JP2000120765A - Active vibration isolation device - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 地震などの大振動が加わっても除振動作を維
持することが可能で、かつ、アクチュエータなどの破損
を防止することができるアクティブ型除振装置を提供す
る。
【解決手段】 床10を伝わってきた上下方向の振動が
第1所定加速度よりも大きく、水平方向の振動が第2所
定加速度よりも大きかった場合、免震装置部400を構
成するガイド部410とスライド部430が互いに上下
方向に摺動しつつ移動することで定盤300に伝わる上
下方向の振動を吸収減衰させ、空気ばね420によって
定盤300の上下方向の移動に対する復元がなされる。
免震装置部400を構成するガイド部410とすべり板
440が互いに水平方向に摺動しつつ移動することで、
定盤300に伝わる水平方向の振動を吸収減衰させ、コ
イルばね454によって定盤300の水平方向の移動に
対する復元がなされる。
(57) [Problem] To provide an active vibration isolator capable of maintaining a vibration isolation operation even when a large vibration such as an earthquake is applied and preventing damage to an actuator or the like. SOLUTION: When a vertical vibration transmitted through a floor 10 is larger than a first predetermined acceleration and a horizontal vibration is larger than a second predetermined acceleration, a guide part 410 constituting the seismic isolation device part 400 is provided. The sliding portions 430 move while sliding in the up and down directions, thereby absorbing and attenuating the up and down vibration transmitted to the platen 300, and the air spring 420 restores the up and down movement of the platen 300.
By the guide part 410 and the slide plate 440 constituting the seismic isolation device part 400 moving while sliding in the horizontal direction,
The horizontal vibration transmitted to the surface plate 300 is absorbed and attenuated, and the coil spring 454 restores the horizontal movement of the surface plate 300.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明はアクティブ型除振装
置に関する。The present invention relates to an active vibration isolator.
【0002】[0002]
【従来の技術】例えば、半導体製造工場などにおいて使
用される超微細加工に用いる製造装置や超高倍率の電子
顕微鏡などの精密機器は、振動を極端に嫌う装置であ
り、振動がこの種の装置に悪影響を及ぼすのを防止する
ために除振装置が使用されている。除振装置は、外部の
振動などに影響されることなく高度の静止状態を維持す
ることのできる定盤を備え、この定盤上に、振動を嫌う
装置の全体またはその装置のうちの特に振動を嫌う部分
を取り付けて用いる。2. Description of the Related Art For example, manufacturing equipment used for ultra-fine processing used in a semiconductor manufacturing factory or the like and precision equipment such as an ultra-high-magnification electron microscope are apparatuses that extremely dislike vibrations. An anti-vibration device is used in order to prevent a bad influence on the apparatus. The anti-vibration device has a surface plate that can maintain a high altitude stationary state without being affected by external vibrations and the like. Attach a part that dislikes it.
【0003】このような振動を嫌う装置に悪影響を及ぼ
す振動には、大きく分けて次の3種類のものがある。 (A)外部環境に通常的に発生している微振動。例え
ば、振動を嫌う装置を設置した建物の近くを走行する車
両や、周辺の建設工事による地盤振動、その建物に設置
された空調設備やエレベータ及びその他の機械の作動に
よって発生する振動、それに、その建物内を人が歩行す
ることによって発生する振動などである。 (B)振動を嫌う装置そのものが発生する振動。例え
ば、この振動を嫌う装置が半導体リソグラフィ工程で用
いられるステップ・アンド・スキャン型のウェーハ露光
装置であった場合を例に説明すると、ウェーハ上の1箇
所の露光領域の露光を行う毎に、ウェーハを載置したウ
ェーハ・ステージとマスクを載置したマスク・ステージ
とが水平方向に走査されるために加速及び減速され、そ
の際に発生する揺動によって微振動が発生する。 (C)地震による振動。この振動の振幅及び加速度は小
さなものから大きなものまでさまざまであり、したがっ
てこの振動には、微振動から大振動までが含まれ得る。[0003] Vibrations that adversely affect such a device that dislikes vibration are roughly classified into the following three types. (A) Micro-vibration normally occurring in the external environment. For example, a vehicle running near a building equipped with a device that dislikes vibration, ground vibration due to construction work around the building, vibration generated by operation of air conditioning equipment, elevators and other machines installed in the building, and its Such vibrations are caused by a person walking in a building. (B) Vibration generated by a device that dislikes vibration. For example, a case in which the apparatus that dislikes this vibration is a step-and-scan type wafer exposure apparatus used in a semiconductor lithography process will be described as an example. Since the wafer stage on which the mask is mounted and the mask stage on which the mask is mounted are scanned in the horizontal direction, the wafer stage is accelerated and decelerated. (C) Vibration due to earthquake. The amplitude and acceleration of this vibration can vary from small to large, so the vibration can include small to large vibrations.
【0004】多くの除振装置は、上記(A)及び(B)
の微振動を吸収して、振動を嫌う装置がそのような微振
動の影響を受けないようにすることを目的として設計さ
れており、上記(C)の地震による振動のうち比較的大
きな振動に対応することは、最初から予定していない。
例えば、半導体デバイスの集積度が現在ほど高くなく、
露光装置などが扱うパターンの線幅が現在ほど細かくな
かった頃は、パッシブ型除振装置が多く使用されてい
た。パッシブ型除振装置では、露光装置などの振動を嫌
う装置を取付ける定盤が空気ばねや防振ゴムなどの弾性
支持手段を介して、床面に固定された基台上に固定され
ており、その弾性支持手段の撓みによって外部からの微
振動が吸収され、また、その弾性支持手段と定盤及びそ
れに取り付けされた装置の質量とによって形成される振
動系の共振周波数を適当に設定することにより、露光装
置などが発生する微振動の振幅が抑制されるようにして
いた。[0004] Many anti-vibration devices are described in the above (A) and (B).
It is designed to absorb micro-vibration and to prevent the device that dislikes vibration from being affected by such micro-vibration. No response is planned from the beginning.
For example, the degree of integration of semiconductor devices is not as high as now,
When the line width of a pattern handled by an exposure apparatus or the like was not as thin as it is now, a passive type vibration isolator was often used. In the passive vibration isolator, a surface plate for mounting a device that dislikes vibration such as an exposure device is fixed on a base fixed to the floor surface through an elastic support means such as an air spring or a vibration isolating rubber, The bending of the elastic support means absorbs micro vibrations from the outside, and by appropriately setting the resonance frequency of a vibration system formed by the elastic support means and the mass of the surface plate and the device attached thereto. The amplitude of the micro-vibration generated by the exposure apparatus or the like is suppressed.
【0005】ところが、このようなパッシブ型除振装置
は、その弾性支持手段が有する固有振動数以下の低振動
領域の振動に対しては除振効果が得られず、逆に振動を
増幅してしまうおそれがあり、この弾性支持手段の固有
振動数を下げるには限度があった。そして、半導体の集
積度が上昇してパターンの微細化が進行するにつれて、
このようなパッシブ型除振装置の除振能力では不充分と
なってきたため、最近ではアクティブ型除振装置が多用
されている。[0005] However, such a passive vibration isolator cannot provide a vibration isolation effect with respect to vibrations in a low vibration region below the natural frequency of the elastic support means, and conversely amplifies the vibration. There is a limit to lowering the natural frequency of the elastic support means. And, as the degree of integration of semiconductors increases and pattern miniaturization progresses,
Since the passive vibration isolation device has become insufficient in vibration isolation capability, active vibration isolation devices have recently been widely used.
【0006】アクティブ型除振装置では、定盤を複数の
アクチュエータを介して基台上に支持すると共に、定盤
に複数の振動センサ(加速度センサ)を取り付け、それ
ら振動センサの検出出力に基づいて、フィードバックや
フィードフォワード等の技法を用いてアクチュエータを
制御することで、定盤に発生する加速度を小さく抑え、
従ってその振動を小さく抑えるようにしている。In an active vibration isolator, a surface plate is supported on a base via a plurality of actuators, and a plurality of vibration sensors (acceleration sensors) are mounted on the surface plate, and based on detection outputs of the vibration sensors. By controlling the actuator using techniques such as feedback and feed forward, the acceleration generated on the surface plate is suppressed small,
Therefore, the vibration is reduced.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】しかし、アクティブ型
除振装置は、上記(A)、(B)の、外部及び内部の微
振動に起因する定盤の振動を良好に抑制する優れた除振
性能を有する。しかしながら、上記(C)の地震による
振動に関しては、微小地震による微振動は効果的に除振
するものの、例えば震度2以上の大振動が生じると、そ
の振幅が数ミリから数十ミリに達する。前述した微振動
を除振するために用いられるアクチュエータ(微小変位
アクチュエータ)を用いた場合、このような大きな振幅
に対応して数ミクロンからサブミクロンのオーダーの精
度で定盤を制御することは困難である。また、このよう
な大振動がアクティブ型除振装置の基台に加わると、基
台と定盤の間に設けられているアクチュエータに大きな
力が加わり、アクチュエータの破損を招くおそれがあ
る。したがって、定盤が基台に対して相対的に移動する
移動量を規制してアクチュエータの破損を防止してい
る。このため、大振動が発生した場合には定盤の変位が
規制されるからアクチュエータによって定盤を変位させ
ることが難しく除振することが困難となっている。本発
明は前記事情に鑑み案出されたものであって、本発明の
目的は、地震などの大振動が加わっても除振動作を維持
することが可能で、かつ、アクチュエータなどの破損を
防止することができるアクティブ型除振装置を提供する
ことにある。However, the active type vibration damping device is excellent in vibration suppression of the surface plate caused by the external and internal minute vibrations of the above (A) and (B). Has performance. However, with respect to the vibration caused by the earthquake (C), although the fine vibration caused by the microearthquake is effectively eliminated, for example, when a large vibration having a seismic intensity of 2 or more occurs, its amplitude reaches several millimeters to several tens of millimeters. When using the actuator (micro-displacement actuator) used to remove the aforementioned micro-vibration, it is difficult to control the surface plate with an accuracy on the order of several microns to sub-micron corresponding to such a large amplitude. It is. Further, when such a large vibration is applied to the base of the active vibration isolator, a large force is applied to the actuator provided between the base and the surface plate, which may cause damage to the actuator. Therefore, the amount of movement of the base relative to the base is regulated to prevent the actuator from being damaged. For this reason, when a large vibration occurs, the displacement of the surface plate is restricted, so that it is difficult to displace the surface plate by the actuator, and it is difficult to remove the vibration. The present invention has been devised in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to be able to maintain the anti-vibration operation even when a large vibration such as an earthquake is applied, and to prevent breakage of an actuator or the like. It is an object of the present invention to provide an active vibration isolator that can perform the above-mentioned operations.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
本発明は、基台上において上下及び水平方向に移動可能
に支持され被除振体が取付けられる定盤と、前記定盤の
上下及び水平方向の加速度を検出し、検出した上下及び
水平方向の加速度に対応して前記定盤を変位することに
より、前記被除振体の上下及び水平方向の微振動を除去
する除振装置部とを備えたアクティブ型除振装置におい
て、前記基台と建築物に対して固定された基礎構造体と
の間に免震装置部を設け、前記免震装置部は上下方向の
振動を吸収して減衰させるように構成された上下免震機
構を備え、前記上下免震機構は前記基礎構造体の上下方
向の振動の加速度が上下所定加速度よりも大きいときに
作動し、前記上下方向の振動の加速度が前記上下所定加
速度よりも小さいときに作動しないように構成され、前
記所定加速度は前記除振装置部によって除振可能な前記
被除振体の上下方向の振動の加速度よりも大きく設定さ
れていることを特徴とする。また、本発明は、基台上に
おいて上下及び水平方向に移動可能に支持され被除振体
が取付けられる定盤と、前記定盤の上下及び水平方向の
加速度を検出し、検出した上下及び水平方向の加速度に
対応して前記定盤を変位することにより、前記被除振体
の上下及び水平方向の微振動を除去する除振装置部とを
備えたアクティブ型除振装置において、前記基台と建築
物に対して固定された基礎構造体との間に免震装置部を
設け、前記免震装置部は水平方向の振動を吸収して減衰
させるように構成された水平免震機構を備え、前記水平
免震機構は前記基礎構造体の水平方向の振動の加速度が
水平所定加速度よりも大きいときに作動し、前記水平方
向の振動の加速度が前記水平所定加速度よりも小さいと
きに作動しないように構成され、前記所定加速度は前記
除振装置部によって除振可能な前記被除振体の水平方向
の振動の加速度よりも大きいことを特徴とする。また、
本発明は、基台上において上下及び水平方向に移動可能
に支持され被除振体が取付けられる定盤と、前記定盤の
上下及び水平方向の加速度を検出し、検出した上下及び
水平方向の加速度に対応して前記定盤を変位することに
より、前記被除振体の上下及び水平方向の微振動を除去
する除振装置部とを備えたアクティブ型除振装置におい
て、前記基台と建築物に対して固定された基礎構造体と
の間に免震装置部を設け、前記免震装置部は上下方向の
振動を吸収して減衰させるように構成された上下免震機
構と水平方向の振動を吸収して減衰させるように構成さ
れた水平免震機構を備え、前記上下免震機構は前記基礎
構造体の上下方向の振動の加速度が上下所定加速度より
も大きいときに作動し、前記上下方向の振動の加速度が
前記上下所定加速度よりも小さいときに作動しないよう
に構成され、前記水平免震機構は前記基礎構造体の水平
方向の振動の加速度が水平所定加速度よりも大きいとき
に作動し、前記水平方向の振動の加速度が前記水平所定
加速度よりも小さいときに作動しないように構成され、
前記上下所定加速度は前記除振装置部によって除振可能
な前記被除振体の水平方向の振動の加速度よりも大きく
設定され、前記水平所定加速度は前記除振装置部によっ
て除振可能な前記被除振体の水平方向の振動の加速度よ
りも大きく設定されていることを特徴とする。また、本
発明は、前記上下免震機構は前記基礎構造体に対する相
対的な前記基台の上下方向の振動を吸収する上下振動吸
収手段と、前記基礎構造体に対する相対的な前記基台の
上下移動に対する復元力を発生するための上下復元力発
生手段とを備えたことを特徴とする。また、本発明は、
前記水平免震機構は前記基礎構造体に対する相対的な前
記基台の水平方向の振動を吸収する水平振動吸収手段
と、前記基礎構造体に対する相対的な前記基台の水平移
動に対する復元力を発生するための水平復元力発生手段
とを備えたことを特徴とする。また、本発明は、前記上
下振動吸収手段は互いに接触するすべり面を備え、前記
すべり面間に働く摩擦力は前記すべり面を該すべり面と
平行方向に相対的に変位させる力が所定の大きさよりも
小さい場合には前記すべり面は互いに変位せず、前記力
が所定の大きさよりも大きい場合に前記すべり面が互い
に変位するように構成され、それによって前記上下免震
機構が、前記基礎構造体の上下方向の振動の加速度が前
記所定加速度よりも大きいときに作動し、前記上下方向
の振動の加速度が前記所定加速度よりも小さいときに作
動しないように構成したことを特徴とする。また、本発
明は、前記水平振動吸収手段は互いに接触するすべり面
を備え、前記すべり面間に働く摩擦力は前記すべり面を
該すべり面と平行方向に相対的に変位させる力が所定の
大きさよりも小さい場合には前記すべり面は互いに変位
せず、前記力が所定の大きさよりも大きい場合に前記す
べり面が互いに変位するように構成され、それによって
前記水平免震機構が、前記基礎構造体の水平方向の振動
の加速度が前記所定加速度よりも大きいときに作動し、
前記水平方向の振動の加速度が前記所定加速度よりも小
さいときに作動しないように構成したことを特徴とす
る。また、本発明は、前記上下振動吸収手段は摩擦ダン
パから構成され、前記摩擦ダンパは該摩擦ダンパに加わ
る上下方向の振動の加速度が前記所定加速度よりも大き
いときに作動し、前記上下方向の振動の加速度が前記所
定加速度よりも小さいときに作動しないように構成され
ていることを特徴とする。また、本発明は、前記水平振
動吸収手段は摩擦ダンパから構成され、前記摩擦ダンパ
は前記基礎構造体の水平方向の振動の加速度が前記所定
加速度よりも大きいときに作動し、前記水平方向の振動
の加速度が前記所定加速度よりも小さいときに作動しな
いように構成されていることを特徴とする。また、本発
明は、前記上下復元力発生部材は前記基台と前記基礎構
造体の間に配設された空気ばね及びコイルばねの少なく
とも一方を有して構成されていることを特徴とする。ま
た、本発明は、前記上下復元力発生部材は前記基台と前
記基礎構造体の間に設けられ、前記被除振体を含む前記
定盤と前記基台の重量を、前記基台が上下動できる状態
で支えるように構成されていることを特徴とする。ま
た、本発明は、前記水平復元力発生部材は前記基台と前
記基礎構造体の間に配設された空気ばね及びコイルばね
の少なくとも1つを有して構成されていることを特徴と
する。また、本発明は、前記水平復元力発生部材は前記
基台と前記基礎構造体の間に配設された免震支持ユニッ
トを有して構成され、前記免震支持ユニットはゴム板と
鋼板とを交互に積層して形成されていることを特徴とす
る。また、本発明は、前記定盤の上下及び水平方向の加
速度の検出は振動センサによって行われ、前記定盤の上
下及び水平方向への変位は前記基台と定盤との間に設け
られた第1、第2アクチュエータによって行われ、前記
第1アクチュエータと前記定盤の間には前記第1アクチ
ュエータに作用するせん断力を吸収する第1弾性体が設
けられ、前記第2アクチュエータと前記定盤の間には前
記第2アクチュエータに作用するせん断力を吸収する第
2弾性体が設けられていることを特徴とする。また、本
発明は、前記第1及び第2アクチュエータは固体アクチ
ュエータから構成されており、前記基台に設けられ、前
記第1アクチュエータを保持するとともに、非駆動状態
の前記第1アクチュエータがその変位方向において前記
定盤から受ける予圧縮力を調整する第1調整手段と、前
記基台に設けられ、前記第2アクチュエータを保持する
とともに、非駆動状態の前記第2アクチュエータがその
変位方向において前記定盤から受ける予圧縮力を調整す
る第2調整手段とを備えることを特徴とする。また、本
発明は、前記固体アクチュエータは超磁歪アクチュエー
タであることを特徴とする。SUMMARY OF THE INVENTION In order to achieve the above object, the present invention provides a base plate on which a vibration damping body is mounted on a base so as to be movable vertically and horizontally, and An anti-vibration unit that detects horizontal acceleration and displaces the surface plate in accordance with the detected vertical and horizontal accelerations, thereby removing vertical and horizontal fine vibrations of the vibration-isolated body; In the active type anti-vibration device provided with, a seismic isolation device portion is provided between the base and a foundation structure fixed to a building, and the seismic isolation device portion absorbs vertical vibration. A vertical seismic isolation mechanism configured to attenuate, wherein the vertical seismic isolation mechanism operates when acceleration of vertical vibration of the substructure is greater than a predetermined vertical acceleration. Is smaller than the predetermined vertical acceleration. Is configured not to operate come, the predetermined acceleration is characterized in that it is set larger than the vertical acceleration of the vibration of the vibration isolation possible the object divided insulating member by the vibration damping device unit. Further, the present invention provides a base plate on which a vibration-isolated body is mounted movably in the vertical and horizontal directions on a base, and detects the vertical and horizontal accelerations of the base plate, and detects the detected vertical and horizontal positions. An active vibration isolator comprising: a vibration isolator for removing fine vibrations in the vertical and horizontal directions of the vibration-isolated body by displacing the surface plate in accordance with the acceleration in the direction; A seismic isolation device is provided between the base structure fixed to the building and the base isolation structure, and the seismic isolation device includes a horizontal seismic isolation mechanism configured to absorb and attenuate horizontal vibrations. The horizontal seismic isolation mechanism operates when the acceleration of the horizontal vibration of the substructure is greater than a predetermined horizontal acceleration, and does not operate when the acceleration of the horizontal vibration is smaller than the predetermined horizontal acceleration. The predetermined acceleration Characterized in that is larger than the horizontal acceleration of the vibration of the vibration isolation possible the object divided insulating member by the vibration damping device unit. Also,
The present invention provides a surface plate on which an anti-vibration body is mounted movably supported on the base vertically and horizontally, and detects vertical and horizontal acceleration of the surface plate, and detects the detected vertical and horizontal directions. In an active vibration isolator having a vibration isolator for removing fine vibrations in the vertical and horizontal directions of the vibration-isolated body by displacing the surface plate in response to acceleration, the base and the building A seismic isolation device is provided between a base structure fixed to an object, and the seismic isolation device is provided with a vertical seismic isolation mechanism configured to absorb and attenuate vertical vibrations. A horizontal seismic isolation mechanism configured to absorb and attenuate vibrations, wherein the vertical seismic isolation mechanism operates when an acceleration of vertical vibration of the substructure is larger than a predetermined vertical acceleration. The acceleration of the vibration in the direction is the predetermined vertical acceleration The horizontal seismic isolation mechanism is activated when the horizontal vibration acceleration of the substructure is greater than a predetermined horizontal acceleration, and the horizontal vibration acceleration is reduced when the horizontal vibration acceleration is less than the predetermined horizontal acceleration. It is configured not to operate when it is smaller than the horizontal predetermined acceleration,
The predetermined vertical acceleration is set to be greater than the acceleration of the vibration in the horizontal direction of the vibration-removable body that can be vibration-removed by the vibration-removal device unit, and the horizontal predetermined acceleration is the vibration-removable object that can be vibration-removed by the vibration-removal device unit. It is characterized in that it is set to be larger than the acceleration of horizontal vibration of the vibration isolator. Further, according to the present invention, the vertical seismic isolation mechanism may include vertical vibration absorbing means for absorbing vertical vibration of the base relative to the base structure, and vertical vibration of the base relative to the base structure. A vertical restoring force generating means for generating a restoring force against movement. Also, the present invention
The horizontal seismic isolation mechanism generates horizontal vibration absorbing means for absorbing horizontal vibration of the base relative to the base structure, and generates a restoring force for horizontal movement of the base relative to the base structure. And a horizontal restoring force generating means. Further, according to the present invention, the vertical vibration absorbing means includes a slip surface which is in contact with each other, and a frictional force acting between the slip surfaces is a predetermined magnitude of a force for relatively displacing the slip surface in a direction parallel to the slip surface. When the force is larger than a predetermined magnitude, the slip surfaces are not displaced with each other, and when the force is larger than a predetermined magnitude, the slip surfaces are displaced with each other. The apparatus is characterized in that it operates when the acceleration of the vertical vibration of the body is larger than the predetermined acceleration, and does not operate when the acceleration of the vertical vibration is smaller than the predetermined acceleration. Also, in the present invention, the horizontal vibration absorbing means has a slip surface which is in contact with each other, and a frictional force acting between the slip surfaces is a predetermined magnitude of a force which relatively displaces the slip surface in a direction parallel to the slip surface. When the force is larger than a predetermined magnitude, the slip surfaces are not displaced with each other, and when the force is larger than a predetermined magnitude, the slip surfaces are displaced with each other. Activated when the acceleration of the horizontal vibration of the body is greater than the predetermined acceleration,
When the acceleration of the horizontal vibration is smaller than the predetermined acceleration, it does not operate. Further, according to the present invention, the vertical vibration absorbing means is constituted by a friction damper, and the friction damper operates when an acceleration of a vertical vibration applied to the friction damper is larger than the predetermined acceleration, and the vertical vibration Is not activated when the acceleration is smaller than the predetermined acceleration. Further, according to the present invention, the horizontal vibration absorbing means is constituted by a friction damper, and the friction damper operates when an acceleration of a horizontal vibration of the substructure is larger than the predetermined acceleration, and Is not activated when the acceleration is smaller than the predetermined acceleration. Further, the invention is characterized in that the vertical restoring force generating member has at least one of an air spring and a coil spring disposed between the base and the substructure. In addition, according to the present invention, the vertical restoring force generating member is provided between the base and the base structure, and the base and the base including the vibration-isolated body are weighted by the base, and the base is vertically moved. It is configured to be supported in a movable state. Further, the invention is characterized in that the horizontal restoring force generating member has at least one of an air spring and a coil spring disposed between the base and the substructure. . Also, in the present invention, the horizontal restoring force generating member is configured to include a seismic isolation support unit disposed between the base and the foundation structure, and the seismic isolation support unit includes a rubber plate and a steel plate. Are alternately laminated. Further, according to the present invention, the vertical and horizontal accelerations of the base are detected by a vibration sensor, and the vertical and horizontal displacements of the base are provided between the base and the base. The first and second actuators are provided, and a first elastic body that absorbs a shear force acting on the first actuator is provided between the first actuator and the platen, and the second actuator and the platen are provided. A second elastic body that absorbs a shearing force acting on the second actuator is provided therebetween. Further, according to the present invention, the first and second actuators are formed of solid actuators, and are provided on the base, hold the first actuator, and move the first actuator in a non-driving state in the displacement direction thereof. A first adjusting means for adjusting a pre-compression force received from the surface plate; and a second actuator provided on the base and holding the second actuator, wherein the second actuator in a non-driving state is moved in the displacement direction of the surface plate. And a second adjusting means for adjusting the pre-compression force received from the motor. Further, the present invention is characterized in that the solid actuator is a giant magnetostrictive actuator.
【0009】本発明のアクティブ型除振装置によれば、
除振装置部によって除振可能な前記被除振体の上下方向
の振動の加速度よりも大きい上下方向の振動が発生した
場合、その振動は免震装置部によって吸収して減衰され
るので、地震などの大振動が加わっても除振動作を維持
することが可能で、かつ、除振装置部を構成するアクチ
ュエータなどの破損を防止することができる。また、本
発明のアクティブ型除振装置によれば、除振装置部によ
って除振可能な前記被除振体の水平方向の振動の加速度
よりも大きい水平方向の振動が発生した場合、その振動
は免震装置部によって吸収して減衰されるので、地震な
どの大振動が加わっても除振動作を維持することが可能
で、かつ、除振装置部を構成するアクチュエータなどの
破損を防止することができる。また、本発明のアクティ
ブ型除振装置によれば、除振装置部によって除振可能な
前記被除振体の上下、水平方向の振動の加速度よりも大
きい上下、水平方向の振動が発生した場合、その振動は
免震装置部によって吸収して減衰されるので、地震など
の大振動が加わっても除振動作を維持することが可能
で、かつ、除振装置部を構成するアクチュエータなどの
破損を防止することができる。According to the active vibration isolator of the present invention,
If a vertical vibration that is greater than the vertical vibration acceleration of the vibration-isolated body that can be removed by the vibration-isolating device portion occurs, the vibration is absorbed and attenuated by the seismic isolation device portion, and the It is possible to maintain the vibration isolation operation even when large vibration such as is applied, and to prevent damage to the actuator and the like constituting the vibration isolation device. Further, according to the active vibration isolation device of the present invention, when a horizontal vibration greater than the acceleration of the horizontal vibration of the vibration-removed body that can be vibration-removed by the vibration isolation device section occurs, the vibration is Since it is absorbed and attenuated by the seismic isolation device, it is possible to maintain the anti-vibration operation even when a large vibration such as an earthquake is applied, and to prevent damage to the actuators etc. that constitute the anti-vibration device Can be. Further, according to the active vibration isolation device of the present invention, when vibrations in the vertical and horizontal directions that are greater than the vertical and horizontal accelerations of the vibration-isolated object that can be removed by the vibration isolation device are generated. Since the vibration is absorbed and attenuated by the seismic isolation device, the vibration isolation operation can be maintained even when a large vibration such as an earthquake is applied, and the actuators constituting the vibration isolation device are damaged. Can be prevented.
【0010】[0010]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照して説明する。図1は本発明のアクティブ型除振
装置の第1の実施の形態における概略構成を示す縦断面
図、図2は図1をAA線断面からみた状態を示す説明
図、図3は図1のBB線断面線断面からみた状態を示す
説明図、図4は第1調整手段の構成を示す説明図、図5
は免震装置部の要部の構成を示す説明図である。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing a schematic configuration of a first embodiment of an active vibration isolator of the present invention, FIG. 2 is an explanatory view showing a state of FIG. FIG. 4 is an explanatory view showing a state viewed from a cross section taken along a line BB, FIG. 4 is an explanatory view showing a configuration of a first adjusting unit, FIG.
FIG. 3 is an explanatory diagram showing a configuration of a main part of a seismic isolation device.
【0011】図1乃至図3に示すように、本発明に係る
アクティブ型除振装置1000は、ベース部100、基
台200、定盤300、免震装置部400、振動計増幅
器500、制御装置502、アクチュエータ駆動アンプ
504、除振装置部600などを備えている。ベース部
100は、平面視ほぼ矩形状の薄板状に形成され、建物
の床10(特許請求の範囲の基礎構造体に相当)に固定
されている。基台200は、平面視直方形をなす底壁2
02及びこの底壁202の4つの側辺から上方に立設さ
れた側壁204を備えている。定盤300は、被除振体
を取付けるためのものであって、基台200よりも小さ
な平面視直方形をなす板状を呈し、この基台200の側
壁204にその側面が囲まれた状態で、基台200の底
壁202上に配設された第1アクチュエータ210によ
って支持されている。すなわち、基台200の底壁20
2上において、定盤300下面の四隅近傍に対応する位
置には、この定盤300に上下方向の変位を加えて上下
方向に変位させると共に、定盤300を支持する第1ア
クチュエータ210がそれぞれ1個ずつ合計4個配設さ
れている。As shown in FIGS. 1 to 3, an active vibration isolator 1000 according to the present invention comprises a base 100, a base 200, a surface plate 300, a seismic isolation device 400, a vibrometer amplifier 500, and a control device. 502, an actuator drive amplifier 504, an anti-vibration unit 600, and the like. The base portion 100 is formed in a substantially rectangular thin plate shape in a plan view, and is fixed to a floor 10 of a building (corresponding to a substructure in the claims). The base 200 is a bottom wall 2 having a rectangular shape in plan view.
02 and a side wall 204 erected upward from four sides of the bottom wall 202. The surface plate 300 is for mounting a vibration-isolated body, and has a plate shape that is smaller than the base 200 and has a rectangular shape in a plan view, and the side surface is surrounded by a side wall 204 of the base 200. And is supported by a first actuator 210 disposed on a bottom wall 202 of the base 200. That is, the bottom wall 20 of the base 200
2, at positions corresponding to the vicinity of the four corners on the lower surface of the platen 300, the platen 300 is vertically displaced by applying a vertical displacement to the platen 300, and the first actuators 210 supporting the platen 300 each have one position. A total of four pieces are provided.
【0012】また、基台200の側壁204において、
定盤300の側面の四隅の対向する一対の隅部の近傍に
対応する箇所には、この定盤300に水平方向の変位を
加えて水平方向に変位させるための第2アクチュエータ
220がそれぞれ1個ずつ合計4個配設されている。す
なわち、各第2アクチュエータ220は、定盤300の
四隅の対向する一対の隅部の近傍に対応する箇所におい
て一対の隅部を挟んで隣接し、定盤300の四隅の対向
する一対の隅部の近傍に対応する箇所に駆動力が伝達さ
れるように設けられており、かつ、一対の隅部を挟んで
隣接するそれぞれの第2アクチュエータ220の変位方
向が水平面内で互いに直角をなす方向となるように構成
されている。Further, on the side wall 204 of the base 200,
At positions corresponding to the vicinity of a pair of opposing corners of the four corners of the side surface of the surface plate 300, one second actuator 220 for applying a horizontal displacement to the surface plate 300 and displacing the surface plate 300 in the horizontal direction is provided. A total of four are arranged. That is, each of the second actuators 220 is adjacent to the pair of corners of the surface plate 300 at positions corresponding to the vicinity of the pair of opposed corners, and the pair of opposite corners of the surface plate 300 is opposed to each other. Is provided so that the driving force is transmitted to a portion corresponding to the vicinity of the second actuator 220, and the direction of displacement of each of the second actuators 220 adjacent to each other across the pair of corners is the direction perpendicular to each other in the horizontal plane. It is configured to be.
【0013】上面からみて矩形状を呈する定盤300の
底面302には、定盤300の剛体モードの振動、すな
わち定盤300における上下方向の加速度を検出する3
個の振動センサ304と水平方向の加速度を検出する3
個の振動センサ306がそれぞれ底面302の縦横の中
心線上とほぼ重なる位置に配設されている。ここで、互
いに直交する3次元の座標軸をX軸、Y軸、Z軸とした
場合、定盤300の振動の方向は次の6成分ある。すな
わち、定盤300における上下方向(Z軸方向)、水平
方向(X軸方向とY軸方向)、定盤300におけるX
軸、Y軸、Z軸回りに回転する方向である。このため、
これら振動センサ304、306の配設位置は、上記6
成分の振動を検出できる位置であればよく、上記底面3
02の縦横の中心線上とほぼ重なる位置に限定されな
い。なお、6成分の振動を検出するためには少なくとも
上述した6個の振動センサを設ければよいが、振動セン
サの数は6個以上であってもよい。A rigid mode vibration of the platen 300, that is, a vertical acceleration of the platen 300 is detected on a bottom surface 302 of the platen 300 which has a rectangular shape when viewed from the top.
3 for detecting the acceleration in the horizontal direction with the vibration sensors 304
Each of the vibration sensors 306 is disposed at a position substantially overlapping the vertical and horizontal center lines of the bottom surface 302. Here, assuming that three-dimensional coordinate axes orthogonal to each other are an X-axis, a Y-axis, and a Z-axis, the vibration directions of the surface plate 300 include the following six components. That is, the vertical direction (Z-axis direction), the horizontal direction (X-axis direction and the Y-axis direction)
This is the direction of rotation about the axis, the Y axis, and the Z axis. For this reason,
The arrangement positions of these vibration sensors 304 and 306 are as described in the above 6
Any position that can detect the vibration of the component may be used.
The position is not limited to a position substantially overlapping the vertical and horizontal center lines of 02. In order to detect six component vibrations, at least the six vibration sensors described above may be provided, but the number of vibration sensors may be six or more.
【0014】第1アクチュエータ210及び第2アクチ
ュエータ220は、固体アクチュエータである超磁歪ア
クチュエータによって構成されており、与えられる駆動
信号に基づいてケース230の長手方向に伸長する歪み
(磁歪)を生じる不図示の超磁歪素子と、この超磁歪素
子を収容してこの超磁歪素子を外部から保護するケース
230と、この超磁歪素子に結合されてケース230の
端部からケース230の長手方向に進退するロッド23
2とを備えている。この超磁歪素子は、磁界の影響を受
けた場合に発生する磁歪量が大きな値となる合金材料に
より構成されている。また、この超磁歪アクチュエータ
は、それに与えられる駆動信号の大きさに対する磁歪量
である変位特性がほぼ線形であるため、この超磁歪アク
チュエータを駆動するための駆動信号を生成する処理は
比較的簡単でよいという利点がある。Each of the first actuator 210 and the second actuator 220 is constituted by a giant magnetostrictive actuator which is a solid actuator, and generates a distortion (magnetostriction) which extends in the longitudinal direction of the case 230 based on a given drive signal. A case 230 that accommodates the giant magnetostrictive element and protects the giant magnetostrictive element from the outside, and a rod that is coupled to the giant magnetostrictive element and that advances and retreats from the end of the case 230 in the longitudinal direction of the case 230 23
2 is provided. This giant magnetostrictive element is made of an alloy material in which the amount of magnetostriction generated when affected by a magnetic field becomes large. Further, in this giant magnetostrictive actuator, since the displacement characteristic which is the amount of magnetostriction with respect to the magnitude of the drive signal given thereto is almost linear, the process of generating a drive signal for driving this giant magnetostrictive actuator is relatively simple. There is an advantage that it is good.
【0015】各第1アクチュエータ210は、軸心方向
を上下方向に向けて配設されており、そのロッド232
の上端は、弾性体240を介して定盤300の底面30
2に取付けられている。こ弾性体(特許請求の範囲の第
1弾性体に相当)240は、第1アクチュエータ210
の変位方向(上下方向)に対しては剛く、第1アクチュ
エータ210の変位方向と直交する方向(水平方向)に
は柔らかい特性を備えた例えばゴムなどから構成される
ものであり、第1アクチュエータ210に対してその変
位方向に作用する力をそのまま定盤300に伝える一
方、変位方向と直交する方向に作用するせん断力とせん
断方向の微振動については吸収する作用を果たしてい
る。Each of the first actuators 210 is disposed with its axial center oriented in the up-down direction, and its rod 232
The upper end of the bottom surface 30 of the platen 300 is
2 attached. This elastic body (corresponding to the first elastic body in the claims) 240 is the first actuator 210.
The first actuator 210 is made of, for example, rubber having a rigid property in a displacement direction (up-down direction) and a soft property in a direction (horizontal direction) orthogonal to the displacement direction of the first actuator 210. While the force acting in the direction of displacement is transmitted to the platen 300 as it is, the shear force acting in the direction orthogonal to the direction of displacement and the micro vibration in the shear direction are absorbed.
【0016】図4に詳しく説明するように、各第1アク
チュエータ210は、底壁202にボルトなどで取付け
られたアクチュエータ取付部250に保持されている。
アクチュエータ取付部250は、その下部に設けられた
固定片252がボルト254などによって底壁202に
固着されている。アクチュエータ取付部250の下部か
ら立設された側壁256によって囲まれた収容空間25
6Aが形成されており、この収容空間256Aには、ケ
ース230部分にアクチュエータ保持部234が取付け
られた第1アクチュエータ210が上下方向、すなわち
ロッド232の進退方向に沿って移動可能な状態で収容
保持されている。そして、上記収容空間256Aの下部
には、アクチュエータ保持部234の後端に面して水平
方向に延在する中間壁258が形成されており、アクチ
ュエータ保持部234の後端は、この中間壁258に螺
合された調整ねじ259の先端に当接するようになって
いる。As will be described in detail with reference to FIG. 4, each first actuator 210 is held by an actuator mounting portion 250 which is mounted on the bottom wall 202 with bolts or the like.
The actuator mounting portion 250 has a fixing piece 252 provided at a lower portion thereof fixed to the bottom wall 202 by a bolt 254 or the like. Accommodating space 25 surrounded by side wall 256 erected from the lower part of actuator mounting portion 250
6A is formed in the housing space 256A, and the first actuator 210 having the actuator holding portion 234 attached to the case 230 is housed and held in a vertically movable direction, that is, in a direction in which the rod 232 moves forward and backward. Have been. An intermediate wall 258 that extends in the horizontal direction facing the rear end of the actuator holding section 234 is formed below the accommodation space 256A, and the rear end of the actuator holding section 234 is formed of the intermediate wall 258. Abuts against the tip of the adjusting screw 259 screwed into the screw.
【0017】したがって、この調整ねじ259を回転す
ることにより、第1アクチュエータ210の変位方向に
おけるアクチュエータ保持部234の位置を調整するこ
とができるようになっている。つまり、第1アクチュエ
ータ210を固定したアクチュエータ保持部234の位
置を調整ねじ259によって調整することにより、非駆
動状態の第1アクチュエータ210がその変位方向に対
して定盤300から受ける予圧縮力を調整できるように
なっている。ここで、アクチュエータ保持部234を保
持するアクチュエータ取付部250と調整ねじ259は
特許請求の範囲の第1調整手段に相当している。なお、
第1の実施の形態では、基台200と定盤300の間に
おいて、調整ねじ259、アクチュエータ210及び弾
性体240をこの順番で配置しているが、調整ねじ25
9、アクチュエータ210及び弾性体240の配置は上
記順番に限定されない。Therefore, by rotating the adjusting screw 259, the position of the actuator holding portion 234 in the displacement direction of the first actuator 210 can be adjusted. That is, by adjusting the position of the actuator holding portion 234 to which the first actuator 210 is fixed by the adjustment screw 259, the pre-compression force that the first actuator 210 in the non-driven state receives from the surface plate 300 in the displacement direction is adjusted. I can do it. Here, the actuator mounting portion 250 for holding the actuator holding portion 234 and the adjusting screw 259 correspond to first adjusting means in the claims. In addition,
In the first embodiment, the adjustment screw 259, the actuator 210, and the elastic body 240 are arranged in this order between the base 200 and the surface plate 300.
9, the arrangement of the actuator 210 and the elastic body 240 is not limited to the above order.
【0018】各第2アクチュエータ220は、軸心を水
平方向に向けて配設されており、そのロッド232の前
端は、第1アクチュエータ210の場合と同様に弾性体
(特許請求の範囲の第2弾性体に相当)242を介して
定盤300に取付けられている。こ弾性体242は、第
2アクチュエータ220の変位方向(水平方向)に対し
ては剛く、第2アクチュエータ220の変位方向と直交
する方向(上下方向)には柔らかい特性を備えたもので
あり、第2アクチュエータ220に対してその変位方向
に作用する力をそのまま定盤300に伝える一方、変位
方向と直交する方向に作用するせん断力及びせん断方向
の微振動を吸収する作用を果たしている。Each of the second actuators 220 is disposed with its axis centered in the horizontal direction, and the front end of the rod 232 has an elastic member (the second actuator in the claims) as in the case of the first actuator 210. (Equivalent to an elastic body) 242. The elastic body 242 has rigidity in the direction of displacement (horizontal direction) of the second actuator 220 and has soft characteristics in the direction perpendicular to the direction of displacement of the second actuator 220 (vertical direction). While transmitting the force acting on the second actuator 220 in the direction of displacement to the platen 300 as it is, the second actuator 220 absorbs the shearing force acting in the direction orthogonal to the direction of displacement and the micro vibration in the shearing direction.
【0019】各第2アクチュエータ220のケース23
0は、基台200の側壁204に保持されるアクチュエ
ータ保持部234に固定されており、このアクチュエー
タ保持部234は、側壁204においてロッド232の
進退方向に沿った任意の位置で固定されるようになって
いる。このアクチュエータ保持部234は、その後端が
側壁204に設けられた壁部204Aに螺合された調整
ねじ259の先端に常時当接するように付勢されてい
る。The case 23 of each second actuator 220
Numeral 0 is fixed to an actuator holding portion 234 held on the side wall 204 of the base 200, and the actuator holding portion 234 is fixed on the side wall 204 at an arbitrary position along the moving direction of the rod 232. Has become. The actuator holding portion 234 is urged such that its rear end always comes into contact with the tip of an adjusting screw 259 screwed into a wall portion 204A provided on the side wall 204.
【0020】したがって、この調整ねじ259を回転す
ることにより、第2アクチュエータ220の変位方向に
おけるアクチュエータ保持部234の位置を調整するこ
とができるようになっている。つまり、第2アクチュエ
ータ220を固定したアクチュエータ保持部234の位
置を調整ねじ259によって調整した後、このアクチュ
エータ保持部234を側壁204に固定することによ
り、非駆動状態の第2アクチュエータ220がその変位
方向に対して定盤300から受ける予圧縮力を調整でき
るようになっている。ここで、アクチュエータ保持部2
34を保持する側壁204と壁部204Aに螺合された
調整ねじ259は特許請求の範囲の第2調整手段に相当
している。なお、この実施の形態では、基台200と定
盤300の間において、調整ねじ259、アクチュエー
タ220及び弾性体242をこの順番で配置している
が、調整ねじ259、アクチュエータ220及び弾性体
242の配置は上記順番に限定されない。Therefore, by rotating the adjusting screw 259, the position of the actuator holding portion 234 in the displacement direction of the second actuator 220 can be adjusted. That is, after adjusting the position of the actuator holding portion 234 to which the second actuator 220 is fixed by the adjusting screw 259, the actuator holding portion 234 is fixed to the side wall 204, so that the second actuator 220 in the non-driving state can be displaced in the displacement direction. The pre-compression force received from the platen 300 can be adjusted. Here, the actuator holding unit 2
The adjustment screw 259 screwed to the side wall 204 and the wall portion 204A holding the support 34 corresponds to a second adjustment unit in the claims. In this embodiment, the adjustment screw 259, the actuator 220, and the elastic body 242 are arranged in this order between the base 200 and the surface plate 300. The arrangement is not limited to the above order.
【0021】前述したように各第2アクチュエータ22
0は、それぞれ隣り合う第2アクチュエータ220の変
位方向が水平面内で互いに直角をなす異なる4つの方向
となるように配設されている。As described above, each second actuator 22
Numerals 0 are arranged such that the displacement directions of the adjacent second actuators 220 are four different directions perpendicular to each other in a horizontal plane.
【0022】振動計増幅器500は、各振動センサ30
4、306から入力される上下及び水平方向の加速度を
示す合計6種類の検出信号Sを増幅するものである。制
御装置510は、振動計増幅器500から入力された上
下及び水平方向の加速度を示す検出信号Sに基づいて、
その振動を定盤300に取付けられた被除振体から除去
するために必要な第1及び第2アクチュエータ210、
220の駆動量に相当する駆動信号を演算生成するもの
である。前述したように、超磁歪アクチュエータにより
構成される各アクチュエータ210、220は、それら
に与えられる駆動信号に対する駆動量(発生する変位の
大きさ)がほぼ線形の特性を有しているため、制御装置
510によって検出信号から駆動信号を演算生成するた
めの処理が簡単なでよい。アクチュエータ駆動アンプ5
20は、この駆動信号を増幅した合計8種類の駆動信号
Dを第1及び第2アクチュエータ210、220に入力
して駆動させるものである。The vibrometer amplifier 500 is connected to each of the vibration sensors 30.
A total of six types of detection signals S indicating the acceleration in the vertical and horizontal directions, which are input from 4, 306, are amplified. The control device 510, based on the detection signal S indicating the vertical and horizontal acceleration input from the vibration meter amplifier 500,
First and second actuators 210 required to remove the vibration from the vibration-isolated body attached to the surface plate 300;
A drive signal corresponding to the drive amount of 220 is calculated and generated. As described above, since each of the actuators 210 and 220 constituted by the giant magnetostrictive actuators has a substantially linear drive amount (magnitude of generated displacement) with respect to a drive signal given thereto, the control device The process for calculating and generating the drive signal from the detection signal by 510 may be simple. Actuator drive amplifier 5
Reference numeral 20 denotes a device for driving the first and second actuators 210 and 220 by inputting a total of eight types of drive signals D obtained by amplifying the drive signals.
【0023】上述した第1、第2アクチュエータ21
0、220、振動センサ304、306、振動系増幅器
500、制御装置510、アクチュエータアンプ520
によって定盤300に取り付けられた被除振体の上下及
び水平方向の微振動を除去する除振装置部600が構成
されている。The above-described first and second actuators 21
0, 220, vibration sensors 304, 306, vibration system amplifier 500, control device 510, actuator amplifier 520
Thus, a vibration isolator 600 for removing fine vibrations in the vertical and horizontal directions of the vibration-isolated body attached to the surface plate 300 is configured.
【0024】一方、ベース部100と基台200の底壁
202の下面との間には、免震装置部400が設けられ
ている。図5に示すように、免震装置部400は、ガイ
ド部410、空気ばね420、スライド部430、すべ
り板440などを備えている。On the other hand, a base isolation unit 400 is provided between the base 100 and the lower surface of the bottom wall 202 of the base 200. As shown in FIG. 5, the seismic isolation device unit 400 includes a guide unit 410, an air spring 420, a slide unit 430, a slide plate 440, and the like.
【0025】4個のガイド部410は、軸心を上下方向
に向けた円筒状を呈し、その上端部が基台200の底壁
202の下面の四隅近傍に対応する箇所に固定され、下
端部に設けられた開口部412が下方に向けた状態とな
るように構成されている。ガイド部410は基台200
の底壁202の縦横の中心線を挟んで互いに同一の間隔
をおいて配設されている。ガイド部410の内部には軸
心を上下方向に向けた円柱状の収容空間414が形成さ
れている。収容空間414の内周面にはすべり材416
Aが取着されることですべり面416が構成されてい
る。The four guide portions 410 have a cylindrical shape with the axis centered in the vertical direction. The upper end portions are fixed to locations corresponding to the four corners near the lower surface of the bottom wall 202 of the base 200, and the lower end portions are Is configured so that the opening 412 provided at the bottom is directed downward. The guide unit 410 is mounted on the base 200
Are arranged at the same interval with respect to the vertical and horizontal center lines of the bottom wall 202. Inside the guide portion 410, a columnar accommodation space 414 whose axis is directed vertically is formed. A sliding member 416 is provided on the inner peripheral surface of the accommodation space 414.
The slip surface 416 is formed by attaching A.
【0026】スライド部430は、軸心を上下方向に向
けた、ガイド部410の収容空間414に対応する円筒
状を呈し、ガイド部410の収容空間414内に収容さ
れている。スライド部430の外周面432にはすべり
面434を構成するすべり材434Aが取着されること
ですべり面434が構成されている。そして、スライド
部430はすべり面434がガイド部410のすべり面
416に接触した状態で上下方向に摺動可能となるよう
に構成されている。そして、スライド部430のすべり
面434とガイド部410のすべり面416と間に働く
摩擦力の大きさは、比較的大きな地震が発生して、ベー
ス部100に上下所定加速度以上の上下方向の加速度が
生じたときに、ガイド部410がスライド部430に対
して相対的に変位し、それ以外の場合にはガイド部41
0がスライド部430に対して固定された状態に維持さ
れるような大きさとする。上記上下所定加速度は後述す
るように第1アクチュエータ410の駆動によって除振
可能な振動の加速度よりも大きな値に設定されている。
上述したガイド部410とスライド部430によって上
下振動吸収手段が構成されている。The slide portion 430 has a cylindrical shape with its axis centered vertically and corresponding to the accommodation space 414 of the guide portion 410, and is accommodated in the accommodation space 414 of the guide portion 410. The sliding surface 434 is formed by attaching a sliding member 434A constituting the sliding surface 434 to the outer peripheral surface 432 of the slide portion 430. The slide portion 430 is configured to be slidable up and down with the slip surface 434 in contact with the slip surface 416 of the guide portion 410. The magnitude of the frictional force acting between the slide surface 434 of the slide portion 430 and the slide surface 416 of the guide portion 410 is such that a relatively large earthquake occurs, and the base portion 100 has a vertical acceleration equal to or higher than a predetermined vertical acceleration. Occurs, the guide portion 410 is displaced relative to the slide portion 430; otherwise, the guide portion 41 is displaced.
The size is such that 0 is maintained in a fixed state with respect to the slide portion 430. The predetermined vertical acceleration is set to a value larger than the acceleration of vibration that can be removed by driving the first actuator 410 as described later.
The above-described guide portion 410 and slide portion 430 constitute a vertical vibration absorbing unit.
【0027】空気ばね420はその上端部422と下端
部424がそれぞれスライド部430の上面436とガ
イド部410の上面418に当接した状態でガイド部4
10の収容空間414内に収容されている。The air spring 420 has its upper end 422 and lower end 424 in contact with the upper surface 436 of the slide portion 430 and the upper surface 418 of the guide portion 410, respectively.
It is housed in ten housing spaces 414.
【0028】スライド部430の下面438にはすべり
材439Aが取着されることですべり面439が構成さ
れている。A sliding surface 439 is formed by attaching a sliding member 439A to the lower surface 438 of the sliding portion 430.
【0029】図3に示すように、すべり板440は平面
視矩形の薄板状に形成され、下面442がベース部10
0に固定され、上面444にはすべり材446Aが取着
されることですべり面446が構成されている。4個の
すべり板440は、ベース板100の縦横の中心線を挟
んで互いに同一の間隔をおいて配設されている。そし
て、スライド部430のすべり面439は、すべり板4
40のすべり面446に接触した状態で、すべり面44
6の範囲内で水平方向に摺動可能となっている。そし
て、スライド部430のすべり面439とすべり板44
0のすべり面446と間に働く摩擦力の大きさは、比較
的大きな地震が発生して、ベース部100に水平所定加
速度以上の水平方向の加速度が生じたときに、スライド
部がすべり板に対して相対的に変位し、それ以外の場合
にはスライド部がすべり板に対して固定された状態に維
持されるような大きさとする。上記水平所定加速度は後
述するように第2アクチュエータ220の駆動によって
除振可能な振動の加速度よりも大きな値に設定されてい
る。上記スライド部430とすべり板440によって水
平振動吸収手段が構成されている。なお、第1の実施の
形態では、スライド部430を基台200に固定し、す
べり板440をベース部100に固定したが、スライド
部430をベース部100に固定し、すべり板440を
基台200に固定してもよい。また、すべり板444、
すべり面446の形状は矩形に限定されるものではな
く、例えば円形であってもよい。As shown in FIG. 3, the slide plate 440 is formed in a rectangular thin plate shape in a plan view, and the lower surface 442 is
0, and a slip surface 446 is formed by attaching a slip member 446A to the upper surface 444. The four sliding plates 440 are arranged at the same interval from each other with the vertical and horizontal center lines of the base plate 100 interposed therebetween. The sliding surface 439 of the sliding portion 430 is
The slide surface 44 is in contact with the slide surface 446 of the slide surface 44.
In the range of 6, it is possible to slide in the horizontal direction. Then, the slide surface 439 of the slide portion 430 and the slide plate 44
The magnitude of the frictional force acting between the sliding portion 446 and the zero sliding surface 446 is such that when a relatively large earthquake occurs and a horizontal acceleration equal to or greater than a predetermined horizontal acceleration is generated in the base portion 100, the sliding portion moves on the sliding plate. Relative to the slide plate, otherwise, the size is such that the slide portion is kept fixed to the slide plate. The horizontal predetermined acceleration is set to a value larger than the acceleration of vibration that can be removed by driving the second actuator 220 as described later. The horizontal vibration absorbing means is constituted by the slide part 430 and the slide plate 440. In the first embodiment, the slide portion 430 is fixed to the base 200, and the slide plate 440 is fixed to the base portion 100. However, the slide portion 430 is fixed to the base portion 100, and the slide plate 440 is fixed to the base. It may be fixed to 200. Also, the sliding plate 444,
The shape of the slip surface 446 is not limited to a rectangle, and may be, for example, a circle.
【0030】また、基台200の底壁202の下面に
は、基台200の上下方向の位置を検出するためのレベ
ルセンサ(不図示)が3個配設されており、このレベル
センサの検出出力に基づいて、エアコンプレッサーから
各空気ばね420に与える空気圧を空気圧制御弁で調整
することによって、ベース部100に対する基台200
の高さ方向の位置を一定に保持するように構成されてい
る。すなわち、これら空気ばね420は、それらの弾性
力によって基台200のベース板100に対する上下方
向の移動に対する復元力を発生する上下復元力発生手段
を構成している。また、これら空気ばね420は、被除
振体を含む定盤300と基台200の重量を、基台20
0が上下動できる状態で支えるように構成されている。
そして、上述した上下振動吸収手段(ガイド部410と
スライド部430)と上下復元力発生手段(空気ばね4
20)によって上下免震機構が構成されている。On the lower surface of the bottom wall 202 of the base 200, three level sensors (not shown) for detecting the vertical position of the base 200 are provided. The air pressure applied to each air spring 420 from the air compressor is adjusted by an air pressure control valve based on the output, so that the base 200
Is configured to maintain a constant position in the height direction. That is, these air springs 420 constitute a vertical restoring force generating means for generating a restoring force for the vertical movement of the base 200 with respect to the base plate 100 by their elastic force. These air springs 420 also reduce the weight of the base plate 200 including the vibration-isolated body and the base 200,
0 is configured to be supported in a vertically movable state.
Then, the above-mentioned vertical vibration absorbing means (guide section 410 and slide section 430) and vertical restoring force generating means (air spring 4)
20) constitutes a vertical seismic isolation mechanism.
【0031】また、図1、図3に示すように、基台20
0の下面のほぼ中心部には柱450が、ベース板100
上の各すべり板440間の対向する側辺部に挟まれた4
箇所には柱452が固定されている。そして、柱450
と4個の柱552の間にはそれぞれコイルばね454が
張設されている。これらコイルばね454は、それらの
付勢力によって基台200のベース板100に対する水
平方向の移動に対する復元力を発生する水平復元力発生
手段を構成している。そして、水平振動吸収手段(ガイ
ド部410とすべり板440)と水平復元力発生手段
(コイルばね454)によって水平免震機構が構成され
ている。As shown in FIG. 1 and FIG.
In the center of the lower surface of the base plate 100, a pillar 450 is provided.
4 sandwiched between opposing side portions between the upper sliding plates 440
A column 452 is fixed at the location. And pillar 450
A coil spring 454 is stretched between each of the four columns 552. These coil springs 454 constitute a horizontal restoring force generating means for generating a restoring force against horizontal movement of the base 200 with respect to the base plate 100 by the urging force. The horizontal vibration absorbing means (guide portion 410 and slide plate 440) and the horizontal restoring force generating means (coil spring 454) constitute a horizontal seismic isolation mechanism.
【0032】次に、作用、効果について説明する。ま
ず、初めに超磁歪アクチュエータとこれに与える予圧縮
力について説明する。一般的に、超磁歪アクチュエータ
においては、その超磁歪アクチュエータに与えられる駆
動信号に対して、この磁歪アクチュエータの変形量(伸
び、縮み)がもっとも大きく、かつ、超磁歪アクチュエ
ータの変形量が線形に変化する状態にすることが超磁歪
アクチュエータの性能を最大限に生かす上で好ましい。
超磁歪アクチュエータでは、これに与える予圧縮力を最
適値に調整することにより、この超磁歪アクチュエータ
を上述した好ましい状態にすることができる。Next, the operation and effect will be described. First, the giant magnetostrictive actuator and the pre-compression force applied thereto will be described. Generally, in a giant magnetostrictive actuator, the amount of deformation (elongation, contraction) of the magnetostrictive actuator is the largest, and the amount of deformation of the giant magnetostrictive actuator changes linearly with respect to a drive signal given to the giant magnetostrictive actuator. It is preferable to make the state of making the most of the performance of the giant magnetostrictive actuator.
In the giant magnetostrictive actuator, by adjusting the pre-compression force applied thereto to an optimum value, the giant magnetostrictive actuator can be brought into the above-described preferable state.
【0033】この実施の形態においては、第1及び第2
アクチュエータ210、220を上述した好ましい状態
に調整することで次のような利点が生じる。すなわち、
第1及び第2アクチュエータ210、220に与えられ
る駆動信号に対して、第1及び第2アクチュエータ21
0、220が定盤300に与える変位量がもっとも大き
くなるから、より大きな外部振動に対してその振動を除
去することができる。また、第1及び第2アクチュエー
タ210、220に与えられる駆動信号に対して、第1
及び第2アクチュエータ210、220が定盤300に
与える変位量が線形に変化するので、第1及び第2アク
チュエータ210、220が定盤300に与える変位量
が駆動信号に対して忠実に発生するので、アクチュエー
タの駆動制御がより忠実に行われる。つまり、第1及び
第2アクチュエータ210、220の予圧縮力を最適に
調整することで、この除振装置の除振能力が最も優れた
状態にすることができる。In this embodiment, the first and second
Adjusting the actuators 210, 220 to the preferred state described above has the following advantages. That is,
The first and second actuators 21 and 21 respond to drive signals supplied to the first and second actuators 210 and 220.
Since the displacements 0 and 220 give to the platen 300 are the largest, it is possible to eliminate vibrations with respect to larger external vibrations. In addition, the first and second actuators 210 and 220 receive the first
Since the amount of displacement applied to the surface plate 300 by the first and second actuators 210 and 220 changes linearly, the amount of displacement applied to the surface plate 300 by the first and second actuators 210 and 220 faithfully occurs with respect to the drive signal. In addition, the drive control of the actuator is performed more faithfully. That is, by optimally adjusting the pre-compression force of the first and second actuators 210 and 220, it is possible to bring the vibration isolation device to the state where the vibration isolation capability is most excellent.
【0034】したがって、まず、第1アクチュエータ2
10、第2アクチュエータ220の予圧縮力の調整を行
う。この予圧縮力は、各アクチュエータを構成する超磁
歪アクチュエータが非駆動時に定盤300から受ける荷
重のことを示している。Therefore, first, the first actuator 2
10. The pre-compression force of the second actuator 220 is adjusted. The pre-compression force indicates a load received from the platen 300 when the giant magnetostrictive actuator constituting each actuator is not driven.
【0035】超磁歪アクチュエータの予圧縮力の調整
(磁歪量の最適化)は、所定周波数かつ所定振幅の駆動
信号(例えば正弦波信号)を各アクチュエータ210、
220に入力した状態で、最も定盤300が振動され
る、すなわち定盤300の変位が大きくなるように各ア
クチュエータ210、220の予圧縮力を調整すること
によって行われる。第1及び第2アクチュエータ21
0、220の予圧縮力は、調整ねじ1010、54を回
転させてそれぞれ第1、第2アクチュエータ210、2
20の変位方向におけるアクチュエータ保持部234
A、49の位置を変えることによって容易に調整するこ
とができる。Adjustment of the precompression force of the giant magnetostrictive actuator (optimization of the amount of magnetostriction) is performed by applying a drive signal (for example, a sine wave signal) having a predetermined frequency and a predetermined amplitude to each actuator 210,
This is performed by adjusting the pre-compression force of each of the actuators 210 and 220 such that the platen 300 is vibrated most, that is, the displacement of the platen 300 is maximized in a state where the platen is input to 220. First and second actuators 21
The pre-compression force of 0, 220 rotates the adjusting screws 1010, 54 to rotate the first and second actuators 210, 2
Actuator holding part 234 in the displacement direction of 20
It can be easily adjusted by changing the positions of A and 49.
【0036】各アクチュエータ210、220の予圧縮
力調整が終了すれば、振動計増幅器500、制御装置5
10、アクチュエータ駆動アンプ520の電源を投入す
ることにより、このアクティブ型除振装置1000が稼
動する。床10を伝わってきた上下方向の振動が前述し
た上下所定加速度よりも小さく、水平方向の振動が前述
した水平所定加速度よりも小さかった場合には、これら
の振動が除振装置部400と基台200を経由して定盤
300とこれに取付けられた被除振体に伝わりこの被除
振体が振動する。したがって、各振動センサ304、3
06が定盤300の振動を示す加速度を検出し、それら
加速度を示す検出信号を振動計増幅器500に入力す
る。振動計増幅器500は、制御装置510に増幅した
検出信号を入力する。この制御装置510は、振動計増
幅器500から入力された上下及び水平方向の加速度を
示す検出信号Sに基づいて、その振動を定盤300に取
付けられた被除振体から除去するために必要な第1及び
第2アクチュエータ210、220の駆動量に相当する
駆動信号を演算生成してアクチュエータ駆動アンプ52
0に入力する。このアクチュエータ駆動アンプ520
は、この駆動信号を増幅した駆動信号Dを第1及び第2
アクチュエータ210、220に入力して駆動させる。
これにより、定盤300に取付けられた被除振体の振動
が除去され、被除振体は高度な静止状態を維持する。When the precompression adjustment of each of the actuators 210 and 220 is completed, the vibration meter amplifier 500 and the control device 5
10. When the power supply of the actuator drive amplifier 520 is turned on, the active vibration isolator 1000 operates. When the vertical vibration transmitted through the floor 10 is smaller than the above-described predetermined vertical acceleration and the horizontal vibration is smaller than the above-described horizontal predetermined acceleration, these vibrations are transmitted to the vibration isolator 400 and the base. The vibration is transmitted to the surface plate 300 and the vibration receiving body attached thereto via the base 200, and the vibration receiving body vibrates. Therefore, each of the vibration sensors 304, 3
Reference numeral 06 detects acceleration indicating the vibration of the platen 300, and inputs a detection signal indicating the acceleration to the vibrometer amplifier 500. The vibration meter amplifier 500 inputs the amplified detection signal to the control device 510. The control device 510 is necessary to remove the vibration from the vibration-free body attached to the surface plate 300 based on the detection signal S indicating the vertical and horizontal accelerations input from the vibration meter amplifier 500. The driving signals corresponding to the driving amounts of the first and second actuators 210 and 220 are arithmetically generated to generate an actuator driving amplifier 52.
Enter 0. This actuator drive amplifier 520
Converts the amplified drive signal D into first and second drive signals.
The actuator is input to and driven by the actuators 210 and 220.
As a result, the vibration of the vibration receiving body attached to the surface plate 300 is removed, and the vibration receiving body maintains a high stationary state.
【0037】一方、地震などの発生により、床10を伝
わってきた上下方向の振動が前述した上下所定加速度よ
りも大きく、水平方向の振動が前述した水平所定加速度
よりも大きかったとする。この場合には、免震装置部4
00を構成するガイド部410とスライド部430が互
いに上下方向に摺動しつつ移動することで定盤300に
伝わる上下方向の振動を吸収減衰させ、空気ばね420
によって定盤300の上下方向の移動に対する復元がな
される。また、免震装置部400を構成するガイド部4
10とすべり板440が互いに水平方向に摺動しつつ移
動することで、定盤300に伝わる水平方向の振動を吸
収減衰させ、コイルばね454によって定盤300の水
平方向の移動に対する復元がなされる。上述した第1の
実施の形態によれば、地震などの大振動が生じた場合で
あっても、免震装置部400の作用によって第1、第2
アクチュエータ210、220で除振できない振動を除
振することが可能で、かつ、第1、第2アクチュエータ
210、220が大きなせん断力及び引っ張り力を受け
て破損することが防止される。なお、地震などの大振動
が上下方向の振動のみであった場合、あるいは水平方向
の振動であった場合であっても、免震装置部400の作
用によってそれぞれの方向の振動が吸収減衰される。ま
た、上述した第1の実施の形態では、第1加速度よりも
大きな上下方向の加速度の振動が作用したときに基台2
00を上下方向に変位させており、第2加速度よりも大
きな水平方向の加速度が作用したときに基台200を水
平方向に変位させている。すなわち、免震装置部400
は上下方向の加速度が第1加速度よりも大きなときに作
動し、水平方向の加速度が第2加速度よりも大きなとき
に作動するように構成されている。換言すれば、免震装
置部400の免震性能にトリガ機能を持たせている。On the other hand, it is assumed that the vertical vibration transmitted through the floor 10 due to the occurrence of an earthquake or the like is larger than the above-described predetermined vertical acceleration and the horizontal vibration is larger than the above-described horizontal predetermined acceleration. In this case, the seismic isolation device 4
00, the guide portion 410 and the slide portion 430 move while sliding up and down with respect to each other, thereby absorbing and attenuating the vertical vibration transmitted to the surface plate 300, and the air spring 420.
Thus, restoration for the vertical movement of the platen 300 is performed. Further, the guide unit 4 constituting the seismic isolation device unit 400
10 and the sliding plate 440 move while sliding in the horizontal direction with respect to each other, thereby absorbing and attenuating the horizontal vibration transmitted to the platen 300, and the coil spring 454 restores the horizontal movement of the platen 300. . According to the above-described first embodiment, even when a large vibration such as an earthquake occurs, the first and second devices are operated by the action of the seismic isolation device 400.
Vibration that cannot be removed by the actuators 210 and 220 can be removed, and the first and second actuators 210 and 220 are prevented from being damaged by receiving a large shearing force and a tensile force. Even when the large vibration such as an earthquake is only a vertical vibration or a horizontal vibration, the vibration in each direction is absorbed and attenuated by the action of the seismic isolation device 400. . Further, in the first embodiment described above, when the vibration of the vertical acceleration larger than the first acceleration acts, the base 2
00 is displaced in the vertical direction, and the base 200 is displaced in the horizontal direction when a horizontal acceleration greater than the second acceleration acts. That is, the seismic isolation device 400
Is configured to operate when the vertical acceleration is greater than the first acceleration, and to operate when the horizontal acceleration is greater than the second acceleration. In other words, the seismic isolation performance of the seismic isolation device 400 has a trigger function.
【0038】上述した第1の実施の形態では、水平復元
力発生手段がコイルばね454によって構成されている
が、水平復元力発生手段としては次に示すように従来公
知の免震支持ユニットを用いることもできる。図6は第
2の実施の形態を説明する図であり、第1の実施の形態
を示す図3に対応する説明図である。図1のBB線断面
からみた状態を示すに対応する説明図である。なお、図
3と同一部分には同一の符号を付してその説明を省略す
る。ベース部100と基台200間に免震ユニット46
0が配設されている。免震支持ユニット460は、ゴム
板と鋼板とを交互に積層して形成した円柱形積層体の中
心軸に沿って孔を設け、その孔の中に鉛製の円柱体を挿
入したものである。免震支持ユニット460は、矩形状
を呈するベース部100と基台200のほぼ中央の箇所
において、その上端部は基台200の下面に、下端部は
ベース部100にそれぞれ連結されている。免震支持ユ
ニット460はその上端部が下端部に対して相対的に水
平方向に移動することによって、せん断変形し、その際
に鉛製の円柱体が塑性変形するために振動エネルギーが
散逸される。また、積層されたゴム板の内部摩擦によっ
て振動エネルギーが散逸され、ゴム板の弾性力は免震支
持ユニット460のせん断変形を復元させる復元力とし
て働く。In the above-described first embodiment, the horizontal restoring force generating means is constituted by the coil spring 454. However, as the horizontal restoring force generating means, a conventionally known seismic isolation support unit is used as shown below. You can also. FIG. 6 is a diagram for explaining the second embodiment, and is an explanatory diagram corresponding to FIG. 3 showing the first embodiment. FIG. 2 is an explanatory view corresponding to a state viewed from a cross section taken along line BB of FIG. 1. The same parts as those in FIG. 3 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted. Seismic isolation unit 46 between base 100 and base 200
0 is provided. The seismic isolation support unit 460 is one in which a hole is provided along the central axis of a cylindrical laminated body formed by alternately laminating rubber plates and steel plates, and a lead-made cylindrical body is inserted into the hole. . The seismic isolation support unit 460 has an upper end connected to the lower surface of the base 200 and a lower end connected to the base 100 at substantially the center of the rectangular base 100 and base 200. The seismic isolation support unit 460 undergoes shear deformation due to horizontal movement of the upper end portion relative to the lower end portion, and at this time, vibration energy is dissipated because the lead cylinder is plastically deformed. . In addition, vibration energy is dissipated due to internal friction of the laminated rubber plates, and the elastic force of the rubber plates acts as a restoring force for restoring the shear deformation of the seismic isolation support unit 460.
【0039】また、免震支持ユニット460は、ベース
部100に水平所定加速度以上の水平方向の加速度が生
じたときにはせん断変形しするが、水平所定加速度以下
の水平方向の加速度が生じたときにはせん断変形しない
ように構成されている。すなわち、免震支持ユニット4
60は基台200のベース板100に対する水平方向の
振動を吸収減衰させる水平振動吸収手段と、基台200
のベース板100に対する水平方向の移動に対する復元
力を発生する水平復元力発生手段とを構成している。な
お、免震支持ユニット460はベース部100に水平所
定加速度以上の水平方向の加速度が生じたときにはせん
断変形しするが、水平所定加速度以下の水平方向の加速
度が生じたときにはせん断変形しないように構成されて
いれば、鉛製の円柱体を有しない構成であってもよい。
上述した第2の実施の形態によれば、第1の実施の形態
と同様の作用効果を得ることができることはいうまでも
ない。The seismic isolation support unit 460 undergoes shear deformation when a horizontal acceleration equal to or higher than a predetermined horizontal acceleration is generated in the base portion 100, and shears when a horizontal acceleration equal to or lower than the predetermined horizontal acceleration is generated. Not configured. That is, the seismic isolation support unit 4
60 is a horizontal vibration absorbing means for absorbing and attenuating horizontal vibration of the base 200 with respect to the base plate 100;
And a horizontal restoring force generating means for generating a restoring force against the horizontal movement of the base plate 100 with respect to the base plate 100. In addition, the seismic isolation support unit 460 is configured to undergo shear deformation when a horizontal acceleration equal to or more than a predetermined horizontal acceleration is generated in the base portion 100, but not to perform shear deformation when a horizontal acceleration equal to or less than the predetermined horizontal acceleration is generated. If so, a configuration having no lead columnar body may be employed.
According to the above-described second embodiment, it goes without saying that the same operation and effect as those of the first embodiment can be obtained.
【0040】上述した第1実施の形態では、免震装置部
400の免震性能にトリガ機能を持たせるために、すべ
り面間の摩擦力を利用した構成とし、また、第2の実施
の形態では、従来公知の免震支持ユニットを用いた構成
とした。しかしながら、免震装置部400の免震性能に
トリガ機能を持たせるためには次に述べるようにトリガ
機能を有する従来公知の摩擦ダンパを用いた構成とする
こともできる。図7は第3の実施の形態のアクティブ型
除振装置における免震装置部の構成を示す縦断面図、図
8は図7のCC線断面からみた状態を示す説明図、図9
は図7のDD線断面からみた状態を示す説明図である。
第3の実施の形態では、免震装置部460を除く部分は
第1の実施の形態と同一であるため説明を省略する。図
7に示すように、免震装置部460は、第1、第2ベー
ス部120、130、スライド部470、コイルばね4
76、空気ばね480、摩擦ダンパ482などを備えて
い構成されている。第1ベース部120は平面視矩形の
薄板状に構成され床10に固定されている。第2ベース
部130は第1ベース部120とほぼ同一の大きさと形
状となるように構成されている。In the above-described first embodiment, in order to provide a trigger function for the seismic isolation performance of the seismic isolation device 400, a configuration is used in which the frictional force between the slip surfaces is used. Thus, a configuration using a conventionally known seismic isolation support unit was adopted. However, in order to provide the seismic isolation performance of the seismic isolation device 400 with a trigger function, a configuration using a conventionally known friction damper having a trigger function as described below may be employed. FIG. 7 is a longitudinal sectional view showing a configuration of a seismic isolation device in the active vibration isolator of the third embodiment, FIG. 8 is an explanatory view showing a state viewed from a cross section taken along line CC of FIG.
FIG. 8 is an explanatory diagram showing a state viewed from a section taken along line DD of FIG. 7.
In the third embodiment, portions other than the seismic isolation device 460 are the same as those in the first embodiment, and a description thereof will be omitted. As shown in FIG. 7, the seismic isolation device 460 includes first and second bases 120 and 130, a slide 470, and a coil spring 4.
76, an air spring 480, a friction damper 482, and the like. The first base portion 120 is formed in a rectangular thin plate shape in a plan view, and is fixed to the floor 10. The second base portion 130 is configured to have substantially the same size and shape as the first base portion 120.
【0041】図9に示すように、第2ベース部130と
基台200の下面との間には基台200の四隅近傍の箇
所に4個の空気ばね480が配設され、隣接する空気ば
ね480の間には2個ずつ合計8個の摩擦ダンパ482
が配設されている。As shown in FIG. 9, four air springs 480 are disposed between the second base portion 130 and the lower surface of the base 200 at locations near the four corners of the base 200, and adjacent air springs 480 are provided. There are a total of eight friction dampers 482 between two 480
Are arranged.
【0042】摩擦ダンパ482は、上端部が基台200
の下面に連結され、下端部が第2ベース部130の上面
に連結されている。そして、各摩擦ダンパ482は、第
2ベース部130すなわち第1ベース部120に上下所
定加速度以上の上下方向の加速度が生じたときに作動し
て基台200を第2ベース部130に対して相対的に変
位させ、それ以外の場合には基台200が第2ベース部
130に対して固定された状態に維持するように構成さ
れている。すなわち、摩擦ダンパ482によって上下振
動吸収手段が構成されている。このような摩擦ダンパ4
82は、従来公知のものであるため詳細な説明は省略す
る。The upper end of the friction damper 482 is
, And the lower end is connected to the upper surface of the second base 130. Each of the friction dampers 482 operates when a vertical acceleration equal to or more than a predetermined vertical acceleration is generated in the second base 130, that is, the first base 120, and moves the base 200 relative to the second base 130. In other cases, the base 200 is configured to be fixed to the second base 130. That is, the vertical vibration absorbing means is constituted by the friction damper 482. Such a friction damper 4
Since 82 is conventionally known, a detailed description is omitted.
【0043】また、空気ばね480はその上端部が基台
200の下面に連結され、下端部が第2ベース部130
の上面に連結されている。ここで、第2ベース部130
は第1ベース部120に対して上下方向に移動不能に支
持されている。そして、基台200は空気ばね480に
よって第2ベース部120に対して上下方向に移動可能
に支持されている。したがって、空気ばね480は、そ
れらの付勢力によって基台200の第1ベース部120
に対して上下方向の移動に対する復元力を発生する上下
復元力発生手段を構成している。また、空気ばね480
は被除振体を含む定盤(図7には不図示)と基台200
の重量を、基台200が上下動できる状態で支持してい
る。そして、第3実施の形態では、上述した上下振動吸
収手段(摩擦ダンパ482)と上下復元力発生手段(空
気ばね480)によって上下免震機構が構成されてい
る。The air spring 480 has an upper end connected to the lower surface of the base 200 and a lower end connected to the second base 130.
Is connected to the upper surface of. Here, the second base unit 130
Are supported so as to be immovable in the vertical direction with respect to the first base portion 120. The base 200 is supported by the air spring 480 so as to be vertically movable with respect to the second base 120. Therefore, the air spring 480 causes the first base portion 120 of the base 200 to move by the urging force.
And a vertical restoring force generating means for generating a restoring force with respect to the vertical movement. Also, the air spring 480
Is a surface plate (not shown in FIG. 7) including the vibration-isolated body and the base 200
Is supported such that the base 200 can move up and down. In the third embodiment, the vertical vibration absorbing mechanism (friction damper 482) and the vertical restoring force generating means (air spring 480) constitute a vertical seismic isolation mechanism.
【0044】図8に示すように、スライド部470は、
第2ベース部130の下面の四隅近傍の箇所に配設され
ており、偏平な円柱体を呈し、上端部が第2ベース部1
30の下面に連結され、下端部にはすべり材により構成
されるすべり面471が設けられている。第1ベース部
120の上面には、その四隅近傍の箇所において平面視
矩形状のすべり面122が設けられている。4つのすべ
り面122は、第1ベース120の縦横の中心線を挟ん
で互いに同一の間隔をおいて配設されている。そして、
スライド部470のすべり面471は、第1ベース部1
20のすべり面122に接触した状態で、すべり面12
2の範囲内で水平方向に摺動可能となっている。As shown in FIG. 8, the slide portion 470
The second base portion 130 is disposed in the vicinity of the four corners on the lower surface of the second base portion 130, has a flat cylindrical shape, and has an upper end portion at the second base portion 1.
A sliding surface 471 formed of a sliding material is provided at a lower end portion, which is connected to a lower surface of the sliding member 30. The top surface of the first base portion 120 is provided with a sliding surface 122 having a rectangular shape in a plan view at locations near the four corners. The four slip surfaces 122 are arranged at the same interval from each other with respect to the vertical and horizontal center lines of the first base 120. And
The sliding surface 471 of the slide portion 470 is the first base portion 1
20 while being in contact with the sliding surface 122 of the sliding surface 12.
2 can be slid in the horizontal direction.
【0045】そして、スライド部470のすべり面47
1と第1ベース部120のすべり面122と間に働く摩
擦力の大きさは、比較的大きな地震が発生して、第1ベ
ース部120に水平所定加速度以上の水平方向の加速度
が生じたときに、スライド部470が第1ベース部12
0に対して相対的に変位し、それ以外の場合にはスライ
ド部470が第1ベース部120に対して固定された状
態に維持されるような大きさとする。上記スライド部4
70と第1ベース板120によって水平振動吸収手段が
構成されている。Then, the sliding surface 47 of the slide portion 470
The magnitude of the frictional force acting between the first base portion 120 and the slip surface 122 of the first base portion 120 is determined when a relatively large earthquake occurs and a horizontal acceleration equal to or more than a predetermined horizontal acceleration occurs in the first base portion 120. In addition, the slide portion 470 is connected to the first base portion 12.
In other cases, the size is set so that the slide portion 470 is kept fixed to the first base portion 120. The slide part 4
The horizontal vibration absorbing means is constituted by 70 and the first base plate 120.
【0046】第2ベース部130の下面のほぼ中心部に
は柱472が、第1ベース部120上の各すべり面12
2間の対向する側辺部に挟まれた4箇所には柱474が
固定されている。そして、柱472と4個の柱474の
間にはそれぞれコイルばね476が張設されている。こ
れらコイルばね476は、それらの付勢力によって第2
ベース部130の第1ベース部120に対する水平方向
の移動に対する復元力を発生している。基台200は摩
擦ダンパ482によって第2ベース部130に対して水
平方向には移動不能に支持されている。したがって、コ
イルばね476は、それらの付勢力によって基台200
の第1ベース部120に対して水平方向の移動に対する
復元力を発生する水平復元力発生手段を構成している。
そして、第3実施の形態では、上述した水平振動吸収手
段(スライド部470と第1ベース板120)と水平復
元力発生手段(コイルばね476)によって水平免震機
構が構成されている。上述した第3の実施の形態におい
ても、先に延べた第1、第2の実施の形態と同様の作用
効果を得ることができる。A column 472 is provided substantially at the center of the lower surface of the second base portion 130, and each of the sliding surfaces 12
Columns 474 are fixed to four places between the opposing side portions between the two. A coil spring 476 is stretched between each of the columns 472 and the four columns 474. These coil springs 476 cause the second force by their urging force.
A restoring force is generated for the horizontal movement of the base 130 with respect to the first base 120. The base 200 is supported by the friction damper 482 so as to be immovable in the horizontal direction with respect to the second base portion 130. Therefore, the coil spring 476 causes the base 200
A horizontal restoring force generating means for generating a restoring force against horizontal movement of the first base portion 120 is formed.
In the third embodiment, a horizontal seismic isolation mechanism is configured by the above-described horizontal vibration absorbing means (slide portion 470 and first base plate 120) and horizontal restoring force generating means (coil spring 476). Also in the third embodiment described above, it is possible to obtain the same operation and effects as those of the first and second embodiments.
【0047】なお、この第3の実施の形態において、上
下復元力発生手段として空気ばねを用いたがコイルばね
を用いてもよい。また、水平復元力発生手段としてコイ
ルばねを用いたが、前述した免震支持ユニットを用いて
いもよい。また、水平振動吸収手段として、前述した免
震支持ユニットを用いてもよいが、その際、水平所定加
速度以上の水平方向の加速度が生じたときにはせん断変
形するが、水平所定加速度以下の水平方向の加速度が生
じたときにはせん断変形しないように構成されている必
要がある。もし、免震支持ユニットが上記機能、すなわ
ちトリガ機能を有しない構成であった場合には、水平振
動吸収手段を上記免震支持ユニットと摩擦ダンパによっ
て構成する。すなわち、第1ベース部120と第2ベー
ス部130の間に摩擦ダンパを設け、該摩擦ダンパの一
端部を第1ベース部120に連結し、他端部を第2ベー
ス部130に連結する。そして、上記摩擦ダンパが第1
ベース部120に水平所定加速度以上の水平方向の加速
度が生じたときに作動して第2ベース部130を第1ベ
ース部120に対して相対的に変位させ、それ以外の場
合には第2ベース部130が第1ベース部120に対し
て固定された状態に維持するように構成する。Although the air spring is used as the vertical restoring force generating means in the third embodiment, a coil spring may be used. Further, although the coil spring is used as the horizontal restoring force generating means, the above-described seismic isolation support unit may be used. Further, as the horizontal vibration absorbing means, the above-described seismic isolation support unit may be used. In this case, when a horizontal acceleration equal to or higher than the predetermined horizontal acceleration occurs, the shear deformation occurs, but a horizontal deformation equal to or lower than the predetermined horizontal acceleration is performed. It is necessary to be configured so that shear deformation does not occur when acceleration occurs. If the seismic isolation support unit does not have the function described above, that is, does not have a trigger function, the horizontal vibration absorbing means is constituted by the seismic isolation support unit and a friction damper. That is, a friction damper is provided between the first base part 120 and the second base part 130, one end of the friction damper is connected to the first base part 120, and the other end is connected to the second base part 130. And the friction damper is the first
Activated when a horizontal acceleration equal to or greater than a predetermined horizontal acceleration is generated in the base portion 120 to displace the second base portion 130 relatively to the first base portion 120; The unit 130 is configured to be kept fixed with respect to the first base unit 120.
【0048】また、第3の実施の形態では、水平振動吸
収手段をスライド部470と第1ベース板120によっ
て構成したが、従来公知のリニアレールとリニアガイド
の組み合わせによって第1ベース部120に対して第2
ベース部130を水平面内で互いに直交する方向にスラ
イド移動可能に支持するように構成してもよい。その場
合、第1ベース部120に水平所定加速度以上の水平方
向の加速度が生じたときに第2ベース部130を第1ベ
ース部120に対して相対的に変位させ、それ以外の場
合には第2ベース部130が第1ベース部120に対し
て固定された状態に維持するように構成する必要がある
ことはもちろんである。In the third embodiment, the horizontal vibration absorbing means is constituted by the slide portion 470 and the first base plate 120. However, the first base portion 120 is formed by a conventionally known combination of a linear rail and a linear guide. Second
The base unit 130 may be configured to be slidably supported in directions perpendicular to each other in a horizontal plane. In this case, when a horizontal acceleration equal to or more than a predetermined horizontal acceleration occurs in the first base portion 120, the second base portion 130 is relatively displaced with respect to the first base portion 120; It is needless to say that the second base section 130 needs to be configured so as to be fixed to the first base section 120.
【0049】なお、上述した第1乃至第3の実施の形態
のアクティブ型除振装置では、上下免震機構と水平免震
機構の双方を備えた構成としたが、必要に応じて上下免
震機構または水平免震機構の一方のみを備える構成とし
てもよい。また、第1及び第2アクチュエータとしては
超磁歪アクチュエータ以外の固体アクチュエータを用い
てもよい。超磁歪アクチュエータ以外の固体アクチュエ
ータとしては、温度による熱膨張で動作するもの、電界
による電歪、圧電歪で動作するもの(ピエゾアクチュエ
ータ)、光による光誘起相転移で動作するものなどがあ
る。これらの固体アクチュエータも、超磁歪アクチュエ
ータと同様に、それに与えられる駆動信号の大きさに対
する変位特性がほぼ線形であるため、この固体アクチュ
エータを駆動するための駆動信号を生成する処理は比較
的簡単でよい。また、固体アクチュエータとそれに加え
る予圧縮力の関係も前述した超磁歪アクチュエータの場
合と同様である。In the active vibration isolator of the first to third embodiments described above, both the upper and lower seismic isolation mechanisms and the horizontal seismic isolation mechanism are provided. It may be configured to include only one of the mechanism and the horizontal seismic isolation mechanism. Also, solid actuators other than giant magnetostrictive actuators may be used as the first and second actuators. Solid actuators other than giant magnetostrictive actuators include those that operate by thermal expansion due to temperature, those that operate by electrostriction or piezoelectric strain by electric fields (piezo actuators), and those that operate by light-induced phase transition by light. These solid actuators, like the giant magnetostrictive actuators, have almost linear displacement characteristics with respect to the magnitude of the drive signal given to them, so the process of generating a drive signal for driving this solid actuator is relatively simple. Good. The relationship between the solid actuator and the precompression force applied thereto is the same as in the case of the above-described giant magnetostrictive actuator.
【0050】[0050]
【発明の効果】以上の説明で明らかなように本発明は、
基台上において上下及び水平方向に移動可能に支持され
被除振体が取付けられる定盤と、前記定盤の上下及び水
平方向の加速度を検出し、検出した上下及び水平方向の
加速度に対応して前記定盤を変位することにより、前記
被除振体の上下及び水平方向の微振動を除去する除振装
置部とを備えたアクティブ型除振装置において、前記基
台と建築物に対して固定された基礎構造体との間に免震
装置部を設け、前記免震装置部は上下方向の振動を吸収
して減衰させるように構成された上下免震機構を備え、
前記上下免震機構は前記基礎構造体の上下方向の振動の
加速度が上下所定加速度よりも大きいときに作動し、前
記上下方向の振動の加速度が前記上下所定加速度よりも
小さいときに作動しないように構成され、前記所定加速
度は前記除振装置部によって除振可能な前記被除振体の
上下方向の振動の加速度よりも大きく設定されている。
そのため、除振装置部によって除振可能な前記被除振体
の上下方向の振動の加速度よりも大きい上下方向の振動
が発生した場合、その振動は免震装置部によって吸収し
て減衰されるので、地震などの大振動が加わっても除振
動作を維持することが可能で、かつ、除振装置部を構成
するアクチュエータなどの破損を防止することができ
る。As is clear from the above description, the present invention
A base plate on which a vibration-isolated body is mounted movably in the vertical and horizontal directions on the base, and detects vertical and horizontal accelerations of the base plate, and corresponds to the detected vertical and horizontal accelerations. By displacing the surface plate in this manner, in an active vibration isolator having a vibration isolator unit for removing vertical and horizontal micro-vibrations of the vibration-isolated body, the base and the building A seismic isolation device is provided between the fixed base structure and the seismic isolation device includes a vertical seismic isolation mechanism configured to absorb and attenuate vertical vibrations,
The vertical seismic isolation mechanism is activated when the acceleration of the vertical vibration of the substructure is greater than a predetermined vertical acceleration, and is not activated when the acceleration of the vertical vibration is smaller than the predetermined vertical acceleration. The predetermined acceleration is set to be larger than the acceleration of the vibration in the vertical direction of the vibration-removed body that can be vibration-removed by the vibration-removing device.
Therefore, when a vertical vibration that is greater than the vertical vibration acceleration of the vibration-isolated body that can be removed by the vibration-isolating device portion occurs, the vibration is absorbed and attenuated by the seismic isolation device portion. Even if a large vibration such as an earthquake is applied, the vibration isolation operation can be maintained, and breakage of the actuator and the like constituting the vibration isolation device can be prevented.
【0051】また、本発明は、基台上において上下及び
水平方向に移動可能に支持され被除振体が取付けられる
定盤と、前記定盤の上下及び水平方向の加速度を検出
し、検出した上下及び水平方向の加速度に対応して前記
定盤を変位することにより、前記被除振体の上下及び水
平方向の微振動を除去する除振装置部とを備えたアクテ
ィブ型除振装置において、前記基台と建築物に対して固
定された基礎構造体との間に免震装置部を設け、前記免
震装置部は水平方向の振動を吸収して減衰させるように
構成された水平免震機構を備え、前記水平免震機構は前
記基礎構造体の水平方向の振動の加速度が水平所定加速
度よりも大きいときに作動し、前記水平方向の振動の加
速度が前記水平所定加速度よりも小さいときに作動しな
いように構成され、前記所定加速度は前記除振装置部に
よって除振可能な前記被除振体の水平方向の振動の加速
度よりも大きく設定されている。そのため、除振装置部
によって除振可能な前記被除振体の水平方向の振動の加
速度よりも大きい水平方向の振動が発生した場合、その
振動は免震装置部によって吸収して減衰されるので、地
震などの大振動が加わっても除振動作を維持することが
可能で、かつ、除振装置部を構成するアクチュエータな
どの破損を防止することができる。Further, according to the present invention, there is provided a base plate which is supported on a base so as to be movable in the vertical and horizontal directions and to which a vibration-isolated body is attached, and the vertical and horizontal accelerations of the base plate are detected and detected. By displacing the surface plate in response to vertical and horizontal acceleration, the active vibration isolator having a vibration isolator unit for removing fine vibration in the vertical and horizontal directions of the vibration receiving body, A seismic isolation device is provided between the base and a foundation fixed to a building, and the seismic isolation device is configured to absorb and attenuate horizontal vibration. The horizontal seismic isolation mechanism is activated when the acceleration of the horizontal vibration of the substructure is greater than a predetermined horizontal acceleration, and when the acceleration of the horizontal vibration is smaller than the predetermined horizontal acceleration. Is configured to not work, Serial predetermined acceleration is set to be larger than the horizontal acceleration of the vibration of the vibration isolation possible the object divided insulating member by the vibration damping device unit. Therefore, when a horizontal vibration that is greater than the acceleration of the horizontal vibration of the vibration-isolated object that can be removed by the vibration-isolating device portion occurs, the vibration is absorbed and attenuated by the seismic isolation device portion. Even if a large vibration such as an earthquake is applied, the vibration isolation operation can be maintained, and breakage of the actuator and the like constituting the vibration isolation device can be prevented.
【0052】また、本発明は、基台上において上下及び
水平方向に移動可能に支持され被除振体が取付けられる
定盤と、前記定盤の上下及び水平方向の加速度を検出
し、検出した上下及び水平方向の加速度に対応して前記
定盤を変位することにより、前記被除振体の上下及び水
平方向の微振動を除去する除振装置部とを備えたアクテ
ィブ型除振装置において、前記基台と建築物に対して固
定された基礎構造体との間に免震装置部を設け、前記免
震装置部は上下方向の振動を吸収して減衰させるように
構成された上下免震機構と水平方向の振動を吸収して減
衰させるように構成された水平免震機構を備え、前記上
下免震機構は前記基礎構造体の上下方向の振動の加速度
が上下所定加速度よりも大きいときに作動し、前記上下
方向の振動の加速度が前記上下所定加速度よりも小さい
ときに作動しないように構成され、前記水平免震機構は
前記基礎構造体の水平方向の振動の加速度が水平所定加
速度よりも大きいときに作動し、前記水平方向の振動の
加速度が前記水平所定加速度よりも小さいときに作動し
ないように構成され、前記上下所定加速度は前記除振装
置部によって除振可能な前記被除振体の水平方向の振動
の加速度よりも大きく設定され、前記水平所定加速度は
前記除振装置部によって除振可能な前記被除振体の水平
方向の振動の加速度よりも大きく設定されている。その
ため、除振装置部によって除振可能な前記被除振体の上
下、水平方向の振動の加速度よりも大きい上下、水平方
向の振動が発生した場合、その振動は免震装置部によっ
て吸収して減衰されるので、地震などの大振動が加わっ
ても除振動作を維持することが可能で、かつ、除振装置
部を構成するアクチュエータなどの破損を防止すること
ができる。Further, according to the present invention, there is provided a base plate which is supported on a base so as to be movable in the vertical and horizontal directions and to which an anti-vibration body is attached, and the vertical and horizontal accelerations of the base plate are detected and detected. By displacing the surface plate in response to vertical and horizontal acceleration, the active vibration isolator having a vibration isolator unit for removing fine vibration in the vertical and horizontal directions of the vibration receiving body, A seismic isolation device is provided between the base and a base structure fixed to a building, and the seismic isolation device is configured to absorb and attenuate vertical vibrations. A mechanism and a horizontal seismic isolation mechanism configured to absorb and attenuate horizontal vibrations, wherein the vertical seismic isolation mechanism is used when the acceleration of vertical vibration of the substructure is greater than a predetermined vertical acceleration. Activate the acceleration of the vertical vibration The horizontal seismic isolation mechanism is configured not to operate when the vertical acceleration is smaller than the predetermined acceleration, and operates when the horizontal vibration acceleration of the substructure is greater than the horizontal predetermined acceleration, and Is not activated when the acceleration of the object is smaller than the predetermined horizontal acceleration, and the predetermined vertical acceleration is set to be larger than the acceleration of the horizontal vibration of the object to be removed which can be removed by the vibration removing device. The predetermined horizontal acceleration is set to be larger than the acceleration of horizontal vibration of the object to be removed which can be removed by the vibration removing device. Therefore, when vibrations in the vertical and horizontal directions, which are larger than the acceleration of the vibration in the horizontal direction, occur in the vertical direction of the object to be vibration-isolated by the vibration isolation device, the vibration is absorbed by the vibration isolation device. Since the vibration is attenuated, it is possible to maintain the vibration isolation operation even when a large vibration such as an earthquake is applied, and it is possible to prevent the actuators constituting the vibration isolation device from being damaged.
【図1】本発明のアクティブ型除振装置の第1の実施の
形態における概略構成を示す縦断面図である。FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing a schematic configuration of a first embodiment of an active vibration isolator according to the present invention.
【図2】図1をAA線断面からみた状態を示す説明図で
ある。FIG. 2 is an explanatory diagram showing a state where FIG. 1 is viewed from a cross section taken along line AA.
【図3】図1のBB線断面線断面からみた状態を示す説
明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram showing a state viewed from a cross section taken along a line BB of FIG. 1;
【図4】第1の実施の形態における第1調整手段の構成
を示す説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram illustrating a configuration of a first adjustment unit according to the first embodiment.
【図5】第1の実施の形態における免震装置部の要部の
構成を示す説明図である。FIG. 5 is an explanatory diagram illustrating a configuration of a main part of a seismic isolation device according to the first embodiment.
【図6】第2の実施の形態を説明する図であり、第1の
実施の形態を示す図3に対応する説明図である。FIG. 6 is a diagram for explaining the second embodiment, and is an explanatory diagram corresponding to FIG. 3 showing the first embodiment.
【図7】第3の実施の形態のアクティブ型除振装置にお
ける免震装置部の構成を示す縦断面図である。FIG. 7 is a longitudinal sectional view illustrating a configuration of a seismic isolation device in an active vibration isolation device according to a third embodiment.
【図8】図7のCC線断面からみた状態を示す説明図で
ある。FIG. 8 is an explanatory diagram showing a state viewed from a cross section taken along line CC of FIG. 7;
【図9】図7のDD線断面からみた状態を示す説明図で
ある。FIG. 9 is an explanatory diagram showing a state viewed from a DD line cross section in FIG. 7;
1000 アクティブ型除振装置 10 床(基礎構造体) 120 第1ベース板(水平振動吸収手段) 200 基台 210 第1アクチュエータ 220 第2アクチュエータ 300 定盤 400 免震装置部 600 除振装置部 1000 Active-type anti-vibration device 10 Floor (foundation structure) 120 First base plate (horizontal vibration absorbing means) 200 Base 210 First actuator 220 Second actuator 300 Surface plate 400 Seismic isolation device section 600 Anti-vibration device section
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) // G01N 13/10 H01L 41/08 C (72)発明者 増田 圭司 東京都渋谷区千駄ヶ谷四丁目6番15号 株 式会社フジタ内 Fターム(参考) 3J048 AA02 AB11 AC01 AC08 BA02 BB10 BC08 BE02 BE12 CB07 DA03 EA13 5F046 AA23 DA04 DB14 DC14 Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification FI FI Theme Court II (Reference) // G01N 13/10 H01L 41/08 C (72) Inventor Keiji Masuda 4-6-115 Sendagaya Shibuya-ku Tokyo F term in Fujita formula company (reference) 3J048 AA02 AB11 AC01 AC08 BA02 BB10 BC08 BE02 BE12 CB07 DA03 EA13 5F046 AA23 DA04 DB14 DC14
Claims (16)
可能に支持され被除振体が取付けられる定盤と、前記定
盤の上下及び水平方向の加速度を検出し、検出した上下
及び水平方向の加速度に対応して前記定盤を変位するこ
とにより、前記被除振体の上下及び水平方向の微振動を
除去する除振装置部とを備えたアクティブ型除振装置に
おいて、 前記基台と建築物に対して固定された基礎構造体との間
に免震装置部を設け、 前記免震装置部は上下方向の振動を吸収して減衰させる
ように構成された上下免震機構を備え、 前記上下免震機構は前記基礎構造体の上下方向の振動の
加速度が上下所定加速度よりも大きいときに作動し、前
記上下方向の振動の加速度が前記上下所定加速度よりも
小さいときに作動しないように構成され、 前記上下所定加速度は前記除振装置部によって除振可能
な前記被除振体の上下方向の振動の加速度よりも大きく
設定されている、 ことを特徴とするアクティブ型除振装置。1. A base plate on which a vibration damping body is mounted and supported on a base so as to be movable in the vertical and horizontal directions, detecting vertical and horizontal accelerations of the base plate, and detecting the detected vertical and horizontal directions. By displacing the surface plate corresponding to the acceleration of, the active type vibration isolator having a vibration isolator section for removing fine vibrations in the vertical and horizontal directions of the vibration-isolated body, the base and A seismic isolation device is provided between the base structure fixed to the building, and the seismic isolation device includes a vertical seismic isolation mechanism configured to absorb and attenuate vertical vibrations, The vertical seismic isolation mechanism is activated when the acceleration of the vertical vibration of the substructure is greater than a predetermined vertical acceleration, and is not activated when the acceleration of the vertical vibration is smaller than the predetermined vertical acceleration. The upper and lower predetermined Speed is set to be larger than the vertical acceleration of the vibration of the vibration isolation possible the object divided insulating member by the vibration damping device unit, it active anti-vibration apparatus according to claim.
可能に支持され被除振体が取付けられる定盤と、前記定
盤の上下及び水平方向の加速度を検出し、検出した上下
及び水平方向の加速度に対応して前記定盤を変位するこ
とにより、前記被除振体の上下及び水平方向の微振動を
除去する除振装置部とを備えたアクティブ型除振装置に
おいて、 前記基台と建築物に対して固定された基礎構造体との間
に免震装置部を設け、 前記免震装置部は水平方向の振動を吸収して減衰させる
ように構成された水平免震機構を備え、 前記水平免震機構は前記基礎構造体の水平方向の振動の
加速度が水平所定加速度よりも大きいときに作動し、前
記水平方向の振動の加速度が前記水平所定加速度よりも
小さいときに作動しないように構成され、 前記水平所定加速度は前記除振装置部によって除振可能
な前記被除振体の水平方向の振動の加速度よりも大きく
設定されている、 ことを特徴とするアクティブ型除振装置。2. A base plate on which a vibration-absorbing body is mounted movably in the vertical and horizontal directions on a base, detecting vertical and horizontal accelerations of the base plate and detecting the detected vertical and horizontal directions. By displacing the surface plate corresponding to the acceleration of, the active type vibration isolator having a vibration isolator section for removing fine vibrations in the vertical and horizontal directions of the vibration-isolated body, the base and A seismic isolation device is provided between the base structure fixed to the building and the seismic isolation device includes a horizontal seismic isolation mechanism configured to absorb and attenuate horizontal vibrations, The horizontal seismic isolation mechanism is activated when the acceleration of the horizontal vibration of the substructure is greater than a predetermined horizontal acceleration, and is not activated when the acceleration of the horizontal vibration is smaller than the predetermined horizontal acceleration. The said predetermined horizontal Speed is set to be larger than the horizontal acceleration of the vibration of the vibration isolation possible the object divided insulating member by the vibration damping device unit, it active anti-vibration apparatus according to claim.
可能に支持され被除振体が取付けられる定盤と、前記定
盤の上下及び水平方向の加速度を検出し、検出した上下
及び水平方向の加速度に対応して前記定盤を変位するこ
とにより、前記被除振体の上下及び水平方向の微振動を
除去する除振装置部とを備えたアクティブ型除振装置に
おいて、 前記基台と建築物に対して固定された基礎構造体との間
に免震装置部を設け、 前記免震装置部は上下方向の振動を吸収して減衰させる
ように構成された上下免震機構と水平方向の振動を吸収
して減衰させるように構成された水平免震機構を備え、 前記上下免震機構は前記基礎構造体の上下方向の振動の
加速度が上下所定加速度よりも大きいときに作動し、前
記上下方向の振動の加速度が前記上下所定加速度よりも
小さいときに作動しないように構成され、 前記水平免震機構は前記基礎構造体の水平方向の振動の
加速度が水平所定加速度よりも大きいときに作動し、前
記水平方向の振動の加速度が前記水平所定加速度よりも
小さいときに作動しないように構成され、 前記上下所定加速度は前記除振装置部によって除振可能
な前記被除振体の水平方向の振動の加速度よりも大きく
設定され、 前記水平所定加速度は前記除振装置部によって除振可能
な前記被除振体の水平方向の振動の加速度よりも大きく
設定されている、 ことを特徴とするアクティブ型除振装置。3. A base plate on which a vibration-isolated body is mounted movably in the vertical and horizontal directions on a base, detecting vertical and horizontal accelerations of the base plate, and detecting the detected vertical and horizontal directions. By displacing the surface plate corresponding to the acceleration of, the active type vibration isolator having a vibration isolator section for removing fine vibrations in the vertical and horizontal directions of the vibration-isolated body, the base and A seismic isolation device is provided between a base structure fixed to a building, and the seismic isolation device includes a vertical seismic isolation mechanism configured to absorb and attenuate vertical vibrations and a horizontal seismic isolation mechanism. A horizontal seismic isolation mechanism configured to absorb and attenuate the vibration of the vertical seismic isolation mechanism, wherein the vertical seismic isolation mechanism operates when the acceleration of vertical vibration of the substructure is greater than a predetermined vertical acceleration. The vertical vibration acceleration is equal to the vertical The horizontal seismic isolation mechanism is configured to operate when the acceleration of the horizontal vibration of the substructure is greater than a predetermined horizontal acceleration, and the horizontal vibration isolation mechanism is configured to not operate when the acceleration of the horizontal vibration is smaller than the predetermined acceleration. It is configured not to operate when it is smaller than the horizontal predetermined acceleration, and the vertical predetermined acceleration is set to be larger than the acceleration of horizontal vibration of the vibration-removed body that can be vibration-removed by the vibration-removing device unit, The active vibration isolation device, wherein the horizontal predetermined acceleration is set to be greater than the acceleration of horizontal vibration of the vibration isolation member that can be isolated by the vibration isolation device.
する相対的な前記基台の上下方向の振動を吸収する上下
振動吸収手段と、前記基礎構造体に対する相対的な前記
基台の上下移動に対する復元力を発生するための上下復
元力発生手段とを備えたことを特徴とする請求項1また
は3記載のアクティブ型除振装置。4. The vertical seismic isolation mechanism absorbs vertical vibration of the base relative to the base structure, and vertical vibration absorbing means, and moves the base vertically relative to the base structure. 4. An active vibration isolator according to claim 1, further comprising a vertical restoring force generating means for generating a restoring force for the vibration.
する相対的な前記基台の水平方向の振動を吸収する水平
振動吸収手段と、前記基礎構造体に対する相対的な前記
基台の水平移動に対する復元力を発生するための水平復
元力発生手段とを備えたことを特徴とする請求項2また
は3記載のアクティブ型除振装置。5. The horizontal seismic isolation mechanism includes horizontal vibration absorbing means for absorbing horizontal vibration of the base relative to the base structure, and horizontal movement of the base relative to the base structure. 4. An active vibration isolator according to claim 2, further comprising a horizontal restoring force generating means for generating a restoring force for the vibration.
すべり面を備え、前記すべり面間に働く摩擦力は前記す
べり面を該すべり面と平行方向に相対的に変位させる力
が所定の大きさよりも小さい場合には前記すべり面は互
いに変位せず、前記力が所定の大きさよりも大きい場合
に前記すべり面が互いに変位するように構成され、それ
によって前記上下免震機構が、前記基礎構造体の上下方
向の振動の加速度が前記所定加速度よりも大きいときに
作動し、前記上下方向の振動の加速度が前記所定加速度
よりも小さいときに作動しないように構成したことを特
徴とする請求項4記載のアクティブ型除振装置。6. The vertical vibration absorbing means has a sliding surface that comes into contact with each other, and a frictional force acting between the sliding surfaces is larger than a predetermined magnitude of a force that relatively displaces the sliding surface in a direction parallel to the sliding surface. Is smaller, the slip surfaces are not displaced from each other, and when the force is larger than a predetermined magnitude, the slip surfaces are displaced from each other. 5. The apparatus according to claim 4, wherein the apparatus is configured to be activated when the acceleration of the vertical vibration is larger than the predetermined acceleration, and not to be activated when the acceleration of the vertical vibration is smaller than the predetermined acceleration. Active vibration isolator.
すべり面を備え、前記すべり面間に働く摩擦力は前記す
べり面を該すべり面と平行方向に相対的に変位させる力
が所定の大きさよりも小さい場合には前記すべり面は互
いに変位せず、前記力が所定の大きさよりも大きい場合
に前記すべり面が互いに変位するように構成され、それ
によって前記水平免震機構が、前記基礎構造体の水平方
向の振動の加速度が前記所定加速度よりも大きいときに
作動し、前記水平方向の振動の加速度が前記所定加速度
よりも小さいときに作動しないように構成したことを特
徴とする請求項5記載のアクティブ型除振装置。7. The horizontal vibration absorbing means includes slip surfaces that come into contact with each other, and a frictional force acting between the slip surfaces is greater than a predetermined magnitude of a force that relatively displaces the slip surfaces in a direction parallel to the slip surfaces. When the force is larger than a predetermined magnitude, the slip surfaces are not displaced with each other, and when the force is greater than a predetermined magnitude, the slip surfaces are displaced with each other. 6. The apparatus according to claim 5, wherein the apparatus operates when the acceleration of the horizontal vibration is larger than the predetermined acceleration, and does not operate when the acceleration of the horizontal vibration is smaller than the predetermined acceleration. Active vibration isolator.
構成され、前記摩擦ダンパは該摩擦ダンパに加わる上下
方向の振動の加速度が前記所定加速度よりも大きいとき
に作動し、前記上下方向の振動の加速度が前記所定加速
度よりも小さいときに作動しないように構成されている
ことを特徴とする請求項4記載のアクティブ型除振装
置。8. The vertical vibration absorbing means comprises a friction damper. The friction damper operates when an acceleration of the vertical vibration applied to the friction damper is larger than the predetermined acceleration, and the friction damper operates to absorb the vertical vibration. The active vibration isolator according to claim 4, wherein the active vibration isolator is configured not to operate when the acceleration is smaller than the predetermined acceleration.
構成され、前記摩擦ダンパは前記基礎構造体の水平方向
の振動の加速度が前記所定加速度よりも大きいときに作
動し、前記水平方向の振動の加速度が前記所定加速度よ
りも小さいときに作動しないように構成されていること
を特徴とする請求項5記載のアクティブ型除振装置。9. The horizontal vibration absorbing means comprises a friction damper, and the friction damper operates when an acceleration of the horizontal vibration of the substructure is greater than the predetermined acceleration. 6. The active vibration damping device according to claim 5, wherein the device is not activated when the acceleration is smaller than the predetermined acceleration.
前記基礎構造体の間に配設された空気ばね及びコイルば
ねの少なくとも一方を有して構成されていることを特徴
とする請求項4、6または8記載のアクティブ型除振装
置。10. The vertical restoring force generating member includes at least one of an air spring and a coil spring disposed between the base and the substructure. 9. The active vibration isolator according to 4, 6, or 8.
前記基礎構造体の間に設けられ、前記被除振体を含む前
記定盤と前記基台の重量を、前記基台が上下動できる状
態で支えるように構成されていることを特徴とする請求
項4、6または8記載のアクティブ型除振装置。11. The vertical restoring force generating member is provided between the base and the base structure, and controls the weight of the base and the base including the vibration-isolated body, and allows the base to move up and down. The active vibration isolator according to claim 4, 6 or 8, wherein the active vibration isolator is configured to be supported in a state where it can be carried out.
前記基礎構造体の間に配設された空気ばね及びコイルば
ねの少なくとも1つを有して構成されていることを特徴
とする請求項5、7または9記載のアクティブ型除振装
置。12. The horizontal restoring force generating member includes at least one of an air spring and a coil spring disposed between the base and the substructure. Item 10. The active vibration isolator according to any one of Items 5, 7, and 9.
前記基礎構造体の間に配設された免震支持ユニットを有
して構成され、前記免震支持ユニットはゴム板と鋼板と
を交互に積層して形成されていることを特徴とする請求
項5、7または9記載のアクティブ型除振装置。13. The horizontal restoring force generating member includes a seismic isolation support unit disposed between the base and the base structure, and the seismic isolation support unit includes a rubber plate and a steel plate. 10. The active vibration isolator according to claim 5, wherein the active vibration isolator is formed by alternately stacking.
の検出は振動センサによって行われ、前記定盤の上下及
び水平方向への変位は前記基台と定盤との間に設けられ
た第1、第2アクチュエータによって行われ、前記第1
アクチュエータと前記定盤の間には前記第1アクチュエ
ータに作用するせん断力を吸収する第1弾性体が設けら
れ、前記第2アクチュエータと前記定盤の間には前記第
2アクチュエータに作用するせん断力を吸収する第2弾
性体が設けられていることを特徴とする請求項1乃至1
3に何れか1項記載のアクティブ型除振装置。14. Detection of vertical and horizontal acceleration of the surface plate is performed by a vibration sensor, and displacement of the surface plate in the vertical and horizontal directions is detected by a vibration sensor provided between the base and the surface plate. 1, performed by a second actuator, the first
A first elastic body is provided between the actuator and the surface plate for absorbing a shear force acting on the first actuator, and a shear force acting on the second actuator is provided between the second actuator and the surface plate. 2. A second elastic body for absorbing the pressure is provided.
3. The active vibration damping device according to any one of 3.
体アクチュエータから構成されており、前記基台に設け
られ、前記第1アクチュエータを保持するとともに、非
駆動状態の前記第1アクチュエータがその変位方向にお
いて前記定盤から受ける予圧縮力を調整する第1調整手
段と、前記基台に設けられ、前記第2アクチュエータを
保持するとともに、非駆動状態の前記第2アクチュエー
タがその変位方向において前記定盤から受ける予圧縮力
を調整する第2調整手段とを備えることを特徴とする請
求項14記載のアクティブ型除振装置。15. The first and second actuators are formed of solid actuators, are provided on the base, hold the first actuator, and move the non-driven first actuator in the direction of displacement thereof. First adjusting means for adjusting a pre-compression force received from the surface plate; and a second actuator provided on the base and holding the second actuator, wherein the second actuator in a non-driven state is displaced from the surface plate in a displacement direction thereof. The active vibration isolator according to claim 14, further comprising: a second adjusting unit that adjusts the received pre-compression force.
チュエータまたはピエゾアクチュエータであることを特
徴とする請求項15記載のアクティブ型除振装置。16. The active vibration isolator according to claim 15, wherein said solid actuator is a giant magnetostrictive actuator or a piezo actuator.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10287440A JP2000120765A (en) | 1998-10-09 | 1998-10-09 | Active vibration isolation device |
Applications Claiming Priority (1)
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| JP10287440A JP2000120765A (en) | 1998-10-09 | 1998-10-09 | Active vibration isolation device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000120765A true JP2000120765A (en) | 2000-04-25 |
Family
ID=17717359
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| JP10287440A Pending JP2000120765A (en) | 1998-10-09 | 1998-10-09 | Active vibration isolation device |
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