JP2000517092A - 印刷可能組成物、並びにその印刷回路板の製造に用いる誘電表面への適用 - Google Patents
印刷可能組成物、並びにその印刷回路板の製造に用いる誘電表面への適用Info
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Abstract
Description
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.(a)金属粉と、 (b)半田粉と、 (c)ポリマーまたは重合可能でポリマーを生成するモノマーであって、該 ポリマーは化学的架橋剤の作用により架橋し得るものと、 (d)該ポリマーのための化学的架橋剤であって、可塑化特性を有し触媒な しでは該ポリマーと反応しないものと、を具備してなり、 (e)上記金属粉および/または半田粉は熱の作用で解放される該架橋剤用 触媒を発生させるかおよび/または該架橋剤用触媒を付着してなるものである組 成物。 2.該金属粉が、Au、Ag、Cu、Zn、Al、Pd、Pt、Rh、Fe、 Ni、Co、Mo、W、Beおよびこれらの合金から選ばれるものである請求の 範囲1に記載の組成物。 3.該金属粉が銅である請求の範囲2に記載の組成物。 4.該半田粉が、Sn、Bi、Pb、Cd、Zn、Ga、In、Te、Hg、 Sb、Se、Tlおよびこれらの合金から選ばれるものである請求の範囲1、2 または3に記載の組成物。 5.該半田粉合金がSn63Pb37である請求の範囲4に記載の組成物。 6.該潜化学的架橋剤がカルボキシル化ポリマー、二量体脂肪酸および三量体 脂肪酸から選ばれるものである請求の範囲1ないし5のいずれかに記載の組成物 。 7.該潜化学的架橋剤がスチレン−アクリル酸コポリマーである請求の範囲6 に記載の組成物。 8.該触媒が半田粉の酸化により発生し、該フラックス剤により半田粉から解 放されるものである請求の範囲1ないし7のいずれかに記載の組成物。 9.該触媒がスズおよび/または鉛粉の酸化により発生し、該フラックス剤に より該粉体から解放されるものである請求の範囲8に記載の組成物。 10.該触媒が、金属粉または半田粉の樹脂または溶媒との反応による有機金 属塩の生成により発生するものである請求の範囲1に記載の組成物。 11.該触媒が、スズの樹脂または溶媒との反応によるスズ塩の生成により発 生するものである請求の範囲10に記載の組成物。 12.該触媒が、銅の樹脂または溶媒との反応による銅塩の生成により発生す るものである請求の範囲10に記載の組成物。 13.該触媒が、金属粉に付着した有機キレート化剤であり、半田溶融温度で 該フラックス剤中に解放されるものである請求の範囲1ないし12のいずれかに 記載の組成物。 14.該触媒がアゾール・キレート化剤である請求の範囲13に記載の組成物 。 15.該触媒がべンゾトリアゾールである請求の範囲13に記載の組成物。 16.安定性向上のため該金属をキレート被覆する有機表面保護剤を更に含む 請求の範囲1ないし15のいずれかに記載の組成物。 17.該有機表面保護剤がベンゾトリアゾールである請求の範囲16に記載の 組成物。 18.安定性向上剤として銅塩不活性化剤を更に含む請求の範囲1ないし17 のいずれかに記載の組成物。 19.該銅塩不活性化剤がオキサリル・ビスベンジリデン・ヒドラジンである 請求の範囲18に記載の組成物。 20.所定のパターン状に誘電体基板上に適用される、ないし適用された混合 組成物であって、 (i)(a)高導電性高融点成分と(b)比鮫的低い融点成分とを含む金属粉 成分と; (ii)該金属粉成分のためのフラックス剤として有効であり、かつ、第1の 温度およびより高い第2の温度のそれぞれにおいてエポキシ樹脂のための架橋剤 として有効である多酸と; を含み、該多酸は上記エポキシ樹脂に接している組成物。 21.該エポキシ樹脂が該金属粉成分および該多酸と混合されている請求の範 囲20に記載の組成物。 22.該エポキシ樹脂が該誘電体基板に予め適用されている請求の範囲20に 記載の組成物。 23.該エポキシ樹脂が所定のパターン状に該誘電体基板上に印刷されている 請求の範囲22に記載の組成物。 24.該多酸が215℃で熱的に安定であり、酸価が200を超え、粘度が2 00℃で10cp未満である請求の範囲20ないし23のいずれかに記載の組成 物。 25.該多酸がポリカルボキシル化合物であり、該金属粉のためのフラックス 剤として作用し、金属酸化物を生成させ、これが上記第2の温度にて該エポキシ 樹脂とカルボキシル含有ポリマーのカルボキシル基との間の反応のための触媒と して作用する請求の範囲20ないし24のいずれかに記載の組成物。 26.該ポリカルボキシル化合物が、カルボキシル化ポリマー、ポリカルボン 酸および重合体脂肪酸から選ばれる請求の範囲25に記載の組成物。 27.該重合体脂肪酸が二量体または三量体脂肪酸である請求の範囲26に記 載の組成物。 28.該カルボキシル化ポリマーがスチレン−アクリル酸コポリマーである請 求の範囲26に記載の組成物。 29.該金属粉成分が0ないし80重量%の上記高導電性高融点成分と、10 0未満ないし20重量%の上記比較的低い融点成分とを含む請求の範囲20ない し28のいずれかに記載の組成物。 30.該金属粉成分の上記高融点成分が、Au、Ag、Cu、Zn、Al、P d、Pt、Rh、Fe、Ni、Co、Mo、W、Beおよびこれらの合金から選 ばれるものである請求の範囲20ないし29のいずれかに記載の組成物。 31.該金属粉成分の上記比較的低い融点成分が、Sn、Bi、Pb、Cd、 Zn、Ga、In、Te、Hg、Sb、Se、T1およびこれらの合金から選ば れるものである請求の範囲20ないし30のいずれかに記載の組成物。 32.該比較的低い融点成分が、第1の金属と、第2の金属とを含み、該第1 の金属が該高融点成分に対し親和性を有し、該第2の金属の酸化物が該エポキシ 樹脂に対し硬化触媒として作用し、該第1および第2の金属が互いに溶融して該 高融点成分の粒子が埋込まれた金属フィルムを形成し、かつ、この溶融した第1 および第2の金属が該高融点成分粒子間の区域でマトリックスを形成し、該マト リックスは該比較的低い融点成分の第2の金属が富化されている請求の範囲20 ないし31のいずれかに記載の組成物。 33.該比較的低い融点成分がスズ/鉛合金である請求の範囲32に記載の組 成物。 34.該高融点成分が銅である請求の範囲33に記載の組成物。 35.該金属粉成分が25ミクロン未満の粒子からなる請求の範囲20ないし 34のいずれかに記載の組成物。 36.該エポキシ樹脂が常温で液体であるエポキシ樹脂から実質的になってい る請求の範囲20ないし33のいずれかに記載の組成物。 37.エポキシ樹脂とカルボキシル含有ポリマーとが合計で5ないし50重量 %と、95ないし50重量%の該金属粉成分とからなっている請求の範囲20な いし36のいずれかに記載の組成物。 38.該高融点成分が、清浄化され、かつ安定性向上用銅塩不活性化剤で被覆 された銅粉であり、該銅塩不活性化剤が銅に対するキレート化剤であり、かつ該 エポキシ樹脂の架橋のための高温触媒として作用するものである請求の範囲20 ないし37のいずれかに記載の組成物。 39.該キレート化剤がアゾール化合物である請求の範囲38に記載の組成物 。 40.該キレート化剤がベンゾトリアゾールである請求の範囲39に記載の組 成物。 41.該金属粉成分の高融点成分が銅粉であり、該組成物が更に抗酸化性銅塩 不活性化剤を含むものである請求の範囲20ないし40のいずれかに記載の組成 物。 42.該抗酸化性銅塩不活性化剤がオキサリル・ビスベンジリデン・ヒドラジ ンである請求の範囲41に記載の組成物。 43.誘電体表面に導電回路を形成する方法であって、 請求の範囲20に記載された金属粉成分と多酸とからなる混合物で誘電体基板 にパターニングを施す工程であって、その際、請求の範囲20に記載されたエポ キシ樹脂を予め該基板に塗布するか、あるいは該エポキシ樹脂を予めパターニン グ組成物中に含ませておく工程と;このパターニングを施された該誘電体基板を 該低融点成分の融点以上、かつ該高融点成分の融点未満の温度であって、該多酸 が熱的に安定であり、かつ、フラックス剤として金属焼成を達成し、エポキシ樹 脂の触媒的架橋をなし得る程度の高活性を維持し得る温度にて加熱する工程とを 具備してなる方法。 44.該エポキシ樹脂を誘電体表面にパターニングにより予め塗布し、該組成 物を整合パターニングにより該エポキシ樹脂パターン上に適用する請求の範囲4 3に記載の方法。 45.該エポキシ樹脂を誘電体表面に予め塗布し、光可画像化層をこの接着層 上に適用し、該光可画像化層を露光および現像処理に供して回路に対応するチャ ンネルパターンを該光可画像化層に形成し、該混合物を該チャンネルパターンに 導入し、該誘電体基板を該温度にまで加熱し、上記金属焼成とエポキシ樹脂の実 質的架橋を達成する請求の範囲44に記載の方法。 46.光可画像化層を該誘電体基板上に適用したのち、該光可画像化層を露光 および現像処理に供してチャンネルパターンを形成し、エポキシ樹脂を含む該混 合物を該チャンネルパターンに導入し、ついで該誘電体基板を該温度にまで加熱 し、上記金属焼成とエポキシ樹脂の実質的架橋を達成する請求の範囲43に記載 の方法。 47.エポキシ樹脂を該誘電体基板のチャンネル中に塗布し、ついで該混合物 を適用する前に、該エポキシ樹脂をB状態にする請求の範囲46に記載の方法。 48.側壁にアンダーカット領域を有するトラックを形成する請求の範囲45 、46、47に記載の方法。 49.エポキシ樹脂を該誘電体基板全体に適用し、ついでB状態にして、乾燥 した取扱い可能な基板を形成し、該基板に対する後の該混合物のパターニングを 行い得るようにする請求の範囲43に記載の方法。 50.誘電体基板上にパターニングされ、かつ硬化、架橋化エポキシ樹脂によ り接着された金属フィルムを具備してなる導電性回路であって、該金属フィルム は請求の範囲1ないし42のいずれかによる組成物を用いて該基板上にてパター ニングされ、ついで半田粉または低融点成分を溶融し、形成された該金属フィル ムを合着するのに十分な温度に加熱されたものである導電性回路。 51.多層導電性回路の製造方法であって、請求の範囲43ないし49のいず れかの方法により製造された単層導電回路上に貫通孔を有する絶縁誘電体層を最 初に適用、硬化させ、ついで該硬化誘電体層上に請求の範囲43ないし49のい ずれかの方法により第2の導電回路を形成し、さらに上記工程を繰返すことによ り必要数の誘電体層と導電回路層とを交互に形成することを特徴とする方法。 52.該貫通孔は金属で充填されており、該充填がエポキシ樹脂を含む請求の 範囲20ないし42のいずれかによる組成物で充填し、これを該低融点成分を溶 融するのに十分な温度に加熱し、含まれる金属を合着させ、エポキシ樹脂を硬化 させ、該充填物を貫通孔壁面に接着させたものである請求の範囲51に記載の方 法。 53.貫通孔を介して互いに接続された複数の導電回路からなり、該貫通孔は 金属で充填されており、該充填がエポキシ樹脂を含む請求の範囲20ないし42 のいずれかによる組成物を用いて充填され、ついでこれを該低融点成分の半田粉 を溶融するのに十分な温度に加熱し、含まれる金属を合着させ、エポキシ樹脂を 硬化させ、該充填物を貫通孔壁面に接着させたものである多層プリント配線回路 。 54.エポキシ樹脂を含む請求の範囲20ないし42のいずれかによる組成物 を用いて形成され、ついでこれをその場で該低融点成分を溶融するのに十分で、 かつ該高融点成分の融点未満の温度であって、さらに該多酸が熱的に安定であり 、かつ、金属焼成を達成し、エポキシ樹脂の実質的架橋をなし得る温度にて加熱 してなることを特徴とする半導体パッケージおよび/またはマルチ・チップモジ ュールにおける熱移動ピラー。 55.エポキシ樹脂を含む請求の範囲20ないし42のいずれかによる組成物 を用いて形成され、ついでこれをその場で該低融点成分の融点より高く、かつ該 高融点成分の融点未満の温度であって、さらに該多酸が熱的に安定であり、かつ 、金属焼成を達成し、エポキシ樹脂の実質的架橋をなし得る温度にて加熱してな ることを特徴とする印刷電位差計トラックのための導電性端末。 56.プリント回路板または修理または変更のため通常用いられる他の基板に おけるリードを接続する導電性トラックであって、エポキシ樹脂を含む請求の範 囲20ないし42のいずれかによる組成物を用いて形成され、ついでこれをその 場で該低融点成分の融点より高く、かつ該高融点成分の融点未満の温度であって 、さらに該多酸が熱的に安定であり、かつ、金属焼成を達成し、エポキシ樹脂の 実質的架橋をなし得る温度にて加熱してなることを特徴とする導電性トラック。 57.電磁波干渉または高周波干渉を抑制するための多層プリント回路板のシ ールド層であって、エポキシ樹脂を含む請求の範囲20ないし42のいずれかに よる組成物を用いて形成され、ついでこれをその場で該低融点成分の融点より高 く、かつ該高融点成分の融点未満の温度であって、さらに該多酸が熱的に安定で あり、かつ、金属焼成を達成し、エポキシ樹脂の実質的架橋をなし得る温度にて 加熱してなることを特徴とするシールド層。 58.基板に電子部品を接続する方法であって、請求の範囲1ないし42のい ずれかによる組成物を導電性接着剤として用い、該電子部品を該基板に接着する ことを特徴とする方法。 59.該基板が請求の範囲43、49、51および52のいずれかによる方法 により製造され、温度を上昇させる前に該電子部品を該組成物中に配置し、つい で該基板を該温度にまで加熱し、導電性回路を形成すると共に、該電子部品を同 時に該導電性回路に接続することを特徴とする請求の範囲58に記載の方法。
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