JP2000171808A - Liquid crystal display - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【課題】スペーサによる光漏れを無くし、かつ電極間の
電界の乱れを抑制して高品質の画像表示を可能とした横
電界方式の液晶表示装置を提供する。
【解決手段】一方の基板SUB2にカラー表示のための
色の異なる少なくとも2種以上のカラーフィルタFIL
(R),FIL(G),・と各カラーフィルタ間に介在
させたブラックマトリクスBMとを有し、他方の基板S
UB1に画素選択のための電極群PX,CT,CT1,
CT2,SD2・・を形成してなり、一対の基板の間に
挟持された誘電異方性を有する液晶組成物からなる液晶
層LCと、一対の基板の少なくとも一方の外面に偏光板
POL1,POL2を積層してなる液晶パネルと、電極
群に表示のための駆動電圧を印加する駆動手段とを具備
した液晶表示装置であって、一対の基板の対向する内面
間の間隙を橋絡すると共に、一方の基板SUB2側に形
成した比抵抗が108 Ω・cm未満の突起SP1と、他
方の基板SUB1側に形成した比抵抗が108 Ω・cm
以上の突起SP2との各頂面を当接させて形成したスペ
ーサSPを設けた。
(57) [Object] To provide a horizontal electric field type liquid crystal display device capable of displaying a high quality image by eliminating light leakage due to a spacer and suppressing disturbance of an electric field between electrodes. Kind Code: A1 At least two or more types of color filters FIL having different colors for color display on one substrate SUB2.
(R), FIL (G), and a black matrix BM interposed between the color filters, and the other substrate S
UB1 has electrode groups PX, CT, CT1, for pixel selection.
A liquid crystal layer LC made of a liquid crystal composition having a dielectric anisotropy sandwiched between a pair of substrates, and polarizing plates POL1, POL2 on at least one outer surface of the pair of substrates. A liquid crystal display device comprising: a liquid crystal panel formed by laminating the electrodes; and a driving unit for applying a driving voltage for display to the electrode group, while bridging a gap between opposing inner surfaces of the pair of substrates, A projection SP1 formed on one substrate SUB2 side and having a specific resistance of less than 10 8 Ω · cm, and a specific resistance formed on the other substrate SUB1 side being 10 8 Ω · cm.
A spacer SP formed by contacting each of the top surfaces with the above-mentioned protrusion SP2 was provided.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置に係
り、特に基板に対して略平行な電界を印加することによ
り液晶分子軸を基板の面内で制御する広視野角と高画質
を両立させたアクティブマトリクス型の液晶表示装置に
関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly, to a liquid crystal display device in which a substantially parallel electric field is applied to a substrate to control a liquid crystal molecular axis in a plane of the substrate. And an active matrix type liquid crystal display device.
【0002】[0002]
【従来の技術】薄膜トランジスタ(TFT)に代表され
るアクティブ素子を画素選択用スイッチッグ素子に用い
たアクティブマトリクス型液晶表示装置は、薄型かつ軽
量であるという特徴と、ブラウン管に匹敵する高画質の
表示が得られるという点で、OA機器等の各種電子装置
の表示端末として広く普及している。2. Description of the Related Art An active matrix type liquid crystal display device using an active element typified by a thin film transistor (TFT) as a switching element for selecting a pixel is characterized in that it is thin and lightweight, and has a high image quality display comparable to a cathode ray tube. In that it is widely used as a display terminal for various electronic devices such as OA equipment.
【0003】この液晶表示装置の表示方式には、大別し
て2通りある。一つは、画素選択用の透明電極をそれぞ
れ形成した2つの基板で液晶(以下、液晶層とも言う)
を挟み、この透明電極間に電圧を印加して液晶の分子配
向方向を制御し、透明電極を透過して液晶層に入射した
光を変調して表示する方式であり、この方式が現在多く
の製品で採用されている。もう一つは、一方の基板にの
み画素選択用の電極群を形成し、基板面に略平行な電界
により液晶層を構成する液晶分子の平行方向を制御し、
上記電極群の隙間から液晶層に入射した光を変調して表
示を行う方式(以下、横電界方式:IPS方式と言う)
であり、視野角が著しく広いという特徴を持ち、アクテ
ィブマトリクス型液晶表示装置に関して有望な技術であ
る。[0003] There are roughly two types of display methods of this liquid crystal display device. One is a liquid crystal (hereinafter, also referred to as a liquid crystal layer) formed of two substrates on each of which a transparent electrode for pixel selection is formed.
A voltage is applied between the transparent electrodes to control the molecular orientation of the liquid crystal, and the light transmitted through the transparent electrode and incident on the liquid crystal layer is modulated and displayed. Used in products. The other is to form an electrode group for pixel selection only on one substrate and control the parallel direction of the liquid crystal molecules constituting the liquid crystal layer by an electric field substantially parallel to the substrate surface,
A method of performing display by modulating light incident on the liquid crystal layer from the gap between the electrode groups (hereinafter, referred to as a lateral electric field method: IPS method).
This is a promising technology for an active matrix type liquid crystal display device having a feature that the viewing angle is extremely wide.
【0004】カラー表示を行う液晶表示装置では、2枚
の基板の一方に赤(R)、緑(G)、青(B)の着色層
(カラーフィルタFIL)、遮光層であるブラックマト
リクスBMおよびITO等からなる透明電極層が形成さ
れている。以下、この基板をカラーフィルタ基板基板あ
るいは対向基板とも言う。In a liquid crystal display device for performing color display, a red (R), green (G), and blue (B) colored layer (color filter FIL) and a black matrix BM, which is a light shielding layer, are provided on one of two substrates. A transparent electrode layer made of ITO or the like is formed. Hereinafter, this substrate is also referred to as a color filter substrate substrate or a counter substrate.
【0005】カラーフィルタ基板にはカラーフィルタF
ILおよびブラックマトリクスを保護する保護膜(オー
バーコート)OCが被覆されている場合もある。スイッ
チング素子である薄膜トランジスタTFTはアモルファ
スシリコンASを半導体としたものが一般的である。A color filter F is provided on a color filter substrate.
In some cases, a protective film (overcoat) OC for protecting the IL and the black matrix is coated. The thin film transistor TFT serving as a switching element generally uses amorphous silicon AS as a semiconductor.
【0006】そして、2枚の基板間の間隙(セルギャッ
プ)を一定に保つために、ほぼ均一な粒径のプラスチッ
クビーズ等を基板の間に散在させている。In order to keep the gap (cell gap) between the two substrates constant, plastic beads or the like having a substantially uniform particle size are scattered between the substrates.
【0007】なお、この横電界方式の液晶表示装置に関
する従来技術を開示したものとしては、例えば、特表平
5−505247号公報あるいは特公昭63−2190
7号公報、特開平6−160878号公報等を挙げるこ
とができる。The prior art relating to the in-plane switching mode liquid crystal display device is disclosed, for example, in Japanese Patent Publication No. 5-505247 or Japanese Patent Publication No. Sho 63-2190.
7 and JP-A-6-160878.
【0008】図10は横電界方式の液晶表示装置を構成
する液晶パネルの1画素の電極近傍の断面図と基板周辺
部の断面図である。液晶層LCを基準にして一方の基板
であるカラーフィルタ基板SUB2側にはカラーフィル
タFIL、遮光用ブラックマトリクスBMのパターンが
形成されている。なお、遮光用のブラックマトリクスB
Mのパターンをアクティブマトリクス基板SUB1側に
形成することも可能である。FIG. 10 is a sectional view of the vicinity of an electrode of one pixel of a liquid crystal panel constituting a liquid crystal display device of a horizontal electric field type, and a sectional view of a peripheral portion of a substrate. On the color filter substrate SUB2 side, which is one of the substrates with respect to the liquid crystal layer LC, a pattern of a color filter FIL and a light-shielding black matrix BM is formed. The black matrix B for shading
It is also possible to form the M pattern on the active matrix substrate SUB1 side.
【0009】また、他方の基板であるアクティブマトリ
クス基板SUB1側には薄膜トランジスタTFT、蓄積
容量Cstg(図示せず)及び画素選択用の電極群CT
(対向電極:共通電極)、PX(画素電極)等が形成さ
れている。そして、画素電極PXと対向電極CTの間に
形成される電界Eで液晶LCを構成する分子の配向方向
を制御するように構成されている。An active matrix substrate SUB1, which is the other substrate, has a thin film transistor TFT, a storage capacitor Cstg (not shown), and an electrode group CT for pixel selection.
(Counter electrode: common electrode), PX (pixel electrode) and the like are formed. In addition, the configuration is such that the electric field E formed between the pixel electrode PX and the counter electrode CT controls the orientation direction of the molecules constituting the liquid crystal LC.
【0010】アクティブマトリクス基板SUB1(以
下、電極基板とも言う)およびカラーフィルタ基板SU
B2のそれぞれの内側(液晶LC側)の表面には、液晶
の初期配向を制御する配向膜ORI11、ORI12が
設けられており、透明ガラス基板SUB1、SUB2の
それぞれの外側の表面には、偏光軸が直交して配置(ク
ロスニコル配置)された偏光板POL1、POL2が設
けられている。2枚の基板の周辺はシール材で封止され
ている。An active matrix substrate SUB1 (hereinafter also referred to as an electrode substrate) and a color filter substrate SU
Alignment films ORI11 and ORI12 for controlling the initial alignment of the liquid crystal are provided on the inner surface (the liquid crystal LC side) of each of B2, and the polarizing axes are provided on the outer surfaces of the transparent glass substrates SUB1 and SUB2. Are provided orthogonally (crossed Nicols arrangement). The periphery of the two substrates is sealed with a sealing material.
【0011】図11は横電界方式の液晶表示装置の周辺
回路の概要説明図である。液晶パネルの他方の基板であ
るアクティブマトリクス基板にはマトリクス状に配置さ
れた複数の画素の集合により構成される画像表示部を有
し、各画素は液晶パネルの背部に配置されたバックライ
トからの透過光を独自に変調制御できるように構成され
ている。FIG. 11 is a schematic explanatory diagram of a peripheral circuit of a liquid crystal display device of a horizontal electric field type. An active matrix substrate, which is the other substrate of the liquid crystal panel, has an image display section composed of a group of a plurality of pixels arranged in a matrix, and each pixel is provided by a backlight arranged at the back of the liquid crystal panel. It is configured so that the transmitted light can be modulated independently.
【0012】液晶パネルの構成要素の1つであるアクテ
ィブマトリクス基板SUB1上には、有効画素領域AR
にx方向(行方向)に延在し、y方向(列方向)に並設
されたゲート信号線GLと対向電圧信号線CLとそれぞ
れ絶縁されてy方向に延在し、x方向に並設されたドレ
イン信号線DLが形成されている。An active pixel area AR is provided on an active matrix substrate SUB1, which is one of the components of the liquid crystal panel.
The gate signal line GL and the counter voltage signal line CL, which extend in the x direction (row direction) and are arranged in parallel in the y direction (column direction), extend in the y direction while being insulated from each other, and are arranged in parallel in the x direction. The formed drain signal line DL is formed.
【0013】ここで、ゲート信号線GL、対向電圧信号
線CL、ドレイン信号線DLのそれぞれによって囲まれ
る矩形状の領域に単位画素が形成される。Here, a unit pixel is formed in a rectangular area surrounded by each of the gate signal line GL, the counter voltage signal line CL, and the drain signal line DL.
【0014】液晶パネルには、その外部回路として垂直
走査回路V及び映像信号駆動回路Hが備えられ、前記垂
直走査回路Vによって前記ゲート信号線GLのそれぞれ
に順次走査信号(電圧)が供給され、そのタイミングに
合わせて映像信号駆動回路Hからドレイン信号線DLに
映像信号(電圧)を供給するようになっている。The liquid crystal panel is provided with a vertical scanning circuit V and a video signal driving circuit H as external circuits, and the vertical scanning circuit V sequentially supplies a scanning signal (voltage) to each of the gate signal lines GL. The video signal drive circuit H supplies a video signal (voltage) to the drain signal line DL in accordance with the timing.
【0015】なお、垂直走査回路V及び映像信号駆動回
路Hは、液晶駆動電源回路POWから電源が供給される
とともに、CPU1からの画像情報がコントローラCO
NTによってそれぞれ表示データ及び制御信号に分けら
れて入力されるようになっている。The vertical scanning circuit V and the video signal driving circuit H are supplied with power from the liquid crystal driving power supply circuit POW, and image information from the CPU 1 is transmitted to the controller CO.
The display data and the control signal are separately input according to NT.
【0016】上記したような横電界方式の液晶表示装置
では、他方の基板(アクティブマトリクス基板)の上に
多数の配線を施し、この配線を介して電気信号を送信す
るため、電界が互いに干渉する。従って、不要な電界に
よって液晶に印加される電界が影響を受け、適性な電界
が液晶に印加されなくなる。In the above-described in-plane switching mode liquid crystal display device, a large number of wirings are provided on the other substrate (active matrix substrate), and electric signals are transmitted through the wirings. . Therefore, the electric field applied to the liquid crystal is affected by the unnecessary electric field, and an appropriate electric field is not applied to the liquid crystal.
【0017】図12は従来の横電界方式の液晶表示装置
を構成する液晶パネルの1画素を構成する電極配置例を
説明する断面模式図である。アクティブマトリクス基板
SUB1には画素電極PX、対向電極CT1,CT2、
ドレイン電極SD2、絶縁膜PSV、配向膜ORI1等
が形成され、カラーフィルタ基板SUB2にはブラック
マトリクスBM、カラーフィルタFIL(R),FIL
(G),FIL(B)(図示せず)、オーバーコート膜
OC、配向膜ORI2等が形成されている。そして、両
基板の対向間隙に液晶LCが封入されている。なお、P
L1,POL2は偏光板、Eは画素選択用の電界、E’
は不要電界を示す。FIG. 12 is a schematic sectional view for explaining an example of the arrangement of electrodes constituting one pixel of a liquid crystal panel constituting a conventional in-plane switching type liquid crystal display device. The active matrix substrate SUB1 has pixel electrodes PX, counter electrodes CT1 and CT2,
A drain electrode SD2, an insulating film PSV, an alignment film ORI1, etc. are formed, and a black matrix BM, color filters FIL (R), FIL are provided on the color filter substrate SUB2.
(G), FIL (B) (not shown), an overcoat film OC, an alignment film ORI2, and the like are formed. The liquid crystal LC is sealed in the gap between the two substrates. Note that P
L1 and POL2 are polarizing plates, E is an electric field for selecting a pixel, E ′
Indicates an unnecessary electric field.
【0018】この画素が選択されたとき、画素電極PX
と対向電極CT1の間に電界Eが形成され、この電界E
によって液晶LCの配向が制御され、所謂点灯状態とな
るが、このとき、隣の対向電極CT2との間にも電位差
があるために、この間に不所望の干渉電界E’が形成さ
れる。その結果、適性な電界が選択された画素の液晶に
印加されなくなる。When this pixel is selected, the pixel electrode PX
An electric field E is formed between the counter electrode CT1 and the electric field E.
As a result, the orientation of the liquid crystal LC is controlled, and a so-called lighting state is achieved. At this time, since there is a potential difference between the adjacent counter electrode CT2, an undesired interference electric field E 'is formed therebetween. As a result, an appropriate electric field is not applied to the liquid crystal of the selected pixel.
【0019】基板に平行に印加される電界が互いに干渉
することなく、適性な電界を液晶に印加する方法、およ
びそれに伴う高画質化の手段については、例えば特開平
6−160878号公報、特開平9−120061号公
報に開示がある。For a method of applying an appropriate electric field to the liquid crystal without causing electric fields applied in parallel to the substrate to interfere with each other, and a means for improving image quality accompanying the method, see, for example, JP-A-6-160878 and JP-A-6-160788. This is disclosed in JP-A-9-120061.
【0020】[0020]
【発明が解決しようとする課題】上記したように、横電
界方式の液晶表示装置では、アクティブマトリクス基板
の上に多数の配線をし、電気信号を印加するため、電界
が互いに干渉する。従って、不要な電界によって液晶に
印加される電界が影響を受け、適性な電界が液晶に印加
されなくなる場合がある。As described above, in a horizontal electric field type liquid crystal display device, a large number of wirings are provided on an active matrix substrate and electric signals are applied, so that electric fields interfere with each other. Therefore, the electric field applied to the liquid crystal may be affected by an unnecessary electric field, and an appropriate electric field may not be applied to the liquid crystal.
【0021】また、電極間に発生する不要な電気容量に
よって液晶に印加される電圧が変動することもある。こ
のような現象は、液晶表示装置の表示品質を損なう原因
となる。Further, the voltage applied to the liquid crystal may fluctuate due to unnecessary electric capacitance generated between the electrodes. Such a phenomenon causes the display quality of the liquid crystal display device to deteriorate.
【0022】特に、薄膜トランジスタTFT等のアクテ
ィブ素子を有する各画素に信号を伝達する映像信号電極
から発生する電界が液晶を動作させるための画素電極と
共通電極間の電界に影響を与える。映像信号電極の電位
は映像信号が伝播するためフレーム期間中は常に変動し
ている。例えば、映像信号電極に画素電極(アクティブ
素子がオフ時に電位は浮遊状態)が隣接していると、映
像信号電極の変動する電位によってクロストーク現象で
あるスメアと呼ばれる映像信号電極と平行に筋状の影の
ようなむらが発生することが知られている。In particular, an electric field generated from a video signal electrode transmitting a signal to each pixel having an active element such as a thin film transistor TFT affects an electric field between a pixel electrode for operating a liquid crystal and a common electrode. The potential of the video signal electrode constantly changes during the frame period because the video signal propagates. For example, if a pixel electrode (potential is in a floating state when the active element is turned off) is adjacent to the video signal electrode, the potential fluctuates on the video signal electrode, and a streak parallel to the video signal electrode called smear, which is a crosstalk phenomenon. It is known that unevenness such as the shadow of the image occurs.
【0023】この現象を抑制するために、映像信号電極
の最近接電極として外部より常に電位を供与されている
共通電極を配置する技術がある(特開平6−46916
号公報)。しかし、この公報に開示の技術だけでは電界
のシールド効果が必ずしも十分でなく、スメアが発生し
てしまうという問題がある。In order to suppress this phenomenon, there is a technique of arranging a common electrode to which a potential is constantly supplied from the outside as the nearest electrode of the video signal electrode (Japanese Patent Laid-Open No. 6-46916).
No.). However, there is a problem that the technique disclosed in this publication alone does not always provide a sufficient electric field shielding effect, and smear is generated.
【0024】共通電極の配線幅を大きくすればシールド
効果が上がり、スメアを抑制することができると予想さ
れるが、配線幅を大きくすることは液晶表示装置の開口
率を低下させることになる。この対策として、映像信号
電極に対して平行に遮光膜を設け、この遮光膜に導電性
を持たせたものが特開平9−120061号公報に開示
されている。It is expected that if the wiring width of the common electrode is increased, the shielding effect is enhanced and the smear can be suppressed. However, increasing the wiring width decreases the aperture ratio of the liquid crystal display device. As a countermeasure against this, Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-120061 discloses a light shielding film provided in parallel with a video signal electrode and having the light shielding film made conductive.
【0025】しかし、通常遮光膜としてカラーフィルタ
に形成される部分は、映像信号電極に対し平行な部分だ
けではない。横電界方式では、映像信号電極と共通電極
との間に印加される電界は、直上の遮光膜の導電性が高
いと遮光膜に電界が吸収されてしまうという問題もあ
り、実際に実施する際には導電性を持たせる必要がある
部分とその他の部分の2種類の遮光膜を形成する必要が
ある。そのため、カラーフィルタの製造工程は複雑にな
ってしまう。However, the portion formed on the color filter as the light shielding film is not limited to the portion parallel to the video signal electrode. In the lateral electric field method, the electric field applied between the video signal electrode and the common electrode has a problem that the electric field is absorbed by the light-shielding film if the light-shielding film immediately above has high conductivity. It is necessary to form two types of light-shielding films, a portion that needs to have conductivity and another portion. Therefore, the manufacturing process of the color filter becomes complicated.
【0026】液晶表示装置では、その液晶パネルの対向
する基板間のセルギャップ(d)を一定に保つことは重
要である。従来の液晶表示装置では、例えば透明球状体
のスペーサを基板間に多数散布している。In a liquid crystal display device, it is important to keep the cell gap (d) between opposing substrates of the liquid crystal panel constant. In a conventional liquid crystal display device, for example, a large number of transparent spherical spacers are scattered between substrates.
【0027】基板面の各位置でセルギャップdが変化し
ていると、各位置での液晶層の行路長差Δn・d(液晶
層の複屈折率Δnと液晶層の厚さ、すなわちセルギャッ
プdとの積)が変化することになる。このΔn・dの変
化は、液晶の光学的応答速度や透過率を変化させること
になるので、基板面の各位置でのセルギャップdが一様
でない場合には表示画面のコントラスト比および色度が
変化し、画面の均一性が保てないという表示品質の低下
を招いてしまう。If the cell gap d changes at each position on the substrate surface, the path length difference Δn · d of the liquid crystal layer at each position (birefringence Δn of the liquid crystal layer and the thickness of the liquid crystal layer, ie, the cell gap) d). Since this change in Δn · d changes the optical response speed and transmittance of the liquid crystal, when the cell gap d at each position on the substrate surface is not uniform, the contrast ratio and chromaticity of the display screen are changed. And the display quality is deteriorated such that the uniformity of the screen cannot be maintained.
【0028】均一なセルギャップを得るためにはスペー
サの散布量を多くすればよいが、スペーサの分散が困難
になり、スペーサが数個凝集した塊となって散布され、
これが表示不良となるため、むやみに多く散布する訳に
は行かない。In order to obtain a uniform cell gap, it is sufficient to increase the amount of spacers to be scattered. However, it is difficult to disperse the spacers, and several spacers are scattered in a lump.
Since this results in display failure, it is not possible to disperse too much.
【0029】また、散布による方法ではスペーサはラン
ダムな位置に配置されるため、基板上の様々な凹凸位置
に存在することになり、均一なセルギャップを得るには
限界がある。さらに、スペーサ近傍の液晶分子の配列は
乱された状態になっており、表示領域に存在するスペー
サにより液晶配列が乱された部分で光漏れを生じ、この
光漏れによって黒レベルが低下するため、コントラスト
が低下してしまうという問題がある。Further, in the method by spraying, since the spacers are arranged at random positions, they are present at various uneven positions on the substrate, and there is a limit in obtaining a uniform cell gap. Furthermore, the arrangement of the liquid crystal molecules near the spacer is in a disturbed state, and light leakage occurs in a portion where the liquid crystal arrangement is disturbed by the spacer existing in the display region, and the light leakage lowers the black level. There is a problem that the contrast is reduced.
【0030】本発明の目的は、上記従来技術の諸問題を
解消し、スペーサによる光漏れを無くし、かつ電極間の
電界の乱れを抑制して高品質の画像表示を可能とした横
電界方式の液晶表示装置を提供することにある。An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the prior art, to eliminate light leakage due to spacers, and to suppress disturbance of the electric field between the electrodes, thereby enabling a high-quality image display with a high-quality image display. It is to provide a liquid crystal display device.
【0031】[0031]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、下記(1)〜(4)に記載の構成とした
点を特徴とする。Means for Solving the Problems In order to achieve the above-mentioned object, the present invention is characterized by having the following constitutions (1) to (4).
【0032】(1)少なくとも一方が透明な一対の基板
の一方にカラー表示のための色の異なる少なくとも2種
以上のカラーフィルタと各カラーフィルタ間に介在させ
たブラックマトリクスとを有し、前記一対の基板の他方
に画素選択のための電極群を形成してなり、前記一対の
基板の間に挟持された誘電異方性を有する液晶組成物か
らなる液晶層と、前記一対の基板の少なくとも一方の外
面に偏光板を積層してなる液晶パネルと、前記電極群に
表示のための駆動電圧を印加する駆動手段とを具備した
液晶表示装置であって、前記一対の基板の対向する内面
間の間隙を橋絡すると共に、前記一方の基板側での比抵
抗が前記他方の基板側での比抵抗より小さいスペーサを
有せしめた。(1) At least one of a pair of transparent substrates has at least two or more kinds of color filters having different colors for color display and a black matrix interposed between the color filters. An electrode group for pixel selection is formed on the other of the substrates, and a liquid crystal layer made of a liquid crystal composition having a dielectric anisotropy sandwiched between the pair of substrates, and at least one of the pair of substrates A liquid crystal display device comprising: a liquid crystal panel having a polarizing plate laminated on an outer surface thereof; and driving means for applying a driving voltage for display to the electrode group, wherein a liquid crystal panel is provided between the opposing inner surfaces of the pair of substrates. In addition to bridging the gap, a spacer having a specific resistance on the one substrate side smaller than a specific resistance on the other substrate side is provided.
【0033】(2)(1)における前記スペーサを、前
記一対の基板のそれぞれに形成した突起の頂面を接合し
て形成した。(2) The spacer in (1) was formed by joining the top surfaces of the projections formed on each of the pair of substrates.
【0034】(3)(1)または(2)における前記ス
ペーサの前記一方の基板側の比抵抗が108 Ω・cm未
満、前記他方の基板側の比抵抗が108 Ω・cmとし
た。[0034] (3) (1) or (2) the specific resistance of the one substrate side of the spacer is less than 10 8 Ω · cm in specific resistance of the other substrate side is set to 10 8 Ω · cm.
【0035】(4)(2)または(3)における前記ス
ペーサの前記一方の基板側の突起が金属あるいはカーボ
ンの粒子を含む有機高分子材料で形成し、前記他方の基
板側の突起が有機高分子系の絶縁材料で形成した。(4) The projection on the one substrate side of the spacer in (2) or (3) is formed of an organic polymer material containing particles of metal or carbon, and the projection on the other substrate is an organic high material. It was formed of a molecular insulating material.
【0036】なお、本発明による上記スペーサは、ブラ
ックマトリクスの直下に、当該ブラックマトリクスマト
リクスに沿って画素領域の側面に連続形成した隔壁状あ
るいは1または複数配列した柱状をなす部材であり、ア
クティブマトリクス基板とカラーフィルタ基板との固定
して形成される突起同士の頂面を接合して上記隔壁状あ
るいは柱状のスペーサを構成する。これらの基板の内面
に絶縁膜等を形成するプロセスで作成される。このスペ
ーサのカラーフィルタ基板側の突起側にアクティブマト
リクス基板側の突起よりも比抵抗の小さい部分を具備さ
せる。The spacer according to the present invention is a member which is formed immediately below the black matrix and has a partition shape formed continuously on the side surface of the pixel region along the black matrix matrix or a columnar shape having one or more columns. The partition walls or the columnar spacers are formed by joining the top surfaces of the projections formed fixedly between the substrate and the color filter substrate. It is created by a process of forming an insulating film and the like on the inner surfaces of these substrates. On the projection side of the spacer on the color filter substrate side, a portion having a lower specific resistance than the projection on the active matrix substrate side is provided.
【0037】上記の各構成としたことにより、不要な干
渉電界を吸収する部材とスペーサとを兼用させることが
できるため、遮光膜は一層のみで済み、またカラーフィ
ルタ基板(一方の基板)側のスペーサの高さが任意に調
整可能であるため、電界の吸収量の制御が容易となる。
そして、従来のような球状スペーサの散布が不要である
ため、光漏れの問題が発生しない。By adopting each of the above-mentioned structures, a member that absorbs an unnecessary interference electric field can also be used as a spacer, so that only one light-shielding film is required, and a color filter substrate (one substrate) side is used. Since the height of the spacer can be arbitrarily adjusted, it is easy to control the amount of electric field absorption.
Further, since there is no need to disperse the spherical spacer as in the related art, the problem of light leakage does not occur.
【0038】そして、従来の球状スペーサの散布と異な
り、画素領域を避けた所望の位置に形成可能であるた
め、セルギャップの制御が容易である。また、各基板に
形成する突起の頂面を平面構造とすることにより、対向
する基板同士の接触面積を広くでき、スペーサにかかる
圧力を分散することでセルギャップの均一性を向上させ
ることができる。さらに、スペーサが二層構造であるこ
とから、各突起の高さがセルギャップの高さ以下に押さ
えることができ、配向膜のラビングが容易となると共
に、当該スペーサの周辺での配向むらを低減することが
できる。Unlike the conventional dispersion of spherical spacers, the spacer can be formed at a desired position avoiding the pixel region, so that the cell gap can be easily controlled. Further, by making the top surface of the projection formed on each substrate a planar structure, the contact area between the opposing substrates can be increased, and the uniformity of the cell gap can be improved by dispersing the pressure applied to the spacer. . Furthermore, since the spacer has a two-layer structure, the height of each projection can be suppressed to a value equal to or less than the height of the cell gap, rubbing of the alignment film becomes easy, and uneven alignment around the spacer is reduced. can do.
【0039】なお、上記不要電界を吸収する部材として
は金属等の導電体でもよいが、その場合は、画素電極
(映像信号電極)の対向部分にのみ導電体を配置し、そ
れを覆うよう絶縁性の大きい遮光膜で被覆する。このと
き、導電体には対向電極の電位と同電位となるよう構成
することで、電界のシールド効果をより大きくすること
ができる。The member for absorbing the unnecessary electric field may be a conductor such as a metal. In such a case, a conductor is disposed only in a portion facing the pixel electrode (video signal electrode), and an insulating material is provided to cover the conductor. It is covered with a light-shielding film with high properties. At this time, by configuring the conductor to have the same potential as the potential of the counter electrode, the electric field shielding effect can be further increased.
【0040】さらに、上記絶縁性の遮光膜としては、金
属やカーボン等の導電性粒子を配合した有機高分子材料
を用い、導電性粒子の配合量を調整することで比抵抗を
調節することができる。Further, as the insulating light-shielding film, an organic polymer material containing conductive particles such as metal and carbon is used, and the specific resistance can be adjusted by adjusting the amount of the conductive particles. it can.
【0041】[0041]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につ
き、実施例の図面を参照して詳細に説明する。図1は本
発明による液晶表示装置の第1実施例を説明する液晶パ
ネルの1画素付近の平面図、図2は図1の1−1’線に
沿った断面図である。ASは非結質シリコン(a−シリ
コン)、TFTは薄膜トランジスタ、Cstgは蓄積容
量、CLは対向電圧信号線、CT,CT1,CT2は対
向電極、GLは走査信号線、GTはゲート電極、PXは
画素電極、SD1はソース電極、SD2はドレイン電
極、SPはスペーサを示す。Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a plan view of one pixel of a liquid crystal panel for explaining a first embodiment of a liquid crystal display device according to the present invention, and FIG. 2 is a sectional view taken along line 1-1 'of FIG. AS is non-condensed silicon (a-silicon), TFT is a thin film transistor, Cstg is a storage capacitor, CL is a counter voltage signal line, CT, CT1, and CT2 are counter electrodes, GL is a scanning signal line, GT is a gate electrode, and PX is a gate electrode. A pixel electrode, SD1 is a source electrode, SD2 is a drain electrode, and SP is a spacer.
【0042】本実施例のスペーサSPは映像信号線DL
(ドレイン電極SD2)の直上の殆どの領域に電極基板
(アクティブマトリクス基板)側の突起SP1と対向基
板(カラーフィルタ基板)側の突起SP2の頂面を当接
させた隔壁状に設けられている。カラーフィルタ基板側
の突起SP1は導電材料で構成され、アクティブマトリ
クス基板側の突起SP2は絶縁膜PSVと同種に材料で
構成されている。In this embodiment, the spacer SP is connected to the video signal line DL.
In almost the area immediately above the (drain electrode SD2), the projection SP1 on the electrode substrate (active matrix substrate) side and the projection SP2 on the counter substrate (color filter substrate) side are provided in a partition shape in which the top surfaces of the projections SP2 are in contact with each other. . The projection SP1 on the color filter substrate side is made of a conductive material, and the projection SP2 on the active matrix substrate side is made of the same material as the insulating film PSV.
【0043】したがって、画素電極PXと共通電極CT
2との間に形成される電界(不要電界)はドレイン電極
SD2によって弱められ、さらにカラーフィルタ基板側
の突起SP1に吸収されるため、クロストークは発生し
ない。また、スペーサSPで液晶LCの厚さを制御する
ことも可能であり、従来からの球状スペーサ(プラスチ
ックビーズ)を使用する必要はなく、球状スペーサを用
いた場合に発生し易いスペーサ周辺からの光漏れによる
コントラストの低下やスペーサの不均一分布による表示
不良が起こらない。Therefore, the pixel electrode PX and the common electrode CT
2 is weakened by the drain electrode SD2 and further absorbed by the projection SP1 on the color filter substrate side, so that no crosstalk occurs. In addition, the thickness of the liquid crystal LC can be controlled by the spacer SP, and it is not necessary to use a conventional spherical spacer (plastic bead), and light from the periphery of the spacer, which is likely to be generated when the spherical spacer is used. A decrease in contrast due to leakage and a display defect due to uneven distribution of spacers do not occur.
【0044】対向基板側の突起SP1の導電性の尺度と
しては、比抵抗を108 Ω・cm未満とすることで、ク
ロストーク現象であるスメアを低減することができる。As a measure of the conductivity of the projection SP1 on the counter substrate side, smear as a crosstalk phenomenon can be reduced by setting the specific resistance to less than 10 8 Ω · cm.
【0045】横電界方式では、基本的にアクティブ素子
が搭載されている基板側にのみ電極が形成されている。
そして、電界は基板に略並行な方向に印加されるため、
対向基板上の導体は画素選択用の電界形成の障害とな
る。In the lateral electric field method, electrodes are basically formed only on the substrate side on which the active elements are mounted.
Then, since the electric field is applied to the substrate in a substantially parallel direction,
The conductor on the counter substrate hinders the formation of an electric field for pixel selection.
【0046】従って、対向基板側にブラックマトリクス
BMを設ける場合は、その材質は金属ではなく、印加電
圧に影響を及ぼさない絶縁体であることが必然となる。Therefore, when the black matrix BM is provided on the counter substrate side, it is necessary that the material is not a metal but an insulator which does not affect the applied voltage.
【0047】本発明者等は、対向基板側の突起SP1の
比抵抗を108 Ω・cm未満とすることにより、映像信
号電極SD2に隣接する共通電極CT2の不要電界のシ
ールド効果を補助できることを見いだした。これは、突
起SP1の比抵抗が108 Ω・cm未満の絶縁体は、絶
縁体と言えども電界を吸収するという実験結果に基づく
ものである。The present inventors have made it possible to assist the shielding effect of the unnecessary electric field of the common electrode CT2 adjacent to the video signal electrode SD2 by setting the specific resistance of the projection SP1 on the counter substrate side to less than 10 8 Ω · cm. I found it. This is based on the experimental result that an insulator having a specific resistance of the projection SP1 of less than 10 8 Ω · cm absorbs an electric field even though it is an insulator.
【0048】図3は本発明の第1実施例におけるブラッ
クマトリクスの比抵抗と駆動電圧の関係を実験した結果
とこの実験に用いた液晶セルの構成の説明図であり、
(b)の(b−1)は電極基板の平面図、(b−2)は
(b−1)のA−A’線に沿った断面図である。FIG. 3 is a diagram showing the result of an experiment on the relationship between the specific resistance of the black matrix and the driving voltage according to the first embodiment of the present invention, and the structure of the liquid crystal cell used in this experiment.
(B-1) of (b) is a plan view of the electrode substrate, and (b-2) is a cross-sectional view taken along line AA 'of (b-1).
【0049】この実験では、同図(b)の(b−1)に
示したように櫛歯状電極EDcを形成した電極基板(ア
クティブマトリクス基板に相当)Iにブラックマトリク
スBMを形成した対向基板(カラーフィルタ基板に相
当)IIを重ねあわせ、両者の間隙に液晶を封止したテス
ト試料を用いた。In this experiment, an opposing substrate in which a black matrix BM was formed on an electrode substrate (corresponding to an active matrix substrate) I on which comb-shaped electrodes EDc were formed as shown in (b-1) of FIG. A test sample in which II was superimposed (corresponding to a color filter substrate) and liquid crystal was sealed in the gap between the two was used.
【0050】このテスト試料を用いてブラックマトリク
スBMの影響を受けないスポットaでの駆動電圧とブラ
ックマトリクスBMの影響を受ける可能性のあるスポッ
トbでの駆動電圧とを測定して比較した。この結果、ブ
ラックマトリクスBMの材料の比抵抗が108 Ω・cm
未満では駆動電圧が上昇することが分かった。つまり、
絶縁体であっても、その比抵抗が108 Ω・cm未満の
ものは電界を吸収することが実証された。従って、ブラ
ックマトリクスBMの材料として比抵抗が108 Ω・c
m未満の絶縁体を用いることにより、不要な電界をシー
ルドする効果が得られる。Using this test sample, the drive voltage at spot a, which is not affected by the black matrix BM, and the drive voltage at spot b, which may be affected by the black matrix BM, were measured and compared. As a result, the specific resistance of the material of the black matrix BM is 10 8 Ω · cm.
It was found that the drive voltage increased when the value was less than the above. That is,
It has been demonstrated that even an insulator having a specific resistance of less than 10 8 Ω · cm absorbs an electric field. Therefore, the specific resistance of the material of the black matrix BM is 10 8 Ω · c.
By using an insulator less than m, an effect of shielding an unnecessary electric field can be obtained.
【0051】また、図2に示した電極基板上の突起SP
2の比抵抗は108 Ω・cm以上とし、ドレイン電極S
D2からある程度離して配置することにより、表示に使
用される画素電極PX−共通電極CT1間の電界に影響
を及ぼさないようにすることが可能となる。The projection SP on the electrode substrate shown in FIG.
2 has a specific resistance of 10 8 Ω · cm or more, and the drain electrode S
By arranging it at some distance from D2, it is possible to prevent the electric field between the pixel electrode PX and the common electrode CT1 used for display from being affected.
【0052】上記絶縁体の比抵抗の制御は、高分子有機
材料中に金属粒子やカーボンを分散する方法があり、そ
れらの含有量を調整することにより、絶縁体の比抵抗を
調節することができる。The specific resistance of the insulator can be controlled by dispersing metal particles or carbon in a high-molecular-weight organic material. By adjusting the content thereof, it is possible to adjust the specific resistance of the insulator. it can.
【0053】図4は本発明による液晶表示装置の第2実
施例を説明する液晶パネルの1画素付近の平面図であ
る。なお、図4の1−1’線に沿った断面は前記図2と
同様なものとなる。FIG. 4 is a plan view of a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention in the vicinity of one pixel of a liquid crystal panel. The cross section along the line 1-1 'in FIG. 4 is the same as that in FIG.
【0054】前記第1実施例では、そのスペーサSPが
映像信号線の直上でブラックマトリクスBMの直下に配
置した隔壁状としたが、本実施例のスペーサSPは、配
置位置は第1実施例と同様であるが、単一の隔壁状に代
えて複数の柱状スペーサSPを配列した点で第1実施例
と異なる。In the first embodiment, the spacers SP are formed in the form of partitions arranged immediately above the video signal lines and directly below the black matrix BM. However, the spacers SP of the present embodiment are arranged in the same positions as in the first embodiment. Similar to the first embodiment, except that a plurality of columnar spacers SP are arranged instead of a single partition.
【0055】このスペーサの構成も図2に示したものと
同様にアクティブマトリクス基板側に形成した突起SP
1とカラーフィルタ基板側に形成した突起SP2とから
構成されている。本実施例によれば、第1実施例と同様
の効果に加えて、アクティブマトリクス基板とカラーフ
ィルタ基板の対向間隙に液晶を注入する際に各柱状のス
ペーサSPの間を液晶が流れるため、液晶の注入が容易
になるという効果を有する。The structure of this spacer is the same as that shown in FIG.
1 and a projection SP2 formed on the color filter substrate side. According to this embodiment, in addition to the same effect as the first embodiment, the liquid crystal flows between the columnar spacers SP when the liquid crystal is injected into the opposing gap between the active matrix substrate and the color filter substrate. Has an effect that the injection of sapphire becomes easy.
【0056】図5は本発明による液晶表示装置の第3実
施例を説明する液晶パネルの1画素付近の平面図、図6
は図5の1−1’線に沿った断面図である。FIG. 5 is a plan view of a liquid crystal display device according to a third embodiment of the present invention in the vicinity of one pixel of a liquid crystal panel.
FIG. 6 is a sectional view taken along line 1-1 ′ of FIG.
【0057】前記第1および第2実施例では、そのスペ
ーサSPが映像信号線の直上でブラックマトリクスBM
の直下に配置した隔壁状あるいは柱状としたものである
が、本実施例のスペーサSPは、アクティブマトリクス
基板側の突起SP1は図1と図2に示した第1実施例と
同様であるが、カラーフィルタ基板側に形成する突起S
P2はブラックマトリクスBMの画素両側での高さを高
くし、その頂面に比抵抗が108 Ω・cm未満の材料か
らなる突起SP2を形成した点で第1および第2実施例
と異なる。In the first and second embodiments, the spacers SP are placed just above the video signal lines in the black matrix BM.
The spacer SP of this embodiment has a protrusion SP1 on the active matrix substrate side similar to that of the first embodiment shown in FIGS. 1 and 2. Projection S formed on color filter substrate side
P2 is different from the first and second embodiments in that the height of both sides of the pixel of the black matrix BM is increased, and a projection SP2 made of a material having a specific resistance of less than 10 8 Ω · cm is formed on the top surface thereof.
【0058】本実施例によれば、前記第1実施例と同様
の効果に加えて、突起SP2の厚みと幅をクロストーク
の大きさに応じて最適な電界吸収を行わせるよう任意に
設定することができるという効果を有する。According to this embodiment, in addition to the same effects as those of the first embodiment, the thickness and width of the projection SP2 are arbitrarily set so as to perform optimal electric field absorption according to the magnitude of crosstalk. It has the effect of being able to
【0059】図7は本発明による液晶表示装置の第4実
施例を説明する液晶パネルの1画素付近の平面図であ
る。本実施例は、上記第3実施例がブラックマトリクス
BMの厚み全体を厚くするものであるのに対し、その中
央部分すなわちドレイン電極SD2に対応する部分のみ
の高さを高くしたものである。本実施例によれば、前記
第1実施例と同様の効果を得ることができる。FIG. 7 is a plan view of a liquid crystal display device according to a fourth embodiment of the present invention in the vicinity of one pixel of a liquid crystal panel. This embodiment is different from the third embodiment in that the entire thickness of the black matrix BM is increased, but the height of only the central portion, that is, the portion corresponding to the drain electrode SD2 is increased. According to this embodiment, the same effects as in the first embodiment can be obtained.
【0060】なお、上記した第3および第4実施例にお
けるブラックマトリクスBMの高さは、前記図2に示し
たような柱状スペーサとなるように不連続に形成するこ
ともできる。これにより、前記第2実施例と同様の効果
が得られる。The height of the black matrix BM in the third and fourth embodiments can be discontinuously formed so as to form a columnar spacer as shown in FIG. Thereby, the same effect as in the second embodiment can be obtained.
【0061】次に、本発明の液晶表示装置の製造方法の
一例を前記第1実施例の液晶表示装置について説明す
る。Next, an example of a method for manufacturing a liquid crystal display device of the present invention will be described with reference to the liquid crystal display device of the first embodiment.
【0062】図8は本発明による液晶表示装置を構成す
る前記第1実施例で説明した液晶パネルの1画素付近の
構成を示す平面図である。FIG. 8 is a plan view showing the structure near one pixel of the liquid crystal panel described in the first embodiment which constitutes the liquid crystal display device according to the present invention.
【0063】先ず、一般的な薄膜トランジスタを形成す
るプロセスと同様に、厚さ0.7mmまたは1.1mm
のガラス基板上に成膜とパターニングを繰り返してアモ
ルファスシリコンASからなる薄膜トランジスタTF
T、蓄積容量Dstg、櫛歯状の画素電極PX、ソース
電極SD1、対向電極CT等の電極群を形成する。First, similarly to the process of forming a general thin film transistor, the thickness is 0.7 mm or 1.1 mm.
Thin film transistor TF made of amorphous silicon AS by repeating film formation and patterning on a glass substrate
An electrode group such as T, storage capacitor Dstg, comb-shaped pixel electrode PX, source electrode SD1, and counter electrode CT is formed.
【0064】薄膜トランジスタTFTを介して上記の電
極群に所定の電圧を印加する映像信号配線DL、ドレイ
ン電極SD2、対向電圧信号線CLおよび薄膜トランジ
スタTFTの導通を制御する複数の走査信号線GLとゲ
ート電極GTを格子状に形成する。薄膜トランジスタT
FT、各電極群および各配線は、絶縁膜GI(図2)と
保護膜PSVで被覆される。A video signal wiring DL for applying a predetermined voltage to the above-mentioned electrode group via the thin film transistor TFT, a drain electrode SD2, a counter voltage signal line CL, a plurality of scanning signal lines GL for controlling conduction of the thin film transistor TFT, and a gate electrode. GTs are formed in a lattice shape. Thin film transistor T
The FT, each electrode group and each wiring are covered with an insulating film GI (FIG. 2) and a protective film PSV.
【0065】次に、透明な紫外線硬化型樹脂レジストを
全面に塗布し、スペーサSPを形成したい位置に所望の
開口パターンのあるホトマスクを介して紫外線を照射
し、現像し、ポストベークして突起SP2を形成する。
突起SP2の下側は殆ど平坦であるため、突起SP2の
底辺部と頂部とはほぼ同面積となる。なお、紫外線照射
工程では、紫外線硬化型樹脂レジストの膜厚が厚いた
め、殆ど表面しか硬化しない。未硬化部分はその後のポ
ストベークによって十分に硬化させて液晶に不溶化する
ことが重要である。Next, a transparent ultraviolet curable resin resist is applied to the entire surface, and ultraviolet rays are irradiated to the positions where the spacers SP are to be formed through a photomask having a desired opening pattern, developed, and post-baked to form the projections SP2. To form
Since the lower side of the projection SP2 is almost flat, the bottom and top of the projection SP2 have substantially the same area. In the ultraviolet irradiation step, the surface of the ultraviolet-curable resin resist is hardened almost completely because the thickness thereof is large. It is important that the uncured portion is sufficiently cured by the subsequent post-baking to be insolubilized in the liquid crystal.
【0066】その後、ポリイミド等の配向膜材料を塗布
し、焼成し、ラビング処理を施して配向膜(配向制御層
とも言う)ORI1を形成し、アクティブマトリクス基
板が得られる。Thereafter, an alignment film material such as polyimide is applied, baked, and rubbed to form an alignment film (also referred to as an alignment control layer) ORI1, thereby obtaining an active matrix substrate.
【0067】次に、厚さ0.7mmまたは1.1mmの
ガラス基板の上に感光性の黒色樹脂レジストを塗布し、
所定の開口パターンを持つホトマスクを介して露光し、
現像した後、焼成して画素部に開口を有するブラックマ
トリクスBMを形成する。このブラックマトリクスBM
の上に感光性の第1色、例えば赤色樹脂レジストを塗布
し、赤フィルタの開口パターンを有するホトマスクを介
して露光し、これを現像し、焼成して赤色フィルタFI
L(R)を形成する。以下、同様に、第2色、例えば緑
色樹脂レジスト、第3色例えば、青色樹脂レジストを用
いて、それぞれ緑色フィルタFIL(G)、青色フィル
タFIL(B)を形成する。Next, a photosensitive black resin resist is applied on a glass substrate having a thickness of 0.7 mm or 1.1 mm,
Exposure through a photomask with a predetermined opening pattern,
After the development, baking is performed to form a black matrix BM having an opening in the pixel portion. This black matrix BM
Is coated with a photosensitive first color, for example, a red resin resist, exposed through a photomask having an opening pattern of a red filter, developed, and baked to form a red filter FI.
L (R) is formed. Hereinafter, similarly, a green filter FIL (G) and a blue filter FIL (B) are respectively formed using a second color, for example, a green resin resist, and a third color, for example, a blue resin resist.
【0068】こうして形成したカラーフィルタ膜の上層
にオーバーコート膜OCを塗布する。このオーバーコー
ト膜OCはカラーフィルタやブラックマトリクスと液晶
LCを化学的に分離すると共に、カラーフィルタ膜の表
面を平坦化するためのものである。An overcoat film OC is applied on the color filter film thus formed. The overcoat film OC serves to chemically separate the liquid crystal LC from the color filter or the black matrix and to flatten the surface of the color filter film.
【0069】オーバーコート膜OCの上に、硬化後の比
抵抗が108 Ω・cm未満となる紫外線硬化型樹脂レジ
ストを全面に塗布し、スペーサの形成したい位置に所望
の開口を有するホトマスクを介して露光し、現像してポ
ストベークして突起SP1を形成する。この突起SP1
もその低部と頂部は略同面積となる。なお、この突起S
P1も同様に、ポストベークによって十分に硬化させて
液晶に不溶化することが重要である。その後に、配向膜
材料を塗布し、焼成してラビング処理を施して配向膜O
RI2を形成し、カラーフィルタ基板が得られる。An ultraviolet curable resin resist having a cured specific resistance of less than 10 8 Ω · cm is applied on the entire surface of the overcoat film OC, and the resist is applied through a photomask having a desired opening at a position where a spacer is to be formed. Exposure, development and post-baking to form projections SP1. This projection SP1
The lower part and the top part have substantially the same area. The protrusion S
Similarly, it is important that P1 is sufficiently cured by post-baking to be insolubilized in the liquid crystal. Thereafter, an alignment film material is applied, baked and subjected to a rubbing treatment to form an alignment film O.
RI2 is formed, and a color filter substrate is obtained.
【0070】このようにして製作したアクティブマトリ
クス基板とカラーフィルタ基板を貼り合わせることでア
クティブマトリクス基板側の突起SP2とカラーフィル
タ基板側の突起SP1の各頂面を当接させることでアク
ティブマトリクス基板とカラーフィルタ基板の間隙を橋
絡するスペーサSPが形成される。以降の両基板を接着
して液晶を封入する工程は既知の液晶表示装置の製造方
法と同様である。The active matrix substrate and the color filter substrate manufactured as described above are bonded to each other so that the top surfaces of the projections SP2 on the active matrix substrate side and the projections SP1 on the color filter substrate side are brought into contact with each other, whereby A spacer SP bridging the gap between the color filter substrates is formed. The subsequent steps of bonding the two substrates and enclosing the liquid crystal are the same as in the known method of manufacturing a liquid crystal display device.
【0071】なお、この方法で製作した第1実施例のス
ペーサSPはブラックマトリクスBMの直下、かつドレ
イン電極SD2の直上に画素領域の両側に沿って隔壁状
に形成される。このスペーサSPの延在方向を液晶の注
入口に向けることで液晶の封入速度を通常通りとするこ
とができる。The spacer SP of the first embodiment manufactured by this method is formed just below the black matrix BM and directly above the drain electrode SD2 in a partition shape along both sides of the pixel region. By directing the extending direction of the spacer SP toward the liquid crystal injection port, the liquid crystal filling speed can be made normal.
【0072】なお、第2実施例のスペーサSPは上記の
製造方法におけるオーバーコート膜OCの上に塗布した
紫外線硬化型樹脂レジストを露光するホトマスクの開口
パターンを変えることで得られる。The spacer SP of the second embodiment can be obtained by changing the opening pattern of the photomask for exposing the ultraviolet-curable resin resist applied on the overcoat film OC in the above-described manufacturing method.
【0073】また、第3実施例あるいは第4実施例のス
ペーサSPはブラックマトリクスBMの形成工程でブラ
ックマトリクスマトリクス材料の塗布膜の厚みを厚く
し、またはブラックマトリクスの形成工程を2回とする
ことで得られる。さらに、第1、第2実施例ではブラッ
クマトリクスBMをカラーフィルタの形成前に形成した
が、最初にカラーフィルタを形成し、その後にブラック
マトリクスを形成する方法を採用することができる。In the spacer SP of the third or fourth embodiment, the thickness of the coating film of the black matrix matrix material is increased in the process of forming the black matrix BM, or the process of forming the black matrix is performed twice. Is obtained. Further, in the first and second embodiments, the black matrix BM is formed before the formation of the color filter. However, a method in which the color filter is formed first, and then the black matrix is formed can be adopted.
【0074】次に、本発明の実施例について第1実施例
を参照してより具体的に説明する。前記の方法で作成し
た液晶パネルの対向基板(カラーフィルタ基板)のブラ
ックマトリクスBMの光学濃度(OD値)は1.8、対
向基板側の突起SP1の膜厚は1μm、幅は映像信号線
DLとドレイン電極SD2の電極幅と等しい6μmと
し、電極基板(アクティブマトリクス基板)側の突起S
P2の膜厚は3μm、幅は突起SP1と同様の6μmと
した。したがって、セルギャップは4μmとなる。Next, the embodiment of the present invention will be described more specifically with reference to the first embodiment. The optical density (OD value) of the black matrix BM of the counter substrate (color filter substrate) of the liquid crystal panel prepared by the above method is 1.8, the thickness of the projection SP1 on the counter substrate side is 1 μm, and the width is the video signal line DL. 6 μm, which is equal to the electrode width of the drain electrode SD2, and the protrusion S on the electrode substrate (active matrix substrate) side.
The film thickness of P2 was 3 μm, and the width was 6 μm, similar to that of the projection SP1. Therefore, the cell gap is 4 μm.
【0075】この液晶パネルを用い、対向電極への印加
電圧を交流化したアクティブマトリクス型液晶表示装置
を構成したところ、上下左右各60度で諧調反転のない
広視野角、かつ液晶信号電極に沿って生じるクロストー
クであるスメアは全く観察されなかった。Using this liquid crystal panel, an active matrix type liquid crystal display device in which the voltage applied to the counter electrode was converted into an alternating current was constructed. No smear, which is the resulting crosstalk, was observed.
【0076】以下、本発明の効果を明確にするための比
較例を説明する。Hereinafter, a comparative example for clarifying the effect of the present invention will be described.
【0077】比較例1 本発明によるスペーサの代わりに、平均粒径4.25μ
mの球状スペーサを散布し、第1実施例と同じセルギャ
ップが4μmの液晶パネルを構成した。この液晶パネル
を用いた液晶表示装置を上記と同様の駆動条件で駆動し
たところ、液晶信号電極に沿って生じるクロストークで
あるスメアが発生し、かつ黒表示時において画素部に存
在する球状スペーサから光漏れが生じ、画質の劣化が認
められた。 Comparative Example 1 Instead of the spacer according to the present invention, the average particle size was 4.25 μm.
m spherical spacers were dispersed to form a liquid crystal panel having the same cell gap of 4 μm as in the first embodiment. When a liquid crystal display device using this liquid crystal panel was driven under the same driving conditions as above, smear, which is crosstalk generated along the liquid crystal signal electrode, was generated, and the spherical spacers existing in the pixel portion during black display were used. Light leakage occurred, and image quality was deteriorated.
【0078】比較例2 第1実施例と同様な方法で液晶パネルを構成した。ただ
し、対向基板側の突起SP1の比抵抗を104 Ω・cm
とし、膜厚は4μm、その幅を電極幅と同様の6μmと
し、電極基板側にはスペーサSP2を設けなかった。 Comparative Example 2 A liquid crystal panel was constructed in the same manner as in the first embodiment. However, the specific resistance of the projection SP1 on the counter substrate side is 10 4 Ω · cm.
The thickness was 4 μm, the width was 6 μm, which is the same as the electrode width, and no spacer SP2 was provided on the electrode substrate side.
【0079】この液晶パネルを用いた液晶表示装置を上
記と同様の駆動条件で駆動したところ、上下左右60度
で諧調反転のない広視野角、かつ液晶信号電極に沿って
生じるクロストークであるスメアは観察されなかった
が、駆動電圧が上昇し、応答速度も遅くなった。When the liquid crystal display device using this liquid crystal panel was driven under the same driving conditions as above, a wide viewing angle without gradation inversion at 60 degrees in the vertical and horizontal directions, and a smear which is crosstalk generated along the liquid crystal signal electrode. Was not observed, but the drive voltage increased and the response speed also slowed.
【0080】図9は本発明による液晶表示装置の全体構
成例を説明する展開斜視図である。この液晶表示装置
は、液晶パネルの背面に照明光源を設置したバックライ
ト方式の液晶表示装置である。FIG. 9 is an exploded perspective view for explaining an example of the overall configuration of the liquid crystal display device according to the present invention. This liquid crystal display device is a backlight type liquid crystal display device in which an illumination light source is installed on the back of a liquid crystal panel.
【0081】この液晶表示装置は液晶パネル、回路基
板、バックライト、その他の構成部材を一体化した液晶
表示装置(モジュール:MDLと称する)の具体的構造
を説明するものである。This liquid crystal display device describes a specific structure of a liquid crystal display device (module: MDL) in which a liquid crystal panel, a circuit board, a backlight and other components are integrated.
【0082】図9において、SHDは金属板からなる上
フレーム(シールドケース、メタルフレームとも言
う)、WDは表示窓、INS1〜3は絶縁シート、PC
B1〜3は回路基板(PCB1はドレイン側回路基板:
映像信号線駆動用回路基板、PCB2はゲート側回路基
板、PCB3はインターフェース回路基板)、JN1〜
3は回路基板PCB1〜3同士を電気的に接続するジョ
イナ、TCP1,TCP2はテープキャリアパッケー
ジ、PNLは前記実施例の何れかの構造を有する液晶パ
ネル、POLは上偏光板、GCはゴムクッション、IL
Sは遮光スペーサ、PRSはプリズムシート、SPSは
拡散シート、GLBは導光板、RFSは反射シート、M
CAは一体化成形により形成された下フレーム(下側ケ
ース:モールドフレーム)、MOはMCAの開口、BA
Tは両面粘着テープであり、図示の配置関係で拡散板部
材を積み重ねて液晶表示モジュールMDLが組立てられ
る。なお、導光板GLBの1辺に沿って蛍光管LPと反
射シートLSからなる光源組立が設置され、蛍光管LP
の端部に設けたゴムクッションGC部分から引き出され
るランプケーブルLPCを介して図示しないバックライ
ト電源から給電される。この導光板GLBと光源組立と
でバックライトBLが構成される。なお、光源組立は導
光板GLBの2辺または4辺にも設置できる。In FIG. 9, SHD is an upper frame (also referred to as a shield case or a metal frame) made of a metal plate, WD is a display window, INS1 to 3 are insulating sheets, PC
B1 to B3 are circuit boards (PCB1 is a drain side circuit board:
A video signal line driving circuit board, PCB2 is a gate side circuit board, PCB3 is an interface circuit board), JN1
Reference numeral 3 denotes a joiner for electrically connecting the circuit boards PCB1 to PCB3, TCP1 and TCP2 denote a tape carrier package, PNL denotes a liquid crystal panel having any of the structures of the above embodiments, POL denotes an upper polarizing plate, GC denotes a rubber cushion, IL
S is a light shielding spacer, PRS is a prism sheet, SPS is a diffusion sheet, GLB is a light guide plate, RFS is a reflection sheet, M
CA is a lower frame (lower case: mold frame) formed by integral molding, MO is an MCA opening, BA
T is a double-sided adhesive tape, and a liquid crystal display module MDL is assembled by stacking diffusion plate members in the arrangement shown in the figure. A light source assembly including a fluorescent tube LP and a reflection sheet LS is installed along one side of the light guide plate GLB, and the fluorescent tube LP
Power is supplied from a backlight power supply (not shown) via a lamp cable LPC pulled out from a rubber cushion GC portion provided at the end of the backlight. The light guide plate GLB and the light source assembly constitute a backlight BL. The light source assembly can be installed on two or four sides of the light guide plate GLB.
【0083】この液晶表示装置(液晶表示モジュールM
DL)は、下フレームMCAと上フレームSHDの2種
の収納・保持部材からなる筺体を有し、絶縁シートIN
S1〜3、回路基板PCB1〜3、液晶パネルPNLを
収納固定し、導光板GLB等から構成されるバックライ
トを収納した下フレームMCAを上フレームSHDに合
体させてなる。This liquid crystal display device (liquid crystal display module M)
DL) has a housing composed of two kinds of storage / holding members of a lower frame MCA and an upper frame SHD, and an insulating sheet IN
S1 to S3, circuit boards PCB1 to PCB3, and liquid crystal panel PNL are stored and fixed, and lower frame MCA storing a backlight composed of light guide plate GLB and the like is combined with upper frame SHD.
【0084】映像信号線駆動用回路基板PCB1には液
晶パネルPNLの各画素を駆動するための集積回路チッ
プ等の電子部品が搭載され、またインターフェース回路
基板PCB3には外部ホストコンピュータからの映像信
号の受入れ、タイミング信号等の制御信号を受け入れる
集積回路チップ、およびタイミングを加工してクロック
信号を生成するタイミングコンバータ(TCON)、低
電圧差動信号チップ、その他のコンデンサや抵抗器等の
電子部品が搭載される。An electronic component such as an integrated circuit chip for driving each pixel of the liquid crystal panel PNL is mounted on the video signal line driving circuit board PCB1, and an image signal from an external host computer is mounted on the interface circuit board PCB3. An integrated circuit chip that accepts and receives control signals such as timing signals, and a timing converter (TCON) that processes timing to generate a clock signal, a low-voltage differential signal chip, and other electronic components such as capacitors and resistors Is done.
【0085】上記タイミングコンバータで生成されたク
ロック信号は映像信号線駆動用回路基板PCB1に搭載
された集積回路チップに供給される。The clock signal generated by the timing converter is supplied to an integrated circuit chip mounted on the video signal line driving circuit board PCB1.
【0086】インターフェース回路基板PCB3および
映像信号線駆動用回路基板PCB1は多層配線基板であ
り、上記クロック信号ラインCLLはインターフェース
回路基板PCB3および映像信号線駆動用回路基板PC
B1の内層配線として形成される。The interface circuit board PCB3 and the video signal line driving circuit board PCB1 are multilayer wiring boards, and the clock signal line CLL is the interface circuit board PCB3 and the video signal line driving circuit board PC
It is formed as an inner wiring of B1.
【0087】なお、液晶パネルPNLにはTFTを駆動
するためのドレイン側回路基板PCB1、ゲート側回路
基板PCB2およびインターフェース回路基板PCB3
がテープキャリアパッケージTCP1,TCP2で接続
され、各回路基板間はジョイナJN1,2,3で接続さ
れている。The liquid crystal panel PNL has a drain-side circuit board PCB1, a gate-side circuit board PCB2, and an interface circuit board PCB3 for driving TFTs.
Are connected by tape carrier packages TCP1 and TCP2, and the circuit boards are connected by joiners JN1, JN2, JN3.
【0088】この液晶表示装置により、クロストークが
なく広視野角、かつ広品質の液晶表示装置が得られる。With this liquid crystal display device, a liquid crystal display device having a wide viewing angle and a wide quality without crosstalk can be obtained.
【0089】[0089]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
横電界方式の液晶表示装置を構成する液晶パネルのカラ
ーフィルタ基板側とアクティブマトリクス基板のそれぞ
れ突起を形成し、各突起の頂面を当接して両基板の間隙
を橋絡するスペーサを設けると共にカラーフィルタ基板
側の突起の比抵抗を108 Ω・cm未満とすることによ
り、広視野角でクロストークのない横電界方式の液晶表
示装置を得ることができる。また、アクティブマトリク
ス基板側の突起の比抵抗を108 Ω・cm以上とするこ
とにより、よりクロストークのない液晶表示装置を提供
できる。As described above, according to the present invention,
A projection is formed on the color filter substrate side of the liquid crystal panel constituting the in-plane switching type liquid crystal display device and on the active matrix substrate. By setting the specific resistance of the projection on the filter substrate side to less than 10 8 Ω · cm, it is possible to obtain a liquid crystal display device of a horizontal electric field type with a wide viewing angle and no crosstalk. In addition, by setting the specific resistance of the protrusion on the active matrix substrate side to 10 8 Ω · cm or more, a liquid crystal display device with less crosstalk can be provided.
【図1】本発明による液晶表示装置の第1実施例を説明
する液晶パネルの1画素付近の平面図である。FIG. 1 is a plan view showing a vicinity of one pixel of a liquid crystal panel for explaining a first embodiment of a liquid crystal display device according to the present invention.
【図2】図1の1−1’線に沿った断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line 1-1 'of FIG.
【図3】本発明の第1実施例におけるブラックマトリク
スの比抵抗と駆動電圧の関係を実験した結果とこの実験
に用いた液晶セルの構成の説明図である。FIG. 3 is a diagram illustrating a result of an experiment on a relationship between a specific resistance of a black matrix and a driving voltage in a first embodiment of the present invention, and an explanatory diagram of a configuration of a liquid crystal cell used in the experiment.
【図4】本発明による液晶表示装置の第2実施例を説明
する液晶パネルの1画素付近の平面図である。FIG. 4 is a plan view showing a vicinity of one pixel of a liquid crystal panel for explaining a second embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention.
【図5】本発明による液晶表示装置の第3実施例を説明
する液晶パネルの1画素付近の平面図である。FIG. 5 is a plan view showing a vicinity of one pixel of a liquid crystal panel for explaining a third embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention.
【図6】図5の1−1’線に沿った断面図である。6 is a sectional view taken along line 1-1 'of FIG.
【図7】本発明による液晶表示装置の第4実施例を説明
する液晶パネルの1画素付近の平面図である。FIG. 7 is a plan view of the vicinity of one pixel of a liquid crystal panel for explaining a fourth embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention.
【図8】本発明による液晶表示装置を構成する前記第1
実施例で説明した液晶パネルの1画素付近の構成を示す
平面図である。FIG. 8 shows the first embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention.
FIG. 3 is a plan view illustrating a configuration near one pixel of the liquid crystal panel described in the example.
【図9】本発明による液晶表示装置の全体構成例を説明
する展開斜視図である。FIG. 9 is an exploded perspective view illustrating an example of the overall configuration of a liquid crystal display device according to the present invention.
【図10】横電界方式の液晶表示装置を構成する液晶パ
ネルの1画素の電極近傍の断面図と基板周辺部の断面図
である。10A and 10B are a cross-sectional view of the vicinity of an electrode of one pixel of a liquid crystal panel included in a liquid crystal display device of a horizontal electric field type and a cross-sectional view of a peripheral portion of a substrate.
【図11】横電界方式の液晶表示装置の周辺回路の概要
説明図である。FIG. 11 is a schematic explanatory diagram of a peripheral circuit of a liquid crystal display device of an in-plane switching mode.
【図12】従来の横電界方式の液晶表示装置を構成する
液晶パネルの1画素を構成する電極配置例を説明する断
面模式図である。FIG. 12 is a schematic cross-sectional view illustrating an example of the arrangement of electrodes forming one pixel of a liquid crystal panel forming a conventional liquid crystal display device of an in-plane switching mode.
AS 非結質シリコン(a−シリコン) TFT 薄膜トランジスタ Cstg 蓄積容量 CL 対向電圧信号線 CT,CT1,CT2 対向電極 GL 走査信号線 GT ゲート電極 PX 画素電極 SD1 ソース電極 SD2 ドレイン電極 SP スペーサ SP1 カラーフィルタ基板側突起 SP2 アクティブマトリクス基板側突起。 AS Non-condensed silicon (a-silicon) TFT Thin film transistor Cstg Storage capacitance CL Counter voltage signal line CT, CT1, CT2 Counter electrode GL Scan signal line GT Gate electrode PX Pixel electrode SD1 Source electrode SD2 Drain electrode SP Spacer SP1 Color filter substrate side Projection SP2 Projection on the active matrix substrate side.
─────────────────────────────────────────────────────
────────────────────────────────────────────────── ───
【手続補正書】[Procedure amendment]
【提出日】平成11年11月19日(1999.11.
19)[Submission date] November 19, 1999 (1999.11.
19)
【手続補正1】[Procedure amendment 1]
【補正対象書類名】図面[Document name to be amended] Drawing
【補正対象項目名】図3[Correction target item name] Figure 3
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction contents]
【図3】 FIG. 3
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 阿須間 宏明 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所電子デバイス事業部内 Fターム(参考) 2H089 LA09 MA06X NA14 PA04 QA16 5C094 AA03 AA09 AA12 AA48 AA55 BA03 BA43 CA19 CA24 DA12 DA13 EA10 EB02 EC03 EC04 EC10 ED03 ED14 ED15 FA01 FA02 FB01 FB02 FB12 FB18 GA10 GB01 JA05 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing from the front page (72) Inventor Hiroaki Asma 3300 Hayano, Mobara-shi, Chiba F-term (reference) 2H089 LA09 MA06X NA14 PA04 QA16 5C094 AA03 AA09 AA12 AA48 AA55 BA03 BA43 CA19 CA24 DA12 DA13 EA10 EB02 EC03 EC04 EC10 ED03 ED14 ED15 FA01 FA02 FB01 FB02 FB12 FB18 GA10 GB01 JA05
Claims (4)
にカラー表示のための色の異なる少なくとも2種以上の
カラーフィルタと各カラーフィルタ間に介在させたブラ
ックマトリクスとを有し、前記一対の基板の他方に画素
選択のための電極群を形成してなり、前記一対の基板の
間に挟持された誘電異方性を有する液晶組成物の層と、
前記一対の基板の少なくとも一方の外面に偏光板を積層
してなる液晶パネルと、前記電極群に表示のための駆動
電圧を印加する駆動手段とを具備した液晶表示装置にお
いて、 前記一対の基板の対向する内面間の間隙を橋絡すると共
に、前記一方の基板側での比抵抗が前記他方の基板側で
の比抵抗より小さいスペーサを有することを特徴とする
液晶表示装置。An at least one of a pair of transparent substrates has at least two or more color filters of different colors for color display and a black matrix interposed between the color filters. An electrode group for pixel selection is formed on the other side of the substrate, and a layer of a liquid crystal composition having dielectric anisotropy sandwiched between the pair of substrates,
A liquid crystal panel comprising a polarizing plate laminated on at least one outer surface of the pair of substrates, and a liquid crystal display device comprising: a driving unit for applying a driving voltage for display to the electrode group; A liquid crystal display device, comprising a spacer bridging a gap between opposing inner surfaces and having a specific resistance on the one substrate side smaller than a specific resistance on the other substrate side.
れに形成した突起の頂面を接合して形成したことを特徴
とする請求項1に記載の液晶表示装置。2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the spacer is formed by joining top surfaces of protrusions formed on each of the pair of substrates.
が108 Ω・cm未満、前記他方の基板側の比抵抗が1
08 Ω・cmであることを特徴とする請求項1または2
に記載の液晶表示装置。3. The specific resistance of the spacer on the one substrate side is less than 10 8 Ω · cm, and the specific resistance on the other substrate side is 1 Ω · cm.
Characterized in that it is a 0 8 Ω · cm according to claim 1 or 2
3. The liquid crystal display device according to 1.
金属あるいはカーボンの粒子を含む有機高分子材料で形
成し、前記他方の基板側の突起が有機高分子系の絶縁材
料で形成したことを特徴とする請求項2または3に記載
の液晶表示装置。4. The projection on the one substrate side of the spacer is formed of an organic polymer material containing metal or carbon particles, and the projection on the other substrate side is formed of an organic polymer insulating material. The liquid crystal display device according to claim 2, wherein:
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