JP2000068405A - Semiconductor device and manufacture thereof - Google Patents
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Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 117
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 16
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 131
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 128
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims abstract description 11
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims abstract description 11
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 11
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 11
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 6
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 6
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 4
- 230000015654 memory Effects 0.000 abstract description 13
- 239000010408 film Substances 0.000 description 9
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 4
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 4
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 4
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 4
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 2
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 239000011295 pitch Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 101100532856 Arabidopsis thaliana SDRA gene Proteins 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 102100027340 Slit homolog 2 protein Human genes 0.000 description 1
- 101710133576 Slit homolog 2 protein Proteins 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48225—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
- H01L2224/4824—Connecting between the body and an opposite side of the item with respect to the body
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/30—Technical effects
- H01L2924/301—Electrical effects
- H01L2924/30107—Inductance
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/30—Technical effects
- H01L2924/301—Electrical effects
- H01L2924/3011—Impedance
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、たとえばCSP
(Chip Size Package) 構造であって、しかもBGA
(Ball Grid Array) 構造による半導体パッケージから
なる半導体装置およびその製造方法に関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a CSP
(Chip Size Package) Structure and BGA
(Ball Grid Array) The present invention relates to a semiconductor device including a semiconductor package having a structure and a method of manufacturing the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、半導体装置の高集積化の要請が著
しく、たとえば1GバイトのSDRAM(Dynamic Sync
hronous Random Access Memory)のような大容量メモリ
の開発が進められている。このような半導体素子(以
下、半導体チップまたは単に「チップ」という)を用い
て半導体パッケージを製造するにあたって、次のような
要請に応えることが望まれている。2. Description of the Related Art In recent years, there has been a remarkable demand for higher integration of semiconductor devices. For example, a 1 GB SDRAM (Dynamic Sync.
Large-capacity memories such as hronous random access memories) are being developed. In manufacturing a semiconductor package using such a semiconductor element (hereinafter, referred to as a semiconductor chip or simply “chip”), it is desired to meet the following requirements.
【0003】すなわち、上述した1GバイトのSDRA
Mの場合には、チップサイズが従来のものに比べて大き
くなり、また外部端子も多くなり、多ピン化を図ること
が必要となる。このような半導体チップを用いた半導体
パッケージを製造するにあたっては、チップサイズをで
きるだけ小さくし、パッケージの大きさを小さくすると
ともに、外部端子もできるだけ削減する必要がある。That is, the above-mentioned 1 GB SDRA
In the case of M, the chip size becomes larger than that of the conventional one, and the number of external terminals increases, so that it is necessary to increase the number of pins. In manufacturing a semiconductor package using such a semiconductor chip, it is necessary to reduce the chip size as much as possible, reduce the size of the package, and reduce the number of external terminals as much as possible.
【0004】また、上述したチップを用いた半導体パッ
ケージでは、チップ側の電極パッドと外部接続用の外部
端子とをできるだけ簡単な構造によって接続することが
望まれている。さらに、上述したパッケージ内に電源用
の配線導体、グランド用の配線導体を形成するにあたっ
ては、配線抵抗をできるだけ小さくすることも望まれ
る。In a semiconductor package using the above-mentioned chip, it is desired that the electrode pads on the chip side and the external terminals for external connection be connected by a structure as simple as possible. Furthermore, in forming the power supply wiring conductor and the ground wiring conductor in the above-described package, it is also desirable to reduce the wiring resistance as much as possible.
【0005】このため、上述した半導体チップを用いて
半導体パッケージを製造するにあたって、そのパッケー
ジサイズをチップサイズとほぼ同じ大きさで形成したも
のとして、以下のような構造を有するものが提案されて
いる。[0005] Therefore, when a semiconductor package is manufactured using the above-described semiconductor chip, a package having the following structure has been proposed assuming that the package size is formed to be substantially the same as the chip size. .
【0006】たとえば特開平8−306853号公報に
は、従来一般的であるLOC(LeadOn Chip)構造の半
導体パッケージの側壁部分から外方に伸びているリード
の代わりに、リードフレームの平面部で半導体チップと
反対側の面に、外部接続端子となる突起バンプを接続し
た構造の半導体パッケージが開示されている。この従来
例の半導体パッケージは、リードフレームを用いたLO
C構造であって、しかもCSP構造である。For example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 8-306853, instead of a lead extending outward from a side wall portion of a semiconductor package having a conventional LOC (Lead On Chip) structure, a semiconductor is formed on a flat portion of a lead frame. A semiconductor package having a structure in which a projection bump serving as an external connection terminal is connected to a surface opposite to a chip is disclosed. This conventional semiconductor package is an LO package using a lead frame.
It has a C structure and a CSP structure.
【0007】また、特開平10−107172号公報に
は、金属製リードの代わりにTAB(Tape Automated B
onding)テープを用いてセンタパッドにTAB接続し、
外部接続端子にバンプ接続したLOC構造であってかつ
CSP構造である半導体パッケージが開示されている。Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-107172 discloses a TAB (Tape Automated B) instead of a metal lead.
onding) TAB connection to the center pad using tape,
A semiconductor package having a LOC structure and a CSP structure in which bumps are connected to external connection terminals is disclosed.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】しかし、上述した従来
の半導体装置において、前者の特開平8−306853
号公報に記載された半導体パッケージは、LOC構造で
かつCSP構造であるから、多ピン化が進むにしたがっ
て外部端子間ピッチを通せる配線数に制約がでてきて、
実質的には電極パッドに対して外部端子列数は二列が限
度であった。However, in the above-mentioned conventional semiconductor device, the former Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 8-306853 has been disclosed.
Since the semiconductor package described in the above publication has a LOC structure and a CSP structure, as the number of pins increases, the number of wirings that can pass the pitch between external terminals is restricted.
Practically, the number of external terminal rows with respect to the electrode pads is limited to two rows.
【0009】また、後者の特開平10−107172号
公報に記載された従来の半導体パッケージは、TAB接
続構造であるため、その配線基板を品種毎に合わせて形
成する必要があり、互換性に欠け、コスト高となる。そ
して、このようなTABテープによる接続構造では接続
部に引張り応力が生じ、装置全体としての信頼性を向上
させることが難しい。Further, the conventional semiconductor package described in the latter Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-107172 has a TAB connection structure, so that its wiring board must be formed in accordance with each product type and lacks compatibility. , Resulting in high costs. In such a connection structure using a TAB tape, a tensile stress is generated at the connection portion, and it is difficult to improve the reliability of the entire device.
【0010】特に、このようなTABテープは柔軟性を
もち、しかも熱膨張率がチップと大きく相違するから、
温度変化によって引張り応力が生じ、リード接続部分が
外れるおそれがあり、信頼性を確保するうえで問題であ
った。さらに、半導体チップの電極パッドから外部端子
間までの配線距離が長く、配線抵抗が高くなり、インダ
クタンスが大きくなるから高速動作の障害となるおそれ
もあった。In particular, such a TAB tape has flexibility and a coefficient of thermal expansion which is significantly different from that of a chip.
There is a possibility that a tensile stress is generated due to a temperature change and a lead connection portion may be detached, which is a problem in securing reliability. Further, the wiring distance from the electrode pads of the semiconductor chip to the external terminals is long, the wiring resistance is increased, and the inductance is increased.
【0011】本発明はこのような事情に鑑みてなされた
ものであり、メモリまたはメモリ−ロジック混載チップ
をCSP構造によってパッケージ化するにあたって、多
ピン化が図れ、また品種切替えが可能で互換性に優れた
構造を得るとともに、パッケージの最小化を実現するこ
とができる半導体装置およびその製造方法を得ることを
目的とする。The present invention has been made in view of such circumstances, and when packaging a memory or a memory-logic mixed chip by a CSP structure, it is possible to increase the number of pins and to switch types to achieve compatibility. It is an object of the present invention to provide a semiconductor device and a method of manufacturing the same, which can obtain an excellent structure and can minimize a package.
【0012】[0012]
【課題を解決するための手段】このような目的に応える
ために本発明の請求項1に係る半導体装置は、電極パッ
ドを一側面に所定の配列パターンで形成した半導体素子
と、この半導体素子の電極パッド形成面が素子搭載面に
接着剤を介して固定され、この素子搭載面と反対側の面
に外部接続用の外部端子(たとえばボールバンプ)が所
定の配列パターンで設けられるとともにこれら各外部端
子に接続される配線導体が形成されているベース基板を
備え、前記ベース基板の前記半導体素子側の各電極パッ
ドに対応する位置に、少なくとも電極パッドの一つが露
出するような大きさを有するスリットを穿設し、前記ス
リットを通して配線導体と半導体素子側の電極パッドと
をワイヤボンディングによって電気的に接続したことを
特徴とする。According to a first aspect of the present invention, there is provided a semiconductor device in which electrode pads are formed on one side surface in a predetermined arrangement pattern, and The electrode pad forming surface is fixed to the element mounting surface via an adhesive, and external terminals (for example, ball bumps) for external connection are provided in a predetermined arrangement pattern on a surface opposite to the element mounting surface. A slit having a size such that at least one of the electrode pads is exposed at a position corresponding to each electrode pad on the semiconductor element side of the base substrate, the wiring substrate being provided with a wiring conductor connected to a terminal; And the wiring conductor and the electrode pad on the semiconductor element side are electrically connected by wire bonding through the slit.
【0013】本発明の請求項2に係る半導体装置は、前
記ベース基板の外部端子を設けた端子配設面に、前記外
部端子の接続用ランド部と前記スリットとを近接させて
形成したことを特徴とする。According to a second aspect of the present invention, in the semiconductor device, the connection land portion of the external terminal and the slit are formed close to each other on a surface of the base substrate on which the external terminal is provided. Features.
【0014】本発明の請求項3に係る半導体装置は、前
記半導体素子における電極パッド形成面の幅方向中央に
電極パッドを並べることによりセンタパッド部を形成
し、前記ベース基板における前記センタパッド部に対応
する位置にそれよりも大きなセンタスリットを形成する
とともに、このセンタスリットの側縁部分に前記配線導
体の一部を臨ませるように配線したことを特徴とする。According to a third aspect of the present invention, in the semiconductor device, a center pad portion is formed by arranging an electrode pad at a center in a width direction of an electrode pad forming surface of the semiconductor element, and the center pad portion is formed on the base substrate. A center slit larger than that is formed at a corresponding position, and wiring is performed so that a part of the wiring conductor faces a side edge portion of the center slit.
【0015】本発明の請求項4に係る半導体装置は、前
記ベース基板の素子搭載面に、電源用配線導体とグラン
ド用配線導体とをそれぞれ領域を分けて形成したことを
特徴とする。A semiconductor device according to a fourth aspect of the present invention is characterized in that a power supply wiring conductor and a ground wiring conductor are formed separately on the element mounting surface of the base substrate.
【0016】本発明の請求項5に係る半導体装置は、前
記半導体素子のセンタパッド部に対応するセンタスリッ
トを備えたベース基板を備え、前記電源用配線導体とグ
ランド用配線導体とを、前記ベース基板の素子搭載面で
あって前記センタスリットの両側に分けて形成したこと
を特徴とする。A semiconductor device according to a fifth aspect of the present invention includes a base substrate provided with a center slit corresponding to a center pad portion of the semiconductor element, wherein the power supply wiring conductor and the ground wiring conductor are connected to the base substrate. The element mounting surface of the substrate is formed separately on both sides of the center slit.
【0017】本発明の請求項6に係る半導体装置は、前
記信号用配線導体による配線回路を、前記ベース基板の
素子搭載面または外部端子を設けた端子配設面の少なく
ともいずれか一方に形成したことを特徴とする。In a semiconductor device according to a sixth aspect of the present invention, a wiring circuit using the signal wiring conductor is formed on at least one of an element mounting surface of the base substrate and a terminal arrangement surface on which external terminals are provided. It is characterized by the following.
【0018】本発明の請求項7に係る半導体装置は、前
記ベース基板として多層配線回路基板を用い、前記信号
用配線導体による配線回路を、前記電源用配線導体、グ
ランド用配線導体を形成した素子搭載面、前記外部端子
を設けた端子配設面以外の面に形成したことを特徴とす
る。The semiconductor device according to claim 7, wherein a multilayer circuit board is used as the base substrate, and a wiring circuit formed by the signal wiring conductor is formed by forming the power supply wiring conductor and the ground wiring conductor. It is characterized in that it is formed on a surface other than the mounting surface and the terminal arrangement surface on which the external terminals are provided.
【0019】本発明の請求項8に係る半導体装置は、前
記ベース基板の素子搭載面であって前記信号用外部端子
と配線導体、グランド端子と配線導体に対向する部分に
グランド用配線導体を、前記電源用外部端子と配線導体
に対向する部分に電源用配線導体を、絶縁層を介して積
層させて形成したことを特徴とする。In a semiconductor device according to an eighth aspect of the present invention, a ground wiring conductor is provided on the element mounting surface of the base substrate, the portion being opposed to the signal external terminal and the wiring conductor, and the ground terminal and the wiring conductor. A power supply wiring conductor is formed by laminating a power supply wiring conductor on a portion facing the power supply external terminal and the wiring conductor with an insulating layer interposed therebetween.
【0020】本発明の請求項9に係る半導体装置は、前
記ベース基板を、たとえばガラスエポキシ樹脂からなる
樹脂基板、たとえばアルミナ等からなるセラミック基
板、たとえばポリイミド樹脂等からなるフィルム基板の
いずれかで構成したことを特徴とする。In a semiconductor device according to a ninth aspect of the present invention, the base substrate is formed of a resin substrate made of, for example, a glass epoxy resin, a ceramic substrate made of, for example, alumina, or a film substrate made of, for example, a polyimide resin. It is characterized by having done.
【0021】本発明の請求項10に係る半導体装置の製
造方法は、電極パッドを一側面に所定の配列パターンで
形成した半導体素子と、この半導体素子の電極パッド形
成面を搭載する素子搭載面と反対側の面に外部接続用の
外部端子(たとえばボールバンプ)を所定の配列パター
ンで設けるとともにこれら各外部端子に接続される配線
導体が形成されているベース基板を準備し、前記半導体
素子の電極パッド形成面を前記ベース基板の素子搭載面
に接着剤により搭載して固定し、前記ベース基板の素子
搭載面と反対側の面に形成した配線導体と前記半導体素
子側の電極パッドとを、前記ベース基板の前記半導体素
子側の各電極パッドに対応する位置に少なくとも前記電
極パッドの一つが露出するような大きさをもって穿設し
たスリットを通してワイヤボンディングにより電気的に
接続し、前記ベース基板の素子搭載面と反対側の面に外
部接続用の外部端子を設け、しかる後前記ベース基板の
ワイヤボンディング接続したスリット部分を樹脂封止す
ることを特徴とする。According to a tenth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a semiconductor device, comprising: a semiconductor element having electrode pads formed on one side surface in a predetermined arrangement pattern; and an element mounting surface for mounting the electrode pad forming surface of the semiconductor element. An external terminal (for example, a ball bump) for external connection is provided in a predetermined arrangement pattern on the opposite surface, and a base substrate on which a wiring conductor connected to each external terminal is formed is prepared. The pad forming surface is mounted and fixed on the element mounting surface of the base substrate with an adhesive, and the wiring conductor formed on the surface opposite to the element mounting surface of the base substrate and the electrode pad on the semiconductor element side are formed as described above. At least one of the electrode pads is exposed at a position corresponding to each of the electrode pads on the semiconductor element side of the base substrate through a slit. Electrically connecting by wire bonding, providing external terminals for external connection on a surface opposite to the element mounting surface of the base substrate, and then sealing the wire-bonded slit portion of the base substrate with a resin. Features.
【0022】本発明(請求項1に記載の発明)によれ
ば、ベース基板にチップ側の電極パッドに対応して穿設
したスリットと、これを利用したワイヤボンディング接
続とによって、チップから基板側のボールバンプに対し
ての自由な配線接続が可能となる。特に、本発明(請求
項2に記載の発明)によれば、ベース基板の外部端子を
設けるランド部とスリットとをそれぞれ接近させること
により最短距離となり、ベース基板側での配線導体を最
短長さで配線することができ、インダクタンスを減少さ
せ、電気的特性を向上させることが可能となる。なお、
スリットの大きさは、対応する電極パッドの大きさより
も多少大きめとなるように設定するとよい。According to the present invention (the first aspect of the present invention), a slit formed in the base substrate corresponding to the electrode pad on the chip side and a wire bonding connection utilizing the slit are used to connect the chip to the substrate side. This allows free wiring connection to the ball bumps. In particular, according to the present invention (the invention described in claim 2), the shortest distance is obtained by bringing the land portion on which the external terminal of the base substrate is provided and the slit close to each other, and the wiring conductor on the base substrate side has the minimum length. , And the inductance can be reduced, and the electrical characteristics can be improved. In addition,
The size of the slit may be set to be slightly larger than the size of the corresponding electrode pad.
【0023】また、本発明(請求項1、請求項3に記載
の発明)によれば、ワイヤボンディング接続であるか
ら、同一スリット内にチップ側の複数の電極パッドを対
応させた場合に、隣接する電極パッド間は勿論、隣接し
ない電極パッド間の接続も自由に行える。Further, according to the present invention (the first and third aspects of the present invention), since wire bonding connection is used, when a plurality of electrode pads on the chip side are made to correspond within the same slit, the adjacent Not only between the electrode pads to be connected, but also between the electrode pads that are not adjacent to each other can be freely performed.
【0024】さらに、本発明(請求項1、請求項2、請
求項3、請求項9に記載の発明)によれば、ベース基板
として配線回路基板を用いるとともに、ワイヤボンディ
ングによりチップ側の電極パッドとの接続を行ってい
る。According to the present invention (the first, second, third, and ninth aspects of the invention), a printed circuit board is used as a base substrate, and electrode pads on a chip side are formed by wire bonding. Is connected to
【0025】本発明(請求項4に記載の発明)によれ
ば、電源用配線、グランド用配線となる配線導体を、ベ
ース基板の素子搭載面を有効に利用して形成領域や配線
幅が広くなるように形成することができる。特に、本発
明(請求項4、請求項5に記載の発明)によれば、低抵
抗化と電気的特性の向上が図れる。According to the present invention (the fourth aspect of the present invention), the wiring conductors serving as the power supply wiring and the grounding wiring can be formed in a wide area and a wide wiring width by effectively utilizing the element mounting surface of the base substrate. Can be formed. In particular, according to the present invention (the inventions described in claims 4 and 5), a reduction in resistance and an improvement in electrical characteristics can be achieved.
【0026】また、本発明(請求項6、請求項7、請求
項8に記載の発明)によれば、ベース基板において、信
号用外部端子とその配線導体、グランド端子とその配線
導体に対向してグランド用配線となる配線導体を形成す
るとともに、電源端子とその配線導体に対向して電源用
配線となる配線導体を形成しているから、各配線抵抗の
低抵抗化とともに、インピーダンスを整合させ、ノイズ
の影響を防げる。Further, according to the present invention (claims 6, 7 and 8), in the base board, the signal external terminal and its wiring conductor, and the ground terminal and its ground conductor are opposed to each other. In addition to forming the wiring conductor to be the ground wiring, and forming the power supply terminal and the wiring conductor to be the power supply wiring facing the wiring conductor, the wiring resistance is reduced and the impedance is matched. And prevent the effects of noise.
【0027】特に、本発明(請求項4、請求項5に記載
の発明)によれば、電源用配線、グランド用配線となる
配線導体どおしをわずかな絶縁距離をおいて互いに長い
距離で接するようにしているから、これら両者間での静
電容量が大きく外部からの電源ノイズを吸収させること
ができる。そして、本発明(請求項6、請求項7、請求
項8に記載の発明)によれば、従来半導体パッケージを
用いた回路上にノイズ吸収のために設けていたチップコ
ンデンサが不要となる。In particular, according to the present invention (claims 4 and 5), the wiring conductors serving as the power supply wiring and the ground wiring are separated from each other at a long distance from each other with a slight insulation distance. Since they are in contact with each other, the capacitance between them is large and external power supply noise can be absorbed. According to the present invention (claims 6, 7, and 8), a chip capacitor conventionally provided for absorbing noise on a circuit using a semiconductor package becomes unnecessary.
【0028】また、本発明(請求項10に記載の発明)
によれば、上述したようにメモリまたはメモリ−ロジッ
ク混載チップをCSP構造でパッケージ化するにあたっ
て、多ピン化が図れ、品種切替えも可能となる。The present invention (the invention according to claim 10)
According to the above, when packaging a memory or a memory-logic mixed chip in a CSP structure as described above, it is possible to increase the number of pins and to switch the product type.
【0029】さらに、本発明(請求項1に記載の発明)
によれば、一つの配線回路基板を用いて他の品種への切
替えが可能となる。また、ワイヤボンディング接続であ
るから、チップ接続部に応力が生じるようなことはな
い。Further, the present invention (the invention according to claim 1)
According to this, it is possible to switch to another product using one printed circuit board. Further, since the wire bonding connection is used, no stress is generated at the chip connecting portion.
【0030】ベース基板とは、ガラスエポキシ樹脂から
なる樹脂基板、たとえばアルミナ等からなるセラミック
基板、たとえばポリイミド樹脂等からなるフィルム基板
のいずれかであって、たとえば二層、三層あるいはそれ
以上の多層配線回路基板を用いるとよい。また、このベ
ース基板に外部接続用として設ける外部端子とは、たと
えばボールバンプである。The base substrate is any one of a resin substrate made of glass epoxy resin, for example, a ceramic substrate made of alumina or the like, and a film substrate made of polyimide resin or the like, for example, two layers, three layers or more layers. A printed circuit board is preferably used. The external terminals provided on the base substrate for external connection are, for example, ball bumps.
【0031】また、ベース基板に穿設するスリットは、
チップ側の各電極パッドに対応する大きさをもつもの、
あるいは複数の電極パッドに対応する大きさをもつもの
のいずれでもよい。The slit formed in the base substrate is
With a size corresponding to each electrode pad on the chip side,
Alternatively, any one having a size corresponding to a plurality of electrode pads may be used.
【0032】[0032]
【発明の実施の形態】図1ないし図3は本発明に係る半
導体装置およびその製造方法の第1の実施の形態を示
す。図1において符号10で示すものは半導体装置(以
下、半導体パッケージという)であり、この半導体パッ
ケージ10は、図3(c)に示すように、平面視矩形状
を呈する平板状の半導体チップ11を備える。この半導
体チップ11は、たとえば1GバイトのSDRAMのよ
うな大容量メモリとなるものであって高集積化が進んで
いるが、その基本的な構造は広く知られている通りであ
り、ここでの具体的な説明は省略する。1 to 3 show a first embodiment of a semiconductor device and a method of manufacturing the same according to the present invention. 1 is a semiconductor device (hereinafter, referred to as a semiconductor package). The semiconductor package 10 includes a flat semiconductor chip 11 having a rectangular shape in plan view, as shown in FIG. Prepare. The semiconductor chip 11 is to be a large-capacity memory such as a 1 GB SDRAM, and the degree of integration is increasing. The basic structure of the semiconductor chip 11 is widely known. Specific description is omitted.
【0033】前記半導体チップ11の一側面には、外部
接続のための多数の電極パッド12が、所定の配列パタ
ーンで形成されている。この実施の形態では、チップ1
1の一側面(以下、電極パッド形成面11aという)に
電極パッド12をマトリックス状に配列している。な
お、図1中12aは前記半導体チップ11において電極
パッド形成面11aに電極パッド12を除いて形成され
ている絶縁膜である。On one side surface of the semiconductor chip 11, a number of electrode pads 12 for external connection are formed in a predetermined arrangement pattern. In this embodiment, the chip 1
The electrode pads 12 are arranged in a matrix on one side surface (hereinafter, referred to as an electrode pad formation surface 11a). In FIG. 1, reference numeral 12a denotes an insulating film formed on the electrode pad forming surface 11a of the semiconductor chip 11 except for the electrode pads 12.
【0034】このような半導体チップ11は、このチッ
プサイズとほぼ等しい大きさをもつベース基板13のチ
ップ搭載面(素子搭載面)13aに接着剤14を介して
接着固定されている。また、このベース基板13におけ
るチップ搭載面13aと反対側の面(以下、端子配設面
13bという)に外部接続用の外部端子としてボールバ
ンプ15が所定の配列パターン(この実施の形態では端
子配設面13bにマトリックス状)で設けられている。The semiconductor chip 11 is bonded and fixed via an adhesive 14 to a chip mounting surface (element mounting surface) 13a of a base substrate 13 having a size substantially equal to the chip size. Further, ball bumps 15 are arranged on a surface of the base substrate 13 opposite to the chip mounting surface 13a (hereinafter, referred to as a terminal mounting surface 13b) as external terminals for external connection in a predetermined arrangement pattern (terminal arrangement in this embodiment). It is provided in a matrix on the installation surface 13b.
【0035】さらに、このベース基板13には前記各ボ
ールバンプ15に接続される配線導体16,17,18
が形成されている。これらの配線導体は、信号用配線導
体16と、電源用配線導体17と、グランド用電源導体
18とからなる。前記ベース基板13の端子配設面13
bには、前記配線導体16,17,18に接続され、前
記各ボールバンプ15が接続される接続用ランド部1
9,20,21が形成されている。なお、図中信号用配
線導体16、電源用配線導体17、グランド用電源導体
18に接続されるランド部19,20,21に「S」、
「Vdd」、「GND」を付す。Further, wiring conductors 16, 17, 18 connected to the respective ball bumps 15 are provided on the base substrate 13.
Are formed. These wiring conductors include a signal wiring conductor 16, a power supply wiring conductor 17, and a ground power supply conductor 18. Terminal mounting surface 13 of the base substrate 13
b is a connection land portion 1 connected to the wiring conductors 16, 17, 18 and to which the ball bumps 15 are connected.
9, 20, 21 are formed. In the figure, the land portions 19, 20, and 21 connected to the signal wiring conductor 16, the power supply wiring conductor 17, and the ground power supply conductor 18 have "S", respectively.
“Vdd” and “GND” are added.
【0036】本発明によれば、前記ベース基板13の前
記半導体チップ11側の各電極パッド12に対応する位
置に、少なくとも電極パッド11の一つが露出するよう
にパッド11よりも若干大きな大きさをもつスリット2
5が穿設されている。そして、これらの各スリット25
を通して前記各配線導体16,17,18と半導体チッ
プ11側の電極パッド12とをボンディングワイヤ26
によりワイヤボンディング接続したことを特徴としてい
る。According to the present invention, at a position corresponding to each electrode pad 12 on the semiconductor chip 11 side of the base substrate 13, a size slightly larger than the pad 11 is set so that at least one of the electrode pads 11 is exposed. Slit 2
5 are drilled. And each of these slits 25
The wiring conductors 16, 17, 18 and the electrode pads 12 on the semiconductor chip 11 side are bonded through bonding wires 26.
Is characterized by wire bonding connection.
【0037】ここで、この実施の形態では、前記ベース
基板13のボールバンプ15を設けた端子配設面13b
に、前記ボールバンプ15の接続用ランド部19,2
0,21と前記スリット25とを可能な限り近接させて
形成している。In this embodiment, the terminal mounting surface 13b of the base substrate 13 provided with the ball bumps 15 is provided.
The connection land portions 19 and 2 of the ball bump 15
0, 21 and the slit 25 are formed as close as possible.
【0038】なお、図中16a,17a,18aは、ベ
ース基板13の端子配設面13bにおいて各配線導体1
6,17,18の一部を構成する導体部であり、これら
の導体部16a,17a,18aが前記スリット25の
縁部に臨んで形成され、ワイヤボンディング接続されて
いる。また、図1において符号28は前記スリット25
内やベース基板13の端子配設面13bのボールバンプ
15を除いた部分に封止される封止樹脂である。In the drawing, reference numerals 16a, 17a, and 18a denote wiring conductors 1 on the terminal mounting surface 13b of the base substrate 13.
6, 17 and 18, and these conductors 16a, 17a and 18a are formed facing the edge of the slit 25 and connected by wire bonding. Also, in FIG.
It is a sealing resin that is sealed inside or at a portion of the terminal arrangement surface 13 b of the base substrate 13 except for the ball bumps 15.
【0039】図3(a),(b)において、符号21
a,20aは上述した接続用ランド部21,20とベー
ス基板13の素子搭載面13aに形成した電源用配線導
体18、グランド用配線導体17とを接続するためのス
ルーホールである。ここで、上述した電源用配線導体1
7とグランド用配線導体18は、ベース基板13の素子
搭載面13aにそれぞれ領域を分けて薄膜状に(いわゆ
るベタ層で)形成している。このようにすれば、これら
の配線導体17,18での配線抵抗を低くすることがで
きる。なお、これらの配線導体17,18の表面には絶
縁材14の材質等を考慮して絶縁保護膜が形成されてい
る。この絶縁保護膜の表面に接着剤14を介してチップ
11が搭載される。In FIGS. 3A and 3B, reference numeral 21 denotes
Reference numerals a and 20a denote through holes for connecting the connection lands 21 and 20 with the power supply wiring conductor 18 and the ground wiring conductor 17 formed on the element mounting surface 13a of the base substrate 13. Here, the above-described power supply wiring conductor 1
7 and the ground wiring conductor 18 are formed in a thin film shape (a so-called solid layer) on the element mounting surface 13a of the base substrate 13 by dividing the respective regions. By doing so, the wiring resistance of these wiring conductors 17 and 18 can be reduced. Note that an insulating protective film is formed on the surfaces of the wiring conductors 17 and 18 in consideration of the material of the insulating material 14 and the like. The chip 11 is mounted on the surface of the insulating protective film via the adhesive 14.
【0040】また、ベース基板13にチップ11側の電
極パッド12に対応して穿設したスリット25と、これ
を利用したワイヤボンディング接続とによって、チップ
11から基板13側のボールバンプ15に対しての自由
な配線接続が可能となる。特に、ベース基板13のボー
ルバンプ15を設けるランド部19,20,21とスリ
ット25とをそれぞれ接近させることにより最短距離と
なり、ベース基板13側での信号用配線導体16を最短
長さで配線することができ、インダクタンスを減少さ
せ、電気的特性を向上させることが可能となる。Further, the slits 25 formed in the base substrate 13 corresponding to the electrode pads 12 on the chip 11 side and the wire bonding connection using the slits 25 are used to connect the ball bumps 15 from the chip 11 to the substrate 13 side. Can be freely connected. In particular, when the land portions 19, 20, 21 on which the ball bumps 15 of the base substrate 13 are provided and the slits 25 approach each other, the distance becomes the shortest, and the signal wiring conductor 16 on the base substrate 13 is wired with the shortest length. It is possible to reduce the inductance and improve the electrical characteristics.
【0041】なお、上述した第1の実施の形態では、各
ボールバンプ15に対応してスリット25をそれぞれ近
接させて設けているから、特に信号用配線導体16を必
要最小限の配線長さで形成することができる。ここで、
詳細な図示は省略したが、この信号用配線導体16の導
体部16a以外の部分があれば、この部分をたとえば基
板13のチップ搭載面13a側に前記電源用配線導体1
7、グランド用配線導体18と絶縁層を介して形成する
とよい。しかし、これに限らず、ボールバンプ15を設
けた端子配設面13bに配線回路として形成してもよ
い。In the above-described first embodiment, the slits 25 are provided close to the respective ball bumps 15, so that the signal wiring conductors 16 are particularly formed with the minimum necessary wiring length. Can be formed. here,
Although a detailed illustration is omitted, if there is a portion other than the conductor portion 16 a of the signal wiring conductor 16, this portion is placed on the chip mounting surface 13 a side of the substrate 13, for example.
7. It may be formed via a ground wiring conductor 18 and an insulating layer. However, the present invention is not limited to this, and a wiring circuit may be formed on the terminal arrangement surface 13b on which the ball bumps 15 are provided.
【0042】図4および図5は本発明の第2の実施の形
態を示し、ベース基板13の端子配設面13bに、上述
した信号用配線導体16、電源用配線導体17、グラン
ド用配線導体18を形成した場合を示す。なお、適宜の
位置に絶縁層(図示せず)を介在させることはいうまで
もない。FIGS. 4 and 5 show a second embodiment of the present invention. The above-mentioned signal wiring conductor 16, power supply wiring conductor 17, and ground wiring conductor are provided on the terminal arrangement surface 13b of the base substrate 13. 18 is shown. It goes without saying that an insulating layer (not shown) is interposed at an appropriate position.
【0043】ここで、上述した第1、第2の実施の形態
では、前記ベース基板13を、たとえばアルミナ等から
なるセラミック基板からなる二層配線回路基板で構成し
ている。しかし、これに限らず、たとえばガラスエポキ
シ樹脂からなる樹脂基板、たとえばポリイミド樹脂等か
らなるフィルム基板のいずれかであってもよい。Here, in the above-described first and second embodiments, the base substrate 13 is formed of a two-layer wiring circuit board made of a ceramic substrate made of, for example, alumina. However, the present invention is not limited to this, and may be any of a resin substrate made of, for example, a glass epoxy resin, and a film substrate made of, for example, a polyimide resin.
【0044】図6は本発明の第3の実施の形態を示し、
ここではベース基板13として、二枚の基板からなる三
層構造の配線回路基板を用いている。この実施の形態で
は、信号用配線導体16による配線回路を、前記電源用
配線導体17、グランド用配線導体18を形成した素子
搭載面13a、前記ボールバンプ15を設けた端子配設
面13b以外の中間層部分に形成している。FIG. 6 shows a third embodiment of the present invention.
Here, a printed circuit board having a three-layer structure composed of two boards is used as the base board 13. In this embodiment, the wiring circuit formed by the signal wiring conductors 16 is replaced by a wiring circuit other than the power supply wiring conductor 17, the element mounting surface 13 a on which the ground wiring conductor 18 is formed, and the terminal mounting surface 13 b on which the ball bumps 15 are provided. It is formed in the middle layer.
【0045】そして、この中間層部分に形成した信号用
配線導体16に対して導体部16aを設け、この導体部
16aを設けた基板13の段差部分と前記チップ11側
の電極パッド12とをワイヤボンディング接続してい
る。なお、図中19aは配線導体16とボールバンプ1
5とを接続するためのスルーホールである。A conductor portion 16a is provided for the signal wiring conductor 16 formed in the intermediate layer portion, and the step portion of the substrate 13 provided with the conductor portion 16a and the electrode pad 12 on the chip 11 side are connected by wires. Bonding connection. In the figure, reference numeral 19a denotes the wiring conductor 16 and the ball bump 1
5 is a through-hole for connecting to No. 5.
【0046】また、上述したベース基板13のチップ搭
載面13aであって前記信号用ボールバンプ15と配線
導体16、グランド端子(ボールバンプ15による)と
配線導体(21a)に対向する部分にグランド用配線導
体18を、前記電源用外部端子(ボールバンプ15によ
る)と配線導体(20a)に対向する部分に電源用配線
導体17を形成している。なお、図4中22は配線導体
17,18とランド部19との間に形成した絶縁層であ
る。また、配線導体17,18の表面には前述した実施
の形態と同様に絶縁保護膜が形成されている。In the chip mounting surface 13a of the base substrate 13, the signal ball bumps 15 and the wiring conductors 16, and the ground terminals (by the ball bumps 15) and the portions facing the wiring conductors (21a) are connected to the ground. The power supply wiring conductor 17 is formed in a portion of the wiring conductor 18 facing the power supply external terminal (by the ball bump 15) and the wiring conductor (20a). In FIG. 4, reference numeral 22 denotes an insulating layer formed between the wiring conductors 17 and 18 and the land portion 19. Further, an insulating protective film is formed on the surfaces of the wiring conductors 17 and 18 as in the above-described embodiment.
【0047】すなわち、前記ベース基板13のチップ搭
載面13aに、電源用配線導体17、グランド用配線導
体18を形成するとともに、アルミナコート層等の絶縁
層を形成した後、接着剤14を介してチップ11を搭載
している。このような配線回路基板を用いると、複層構
造を採ることができ、複数の基板面を使用できるから、
配線回路パターンの形成が容易となる。That is, the power supply wiring conductor 17 and the ground wiring conductor 18 are formed on the chip mounting surface 13 a of the base substrate 13, and an insulating layer such as an alumina coat layer is formed. The chip 11 is mounted. By using such a printed circuit board, a multilayer structure can be adopted and a plurality of board surfaces can be used.
It becomes easy to form a wiring circuit pattern.
【0048】以上の構成による半導体パッケージ10
は、次のように製造される。すなわち、電極パッド12
を有する半導体チップ11と、この半導体チップ11の
電極パッド形成面11aを搭載するチップ搭載面13a
と反対側の面(13b)に外部接続用のボールバンプ1
5が設けられるとともにこれら各ボールバンプ15に接
続される配線導体16,17,18、19,20,21
が形成されているベース基板13を準備し、チップ11
の電極パッド形成面11aをベース基板13のチップ搭
載面13aに接着剤14により搭載して固定する。Semiconductor package 10 having the above configuration
Is manufactured as follows. That is, the electrode pad 12
And a chip mounting surface 13a on which the electrode pad forming surface 11a of the semiconductor chip 11 is mounted.
Ball bump 1 for external connection on the surface (13b) opposite to
5 and wiring conductors 16, 17, 18, 19, 20, 21 connected to these ball bumps 15.
A base substrate 13 on which a chip 11 is formed is prepared.
The electrode pad forming surface 11a is mounted and fixed on the chip mounting surface 13a of the base substrate 13 with an adhesive 14.
【0049】そして、前記ベース基板13の素子搭載1
3a面と反対側の面13bに形成した配線導体19,2
0,21とチップ11側の電極パッド12とを、ベース
基板13のスリット26を通してワイヤボンディングに
より電気的に接続し、さらにベース基板13の端子配設
面13b側で前記ランド部19,20,21を除き、ワ
イヤボンディングによる接続部やスリット26等を樹脂
封止した後、前記ランド部19,20,21上に外部接
続用のボールバンプ15を設けることにより製造され
る。The element mounting 1 of the base substrate 13
Wiring conductors 19 and 2 formed on surface 13b opposite to surface 3a
0, 21 and the electrode pads 12 on the chip 11 side are electrically connected by wire bonding through the slits 26 of the base substrate 13, and the land portions 19, 20, 21 on the terminal arrangement surface 13 b side of the base substrate 13. Except for the above, after the connection portion by wire bonding, the slit 26 and the like are sealed with a resin, a ball bump 15 for external connection is provided on the lands 19, 20 and 21.
【0050】図7および図8(a),(b),(c)は
本発明に係る半導体装置およびその製造方法の第4の実
施の形態を示し、この実施の形態では、半導体チップ1
1がセンタパッドタイプであって、このセンタパッド部
31に対応してセンタスリット32をボンディング用と
して設けたベース基板13に半導体チップ11を接着剤
14により接着して搭載する場合を説明する。FIGS. 7 and 8 (a), 8 (b) and 8 (c) show a fourth embodiment of a semiconductor device and a method of manufacturing the same according to the present invention.
A case 1 is a center pad type, in which a semiconductor chip 11 is mounted on a base substrate 13 provided with a center slit 32 for bonding corresponding to the center pad section 31 by bonding with an adhesive 14.
【0051】前記半導体チップ11の活性面である電極
パッド形成面11aにおいてセンタパッド部31に多数
の電極パッド12が二列に配列されている。このチップ
11内での回路配線は、図8(b)に示すように前記セ
ンタパッド部31における各電極パッド12に対して適
宜配線されている。また、前記ベース基板13のスリッ
ト32において中間層に形成した段差部の周縁部分に
は、基板13側の電極パッド部33が配列されている。On the electrode pad forming surface 11a, which is the active surface of the semiconductor chip 11, a large number of electrode pads 12 are arranged in the center pad portion 31 in two rows. The circuit wiring in the chip 11 is appropriately wired to each electrode pad 12 in the center pad section 31 as shown in FIG. In the slit 32 of the base substrate 13, an electrode pad 33 on the substrate 13 side is arranged at a peripheral portion of a step formed in the intermediate layer.
【0052】本発明によれば、上述した半導体チップ1
1をベース基板13上に接着剤14を介して搭載した
後、前記センタスリット32部分において、基板13と
チップ11との電極パッド33,12をボンディングワ
イヤ26によりワイヤボンディングすることにより接続
している。なお、上述したセンタスリット32によるワ
イヤボンディング接続部分は、図示しないが樹脂封止さ
れることはいうまでもない。これは、上述したセンタス
リット32の部分でのボンディングワイヤ26による接
続部の信頼性を確保したり、水分の浸入を防ぐために行
われる。According to the present invention, the aforementioned semiconductor chip 1
After the substrate 1 is mounted on the base substrate 13 via the adhesive 14, the electrode pads 33 and 12 of the substrate 13 and the chip 11 are connected by wire bonding with the bonding wires 26 at the center slit 32. . It is needless to say that the above-described wire bonding connection portion by the center slit 32 is sealed with a resin, though not shown. This is performed in order to ensure the reliability of the connection portion by the bonding wire 26 at the above-described center slit 32 and to prevent moisture from entering.
【0053】このようにすることにより、チップサイズ
と同等サイズあるいはわずかに大きなサイズの半導体パ
ッケージ10を得ることができる。また、上述したベー
ス基板13としては、前述したようにガラスエポキシ基
板やセラミック基板のようなリジット基板を用いること
により、半導体パッケージ10の信頼性を向上させるこ
とができる。特に、ワイヤボンディング接続でチップ1
1とベース基板13とを接続しているから、任意の電極
パッド12,33どおしの接続が比較的簡単にしかも確
実に行え、それぞれの配線回路との間の結線時の自由度
が大きく、効率のよい配線が可能で、また製造コストを
低減することもできる。Thus, the semiconductor package 10 having a size equal to or slightly larger than the chip size can be obtained. In addition, as described above, by using a rigid substrate such as a glass epoxy substrate or a ceramic substrate as described above, the reliability of the semiconductor package 10 can be improved. In particular, chip 1
1 and the base substrate 13, the connection between any of the electrode pads 12, 33 can be performed relatively easily and reliably, and the degree of freedom in connection with each wiring circuit is large. In addition, efficient wiring is possible, and the manufacturing cost can be reduced.
【0054】また、このようなワイヤボンディング接続
では、センタパッド部31での電極パッド12どおしの
接続も可能であり、このようなチップ11内でのワイヤ
ボンディング接続を利用することにより、チップ11内
での配線回路構造を簡素化することができるという利点
もある。In such a wire bonding connection, the connection between the electrode pads 12 at the center pad portion 31 is also possible. By using such a wire bonding connection in the chip 11, the chip bonding can be performed. There is also an advantage that the wiring circuit structure in 11 can be simplified.
【0055】また、ベース基板13として多層配線回路
基板を用い、この基板13のチップ搭載面13aに、図
8(c)に示すように、電源、グランド用配線導体1
7,18(Vdd層、GND層)を形成している。この
実施の形態では、基板13のチップ搭載面13aにおい
てセンタスリット32の一側に電源用配線導体17を、
他側にグランド用配線導体18を形成している。As shown in FIG. 8 (c), a multilayer wiring circuit board is used as the base board 13, and the power supply and ground wiring conductors 1 are mounted on the chip mounting surface 13a of the board 13 as shown in FIG.
7, 18 (Vdd layer, GND layer) are formed. In this embodiment, the power supply wiring conductor 17 is provided on one side of the center slit 32 on the chip mounting surface 13 a of the substrate 13.
A ground wiring conductor 18 is formed on the other side.
【0056】このような構造では、電源用配線導体17
とグランド用配線導体18とを、それぞれ基板上に広い
領域でもって形成することが可能であり、配線抵抗を大
幅に下げることができ、電気特性を向上させることがで
きる。すなわち、これらの配線導体17,18を広い面
積で形成することにより、抵抗、インダクタンスを低く
抑えることができる。また、このような配線導体17,
18の形成は、いわゆるべた層によって比較的容易に行
え、製造コストも低減することができる。In such a structure, the power supply wiring conductor 17
The ground wiring conductor 18 can be formed in a wide area on the substrate, and the wiring resistance can be greatly reduced, and the electrical characteristics can be improved. That is, by forming these wiring conductors 17 and 18 with a large area, resistance and inductance can be suppressed low. In addition, such a wiring conductor 17,
The formation of 18 can be performed relatively easily by a so-called solid layer, and the manufacturing cost can be reduced.
【0057】なお、ベース基板13における同一の基板
面上にこれらの電源用配線導体17とグランド用配線導
体18とを形成するにあたっては、上述したようなセン
タスリット32を基準とした左、右分割に限らず、図9
に示すように適宜の領域に分割して形成すればよく、要
は配線抵抗を小さくすることができるような領域をもっ
て、上述した配線導体17,18を形成すればよい。In forming these power supply wiring conductors 17 and ground wiring conductors 18 on the same substrate surface of the base substrate 13, the left and right divisions are made based on the center slit 32 as described above. Not limited to FIG.
The wiring conductors 17 and 18 described above may be formed in a region where the wiring resistance can be reduced as shown in FIG.
【0058】また、上述したような配線導体において、
グランド用配線導体18を、ベース基板13の他の基板
面に形成する信号用配線16の配線回路に対応した位置
に形成すると、ノイズの影響を防いで電気特性を良好に
することができる。In the wiring conductor as described above,
If the ground wiring conductor 18 is formed at a position corresponding to the wiring circuit of the signal wiring 16 formed on the other substrate surface of the base substrate 13, it is possible to prevent the influence of noise and improve the electrical characteristics.
【0059】さらに、このような構造による半導体パッ
ケージ10によれば、半導体チップ11としてサイズや
種別の異なるものを用いる場合にあっても、ベース基板
13等を共通に使用でき、汎用性、互換性を確保するこ
とができるとともに、パッケージ10の標準化を図るこ
とができる。Further, according to the semiconductor package 10 having such a structure, even when the semiconductor chips 11 having different sizes and types are used, the base substrate 13 and the like can be used in common, and the versatility and compatibility are improved. And the package 10 can be standardized.
【0060】また、上述したベース基板13の主面に
は、適宜の配列パターン、たとえば格子状にランド部1
9,20,21が設けられ、それぞれのランド部19,
20,21に対して外部接続用のボールバンプ15を外
部端子として設けている。勿論、これらのボールバンプ
15は、ベース基板13上に配線した回路配線を介して
前記電極パッド33と接続され、チップ11側にワイヤ
ボンディング接続されている。The main surface of the base substrate 13 is provided with an appropriate arrangement pattern, for example,
9, 20, 21 are provided, and respective land portions 19,
Ball bumps 15 for external connection are provided as external terminals for 20, 21. Needless to say, these ball bumps 15 are connected to the electrode pads 33 via circuit wiring wired on the base substrate 13 and are connected to the chip 11 by wire bonding.
【0061】ここで、上述したように配線回路基板をベ
ース基板13として用い、かつベース基板13に形成し
たスリット32を利用してワイヤボンディングによりチ
ップ11との接続を行うような構造とすると、従来構造
のようにバンプ15,15間を通せるリード数(配線
数)が制約される等の問題がなくなり、基板13上での
回路配線を自由に行うことができる。したがって、半導
体チップ11の多ピン化を図ることができる。特に、こ
のような利点は、上述したベース基板13を多層配線回
路基板で構成するとより一層有利となる。Here, as described above, if the wiring circuit board is used as the base board 13 and the connection with the chip 11 is made by wire bonding using the slit 32 formed in the base board 13, The problem that the number of leads (the number of wirings) that can pass between the bumps 15 and 15 is limited as in the structure is eliminated, and the circuit wiring on the substrate 13 can be freely performed. Therefore, the number of pins of the semiconductor chip 11 can be increased. In particular, such an advantage becomes even more advantageous when the above-described base substrate 13 is formed of a multilayer wiring circuit board.
【0062】また、上述したようにベース基板13上を
適宜の領域で分割して電源用配線導体17とグランド用
配線導体17とを形成するとともに、別の基板面に信号
用配線導体16を形成すると、従来二層以上必要であっ
た電源配線(電源用配線導体17、グランド用配線導体
18、さらには信号用配線導体16)を少なくとも二層
で効率よく構成することができ、基板数を削減できると
いう利点がある。Further, as described above, the power supply wiring conductor 17 and the ground wiring conductor 17 are formed by dividing the base substrate 13 into appropriate regions, and the signal wiring conductor 16 is formed on another substrate surface. Then, the power supply wiring (power supply wiring conductor 17, ground wiring conductor 18, and signal wiring conductor 16) conventionally required in two or more layers can be efficiently composed of at least two layers, and the number of boards can be reduced. There is an advantage that you can.
【0063】以上の構成によれば、チップ11のセンタ
パッド部31とベース基板13側との接続をワイヤボン
ディングにより接続しているから、接続強度を確保で
き、接続部の信頼性を向上させることができる。また、
チップ11をリジット基板によるベース基板13に搭載
しているから、これら両者の熱膨張係数などを揃え、熱
膨張差等によって上述したパッド12のワイヤボンディ
ング接続部分が外れたりすることがない。たとえばTA
Bテープでは、チップとの熱膨張率が大きくことなるか
ら、応力によって接続部が外れやすいことに比べて利点
がある。According to the above configuration, since the connection between the center pad portion 31 of the chip 11 and the base substrate 13 is connected by wire bonding, the connection strength can be secured and the reliability of the connection portion can be improved. Can be. Also,
Since the chip 11 is mounted on the base substrate 13 made of a rigid substrate, the thermal expansion coefficients and the like of the two are made uniform, and the above-described wire bonding connection portion of the pad 12 does not come off due to a difference in thermal expansion or the like. For example, TA
Since the coefficient of thermal expansion with the chip is large in the B tape, there is an advantage as compared with the fact that the connection portion is easily detached by the stress.
【0064】なお、本発明は上述した実施の形態で説明
した構造には限定されず、各部の形状、構造等を適宜変
形、変更し得ることはいうまでもない。たとえば半導体
装置(半導体パッケージ10)としては、たとえば1G
バイトのSDRAMのようなメモリの場合を例示した
が、本発明はこれに限定されず、メモリとロジックとを
混載した半導体装置は勿論、種々の半導体装置に適用す
ることができる。The present invention is not limited to the structure described in the above embodiment, and it goes without saying that the shape and structure of each part can be appropriately modified and changed. For example, as a semiconductor device (semiconductor package 10), for example, 1G
Although the case of a memory such as a byte SDRAM has been exemplified, the present invention is not limited to this, and can be applied to various semiconductor devices as well as a semiconductor device in which a memory and a logic are mixed.
【0065】また、本発明に係る半導体装置において、
ベース基板13として、二層、三層の多層配線回路基板
を用いた場合を例示したが、これには限らない。さら
に、セラミック基板を例示したが、これに限らず、たと
えばガラスエポキシ樹脂等からなる樹脂基板、たとえば
ポリイミド樹脂等からなるフィルム基板のいずれかであ
ってもよい。Further, in the semiconductor device according to the present invention,
The case where a two-layer or three-layer multilayer wiring circuit board is used as the base board 13 has been exemplified, but the present invention is not limited to this. Furthermore, although the ceramic substrate has been illustrated, the invention is not limited thereto, and may be any of a resin substrate made of, for example, a glass epoxy resin, and a film substrate made of, for example, a polyimide resin.
【0066】[0066]
【発明の効果】以上説明したように本発明に係る半導体
装置およびその製造方法によれば、メモリまたはメモリ
−ロジック混載チップをCSP構造によってパッケージ
化するにあたって、多ピン化が図れ、また品種切替えが
可能な構造を得るとともに、パッケージの最小化を実現
することができる。As described above, according to the semiconductor device and the method of manufacturing the same according to the present invention, in packaging a memory or a memory-logic mixed chip by a CSP structure, it is possible to increase the number of pins and to switch types. A possible structure can be obtained, and minimization of the package can be realized.
【0067】すなわち、本発明によれば、ベース基板に
チップ側の電極パッドに対応して穿設したスリットと、
これを利用したワイヤボンディング接続とによって、チ
ップから基板側のボールバンプに対しての自由な配線接
続が可能となる。特に、ベース基板の外部端子を設ける
ランド部とスリットとをそれぞれ接近させることにより
最短距離となり、ベース基板側での配線導体を最短長さ
で配線することができ、インダクタンスを減少させ、電
気的特性を向上させることが可能となる。なお、スリッ
トの大きさは、対応する電極パッドの大きさよりも多少
大きめとなるように設定するとよい。That is, according to the present invention, a slit formed in the base substrate in correspondence with the electrode pad on the chip side,
Free wire connection from the chip to the ball bump on the substrate side is possible by wire bonding connection utilizing this. In particular, the distance between the land on which the external terminals of the base substrate are provided and the slit are made closer to each other, so that the shortest distance can be obtained. Can be improved. Note that the size of the slit is preferably set to be slightly larger than the size of the corresponding electrode pad.
【0068】また、本発明によれば、ワイヤボンディン
グ接続であるから、同一スリット内にチップ側の複数の
電極パッドを対応させた場合に、隣接する電極パッド間
は勿論、隣接しない電極パッド間の接続も自由に行え
る。したがって、チップ側での配線回路の変更、ベース
基板側の外部端子の配列や配線導体の配線回路の変更等
の種々の要請に応えることができる。Further, according to the present invention, since a plurality of electrode pads on the chip side are made to correspond to each other in the same slit because of wire bonding connection, not only between adjacent electrode pads but also between non-adjacent electrode pads. Connections can be made freely. Therefore, it is possible to meet various demands such as a change in the wiring circuit on the chip side, a change in the arrangement of external terminals on the base substrate side, and a change in the wiring circuit of the wiring conductor.
【0069】さらに、本発明によれば、ベース基板とし
て配線回路基板を用いるとともに、ワイヤボンディング
によりチップ側の電極パッドとの接続を行っているか
ら、従来のようにTABテープやリードフレームをチッ
プ側の電極パッドへの接続手段として用いた場合に比べ
て、高密度な配線が可能であり、半導体パッケージの多
ピン化に対しての要請に応えることができる。Further, according to the present invention, the printed circuit board is used as the base substrate, and the connection with the electrode pads on the chip side is made by wire bonding. In comparison with the case where the semiconductor device is used as a connection means to the electrode pad, high-density wiring is possible, and it is possible to meet a demand for a multi-pin semiconductor package.
【0070】本発明によれば、電源用配線、グランド用
配線となる配線導体を、ベース基板の素子搭載面を有効
に利用して形成領域や配線幅が広くなるように形成して
いるから、それぞれの配線抵抗が小さくなり、低抵抗化
を図ることができる。特に、電源用配線、グランド用配
線となる配線導体を、ベース基板の素子搭載面上に領域
を分け、しかも同電位となるように形成しているから、
低抵抗化とともに、電気的特性を向上させることができ
る。According to the present invention, the wiring conductors serving as the power supply wiring and the ground wiring are formed so as to increase the formation area and the wiring width by effectively utilizing the element mounting surface of the base substrate. Each wiring resistance is reduced, and the resistance can be reduced. In particular, the wiring conductors serving as the power supply wiring and the ground wiring are formed on the element mounting surface of the base substrate so as to be divided into regions and have the same potential.
As well as lowering the resistance, the electrical characteristics can be improved.
【0071】また、ベース基板において、信号用外部端
子とその配線導体、グランド端子とその配線導体に対向
してグランド用配線となる配線導体を形成するととも
に、電源端子とその配線導体に対向して電源用配線とな
る配線導体を形成しているから、各配線抵抗の低抵抗化
とともに、インピーダンスを整合させ、ノイズの影響を
防いで特性を良好にすることができる。Further, on the base board, a signal external terminal and its wiring conductor, a ground terminal and a wiring conductor serving as a ground wiring facing the wiring terminal, and a power supply terminal and the wiring conductor facing the wiring conductor are formed. Since the wiring conductor serving as the power supply wiring is formed, it is possible to lower the resistance of each wiring and to match the impedance, thereby preventing the influence of noise and improving the characteristics.
【0072】さらに、本発明によれば、電源用配線、グ
ランド用配線となる配線導体どおしをわずかな絶縁距離
をおいて互いに長い距離で接するように構成することに
よって、これら両者間での静電容量が大きくなり、外部
からの電源ノイズを吸収させることができるという利点
がある。そして、このような構成によれば、従来半導体
パッケージを用いた回路上にノイズ吸収のために設けて
いたチップコンデンサが不要となるという利点がある。Further, according to the present invention, the wiring conductors serving as the power supply wiring and the ground wiring are configured to be in contact with each other over a long distance with a slight insulation distance therebetween. There is an advantage that the capacitance is increased and external power supply noise can be absorbed. According to such a configuration, there is an advantage that a chip capacitor conventionally provided for absorbing noise on a circuit using a semiconductor package becomes unnecessary.
【0073】また、本発明によれば、上述したようにメ
モリまたはメモリ−ロジック混載チップをCSP構造で
パッケージ化するにあたって、多ピン化が図れ、品種切
替えも可能で互換性に優れ、またパッケージサイズを必
要最小限で構成することができる半導体装置を簡単に製
造することができる。Further, according to the present invention, when packaging a memory or a memory-logic mixed chip in a CSP structure as described above, it is possible to increase the number of pins, switch types, and have excellent compatibility. Can be easily manufactured with a minimum required configuration.
【0074】さらに、本発明によれば、ベース基板に設
けた外部端子に対してチップ側の電極パッドをワイヤボ
ンディングにより接続しているから、一つの配線回路基
板を用いて他の品種への切替えが可能となる。また、こ
のようなワイヤボンディング接続によれば、チップ接続
部の応力が加わらないように構成できるから、パッケー
ジの信頼性が向上する。Further, according to the present invention, since the electrode pads on the chip side are connected to the external terminals provided on the base substrate by wire bonding, switching to another type using one wiring circuit board is performed. Becomes possible. Further, according to such a wire bonding connection, the configuration can be made such that the stress of the chip connection portion is not applied, so that the reliability of the package is improved.
【0075】また、本発明によれば、外部端子ピッチ間
に配線を通す必要がなくなり、配線導体と外部端子間の
相互干渉(クロストーク)が生じない。さらに、たとえ
ばベース基板を多層配線回路基板で構成し、中間層に信
号用配線導体を形成すると、多少はクロストークが生じ
るが、従来のように配線を密に引き回す程には問題な
い。Further, according to the present invention, it is not necessary to pass a wiring between the external terminal pitches, so that mutual interference (crosstalk) between the wiring conductor and the external terminal does not occur. Further, for example, when the base substrate is formed of a multilayer wiring circuit board and the signal wiring conductor is formed in the intermediate layer, some crosstalk occurs, but there is no problem as the wiring is densely arranged as in the related art.
【0076】また、本発明によれば、特定の配線長さを
行う場合において、グランド用配線導体を設けて配線幅
に対する絶縁層の厚さと誘電率を規定することによって
インピーダンスを50Ωまたは75Ωにすることができ
る。したがって、インピーダンス整合させることによっ
て、半導体チップから出される信号の反射が配線内で生
ぜず、100%プリント配線板側に伝達することができ
る。According to the present invention, when a specific wiring length is set, the impedance is set to 50Ω or 75Ω by providing a ground wiring conductor and defining the thickness and dielectric constant of the insulating layer with respect to the wiring width. be able to. Therefore, by matching the impedance, the reflection of the signal output from the semiconductor chip does not occur in the wiring, and the signal can be transmitted 100% to the printed wiring board side.
【0077】特に、メモリ−ロジック混載チップをCS
P構造で実現するためには多ピン化が必須であり、外部
端子数が現在のメモリだけよりは飛躍的に増加する。そ
の場合はメモリのセンタパッド方式よりもチップ全体に
均一にパッドを分散させることが一般的である。本発明
では、チップの電極パッドからベース基板への信号の受
け渡りが最短距離で行えるため、抵抗増加、クロストー
クの影響を最小にすることができる。In particular, when the memory-logic mixed chip is connected to CS
In order to realize a P structure, it is necessary to increase the number of pins, and the number of external terminals is dramatically increased as compared with the current memory alone. In such a case, the pads are generally distributed more uniformly over the entire chip than in the center pad system of the memory. In the present invention, the signal can be transferred from the electrode pad of the chip to the base substrate in the shortest distance, so that the influence of an increase in resistance and crosstalk can be minimized.
【図1】 本発明に係る半導体装置およびその製造方法
の第1の実施の形態を示す要部断面図およびその要部拡
大図である。FIG. 1 is a cross-sectional view of a main part and an enlarged view of the main part showing a first embodiment of a semiconductor device and a method of manufacturing the same according to the present invention.
【図2】 (a)は図1の半導体装置においてボールバ
ンプを設けた側から見た概略平面図、(b)はその要部
拡大図である。2A is a schematic plan view of the semiconductor device of FIG. 1 as viewed from a side where ball bumps are provided, and FIG. 2B is an enlarged view of a main part thereof.
【図3】 図1、図2の半導体装置において、(a)は
ベース基板の端子配設面を見た平面図、(b)はチップ
搭載面を見た平面図、(c)は半導体チップの電極バン
プ形成面を見た平面図である。FIGS. 3A and 3B are plan views of a semiconductor device shown in FIGS. 1 and 2 in which a terminal mounting surface of a base substrate is viewed, FIG. 3B is a plan view of a chip mounting surface, and FIG. FIG. 4 is a plan view of the electrode bump formation surface of FIG.
【図4】 本発明に係る半導体装置およびその製造方法
の第2の実施の形態を示す要部断面図およびその要部拡
大図である。FIG. 4 is a sectional view of a main part and an enlarged view of the main part showing a second embodiment of the semiconductor device and the method of manufacturing the same according to the present invention.
【図5】 図4の半導体装置を説明するためのベース基
板の端子配設面を示す平面図である。FIG. 5 is a plan view showing a terminal arrangement surface of a base substrate for explaining the semiconductor device of FIG. 4;
【図6】 本発明に係る半導体装置およびその製造方法
の第3の実施の形態を示す要部断面図およびその要部拡
大図である。FIG. 6 is a sectional view of a main part and an enlarged view of the main part showing a third embodiment of a semiconductor device and a method of manufacturing the same according to the present invention.
【図7】 本発明に係る半導体装置およびその製造方法
の第4の実施の形態を示す要部を断面した斜視図であ
る。FIG. 7 is a perspective view, in section, of a main part showing a fourth embodiment of a semiconductor device and a method for manufacturing the same according to the present invention.
【図8】 (a)は図7の半導体装置のボールバンプを
設けた側から見た平面図、(b)はベース基板内での配
線導体の形成状態を説明するための図、(c)はベース
基板のチップ搭載面における配線導体の形状を示す図で
ある。8A is a plan view of the semiconductor device of FIG. 7 viewed from the side where ball bumps are provided, FIG. 8B is a diagram for explaining a state of forming a wiring conductor in a base substrate, and FIG. FIG. 4 is a diagram showing a shape of a wiring conductor on a chip mounting surface of a base substrate.
【図9】 図8の(c)での電源用配線導体、グランド
用配線導体の形状の変形例を示す概略図である。FIG. 9 is a schematic diagram showing a modification of the shapes of the power supply wiring conductor and the ground wiring conductor in FIG. 8C.
10…半導体装置としての半導体パッケージ、11…半
導体チップ(半導体素子)、11a…電極バンプ形成
面、12…電極バンプ、12a…絶縁膜、13…ベース
基板、13a…チップ搭載面(素子搭載面)、13b…
端子配設面、14…接着剤、15…ボールバンプ(外部
端子)、16…信号用配線導体、17…電源用配線導
体、18…グランド用配線導体、16a,17a,18
a…導体部、19,20,21…接続用ランド部、22
…絶縁層、25…スリット、26…ボンディングワイ
ヤ、28…封止樹脂、31…センタパッド部、32…セ
ンタスリット、33…基板側電極パッド部。DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Semiconductor package as a semiconductor device, 11 ... Semiconductor chip (semiconductor element), 11a ... Electrode bump formation surface, 12 ... Electrode bump, 12a ... Insulation film, 13 ... Base substrate, 13a ... Chip mounting surface (Element mounting surface) , 13b ...
Terminal arrangement surface, 14: adhesive, 15: ball bump (external terminal), 16: signal wiring conductor, 17: power supply wiring conductor, 18: ground wiring conductor, 16a, 17a, 18
a: conductor part, 19, 20, 21 ... connection land part, 22
... insulating layer, 25 ... slit, 26 ... bonding wire, 28 ... sealing resin, 31 ... center pad part, 32 ... center slit, 33 ... substrate side electrode pad part.
Claims (10)
ンで形成した半導体素子と、 前記半導体素子の電極パッド形成面が素子搭載面に接着
剤を介して固定され、この素子搭載面と反対側の面に外
部接続用の外部端子が所定の配列パターンで設けられる
とともにこれら各外部端子に接続される配線導体が形成
されているベース基板を備え、 前記ベース基板の前記半導体素子側の各電極パッドに対
応する位置に、少なくとも前記電極パッドの一つが露出
するような大きさを有するスリットを穿設し、前記スリ
ットを通して前記配線導体と前記半導体素子側の電極パ
ッドとをワイヤボンディングによって電気的に接続した
ことを特徴とする半導体装置。1. A semiconductor element having electrode pads formed on one side surface thereof in a predetermined arrangement pattern, and an electrode pad forming surface of the semiconductor element is fixed to an element mounting surface via an adhesive, and the side opposite to the element mounting surface. A base substrate on which external terminals for external connection are provided in a predetermined arrangement pattern and a wiring conductor connected to each of the external terminals is formed, and each electrode pad on the semiconductor element side of the base substrate A slit having a size such that at least one of the electrode pads is exposed, and electrically connecting the wiring conductor and the electrode pad on the semiconductor element side through the slit by wire bonding. A semiconductor device characterized by the following.
外部端子の接続用ランド部と前記スリットとを近接させ
て形成したことを特徴とする半導体装置。2. The semiconductor device according to claim 1, wherein a connection land portion of the external terminal and the slit are formed close to a terminal arrangement surface of the base substrate on which the external terminal is provided. Characteristic semiconductor device.
に電極パッドを並べることによりセンタパッド部を形成
し、 前記ベース基板における前記センタパッド部に対応する
位置にそれよりも大きなセンタスリットを形成するとと
もに、このセンタスリットの側縁部分に前記配線導体の
一部を臨ませるように配線したことを特徴とする半導体
装置。3. The semiconductor device according to claim 1, wherein a center pad portion is formed by arranging an electrode pad at a center in a width direction of an electrode pad formation surface of the semiconductor element, wherein the center pad portion is formed on the base substrate. A semiconductor device, wherein a larger center slit is formed at a corresponding position, and wiring is performed so that a part of the wiring conductor faces a side edge portion of the center slit.
載の半導体装置において、 前記ベース基板の素子搭載面に、電源用配線導体とグラ
ンド用配線導体とをそれぞれ領域を分けて形成したこと
を特徴とする半導体装置。4. The semiconductor device according to claim 1, wherein a power supply wiring conductor and a ground wiring conductor are formed on the element mounting surface of the base substrate, respectively, in different regions. A semiconductor device characterized by the above-mentioned.
対応するセンタスリットを備え、 前記電源用配線導体とグランド用配線導体とを、前記ベ
ース基板の素子搭載面であって前記センタスリットの両
側に分けて形成したことを特徴とする半導体装置。5. The semiconductor device according to claim 4, wherein the base substrate has a center slit corresponding to a center pad portion of the semiconductor element, and the power supply wiring conductor and the ground wiring conductor are connected to the base by the base. A semiconductor device, which is formed on an element mounting surface of a substrate on both sides of the center slit.
装置において、 前記信号用配線導体による配線回路を、前記ベース基板
の素子搭載面または外部端子を設けた端子配設面の少な
くともいずれか一方に形成したことを特徴とする半導体
装置。6. The semiconductor device according to claim 4, wherein the wiring circuit formed by the signal wiring conductor is at least one of an element mounting surface of the base substrate and a terminal arrangement surface provided with external terminals. A semiconductor device formed on one side.
装置において、 前記ベース基板として多層配線回路基板を用い、 前記信号用配線導体による配線回路を、前記電源用配線
導体、グランド用配線導体を形成した素子搭載面、前記
外部端子を設けた端子配設面以外の面に形成したことを
特徴とする半導体装置。7. The semiconductor device according to claim 4, wherein a multilayer wiring circuit board is used as the base substrate, and a wiring circuit formed by the signal wiring conductor is replaced with the power supply wiring conductor and the ground wiring conductor. A semiconductor device formed on a surface other than the element mounting surface on which is formed and the terminal arrangement surface on which the external terminals are provided.
求項7に記載の半導体装置において、 前記ベース基板の素子搭載面であって前記信号用外部端
子と配線導体、グランド端子と配線導体に対向する部分
にグランド用配線導体を、前記電源用外部端子と配線導
体に対向する部分に電源用配線導体を、絶縁層を介して
積層させて形成したことを特徴とする半導体装置。8. The semiconductor device according to claim 4, 5, 6, or 7, wherein the signal external terminal and the wiring conductor, and the ground terminal and the wiring are on the element mounting surface of the base substrate. A semiconductor device comprising: a ground wiring conductor formed at a portion facing a conductor; and a power wiring conductor formed at a portion facing the power supply external terminal and the wiring conductor, with an insulating layer interposed therebetween.
4、請求項5、請求項6、請求項7または請求項8に記
載の半導体装置において、 前記ベース基板を、樹脂基板、セラミック基板、フィル
ム基板のいずれかで構成したことを特徴とする半導体装
置。9. The semiconductor device according to claim 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, or 8, wherein the base substrate is a resin substrate. A semiconductor device comprising a ceramic substrate or a film substrate.
ーンで形成した半導体素子と、 前記半導体素子の電極パッド形成面を搭載する素子搭載
面と反対側の面に外部接続用の外部端子を所定の配列パ
ターンで設けるとともにこれら各外部端子に接続される
配線導体が形成されているベース基板を準備し、 前記半導体素子の電極パッド形成面を前記ベース基板の
素子搭載面に接着剤により搭載して固定し、 前記ベース基板の素子搭載面と反対側の面に形成した配
線導体と前記半導体素子側の電極パッドとを、前記ベー
ス基板の前記半導体素子側の各電極パッドに対応する位
置に少なくとも前記電極パッドの一つが露出するような
大きさをもって穿設したスリットを通してワイヤボンデ
ィングにより電気的に接続し、 前記ベース基板の素子搭載面と反対側の面に外部接続用
の外部端子を設け、 しかる後前記ベース基板のワイヤボンディング接続した
スリット部分を樹脂封止することを特徴とする半導体装
置の製造方法。10. A semiconductor element having electrode pads formed on one side surface in a predetermined arrangement pattern, and external terminals for external connection on a surface opposite to an element mounting surface on which the electrode pad forming surface of the semiconductor element is mounted. Prepare a base substrate provided with the arrangement pattern of and the wiring conductors connected to these external terminals are formed, and the electrode pad forming surface of the semiconductor element is mounted on the element mounting surface of the base substrate with an adhesive. The wiring conductor and the electrode pad on the semiconductor element side formed on the surface of the base substrate opposite to the element mounting surface are fixed at least at positions corresponding to the respective electrode pads on the semiconductor element side of the base substrate. Electrically connected by wire bonding through a slit drilled in such a size that one of the electrode pads is exposed, and mounting the element on the base substrate And the external terminals for external connection on the opposite side is provided, a method of manufacturing a semiconductor device of the slit portion of wire bonding connections Thereafter the base substrate, characterized in that the resin sealing.
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| JP23387498A Expired - Fee Related JP3132478B2 (en) | 1998-08-20 | 1998-08-20 | Semiconductor device and method of manufacturing the same |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3132478B2 (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6482730B1 (en) * | 1999-02-24 | 2002-11-19 | Texas Instruments Incorporated | Method for manufacturing a semiconductor device |
| US7230326B2 (en) | 2004-09-03 | 2007-06-12 | Yamaha Corporation | Semiconductor device and wire bonding chip size package therefor |
| JP2009506527A (en) * | 2005-08-24 | 2009-02-12 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | Electrical contact system for light emitting diodes and laser diodes with color converter |
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1998
- 1998-08-20 JP JP23387498A patent/JP3132478B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6482730B1 (en) * | 1999-02-24 | 2002-11-19 | Texas Instruments Incorporated | Method for manufacturing a semiconductor device |
| US7230326B2 (en) | 2004-09-03 | 2007-06-12 | Yamaha Corporation | Semiconductor device and wire bonding chip size package therefor |
| JP2009506527A (en) * | 2005-08-24 | 2009-02-12 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | Electrical contact system for light emitting diodes and laser diodes with color converter |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3132478B2 (en) | 2001-02-05 |
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