[go: up one dir, main page]

JP2001085459A - Connection method to connect chip to substrate - Google Patents

Connection method to connect chip to substrate

Info

Publication number
JP2001085459A
JP2001085459A JP25891899A JP25891899A JP2001085459A JP 2001085459 A JP2001085459 A JP 2001085459A JP 25891899 A JP25891899 A JP 25891899A JP 25891899 A JP25891899 A JP 25891899A JP 2001085459 A JP2001085459 A JP 2001085459A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
chip
connection method
wiring layer
present
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP25891899A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshihiro Tsuboi
敏宏 坪井
Hideo Noda
秀男 野田
Tomoyuki Terada
知之 寺田
Shinichi Tanabe
慎一 田辺
Yukinori Kunimoto
幸紀 国本
Hiroshi Oguma
広志 小熊
Masayuki Kikuchi
真之 菊池
Seiichi Ichihara
誠一 市原
Kenji Sunakawa
賢二 砂川
Takayuki Sato
隆幸 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Hitachi Solutions Technology Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Hitachi ULSI Systems Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd, Hitachi ULSI Systems Co Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP25891899A priority Critical patent/JP2001085459A/en
Publication of JP2001085459A publication Critical patent/JP2001085459A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 簡単な工程ででき、高性能で高信頼度の接続
ができるチップを基板に接続する接続方法を提供する。 【解決手段】 基板1の配線層2とマイクロ電極(チッ
プ)などからなるチップの配線層8とをバンプ11によ
って接続する工程の前に、バンプ11の周辺に設置され
る状態の異方性導電膜4を基板1の配線層2の一部を含
む領域にあらかじめ設置する。
(57) [Summary] [PROBLEMS] To provide a connection method for connecting a chip capable of performing high-performance and high-reliability connection to a substrate by a simple process. SOLUTION: Before a step of connecting a wiring layer 2 of a substrate 1 and a wiring layer 8 of a chip made of a micro electrode (chip) or the like by a bump 11, an anisotropic conductive material placed around the bump 11 is provided. The film 4 is previously set in a region including a part of the wiring layer 2 of the substrate 1.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、チップを基板に接
続する接続方法に関し、特に、簡単な工程ができて、高
性能でしかも高信頼度の接続ができるチップを基板に接
続する接続方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a connection method for connecting a chip to a substrate, and more particularly to a connection method for connecting a chip to a substrate, which can perform a simple process and has a high performance and high reliability. Things.

【0002】[0002]

【従来の技術】本発明者は、マイクロ電極を基板に接続
する接続方法について検討した。以下は、本発明者によ
って検討された技術であり、その概要は次のとおりであ
る。
2. Description of the Related Art The present inventors have studied a connection method for connecting a microelectrode to a substrate. The following is a technique studied by the present inventors, and the outline is as follows.

【0003】すなわち、例えば生体用電極または神経電
位検出用電極などとしてのマイクロ電極は、生体などの
電気を測定したり検出したりする際に適用できるもので
ある。また、例えば生体用電極または神経電位検出用電
極などとしてのマイクロ電極の製造方法は、シリコン
(Si)基板などを用いて、貫通電極および支持台など
を形成する製造工程が使用されている。
[0003] That is, for example, a microelectrode as an electrode for a living body or an electrode for detecting a nerve potential can be applied when measuring or detecting electricity of a living body or the like. In addition, for example, a method for manufacturing a microelectrode as an electrode for a living body or an electrode for detecting a nerve potential uses a manufacturing process of forming a through electrode and a support base using a silicon (Si) substrate or the like.

【0004】現状において、チップとしてのマイクロ電
極を基板に接続する接続方法は、多種類の接続方法があ
るが、そのいずれの接続方法もマイクロ電極(チップ)
側に金(Au)バンプが形成されており、マイクロ電極
と基板とを接続した後に、接続部分の信頼性を確保する
ために樹脂で固着する工程が使用されていなければなら
ないことになっている。
At present, there are many types of connection methods for connecting a microelectrode as a chip to a substrate, and any of these connection methods is a microelectrode (chip).
A gold (Au) bump is formed on the side, and a process of connecting the microelectrode and the substrate and then fixing with a resin to ensure the reliability of the connection portion must be used. .

【0005】なお、前述したマイクロ電極およびその製
造技術について記載されている文献としては、例えば1
994年発行の「IEEE TRANSACTINS ON BIOMEDICAL ENG
INEERING,VOL.41,NO.4,APRIL 1994 」p305〜p31
3に記載されているものがある。
[0005] Incidentally, as the literature describing the above-mentioned microelectrode and its manufacturing technology, for example, 1
"IEEE TRANSACTINS ON BIOMEDICAL ENG" published in 994
INEERING, VOL.41, NO.4, APRIL 1994 "p305-p31
3 is described.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ところが、前述したマ
イクロ電極を基板に接続する接続方法において、神経電
位検出用電極を備えているチップであるマイクロ電極で
は、チップを水酸化カリウム(KOH)溶液でエッチン
グしなければならない。
However, in the above-described connection method for connecting the microelectrode to the substrate, in the microelectrode having the nerve potential detecting electrode, the chip is made of potassium hydroxide (KOH) solution. Must be etched.

【0007】そのため、マイクロ電極内の配線層におけ
る配線材料に耐水酸化カリウム性に優れたタングステン
(W)を使用することになっている。
Therefore, tungsten (W) having excellent potassium hydroxide resistance is to be used as a wiring material in a wiring layer in a microelectrode.

【0008】その結果、マイクロ電極上のパッド(外部
電極)の材料は、タングステンが使用されなければなら
ないようになっている。しかし、タングステンからなる
パッドの上に直接金バンプの形成をボンディングで行う
ことは困難であることが知られている。ボンディングで
Auバンプを形成する方法としては、ウエハプロセスで
タングステンの上に金メッキ、金蒸着などの前処理が必
要となっている。これらの処理は製造工程を長くするの
で、コストアップになるという不利がある。
As a result, the material of the pad (external electrode) on the microelectrode must be tungsten. However, it is known that it is difficult to form a gold bump directly on a pad made of tungsten by bonding. As a method of forming an Au bump by bonding, a pretreatment such as gold plating or gold deposition on tungsten is required in a wafer process. These processes have the disadvantage of increasing the cost because they lengthen the manufacturing process.

【0009】本発明の目的は、簡単な工程ができて、高
性能でしかも高信頼度の接続ができるチップを基板に接
続する接続方法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a connection method for connecting a chip to a substrate, which can perform a simple process and can perform high-performance and high-reliability connection.

【0010】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
SUMMARY OF THE INVENTION Among the inventions disclosed in the present application, the outline of a representative one will be briefly described.
It is as follows.

【0012】本発明は、基板の配線層とチップの配線層
とをバンプによって接続する接続方法であって、そのバ
ンプが導電性樹脂である。
The present invention is a connection method for connecting a wiring layer of a substrate and a wiring layer of a chip by bumps, wherein the bumps are made of conductive resin.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。なお、実施の形態を説明す
るための全図において同一機能を有するものは同一の符
号を付し、重複説明は省略する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. In all the drawings for describing the embodiments, components having the same function are denoted by the same reference numerals, and redundant description will be omitted.

【0014】図1〜図7は、本発明の一実施の形態であ
るチップを基板に接続する接続方法の工程フローを示す
概略断面図である。同図を用いて、本実施の形態のチッ
プを基板に接続する接続方法を具体的に説明する。
FIGS. 1 to 7 are schematic sectional views showing the process flow of a connection method for connecting a chip to a substrate according to an embodiment of the present invention. The connection method for connecting the chip of the present embodiment to a substrate will be specifically described with reference to FIG.

【0015】まず、本実施の形態のチップを基板に接続
する接続方法に適用される基板1を用意する(図1)。
本実施の形態のチップを基板に接続する接続方法に適用
されている基板は、基板ベース1の表面に配線層2が形
成されている。配線層2は、例えば銅(Cu)層とその
表面に金メッキが配置されているものである。なお、本
実施の形態のチップを基板に接続する接続方法に適用さ
れる基板は、基板ベース1の裏面にも配線層2が形成さ
れている基板や、基板ベース1の内部に配線層が設置さ
れている基板などからなる種々の態様の基板を使用する
ことができる。
First, a substrate 1 to be used in the connection method for connecting a chip to a substrate according to the present embodiment is prepared (FIG. 1).
In a substrate applied to the connection method of connecting a chip to a substrate according to the present embodiment, a wiring layer 2 is formed on a surface of a substrate base 1. The wiring layer 2 has, for example, a copper (Cu) layer and gold plating on its surface. The substrate applied to the connection method of connecting the chip to the substrate according to the present embodiment includes a substrate having a wiring layer 2 also formed on the back surface of the substrate base 1 and a wiring layer provided inside the substrate base 1. Various types of substrates, such as those described above, can be used.

【0016】次に、基板の配線層2の一部を含む領域に
例えば異方性導電膜4圧接ペースト等の樹脂を設置する
(図2あるいは図3)。
Next, a resin such as, for example, an anisotropic conductive film 4 pressure bonding paste is provided in a region including a part of the wiring layer 2 of the substrate (FIG. 2 or FIG. 3).

【0017】また、基板の配線層2の一部を含む領域に
異方性導電膜4を設置する製造方法としては、配線層2
が表面に形成されている基板の表面に、異方性導電膜を
はり付けたり、ペーストを所定量ボンディングすること
である。
The method of manufacturing the anisotropic conductive film 4 in a region including a part of the wiring layer 2 of the substrate includes the following.
Is bonding an anisotropic conductive film or bonding a predetermined amount of paste to the surface of the substrate on which the surface is formed.

【0018】その後、基板の上に、外部電極としてのバ
ンプ11を備えているマイクロ電極(チップ)(図4)
におけるバンプ11を異方性導電体4の中に埋め込み状
態でセットした後、熱処理を使用して、バンプを基板の
配線層2に電気的に接続する作業を行う(図6)。
Thereafter, a micro electrode (chip) having bumps 11 as external electrodes on the substrate (FIG. 4)
After setting the bumps 11 in the anisotropic conductor 4 in a buried state, an operation of electrically connecting the bumps to the wiring layer 2 of the substrate is performed using heat treatment (FIG. 6).

【0019】この場合、本実施の形態のチップとしての
マイクロ電極(チップ)(図4)は、シリコン(Si、
ケイ素)層からなる支持台10表面に絶縁膜7を介在し
て例えばタングステン層からなる配線層8が形成されて
おり、配線層8の表面に保護膜としての絶縁膜9が形成
されている。また、貫通部分の配線層8に電極としての
パッド(電極)6が形成されており、支持台10の上の
配線層8の一部に形成されているパッド(電極)にバン
プ11が設置されている。本実施の形態のマイクロ電極
(チップ)(図4)におけるバンプ11は、導電性樹脂
を材料としているバンプが適用されている。
In this case, the microelectrode (chip) (FIG. 4) as the chip of the present embodiment is made of silicon (Si,
A wiring layer 8 made of, for example, a tungsten layer is formed on a surface of a support 10 made of a silicon (silicon) layer with an insulating film 7 interposed therebetween, and an insulating film 9 as a protective film is formed on the surface of the wiring layer 8. A pad (electrode) 6 as an electrode is formed on the wiring layer 8 in the penetrating portion, and a bump 11 is provided on a pad (electrode) formed on a part of the wiring layer 8 on the support base 10. ing. As the bump 11 in the microelectrode (chip) (FIG. 4) of the present embodiment, a bump made of a conductive resin is used.

【0020】また、本実施の形態のチップとしてのマイ
クロ電極(チップ)(図4)の製造方法は、支持台10
を形成するためのシリコン基板(ウエハ)またはSOI
(Silicon on Insulator)基板の表面に絶縁膜7を介在
して例えばタングステン層からなる配線層8を形成した
後、配線層8の表面に保護膜としての絶縁膜9を形成し
ている。その後、例えばタングステン層からなる配線層
8の一部に形成されているパッドに導電性樹脂をスクリ
ーン印刷法を使用して印刷した後、導電性樹脂を硬化す
る作業を行うことにより、配線層8の一部に形成されて
いるパッドに導電性樹脂を材料としているバンプ11を
形成する。その後、複数個のチップとしてのマイクロ電
極(チップ)(図4)が形成されている基板を、ダイシ
ングを使用して、切断することにより、複数個のチップ
としてのマイクロ電極(チップ)(図4)を形成してい
る。
The method of manufacturing a microelectrode (chip) (FIG. 4) as a chip according to the present embodiment
Substrate (wafer) or SOI for forming silicon
(Silicon on Insulator) After a wiring layer 8 made of, for example, a tungsten layer is formed on a surface of a substrate with an insulating film 7 interposed therebetween, an insulating film 9 as a protective film is formed on the surface of the wiring layer 8. After that, a conductive resin is printed on a pad formed on a part of the wiring layer 8 made of, for example, a tungsten layer by using a screen printing method, and then the conductive resin is cured, thereby performing the operation of hardening the conductive resin. A bump 11 made of a conductive resin is formed on a pad formed on a part of the pad. Thereafter, the substrate on which the microelectrodes (chips) as a plurality of chips (FIG. 4) are formed is cut by using dicing, whereby the microelectrodes (chips) as the plurality of chips (FIG. 4) are cut. ) Is formed.

【0021】次に、水酸化カリウム溶液を用いたエッチ
ング法を使用して、不要な領域のシリコン層からなる支
持台10を取り除いて、製品としてのマイクロ電極(チ
ップ)(図4)を形成する作業を行い、本実施の形態の
チップを基板に接続する接続方法を終了する(図7)。
Next, by using an etching method using a potassium hydroxide solution, the support 10 made of a silicon layer in an unnecessary area is removed to form a microelectrode (chip) (FIG. 4) as a product. Work is performed, and the connection method for connecting the chip to the substrate according to the present embodiment is completed (FIG. 7).

【0022】なお、前述した本実施の形態のチップを基
板に接続する接続方法の他の態様として、チップとして
は、マイクロ電極以外に、半導体装置のチップを適用で
きる。
As another aspect of the connection method of connecting the chip of the present embodiment to the substrate, a chip of a semiconductor device other than the microelectrode can be applied as the chip.

【0023】また、前述した本実施の形態のチップを基
板に接続する接続方法の他の態様として、バンプをチッ
プに接続する方法として、スクリーン印刷法以外に、デ
ィスペンサーによるポッティング法などを適用すること
ができる。
As another aspect of the connection method for connecting the chip to the substrate according to the above-described embodiment, as a method for connecting the bumps to the chip, a potting method using a dispenser may be applied in addition to the screen printing method. Can be.

【0024】前述した本実施の形態のチップを基板に接
続する接続方法によれば、基板の配線層2とマイクロ電
極(チップ)(図4)などからなるチップの配線層8と
をバンプ11によって接続する工程の前に、バンプ11
の周辺に設置される状態の異方性導電膜4を基板の配線
層2の一部を含む領域にあらかじめ設置された基板を購
入することにより、簡単な工程ででき、高性能で高信頼
度の接続ができるチップを基板に接続する接続方法とす
ることができる。
According to the above-described connection method for connecting a chip to a substrate according to the present embodiment, the wiring layer 2 of the substrate and the wiring layer 8 of the chip including microelectrodes (chips) (FIG. 4) are connected by the bumps 11. Before the connecting step, the bump 11
By purchasing a substrate in which the anisotropic conductive film 4 installed in the periphery of the substrate is previously installed in a region including a part of the wiring layer 2 of the substrate, the process can be performed in a simple process, and high performance and high reliability can be achieved. A connection method for connecting a chip that can be connected to the substrate to the substrate.

【0025】本実施の形態のチップを基板に接続する接
続方法によれば、導電性樹脂を材料としているバンプ1
1を使用していることにより、マイクロ電極(チップ)
(図4)などからなるチップの電極(配線層、外部電極
としてのパッド)材料に依存しないで、電極部から直接
導電性のあるバンプ(突起電極)を形成することができ
るので、異方性導電膜4を用いた基板の配線層2との電
気的な接続を容易にすることができる。
According to the connection method for connecting a chip to a substrate according to the present embodiment, the bump 1 made of a conductive resin is used.
Micro electrode (chip) by using 1
An electrically conductive bump (protruding electrode) can be formed directly from the electrode part without depending on the material of the electrode (wiring layer, pad as an external electrode) of the chip composed of FIG. Electrical connection with the wiring layer 2 of the substrate using the conductive film 4 can be facilitated.

【0026】本実施の形態のチップを基板に接続する接
続方法によれば、スクリーン印刷法などを使用して、一
括してバンプ11を形成できることにより、低コストな
バンプ11の形成ができる。
According to the connection method for connecting a chip to a substrate according to the present embodiment, the bumps 11 can be formed collectively by using a screen printing method or the like, so that the bumps 11 can be formed at low cost.

【0027】以上、本発明者によってなされた発明を発
明の実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は
前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を
逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでも
ない。
Although the invention made by the inventor has been specifically described based on the embodiments of the present invention, the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications may be made without departing from the gist of the invention. Needless to say, it can be changed.

【0028】たとえば、本発明のチップを基板に接続す
る接続方法によれば、チップおよび基板の材料、幅、膜
厚ならびに形状および配置構造を設計仕様に応じて種々
の形態にしても、高性能でしかも高信頼度の接続方法が
できる。
For example, according to the connection method of connecting a chip to a substrate according to the present invention, even if the material, width, film thickness, shape and arrangement of the chip and the substrate are variously designed according to the design specifications, the high performance can be obtained. In addition, a highly reliable connection method can be realized.

【0029】また、本発明のチップを基板に接続する接
続方法によれば、チップとしての半導体装置は、MOS
FET、CMOSFET、バイポーラトランジスタ、ま
たはMOSFETとバイポーラトランジスタを組み合わ
せたBiMOSあるいはBiCMOS構造などの種々の
半導体素子を組み合わせた態様の半導体素子を有する半
導体集積回路装置に適用できる。
According to the connection method of connecting a chip to a substrate according to the present invention, the semiconductor device as a chip can be a MOS device.
The present invention can be applied to a semiconductor integrated circuit device having a semiconductor element in which various semiconductor elements such as an FET, a CMOSFET, a bipolar transistor, or a BiMOS or a BiCMOS structure in which a MOSFET and a bipolar transistor are combined are combined.

【0030】また、本発明のチップを基板に接続する接
続方法によれば、チップとしての半導体装置は、MOS
FET、CMOSFETなどを構成要素とするロジック
系あるいはDRAM(Dynamic Random Access Memor
y)、SRAM(Static RandomAccess Memory )などの
メモリ系などを有する種々の半導体集積回路装置に適用
できる。
According to the connection method for connecting a chip to a substrate according to the present invention, the semiconductor device as a chip includes a MOS device.
Logic or DRAM (Dynamic Random Access Memor
y) and various semiconductor integrated circuit devices having a memory system such as an SRAM (Static Random Access Memory).

【0031】[0031]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
Advantageous effects obtained by typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described.
It is as follows.

【0032】(1).本発明のチップを基板に接続する
接続方法によれば、基板の配線層とマイクロ電極(チッ
プ)などからなるチップの配線層とをバンプによって接
続する工程の前に、バンプの周辺に設置される状態の異
方性導電体を基板の配線層の一部を含む領域にあらかじ
め設置された基板を購入することにより、簡単な工程が
できて、高性能でしかも高信頼度の接続ができるチップ
を基板に接続する接続方法とすることができる。
(1). According to the connection method of connecting a chip to a substrate according to the present invention, the chip is placed around the bump before the step of connecting the wiring layer of the substrate and the wiring layer of the chip including microelectrodes (chips) by the bump. By purchasing a substrate in which the anisotropic conductor in the state is pre-installed in a region including a part of the wiring layer of the substrate, a chip that can perform simple processes, and has high-performance and high-reliability connection can be obtained. A connection method for connecting to a substrate can be adopted.

【0033】(2).本発明のチップを基板に接続する
接続方法によれば、導電性樹脂を材料としているバンプ
を使用していることにより、マイクロ電極(チップ)な
どからなるチップの電極(配線層、外部電極としてのパ
ッド)材料に依存しないで、電極部から直接導電性のあ
るバンプ(突起電極)を形成することができるので、異
方性導電体を用いた基板の配線層との電気的な接続を容
易にすることができる。
(2). According to the connection method of the present invention for connecting a chip to a substrate, the use of bumps made of a conductive resin makes it possible to use microelectrodes (chips) for chip electrodes (wiring layers and external electrodes). Since a conductive bump (protruding electrode) can be formed directly from the electrode portion without depending on the pad) material, it is easy to electrically connect to the wiring layer of the substrate using an anisotropic conductor. can do.

【0034】(3).本発明のチップを基板に接続する
接続方法によれば、スクリーン印刷法などを使用して、
一括してバンプを形成できることにより、低コストなバ
ンプの形成ができる。
(3). According to the connection method of connecting the chip of the present invention to the substrate, using a screen printing method or the like,
Since bumps can be formed collectively, low-cost bumps can be formed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施の形態であるチップを基板に接
続する接続方法に使用する基板の概略断面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view of a substrate used in a connection method for connecting a chip to a substrate according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施の形態であるチップを基板に接
続する接続方法の工程の基板に異方性導電膜を形成した
状態を示す概略断面図である。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a state in which an anisotropic conductive film is formed on a substrate in a step of a connection method for connecting a chip to a substrate according to an embodiment of the present invention.

【図3】本発明の一実施の形態であるチップを基板に接
続する接続方法の工程の基板に圧接用ペーストを形成し
た状態を示す概略断面図である。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view illustrating a state in which a press-contact paste is formed on a substrate in a process of a connection method for connecting a chip to a substrate according to an embodiment of the present invention.

【図4】本発明の一実施の形態であるチップを基板に接
続する接続方法のマイクロ電極を示す概略断面図であ
る。
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing a microelectrode of a connection method for connecting a chip to a substrate according to an embodiment of the present invention.

【図5】マイクロ電極チップに樹脂バンプを形成した状
態を示す概略断面図である。
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing a state in which a resin bump is formed on the microelectrode chip.

【図6】マイクロ電極チップと基板とを樹脂バンプを介
して接続した状態を示す概略断面図である。
FIG. 6 is a schematic sectional view showing a state where the microelectrode chip and the substrate are connected via a resin bump.

【図7】マイクロ電極チップの不要な支持台をエッチン
グにより除去した状態を示す概略断面図である。
FIG. 7 is a schematic sectional view showing a state in which an unnecessary support of the microelectrode chip is removed by etching.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板ベース 2 配線層 3 絶縁膜 4 異方性導電膜 5 圧接用ペースト 6 パッド 7 絶縁膜 8 配線層 9 絶縁膜 10 支持台 11 バンプ 12 神経電位検出用電極 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate base 2 Wiring layer 3 Insulating film 4 Anisotropic conductive film 5 Paste for pressure welding 6 Pad 7 Insulating film 8 Wiring layer 9 Insulating film 10 Support base 11 Bump 12 Electrode for neural potential detection

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 野田 秀男 東京都小平市上水本町5丁目22番1号 株 式会社日立超エル・エス・アイ・システム ズ内 (72)発明者 寺田 知之 東京都小平市上水本町5丁目22番1号 株 式会社日立超エル・エス・アイ・システム ズ内 (72)発明者 田辺 慎一 東京都小平市上水本町5丁目22番1号 株 式会社日立超エル・エス・アイ・システム ズ内 (72)発明者 国本 幸紀 東京都小平市上水本町5丁目22番1号 株 式会社日立超エル・エス・アイ・システム ズ内 (72)発明者 小熊 広志 東京都小平市上水本町5丁目22番1号 株 式会社日立超エル・エス・アイ・システム ズ内 (72)発明者 菊池 真之 東京都小平市上水本町5丁目22番1号 株 式会社日立超エル・エス・アイ・システム ズ内 (72)発明者 市原 誠一 東京都小平市上水本町5丁目22番1号 株 式会社日立超エル・エス・アイ・システム ズ内 (72)発明者 砂川 賢二 大阪府茨木市春日丘3−9−16 (72)発明者 佐藤 隆幸 大阪府箕面市今宮3−11−31−201 Fターム(参考) 5E319 AA03 AB05 BB16 CC61 CD26 GG20 5F044 LL09 QQ03  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Hideo Noda 5-2-12-1 Kamimizuhonmachi, Kodaira-shi, Tokyo Inside Hitachi Super SII Systems Co., Ltd. (72) Inventor Tomoyuki Terada Tokyo 5-22-1, Kamimizu Honcho, Kodaira City Hitachi, Ltd. LSI Systems, Inc. (72) Inventor Shinichi Tanabe 5-22-1, Kamizu Honmachi, Kodaira City, Tokyo Hitachi, Ltd. LSI Systems Inc. (72) Inventor Yuki Kunimoto 5-22-1, Josuihonmachi, Kodaira-shi, Tokyo Hitachi, Ltd. Hitachi Ultra LSI Systems Inc. (72) Inventor Oguma Hiroshi 5-22-1, Josuihoncho, Kodaira-shi, Tokyo Inside Hitachi Ultra-SII Systems Co., Ltd. (72) Inventor Masayuki Kikuchi 5-2-2 Josuihoncho, Kodaira-shi, Tokyo No. 2 in Hitachi Super LSI System Co., Ltd. (72) Inventor Seiichi Ichihara 5-2-1, Josuihoncho, Kodaira-shi, Tokyo Hitachi Super LSI System Co., Ltd. (72) Inventor Kenji Sunagawa 3-9-16, Kasugaoka, Ibaraki-shi, Osaka (72) Inventor Takayuki Sato 3-11-31-201, Imamiya, Minoh-shi, Osaka F-term (reference) 5E319 AA03 AB05 BB16 CC61 CD26 GG20 5F044 LL09 QQ03

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板の配線層とチップの配線層とをバン
プによって接続する接続方法であって、そのバンプが導
電性樹脂であることを特徴とするチップを基板に接続す
る接続方法。
1. A connection method for connecting a chip to a substrate, the method comprising connecting a wiring layer of a substrate and a wiring layer of a chip by a bump, wherein the bump is made of a conductive resin.
【請求項2】 チップを基板に接続する接続方法であっ
て、前記バンプは、導電性樹脂を材料としているバンプ
であることを特徴とするチップを基板に接続する接続方
法。
2. A connection method for connecting a chip to a substrate, wherein the bump is a bump made of a conductive resin.
【請求項3】 請求項1記載のチップを基板に接続する
接続方法であって、前記チップは、マイクロ電極のチッ
プであることを特徴とするチップを基板に接続する接続
方法。
3. The connection method for connecting a chip to a substrate according to claim 1, wherein the chip is a micro-electrode chip.
【請求項4】 請求項1記載のチップを基板に接続する
接続方法であって、前記チップは、半導体装置のチップ
であることを特徴とするチップを基板に接続する接続方
法。
4. The connection method for connecting a chip to a substrate according to claim 1, wherein the chip is a chip of a semiconductor device.
JP25891899A 1999-09-13 1999-09-13 Connection method to connect chip to substrate Withdrawn JP2001085459A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25891899A JP2001085459A (en) 1999-09-13 1999-09-13 Connection method to connect chip to substrate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25891899A JP2001085459A (en) 1999-09-13 1999-09-13 Connection method to connect chip to substrate

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001085459A true JP2001085459A (en) 2001-03-30

Family

ID=17326851

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP25891899A Withdrawn JP2001085459A (en) 1999-09-13 1999-09-13 Connection method to connect chip to substrate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001085459A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6940175B2 (en) 2001-06-14 2005-09-06 Sharp Kabushiki Kaisha Semiconductor device in which a plurality of electronic components are combined with each other

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6940175B2 (en) 2001-06-14 2005-09-06 Sharp Kabushiki Kaisha Semiconductor device in which a plurality of electronic components are combined with each other

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5789278A (en) Method for fabricating chip modules
JP3335575B2 (en) Semiconductor device and manufacturing method thereof
US6093643A (en) Electrically conductive projections and semiconductor processing method of forming same
JPH0550134B2 (en)
WO2002058144A1 (en) Electroless ni/pd/au metallization structure for copper interconnect substrate and method therefor
JP2001068618A (en) Semiconductor chip and manufacturing method thereof, semiconductor device, computer, circuit board, and electronic device
JP2004071961A (en) Compound module and manufacturing method thereof
JP4232301B2 (en) Lead frame manufacturing method and semiconductor device manufacturing method
JPH08125120A (en) Semiconductor device and manufacturing method thereof
JP2001085459A (en) Connection method to connect chip to substrate
JP2001320015A (en) Semiconductor device and its manufacturing method
JP3496569B2 (en) Semiconductor device, its manufacturing method and its mounting structure
JPH04107964A (en) Semiconductor integrated circuit device
TW497232B (en) Semiconductor device and method of manufacturing the same
JP2000133742A (en) Package substrate, semiconductor device using the same, and method of manufacturing the same
JPH10510107A (en) Chip interconnect carrier and method for mounting a spring contact on a semiconductor device
JP3080333B2 (en) Semiconductor device
JPH054279Y2 (en)
JP2000294669A (en) Wiring board, method of manufacturing semiconductor device using the same, and semiconductor device
JPH07326708A (en) Multi-chip module semiconductor device
JPH01297828A (en) Semiconductor device
JPS6298633A (en) semiconductor equipment
JPH11121642A (en) Semiconductor device and manufacturing method thereof
JPS634633A (en) Bumpless film carrier
JPH0576771B2 (en)

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20061205