweils unterschiedliche Lampen zum Einsatz. Die jeweiligen Belichtungsdauern, Intensitäten und Wellenlängen sind den nachfolgenden Tabellen zu den Versuchsbeispielen zu entnehmen.To activate the curable mass with actinic radiation of the first wavelength λ 1 and to fix it with actinic radiation of the second wavelength λ 2, the masses were each irradiated with a DELOLUX 20 LED lamp from DELO Industrie Klebstoffe GmbH & Co. KGaA. Different lamps were used for different wavelengths. The respective exposure times, intensities and wavelengths can be found in the tables below for the test examples.

Raumtemperaturroom temperature

Raumtemperatur ist definiert als 23 ± 2 °C.Room temperature is defined as 23 ± 2 °C.

Aushärtungcuring

„Vernetzung“ oder „Aushärtung“ werden definiert als Polymerisationreaktion über den Gelpunkt hinaus. Der Gelpunkt ist der Punkt, an dem das Speichermodul G' gleich dem Verlustmodul G'' wird."Crosslinking" or "curing" is defined as a polymerization reaction beyond the gel point. The gel point is the point at which the storage modulus G' becomes equal to the loss modulus G''.

Offenzeitopen time

Die Bestimmung erfolgt mittels eines haptischen Tests unter Verwendung eines Zahnstochers an Klebstofftropfen (10 mg) auf einem Glasobjektträger. Es wird eine Dreifachbestimmung durchgeführt und das artihmethische Mittel der erhaltenen Messwerte ergibt die Offenzeit. Die Klebstofftropfen werden mit einem LED-Flächenstrahler (DELOLUX 20) unter vordefinierten Bedingungen in Abhängigkeit der vorgesehenen Anwendung aktiviert. Die Aktivierungsbedingungen wie Intensität, Dauer und Wellenlänge der Bestrahlung können den nachfolgenden Tabellen zu den Versuchsbeispielen entnommen werden. Mit dem Ende der Bestrahlung wird eine Stoppuhr gestartet.The determination is carried out using a haptic test using a toothpick on glue drops (10 mg) on a glass slide. A triplicate determination is carried out and the arithmetic mean of the measured values obtained gives the open time. The glue drops are activated with an LED surface emitter (DELOLUX 20) under predefined conditions depending on the intended application. The activation conditions such as intensity, duration and wavelength of the irradiation can be found in the tables below for the test examples. At the end of the irradiation, a stop watch is started.

Unter Zuhilfenahme des Zahnstochers wird die zu erwartende Viskositätserhöhung im Vergleich zu einer nicht aktivierten Referenzprobe gleicher Größe und Geometrie haptisch beurteilt. Im Abstand von ca. 5 s wird mit dem Zahnstocher in einer vertikalen Bewegung die Geometrie des aktivierten Klebstofftropfens manipulierert, indem die Spitze des Zahnstochers aus der Mitte des Klebstofftropfens nach oben gezogen wird, wobei der Zahnstocher in einem Winkel von ca. 45° zum Objektträger gehalten wird. Wenn der aktivierte Klebstofftropfen nicht mehr innerhalb von 1 s nach der Manipulation mit der Spitze des Zahnstochers wieder seine Ursprungsgeometrie einnimmt, wird die Stoppuhr gestoppt, und damit ist das Ende der Offenzeit des Klebstoffs erreicht.Using the toothpick, the expected increase in viscosity is assessed haptically in comparison to a non-activated reference sample of the same size and geometry. At intervals of approx. 5 s, the geometry of the activated adhesive drop is manipulated with the toothpick in a vertical movement by pulling the tip of the toothpick upwards from the center of the adhesive drop, with the toothpick held at an angle of approx. 45° to the slide. If the activated adhesive drop does not return to its original geometry within 1 s of manipulation with the tip of the toothpick, the stopwatch is stopped and the end of the adhesive's open time is reached.

Für den Fall, dass eine Masse flüssig bleibt oder sich eine Offenzeit ergibt, die weniger als 0,1 min beträgt und mit der beschriebenen Methode nicht mehr zuverlässig bestimmt werden kann, wird diese als nicht bestimmbar mit „n.b“. gekennzeichnet.In the event that a mass remains liquid or has an open time of less than 0.1 min and can no longer be reliably determined using the method described, it is marked as undetermined with “n.a.”.

Beurteilung der Lichtfixierungassessment of light fixation

Zur Beurteilung der Lichtfixierung (fest vs. flüssig) wird die Masse nach der Bestrahlung mit aktinischer Strahlung der zweiten Wellenlänge λ2 einer optischen Beurteilung unterzogen. Intensität, Dauer und Wellenlänge der Bestrahlung können den nachfolgenden Tabellen zu den Versuchsbeispielen entnommen werden. Optional erfolgt die haptische Prüfung unter Zuhilfenahme eines Kunststoffspatels.To assess the light fixation (solid vs. liquid), the mass is subjected to an optical assessment after irradiation with actinic radiation of the second wavelength λ 2. The intensity, duration and wavelength of the irradiation can be found in the following tables for the test examples. Optionally, the haptic test is carried out using a plastic spatula.

Massen, die nach der Bestrahlung eine Haut aufweisen und nicht mehr verfließen, werden in Bezug auf ihre Lichtifixerung mit „ja“ eingestuft. Massen, die nach der Bestrahlung keine Haut aufweisen oder weiter verfließen, werden in Bezug auf ihre Lichtfixierung mit „nein“ eingestuft.Masses that have a skin after irradiation and no longer flow are classified as “yes” in terms of their light fixation. Masses that have no skin after irradiation or that continue to flow are classified as “no” in terms of their light fixation.

Photo DSC-MessungenPhoto DSC measurements

DSC-Messungen der Reaktivität der strahlungsinduzierten Härtung erfolgen in einem dynamischen Differenzkalorimeter (DSC) vom Typ DSC3+ der Firma Mettler Toledo. Dazu werden 6 bis 10 mg der flüssigen Probe in einen offenen Aluminiumtiegel (40 µL) eingewogen und bei 30 °C für 5 min belichtet. Intensität und Wellenlänge können den nachfolgenden Tabellen zu den Versuchsbeispielen entnommen werden.DSC measurements of the reactivity of radiation-induced curing are carried out in a dynamic differential scanning calorimeter (DSC) of the type DSC3+ from Mettler Toledo. For this purpose, 6 to 10 mg of the liquid sample are weighed into an open aluminum crucible (40 µL) and exposed to light at 30 °C for 5 minutes. The intensity and wavelength can be found in the tables below for the test examples.

Ausgewertet wird die Peakzeit nach Subtraktion des durch die LED-Lampe verursachten Energieeintrags.The peak time is evaluated after subtracting the energy input caused by the LED lamp.

Herstellung der härtbaren MassenProduction of hardenable masses

Zur Herstellung der in den folgenden Beispielen verwendeten härtbaren Massen werden zunächst die flüssigen und löslichen Bestandteile gemischt und anschließend die Füllstoffe und wahlweise weitere Feststoffe mithilfe eines Laborrührwerks, Labordissolvers oder eines Speedmixers (Firma Hauschild) eingearbeitet, bis eine homogene Masse entsteht.To produce the curable masses used in the following examples, the liquid and soluble components are first mixed and then the fillers and optionally other solids are incorporated using a laboratory stirrer, laboratory dissolver or a speed mixer (Hauschild) until a homogeneous mass is formed.

Massen, die Photoinitiatoren enthalten und die sensitiv gegenüber sichtbarem Licht sind, müssen entsprechend unter Licht außerhalb der Anregungswellenlänge der jeweiligen Photoinitiatoren oder Sensibilisatoren hergestellt werden.Masses containing photoinitiators that are sensitive to visible light must be prepared under light outside the excitation wavelength of the respective photoinitiators or sensitizers.

In der nachfolgenden Liste sind alle zur Herstellung der härtbaren Massen verwendeten Verbindungen und deren Abkürzungen angegeben:The following list contains all the compounds used to produce the hardenable masses and their abbreviations:

Komponente (A): Erste härtbare KomponenteComponent (A): First curable component

  • (A1) Kationisch polymerisierbare Verbindungen:
    • (A1-1): Epikote™ Resin 169 (Mischung aus Bisphenol A und Bisphenol F Glycidylethern, erhältlich von der Firma Hexion)
    • (A1-2): 3,4-Epoxycyclohexylmethyl-3',4'-epoxycyclohexancarboxylat, erhältlich unter dem Handelsnamen Celloxide 2021 P von der Firma Daicel
    • (A1-3): Eternacoll UM 90 (1/1) (aliphatisches Polycarbonatdiol), erhältlich von der Firma UBE Industries Ltd.
    • (A1-4): Bis[1-Ethyl(3-oxetanyl)]methyl ether], erhätlich von der Firma DKSH
    (A1) Cationically polymerizable compounds:
    • (A1-1): Epikote™ Resin 169 (mixture of bisphenol A and bisphenol F glycidyl ethers, available from Hexion)
    • (A1-2): 3,4-Epoxycyclohexylmethyl-3',4'-epoxycyclohexanecarboxylate, available under the trade name Celloxide 2021 P from Daicel
    • (A1-3): Eternacoll UM 90 (1/1) (aliphatic polycarbonate diol), available from UBE Industries Ltd.
    • (A1-4): Bis[1-Ethyl(3-oxetanyl)]methyl ether], available from DKSH
  • (A2) Additionsvernetzbare Verbindungen:
    • (A2-1): Isocyanate
      • (A2-1-1): Desmodur Ultra N3600 Aliphatisches Polyisocyanat (HDI-Isocyanurat), erhältlich von der Firma Covestro
    • (A2-2) Thiole
      • (A2-2-1): Tris(3-mercaptopropyl)isocyanurat (trifunktionelles Thiol)
    (A2) Addition-crosslinkable compounds:
    • (A2-1): Isocyanates
      • (A2-1-1): Desmodur Ultra N3600 Aliphatic polyisocyanate (HDI isocyanurate), available from Covestro
    • (A2-2) Thiols
      • (A2-2-1): Tris(3-mercaptopropyl)isocyanurate (trifunctional thiol)
  • (A3) Durch Feuchtigkeit vernetzbare Verbindungen
    • (A3-1): Geniosil STP-E15; mindestens difunktionelle γ-Alkoxysilanverbindung, erhältlich von der Firma Wacker
    • (A3-2): Dynasylan VTMO; monofunktionelle γ-Alkoxysilanverbindung, erhältlich von der Firma Evonik
    (A3) Moisture-crosslinkable compounds
    • (A3-1): Geniosil STP-E15; at least difunctional γ-alkoxysilane compound, available from Wacker
    • (A3-2): Dynasylan VTMO; monofunctional γ-alkoxysilane compound, available from Evonik

Komponente (B): Zweite härtbare KomponenteComponent (B): Second curable component

  • (B-1): Sartomer SR833S (Tricyclodecandimethanoldiacrylat), erhältlich von der Firma Sartomer(B-1): Sartomer SR833S (tricyclodecanedimethanol diacrylate), available from Sartomer
  • (B-2): Photomer 4006 (Trimethylolpropantriacrylat), erhältlich von der Firma iGM Resins(B-2): Photomer 4006 (trimethylolpropane triacrylate), available from iGM Resins
  • (B-3): Epoxy Acrylat Solmer E 1605, erhältlich von der Firma Solmer Soltech Ltd.(B-3): Epoxy Acrylate Solmer E 1605, available from Solmer Soltech Ltd.
  • (B-4): Taicros® (Triallyl-isocyanurat), erhältlich von der Firma Evonik(B-4): Taicros ® (triallyl isocyanurate), available from Evonik
  • (B-5): Laromer PR9000 (Hybridverbindung Isocyanat und Acrylat), erhältlich von der Firma BASF SE(B-5): Laromer PR9000 (hybrid compound isocyanate and acrylate), available from BASF SE

Komponente (C): Initiator für die erste Wellenlänge λ1 Component (C): Initiator for the first wavelength λ 1

  • (C-1): R-Gen 262 (η5-2,4-cyclopentadien-1-yl)[(1,2,3,4,5,6-η)-(1-methylbenyl)benzene]-Eisen(I)-hexafluoroantimonat; 50 %-ig in Propylencarbonat, erhältlich von der Firma Chitec Technology(C-1): R-Gen 262 (η 5 -2,4-cyclopentadien-1-yl)[(1,2,3,4,5,6-η)-(1-methylbenzyl)benzene]-iron(I) hexafluoroantimonate; 50% in propylene carbonate, available from Chitec Technology
  • (C-2): CGI-277 (2-benzyl-1-(3,5-dimethoxyphenyl)-2-(dimethylamino)butan-1-one), erhältlich von der Firma BASF(C-2): CGI-277 (2-benzyl-1-(3,5-dimethoxyphenyl)-2-(dimethylamino)butan-1-one), available from BASF

Komponente (D): Initiator für die zweite Wellenlänge λ2 Component (D): Initiator for the second wavelength λ 2

  • (D-1): Omnirad BDK (2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-on), erhältlich von der Firma IGM Resins(D-1): Omnirad BDK (2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one), available from IGM Resins
  • (D-2): Omnirad 184 (1-hydroxycyclohexyl)phenyl-methanon), erhältlich von der Firma IGM Resins(D-2): Omnirad 184 (1-hydroxycyclohexyl)phenylmethanone), available from IGM Resins
  • (D-3) Omnirad 127 D (1,1'-(Methylene-di-4,1-phenylene)bis[2-hydroxy-2-methyl-1-propanone]), erhältlich von der Firma IGM Resins(D-3) Omnirad 127 D (1,1'-(Methylene-di-4,1-phenylene)bis[2-hydroxy-2-methyl-1-propanone]), available from IGM Resins

Komponente E: InhibitorenComponent E: Inhibitors

  • (E-1): Nofmer MSD (1,1'-(1,1-dimethyl-3-methylen-1,3-propanediyl)bisbenzol), erhältlich von der Firma NOF Corporation(E-1): Nofmer MSD (1,1'-(1,1-dimethyl-3-methylene-1,3-propanediyl)bisbenzene), available from NOF Corporation
  • (E-2):1,1-Diphenylethylen, erhältlich von der Firma TCI Deutschland(E-2):1,1-Diphenylethylene, available from TCI Germany
  • (E-3): tert.-Butylnitrit > 90%, erhältlich von der Firma Merck(E-3): tert-butyl nitrite > 90%, available from Merck
  • (E-4): 2,6-Di-tert-butyl-4-methylphenol >99%, erhältlich von der Firma Merck(E-4): 2,6-Di-tert-butyl-4-methylphenol >99%, available from Merck

Komponente F: ZusatzstoffeComponent F: Additives

  • (F-1): Trigonox K-90 (Cumolhydroperoxid 90%-ig, weitere Bestandteile: 2-phenylisopropanol, Cumol, Acetophenon), erhältlich von der Firma AkzoNobel(F-1): Trigonox K-90 (cumene hydroperoxide 90%, other ingredients: 2-phenylisopropanol, cumene, acetophenone), available from AkzoNobel
  • (F-2): Dodecylbenzensulfonsäure > 95%, erhältlich von der Firma TCI(F-2): Dodecylbenzenesulfonic acid > 95%, available from TCI
  • (F-3): Trioctyltrimellitat Oxsoft TOTM LE, erhältlich von der Firma Krahn(F-3): Trioctyl trimellitate Oxsoft TOTM LE, available from Krahn
  • (F-4) Bluesil Photoinitiator 2074 (4-(-1-Methylethyl)phenyl)-(4-methylphenyl)iodonium tetrakis(pentafluorophenylborat), erhältlich von der Firma Bluestar Silicones(F-4) Bluesil Photoinitiator 2074 (4-(-1-methylethyl)phenyl)-(4-methylphenyl)iodonium tetrakis(pentafluorophenylborate), available from Bluestar Silicones

Die Zusammensetzung der jeweiligen härtbaren Massen sind in den nachfolgenden Tabellen 1 bis 3 angegeben. Alle im Folgenden aufgeführten Gewichtsanteile beziehen sich jeweils auf das Gesamtgewicht der härtbaren Massen. Tabelle 1: Beispiele gemäß der ersten Ausführungsform. E1 E2 E3 E4 E5 E6 V1* V2* E7 V3* (A) 52,30 % A1-1 87,18 % A1-1 87,23 % A1-1 87,18 % A1-1 43,63 % A1-2 68,15 % A1-2 72,96 % A1-2 87,40 % A1-1 87,37 % A1-1 85,95% A1-1 43,57 % A1-3 8,50 % A1-4 9,05 % A1-4 (B) 44,88 % B-3 10,00 % B-1 10,00 % B-1 10,00 % B-2 10,00 % B-1 20,00 % B-1 15,00 % B-1 10,00 % B-1 10,00 % B-1 10,00 % B-1 (C) 0,30 % C-1 0,30 % C-1 0,30 % C-1 0,30 % C-1 0,48 % C-1 0,48 % C-1 0,48 % C-1 0,30 % C-1 0,30 % C-1 0,30 % C-1 (D) 2,00 % D-1 2,00 % D-1 2,00 % D-1 2,00 % D-1 2,00 % D-2 2,00 % D-3 2,00 % D-3 2,00 % D-1 2,00 % D-1 2,00 % D-1 (E) 0,22 % E-1 0,22 % E-1 0,17 % E-2 0,22 % E-1 0,22 % E-1 0,36 % E-1 0 0 0,03 % E-1 1,75 % E-1 (F) 0,30 % F-1 0,30 % F-1 0,30 % F-1 0,30 % F-1 0,10 % F-1 0,51 % F-4 0,51 % F-4 0,30 % F-1 0,30 % F-1 Stofffmengenverhältnis (E) : (C) 2,9 : 1 2,9 : 1 2,9 : 1 2,9 : 1 1,9 : 1 3,0 : 1 0 0 0,4 : 1 23,5 : 1 Stofffmengenverhältnis (E) : (D) 1 : 8,3 1 : 8,3 1 : 8,3 1 : 8,3 1 : 10,5 1 : 6,1 0 0 1 : 60 1 :1,1 Habitus nach Bestrahlung mit λ1 = 460 nm, 10 s: 200 mW/cm2 flüssig flüssig flüssig flüssig flüssig flüssig fest fest flüssig flüssig Beurteilung Lichtfixierung nach Bestrahlung mit λ2 = 365 nm, 10 s: 200 mW/cm2 fest fest fest fest fest fest fest fest fest flüssig Offenzeit [min] nach Bestrahlung mit λ1 = 460 nm, 10 s: 200 mW/cm2 1,5 8,0 10,0 7,5 3,5 22,0 n.b. n.b. 1,0 n.b. Habitus nach Bestrahlung mit λ1 = 460 nm, 10 s: 200 fest fest fest fest fest fest fest fest fest flüssig mW/cm2 und 24 h Wartezeit bei Raumtemperatur Peakzeit [s] Bestrahlung mit 460 nm, 5 min, 200 mW/cm2 bei 30 °C 3,4 4,2 4,6 3,5 4,7 n.b. 4,2 2,8 n.b. n.b. *: Vergleichsbeispiel Tabelle 2: Beispiele gemäß der zweiten Ausführungsform. E8 E9 E10 E11 E12 E13 V4* V5* V6* V7* (A) 42,64 % 42,70 % 42,50 % 41,53 % 42,70 % - 42,70 % 43,90 % 42,79 % 42,05 % A2-1-1 A2-1-1 A2-1-1 A2-1-1 A2-1-1 A2-1-1 A2-1-1 A2-1-1 A2-1-1 43,22 % 43,30 % 43,10 % 42,40 % 43,20 % 29,00 % 43,27 % 44,60 % 43,37 % 42,62 % A2-2-1 A2-2-1 A2-2-1 A2-2-1 A2-2-1 A2-2-1 A2-2-1 A2-2-1 A2-2-1 A2-2-1 (B) 10,66 % 10,70 % 10,60 % 12,60 % 10,65 % 3,38 % 10,67 % 11,00 % 10,70 % 10,51 % B-4 B-4 B-4 B-2 B-4 B-4 B-4 B-4 B-4 B-4 64,3 % B-5 (C) 0,12 % 0,12 % 0,12 % 0,12 % 0,12 % 0,08 % - 0,13 % 0,12 % 0,12 % C-2 C-2 C-2 C-2 C-2 C-2 C-2 C-2 C-2 (D) 3,00 % 3,00 % 2,99 % 3,00 % 3,00 % 3,00 % 3,00 % - 3,00 % 3,00 % D-3 D-3 D-3 D-3 D-3 D-3 D-3 D-3 D-3 (E) 0,34 % 0,16 % 0,67 % 0,33 % 0,33 % 0,23 % 0,34 % 0,35 % - 1,68 % E-1 E-3 E-1 E-1 E-1 E-1 E-1 E-1 E-1 (F) 0,02 % 0,02 % 0,02 % 0,02 % - 0,01 % 0,02 % 0,02 % 0,02 % 0,02 % F-2 F-2 F-2 F-2 F-2 F-2 F-2 F-2 F-2 Stofffmengenverhältnis (E) : (C) 4,0 : 1 4,0 : 1 8,0 : 1 4,0 : 1 4,0 : 1 4,0 : 1 - 4,0 : 1 - 20,0:1 Stofffmengenverhältnis (E) : (D) 1 : 6,1 1 : 6,1 1 : 3,1 1 : 6,3 1 : 6,1 1 : 9,1 1 : 1,6 - - 1 : 1,2 Habitus nach Bestrahlung mit λ1 = 400 nm, 5 s: 200 mW/cm2 flüssig flüssig flüssig flüssig flüssig flüssig flüssig flüssig fest flüssig Beurteilung Lichtfixierung nach Bestrahlung mit λ2 = 365 nm, 5 s: 1000 mW/cm2 fest fest fest fest fest fest fest flüssig fest flüssig Offenzeit [min] nach Bestrahlung mit λ1 = 400 nm, 5 s: 200 mW/cm2 1,5 3 2 2 1,5 3,5 n.b. 2 n.b. 2,5 Habitus nach Bestrahlung mit λ1 = 400 nm, 5 s: 200 mW/cm2 und 24 h fest fest fest fest fest fest flüssig fest fest fest Wartezeit bei Raumtemperatur Peakzeit [s] Bestahlung mit 365 nm, 5 min, 200 mW/cm2 bei 30 °C 5,9 n.b. n.b. 9,0 n.b. n.b. n.b. n.b. n.b. n.b. *: Vergleichsbeispiel Tabelle 3: Beispiele gemäß der dritten Ausführungsform. E14 V8* E901627 901629 (A) 45,00 % 45,00 % A3-1 A3-1 1,00 % 1,00 % A3-2 A3-2 (B) 15,40 % 15,40 % B-1 B-1 (C) 0,50 % 0,50 % C-1 C-1 (D) 2,00 % 2,00 % D-2 D-2 (E) 0,37 % 0 E-1 (F) 0,10 % 0,10 % F-1 F-1 35,63 % 36,00 % F-3 F-3 Stofffmengenverhältnis (E) : (C) 3,0 : 1 0 Stofffmengenverhältnis (E) : (D) 1 : 6,0 0 Habitus nach Bestrahlung mit λ1 = 460 nm, 10 s: 200 mW/cm2 flüssig fest Beurteilung Lichtfixierung nach Bestrahlung mit λ2 = 365 nm, 10 s: 200 mW/cm2 fest fest Offenzeit [min] nach Bestrahlung mit λ1 = 460 nm, 10 s: 200 mW/cm2 12 n.b. Habitus nach Bestrahlung mit λ1 = 460 nm, 10 s: 200 mW/cm2 und 24 h Wartezeit bei Raumtemperatur fest fest *: Vergleichsbeispiel The composition of the respective curable masses is given in the following tables 1 to 3. All weight proportions listed below refer to the total weight of the curable masses. Table 1: Examples according to the first embodiment. E1 E2 E3 E4 E5 E6 V1* V2* E7 V3* (A) 52.30% A1-1 87.18% A1-1 87.23% A1-1 87.18% A1-1 43.63% A1-2 68.15% A1-2 72.96% A1-2 87.40% A1-1 87.37% A1-1 85.95% A1-1 43.57% A1-3 8.50% A1-4 9.05% A1-4 (B) 44.88% B-3 10.00% B-1 10.00% B-1 10.00% B-2 10.00% B-1 20.00% B-1 15.00% B-1 10.00% B-1 10.00% B-1 10.00% B-1 (C) 0.30% C-1 0.30% C-1 0.30% C-1 0.30% C-1 0.48% C-1 0.48% C-1 0.48% C-1 0.30% C-1 0.30% C-1 0.30% C-1 (D) 2.00% D-1 2.00% D-1 2.00% D-1 2.00% D-1 2.00% D-2 2.00% D-3 2.00% D-3 2.00% D-1 2.00% D-1 2.00% D-1 (E) 0.22% E-1 0.22% E-1 0.17% E-2 0.22% E-1 0.22% E-1 0.36% E-1 0 0 0.03% E-1 1.75% E-1 (F) 0.30% F-1 0.30% F-1 0.30% F-1 0.30% F-1 0.10% F-1 0.51% F-4 0.51% F-4 0.30% F-1 0.30% F-1 molar ratio (E) : (C) 2.9:1 2.9:1 2.9:1 2.9:1 1.9:1 3.0:1 0 0 0.4:1 23.5:1 molar ratio (E) : (D) 1 : 8.3 1 : 8.3 1 : 8.3 1 : 8.3 1 : 10.5 1 : 6.1 0 0 1 : 60 1:1.1 Habitus after irradiation with λ 1 = 460 nm, 10 s: 200 mW/cm 2 fluid fluid fluid fluid fluid fluid firmly firmly fluid fluid Assessment of light fixation after irradiation with λ 2 = 365 nm, 10 s: 200 mW/cm 2 firmly firmly firmly firmly firmly firmly firmly firmly firmly fluid Open time [min] after irradiation with λ 1 = 460 nm, 10 s: 200 mW/cm 2 1.5 8.0 10.0 7.5 3.5 22.0 nb nb 1.0 nb Habitus after irradiation with λ 1 = 460 nm, 10 s: 200 firmly firmly firmly firmly firmly firmly firmly firmly firmly fluid mW/cm 2 and 24 h waiting time at room temperature Peak time [s] Irradiation with 460 nm, 5 min, 200 mW/cm 2 at 30 °C 3.4 4.2 4.6 3.5 4.7 nb 4.2 2.8 nb nb *: Comparison example Table 2: Examples according to the second embodiment. E8 E9 E10 E11 E12 E13 V4* V5* V6* V7* (A) 42.64% 42.70% 42.50% 41.53% 42.70% - 42.70% 43.90% 42.79% 42.05% A2-1-1 A2-1-1 A2-1-1 A2-1-1 A2-1-1 A2-1-1 A2-1-1 A2-1-1 A2-1-1 43.22% 43.30% 43.10% 42.40% 43.20% 29.00% 43.27% 44.60% 43.37% 42.62% A2-2-1 A2-2-1 A2-2-1 A2-2-1 A2-2-1 A2-2-1 A2-2-1 A2-2-1 A2-2-1 A2-2-1 (B) 10.66% 10.70% 10.60% 12.60% 10.65% 3.38% 10.67% 11.00% 10.70% 10.51% B-4 B-4 B-4 B-2 B-4 B-4 B-4 B-4 B-4 B-4 64.3% B-5 (C) 0.12% 0.12% 0.12% 0.12% 0.12% 0.08% - 0.13% 0.12% 0.12% C-2 C-2 C-2 C-2 C-2 C-2 C-2 C-2 C-2 (D) 3.00% 3.00% 2.99% 3.00% 3.00% 3.00% 3.00% - 3.00% 3.00% D-3 D-3 D-3 D-3 D-3 D-3 D-3 D-3 D-3 (E) 0.34% 0.16% 0.67% 0.33% 0.33% 0.23% 0.34% 0.35% - 1.68% E-1 E-3 E-1 E-1 E-1 E-1 E-1 E-1 E-1 (F) 0.02% 0.02% 0.02% 0.02% - 0.01% 0.02% 0.02% 0.02% 0.02% F-2 F-2 F-2 F-2 F-2 F-2 F-2 F-2 F-2 molar ratio (E) : (C) 4.0:1 4.0:1 8.0:1 4.0:1 4.0:1 4.0:1 - 4.0:1 - 20.0:1 molar ratio (E) : (D) 1 : 6.1 1 : 6.1 1 : 3.1 1 : 6.3 1 : 6.1 1 : 9.1 1 : 1.6 - - 1 : 1.2 Habitus after irradiation with λ 1 = 400 nm, 5 s: 200 mW/cm 2 fluid fluid fluid fluid fluid fluid fluid fluid firmly fluid Assessment of light fixation after irradiation with λ 2 = 365 nm, 5 s: 1000 mW/cm 2 firmly firmly firmly firmly firmly firmly firmly fluid firmly fluid Open time [min] after irradiation with λ 1 = 400 nm, 5 s: 200 mW/cm 2 1.5 3 2 2 1.5 3.5 nb 2 nb 2.5 Habitus after irradiation with λ 1 = 400 nm, 5 s: 200 mW/cm 2 and 24 h firmly firmly firmly firmly firmly firmly fluid firmly firmly firmly waiting time at room temperature Peak time [s] Irradiation with 365 nm, 5 min, 200 mW/cm 2 at 30 °C 5.9 nb nb 9.0 nb nb nb nb nb nb *: Comparison example Table 3: Examples according to the third embodiment. E14 V8* E901627 901629 (A) 45.00% 45.00% A3-1 A3-1 1.00% 1.00% A3-2 A3-2 (B) 15.40% 15.40% B-1 B-1 (C) 0.50% 0.50% C-1 C-1 (D) 2.00% 2.00% D-2 D-2 (E) 0.37% 0 E-1 (F) 0.10% 0.10% F-1 F-1 35.63% 36.00% F-3 F-3 molar ratio (E) : (C) 3.0:1 0 molar ratio (E) : (D) 1 : 6.0 0 Habitus after irradiation with λ 1 = 460 nm, 10 s: 200 mW/cm 2 fluid firmly Assessment of light fixation after irradiation with λ 2 = 365 nm, 10 s: 200 mW/cm 2 firmly firmly Open time [min] after irradiation with λ 1 = 460 nm, 10 s: 200 mW/cm 2 12 nb Habitus after irradiation with λ 1 = 460 nm, 10 s: 200 mW/cm 2 and 24 h waiting time at room temperature firmly firmly *: Comparison example

Die Beispiele E1 bis E7 in Tabelle 1 zeigen Massen der ersten Ausführungsform auf Basis mindestens einer kationisch polymerisierbaren Verbindung (A1) zur Verwendung im erfindungsgemäßen Verfahren. Die Massen enthalten als ersten Photoinitiator (C) für die erste härtbare Komponente (A) eine photolatente Säure (C-1).Examples E1 to E7 in Table 1 show compositions of the first embodiment based on at least one cationically polymerizable compound (A1) for use in the process according to the invention. The compositions contain a photolatent acid (C-1) as the first photoinitiator (C) for the first curable component (A).

Die aktivierten Massen der Beispiele E1 bis E6 bleiben nach Bestrahlung mit Licht der ersten Wellenlänge λ1 zunächst flüssig und weisen Offenzeiten im Bereich von 1,5 bis 22 Minuten auf. Sie sind damit für eine Voraktivierung geeignet. Insbesondere Massen mit einer längeren Offenzeit, wie Beispiel E6, können vorteilhaft in einer Durchflussaktivierungsapparatur prozesssicher eingesetzt werden. Kürzere Offenzeiten eigenen sich für Verklebeprozesse, bei denen Bauteile innerhalb kurzer Zeit gefügt werden. Selbst für den Fall, dass kein Fixieren durch Bestrahlen mit Licht der zweiten Wellenlänge λ2 gemäß Schritt d) des beschriebenen Verfahrens erfolgt, werden die Massen nach spätestens 24 h fest und härten aus. Umgekehrt bedeutet dies, dass die Massen der Beispiele E1 bis E7 dafür geeignet sind, nach der Aktivierung mit Licht der ersten Wellenlänge λ1 auch in Schattenzonen, die einer Bestrahlung mit Licht der zweiten Wellenlänge λ2 in Schritt d) nicht zugänglich sind, sicher auszuhärten.The activated masses of examples E1 to E6 initially remain liquid after irradiation with light of the first wavelength λ 1 and have open times in the range of 1.5 to 22 minutes. They are therefore suitable for pre-activation. In particular, masses with a longer open time, such as example E6, can be used reliably in a flow-through activation apparatus. Shorter open times are suitable for bonding processes in which components are joined within a short time. Even if no fixing by irradiation with light of the second wavelength λ 2 takes place according to step d) of the described process, the masses become solid and harden after 24 hours at the latest. Conversely, this means that the masses of examples E1 to E7 are suitable for reliably hardening after activation with light of the first wavelength λ 1 even in shadow zones that are not accessible to irradiation with light of the second wavelength λ 2 in step d).

Ferner lassen sich alle Beispiele E1 bis E7 durch Bestrahlung mit Licht der zweiten Wellenlänge λ2 fixieren. Während der Offenzeit beträgt die Viskosität der Massen bevorzugt höchstens 500 Pas.Furthermore, all examples E1 to E7 can be fixed by irradiation with light of the second wavelength λ 2. During the open time, the viscosity of the masses is preferably at most 500 Pas.

Unterschiedliche Offenzeiten lassen sich durch den Anteil des Inhibitors (E) bzw. das Stoffmengenverhältnis des Inhibitors (E) zu dem ersten Photoinitiator (C), der bei Bestrahlung mit der ersten Wellenlänge λ1 aktivierbar ist, einstellen. So führt beispielsweise ein geringerer Antel des Inhibitors (E) mit einem um den Faktor 7 reduzierten Stoffmengenverhältnis der Komponenten (E) zu (C) in Beispiel E7 zu einer Offenzeit von 1 Minute, im direkten Vergleich zu einer ansonsten analogen Formulierung gemäß Beispiel E2. Eine Fixierung der Masse gemäß Beispiel E7 nach Bestrahlung mit Licht der zweiten Wellenlänge λ2 bleibt jedoch weiterhin möglich, da in Bezug auf den Inhibitor (E) ein Überschuss des zweiten Photoinitiators (D) vorliegt, der bei Bestrahlung mit Licht der zweiten Wellenlänge λ2 aktivierbar ist.Different open times can be set by the proportion of inhibitor (E) or the molar ratio of inhibitor (E) to the first photoinitiator (C), which can be activated when irradiated with the first wavelength λ 1. For example, a smaller proportion of inhibitor (E) with a molar ratio of components (E) to (C) reduced by a factor of 7 in example E7 leads to an open time of 1 minute, in direct comparison to an otherwise analogous formulation according to example E2. However, fixing of the mass according to example E7 after irradiation with light of the second wavelength λ 2 remains possible, since there is an excess of the second photoinitiator (D) in relation to inhibitor (E), which can be activated when irradiated with light of the second wavelength λ 2 .

Vergleichsbeispiel V3 weist einen hohen Anteil des Inhibitors (E) von über 1,5 Gew.-% mit einem Stoffmengenverhältnis des Inhibitors (E) zu dem ersten Photoinitiator (C) von 23,5 : 1 auf. Die Masse lässt sich durch Bestrahlung mit Licht der ersten Wellenlänge λ1 unter den gewählten Bedingungen nicht aktivieren, sondern bleibt auch nach 24 h noch flüssig. Auch eine Lichtfixierung durch Bestrahlen der Masse mit Licht der Wellenlänge λ2 gelingt unter den Bedingungen des Vergleichsbeispiels V3 nicht.Comparative example V3 has a high proportion of the inhibitor (E) of over 1.5% by weight with a molar ratio of the inhibitor (E) to the first photoinitiator (C) of 23.5:1. The mass cannot be activated by irradiation with light of the first wavelength λ 1 under the selected conditions, but remains liquid even after 24 hours. Light fixation by irradiating the mass with light of the wavelength λ 2 is also not possible under the conditions of comparative example V3.

Beispiel E3 zeigt die Verwendung eines alternativen Inhibitors (E-2). Bei gleichem Stoffmengenverhältnis (E) zu (D) und (E) zu (C) im Vergleich zu Beispiel E2 kann eine ähnliche Offenzeit nach Aktivierung durch Bestrahlung mit der ersten Wellenlänge λ1 erreicht werden.Example E3 shows the use of an alternative inhibitor (E-2). With the same molar ratio (E) to (D) and (E) to (C) compared to example E2, a similar open time can be achieved after activation by irradiation with the first wavelength λ 1 .

Im Gegensatz zu den Beispielen E1 bis E4 auf Basis eines Glycidylethers zeigt das Beispiel E5 eine Formulierung unter Verwendung eines alternativen Harzsystems umfassend ein cycloaliphatischen Epoxid und ein Polyol. Die Masse ist ebenfalls im erfindungsgemäßen Verfahren vorteilhaft einsezbar.In contrast to examples E1 to E4 based on a glycidyl ether, example E5 shows a formulation using an alternative resin system comprising a cycloaliphatic epoxide and a polyol. The composition can also be used advantageously in the process according to the invention.

Das Vergleichsbeispiel V1 zeigt eine Formulierung in Anlehnung an den Stand der Technik gemäß der EP 3 894 458 B1 . Die Masse enthält keinen Inhibitor (E) und wird bereits nach Bestrahlung mit Licht der ersten Wellenlänge λ1 unmittelbar fest und ist somit mangels einer Offenzeit für einen Einsatz im erfindungsgemäßen Verfahren ungeeignet.Comparative example V1 shows a formulation based on the state of the art according to EP 3 894 458 B1 The mass does not contain any inhibitor (E) and solidifies immediately after irradiation with light of the first wavelength λ 1 and is therefore unsuitable for use in the process according to the invention due to the lack of an open time.

Dagegen lässt sich die Masse gemäß Beispiel E6, die mit der Masse von Vergleichsbeispiel V1 vergleichbar ist und zusätzlich einen Inhibitor (E-1) auf Basis eines Methylstyroldimers enthält, durch Bestrahlung mit Licht der ersten Wellenlänge λ1 aktivieren, ohne dass sich die Masse unmittelbar verfestigt. Die Masse weist nach der Aktivierung eine Offenzeit von 22 Minuten auf und kann durch Bestrahlung mit Licht der zweiten Wellenlänge λ2 fixiert werden.In contrast, the mass according to example E6, which is comparable to the mass of comparative example V1 and additionally contains an inhibitor (E-1) based on a methylstyrene dimer, can be activated by irradiation with light of the first wavelength λ 1 without the mass immediately solidifying. After activation, the mass has an open time of 22 minutes and can be fixed by irradiation with light of the second wavelength λ 2 .

Die Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens ist von dem eingesetzten Harzsystem unabhängig und kann allein durch den Zusatz des Inhibitors (E) ermöglicht werden. So zeigt auch die Masse gemäß Vergleichsbeispiel V2, welche eine kationisch polymerisierbare Verbindung auf Basis eines Glycidlyethers (A1-1) enthält, in Abwesenheit der Komponente (E) keine ausreichende Offenzeit im Sinne der Erfindung. Die vergleichbare Masse von Beispiel E3 ist dagegen aktivierbar, weist eine Offenzeit von etwa 10 min auf und kann in einem weiteren Schritt durch Bestrahlen mit Licht der zweiten Wellenlänge λ2 fixiert werden. Der Anteil des Inhibitors (E) in der härtbaren Masse wird dabei in Abhängigkeit der Menge des Photoinitiators (C) und der Bestrahlungsdosis so gewählt, dass eine Aushärtung der aktivierten Masse innerhalb von 24 h erfolgen kann.The process according to the invention can be carried out independently of the resin system used and can be made possible solely by the addition of the inhibitor (E). Thus, the composition according to comparative example V2, which contains a cationically polymerizable compound based on a glycidyl ether (A1-1), does not have a sufficient open time in the sense of the invention in the absence of component (E). The comparable composition of example E3, on the other hand, can be activated, has an open time of about 10 minutes and can be fixed in a further step by irradiation with light of the second wavelength λ 2. The proportion of the inhibitor (E) in the curable composition is determined as a function of the amount of the photoinitiator. (C) and the irradiation dose are selected so that curing of the activated mass can occur within 24 hours.

Die Beispiele E8 bis E13 in Tabelle 2 zeigen Massen der zweiten Ausführungsform auf Basis mindestens einer additionsvernetzbaren Verbindung (A2) zur Verwendung im erfindungsgemäßen Verfahren. Die Massen enthalten als ersten Photoinitiator (C) für die erste härtbare Komponente (A) eine photolatente Base (C-2).Examples E8 to E13 in Table 2 show compositions of the second embodiment based on at least one addition-crosslinkable compound (A2) for use in the process according to the invention. The compositions contain a photolatent base (C-2) as the first photoinitiator (C) for the first curable component (A).

Als zweite härtbare Komponente (B) kommen in den Massen der zweiten Ausführungsform beispielsweise Acrylate (B-2; Beispiel E11), Allylverbindungen (B-4; Beispiel E8) oder Hybridverbindungen umfassend eine Acrylat- und Isocyanatfunktionalität (B-5; Beispiel E13) zum Einsatz. Die Hybridverbindung (B-5) kann die Isocyanatverbindung der Komponente (A2) ganz oder teilweise ersetzen. Alle genannten Substanzklassen lassen sich durch Bestrahlung mit Licht der zweiten Wellenlänge λ2 fixieren.Acrylates (B-2; Example E11), allyl compounds (B-4; Example E8) or hybrid compounds comprising an acrylate and isocyanate functionality (B-5; Example E13) are used as the second curable component (B) in the compositions of the second embodiment. The hybrid compound (B-5) can replace the isocyanate compound of component (A2) in whole or in part. All of the substance classes mentioned can be fixed by irradiation with light of the second wavelength λ 2 .

Die Beispiele E8 bis E13 eignen sich für die Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens und härten nach Aktivierung durch Bestrahlung mit Licht der ersten Wellenlänge λ1 auch in Schattenzonen zuverlässig aus.Examples E8 to E13 are suitable for carrying out the process according to the invention and, after activation by irradiation with light of the first wavelength λ 1, cure reliably even in shadow zones.

Die Massen weisen Offenzeiten von 1,5 bis 3,5 Minuten auf und sind durch eine Bestrahlung mit Licht der zweiten Wellenlänge λ2 fixierbar.The masses have open times of 1.5 to 3.5 minutes and can be fixed by irradiation with light of the second wavelength λ 2 .

Vergleichsbeispiel V4 verzichtet auf den ersten Photoinitiator (C). Die Masse ist zwar durch Bestrahlung mit Licht der zweiten Wellenlänge λ2 fixierbar, aber nicht aktivierbar. Dies bedeutet, dass die Masse nach Bestrahlung mit Licht der ersten Wellenlänge λ1 auch nach 24 h noch flüssig bleibt und keine messbare Offenzeit besitzt. Sie eignet sich damit nicht für die Aushärtung in Schattenzonen.Comparative example V4 does not use the first photoinitiator (C). The mass can be fixed by irradiation with light of the second wavelength λ 2 , but cannot be activated. This means that the mass remains liquid even after 24 hours after irradiation with light of the first wavelength λ 1 and has no measurable open time. It is therefore not suitable for curing in shadow areas.

Wird dagegen wie in Vergleichsbeispiel V5 auf den zweiten Photoinitiator (D) verzichtet, so härten die Massen zwar nach Bestrahlung mit Licht der ersten Wellenlänge λ1 ohne weiteren Energieeintrag nach 24 h aus. Dafür ist aber keine Fixierung entsprechend Schritt d) des erfindungsgemäßen Verfahrens möglich. If, however, the second photoinitiator (D) is omitted, as in comparative example V5, the masses do indeed cure after 24 hours after irradiation with light of the first wavelength λ 1 without any further energy input. However, fixation in accordance with step d) of the process according to the invention is not possible.

Ein Verzicht auf den Inhibitor (E) führt, wie in Vergleichsbeispiel V6 gezeigt, zu Massen, die keine Offenzeit aufweisen und sich nach Bestrahlung mit Licht der ersten Wellenlänge λ1 unmittelbar verfestigen.Omitting the inhibitor (E) leads, as shown in Comparative Example V6, to masses which have no open time and solidify immediately after irradiation with light of the first wavelength λ 1 .

Die Masse von Vergleichsbeispiel V7 weist einen hohen Anteil des Inhibitors (E) von über 1,5 Gew.-% auf. Ein derartig hoher Anteil des Inhibitors (E), bezogen auf das Gesamtgewicht der Masse, kann jedoch zu Massen führen, die nicht mehr im Sinne der Erfindung aktivierbar sind, selbst wenn das Stoffmengenverhältnis des Inhibitors (E) zum ersten Photoinitiator (C) in einem ansonsten für die Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens geeigneten Bereich liegt.The composition of comparative example V7 has a high proportion of the inhibitor (E) of over 1.5% by weight. However, such a high proportion of the inhibitor (E), based on the total weight of the composition, can lead to compositions that can no longer be activated in accordance with the invention, even if the molar ratio of the inhibitor (E) to the first photoinitiator (C) is in a range that is otherwise suitable for carrying out the process according to the invention.

Das Beispiel E14 in Tabelle 3 zeigt eine Masse der dritten Ausführungsform auf Basis mindestens einer durch Feuchtigkeit vernetzbaren Verbindung (A3) umfassend eine γ-Alkoxysilanverbindung. Die Masse von Beispiel E14 weist einen Anteil des Inhibitors (E) von 0,37 Gew.-% mit einem Stoffmengenverhältnis des Inhibitors (E) zum ersten Photoinitiator (C) von 3 : 1 auf. Das Stoffmengenverhältnis des Inhibitors (E) zum zweiten Photoinitiator (D) beträgt 1 : 6. Die Masse lässt sich durch Bestrahlung mit Licht der ersten Wellenlänge λ1 aktivieren und durch Bestrahlung mit Licht der zweiten Wellenlänge λ2 fixieren. Die Offenzeit nach der ersten Bestrahlung beträgt 12 Minuten. Die Masse ist für Verwendung im erfindungsgemäßen Verfahren geeignet.Example E14 in Table 3 shows a composition of the third embodiment based on at least one moisture-crosslinkable compound (A3) comprising a γ-alkoxysilane compound. The composition of Example E14 has a proportion of inhibitor (E) of 0.37% by weight with a molar ratio of inhibitor (E) to first photoinitiator (C) of 3:1. The molar ratio of inhibitor (E) to second photoinitiator (D) is 1:6. The composition can be activated by irradiation with light of the first wavelength λ 1 and fixed by irradiation with light of the second wavelength λ 2. The open time after the first irradiation is 12 minutes. The composition is suitable for use in the process according to the invention.

Das Vergleichsbeispiel V8 verzichtet dagegen auf die Zugabe eines Inhbitors (E). Ohne die Zugabe der Komponente (E) kann keine schrittweise Durchführung des Verfahrens bzw. keine Steuerung des Festigkeitsaufbaus gewährleistet werden. Sowohl eine Bestrahlung mit Licht der ersten Wellenlänge λ1 als auch mit Licht der zweiten Wellenlänge λ2 führt jeweils unmittelbar zu einer Verfestigung der Masse. Die Masse des Vergleichsbeispiels V8 ist damit nicht im erfindungsgemäßen Verfahren einsetzbar.Comparative example V8, on the other hand, does not add an inhibitor (E). Without the addition of component (E), it is not possible to ensure that the process can be carried out step by step or that the build-up of strength can be controlled. Irradiation with light of the first wavelength λ 1 as well as with light of the second wavelength λ 2 leads directly to a solidification of the mass. The mass of comparative example V8 cannot therefore be used in the process according to the invention.

Die gehärteten Massen aller beschriebenen erfindungsgemäßen Ausführungsformen erreichen nach ihrer Endaushärtung eine Druckscherfestigkeit von mindestens 1 MPa auf Aluminium.The cured masses of all described embodiments of the invention achieve a compressive shear strength of at least 1 MPa on aluminum after their final curing.

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  • Kuraray Polyol P-6010 von Kuraray Co., Ltd., als Krasol LBH-2000, Krasol HLBH-P3000 von Cray Valley oder als Hoopol S-1015-35 [0080]Kuraray Polyol P-6010 from Kuraray Co., Ltd., as Krasol LBH-2000, Krasol HLBH-P3000 from Cray Valley or as Hoopol S-1015-35 [0080]
  • Hoopol S-1063-35 [0080]Hoopol S-1063-35 [0080]

Claims (11)

Verfahren zum Fügen, Vergießen oder Beschichten von Substraten unter Verwendung einer härtbaren Masse, wobei das Verfahren die folgenden Schritte umfasst: a) Bereitstellen der härtbaren Masse, wobei die härtbare Masse folgende Komponenten umfasst: (A) eine erste härtbare Komponente ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus kationisch polymerisierbaren Verbindungen, additionsvernetzbaren Verbindungen, durch Feuchtigkeit vernetzbaren Verbindungen und Kombinationen davon, (B) eine zweite härtbare Komponente bestehend aus mindestens einer radikalisch strahlungshärtbaren Verbindung, (C) einen ersten Photoinitiator für die erste härtbare Komponente (A), der bei Bestrahlung mit aktinischer Strahlung einer ersten Wellenlänge λ1 aktivierbar ist, wobei der erste Photoinitiator eine photolatente Säure oder eine photolatente Base ist, (D) einen zweiten Photoinitiator für die zweite härtbare Komponente (B), der bei Bestrahlung mit aktinischer Strahlung einer zweiten Wellenlänge λ2 aktivierbar ist, wobei die zweite Wellenlänge λ2 von der ersten Wellenlänge λ1 verschieden ist, und wobei der zweite Photoinitiator ein Radikalbildner ist, und (E) mindestens einen radikalfangenden Inhibitor zum Abfangen von bei Bestrahlung der härtbaren Masse mit aktinischer Strahlung der ersten Wellenlänge λ1 erzeugten Radikalen; b) Dosieren der härtbaren Masse auf ein erstes Substrat und Aktivieren der härtbaren Masse durch Bestrahlen mit aktinischer Strahlung der ersten Wellenlänge λ1; c) wahlweise Zuführen eines zweiten Substrats zur aktivierten härtbaren Masse auf dem ersten Substrat unter Bildung eines Substratverbunds; und d) Fixieren der aktivierten härtbaren Masse durch Bestrahlen mit aktinischer Strahlung der zweiten Wellenlänge λ2.Method for joining, casting or coating substrates using a curable mass, the method comprising the following steps: a) providing the curable mass, the curable mass comprising the following components: (A) a first curable component selected from the group consisting of cationically polymerizable compounds, addition-crosslinkable compounds, moisture-crosslinkable compounds and combinations thereof, (B) a second curable component consisting of at least one radically radiation-curable compound, (C) a first photoinitiator for the first curable component (A), which can be activated upon irradiation with actinic radiation of a first wavelength λ 1 , the first photoinitiator being a photolatent acid or a photolatent base, (D) a second photoinitiator for the second curable component (B), which can be activated upon irradiation with actinic radiation of a second wavelength λ 2 , the second wavelength λ 2 being different from the first wavelength λ 1 , and wherein the second photoinitiator is a radical former, and (E) at least one radical-scavenging inhibitor for scavenging radicals generated upon irradiation of the curable mass with actinic radiation of the first wavelength λ 1 ; b) dosing the curable mass onto a first substrate and activating the curable mass by irradiation with actinic radiation of the first wavelength λ 1 ; c) optionally supplying a second substrate to the activated curable mass on the first substrate to form a substrate composite; and d) fixing the activated curable mass by irradiation with actinic radiation of the second wavelength λ 2 . Verfahren nach Anspruch 1, wobei die zweite Wellenlänge λ2 kürzer ist als die erste Wellenlänge λ1.procedure according to claim 1 , where the second wavelength λ 2 is shorter than the first wavelength λ 1 . Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, wobei die Schritte b) bis d) innerhalb einer Verarbeitungszeit durchgeführt werden, die höchstens einer Offenzeit der härtbaren Masse nach Aktivieren der härtbaren Masse durch Bestrahlen mit aktinischer Strahlung der ersten Wellenlänge λ1 entspricht.procedure according to claim 1 or 2 , wherein steps b) to d) are carried out within a processing time which corresponds at most to an open time of the curable mass after activation of the curable mass by irradiation with actinic radiation of the first wavelength λ 1 . Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der Inhibitor (E) in einem Anteil von 0,01 bis 1,5 Gew.-% vorliegt, bezogen auf das Gesamtgewicht der Masse.Process according to one of the preceding claims, wherein the inhibitor (E) is present in a proportion of 0.01 to 1.5 wt.%, based on the total weight of the mass. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei ein Stoffmengenverhältnis von Inhibitor (E) zum ersten Photoinitiator (C) in der härtbaren Masse in einem Bereich von 0,4:1 bis 20:1 liegt.Method according to one of the preceding claims, wherein a molar ratio of inhibitor (E) to the first photoinitiator (C) in the curable mass is in a range from 0.4:1 to 20:1. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei ein Stoffmengenverhältnis von Inhibitor (E) zum zweiten Photoinitiator (D) in der härtbaren Masse kleiner als 1:2 ist.Method according to one of the preceding claims, wherein a molar ratio of inhibitor (E) to second photoinitiator (D) in the curable mass is less than 1:2. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei das Aktivieren der härtbaren Masse durch Bestrahlen mit aktinischer Strahlung der ersten Wellenlänge λ1 im Durchfluss erfolgt.Method according to one of the preceding claims, wherein the activation of the curable mass is carried out by irradiation with actinic radiation of the first wavelength λ 1 in the flow. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei das Verfahren ferner folgenden Schritt umfasst: e) Erwärmen der fixierten härtbaren Masse auf dem ersten Substrat oder in dem Substratverbund.Method according to one of the preceding claims, wherein the method further comprises the following step: e) heating the fixed curable mass on the first substrate or in the substrate composite. Härtbare Masse zum Fügen, Vergießen oder Beschichten von Substraten, wobei die härtbare Masse folgende Komponenten umfasst: (A) eine erste härtbare Komponente ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus kationisch polymerisierbaren Verbindungen, additionsvernetzbaren Verbindungen, durch Feuchtigkeit vernetzbaren Verbindungen und Kombinationen davon, (B) eine zweite härtbare Komponente bestehend aus mindestens einer radikalisch strahlungshärtbaren Verbindung, (C) einen ersten Photoinitiator für die erste härtbare Komponente (A), der bei Bestrahlung mit aktinischer Strahlung einer ersten Wellenlänge λ1 aktivierbar ist, wobei der erste Photoinitiator eine photolatente Säure oder eine photolatente Base ist, (D) einen zweiten Photoinitiator für die zweite härtbare Komponente (B), der bei Bestrahlung mit aktinischer Strahlung einer zweiten Wellenlänge λ2 aktivierbar ist, wobei die zweite Wellenlänge λ2 von der ersten Wellenlänge λ1 verschieden ist, und wobei der zweite Photoinitiator ein Radikalbildner ist, und (E) mindestens einen radikalfangenden Inhibitor zum Abfangen von bei Bestrahlung der härtbaren Masse mit aktinischer Strahlung der ersten Wellenlänge λ1 erzeugten Radikalen.Curable mass for joining, casting or coating substrates, wherein the curable mass comprises the following components: (A) a first curable component selected from the group consisting of cationically polymerizable compounds, addition-crosslinkable compounds, moisture-crosslinkable compounds and combinations thereof, (B) a second curable component consisting of at least one radically radiation-curable compound, (C) a first photoinitiator for the first curable component (A), which can be activated upon irradiation with actinic radiation of a first wavelength λ 1 , wherein the first photoinitiator is a photolatent acid or a photolatent base, (D) a second photoinitiator for the second curable component (B), which can be activated upon irradiation with actinic radiation of a second wavelength λ 2 , wherein the second wavelength λ 2 is different from the first wavelength λ 1 , and wherein the second photoinitiator is a radical former, and (E) at least one radical-scavenging inhibitor for scavenging radicals generated upon irradiation of the curable composition with actinic radiation of the first wavelength λ 1 . Härtbare Masse nach Anspruch 9, wobei die härtbare Masse aus den folgenden Komponenten besteht, jeweils bezogen auf das Gesamtgewicht der Masse: (A) 5 bis 90 Gew.-% der ersten härtbaren Komponente, (B) 5 bis 50 Gew.-% der zweiten härtbaren Komponente, (C) 0,01 bis 5 Gew.-% des ersten Photoinitiators, (D) 0,01 bis 5 Gew.-% des zweiten Photoinitiators, (E) 0,01 bis 1,5 Gew.-% des Inhibitors, und (F) 0 bis 80 Gew.-% an Zusatzstoffen.Hardenable mass according to claim 9 , wherein the curable mass consists of the following components, each based on the total weight of the mass: (A) 5 to 90 wt. % of the first curable component, (B) 5 to 50 wt. % of the second curable component, (C) 0.01 to 5 wt. % of the first photoinitiator, (D) 0.01 to 5 wt. % of the second photoinitiator, (E) 0.01 to 1.5 wt. % of the inhibitor, and (F) 0 to 80 wt. % of additives. Verwendung der härtbaren Masse nach Anspruch 9 oder 10 zum Fügen, Vergießen oder Beschichten von Substraten.Use of the hardenable mass after claim 9 or 10 for joining, casting or coating substrates.
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