JP2000235877A - Anisotropic conductive sheet and manufacturing method thereof - Google Patents
Anisotropic conductive sheet and manufacturing method thereofInfo
- Publication number
- JP2000235877A JP2000235877A JP11035657A JP3565799A JP2000235877A JP 2000235877 A JP2000235877 A JP 2000235877A JP 11035657 A JP11035657 A JP 11035657A JP 3565799 A JP3565799 A JP 3565799A JP 2000235877 A JP2000235877 A JP 2000235877A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- conductive
- sheet
- adhesive layer
- layer
- conductive material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Manufacturing Of Electrical Connectors (AREA)
- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 表面に酸化膜が形成された電極に対しても所
要の電気的接続が確実に達成され、接続される電極の表
面を汚染することがなく、しかも、多数回にわたり繰り
返して使用した場合であっても、長い使用寿命が得られ
る異方導電性シートおよびその製造方法を提供するこ
と。
【解決手段】 本発明の異方導電性シートは、厚み方向
に伸びる複数の弾性を有する導電路形成部が、絶縁部に
よって相互に絶縁された状態で配置されてなるシート基
材を有し、導電路形成部上に、硬化性樹脂中に導電性粉
末が分散されてなる導電性接着層を介して、接点用導電
材料が一体的に設けられている。
(57) [Summary] [PROBLEMS] A required electrical connection is reliably achieved even for an electrode having an oxide film formed on the surface, without contaminating the surface of the electrode to be connected, and many times. Provided is an anisotropic conductive sheet capable of obtaining a long service life even when repeatedly used over a long period of time, and a method for manufacturing the same. SOLUTION: The anisotropic conductive sheet of the present invention has a sheet base material in which a plurality of elastic conductive path forming portions extending in a thickness direction are arranged in a state in which they are insulated from each other by an insulating portion. A conductive material for a contact is integrally provided on the conductive path forming portion via a conductive adhesive layer in which conductive powder is dispersed in a curable resin.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば電子部品な
どの回路装置相互間の電気的接続や、プリント回路基
板、半導体集積回路などの回路装置の検査装置における
コネクターとして好ましく用いられる異方導電性シート
に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an anisotropic conductive material which is preferably used as a connector in an electrical connection between circuit devices such as electronic parts and an inspection device for circuit devices such as printed circuit boards and semiconductor integrated circuits. It is about a sheet.
【0002】[0002]
【従来の技術】異方導電性エラストマーシートは、厚み
方向にのみ導電性を示すもの、または厚み方向に加圧さ
れたときに厚み方向にのみ導電性を示す加圧導電性導電
部を有するものであり、ハンダ付けあるいは機械的嵌合
などの手段を用いずにコンパクトな電気的接続を達成す
ることが可能であること、機械的な衝撃やひずみを吸収
してソフトな接続が可能であることなどの特長を有する
ため、このような特長を利用して、例えば電子計算機、
電子式デジタル時計、電子カメラ、コンピューターキー
ボードなどの分野において、回路装置、例えばプリント
回路基板とリードレスチップキャリアー、液晶パネルな
どとの相互間の電気的な接続を達成するためのコネクタ
ーとして広く用いられている。2. Description of the Related Art An anisotropic conductive elastomer sheet has conductivity only in the thickness direction, or has a pressurized conductive portion which has conductivity only in the thickness direction when pressed in the thickness direction. And it is possible to achieve a compact electrical connection without using means such as soldering or mechanical fitting, and it is possible to absorb mechanical shocks and strains and make a soft connection Because of these features, using such features, for example, computers,
In the fields of electronic digital watches, electronic cameras, computer keyboards, etc., it is widely used as a connector for achieving an electrical connection between circuit devices, for example, a printed circuit board and a leadless chip carrier, a liquid crystal panel, etc. ing.
【0003】また、プリント回路基板や半導体集積回路
などの回路装置の電気的検査においては、検査対象であ
る回路装置の一面に形成された被検査電極と、検査用回
路基板の表面に形成された検査用電極との電気的な接続
を達成するために、回路装置の被検査電極領域と検査用
回路基板の検査用電極領域との間に異方導電性エラスト
マーシートを介在させることが行われている。In electrical inspection of a circuit device such as a printed circuit board or a semiconductor integrated circuit, an electrode to be inspected formed on one surface of a circuit device to be inspected and an electrode formed on the surface of the inspection circuit substrate. In order to achieve electrical connection with the test electrode, an anisotropic conductive elastomer sheet is interposed between the test electrode region of the circuit device and the test electrode region of the test circuit board. I have.
【0004】従来、このような異方導電性エラストマー
シートとしては、種々の構造のものが知られており、例
えば特開昭51−93393号公報等には、金属粒子を
エラストマー中に均一に分散して得られる異方導電性エ
ラストマーシート(以下、これを「分散型異方導電性エ
ラストマーシート」という。)が開示され、また、特開
昭53−147772号公報等には、導電性磁性体粒子
をエラストマー中に不均一に分布させることにより、厚
み方向に伸びる多数の導電路形成部と、これらを相互に
絶縁する絶縁部とが形成されてなる異方導電性エラスト
マーシート(以下、これを「偏在型異方導電性エラスト
マーシート」という。)が開示され、更に、特開昭61
−250906号公報等には、導電路形成部の表面と絶
縁部との間に段差が形成された偏在型異方導電性エラス
トマーシートが開示されている。Conventionally, as such an anisotropic conductive elastomer sheet, those having various structures are known. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 51-93393 discloses that metal particles are uniformly dispersed in an elastomer. Anisotropic conductive elastomer sheet (hereinafter referred to as “dispersion type anisotropic conductive elastomer sheet”) obtained by the method described in JP-A-53-147772 is disclosed. By distributing the particles non-uniformly in the elastomer, an anisotropic conductive elastomer sheet (hereinafter, referred to as an electrically conductive elastomer sheet) in which a number of conductive path forming portions extending in the thickness direction and insulating portions that insulate them from each other are formed. "Eccentrically distributed anisotropic conductive elastomer sheet") is disclosed.
Japanese Unexamined Patent Publication No. 250906/2005 discloses an unevenly distributed anisotropic conductive elastomer sheet in which a step is formed between the surface of a conductive path forming portion and an insulating portion.
【0005】そして、偏在型異方導電性エラストマーシ
ートは、回路基板等の電極パターンと対掌のパターンに
従って導電路形成部が形成されているため、分散型異方
導電性エラストマーシートに比較して、接続すべき電極
が小さいピッチで配置されている回路装置などに対して
も電極間の電気的接続を高い信頼性で達成することがで
きる点で、有利であり、特に、導電路形成部が絶縁部か
ら突出する状態に形成されてなるものは、被検査電極に
対する接触が確実に行われるため、より好ましい。[0005] The unevenly distributed anisotropic conductive elastomer sheet has a conductive path forming portion formed in accordance with a pattern opposite to an electrode pattern of a circuit board or the like. This is advantageous in that electrical connection between the electrodes can be achieved with high reliability even for a circuit device or the like in which electrodes to be connected are arranged at a small pitch. The one formed so as to protrude from the insulating portion is more preferable because the contact with the electrode to be inspected is surely performed.
【0006】しかしながら、このような偏在型異方導電
性エラストマーシートを、例えば半導体集積回路の電気
的検査におけるコネクターとして用いる場合には、以下
のような問題がある。 (1)半導体集積回路の表面電極は、一般に、アルミウ
ニムにより構成されており、このような表面電極には、
当該アルミニウムの酸化膜が形成されている。而して、
異方導電性エラストマーシートの導電路形成部は、当然
のことながらエラストマーにより構成されているために
柔軟なものであることから、酸化膜が形成された電極に
接続する際に、導電路形成部によって酸化膜を突き破る
ことが困難であり、その結果、所要の電気的接続を達成
することができない。However, when such an unevenly distributed anisotropically conductive elastomer sheet is used as a connector in an electrical inspection of a semiconductor integrated circuit, for example, there are the following problems. (1) The surface electrode of a semiconductor integrated circuit is generally made of aluminum.
The aluminum oxide film is formed. Thus,
The conductive path forming portion of the anisotropic conductive elastomer sheet is naturally flexible because it is made of an elastomer. Therefore, when the conductive path forming portion is connected to the electrode on which the oxide film is formed, the conductive path forming portion is formed. Makes it difficult to break through the oxide film, and as a result, the required electrical connection cannot be achieved.
【0007】(2)異方導電性エラストマーシートを構
成する弾性高分子物質としては、一般に、シリコーンゴ
ムが用いられているが、このシリコーンゴム中には、低
分子量のシリコーン(オイル状のもの)が含有されてい
る。そして、このような異方導電性エラストマーシート
を例えば回路装置の検査に長時間使用すると、異方導電
性エラストマーシートの表面に低分子量のシリコーンが
ブリードアウトし、これにより、検査対象である回路装
置の被検査電極の表面が汚染される。その結果、当該回
路装置を実装する際に、ボンディングを行うことができ
なかったり、所要の電気的接続を達成することができな
かったりする。[0007] (2) Silicone rubber is generally used as the elastic polymer material constituting the anisotropic conductive elastomer sheet, and the silicone rubber contains low molecular weight silicone (oil-like). Is contained. When such an anisotropic conductive elastomer sheet is used for a long time, for example, for testing a circuit device, low-molecular-weight silicone bleeds out on the surface of the anisotropic conductive elastomer sheet. The surface of the electrode to be inspected is contaminated. As a result, when mounting the circuit device, bonding cannot be performed or required electrical connection cannot be achieved.
【0008】このような問題を解決するために、導電路
形成部上に例えば金属よりなる接点用導電材料が設けら
れた異方導電性エラストマーシートが提案されている。
しかしながら、このような異方導電性エラストマーシー
トにおいては、当該異方導電性エラストマーシートを構
成する弾性高分子物質と接点用導電材料を構成する金属
との接着性が低いため、以下のような問題があることが
判明した。すなわち、異方導電性エラストマーシートを
電極に電気的に接続する際には、導電路形成部が押圧さ
れて圧縮変形されることにより、接点用導電材料に相当
に高い応力が加わるため、当該異方導電性エラストマー
シートを繰り返して使用した場合には、早期に接点用導
電材料が導電路形成部から剥離したり、接点用導電材料
にクラックが発生したりする結果、長い使用寿命が得ら
れない。In order to solve such a problem, there has been proposed an anisotropic conductive elastomer sheet in which a conductive material for a contact made of, for example, metal is provided on a conductive path forming portion.
However, in such an anisotropically conductive elastomer sheet, since the adhesiveness between the elastic polymer material forming the anisotropically conductive elastomer sheet and the metal forming the conductive material for contact is low, the following problems are caused. It turned out that there is. That is, when electrically connecting the anisotropic conductive elastomer sheet to the electrode, the conductive path forming portion is pressed and deformed by compression, so that a considerably high stress is applied to the conductive material for contact. When the conductive elastomer sheet is used repeatedly, the conductive material for the contact is separated from the conductive path forming portion early or the conductive material for the contact is cracked, so that a long service life cannot be obtained. .
【0009】[0009]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上のよう
な事情に基づいてなされたものであり、本発明の第1の
目的は、表面に酸化膜が形成された電極に対しても所要
の電気的接続が確実に達成され、接続される電極の表面
を汚染することがなく、しかも、多数回にわたり繰り返
して使用した場合であっても、長い使用寿命が得られる
異方導電性シートを提供することにある。本発明の第2
の目的は、上記の異方導電性シートを有利に製造するこ
とができる方法を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and a first object of the present invention is to provide an electrode having an oxide film formed on its surface. Electrical connection is reliably achieved, without contaminating the surface of the electrode to be connected, and even when used repeatedly many times, an anisotropic conductive sheet that can provide a long service life. To provide. Second embodiment of the present invention
An object of the present invention is to provide a method capable of advantageously producing the above anisotropic conductive sheet.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】本発明の異方導電性シー
トは、それぞれ厚み方向に伸びる複数の弾性を有する導
電路形成部が、絶縁部によって相互に絶縁された状態で
配置されてなるシート基材を有する異方導電性シートで
あって、前記シート基材における導電路形成部上に、硬
化性樹脂中に導電性粉末が分散されてなる導電性接着層
を介して、接点用導電材料が一体的に設けられているこ
とを特徴とする。According to the present invention, there is provided an anisotropic conductive sheet in which a plurality of conductive path forming portions each extending in a thickness direction and having elasticity are arranged in a state of being insulated from each other by an insulating portion. An anisotropic conductive sheet having a base material, on a conductive path forming portion of the sheet base material, via a conductive adhesive layer in which conductive powder is dispersed in a curable resin, and a conductive material for contact. Are provided integrally.
【0011】本発明の異方導電性シートにおいては、前
記シート基材には、前記導電路形成部の上面が前記絶縁
部の上面より下方に位置されることによって当該導電路
形成部上に凹所が形成されており、このシート基材にお
ける凹所内に、前記導電性接着層が収容されていること
が好ましい。また、前記導電性接着層が、前記シート基
材の表面から突出するよう設けられている場合には、前
記接点用導電材料が、前記導電性接着層の上面および側
面を覆うよう設けられていることが好ましい。また、前
記接点用導電材料が金属シートまたは金属膜よりなるこ
とが好ましい。In the anisotropic conductive sheet according to the present invention, the sheet substrate has a concave portion on the conductive path forming portion by arranging an upper surface of the conductive path forming portion below an upper surface of the insulating portion. It is preferable that the conductive adhesive layer is accommodated in a recess in the sheet substrate. When the conductive adhesive layer is provided so as to protrude from the surface of the sheet substrate, the conductive material for a contact is provided so as to cover an upper surface and side surfaces of the conductive adhesive layer. Is preferred. Further, it is preferable that the conductive material for a contact is made of a metal sheet or a metal film.
【0012】本発明の異方導電性シートの製造方法は、
上記の異方導電性シートを製造する方法であって、接点
用導電材料を形成するための導電材料層上に、硬化性樹
脂中に導電性粉末が分散されてなる複数の導電性接着層
を形成し、この導電性接着層上において、当該導電性接
着層に一体的に形成されたそれぞれ厚み方向に伸びる複
数の弾性を有する導電路形成部と、この導電路形成部を
相互に絶縁する絶縁部とよりなるシート基材を形成し、
その後、前記導電材料層の一部を除去することにより、
前記導電性接着層上に、当該導電材料層の残部による接
点用導電材料を形成する工程を有することを特徴とす
る。[0012] The method for producing an anisotropic conductive sheet of the present invention comprises:
A method for producing the above anisotropic conductive sheet, comprising, on a conductive material layer for forming a conductive material for a contact, a plurality of conductive adhesive layers in which conductive powder is dispersed in a curable resin. Forming a plurality of elastic conductive path forming portions formed integrally with the conductive adhesive layer and extending in the thickness direction on the conductive adhesive layer, and an insulating member for insulating the conductive path forming portions from each other; Forming a sheet base consisting of
Then, by removing a part of the conductive material layer,
Forming a contact conductive material on the conductive adhesive layer by using the remaining portion of the conductive material layer.
【0013】本発明の異方導電性シートの製造方法にお
いては、前記導電材料層は、易剥離性支持板上に支持さ
れており、前記シート基材を形成した後、前記易剥離性
支持板を前記導電材料層から剥離することが好ましい。
また、前記導電性接着層上に形成される前記接点用導電
材料が金属シートまたは金属膜よりなるものであること
が好ましい。In the method for producing an anisotropic conductive sheet according to the present invention, the conductive material layer is supported on an easily peelable support plate. Is preferably separated from the conductive material layer.
Preferably, the conductive material for a contact formed on the conductive adhesive layer is formed of a metal sheet or a metal film.
【0014】[0014]
【作用】(1)シート基材における導電路形成部上に
は、導電性接着層を介して接点用導電材料が形成されて
いるため、接続すべき電極がその表面に酸化膜を有する
ものであっても、接点用導電材料によって当該酸化膜を
突き破ることができるため、所要の電気的接続が確実に
達成される。 (2)接続すべき電極には、シート基材における導電路
形成部が直接接触することがないため、導電路形成部を
構成する弾性高分子物質中に含有される低分子量成分に
より、電極の表面が汚染されることがない。 (3)導電性接着層を構成する硬化性樹脂は、弾性高分
子物質および金属の両方に対して高い接着性を有し、し
かも、当該導電性接着層自体が変形することがないた
め、多数回にわたって繰り返し使用した場合であって
も、導電路形成部からの導電性接着層の剥離および導電
性接着層からの接点用導電材料の剥離が生ずることがな
く、長い使用寿命が得られる。(1) Since the conductive material for contact is formed on the conductive path forming portion of the sheet substrate via the conductive adhesive layer, the electrode to be connected has an oxide film on its surface. Even so, the oxide film can be pierced by the conductive material for the contact, so that the required electrical connection is reliably achieved. (2) Since the conductive path forming portion of the sheet substrate does not directly contact the electrode to be connected, the low molecular weight component contained in the elastic polymer material forming the conductive path forming portion causes the electrode to be connected. No contamination of the surface. (3) The curable resin constituting the conductive adhesive layer has high adhesiveness to both the elastic polymer substance and the metal, and the conductive adhesive layer itself is not deformed. Even when the conductive adhesive layer is used repeatedly, the conductive adhesive layer does not peel off from the conductive path forming portion and the contact conductive material does not peel off from the conductive adhesive layer, so that a long service life can be obtained.
【0015】[0015]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。 〈第1の実施の形態〉図1は、本発明の異方導電性シー
トに係る第1の実施の形態における要部の構成を示す説
明用断面図である。この異方導電性シートは、それぞれ
厚み方向に伸びる複数の導電路形成部11と、これらの
導電路形成部11を相互に絶縁する絶縁部12とよりな
るシート基材10を有する。このシート基材10におけ
る導電路形成部11の各々は、弾性を有する導電性材料
により構成され、当該シート基材10の面方向に沿っ
て、接続すべき電極のパターンに対応するパターンに従
って配置されている。そして、導電路形成部11上に
は、導電性接着層20を介して、接点用導電材料30が
一体的に設けられている。この第1の実施の形態におい
て、導電路形成部11の各々は、絶縁部12の厚みと同
一の厚みを有し、その上面が絶縁部12の上面と同一平
面上に位置するよう配置されており、これにより、導電
性接着層20および接点用導電材料30が、シート基材
10における絶縁部12の表面から突出した状態とされ
ている。Embodiments of the present invention will be described below in detail. <First Embodiment> FIG. 1 is an explanatory sectional view showing the structure of a main part of a first embodiment of the anisotropic conductive sheet of the present invention. The anisotropic conductive sheet has a sheet substrate 10 including a plurality of conductive path forming portions 11 extending in the thickness direction, and an insulating portion 12 for insulating the conductive path forming portions 11 from each other. Each of the conductive path forming portions 11 in the sheet substrate 10 is formed of a conductive material having elasticity, and is arranged along the surface direction of the sheet substrate 10 according to a pattern corresponding to a pattern of an electrode to be connected. ing. The conductive material for contact 30 is integrally provided on the conductive path forming portion 11 via the conductive adhesive layer 20. In the first embodiment, each of the conductive path forming portions 11 has the same thickness as the thickness of the insulating portion 12, and is arranged such that its upper surface is located on the same plane as the upper surface of the insulating portion 12. As a result, the conductive adhesive layer 20 and the conductive material for contact 30 are in a state of protruding from the surface of the insulating portion 12 of the sheet substrate 10.
【0016】シート基材10における導電路形成部11
は、絶縁性の弾性高分子物質中に導電性粒子が含有され
て構成され、好ましくは弾性高分子物質中に導電性粒子
が厚み方向に並んだ状態で配向されており、この導電性
粒子により、当該導電路形成部の厚み方向に導電路が形
成される。この導電路形成部11は、厚み方向に加圧さ
れて圧縮されたときに抵抗値が減少して導電路が形成さ
れる、加圧導電路形成部とすることもできる。The conductive path forming portion 11 in the sheet substrate 10
Is constituted by containing conductive particles in an insulating elastic polymer material, and preferably, the conductive particles are oriented in the elastic polymer material in a state of being arranged in the thickness direction. A conductive path is formed in the thickness direction of the conductive path forming portion. The conductive path forming section 11 may be a pressurized conductive path forming section in which a conductive path is formed by reducing a resistance value when compressed in a thickness direction and compressed.
【0017】導電路形成部11に用いられる絶縁性の弾
性高分子物質としては、架橋構造を有する高分子物質が
好ましい。架橋高分子物質を得るために用いることので
きる硬化性の高分子物質形成材料としては、種々のもの
を用いることができ、その具体例としては、ポリブタジ
エンゴム、天然ゴム、ポリイソプレンゴム、スチレン−
ブタジエン共重合体ゴム、アクリロニトリル−ブタジエ
ン共重合体ゴムなどの共役ジエン系ゴムおよびこれらの
水素添加物、スチレン−ブタジエン−ジエンブロック共
重合体ゴム、スチレン−イソプレンブロック共重合体な
どのブロック共重合体ゴムおよびこれらの水素添加物、
クロロプレン、ウレタンゴム、ポリエステル系ゴム、エ
ピクロルヒドリンゴム、シリコーンゴム、エチレン−プ
ロピレン共重合体ゴム、エチレン−プロピレン−ジエン
共重合体ゴムなどが挙げられる。以上において、得られ
る異方導電性シートに耐候性が要求される場合には、共
役ジエン系ゴム以外のものを用いることが好ましく、特
に、成形加工性および電気特性の観点から、シリコーン
ゴムを用いることが好ましい。As the insulating elastic high molecular substance used for the conductive path forming portion 11, a high molecular substance having a crosslinked structure is preferable. Various materials can be used as the curable polymer substance forming material that can be used to obtain the crosslinked polymer substance, and specific examples thereof include polybutadiene rubber, natural rubber, polyisoprene rubber, and styrene-
Conjugated diene rubbers such as butadiene copolymer rubber and acrylonitrile-butadiene copolymer rubber and hydrogenated products thereof, and block copolymers such as styrene-butadiene-diene block copolymer rubber and styrene-isoprene block copolymer Rubber and their hydrogenated products,
Examples include chloroprene, urethane rubber, polyester rubber, epichlorohydrin rubber, silicone rubber, ethylene-propylene copolymer rubber, and ethylene-propylene-diene copolymer rubber. In the above, when weather resistance is required for the obtained anisotropic conductive sheet, it is preferable to use a material other than the conjugated diene rubber, and particularly, from the viewpoint of moldability and electrical characteristics, use of silicone rubber Is preferred.
【0018】シリコーンゴムとしては、液状シリコーン
ゴムを架橋または縮合したものが好ましい。液状シリコ
ーンゴムは、その粘度が歪速度10-1secで105 ポ
アズ以下のものが好ましく、縮合型のもの、付加型のも
の、ビニル基やヒドロキシル基を含有するものなどのい
ずれであってもよい。具体的には、ジメチルシリコーン
生ゴム、メチルビニルシリコーン生ゴム、メチルフェニ
ルビニルシリコーン生ゴムなどを挙げることができる。Preferably, the silicone rubber is obtained by crosslinking or condensing a liquid silicone rubber. The liquid silicone rubber preferably has a viscosity of 10 5 poise or less at a strain rate of 10 −1 sec, and may be any of condensation type, addition type, and those containing a vinyl group or a hydroxyl group. Good. Specifically, dimethylsilicone raw rubber, methylvinylsilicone raw rubber, methylphenylvinylsilicone raw rubber and the like can be mentioned.
【0019】これらの中で、ビニル基を含有する液状シ
リコーンゴム(ビニル基含有ポリジメチルシロキサン)
は、通常、ジメチルジクロロシランまたはジメチルジア
ルコキシシランを、ジメチルビニルクロロシランまたは
ジメチルビニルアルコキシシランの存在下において、加
水分解および縮合反応させ、例えば引続き溶解−沈殿の
繰り返しによる分別を行うことにより得られる。また、
ビニル基を両末端に含有する液状シリコーンゴムは、オ
クタメチルシクロテトラシロキサンのような環状シロキ
サンを触媒の存在下においてアニオン重合し、重合停止
剤として例えばジメチルジビニルシロキサンを用い、そ
の他の反応条件(例えば、環状シロキサンの量および重
合停止剤の量)を適宜選択することにより得られる。こ
こで、アニオン重合の触媒としては、水酸化テトラメチ
ルアンモニウムおよび水酸化n−ブチルホスホニウムな
どのアルカリまたはこれらのシラノレート溶液などを用
いることができ、反応温度は、例えば80〜130℃で
ある。このようなビニル基含有ポリジメチルシロキサン
は、その分子量Mw(標準ポリスチレン換算重量平均分
子量をいう。以下同じ。)が10000〜40000の
ものであることが好ましい。また、得られる導電路素子
の耐熱性の観点から、分子量分布指数(標準ポリスチレ
ン換算重量平均分子量Mwと標準ポリスチレン換算数平
均分子量Mnとの比Mw/Mnの値をいう。以下同
じ。)が2.0以下のものが好ましい。Among these, liquid group-containing silicone rubber (vinyl group-containing polydimethylsiloxane)
Is usually obtained by subjecting dimethyldichlorosilane or dimethyldialkoxysilane to hydrolysis and condensation reaction in the presence of dimethylvinylchlorosilane or dimethylvinylalkoxysilane, for example, followed by fractionation by repeated dissolution-precipitation. Also,
The liquid silicone rubber containing vinyl groups at both ends is anionically polymerized with a cyclic siloxane such as octamethylcyclotetrasiloxane in the presence of a catalyst, and uses, for example, dimethyldivinylsiloxane as a polymerization terminator and other reaction conditions (for example, , The amount of the cyclic siloxane and the amount of the polymerization terminator). Here, as a catalyst for anionic polymerization, alkali such as tetramethylammonium hydroxide and n-butylphosphonium hydroxide or a silanolate solution thereof can be used. The reaction temperature is, for example, 80 to 130 ° C. Such a vinyl group-containing polydimethylsiloxane preferably has a molecular weight Mw (weight average molecular weight in terms of standard polystyrene; the same applies hereinafter) of 10,000 to 40,000. In addition, from the viewpoint of heat resistance of the obtained conductive path element, the molecular weight distribution index (the value of the ratio Mw / Mn between the standard polystyrene-equivalent weight average molecular weight Mw and the standard polystyrene-equivalent number average molecular weight Mn; hereinafter the same) is 2. 0.0 or less is preferable.
【0020】一方、ヒドロキシル基を含有する液状シリ
コーンゴム(ヒドロキシル基含有ポリジメチルシロキサ
ン)は、通常、ジメチルジクロロシランまたはジメチル
ジアルコキシシランを、ジメチルヒドロクロロシランま
たはジメチルヒドロアルコキシシランの存在下におい
て、加水分解および縮合反応させ、例えば引続き溶解−
沈殿の繰り返しによる分別を行うことにより得られる。
また、環状シロキサンを触媒の存在下においてアニオン
重合し、重合停止剤として、例えばジメチルヒドロクロ
ロシラン、メチルジヒドロクロロシランまたはジメチル
ヒドロアルコキシシランなどを用い、その他の反応条件
(例えば、環状シロキサンの量および重合停止剤の量)
を適宜選択することによっても得られる。ここで、アニ
オン重合の触媒としては、水酸化テトラメチルアンモニ
ウムおよび水酸化n−ブチルホスホニウムなどのアルカ
リまたはこれらのシラノレート溶液などを用いることが
でき、反応温度は、例えば80〜130℃である。この
ようなヒドロキシル基含有ポリジメチルシロキサンは、
その分子量Mwが10000〜40000のものである
ことが好ましい。また、得られる導電路素子の耐熱性の
観点から、分子量分布指数が2.0以下のものが好まし
い。本発明においては、上記のビニル基含有ポリジメチ
ルシロキサンおよびヒドロキシル基含有ポリジメチルシ
ロキサンのいずれか一方を用いることもでき、両者を併
用することもできる。On the other hand, a liquid silicone rubber containing hydroxyl groups (hydroxyl group-containing polydimethylsiloxane) is usually prepared by hydrolyzing dimethyldichlorosilane or dimethyldialkoxysilane in the presence of dimethylhydrochlorosilane or dimethylhydroalkoxysilane. And condensation reaction, for example,
It is obtained by performing fractionation by repeating precipitation.
The cyclic siloxane is anionically polymerized in the presence of a catalyst, and a polymerization terminator such as dimethylhydrochlorosilane, methyldihydrochlorosilane or dimethylhydroalkoxysilane is used. Other reaction conditions (for example, the amount of the cyclic siloxane and the polymerization termination) Amount of agent)
Can also be obtained by appropriately selecting Here, as a catalyst for anionic polymerization, alkali such as tetramethylammonium hydroxide and n-butylphosphonium hydroxide or a silanolate solution thereof can be used. The reaction temperature is, for example, 80 to 130 ° C. Such hydroxyl group-containing polydimethylsiloxane is,
It is preferable that the molecular weight Mw is 10,000 to 40,000. Further, from the viewpoint of heat resistance of the obtained conductive path element, those having a molecular weight distribution index of 2.0 or less are preferable. In the present invention, either one of the above-mentioned vinyl group-containing polydimethylsiloxane and hydroxyl group-containing polydimethylsiloxane can be used, or both can be used in combination.
【0021】導電路形成部11に用いられる導電性粒子
としては、後述する方法により当該粒子をシート基材1
0の厚み方向に容易に配向させることができる観点か
ら、導電性磁性体粒子を用いることが好ましい。この導
電性磁性体粒子の具体例としては、ニッケル、鉄、コバ
ルトなどの磁性を示す金属の粒子若しくはこれらの合金
の粒子またはこれらの金属を含有する粒子、またはこれ
らの粒子を芯粒子とし、当該芯粒子の表面に金、銀、パ
ラジウム、ロジウムなどの導電性の良好な金属のメッキ
を施したもの、あるいは非磁性金属粒子若しくはガラス
ビーズなどの無機物質粒子またはポリマー粒子を芯粒子
とし、当該芯粒子の表面に、ニッケル、コバルトなどの
導電性磁性体のメッキを施したもの、あるいは芯粒子
に、導電性磁性体および導電性の良好な金属の両方を被
覆したものなどが挙げられる。これらの中では、ニッケ
ル粒子を芯粒子とし、その表面に金や銀などの導電性の
良好な金属のメッキを施したものを用いることが好まし
い。芯粒子の表面に導電性金属を被覆する手段として
は、特に限定されるものではないが、例えば化学メッキ
または無電解メッキにより行うことができる。As the conductive particles used in the conductive path forming portion 11, the particles are formed by a method described later.
It is preferable to use conductive magnetic particles from the viewpoint that they can be easily oriented in the thickness direction of 0. Specific examples of the conductive magnetic particles include particles of a metal exhibiting magnetism such as nickel, iron, and cobalt, or particles of an alloy thereof, or particles containing these metals, or particles containing these metals as core particles. The core particles are obtained by plating the surface of a core particle with a metal having good conductivity such as gold, silver, palladium, and rhodium, or inorganic particles or polymer particles such as nonmagnetic metal particles or glass beads as core particles. Examples thereof include a particle obtained by plating the surface of a particle with a conductive magnetic material such as nickel and cobalt, and a particle obtained by coating a core particle with both a conductive magnetic material and a metal having good conductivity. Among them, it is preferable to use nickel particles as core particles, the surfaces of which are plated with a metal having good conductivity such as gold or silver. Means for coating the surface of the core particles with a conductive metal is not particularly limited, but may be, for example, chemical plating or electroless plating.
【0022】導電性粒子として、芯粒子の表面に導電性
金属が被覆されてなるものを用いる場合には、良好な導
電性が得られる観点から、粒子表面における導電性金属
の被覆率(芯粒子の表面積に対する導電性金属の被覆面
積の割合)が40%以上であることが好ましく、さらに
好ましくは45%以上、特に好ましくは47〜95%で
ある。また、導電性金属の被覆量は、芯粒子の0.5〜
50重量%であることが好ましく、より好ましくは1〜
30重量%、さらに好ましくは3〜25重量%、特に好
ましくは4〜20重量%である。被覆される導電性金属
が金である場合には、その被覆量は、芯粒子の2.5〜
30重量%であることが好ましく、より好ましくは3〜
20重量%、さらに好ましくは3.5〜15重量%、特
に好ましくは4〜10重量%である。また、被覆される
導電性金属が銀である場合には、その被覆量は、芯粒子
の3〜50重量%であることが好ましく、より好ましく
は4〜40重量%、さらに好ましくは5〜30重量%、
特に好ましくは6〜20重量%である。When the conductive particles are formed by coating the surface of a core particle with a conductive metal, the coverage of the conductive metal on the particle surface (from the viewpoint of obtaining good conductivity) Is preferably 40% or more, more preferably 45% or more, and particularly preferably 47 to 95%. Further, the coating amount of the conductive metal is 0.5 to
It is preferably 50% by weight, more preferably 1 to
The content is 30% by weight, more preferably 3 to 25% by weight, particularly preferably 4 to 20% by weight. When the conductive metal to be coated is gold, the coating amount is from 2.5 to 2.5
It is preferably 30% by weight, more preferably 3 to
It is 20% by weight, more preferably 3.5 to 15% by weight, particularly preferably 4 to 10% by weight. When the conductive metal to be coated is silver, the coating amount is preferably 3 to 50% by weight of the core particles, more preferably 4 to 40% by weight, and further preferably 5 to 30% by weight. weight%,
Particularly preferably, it is 6 to 20% by weight.
【0023】また、導電性粒子の粒子径は、1〜100
0μmであることが好ましく、より好ましくは2〜50
0μm、さらに好ましくは5〜300μm、特に好まし
くは10〜200μmである。また、導電性粒子の粒子
径分布(Dw/Dn)は、1〜10であることが好まし
く、より好ましくは1.01〜7、さらに好ましくは
1.05〜5、特に好ましくは1.1〜4である。この
ような条件を満足する導電性粒子を用いることにより、
得られる導電路形成部11は、加圧変形が容易なものと
なり、また、当該導電路形成部11において導電性粒子
間に十分な電気的接触が得られる。また、導電性粒子の
形状は、特に限定されるものではないが、高分子物質用
材料中に容易に分散させることができる点で、球状のも
の、星形状のものあるいはこれらが凝集した2次粒子に
よる塊状のものであることが好ましい。The conductive particles have a particle size of 1 to 100.
0 μm, more preferably 2 to 50 μm.
0 μm, more preferably 5 to 300 μm, particularly preferably 10 to 200 μm. Further, the particle size distribution (Dw / Dn) of the conductive particles is preferably 1 to 10, more preferably 1.01 to 7, further preferably 1.05 to 5, and particularly preferably 1.1 to 1. 4. By using conductive particles that satisfy such conditions,
The obtained conductive path forming portion 11 can be easily deformed under pressure, and sufficient electrical contact between the conductive particles can be obtained in the conductive path forming portion 11. Further, the shape of the conductive particles is not particularly limited, but is spherical, star-shaped, or a secondary particle in which these are aggregated because they can be easily dispersed in the polymer material. It is preferably in the form of a lump of particles.
【0024】また、導電性粒子の含水率は、5%以下で
あることが好ましく、より好ましくは3%以下、さらに
好ましくは2%以下、とくに好ましくは1%以下であ
る。このような条件を満足する導電性粒子を用いること
により、後述する製造方法において、高分子物質用材料
層を硬化処理する際に、当該高分子物質用材料層内に気
泡が生ずることが防止または抑制される。The water content of the conductive particles is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, further preferably 2% or less, and particularly preferably 1% or less. By using the conductive particles satisfying such conditions, it is possible to prevent bubbles from being generated in the polymer material layer when the polymer material layer is cured in the manufacturing method described below or Is suppressed.
【0025】また、導電性粒子として、その表面がシラ
ンカップリング剤などのカップリング剤で処理されたも
のを適宜用いることができる。導電性粒子の表面がカッ
プリング剤で処理されることにより、当該導電性粒子と
弾性高分子物質との接着性が高くなり、その結果、得ら
れる導電路形成部11は、繰り返しの使用における耐久
性が高いものとなる。カップリング剤の使用量は、導電
性粒子の導電性に影響を与えない範囲で適宜選択される
が、導電性粒子表面におけるカップリング剤の被覆率
(導電性芯粒子の表面積に対するカップリング剤の被覆
面積の割合)が5%以上となる量であることが好まし
く、より好ましくは上記被覆率が7〜100%、さらに
好ましくは10〜100%、特に好ましくは20〜10
0%となる量である。As the conductive particles, those whose surfaces have been treated with a coupling agent such as a silane coupling agent can be used as appropriate. When the surface of the conductive particles is treated with the coupling agent, the adhesion between the conductive particles and the elastic polymer material is increased, and as a result, the obtained conductive path forming portion 11 has durability in repeated use. It becomes high. The amount of the coupling agent used is appropriately selected within a range that does not affect the conductivity of the conductive particles. However, the coverage of the coupling agent on the surface of the conductive particles (the ratio of the coupling agent to the surface area of the conductive core particles). (The ratio of the coating area) is preferably 5% or more, more preferably 7 to 100%, further preferably 10 to 100%, and particularly preferably 20 to 10%.
The amount is 0%.
【0026】このような導電性粒子は、導電路形成部1
1中に体積分率で30〜60%、好ましくは35〜50
%となる割合で含有されていることが好ましい。この割
合が30%未満の場合には、十分に電気抵抗値の小さい
導電路形成部11が得られないことがある。一方、この
割合が60%を超える場合には、得られる導電路形成部
11は脆弱なものとなりやすく、導電路形成部として必
要な弾性が得られないことがある。The conductive particles are formed in the conductive path forming portion 1.
1 to 30 to 60% by volume fraction, preferably 35 to 50
% Is preferable. If the ratio is less than 30%, the conductive path forming portion 11 having a sufficiently small electric resistance value may not be obtained. On the other hand, if this ratio exceeds 60%, the obtained conductive path forming portion 11 tends to be fragile, and the elasticity required for the conductive path forming portion may not be obtained.
【0027】シート基材10における絶縁部12は、絶
縁性を有する弾性高分子物質により構成されている。か
かる弾性高分子物質を得るために用いることのできる硬
化性の高分子物質形成材料としては、ポリブタジエンゴ
ム、天然ゴム、ポリイソプレンゴム、スチレン−ブタジ
エン共重合体ゴム、アクリロニトリル−ブタジエン共重
合体ゴムなどの共役ジエン系ゴムおよびこれらの水素添
加物、スチレン−ブタジエン−ジエンブロック共重合体
ゴム、スチレン−イソプレンブロック共重合体などのブ
ロック共重合体ゴムおよびこれらの水素添加物、クロロ
プレン、ウレタンゴム、ポリエステル系ゴム、エピクロ
ルヒドリンゴム、シリコーンゴム、エチレン−プロピレ
ン共重合体ゴム、エチレン−プロピレン−ジエン共重合
体ゴムなどが挙げられ、得られる異方導電性シートに耐
候性が要求される場合には、共役ジエン系ゴム以外のも
のを用いることが好ましい。The insulating portion 12 of the sheet base 10 is made of an elastic high-molecular substance having an insulating property. Curable polymer material forming materials that can be used to obtain such an elastic polymer material include polybutadiene rubber, natural rubber, polyisoprene rubber, styrene-butadiene copolymer rubber, acrylonitrile-butadiene copolymer rubber, and the like. Conjugated diene rubbers and hydrogenated products thereof, styrene-butadiene-diene block copolymer rubbers, block copolymer rubbers such as styrene-isoprene block copolymers and hydrogenated products thereof, chloroprene, urethane rubber, polyester Base rubber, epichlorohydrin rubber, silicone rubber, ethylene-propylene copolymer rubber, ethylene-propylene-diene copolymer rubber, and the like.If the obtained anisotropic conductive sheet is required to have weather resistance, it may be conjugated. Use other than diene rubber Preferred.
【0028】絶縁部12を構成する弾性高分子物質とし
ては、導電路形成部12を構成する弾性高分子物質と同
一の種類のものあるいは異なる種類のものを用いること
ができる。また、絶縁部12は、導電路形成部11と一
体であってもよく、また、別体のものであってもよい。As the elastic high molecular substance forming the insulating section 12, the same type or different type of elastic high molecular substance forming the conductive path forming section 12 can be used. Further, the insulating section 12 may be integrated with the conductive path forming section 11 or may be separate.
【0029】シート基材10の厚みは、例えば0.1〜
2mmであり、好ましくは0.2〜1mmである。ま
た、導電路形成部11の径は、例えば0.02〜1mm
であり、好ましくは0.05〜0.5mmである。The thickness of the sheet substrate 10 is, for example, 0.1 to
2 mm, preferably 0.2 to 1 mm. The diameter of the conductive path forming portion 11 is, for example, 0.02 to 1 mm.
And preferably 0.05 to 0.5 mm.
【0030】導電性接着層20は、硬化性樹脂中に導電
性粉末が分散されてなるものである。導電性接着層20
を構成する硬化性樹脂としては、種々の熱硬化性樹脂ま
たは放射線硬化性樹脂を用いることができ、その具体例
としては、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、フェノール
樹脂などが挙げられる。導電性接着層20を構成する導
電性粉末としては、種々の金属粉末を用いることがで
き、その具体例としては、銀粉末、パラジウム粉末、銀
−パラジウム合金の粉末、金粉末、銅粉末またはこれら
の金属粉末の混合物などが挙げられる。導電性接着層2
0の厚みは、例えば0.05〜0.5mmであり、好ま
しくは0.15〜0.25mmである。The conductive adhesive layer 20 is formed by dispersing conductive powder in a curable resin. Conductive adhesive layer 20
Various thermosetting resins or radiation-curable resins can be used as the curable resin constituting the resin, and specific examples thereof include an epoxy resin, a polyimide resin, and a phenol resin. As the conductive powder constituting the conductive adhesive layer 20, various metal powders can be used, and specific examples thereof include silver powder, palladium powder, silver-palladium alloy powder, gold powder, copper powder or these. And the like. Conductive adhesive layer 2
The thickness of 0 is, for example, 0.05 to 0.5 mm, and preferably 0.15 to 0.25 mm.
【0031】導電性接着層20における導電性粉末の含
有割合は、体積分率で30〜70%、特に40〜60%
であることが好ましい。この含有割合が過小である場合
には、所要の導電性を有する導電性接着層20を得るこ
とが困難となることがある。一方、この含有割合が過大
である場合には、得られる導電性接着層20は、強度の
低いものとなりやすく、繰り返し使用した場合に、早期
に破損してしまい、長い使用寿命が得られないことがあ
る。The content ratio of the conductive powder in the conductive adhesive layer 20 is 30 to 70% by volume, particularly 40 to 60%.
It is preferred that If this content ratio is too small, it may be difficult to obtain the conductive adhesive layer 20 having the required conductivity. On the other hand, if this content ratio is excessive, the obtained conductive adhesive layer 20 tends to have low strength, and when repeatedly used, is broken early and cannot provide a long service life. There is.
【0032】接点用導電材料30としては、導電性ポリ
マーなどの有機物よりなるものやこれに金属が混合され
た組成物よりなるもの、金属シートまたは金属膜等の金
属よりなるものなどを用いることができる。これらの中
でも、接続すべき電極の表面に形成された酸化膜を確実
に突き破ることができる点で、金属シートまたは金属膜
等の金属よりなるものを用いることが好ましく、かかる
金属の具体例としては、銅、金、ロジウム、白金、パラ
ジウム、ニッケルまたはそれらのメッキあるいはそれら
の合金などを用いることができる。このような接点用導
電材料30は、例えばニッケル層/銅層/金層などの積
層体により構成されていてもよい。また、接点用導電材
料30の厚みは、例えば0.01〜0.5mmであり、
好ましくは0.025〜0.1mmである。As the conductive material 30 for the contact, a material made of an organic material such as a conductive polymer, a material mixed with a metal, a material made of a metal such as a metal sheet or a metal film, or the like can be used. it can. Among these, it is preferable to use a metal sheet or a metal film or other metal, since it can reliably break through an oxide film formed on the surface of the electrode to be connected. Specific examples of such a metal include , Copper, gold, rhodium, platinum, palladium, nickel or their plating or alloys thereof. Such a contact conductive material 30 may be composed of a laminate such as a nickel layer / copper layer / gold layer. In addition, the thickness of the contact conductive material 30 is, for example, 0.01 to 0.5 mm,
Preferably it is 0.025 to 0.1 mm.
【0033】上記の異方導電性シートは、例えば以下の
方法(イ)または方法(ロ)によって製造することがで
きる。 方法(イ):この方法(イ)においては、先ず、図2に
示すように、平滑な一面41を有する易剥離性支持板4
0を用意し、この易剥離性支持板40の一面41に、接
点用導電材料30を形成するための例えば金属よりなる
導電材料層30Aを形成する。次いで、図3に示すよう
に、易剥離性支持板40の一面41上に支持された導電
材料層30A上に、フォトリソグラフィーの手法によ
り、目的とする導電路形成部11の配置パターンに対応
するパターンに従って形成された孔46を有するレジス
ト層45を形成する。そして、レジスト層45の孔46
内に、硬化性樹脂材料中に導電性粉末が分散されてなる
流動性の導電性接着層形成材料を充填し、当該導電性接
着層形成材料の硬化処理を行うことにより、図4に示す
ように、レジスト層45の孔46内に導電性接着層20
が形成される。The above-described anisotropic conductive sheet can be produced, for example, by the following method (a) or method (b). Method (a): In this method (a), first, as shown in FIG.
A conductive material layer 30A made of, for example, a metal for forming the contact conductive material 30 is formed on one surface 41 of the easily peelable support plate 40. Next, as shown in FIG. 3, the conductive pattern corresponding to the intended arrangement pattern of the conductive path forming portions 11 is formed on the conductive material layer 30 </ b> A supported on the one surface 41 of the easily peelable support plate 40 by photolithography. A resist layer 45 having holes 46 formed according to the pattern is formed. Then, the holes 46 in the resist layer 45 are formed.
Is filled with a fluid conductive adhesive layer forming material obtained by dispersing conductive powder in a curable resin material, and the conductive adhesive layer forming material is cured, as shown in FIG. Then, the conductive adhesive layer 20 is formed in the hole 46 of the resist layer 45.
Is formed.
【0034】以上において、易剥離性支持板40を構成
する材料としては、ステンレス(SUS)が好ましく用
いられる。また、易剥離性支持板40の一面41に金属
よりなる導電材料層30Aを形成する方法としては、ス
パッタリング法、蒸着法、その他のメッキ法などを利用
することができる。レジスト層45の孔46内に導電性
接着層形成材料を充填する方法としては、スクリーン印
刷等の印刷法、多孔印刷法などを利用することができ
る。In the above, stainless steel (SUS) is preferably used as a material constituting the easily peelable support plate 40. In addition, as a method for forming the conductive material layer 30A made of metal on one surface 41 of the easily peelable support plate 40, a sputtering method, an evaporation method, another plating method, or the like can be used. As a method of filling the conductive adhesive layer forming material into the holes 46 of the resist layer 45, a printing method such as screen printing, a porous printing method, or the like can be used.
【0035】次いで、レジスト層45および導電性接着
層20の上面に、硬化されて弾性高分子物質となる高分
子物質用材料中に導電性磁性体粒子が分散されてなるシ
ート基材形成材料を塗布することにより、図5に示すよ
うに、レジスト層45および導電性接着層20の上面に
シート基材形成材料層10Aが形成される。Next, on the upper surfaces of the resist layer 45 and the conductive adhesive layer 20, a sheet base forming material in which conductive magnetic particles are dispersed in a polymer material which is cured to become an elastic polymer material is provided. By applying, as shown in FIG. 5, the sheet base material forming material layer 10A is formed on the upper surfaces of the resist layer 45 and the conductive adhesive layer 20.
【0036】シート基材形成材料中には、高分子物質形
成材料を硬化させるための硬化触媒を含有させることが
できる。このような硬化触媒としては、有機過酸化物、
脂肪酸アゾ化合物、ヒドロシリル化触媒などを用いるこ
とができる。 硬化触媒として用いられる有機過酸化物
の具体例としては、過酸化ベンゾイル、過酸化ビスジシ
クロベンゾイル、過酸化ジクミル、過酸化ジターシャリ
ーブチルなどが挙げられる。硬化触媒として用いられる
脂肪酸アゾ化合物の具体例としては、アゾビスイソブチ
ロニトリルなどが挙げられる。ヒドロシリル化反応の触
媒として使用し得るものの具体例としては、塩化白金酸
およびその塩、白金−不飽和基含有シロキサンコンプレ
ックス、ビニルシロキサンと白金とのコンプレックス、
白金と1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサンとの
コンプレックス、トリオルガノホスフィンあるいはホス
ファイトと白金とのコンプレックス、アセチルアセテー
ト白金キレート、環状ジエンと白金とのコンプレックス
などの公知のものが挙げられる。硬化触媒の使用量は、
高分子物質形成材料の種類、硬化触媒の種類、その他の
硬化処理条件を考慮して適宜選択されるが、通常、高分
子物質形成材料100重量部に対して3〜15重量部で
ある。The sheet base material may contain a curing catalyst for curing the polymer substance forming material. Such curing catalysts include organic peroxides,
Fatty acid azo compounds, hydrosilylation catalysts and the like can be used. Specific examples of the organic peroxide used as the curing catalyst include benzoyl peroxide, bisdicyclobenzoyl peroxide, dicumyl peroxide, and ditertiary butyl peroxide. Specific examples of the fatty acid azo compound used as a curing catalyst include azobisisobutyronitrile. Specific examples of those which can be used as a catalyst for the hydrosilylation reaction include chloroplatinic acid and salts thereof, a platinum-unsaturated group-containing siloxane complex, a complex of vinylsiloxane and platinum,
Known examples include a complex of platinum and 1,3-divinyltetramethyldisiloxane, a complex of triorganophosphine or phosphite and platinum, an acetylacetate platinum chelate, and a complex of cyclic diene and platinum. The amount of curing catalyst used is
It is appropriately selected in consideration of the type of the polymer-forming material, the type of the curing catalyst, and other curing treatment conditions, and is usually 3 to 15 parts by weight based on 100 parts by weight of the polymer-forming material.
【0037】また、シート基材形成材料中には、必要に
応じて、通常のシリカ粉、コロイダルシリカ、エアロゲ
ルシリカ、ナルミナなどの無機充填材を含有させること
ができる。このような無機充填材を含有させることによ
り、当該シート基材形成材料のチクソトロピー性が確保
され、その粘度が高くなり、しかも、導電性粒子の分散
安定性が向上すると共に、得られるシート基材の強度が
高くなる。このような無機充填材の使用量は、特に限定
されるものではないが、多量に使用すると、後述する製
造方法において、磁場による導電性磁性体粒子の配向を
十分に達成することができなくなるため、好ましくな
い。また、シート基材形成材料の粘度は、温度25℃に
おいて100000〜1000000cpの範囲内であ
ることが好ましい。[0037] The sheet base material may contain an inorganic filler such as ordinary silica powder, colloidal silica, airgel silica, and nalmina, if necessary. By including such an inorganic filler, the thixotropy of the sheet base material is secured, the viscosity thereof is increased, and the dispersion stability of the conductive particles is improved, and the obtained sheet base material is obtained. The strength of is increased. The use amount of such an inorganic filler is not particularly limited, but if used in a large amount, the orientation of the conductive magnetic particles due to the magnetic field cannot be sufficiently achieved in the manufacturing method described below. Is not preferred. The viscosity of the sheet base material is preferably in the range of 100,000 to 1,000,000 cp at a temperature of 25 ° C.
【0038】次いで、図6に示すように、シート基材形
成材料層10Aの上面に一方の磁極板50を配置すると
共に、易剥離性支持板40の下面に他方の磁極板55を
配置し、更に、一方の磁極板50の上面および他方の磁
極板55の下面に一対の電磁石51,56を配置する。
ここで、一方の磁極板50は、目的とする導電路形成部
11の配置パターンに対掌なパターンに従って強磁性体
部分Mが形成され、この強磁性体部分M以外の部分には
非磁性体部分Nが形成されており、当該強磁性体部分M
が導電性接着層20の上方に位置するよう配置される。
また、他方の磁極板55は、目的とする導電路形成部1
1の配置パターンと同一のパターンに従って強磁性体部
分Mが形成され、この強磁性体部分M以外の部分には非
磁性体部分Nが形成されており、当該強磁性体部分Mが
導電性接着層20の下方に位置するよう配置される。Next, as shown in FIG. 6, one magnetic pole plate 50 is arranged on the upper surface of the sheet base material forming material layer 10A, and the other magnetic pole plate 55 is arranged on the lower surface of the easily peelable support plate 40. Further, a pair of electromagnets 51 and 56 are arranged on the upper surface of one pole plate 50 and the lower surface of the other pole plate 55.
Here, the one magnetic pole plate 50 has a ferromagnetic material portion M formed in accordance with a pattern opposite to the intended arrangement pattern of the conductive path forming portions 11, and a non-magnetic material portion is provided on portions other than the ferromagnetic material portion M. A portion N is formed, and the ferromagnetic portion M
Are arranged above the conductive adhesive layer 20.
Further, the other magnetic pole plate 55 is provided with the target conductive path forming portion 1.
A ferromagnetic portion M is formed according to the same pattern as the arrangement pattern of No. 1, and a non-magnetic portion N is formed in a portion other than the ferromagnetic portion M. It is arranged to be located below the layer 20.
【0039】一方の磁極板50および他方の磁極板55
の各々における強磁性体部分Mを構成する材料として
は、鉄、ニッケル、コバルトまたはこれらの合金などを
用いることができる。また、一方の磁極板50および他
方の磁極板55の各々における非磁性体部分Nを構成す
る材料としては、銅などの非磁性金属、ポリイミドなど
の耐熱性樹脂などを用いることができる。One pole plate 50 and the other pole plate 55
As a material constituting the ferromagnetic portion M in each of the above, iron, nickel, cobalt, or an alloy thereof can be used. In addition, as a material forming the nonmagnetic portion N in each of the one magnetic pole plate 50 and the other magnetic pole plate 55, a nonmagnetic metal such as copper, a heat-resistant resin such as polyimide, or the like can be used.
【0040】そして、電磁石51,56を作動させるこ
とにより、一方の磁極板50の強磁性体部分Mからこれ
に対応する他方の磁極板55の強磁性体部分Mに向かう
方向に平行磁場が作用する。その結果、シート基材形成
材料層10Aにおいては、当該シート基材形成材料層1
0A中に分散されていた導電性磁性体粒子が、一方の磁
極板50の強磁性体部分Mとこれに対応する他方の磁極
板55の強磁性体部分Mとの間に位置する部分に集合
し、更に好ましくは当該シート基材形成材料層10Aの
厚み方向に配向する。そして、この状態において、シー
ト基材形成材料層10Aを硬化処理することにより、図
7に示すように、一方の磁極板50の強磁性体部分Mと
これに対応する他方の磁極板55の強磁性体部分Mとの
間に配置された、導電性磁性体粒子が密に充填された導
電路形成部11と、導電性磁性体粒子が全くあるいは殆
ど存在しない絶縁部12とよりなるシート基材10が形
成される。By operating the electromagnets 51 and 56, a parallel magnetic field acts in a direction from the ferromagnetic portion M of the one pole plate 50 to the corresponding ferromagnetic portion M of the other pole plate 55. I do. As a result, in the sheet base material forming layer 10A, the sheet base forming material layer 1
The conductive magnetic particles dispersed in the magnetic poles 0A gather in a portion located between the ferromagnetic portion M of one pole plate 50 and the corresponding ferromagnetic portion M of the other pole plate 55. And more preferably, it is oriented in the thickness direction of the sheet base forming material layer 10A. In this state, by curing the sheet base material forming layer 10A, as shown in FIG. 7, the strength of the ferromagnetic portion M of one pole plate 50 and the strength of the other pole plate 55 corresponding to the ferromagnetic portion M are increased. A sheet base comprising a conductive path forming portion 11 densely filled with conductive magnetic particles and an insulating portion 12 containing no or almost no conductive magnetic particles, disposed between the magnetic portion M 10 are formed.
【0041】以上において、シート基材形成材料層10
Aの硬化処理は、平行磁場を作用させたままの状態で行
うこともできるが、平行磁場の作用を停止させた後に行
うこともできる。シート基材形成材料層10Aに作用さ
れる平行磁場の強度は、平均で200〜10000ガウ
スとなる大きさが好ましい。また、平行磁場を作用させ
る手段としては、電磁石の代わりに永久磁石を用いるこ
ともできる。このような永久磁石としては、上記の範囲
の平行磁場の強度が得られる点で、アルニコ(登録商
標)(Fe−Al−Ni−Co系合金)、フェライトな
どよりなるものが好ましい。このようにして得られる導
電路形成部11は、導電性粒子がシート基材10の厚み
方向に並ぶよう配向しているため、導電性粒子の割合が
小さくても良好な導電性が得られる。In the above, the sheet base material layer 10
The curing treatment of A can be performed in a state where the parallel magnetic field is applied, but can also be performed after stopping the application of the parallel magnetic field. The intensity of the parallel magnetic field applied to the sheet base material forming layer 10A is preferably 200 to 10000 gauss on average. As a means for applying a parallel magnetic field, a permanent magnet can be used instead of an electromagnet. As such a permanent magnet, a magnet made of Alnico (registered trademark) (Fe-Al-Ni-Co-based alloy), ferrite, or the like is preferable in that a parallel magnetic field strength within the above range can be obtained. In the conductive path forming portion 11 thus obtained, since the conductive particles are oriented so as to be arranged in the thickness direction of the sheet substrate 10, good conductivity can be obtained even if the ratio of the conductive particles is small.
【0042】シート基材形成材料層10Aの硬化処理
は、使用される材料によって適宜選定されるが、通常、
加熱処理によって行われる。加熱によりシート基材形成
材料層10Aの硬化処理を行う場合には、電磁石51,
56にヒーターを設ければよい。具体的な加熱温度およ
び加熱時間は、シート基材形成材料層10Aを構成する
高分子物質用材料などの種類、導電性磁性体粒子の移動
に要する時間などを考慮して適宜選定される。The curing treatment of the sheet base forming material layer 10A is appropriately selected depending on the material to be used.
The heat treatment is performed. When performing the curing treatment of the sheet base material forming material layer 10A by heating, the electromagnet 51,
A heater may be provided at 56. The specific heating temperature and heating time are appropriately selected in consideration of the type of the material for the polymer substance constituting the sheet base forming material layer 10A, the time required for the movement of the conductive magnetic particles, and the like.
【0043】このようにしてシート基材10が形成され
た易剥離性支持板40を、一方の磁極板50と他方の磁
極板55との間から取り出し、更に、図8に示すよう
に、易剥離性支持板40を導電材料層30Aから剥離さ
せる。そして、この導電材料層30Aに対して、フォト
リソグラフィーおよびエッチング処理を施してその一部
を除去することにより、図9に示すように、導電性接着
層20上に導電材料層30Aの残部による例えば金属シ
ートまたは金属膜よりなる接点用導電材料30が形成さ
れ、更にシート基材10上に形成されたレジスト層45
を除去することにより、図1に示す構成の異方導電性シ
ートが得られる。The easily peelable support plate 40 on which the sheet base material 10 has been formed in this manner is taken out from between the one magnetic pole plate 50 and the other magnetic pole plate 55, and further, as shown in FIG. The peelable support plate 40 is peeled from the conductive material layer 30A. Then, photolithography and etching are performed on the conductive material layer 30A to remove a part of the conductive material layer 30A, and as shown in FIG. A contact conductive material 30 made of a metal sheet or a metal film is formed, and a resist layer 45 formed on the sheet base 10 is further formed.
By removing, an anisotropic conductive sheet having the configuration shown in FIG. 1 is obtained.
【0044】このような方法によれば、接点用導電材料
30を形成するための導電材料層30A上に、導電性接
着層形成材料を塗布してその硬化処理を行うため、接点
用導電材料30に対する接着性の高い導電性接着層20
が確実に得られると共に、この導電性接着層20にシー
ト基材形成材料層10Aを形成してその硬化処理を行う
ため、導電性接着層20に対する接着性の高い導電路形
成部11を有するシート基材10が確実に得られる。ま
た、導電材料層30Aが易剥離性支持板40上に支持さ
れているため、当該導電材料層30A上に導電性接着層
20を容易に形成することができると共に、当該導電性
接着層20上においてシート基材10を容易に形成する
ことができる。According to such a method, the conductive adhesive layer forming material is applied on the conductive material layer 30A for forming the contact conductive material 30, and the curing process is performed. Conductive adhesive layer 20 with high adhesion to
The sheet having the conductive path forming portion 11 having a high adhesiveness to the conductive adhesive layer 20 in order to form the sheet base material forming layer 10A on the conductive adhesive layer 20 and to perform the curing treatment thereof. The substrate 10 is obtained reliably. Further, since the conductive material layer 30A is supported on the easily peelable support plate 40, the conductive adhesive layer 20 can be easily formed on the conductive material layer 30A, and the conductive adhesive layer 20 Thus, the sheet base material 10 can be easily formed.
【0045】方法(ロ):この方法(ロ)においては、
図10に示すように、予め適宜の方法によって作製され
たシート基材10を用意し、このシート基材10上に、
導電路形成部11の上面を露出させる孔46を有するレ
ジスト層45を形成し、このレジスト層45の孔46内
に前述の導電性接着層形成材料を充填した後、当該導電
性接着層形成材料の硬化処理を行うことにより、図11
に示すように、レジスト層45の孔46内に導電性接着
層20が形成される。レジスト層45の孔46内に導電
性接着層形成材料を充填する方法としては、スクリーン
印刷等の印刷法などを利用することができる。Method (b): In this method (b),
As shown in FIG. 10, a sheet base 10 prepared in advance by an appropriate method is prepared, and on this sheet base 10,
A resist layer 45 having a hole 46 exposing the upper surface of the conductive path forming portion 11 is formed, and the hole 46 of the resist layer 45 is filled with the above-described conductive adhesive layer forming material. By performing the curing process of FIG.
As shown in FIG. 5, the conductive adhesive layer 20 is formed in the hole 46 of the resist layer 45. As a method of filling the conductive adhesive layer forming material into the holes 46 of the resist layer 45, a printing method such as screen printing or the like can be used.
【0046】次いで、図12に示すように、レジスト層
45および導電性接着層20の上面に、接点用導電材料
30を形成するための例えば金属よりなる導電材料層3
0Aを形成し、この導電材料層30Aに対して、フォト
リソグラフィーおよびエッチング処理を施してその一部
を除去することにより、図13に示すように、導電性接
着層20上に導電材料層30Aの残部による例えば金属
シートまたは金属膜よりなる接点用導電材料30が形成
され、更にシート基材10上に形成されたレジスト層4
5を除去することにより、図1に示す構成の異方導電性
シートが得られる。レジスト層45および導電性接着層
20の上面に導電材料層30Aを形成する方法として
は、スパッタリング法、蒸着法、その他のメッキ法など
を利用することができる。Next, as shown in FIG. 12, a conductive material layer 3 made of, for example, a metal for forming the contact conductive material 30 is formed on the resist layer 45 and the conductive adhesive layer 20.
0A is formed, and photolithography and etching are performed on the conductive material layer 30A to remove a part of the conductive material layer 30A, thereby forming the conductive material layer 30A on the conductive adhesive layer 20 as shown in FIG. The contact conductive material 30 made of, for example, a metal sheet or a metal film is formed by the remainder, and the resist layer 4 formed on the sheet base 10 is further formed.
By removing 5, an anisotropic conductive sheet having the configuration shown in FIG. 1 is obtained. As a method for forming the conductive material layer 30A on the upper surfaces of the resist layer 45 and the conductive adhesive layer 20, a sputtering method, an evaporation method, another plating method, or the like can be used.
【0047】本発明の異方導電性シートにおいては、接
続すべき電極に、当該異方導電性シートにおける接点用
導電材料30を接触させ、更に押圧することにより、接
点用導電材料30、導電性接着層20およびシート基材
10における導電路形成部11を介して、所要の電気的
接続が達成される。In the anisotropic conductive sheet of the present invention, the contact conductive material 30 in the anisotropic conductive sheet is brought into contact with the electrode to be connected, and further pressed, whereby the contact conductive material 30 Through the adhesive layer 20 and the conductive path forming portion 11 in the sheet substrate 10, required electric connection is achieved.
【0048】而して、このような異方導電性シートによ
れば、シート基材10における導電路形成部11上に、
導電性接着層20を介して接点用導電材料30が形成さ
れているため、接続すべき電極がその表面に酸化膜を有
するものであっても、接点用導電材料30によって当該
酸化膜を突き破ることができるため、所要の電気的接続
を確実に達成することができる。また、接続すべき電極
には、シート基材10における導電路形成部11が直接
接触することがないため、シート基材10を構成する弾
性高分子物質中に含有される低分子量成分により、電極
の表面が汚染されることがない。更に、導電性接着層2
0を構成する硬化性樹脂は、シート基材10を構成する
弾性高分子物質および接点用導電材料30を構成する材
料例えば金属の両方に対して高い接着性を有し、しか
も、当該導電性接着層20自体が変形することがないた
め、多数回にわたって繰り返し使用した場合であって
も、シート基材10からの導電性接着層20の剥離およ
び導電性接着層20からの接点用導電材料30の剥離が
生ずることがなく、長い使用寿命が得られる。According to such an anisotropic conductive sheet, on the conductive path forming portion 11 of the sheet substrate 10,
Since the contact conductive material 30 is formed via the conductive adhesive layer 20, even if the electrode to be connected has an oxide film on its surface, the contact conductive material 30 may break through the oxide film. Therefore, required electrical connection can be reliably achieved. In addition, since the conductive path forming portion 11 of the sheet substrate 10 does not directly contact the electrode to be connected, the electrode is formed by the low molecular weight component contained in the elastic polymer material constituting the sheet substrate 10. Surface is not contaminated. Further, the conductive adhesive layer 2
In addition, the curable resin constituting the sheet No. 0 has high adhesiveness to both the elastic polymer substance constituting the sheet base material 10 and the material constituting the conductive material for contact 30, for example, a metal. Since the layer 20 itself is not deformed, even when repeatedly used many times, the conductive adhesive layer 20 is separated from the sheet base material 10 and the conductive material 30 for contact from the conductive adhesive layer 20 is removed. Long service life is obtained without peeling.
【0049】〈第2の実施の形態〉図14は、本発明の
異方導電性シートに係る第2の実施の形態における要部
の構成を示す説明用断面図である。この異方導電性シー
トは、それぞれ厚み方向に伸びる複数の導電路形成部1
1と、これらの導電路形成部11を相互に絶縁する絶縁
部12とよりなるシート基材10を有する。このシート
基材10における導電路形成部11の各々は、弾性を有
する導電性材料により構成され、当該シート基材10の
面方向に沿って、接続すべき電極のパターンに対応する
パターンに従って配置されている。そして、導電路形成
部11上には、導電性接着層20を介して、接点用導電
材料30が一体的に設けられている。この第2の実施の
形態において、導電路形成部11の各々は、絶縁部12
の厚みより小さい厚みを有し、その上面が絶縁部12の
上面より下方に位置するよう配置されることにより、当
該導電路形成部11上に凹所15が形成されている。そ
して、導電路形成部11上に形成された凹所15内に導
電性接着層20が収容されることにより、当該導電性接
着層20は、その上面が絶縁部12の上面と同一平面上
に位置するよう配置されており、これにより、接点用導
電材料30が、シート基材10における絶縁部12の表
面から突出した状態とされている。以上において、シー
ト基材10、導電性接着層20および接点用導電材料3
0の各々の具体的構成は、前述の第1の実施の形態に係
る異方導電性シートと同様である。<Second Embodiment> FIG. 14 is an explanatory cross-sectional view showing the structure of a main part of a second embodiment of the anisotropic conductive sheet of the present invention. The anisotropic conductive sheet has a plurality of conductive path forming portions 1 each extending in the thickness direction.
1 and an insulating portion 12 that insulates the conductive path forming portions 11 from each other. Each of the conductive path forming portions 11 in the sheet substrate 10 is formed of a conductive material having elasticity, and is arranged along the surface direction of the sheet substrate 10 according to a pattern corresponding to a pattern of an electrode to be connected. ing. The conductive material for contact 30 is integrally provided on the conductive path forming portion 11 via the conductive adhesive layer 20. In the second embodiment, each of the conductive path forming portions 11 is
The concave portion 15 is formed on the conductive path forming portion 11 by arranging such that the upper surface thereof is located lower than the upper surface of the insulating portion 12. The conductive adhesive layer 20 is accommodated in the recess 15 formed on the conductive path forming portion 11, so that the upper surface of the conductive adhesive layer 20 is flush with the upper surface of the insulating portion 12. As a result, the contact conductive material 30 is projected from the surface of the insulating portion 12 of the sheet base 10. In the above, the sheet substrate 10, the conductive adhesive layer 20, and the contact conductive material 3
The specific configuration of each of 0 is the same as that of the anisotropic conductive sheet according to the above-described first embodiment.
【0050】上記の異方導電性シートは、例えば以下の
方法によって製造することができる。先ず、前述の第1
の実施の形態における方法(イ)と同様にして、平滑な
一面41を有する易剥離性支持板40を用意し、図2に
示すように、この易剥離性支持板40の一面41に、接
点用導電材料30を形成するための例えば金属よりなる
導電材料層30Aを形成する。次いで、この易剥離性支
持板40の一面41上に支持された導電材料層30A上
に、硬化性樹脂材料中に導電性粉末が分散されてなる流
動性の導電性接着層形成材料を、目的とする導電路形成
部11の配置パターンに対応するパターンに従って塗布
し、当該導電性接着層形成材料の硬化処理を行うことに
より、図15に示すように、導電材料層30Aの上面に
導電性接着層20が形成される。そして、導電性接着層
20および導電材料層30Aの上面に、硬化されて弾性
高分子物質となる高分子物質用材料中に導電性磁性体粒
子が分散されてなるシート基材形成材料を塗布すること
により、図16に示すように、導電性接着層20および
導電材料層30Aの上面にシート基材形成材料層10A
が形成される。以上において、導電性接着層形成材料お
よびシート基材形成材料の具体的構成は、第1の実施の
形態における方法(イ)と同様である。The above-described anisotropic conductive sheet can be manufactured, for example, by the following method. First, the first
In the same manner as in the method (a) in the embodiment, an easily peelable support plate 40 having a smooth surface 41 is prepared, and as shown in FIG. A conductive material layer 30A made of, for example, a metal for forming the conductive material 30 is formed. Next, on the conductive material layer 30A supported on one surface 41 of the easily peelable support plate 40, a fluid conductive adhesive layer forming material in which conductive powder is dispersed in a curable resin material is used. The conductive adhesive layer forming material is applied in accordance with a pattern corresponding to the arrangement pattern of the conductive path forming portions 11 to be cured, and the conductive adhesive layer forming material is cured as shown in FIG. Layer 20 is formed. Then, on the upper surfaces of the conductive adhesive layer 20 and the conductive material layer 30A, a sheet substrate forming material in which conductive magnetic particles are dispersed in a polymer material that is cured to become an elastic polymer material is applied. As a result, as shown in FIG. 16, the sheet base forming material layer 10A is formed on the upper surfaces of the conductive adhesive layer 20 and the conductive material layer 30A.
Is formed. In the above, the specific configurations of the conductive adhesive layer forming material and the sheet base material are the same as those of the method (a) in the first embodiment.
【0051】このようにして形成されたシート基材形成
材料層10Aに対し、第1の実施の形態と同様にして平
行磁場を作用させると共に、当該シート基材形成材料層
10Aの硬化処理を行うことにより、図17に示すよう
に、一方の磁極板50の強磁性体部分Mとこれに対応す
る他方の磁極板55の強磁性体部分Mとの間に配置され
た、導電性磁性体粒子が密に充填された導電路形成部1
1と、導電性磁性体粒子が全くあるいは殆ど存在しない
絶縁部12とよりなるシート基材10が形成される。A parallel magnetic field is applied to the thus formed sheet base material layer 10A in the same manner as in the first embodiment, and the sheet base material layer 10A is cured. Thus, as shown in FIG. 17, the conductive magnetic particles disposed between the ferromagnetic portion M of one magnetic pole plate 50 and the corresponding ferromagnetic material portion M of the other magnetic pole plate 55 Conductive path forming part 1 in which is densely filled
Thus, a sheet base material 10 is formed, which is composed of an insulating portion 12 having no or almost no conductive magnetic particles.
【0052】このようにしてシート基材10が形成され
た易剥離性支持板40を、一方の磁極板50と他方の磁
極板55との間から取り出し、更に、図18に示すよう
に、易剥離性支持板40を導電材料層30Aから剥離さ
せる。そして、この導電材料層30Aに対して、フォト
リソグラフィーおよびエッチング処理を施してその一部
を除去することにより、導電性接着層20上に例えば金
属シートまたは金属膜よりなる接点用導電材料30が形
成され、以て図14に示す構成の異方導電性シートが得
られる。The easily peelable support plate 40 on which the sheet base material 10 is formed in this manner is taken out from between the one magnetic pole plate 50 and the other magnetic pole plate 55, and further, as shown in FIG. The peelable support plate 40 is peeled from the conductive material layer 30A. The conductive material layer 30A is subjected to photolithography and etching to remove a part of the conductive material layer 30A, thereby forming the contact conductive material 30 made of, for example, a metal sheet or a metal film on the conductive adhesive layer 20. Thus, an anisotropic conductive sheet having the configuration shown in FIG. 14 is obtained.
【0053】このような異方導電性シートによれば、前
述の第1の実施の形態に係る異方導電性シートと同様の
効果が得られると共に、更に、導電性接着層20が、シ
ート基材10における導電路形成部11上に形成された
凹所15内に収容された状態で形成されているため、シ
ート基材10に対する接着性が一層高い導電性接着層2
0が得られる。According to such an anisotropic conductive sheet, the same effects as those of the anisotropic conductive sheet according to the first embodiment can be obtained, and furthermore, the conductive adhesive layer 20 The conductive adhesive layer 2 has a higher adhesiveness to the sheet substrate 10 because it is formed in a state of being housed in the recess 15 formed on the conductive path forming portion 11 of the material 10.
0 is obtained.
【0054】〈第3の実施の形態〉図19は、本発明の
異方導電性シートに係る第3の実施の形態における要部
の構成を示す説明用断面図である。この異方導電性シー
トは、それぞれ厚み方向に伸びる複数の導電路形成部1
1と、これらの導電路形成部を相互に絶縁する絶縁部1
2とよりなるシート基材10を有する。このシート基材
10における導電路形成部11の各々は、弾性を有する
導電性材料により構成され、当該シート基材10の面方
向に沿って、接続すべき電極のパターンに対応するパタ
ーンに従って配置されている。そして、導電路形成部1
1上には、導電性接着層20を介して、接点用導電材料
30が一体的に設けられている。この第3の実施の形態
において、導電路形成部11の各々は、絶縁部12の厚
みと同一の厚みを有し、その上面が絶縁部12の上面と
同一平面上に位置するよう配置されており、これによ
り、導電性接着層20および接点用導電材料30が、シ
ート基材10における絶縁部12の表面から突出した状
態とされている。また、接点用導電材料30は、導電性
接着層20の上面および側面を覆うよう設けられてい
る。以上において、シート基材10、導電性接着層20
および接点用導電材料30の各々の具体的構成は、前述
の第1の実施の形態に係る異方導電性シートと同様であ
る。<Third Embodiment> FIG. 19 is an explanatory sectional view showing the structure of a main part of a third embodiment of the anisotropic conductive sheet of the present invention. The anisotropic conductive sheet has a plurality of conductive path forming portions 1 each extending in the thickness direction.
1 and an insulating part 1 for insulating these conductive path forming parts from each other.
2 having a sheet base material 10. Each of the conductive path forming portions 11 in the sheet substrate 10 is formed of a conductive material having elasticity, and is arranged along the surface direction of the sheet substrate 10 according to a pattern corresponding to a pattern of an electrode to be connected. ing. Then, the conductive path forming section 1
1, a conductive material 30 for contact is provided integrally via a conductive adhesive layer 20. In the third embodiment, each of the conductive path forming portions 11 has the same thickness as the thickness of the insulating portion 12 and is arranged such that its upper surface is located on the same plane as the upper surface of the insulating portion 12. As a result, the conductive adhesive layer 20 and the conductive material for contact 30 are in a state of protruding from the surface of the insulating portion 12 of the sheet substrate 10. The conductive material for contact 30 is provided so as to cover the upper surface and side surfaces of the conductive adhesive layer 20. In the above, the sheet substrate 10, the conductive adhesive layer 20
The specific configuration of each of the contact conductive materials 30 is the same as that of the anisotropic conductive sheet according to the first embodiment.
【0055】上記の異方導電性シートは、例えば以下の
方法によって製造することができる。先ず、前述の第1
の実施の形態における方法(イ)と同様にして、平滑な
一面41を有する易剥離性支持板40を用意し、図20
に示すように、この易剥離性支持板40の一面41に、
フォトリソグラフィーの手法により、目的とする導電路
形成部11の配置パターンに対応するパターンに従って
形成された孔46を有するレジスト層45を形成する。
次いで、図21に示すように、このレジスト層45およ
び易剥離性支持板40上に、接点用導電材料30を形成
するための例えば金属よりなる導電材料層30Aを形成
し、その後、レジスト層45の孔46内に、硬化性樹脂
材料中に導電性粉末が分散されてなる流動性の導電性接
着層形成材料を充填し、当該導電性接着層形成材料の硬
化処理を行うことにより、図22に示すように、レジス
ト層45の孔46内に導電性接着層20が形成される。
そして、導電性接着層20および導電材料層30Aの上
面に、硬化されて弾性高分子物質となる高分子物質用材
料中に導電性磁性体粒子が分散されてなるシート基材形
成材料を塗布することにより、図23に示すように、導
電性接着層20および導電材料層30Aの上面にシート
基材形成材料層10Aが形成される。以上において、導
電性接着層形成材料およびシート基材形成材料の具体的
構成は、第1の実施の形態における方法(イ)と同様で
ある。The above-described anisotropic conductive sheet can be manufactured, for example, by the following method. First, the first
In the same manner as in the method (a) in the embodiment, an easily peelable support plate 40 having a smooth surface 41 is prepared, and FIG.
As shown in FIG. 5, on one surface 41 of this easily peelable support plate 40,
A resist layer 45 having holes 46 formed in accordance with a pattern corresponding to a target arrangement pattern of the conductive path forming portions 11 is formed by a photolithography technique.
Next, as shown in FIG. 21, a conductive material layer 30A made of, for example, a metal for forming the contact conductive material 30 is formed on the resist layer 45 and the easily peelable support plate 40. 22 is filled with a fluid conductive adhesive layer forming material in which a conductive powder is dispersed in a curable resin material, and the conductive adhesive layer forming material is cured by the hardening treatment shown in FIG. As shown in FIG. 5, the conductive adhesive layer 20 is formed in the hole 46 of the resist layer 45.
Then, on the upper surfaces of the conductive adhesive layer 20 and the conductive material layer 30A, a sheet substrate forming material in which conductive magnetic particles are dispersed in a polymer material that is cured to become an elastic polymer material is applied. Thereby, as shown in FIG. 23, sheet base forming material layer 10A is formed on the upper surfaces of conductive adhesive layer 20 and conductive material layer 30A. In the above, the specific configurations of the conductive adhesive layer forming material and the sheet base material are the same as those of the method (a) in the first embodiment.
【0056】このようにして形成されたシート基材形成
材料層10Aに対し、第1の実施の形態と同様にして平
行磁場を作用させると共に、当該シート基材形成材料層
10Aの硬化処理を行うことにより、図24に示すよう
に、一方の磁極板50の強磁性体部分Mとこれに対応す
る他方の磁極板55の強磁性体部分Mとの間に配置され
た、導電性磁性体粒子が密に充填された導電路形成部1
1と、導電性磁性体粒子が全くあるいは殆ど存在しない
絶縁部12とよりなるシート基材10が形成される。A parallel magnetic field is applied to the sheet base material layer 10A thus formed in the same manner as in the first embodiment, and the sheet base material layer 10A is cured. Thus, as shown in FIG. 24, the conductive magnetic particles disposed between the ferromagnetic portion M of one pole plate 50 and the corresponding ferromagnetic portion M of the other pole plate 55 Conductive path forming part 1 in which is densely filled
Thus, a sheet base material 10 is formed, which is composed of an insulating portion 12 having no or almost no conductive magnetic particles.
【0057】このようにしてシート基材10が形成され
た易剥離性支持板40を、一方の磁極板50と他方の磁
極板55との間から取り出し、更に、図25に示すよう
に、易剥離性支持板40を導電材料層30Aから剥離さ
せる。そして、レジスト層45を除去することにより、
図26に示すように、導電材料層30Aの全面を露出さ
せ、この導電材料層30Aに対して、フォトリソグラフ
ィーおよびエッチング処理を施してその一部を除去する
ことにより、導電性接着層20上に導電材料層30Aの
残部による例えば金属シートまたは金属膜よりなる接点
用導電材料30が形成され、以て図19に示す構成の異
方導電性シートが得られる。The easily peelable support plate 40 on which the sheet base material 10 is formed in this manner is taken out from between the one magnetic pole plate 50 and the other magnetic pole plate 55, and further, as shown in FIG. The peelable support plate 40 is peeled from the conductive material layer 30A. Then, by removing the resist layer 45,
As shown in FIG. 26, the entire surface of conductive material layer 30A is exposed, photolithography and etching are performed on conductive material layer 30A to remove a part of conductive material layer 30A. The conductive material 30 for a contact made of, for example, a metal sheet or a metal film is formed by the remaining portion of the conductive material layer 30A, whereby the anisotropic conductive sheet having the configuration shown in FIG. 19 is obtained.
【0058】このような異方導電性シートによれば、前
述の第1の実施の形態に係る異方導電性シートと同様の
効果が得られると共に、更に、接点用導電材料30が、
導電性接着層20の上面および側面を覆うよう設けられ
ているため、導電性接着層20に対する接着性が一層高
い接点用導電材料30が得られる。According to such an anisotropic conductive sheet, the same effects as those of the anisotropic conductive sheet according to the first embodiment can be obtained, and further, the contact conductive material 30
Since it is provided so as to cover the upper surface and the side surface of the conductive adhesive layer 20, the contact conductive material 30 having higher adhesiveness to the conductive adhesive layer 20 can be obtained.
【0059】以上、本発明に係る3つの実施の形態を説
明したが、本発明においては、上記の実施の形態に限定
されず、以下のような種々の変更を加えることが可能で
ある。 (1)図27に示すように、シート基材10における導
電路形成部上に半球状の導電性接着層20が設けられる
と共に、当該導電性接着層20の表面を覆うよう接点用
導電材料30が設けられていてもよい。このような異方
導電性シートは、第1の実施の形態における方法(ロ)
において、シート基材10における導電路形成部11上
に半球状の導電性接着層20を形成することにより、製
造することができる。Although the three embodiments according to the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications as described below can be added. (1) As shown in FIG. 27, a hemispherical conductive adhesive layer 20 is provided on the conductive path forming portion of the sheet substrate 10, and the contact conductive material 30 covers the surface of the conductive adhesive layer 20. May be provided. Such an anisotropic conductive sheet can be obtained by the method (b) in the first embodiment.
In this case, the production can be performed by forming a hemispherical conductive adhesive layer 20 on the conductive path forming portion 11 in the sheet substrate 10.
【0060】(2)図28に示すように、導電性接着層
20の上面および側面を覆うと共に、シート基材10に
おける導電性接着層20の周辺部を覆うよう、接点用導
電材料30が設けられていてもよい。この異方導電性シ
ートは、第3の実施の形態における製造方法において、
フォトリソグラフィーおよびエッチング処理によって、
金属よりなる導電材料層30Aにおける導電性接着層2
0の周辺部に形成された部分を残すよう、当該導電材料
層30Aの一部を除去することにより、製造することが
できる。このような異方導電性シートによれば、接点用
導電材料30がシート基材10にも接着しているため、
当該接点用導電材料30の接着強度が向上する結果、よ
り長い使用寿命が得られる。(2) As shown in FIG. 28, a contact conductive material 30 is provided so as to cover the upper surface and side surfaces of the conductive adhesive layer 20 and to cover the periphery of the conductive adhesive layer 20 in the sheet substrate 10. It may be. This anisotropic conductive sheet is different from the manufacturing method according to the third embodiment in that
By photolithography and etching process,
Conductive adhesive layer 2 in conductive material layer 30A made of metal
The conductive material layer 30A can be manufactured by removing a part of the conductive material layer 30A so as to leave a portion formed in the peripheral portion of 0. According to such an anisotropic conductive sheet, since the contact conductive material 30 is also adhered to the sheet base 10,
As a result of improving the adhesive strength of the contact conductive material 30, a longer service life can be obtained.
【0061】(3)図29に示すように、基層部分21
と、この基層部分21から突出するよう形成された、当
該基層部分21より小さい外径を有する柱状の突出部分
22とよりなる導電性接着層20が設けられると共に、
突出部分22の上面および側面並びに基層部分21の上
面およひ側面を覆うよう、接点用導電材料10が設けら
れていてもよい。この異方導電性シートは、第3の実施
の形態における製造方法において、前記導電性接着層2
0の形状に適合する形状の孔を有するレジスト層を形成
することにより、製造することができる。このような異
方導電性シートによれば、導電性接着層20は、小さい
外径の突出部分22を有するため、酸化膜を有する電極
に対する電気的接続を更に確実に達成することができ
る。(3) As shown in FIG.
And a conductive adhesive layer 20 formed of a columnar protruding portion 22 having an outer diameter smaller than that of the base layer portion 21 formed so as to protrude from the base layer portion 21.
The contact conductive material 10 may be provided so as to cover the upper surface and side surfaces of the protruding portion 22 and the upper surface and side surfaces of the base layer portion 21. This anisotropic conductive sheet is the same as the method of the third embodiment, except that the conductive adhesive layer 2
It can be manufactured by forming a resist layer having holes of a shape conforming to the shape of 0. According to such an anisotropic conductive sheet, since the conductive adhesive layer 20 has the protruding portion 22 having a small outer diameter, electrical connection to the electrode having the oxide film can be more reliably achieved.
【0062】[0062]
【発明の効果】請求項1乃至請求項4に記載の異方導電
性シートによれば、シート基材における導電路形成部上
に、導電性接着層を介して接点用導電材料が形成されて
いるため、接続すべき電極がその表面に酸化膜を有する
ものであっても、接点用導電材料によって当該酸化膜を
突き破ることができるため、所要の電気的接続を確実に
達成することができる。また、接続すべき電極には、シ
ート基材における導電路形成部が直接接触することがな
いため、シート基材を構成する弾性高分子物質中に含有
される低分子量成分により、電極の表面が汚染されるこ
とがない。更に、導電性接着層を構成する硬化性樹脂
は、弾性高分子物質および金属の両方に対して高い接着
性を有し、しかも、導電性接着層自体が変形することが
ないため、多数回にわたって繰り返し使用した場合であ
っても、シート基材からの導電性接着層の剥離および導
電性接着層からの接点用導電材料の剥離が生ずることが
なく、長い使用寿命が得られる。According to the anisotropic conductive sheet of the present invention, the conductive material for the contact is formed on the conductive path forming portion of the sheet base via the conductive adhesive layer. Therefore, even if the electrode to be connected has an oxide film on its surface, the contact conductive material can break through the oxide film, so that required electrical connection can be reliably achieved. In addition, since the conductive path forming portion of the sheet substrate does not directly contact the electrode to be connected, the surface of the electrode is low due to the low molecular weight component contained in the elastic polymer material constituting the sheet substrate. No contamination. Further, the curable resin constituting the conductive adhesive layer has a high adhesiveness to both the elastic polymer substance and the metal, and furthermore, the conductive adhesive layer itself does not deform, so that it can be used many times. Even when used repeatedly, the conductive adhesive layer does not peel off from the sheet substrate and the conductive material for contact does not peel off from the conductive adhesive layer, and a long service life can be obtained.
【0063】請求項2に記載の異方導電性シートによれ
ば、導電性接着層が、シート基材における導電路形成部
上に形成された凹所内に収容された状態で形成されてい
るため、シート基材に対する接着性が一層高い導電性接
着層を形成することができる。請求項3に記載の異方導
電性シートによれば、接点用導電材料が、導電性接着層
の上面および側面を覆うよう設けられているため、導電
性接着層に対する接着性が一層高い接点用導電材料を形
成することができる。請求項4に記載の異方導電性シー
トによれば、接点用導電材料が金属シートまたは金属膜
により構成されているため、当該接点用導電材料によっ
て接続すべき電極の表面に形成された酸化膜を確実に突
き破ることができるため、所要の電気的接続を一層確実
に達成することができる。According to the anisotropic conductive sheet of the second aspect, the conductive adhesive layer is formed in a state of being accommodated in the recess formed on the conductive path forming portion of the sheet base. In addition, a conductive adhesive layer having higher adhesiveness to the sheet substrate can be formed. According to the anisotropic conductive sheet of the third aspect, since the contact conductive material is provided so as to cover the upper surface and the side surface of the conductive adhesive layer, the contact material having higher adhesion to the conductive adhesive layer is used. A conductive material can be formed. According to the anisotropic conductive sheet according to claim 4, since the conductive material for the contact is formed of a metal sheet or a metal film, the oxide film formed on the surface of the electrode to be connected by the conductive material for the contact Can be reliably broken through, so that the required electrical connection can be achieved more reliably.
【0064】請求項5乃至請求項7に記載の異方導電性
シートの製造方法によれば、接点用導電材料を形成する
ための導電材料層上に導電性接着層を形成するため、接
点用導電材料に対する接着性の高い導電性接着層が確実
に得られると共に、当該導電性接着層上において、シー
ト基材を形成するため、導電性接着層に対する接着性の
高い導電路形成部を有するシート基材が確実に得られ
る。請求項6に記載の異方導電性シートの製造方法によ
れば、導電材料層が易剥離性支持板上に支持されている
ため、当該導電材料層上に導電性接着層を容易に形成す
ることができると共に、当該導電性接着層上において、
シート基材を容易に形成することができる。請求項7に
記載の異方導電性シートの製造方法によれば、導電性接
着層上に形成される接点用導電材料が金属シートまたは
金属膜よりなるため、接続すべき電極の表面に形成され
た酸化膜を確実に突き破ることができる接点用導電材料
を形成することができる。According to the method for manufacturing an anisotropic conductive sheet according to the fifth to seventh aspects, a conductive adhesive layer is formed on a conductive material layer for forming a conductive material for a contact. A sheet having a conductive path-forming portion having high adhesiveness to the conductive adhesive layer in order to reliably obtain a conductive adhesive layer having high adhesiveness to the conductive material and to form a sheet substrate on the conductive adhesive layer. The substrate is obtained reliably. According to the method of manufacturing an anisotropic conductive sheet according to claim 6, since the conductive material layer is supported on the easily peelable support plate, the conductive adhesive layer is easily formed on the conductive material layer. And on the conductive adhesive layer,
The sheet substrate can be easily formed. According to the method of manufacturing an anisotropic conductive sheet according to claim 7, since the contact conductive material formed on the conductive adhesive layer is a metal sheet or a metal film, it is formed on the surface of the electrode to be connected. It is possible to form a conductive material for a contact which can surely break through the oxide film.
【図1】第1の実施の形態に係る異方導電性シートの要
部の構成を示す説明用断面図である。FIG. 1 is an explanatory cross-sectional view illustrating a configuration of a main part of an anisotropic conductive sheet according to a first embodiment.
【図2】易剥離性支持板の一面に導電材料層が形成され
た状態を示す説明用断面図である。FIG. 2 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which a conductive material layer is formed on one surface of an easily peelable support plate.
【図3】導電材料層上にレジスト層が形成された状態を
示す説明用断面図である。FIG. 3 is an explanatory sectional view showing a state in which a resist layer is formed on a conductive material layer.
【図4】レジスト層の孔内に導電性接着層が形成された
状態を示す説明用断面図である。FIG. 4 is an explanatory cross-sectional view showing a state where a conductive adhesive layer is formed in a hole of a resist layer.
【図5】レジスト層および導電性接着層上にシート基材
形成材料層が形成された状態を示す説明用断面図であ
る。FIG. 5 is an explanatory sectional view showing a state in which a sheet base material forming material layer is formed on a resist layer and a conductive adhesive layer.
【図6】シート基材形成材料層に平行磁場を作用させた
状態を示す説明用断面図である。FIG. 6 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which a parallel magnetic field is applied to a sheet base material forming material layer.
【図7】レジスト層および導電性接着層上にシート基材
が形成された状態を示す説明用断面図である。FIG. 7 is an explanatory cross-sectional view showing a state where a sheet substrate is formed on a resist layer and a conductive adhesive layer.
【図8】導電材料層から易剥離性支持板が剥離された状
態を示す説明用断面図である。FIG. 8 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which the easily peelable support plate is peeled from the conductive material layer.
【図9】導電性接着層上に接点用導電材料が形成された
状態を示す説明用断面図である。FIG. 9 is an explanatory cross-sectional view showing a state where a conductive material for a contact is formed on a conductive adhesive layer.
【図10】シート基材の上面にレジスト層が形成された
状態を示す説明用断面図である。FIG. 10 is an explanatory sectional view showing a state in which a resist layer is formed on the upper surface of a sheet base material.
【図11】レジスト層の孔内に導電性接着層が形成され
た状態を示す説明用断面図である。FIG. 11 is an explanatory cross-sectional view showing a state where a conductive adhesive layer is formed in a hole of a resist layer.
【図12】レジスト層および導電性接着層上に導電材料
層が形成された状態を示す説明用断面図である。FIG. 12 is an explanatory cross-sectional view showing a state where a conductive material layer is formed on a resist layer and a conductive adhesive layer.
【図13】導電性接着層上に接点用導電材料が形成され
た状態を示す説明用断面図である。FIG. 13 is an explanatory cross-sectional view showing a state where a conductive material for a contact is formed on a conductive adhesive layer.
【図14】第2の実施の形態に係る異方導電性シートの
要部の構成を示す説明用断面図である。FIG. 14 is an explanatory cross-sectional view illustrating a configuration of a main part of an anisotropic conductive sheet according to a second embodiment.
【図15】易剥離性支持板の一面上に導電材料層を介し
て導電性接着層が形成された状態を示す説明用断面図で
ある。FIG. 15 is an explanatory cross-sectional view showing a state where a conductive adhesive layer is formed on one surface of an easily peelable support plate via a conductive material layer.
【図16】導電材料層および導電性接着層上にシート基
材形成材料層が形成された状態を示す説明用断面図であ
る。FIG. 16 is an explanatory cross-sectional view showing a state where a sheet base material forming material layer is formed on a conductive material layer and a conductive adhesive layer.
【図17】導電材料層および導電性接着層上にシート基
材が形成された状態を示す説明用断面図である。FIG. 17 is an explanatory cross-sectional view showing a state where a sheet substrate is formed on a conductive material layer and a conductive adhesive layer.
【図18】導電材料層から易剥離性支持板が剥離された
状態を示す説明用断面図である。FIG. 18 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which the easily peelable support plate is peeled from the conductive material layer.
【図19】第2の実施の形態に係る異方導電性シートの
要部の構成を示す説明用断面図である。FIG. 19 is an explanatory cross-sectional view illustrating a configuration of a main part of an anisotropic conductive sheet according to a second embodiment.
【図20】易剥離性支持板の一面にレジストが形成され
た状態を示す説明用断面図である。FIG. 20 is an explanatory cross-sectional view showing a state where a resist is formed on one surface of the easily peelable support plate.
【図21】レジスト層および易剥離性支持板上に導電材
料層が形成された状態を示す説明用断面図である。FIG. 21 is an explanatory cross-sectional view showing a state where a conductive material layer is formed on a resist layer and an easily peelable support plate.
【図22】レジスト層の孔内に導電性接着層が形成され
た状態を示す説明用断面図である。FIG. 22 is an explanatory cross-sectional view showing a state where a conductive adhesive layer is formed in a hole of a resist layer.
【図23】導電材料層および導電性接着層上にシート基
材形成材料層が形成された状態を示す説明用断面図であ
る。FIG. 23 is an explanatory cross-sectional view showing a state where a sheet base material forming material layer is formed on a conductive material layer and a conductive adhesive layer.
【図24】導電材料層および導電性接着層上にシート基
材が形成された状態を示す説明用断面図である。FIG. 24 is an explanatory cross-sectional view showing a state where a sheet substrate is formed on a conductive material layer and a conductive adhesive layer.
【図25】導電材料層およびレジスト層から易剥離性支
持板が剥離された状態を示す説明用断面図である。FIG. 25 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which the easily peelable support plate is peeled from the conductive material layer and the resist layer.
【図26】導電材料層上からレジスト層が除去された状
態を示す説明用断面図である。FIG. 26 is an explanatory cross-sectional view showing a state where a resist layer has been removed from above a conductive material layer.
【図27】本発明に係る異方導電性シートの他の例にお
ける要部の構成を示す説明用断面図である。FIG. 27 is an explanatory cross-sectional view showing a configuration of a main part in another example of the anisotropic conductive sheet according to the present invention.
【図28】本発明に係る異方導電性シートの更に他の例
における要部の構成を示す説明用断面図である。FIG. 28 is an explanatory cross-sectional view showing a configuration of a main part in still another example of the anisotropic conductive sheet according to the present invention.
【図29】本発明に係る異方導電性シートの更に他の例
における要部の構成を示す説明用断面図である。FIG. 29 is an explanatory cross-sectional view showing a configuration of a main part in still another example of the anisotropic conductive sheet according to the present invention.
10 シート基材 10A シート基材形成材料層 11 導電路形成部 12 絶縁部 15 凹所 20 導電性接着層 21 基層部分 22 上層部分 30 接点用導電材料 30A 導電材料層 40 易剥離性支持板 41 易剥離性支持板の一面 45 レジスト層 46 レジスト層の孔 50 一方の磁極板 51 電磁石 55 他方の磁極板 55 電磁石 M 強磁性体部分 N 非磁性体部分 REFERENCE SIGNS LIST 10 sheet base material 10A sheet base formation material layer 11 conductive path forming portion 12 insulating portion 15 recess 20 conductive adhesive layer 21 base layer portion 22 upper layer portion 30 conductive material for contact 30A conductive material layer 40 easily peelable support plate 41 easy One surface of the releasable support plate 45 Resist layer 46 Hole in the resist layer 50 One pole plate 51 Electromagnet 55 The other pole plate 55 Electromagnet M Ferromagnetic part N Non-magnetic part
Claims (7)
有する導電路形成部が、絶縁部によって相互に絶縁され
た状態で配置されてなるシート基材を有する異方導電性
シートであって、 前記シート基材における導電路形成部上に、硬化性樹脂
中に導電性粉末が分散されてなる導電性接着層を介し
て、接点用導電材料が一体的に設けられていることを特
徴とする異方導電性シート。1. An anisotropic conductive sheet having a sheet substrate in which a plurality of elastic conductive path forming portions each extending in a thickness direction are arranged in a state of being insulated from each other by an insulating portion, A conductive material for a contact is provided integrally on a conductive path forming portion of a sheet base via a conductive adhesive layer in which conductive powder is dispersed in a curable resin. One side conductive sheet.
絶縁部の上面より下方に位置されることによって当該導
電路形成部上に凹所が形成されており、このシート基材
における凹所内に、導電性接着層が収容されていること
を特徴とする請求項1に記載の異方導電性シート。2. A recess is formed in the sheet base by arranging the upper surface of the conductive path forming portion below the upper surface of the insulating portion in the sheet base. The anisotropic conductive sheet according to claim 1, wherein a conductive adhesive layer is accommodated in the recess.
突出するよう設けられており、接点用導電材料が、前記
導電性接着層の上面および側面を覆うよう設けられてい
ることを特徴とする請求項1に記載の異方導電性シー
ト。3. A conductive adhesive layer is provided so as to protrude from the surface of the sheet substrate, and a contact conductive material is provided so as to cover an upper surface and side surfaces of the conductive adhesive layer. The anisotropic conductive sheet according to claim 1.
膜よりなることを特徴とする請求項1乃至請求項3のい
ずれかに記載の異方導電性シート。4. The anisotropically conductive sheet according to claim 1, wherein the conductive material for a contact comprises a metal sheet or a metal film.
の異方導電性シートを製造する方法であって、 接点用導電材料を形成するための導電材料層上に、硬化
性樹脂中に導電性粉末が分散されてなる複数の導電性接
着層を形成し、 この導電性接着層上において、当該導電性接着層に一体
的に形成されたそれぞれ厚み方向に伸びる複数の弾性を
有する導電路形成部と、この導電路形成部を相互に絶縁
する絶縁部とよりなるシート基材を形成し、 その後、前記導電材料層の一部を除去することにより、
前記導電性接着層上に、当該導電材料層の残部による接
点用導電材料を形成する工程を有することを特徴とする
異方導電性シートの製造方法。5. The method for producing an anisotropic conductive sheet according to claim 1, wherein a curable resin is formed on a conductive material layer for forming a conductive material for a contact. A plurality of conductive adhesive layers formed by dispersing a conductive powder on the conductive adhesive layer, and a plurality of elastic conductive layers formed integrally with the conductive adhesive layer and extending in the thickness direction, respectively, on the conductive adhesive layer. By forming a sheet base made of a path forming portion and an insulating portion that insulates the conductive path forming portion from each other, by removing a part of the conductive material layer,
A method for manufacturing an anisotropic conductive sheet, comprising a step of forming a conductive material for a contact by the remaining part of the conductive material layer on the conductive adhesive layer.
されており、シート基材を形成した後、前記易剥離性支
持板を前記導電材料層から剥離することを特徴とする請
求項5に記載の異方導電性シートの製造方法。6. The conductive material layer is supported on an easily peelable support plate, and after forming a sheet substrate, the easily peelable support plate is separated from the conductive material layer. Item 6. The method for producing an anisotropic conductive sheet according to Item 5.
材料が金属シートまたは金属膜よりなるものであること
を特徴とする請求項5または請求項6に記載の異方導電
性シートの製造方法。7. The anisotropic conductive sheet according to claim 5, wherein the conductive material for a contact formed on the conductive adhesive layer is a metal sheet or a metal film. Production method.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03565799A JP3873503B2 (en) | 1999-02-15 | 1999-02-15 | Anisotropic conductive sheet and manufacturing method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03565799A JP3873503B2 (en) | 1999-02-15 | 1999-02-15 | Anisotropic conductive sheet and manufacturing method thereof |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000235877A true JP2000235877A (en) | 2000-08-29 |
| JP3873503B2 JP3873503B2 (en) | 2007-01-24 |
Family
ID=12447955
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP03565799A Expired - Lifetime JP3873503B2 (en) | 1999-02-15 | 1999-02-15 | Anisotropic conductive sheet and manufacturing method thereof |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3873503B2 (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104813413A (en) * | 2013-03-15 | 2015-07-29 | 弗莱康股份有限公司 | Systems and methods for providing surface connectivity of oriented conductive channels |
| JP2020027724A (en) * | 2018-08-10 | 2020-02-20 | 信越ポリマー株式会社 | Electrical connector and manufacturing method of the same |
| US12011911B2 (en) | 2020-03-25 | 2024-06-18 | Flexcon Company, Inc. | Isotropic non-aqueous electrode sensing material |
-
1999
- 1999-02-15 JP JP03565799A patent/JP3873503B2/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104813413A (en) * | 2013-03-15 | 2015-07-29 | 弗莱康股份有限公司 | Systems and methods for providing surface connectivity of oriented conductive channels |
| JP2016519390A (en) * | 2013-03-15 | 2016-06-30 | フレクスコン カンパニー インク | System and method for providing surface connectivity of oriented conductive channels |
| US9775235B2 (en) | 2013-03-15 | 2017-09-26 | Flexcon Company, Inc. | Systems and methods for providing surface connectivity of oriented conductive channels |
| US10499498B2 (en) | 2013-03-15 | 2019-12-03 | Flexcon Company, Inc. | Systems and methods for providing surface connectivity of oriented conductive channels |
| JP2020027724A (en) * | 2018-08-10 | 2020-02-20 | 信越ポリマー株式会社 | Electrical connector and manufacturing method of the same |
| JP7258488B2 (en) | 2018-08-10 | 2023-04-17 | 信越ポリマー株式会社 | Electrical connector and manufacturing method thereof |
| US12011911B2 (en) | 2020-03-25 | 2024-06-18 | Flexcon Company, Inc. | Isotropic non-aqueous electrode sensing material |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3873503B2 (en) | 2007-01-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3543765B2 (en) | Probe device for wafer inspection | |
| JP4240724B2 (en) | Anisotropic conductive sheet and connector | |
| WO2006008784A1 (en) | Anisotropic conductive connector and inspection equipment for circuit device | |
| JP3788258B2 (en) | Anisotropic conductive connector and its application products | |
| JP3573120B2 (en) | Anisotropic conductive connector, method of manufacturing the same, and application product thereof | |
| JP4415968B2 (en) | Anisotropic conductive sheet and connector, and method for manufacturing anisotropic conductive sheet | |
| JP2000322938A (en) | Anisotropic conductive sheet, method for manufacturing the same, and electrical inspection apparatus and electrical inspection method for circuit device | |
| JP3900732B2 (en) | Anisotropic conductive sheet and manufacturing method thereof | |
| JP3257433B2 (en) | Method for producing anisotropic conductive sheet and anisotropic conductive sheet | |
| JP3865019B2 (en) | Anisotropic conductive sheet and manufacturing method thereof | |
| JP4288783B2 (en) | Anisotropic conductive sheet and electrical inspection device for circuit device | |
| JP3945083B2 (en) | Anisotropic conductive sheet and manufacturing method thereof | |
| JP2001050983A (en) | Probe card | |
| JP2000243486A (en) | Anisotropic conductive sheet | |
| JP4470316B2 (en) | Anisotropic conductive sheet and electrical inspection device for circuit device | |
| JPH11354178A (en) | Anisotropic conductive sheet, method of manufacturing the same, and inspection apparatus and inspection method for circuit device | |
| JP4099905B2 (en) | Support for anisotropic conductive sheet and anisotropic conductive sheet with support | |
| JP3873503B2 (en) | Anisotropic conductive sheet and manufacturing method thereof | |
| JP3906068B2 (en) | Anisotropic conductive sheet, connector and wafer inspection device | |
| JP4374651B2 (en) | Method for producing anisotropic conductive sheet | |
| JP2001283954A (en) | Anisotropically conductive connector, inspection apparatus having the same, and method of manufacturing anisotropically conductive connector | |
| JP2001148260A (en) | Adapter device, method of manufacturing the same, and electrical inspection device for circuit board | |
| JP4161475B2 (en) | Mold, method for manufacturing the same, and method for manufacturing anisotropic conductive sheet | |
| JP2002280092A (en) | Anisotropic conductive sheet and its applied products | |
| JP4085516B2 (en) | Mold, method for manufacturing the same, and method for manufacturing anisotropic conductive sheet |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20051216 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060425 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060620 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060821 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20061003 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20061016 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091102 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091102 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101102 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101102 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111102 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111102 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121102 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121102 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131102 Year of fee payment: 7 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |