DE112022005024T5 - Self-adhesive tape - Google Patents
Self-adhesive tape Download PDFInfo
- Publication number
- DE112022005024T5 DE112022005024T5 DE112022005024.1T DE112022005024T DE112022005024T5 DE 112022005024 T5 DE112022005024 T5 DE 112022005024T5 DE 112022005024 T DE112022005024 T DE 112022005024T DE 112022005024 T5 DE112022005024 T5 DE 112022005024T5
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- adhesive tape
- meth
- adhesive
- adhesive layer
- chip components
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 title claims abstract description 165
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims abstract description 154
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims abstract description 57
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims abstract description 46
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims abstract description 46
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 35
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 30
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 claims description 63
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 36
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 33
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 30
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 26
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 claims description 22
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 claims description 20
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims description 14
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 7
- 239000003522 acrylic cement Substances 0.000 claims description 4
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 4
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 39
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 24
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 22
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 22
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 21
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 18
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 17
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 12
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 12
- 239000012876 carrier material Substances 0.000 description 11
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 11
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 8
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 7
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 6
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 6
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- RBQRWNWVPQDTJJ-UHFFFAOYSA-N methacryloyloxyethyl isocyanate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCN=C=O RBQRWNWVPQDTJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 5
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 5
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 5
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 4
- PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N lauryl acrylate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C=C PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 3
- SCFQUKBBGYTJNC-UHFFFAOYSA-N heptyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCOC(=O)C=C SCFQUKBBGYTJNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 3
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 3
- STFXXRRQKFUYEU-UHFFFAOYSA-N 16-methylheptadecyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)CCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)C=C STFXXRRQKFUYEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCCOC(=O)C=C NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N dodecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 2
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 2
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 238000009864 tensile test Methods 0.000 description 2
- 150000003505 terpenes Chemical class 0.000 description 2
- 235000007586 terpenes Nutrition 0.000 description 2
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003643 water by type Substances 0.000 description 2
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 1
- BUHVIAUBTBOHAG-FOYDDCNASA-N (2r,3r,4s,5r)-2-[6-[[2-(3,5-dimethoxyphenyl)-2-(2-methylphenyl)ethyl]amino]purin-9-yl]-5-(hydroxymethyl)oxolane-3,4-diol Chemical compound COC1=CC(OC)=CC(C(CNC=2C=3N=CN(C=3N=CN=2)[C@H]2[C@@H]([C@H](O)[C@@H](CO)O2)O)C=2C(=CC=CC=2)C)=C1 BUHVIAUBTBOHAG-FOYDDCNASA-N 0.000 description 1
- KPAPHODVWOVUJL-UHFFFAOYSA-N 1-benzofuran;1h-indene Chemical compound C1=CC=C2CC=CC2=C1.C1=CC=C2OC=CC2=C1 KPAPHODVWOVUJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJRHMGPRPPEGQL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxybutyl prop-2-enoate Chemical compound CCC(O)COC(=O)C=C NJRHMGPRPPEGQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 description 1
- SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-butyl Chemical group [CH2]CCCO SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CUXGDKOCSSIRKK-UHFFFAOYSA-N 7-methyloctyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)CCCCCCOC(=O)C=C CUXGDKOCSSIRKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVGFPWDANALGOY-UHFFFAOYSA-N 8-methylnonyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)CCCCCCCOC(=O)C=C LVGFPWDANALGOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N Aziridine Chemical compound C1CN1 NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013032 Hydrocarbon resin Substances 0.000 description 1
- 229920000106 Liquid crystal polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004977 Liquid-crystal polymers (LCPs) Substances 0.000 description 1
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 229920010524 Syndiotactic polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000004699 Ultra-high molecular weight polyethylene Substances 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 229920005601 base polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 238000012662 bulk polymerization Methods 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005587 carbonate group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 238000013016 damping Methods 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 1
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910021485 fumed silica Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1-diol Chemical compound CCCCCC(O)O ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229920006270 hydrocarbon resin Polymers 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002560 nitrile group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229940065472 octyl acrylate Drugs 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N octyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C=C ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 1
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001955 polyphenylene ether Polymers 0.000 description 1
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 238000003918 potentiometric titration Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 238000007348 radical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 239000013464 silicone adhesive Substances 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 238000010557 suspension polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 1
- 229920000785 ultra high molecular weight polyethylene Polymers 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
- C09J7/30—Adhesives in the form of films or foils characterised by the adhesive composition
- C09J7/38—Pressure-sensitive adhesives [PSA]
- C09J7/381—Pressure-sensitive adhesives [PSA] based on macromolecular compounds obtained by reactions involving only carbon-to-carbon unsaturated bonds
- C09J7/385—Acrylic polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J133/00—Adhesives based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Adhesives based on derivatives of such polymers
- C09J133/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C09J133/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
- C09J133/062—Copolymers with monomers not covered by C09J133/06
- C09J133/066—Copolymers with monomers not covered by C09J133/06 containing -OH groups
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/6835—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/93—Batch processes
- H01L24/95—Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips
- H01L24/97—Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips the devices being connected to a common substrate, e.g. interposer, said common substrate being separable into individual assemblies after connecting
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J2203/00—Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils
- C09J2203/318—Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils for the production of liquid crystal displays
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J2203/00—Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils
- C09J2203/326—Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils for bonding electronic components such as wafers, chips or semiconductors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J2301/00—Additional features of adhesives in the form of films or foils
- C09J2301/30—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the chemical, physicochemical or physical properties of the adhesive or the carrier
- C09J2301/312—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the chemical, physicochemical or physical properties of the adhesive or the carrier parameters being the characterizing feature
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J2433/00—Presence of (meth)acrylic polymer
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2221/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof covered by H01L21/00
- H01L2221/67—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L2221/683—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L2221/68304—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
- H01L2221/68354—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support used to support diced chips prior to mounting
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2221/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof covered by H01L21/00
- H01L2221/67—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L2221/683—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L2221/68304—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
- H01L2221/68368—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support used in a transfer process involving at least two transfer steps, i.e. including an intermediate handle substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/93—Batch processes
- H01L2224/95—Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips
- H01L2224/95001—Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips involving a temporary auxiliary member not forming part of the bonding apparatus, e.g. removable or sacrificial coating, film or substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/12—Passive devices, e.g. 2 terminal devices
- H01L2924/1204—Optical Diode
- H01L2924/12041—LED
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Adhesive Tapes (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
Die vorliegende Erfindung zielt darauf ab, ein Klebeband bereitzustellen, das eine gute Haftung von Chipkomponenten beim Fassen der Chipkomponenten ermöglichen kann und das eine ausgezeichnete Trennbarkeit aufweisen kann, um Klebstoffablagerungen auf den Chipkomponenten bei der Rückübertragung der Chipkomponenten zu verringern. Bereitgestellt wird ein Klebeband, umfassend mindestens eine Substratschicht und mindestens eine Klebeschicht, wobei die Klebeschicht einen Scherspeichermodul G' von 1 MPa oder weniger bei einer Frequenz von 10 Hz und -20 °C aufweist und das Klebeband eine Oberflächenschälfestigkeit gegenüber SUS von 0,5 MPa oder weniger in einem Klebebereich von 10 mm × 10 mm aufweist. The present invention aims to provide an adhesive tape that can enable good adhesion of chip components when gripping the chip components and that can have excellent releasability to reduce adhesive deposits on the chip components when retransferring the chip components. Provided is an adhesive tape comprising at least one substrate layer and at least one adhesive layer, wherein the adhesive layer has a shear storage modulus G' of 1 MPa or less at a frequency of 10 Hz and -20 °C, and the adhesive tape has a surface peel strength to SUS of 0.5 MPa or less in an adhesive area of 10 mm × 10 mm.
Description
TECHNISCHES GEBIETTECHNICAL AREA
Die vorliegende Erfindung betrifft Klebebänder.The present invention relates to adhesive tapes.
STAND DER TECHNIKSTATE OF THE ART
Das Herstellungsverfahren von Halbleiterbauelementen kann das Übertragen einer großen Anzahl von Chipkomponenten, die auf einer Klebeschicht angeordnet sind, auf eine Ansteuerungsplatine beinhalten.The manufacturing process of semiconductor devices may involve transferring a large number of chip components arranged on an adhesive layer to a control board.
Mikro-LED-Anzeigen sind beispielsweise Anzeigevorrichtungen, bei denen die einzelnen Chips, welche die Pixel darstellen, Chips von winzigen Leuchtdioden (LEDs) sind, die von sich aus Licht aussenden, um Bilder anzuzeigen. Mikro-LED-Anzeigen ziehen die Aufmerksamkeit als nächste Generation von Anzeigevorrichtungen auf sich, da sie einen hohen Kontrast und eine schnelle Reaktionsgeschwindigkeit bieten und dünner sein können, da sie keine Farbfilter benötigen, die in Anzeigevorrichtungen wie Flüssigkristallanzeigen und organischen EL-Anzeigen verwendet werden. Bei Mikro-LED-Anzeigen wird eine große Anzahl von Mikro-LED-Chips dicht in einer Ebene angeordnet.For example, micro-LED displays are display devices in which the individual chips that constitute the pixels are tiny light-emitting diode (LED) chips that emit light on their own to display images. Micro-LED displays are attracting attention as the next generation of display devices because they offer high contrast and fast response speed, and can be thinner because they do not require color filters used in display devices such as liquid crystal displays and organic EL displays. In micro-LED displays, a large number of micro-LED chips are densely arranged in a plane.
In dem Verfahren zur Herstellung solcher Mikro-LED-Anzeigen oder anderer Halbleiterbauelemente wird beispielsweise ein Transferlaminat, in dem eine große Anzahl von Chipkomponenten auf einer Klebeschicht angeordnet ist, gegenüber einer Ansteuerungsplatine positioniert, und die Chipkomponenten werden von dem Transferlaminat getrennt, um mit der Ansteuerungsplatine elektrisch verbunden zu werden (Übertragungsschritt).In the process for manufacturing such micro-LED displays or other semiconductor devices, for example, a transfer laminate in which a large number of chip components are arranged on an adhesive layer is positioned opposite to a drive board, and the chip components are separated from the transfer laminate to be electrically connected to the drive board (transfer step).
Der Übertragungsschritt kann mehrfach durchgeführt werden. Mit anderen Worten können vor der endgültigen Übertragung auf die Ansteuerungsplatine die Chipkomponenten zum Transport oder zur Bearbeitung vorübergehend auf ein Trägermaterial übertragen und dann von dem Trägermaterial auf ein anderes Trägermaterial oder die Ansteuerungsplatine rückübertragen werden. Ein Beispiel für das Trägermaterial ist ein Transfersubstrat, das in der Patentliteratur 1 offenbart ist. Das Transfersubstrat umfasst mindestens ein Substrat und eine stoßdämpfende Schicht.The transfer step may be performed multiple times. In other words, before the final transfer to the drive board, the chip components may be temporarily transferred to a carrier material for transportation or processing and then re-transferred from the carrier material to another carrier material or the drive board. An example of the carrier material is a transfer substrate disclosed in Patent Literature 1. The transfer substrate includes at least a substrate and a shock absorbing layer.
ZITIERUNGSLISTECITATION LIST
- Patentliteratur- Patent literature
Patentliteratur 1:
KURZDARSTELLUNG DER ERFINDUNGSUMMARY OF THE INVENTION
- Technisches Problem- Technical problem
Da Trägermaterialien die Eigenschaft haben müssen, Chipkomponenten vorübergehend festzuhalten, wurde die Verwendung von Klebebändern mit Klebeschichten als Trägermaterialien in Betracht gezogen.Since carrier materials must have the property of temporarily holding chip components, the use of adhesive tapes with adhesive layers as carrier materials was considered.
Ein herkömmliches Klebeband, das als Trägermaterial verwendet wird, eignet sich jedoch möglicherweise nicht gut für die Übertragung von Chipkomponenten, da die Chipkomponenten möglicherweise nicht an dem Klebeband haften, wenn das Klebeband sie fasst. Außerdem kann das Klebeband nach dem Fassen der Chipkomponenten die Chipkomponenten möglicherweise nicht mehr trennen, wenn sie auf ein anderes Trägermaterial oder eine Ansteuerungsplatine rückübertragen werden. Selbst wenn das Klebeband die Chipkomponenten erfolgreich trennt, können Rückstände der Klebeschicht auf den Chipkomponenten zurückbleiben.However, a conventional adhesive tape used as a carrier material may not work well for transferring chip components because the chip components may not adhere to the adhesive tape when the adhesive tape grips them. In addition, once the adhesive tape grips the chip components, it may not be able to separate the chip components when they are re-transferred to another carrier material or driver board. Even if the adhesive tape successfully separates the chip components, residues of the adhesive layer may remain on the chip components.
Die vorliegende Erfindung zielt darauf ab, ein Klebeband bereitzustellen, das eine gute Haftung von Chipkomponenten beim Fassen der Chipkomponenten ermöglichen kann und das eine ausgezeichnete Trennbarkeit aufweisen kann, um Klebstoffablagerungen auf den Chipkomponenten bei der Rückübertragung der Chipkomponenten zu verringern.The present invention aims to provide an adhesive tape which can enable good adhesion of chip components when gripping the chip components and which can have excellent releasability to reduce adhesive deposits on the chip components when retransferring the chip components.
- Lösung des Problems- The solution of the problem
Die vorliegende Offenbarung 1 betrifft ein Klebeband, umfassend mindestens eine Substratschicht und mindestens eine Klebeschicht, wobei die Klebeschicht einen Scherspeichermodul G' von 1 MPa oder weniger bei einer Frequenz von 10 Hz und -20 °C aufweist und das Klebeband eine Oberflächenschälfestigkeit gegenüber SUS von 0,5 MPa oder weniger in einem Klebebereich von 10 mm × 10 mm aufweist.The present disclosure 1 relates to an adhesive tape comprising at least one substrate layer and at least one adhesive layer, wherein the adhesive layer has a shear storage modulus G' of 1 MPa or less at a frequency of 10 Hz and -20 °C, and the adhesive tape has a surface peel strength to SUS of 0.5 MPa or less in an adhesive area of 10 mm × 10 mm.
Die vorliegende Offenbarung 2 betrifft das Klebeband der vorliegenden Offenbarung 1, wobei die Klebeschicht einen Scherspeichermodul G' von 0,3 MPa oder weniger bei einer Frequenz von 10 Hz und -20 °C aufweist.The present disclosure 2 relates to the adhesive tape of the present disclosure 1, wherein the adhesive layer has a shear storage modulus G' of 0.3 MPa or less at a frequency of 10 Hz and -20 °C.
Die vorliegende Offenbarung 3 betrifft das Klebeband der vorliegenden Offenbarung 1 oder 2, wobei die Klebeschicht einen Scherspeichermodul G' von 0,04 MPa oder weniger bei einer Frequenz von 10 Hz und 23 °C aufweist.The
Die vorliegende Offenbarung 4 betrifft das Klebeband der vorliegenden Offenbarung 1, 2, oder 3, wobei die Klebeschicht eine Dicke von 40 µm oder mehr aufweist.The present disclosure 4 relates to the adhesive tape of the
Die vorliegende Offenbarung 5 betrifft das Klebeband der vorliegenden Offenbarung 1, 2, 3, oder 4, das eine Oberflächenschälfestigkeit gegenüber SUS von 0,01 MPa oder mehr in einem Klebebereich von 10 mm × 10 mm aufweist.The
Die vorliegende Offenbarung 6 betrifft das Klebeband der vorliegenden Offenbarung 1, 2, 3, 4 oder 5, das eine Oberflächenschälfestigkeit gegenüber SUS von 0,2 MPa oder weniger in einem Klebebereich von 10 mm × 10 mm aufweist.The present disclosure 6 relates to the adhesive tape of the
Die vorliegende Offenbarung 7 betrifft das Klebeband der vorliegenden Offenbarung 1, 2, 3, 4, 5 oder 6, wobei die Klebeschicht eine Acrylklebeschicht ist, die ein (Meth)acrylpolymer enthält.The present disclosure 7 relates to the adhesive tape of the
Die vorliegende Offenbarung 8 betrifft das Klebeband der vorliegenden Offenbarung 7, wobei das (Meth)acrylpolymer eine Hydroxylzahl von 45 mg KOH/g oder niedriger aufweist.The
Die vorliegende Offenbarung 9 betrifft das Klebeband der vorliegenden Offenbarung 7 oder 8, wobei das (Meth)acrylpolymer 80 Gew.-% oder mehr einer Struktureinheit enthält, die von einem (Meth)acrylsäureester (a) abgeleitet ist, der eine Glasübergangstemperatur (Tg) von 0 °C oder niedriger aufweist, wenn er zu einem Homopolymer gebildet ist.The
Die vorliegende Offenbarung 10 betrifft das Klebeband der vorliegenden Offenbarung 9, wobei das (Meth)acrylpolymer 40 Gew.-% oder mehr einer Struktureinheit enthält, die von einem (Meth)acrylsäureester (a-1) abgeleitet ist, der eine Alkylgruppe mit einer Kohlenstoffzahl von 12 oder mehr aufweist und der eine Glasübergangstemperatur (Tg) von 0 °C oder niedriger aufweist, wenn er zu einem Homopolymer gebildet ist.The
Die vorliegende Offenbarung 11 betrifft das Klebeband der vorliegenden Offenbarung 10, wobei der (Meth)acrylsäureester (a-1), der eine Alkylgruppe mit einer Kohlenstoffzahl von 12 oder mehr aufweist und der eine Glasübergangstemperatur (Tg) von 0 °C oder niedriger aufweist, wenn er zu einem Homopolymer gebildet ist, Lauryl(meth)acrylat enthält.The
Die vorliegende Offenbarung 12 betrifft das Klebeband der vorliegenden Offenbarung 9, wobei das (Meth)acrylpolymer 90 Gew.-% oder mehr der Struktureinheit enthält, die von einem (Meth) acrylsäureester (a) abgeleitet ist, der eine Glasübergangstemperatur (Tg) von 0 °C oder niedriger aufweist, wenn er zu einem Homopolymer gebildet ist.The
Die vorliegende Offenbarung 13 betrifft das Klebeband der vorliegenden Offenbarung 7, 8, 9, 10, 11 oder 12, wobei das (Meth)acrylpolymer eine Struktur enthält, die von einem eine Hydroxylgruppe enthaltenden Monomer abgeleitet ist.The present disclosure 13 relates to the adhesive tape of the
Die vorliegende Offenbarung 14 betrifft das Klebeband der vorliegenden Offenbarung 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12 oder 13, wobei die Klebeschicht eine photohärtbare Klebeschicht ist.The present disclosure 14 relates to the adhesive tape of the
Die vorliegende Offenbarung 15 betrifft das Klebeband der vorliegenden Offenbarung 7, 8, 9, 10, 11, 12 oder 13, wobei das (Meth)acrylpolymer eine Kohlenstoff-Kohlenstoff-Doppelbindung in einer Seitenkette enthält.The present disclosure 15 relates to the adhesive tape of the
Die vorliegende Offenbarung 16 betrifft das Klebeband der vorliegenden Offenbarung 15, wobei das (Meth)acrylpolymer ein Kohlenstoff-Kohlenstoff-Doppelbindungsäquivalent von 0,5 mÄq/g oder weniger aufweist.The present disclosure 16 relates to the adhesive tape of the present disclosure 15, wherein the (meth)acrylic polymer has a carbon-carbon double bond equivalent of 0.5 meq/g or less.
Die vorliegende Offenbarung 17 betrifft das Klebeband der vorliegenden Offenbarung 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15 oder 16, das in einem Schritt des Übertragens eines Bauelements verwendet wird, um das Bauelement zu fassen.The present disclosure 17 relates to the adhesive tape of the
Die vorliegende Offenbarung 18 betrifft das Klebeband der vorliegenden Offenbarung 17, wobei das Bauelement ein Halbleiterbauelement ist.The present disclosure 18 relates to the adhesive tape of the present disclosure 17, wherein the device is a semiconductor device.
Die vorliegende Erfindung wird nachfolgend im Detail beschrieben.The present invention will be described in detail below.
Die vorliegenden Erfinder haben herausgefunden, dass in einem Klebeband, das mindestens eine Substratschicht und mindestens eine Klebeschicht enthält, die Einstellung sowohl des Scherspeichermoduls G' der Klebeschicht bei niedriger Temperatur als auch der durch ein vorbestimmtes Verfahren gemessenen Oberflächenschälfestigkeit auf bestimmte Werte oder darunter zu einem Klebeband führt, das als Trägermaterial nützlich ist. Mit anderen Worten haben die vorliegenden Erfinder herausgefunden, dass ein solches Klebeband eine gute Haftung von Chipkomponenten beim Fassen der Chipkomponenten ermöglichen kann und eine ausgezeichnete Trennbarkeit aufweisen kann, um Klebstoffablagerungen auf den Chipkomponenten bei der Rückübertragung der Chipkomponenten zu verringern. Somit haben die Erfinder die vorliegende Erfindung vervollständigt.The present inventors have found that in an adhesive tape including at least one substrate layer and at least one adhesive layer, adjusting both the shear storage modulus G' of the adhesive layer at low temperature and the surface peel strength measured by a predetermined method to certain values or below results in an adhesive tape useful as a backing material. In other words, the present inventors have found that such an adhesive tape can enable good adhesion of chip components when gripping the chip components and can have excellent releasability to reduce adhesive deposits on the chip components when re-transferring the chip components. Thus, the inventors have completed the present invention.
In dem in
Ein Laminat 9 aus der Substratschicht 5 und der Klebeschicht 4 kann z. B. ein einseitiges Klebeband sein, bei dem die Substratschicht 5 eine Substratschicht wie z. B. ein Harzfilm ist und die Klebeschicht 4 aus einer Klebeschicht besteht, oder kann ein Laminat aus einem Träger und einem doppelseitigen Klebeband sein, bei dem die Substratschicht 5 ein Träger wie z. B. ein Glassubstrat ist und die Klebeschicht 4 ein doppelseitiges Klebeband ist (das ein Substrat beinhalten kann).For example, a
Das Klebeband der vorliegenden Erfindung umfasst mindestens eine Substratschicht und mindestens eine Klebeschicht.The adhesive tape of the present invention comprises at least one substrate layer and at least one adhesive layer.
Das Vorliegen des Substrats erlaubt es, dass das Klebeband der vorliegenden Erfindung eine angemessene Steifigkeit und eine ausgezeichnete Handhabbarkeit aufweist. Das Klebeband kann somit als Trägermaterial dienen, das Chipkomponenten fassen oder rückübertragen kann.The presence of the substrate allows the adhesive tape of the present invention to have adequate rigidity and excellent handleability. The adhesive tape can thus serve as a carrier material that can grip or retransfer chip components.
Für das Substrat gelten keine Einschränkungen. Beispiele für das Material des Substrats beinhalten Polyethylenterephthalat, Polyethylennaphthalat, Polyacetale, Polyamide, Polycarbonate, Polyphenylenether, Polybutylenterephthalat, Polyethylen mit ultrahohem Molekulargewicht, syndiotaktisches Polystyrol, Polyarylate, Polysulfone, Polyethersulfon, Polyphenylensulfid, Polyetheretherketon, Polyimide, Polyetherimid, Fluorharze und Flüssigkristallpolymere. Von diesen sind Polyethylenterephthalat und Polyethylennaphthalat bevorzugt, da sie eine ausgezeichnete Hitzebeständigkeit aufweisen.There are no restrictions on the substrate. Examples of the substrate material include polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyacetals, polyamides, polycarbonates, polyphenylene ethers, polybutylene terephthalate, ultra-high molecular weight polyethylene, syndiotactic polystyrene, polyarylates, polysulfones, polyethersulfone, polyphenylene sulfide, polyetheretherketone, polyimides, polyetherimide, fluororesins, and liquid crystal polymers. Of these, polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate are preferred because they have excellent heat resistance.
Für die Dicke der Substratschicht gelten keine Einschränkungen. Die untere Grenze dafür liegt vorzugsweise bei 4 µm, und die obere Grenze davon liegt bei 188 µm. Wenn die Dicke der Substratschicht innerhalb des Bereichs liegt, kann das Klebeband eine angemessene Steifigkeit und ausgezeichnete Handhabbarkeit aufweisen. Die untere Grenze der Dicke der Substratschicht beträgt bevorzugter 50 µm, und die obere Grenze davon beträgt bevorzugter 125 µm. Die untere Grenze beträgt noch bevorzugter 75 µm, und die obere Grenze beträgt noch bevorzugter 100 µm.There are no restrictions on the thickness of the substrate layer. The lower limit thereof is preferably 4 μm, and the upper limit thereof is 188 μm. When the thickness of the substrate layer is within the range, the adhesive tape can have adequate rigidity and excellent hand The lower limit of the thickness of the substrate layer is more preferably 50 µm, and the upper limit thereof is more preferably 125 µm. The lower limit is still more preferably 75 µm, and the upper limit is still more preferably 100 µm.
Die obere Grenze des Scherspeichermoduls G' der Klebeschicht bei einer Frequenz von 10 Hz und -20 °C beträgt 1 MPa.The upper limit of the shear storage modulus G' of the adhesive layer at a frequency of 10 Hz and -20 °C is 1 MPa.
Das Klebeband fasst die Chipkomponenten in der Regel mit hoher Geschwindigkeit. Der Scherspeichermodul G' bei Kraftanwendung mit solch hoher Geschwindigkeit steht in engem Zusammenhang mit dem Scherspeichermodul G' bei niedriger Temperatur, entsprechend dem Temperatur-Raten-Superpositionsprinzip. Die vorliegenden Erfinder untersuchten daher den Scherspeichermodul G' der Klebeschicht bei niedriger Temperatur. Mit einem Scherspeichermodul G' von 1 MPa oder weniger bei einer Frequenz von 10 Hz und -20 °C kann die Klebeschicht eine verbesserte Dämpfung beim Fassen von Chipkomponenten aufweisen, so dass das Klebeband eine gute Haftung von Chipkomponenten beim Fassen der Chipkomponenten ermöglichen kann. Die obere Grenze des Scherspeichermoduls G' bei einer Frequenz von 10 Hz und -20 °C beträgt vorzugsweise 0,8 MPa, bevorzugter 0,5 MPa und noch bevorzugter 0,3 MPa.The adhesive tape typically grips the chip components at a high speed. The shear storage modulus G' when force is applied at such a high speed is closely related to the shear storage modulus G' at a low temperature according to the temperature-rate superposition principle. The present inventors therefore investigated the shear storage modulus G' of the adhesive layer at a low temperature. With a shear storage modulus G' of 1 MPa or less at a frequency of 10 Hz and -20 °C, the adhesive layer can have improved damping when gripping chip components, so that the adhesive tape can enable good adhesion of chip components when gripping the chip components. The upper limit of the shear storage modulus G' at a frequency of 10 Hz and -20 °C is preferably 0.8 MPa, more preferably 0.5 MPa, and still more preferably 0.3 MPa.
Die untere Grenze des Scherspeichermoduls G' bei einer Frequenz von 10 Hz und - 20 °C ist nicht begrenzt. Um die Trennbarkeit bei der Rückübertragung von Chipkomponenten weiter zu verbessern, beträgt die untere Grenze vorzugsweise 0,05 MPa, bevorzugter 0,1 MPa.The lower limit of the shear storage modulus G' at a frequency of 10 Hz and - 20 °C is not limited. In order to further improve the separability in the retransfer of chip components, the lower limit is preferably 0.05 MPa, more preferably 0.1 MPa.
Der Scherspeichermodul G' der Klebeschicht bei normaler Temperatur ist nicht begrenzt. Die obere Grenze des Scherspeichermoduls G' bei einer Frequenz von 10 Hz und 23 °C beträgt vorzugsweise 0,1 MPa. Mit einem Scherspeichermodul G' von 0,1 MPa oder weniger bei einer Frequenz von 10 Hz und 23 °C kann das Klebeband eine verbesserte Haftung von Chipkomponenten beim Fassen der Chipkomponenten ermöglichen. Die obere Grenze des Scherspeichermoduls G' bei einer Frequenz von 10 Hz und 23 °C beträgt bevorzugter 0,04 MPa.The shear storage modulus G' of the adhesive layer at normal temperature is not limited. The upper limit of the shear storage modulus G' at a frequency of 10 Hz and 23 °C is preferably 0.1 MPa. With a shear storage modulus G' of 0.1 MPa or less at a frequency of 10 Hz and 23 °C, the adhesive tape can enable improved adhesion of chip components when gripping the chip components. The upper limit of the shear storage modulus G' at a frequency of 10 Hz and 23 °C is more preferably 0.04 MPa.
Die untere Grenze des Scherspeichermoduls G' bei einer Frequenz von 10 Hz und 23 °C ist nicht begrenzt. Um die Trennbarkeit bei der Rückübertragung von Chipkomponenten weiter zu verbessern, beträgt die untere Grenze vorzugsweise 0,01 MPa, bevorzugter 0,015 MPa.The lower limit of the shear storage modulus G' at a frequency of 10 Hz and 23 °C is not limited. In order to further improve the separability in the retransfer of chip components, the lower limit is preferably 0.01 MPa, more preferably 0.015 MPa.
Der Scherspeichermodul G' der Klebeschicht bei -20 °C und 23 °C bei einer Frequenz von 10 Hz kann zum Beispiel als der Speichermodul bei -20 °C und 23 °C bei Messung eines dynamischen Viskoelastizitätsspektrums von -40 °C bis 140 °C unter den Bedingungen von 10 Hz in einem einfachen Heizmodus mit einer Heizrate von 5 °C/min unter Verwendung eines viskoelastischen Spektrometers (DVA-200, erhältlich von IT Keisoku Seigyo Co., Ltd.) bestimmt werden. Wenn es sich bei der Klebeschicht um eine härtbare Klebeschicht handelt, so ist der Scherspeichermodul G' der Klebeschicht der Scherspeichermodul G', der für die Klebeschicht vor dem Aushärten gemessen wurde.For example, the shear storage modulus G' of the adhesive layer at -20 °C and 23 °C at a frequency of 10 Hz can be determined as the storage modulus at -20 °C and 23 °C when measuring a dynamic viscoelastic spectrum from -40 °C to 140 °C under the conditions of 10 Hz in a simple heating mode at a heating rate of 5 °C/min using a viscoelastic spectrometer (DVA-200, available from IT Keisoku Seigyo Co., Ltd.). When the adhesive layer is a curable adhesive layer, the shear storage modulus G' of the adhesive layer is the shear storage modulus G' measured for the adhesive layer before curing.
Wenn die Klebeschicht eine Dicke von weniger als 100 µm aufweist, werden die Klebeschichten gestapelt, um eine Klebeschicht für die Messung mit einer Dicke von 100 µm oder mehr zu bilden. Der Scherspeichermodul G' der erhaltenen Klebeschicht für die Messung wird wie oben beschrieben gemessen.When the adhesive layer has a thickness of less than 100 µm, the adhesive layers are stacked to form an adhesive layer for measurement having a thickness of 100 µm or more. The shear storage modulus G' of the obtained adhesive layer for measurement is measured as described above.
Die obere Grenze der Oberflächenschälfestigkeit des Klebebands gegenüber SUS in einem Klebebereich von 10 mm × 10 mm beträgt 0,5 MPa.The upper limit of the surface peel strength of the adhesive tape against SUS in an adhesive area of 10 mm × 10 mm is 0.5 MPa.
Mit einer Oberflächenschälfestigkeit von 0,5 MPa oder weniger hat das Klebeband keine übermäßig hohe Klebekraft, so dass das Klebeband eine ausgezeichnete Trennbarkeit aufweisen kann, um Klebstoffablagerungen auf Chipkomponenten bei der Rückübertragung von Chipkomponenten zu verringern. Die obere Grenze der Oberflächenschälfestigkeit liegt vorzugsweise bei 0,4 MPa, bevorzugter bei 0,2 MPa.With a surface peel strength of 0.5 MPa or less, the adhesive tape does not have an excessively high adhesive force, so that the adhesive tape can have excellent releasability to reduce adhesive deposits on chip components in the retransfer of chip components. The upper limit of the surface peel strength is preferably 0.4 MPa, more preferably 0.2 MPa.
Die untere Grenze der Oberflächenschälfestigkeit ist nicht begrenzt. Um die Eigenschaft des Haltens von Chipkomponenten weiter zu verbessern, beträgt die untere Grenze vorzugsweise 0,005 MPa, bevorzugter 0,01 MPa.The lower limit of the surface peel strength is not limited. In order to further improve the property of holding chip components, the lower limit is preferably 0.005 MPa, more preferably 0.01 MPa.
Zuerst wird ein Klebeband 8 auf 10 mm × 10 mm zugeschnitten. Die Klebeschicht des zugeschnittenen Klebebands 8 wird auf einem SUS-Gestell 12 (SUS304) befestigt und unter Druck bei 0,3 MPa 10 Sekunden lang verklebt. Eine Oberfläche eines doppelseitigen Klebebandes 11 zur Messung (erhältlich von Sekisui Chemical Co., Ltd., Produktname #560, oder ein gleichwertiges Produkt) wird auf der Rückseite des Klebebandes 8 an dem SUS-Gestell 12 befestigt. Die andere Oberfläche des doppelseitigen Klebebandes 11 zur Messung wird auf einer 5 mm dicken Glasplatte 10 befestigt. Wenn die Klebeschicht des Klebebandes 8 eine härtbare Klebeschicht ist, wird die Klebeschicht anschließend ausgehärtet, beispielsweise durch Bestrahlung mit UV-Licht von der Seite der Glasplatte 10 her mit einer UV-Lampe mit einer Wellenlänge von 365 nm bei einer Intensität von 10 mW/cm2 und einer Dosis von 2.500 mJ/cm2. Mit anderen Worten: Wenn die Klebeschicht eine härtbare Klebeschicht ist, bedeutet die Oberflächenschälfestigkeit des Klebebandes die für das Klebeband gemessene Oberflächenschälfestigkeit, nachdem die Klebeschicht ausgehärtet ist. Anschließend wird die Glasplatte 10 an einem Zugprüfgerät (erhältlich von der Shimadzu Corporation, AGS-X oder ein gleichwertiges Produkt) befestigt. Ein Zugversuch wird durchgeführt, bei dem das SUS-Gestell 12 in vertikaler Richtung (durch den Pfeil in der Abbildung angedeutete Richtung) mit einer Schälgeschwindigkeit von 200 mm/min in einer Umgebung mit einer Raumtemperatur von 23 °C und einer relativen Luftfeuchtigkeit von 50 % unter Verwendung des Zugprüfgeräts (erhältlich von der Shimadzu Corporation, AGS-X oder ein gleichwertiges Produkt) gezogen wird. Die Oberflächenschälfestigkeit wird so gemessen. Dabei bedeutet die Oberflächenschälfestigkeit die maximale Schälfestigkeit.First, an
Wenn das Klebeband ein doppelseitiges Klebeband ist, wird die Klebeschicht auf der Seite, die der Seite für die Messung der Oberflächenschälfestigkeit gegenüberliegt, an der Glasplatte angebracht und befestigt. Abgesehen davon wird die Oberflächenschälfestigkeit auf die gleiche Weise mit einem Zugprüfgerät gemessen. Zu diesem Zeitpunkt kann die Klebeschicht des Klebebandes auf der Seite, die der Seite für die Messung der Oberflächenschälfestigkeit gegenüberliegt, direkt an der Glasplatte angebracht und befestigt werden oder kann über das doppelseitige Klebeband 11 zur Messung befestigt werden.When the adhesive tape is a double-sided adhesive tape, the adhesive layer on the side opposite to the side for measuring the surface peel strength is attached and fixed to the glass plate. Apart from that, the surface peel strength is measured in the same way by a tensile tester. At this time, the adhesive layer of the adhesive tape on the side opposite to the side for measuring the surface peel strength can be directly attached and fixed to the glass plate, or can be attached via the double-sided
Für die Dicke der Klebeschicht gelten keine Einschränkungen. Die untere Grenze davon beträgt vorzugsweise 30 µm, und die obere Grenze davon beträgt vorzugsweise 200 µm. Wenn die Dicke innerhalb des Bereichs liegt, kann die Klebeschicht eine bessere Dämpfung aufweisen, wenn das Band die Chipkomponenten fasst, so dass das Klebeband eine bessere Haftung der Chipkomponenten beim Fassen der Chipkomponenten ermöglichen kann. Die untere Grenze der Dicke beträgt bevorzugter 40 µm, und die obere Grenze davon beträgt bevorzugter 150 µm. Die untere Grenze beträgt noch bevorzugter 70 µm, und die obere Grenze beträgt noch bevorzugter 100 µm.There are no restrictions on the thickness of the adhesive layer. The lower limit thereof is preferably 30 µm, and the upper limit thereof is preferably 200 µm. When the thickness is within the range, the adhesive layer can have better cushioning when the tape grips the chip components, so that the adhesive tape can enable better adhesion of the chip components when gripping the chip components. The lower limit of the thickness is more preferably 40 µm, and the upper limit thereof is more preferably 150 µm. The lower limit is still more preferably 70 µm, and the upper limit is still more preferably 100 µm.
Das Verfahren zum Einstellen des Scherspeichermoduls G' der Klebeschicht und der Oberflächenschälfestigkeit des Klebebands auf die vorstehenden Bereiche ist nicht begrenzt. Sie können beispielsweise durch Einstellung von Faktoren wie Zusammensetzung, Molekulargewicht (gewichtsmittleres Molekulargewicht (Mw)), Hydroxylzahl und Doppelbindungsäquivalent des Basispolymers in der Klebeschicht oder durch Einstellung des Vernetzungsgrads (Gelfraktion) der Klebeschicht eingestellt werden.The method for adjusting the shear storage modulus G' of the adhesive layer and the surface peel strength of the adhesive tape to the above ranges is not limited. For example, they can be adjusted by adjusting factors such as composition, molecular weight (weight average molecular weight (Mw)), hydroxyl value and double bond equivalent of the base polymer in the adhesive layer or by adjusting the degree of crosslinking (gel fraction) of the adhesive layer.
Die Klebeschicht ist nicht begrenzt. Beispiele dafür beinhalten eine Acrylklebeschicht, eine Kautschukklebeschicht, eine Urethanklebeschicht und eine Silikonklebeschicht. Von diesen ist eine Acrylklebeschicht, die ein (Meth)acrylpolymer enthält, bevorzugt, da (Meth)acrylpolymere in ihren Eigenschaften, wie Molekulargewicht und Vernetzungsgrad, einfach eingestellt werden können und eine hervorragende Wärme- und Witterungsbeständigkeit aufweisen sowie kostengünstig und dergleichen sind.The adhesive layer is not limited. Examples thereof include an acrylic adhesive layer, a rubber adhesive layer, a urethane adhesive layer, and a silicone adhesive layer. Of these, an acrylic adhesive layer containing a (meth)acrylic polymer is preferable because (meth)acrylic polymers can be easily adjusted in properties such as molecular weight and crosslinking degree, have excellent heat resistance and weather resistance, are inexpensive, and the like.
Das (Meth)acrylpolymer ist ein Polymer mit einer Struktureinheit, die von einem (Meth)acrylmonomer abgeleitet ist.The (meth)acrylic polymer is a polymer having a structural unit derived from a (meth)acrylic monomer.
Das (Meth)acrylmonomer ist nicht beschränkt. Beispiele dafür beinhalten Methyl(meth)acrylat, Ethyl(meth)acrylat, Propyl(meth)acrylat, Butyl(meth)acrylat, Isobutyl(meth)acrylat, Pentyl(meth)acrylat, Hexyl(meth)acrylat, Heptyl(meth)acrylat, Octyl(meth)acrylat, Isooctyl(meth)acrylat, 2-Ethylhexyl(meth)acrylat, Nonyl(meth)acrylat, Isononyl(meth)acrylat, Decyl(meth)acrylat, Lauryl(meth)acrylat, Isomyristyl(meth)acrylat, Stearyl(meth)acrylat, Isostearyl(meth)acrylat, Cyclohexyl(meth)acrylat und Isobornyl(meth)acrylat. Diese (Meth)acrylmonomere können allein oder in Kombination von zwei oder mehr davon verwendet werden.The (meth)acrylic monomer is not limited. Examples thereof include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, propyl (meth)acrylate, butyl (meth)acrylate, isobutyl (meth)acrylate, pentyl (meth)acrylate, hexyl (meth)acrylate, heptyl (meth)acrylate, octyl (meth)acrylate, isooctyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, nonyl (meth)acrylate, isononyl (meth)acrylate, decyl (meth)acrylate, lauryl (meth)acrylate, isomyristyl (meth)acrylate, stearyl (meth)acrylate, isostearyl (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate and isobornyl (meth)acrylate. These (meth)acrylic monomers may be used alone or in combination of two or more of them.
Von diesen wird ein (Meth)acrylsäureester (a) bevorzugt, der eine Glasübergangstemperatur (Tg) von 0 °C oder weniger aufweist, wenn er zu einem Homopolymer gebildet ist (im Folgenden auch einfach als „(Meth)acrylsäureester (a)“ bezeichnet). Mit anderen Worten enthält das (Meth)acrylpolymer vorzugsweise eine Struktureinheit, die sich von dem (Meth)acrylsäureester (a) ableitet.Of these, preferred is a (meth)acrylic acid ester (a) which has a glass transition temperature (Tg) of 0°C or less when formed into a homopolymer (hereinafter also referred to simply as "(meth)acrylic acid ester (a)"). In other words, the (meth)acrylic polymer preferably contains a structural unit derived from the (meth)acrylic acid ester (a).
Mit dem (Meth)acrylpolymer, das eine solche relativ flexible Struktureinheit beinhaltet, können der Scherspeichermodul G' der Klebeschicht und die Oberflächenschälfestigkeit des Klebebandes einfach auf die oben genannten Bereiche eingestellt werden, so dass das Klebeband eine höhere Trennbarkeit bei der Rückübertragung von Chipkomponenten aufweisen und eine bessere Haftung der Chipkomponenten beim Fassen der Chipkomponenten ermöglichen kann. Insbesondere wenn das (Meth)acrylpolymer eine solche relativ flexible Struktureinheit enthält und auch die Klebeschicht einen auf einen geeigneten Bereich eingestellten Vernetzungsgrad (Gelfraktion) aufweist, können der Scherspeichermodul G' der Klebeschicht und die Oberflächenschälfestigkeit des Klebebandes einfach auf bevorzugtere Bereiche eingestellt werden.With the (meth)acrylic polymer including such a relatively flexible structural unit, the shear storage modulus G' of the adhesive layer and the surface peel strength of the adhesive tape can be easily adjusted to the above-mentioned ranges, so that the adhesive tape can have higher releasability in retransferring chip components and enable better adhesion of the chip components in gripping the chip components. In particular, when the (meth)acrylic polymer includes such a relatively flexible structural unit and also the adhesive layer has a crosslinking degree (gel fraction) adjusted to an appropriate range, the shear storage modulus G' of the adhesive layer and the surface peel strength of the adhesive tape can be easily adjusted to more preferable ranges.
Die Glasübergangstemperatur (Tg) des (Meth)acrylsäureesters (a) ist nicht begrenzt, solange sie 0 °C oder weniger beträgt. Damit das Klebeband bei der Rückübertragung von Chipkomponenten eine noch bessere Trennbarkeit aufweist und beim Fassen der Chipkomponenten eine noch bessere Haftung der Chipkomponenten ermöglicht, liegt die untere Grenze davon vorzugsweise bei - 80 °C, die obere Grenze davon liegt vorzugsweise bei -5 °C. Die untere Grenze der Glasübergangstemperatur (Tg) beträgt bevorzugter -70 °C, und die obere Grenze davon beträgt bevorzugter -10 °C.The glass transition temperature (Tg) of the (meth)acrylic acid ester (a) is not limited as long as it is 0 °C or less. In order to make the adhesive tape have even better releasability when retransferring chip components and enable even better adhesion of the chip components when gripping the chip components, the lower limit thereof is preferably -80 °C, the upper limit thereof is preferably -5 °C. The lower limit of the glass transition temperature (Tg) is more preferably -70 °C, and the upper limit thereof is more preferably -10 °C.
Die Glasübergangstemperatur (Tg) kann, wenn der (Meth)acrylsäureester zu einem Homopolymer gebildet ist, für ein Homopolymer mit einem gewichtsmittleren Molekulargewicht (Mw) von etwa 5.000 bis 1.000.000 oder einem Polymerisationsgrad von etwa 50 bis 10.000 zum Beispiel unter Verwendung eines Differential-Scanning-Kalorimeters (erhältlich von TA Instruments) gemessen werden.The glass transition temperature (Tg), when the (meth)acrylic acid ester is formed into a homopolymer, can be measured for a homopolymer having a weight average molecular weight (Mw) of about 5,000 to 1,000,000 or a degree of polymerization of about 50 to 10,000, for example, using a differential scanning calorimeter (available from TA Instruments).
Vorzugsweise beinhaltet der (Meth)acrylsäureester (a) einen (Meth)acrylsäureester (a-1), der eine Alkylgruppe mit einer Kohlenstoffzahl von 12 oder mehr aufweist und der eine Glasübergangstemperatur (Tg) von 0 °C oder weniger aufweist, wenn er zu einem Homopolymer gebildet ist (im Folgenden auch einfach als „(Meth)acrylsäureester (a-1)“ bezeichnet). Ebenfalls vorzugsweise beinhaltet der (Meth)acrylsäureester (a) einen (Meth)acrylsäureester (a-2), der eine Alkylgruppe mit einer Kohlenstoffzahl von 7 oder mehr und weniger als 12 aufweist und der eine Glasübergangstemperatur (Tg) von 0 °C oder weniger aufweist, wenn er zu einem Homopolymer gebildet ist (im Folgenden auch einfach als „(Meth)acrylsäureester (a-2)“ bezeichnet).Preferably, the (meth)acrylic acid ester (a) includes a (meth)acrylic acid ester (a-1) which has an alkyl group having a carbon number of 12 or more and which has a glass transition temperature (Tg) of 0°C or less when formed into a homopolymer (hereinafter also referred to simply as “(meth)acrylic acid ester (a-1)”). Also preferably, the (meth)acrylic acid ester (a) includes a (meth)acrylic acid ester (a-2) which has an alkyl group having a carbon number of 7 or more and less than 12 and which has a glass transition temperature (Tg) of 0°C or less when formed into a homopolymer (hereinafter also referred to simply as “(meth)acrylic acid ester (a-2)”).
Wenn das (Meth)acrylpolymer eine Struktureinheit enthält, die eine solche Alkylgruppe mit einer relativ langen Kohlenstoffkette aufweist, können der Scherspeichermodul G' der Klebeschicht und die Oberflächenschälfestigkeit des Klebebandes einfach auf bevorzugtere Bereiche eingestellt werden.When the (meth)acrylic polymer contains a structural unit having such an alkyl group with a relatively long carbon chain, the shear storage modulus G' of the adhesive layer and the surface peel strength of the adhesive tape can be easily adjusted to more preferable ranges.
Insbesondere beinhaltet der (Meth)acrylsäureester (a) bevorzugter sowohl den (Meth)acrylsäureester (a-1) als auch den (Meth)acrylsäureester (a-2), da dann der Scherspeichermodul G' der Klebeschicht und die Oberflächenschälfestigkeit des Klebebandes einfach auf noch bevorzugtere Bereiche eingestellt werden können.In particular, the (meth)acrylic acid ester (a) more preferably includes both the (meth)acrylic acid ester (a-1) and the (meth)acrylic acid ester (a-2), because then the shear storage modulus G' of the adhesive layer and the surface peel strength of the adhesive tape can be easily adjusted to even more preferable ranges.
Für den (Meth)acrylsäureester (a-1) gelten keine Einschränkungen. Beispiele dafür unter den vorstehend genannten (Meth)acrylmonomeren beinhalten Laurylacrylat (das eine Tg von -23 °C aufweist, wenn es zu einem Homopolymer gebildet ist) und Laurylmethacrylat (das eine Tg von -65 °C aufweist, wenn es zu einem Homopolymer gebildet ist). Beispiele beinhalten ferner Isomyristylacrylat (das eine Tg von -56 °C aufweist, wenn es zu einem Homopolymer gebildet ist) und Isostearylacrylat (das eine Tg von -18 °C aufweist, wenn es zu einem Homopolymer gebildet ist). Insbesondere ist der (Meth)acrylsäureester (a-1) vorzugsweise mindestens einer, der aus der Gruppe ausgewählt ist, die aus Laurylacrylat, Laurylmethacrylat und Isostearylacrylat besteht, da dann der Scherspeichermodul G' der Klebeschicht und die Oberflächenschälfestigkeit des Klebebandes einfach auf bevorzugtere Bereiche eingestellt werden können. Lauryl(meth)acrylat ist bevorzugter, und Laurylacrylat ist noch bevorzugter.The (meth)acrylic acid ester (a-1) is not limited. Examples thereof among the above-mentioned (meth)acrylic monomers include lauryl acrylate (which has a Tg of -23°C when formed into a homopolymer) and lauryl methacrylate (which has a Tg of -65°C when formed into a homopolymer). Examples further include isomyristyl acrylate (which has a Tg of -56°C when formed into a homopolymer) and isostearyl acrylate (which has a Tg of -18°C when formed into a homopolymer). In particular, the (meth)acrylic acid ester (a-1) is preferably at least one selected from the group consisting of lauryl acrylate, lauryl methacrylate and isostearyl acrylate, since then the shear storage modulus G' of the adhesive layer and the surface peel strength of the adhesive tape can be easily adjusted to more preferable ranges. Lauryl (meth)acrylate is more preferred, and lauryl acrylate is even more preferred.
Für den (Meth)acrylsäureester (a-2) gelten keine Einschränkungen. Beispiele dafür beinhalten Heptylacrylat (das eine Tg von -68 °C aufweist, wenn es zu einem Homopolymer gebildet ist), 2-Ethylhexylacrylat (das eine Tg von -70 °C aufweist, wenn es zu einem Homopolymer gebildet ist), und Octylacrylat (das eine Tg von -65 °C aufweist, wenn es zu einem Homopolymer gebildet ist). Beispiele beinhalten ferner Isononylacrylat (das eine Tg von -58 °C aufweist, wenn es zu einem Homopolymer gebildet ist) und Isodecylacrylat (das eine Tg von -62 °C aufweist, wenn es zu einem Homopolymer gebildet ist). Insbesondere ist der (Meth)acrylsäureester (a-2) vorzugsweise mindestens einer, der aus der Gruppe ausgewählt ist, die aus Heptylacrylat und 2-Ethylhexylacrylat besteht, da dann der Scherspeichermodul G' der Klebeschicht und die Oberflächenschälfestigkeit des Klebebandes einfach auf bevorzugtere Bereiche eingestellt werden können. 2-Ethylhexylacrylat ist noch mehr bevorzugt.The (meth)acrylic acid ester (a-2) is not limited. Examples thereof include heptyl acrylate (which has a Tg of -68°C when formed into a homopolymer), 2-ethylhexyl acrylate (which has a Tg of -70°C when formed into a homopolymer), and octyl acrylate (which has a Tg of -65°C when formed into a homopolymer). Further examples include isononyl acrylate (which has a Tg of -58°C when formed into a homopolymer) and isodecyl acrylate (which has a Tg of -62°C when formed into a homopolymer). In particular, the (meth)acrylic acid ester (a-2) is preferably at least one selected from the group consisting of heptyl acrylate and 2-ethylhexyl acrylate, since then the shear storage modulus G' of the adhesive layer and the surface peel strength of the adhesive tape can be easily adjusted to more preferable ranges. 2-Ethylhexyl acrylate is even more preferred.
Wenn das (Meth)acrylpolymer den (Meth)acrylsäureester (a) enthält, ist die Menge einer von dem (Meth)acrylsäureester (a) abgeleiteten Struktureinheit in dem (Meth)acrylpolymer nicht begrenzt. Die untere Grenze davon ist vorzugsweise 40 Gew.-%. Mit einer Menge der Struktureinheit von 40 Gew.-% oder mehr können der Scherspeichermodul G' der Klebeschicht und die Oberflächenschälfestigkeit des Klebebandes einfach auf bevorzugtere Bereiche eingestellt werden, so dass das Klebeband eine höhere Trennbarkeit bei der Rückübertragung von Chipkomponenten aufweisen und eine bessere Haftung von Chipkomponenten beim Fassen der Chipkomponenten ermöglichen kann. Die untere Grenze der Menge der Struktureinheit ist bevorzugter 45 Gew.-%, noch bevorzugter 80 Gew.-%, weiter bevorzugt 90 Gew.-%.When the (meth)acrylic polymer contains the (meth)acrylic acid ester (a), the amount of a structural unit derived from the (meth)acrylic acid ester (a) in the (meth)acrylic polymer is not limited. The lower limit thereof is preferably 40 wt%. With an amount of the structural unit of 40 wt% or more, the shear storage modulus G' of the adhesive layer and the surface peel strength of the adhesive tape can be easily adjusted to more preferable ranges, so that the adhesive tape can have higher releasability in retransferring chip components and enable better adhesion of chip components in gripping the chip components. The lower limit of the amount of the structural unit is more preferably 45 wt%, more preferably 80 wt%, further preferably 90 wt%.
Die obere Grenze der Menge der Struktureinheit ist nicht begrenzt. Die obere Grenze ist vorzugsweise 98 Gew.-%, bevorzugter 95 Gew.-%.The upper limit of the amount of the structural unit is not limited. The upper limit is preferably 98 wt%, more preferably 95 wt%.
Wenn der (Meth)acrylsäureester (a) den (Meth)acrylsäureester (a-1) beinhaltet, ist die Menge einer von dem (Meth)acrylsäureester (a-1) abgeleiteten Struktureinheit in dem (Meth)acrylpolymer nicht begrenzt. Die untere Grenze davon ist vorzugsweise 40 Gew.-%. Mit einer Menge der Struktureinheit von 40 Gew.-% oder mehr können der Scherspeichermodul G' der Klebeschicht und die Oberflächenschälfestigkeit des Klebebandes einfach auf bevorzugtere Bereiche eingestellt werden, so dass das Klebeband eine höhere Trennbarkeit bei der Rückübertragung von Chipkomponenten aufweisen und eine bessere Haftung von Chipkomponenten beim Fassen der Chipkomponenten ermöglichen kann. Die untere Grenze der Menge der Struktureinheit ist bevorzugter 45 Gew.-%.When the (meth)acrylic acid ester (a) includes the (meth)acrylic acid ester (a-1), the amount of a structural unit derived from the (meth)acrylic acid ester (a-1) in the (meth)acrylic polymer is not limited. The lower limit thereof is preferably 40 wt%. With an amount of the structural unit of 40 wt% or more, the shear storage modulus G' of the adhesive layer and the surface peel strength of the adhesive tape can be easily adjusted to more preferable ranges, so that the adhesive tape can have higher releasability in retransferring chip components and enable better adhesion of chip components in gripping the chip components. The lower limit of the amount of the structural unit is more preferably 45 wt%.
Die obere Grenze der Menge der Struktureinheit ist nicht begrenzt. Mit einer zu großen Menge können die in den Seitenketten vorhandenen Alkylgruppen mit langen Kohlenstoffketten (Alkylgruppen mit einer Kohlenstoffzahl von 12 oder mehr) bei niedriger Temperatur kristallisieren, was zu einem zu hohen Scherspeichermodul G' bei einer Frequenz von 10 Hz und -20 °C führt. Daher ist die obere Grenze vorzugsweise 80 Gew.-%, bevorzugter 70 Gew.-%.The upper limit of the amount of the structural unit is not limited. With too large an amount, the alkyl groups with long carbon chains (alkyl groups with a carbon number of 12 or more) present in the side chains may crystallize at low temperature, resulting in too high a shear storage modulus G' at a frequency of 10 Hz and -20 °C. Therefore, the upper limit is preferably 80 wt%, more preferably 70 wt%.
Das (Meth)acrylpolymer enthält vorzugsweise ferner eine Struktur, die von einem Monomer abgeleitet ist, das eine vernetzbare funktionelle Gruppe enthält.The (meth)acrylic polymer preferably further contains a structure derived from a monomer containing a crosslinkable functional group.
Bei dem (Meth)acrylpolymer mit der Struktur, die von einem Monomer abgeleitet ist, das eine vernetzbare funktionelle Gruppe enthält, kann die Kohäsionskraft der Klebeschicht durch Vernetzung der vernetzbaren funktionellen Gruppe eingestellt werden, was es einfach macht, die Klebekraft und den Scherspeichermodul G' der Klebeschicht einzustellen. Als ein Ergebnis können der Scherspeichermodul G' der Klebeschicht und die Oberflächenschälfestigkeit des Klebebandes einfach auf bevorzugtere Bereiche eingestellt werden, so dass das Klebeband eine höhere Trennbarkeit bei der Rückübertragung von Chipkomponenten aufweisen und eine bessere Haftung von Chipkomponenten beim Fassen der Chipkomponenten ermöglichen kann. Die vernetzbare funktionelle Gruppe kann vernetzt sein oder kann unvernetzt sein, ist aber bevorzugter vernetzt. Selbst wenn die vernetzbare funktionelle Gruppe unvernetzt bleibt, können Wechselwirkungen zwischen funktionellen Gruppen die Kohäsionskraft der Klebeschicht erhöhen.In the (meth)acrylic polymer having the structure derived from a monomer containing a crosslinkable functional group, the cohesive force of the adhesive layer can be adjusted by crosslinking the crosslinkable functional group, which makes it easy to adjust the adhesive force and the shear storage modulus G' of the adhesive layer. As a result, the shear storage modulus G' of the adhesive layer and the surface peel strength of the adhesive tape can be easily adjusted to more preferable ranges, so that the adhesive tape can have higher releasability in retransferring chip components and enable better adhesion of chip components in gripping the chip components. The crosslinkable functional group may be crosslinked or may be uncrosslinked, but is more preferably crosslinked. Even if the crosslinkable functional group remains uncrosslinked, interactions between functional groups can increase the cohesive force of the adhesive layer.
Beispiele für das Monomer, das eine vernetzbare funktionelle Gruppe enthält, beinhalten Monomere, die eine Gruppe wie eine Carboxylgruppe, eine Hydroxylgruppe, eine Epoxygruppe, eine Doppelbindung, eine Dreifachbindung, eine Aminogruppe, eine Amidgruppe oder eine Nitrilgruppe enthalten. Diese Monomere, die vernetzbare funktionelle Gruppen enthalten, können allein oder in Kombination von zwei oder mehr davon verwendet werden. Das Monomer, das eine vernetzbare funktionelle Gruppe enthält, ist vorzugsweise zumindest eines, das aus der Gruppe ausgewählt ist, die aus einem Monomer, das eine Carboxylgruppe enthält, und einem Monomer, das eine Hydroxylgruppe enthält, besteht. Ein Monomer, das eine Hydroxylgruppe enthält, ist noch bevorzugter, da der Scherspeichermodul G' der Klebeschicht einfach durch Vernetzen der Hydroxylgruppe durch ein Isocyanat-Vernetzungsmittel eingestellt werden kann. Examples of the monomer containing a crosslinkable functional group include monomers containing a group such as a carboxyl group, a hydroxyl group, an epoxy group, a double bond, a triple bond, an amino group, an amide group, or a nitrile group. These monomers containing crosslinkable functional groups may be used alone or in combination of two or more thereof. The monomer containing a crosslinkable functional group is preferably at least one selected from the group consisting of a monomer containing a carboxyl group and a monomer containing a hydroxyl group. A monomer containing a hydroxyl group is more preferable because the shear storage modulus G' of the adhesive layer can be easily adjusted by crosslinking the hydroxyl group by an isocyanate crosslinking agent.
Das Monomer, das eine vernetzbare funktionelle Gruppe enthält, kann ferner eine Gruppe wie etwa eine Alkylgruppe, eine Ethergruppe, eine Carbonylgruppe, eine Estergruppe, eine Carbonatgruppe, eine Amidgruppe oder eine Urethangruppe enthalten.The monomer containing a crosslinkable functional group may further contain a group such as an alkyl group, an ether group, a carbonyl group, an ester group, a carbonate group, an amide group or a urethane group.
Beispiele für das Monomer, das eine Carboxylgruppe enthält, beinhalten (Meth)acrylsäure-Monomere wie etwa (Meth)acrylsäure. Beispiele für das Monomer, das eine Hydroxylgruppe enthält, beinhalten 4-Hydroxybutyl(meth)acrylat und 2-Hydroxyethyl(meth)acrylat. Beispiele für das Monomer, das eine Epoxygruppe enthält, beinhalten Glycidyl(meth)acrylat. Beispiele für das Monomer, das eine Doppelbindung enthält, beinhalten Allyl(meth)acrylat und Hexandioldi(meth)acrylat. Beispiele für das Monomer, das eine Dreifachbindung enthält, beinhalten Propargyl(meth)acrylat. Beispiele für das Monomer, das eine Amidgruppe enthält, beinhalten (Meth)acrylamid. Von diesen ist 4-Hydroxybutylacrylat bevorzugt, da es das Einstellen des Scherspeichermoduls G' der Klebeschicht auf die vorstehenden Bereiche einfach macht.Examples of the monomer containing a carboxyl group include (meth)acrylic acid monomers such as (meth)acrylic acid. Examples of the monomer containing a hydroxyl group include 4-hydroxybutyl (meth)acrylate and 2-hydroxyethyl (meth)acrylate. Examples of the monomer containing an epoxy group include glycidyl (meth)acrylate. Examples of the monomer containing a double bond include allyl (meth)acrylate and hexanediol di(meth)acrylate. Examples of the monomer containing a triple bond include propargyl (meth)acrylate. Examples of the monomer containing an amide group include (meth)acrylamide. Of these, 4-hydroxybutyl acrylate is preferred because it makes it easy to adjust the shear storage modulus G' of the adhesive layer to the above ranges.
Die Menge der Struktur in dem (Meth)acrylpolymer, die von einem Monomer abgeleitet ist, das eine vernetzbare funktionelle Gruppe enthält, ist nicht begrenzt. Zur Einstellung der Klebekraft und des Scherspeichermoduls G' der Klebeschicht beträgt die untere Grenze der Menge der Struktur vorzugsweise 0,1 Gew.-% und die obere Grenze davon beträgt vorzugsweise 30 Gew.-%. Die untere Grenze der Menge der Struktur ist noch bevorzugter 0,5 Gew.-%, und die obere Grenze davon ist noch bevorzugter 25 Gew.-%.The amount of the structure in the (meth)acrylic polymer derived from a monomer containing a crosslinkable functional group is not limited. For adjusting the adhesive force and the shear storage modulus G' of the adhesive layer, the lower limit of the amount of the structure is preferably 0.1 wt%, and the upper limit thereof is preferably 30 wt%. The lower limit of the amount of the structure is more preferably 0.5 wt%, and the upper limit thereof is more preferably 25 wt%.
Die Menge einer Struktur in dem (Meth)acrylpolymer, die von einem Monomer abgeleitet ist, das eine Hydroxylgruppe enthält, ist nicht begrenzt. Zur Einstellung der Klebekraft und des Scherspeichermoduls G' der Klebeschicht beträgt die untere Grenze der Menge der Struktur vorzugsweise 1 Gew.-% und die obere Grenze davon beträgt vorzugsweise 20 Gew.-%. Die untere Grenze der Menge der Struktur ist noch bevorzugter 3 Gew.-%, und die obere Grenze davon ist noch bevorzugter 10 Gew.-%.The amount of a structure in the (meth)acrylic polymer derived from a monomer containing a hydroxyl group is not limited. For adjusting the adhesive force and the shear storage modulus G' of the adhesive layer, the lower limit of the amount of the structure is preferably 1 wt%, and the upper limit thereof is preferably 20 wt%. The lower limit of the amount of the structure is more preferably 3 wt%, and the upper limit thereof is more preferably 10 wt%.
Das (Meth)acrylpolymer kann eine Kohlenstoff-Kohlenstoff-Doppelbindung in einer Seitenkette enthalten. Die Seitenkette bedeutet einen Verzweigungsabschnitt, der sich von einer Hauptkette weg erstreckt, wobei die Hauptkette als die längste Kette in dem Polymer definiert ist.The (meth)acrylic polymer may contain a carbon-carbon double bond in a side chain. The side chain means a branching portion extending from a main chain, the main chain being defined as the longest chain in the polymer.
Wenn das (Meth)acrylpolymer eine Kohlenstoff-Kohlenstoff-Doppelbindung in einer Seitenkette enthält, kann die Klebeschicht eine härtbare Klebeschicht sein, die z. B. durch Erhitzen oder Lichtbestrahlung ausgehärtet wird, um die Klebekraft stark zu verringern. In einem solchen Fall können der Scherspeichermodul G' der Klebeschicht und die Oberflächenschälfestigkeit des Klebebandes einfach auf bevorzugtere Bereiche eingestellt werden, so dass das Klebeband eine höhere Trennbarkeit bei der Rückübertragung von Chipkomponenten aufweisen und eine bessere Haftung von Chipkomponenten beim Fassen der Chipkomponenten ermöglichen kann.When the (meth)acrylic polymer contains a carbon-carbon double bond in a side chain, the adhesive layer may be a curable adhesive layer that is cured by, for example, heating or light irradiation to greatly reduce the adhesive force. In such a case, the shear storage modulus G' of the adhesive layer and the surface peel strength of the adhesive tape can be easily adjusted to more preferable ranges, so that the adhesive tape can have higher releasability in retransferring chip components and enable better adhesion of chip components when gripping the chip components.
Die härtbare Klebeschicht kann zum Beispiel eine thermisch härtbare Klebeschicht oder eine photohärtbare Klebeschicht sein. Vom Gesichtspunkt der Lagerstabilität aus wird eine photohärtbare Klebeschicht bevorzugt.The curable adhesive layer may be, for example, a thermally curable adhesive layer or a photocurable adhesive layer. From the viewpoint of storage stability, a photocurable adhesive layer is preferred.
Um das (Meth)acrylpolymer zu erhalten, wird eine Monomermischung, die Monomere wie das (Meth)acrylmonomer und das Monomer enthält, das eine vernetzbare funktionelle Gruppe enthält, in Gegenwart eines Polymerisationsstarters zur Copolymerisation radikalisch umgesetzt.To obtain the (meth)acrylic polymer, a monomer mixture containing monomers such as the (meth)acrylic monomer and the monomer containing a crosslinkable functional group is radically reacted in the presence of a polymerization initiator for copolymerization.
Wenn das Acrylpolymer eine Kohlenstoff-Kohlenstoff-Doppelbindung in einer Seitenkette enthält, kann die Kohlenstoff-Kohlenstoff-Doppelbindung in die Seitenkette des Acrylpolymers eingebracht werden, z. B. durch Copolymerisation des Monomers, das die Doppelbindung enthält, als das Monomer, das eine vernetzbare funktionelle Gruppe enthält. Alternativ kann das Monomer, das eine vernetzbare funktionelle Gruppe enthält, wie das Monomer, das eine Carboxylgruppe enthält, oder das Monomer, das eine Hydroxylgruppe enthält, copolymerisiert werden, und dann kann das erhaltene Polymer mit einer Verbindung umgesetzt werden, die eine Doppelbindung und eine funktionelle Gruppe enthält, die mit der vernetzbaren funktionellen Gruppe, wie einer Carboxylgruppe oder einer Hydroxylgruppe, in dem Polymer reaktiv ist (im Folgenden wird die Verbindung auch als „ungesättigte Verbindung, die eine funktionelle Gruppe enthält“ bezeichnet). Die ungesättigte Verbindung, die eine funktionelle Gruppe enthält, ist nicht beschränkt. Beispiele dafür beinhalten ungesättigte Verbindungen, die eine Isocyanatgruppe enthalten, wie etwa 2-Methacryloyloxyethylisocyanat (MOI).When the acrylic polymer contains a carbon-carbon double bond in a side chain, the carbon-carbon double bond can be introduced into the side chain of the acrylic polymer, for example, by copolymerizing the monomer containing the double bond as the monomer containing a crosslinkable functional group. Alternatively, the monomer containing a crosslinkable functional group such as the monomer containing a carboxyl group or the monomer containing a hydroxyl group may be copolymerized, and then the obtained polymer may be reacted with a compound containing a double bond and a functional group reactive with the crosslinkable functional group such as a carboxyl group or a hydroxyl group in the polymer (hereinafter, the compound is also referred to as “unsaturated compound containing a functional group”). The unsaturated compound containing a functional group is not limited. Examples include unsaturated compounds containing an isocyanate group, such as 2-methacryloyloxyethyl isocyanate (MOI).
Die radikalische Reaktionsmethode für die Monomermischung, d. h. die Polymerisationsmethode, kann eine herkömmlich bekannte Methode wie Lösungspolymerisation (Siedepunktpolymerisation oder Polymerisation bei konstanter Temperatur), Emulsionspolymerisation, Suspensionspolymerisation oder Massenpolymerisation sein.The radical reaction method for the monomer mixture, that is, the polymerization method, may be a conventionally known method such as solution polymerization (boiling point polymerization or constant temperature polymerization), emulsion polymerization, suspension polymerization or bulk polymerization.
Die Hydroxylzahl des (Meth)acrylpolymers ist nicht begrenzt. Die obere Grenze davon ist vorzugsweise 45 mg KOH/g. Mit einer Hydroxylzahl von 45 mg KOH/g oder weniger können die Klebekraft und der Scherspeichermodul G' der Klebeschicht einfach eingestellt werden. Als ein Ergebnis können der Scherspeichermodul G' der Klebeschicht und die Oberflächenschälfestigkeit des Klebebandes einfach auf bevorzugtere Bereiche eingestellt werden, so dass das Klebeband eine höhere Trennbarkeit bei der Rückübertragung von Chipkomponenten aufweisen und eine bessere Haftung von Chipkomponenten beim Fassen der Chipkomponenten ermöglichen kann. Die obere Grenze der Hydroxylzahl ist noch bevorzugter 20 mg KOH/g.The hydroxyl value of the (meth)acrylic polymer is not limited. The upper limit thereof is preferably 45 mg KOH/g. With a hydroxyl value of 45 mg KOH/g or less, the adhesive force and the shear storage modulus G' of the adhesive layer can be easily adjusted. As a result, the shear storage modulus G' of the adhesive layer and the surface peel strength of the adhesive tape can be easily adjusted to more preferable ranges, so that the adhesive tape can have higher releasability in retransfer. of chip components and can enable better adhesion of chip components when gripping the chip components. The upper limit of the hydroxyl value is more preferably 20 mg KOH/g.
Die untere Grenze der Hydroxylzahl ist nicht begrenzt. Für Einstellungen der Klebekraft der Klebeschicht und des Scherspeichermoduls G' des Klebebandes ist die untere Grenze vorzugsweise 1 mg KOH/g.The lower limit of the hydroxyl number is not limited. For adjustments of the adhesive strength of the adhesive layer and the shear storage modulus G' of the adhesive tape, the lower limit is preferably 1 mg KOH/g.
Die Hydroxylzahl eines (Meth)acrylpolymers ist ein Index für den Gehalt an Hydroxylgruppen in einer bestimmten Menge einer Probe. Die Hydroxylzahl eines (Meth)acrylpolymers bezieht sich auf die Anzahl der Milligramm Kaliumhydroxid, die erforderlich sind, um durch Neutralisationstitration die an Hydroxylgruppen gebundene Essigsäure zu neutralisieren, nachdem 1 g des (Meth)acrylpolymers acetyliert wurde. Die Hydroxylzahl kann durch Messung auf der Grundlage einer potentiometrischen Titration gemäß JIS K 0070:1992 berechnet werden.The hydroxyl value of a (meth)acrylic polymer is an index of the content of hydroxyl groups in a certain amount of a sample. The hydroxyl value of a (meth)acrylic polymer refers to the number of milligrams of potassium hydroxide required to neutralize the acetic acid bound to hydroxyl groups by neutralization titration after 1 g of the (meth)acrylic polymer is acetylated. The hydroxyl value can be calculated by measurement based on potentiometric titration in accordance with JIS K 0070:1992.
Das Kohlenstoff-Kohlenstoff-Doppelbindungsäquivalent des (Meth)acrylpolymers ist nicht begrenzt. Die obere Grenze davon ist vorzugsweise 0,5 mÄq/g, da ein zu hohes Kohlenstoff-Kohlenstoff-Doppelbindungsäquivalent zu einem zu hohen Scherspeichermodul G' bei einer Frequenz von 10 Hz und -20 °C führen kann. Mit einem Kohlenstoff-Kohlenstoff-Doppelbindungsäquivalent von 0,5 mÄq/g oder weniger können der Scherspeichermodul G' der Klebeschicht und die Oberflächenschälfestigkeit des Klebebandes einfach auf bevorzugtere Bereiche eingestellt werden, so dass das Klebeband bei der Rückübertragung von Chipkomponenten eine höhere Trennbarkeit aufweisen und beim Fassen der Chipkomponenten eine bessere Haftung der Chipkomponenten ermöglichen kann. Die obere Grenze des Kohlenstoff-Kohlenstoff-Doppelbindungsäquivalents ist noch bevorzugter 0,3 mÄq/g.The carbon-carbon double bond equivalent of the (meth)acrylic polymer is not limited. The upper limit thereof is preferably 0.5 mEq/g because too high a carbon-carbon double bond equivalent may result in too high a shear storage modulus G' at a frequency of 10 Hz and -20 °C. With a carbon-carbon double bond equivalent of 0.5 mEq/g or less, the shear storage modulus G' of the adhesive layer and the surface peel strength of the adhesive tape can be easily adjusted to more preferable ranges, so that the adhesive tape can have higher separability when retransferring chip components and enable better adhesion of the chip components when gripping the chip components. The upper limit of the carbon-carbon double bond equivalent is more preferably 0.3 mEq/g.
Die untere Grenze des Kohlenstoff-Kohlenstoff-Doppelbindungsäquivalents ist nicht begrenzt und kann 0 mÄq/g betragen.The lower limit of the carbon-carbon double bond equivalent is not limited and can be 0 mEq/g.
Das Kohlenstoff-Kohlenstoff-Doppelbindungsäquivalent des (Meth)acrylpolymers bezieht sich auf Milliäquivalente (mÄq/g) von Kohlenstoff-Kohlenstoff-Doppelbindungen einer ungesättigten Verbindung, die Doppelbindungen enthält, pro Gramm des (Meth)acrylpolymers. Das Kohlenstoff-Kohlenstoff-Doppelbindungsäquivalent ist ein Wert, der aus den eingespeisten Mengen an Rohmaterialien berechnet wird. Im Speziellen kann das Kohlenstoff-Kohlenstoff-Doppelbindungsäquivalent E (mÄq/g) nach folgender Formel aus der Masse Wa (g) des (Meth)acrylpolymers, der Stoffmenge nb (mol) einer in dem (Meth)acrylpolymer enthaltenen ungesättigten Verbindung, die Doppelbindungen enthält, und der Anzahl N der in einem Molekül der ungesättigten Verbindung, die Doppelbindungen enthält, enthaltenen Kohlenstoff-Kohlenstoff-Doppelbindungen berechnet werden.
Das gewichtsmittlere Molekulargewicht (Mw) des (Meth)acrylpolymers ist nicht begrenzt. Die obere Grenze davon ist vorzugsweise 1.000.000. Mit einem gewichtsmittleren Molekulargewicht (Mw) von 1.000.000 oder weniger können der Scherspeichermodul G' und die Oberflächenschälfestigkeit einfach auf bevorzugtere Bereiche eingestellt werden, so dass das Klebeband bei der Rückübertragung von Chipkomponenten eine höhere Trennbarkeit aufweisen und beim Fassen der Chipkomponenten eine bessere Haftung der Chipkomponenten ermöglichen kann. Die obere Grenze des gewichtsmittleren Molekulargewichts (Mw) ist noch bevorzugter 950.000, sogar noch bevorzugter 900.000.The weight average molecular weight (Mw) of the (meth)acrylic polymer is not limited. The upper limit thereof is preferably 1,000,000. With a weight average molecular weight (Mw) of 1,000,000 or less, the shear storage modulus G' and the surface peel strength can be easily adjusted to more preferable ranges, so that the adhesive tape can have higher releasability when re-transferring chip components and enable better adhesion of the chip components when gripping the chip components. The upper limit of the weight average molecular weight (Mw) is more preferably 950,000, even more preferably 900,000.
Die untere Grenze des gewichtsmittleren Molekulargewichts (Mw) ist nicht begrenzt. Vom Gesichtspunkt der Klebekraft der Klebeschicht, der Beibehaltung der Form und dergleichen aus ist die untere Grenze vorzugsweise 400.000, noch bevorzugter 500.000.The lower limit of the weight average molecular weight (Mw) is not limited. From the viewpoint of adhesive strength of the adhesive layer, shape retention and the like, the lower limit is preferably 400,000, more preferably 500,000.
Das gewichtsmittlere Molekulargewicht des (Meth)acrylpolymers kann zum Beispiel als Standard-Polystyrol durch Gelpermeationschromatographie (GPC) bestimmt werden. Im Spezielleren kann das gewichtsmittlere Molekulargewicht zum Beispiel unter Verwendung des „2690 Separations Module“, das von Waters verfügbar ist, als Messinstrument und „GPC KF-806L“, die von Showa Denko K. K. verfügbar ist, als Säule und Ethylacetat als Lösungsmittel unter den Bedingungen einer Proben-Flussrate von 1 mL/min und einer Säulentemperatur von 40 °C gemessen werden.The weight average molecular weight of the (meth)acrylic polymer can be determined by gel permeation chromatography (GPC), for example, as standard polystyrene. More specifically, the weight average molecular weight can be measured, for example, using “2690 Separations Module” available from Waters as a measuring instrument and “GPC KF-806L” available from Showa Denko K. K. as a column and ethyl acetate as a solvent under the conditions of a sample flow rate of 1 mL/min and a column temperature of 40 °C.
Die Klebeschicht kann ein klebrig machendes Harz enthalten.The adhesive layer may contain a tackifying resin.
Beispiele für das klebrig machende Harz beinhalten Kolophoniumesterharze, hydrierte Kolophoniumharze, Terpenharze, Terpenphenolharze, Cumaron-Inden-Harze, alicyclische gesättigte Kohlenwasserstoffharze, C5-Erdölharze, C9-Erdölharze und C5-C9-Copolymer-Erdölharze. Diese klebrig machenden Harze können allein oder in Kombination von zwei oder mehr verwendet werden.Examples of the tackifying resin include rosin ester resins, hydrogenated rosin resins, terpene resins, terpene phenol resins, coumarone-indene resins, alicyclic saturated hydrocarbon resins, C5 petroleum resins, C9 petroleum resins, and C5-C9 copolymer petroleum resins. These tackifying resins may be used alone or in combination of two or more.
Die Menge des klebrig machenden Harzes ist nicht begrenzt. Um eine höhere Trennbarkeit bei der Rückübertragung von Chipkomponenten zu erreichen, enthält die Klebeschicht vorzugsweise kein klebrig machendes Harz. Wenn die Klebeschicht ein klebrig machendes Harz enthält, beträgt die obere Grenze für dessen Menge vorzugsweise 10 Gewichtsteile, bezogen auf 100 Gewichtsteile eines Harzes, das ein Hauptbestandteil der Klebeschicht ist (z. B. (Meth)acrylpolymer). Mit einer Menge des klebrig machenden Harzes von 10 Gewichtsteilen oder weniger kann die Klebeschicht bei der Rückübertragung von Chipkomponenten eine höhere Trennbarkeit aufweisen.The amount of the tackifying resin is not limited. In order to achieve higher releasability in retransferring chip components, the adhesive layer preferably does not contain a tackifying resin. When the adhesive layer contains a tackifying resin, the upper limit of the amount thereof is preferably 10 parts by weight based on 100 parts by weight of a resin that is a main component of the adhesive layer (e.g., (meth)acrylic polymer). With an amount of the tackifying resin of 10 parts by weight or less, the adhesive layer can have higher releasability in retransferring chip components.
Vorzugsweise enthält die Klebeschicht ein Vernetzungsmittel und weist dadurch eine vernetzte Struktur auf, die zwischen den Hauptketten der Harze, aus denen die Klebeschicht besteht (z. B. das (Meth)acrylpolymer, das klebrig machende Harz), gebildet wird.Preferably, the adhesive layer contains a cross-linking agent and thereby has a cross-linked structure formed between the main chains of the resins composing the adhesive layer (e.g. the (meth)acrylic polymer, the tackifying resin).
Für das Vernetzungsmittel gelten keine Einschränkungen. Beispiele dafür beinhalten Isocyanat-Vernetzungsmittel, Aziridin-Vernetzungsmittel, Epoxid-Vernetzungsmittel und Metall-Chelat-Vernetzungsmittel. Insbesondere wenn das (Meth)acrylpolymer die Struktureinheit enthält, die von einem Monomer abgeleitet ist, das Hydroxylgruppen enthält, wird ein Isocyanat-Vernetzungsmittel bevorzugt, da der Scherspeichermodul G' der Klebeschicht durch die Vernetzung der Hydroxylgruppe mit dem Isocyanat-Vernetzungsmittel einfach eingestellt werden kann.There are no restrictions on the crosslinking agent. Examples include isocyanate crosslinking agents, aziridine crosslinking agents, epoxy crosslinking agents, and metal chelate crosslinking agents. In particular, when the (meth)acrylic polymer contains the structural unit derived from a monomer containing hydroxyl groups, an isocyanate crosslinking agent is preferred because the shear storage modulus G' of the adhesive layer can be easily adjusted by crosslinking the hydroxyl group with the isocyanate crosslinking agent.
Die Menge des Vernetzungsmittels beträgt vorzugsweise 0,01 bis 10 Gewichtsteile, noch bevorzugter 0,1 bis 7 Gewichtsteile, bezogen auf 100 Gewichtsteile eines Harzes, das ein Hauptbestandteil der Klebeschicht ist (z. B. das (Meth)acrylpolymer).The amount of the crosslinking agent is preferably 0.01 to 10 parts by weight, more preferably 0.1 to 7 parts by weight, based on 100 parts by weight of a resin which is a main component of the adhesive layer (e.g. the (meth)acrylic polymer).
Die Klebeschicht kann, wenn es sich um eine härtbare Klebeschicht handelt, außerdem einen Polymerisationsstarter enthalten, z. B. einen thermischen Polymerisationsstarter oder einen Photopolymerisationsstarter.If the adhesive layer is a curable adhesive layer, it may also contain a polymerization initiator, such as a thermal polymerization initiator or a photopolymerization initiator.
Die Menge des Polymerisationsstarters ist nicht begrenzt, beträgt jedoch vorzugsweise 0,01 Gewichtsteile oder mehr und 5 Gewichtsteile oder weniger, noch bevorzugter 0,1 Gewichtsteile oder mehr und 3 Gewichtsteile oder weniger, bezogen auf 100 Gewichtsteile des (Meth)acrylpolymers.The amount of the polymerization initiator is not limited, but is preferably 0.01 part by weight or more and 5 parts by weight or less, more preferably 0.1 part by weight or more and 3 parts by weight or less, based on 100 parts by weight of the (meth)acrylic polymer.
Die Klebeschicht kann ferner einen anorganischen Füllstoff wie z. B. pyrogene Kieselsäure enthalten. Das Beimischen des anorganischen Füllstoffs kann die Kohäsionskraft der Klebeschicht erhöhen.The adhesive layer may also contain an inorganic filler such as fumed silica. The addition of the inorganic filler may increase the cohesive force of the adhesive layer.
Die Klebeschicht kann ferner bekannte Zusatzstoffe wie einen Weichmacher, ein Harz, einen oberflächenaktiven Stoff, ein Wachs und einen feinpartikulären Füllstoff enthalten. Diese Zusatzstoffe können allein oder in Kombination von zwei oder mehr davon verwendet werden.The adhesive layer may further contain known additives such as a plasticizer, a resin, a surfactant, a wax and a fine particulate filler. These additives may be used alone or in combination of two or more thereof.
Für die Gelfraktion der Klebeschicht gelten keine Einschränkungen. Die untere Grenze davon beträgt vorzugsweise 50 Gew.-%, und die obere Grenze davon beträgt vorzugsweise 95 Gew.-%. Mit einer Gelfraktion von 50 Gew.-% oder mehr kann die Klebekraft der Klebeschicht auf einen relativ niedrigen Bereich eingestellt werden, so dass die Oberflächenschälfestigkeit des Klebebandes einfach eingestellt werden kann. Als ein Ergebnis kann das Klebeband bei der Rückübertragung von Chipkomponenten eine höhere Trennbarkeit aufweisen. Mit einer Gelfraktion von 95 Gew.-% oder weniger kann der Scherspeichermodul G' der Klebeschicht einfach eingestellt werden. Als ein Ergebnis kann das Klebeband eine bessere Haftung von Chipkomponenten beim Fassen der Chipkomponenten ermöglichen. Die untere Grenze der Gelfraktion ist bevorzugter 80 Gew.-%, und die obere Grenze davon ist bevorzugter 94 Gew.-%. Die untere Grenze ist noch bevorzugter 85 Gew.-%, und die obere Grenze ist noch bevorzugter 93 Gew.-%.There are no restrictions on the gel fraction of the adhesive layer. The lower limit thereof is preferably 50 wt%, and the upper limit thereof is preferably 95 wt%. With a gel fraction of 50 wt% or more, the adhesive force of the adhesive layer can be adjusted to a relatively low range, so that the surface peel strength of the adhesive tape can be easily adjusted. As a result, the adhesive tape can have higher releasability when re-transferring chip components. With a gel fraction of 95 wt% or less, the shear storage modulus G' of the adhesive layer can be easily adjusted. As a result, the adhesive tape can enable better adhesion of chip components when gripping the chip components. The lower limit of the gel fraction is more preferably 80 wt%, and the upper limit thereof is more preferably 94 wt%. The lower limit is still more preferably 85 wt%, and the upper limit is still more preferably 93 wt%.
Die Gelfraktion der Klebeschicht kann mit der folgenden Methode gemessen werden.The gel fraction of the adhesive layer can be measured using the following method.
Die Klebeschicht (Klebstoffzusammensetzung) allein wird in einer Menge von 0,1 g aus dem Klebeband entnommen, in 50 mL Ethylacetat getaucht und mit einem Schüttler bei einer Temperatur von 23 °C und 200 U/min 24 Stunden lang geschüttelt. Nach dem Schütteln wird ein Metallgitter (#200 Mesh) verwendet, um das Ethylacetat und die Klebstoffzusammensetzung, die durch die Absorption von Ethylacetat aufgequollen ist, zu trennen. Die abgetrennte Klebstoffzusammensetzung wird bei 110 °C eine Stunde lang getrocknet. Das Gewicht der Klebstoffzusammensetzung einschließlich des Metallgitters wird nach dem Trocknen gemessen, und die Gelfraktion der Klebeschicht wird anhand der folgenden Formel berechnet. Wenn es sich bei der Klebeschicht um eine härtbare Klebeschicht handelt, so bedeutet die Gelfraktion der Klebeschicht die Gelfraktion, die für die Klebeschicht vor dem Aushärten gemessen wurde.
Wenn die Klebstoffzusammensetzung nicht vollständig in Ethylacetat gelöst wird, wird anstelle von Ethylacetat ein Lösungsmittel wie Toluol, Hexan oder Wasser verwendet. Im Speziellen wird, wenn die Klebstoffzusammensetzung ein Styrol-Elastomer enthält, z. B. Toluol oder Hexan verwendet. Wenn die Klebstoffzusammensetzung Polyvinylalkohol enthält, wird heißes Wasser mit 90 °C verwendet.If the adhesive composition is not completely dissolved in ethyl acetate, a solvent such as toluene, hexane or water is used instead of ethyl acetate. Specifically, if the adhesive composition contains a styrene elastomer, for example, toluene or hexane is used. If the adhesive composition contains polyvinyl alcohol, hot water at 90 °C is used.
Das Klebeband der vorliegenden Erfindung kann ein einseitiges Klebeband mit einer Klebeschicht auf nur einer Oberfläche einer Substratschicht oder ein doppelseitiges Klebeband mit Klebeschichten auf beiden Oberflächen einer Substratschicht sein.The adhesive tape of the present invention may be a single-sided adhesive tape having an adhesive layer on only one surface of a substrate layer or a double-sided adhesive tape having adhesive layers on both surfaces of a substrate layer.
Da die Anbringung eines Trägers auf dem Klebeband der vorliegenden Erfindung die Handhabbarkeit verbessert, ist das Klebeband der vorliegenden Erfindung vorzugsweise ein doppelseitiges Klebeband, noch bevorzugter ein doppelseitiges Klebeband mit Klebeschichten auf beiden Oberflächen einer Substratschicht. Für den Träger gelten keine Einschränkungen. Beispiele dafür beinhalten Glas, Quarzsubstrate und Metallplatten.Since the attachment of a support to the adhesive tape of the present invention improves the workability, the adhesive tape of the present invention is preferably a double-sided adhesive tape, more preferably a double-sided adhesive tape having adhesive layers on both surfaces of a substrate layer. The support is not limited. Examples thereof include glass, quartz substrates and metal plates.
Wenn das Klebeband der vorliegenden Erfindung ein doppelseitiges Klebeband mit Klebeschichten auf beiden Oberflächen einer Substratschicht ist, kann das Klebeband Klebeschichten, wie oben beschrieben, auf beiden Oberflächen aufweisen, oder es kann eine Klebeschicht, wie oben beschrieben, auf einer Oberfläche und eine andere Klebeschicht auf der anderen Oberfläche (Oberfläche, die an einem Träger oder dergleichen befestigt werden soll) aufweisen. Die unterschiedliche Klebeschicht ist nicht beschränkt und kann eine herkömmlich bekannte Klebeschicht sein.When the adhesive tape of the present invention is a double-sided adhesive tape having adhesive layers on both surfaces of a substrate layer, the adhesive tape may have adhesive layers as described above on both surfaces, or may have an adhesive layer as described above on one surface and another adhesive layer on the other surface (surface to be attached to a support or the like). The different adhesive layer is not limited and may be a conventionally known adhesive layer.
Das Klebeband der vorliegenden Erfindung kann in einer beliebigen Anwendung verwendet werden. Das Klebeband wird vorzugsweise in einem Schritt des Übertragens einer Komponente zum Fassen der Komponente verwendet.The adhesive tape of the present invention can be used in any application. The adhesive tape is preferably used in a step of transferring a component to grip the component.
Die Komponente ist nicht begrenzt, ist jedoch vorzugsweise ein Halbleiterbauelement. Beispiele für das Halbleiterbauelement beinhalten Chipkomponenten wie Mikro-LED-Chips und optische Chips von Bildsensoren. Von diesen sind Mikro-LED-Chips bevorzugt.The component is not limited, but is preferably a semiconductor device. Examples of the semiconductor device include chip components such as micro-LED chips and optical chips of image sensors. Of these, micro-LED chips are preferable.
Das Klebeband der vorliegenden Erfindung eignet sich insbesondere als Klebeband zum Fassen von Chipkomponenten in einem Schritt des Übertragens von auf einer Klebeschicht angeordneten Chipkomponenten auf ein Klebeband, wie in
- Vorteilhafte Wirkungen der Erfindung- Advantageous effects of the invention
Die vorliegende Erfindung kann ein Klebeband bereitstellen, das eine gute Haftung von Chipkomponenten beim Fassen der Chipkomponenten ermöglichen kann und das eine ausgezeichnete Trennbarkeit aufweisen kann, um Klebstoffablagerungen auf den Chipkomponenten bei der Rückübertragung der Chipkomponenten zu verringern.The present invention can provide an adhesive tape that can enable good adhesion of chip components when gripping the chip components and that can have excellent releasability to reduce adhesive deposits on the chip components when retransferring the chip components.
KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGENBRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS
-
1 ist eine schematische Querschnittsansicht, die ein Beispiel für einen Schritt des Übertragens von auf einer Klebeschicht angeordneten Chipkomponenten auf ein Klebeband veranschaulicht.1 is a schematic cross-sectional view illustrating an example of a step of transferring chip components arranged on an adhesive layer to an adhesive tape. -
2 ist eine schematische Ansicht, die ein Verfahren zum Messen der Oberflächenschälfestigkeit eines Klebebands veranschaulicht.2 is a schematic view illustrating a method for measuring the surface peel strength of an adhesive tape.
BESCHREIBUNG VON AUSFÜHRUNGSFORMENDESCRIPTION OF EMBODIMENTS
Die Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung werden im Folgenden anhand von Beispielen näher beschrieben, ohne jedoch auf diese beschränkt zu sein.The embodiments of the present invention are described in more detail below using examples, but are not limited to them.
(Beispiel 1)(Example 1)
(1) Herstellung von (Meth)acrylpolymer(1) Production of (meth)acrylic polymer
Ein mit einem Thermometer, einem Rührer und einem Kühler ausgestatteter Reaktor wurde mit 52 Gewichtsteilen Ethylacetat gefüllt und mit Stickstoff gespült. Der Reaktor wurde dann erhitzt, um den Rückfluss zu starten. Dreißig Minuten nach dem Aufkochen des Ethylacetats wurden 0,08 Gewichtsteile Azo-bis-Isobutyronitril als Polymerisationsstarter zugegeben. Anschließend wurden 94,7 Gewichtsteile 2-Ethylhexylacrylat, 5 Gewichtsteile 2-Hydroxybutylacrylat und 0,3 Gewichtsteile Acrylsäure gleichmäßig und allmählich über eineinhalb Stunden in den Reaktor getropft, um die Reaktion durchzuführen. Dreißig Minuten nach Beendigung des Zutropfens wurden 0,1 Gewichtsteile Azo-bis-Isobutyronitril zugegeben, um die Polymerisationsreaktion weitere fünf Stunden lang durchzuführen, gefolgt von Abkühlen, während zur Verdünnung Ethylacetat in den Reaktor gegeben wurde. Auf diese Weise wurde eine Lösung eines (Meth)acrylpolymers erhalten (Hydroxylzahl 24,2 mg KOH/g, Doppelbindungsäquivalent 0 mÄq/g).A reactor equipped with a thermometer, a stirrer and a condenser was filled with 52 parts by weight of ethyl acetate and purged with nitrogen. The reactor was then heated to start reflux. Thirty minutes after the ethyl acetate was boiled, 0.08 parts by weight of azo-bis-isobutyronitrile was added as a polymerization initiator. Then, 94.7 parts by weight of 2-ethylhexyl acrylate, 5 parts by weight of 2-hydroxybutyl acrylate and 0.3 parts by weight of acrylic acid were evenly and gradually dropped into the reactor over one and a half hours to carry out the reaction. Thirty minutes after the completion of the dropping, 0.1 part by weight of azo-bis-isobutyronitrile was added to carry out the polymerization reaction for another five hours, followed by cooling while adding ethyl acetate to the reactor for dilution. In this way, a solution of a (meth)acrylic polymer was obtained (hydroxyl number 24.2 mg KOH/g, double bond equivalent 0 mEq/g).
Das gewichtsmittlere Molekulargewicht des erhaltenen (Meth)acrylpolymers wurde unter Verwendung des „2690 Separations Module“, das von Waters verfügbar ist, als Messinstrument und „GPC KF-806L“, die von Showa Denko K. K. verfügbar ist, als Säule und Ethylacetat als Lösungsmittel unter den Bedingungen einer Proben-Flussrate von 1 mL/min und einer Säulentemperatur von 40 °C gemessen. Das gewichtsmittlere Molekulargewicht betrug 800.000.The weight-average molecular weight of the obtained (meth)acrylic polymer was measured using “2690 Separations Module” available from Waters as a measuring instrument and “GPC KF-806L” available from Showa Denko K. K. as a column and ethyl acetate as a solvent under the conditions of a sample flow rate of 1 mL/min and a column temperature of 40 °C. The weight-average molecular weight was 800,000.
(2) Herstellung eines Klebebands(2) Production of an adhesive tape
Coronate L-45 (erhältlich von der Tosoh Corporation) als Isocyanat-Vernetzungsmittel wurde zu der erhaltenen Lösung des (Meth)acrylpolymers bis zu einem Feststoffgehalt von 1,8 Gewichtsteilen, bezogen auf 100 Gewichtsteile des (Meth)acrylpolymers, zugegeben, gefolgt von ausreichendem Rühren, wodurch eine Klebstofflösung erhalten wurde. Die erhaltene Klebstofflösung wurde mit einem Applikator auf einen 100 µm dicken Polyethylenterephthalat-Film (PET) als Substratschicht bis zu einer Trockenfilmdicke von 40 µm aufgetragen und bei 110 °C drei Minuten lang getrocknet, um ein Klebeband zu bereitzustellen.Coronate L-45 (available from Tosoh Corporation) as an isocyanate crosslinking agent was added to the obtained solution of the (meth)acrylic polymer to a solid content of 1.8 parts by weight based on 100 parts by weight of the (meth)acrylic polymer, followed by sufficient stirring, thereby obtaining an adhesive solution. The obtained adhesive solution was applied to a 100 µm thick polyethylene terephthalate (PET) film as a substrate layer to a dry film thickness of 40 µm with an applicator and dried at 110 °C for 3 minutes to provide an adhesive tape.
(3) Messung der Gelfraktion(3) Measurement of the gel fraction
Die Klebeschicht (Klebstoffzusammensetzung) allein wurde in einer Menge von 0,1 g aus dem Klebeband entnommen, in 50 mL Ethylacetat getaucht und mit einem Schüttler bei einer Temperatur von 23 °C und 200 U/min 24 Stunden lang geschüttelt. Nach dem Schütteln wurde ein Metallgitter (#200 Mesh) verwendet, um das Ethylacetat und die Klebstoffzusammensetzung, die durch die Absorption von Ethylacetat aufgequollen war, zu trennen. Die abgetrennte Klebstoffzusammensetzung wurde bei 110 °C eine Stunde lang getrocknet. Das Gewicht der Klebstoffzusammensetzung einschließlich des Metallgitters wurde nach dem Trocknen gemessen, und die Gelfraktion der Klebeschicht wurde anhand der folgenden Formel berechnet. Wenn es sich bei der Klebeschicht um eine härtbare Klebeschicht handelt, so bedeutet die Gelfraktion der Klebeschicht die Gelfraktion, die für die Klebeschicht vor dem Aushärten gemessen wurde.
(4) Messung des Scherspeichermoduls G'(4) Measurement of the shear storage modulus G'
Die Klebeschicht wurde einer Messung des dynamischen Viskoelastizitätsspektrums von -40 °C bis 140 °C unter den Bedingungen von 10 Hz in einem einfachen Heizmodus mit einer Heizrate von 5 °C/min unter Verwendung eines Viskoelastizitätsspektrometers (DVA-200, erhältlich von IT Keisoku Seigyo Co., Ltd.) unterzogen. Der Speichermodul G' bei -20 °C und 23 °C bei einer Frequenz von 10 Hz wurde bestimmt. Wenn es sich bei der Klebeschicht um eine härtbare Klebeschicht handelt, so ist der Scherspeichermodul G' der Klebeschicht der Scherspeichermodul G', der für die Klebeschicht vor dem Aushärten gemessen wurde.The adhesive layer was subjected to dynamic viscoelastic spectrum measurement from -40 °C to 140 °C under the conditions of 10 Hz in a simple heating mode at a heating rate of 5 °C/min using a viscoelastic spectrometer (DVA-200, available from IT Keisoku Seigyo Co., Ltd.). The storage modulus G' at -20 °C and 23 °C at a frequency of 10 Hz was determined. When the adhesive layer is a curable adhesive layer, the shear storage modulus G' of the adhesive layer is the shear storage modulus G' measured for the adhesive layer before curing.
(5) Messung der Oberflächenschälfestigkeit (Klebebereich 10 mm × 10 mm, gegenüber SUS)(5) Measurement of surface peel strength (
(Beispiele 2 bis 9 und 13 bis 16 und Vergleichsbeispiele 1 bis 3 und 5)(Examples 2 to 9 and 13 to 16 and comparative examples 1 to 3 and 5)
Ein Klebeband wurde wie in Beispiel 1 erhalten, mit der Ausnahme, dass Faktoren wie die Zusammensetzung und das gewichtsmittlere Molekulargewicht des (Meth)acrylpolymers, die Art und Menge des Vernetzungsmittels und die Dicke der Klebeschicht wie in Tabelle 1 oder 2 gezeigt verändert wurden. Als Vernetzungsmittel wurden auch Coronate HX (erhältlich von Tosoh Corporation), das ein Isocyanat-Vernetzungsmittel ist, und Tetrad C (erhältlich von Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.), das ein Epoxid-Vernetzungsmittel ist, verwendet.An adhesive tape was obtained as in Example 1, except that factors such as the composition and weight-average molecular weight of the (meth)acrylic polymer, the type and amount of the crosslinking agent, and the thickness of the adhesive layer were changed as shown in Table 1 or 2. As the crosslinking agent, Coronate HX (available from Tosoh Corporation), which is an isocyanate crosslinking agent, and Tetrad C (available from Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.), which is an epoxy crosslinking agent, were also used.
(Beispiele 10 bis 12 und Vergleichsbeispiele 4, 6, und 7)(Examples 10 to 12 and comparative examples 4, 6, and 7)
Eine Lösung eines (Meth)acrylpolymers wurde wie in Beispiel 1 erhalten, mit der Ausnahme, dass Faktoren wie die Zusammensetzung und das gewichtsmittlere Molekulargewicht des (Meth)acrylpolymers wie in Tabelle 1 oder 2 gezeigt verändert wurden.A solution of a (meth)acrylic polymer was obtained as in Example 1, except that factors such as the composition and weight-average molecular weight of the (meth)acrylic polymer were changed as shown in Table 1 or 2.
2-Methacryloyloxyethylisocyanat (MOI) als ungesättigte Verbindung, die eine Isocyanatgruppe enthält, wurde in einer in Tabelle 1 oder 2 gezeigten Menge, bezogen auf 100 Gewichtsteile des Harzfeststoffgehalts der erhaltenen Lösung, die ein (Meth)acrylpolymer enthält, zugegeben und die Additionsreaktion wurde bei 60 °C über zwei Stunden durchgeführt, um eine Lösung eines (Meth)acrylpolymers herzustellen, das eine Kohlenstoff-Kohlenstoff-Doppelbindung in einer Seitenkette enthält.2-Methacryloyloxyethyl isocyanate (MOI) as an unsaturated compound containing an isocyanate group was added in an amount shown in Table 1 or 2 based on 100 parts by weight of the resin solid content of the obtained solution containing a (meth)acrylic polymer, and the addition reaction was carried out at 60 °C for two hours to prepare a solution of a (meth)acrylic polymer containing a carbon-carbon double bond in a side chain.
In der Folge wurde ein Klebeband wie in Beispiel 1 erhalten, mit der Ausnahme, dass Faktoren wie Art und Menge des Vernetzungsmittels und die Dicke der Klebeschicht wie in Tabelle 1 bis 2 gezeigt verändert wurden, und dass Omnirad 651 (erhältlich von IGM Resins B.V.), das ein Photopolymerisationsstarter ist, in einer in Tabelle 1 oder 2 gezeigten Menge zugegeben wurde.Subsequently, an adhesive tape was obtained as in Example 1, except that factors such as the type and amount of the crosslinking agent and the thickness of the adhesive layer were changed as shown in Tables 1 to 2, and that Omnirad 651 (available from IGM Resins B.V.), which is a photopolymerization initiator, was added in an amount shown in Table 1 or 2.
<Bewertung><Rating>
Die in den Beispielen und den Vergleichsbeispielen erhaltenen Klebebänder wurden nach den folgenden Verfahren bewertet. Die Ergebnisse sind in den Tabellen 1 und 2 gezeigt.The adhesive tapes obtained in the examples and comparative examples were evaluated by the following methods. The results are shown in Tables 1 and 2.
(1) Bewertung der Eigenschaft der Übertragung von Chipkomponenten (Haftung von Chipkomponenten)(1) Assessment of the property of transfer of chip components (liability of chip components)
Neben dem erhaltenen Klebeband wurde auch ein einseitiges Testklebeband bereitgestellt.In addition to the adhesive tape received, a single-sided test adhesive tape was also provided.
Es wurde ein Wafer bereitgestellt, auf dem 10 Si-Chips (500 µm × 500 µm im Quadrat, Dicke 50 µm) angeordnet waren. Das einseitige Testklebeband wurde auf der Si-chipseitigen Oberfläche des Wafers angebracht. Der Wafer wurde dann entfernt, um die Si-Chips auf dem einseitigen Testklebeband anzuordnen.A wafer was prepared on which 10 Si chips (500 µm × 500 µm square, thickness 50 µm) were arranged. The single-sided test tape was attached to the Si chip-side surface of the wafer. The wafer was then removed to arrange the Si chips on the single-sided test tape.
Das einseitige Testklebeband mit den angeordneten Si-Chips wurde gegenüber dem in einem Beispiel oder Vergleichsbeispiel erhaltenen Klebeband positioniert. Die einzelnen Si-Chips wurden unter Verwendung eines Halbleiter-Festkörperlasers mit einer Leistung von 4 W und 4 KHz von der Substratschichtseite des einseitigen Testklebebandes aus mit Laserlicht der Wellenlänge 365 nm bestrahlt, um die Si-Chips zu trennen und auf das Klebeband zu übertragen. Die Eigenschaft der Übertragung von Chipkomponenten wurde wie folgt bewertet. „○○“ (sehr gut): 10 Si-Chips hafteten an dem Klebeband, als das Klebeband die Si-Chips fasste. „○“ (gut): 8 oder 9 Si-Chips hafteten an dem Klebeband, „ד (schlecht): 7 oder weniger Si-Chips hafteten an dem Klebeband.The test single-sided adhesive tape with the Si chips arranged was positioned opposite to the adhesive tape obtained in an example or comparative example. The individual Si chips were irradiated with laser light of wavelength 365 nm from the substrate layer side of the test single-sided adhesive tape using a semiconductor solid-state laser with an output of 4 W and 4 KHz to separate the Si chips and transfer them to the adhesive tape. The chip component transfer property was evaluated as follows. "○○" (very good): 10 Si chips adhered to the adhesive tape when the adhesive tape gripped the Si chips. "○" (good): 8 or 9 Si chips adhered to the adhesive tape, "×" (poor): 7 or less Si chips adhered to the adhesive tape.
(2) Eigenschaft der Rückübertragung und Klebstoffablagerung nach Rückübertragung(2) Retransfer property and adhesive deposition after retransfer
Es wurde ein Wafer bereitgestellt, auf dem 10 Si-Chips (500 µm × 500 µm im Quadrat, Dicke 50 µm) angeordnet waren. Das erhaltene Klebeband wurde auf der Si-chipseitigen Oberfläche des Wafers angebracht. Der Wafer wurde dann entfernt, um die Si-Chips auf dem Klebeband anzuordnen. In den Beispielen 10 bis 12 und den Vergleichsbeispielen 4, 6 und 7, in denen die Klebeschicht eine härtbare Klebeschicht (photohärtbare Klebeschicht) war, wurde die Klebeschicht durch Bestrahlung mit UV-Licht von der Seite der Substratschicht mit einer UV-Lampe mit einer Wellenlänge von 365 nm bei einer Intensität von 10 mW/cm2 und einer Dosis von 2.500 mJ/cm2 gehärtet.A wafer on which 10 Si chips (500 µm × 500 µm square, thickness 50 µm) were arranged was provided. The resulting adhesive tape was attached to the Si chip-side surface of the wafer. The wafer was then removed to arrange the Si chips on the adhesive tape. In Examples 10 to 12 and Comparative Examples 4, 6 and 7 in which the adhesive layer was a curable adhesive layer (photocurable adhesive layer), the adhesive layer was cured by irradiating UV light from the substrate layer side with a UV lamp having a wavelength of 365 nm at an intensity of 10 mW/cm 2 and a dose of 2,500 mJ/cm 2 .
Das Klebeband mit den angeordneten Si-Chips wurde gegenüber einer Klebefläche eines Schutzbandes (6312C, erhältlich von Sekisui Chemical Co., Ltd.) positioniert, und sie wurden mit einer 2-kg-Walze bei einer Geschwindigkeit von 300 mm/min druckverklebt, um die Si-Chips mit dem Schutzband unter Druck zu verkleben. Das Schutzband wurde getrennt, um die Si-Chips von dem Klebeband zu trennen und sie zurück auf das Schutzband zu übertragen. Die Eigenschaft der Rückübertragung wurde wie folgt bewertet. „○○“ (sehr gut): 10 Si-Chips wurden von dem Klebeband auf dem Schutzband angeordnet. „○“ (gut): 8 oder 9 Si-Chips wurden auf dem Schutzband angeordnet. „ד (schlecht): 7 oder weniger Si-Chips wurden auf dem Schutzband angeordnet.The adhesive tape with the Si chips arranged was positioned opposite to an adhesive surface of a protective tape (6312C, available from Sekisui Chemical Co., Ltd.), and they were pressure-bonded with a 2 kg roller at a speed of 300 mm/min to bond the Si chips to the protective tape under pressure. The protective tape was separated to separate the Si chips from the adhesive tape and transfer them back to the protective tape. The retransfer property was evaluated as follows. "○○" (very good): 10 Si chips were arranged from the adhesive tape to the protective tape. "○" (good): 8 or 9 Si chips were arranged on the protective tape. "×" (poor): 7 or less Si chips were arranged on the protective tape.
Ferner wurden die Oberflächen der von dem Klebeband getrennten Si-Chips mit einem Mikroskop betrachtet und die Klebstoffablagerungen wurden wie folgt bewertet. „○“ (gut): keine Klebstoffablagerung wurde beobachtet. „ד (schlecht): eine Klebstoffablagerung wurde beobachtet. [Tabelle 1]
- BA: ButylacrylatBA: Butyl acrylate
- HPA: HeptylacrylatHPA: Heptyl Acrylate
- 2-EHA: 2-Ethylhexylacrylat2-EHA: 2-Ethylhexyl acrylate
- LA: LaurylacrylatLA: Lauryl acrylate
- 2-HEA: 2-Hydroxyethylacrylat2-HEA: 2-hydroxyethyl acrylate
- 4-HBA: 4-Hydroxybutylacrylat4-HBA: 4-hydroxybutyl acrylate
- AAc: AcrylsäureAAc: acrylic acid
- AAm: AcrylamidAAm: Acrylamide
GEWERBLICHE ANWENDBARKEITINDUSTRIAL APPLICABILITY
Die vorliegende Erfindung kann ein Klebeband bereitstellen, das eine gute Haftung von Chipkomponenten beim Fassen der Chipkomponenten ermöglichen kann und das eine ausgezeichnete Trennbarkeit aufweisen kann, um Klebstoffablagerungen auf den Chipkomponenten bei der Rückübertragung der Chipkomponenten zu verringern.The present invention can provide an adhesive tape that can enable good adhesion of chip components when gripping the chip components and that can have excellent releasability to reduce adhesive deposits on the chip components when retransferring the chip components.
BEZUGSZEICHENLISTELIST OF REFERENCE SYMBOLS
- 11
- ChipkomponenteChip component
- 22
- KlebeschichtAdhesive layer
- 33
- SubstratschichtSubstrate layer
- 44
- KlebeschichtAdhesive layer
- 55
- SubstratschichtSubstrate layer
- 88th
- Klebebandduct tape
- 99
- Laminat aus Substratschicht und KlebeschichtLaminate of substrate layer and adhesive layer
- 1010
- GlasplatteGlass plate
- 1111
- Doppelseitiges Klebeband für die MessungDouble-sided adhesive tape for measurement
- 1212
- SUS-GestellSUS frame
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNGQUOTES INCLUDED IN THE DESCRIPTION
Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.This list of documents listed by the applicant was generated automatically and is included solely for the better information of the reader. The list is not part of the German patent or utility model application. The DPMA accepts no liability for any errors or omissions.
Zitierte PatentliteraturCited patent literature
- WO 2019065441 [0006]WO 2019065441 [0006]
Claims (18)
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2021172625 | 2021-10-21 | ||
| JP2021-172625 | 2021-10-21 | ||
| JP2021-214308 | 2021-12-28 | ||
| JP2021214308 | 2021-12-28 | ||
| PCT/JP2022/039020 WO2023068315A1 (en) | 2021-10-21 | 2022-10-20 | Pressure-sensitive adhesive tape |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE112022005024T5 true DE112022005024T5 (en) | 2024-08-01 |
Family
ID=86058281
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE112022005024.1T Pending DE112022005024T5 (en) | 2021-10-21 | 2022-10-20 | Self-adhesive tape |
| DE112022005002.0T Pending DE112022005002T5 (en) | 2021-10-21 | 2022-10-20 | Self-adhesive tape |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE112022005002.0T Pending DE112022005002T5 (en) | 2021-10-21 | 2022-10-20 | Self-adhesive tape |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (4) | JP7476351B2 (en) |
| KR (2) | KR20240086601A (en) |
| DE (2) | DE112022005024T5 (en) |
| TW (2) | TW202334358A (en) |
| WO (2) | WO2023068315A1 (en) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2019065441A1 (en) | 2017-09-29 | 2019-04-04 | 東レエンジニアリング株式会社 | Transfer substrate and transfer method |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2806592B2 (en) * | 1990-02-14 | 1998-09-30 | 積水化学工業株式会社 | Acrylic adhesive composition, adhesive tape, adhesive label or adhesive sheet |
| JP2011116916A (en) * | 2009-12-07 | 2011-06-16 | Daio Paper Corp | Adhesive agent composition and adhesive sheet |
| JP2013173913A (en) * | 2011-11-10 | 2013-09-05 | Nitto Denko Corp | Method of detaching plates |
| JP2013159760A (en) | 2012-02-08 | 2013-08-19 | Daio Paper Corp | Thermally-conductive adhesive sheet |
| JP6657090B2 (en) * | 2014-07-14 | 2020-03-04 | デンカ株式会社 | Polyvinylidene fluoride resin adhesive film |
| GB2544335A (en) * | 2015-11-13 | 2017-05-17 | Oculus Vr Llc | A method and apparatus for use in the manufacture of a display element |
| JP6800062B2 (en) * | 2017-03-28 | 2020-12-16 | 古河電気工業株式会社 | Adhesive tape |
| JP6757479B2 (en) * | 2019-01-30 | 2020-09-16 | 日東電工株式会社 | Adhesive sheets, optical films with adhesive layers, laminates, and image displays |
| KR102554028B1 (en) * | 2019-02-07 | 2023-07-11 | (주)이녹스첨단소재 | Pressure Sensitive Adhesive composition using foldable display |
| JP7744137B2 (en) | 2021-01-29 | 2025-09-25 | 日東電工株式会社 | Adhesive sheet for transferring electronic components and method for processing electronic components using the adhesive sheet for transferring electronic components |
-
2022
- 2022-10-20 JP JP2022567139A patent/JP7476351B2/en active Active
- 2022-10-20 DE DE112022005024.1T patent/DE112022005024T5/en active Pending
- 2022-10-20 KR KR1020237033412A patent/KR20240086601A/en active Pending
- 2022-10-20 DE DE112022005002.0T patent/DE112022005002T5/en active Pending
- 2022-10-20 TW TW111139867A patent/TW202334358A/en unknown
- 2022-10-20 WO PCT/JP2022/039020 patent/WO2023068315A1/en not_active Ceased
- 2022-10-20 JP JP2022573480A patent/JPWO2023068315A1/ja active Pending
- 2022-10-20 KR KR1020237033413A patent/KR20240086602A/en active Pending
- 2022-10-20 TW TW111139866A patent/TW202330849A/en unknown
- 2022-10-20 WO PCT/JP2022/039017 patent/WO2023068314A1/en not_active Ceased
-
2024
- 2024-04-17 JP JP2024066654A patent/JP2024086923A/en active Pending
- 2024-09-17 JP JP2024160036A patent/JP2024163338A/en active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2019065441A1 (en) | 2017-09-29 | 2019-04-04 | 東レエンジニアリング株式会社 | Transfer substrate and transfer method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW202330849A (en) | 2023-08-01 |
| JP2024163338A (en) | 2024-11-21 |
| DE112022005002T5 (en) | 2024-08-01 |
| JP2024086923A (en) | 2024-06-28 |
| KR20240086601A (en) | 2024-06-18 |
| JPWO2023068314A1 (en) | 2023-04-27 |
| JP7476351B2 (en) | 2024-04-30 |
| WO2023068315A1 (en) | 2023-04-27 |
| JPWO2023068315A1 (en) | 2023-04-27 |
| WO2023068314A1 (en) | 2023-04-27 |
| TW202334358A (en) | 2023-09-01 |
| KR20240086602A (en) | 2024-06-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE60109951T2 (en) | THROUGH ENERGETIC RADIATION, CURABLE, THERMALLY REMOVABLE, PRESSURE-RESISTANT ADHESIVE FOIL, AND METHOD OF CUTTING PARTS USING THIS FOIL | |
| DE69918618T2 (en) | A surface-protection pressure-sensitive adhesive sheet for grinding the backside of a semiconductor die and a method of using the same | |
| CN111286277B (en) | Adhesive sheet, method for producing same, and method for producing image display device | |
| DE60307113T3 (en) | RADIATION-HARDENABLE, SOLVENT-FREE AND IMPROBABLE PRESERVATIVE OF A ADHESIVE ADHESIVE | |
| DE60119955T2 (en) | BY RADIATION HARDENABLE, THERMALLY DETACHABLE, PRESSURE-SENSITIVE ADHESIVE FOIL AND METHOD FOR PRODUCING SLICED PARTS USING THIS ADHESIVE FOIL | |
| DE60224543T2 (en) | DUCT TAPE | |
| DE69627715T2 (en) | A THERMOSTATOPLASTIC PRECURSOR FOR A PRESSURE-SENSITIVE ADHESIVE | |
| KR101027236B1 (en) | Adhesive for polarizing plate, polarizing plate with pressure-sensitive adhesive and manufacturing method of polarizing plate | |
| DE3586329T2 (en) | THIN ADHESIVE FILM FOR THE PROCESSING OF SEMICONDUCTOR BOARDS. | |
| DE60005615T2 (en) | adhesive films | |
| DE19940390A1 (en) | Pressure sensitive adhesive sheet to fix semiconductor wafers temporarily to support plates comprises a radiation curable adhesive layer | |
| DE10107337A1 (en) | Pressure sensitive adhesive film for wafer bonding | |
| JP6554377B2 (en) | Adhesive composition and adhesive sheet | |
| KR20110063359A (en) | Manufacturing method of adhesive sheet for stealth dicing and semiconductor device | |
| DE112008003005T5 (en) | Adhesive foil for cutting chips | |
| DE102012211075A1 (en) | Pressure-sensitive adhesive, in particular for bonding printing plates to printing cylinders for flexographic printing | |
| DE4230784A1 (en) | Self-adhesive tape (dicing tape) partially detached by radiation | |
| DE60114310T2 (en) | UV-curable pressure-sensitive adhesive composition and UV-curable pressure-sensitive adhesive film | |
| EP3137566B1 (en) | Method for producing an adhesion on permeate-sensitive surfaces | |
| DE112015001075T5 (en) | Semiconductor-related element processing film and method of making chips using the film | |
| DE102015016840A1 (en) | Auxiliary foil for laser cutting | |
| DE69833920T2 (en) | Cover strip for chip transport and sealed structure | |
| DE69520826T2 (en) | RETROREFLECTIVE LICENSE PLATE AND MANUFACTURING METHOD | |
| DE102014208109A1 (en) | Cleavable adhesive with dispensable fissile liquid adhesive | |
| DE112020000935T5 (en) | Adhesive film for back grinding and method for manufacturing semiconductor wafers |