JP2000011902A - Optical filter for display - Google Patents
Optical filter for displayInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、ディスプレイの画
面上に設置される光学フィルターに関するものであり、
さらに詳しくは、ディスプレイの発熱が原因で起こる変
色等の異常発生を抑制した光学フィルターに関するもの
である。ディスプレイが発熱量の大きいプラズマディス
プレイパネルである場合に、特に効果を発揮するもので
ある。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical filter installed on a display screen.
More specifically, the present invention relates to an optical filter that suppresses occurrence of abnormalities such as discoloration caused by heat generation of a display. This is particularly effective when the display is a plasma display panel that generates a large amount of heat.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、社会が高度化するに従って、光エ
レクトロニクス関連部品、機器は著しく進歩している。
その中で、画像を表示するディスプレイは、従来のテレ
ビジョン装置用に加えて、コンピューターモニター装置
用等としてめざましく普及しつつある。その中でも、デ
ィスプレイの大型化及び薄型化に対する市場要求は高ま
る一方である。2. Description of the Related Art In recent years, as society has become more sophisticated, optoelectronics-related components and equipment have remarkably advanced.
Among them, displays for displaying images have been remarkably popularized for computer monitor devices in addition to conventional television devices. Among them, market demands for larger and thinner displays are increasing.
【0003】最近、大型かつ薄型化を実現することが可
能であるディスプレイとしてプラズマディスプレイパネ
ル(PDP)が、注目されている。しかし、プラズマデ
ィスプレイパネルは、原理上、強い近赤外線を放出す
る。この近赤外線は、コードレス電話や赤外線方式のリ
モートコントローラ等の誤動作を引き起こす。光学フィ
ルターはディスプレイの画面から放出される波長が80
0nm〜1000nmの近赤外線を遮断するために用い
られ、ディスプレイの画面上に設置される。そのため光
学フィルターの光線透過率は、波長が800nm〜10
00nmの近赤外線に対しては低く、波長が380nm
〜800nmの可視光線に対しては高いことが望まし
い。また可視光域に関しては単に透過率が高いだけでな
く、例えば色調等ディスプレイの映像を損なわせないだ
けの光学特性が必要とされる。[0003] Recently, a plasma display panel (PDP) has attracted attention as a display that can be made large and thin. However, the plasma display panel emits strong near-infrared rays in principle. The near-infrared rays cause malfunctions of cordless telephones, infrared remote controllers, and the like. The optical filter has a wavelength of 80 emitted from the display screen.
It is used to block near-infrared rays of 0 nm to 1000 nm, and is installed on a display screen. Therefore, the light transmittance of the optical filter is 800 nm to 10 nm.
Low for near infrared of 00 nm, wavelength is 380 nm
It is desirable to be high for visible light of up to 800 nm. Further, in the visible light region, not only high transmittance but also optical characteristics that do not impair the image of the display such as color tone are required.
【0004】近赤外線を遮断するための手段としては、
(1)近赤外線を吸収する材料をフィルターを構成する
材料中に混入させる。(2)近赤外線を反射する材料を
フィルター表面にコーティングする。の二種類に大別さ
れる。近赤外線を吸収する材料としてはジチオール錯体
化合物が挙げられ、これは近赤外線吸収色素として市販
されているものである。また、近赤外線を反射する材料
としては銀が知られている。 また、プラズマディスプ
レイパネルは、強い電磁波を装置外に放出することが知
られている。電磁波は、計器に障害を及ぼすことが知ら
れており、最近では、電磁波が人体にも障害を及ぼす可
能性もあるとの報告もされている。このため、電磁波放
出に関しては、法的に規制されるようになってきてい
る。例えば、現在日本では、VCCI(Volunta
ry Control Council for In
terference by data proces
sing equipment electronic
office machine)による規制があり、
米国では、FCC(Federal Communic
ation Commission)による製品規制が
ある。近年、画面から放出される電磁波を遮断する機能
を併せもつ光学フィルターが開発されてきた。電磁波を
遮断する機能をもつフィルターは、二種類に大別するこ
とができる。一つは、金属メッシュタイプと呼ばれてい
るものであり、基体全面に細く金属を格子状に配置させ
たものである。これは、優れた電磁波遮断能力を持つ
が、透明性が優れずモワレ像が生じることからディスプ
レイフィルター用途に対して、あまり好ましくない。も
う一つは、透明薄膜タイプと呼ばれているものであり、
透明導電性薄膜を全面にわたって配置したものである。
薄膜の材料としては抵抗率の低いものが好ましく、銀や
金が適当な材料として挙げられる。なかでも銀は近赤外
線反射能をも併せ持つため、適当な厚みに設計された銀
薄膜を配置すれば、近赤外線遮断機能及び電磁波遮断機
能をもつ光学フィルターを得ることができる。実際には
銀薄膜と適当な屈折率を有する薄膜との積層により、可
視光線領域の光学特性を制御した電磁波遮断機能付き光
学フィルターが開発されている。このタイプは金属メッ
シュタイプと異なりモワレ像が生じることはなく、ディ
スプレイの映像性能を落とすことがない。[0004] As means for blocking near infrared rays,
(1) A material that absorbs near-infrared rays is mixed into a material constituting a filter. (2) Coating the surface of the filter with a material that reflects near infrared rays. Are roughly divided into two types. Examples of the material that absorbs near-infrared light include dithiol complex compounds, which are commercially available as near-infrared-absorbing dyes. Silver is known as a material that reflects near infrared rays. In addition, it is known that a plasma display panel emits a strong electromagnetic wave outside the device. Electromagnetic waves are known to cause damage to instruments, and it has recently been reported that electromagnetic waves may also cause damage to the human body. For this reason, the emission of electromagnetic waves has been legally regulated. For example, at present in Japan, VCCI (Volunta
ry Control Council for In
terreference by data processes
sing equipment electronic
Office machine)
In the United States, the FCC (Federal Communication)
There is a product regulation by the National Communications Commission. In recent years, optical filters having a function of blocking electromagnetic waves emitted from a screen have been developed. Filters having a function of blocking electromagnetic waves can be roughly classified into two types. One is a so-called metal mesh type in which metal is thinly arranged in a grid pattern on the entire surface of a substrate. Although this has an excellent electromagnetic wave blocking ability, it is not very preferable for use as a display filter because of poor transparency and a moire image. The other is called a transparent thin film type,
The transparent conductive thin film is disposed over the entire surface.
As a material of the thin film, a material having a low resistivity is preferable, and silver and gold are mentioned as suitable materials. Above all, silver also has near-infrared reflectivity, so that an optical filter having a near-infrared blocking function and an electromagnetic wave blocking function can be obtained by disposing a silver thin film designed to have an appropriate thickness. Actually, an optical filter with an electromagnetic wave blocking function in which optical characteristics in the visible light region are controlled by laminating a silver thin film and a thin film having an appropriate refractive index has been developed. This type does not generate a moire image unlike the metal mesh type, and does not reduce the image performance of the display.
【0005】透明導電性薄膜タイプの光学フィルター
は、高分子成形体基板やガラス基板に透明導電性薄膜フ
ィルムを貼り合わせてある場合が多い。このフィルムを
貼り合わせる手法の利点は、薄膜形成が基材フィルムを
ロールに巻き取りながら連続的に行えるため量産に適し
ている点である。また、反射率低減機能、防幻機能また
は調色機能を持った光学フィルムを透明導電性フィルム
に組み合わせて貼り合わせることも多い。A transparent conductive thin film type optical filter is often obtained by laminating a transparent conductive thin film on a polymer molded substrate or a glass substrate. The advantage of this method of laminating films is that thin films can be formed continuously while winding the base film around a roll, which is suitable for mass production. Further, an optical film having a reflectance reducing function, an antiglare function or a toning function is often combined with a transparent conductive film and bonded.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】赤外線遮断能を有する
光学フィルターを、プラズマディスプレイパネルの表示
画面上に設置して表示体を完成させこれを点灯し長時間
放置すると、光学フィルターが変色し色調が変化する不
具合が発生した。これはプラズマディスプレイの長期信
頼性を損なうものであり、この解決が強く求められてい
た。When an optical filter having an infrared blocking ability is installed on a display screen of a plasma display panel to complete a display, and this is turned on and left for a long time, the optical filter changes color and the color tone is changed. A changing problem has occurred. This impairs the long-term reliability of the plasma display, and there has been a strong demand for a solution.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の問
題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、プラズマデ
ィスプレイパネルで生成される熱が光学フィルターに伝
わり、光学フィルターの一部が加熱された結果異常が生
じたことを突き止めた。光学フィルターが加熱されるの
はディスプレイに近い部分の一部であり、その箇所に異
常が発生してしまう。本発明者らは、光学フィルターの
熱抵抗を制御することで、その異常発生を抑制できるこ
とを発見し本発明に到った。Means for Solving the Problems The present inventors have made intensive studies to solve the above problems, and as a result, the heat generated in the plasma display panel is transmitted to the optical filter, and a part of the optical filter is removed. It was determined that abnormalities occurred as a result of heating. The optical filter is heated at a part of the portion near the display, and an abnormality occurs at that portion. The present inventors have found that by controlling the thermal resistance of the optical filter, it is possible to suppress the occurrence of the abnormality, and reached the present invention.
【0008】すなわち本発明は、(1)熱抵抗が0.0
05(m2 ・K/W)以上、0.1(m2 ・K/W)以
下であり、かつ、ディスプレイの画面上に設置されるこ
とを特徴とするディスプレイ用光学フィルター、(2)
透明な板状成形体と透明な薄膜とが積層されていること
を特徴とする(1)記載のディスプレイ用光学フィルタ
ー、(3)透明な薄膜のシート抵抗が10(Ω/□)以
下であることを特徴とする(2)記載のディスプレイ用
光学フィルター、(4)透明な薄膜がコーティングされ
た高分子フィルムと、透明な板状成形体とが貼り合わさ
れていることを特徴とする(2)乃至(3)のいずれか
に記載のディスプレイ用光学フィルター、(5)ディス
プレイがプラズマディスプレイパネルであることを特徴
とする(1)乃至(4)のいずれかに記載のディスプレ
イ用光学フィルターに関するものである。That is, according to the present invention, (1) the thermal resistance is 0.0
(2) an optical filter for a display, which is not less than 05 (m 2 · K / W) and not more than 0.1 (m 2 · K / W) and is installed on the screen of the display.
(1) The optical filter for a display according to (1), wherein a transparent plate-shaped molded body and a transparent thin film are laminated, (3) the transparent thin film has a sheet resistance of 10 (Ω / □) or less. (2) The optical filter for a display according to (2), wherein (4) a polymer film coated with a transparent thin film and a transparent plate-like molded body are bonded together (2). (5) The optical filter for a display according to any one of (1) to (4), wherein the display is a plasma display panel. is there.
【0009】[0009]
【発明の実施の形態】本発明における光学フィルター
は、熱抵抗が0.005(m2・K/W)以上0.1
(m2・K/W)以下である。熱抵抗をこの範囲に限定
しなければならないのは、ディスプレイの連続点灯時に
おける画面の発熱により光学フィルターが劣化するのを
防止するためである。これは、表示画面からの発生熱量
が大きいプラズマディスプレイの光学フィルターとして
用いる場合に特に有効である。プラズマディスプレイの
表示画面は連続点灯時に80℃〜90℃程度にまで達
し、画面上に設置された光学フィルターを加熱させる。
すなわちプラズマディスプレイパネル自体が、光学フィ
ルターを加熱する熱源となってしまう。プラズマディス
プレイパネルの連続点灯時には、プラズマディスプレイ
パネルとの距離が近い部分において光学フィルターが加
熱されて、光学フィルターの熱抵抗が大きいと放熱され
ず蓄熱されることになる。この蓄熱により、近赤外線を
遮断するために用いられている近赤外線吸収色素や銀薄
膜が劣化し、変色等の不具合が引き起こされる。この問
題は、光学フィルターの熱抵抗を上限以下とすることで
解決することができるのである。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The optical filter according to the present invention has a thermal resistance of 0.005 (m 2 · K / W) or more and 0.1 or more.
(M 2 · K / W) or less. The thermal resistance must be limited to this range in order to prevent the deterioration of the optical filter due to heat generation on the screen when the display is continuously turned on. This is particularly effective when used as an optical filter of a plasma display that generates a large amount of heat from a display screen. The display screen of the plasma display reaches about 80 ° C. to 90 ° C. during continuous lighting, and heats the optical filter installed on the screen.
That is, the plasma display panel itself becomes a heat source for heating the optical filter. At the time of continuous lighting of the plasma display panel, the optical filter is heated in a portion where the distance from the plasma display panel is short. If the thermal resistance of the optical filter is large, heat is not stored but stored. The heat storage deteriorates the near-infrared absorbing dye and the silver thin film used for blocking near-infrared rays, and causes problems such as discoloration. This problem can be solved by setting the thermal resistance of the optical filter to the upper limit or less.
【0010】光学フィルターの熱抵抗の下限値は0.0
05(m2・K/W)でなければならない。熱抵抗が
0.005(m2・K/W)以下だと、ディスプレイで
発生した熱が光学フィルターを通して外部にまで達し放
熱性はよくなるものの、人が触れる可能性のある光学フ
ィルターの外側までもが熱くなってしまうのである。従
って光学フィルターの熱抵抗は0.005(m2・K/
W)以上0.1(m2・K/W)以下とする必要があ
る。The lower limit of the thermal resistance of the optical filter is 0.0
05 (m 2 · K / W). If the thermal resistance is less than 0.005 (m 2 · K / W), the heat generated in the display will reach the outside through the optical filter and the heat dissipation will be improved, but even the outside of the optical filter that humans may touch. It gets hot. Therefore, the thermal resistance of the optical filter is 0.005 (m 2 · K /
W) or more and 0.1 (m 2 · K / W) or less.
【0011】本発明を添付図面でもって説明する。図1
は、本発明の実施形態の一例を示しており、光学フィル
ターがディスプレイの画面上に設置された様子を断面か
ら見た図である。図1において光学フィルター10は、
プラズマディスプレイパネル20の表示画面21上に設
置されている。プラズマディスプレイパネルの連続点灯
時にこの表示画面が80℃〜90℃にまで達し、光学フ
ィルターの表示画面側11に伝わる。光学フィルターの
熱抵抗が大きいとこの部分に蓄熱してしまい、劣化が生
じるのである。逆に光学フィルターの熱抵抗が小さい
と、光学フィルターの外側12までもが熱くなり、この
部分は人が直接触れる可能性があるので危険である。2
5は光学フィルターをディスプレイの表示画面上に設置
するための留め具である。The present invention will be described with reference to the accompanying drawings. FIG.
FIG. 1 shows an example of an embodiment of the present invention, and is a view of a state where an optical filter is installed on a screen of a display as viewed from a cross section. In FIG. 1, the optical filter 10
It is installed on the display screen 21 of the plasma display panel 20. When the plasma display panel is continuously turned on, the display screen reaches 80 ° C. to 90 ° C. and is transmitted to the display screen side 11 of the optical filter. If the thermal resistance of the optical filter is large, heat is stored in this portion, and deterioration occurs. Conversely, if the thermal resistance of the optical filter is low, even the outside 12 of the optical filter becomes hot, and this portion is dangerous because a person may directly touch it. 2
Reference numeral 5 denotes a fastener for installing the optical filter on the display screen of the display.
【0012】光学フィルターの形状はディスプレイの画
面上に設置するため板状が好ましい。また、十分な機械
的強度を有し、軽量で割れにくいものが好ましく、基材
となる材料としてはポリメタクリル酸メチルをはじめと
するアクリルやポリカーボネート等の高分子材料が好適
に使用できる。近赤外線を吸収して遮断する光学フィル
ターを製造する場合には、基材となる材料の中に近赤外
線吸収色素を混入させて、平面状に成形すればよい。近
赤外線の透過率は、近赤外線吸収色素の混入量により制
御することができる。また近赤外線を反射させて遮断す
る光学フィルターを製造する場合には、板状に形成され
た基材の表面上に銀薄膜を形成すればよい。この場合も
基材としてはポリメタクリル酸メチルやポリカーボネー
トといった材料が適している。近赤外線の透過率の制御
及び可視光線の透過率は銀薄膜の膜厚により制御するこ
とができる。The shape of the optical filter is preferably a plate shape so as to be placed on the screen of the display. Further, a material having sufficient mechanical strength, light weight and hard to be broken is preferable. As a material to be used as a base material, polymer materials such as polymethyl methacrylate and acrylic or polycarbonate can be suitably used. In the case of manufacturing an optical filter that absorbs and blocks near infrared rays, a near infrared ray absorbing dye may be mixed into a material serving as a base material, and molded into a planar shape. The near-infrared transmittance can be controlled by the amount of the near-infrared absorbing dye mixed. When an optical filter that reflects and blocks near-infrared rays is manufactured, a silver thin film may be formed on the surface of a substrate formed in a plate shape. Also in this case, a material such as polymethyl methacrylate or polycarbonate is suitable as the base material. The control of near-infrared transmittance and the transmittance of visible light can be controlled by the thickness of the silver thin film.
【0013】近赤外線吸収剤を混入させて近赤外線を吸
収する方法と近赤外線を反射する薄膜を形成する方法の
二つの手法を組み合わせて光学フィルターを製造しても
良い。その場合には、近赤外線吸収剤を混入させて成形
した基材の表面上に銀薄膜を形成すればよい。An optical filter may be manufactured by combining two methods, that is, a method of absorbing a near-infrared ray by mixing a near-infrared ray absorbing agent and a method of forming a thin film that reflects a near-infrared ray. In that case, a silver thin film may be formed on the surface of the substrate formed by mixing a near infrared absorbing agent.
【0014】近赤外線を遮断するのに銀薄膜を使用する
とこれを電磁波遮断にも使用することができるため、画
面から電磁波を放射するプラズマディスプレイの光学フ
ィルターとして使用するのには最適である。この場合、
ディスプレイの画面上に光学フィルターを設置する時
に、銀薄膜をディスプレイのアースと電気的に接続すれ
ばディスプレイの画面から放射される電磁波を減衰させ
ることができる。この際の銀薄膜のシート抵抗値は10
Ω/□以下が好ましい。シート抵抗値が高いと電磁波遮
断能が低下し、電磁波遮断膜として使用できなくなる。
画面サイズを大きくする場合にはシート抵抗値をさらに
小さくしなければならず、42インチサイズの画面を持
つプラズマディスプレイパネルに使用する場合には2Ω
/□以下が好ましい。シート抵抗値は銀薄膜の膜厚によ
り決定されるので、光学特性を損なわない範囲で膜厚を
制御すればよい。If a silver thin film is used to block near-infrared rays, it can be used for blocking electromagnetic waves, and is most suitable for use as an optical filter of a plasma display that emits electromagnetic waves from a screen. in this case,
When an optical filter is installed on the display screen, an electromagnetic wave radiated from the display screen can be attenuated by electrically connecting the silver thin film to the display ground. At this time, the sheet resistance of the silver thin film was 10
Ω / □ or less is preferable. If the sheet resistance value is high, the electromagnetic wave blocking ability is reduced, and the sheet cannot be used as an electromagnetic wave blocking film.
When the screen size is increased, the sheet resistance value must be further reduced. When used for a plasma display panel having a 42-inch screen, 2 Ω is used.
/ □ or less is preferred. Since the sheet resistance is determined by the thickness of the silver thin film, the thickness may be controlled within a range that does not impair the optical characteristics.
【0015】銀は近赤外線を反射すること、導電性に優
れること、の二点において本発明の光学フィルターを構
成する薄膜材料として最適なものであるが、高湿下にお
ける耐久性が低いという欠点を有する。この欠点を改良
するために、銀に金、パラジウム、白金、銅等の貴金属
を1重量%〜50重量%ドープさせてもよい。貴金属の
ドープにより銀の光学特性は若干変化するが、高湿下に
おける耐久性を飛躍的に向上させることができる。Silver is the most suitable as a thin film material constituting the optical filter of the present invention in that it reflects near-infrared rays and has excellent conductivity, but has the disadvantage of low durability under high humidity. Having. In order to remedy this drawback, silver may be doped with a noble metal such as gold, palladium, platinum or copper in an amount of 1 to 50% by weight. Although the optical characteristics of silver are slightly changed by doping with a noble metal, the durability under high humidity can be dramatically improved.
【0016】また、銀と屈折率の異なる材料を適当な構
成で積層させることにより可視光透過率の波長分散を制
御できることが知られている。屈折率の異なる材料とし
ては、波長550nmの光線に対する屈折率が1.4以
上で可視光領域での吸収が小さく波長が400nm〜7
00nmの光線に対する透過率が60%以上の材料が好
ましい。具体的には、酸化チタン、酸化インジウム、酸
化スズ、酸化シリコン、酸化アンチモン、酸化アルミニ
ウム、酸化ビスマス、酸化亜鉛等の酸化物が挙げられ
る。なかでも酸化スズをドープした酸化インジウム、酸
化アルミニウムを酸化亜鉛、酸化アンチモンをドープし
た酸化スズは屈折率が2.0以上と大きいのに加え、導
電性も有しているので最適な材料である。可視光領域で
の波長分散を制御するのに適した積層構成を列挙すれ
ば、A/b/c/b、A/b/c/b/c/b、A/b
/c/b/c/b/c/b、A/b/c/b/c/b/
c/b/c/b、A/b/c/b/c/b/c/b/c
/b/c/b等である。ここでAは基材、bは酸化物薄
膜、cは銀薄膜を表している。It is also known that wavelength dispersion of visible light transmittance can be controlled by laminating materials having different refractive indexes from silver in an appropriate configuration. As a material having a different refractive index, a material having a refractive index of 1.4 or more with respect to a light having a wavelength of 550 nm, a small absorption in a visible light region, and a wavelength of 400 nm to 7
A material having a transmittance of 60% or more for a light beam of 00 nm is preferable. Specific examples include oxides such as titanium oxide, indium oxide, tin oxide, silicon oxide, antimony oxide, aluminum oxide, bismuth oxide, and zinc oxide. Among these, indium oxide doped with tin oxide, zinc oxide doped with aluminum oxide, and tin oxide doped with antimony oxide are optimal materials because they have a high refractive index of 2.0 or more and also have conductivity. . A / b / c / b, A / b / c / b / c / b, and A / b are listed as lamination configurations suitable for controlling chromatic dispersion in the visible light region.
/ C / b / c / b / c / b, A / b / c / b / c / b /
c / b / c / b, A / b / c / b / c / b / c / b / c
/ B / c / b. Here, A represents a substrate, b represents an oxide thin film, and c represents a silver thin film.
【0017】銀薄膜や酸化物薄膜の成膜は真空蒸着法や
スパッタリング法といった従来からよく知られている手
法により行えばよい。真空蒸着法では、所望の材料を蒸
着源として使用し、抵抗加熱、電子ビーム加熱等によ
り、加熱蒸着させることで、簡便に金属薄膜を形成する
ことができる。また、スパッタリング法を用いる場合
は、ターゲットに所望の材料を用いて、スパッタリング
ガスにアルゴン、ネオン等の不活性ガスを使用し、直流
スパッタリング法や高周波スパッタリング法を用いて金
属薄膜を形成することができる。酸化物薄膜を成膜する
場合にはスパッタリングガス中に酸素を混合し酸素と反
応させながら成膜してもよい。成膜速度を上昇させるた
めに、直流マグネトロンスパッタリング法や高周波マグ
ネトロンスパッタリング法が用いられることも多い。The silver thin film or the oxide thin film may be formed by a conventionally well-known method such as a vacuum evaporation method or a sputtering method. In the vacuum deposition method, a desired material is used as a deposition source, and a metal thin film can be easily formed by performing heating deposition by resistance heating, electron beam heating, or the like. In the case of using a sputtering method, a metal thin film can be formed by using a desired material as a target, using an inert gas such as argon or neon as a sputtering gas, and using a DC sputtering method or a high-frequency sputtering method. it can. When an oxide thin film is formed, oxygen may be mixed in a sputtering gas and formed while reacting with oxygen. In order to increase the deposition rate, a DC magnetron sputtering method or a high-frequency magnetron sputtering method is often used.
【0018】基材は板状の成形体を使用すればよく、ア
クリル板やポリカーボネート板が基材として使用でき
る。板状成形体には、表面の硬度または密着性を増す等
の理由でハードコート層が設けられることが多い。ハー
ドコート層材料としては、アクリレート樹脂またはメタ
クリレート樹脂が用いられる場合が多いが、特に限定さ
れるわけではない。またハードコート層の形成方法は、
紫外線硬化法または重合転写法が用いられる場合が多い
が、特にこれに限定されるわけではない。重合転写法
は、対象となる材料が、メタクリレート樹脂等セルキャ
スト重合ものに限定されるが、連続製版方式によって非
常に生産性良く、ハードコート層を形成することができ
る。このため、重合転写法によるメタクリレート樹脂層
形成は、最も好適に用いられるハードコート層形成手法
である。The substrate may be a plate-like molded body, and an acrylic plate or a polycarbonate plate can be used as the substrate. A hard coat layer is often provided on a plate-shaped molded body for reasons such as increasing the surface hardness or adhesion. As the hard coat layer material, an acrylate resin or a methacrylate resin is often used, but is not particularly limited. The method of forming the hard coat layer is as follows.
An ultraviolet curing method or a polymerization transfer method is often used, but is not particularly limited thereto. In the polymerization transfer method, a target material is limited to a cell cast polymerization material such as a methacrylate resin, but a hard plate layer can be formed with very high productivity by a continuous plate making method. For this reason, the formation of the methacrylate resin layer by the polymerization transfer method is the most suitably used method of forming a hard coat layer.
【0019】銀薄膜を形成する蒸着法やスパッタリング
法は真空容器を必要とする手法であるため、大きなサイ
ズの板状成形体に全面にわたって均質な銀薄膜を直接成
膜することが困難な場合がある。そのような場合には巻
き取り可能な高分子フィルムにロール・ツ・ロールで銀
薄膜を形成した後、これを板状成形体に貼り合わせれば
よい。高分子フィルムの材料は、透明性があれば特に制
限はない。具体的に例示すると、ポリイミド、ポリスル
フォン(PSF)、ポリエーテルスルフォン(PE
S)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリメ
チレンメタクリレート(PMMA)、ポリカーボネート
(PC)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、
ポリプロピレン(PP)、トリアセチルセルロース(T
AC)等が挙げられる。なかでもポリエチレンテレフタ
レート(PET)及びトリアセチルセルロース(TA
C)は、特に好適に用いられる。図2は、このようにし
て製造した光学フィルターの構成を断面方向から見た図
である。高分子フィルム31の表面上に銀薄膜30を形
成し、板状成形体33に粘着剤32でもって貼り合わせ
光学フィルターを完成した。高分子フィルムはロール状
に巻き取ることができるので、銀薄膜形成の大量加工に
適している。Since the vapor deposition method and the sputtering method for forming a silver thin film require a vacuum vessel, it is sometimes difficult to directly form a uniform silver thin film over the entire surface of a large-sized plate-like molded product. is there. In such a case, a silver thin film may be formed on a rollable polymer film using a roll-to-roll method, and this may be bonded to a plate-like molded body. The material of the polymer film is not particularly limited as long as it has transparency. Specifically, polyimide, polysulfone (PSF), polyethersulfone (PE)
S), polyethylene terephthalate (PET), polymethylene methacrylate (PMMA), polycarbonate (PC), polyetheretherketone (PEEK),
Polypropylene (PP), triacetyl cellulose (T
AC) and the like. Among them, polyethylene terephthalate (PET) and triacetyl cellulose (TA)
C) is particularly preferably used. FIG. 2 is a view of the configuration of the optical filter manufactured as described above, as viewed from a cross-sectional direction. A silver thin film 30 was formed on the surface of a polymer film 31 and bonded to a plate-shaped molded body 33 with an adhesive 32 to complete an optical filter. Since the polymer film can be wound into a roll, it is suitable for mass processing of silver thin film formation.
【0020】板状成形体と透明導電性薄膜付きフィルム
とを貼り合わせるのに用いられる粘着材は、できるだけ
透明なものが好ましい。使用可能な粘着剤を例示する
と、アクリル系粘着材、シリコン系粘着材、ウレタン系
粘着材、ポリビニルブチラール粘着材(PVB)、エチ
レンー酢酸ビニル系粘着材(EVA)等である。中でも
アクリル系粘着材は、透明性及び耐熱性に優れるために
特に好適に用いられる。また、フィルムまたはシート状
の誘電体を光学フィルターに貼り合わせる場合にも同じ
粘着剤を使用することができる。The adhesive used for bonding the plate-like molded product and the film with a transparent conductive thin film is preferably as transparent as possible. Examples of usable pressure-sensitive adhesives include an acrylic pressure-sensitive adhesive, a silicon-based pressure-sensitive adhesive, a urethane-based pressure-sensitive adhesive, a polyvinyl butyral pressure-sensitive adhesive (PVB), and an ethylene-vinyl acetate-based pressure-sensitive adhesive (EVA). Above all, acrylic pressure-sensitive adhesives are particularly preferably used because of their excellent transparency and heat resistance. The same pressure-sensitive adhesive can also be used when laminating a film or sheet dielectric to an optical filter.
【0021】粘着材の形態は、大きく分けてシート状の
ものと液状のものに分けられる。シート状粘着材は、通
常、感圧型であり、貼り付け後に各部材をラミネートす
る事によって貼り合わせを行う。液状粘着材は、塗布貼
り合わせ後に室温放置または加熱により硬化させるもの
であり、粘着材の塗布方法としては、バーコート法、リ
バースコート法、グラビアコート法、ロールコート法等
が挙げられ、粘着材の種類、粘度、塗布量等から考慮選
定される。粘着材層の厚みに特に制限はないが、0.5
〜50μm、好ましくは、1〜30μmである。粘着材
を用いて貼り合わせを行った後は、貼り合わせた時に入
り込んだ気泡を脱法させたり、粘着材に固溶させ、さら
には部材間の密着力を向上させるために、加圧、加温条
件下にて養生を行うことが好ましい。この時、加圧条件
としては、一般的に数気圧〜20気圧程度であり、加温
条件としては、各部材の耐熱性にも依るが、一般的には
室温以上、80℃以下である。The form of the adhesive is roughly divided into a sheet-like material and a liquid-like material. The sheet-shaped pressure-sensitive adhesive is usually of a pressure-sensitive type, and is laminated by laminating each member after lamination. The liquid adhesive is cured by leaving it at room temperature or heating after application and bonding. Examples of the method of applying the adhesive include a bar coating method, a reverse coating method, a gravure coating method, and a roll coating method. Is selected in consideration of the type, viscosity, application amount, etc. There is no particular limitation on the thickness of the adhesive layer,
To 50 μm, preferably 1 to 30 μm. After bonding using the adhesive, pressurize and heat to remove the bubbles that entered when bonding, to dissolve in the adhesive, and to improve the adhesion between the members. Curing is preferably performed under conditions. At this time, the pressure condition is generally about several atmospheres to about 20 atmospheres, and the heating condition is generally room temperature or higher and 80 ° C. or lower although it depends on the heat resistance of each member.
【0022】本発明において粘着剤を使用した貼り合わ
せ方法に特に制限はない。通常は、高分子フィルムに粘
着材を貼り付け、その上を離型フィルムで覆ったものを
ロール状態であらかじめ用意しておき、ロールから高分
子成形フィルムを繰り出しながら、離型フィルムをはが
していき、高分子成形体基板上へ貼り付け、ロールで押
さえつけながら貼り付けていく。貼り合わせられたフィ
ルム上に重ねて貼り合わせる場合も同様である。In the present invention, there is no particular limitation on the bonding method using an adhesive. Normally, an adhesive is stuck to a polymer film, and a film covered with a release film is prepared in advance in a roll, and the release film is peeled off while the polymer molding film is being pulled out from the roll. Then, it is pasted on the polymer molded body substrate, and it is pasted while pressing with a roll. The same applies to a case where the film is laminated on the laminated film.
【0023】光学フィルターの熱抵抗は、厚さや貼り合
わせ枚数を変化させることにより制御することができ
る。板状試料の熱抵抗R(m2・K/W)は、その材料
の熱伝導率λ(W/(m・K))と厚さd(m)とから
(1)式により算出できる。The thermal resistance of the optical filter can be controlled by changing the thickness and the number of sheets to be bonded. The thermal resistance R (m 2 · K / W) of the plate-like sample can be calculated from the thermal conductivity λ (W / (m · K)) of the material and the thickness d (m) according to the equation (1).
【0024】 R(m2・K/W)=d(m)/λ(W/(m・K)) (1) 熱抵抗を変化させる簡便な手法は厚さd(m)を制御す
ることであるが、厚さの設定は機械的強度を十分保ち、
重量もあまり重くならない範囲でなければならない。厚
さを変化させるだけでは熱抵抗を所望の範囲に設定し難
い場合には、高分子フィルムの貼り合わせにより熱抵抗
を変化させることができる。異なる材料を貼り合わせる
ことになるため(1)の熱伝導率λ(W/(m・K))
を変化させることができるからである。R (m 2 · K / W) = d (m) / λ (W / (m · K)) (1) A simple method for changing the thermal resistance is to control the thickness d (m). However, setting the thickness maintains sufficient mechanical strength,
The weight must not be too heavy. When it is difficult to set the thermal resistance to a desired range only by changing the thickness, the thermal resistance can be changed by laminating a polymer film. Since different materials are bonded, the thermal conductivity λ of (1) (W / (m · K))
Can be changed.
【0025】熱抵抗の測定は、ASTM C−518や
JIS A−1412に記載された、平板直接法、平板
比較法、平板熱流計法、保護熱板熱流計法のいずれかに
準拠した方法で測定することができる。これらの方法に
準拠した方法で熱抵抗を簡便に測定することのできる装
置が市販されている。上記の方法により作製した、光学
フィルターの層構成及び各層の状態は、断面の光学顕微
鏡測定、走査型電子顕微鏡(SEM)測定、透過型電子
顕微鏡測定(TEM)を用いて調べることができる。The thermal resistance is measured by a method based on any one of a direct plate method, a flat plate comparison method, a flat plate heat flow meter method, and a protected hot plate heat flow meter method described in ASTM C-518 and JIS A-1412. Can be measured. Devices that can easily measure thermal resistance by a method based on these methods are commercially available. The layer structure and the state of each layer of the optical filter produced by the above method can be examined by using a cross-sectional optical microscope measurement, a scanning electron microscope (SEM) measurement, and a transmission electron microscope measurement (TEM).
【0026】[0026]
【実施例】次に、本発明を実施例により具体的に説明す
る。 (実施例1)ポリエチレンテレフタレートペレット12
03(ユニチカ(株)製)に下記式(1)[化1]で示
されるジオール錯体を0.3重量%混合し、260℃〜
280℃で溶融させ、押し出し機により厚み100μm
のフィルムを作製し、その後このフィルムを2軸延伸し
て、厚み50μmの色素フィルムを作製した。この色素
フィルムを、厚さ3mmのポリメタクリル酸メチル板
(三菱レイヨン(株)製)にアクリル系粘着剤を介して
貼り合わせディスプレイ用光学フィルターを完成させ
た。大きさは42型ワイドディスプレイの画面に装着で
きる大きさとした。Next, the present invention will be described in detail with reference to examples. (Example 1) Polyethylene terephthalate pellets 12
03 (manufactured by Unitika Ltd.) was mixed with 0.3% by weight of a diol complex represented by the following formula (1) [formula 1].
Melted at 280 ° C and 100μm thick by extruder
Was prepared, and then this film was biaxially stretched to prepare a dye film having a thickness of 50 μm. This dye film was bonded to a 3 mm-thick poly (methyl methacrylate) plate (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) via an acrylic adhesive to complete an optical filter for a display. The size was set to be fit on the screen of a 42-inch wide display.
【0027】[0027]
【化1】 Embedded image
【0028】(実施例2)無色透明な厚さ50μmのポ
リエチレンテレフタレートフィルムの一方の面に、ター
ゲットインジウムを、スパッタガスにアルゴン酸素混合
ガス(全圧266mPa、酸素分圧80mPa)を用い
て酸化インジウム薄膜を、ターゲットに銀を、スパッタ
ガスにアルゴンガス(全圧266mPa)を用いて銀薄
膜を、マグネトロン直流スパッタリング法により、酸化
インジウム薄膜40nm、銀薄膜10nm、酸化インジ
ウム薄膜70nm、銀薄膜10nm、酸化インジウム薄
膜40nm、銀薄膜10nm、酸化インジウム薄膜70
nm、銀薄膜10nm、酸化インジウム40nm、銀薄
膜10nm、酸化インジウム薄膜40nmの順に積層
し、積層フィルムを作製した。この積層フィルムの積層
薄膜形成面とは逆側の面と、厚さ3mmのポリメタクリ
ル酸メチル板(三菱レイヨン(株)製)にアクリル系粘
着剤を介して貼り合わせディスプレイ用光学フィルター
を完成させた。Example 2 A target indium was applied to one surface of a colorless and transparent 50 μm thick polyethylene terephthalate film, and indium oxide was used as a sputtering gas by using an argon / oxygen mixed gas (total pressure: 266 mPa, oxygen partial pressure: 80 mPa). The indium oxide thin film was 40 nm, the silver thin film was 10 nm, the indium oxide thin film was 70 nm, the silver thin film was 10 nm, and the silver thin film was formed by magnetron DC sputtering using a thin film as a target, silver as a target, and argon gas (total pressure of 266 mPa) as a sputtering gas. Indium thin film 40 nm, silver thin film 10 nm, indium oxide thin film 70
nm, a silver thin film 10 nm, an indium oxide thin film 40 nm, a silver thin film 10 nm, and an indium oxide thin film 40 nm in this order to form a laminated film. An optical filter for display was completed by bonding a surface of the laminated film opposite to the surface on which the laminated thin film was formed and a 3 mm-thick polymethyl methacrylate plate (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) via an acrylic adhesive. Was.
【0029】(実施例3)厚さ3mmのポリメタクリル
酸メチル板の一方の面に、実施例1で作製した色素フィ
ルムを、もう一方の面に実施例2で作製した積層フィル
ムをアクリル系粘着剤を用いて貼り合わせディスプレイ
用光学フィルターを完成させた。(Example 3) The dye film prepared in Example 1 was applied to one surface of a polymethyl methacrylate plate having a thickness of 3 mm, and the laminated film prepared in Example 2 was applied to the other surface with an acrylic adhesive. Using the agent, an optical filter for a bonded display was completed.
【0030】(実施例4)ポリメタクリル酸メチル板の
厚さを7mmに変更した以外は実施例3と同じ手法でデ
ィスプレイ用光学フィルターを完成させた。Example 4 An optical filter for display was completed in the same manner as in Example 3 except that the thickness of the polymethyl methacrylate plate was changed to 7 mm.
【0031】(実施例5)ポリメタクリル酸メチル板の
厚さを1.5mmに変更した以外は実施例3と同じ手法
でディスプレイ用光学フィルターを完成させた。Example 5 An optical filter for a display was completed in the same manner as in Example 3 except that the thickness of the polymethyl methacrylate plate was changed to 1.5 mm.
【0032】(比較例1)ポリメタクリル酸メチル板の
厚さを1mmに変更した以外は実施例3と同じ手法によ
りディスプレイ用光学フィルターを完成させた。Comparative Example 1 An optical filter for a display was completed in the same manner as in Example 3 except that the thickness of the polymethyl methacrylate plate was changed to 1 mm.
【0033】(比較例2)厚さ7mmのポリメタクリル
酸メチル板を厚さ7mmのポリカーボネート板に変更し
た以外は実施例3と同じ手法によりディスプレイ用光学
フィルターを完成させた。Comparative Example 2 An optical filter for display was completed in the same manner as in Example 3 except that the polymethyl methacrylate plate having a thickness of 7 mm was changed to a polycarbonate plate having a thickness of 7 mm.
【0034】以上の手法により作製したディスプレイ用
光学フィルターの熱抵抗を、ASTM C−518に準
拠した熱伝導率測定装置(英弘精機(株)製 型番:H
C−072)を使用して、熱流計法により測定した。な
お、高温板側温度は40℃、低温板側温度は10℃とし
た。The thermal resistance of the optical filter for a display manufactured by the above method is measured by a thermal conductivity measuring device (manufactured by Eiko Seiki Co., Ltd., model number: H) in accordance with ASTM C-518.
C-072) using a heat flow meter. The high-temperature plate side temperature was 40 ° C. and the low-temperature plate side temperature was 10 ° C.
【0035】次に、ディスプレイ用光学フィルターを4
2型ワイドプラズマディスプレイパネルの画面上に面同
士を接触させて装着し、ディスプレイを点灯させ放置し
た。点灯後500時間経過後、ディスプレイ用光学フィ
ルターをプラズマディスプレイ画面から取り外し、目視
で変色等異常の有無を調べた。その結果を[表1]にま
とめた。Next, the optical filter for the display was set to 4
The two-inch wide plasma display panel was mounted on the screen with its surfaces in contact with each other, and the display was turned on and allowed to stand. After 500 hours from the lighting, the display optical filter was removed from the plasma display screen, and the presence or absence of abnormality such as discoloration was visually examined. The results are summarized in [Table 1].
【0036】[0036]
【表1】 [表1]から本発明のディスプレイ光学フィルターは、
プラズマディスプレイの画面上に設置して長時間使用し
ても外観不良の発生しないものであることが分かる。[Table 1] Table 1 shows that the display optical filter of the present invention is:
It can be seen that there is no appearance failure even when used on a screen of a plasma display for a long time.
【0037】[0037]
【発明の効果】ディスプレイ長期点灯時において、ディ
スプレイ表示画面上に設置する光学フィルターの劣化を
抑制する。According to the present invention, when the display is lit for a long time, the deterioration of the optical filter installed on the display screen is suppressed.
【図1】本発明の実施形態の一例を示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating an example of an embodiment of the present invention.
【図2】本発明のディスプレイ光学フィルターの一例を
示す断面図である。FIG. 2 is a sectional view showing an example of a display optical filter of the present invention.
【符号の説明】 10 本発明のディスプレイ用光学フィルター 11 ディスプレイ用光学フィルターの表示画面側 12 ディスプレイ用光学フィルターの外側 20 ディスプレイ 21 ディスプレイの表示画面 25 ディスプレイ用光学フィルターを取り付けるため
の留め具 30 銀薄膜 31 高分子フィルム 32 粘着剤 33 板状成形体DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Optical filter for display of the present invention 11 Display screen side of optical filter for display 12 Outside of optical filter for display 20 Display 21 Display screen of display 25 Fastener for attaching optical filter for display 30 Silver thin film DESCRIPTION OF SYMBOLS 31 Polymer film 32 Adhesive 33 Plate-shaped molded object
フロントページの続き (72)発明者 福田 伸 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地三井化 学株式会社内 Fターム(参考) 4F100 AA17B AB24B AK01C AK25A AK25G AK42C AR00A EH66B EJ38C GB41 GB90 JG04B JM02B JN01A JN01B YY00B 5C040 GH10 Continuation of front page (72) Inventor Shin Fukuda 1190 Kasama-cho, Sakae-ku, Yokohama-shi, Kanagawa F-term (reference) 4F100 AA17B AB24B AK01C AK25A AK25G AK42C AR00A EH66B EJ38C GB41 GB90 JG04B JM01B JN01B JN01B
Claims (5)
上、0.1(m2 ・K/W)以下であり、かつ、ディス
プレイの画面上に設置されることを特徴とするディスプ
レイ用光学フィルター。A heat resistance is not less than 0.005 (m 2 · K / W) and not more than 0.1 (m 2 · K / W) and is installed on a screen of a display. Optical filter for display.
されていることを特徴とする請求項1記載のディスプレ
イ用光学フィルター。2. The optical filter for a display according to claim 1, wherein a transparent plate-like molded body and a transparent thin film are laminated.
□)以下であることを特徴とする請求項2記載のディス
プレイ用光学フィルター。3. The sheet resistance of a transparent thin film is 10 (Ω /
□) The optical filter for a display according to claim 2, wherein:
フィルムと、透明な板状成形体とが貼り合わされている
ことを特徴とする請求項2乃至請求項3のいずれかに記
載のディスプレイ用光学フィルター。4. The optical device for a display according to claim 2, wherein a polymer film coated with a transparent thin film and a transparent plate-like molded body are bonded to each other. filter.
ネルであることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか
に記載のディスプレイ用光学フィルター。5. The optical filter for a display according to claim 1, wherein the display is a plasma display panel.
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