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JP2000046897A - Test apparatus and test method for CMOS integrated circuit - Google Patents

Test apparatus and test method for CMOS integrated circuit

Info

Publication number
JP2000046897A
JP2000046897A JP10214956A JP21495698A JP2000046897A JP 2000046897 A JP2000046897 A JP 2000046897A JP 10214956 A JP10214956 A JP 10214956A JP 21495698 A JP21495698 A JP 21495698A JP 2000046897 A JP2000046897 A JP 2000046897A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
integrated circuit
current
cmos integrated
power supply
mosfet
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10214956A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shigeki Nishikawa
茂樹 西川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
Priority to JP10214956A priority Critical patent/JP2000046897A/en
Publication of JP2000046897A publication Critical patent/JP2000046897A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 電流検出に抵抗成分を使用していることか
ら、流れるIDDQ電流値によって低下する電圧は様々
に変化するため、一様に電源電流測定装置による電源電
圧の低下分を補正して与えることも不可能である。 【構成】 電流関知素子となり、端子VBGに電圧を与
えることによりバックゲート電位が制御できるPチャン
ネルMOSFET2と、このPチャンネルMOSFET
2とゲートが接続され、電流値の増幅と電圧レベルへの
変換を目的とした、VBGに電圧を与えることによりバ
ックゲート電位が制御できるPチャンネルMOSFET
3、さらに電流制限用のNチャンネルMOSFET4、
出力バッファとして機能するインバータ5、6を有す
る。
(57) [Summary] [PROBLEMS] Since a resistance component is used for current detection, a voltage that decreases according to a flowing IDDQ current value varies in various ways. Cannot be corrected and given. A P-channel MOSFET which becomes a current sensing element and whose back gate potential can be controlled by applying a voltage to a terminal VBG, and a P-channel MOSFET
P-channel MOSFET whose gate is connected and whose back gate potential can be controlled by applying a voltage to VBG for the purpose of amplifying a current value and converting it to a voltage level
3, N-channel MOSFET for current limiting 4,
Inverters 5 and 6 functioning as output buffers are provided.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はCMOS集積回路の
電源端子に流れる静止時リーク電流を測定し、リーク電
流の大きさで良否判定を行うCMOS集積回路の試験装
置及び試験方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a test apparatus and a test method for a CMOS integrated circuit for measuring a static leakage current flowing to a power supply terminal of a CMOS integrated circuit and judging pass / fail based on the magnitude of the leak current.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から、CMOS集積回路、特に大規
模集積回路の不良検出には、電源端子に流れるリーク電
流であるIDDQを測定する手法が用いられている。C
MOS集積回路では、内部回路あるいは内部ノードの状
態遷移時のみ大きな電流が流れ、静止時にはほとんど電
流が流れない性質を有する。
2. Description of the Related Art Conventionally, a method of measuring IDDQ, which is a leak current flowing through a power supply terminal, has been used for detecting a defect in a CMOS integrated circuit, particularly in a large-scale integrated circuit. C
A MOS integrated circuit has a property that a large current flows only at the time of a state transition of an internal circuit or an internal node, and almost no current flows at the time of rest.

【0003】この性質を利用してIDDQテストによる
不良検出が行われる。内部回路あるいは内部ノードのあ
る部分と電源あるいは接地(GND)に、ある程度の抵
抗値を有する状態で導通する抵抗性のショートである
と、抵抗値が非常に大きな場合、論理的には“0”ある
いは“1”と判断されるレベルではあっても、若干の電
圧レベルの変動をもたらす電流が流れる。この電流を検
出し、CMOS集積回路内部に欠陥があることを検知す
るのがIDDQテストである。
[0003] By utilizing this property, a defect is detected by an IDDQ test. If there is a resistive short which conducts to a certain part of the internal circuit or internal node and the power supply or ground (GND) with a certain resistance value, if the resistance value is extremely large, logically "0" Alternatively, even though the level is determined to be “1”, a current causing a slight change in the voltage level flows. The IDDQ test detects this current and detects a defect inside the CMOS integrated circuit.

【0004】このIDDQテストでは、各ノードの状態
が“0”の時と“1”の時について測定する必要がある
ため、CMOS集積回路の内部状態を随時変化させなが
ら測定する。従来、これには、縮退故障検出を目的とし
たCMOS集積回路の論理機能をテストするためのファ
ンクションテストパターンを利用し、外部からCMOS
集積回路に供給する電源とCMOS集積回路の間に電源
電流測定装置を設置し、IDDQテストを行っている。
In the IDDQ test, it is necessary to measure when the state of each node is "0" and when it is "1". Therefore, the IDDQ test is performed while changing the internal state of the CMOS integrated circuit as needed. Conventionally, this has been done by using a function test pattern for testing the logic function of a CMOS integrated circuit for the purpose of detecting stuck-at faults,
A power supply current measuring device is installed between a power supply supplied to the integrated circuit and the CMOS integrated circuit, and an IDDQ test is performed.

【0005】[0005]

【解決しようとする課題】電源電流測定装置に関する先
行技術は、たとえば特開平7−248353号公報など
に開示されている。この先行技術では、外部からCMO
S集積回路に供給する電源とCMOS集積回路の間に電
源電流測定装置を設置し、CMOS集積回路のIDDQ
テストが可能であるとしている。
A prior art relating to a power supply current measuring device is disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-248353. In this prior art, a CMO
A power supply current measuring device is installed between a power supply supplied to the S integrated circuit and the CMOS integrated circuit, and the IDDQ of the CMOS integrated circuit is provided.
Testing is possible.

【0006】このような先行技術では、回路の工夫によ
り、測定時間は多少改善されるが電源とCMOS集積回
路の間に設置されたIDDQテストのための電流検出用
抵抗素子など)回路のために、CMOS集積回路に実際
に供給される電源電圧は低下し、場合によっては、大量
の電流が流れる状態遷移時の突入電流の発生時にCMO
S集積回路への供給電圧が異常に低下し、CMOS集積
回路を破壊する可能性もあり得る。
In such prior art, although the measurement time is somewhat improved due to the contrivance of the circuit, a current detecting resistor element for an IDDQ test installed between a power supply and a CMOS integrated circuit) is used for a circuit. The power supply voltage actually supplied to the CMOS integrated circuit is reduced, and in some cases, the CMO is generated when an inrush current occurs during a state transition in which a large amount of current flows.
The supply voltage to the S integrated circuit may drop abnormally, possibly destroying the CMOS integrated circuit.

【0007】また、このように電流検出に抵抗成分を使
用していることから、流れるIDDQ電流値によって低
下する電圧は様々に変化するため、一様に電源電流測定
装置による電源電圧の低下分を補正して与えることも不
可能である。さらに、電流検出に抵抗成分を使用してい
るため、電流波形の安定、つまり静止時電流波形に落ち
つくまでに時間がかかることから、測定時間の長時間化
を招いていた。
In addition, since the resistance component is used for current detection as described above, the voltage lowered by the flowing IDDQ current value varies variously. It is also impossible to give a correction. Furthermore, since a resistance component is used for current detection, it takes a long time to stabilize the current waveform, that is, to settle to the current waveform at rest, which results in a longer measurement time.

【0008】また、静止時電流波形に落ちつくまでに時
間がかかることから、通常のファンクションテスト用の
テストパターンを使用してIDDQ電流測定を行う場合
であっても、動作周波数を非常に遅くしてテストする必
要があった。そのため、通常のファンクションテスト用
のテストパターンと同一のものを使用しているにもかか
わらず、ファンクションテストとIDDQテストは別々
に実施する必要があり、この事もテスト全体での測定時
間の長時間化を招いていた。
Further, since it takes a long time to settle to the quiescent current waveform, even when the IDDQ current measurement is performed using a test pattern for a normal function test, the operating frequency is extremely slowed down. I needed to test. For this reason, the function test and the IDDQ test need to be performed separately even though the same test pattern for a normal function test is used. Was inviting.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載のCMO
S集積回路の試験装置は、CMOS集積回路の静止時電
源電流を測定し、基準値と比較判定するために、電源電
流検出手段と、電流電圧変換手段と、測定値増幅手段
と、測定値判定手段とを持つCMOS集積回路の試験装
置において、上記電源電流検出手段として、バックゲー
ト電位が調整可能な第1のMOSFETを用い、且つ、
該第1のMOSFETのソースに電源電圧印加する手段
が接続し、且つ、上記第1のMOSFETのドレインに
CMOS集積回路の電源端子が接続していることを特徴
とするものである。
A CMO according to claim 1
The test apparatus for the S integrated circuit measures a power supply current at rest of the CMOS integrated circuit and compares and determines the power supply current with a reference value. In a CMOS integrated circuit test apparatus having a means, a first MOSFET whose back gate potential is adjustable is used as the power supply current detecting means, and
A source for applying a power supply voltage is connected to a source of the first MOSFET, and a power supply terminal of a CMOS integrated circuit is connected to a drain of the first MOSFET.

【0010】また、請求項2に記載のCMOS集積回路
の試験装置は、上記電流電圧変換手段は、バックゲート
電位が調節可能で、上記電源電流検出手段の第1のMO
SFETとバックゲートが共通接続された第2のMOS
FETと、該第2のMOSFETのドレインに接続され
た電流制限回路とからなり、上記電源電流検出手段の第
1のMOSFETと上記電流電圧変換手段の第2のMO
SFETとがカレントミラー接続されたことを特徴とす
るものである。
According to a second aspect of the present invention, in the testing apparatus for a CMOS integrated circuit, the current-to-voltage conversion means can adjust a back gate potential, and the first MO of the power supply current detection means.
A second MOS in which the SFET and the back gate are commonly connected
An FET and a current limiting circuit connected to the drain of the second MOSFET. The first MOSFET of the power supply current detecting means and the second MOSFET of the current-voltage converting means.
And a current mirror connection with the SFET.

【0011】また、請求項3に記載のCMOS集積回路
の試験装置は、上記電源電流検出手段の第1のMOSF
ETと、上記電流電圧変換手段の第2のMOSFETと
がデプリージョン型トランジスタで構成されたことを特
徴とする、請求項1又は請求項2に記載のCMOS集積
回路の試験装置である。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a test apparatus for a CMOS integrated circuit, comprising:
3. The testing device for a CMOS integrated circuit according to claim 1, wherein the ET and the second MOSFET of the current-voltage converter are constituted by depletion type transistors.

【0012】また、請求項4に記載のCMOS集積回路
の試験方法は、請求項1乃至請求項3のいずれかに記載
のCMOS集積回路の試験装置を用いた、CMOS集積
回路の試験方法において、上記第1のMOSFETのバ
ックゲート電位を適度に制御することにより、該第1の
MOSFETのスレッシュ電位を略0Vにすることを特
徴とするものである。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a method of testing a CMOS integrated circuit using the CMOS integrated circuit test apparatus according to any one of the first to third aspects. By appropriately controlling the back gate potential of the first MOSFET, the threshold potential of the first MOSFET is set to approximately 0V.

【0013】更に、請求項5に記載のCMOS集積回路
の試験方法は、本発明の請求項2又は請求項3のいずれ
かに記載のCMOS集積回路の試験装置を用いた、CM
OS集積回路の試験方法において、上記電流電圧変換手
段を構成する電流制限回路の電流制限値によって比較判
定基準値を設定することを特徴とするものである。
Further, according to a fifth aspect of the present invention, there is provided a method of testing a CMOS integrated circuit, comprising using the CMOS integrated circuit test apparatus according to the second or third aspect of the present invention.
In the test method for an OS integrated circuit, a comparison determination reference value is set based on a current limit value of a current limit circuit constituting the current-voltage conversion unit.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下、一実施の形態に基づいて、
本発明を詳細に説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, based on one embodiment,
The present invention will be described in detail.

【0015】図1は本発明の第1の実施の形態のCMO
S集積回路の試験装置の構成図、図2は本発明によるC
MOS集積回路の試験装置におけるMOSFETのI−
V特性を示す図、図3は本発明の第2の実施の形態のC
MOS集積回路の試験装置の構成図、図4は本発明の第
3の実施の形態のCMOS集積回路の試験装置の構成図
である。
FIG. 1 shows a CMO according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a block diagram of a test apparatus for an S integrated circuit, and FIG.
MOSFET I- in MOS integrated circuit test equipment
FIG. 3 is a graph showing V characteristics, and FIG. 3 is a graph showing C characteristics according to the second embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a configuration diagram of a testing device for a CMOS integrated circuit according to a third embodiment of the present invention.

【0016】この実施の形態のCMOS集積回路の試験
装置は、電流関知素子となり、端子VBGに電圧を与え
ることによりバックゲート電位が制御できるPチャンネ
ルMOSFET2と、このPチャンネルMOSFET2
とゲートが接続され、電流値の増幅と電圧レベルへの変
換を目的とした、VBGに電圧を与えることによりバッ
クゲート電位が制御できるPチャンネルMOSFET
3、さらに電流制限用のNチャンネルMOSFET4、
出力バッファとして機能するインバータ5、6を有す
る。
The testing device for a CMOS integrated circuit according to the present embodiment is a P-channel MOSFET 2 which serves as a current sensing element and can control the back gate potential by applying a voltage to a terminal VBG.
P-channel MOSFET whose gate and gate are connected and whose back gate potential can be controlled by applying a voltage to VBG for the purpose of amplifying the current value and converting it to a voltage level
3, N-channel MOSFET for current limiting 4,
Inverters 5 and 6 functioning as output buffers are provided.

【0017】この第1の実施の形態のCMOS集積回路
の試験装置の接続構成を説明する。
The connection configuration of the test apparatus for a CMOS integrated circuit according to the first embodiment will be described.

【0018】電源電流測定時はPチャンネルMOSFE
T2のソース電極をVDD2に接続し、ドレイン電極を
CMOS集積回路1のVDD1(電源)端子に接続す
る。PチャンネルMOSFET2とPチャンネルMOS
FET3のバックゲートには端子VBGからスレッシュ
電位を0V付近に制御する電圧がかけられる。なお、P
チャンネルMOSFET2及び3がデプリージョン型M
OSFETの場合は、このようなバックゲートの制御用
の電圧の印加は不要である。
When measuring the power supply current, a P-channel MOSFET is used.
The source electrode of T2 is connected to VDD2, and the drain electrode is connected to VDD1 (power supply) terminal of CMOS integrated circuit 1. P-channel MOSFET2 and P-channel MOS
A voltage for controlling the threshold potential near 0 V is applied to the back gate of the FET 3 from the terminal VBG. Note that P
Channel MOSFETs 2 and 3 are depletion type M
In the case of the OSFET, it is not necessary to apply such a voltage for controlling the back gate.

【0019】更にPチャンネルMOSFET2のドレイ
ン電極をPチャンネルMOSFET2のゲート電極に接
続し、このPチャンネルMOSFET2のゲート電極は
PチャンネルMOSFET3のゲート電極にも接続され
る。すなわち、PチャンネルMOSFET2及びPチャ
ンネルMOSFET3はカレントミラー接続されてい
る。
Further, the drain electrode of the P-channel MOSFET 2 is connected to the gate electrode of the P-channel MOSFET 2, and the gate electrode of the P-channel MOSFET 2 is also connected to the gate electrode of the P-channel MOSFET 3. That is, the P-channel MOSFET 2 and the P-channel MOSFET 3 are current mirror connected.

【0020】このPチャンネルMOSFET3のソース
電極はPチャンネルMOSFET2のソース電極と同じ
くVDD2に接続し、ドレイン電極はNチャンネルMO
SFET4のドレイン電極に接続される。また、Nチャ
ンネルMOSFET4のソース電極はGNDに接地され
る。このPチャンネルMOSFET3のソース電極はイ
ンバータ5の入力に接続され、インバータ5の出力はイ
ンバータ6の入力になる。インバータ6の出力はテスタ
などの判定装置に接続され任意のタイミングでレベルを
取り込むことができる。
The source electrode of this P-channel MOSFET 3 is connected to VDD2 in the same manner as the source electrode of the P-channel MOSFET 2, and the drain electrode is an N-channel MOSFET.
Connected to the drain electrode of SFET4. The source electrode of the N-channel MOSFET 4 is grounded to GND. The source electrode of the P-channel MOSFET 3 is connected to the input of the inverter 5, and the output of the inverter 5 becomes the input of the inverter 6. The output of the inverter 6 is connected to a determination device such as a tester, and can take in the level at an arbitrary timing.

【0021】この第1の実施の形態のCMOS集積回路
の電源電流測定装置の測定方法を説明する。
The measuring method of the power supply current measuring device for a CMOS integrated circuit according to the first embodiment will be described.

【0022】CMOS集積回路1には内部ロジックを活
性化させるため、テストパターンを与える。IDDQ不
良があった場合、多少でもIDDQ電流がPチャンネル
MOSFET2のソース電極からドレイン電極に流れ
る。このとき、PチャンネルMOSFET2はそのスレ
ッショルド電圧がほぼ0Vになるようにバックゲートに
電位が与えられているため、V1における電位はPチャ
ンネルMOSFET2のON抵抗による電圧降下がある
が、ほぼVDD2と同電位である。
A test pattern is applied to the CMOS integrated circuit 1 to activate internal logic. When there is an IDDQ defect, an IDDQ current flows from the source electrode to the drain electrode of the P-channel MOSFET 2 to some extent. At this time, since a potential is applied to the back gate of the P-channel MOSFET 2 so that its threshold voltage becomes substantially 0 V, the potential at V1 has a voltage drop due to the ON resistance of the P-channel MOSFET 2, but is substantially the same as VDD2. It is.

【0023】このときのPチャンネルMOSFET2の
ON抵抗はそのMOSFETサイズを決めるゲート長と
ゲート幅によって決まる。さらにこの電位がPチャンネ
ルMOSFET2のゲート電圧になっているため、Pチ
ャンネルMOSFET2はIDDQ電流を流すために必
要なゲート電圧が自己バイアスされている。
At this time, the ON resistance of the P-channel MOSFET 2 is determined by the gate length and the gate width which determine the size of the MOSFET. Further, since this potential is the gate voltage of the P-channel MOSFET 2, the P-channel MOSFET 2 is self-biased with the gate voltage required to flow the IDDQ current.

【0024】次ぎにPチャンネルMOSFET3のゲー
ト電極はPチャンネルMOSFET2のゲート電極と接
続されているため、PチャンネルMOSFET2のドレ
イン電流と等しい電流がPチャンネルMOSFET3の
ドレイン電流に流れる。そのため、PチャンネルMOS
FET3のドレイン電極側である、V2の電位はNチャ
ンネルMOSFET4の飽和電流よりMOSFET3の
ドレイン電流が大きくなった時に急激に上昇する。
Next, since the gate electrode of the P-channel MOSFET 3 is connected to the gate electrode of the P-channel MOSFET 2, a current equal to the drain current of the P-channel MOSFET 2 flows to the drain current of the P-channel MOSFET 3. Therefore, P-channel MOS
The potential of V2, which is on the drain electrode side of FET3, rises sharply when the drain current of MOSFET3 becomes larger than the saturation current of N-channel MOSFET4.

【0025】例えば、10μAを判定の基準として、I
DDQ電流を検出したときの回路の動作について、図1
及び図2を用いて説明する。V2の電位をインバータ5
のスレッシュ電位(Vth)近くにしたい場合は、Nチ
ャンネルMOSFET4のゲート電位VG及びドレイン
・ソース間電位VDSについて、VG=VDSでかつV
DS=Vthとなる時にIDS=10μAとなるように
MOSFET4のゲート長とゲート幅を決定すればよい
わけである。V2の電位はインバータ5により反転増幅
されるが、再度インバータ6により反転され、元とおな
じ極性で出力される。
For example, using 10 μA as a criterion for determination,
FIG. 1 shows the operation of the circuit when the DDQ current is detected.
This will be described with reference to FIG. The potential of V2 is
, The gate potential VG and the drain-source potential VDS of the N-channel MOSFET 4 are VG = VDS and Vth
That is, the gate length and gate width of the MOSFET 4 may be determined so that IDS = 10 μA when DS = Vth. The potential of V2 is inverted and amplified by the inverter 5, but is again inverted by the inverter 6 and output with the same polarity as the original.

【0026】但し、インバータ5およびインバータ6は
V2の電位を外部に伝達するために電圧増幅および電流
バッファの機能を果たすものであり、極性の向きについ
てはどちらでもかまわない。また、インバータの数も限
定するものではない。さらに、インバータの代わりに単
なるバッファを使用しても構わない。
However, the inverter 5 and the inverter 6 perform the functions of voltage amplification and current buffer for transmitting the potential of V2 to the outside, and the polarity may be either direction. Also, the number of inverters is not limited. Further, a simple buffer may be used instead of the inverter.

【0027】また、本発明による電源電流測定装置を電
流検出手段として用い、このMOSFETのバックゲー
ト電位を適度に制御することにより、または、MOSF
ET2、3にデプリージョン型MOSFETを用いるこ
とにより、このMOSFETのスレッシュ電位を0V付
近にし、電流の流れによる電源電圧降下を最小限に抑え
ることができ、また、このMOSFETの動作速度を上
昇させ、通常のファンクションテストと同等の速度でも
動作可能となる。
Further, by using the power supply current measuring device according to the present invention as current detecting means and appropriately controlling the back gate potential of the MOSFET,
By using depletion type MOSFETs for ET2 and ET3, the threshold potential of these MOSFETs can be set to around 0V, the power supply voltage drop due to the flow of current can be minimized, and the operating speed of these MOSFETs can be increased. It can operate at the same speed as a normal function test.

【0028】さらに、IDDQテストは電源端子を観測
するのに対し、ファンクションテストはこれとは別の入
力端子、出力端子、あるいは入出力端子を観測すること
から、IDDQテストで、電源端子を観察しながら、出
力端子の理論値と出力期待値とを比較判定するファンク
ションテストを平行して、同時に実施することが可能に
なる。
Further, while the IDDQ test observes the power supply terminal, the function test observes another input terminal, output terminal, or input / output terminal. Therefore, the IDDQ test observes the power supply terminal. However, it is possible to perform the function tests in parallel to determine the theoretical value of the output terminal and the expected output value in parallel and simultaneously.

【0029】次に、第2の実施の形態は、機能としては
第1の実施の形態と全く同じものであるが、簡便な方法
として、第1の実施の形態におけるNチャンネルMOS
FET4の代わりに、図3に示すように、Pチャンネル
MOSFET3のON抵抗を考慮しその抵抗比を決めた
上で固定抵抗8を挿入したものである。
Next, the second embodiment has exactly the same function as that of the first embodiment. However, as a simple method, the N-channel MOS transistor of the first embodiment is used.
Instead of the FET 4, as shown in FIG. 3, a fixed resistor 8 is inserted after determining the resistance ratio in consideration of the ON resistance of the P-channel MOSFET 3.

【0030】次に、第3の実施の形態は、機能としては
第1の実施の形態と全く同じものであるが、図4に示す
ように、判定結果をラッチする回路であるフラグレジス
タ7がインバータ6の出力に接続され、一旦、ラッチさ
れるとリセット信号FLG−RSTが与えられるまでそ
の値を維持する。
Next, the third embodiment has exactly the same function as that of the first embodiment. However, as shown in FIG. 4, a flag register 7 which is a circuit for latching the judgment result is provided. Once connected to the output of inverter 6 and once latched, it maintains its value until reset signal FLG-RST is applied.

【0031】すなわち、ファンクションテスト中に1ヶ
所でもIDDQテスト不良ポイントがあればこのフラグ
がセットされ、任意のタイミングでIDDQテスト不良
処理が行える。なお、ラッチ用のクロック信号FLG−
CLKは任意のタイミングで外部から与えられる。
That is, if there is even one IDDQ test failure point during the function test, this flag is set, and the IDDQ test failure processing can be performed at an arbitrary timing. The latch clock signal FLG-
CLK is externally applied at an arbitrary timing.

【0032】[0032]

【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明で
は、電源電流測定部、電流電圧変換部、測定値増幅部、
測定値判定部という非常に簡単な装置構成で、かつ非常
に微小なIDDQ電流を検出可能で、しかも遷移時に発
生する大電流も流しうる。さらに、大電流発生時にも電
源電圧の降下を最小限に抑えることが出来、測定時間も
非常に高速である。
As described above in detail, according to the present invention, the power supply current measuring unit, the current-voltage converting unit, the measured value amplifying unit,
With a very simple device configuration called a measurement value judgment unit, a very small IDDQ current can be detected, and a large current generated at the time of transition can flow. Further, even when a large current is generated, the drop of the power supply voltage can be minimized, and the measurement time is very fast.

【0033】また、本発明による電源電流測定装置を使
用すれば、高速にIDDQテスト可能なことから、ファ
ンクションテストを行う周波数でファンクションテスト
を実施しながら同時にIDDQテストを行うことによ
り、通常のテストフローに特別にIDDQテストを付加
する必要がなく、テスト時間の増加が全くなく、テスト
パターンを特別に準備する必要もなく高品質でかつ、高
速にIDDQテストを行うことができる。
Since the power supply current measuring device according to the present invention enables the IDDQ test to be performed at high speed, the IDDQ test can be performed at the same time as performing the function test at the frequency at which the function test is performed. It is not necessary to add an IDDQ test specially to the test, the test time does not increase at all, and the IDDQ test can be performed at high quality and at high speed without special preparation of a test pattern.

【0034】また、請求項2に記載の本発明を用いるこ
とにより、容易にIDDQテスト不良を識別する事がで
きる。
Further, by using the present invention, it is possible to easily identify an IDDQ test failure.

【0035】また、請求項3又は請求項4に記載の本発
明を用いることにより、電流の流れによる電源電圧降下
を最小限に抑え、CMOS集積回路に与える電気的障害
を防ぐことができる。
Further, by using the present invention according to the third or fourth aspect, it is possible to minimize the power supply voltage drop due to the current flow, and to prevent the electric fault given to the CMOS integrated circuit.

【0036】更に、請求項5に記載の本発明を用いるこ
とにより、。
Further, by using the present invention described in claim 5.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明によるCMOS集積回路の試験装置の第
1の実施の形態の構成を示す回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a configuration of a first embodiment of a CMOS integrated circuit test apparatus according to the present invention.

【図2】本発明によるCMOS集積回路の試験装置にお
けるMOSFETのI−V特性を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing an IV characteristic of a MOSFET in a CMOS integrated circuit test apparatus according to the present invention.

【図3】本発明によるCMOS集積回路の試験装置の第
2の実施の形態の構成を示す回路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a configuration of a second embodiment of a test apparatus for a CMOS integrated circuit according to the present invention.

【図4】本発明によるCMOS集積回路の試験装置の第
3の実施の形態の構成を示す回路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram showing a configuration of a third embodiment of a CMOS integrated circuit test apparatus according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 CMOS集積回路 2、3 PチャンネルMOSFET 4 NチャンネルMOSFET 5、6 インバータ 7 フラグレジスタ 8 抵抗 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 CMOS integrated circuit 2, 3 P-channel MOSFET 4 N-channel MOSFET 5, 6 Inverter 7 Flag register 8 Resistance

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】CMOS集積回路の静止時電源電流を測定
し、基準値と比較判定するために、電源電流検出手段
と、電流電圧変換手段と、測定値増幅手段と、測定値判
定手段とを持つCMOS集積回路の試験装置において、 上記電源電流検出手段として、バックゲート電位が調整
可能な第1のMOSFETを用い、且つ、該第1のMO
SFETのソースに電源電圧印加する手段が接続し、且
つ、上記第1のMOSFETのドレインにCMOS集積
回路の電源端子が接続していることを特徴とする、CM
OS集積回路の試験装置。
A power supply current detecting means, a current-voltage converting means, a measured value amplifying means, and a measured value judging means for measuring a static power supply current of a CMOS integrated circuit and comparing and judging the measured value with a reference value. In the test apparatus for a CMOS integrated circuit, a first MOSFET whose back gate potential is adjustable is used as the power supply current detecting means, and the first MO is used.
CM, wherein a means for applying a power supply voltage is connected to a source of the SFET, and a power supply terminal of a CMOS integrated circuit is connected to a drain of the first MOSFET.
Test equipment for OS integrated circuits.
【請求項2】上記電流電圧変換手段は、バックゲート電
位が調節可能で、上記電源電流検出手段の第1のMOS
FETとバックゲートが共通接続された第2のMOSF
ETと、該第2のMOSFETのドレインに接続された
電流制限回路とからなり、上記電源電流検出手段の第1
のMOSFETと上記電流電圧変換手段の第2のMOS
FETとがゲート電極の電位が共通になるようカレント
ミラー接続されたことを特徴とする、CMOS集積回路
の試験装置。
2. The power supply current detection means according to claim 1, wherein said current-voltage conversion means has a back gate potential adjustable, and
Second MOSF in which FET and back gate are connected in common
ET and a current limiting circuit connected to the drain of the second MOSFET.
MOSFET and the second MOS of the current-voltage conversion means
A testing device for a CMOS integrated circuit, wherein a FET and a current mirror are connected so that the potential of a gate electrode is common.
【請求項3】上記電源電流検出手段の第1のMOSFE
Tと、上記電流電圧変換手段の第2のMOSFETとが
デプリージョン型トランジスタで構成されたことを特徴
とする、請求項1又は請求項2に記載のCMOS集積回
路の試験装置。
3. A first MOSFE of said power supply current detecting means.
3. The testing device for a CMOS integrated circuit according to claim 1, wherein T and the second MOSFET of the current-voltage converter are formed of depletion type transistors.
【請求項4】請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の
CMOS集積回路の試験装置を用いた、CMOS集積回
路の試験方法において、 上記第1のMOSFETのバックゲート電位を適度に制
御することにより、該第1のMOSFETのスレッシュ
電位を略0Vにすることを特徴とする、CMOS集積回
路の試験方法。
4. A method for testing a CMOS integrated circuit using the test apparatus for a CMOS integrated circuit according to claim 1, wherein a back gate potential of the first MOSFET is appropriately controlled. A method for testing a CMOS integrated circuit, wherein the threshold potential of the first MOSFET is set to approximately 0V.
【請求項5】請求項2又は請求項3のいずれかに記載の
CMOS集積回路の試験装置を用いた、CMOS集積回
路の試験方法において、 上記電流電圧変換手段を構成する電流制限回路の電流制
限値によって比較判定基準値を設定することを特徴とす
る、CMOS集積回路の試験方法。
5. A method for testing a CMOS integrated circuit using the test apparatus for a CMOS integrated circuit according to claim 2 or 3, wherein the current limiting circuit constituting the current-to-voltage conversion means includes a current limiting circuit. A method for testing a CMOS integrated circuit, wherein a comparison determination reference value is set according to a value.
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