JP2000084682A - Laser texture device - Google Patents
Laser texture deviceInfo
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- JP2000084682A JP2000084682A JP10255148A JP25514898A JP2000084682A JP 2000084682 A JP2000084682 A JP 2000084682A JP 10255148 A JP10255148 A JP 10255148A JP 25514898 A JP25514898 A JP 25514898A JP 2000084682 A JP2000084682 A JP 2000084682A
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Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 簡単な光学系構成で、レーザ光源からのレー
ザビームを分岐させる手段等が熱その他の外的な影響で
特性が変化しても、ディスクの表裏両面に均等なバンプ
を高精度に形成する。
【解決手段】 レーザ光源20からのレーザビームをア
イソレータ21により偏光面を45°回転させた上で、
NDフィルタ22及び光偏向器23により光量調整さ
れ、ビームエキスパンダ24により拡径され、平行光束
化された後に、偏光ビームスプリッタ26によりP偏光
光路部15PとS偏光光路部15Sとに分けられるが、
偏光ビームスプリッタ26の前段にλ/2波長板27が
設けられる。偏光ビームスプリッタ26から対物レンズ
ユニット28P,28Sに至る光路にはビ−ムサンプラ
29P,29S及びパワーディテクタ30P,30Sが
設けられ、光偏向器23により全体の光量が調整され、
λ/2波長板27の角度を調整することによりP偏光成
分とS偏光成分とのパワー比が変化する。
(57) [Problem] With a simple optical system configuration, even if characteristics such as a means for splitting a laser beam from a laser light source change due to heat or other external influences, uniformity can be obtained on both sides of the disk. Form bumps with high precision. SOLUTION: After rotating a polarization plane of a laser beam from a laser light source 20 by an isolator 45 °,
After the light amount is adjusted by the ND filter 22 and the optical deflector 23, the diameter is expanded by the beam expander 24, and the light beam is converted into a parallel light beam, the light beam is split into the P-polarized light path portion 15 P and the S-polarized light path portion 15 S by the polarizing beam splitter 26. ,
A λ / 2 wavelength plate 27 is provided before the polarization beam splitter 26. Beam samplers 29P and 29S and power detectors 30P and 30S are provided in an optical path from the polarizing beam splitter 26 to the objective lens units 28P and 28S, and the entire light quantity is adjusted by the optical deflector 23.
By adjusting the angle of the λ / 2 wavelength plate 27, the power ratio between the P-polarized component and the S-polarized component changes.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスクの表
裏両面における限られた範囲のCSS領域にレーザパル
スを照射してテクスチャ加工を行うレーザテクスチャ装
置に関するものであり、特に単一のレーザ光源を用いて
ディスクの表裏両面に対して均等なテクスチャ加工を行
えるようにしたレーザテクスチャ装置に関するものであ
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laser texturing apparatus for irradiating a laser pulse to a limited CSS area on both sides of a magnetic disk to perform texture processing. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laser texturing apparatus which can perform uniform texturing on both front and back surfaces of a disk using the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】磁気ディスクドライブ装置は、磁気ディ
スク(以下、単にディスクという)を回転させスピンド
ルを有し、このスピンドルによりディスクを回転させる
間に、磁気ヘッドをディスク表面に所定の隙間で対面さ
せた状態にして、情報の書き込みや読み出しを行うもの
である。この時における磁気ヘッドの動作は次のように
なる。まず、ディスクが静止している状態では、磁気ヘ
ッドはディスク表面の所定の位置に当接するようにな
し、ディスクが回転し始めると、磁気ヘッドはディスク
の表面上をスライドして、回転速度が増して定常回転数
になる間に、磁気ヘッドとディスクとの間に生じる空気
流により磁気ヘッドをディスク表面に対して所定のギャ
ップを持った状態で安定的に浮上させる。このようにし
て浮上した磁気ヘッドは、データ記録領域に変位して、
情報の書き込みや読み出しが行われる。また、ディスク
の回転停止時には、磁気ヘッドを再び所定の位置に移行
させて、ディスクの回転速度の低下による浮上力が減少
すると、磁気ヘッドはディスク表面にスライドして、デ
ィスクの停止時にはその位置で静止状態になる。2. Description of the Related Art A magnetic disk drive device has a spindle for rotating a magnetic disk (hereinafter, simply referred to as a disk). During rotation of the disk by the spindle, a magnetic head faces a disk surface at a predetermined gap. In this state, writing and reading of information are performed. The operation of the magnetic head at this time is as follows. First, when the disk is stationary, the magnetic head is brought into contact with a predetermined position on the disk surface, and when the disk starts to rotate, the magnetic head slides on the disk surface, increasing the rotation speed. While the number of rotations is constant, the airflow generated between the magnetic head and the disk stably floats the magnetic head with a predetermined gap with respect to the disk surface. The magnetic head levitated in this way is displaced to the data recording area,
Writing and reading of information are performed. Further, when the rotation of the disk is stopped, the magnetic head is moved to a predetermined position again, and when the levitation force due to the decrease in the rotation speed of the disk is reduced, the magnetic head slides on the disk surface, and when the disk stops, the magnetic head slides at that position. It becomes stationary.
【0003】磁気ヘッドの以上の作動方式は、接触起動
停止(CSS)方式と呼ばれるものであり、従ってディ
スクの表面には、情報の書き込み及び読み出しが行われ
るデータ記録領域に加えて磁気ヘッドが静止状態に保持
されるCSS領域が形成される。ここで、CSS領域
は、磁気ヘッドの浮上を低摩擦で円滑に行わせるために
微小突起を設けた領域であり、通常、ディスクの内周縁
の近傍において、所定の幅を有する円環状に形成され
る。そして、テクスチャ加工は、このように限定された
CSS領域に微小突起を形成するディスクの表面加工で
ある。The above-described operation method of the magnetic head is called a contact start and stop (CSS) method. Therefore, the magnetic head is stationary on the surface of the disk in addition to the data recording area where information is written and read. A CSS region that is maintained in a state is formed. Here, the CSS area is an area provided with minute projections for smooth floating of the magnetic head with low friction, and is usually formed in an annular shape having a predetermined width near the inner peripheral edge of the disk. You. The texture processing is a surface processing of a disk for forming minute projections in the CSS region thus limited.
【0004】CSS領域にテクスチャ加工を行うに当っ
ては、微小で均一な形状の突起を極めて高精度に形成す
る必要がある。加工精度が悪いと、浮上動作時に磁気ヘ
ッドが円滑に浮上せず、ディスク表面にスティックを起
こしたり、静止状態に移行する際に磁気ヘッドとディス
ク表面との間の摩擦が増大する等、所謂CSS動作の円
滑性が損なわれることになる。とりわけ、近年において
は、磁気記録密度を向上するために、磁気ヘッドをディ
スクから極微小量浮上させるようにしており、従ってテ
クスチャ加工の精度をより一層向上させ、突起の微細化
及び均一化を図る必要がある。In performing texture processing on a CSS area, it is necessary to form projections having minute and uniform shapes with extremely high precision. If the processing accuracy is poor, the so-called CSS such as that the magnetic head does not float smoothly during the floating operation, sticks up on the disk surface, or increases the friction between the magnetic head and the disk surface when shifting to the stationary state. Operational smoothness will be impaired. In particular, in recent years, in order to improve the magnetic recording density, the magnetic head is lifted from the disk by an extremely small amount. Therefore, the precision of the texture processing is further improved, and the protrusions are made finer and uniform. There is a need.
【0005】テクスチャ加工は、前述したCSS領域だ
けでなく、ディスク表面全体にわたって磁気の配向性を
改善する等のためにも行われる。この場合には、通常は
テープ研磨により行うのが一般的である。従って、CS
S領域の加工もこのテープ研磨による方式を採用でき
る。ディスクの表面加工方式としては、化学的なエッチ
ングによる方式等もある。ただし、CSS領域というよ
うに、ディスクの表面における限られた領域に部分的な
加工を高精度に行うには、レーザ光を用いたテクスチャ
加工、即ちレーザテクスチャ方式が最も有利である。[0005] Texture processing is performed not only for the CSS area described above but also for improving the magnetic orientation over the entire disk surface. In this case, the polishing is generally performed by tape polishing. Therefore, CS
The processing by the tape polishing can be adopted for the processing of the S region. As a disk surface processing method, there is a method by chemical etching or the like. However, texture processing using laser light, that is, a laser texture method, is most advantageous for performing high-precision partial processing on a limited area on the disk surface such as the CSS area.
【0006】レーザテクスチャ装置はレーザ光源及び対
物レンズを含むレーザ光照射手段を備え、ディスクをス
ピンドル手段に装架させて、このスピンドル手段により
ディスクを回転駆動する間に、レーザ光照射手段のレー
ザ光源からレーザパルスを出射させ、対物レンズにより
レーザビームを所定のスポット径となるように絞られ
て、ディスク表面に照射される。従って、ディスク表面
に照射されたレーザビームのエネルギによりディスクの
表面が局所的に加熱されることになり、このディスクの
表面近傍が軟化乃至溶融して微小な突起(以下、この突
起をバンプという)が形成される。[0006] The laser texture device is provided with a laser light irradiating means including a laser light source and an objective lens. The disk is mounted on a spindle means, and the laser light irradiating means is rotated while the disk is driven to rotate by the spindle means. , A laser pulse is emitted, and the laser beam is narrowed by an objective lens so as to have a predetermined spot diameter, and is irradiated on the disk surface. Therefore, the surface of the disk is locally heated by the energy of the laser beam applied to the surface of the disk, and the vicinity of the surface of the disk is softened or melted and minute projections (hereinafter referred to as bumps). Is formed.
【0007】CSS領域はディスク表面の限定された幅
で、ディスクの内周側に形成されるようになっており、
加工はディスクを回転駆動することにより回転方向に所
定のピッチ間隔でレーザパルスが照射されると共に、レ
ーザ光の照射位置をディスクの半径方向に移動させる。
この結果、ディスク表面には渦巻き状のバンプが形成さ
れるようになり、ディスクの表面に所定幅のテクスチャ
ゾーンが形成される。そこで、ディスクをスピンドル手
段により回転させる間に、少なくとも対物レンズを移動
可能となし、この対物レンズがディスクにおけるCSS
領域の内周側の端部(出射始端位置)に対面した時に、
レーザパルスの出射を開始して、外周側の端部(出射終
端位置)に至るまでの間、ディスクの回転数と照射され
るレーザパルスのパルス間隔とを制御することによっ
て、ディスクの内周側に限定された所定の領域に所望の
ピッチ間隔でバンプが形成される。The CSS area has a limited width on the surface of the disk and is formed on the inner peripheral side of the disk.
In the processing, a laser pulse is irradiated at a predetermined pitch interval in the rotation direction by rotating the disk, and the irradiation position of the laser light is moved in the radial direction of the disk.
As a result, spiral bumps are formed on the disk surface, and a texture zone having a predetermined width is formed on the disk surface. Therefore, at least the objective lens can be moved while the disk is rotated by the spindle means.
When facing the inner edge of the region (the emission start end position)
By controlling the number of rotations of the disk and the pulse interval of the irradiated laser pulse from the start of the emission of the laser pulse to the end on the outer circumference side (the emission end position), the inner circumference of the disk is controlled. The bumps are formed at a desired pitch interval in a predetermined region limited to the above.
【0008】CSS領域は磁気ヘッドが静止状態で当接
する領域であり、磁気ヘッドと直接的に接触するバンプ
は、その突出高さが一定であり、しかも均一なピッチに
形成する必要がある。適正なバンプを形成するには、レ
ーザ光照射手段を構成するレーザ光源からのレーザパル
スのパワーが一定であり、かつ対物レンズの焦点が合っ
た位置にディスクが配置されなければならない。レーザ
パワーが設定値より低いと、十分な高さのバンプが形成
されず、またレーザパワーが極端に低下すると、バンプ
そのものが形成されなくなる。一方、ディスクが対物レ
ンズの焦点位置からずれて所謂デフォーカス状態になっ
ていると、レーザ光源から所定のパワーのレーザを照射
しても、やはり正確なバンプを形成することができな
い。The CSS region is a region where the magnetic head comes into contact with the magnetic head in a stationary state, and the bumps which come into direct contact with the magnetic head need to be formed with a uniform projection height and a uniform pitch. In order to form an appropriate bump, the power of the laser pulse from the laser light source constituting the laser beam irradiation means must be constant, and the disk must be arranged at a position where the objective lens is in focus. If the laser power is lower than the set value, a bump with a sufficient height will not be formed, and if the laser power is extremely reduced, the bump itself will not be formed. On the other hand, if the disc is shifted from the focal position of the objective lens and is in a so-called defocus state, even if a laser of a predetermined power is irradiated from a laser light source, it is still impossible to form an accurate bump.
【0009】磁気ディスクはその表裏両面にデータの書
き込み及び読み出しが行われることから、前述したテク
スチャ加工はディスクの表裏両面に対して行わなければ
ならない。そして、形成されるバンプの形状は、当然、
表裏両面で実質的に均一なものとする必要がある。表裏
両面をテクスチャ加工するには、まずディスクの片側の
面を加工し、次いでディスクを反転させて、反対側の面
を加工する方式がある。この方式では、ディスクの表裏
両面に実質的に同じ条件で加工を行えるので、表裏両面
における加工の均一性を確保できる。しかしながら、デ
ィスクの反転機構を必要とし、しかも加工時間が長くな
るという難点がある。Since writing and reading of data are performed on both sides of a magnetic disk, the above-described texture processing must be performed on both sides of the disk. And the shape of the bump to be formed is, of course,
It must be substantially uniform on both sides. To texture both the front and back surfaces, there is a method in which one side of a disk is processed first, and then the disk is turned over to process the opposite side. In this method, processing can be performed on both the front and back surfaces of the disk under substantially the same conditions, so that uniformity of the processing on the front and back surfaces can be ensured. However, there is a problem that a reversing mechanism of the disk is required and the processing time is long.
【0010】また、表面を同時に加工するための他の方
式としては、レーザ光源から対物レンズに至るレーザ光
照射機構を2組用いて、それぞれディスクの表裏両面に
対向配置して、ディスクを回転駆動しながら、その表裏
両面を同時に加工する方式もある。しかしながら、装置
構成が大掛かりになるだけでなく、両レーザ光照射機構
からのレーザ光のパワーを正確に一致させる必要があ
り、その調整が著しく面倒になる等といった問題点があ
る。As another method for simultaneously processing the surface, two sets of laser light irradiation mechanisms from a laser light source to an objective lens are used, and the two sets are arranged to face each other on the front and back surfaces of the disc, and the disc is rotated. However, there is also a method of processing both the front and back surfaces simultaneously. However, there is a problem that not only the device configuration becomes large, but also that the powers of the laser beams from both laser beam irradiation mechanisms need to be accurately matched, and the adjustment becomes extremely troublesome.
【0011】また、ビームスプリッタを用いれば、少な
くともレーザ光源は表裏両面の加工用に共用できる。こ
のように、ビームスプリッタを用いてレーザ光源からの
レーザ光の光路を2つに分ける方式としては、例えば特
開平10−91947号公報に示されているものが従来
から知られている。そこで、この公知のテクスチャ装置
の光学構成を図4に示す。If a beam splitter is used, at least the laser light source can be used for both front and back processing. As a method of dividing the optical path of the laser light from the laser light source into two using the beam splitter in this way, for example, a method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 10-91947 is conventionally known. FIG. 4 shows an optical configuration of this known texture device.
【0012】図中において、1はレーザ光源であり、こ
のレーザ光源1からのレーザビームの光路にはアイソレ
ータ2が設けられており、このアイソレータ2を透過し
たレーザビームはビームスプリッタ3に入り、このビー
ムスプリッタ3により透過と反射との2つの光路に分岐
される。このようにして分岐した2つの光路には、ビー
ムエキスパンダからなる平行光束化手段4a,4bが設
けられ、これら平行光束化手段4a,4bにより平行光
束化されたレーザビームはNDフィルタ5a,5bによ
り光量の調整が行われるようになっている。さらに、N
Dフィルタ5a,5bの前方にはテクスチャの開始及び
終了を制御する電磁シャッタ6a,6bが、さらに電磁
シャッタ6a,6bの前方側には対物レンズ7a,7b
が設けられている。In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a laser light source, and an isolator 2 is provided in an optical path of a laser beam from the laser light source 1. The laser beam transmitted through the isolator 2 enters a beam splitter 3, and The beam is split by the beam splitter 3 into two optical paths of transmission and reflection. The two light paths branched in this way are provided with parallel light beam forming means 4a and 4b composed of beam expanders, and the laser beams converted into parallel light beams by these parallel light beam forming means 4a and 4b are ND filters 5a and 5b. , The light amount is adjusted. Furthermore, N
Electromagnetic shutters 6a and 6b for controlling the start and end of the texture are provided in front of the D filters 5a and 5b, and objective lenses 7a and 7b are provided in front of the electromagnetic shutters 6a and 6b.
Is provided.
【0013】以上のように構成することによって、対物
レンズ7a,7b間にディスク8を配置して、所定の位
置からレーザ光源1からレーザパルスを出射するように
なし、電磁シャッタ6a,6bを開くと、ディスク8の
表裏両面に対して所定の位置からのバンプの形成が開始
される。対物レンズ7a,7bをディスク8の回転に伴
って半径方向に移動させることにより、ディスク8に対
して所定の幅に及ぶバンプが形成される。さらに、加工
の終端位置に達すると、電磁シャッタ6a,6bを閉じ
るようにする。これによって、ディスク8の表裏両面に
対するテクスチャ加工が行われる。With the above configuration, the disk 8 is arranged between the objective lenses 7a and 7b so that laser pulses are emitted from the laser light source 1 from a predetermined position, and the electromagnetic shutters 6a and 6b are opened. Then, the formation of bumps from predetermined positions on both the front and back surfaces of the disk 8 is started. By moving the objective lenses 7a and 7b in the radial direction with the rotation of the disk 8, bumps having a predetermined width are formed on the disk 8. Further, when reaching the processing end position, the electromagnetic shutters 6a and 6b are closed. Thus, texture processing is performed on both the front and back surfaces of the disk 8.
【0014】[0014]
【発明が解決しようとする課題】ところで、ディスクの
表裏両面に実質的に同じ形状のバンプを形成する必要が
あるが、このためにはそれぞれ対物レンズから照射され
るレーザビームのパワーが等しくなければならない。レ
ーザビームを分岐させるためのビームスプリッタは透過
光と反射光とに分岐させるものであるので、その光量が
正確に等しくなるように設定し、もって2つの光路にお
けるパワーが等しくなるものの、光学装置全体の組み付
け誤差が生じることはやむを得ないものであり、このた
めに2つの光路におけるバランスが多少崩れることがあ
る。また、ビームスプリッタは熱の影響でその特性が変
化する結果、ビームスプリッタでの光量の分配比率が変
化することもある。このように、ビームスプリッタのみ
ではディスクの表裏両面に対して常に同じパワーのレー
ザビームを照射することができないことになる。さら
に、平行光束化手段やNDフィルタを分岐した各光路に
配置するようにしているので、その光学構成も複雑にな
り、かつ全体としてのレーザテクスチャ装置の構成が大
掛かりになっている等の難点もある。By the way, it is necessary to form bumps of substantially the same shape on both the front and back surfaces of the disk. To this end, if the powers of the laser beams emitted from the objective lenses are not equal, respectively. No. Since the beam splitter for splitting the laser beam splits the light into transmitted light and reflected light, the light amounts are set to be exactly equal, so that the powers in the two optical paths are equal, but the entire optical device is It is inevitable that an assembling error occurs, which may cause a slight loss of balance between the two optical paths. In addition, the characteristics of the beam splitter change due to the influence of heat, and as a result, the distribution ratio of the light amount in the beam splitter may change. As described above, it is impossible to always irradiate the laser beam of the same power to both the front and back surfaces of the disk only with the beam splitter. Further, since the parallel beam forming means and the ND filter are arranged in each of the branched optical paths, the optical configuration becomes complicated, and the configuration of the laser texture device as a whole becomes large. is there.
【0015】本発明は以上の点に鑑みてなされたもので
あって、その目的とするところは、簡単な光学構成で、
ディスクの表裏両面に均等なバンプを形成できるように
することにある。The present invention has been made in view of the above points, and its object is to provide a simple optical configuration.
An object of the present invention is to make it possible to form uniform bumps on both sides of a disk.
【0016】[0016]
【課題を解決するための手段】前述した目的を達成する
ために、本発明は、ディスクをスピンドルに装着して、
このスピンドルによりディスクを回転させながら、レー
ザ光源及び対物レンズを含むレーザ光照射手段からのレ
ーザパルスを所定のピッチ間隔でディスクの両面に照射
することによって、ディスク表裏両面に対して所定の範
囲にわたって規則的な突起を形成するレーザテクスチャ
装置であって、1個のレーザ光源と、このレーザ光源か
らの直線偏光からなるレーザビームの偏光面を45°回
転させる偏光面制御手段と、この偏光面制御手段の出力
側に設けた調光手段と、この調光手段で光量調整された
レーザビームを偏光成分に応じて2つの光束に分ける分
光手段と、この分光手段で分けられた2つの光路にそれ
ぞれ設けたレーザパワー検出手段とを備え、両レーザパ
ワー検出手段による検出信号の基づいて前記調光手段に
よるレーザビームの全体光量を調整すると共に、前記分
光手段の入力側に配置され、この分光手段により分けら
れた2つの偏光成分の比をλ/2波長板で調整する構成
としたことをその特徴とするものである。In order to achieve the above-mentioned object, the present invention comprises mounting a disk on a spindle,
By irradiating laser pulses from a laser light irradiating means including a laser light source and an objective lens to both surfaces of the disk at predetermined pitch intervals while rotating the disk with this spindle, the disk can be regulated over a predetermined range on both front and back surfaces of the disk. A laser texture device for forming a periodic projection, one laser light source, polarization plane control means for rotating the polarization plane of a laser beam composed of linearly polarized light from the laser light source by 45 °, and this polarization plane control means Dimming means provided on the output side of the light-emitting element, spectral means for dividing the laser beam whose light amount has been adjusted by the light adjusting means into two light fluxes according to the polarization component, and two light paths provided by the light-separating means Laser power detecting means, and a laser beam by the dimming means based on detection signals from both laser power detecting means. It is characterized in that it is arranged on the input side of the spectral means and adjusts the ratio of two polarized components divided by the spectral means with a λ / 2 wavelength plate while adjusting the total light quantity. is there.
【0017】ここで、偏光面制御手段は、レーザ光源へ
の戻り光を遮断するアイソレータで構成することができ
る。また、調光手段は光変調器、光偏向器または液晶等
で構成することができ、そして、レーザビームを所定の
ビーム径となるように拡径すると共に、平行光束化する
ためのビームエキスパンダを設けるが、このビームエキ
スパンダは、調光手段の出力側に設ければ良い。さら
に、分光手段は、例えば偏光ビームスプリッタで構成す
ることができる。Here, the polarization plane control means can be constituted by an isolator for blocking return light to the laser light source. The dimming means can be constituted by an optical modulator, an optical deflector, a liquid crystal, or the like. A beam expander for expanding the laser beam so as to have a predetermined beam diameter and for converting the laser beam into a parallel light beam. The beam expander may be provided on the output side of the light control means. Further, the spectroscopic means can be constituted by, for example, a polarizing beam splitter.
【0018】[0018]
【発明の実施の形態】以下、図面に基づいて本発明の実
施の一形態を説明する。まず、図1において、10はデ
ィスクであって、このディスク10には、データ記録領
域10Dと、磁気ヘッド(図示せず)が静止するCSS
領域10Cとが形成される。CSS領域10Cは、同図
に斜線で示したように、ディスク10の内周に近い部位
に円環状に形成される。レーザテクスチャによる表面加
工が施されるのは、このCSS領域10Cである。ま
た、このテクスチャ加工によって、CSS領域10Cに
は図2に示した形状の微小突起がディスク10の表面に
形成される。この微小突起の1単位がバンプ11と呼ば
れるものである。ただし、ディスク10の表面に形成さ
れるバンプはこの図に示した形状のものだけでなく、デ
ィスクの材質やレーザビームのパワーや集光スポット径
等に応じて様々な形状をとることになる。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. First, in FIG. 1, reference numeral 10 denotes a disk. The disk 10 has a data recording area 10D and a CSS in which a magnetic head (not shown) is stationary.
Region 10C is formed. The CSS area 10C is formed in an annular shape near the inner periphery of the disk 10, as indicated by hatching in FIG. It is this CSS area 10C that is subjected to surface processing by laser texture. Further, by this texture processing, minute protrusions having the shape shown in FIG. 2 are formed on the surface of the disk 10 in the CSS region 10C. One unit of the minute projection is called a bump 11. However, the bumps formed on the surface of the disk 10 have various shapes according to the material of the disk, the power of the laser beam, the diameter of the focused spot, and the like, in addition to the shape shown in FIG.
【0019】レーザテクスチャ加工を行う装置の全体構
成を図3に示す。この図から明らかなように、加工装置
はディスク10を回転駆動するためのスピンドル手段1
2と、ディスク10の表面にレーザビームを照射するレ
ーザ光照射手段13とを備える構成となっている。レー
ザ光照射手段13はディスク10の両面に対して同時に
テクスチャ加工を行うことができる。スピンドル手段1
2はディスク10の内径を着脱可能にクランプして所定
の速度で回転駆動される。FIG. 3 shows the overall configuration of an apparatus for performing laser texture processing. As is apparent from this figure, the processing apparatus is provided with a spindle means 1 for rotating and driving the disk 10.
2 and a laser beam irradiation means 13 for irradiating the surface of the disk 10 with a laser beam. The laser beam irradiation means 13 can simultaneously perform texture processing on both surfaces of the disk 10. Spindle means 1
The disk 2 is rotationally driven at a predetermined speed by detachably clamping the inner diameter of the disk 10.
【0020】レーザ光照射手段13は共通光路部14と
P偏光光路部15P及びS偏光光路部15Sとから構成
される。共通光路部14には、レーザ光源20と、アイ
ソレータ21と、NDフィルタ22及び光偏向器23
と、ビームエキスパンダ24とが配置されている。レー
ザ光源20としては、例えば1064nmの発振周波数
のYAGレーザ等で、パルス発振するものが好適に用い
られる。なお、連続発振のレーザ光源を用いる場合に
は、共通光路部14の途中にパルス発生器を設けるよう
にする。The laser beam irradiation means 13 comprises a common optical path section 14, a P-polarized optical path section 15P and an S-polarized optical path section 15S. The common optical path section 14 includes a laser light source 20, an isolator 21, an ND filter 22, and an optical deflector 23.
And a beam expander 24. As the laser light source 20, for example, a YAG laser having an oscillation frequency of 1064 nm or the like and performing pulse oscillation is preferably used. When a continuous oscillation laser light source is used, a pulse generator is provided in the middle of the common optical path section 14.
【0021】アイソレータ21は、例えばファラデー回
転型のものから構成され、その本来の機能としては、デ
ィスク10からの戻り光がレーザ光源20に入り込むの
を防止するためのものである。そして、このアイソレー
タ21におけるファラデー回転子の作用によってレーザ
光源20から出射される直線偏光のレーザビームの偏光
面が45°ファラデー回転することになり、このアイソ
レータ21は偏光面制御手段としても機能する。また、
アイソレータ21の出力側には調光手段として、NDフ
ィルタ22及び光偏向器23が配置されており、NDフ
ィルタ22は固定の光量調整手段を構成するものであ
り、レーザ光源20からの光源光量を予め所定のレベル
にまでおおまかに低下させるためのものである。一方、
光偏向器23は可変の光量調整機能を発揮するためのも
のであって、音響光学式、電気光学式、磁気光学式等、
種々の光偏向器で構成することができ、また電気光学光
変調器等の光変調器や、液晶等を用いることもできる。
要するに、電気信号を入力することによって、入力レー
ザビームの偏光方向に変化を与えずに、レーザパワーを
連続的に変化させるものであれば良い。The isolator 21 is composed of, for example, a Faraday rotation type, and its original function is to prevent return light from the disk 10 from entering the laser light source 20. Then, the polarization plane of the linearly polarized laser beam emitted from the laser light source 20 is rotated by 45 ° Faraday by the action of the Faraday rotator in the isolator 21, and the isolator 21 also functions as a polarization plane control unit. Also,
On the output side of the isolator 21, an ND filter 22 and an optical deflector 23 are arranged as dimming means. The ND filter 22 constitutes a fixed light amount adjusting means. This is for roughly lowering to a predetermined level in advance. on the other hand,
The optical deflector 23 is for exerting a variable light amount adjusting function, and includes an acousto-optical type, an electro-optical type, a magneto-optical type, and the like.
Various optical deflectors can be used, and an optical modulator such as an electro-optic optical modulator, a liquid crystal, or the like can also be used.
In short, what is necessary is just to change the laser power continuously by inputting an electric signal without changing the polarization direction of the input laser beam.
【0022】光偏向器23を含む調光手段で出力パワー
が所望のレベルとなるように光量調整されたレーザビー
ムは、反射ミラー25a,25bに反射させることによ
って、共通光路部14の光路を引き回した上で、ビーム
エキスパンダ24に入射される。ビームエキスパンダ2
4はレーザビームのビーム径を拡大し、かつ平行光束化
するためのものである。このように、ビーム径を拡大さ
せるのは、後述する対物レンズユニット28P,28S
によりディスク10に対してレーザスポットの径をより
小さくなるように絞るためである。The laser beam whose light intensity has been adjusted by the dimming means including the optical deflector 23 so that the output power is at a desired level is reflected on the reflection mirrors 25a and 25b, thereby diverting the optical path of the common optical path section 14. After that, it is incident on the beam expander 24. Beam expander 2
Numeral 4 is for increasing the beam diameter of the laser beam and converting it into a parallel light beam. In order to increase the beam diameter in this manner, the objective lens units 28P and 28S described later are used.
Thus, the diameter of the laser spot on the disk 10 is reduced so as to be smaller.
【0023】以上のようにして、レーザ光源20からの
レーザビームの光量調整が行われ、かつ拡径され、平行
光束化された後に、分光手段により2つの光路に分けら
れる。ここで、分光手段に入力されるレーザビームは、
45°の偏光面を持つ直線偏光であるから、分光手段と
しては、P,Sの2つの偏光成分を実質的に100%分
離できる偏光ビームスプリッタ26が用いられる。従っ
て、偏光ビームスプリッタ26に入射されたレーザビー
ムは、前述した2つの直線偏光成分のうちの一方の偏光
成分が偏光ビームスプリッタ26を透過し、他方の偏光
成分は反射することになる。この結果、P偏光光路部1
5Pに向かうP偏光成分とS偏光光路部15Sに向かう
S偏光成分とに分けられる。ここで、P偏光光路部15
PでのP偏光成分とS偏光光路部15SでのS偏光成分
とのパワーは同一でなければならない。このために、分
光手段を構成する偏光ビームスプリッタ26の前段に、
パワー比が等しくなるようにするために、λ/2波長板
27が設けられる。As described above, the light amount of the laser beam from the laser light source 20 is adjusted, the diameter of the laser beam is expanded, and the laser beam is converted into a parallel light beam. Here, the laser beam input to the spectroscopic means is
Since the light is linearly polarized light having a polarization plane of 45 °, a polarizing beam splitter 26 that can substantially separate the two polarized components of P and S by 100% is used as the spectral unit. Accordingly, in the laser beam incident on the polarizing beam splitter 26, one of the two linearly polarized light components described above passes through the polarizing beam splitter 26, and the other polarized light component is reflected. As a result, the P-polarized light path 1
It is divided into a P-polarized light component toward 5P and an S-polarized light component toward the S-polarized light path 15S. Here, the P-polarized light path 15
The power of the P-polarized light component at P and the power of the S-polarized light component at the S-polarized light path section 15S must be the same. For this purpose, before the polarization beam splitter 26 constituting the spectral means,
A λ / 2 wavelength plate 27 is provided to make the power ratios equal.
【0024】偏光ビームスプリッタ26からのP偏光成
分の光はP偏光光路部15Pを、またS偏光成分の光は
S偏光光路部15Sを通り、対物レンズユニット28
P,28Sを介してディスク10の表裏両面にそれぞれ
所定のスポット径となるようにして照射される。ここ
で、P偏光光路部15P及びS偏光光路部15Sを通る
レーザビームのパワーは厳格に制御しなければ、正確な
バンプ11が形成できないことになる。そこで、偏光ビ
ームスプリッタ26から対物レンズユニット28P,2
8Sに至る光路にはビ−ムサンプラ29P,29Sが介
装されており、このビ−ムサンプラ29P,29Sによ
り数%乃至十数%程度の光量を反射させるようにしてサ
ンプリングするようになされている。そして、このビ−
ムサンプラ29P,29Sで反射した光は光電変換素子
からなるパワーディテクタ30P,30Sに取り込まれ
て、そのパワーが測定される。なお、図中25cは偏光
ビームスプリッタ26からの反射光を透過光と平行な方
向に光路を向けるための反射ミラーである。The light of the P-polarized light component from the polarizing beam splitter 26 passes through the P-polarized light path 15P, and the light of the S-polarized light passes through the S-polarized light path 15S.
Irradiation is performed on both the front and back surfaces of the disk 10 via P and 28S so as to have a predetermined spot diameter. Here, if the power of the laser beam passing through the P-polarized light path 15P and the S-polarized light path 15S is not strictly controlled, an accurate bump 11 cannot be formed. Therefore, the objective lens units 28P and 2P are output from the polarizing beam splitter 26.
Beam samplers 29P and 29S are interposed in the optical path leading to 8S, and the beam samplers 29P and 29S sample the light so as to reflect a light amount of about several to tens of percent. And this bee
The light reflected by the samplers 29P and 29S is taken into the power detectors 30P and 30S composed of photoelectric conversion elements, and the power is measured. In the drawing, reference numeral 25c denotes a reflection mirror for directing the reflected light from the polarizing beam splitter 26 in an optical path in a direction parallel to the transmitted light.
【0025】偏光ビームスプリッタ26の前段に設けた
λ/2波長板27は、回転駆動手段31により回転駆動
できるようになっており、このλ/2波長板27を回転
させることによって、レーザビームの偏光方位ベクトル
を変化させることができるようになっている。従って、
λ/2波長板27を透過する光の偏光成分のうち、P偏
光成分とS偏光成分とのパワー比がλ/2波長板27の
回転角度に応じて変化することになる。The λ / 2 wavelength plate 27 provided in front of the polarization beam splitter 26 can be driven to rotate by the rotation driving means 31. By rotating the λ / 2 wavelength plate 27, the laser beam The polarization direction vector can be changed. Therefore,
The power ratio between the P-polarized light component and the S-polarized light component of the polarized light components transmitted through the λ / 2 wavelength plate 27 changes according to the rotation angle of the λ / 2 wavelength plate 27.
【0026】パワーディテクタ30P,30Sでは、そ
れぞれP偏光光路部15P及びS偏光光路部15Sを通
るレーザビームのパワーが検出されるが、これによって
両光路15P,15Sのレーザビームのパワーを所定の
レベルで、かつ相互に等しいパワーとなるように調整す
るために設けたものである。そこで、まず全体としての
レーザビームの光量調整を行う。この全体光量の調整を
行うために、NDフィルタ22及び光偏向器23からな
る調光手段が設けられ、これらのうちの光偏向器23は
可変の調光手段を構成している。従って、パワーディテ
クタ30P,30Sからの信号に基づいて、この光偏向
器23に対する電気信号を変化させることによって、レ
ーザビーム全体の光量調整を行うことができる。The power detectors 30P and 30S detect the powers of the laser beams passing through the P-polarized light path 15P and the S-polarized light path 15S, respectively. And are adjusted so that the powers are equal to each other. Therefore, first, the light amount of the laser beam as a whole is adjusted. In order to adjust the total amount of light, a light control means including an ND filter 22 and a light deflector 23 is provided, and the light deflector 23 among these light control means constitutes a variable light control means. Therefore, by changing the electric signal to the optical deflector 23 based on the signals from the power detectors 30P and 30S, the light amount of the entire laser beam can be adjusted.
【0027】しかも、全体としてのレーザビームの光量
を調整したとしても、偏光ビームスプリッタ26でP偏
光成分とS偏光成分とに分けた後に、それらのパワーが
不均一であれば、表裏各面に形成されるバンプ11の形
状が異なってくる。λ/2波長板27を偏光ビームスプ
リッタ26の前段側に配置したのは、偏光ビームスプリ
ッタ26で分光させて2つの光路15P,15Sに分け
られたレーザビームのパワーが等しくなるようにパワー
比を制御するためである。Moreover, even if the light amount of the laser beam as a whole is adjusted, if the polarization beam splitter 26 separates the P-polarized light component and the S-polarized light component and their powers are not uniform, the front and back surfaces will be different. The shape of the bump 11 to be formed differs. The reason why the λ / 2 wavelength plate 27 is disposed in front of the polarization beam splitter 26 is that the power ratio is adjusted so that the power of the laser beam split into the two optical paths 15P and 15S by the polarization beam splitter 26 becomes equal. It is to control.
【0028】このために、制御手段32が設けられてお
り、パワーディテクタ30P,30Sからの検出信号が
この制御手段32に取り込まれて、両パワーディテクタ
30P,30Sによる合計の光量レベルを、所定の設定
値と比較して、その間に差があると、制御手段32から
光量調整信号が光偏向器23に入力されて、その出力側
の光量が一定になるように調整される。また、パワーデ
ィテクタ30P,30S間で検出レベルに差があると、
制御手段32からλ/2波長板27の回転駆動手段31
に比率調整信号が入力されて、このλ/2波長板27を
適宜の方向に回転させることによって、2つの光路15
P,15Sに分けられたレーザビームのパワーが等しく
なるように制御される。For this purpose, a control means 32 is provided. Detection signals from the power detectors 30P and 30S are taken into the control means 32, and the total light amount level by the two power detectors 30P and 30S is adjusted to a predetermined value. If there is a difference between the set value and the difference, a light amount adjustment signal is input from the control means 32 to the optical deflector 23, and the light amount on the output side is adjusted to be constant. If there is a difference in the detection level between the power detectors 30P and 30S,
From the control means 32 to the rotation driving means 31 of the λ / 2 wavelength plate 27
The λ / 2 wavelength plate 27 is rotated in an appropriate direction when a ratio adjustment signal is input to the two optical paths 15.
Control is performed so that the powers of the laser beams divided into P and 15S become equal.
【0029】さらに、対物レンズユニット28P,28
Sに至る光路は相互に平行となっており、ディスク10
の表裏両面にレーザビームを照射するには、光路を90
°変える必要がある。しかも、ディスク10におけるC
SS領域10Cはその内周側に位置しており、スピンド
ル手段12はディスク10の内周をクランプしている。
従って、ディスク10に至る光路、特にディスク10の
裏面側に至る光路がスピンドル手段12と干渉しないよ
うにしなければならない。そこで、対物レンズユニット
28P,28Sから照射されるレーザビームの光路を反
射ミラー33P,33Sで90°曲げるようにしてい
る。Further, the objective lens units 28P, 28
The optical paths leading to S are parallel to each other and
To irradiate the laser beam on both sides of the
° Need to change. Moreover, C in the disk 10
The SS area 10C is located on the inner circumference side, and the spindle means 12 clamps the inner circumference of the disk 10.
Therefore, the optical path to the disk 10, particularly the optical path to the back side of the disk 10, must not interfere with the spindle unit 12. Therefore, the optical paths of the laser beams emitted from the objective lens units 28P and 28S are bent by 90 ° by the reflection mirrors 33P and 33S.
【0030】以上のように構成されるテクスチャ加工装
置を用いることによって、スピンドル手段12にディス
ク10を装架して、ディスク10を回転させる間に、レ
ーザ光照射手段13によりレーザパルスを照射しながら
照射スポットをディスク10の半径方向に移動させるこ
とによって、ディスク10の表裏両面におけるCSS領
域10Cにテクスチャ加工が施される。そして、この間
にレーザ光照射手段13を図示しない駆動手段によりデ
ィスク10の半径方向に移動させることによって、ディ
スク10の表面及び裏面の両面にバンプ11が所定の幅
にわたって渦巻き状態に形成される。By using the texture processing apparatus constructed as described above, the disk 10 is mounted on the spindle means 12 and while the disk 10 is being rotated, the laser pulse is irradiated by the laser light irradiating means 13. By moving the irradiation spot in the radial direction of the disk 10, texture processing is applied to the CSS regions 10C on both the front and back surfaces of the disk 10. By moving the laser beam irradiating means 13 in the radial direction of the disk 10 by driving means (not shown) during this time, the bumps 11 are formed in a spiral state over a predetermined width on both the front and rear surfaces of the disk 10.
【0031】ディスク10における表裏両面のCSS領
域10Cに形成されるバンプ11としては、例えば概略
図2に示した形状の微小突起であり、11Hはバンプ高
さ、11Dはピッチ間隔であり、テクスチャ加工が正確
に行われると、CSS領域10Cの全体に一定のピッチ
間隔11Dで、均一な高さ11Hのバンプ11が両面に
同時に形成されることになる。ここで、ピッチ間隔11
Dはディスク10の回転速度とパルス間隔とにより決定
される。従って、スピンドル手段12によるディスク1
0の回転速度を一定にする必要がある。The bumps 11 formed in the CSS regions 10C on both the front and back surfaces of the disk 10 are, for example, minute projections having the shape shown in FIG. 2, 11H is the bump height, 11D is the pitch interval, and is textured. Is performed accurately, bumps 11 having a uniform height 11H are formed simultaneously on both sides of the CSS region 10C at a constant pitch 11D. Here, pitch interval 11
D is determined by the rotation speed of the disk 10 and the pulse interval. Therefore, the disk 1 by the spindle means 12
It is necessary to keep the rotation speed of 0 constant.
【0032】また、バンプ11の高さは照射されるレー
ザビームのディスク10に対するスポット径とレーザパ
ワーに依存する。スポット径の制御は、まず第一義的に
は対物レンズユニット28P,28Sにより決定され
る。つまり、ディスク10の表裏両面が常に対物レンズ
ユニット28P,28Sにおける対物レンズの焦点位置
に位置していなければならない。対物レンズユニット2
8P,28Sをオートフォーカス機構を備えたもので構
成することによって、ディスク10の表裏各面と対物レ
ンズユニット28P,28Sとの相対距離が変化して
も、このオートフォーカス機構により焦点調整を行うこ
とができる。The height of the bump 11 depends on the spot diameter of the laser beam to be irradiated on the disk 10 and the laser power. The control of the spot diameter is primarily determined by the objective lens units 28P and 28S. That is, the front and back surfaces of the disk 10 must always be located at the focal positions of the objective lenses in the objective lens units 28P and 28S. Objective lens unit 2
By configuring the 8P and 28S with an autofocus mechanism, even if the relative distance between the front and back surfaces of the disk 10 and the objective lens units 28P and 28S changes, the focus can be adjusted by the autofocus mechanism. Can be.
【0033】また、対物レンズユニット28P,28S
への入射光のビーム径によっても、ディスク10への照
射スポット径に影響が出る。レーザビームのビーム径は
ビームエキスパンダ24で制御されるが、このビームエ
キスパンダ24は共通光路部14に設けられているの
で、ディスク10の一側面を加工するためのP偏光光路
部15Pにおいても、また他側面を加工するS偏光光路
部15Sにおいても同じビーム径となる。The objective lens units 28P, 28S
The diameter of the spot irradiated on the disc 10 is also affected by the beam diameter of the incident light. The beam diameter of the laser beam is controlled by the beam expander 24. Since the beam expander 24 is provided in the common optical path section 14, the beam expander 24 is also provided in the P-polarized optical path section 15P for processing one side surface of the disk 10. The same beam diameter is obtained in the S-polarized light path section 15S for processing the other side surface.
【0034】ディスク10の表裏両面に照射されるレー
ザビームは偏光ビームスプリッタ26で分岐させるが、
P偏光光路部15Pに向かうP偏光成分の光と、S偏光
光路部15Sに向かうS偏光成分の光とが等しく、しか
も所定のパワーとなるように設定する。ところで、レー
ザ光照射手段13を構成する光学部品は熱の影響等で多
少特性が変化する。偏光ビームスプリッタ26が熱等の
影響で特性が変化すると、P偏光光路部15Pに向かう
レーザビームとS偏光光路部15Sに向かうレーザビー
ムとのパワーに差が生じる。しかしながら、P偏光光路
部15P及びS偏光光路部15Sにおいて対物レンズユ
ニット28P,28Sの直前の位置、つまりそれ以後の
光路で熱により特性が変化する光学部品が配置されてい
ない位置で、レーザパワーをパワーディテクタ30P,
30Sで検出しているので、実際にディスク10の表裏
両面に照射されるレーザビームのパワーが検出される。
そして、これらパワーディテクタ30P,30Sによる
検出信号に基づいて、光偏向器23で全体光量が一定に
なるように、またλ/2波長板27でP偏光光路部15
P及びS偏光光路部15Sのレーザパワーが等しくなる
ようにフィードバック制御している。この結果、ディス
ク10に照射されるレーザビームのパワーは常に一定で
あり、しかも表裏両面に対して同じパワーのレーザビー
ムを照射することができる。The laser beam applied to the front and back surfaces of the disk 10 is split by the polarizing beam splitter 26.
The P-polarized light component traveling toward the P-polarized light path portion 15P and the S-polarized light component traveling toward the S-polarized light path portion 15S are set to be equal and have a predetermined power. By the way, the characteristics of the optical components constituting the laser beam irradiation means 13 slightly change due to the influence of heat or the like. When the characteristics of the polarization beam splitter 26 change due to the influence of heat or the like, a difference occurs between the power of the laser beam directed to the P-polarized light path 15P and the power of the laser beam directed to the S-polarized light path 15S. However, in the P-polarized light path section 15P and the S-polarized light path section 15S, the laser power is set at a position immediately before the objective lens units 28P and 28S, that is, at a position where no optical component whose characteristics change due to heat in the subsequent optical path is arranged. Power detector 30P,
Since the detection is performed at 30S, the power of the laser beam actually applied to both the front and back surfaces of the disk 10 is detected.
Then, based on the detection signals from the power detectors 30P and 30S, the optical deflector 23 makes the total light amount constant, and the λ / 2 wavelength plate 27 makes the P-polarized light path portion 15
Feedback control is performed so that the laser powers of the P and S polarization optical path sections 15S become equal. As a result, the power of the laser beam applied to the disk 10 is always constant, and the laser beam of the same power can be applied to both the front and back surfaces.
【0035】レーザ光照射手段13を構成する各光学部
品のうち、レーザ光源20,アイソレータ21,調光手
段を構成するNDフィルタ22及び光偏向器23,λ/
2波長板27及び偏光ビームスプリッタ26を共通光路
部14に配置する構成としているので、全体としてのレ
ーザ光照射手段13の光学系構成が簡略化される。しか
も、このようにP偏光光路部15P及びS偏光光路部1
5Sに設けると共に、レーザパワーを測定するビ−ムサ
ンプラ29P,29Sとパワーディテクタ30P,30
SとをそれぞれP偏光光路部15P及びS偏光光路部1
5Sに設けて、これらパワーディテクタ30P,30S
からの検出信号に基づいて全体光量レベルと、P偏光光
路部15PとS偏光光路部15SPとのレーザパワーの
比率とを個別的に制御しているので、ディスク10の表
裏両面に照射されるレーザビームのパワーを極めて正確
に調整できるようになる。The laser light source 20, the isolator 21, the ND filter 22 and the optical deflector 23, which constitute the dimming means, of the optical parts constituting the laser
Since the two-wavelength plate 27 and the polarization beam splitter 26 are arranged in the common optical path section 14, the optical system configuration of the laser beam irradiation means 13 as a whole is simplified. Moreover, the P-polarized light path 15P and the S-polarized light path 1
5S, beam samplers 29P, 29S and power detectors 30P, 30P for measuring laser power.
S and P-polarized light path unit 15P and S-polarized light path unit 1, respectively.
5S, these power detectors 30P, 30S
, And the ratio of the laser power between the P-polarized light path 15P and the S-polarized light path 15SP is individually controlled based on the detection signal from The power of the beam can be adjusted very precisely.
【0036】[0036]
【発明の効果】本発明は以上のように構成したので、簡
単な光学系構成で、レーザ光源からのレーザビームを分
岐させる手段等が熱その他の外的な影響で特性が変化し
ても、ディスクの表裏両面に均等なバンプを高精度に形
成できる等の効果を奏する。Since the present invention is constructed as described above, even if the characteristics of the laser beam from the laser light source are changed due to heat or other external influence with a simple optical system configuration, This has the effect that uniform bumps can be formed on both sides of the disc with high precision.
【図1】磁気ディスクの加工領域を示す説明図である。FIG. 1 is an explanatory diagram showing a processing area of a magnetic disk.
【図2】テクスチャ加工により形成されるバンプの一例
を示す説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram showing an example of a bump formed by texture processing.
【図3】本発明の実施の一形態を示すレーザテクスチャ
装置の光学系構成図である。FIG. 3 is an optical system configuration diagram of a laser texture device showing an embodiment of the present invention.
【図4】従来技術によるレーザテクスチャ装置の光学系
構成図である。FIG. 4 is an optical system configuration diagram of a conventional laser texture device.
10 ディスク 10C CSS
領域 10D データ記録領域 11 バンプ 12 スピンドル手段 13 レーザ光
照射手段 14 共通光路部 15P P偏光
光路部 15S S偏光光路部 20 レーザ光
源 21 アイソレータ 22 NDフィ
ルタ 23 光偏向器 24 ビームエ
キスパンダ 26 偏光ビームスプリッタ 27 λ/2波
長板 28P,28S 対物レンズユニット 29P,29S
ビ−ムサンプラ 30P,30S パワーディテクタ 31 回転駆動
手段 32 制御手段10 Disc 10C CSS
Area 10D Data recording area 11 Bump 12 Spindle means 13 Laser light irradiation means 14 Common light path section 15P P polarization light path section 15S S polarization light path section 20 Laser light source 21 Isolator 22 ND filter 23 Optical deflector 24 Beam expander 26 Polarizing beam splitter 27 λ / 2 wavelength plate 28P, 28S Objective lens unit 29P, 29S
Beam sampler 30P, 30S Power detector 31 Rotation driving means 32 Control means
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宗藤 正利 東京都渋谷区東3丁目16番3号 日立電子 エンジニアリング株式会社内 Fターム(参考) 4E068 AG00 CA02 CA07 CB10 CD04 5D112 AA24 GA03 GA19 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (72) Inventor Masatoshi Soto 3-16-3 Higashi, Shibuya-ku, Tokyo F-term within Hitachi Electronics Engineering Co., Ltd. 4E068 AG00 CA02 CA07 CB10 CD04 5D112 AA24 GA03 GA19
Claims (4)
スピンドルによりディスクを回転させながら、レーザ光
源及び対物レンズを含むレーザ光照射手段からのレーザ
パルスを所定のピッチ間隔でディスクの両面に照射する
ことによって、ディスク表裏両面に対して所定の範囲に
わたって規則的な突起を形成するレーザテクスチャ装置
において、1個のレーザ光源と、このレーザ光源からの
直線偏光からなるレーザビームの偏光面を45°回転さ
せる偏光面制御手段と、この偏光面制御手段の出力側に
設けた調光手段と、この調光手段で光量調整されたレー
ザビームを偏光成分に応じて2つの光束に分ける分光手
段と、この分光手段で分けられた2つの光路にそれぞれ
設けたレーザパワー検出手段とを備え、両レーザパワー
検出手段による検出信号の基づいて前記調光手段による
レーザビームの全体光量を調整すると共に、前記分光手
段の入力側に配置され、この分光手段により分けられた
2つの偏光成分のパワー比をλ/2波長板で調整する構
成としたことを特徴とするレーザテクスチャ装置。1. A disk is mounted on a spindle, and a laser pulse from a laser light irradiation means including a laser light source and an objective lens is applied to both surfaces of the disk at predetermined pitch intervals while rotating the disk by the spindle. A laser texture device that forms regular projections over a predetermined range on both the front and back surfaces of a disk by rotating one laser light source and a polarization plane of a laser beam composed of linearly polarized light from the laser light source by 45 ° Polarization plane control means, dimming means provided on the output side of the polarization plane control means, spectral means for dividing the laser beam, the light amount of which has been adjusted by the dimming means, into two luminous fluxes in accordance with the polarization component; Laser power detecting means provided on two optical paths separated by the means, respectively, and detecting by the two laser power detecting means. The light amount of the laser beam is adjusted by the light control means based on the signal, and the power ratio of the two polarization components divided by the light separation means is arranged on the input side of the light separation means. A laser texture device having a configuration for adjusting.
への戻り光を遮断するアイソレータで構成したことを特
徴とする請求項1記載のレーザテクスチャ装置。2. The laser texture apparatus according to claim 1, wherein said polarization plane control means comprises an isolator for blocking return light to said laser light source.
は液晶で構成し、この調光手段の出力側にはレーザビー
ムを所定のビーム径となるように拡径すると共に、平行
光束化するためのビームエキスパンダを配置する構成と
したことを特徴とする請求項1記載のレーザテクスチャ
装置。3. The dimming means comprises an optical modulator, an optical deflector or a liquid crystal. At the output side of the dimming means, a laser beam is expanded so as to have a predetermined beam diameter and a parallel light beam is emitted. 2. The laser texture apparatus according to claim 1, wherein a beam expander for converting the laser texture is arranged.
構成したことを特徴とする請求項1記載のレーザテクス
チャ装置。4. The laser texture apparatus according to claim 1, wherein said spectral means comprises a polarizing beam splitter.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10255148A JP2000084682A (en) | 1998-09-09 | 1998-09-09 | Laser texture device |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| JP10255148A JP2000084682A (en) | 1998-09-09 | 1998-09-09 | Laser texture device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000084682A true JP2000084682A (en) | 2000-03-28 |
Family
ID=17274754
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10255148A Pending JP2000084682A (en) | 1998-09-09 | 1998-09-09 | Laser texture device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000084682A (en) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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-
1998
- 1998-09-09 JP JP10255148A patent/JP2000084682A/en active Pending
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