[go: up one dir, main page]

JP2000131830A - Heat mode sensitive image forming element for manufacture of positive working printing plate - Google Patents

Heat mode sensitive image forming element for manufacture of positive working printing plate

Info

Publication number
JP2000131830A
JP2000131830A JP10387599A JP10387599A JP2000131830A JP 2000131830 A JP2000131830 A JP 2000131830A JP 10387599 A JP10387599 A JP 10387599A JP 10387599 A JP10387599 A JP 10387599A JP 2000131830 A JP2000131830 A JP 2000131830A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
heat mode
imaging element
printing plate
top layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP10387599A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2000131830A5 (en
Inventor
Eric Verschueren
エリク・ベルシユエレン
Peter Geerts
ペーター・ゲールツ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Agfa Gevaert NV
Original Assignee
Agfa Gevaert NV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Agfa Gevaert NV filed Critical Agfa Gevaert NV
Publication of JP2000131830A publication Critical patent/JP2000131830A/en
Publication of JP2000131830A5 publication Critical patent/JP2000131830A5/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a heat mode image forming element for the manufacture of a planographic printing plate having a wide development latitude, high resolution and improved vertical conveyability. SOLUTION: The heat mode image forming element has a 1st layer containing a polymer soluble in an aqueous alkaline solution on a planographic printing base having a hydrophilic surface and a top layer on the 1st layer side of the base. The top layer is sensitive to IR and impermeable to an alkaline developer. The 1st layer and the top layer may be formed as one layer. The top layer contains a compound that enhances the coefficient of dynamic friction of the top layer to 0.40-0.80.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の分野】本発明はIR感受性最上層を含む平版印
刷版の作製のためのヒートモード画像形成要素に関す
る。さらに特定的には、本発明は、より良い垂直輸送性
(vertical transport)を有する平
版印刷版の作製のためのヒートモード画像形成要素に関
する。
FIELD OF THE INVENTION This invention relates to heat mode imaging elements for making lithographic printing plates containing an IR sensitive top layer. More specifically, the present invention relates to heat mode imaging elements for making lithographic printing plates with better vertical transport.

【0002】[0002]

【発明の背景】平版印刷は、そのいくらかの領域が平版
印刷インキを受容することができるが、他の領域は水で
湿らされるとインキを受容しない特別に作られた表面か
らの印刷の方法である。インキを受容する領域は印刷画
像領域を形成し、インキ−反発性領域は背景領域を形成
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION Lithographic printing is a method of printing from a specially made surface in which some areas can receive lithographic printing ink, while others do not receive the ink when wetted with water. It is. The areas that receive ink form the printed image areas and the ink-repellent areas form the background areas.

【0003】写真平版印刷の技術分野の場合、写真材料
は、露光された領域において(ネガティブ−作用性)又
は非露光領域において(ポジティブ−作用性)、親水性
背景上で画像通りに油性又は脂性インキに対して受容性
とされる。
In the field of photolithographic printing, photographic materials are image-wise oily or greasy on a hydrophilic background, in exposed areas (negative-working) or in unexposed areas (positive-working). Receptive to ink.

【0004】表面平版印刷版(surface lit
ho plates)又はプラノグラフィ印刷版(pl
anographic printing plate
s)とも呼ばれる通常の平版印刷版の作製の場合、水に
対して親和性を有するか又は化学的処理によりそのよう
な親和性を得る支持体に感光性組成物の薄層がコーティ
ングされる。その目的のためのコーティングにはジアゾ
化合物、ジクロム酸塩−増感親水性コロイド及び多様な
合成感光性樹脂を含有する感光性ポリマー層が含まれ
る。特にジアゾ−増感系が広く用いられる。
[0004] Surface lithographic printing plate (surface lit)
ho plates) or planographic printing plates (pl
ananographic printing plate
In the preparation of conventional lithographic printing plates, also referred to as s), a thin layer of the photosensitive composition is coated on a support that has an affinity for water or obtains such an affinity by chemical treatment. Coatings for that purpose include photopolymer layers containing diazo compounds, dichromate-sensitized hydrophilic colloids and various synthetic photopolymers. In particular, diazo-sensitized systems are widely used.

【0005】感光層が画像通りに露出されると、露出さ
れた画像領域は不溶性となり、非露出領域は溶解性のま
ま残る。次いで版は適した液を用いて現像され、非露出
領域のジアゾニウム塩又はジアゾ樹脂が除去される。
When the photosensitive layer is image-wise exposed, the exposed image areas become insoluble and the non-exposed areas remain soluble. The plate is then developed using a suitable solution to remove the diazonium salt or diazo resin in unexposed areas.

【0006】別の場合、画像通りに露出されると露出さ
れた領域において可溶性とされる感光性コーティングを
含む印刷版が既知である。その場合、続く現像は露出さ
れた領域を除去する。そのような感光性コーティングの
典型的例はキノン−ジアジドに基づくコーティングであ
る。
[0006] In another case, printing plates are known that contain a photosensitive coating that is made soluble in the exposed areas when exposed image-wise. In that case, subsequent development removes the exposed areas. A typical example of such a photosensitive coating is a quinone-diazide based coating.

【0007】典型的には、それから印刷版が作製される
上記の写真材料は、平版印刷法において再現されるべき
画像を含有する写真フィルムを介してカメラ−露出され
る。そのような作業法はやっかいであり、労働集約的で
ある。しかし他方、かくして得られる印刷版は優れた平
版印刷の質のものである。
Typically, the photographic material from which the printing plate is made is camera-exposed through a photographic film containing the image to be reproduced in a lithographic printing process. Such work practices are cumbersome and labor intensive. On the other hand, however, the printing plates thus obtained are of excellent lithographic quality.

【0008】かくして上記の方法において写真フィルム
の必要を除き、特に再現されるべき画像を示すコンピュ
ーターデータから直接印刷版を得るための試みが成され
てきた。しかし感光性コーティングはレーザーを用いて
直接露出されるのに十分に感受性ではない。従って感光
性コーティングの上にハロゲン化銀層をコーティングす
ることが提案された。次いでハロゲン化銀をコンピュー
ターの制御下でレーザーを用いて直接露出することがで
きる。続いてハロゲン化銀層を現像して感光性コーティ
ングの上に銀画像を残す。次いでその銀画像は感光性コ
ーティングの全体的露出においてマスクとして働く。全
体的露出の後、銀画像は除去され、感光性コーテイング
が現像される。そのような方法は例えばJP−A−60
−61752に開示されているが、複雑な現像及びそれ
に伴う現像液が必要であるという欠点を有する。
Thus, attempts have been made to obtain printing plates directly from computer data representing the image to be reproduced, except for the need for photographic film in the above method. However, the photosensitive coating is not sensitive enough to be directly exposed using a laser. It has therefore been proposed to coat a silver halide layer over the photosensitive coating. The silver halide can then be directly exposed using a laser under computer control. The silver halide layer is subsequently developed to leave a silver image on the photosensitive coating. The silver image then serves as a mask in the overall exposure of the photosensitive coating. After overall exposure, the silver image is removed and the photosensitive coating is developed. Such a method is described, for example, in JP-A-60.
Although it is disclosed in US Pat. No. 6,617,52, it has the disadvantage of requiring complex development and an associated developer.

【0009】GB−1 492 070は、金属層又は
カーボンブラックを含有する層を感光性コーティング上
に設ける方法を開示している。次いでこの金属層をレー
ザーを用いて融蝕し、感光層上の画像マスクを得る。次
いで感光層を画像マスクを介してUV−光により全体的
に露出する。画像マスクの除去の後、感光層を現像して
印刷版を得る。しかしこの方法は感光層の現像の前にや
っかいな処理により画像マスクを除去しなければならな
いという欠点をまだ有している。
GB-1 492 070 discloses a method of providing a metal layer or a layer containing carbon black on a photosensitive coating. Next, the metal layer is ablated using a laser to obtain an image mask on the photosensitive layer. The photosensitive layer is then entirely exposed by UV-light through an image mask. After removing the image mask, the photosensitive layer is developed to obtain a printing plate. However, this method still has the disadvantage that the image mask must be removed by a cumbersome process before developing the photosensitive layer.

【0010】さらに、感光性ではなく感熱性である画像
形成要素の使用を含む印刷版の作製のための方法が既知
である。印刷版の作製のための上記のような感光性画像
形成要素の特別な欠点は、それを光から遮蔽しなければ
ならないことである。さらにそれらは保存安定性の観点
で感度の問題を有し、それらは比較的低い解像度を示
す。明らかに市場で、ヒートモード印刷版前駆体に向か
う傾向が見られる。
[0010] In addition, methods are known for making printing plates that involve the use of imaging elements that are heat-sensitive rather than light-sensitive. A particular disadvantage of the photosensitive imaging element as described above for the preparation of a printing plate is that it must be shielded from light. Furthermore, they have sensitivity problems in terms of storage stability, and they exhibit relatively low resolution. There is a clear trend in the market towards heat mode printing plate precursors.

【0011】例えば1992年1月のResearch
Disclosure no.33303は、熱可塑
性ポリマー粒子及び赤外吸収性顔料、例えばカーボンブ
ラックを含有する架橋された親水性層を支持体上に含む
ヒートモード画像形成要素を開示している。赤外レーザ
ーに画像通りに露出することにより、熱可塑性ポリマー
粒子が画像通りに凝析し、それによりこれらの領域にお
いて画像形成要素の表面を、さらなる現像なしでインキ
受容性とする。この方法の欠点は、得られる印刷版が容
易に損傷を受けることであり、それはそこにいくらかの
圧力が加えられると非−印刷領域がインキ−受容性とな
り得るからである。さらに限界的条件下で、そのような
印刷版の平板印刷性能は劣り得、従ってそのような印刷
版はほとんど平版印刷寛容度を有していない。
For example, Research in January 1992
Disclosure no. No. 33303 discloses a heat mode imaging element comprising on a support a crosslinked hydrophilic layer containing thermoplastic polymer particles and an infrared absorbing pigment such as carbon black. Imagewise exposure to the infrared laser causes the thermoplastic polymer particles to coagulate imagewise, thereby rendering the surface of the imaging element ink-receptive in these areas without further development. A disadvantage of this method is that the resulting printing plate is easily damaged, since the non-printed areas can become ink-receptive if some pressure is applied thereto. Furthermore, under marginal conditions, the lithographic performance of such printing plates can be poor, and thus such printing plates have little lithographic latitude.

【0012】US−P−4 708 925は、アルカ
リ−可溶性ノボラック樹脂及びオニウム−塩を含有する
感光性組成物を含む画像形成要素を開示している。この
組成物は場合によりIR−増感剤を含有することができ
る。該画像形成要素をUV−可視−又はIR−線に画像
通りに露出し、水性アルカリ液を用いる現像段階が続い
た後、ポジティブ又はネガティブ作用性印刷版が得られ
る。該画像形成要素の照射及び現像により得られる平版
印刷版の印刷結果は劣っている。
US-P-4 708 925 discloses an imaging element comprising a photosensitive composition containing an alkali-soluble novolak resin and an onium-salt. The composition may optionally contain an IR-sensitizer. After exposing the imaging element imagewise to UV-visible- or IR-rays and following a development step with an aqueous alkaline solution, a positive- or negative-working printing plate is obtained. The printing results of the lithographic printing plate obtained by irradiation and development of the imaging element are inferior.

【0013】EP−A−625 728は、UV−及び
IR−線に感受性である層を含み、ポジティブもしくは
ネガティブ作用性であることができる画像形成要素を開
示している。この層はレゾール樹脂、ノボラック樹脂、
潜在的ブレンステッド酸及びIR−吸収性物質を含む。
該画像形成要素の照射及び現像により得られる平版印刷
版の印刷結果は劣っている。
[0013] EP-A-625 728 discloses an imaging element comprising a layer which is sensitive to UV- and IR-radiation and which can be positive or negative working. This layer is made of resole resin, novolak resin,
Includes potential Bronsted acids and IR-absorbing materials.
The printing results of the lithographic printing plate obtained by irradiation and development of the imaging element are inferior.

【0014】US−P−5 340 699は、EP−
A−625 728とほとんど同じであるが、ネガティ
ブ作用性IR−レーザー記録画像形成要素を得るための
方法を開示している。IR−感受性層はレゾール樹脂、
ノボラック樹脂、潜在的ブレンステッド酸及びIR−吸
収性物質を含む。該画像形成要素の照射及び現像により
得られる平版印刷版の印刷結果は劣っている。
US-P-5 340 699 is EP-
Almost the same as A-625 728, but discloses a method for obtaining a negative working IR-laser recording imaging element. The IR-sensitive layer is a resole resin,
Includes novolak resins, latent Bronsted acids and IR-absorbing materials. The printing results of the lithographic printing plate obtained by irradiation and development of the imaging element are inferior.

【0015】さらにEP−A−678 380は、レー
ザー−融蝕可能な表面層の下の粗面化された金属支持体
上に保護層を設ける方法を開示している。画像通りに露
出されると表面層は保護層のいくらかの部分と同様に完
全に融蝕される。次いで印刷版を清浄化液で処理し、保
護層の残りを除去し、それにより親水性表面層を露出す
る。
Further, EP-A-678 380 discloses a method of providing a protective layer on a roughened metal support under a laser-ablationable surface layer. Upon image-wise exposure, the surface layer is completely ablated as well as some portions of the protective layer. The printing plate is then treated with a cleaning liquid to remove the remainder of the protective layer, thereby exposing the hydrophilic surface layer.

【0016】EP−A−823 327は、露出された
部分と露出されない部分の間でアルカリ性現像液中にお
ける溶解度の差を示すポジティブ感光性組成物を開示し
ており、それは溶解度の差を誘導する成分として(a)
光−熱変換材料及び(b)アルカリ現像液中におけるそ
の溶解度が主に化学的変化以外の変化により変わり得る
高分子量化合物を含んでいる。
EP-A-823 327 discloses a positive photosensitive composition which exhibits a difference in solubility in an alkaline developer between exposed and unexposed parts, which induces a difference in solubility. (A) as an ingredient
It contains a light-to-heat conversion material and (b) a high molecular weight compound whose solubility in an alkali developer can be changed mainly by changes other than chemical changes.

【0017】EP−A−830 941は、親油性表面
を有する柔軟性支持体上に、(i)放射線を熱に変換で
きる光から熱への変換物質を含有する記録層ならびに
(ii)疎油性表面層を有し、該疎油性表面層及び該記
録層は同じ層であることができるヒートモード記録材料
であり、該材料の他の側の上における該材料の動摩擦係
数が2.6以下であることを特徴とするヒートモード記
録材料を開示している。
EP-A-830 941 describes a recording medium containing (i) a light-to-heat converting substance capable of converting radiation into heat, and (ii) an oleophobic compound on a flexible support having a lipophilic surface. A heat mode recording material having a surface layer, wherein the oleophobic surface layer and the recording layer can be the same layer, wherein the material has a coefficient of kinetic friction of 2.6 or less on the other side of the material. A heat mode recording material is disclosed.

【0018】FR−A−1 561 957は、情報の
フォーム下で電磁線に感受性の記録材料を露出する段階
を含むことを特徴とする情報を記録又は再現するための
方法を開示しており、この記録材料は、結合剤ならびに
該結合剤中に分散された液体及び/又は固体を含有する
少なくとも1つの記録層を含んでおり、該液体及び/又
は固体は結合剤より疎水性であり、加熱されると少なく
とも部分的に結合剤と一緒に相溶性混合物を形成し、そ
の混合物の光に関する透明度は加熱前の分散体より向上
しており、この記録材料は光を熱に変換できる化合物も
含んでいる。
FR-A-1 561 957 discloses a method for recording or reproducing information, comprising exposing a recording material sensitive to electromagnetic radiation under a form of information, The recording material includes a binder and at least one recording layer containing a liquid and / or solid dispersed in the binder, wherein the liquid and / or solid is more hydrophobic than the binder, When formed, a compatible mixture is formed at least partially with the binder, the mixture having a higher light transparency than the dispersion before heating, and the recording material also contains a compound capable of converting light to heat. In.

【0019】EP−A−97 200 588.8は、
親水性表面を有する平版ベース上に水性アルカリ性溶液
中に可溶性のポリマーを含む中間層及びIR−線に感受
性の最上層を含み、ここで該最上層はIR−線に露出さ
れると水性アルカリ性溶液により浸透及び/又は可溶化
される容量が減少するか又は増加する、平版印刷版の作
製のためのヒートモード画像形成要素を開示している。
EP-A-97 200 588.8 describes
An interlayer comprising a polymer soluble in an aqueous alkaline solution and a top layer sensitive to IR radiation on a lithographic base having a hydrophilic surface, wherein the top layer is exposed to IR radiation when exposed to an aqueous alkaline solution. Disclose heat mode imaging elements for making lithographic printing plates wherein the volume permeated and / or solubilized is reduced or increased.

【0020】EP−A−97 203 129.8及び
EP−A−97 203 132.2は、親水性表面を
有する平版印刷ベース及び最上層から成るヒートモード
画像形成要素を開示しており、その最上層はIR−線に
感受性であり、水性アルカリ性溶液中に可溶性のポリマ
ーを含み、ケイ酸塩としてのSiO2を含有するアルカ
リ性現像液に関して非浸透性である。
EP-A-97 203 129.8 and EP-A-97 203 132.2 disclose a heat mode imaging element consisting of a lithographic base having a hydrophilic surface and a top layer, the the top layer is sensitive to IR- line comprises a polymer soluble in aqueous alkaline solutions, a non-permeable with respect to an alkaline developer containing SiO 2 as silicate.

【0021】該最後の3つのヒートモード画像形成要素
は、その垂直輸送性が製造、生産において、画像形成装
置において、プロセッサにおいて及び他の版の取り扱い
装置において完全ではないという欠点を有する。該問題
のための解決案はその真価が評価されるであろう。
The last three heat mode imaging elements have the disadvantage that their vertical transportability is not perfect in manufacturing, production, in imaging equipment, in processors and in other plate handling equipment. A solution to the problem will be valued.

【0022】[0022]

【発明の目的】本発明の目的は、広い現像の寛容度(l
attitude)を有する平版印刷版の作製のための
ヒートモード画像形成要素を提供することである。
It is an object of the present invention to provide a wide development latitude (l).
It is to provide a heat mode imaging element for the preparation of a lithographic printing plate having an attitude.

【0023】本発明の目的は、高い解像度を有する平版
印刷版の作製のためのヒートモード画像形成要素を提供
することである。
It is an object of the present invention to provide a heat mode imaging element for making a lithographic printing plate having a high resolution.

【0024】さらに本発明の目的は、向上した垂直輸送
性を有する平版印刷版の作製のためのヒートモード画像
形成要素を提供することである。
It is a further object of the present invention to provide a heat mode imaging element for making a lithographic printing plate having improved vertical transport.

【0025】本発明のさらなる目的は、下記の記載から
明らかになるであろう。
Further objects of the present invention will become clear from the description hereinafter.

【0026】[0026]

【発明の概略】本発明に従えば、親水性表面を有する平
版印刷ベース上に、水性アルカリ性溶液中に可溶性のポ
リマーを含む第1層ならびに平版印刷ベースの第1層と
同じ側の上の最上層を有し、その最上層はIR−感受性
で且つアルカリ性現像液に関して非浸透性であり、該第
1層及び該最上層は1つの同じ層であることができる平
版印刷版の作製のためのヒートモード画像形成要素であ
って;該最上層が最上層の動摩擦係数を0.40〜0.
80に向上させる化合物を含有していることを特徴とす
るヒートモード画像形成要素が提供される。
SUMMARY OF THE INVENTION In accordance with the present invention, a first layer containing a polymer soluble in an aqueous alkaline solution and a top layer on the same side of the lithographic base as the first layer are provided on a lithographic base having a hydrophilic surface. A top layer, the top layer of which is IR-sensitive and impermeable to an alkaline developer, wherein said first layer and said top layer can be one and the same layer for making a lithographic printing plate. A heat mode imaging element; wherein the top layer has a kinetic coefficient of friction of the top layer of 0.40-0.
A heat mode imaging element is provided, which contains a compound that improves to 80.

【0027】[0027]

【発明の詳細な記述】最上層は第2層とも呼ばれる。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The top layer is also called the second layer.

【0028】動摩擦係数(dynamic or ki
netic coefficient of fric
tion)(μk)は標準ASTM D1894に従っ
て測定され、それによってヒートモード記録材料は、材
料の前面がステンレススチールと接触するように置かれ
る。前面とは材料において、柔軟性支持体に関して最上
層を保有している側を意味する。
Dynamic friction coefficient (dynamic or ki)
netic coefficient of fric
k ) is measured according to standard ASTM D1894, whereby the heat mode recording material is placed such that the front side of the material is in contact with stainless steel. Front side means the side of the material that carries the top layer with respect to the flexible support.

【0029】0.40〜0.80に動摩擦係数を向上さ
せるために用いることができる適した化合物はポリテト
ラフルオロエチレン−ポリエチレンのコポリマーであ
る。他の適した化合物はシロキサン結合が3次元的に延
び、ケイ素原子がメチル基を例とする1つの有機基に結
合している3次元構造を有する水に不溶性の無機化合物
である。該後者の物質はTOSPEARLTM(Tosh
iba,Japanの登録商品名)の名前の下に商業的
に販売されている。他の適した化合物はシリカ粒子、好
ましくは補足的シリカ粒子もしくはオルトシリケートと
混合されている疎水性セラミックス、硫酸バリウム及び
ケイ素−艶消粒子である。該粒子の平均直径は好ましく
は0.3μm〜50μmの範囲内である。該化合物は好
ましくは10〜800mg/m2、より好ましくは20
〜400mg/m2の量で用いられる。
Suitable compounds which can be used to increase the coefficient of kinetic friction to 0.40 to 0.80 are polytetrafluoroethylene-polyethylene copolymers. Other suitable compounds are water-insoluble inorganic compounds having a three-dimensional structure in which the siloxane bonds extend three-dimensionally and the silicon atom is bonded to one organic group, such as a methyl group. The latter substance is known as TOSPEARL (Tosh
iba, Japan). Other suitable compounds are hydrophobic ceramics, barium sulphate and silicon-matte particles which are mixed with silica particles, preferably supplemental silica particles or orthosilicate. The average diameter of the particles is preferably in the range from 0.3 μm to 50 μm. The compound is preferably 10~800mg / m 2, more preferably 20
Used in an amount of 400400 mg / m 2 .

【0030】第1の実施態様の場合、第1層及び最上層
は異なる。該実施態様では、親水性表面を有する平版印
刷ベース上に、水性アルカリ性溶液中に可溶性のポリマ
ーを含む第1層ならびに平版印刷ベースの第1層と同じ
側の上の最上層を有し、その最上層はIR−線に感受性
であり且つアルカリ性現像液に関して非浸透性である平
版印刷版の作製のためのヒートモード画像形成要素を提
供する。
In the case of the first embodiment, the first layer and the top layer are different. In this embodiment, a lithographic base having a hydrophilic surface has a first layer comprising a polymer soluble in an aqueous alkaline solution and a top layer on the same side of the lithographic base as the first layer, The top layer provides a heat mode imaging element for making a lithographic printing plate that is sensitive to IR radiation and is impervious to alkaline developers.

【0031】本発明に従う最上層はIR−色素もしくは
顔料及び結合剤樹脂を含む。IR−色素もしくは顔料の
混合物を用いることができるが、1種類のみのIR−色
素もしくは顔料を用いるのが好ましい。好ましくは該I
R−色素はIR−シアニン色素である。特に有用なIR
−シアニン色素は少なくとも2つの酸基、より好ましく
は少なくとも2つのスルホン基を有するシアニン色素で
ある。さらにもっと好ましいのは2つのインドレニン及
び少なくとも2つのスルホン酸基を有するシアニン色素
である。最も好ましいのは下記の構造を有する化合物I
である。
The top layer according to the invention comprises an IR-dye or pigment and a binder resin. Mixtures of IR-dyes or pigments can be used, but it is preferred to use only one type of IR-dye or pigment. Preferably said I
The R-dye is an IR-cyanine dye. Particularly useful IR
The cyanine dye is a cyanine dye having at least two acid groups, more preferably at least two sulfone groups. Even more preferred are cyanine dyes having two indolenines and at least two sulfonic acid groups. Most preferred are compounds I having the structure
It is.

【0032】[0032]

【化1】 特に有用なIR−吸収性顔料は、カーボンブラック、金
属炭化物、ホウ化物、窒化物、炭化窒化物、ブロンズ−
構造酸化物及びブロンズ群に構造的に関連しているがA
成分がない酸化物、例えばWO2.9である。導電性ポ
リマー分散液、例えばポリピロールもしくはポリアニリ
ンに基づく導電性ポリマー分散液を用いることもでき
る。得られる平版印刷性能及び特に印刷耐久性は画像形
成要素の感熱性に依存する。これに関し、カーボンブラ
ックが非常に優れ且つ好ましい結果を与えることが見い
だされた。
Embedded image Particularly useful IR-absorbing pigments are carbon black, metal carbides, borides, nitrides, carbonitrides, bronze-
Structurally related to structural oxides and bronze groups,
An oxide having no component, for example, WO2.9. Conductive polymer dispersions, such as those based on polypyrrole or polyaniline, can also be used. The lithographic performance obtained, and especially the printing durability, depends on the heat sensitivity of the imaging element. In this regard, it has been found that carbon black gives very good and favorable results.

【0033】IR−吸収性色素もしくは顔料は好ましく
は該IR−感受性最上層の合計量の1〜99重量部、よ
り好ましくは50〜95重量部の量で存在する。
The IR-absorbing dye or pigment is preferably present in an amount of 1 to 99 parts by weight, more preferably 50 to 95 parts by weight of the total amount of said IR-sensitive top layer.

【0034】最上層は好ましくは結合剤として水に不溶
性のポリマー、例えばセルロースエステル、塩化ビニリ
デンとアクリロニトリルのコポリマー、ポリ(メタ)ア
クリレート、ポリ塩化ビニル、シリコーン樹脂などを含
むことができる。結合剤として好ましいのはニトロセル
ロース樹脂である。
The top layer can preferably contain as binder a water-insoluble polymer such as a cellulose ester, a copolymer of vinylidene chloride and acrylonitrile, poly (meth) acrylate, polyvinyl chloride, a silicone resin and the like. Preferred as a binder is a nitrocellulose resin.

【0035】最上層の合計量は好ましくは0.05〜1
0g/m2、より好ましくは0.1〜2g/m2の範囲で
ある。
The total amount of the uppermost layer is preferably 0.05 to 1
0 g / m 2, more preferably in the range of 0.1-2 g / m 2.

【0036】画像通りに露出されると、最上層におい
て、水性アルカリ性溶液により浸透及び/又は可溶化さ
れる容量における差が本発明のアルカリ性現像液に関し
て生まれる。
When exposed image-wise, in the top layer, differences in the volume permeated and / or solubilized by the aqueous alkaline solution are created for the alkaline developers of the present invention.

【0037】本発明の場合、画像通りにIR露出される
と、現像の間に非画像形成部分を可溶化したり及び/又
は損傷を与えたりせずに画像形成された部分が清浄化さ
れる程度まで該容量が増加する。
In the present invention, image-wise IR exposure cleans the imaged portions without solubilizing and / or damaging the non-imaged portions during development. The capacity increases to the extent.

【0038】水性アルカリ性溶液を用いる現像は好まし
くは5〜120秒の間隔内に行われる。
The development with the aqueous alkaline solution preferably takes place within an interval of 5 to 120 seconds.

【0039】最上層及び平版ベースの間に本発明は、優
先的に(preferentially)7.5〜14
のpHを有する水性アルカリ性現像液中に可溶性の第1
層を含む。該層は好ましくは最上層に連続しているが、
最上層と第1層の間に他の層が存在することができる。
この層において用いられるアルカリ可溶性結合剤は好ま
しくは通常のポジティブ又はネガティブ作用性PS−版
で用いられるような疎水性結合剤、例えばノボラックポ
リマー、ヒドロキシスチレン単位を含有するポリマー、
カルボキシ置換ポリマーなどである。これらのポリマー
の典型的例はDE−A−4 007 428、DE−A
−4 027 301及びDE−A−4445 820
に記載されている。本発明と関連して用いられる疎水性
結合剤はさらに、水中における不溶性及びアルカリ性溶
液中における部分的な可溶性/膨潤性及び/又は補助溶
媒と組み合わされた場合の水中における部分的な可溶性
を特徴としている。
The present invention preferentially between the top layer and the lithographic base is 7.5-14.
First soluble in an aqueous alkaline developer having a pH of
Including layers. The layer is preferably continuous with the top layer,
Other layers can be present between the top layer and the first layer.
The alkali-soluble binders used in this layer are preferably hydrophobic binders such as those used in conventional positive- or negative-acting PS-plates, such as novolak polymers, polymers containing hydroxystyrene units,
And carboxy-substituted polymers. Typical examples of these polymers are DE-A-4 007 428, DE-A
-4 027 301 and DE-A-4445 820
It is described in. The hydrophobic binders used in connection with the present invention are further characterized by insolubility in water and partial solubility / swellability in alkaline solutions and / or partial solubility in water when combined with cosolvents. I have.

【0040】さらにこのアルカリ水溶液可溶性層は好ま
しくは可視光−及びUV−光減感層である。該層は好ま
しくは熱的に硬膜可能である。この好適に可視光−及び
UV−減感されている層は、250nm〜650nmの
波長領域内で吸収する感光性成分、例えばジアゾ化合
物、フォトアシッド(photoacids)、光開始
剤、キノンジアジド類、増感剤などを含まない。この方
法で昼光に安定な印刷版を得ることができる。
Further, the alkali aqueous solution-soluble layer is preferably a visible light- and UV-light desensitizing layer. The layer is preferably thermally curable. The preferably visible- and UV-desensitized layers comprise photosensitive components that absorb in the wavelength range from 250 nm to 650 nm, such as diazo compounds, photoacids, photoinitiators, quinonediazides, sensitizers. Does not contain any agents. In this way, a printing plate stable in daylight can be obtained.

【0041】該第1層は好ましくは低分子量の酸、好ま
しくはカルボン酸、さらにもっと好ましくは安息香酸、
最も好ましくは3,4,5−トリメトキシ安息香酸ある
いはベンゾフェノンも含む。
The first layer is preferably a low molecular weight acid, preferably a carboxylic acid, even more preferably benzoic acid.
Most preferably, it also contains 3,4,5-trimethoxybenzoic acid or benzophenone.

【0042】第1層における低分子量の酸又はベンゾフ
ェノンの合計量対ポリマーの比率は好ましくは2:98
〜40:60、より好ましくは5:95〜20:80の
範囲である。該第1層の合計量は好ましくは0.1〜1
0g/m2、より好ましくは0.3〜2g/m2の範囲で
ある。
The ratio of the total amount of low molecular weight acid or benzophenone to polymer in the first layer is preferably 2:98.
-40: 60, more preferably 5: 95-20: 80. The total amount of the first layer is preferably 0.1 to 1
0 g / m 2, more preferably from 0.3 to 2 g / m 2.

【0043】本発明の画像形成要素において、すべての
実施態様の場合に平版印刷ベースは陽極酸化されたアル
ミニウムであることができる。特に好ましい平版印刷ベ
ースは電気化学的に粗面化され、陽極酸化されたアルミ
ニウム支持体である。陽極酸化されたアルミニウム支持
体を処理してその表面の親水性を向上させることができ
る。例えばアルミニウム支持体を例えば95℃などの高
められた温度でケイ酸ナトリウム溶液を用いてその表面
を処理することによりケイ酸塩化することができる。別
の場合、リン酸塩処理を施すことができ、それは酸化ア
ルミニウム表面をリン酸塩溶液で処理することを含み、
リン酸塩溶液はさらに無機フッ化物を含有していること
ができる。さらに酸化アルミニウム表面をクエン酸又は
クエン酸塩溶液で濯ぐことができる。この処理は室温で
行うことができるか又は約30〜50℃というわずかに
高められた温度で行うことができる。さらに興味深い処
理は酸化アルミニウム表面を重炭酸塩溶液で濯ぐことを
含む。さらに、酸化アルミニウム表面をポリビニルホス
ホン酸、ポリビニルメチルホスホン酸、ポリビニルアル
コールのリン酸エステル、ポリビニルスルホン酸、ポリ
ビニルベンゼンスルホン酸、ポリビニルアルコールの硫
酸エステル及びスルホン化脂肪族アルデヒドとの反応に
より生成するポリビニルアルコールのアセタールを用い
て処理することができる。これらの後処理の1つ又はそ
れ以上を単独で又は組み合わせて行うことができること
はさらに明らかである。これらの処理のもっと詳細な記
載はGB−A−1 084 070、DE−A−4 4
23 140、DE−A−4417 907、EP−A
−659 909、EP−A−537 633、DE−
A−4 001 466、EP−A−292 801、
EP−A−291 760及びUS−P−4 458
005に示されている。
In the imaging element of the present invention, the lithographic base for all embodiments can be anodized aluminum. A particularly preferred lithographic base is an electrochemically roughened, anodized aluminum support. The anodized aluminum support can be treated to increase its surface hydrophilicity. For example, an aluminum support can be silicated by treating its surface with a sodium silicate solution at an elevated temperature, for example, 95 ° C. In another case, a phosphating can be performed, which comprises treating the aluminum oxide surface with a phosphating solution,
The phosphate solution may further contain an inorganic fluoride. Further, the aluminum oxide surface can be rinsed with a citric acid or citrate solution. This treatment can be performed at room temperature or at a slightly elevated temperature of about 30-50 ° C. A further interesting treatment involves rinsing the aluminum oxide surface with a bicarbonate solution. In addition, polyvinyl phosphonic acid, polyvinyl methyl phosphonic acid, polyvinyl alcohol, phosphate ester of polyvinyl alcohol, polyvinyl sulfonic acid, polyvinyl benzene sulfonic acid, polyvinyl alcohol formed by reaction with sulfate ester of sulfonated aliphatic alcohol and sulfonated aliphatic aldehyde. It can be processed using acetal. It is further apparent that one or more of these post-treatments can be performed alone or in combination. A more detailed description of these processes is given in GB-A-1 084 070, DE-A-44.
23 140, DE-A-4417 907, EP-A
−659 909, EP-A-537 633, DE−
A-4001 466, EP-A-292 801;
EP-A-291 760 and US-P-4 458
005.

【0044】本発明と関連する他の様式に従うと、親水
性表面を有する平版印刷ベースはすべての実施態様の場
合に、柔軟性支持体、例えば架橋された親水性層が設け
られた紙又はプラスチックフィルムを含む。特に適した
架橋された親水性層は、ホルムアルデヒド、グリオキサ
ル、ポリイソシアナート又は加水分解されたテトラ−ア
ルキルオルトシリケートなどの架橋剤を用いて架橋され
た親水性結合剤から得ることができる。後者が特に好ま
しい。
According to another mode in connection with the present invention, a lithographic base having a hydrophilic surface is, in all embodiments, a flexible support, such as paper or plastic provided with a cross-linked hydrophilic layer. Including film. Particularly suitable cross-linked hydrophilic layers can be obtained from hydrophilic binders cross-linked with cross-linking agents such as formaldehyde, glyoxal, polyisocyanate or hydrolyzed tetra-alkyl orthosilicate. The latter is particularly preferred.

【0045】親水性結合剤として親水性(コ)ポリマ
ー、例えばビニルアルコール、アクリルアミド、メチロ
ールアクリルアミド、メチロールメタクリルアミド、ア
クリレート酸(acrylate acid)、メタク
リレート酸(methacrylate acid)、
ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタ
クリレートのホモポリマー及びコポリマーあるいは無水
マレイン酸/ビニルメチルエーテルコポリマーを用いる
ことができる。用いられる(コ)ポリマー又は(コ)ポ
リマー混合物の親水度は好ましくは、少なくとも60重
量パーセント、好ましくは80重量パーセントの程度ま
で加水分解されたポリ酢酸ビニルの親水度と同じか又は
それより高い。
As the hydrophilic binder, hydrophilic (co) polymers such as vinyl alcohol, acrylamide, methylolacrylamide, methylolmethacrylamide, acrylate acid, methacrylate acid,
Homopolymers and copolymers of hydroxyethyl acrylate and hydroxyethyl methacrylate or maleic anhydride / vinyl methyl ether copolymer can be used. The hydrophilicity of the (co) polymer or (co) polymer mixture used is preferably the same or higher than that of the polyvinyl acetate hydrolyzed to at least 60% by weight, preferably to the extent of 80% by weight.

【0046】架橋剤、特にテトラアルキルオルトシリケ
ートの量は好ましくは親水性結合剤の重量部当たり少な
くとも0.2重量部、より好ましくは0.5〜5重量
部、最も好ましくは1.0重量部〜3重量部である。
The amount of crosslinker, especially tetraalkyl orthosilicate, is preferably at least 0.2 parts by weight, more preferably 0.5 to 5 parts by weight, most preferably 1.0 part by weight per part by weight of hydrophilic binder. 33 parts by weight.

【0047】本実施態様に従って用いられる平版印刷ベ
ースの架橋された親水性層は好ましくは、層の機械的強
度及び多孔度を向上させる物質も含有する。この目的で
コロイドシリカを用いることができる。用いられるコロ
イドシリカは例えば最高40nm、例えば20nmの平
均粒度を有するコロイドシリカのいずれの商業的に入手
可能な水−分散液の形態であることもできる。さらにコ
ロイドシリカより大きな寸法の不活性粒子、例えばJ.
Colloid and InterfaceSc
i.,Vol.26,1968,pages 62 t
o 69に記載されている通りStOEberに従って
調製されるシリカあるいはアルミナ粒子あるいは二酸化
チタン又は他の重金属酸化物の粒子である少なくとも1
00nmの平均直径を有する粒子を加えることができ
る。これらの粒子の導入により、架橋された親水性層の
表面に顕微鏡的丘と谷から成る均一な粗いきめが与えら
れ、それは背景領域における水のための保存場所として
働く。
The lithographic base crosslinked hydrophilic layer used in accordance with this embodiment preferably also contains substances that enhance the mechanical strength and porosity of the layer. Colloidal silica can be used for this purpose. The colloidal silica used can be in the form of any commercially available water-dispersion of colloidal silica having, for example, an average particle size of up to 40 nm, for example 20 nm. In addition, inert particles of larger dimensions than colloidal silica, for example J.I.
Colloid and InterfaceSc
i. , Vol. 26, 1968, pages 62 t
o at least one of silica or alumina particles or particles of titanium dioxide or other heavy metal oxides prepared according to StOEber as described in 69.
Particles having an average diameter of 00 nm can be added. The introduction of these particles gives the surface of the cross-linked hydrophilic layer a uniform rough texture consisting of microscopic hills and valleys, which serves as a storage for water in the background areas.

【0048】本実施態様に従う平版印刷ベースの架橋さ
れた親水性層の厚さは0.2〜25μmの範囲内で変化
することができ、好ましくは1〜10μmである。
The thickness of the lithographic base crosslinked hydrophilic layer according to this embodiment can vary within the range of 0.2 to 25 μm, preferably 1 to 10 μm.

【0049】本発明に従って用いるために適した架橋さ
れた親水性層の特定の例は、EP−A−601 24
0、GB−P−1 419 512、FR−P−2 3
00354、US−P−3 971 660、US−P
−4 284 705及びEP−A 514 490に
開示されている。
A specific example of a cross-linked hydrophilic layer suitable for use in accordance with the present invention is described in EP-A-601 24
0, GB-P-1 419 512, FR-P-23
00354, US-P-3 971 660, US-P
-4 284 705 and EP-A 514 490.

【0050】本実施態様と関連する平版印刷ベースの柔
軟性支持体としてプラスチックフィルム、例えば、基質
化ポリエチレンテレフタレートフィルム、基質化ポリエ
チレンナフタレートフィルム、酢酸セルロースフィル
ム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム
などを用いるのが特に好ましい。プラスチックフィルム
支持体は不透明又は透明であることができる。
As the lithographic printing base flexible support relating to this embodiment, a plastic film such as a substrate-based polyethylene terephthalate film, a substrate-based polyethylene naphthalate film, a cellulose acetate film, a polystyrene film, a polycarbonate film and the like can be used. Particularly preferred. The plastic film support can be opaque or transparent.

【0051】接着促進層が設けられたポリエステルフィ
ルム支持体を用いるのが特に好ましい。本発明に従って
用いるのに特に適した接着促進層は、EP−A−619
524、EP−A−620 502及びEP−A−6
19 525に開示されているような親水性結合剤及び
コロイドシリカを含む。好ましくは接着促進層中のシリ
カの量は200mg/m2〜750mg/m2である。さ
らにシリカ対親水性結合剤の比率は好ましくは1より高
く、コロイドシリカの表面積は好ましくは少なくとも3
00m2/g、より好ましくは少なくとも500m2/g
である。
It is particularly preferable to use a polyester film support provided with an adhesion promoting layer. Particularly suitable adhesion promoting layers for use in accordance with the present invention are EP-A-619.
524, EP-A-620 502 and EP-A-6
A hydrophilic binder and colloidal silica as disclosed in US Pat. Preferably the amount of silica in the adhesion improving layer is between 200mg / m 2 ~750mg / m 2 . Furthermore, the ratio of silica to hydrophilic binder is preferably higher than 1, and the surface area of the colloidal silica is preferably at least 3
00 m 2 / g, more preferably at least 500 m 2 / g
It is.

【0052】第2の実施態様では第1層及び第2層が同
じである。該実施態様の場合、親水性表面を有する平版
印刷ベース上に、IR−線に感受性であり且つ水性アル
カリ性溶液に可溶性のポリマーを含み、アルカリ性現像
液に関して非浸透性である最上層を有する平版印刷版の
作製のためのヒートモード画像形成要素を提供する。
In the second embodiment, the first and second layers are the same. In this embodiment, a lithographic printing plate having a top layer comprising a polymer sensitive to IR radiation and soluble in an aqueous alkaline solution, and impermeable to an alkaline developer, on a lithographic printing base having a hydrophilic surface. A heat mode imaging element for making a plate is provided.

【0053】本発明に従うIR−感受性層はIR−色素
もしくは顔料及び水性アルカリ性溶液中に可溶性のポリ
マーを含む。IR−色素もしくは顔料の混合物を用いる
ことができるが、1種類のみのIR−色素もしくは顔料
を用いるのが好ましい。適したIR−色素及び顔料は本
発明の第1の実施態様において上記で挙げたものであ
る。
The IR-sensitive layer according to the invention comprises an IR-dye or pigment and a polymer soluble in an aqueous alkaline solution. Mixtures of IR-dyes or pigments can be used, but it is preferred to use only one type of IR-dye or pigment. Suitable IR-dyes and pigments are those listed above in the first embodiment of the present invention.

【0054】IR−色素は好ましくは該IR−感受性最
上層の合計量の1〜60重量部、より好ましくは3〜5
0重量部の量で存在する。
The IR-dye is preferably 1 to 60 parts by weight, more preferably 3 to 5 parts by weight of the total amount of said IR-sensitive top layer.
It is present in an amount of 0 parts by weight.

【0055】この層において用いられるアルカリ可溶性
ポリマーは好ましくは通常のポジティブ又はネガティブ
作用性PS−版で用いられるような疎水性及びインキ受
容性ポリマー、例えばカルボキシ置換ポリマーなどであ
る。より好ましいのはフェノール性樹脂、例えばヒドロ
キシスチレン単位含有ポリマー又はノボラックポリマー
である。最も好ましいのはノボラックポリマーである。
これらのポリマーの典型的例はDE−A−4 007
428、DE−A−4 027 301及びDE−A−
4 445 820に記載されている。本発明と関連し
て用いられる疎水性ポリマーはさらに、水中における不
溶性及びアルカリ性溶液中における少なくとも部分的な
可溶性/膨潤性及び/又は補助溶媒と組み合わされた場
合の水中における少なくとも部分的な可溶性を特徴とし
ている。
The alkali-soluble polymers used in this layer are preferably hydrophobic and ink-receptive polymers such as those used in conventional positive- or negative-acting PS-plates, such as carboxy-substituted polymers. More preferred are phenolic resins, for example polymers containing hydroxystyrene units or novolak polymers. Most preferred are novolak polymers.
Typical examples of these polymers are DE-A-4 007
428, DE-A-4 027 301 and DE-A-
4 445 820. The hydrophobic polymers used in connection with the present invention are further characterized by insolubility in water and at least partial solubility / swelling in alkaline solutions and / or at least partial solubility in water when combined with cosolvents. And

【0056】さらにこのIR−感受性層は好ましくは可
視光−及びUV−光減感層である。さらに該層は好まし
くは熱的に硬膜可能である。この好適に可視光−及びU
V−光減感されている層は、250nm〜650nmの
波長領域内で吸収する感光性成分、例えばジアゾ化合
物、フォトアシッド、光開始剤、キノンジアジド類、増
感剤などを含まない。この方法で昼光に安定な印刷版を
得ることができる。
Furthermore, the IR-sensitive layer is preferably a visible- and UV-light desensitizing layer. Furthermore, the layer is preferably thermally curable. This preferably visible light-and U
The V-photodesensitized layer does not contain photosensitive components that absorb in the wavelength range of 250 nm to 650 nm, such as diazo compounds, photoacids, photoinitiators, quinonediazides, sensitizers, and the like. In this way, a printing plate stable in daylight can be obtained.

【0057】該IR−感受性層は好ましくは低分子量の
酸、好ましくはカルボン酸、さらにもっと好ましくは安
息香酸、最も好ましくは3,4,5−トリメトキシ安息
香酸あるいはベンゾフェノン、より好ましくはトリヒド
ロキシベンゾフェノンも含む。
The IR-sensitive layer is preferably a low molecular weight acid, preferably a carboxylic acid, even more preferably benzoic acid, most preferably 3,4,5-trimethoxybenzoic acid or benzophenone, more preferably trihydroxybenzophenone. Including.

【0058】IR−感受性層における低分子量の酸又は
ベンゾフェノンの合計量対ポリマーの比率は好ましくは
2:98〜40:60、より好ましくは5:95〜3
0:70の範囲である。該IR−感受性層の合計量は好
ましくは0.1〜10g/m2、より好ましくは0.3
〜2g/m2の範囲である。
The ratio of the total amount of low molecular weight acid or benzophenone to polymer in the IR-sensitive layer is preferably from 2:98 to 40:60, more preferably from 5:95 to 3
The range is 0:70. The total amount of said IR-sensitive layer is preferably 0.1 to 10 g / m 2 , more preferably 0.3
22 g / m 2 .

【0059】画像通りに露出されると、IR−感受性層
において、アルカリ性現像液により浸透及び/又は可溶
化される容量における差が本発明のアルカリ性現像液に
関して生まれる。
When image-wise exposed, differences in the volume permeated and / or solubilized by the alkaline developer in the IR-sensitive layer are created for the alkaline developer of the present invention.

【0060】平版印刷版の作製のためには、ヒートモー
ド画像形成要素を画像通りに露出し、現像する。
To prepare a lithographic printing plate, the heat mode imaging element is imagewise exposed and developed.

【0061】本発明と関連する画像通りの露出は、赤外
又は近−赤外、すなわち700〜1500nmの波長領
域で働くレーザーの使用を含む画像通りの走査露出であ
る。最も好ましいのは近−赤外で発光するレーザーダイ
オードである。画像形成要素の露出は短い画素滞留時間
を有するレーザーならびに長い画素滞留時間を有するレ
ーザーを用いて行うことができる。好ましいのは0.0
05μ秒〜20μ秒の画素滞留時間を有するレーザーで
ある。
Image-wise exposure in connection with the present invention is infrared or near-infrared, ie, an image-wise scanning exposure involving the use of a laser operating in the wavelength region of 700-1500 nm. Most preferred are laser diodes that emit in the near-infrared. Exposure of the imaging element can be performed using a laser having a short pixel dwell time as well as a laser having a long pixel dwell time. Preferred is 0.0
A laser with a pixel dwell time of between 05 μs and 20 μs.

【0062】画像通りの露出の後、ヒートモード画像形
成要素は水性アルカリ性溶液でそれを濯ぐことにより現
像される。本発明で用いられる水性アルカリ性溶液は、
通常のポジティブ作用性予備増感印刷版の現像に用いら
れ、好ましくはケイ酸塩としてのSiO2を含有し、好
ましくは11.5〜14のpHを有するものである。か
くして露出されて水性アルカリ性溶液に関してより浸透
性とされた最上層の画像形成された部分は清浄化され、
それによりポジティブ作用性印刷版が得られる。
After image-wise exposure, the heat mode imaging element is developed by rinsing it with an aqueous alkaline solution. The aqueous alkaline solution used in the present invention,
Used for the development of normal positive working presensitised printing plates, preferably containing SiO 2 as silicates, preferably having a pH of from 11.5 to 14. The imaged portion of the top layer thus exposed and made more permeable to the aqueous alkaline solution is cleaned,
This gives a positive working printing plate.

【0063】本発明の場合、用いられる現像液の組成も
非常に重要である。
In the case of the present invention, the composition of the developer used is also very important.

【0064】従って長時間安定して現像処理を行うため
に特に重要なことは、現像液中のアルカリの濃度及びケ
イ酸塩の濃度などの質である。そのような状況下で本発
明者等は、前記の組成を有する現像液を用いた場合のみ
に迅速高温処理を行うことができ、補足されるべき補充
液の量が少なく、現像液を交換せずに3カ月以上もの長
期間に及んで安定した現像処理を行うことができること
を見いだした。
Therefore, what is particularly important for stable development for a long time is the quality such as the concentration of alkali and the concentration of silicate in the developer. Under such circumstances, the present inventors can carry out rapid high-temperature processing only when a developer having the above composition is used, the amount of replenisher to be supplemented is small, and the developer must be replaced. It has been found that stable development can be carried out over a long period of three months or more without any problem.

【0065】好ましくは本発明で用いられる現像液及び
現像液のための補充液は、主にアルカリ金属ケイ酸塩及
びMOHにより示されるアルカリ金属水酸化物又はM2
Oにより示されるその酸化物を含む水溶液であり、ここ
で該現像液は0.5〜1.5のモル比でSiO2及びM2
Oを含み、SiO2の濃度は0.5〜5重量%である。
そのようなアルカリ金属ケイ酸塩として好適に用いられ
るのは例えばケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ
酸リチウム及びメタケイ酸ナトリウムである。他方、そ
のようなアルカリ金属水酸化物として好ましいのは水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム及び水酸化リチウムであ
る。
Preferably, the developing solution used in the present invention and the replenisher for the developing solution are mainly alkali metal silicate and alkali metal hydroxide represented by MOH or M 2.
An aqueous solution containing its oxides, represented by O, wherein the developer is SiO 2 and M 2 in a molar ratio of 0.5 to 1.5.
O is contained, and the concentration of SiO 2 is 0.5 to 5% by weight.
Suitable as such alkali metal silicates are, for example, sodium silicate, potassium silicate, lithium silicate and sodium metasilicate. On the other hand, preferred as such alkali metal hydroxides are sodium hydroxide, potassium hydroxide and lithium hydroxide.

【0066】本発明で用いられる現像液は同時に他のア
ルカリ性試薬を含有することができる。そのような他の
アルカリ性試薬の例には水酸化アンモニウム、第三リン
酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、第三リン酸カリ
ウム、第二リン酸カリウム、第三リン酸アンモニウム、
第二リン酸アンモニウム、重炭酸ナトリウム、炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム及び炭酸アンモニウムなどの無機
アルカリ性試薬;ならびにモノ−、ジ−もしくはトリエ
タノールアミン、モノ−、ジ−もしくはトリメチルアミ
ン、モノ−、ジ−もしくはトリエチルアミン、モノ−も
しくはジ−イソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モ
ノ−、ジ−もしくはトリイソプロパノールアミン、エチ
レンイミン、エチレンジイミン及びテトラメチルアンモ
ニウムヒドロキシドなどの有機アルカリ性試薬が含まれ
る。
The developer used in the present invention can simultaneously contain another alkaline reagent. Examples of such other alkaline reagents are ammonium hydroxide, sodium triphosphate, sodium diphosphate, potassium triphosphate, potassium diphosphate, ammonium triphosphate,
Inorganic alkaline reagents such as ammonium diphosphate, sodium bicarbonate, sodium carbonate, potassium carbonate and ammonium carbonate; and mono-, di- or triethanolamine, mono-, di- or trimethylamine, mono-, di- or triethylamine And organic alkaline reagents such as mono- or di-isopropylamine, n-butylamine, mono-, di- or triisopropanolamine, ethyleneimine, ethylenediimine and tetramethylammonium hydroxide.

【0067】本発明の場合、現像液中の[SiO2]/
[M2O]のモル比が特に重要であり、それは一般に
0.6〜1.5、好ましくは0.7〜1.3である。こ
れはもしモル比が0.6より低いと活性の大きなばらつ
きが観察され、一方もしそれが1.5を越えると迅速現
像を行うのが困難になり、非画像領域上の感光層の溶出
又は除去が不完全でありがちなためである。さらに現像
液及び補充液中のSiO2の濃度は好ましくは1〜4重
量%の範囲である。SiO2の濃度のそのような制限
は、大量の本発明の版を長期間処理した場合でも優れた
仕上げの質を有する平版印刷版を安定して与えることを
可能にする。
In the case of the present invention, [SiO 2 ] /
The molar ratio of [M 2 O] is particularly important, it is generally 0.6 to 1.5, preferably from 0.7 to 1.3. This means that if the molar ratio is lower than 0.6, a large variation in activity is observed, whereas if it exceeds 1.5, rapid development becomes difficult, and the elution of the photosensitive layer on non-image areas or This is because the removal tends to be incomplete. Further concentration of SiO 2 in the developer and replenisher preferably ranges from 1 to 4 wt%. Such limitation of the concentration of SiO 2 makes it possible to provide large amounts of stable lithographic printing plates having good finishing qualities even when treated prolonged present invention.

【0068】特に好ましい実施態様の場合、1.0〜
1.5の範囲のモル比[SiO2]/[M2O]及び1〜
4重量%のSiO2の濃度を有するアルカリ金属ケイ酸
塩の水溶液が現像液として用いられる。そのような場
合、現像液のアルカリ濃度と等しいか又はそれより高い
アルカリ濃度を有する補充液が用いられるのはもちろん
である。供給されるべき補充液の量を減少させるため
に、補充液のモル比[SiO 2]/[M2O]が現像液の
それと等しいか又はそれより小さいことあるいは現像液
のモル比が補充液のそれと等しい場合はSiO2の濃度
が高いことが有利である。
In a particularly preferred embodiment, 1.0 to
A molar ratio [SiO 2 in the range of 1.5Two] / [MTwoO] and 1 to 1
4% by weight SiOTwoMetal silicic acid having a concentration of
An aqueous salt solution is used as a developer. Such a place
Is equal to or higher than the alkali concentration of the developer
Of course, replenishers with alkaline concentrations are used
It is. To reduce the amount of replenisher to be supplied
In addition, the molar ratio of the replenisher [SiO Two] / [MTwoO] of the developer
Less than or equal to or developer
If the molar ratio ofTwoConcentration of
Is advantageously high.

【0069】本発明で用いられる現像液及び補充液にお
いて、20℃における水中の溶解度が10重量%以下の
有機溶剤を必要に従って同時に用いることができる。そ
のような有機溶剤の例は、酢酸エチル、酢酸プロピル、
酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸ベンジル、エチレングリ
コールモノブチルアセテート、乳酸ブチル及びレブリン
酸ブチルなどのカルボン酸エステル類;エチルブチルケ
トン、メチルイソブチルケトン及びシクロヘキサノンな
どのケトン類;エチレングリコールモノブチルエーテ
ル、エチレングリコールベンジルエーテル、エチレング
リコールモノフェニルエーテル、ベンジルアルコール、
メチルフェニルカルビノール、n−アミルアルコール及
びメチルアミルアルコールなどのアルコール類;キレシ
ンなどのアルキル−置換芳香族炭化水素;ならびにメチ
レンジクロリド及びモノクロロベンゼンなどのハロゲン
化炭化水素である。これらの有機溶剤は単独で又は組み
合わせて用いることができる。本発明において特に好ま
しいのはベンジルアルコールである。これらの有機溶剤
は一般に5重量%以下、好ましくは4重量%以下の量で
現像液又はそのための補充液に加えられる。
In the developing solution and the replenisher used in the present invention, an organic solvent having a solubility in water at 20 ° C. of 10% by weight or less can be used simultaneously if necessary. Examples of such organic solvents are ethyl acetate, propyl acetate,
Carboxylic esters such as butyl acetate, amyl acetate, benzyl acetate, ethylene glycol monobutyl acetate, butyl lactate and butyl levulinate; ketones such as ethyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol benzyl Ether, ethylene glycol monophenyl ether, benzyl alcohol,
Alcohols such as methylphenylcarbinol, n-amyl alcohol and methylamyl alcohol; alkyl-substituted aromatic hydrocarbons such as chilesin; and halogenated hydrocarbons such as methylene dichloride and monochlorobenzene. These organic solvents can be used alone or in combination. Particularly preferred in the present invention is benzyl alcohol. These organic solvents are generally added to the developer or replenisher therefor in amounts of up to 5% by weight, preferably up to 4% by weight.

【0070】本発明で用いられる現像液及び補充液は同
時に、それらの現像性を向上させる目的で界面活性剤を
含有することができる。そのような界面活性剤の例には
高級アルコール(C8〜C22)硫酸エステルの塩、例
えばラウリルアルコール硫酸エステルのナトリウム塩、
オクチルアルコール硫酸エステルのナトリウム塩、ラウ
リルアルコール硫酸エステルのアンモニウム塩、TEE
POL B−81TM(商標、Shell Chemic
als Co.,Ltdから入手可能)及びアルキル硫
酸エステル二ナトリウム;脂肪族アルコールリン酸エス
テルの塩、例えばセチルアルコールリン酸エステルのナ
トリウム塩;アルキルアリールスルホン酸塩、例えばド
デシルベンゼンスルホネートのナトリウム塩、イソプロ
ピルナフタレンスルホネートのナトリウム塩、ジナフタ
レンジスルホネートのナトリウム塩及びメタニトロベン
ゼンスルホネートのナトリウム塩;アルキルアミドのス
ルホン酸塩、例えばC1733CON(CH3)CH2CH
2SO3Naならびに2塩基性脂肪族酸エステルのスルホ
ン酸塩、例えばジオクチルスルホコハク酸ナトリウム及
びジヘキシルスルホコハク酸ナトリウムが含まれる。こ
れらの界面活性剤は単独で又は組み合わせて用いること
ができる。特に好ましいのはスルホン酸塩である。これ
らの界面活性剤は一般に5重量%以下、好ましくは3重
量%以下の量で用いることができる。
The developer and replenisher used in the present invention can simultaneously contain a surfactant for the purpose of improving their developability. Examples of such surfactants include salts of higher alcohol (C8-C22) sulfates, such as sodium salt of lauryl alcohol sulfate,
Sodium salt of octyl alcohol sulfate, ammonium salt of lauryl alcohol sulfate, TEE
POL B-81 (trademark, Shell Chemical)
als Co. And disodium alkyl sulfates; salts of aliphatic alcohol phosphates, such as sodium salt of cetyl alcohol phosphate; alkyl aryl sulfonates, such as sodium salt of dodecylbenzene sulfonate, isopropyl naphthalene sulfonate. Sodium salt, sodium salt of dinaphthalenedisulfonate and sodium salt of metanitrobenzene sulfonate; sulfonate of alkyl amide, for example, C 17 H 33 CON (CH 3 ) CH 2 CH
Includes 2 SO 3 Na and sulfonates of dibasic aliphatic acid esters, such as sodium dioctyl sulfosuccinate and sodium dihexyl sulfosuccinate. These surfactants can be used alone or in combination. Particularly preferred are sulfonates. These surfactants can generally be used in amounts of up to 5% by weight, preferably up to 3% by weight.

【0071】本発明で用いられる現像液及び補充液の現
像安定性を強化するために、以下の化合物を同時に用い
ることができる。
In order to enhance the development stability of the developer and replenisher used in the present invention, the following compounds can be used simultaneously.

【0072】そのような化合物の例は中性塩、例えばJ
N−A−58−75 152に開示されているようなN
aCl、KCl及びKBr;キレート化剤、例えばJN
−A−58−190 952(U.S−A−4 469
776)に開示されているようなEDTA及びNT
A、JN−A−59−121 336(US−A−46
06 995)に開示されているような[Co(N
36]C13などの錯体;JN−A−55−25 1
00に開示されているもののような周期表のIIa、I
IIa又はIIIb族の元素のイオン化可能化合物;ア
ニオン性又は両性界面活性剤、例えばJN−A−50−
51 324に開示されているようなアルキルナフタレ
ンスルホン酸ナトリウム及びN−テトラデシル−N,N
−ジヒドロキシチルベタイン;US−A−4 374
920 に開示されているようなテトラメチルデシンジ
オール;JN−A−60−213 943に開示されて
いるようなイオン性界面活性剤;カチオン性ポリマー、
例えばJN−A−55−95946に開示されているよ
うなp−ジメチルアミノメチルポリスチレンのメチルク
ロリド第4級生成物(methyl chloride
quaternary products);両性高
分子電解質、例えばJN−A−56−142528に開
示されているようなビニルベンジルトリメチルアンモニ
ウムクロリドとアクリル酸ナトリウムのコポリマー;還
元性無機塩、例えばJN−A−57−192 952
(US−A−4 467 027)に開示されているよ
うな亜硫酸ナトリウム及びアルカリ−可溶性メルカプト
化合物又はチオエーテル化合物、例えばチオサリチル
酸、システイン及びチオグリコール酸;無機リチウム化
合物、例えばJN−A−58−59 444に開示され
ているような塩化リチウム;有機リチウム化合物、例え
ばJN−A−50 34 442に開示されているよう
な安息香酸リチウム;JN−A−59−75 255に
開示されているようなSi、Tiなどを含有する有機金
属界面活性剤;JN−A−59−84 241(US−
A−4 500 625)に開示されているような有機
ホウ素化合物;第4級アンモニウム塩、例えばEP−A
−101 010に開示されているようなテトラアルキ
ルアンモニウムオキシド;ならびに殺バクテリア剤、例
えばJN−A−63−226 657に開示されている
ようなデヒドロ酢酸ナトリウムである。
Examples of such compounds are neutral salts such as J
N-A as disclosed in N-A-58-75 152
aCl, KCl and KBr; chelating agents such as JN
-A-58-190 952 (U.S.A.-4469)
776) EDTA and NT as disclosed in
A, JN-A-59-121 336 (US-A-46
[Co (N) as disclosed in US Pat.
H 3) 6] complex such as C1 3; JN-A-55-25 1
IIa, I of the periodic table such as those disclosed in US Pat.
Ionizable compounds of group IIa or IIIb elements; anionic or amphoteric surfactants, for example JN-A-50-
Sodium alkylnaphthalenesulfonate and N-tetradecyl-N, N as disclosed in US Pat.
-Dihydroxytyl betaine; US-A-4 374
920; ionic surfactants as disclosed in JN-A-60-213 943; cationic polymers;
For example, the methyl chloride quaternary product of p-dimethylaminomethyl polystyrene as disclosed in JN-A-55-95946
amphoteric polyelectrolytes, such as copolymers of vinylbenzyltrimethylammonium chloride and sodium acrylate as disclosed in JN-A-56-142528; reducing inorganic salts, such as JN-A-57-192 952
Sodium sulfite and alkali-soluble mercapto compounds or thioether compounds such as disclosed in (US-A-4 467 027) such as thiosalicylic acid, cysteine and thioglycolic acid; inorganic lithium compounds such as JN-A-58-59. Lithium chloride as disclosed in US Pat. No. 444; organolithium compounds such as lithium benzoate as disclosed in JN-A-5034442; Si as disclosed in JN-A-59-75 255 Organometallic surfactants containing, Ti and the like; JN-A-59-84 241 (US-
A-4 500 625) organoboron compounds as disclosed in quaternary ammonium salts such as EP-A
Tetraalkylammonium oxides as disclosed in -101 010; and bactericides, for example sodium dehydroacetate as disclosed in JN-A-63-226657.

【0073】本発明の現像処理のための方法において、
現像液のための補充液を補充するいずれの既知の手段も
用いることができる。好適に用いられるそのような方法
の例は、JN−A−55−115 039(GB−A−
2 046 931)に開示されているように処理され
たPS版の量と時間の関数として断続的又は継続的に補
充液を補充するための方法、JN−A−58−95 3
49(US−A−4537 496)に開示されている
ように溶出された感光層の程度を検出するためのセンサ
ーを現像領域の中央部分に配置し、検出される溶出され
た感光層の程度に比例して補充液を補充することを含む
方法;GB−A−2 208 249に開示されている
ように現像液のインピーダンス値を決定し、検出される
インピーダンス値をコンピューターにより処理して補充
液の補充を行うことを含む方法である。
In the method for development processing of the present invention,
Any known means of replenishing the replenisher for the developer can be used. An example of such a method preferably used is JN-A-55-115039 (GB-A-
JN-A-58-953, a method for intermittent or continuous replenishment as a function of the amount and time of PS plates processed as disclosed in US Pat. No. 2,046,931).
A sensor for detecting the extent of the eluted photosensitive layer as described in US Pat. No. 49 (U.S. Pat. No. 4,537,496) is located in the central part of the development zone and is sensitive to the extent of the eluted photosensitive layer to be detected. A method comprising proportionally replenishing the replenisher; determining the impedance value of the developer solution as disclosed in GB-A-2 208 249, processing the detected impedance value by a computer and processing the replenisher solution It is a method that includes performing replenishment.

【0074】本発明の印刷版は印刷法においてシームレ
ススリーブ印刷版として用いることもできる。この選択
肢の場合、印刷版はレーザーを用いて円筒形にはんだ付
けされる。古典的に作製される印刷版を古典的な方法で
適用する代わりに、直径として印刷胴の直径を有するこ
の円筒状印刷版を印刷胴上で滑らせる。スリーブに関す
るさらなる詳細は“Grafisch Nieuws”
ed.Keesing,15,1995,page
4 to 6に示されている。
The printing plate of the present invention can be used as a seamless sleeve printing plate in a printing method. With this option, the printing plate is soldered in a cylindrical shape using a laser. Instead of applying a classically produced printing plate in a classical way, this cylindrical printing plate having the diameter of the printing cylinder as a diameter is slid over the printing cylinder. For more details on sleeves see "Grafisch Nieuws"
ed. Keesing, 15, 1995, page
4 to 6.

【0075】画像通りに露出された画像形成要素を水性
アルカリ性溶液を用いて現像し、乾燥した後、得られる
版をそのまま印刷版として用いることができる。しかし
耐久性を向上させるために該版を200℃〜300℃の
温度で30秒〜5分間、焼くこともできる。画像形成要
素をUV−線への全体的後−露出に供し、画像を硬膜さ
せて印刷版のランレングスを増加させることもできる。
After the image-forming element exposed image-wise is developed using an aqueous alkaline solution and dried, the resulting plate can be used as it is as a printing plate. However, to improve the durability, the plate can be baked at a temperature of 200 ° C. to 300 ° C. for 30 seconds to 5 minutes. The imaging element can also be subjected to an overall post-exposure to UV-radiation to harden the image and increase the run length of the printing plate.

【0076】以下の実施例は本発明をそこに制限するこ
となくそれを例示するものである。すべての部及びパー
センテージは、他のように特定されなければ重量によ
る。
The following examples illustrate the present invention without limiting it thereto. All parts and percentages are by weight unless otherwise specified.

【0077】[0077]

【実施例】比較実施例1 平版印刷ベースの製造 厚さが0.30mmのアルミニウム箔を、50℃におい
て5g/lの水酸化ナトリウムを含有する水溶液に箔を
沈め、脱イオン水で濯ぐことにより脱脂した。次いで3
5℃の温度及び1200A/m2の電流密度において交
流を用い、4g/lの塩酸、4g/lの硼酸及び5g/
lのアルミニウムイオンを含有する水溶液中で箔を電気
化学的に粗面化し、0.5μmの平均中心線粗さRaを
有する表面トポロジーを形成した。
EXAMPLES Comparative Example 1 Preparation of a lithographic printing base Aluminum foil 0.30 mm thick was submerged at 50 ° C. in an aqueous solution containing 5 g / l sodium hydroxide and rinsed with deionized water. Degreased. Then 3
Using alternating current at a temperature of 5 ° C. and a current density of 1200 A / m 2, 4 g / l hydrochloric acid, 4 g / l boric acid and 5 g / l
The foil was electrochemically roughened in an aqueous solution containing 1 aluminum ion to form a surface topology with an average centerline roughness Ra of 0.5 μm.

【0078】脱イオン水で濯いだ後、次いで300g/
lの硫酸を含有する水溶液を用い、60℃において18
0秒間、アルミニウム箔をエッチングし、25℃におい
て30秒間、脱イオン水で濯いだ。
After rinsing with deionized water, then 300 g /
at 60 ° C. using an aqueous solution containing 1
The aluminum foil was etched for 0 seconds and rinsed with deionized water at 25 ° C. for 30 seconds.

【0079】続いて箔を200g/lの硫酸を含有する
水溶液中で、45℃の温度、約10Vの電圧及び150
A/m2の電流密度において約300秒間、陽極酸化に
供し、3.00g/m2のAl23の陽極酸化フィルム
を形成し、次いで脱イオン水で洗浄し、ポリビニルホス
ホン酸を含有する溶液及び続いて三塩化アルミニウムを
含有する溶液を用いて後処理し、脱イオン水を用いて2
0℃で120秒間濯ぎ、乾燥した。 ヒートモード画像形成要素の製造 上記の平版印刷ベース上に、最初に55/45の比率の
テトラヒドロフラン/メトキシプロパノール中の8.6
重量%溶液からの層を14μmの湿潤コーティング厚さ
でコーティングした。得られる層は88%のALNOV
OL SPN452TM(Clariant,Germa
nyから入手可能なノボラック)及び12%の3,4,
5−トリメトキシ安息香酸を含有した。
The foil was then placed in an aqueous solution containing 200 g / l of sulfuric acid at a temperature of 45 ° C., a voltage of about 10 V and 150
Anodize at a current density of A / m 2 for about 300 seconds to form an anodized film of 3.00 g / m 2 Al 2 O 3 , then wash with deionized water and contain polyvinylphosphonic acid Work-up with the solution and subsequently with the solution containing aluminum trichloride, and with deionized water
Rinse at 0 ° C. for 120 seconds and dry. Preparation of Heat Mode Imaging Element On the lithographic base described above, initially 8.6 in a 55/45 ratio of tetrahydrofuran / methoxypropanol.
A layer from the wt% solution was coated at a wet coating thickness of 14 μm. The resulting layer is 88% ALNOV
OL SPN452 (Clariant, Germany)
novolak) and 12% 3,4
It contained 5-trimethoxybenzoic acid.

【0080】次いでこの層の上に50/50の比率のメ
チルエチルケトン/メトキシプロパノール中の0.73
4重量%溶液からIR−感受性層を20μmの湿潤コー
ティング厚さでコーティングした。この層を120℃の
温度で乾燥した。
Then, on this layer was added 0.73 in methyl ethyl ketone / methoxypropanol in a 50/50 ratio.
An IR-sensitive layer was coated from a 4% by weight solution with a wet coating thickness of 20 μm. This layer was dried at a temperature of 120 ° C.

【0081】得られるIR−感受性層は115mg/m
2のカーボンブラック、11.5mg/m2のニトロセル
ロース、2.1mg/m2のSOLSPERSE 50
00 TM(Zeneca Specialities,G
Bから入手可能)、11.3mg/m2のSOLSPE
RSE 28000TM、2.0mg/m2のTEGOW
ET 265TM(Tego,Germanyから入手可
能)及び5.0mg/m2のTEGO GLIDE 4
10TMを含有した。
The IR-sensitive layer obtained was 115 mg / m
TwoOf carbon black, 11.5mg / mTwoNitrocell
Loin, 2.1 mg / mTwoSOLSPERSE 50
00 TM(Zeneca Specialties, G
B), 11.3 mg / mTwoSOLSPE
RSE 28000TM, 2.0 mg / mTwoTEGOW
ET 265TM(Available from Tego, Germany
No) and 5.0 mg / mTwoTEGO GIDE 4
10TMWas contained.

【0082】実施例2 比較実施例1に記載したベースと同じベースを用いた。 ヒートモード画像形成要素の製造 実施例1に記載した平版印刷ベース上に、最初に55/
45の比率のテトラヒドロフラン/メトキシプロパノー
ル中の8.6重量%溶液からの層を14μmの湿潤コー
ティング厚さでコーティングした。得られる層は88%
のALNOVOL SPN452TM及び12%の3,
4,5−トリメトキシ安息香酸を含有した。
Example 2 The same base as described in Comparative Example 1 was used. Preparation of Heat Mode Imaging Element On the lithographic base described in Example 1
A layer from an 8.6% by weight solution in tetrahydrofuran / methoxypropanol in a ratio of 45 was coated with a wet coating thickness of 14 μm. 88% available layer
ALNOVOL SPN452 and 12% of 3,
It contained 4,5-trimethoxybenzoic acid.

【0083】次いでこの層の上に50/50の比率のメ
チルエチルケトン/メトキシプロパノール中の1.23
5重量%溶液からIR−感受性層を20μmの湿潤コー
ティング厚さでコーティングした。この層を120℃の
温度で乾燥した。
This layer was then overlaid with 1.23 in 50/50 methyl ethyl ketone / methoxypropanol.
An IR-sensitive layer was coated from a 5% by weight solution with a wet coating thickness of 20 μm. This layer was dried at a temperature of 120 ° C.

【0084】得られるIR−感受性層は115mg/m
2のカーボンブラック、100mg/m2の化学的に製造
された二酸化ケイ素:AEROSILR200、11.
5mg/m2のニトロセルロース、2.1mg/m2のS
OLSPERSE 5000 TM(Zeneca Spe
cialities,GBから入手可能)、11.3m
g/m2のSOLSPERSE 28000TM、2.0
mg/m2のTEGOWET 265TM(Tego,G
ermanyから入手可能)及び5.0mg/m2のT
EGO GLIDE 410TMを含有した。AEROS
ILRはDegussa,Germanyからの商品で
ある。
The resulting IR-sensitive layer was 115 mg / m
TwoOf carbon black, 100mg / mTwoOf chemically manufactured
Silicon dioxide: AEROSILR200, 11.
5mg / mTwoNitrocellulose, 2.1 mg / mTwoS
OLSPERSE 5000 TM(Zeneca Spe
citizens, GB), 11.3 m
g / mTwoSOLSPERSE 28000TM, 2.0
mg / mTwoTEGOWET 265TM(Tego, G
ermany) and 5.0 mg / mTwoT
EGO GLIDE 410TMWas contained. AEROS
ILRIs a product from Degussa, Germany
is there.

【0085】実施例3 比較実施例1に記載したベースと同じベースを用いた。 ヒートモード画像形成要素の製造 実施例1に記載した平版印刷ベース上に、最初に55/
45の比率のテトラヒドロフラン/メトキシプロパノー
ル中の8.6重量%溶液からの層を14μmの湿潤コー
ティング厚さでコーティングした。得られる層は88%
のALNOVOL SPN452TM及び12%の3,
4,5−トリメトキシ安息香酸を含有した。
Example 3 The same base as described in Comparative Example 1 was used. Preparation of Heat Mode Imaging Element On the lithographic base described in Example 1
A layer from an 8.6% by weight solution in tetrahydrofuran / methoxypropanol in a ratio of 45 was coated with a wet coating thickness of 14 μm. 88% available layer
ALNOVOL SPN452 and 12% of 3,
It contained 4,5-trimethoxybenzoic acid.

【0086】次いでこの層の上に50/50の比率のメ
チルエチルケトン/メトキシプロパノール中の1.73
5重量%溶液からIR−感受性層を20μmの湿潤コー
ティング厚さでコーティングした。この層を120℃の
温度で乾燥した。
Then, on top of this layer, 1.73 in a 50/50 ratio of methyl ethyl ketone / methoxypropanol.
An IR-sensitive layer was coated from a 5% by weight solution with a wet coating thickness of 20 μm. This layer was dried at a temperature of 120 ° C.

【0087】得られるIR−感受性層は115mg/m
2のカーボンブラック、200mg/m2の超微粉砕され
たポリ(テトラフルオロエチレン)改質ポリエチレンワ
ックス:NEWKEM TF320TM、11.5mg/
2のニトロセルロース、2.1mg/m2のSOLSP
ERSE 5000TM(Zeneca Special
ities,GBから入手可能)、11.3mg/m2
のSOLSPERSE 28000TM、2.0mg/m
2のTEGO WET 265TM(Tego,Germ
anyから入手可能)及び5.0mg/m2のTEGO
GLIDE 410TMを含有した。
The resulting IR-sensitive layer is 115 mg / m
2 carbon black, 200 mg / m 2 micronized poly (tetrafluoroethylene) modified polyethylene wax: NEWKEM TF320 , 11.5 mg / m
m 2 nitrocellulose, of 2.1mg / m 2 SOLSP
ERSE 5000 TM (Zeneca Special
items, available from GB), 11.3 mg / m 2
SOLSPERSE 28000 , 2.0 mg / m
2 TEGO WET 265 TM (Tego, Germ
any 5.0) /5.0 mg / m 2 TEGO
GLIDE 410 was included.

【0088】NEWKEM TF320TMはCroda
Resins Ltd.から商業的に入手可能。
NEWKEM TF320 is available from Croda
Resins Ltd. Commercially available from.

【0089】実施例4 比較実施例1に記載したベースと同じベースを用いた。 ヒートモード画像形成要素の製造 実施例1に記載した平版印刷ベース上に、最初に55/
45の比率のテトラヒドロフラン/メトキシプロパノー
ル中の8.6重量%溶液からの層を14μmの湿潤コー
ティング厚さでコーティングした。得られる層は88%
のALNOVOL SPN452TM及び12%の3,
4,5−トリメトキシ安息香酸を含有した。
Example 4 The same base as described in Comparative Example 1 was used. Preparation of Heat Mode Imaging Element On the lithographic base described in Example 1
A layer from an 8.6% by weight solution in tetrahydrofuran / methoxypropanol in a ratio of 45 was coated with a wet coating thickness of 14 μm. 88% available layer
ALNOVOL SPN452 and 12% of 3,
It contained 4,5-trimethoxybenzoic acid.

【0090】次いでこの層の上に50/50の比率のメ
チルエチルケトン/メトキシプロパノール中の1.23
5重量%溶液からIR−感受性層を20μmの湿潤コー
ティング厚さでコーティングした。この層を120℃の
温度で乾燥した。
The layer was then overlaid with 1.23 in 50/50 methyl ethyl ketone / methoxypropanol.
An IR-sensitive layer was coated from a 5% by weight solution with a wet coating thickness of 20 μm. This layer was dried at a temperature of 120 ° C.

【0091】得られるIR−感受性層は115mg/m
2のカーボンブラック、100mg/m2の硫酸バリウ
ム、11.5mg/m2のニトロセルロース、2.1m
g/m 2のSOLSPERSE 5000TM(Zene
ca Specialities,GBから入手可
能)、11.3mg/m2のSOLSPERSE 28
000TM、2.0mg/m2のTEGO WET 26
TM(Tego,Germanyから入手可能)及び
5.0mg/m2のTEGO GLIDE 410TM
含有した。
The resulting IR-sensitive layer is 115 mg / m
TwoOf carbon black, 100mg / mTwoBarium sulfate
11.5mg / mTwoNitrocellulose, 2.1m
g / m TwoSOLSPERSE 5000TM(Zene
Available from ca Specialties, GB
No), 11.3 mg / mTwoSOLSPERSE 28
000TM, 2.0 mg / mTwoTEGO WET 26
5TM(Available from Tego, Germany) and
5.0mg / mTwoTEGO GIDE 410TMTo
Contained.

【0092】用いた硫酸バリウムはMerckからのS
PEZIALSORTE A1TMであった。
The barium sulfate used was S from Merck.
PEZIALSORTE A1 .

【0093】実施例5 比較実施例1に記載したベースと同じベースを用いた。 ヒートモード画像形成要素の製造 実施例1に記載した平版印刷ベース上に、最初に55/
45の比率のテトラヒドロフラン/メトキシプロパノー
ル中の9.3重量%溶液からの層を14μmの湿潤コー
ティング厚さでコーティングした。得られる層は82%
のALNOVOL SPN452TM及び11%の3,
4,5−トリメトキシ安息香酸及び7%の硫酸バリウム
を含有した。
Example 5 The same base as described in Comparative Example 1 was used. Preparation of Heat Mode Imaging Element On the lithographic base described in Example 1
A layer from a 9.3 wt% solution in tetrahydrofuran / methoxypropanol in a ratio of 45 was coated with a wet coating thickness of 14 μm. 82% available layer
ALNOVOL SPN452 and 11% of 3,
It contained 4,5-trimethoxybenzoic acid and 7% barium sulfate.

【0094】次いでこの層の上に50/50の比率のメ
チルエチルケトン/メトキシプロパノール中の1.23
5重量%溶液からIR−感受性層を20μmの湿潤コー
ティング厚さでコーティングした。この層を120℃の
温度で乾燥した。
Then, on top of this layer was added 1.23 in a 50/50 ratio of methyl ethyl ketone / methoxypropanol.
An IR-sensitive layer was coated from a 5% by weight solution with a wet coating thickness of 20 μm. This layer was dried at a temperature of 120 ° C.

【0095】得られるIR−感受性層は115mg/m
2のカーボンブラック、100mg/m2の硫酸バリウ
ム、11.5mg/m2のニトロセルロース、2.1m
g/m 2のSOLSPERSE 5000TM(Zene
ca Specialities,GBから入手可
能)、11.3mg/m2のSOLSPERSE 28
000TM、2.0mg/m2のTEGO WET 26
TM(Tego,Germanyから入手可能)及び
5.0mg/m2のTEGO GLIDE 410TM
含有した。
The IR-sensitive layer obtained is 115 mg / m
TwoOf carbon black, 100mg / mTwoBarium sulfate
11.5mg / mTwoNitrocellulose, 2.1m
g / m TwoSOLSPERSE 5000TM(Zene
Available from ca Specialties, GB
No), 11.3 mg / mTwoSOLSPERSE 28
000TM, 2.0 mg / mTwoTEGO WET 26
5TM(Available from Tego, Germany) and
5.0mg / mTwoTEGO GIDE 410TMTo
Contained.

【0096】実施例6 比較実施例1に記載したベースと同じベースを用いた。 ヒートモード画像形成要素の製造 実施例1に記載した平版印刷ベース上に、最初に55/
45の比率のテトラヒドロフラン/メトキシプロパノー
ル中の8.6重量%溶液からの層を14μmの湿潤コー
ティング厚さでコーティングした。得られる層は88%
のAlnovolSPN452及び12%の3,4,5
−トリメトキシ安息香酸を含有した。次いでこの層の上
に50/50の比率のメチルエチルケトン/メトキシプ
ロパノール中の1.235重量%溶液からIR−感受性
層を20μmの湿潤コーティング厚さでコーティングし
た。この層を120℃の温度で乾燥した。
Example 6 The same base as described in Comparative Example 1 was used. Preparation of Heat Mode Imaging Element On the lithographic base described in Example 1
A layer from an 8.6% by weight solution in tetrahydrofuran / methoxypropanol in a ratio of 45 was coated with a wet coating thickness of 14 μm. 88% available layer
Alnovol SPN452 and 12% 3,4,5
-Contains trimethoxybenzoic acid. An IR-sensitive layer was then coated over this layer from a 1.235% by weight solution in methyl ethyl ketone / methoxypropanol in a 50/50 ratio with a wet coating thickness of 20 μm. This layer was dried at a temperature of 120 ° C.

【0097】得られるIR−感受性層は115mg/m
2のカーボンブラック、100mg/m2の微粒子シリコ
ーン:TOSPEARL 105TM、11.5mg/m
2のニトロセルロース、2.1mg/m2のSOLSPE
RSE 5000TM(Zeneca Speciali
ties,GBから入手可能)、11.3mg/m 2
SOLSPERSE 28000TM、2.0mg/m2
のTEGO WET265TM(Tego,German
yから入手可能)及び5.0mg/m2のTEGO G
LIDE 410TMを含有した。
The resulting IR-sensitive layer is 115 mg / m
TwoOf carbon black, 100mg / mTwoFine particles of silicon
: TOSPEARL 105TM, 11.5mg / m
TwoNitrocellulose, 2.1 mg / mTwoSOLSPE
RSE 5000TM(Zeneca Specialia
ties, available from GB), 11.3 mg / m Twoof
SOLSPERSE 28000TM, 2.0 mg / mTwo
TEGO WET265TM(Tego, German
y available) and 5.0 mg / mTwoTEGO G
LIDE 410TMWas contained.

【0098】TOSPEARL 105TMはToshi
ba Silicone Co.Ltdにおいて商業的
に入手可能な平均粒径が0.5μmの微粒子シリコーン
である。
TOSPEARL 105 TM is available from Toshi
ba Silicone Co. Ltd is a commercially available particulate silicone with an average particle size of 0.5 μm.

【0099】実施例7 比較実施例1に記載したベースと同じベースを用いた。 ヒートモード画像形成要素の製造 実施例1に記載した平版印刷ベース上に、最初に55/
45の比率のテトラヒドロフラン/メトキシプロパノー
ル中の8.6重量%溶液からの層を14μmの湿潤コー
ティング厚さでコーティングした。得られる層は88%
のALNOVOL SPN452TM及び12%の3,
4,5−トリメトキシ安息香酸を含有した。
Example 7 The same base as described in Comparative Example 1 was used. Preparation of Heat Mode Imaging Element On the lithographic base described in Example 1
A layer from an 8.6% by weight solution in tetrahydrofuran / methoxypropanol in a ratio of 45 was coated with a wet coating thickness of 14 μm. 88% available layer
ALNOVOL SPN452 and 12% of 3,
It contained 4,5-trimethoxybenzoic acid.

【0100】次いでこの層の上に50/50の比率のメ
チルエチルケトン/メトキシプロパノール中の1.01
2重量%溶液からIR−感受性層を20μmの湿潤コー
ティング厚さでコーティングした。この層を120℃の
温度で乾燥した。
Then, on this layer was added 1.01 of a 50/50 ratio of methyl ethyl ketone / methoxypropanol.
An IR-sensitive layer was coated from a 2% by weight solution with a wet coating thickness of 20 μm. This layer was dried at a temperature of 120 ° C.

【0101】得られるIR−感受性層は115mg/m
2のカーボンブラック、55mg/m2の合成セラミッ
ク、11.5mg/m2のニトロセルロース、2.1m
g/m 2のSOLSPERSE 5000TM(Zene
ca Specialities,GBから入手可
能)、11.3mg/m2のSOLSPERSE 28
000TM、2.0mg/m2のTEGO WET 26
TM(Tego,Germanyから入手可能)及び
5.0mg/m2のTEGO GLIDE 410TM
含有した。
The IR-sensitive layer obtained is 115 mg / m
TwoOf carbon black, 55mg / mTwoSynthetic ceramic
C, 11.5mg / mTwoNitrocellulose, 2.1m
g / m TwoSOLSPERSE 5000TM(Zene
Available from ca Specialties, GB
No), 11.3 mg / mTwoSOLSPERSE 28
000TM, 2.0 mg / mTwoTEGO WET 26
5TM(Available from Tego, Germany) and
5.0mg / mTwoTEGO GIDE 410TMTo
Contained.

【0102】合成セラミックはポリ(メチルメタクリレ
ート−コ−メチルメタクリレートトリメトキシシラン)
である。
The synthetic ceramic was poly (methyl methacrylate-co-methyl methacrylate trimethoxysilane)
It is.

【0103】実施例8 比較実施例1に記載したベースと同じベースを用いた。 ヒートモード画像形成要素の製造 実施例1に記載した平版印刷ベース上に、最初に55/
45の比率のテトラヒドロフラン/メトキシプロパノー
ル中の8.6重量%溶液からの層を14μmの湿潤コー
ティング厚さでコーティングした。得られる層は88%
のALNOVOL SPN452TM及び12%の3,
4,5−トリメトキシ安息香酸を含有した。
Example 8 The same base as described in Comparative Example 1 was used. Preparation of Heat Mode Imaging Element On the lithographic base described in Example 1
A layer from an 8.6% by weight solution in tetrahydrofuran / methoxypropanol in a ratio of 45 was coated with a wet coating thickness of 14 μm. 88% available layer
ALNOVOL SPN452 and 12% of 3,
It contained 4,5-trimethoxybenzoic acid.

【0104】次いでこの層の上に50/50の比率のメ
チルエチルケトン/メトキシプロパノール中の1.01
0重量%溶液からIR−感受性層を20μmの湿潤コー
ティング厚さでコーティングした。この層を120℃の
温度で乾燥した。
Then, a layer of 1.01 in methyl ethyl ketone / methoxypropanol in a 50/50 ratio was placed on top of this layer.
An IR-sensitive layer was coated from a 0% by weight solution with a wet coating thickness of 20 μm. This layer was dried at a temperature of 120 ° C.

【0105】得られるIR−感受性層は115mg/m
2のカーボンブラック、44mg/m2の実施例7で挙げ
たと同じセラミック、11mg/m2のAEROSILR
200、11.5mg/m2のニトロセルロース、2.
1mg/m2のSOLSPERSE 5000TM(Ze
neca Specialities,GBから入手可
能)、11.3mg/m2のSOLSPERSE 28
000TM、2.0mg/m2のTEGO WET 26
TM(Tego,Germanyから入手可能)及び
5.0mg/m2のTEGO GLIDE 410TM
含有した。
The resulting IR-sensitive layer is 115 mg / m
2 of carbon black, the same ceramic as mentioned in Example 7 of 44 mg / m 2, of 11 mg / m 2 AEROSIL R
200, 11.5 mg / m 2 nitrocellulose;
1 mg / m 2 SOLSPERSE 5000 (Ze
neca Specialties, GB), 11.3 mg / m 2 SOLSPERSE 28
000 TM , 2.0 mg / m 2 TEGO WET 26
5 (available from Tego, Germany) and 5.0 mg / m 2 of TEGO GLIDE 410 .

【0106】実施例9 比較実施例1に記載したベースと同じベースを用いた。 ヒートモード画像形成要素の製造 実施例1に記載した平版印刷ベース上に、最初に55/
45の比率のテトラヒドロフラン/メトキシプロパノー
ル中の8.6重量%溶液からの層を14μmの湿潤コー
ティング厚さでコーティングした。得られる層は88%
のALNOVOL SPN452TM及び12%の3,
4,5−トリメトキシ安息香酸を含有した。
Example 9 The same base as described in Comparative Example 1 was used. Preparation of Heat Mode Imaging Element On the lithographic base described in Example 1
A layer from an 8.6% by weight solution in tetrahydrofuran / methoxypropanol in a ratio of 45 was coated with a wet coating thickness of 14 μm. 88% available layer
ALNOVOL SPN452 and 12% of 3,
It contained 4,5-trimethoxybenzoic acid.

【0107】次いでこの層の上に50/50の比率のメ
チルエチルケトン/メトキシプロパノール中の1.01
0重量%溶液からIR−感受性層を20μmの湿潤コー
ティング厚さでコーティングした。この層を120℃の
温度で乾燥した。
Then, on top of this layer was added 1.01 in a 50/50 ratio of methyl ethyl ketone / methoxypropanol.
An IR-sensitive layer was coated from a 0% by weight solution with a wet coating thickness of 20 μm. This layer was dried at a temperature of 120 ° C.

【0108】得られるIR−感受性層は115mg/m
2のカーボンブラック、39mg/m2の実施例7で挙げ
たと同じセラミック、16mg/m2のテトラエチルオ
ルトシリケート、11.5mg/m2のニトロセルロー
ス、2.1mg/m2のSOLSPERSE 5000
TM(Zeneca Specialities,GBか
ら入手可能)、11.3mg/m2のSOLSPERS
E 28000TM、2.0mg/m2のTEGO WE
T 265TM(Tego,Germanyから入手可
能)及び5.0mg/m2のTEGO GLIDE 4
10TMを含有した。用いたテトラエチルオルトシリケー
トはHuels AGからのDYNASIL
The resulting IR-sensitive layer is 115 mg / m
2 of carbon black, 39 mg / same ceramic as mentioned in Example 7 of m 2, tetraethylorthosilicate 16 mg / m 2, nitrocellulose 11.5mg / m 2, SOLSPERSE 5000 of 2.1 mg / m 2
TM (available from Zeneca Specialties, GB), 11.3 mg / m 2 SOLSPERS
E 28000 , 2.0 mg / m 2 TEGO WE
T265 (available from Tego, Germany) and 5.0 mg / m 2 of TEGO GLIDE 4
10 TM . The tetraethyl orthosilicate used was DYNASIL from Huels AG

【0109】ATMであった。A was TM .

【0110】ヒートモード画像形成要素の摩擦係数の測
定 上記の材料からASTM D1894に従ってステレン
ススチールに対する動摩擦係数を測定した。
Measurement of Coefficient of Friction of Heat Mode Imaging Element The kinetic coefficient of friction against stainless steel was measured from the above materials according to ASTM D1894.

【0111】[0111]

【表1】 輸送性の試験 実験装置において、740mmx640mmの型の版を
2mの長さを経てレーザードラムに輸送した。版を垂直
に置き、2つのスチールクランプの間につかんだ。安定
した輸送を保証するために、クランプは約20cmとい
う最小の長さを有する。これらのクランプの版との接触
幅は約3mmである。これらのクランプへの圧力は4.
5*105Paに設定した。
[Table 1] Transportability test In the experimental apparatus, a 740 mm x 640 mm mold plate was transported over a length of 2 m to the laser drum. The plate was placed vertically and gripped between two steel clamps. To ensure stable transport, the clamp has a minimum length of about 20 cm. The contact width of these clamps with the plate is about 3 mm. The pressure on these clamps is 4.
It was set to 5 * 10 5 Pa.

【0112】[0112]

【表2】 比較実施例1の場合、版は輸送路の末端位置に正しい方
法で到達しなかった。版の露出のためにはレーザードラ
ムの手動による搭載が必要であった。 ヒートモード画像形成要素の露出 上記の材料のすべてをCreo 3244TTM外部ドラ
ムプレートセッターを用い、2400dpiにおいて、
下記の表に示す出力で画像形成した。
[Table 2] In the case of Comparative Example 1, the plate did not reach the end position of the transport path in the correct way. Manual exposure of the laser drum was required to expose the plate. Exposure of Heat Mode Imaging Element All of the above materials were exposed at 2400 dpi using a Creo 3244T external drum plate setter.
Images were formed with the outputs shown in the table below.

【0113】[0113]

【表3】 画像通りに露出された要素の現像 製造された画像形成要素の露出の後、要素を水性アルカ
リ性現像液中で現像した。これらの現像はOZASOL
EP262ATM(OZASOL EP262ATMはA
gfaから商業的に入手可能)ならびに濯ぎ部門に水及
びゴム引き部門にOZASOL RC795TMゴムを満
たしたTechnigraph NPX−32TMプロセ
ッサにおいて、25℃で1m/分の速度で行った。
[Table 3] Development of the Imagewise Exposed Element After exposure of the manufactured imaging element, the element was developed in an aqueous alkaline developer. These developments are OZASOL
EP262A TM (OZASOL EP262A TM is A
gfa), and a Technigraph NPX-32 processor filled with water for the rinsing section and OZASOL RC795 rubber for the gumming section at 25 ° C. at a speed of 1 m / min.

【0114】得られるすべての印刷版はエッチング欠陥
(etching defects)のない無傷の画像
を有する。本発明の主たる特徴及び態様は以下の通りで
ある。
All the resulting printing plates have intact images without etching defects. The main features and aspects of the present invention are as follows.

【0115】1.親水性表面を有する平版印刷ベース上
に、水性アルカリ性溶液中に可溶性のポリマーを含む第
1層ならびに平版印刷ベースの第1層と同じ側の上の最
上層を有し、その最上層はIR−感受性で且つアルカリ
性現像液に関して非浸透性であり、該第1層及び該最上
層は1つの同じ層であることができる平版印刷版の作製
のためのヒートモード画像形成要素であって;該最上層
が最上層の動摩擦係数を0.40〜0.80に向上させ
る化合物を含有していることを特徴とするヒートモード
画像形成要素。
1. On a lithographic base having a hydrophilic surface, a first layer comprising a polymer soluble in an aqueous alkaline solution and a top layer on the same side as the first layer of the lithographic base, the top layer comprising IR- The first layer and the top layer being a heat mode imaging element for making a lithographic printing plate, which is sensitive and impermeable to an alkaline developer, which can be one and the same layer; A heat mode imaging element wherein the upper layer contains a compound which improves the kinetic friction coefficient of the uppermost layer to 0.40 to 0.80.

【0116】2.該化合物がポリテトラフルオロエチレ
ン−ポリエチレンのコポリマーである上記1項に記載の
平版印刷版の作製のためのヒートモード画像形成要素。
[0116] 2. 2. A heat mode imaging element for making a lithographic printing plate according to claim 1, wherein said compound is a polytetrafluoroethylene-polyethylene copolymer.

【0117】3.該化合物がシリカである上記1項に記
載の平版印刷版の作製のためのヒートモード画像形成要
素。
3. 2. A heat mode imaging element for making a lithographic printing plate according to claim 1, wherein said compound is silica.

【0118】4.該化合物が疎水性セラミックである上
記1項に記載の平版印刷版の作製のためのヒートモード
画像形成要素。
4. 2. A heat mode imaging element for making a lithographic printing plate according to claim 1, wherein said compound is a hydrophobic ceramic.

【0119】5.該最上層がさらにシリカ粒子を含有す
る上記4項に記載の平版印刷版の作製のためのヒートモ
ード画像形成要素。
5. 5. A heat mode imaging element for making a lithographic printing plate according to claim 4, wherein said top layer further contains silica particles.

【0120】6.該最上層がさらにオルトシリケートを
含有する上記4項に記載の平版印刷版の作製のためのヒ
ートモード画像形成要素。
6. 5. A heat mode imaging element for making a lithographic printing plate according to claim 4, wherein said top layer further contains an orthosilicate.

【0121】7.該化合物が硫酸バリウムである上記1
項に記載の平版印刷版の作製のためのヒートモード画像
形成要素。
7. (1) the compound is barium sulfate;
A heat mode imaging element for making a lithographic printing plate as described in paragraph.

【0122】8.該化合物が10〜800mg/m2
量で該最上層中に存在する上記1〜7項のいずれかに記
載の平版印刷版の作製のためのヒートモード画像形成要
素。
8. Heat mode imaging element for making a lithographic printing plate according to any one of the above 1 to 7, wherein said compound is present in the top layer in an amount of 10~800mg / m 2.

【0123】9.a)上記1〜8項のいずれかに記載の
ヒートモード画像形成要素をIR−線に画像通りに露出
し; b)該画像通りに露出されたヒートモード画像形成要素
を水性アルカリ性現像液を用いて現像し、それにより同
じであることができる第1及び最上層の露出された領域
を溶解し、第1層の露出されない領域を溶解せずに残す
段階を含む平版印刷版の作製方法。
9. a) exposing the heat mode imaging element according to any of the above paragraphs 1 to 8 imagewise to IR-radiation; b) using the imagewise exposed heat mode imaging element with an aqueous alkaline developer. And dissolving the exposed areas of the first and top layers, which can be the same, and leaving the unexposed areas of the first layer undissolved.

フロントページの続き (72)発明者 ペーター・ゲールツ ベルギー・ビー2640モルトセル・セプテス トラート27・アグフア−ゲヴエルト・ナー ムローゼ・フエンノートシヤツプ内Continued on the front page (72) Inventor Peter Goeltz Belgium B 2640 Malt Cell Septes Trat 27 Agfa-Gevuert Na Mrose Fennoutjapp

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 親水性表面を有する平版印刷ベース上
に、水性アルカリ性溶液中に可溶性のポリマーを含む第
1層ならびに平版印刷ベースの第1層と同じ側の上の最
上層を有し、その最上層はIR−感受性で且つアルカリ
性現像液に関して非浸透性であり、該第1層及び該最上
層は1つの同じ層であることができる平版印刷版の作製
のためのヒートモード画像形成要素であって;該最上層
が最上層の動摩擦係数を0.40〜0.80に向上させ
る化合物を含有していることを特徴とするヒートモード
画像形成要素。
1. A lithographic printing base having a hydrophilic surface, comprising a first layer comprising a polymer soluble in an aqueous alkaline solution and a top layer on the same side of the lithographic printing base as the first layer. The top layer is IR-sensitive and impervious to alkaline developers, and the first layer and the top layer are heat mode imaging elements for making a lithographic printing plate that can be one and the same layer. A heat mode imaging element wherein the uppermost layer contains a compound that improves the kinetic friction coefficient of the uppermost layer to 0.40 to 0.80.
【請求項2】 a)請求項1に記載のヒートモード画像
形成要素をIR−線に画像通りに露出し; b)該画像通りに露出されたヒートモード画像形成要素
を水性アルカリ性現像液を用いて現像し、それにより同
じであることができる第1及び最上層の露出された領域
を溶解し、第1層の露出されない領域を溶解せずに残す
段階を含む平版印刷版の作製方法。
2. a) exposing the heat mode imaging element of claim 1 image-wise to IR-radiation; b) using the image mode exposed heat mode imaging element with an aqueous alkaline developer. And dissolving the exposed areas of the first and top layers, which can be the same, and leaving the unexposed areas of the first layer undissolved.
JP10387599A 1998-04-15 1999-04-12 Heat mode sensitive image forming element for manufacture of positive working printing plate Withdrawn JP2000131830A (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP98201214 1998-04-15
EP98201214.8 1998-04-15

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000131830A true JP2000131830A (en) 2000-05-12
JP2000131830A5 JP2000131830A5 (en) 2006-06-15

Family

ID=8233603

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10387599A Withdrawn JP2000131830A (en) 1998-04-15 1999-04-12 Heat mode sensitive image forming element for manufacture of positive working printing plate

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP2000131830A (en)
DE (1) DE69916925T2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7172847B2 (en) 2002-03-28 2007-02-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Planographic printing plate precursor and planographic printing plate precursor laminate

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7172847B2 (en) 2002-03-28 2007-02-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Planographic printing plate precursor and planographic printing plate precursor laminate

Also Published As

Publication number Publication date
DE69916925D1 (en) 2004-06-09
DE69916925T2 (en) 2005-04-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0950518B1 (en) A heat mode sensitive imaging element for making positive working printing plates
US6083663A (en) Method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive image element
EP0950517B1 (en) A heat mode sensitive imaging element for making positive working printing plates
JP2000221669A (en) Manufacture of positive working printing plate
US6004728A (en) Method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive image element
EP0908305B2 (en) A method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive imaging element
EP0908779B1 (en) A method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive imaging element
EP1023994B1 (en) A heat mode sensitive imaging element for making positive working printing plates.
JP2000056462A (en) Heat mode sensitive image forming element for forming positively active printing plate
US6340815B1 (en) Heat mode sensitive imaging element for making positive working printing plates
US6192799B1 (en) Heat mode sensitive imaging element for making positive working printing plates
JP2000131829A (en) Heat mode sensitive image forming element for manufacture of positive working printing plate
US6472119B1 (en) Heat mode sensitive imaging element for making positive working printing plates
US6251563B1 (en) Method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive image element
JP2000137321A (en) Heat mode susceptible image forming element for production of positive printing plate
EP0950513B1 (en) A heat mode sensitive imaging element for making positive working printing plates
US6569594B2 (en) Heat mode sensitive imaging element for making positive working printing plates
US6458510B1 (en) Method for making positive working printing plates
JP2000221670A (en) Manufacture of positive working printing plate
EP0950516B1 (en) A heat mode sensitive imaging element for making positive working printing plates
EP0908304B1 (en) A method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive imaging element
US6489079B1 (en) Heat mode sensitive imaging element for making positive working printing plates
US6455229B1 (en) Method for making positive working printing plates
US6447977B2 (en) Heat mode sensitive imaging element for making positive working printing plates
US6391517B1 (en) Heat mode sensitive imaging element for making positive working printing plates

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060406

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060406

A761 Written withdrawal of application

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761

Effective date: 20080225