JP2001093957A - Apparatus and method for manufacturing electronic component - Google Patents
Apparatus and method for manufacturing electronic componentInfo
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- JP2001093957A JP2001093957A JP26731599A JP26731599A JP2001093957A JP 2001093957 A JP2001093957 A JP 2001093957A JP 26731599 A JP26731599 A JP 26731599A JP 26731599 A JP26731599 A JP 26731599A JP 2001093957 A JP2001093957 A JP 2001093957A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 有効床面積率等が向上するように改良された
電子部品の製造装置を提供することを主要な目的とす
る。
【解決手段】 当該装置は、天井に配設されたレール軌
道を移動し、カセット5をカセット収容容器8に入れて
搬出入室6へ搬送する搬送機を備える。搬出入室6内
に、カセット収容容器8とともに搬送されてきたカセッ
ト5を昇降させる手段9が設けられている。当該装置
は、カセット5からほぼ一定の水平位置で水平方向に基
板1を1枚だけ取出して、ロードロック室3へ搬出する
搬出手段を備えている。
(57) [Problem] It is a main object to provide an electronic device manufacturing apparatus improved so that the effective floor area ratio and the like are improved. The apparatus includes a transfer device that moves on a rail track provided on a ceiling, inserts a cassette 5 into a cassette container 8, and transfers the cassette 5 to a loading / unloading chamber 6. Means 9 for raising and lowering the cassette 5 conveyed together with the cassette housing container 8 is provided in the carry-in / out chamber 6. The apparatus includes an unloading unit that unloads only one substrate 1 from the cassette 5 at a substantially constant horizontal position in the horizontal direction and unloads the substrate 1 into the load lock chamber 3.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、一般に、電子部
品の製造装置に関するものであり、より特定的には、数
百mm径や数百mm角以上の大型基板を用いる場合に適
した電子部品の製造装置に関する。この発明は、また、
そのような大型基板を用いる場合に適した、電子部品の
製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention generally relates to an electronic component manufacturing apparatus, and more particularly, to an electronic component suitable for using a large substrate having a diameter of several hundred mm or a square of several hundred mm or more. Related to a manufacturing apparatus. The invention also provides
The present invention relates to a method for manufacturing an electronic component suitable for using such a large substrate.
【0002】[0002]
【従来の技術】一般に、半導体、液晶表示装置、イメー
ジセンサなどの各種電子部品の製造工程においては、部
品を一括して効率よく製造できるように、製品を、同時
に、多数個製造する。また、大型の表示装置などを製造
するために、大型の基板を用いて、製造している。そし
て、さらなる取れ数増加や部品の大型化を目指し、益々
大きな基板サイズでも製造できるように、各種生産技術
や処理装置が、年々あるいは日々、開発され、実用化さ
れている。2. Description of the Related Art Generally, in a process of manufacturing various electronic parts such as a semiconductor, a liquid crystal display device, and an image sensor, a large number of products are manufactured at the same time so that the parts can be efficiently manufactured together. In addition, in order to manufacture a large-sized display device or the like, manufacturing is performed using a large-sized substrate. Various production techniques and processing apparatuses are developed and put into practical use every year or every day so that even larger substrate sizes can be manufactured with the aim of further increasing the number of parts and increasing the size of parts.
【0003】また、これらの電子部品の製造工程は、通
常多くの処理工程を有しており、被処理体である基板に
対するCVD法やスパッタ法による薄膜形成、熱拡散法
による不純物濃度領域の形成、各種薄膜のパターン形成
等において、各種の処理装置が、多数使用されている。The manufacturing process of these electronic components usually includes many processing steps, such as forming a thin film on a substrate to be processed by a CVD method or a sputtering method, and forming an impurity concentration region by a thermal diffusion method. Many types of processing apparatuses are used in pattern formation of various thin films.
【0004】これらの電子部品内には、μmオーダ以下
の微細パターンが数万個以上形成され、しかも、先の大
型化と同様、さらなる高精細化も追求されており、浮遊
している目視できないような異物やガスも、パターン形
成や化学反応の欠陥原因となる。そのため、処理装置、
検査装置、搬送装置などの工程全体を、たとえば、クラ
ス1や10などのクリーン度を有するクリーンルームの
中に収めてさらに各種の空調管理を行なっている。In these electronic parts, more than tens of thousands of fine patterns of the order of μm or less are formed, and further higher definition is pursued in the same way as the above-mentioned large size, so that they are invisible floating. Such foreign matter and gas also cause defects in pattern formation and chemical reaction. Therefore, processing equipment,
The entire process, such as the inspection device and the transport device, is housed in a clean room having a degree of cleanliness of class 1 or 10, for example, and various air conditioning controls are performed.
【0005】しかし、クリーンルームの設備は、クリー
ン度が増すにつれて極端に、その建設コストが増してい
る。特に、大型基板を扱う工場では、中でも、新規工場
では、立上げ時、装置の配置や工程内の作業の動きによ
り空気の流れが複雑に変わり、要所要所で、異物や不純
物の飛散抑制対策や、クリーン度の管理や維持が難しく
なっている。また工場の立上げ期間や、建設およびラン
ニングコストも増している。また、防塵服などの、工程
内の作業者に対する防塵対策のチェックポイントが増え
て、広い工程内での作業が増すにつれ、作業者自身の作
業環境も悪化しつつある。[0005] However, the construction cost of the clean room equipment is extremely increasing as the degree of cleanliness is increased. Especially in factories handling large substrates, especially in new factories, when starting up, the arrangement of equipment and the movement of work in the process change the flow of air complicatedly, and measures to prevent foreign matter and impurities from scattering at important places In addition, it is becoming difficult to manage and maintain cleanliness. Also, factory start-up time, construction and running costs are increasing. In addition, the number of checkpoints for dustproof measures for workers in the process, such as dustproof clothing, has increased, and as the number of operations in a wide range of processes has increased, the working environment of the workers themselves has been deteriorating.
【0006】これらの問題を改善する方法として、たと
えば、特開平6−196545号公報、特開平7−16
1797号公報、特開平7−297257号公報などに
記載の処理装置が提案されている。いずれも、基板を多
数収めたカセットと着脱可能なカバーとを一式とするポ
ット(またはポッドまたはカセット収容容器)を処理装
置間のクリーンな基板搬送に使用するものである。この
ようにしてライン全体の高クリーンエリアを低減するな
どの改善ができる。As a method for solving these problems, for example, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. Hei 6-196545 and Hei 7-16
A processing apparatus described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 1797 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-297257 has been proposed. In each case, a pot (or a pod or a cassette accommodating container) having a set of a cassette accommodating a large number of substrates and a detachable cover is used for clean substrate transport between processing apparatuses. In this way, improvements such as reducing the high clean area of the entire line can be made.
【0007】特開平7−161797号公報に開示され
た装置を、図6と図7を用いて説明する。An apparatus disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 7-161797 will be described with reference to FIGS. 6 and 7. FIG.
【0008】この装置は、被処理体であるウェハWに所
定の処理を施す処理室であるプロセスチューブ101を
備える。プロセスチューブ101には、多数枚、たとえ
ば100枚のウェハWを収納した保持体としてのウェハ
ポート102を挿脱する移送機構103を備えたロード
ロック室104が連結されている。ロードロック室10
4には、ウェハWを搬出入する搬出入室105が接続さ
れている。搬出入室105には、カセット収容容器用ポ
ート106が形成されている。保持体収容室20は、ロ
ードロック室104と搬出入室105との間に配置され
るウェハポート102を収容する。This apparatus includes a process tube 101 which is a processing chamber for performing a predetermined process on a wafer W to be processed. The process tube 101 is connected to a load lock chamber 104 having a transfer mechanism 103 for inserting and removing a wafer port 102 serving as a holder holding a large number of, for example, 100 wafers W. Load lock room 10
4, a loading / unloading chamber 105 for loading / unloading the wafer W is connected. In the loading / unloading chamber 105, a cassette housing container port 106 is formed. The holder housing chamber 20 houses the wafer port 102 disposed between the load lock chamber 104 and the loading / unloading chamber 105.
【0009】一方、搬出入室105は、HEPA(High
Efficiency Particle Air)フィルタ107を通して導
入される清浄気体により、大気雰囲気下にされている。
搬出入室105内には、カセット収容容器用ポート10
6が設けられている。カセット収容容器用ポート106
には、複数枚、たとえば25枚のウェハWを収納するウ
ェアキャリアCが内部に収められたカセット収容容器1
08が設置されている。On the other hand, the loading / unloading room 105 has a HEPA (High
Efficiency Particle Air (Efficiency Particle Air) is brought into the atmosphere by the clean gas introduced through the filter 107.
Inside the loading / unloading chamber 105, the cassette container port 10 is provided.
6 are provided. Port 106 for cassette container
Has a cassette housing container 1 in which a wear carrier C for housing a plurality of, for example, 25 wafers W is housed.
08 is installed.
【0010】カセット収容容器108は、図8を参照し
て、1つのカセットCを収容し得る程度の大きさにされ
ている。カセット収容容器108は、下部が開口された
容器本体109とこの開口部を密閉可能に閉塞する容器
底部110とより構成される。カセット収容容器108
の内部は、カセットCを収容した状態で、大気圧に対し
て陽圧になされた高いクリーン度の清浄空気あるいは不
活性ガスが充填されている、もしくは、真空引きされて
いる。カセット収容容器108は、たとえば市販のSM
IF−POD(商標)が用いられる。Referring to FIG. 8, the cassette accommodating container 108 is sized to accommodate one cassette C. The cassette accommodating container 108 includes a container main body 109 having an open lower portion, and a container bottom portion 110 for sealingly closing the opening. Cassette container 108
Is filled with clean air or an inert gas having a high cleanness and a positive pressure with respect to the atmospheric pressure in a state in which the cassette C is housed, or is evacuated. The cassette container 108 is, for example, a commercially available SM
IF-POD (trademark) is used.
【0011】カセット収容容器用ポート106は、搬出
入室105の側壁を、内部に向かって、凹部状に凹ませ
るように形成されている。容器本体109を実際に載置
するポート載置台111には、容器本体109のフラン
ジ部109Aの内径よりも大きく、かつその外径よりも
小さくされたカセット挿通孔112が形成されている。
挿通孔112の周縁部は、外方へ下向き傾斜するテーパ
状に形成されている。これにより、ポート載置台111
より、下方向に、着脱可能に、容器底部載置台113が
設けられる。The cassette container port 106 is formed so that the side wall of the loading / unloading chamber 105 is recessed toward the inside. The port mounting table 111 on which the container main body 109 is actually mounted has a cassette insertion hole 112 that is larger than the inner diameter of the flange portion 109A of the container main body 109 and smaller than the outer diameter thereof.
The peripheral edge of the insertion hole 112 is formed in a tapered shape that is inclined outward and downward. Thereby, the port mounting table 111
Further, the container bottom mounting table 113 is detachably provided downward.
【0012】容器底部載置台113は、図6にも示すよ
うに、垂直移動アーム115の先端に、ボールねじ部1
14から大きく突出するように取付けられている。垂直
移動アーム115は、容器底部載置台113のほぼ側方
に配置されたボールねじ部114によって垂直方向(上
下方向)へ移動可能にされている。容器底部載置台11
3は、容器本体109を上方に残して、容器底部110
と、この上面に載置されているカセットCのみを沈み込
ませて、搬出入室105内に取込まれるようになってい
る。As shown in FIG. 6, the container bottom mounting table 113 has a ball screw 1
It is mounted so as to protrude greatly from 14. The vertical movement arm 115 can be moved in the vertical direction (up and down direction) by a ball screw portion 114 arranged substantially on the side of the container bottom mounting table 113. Container bottom mounting table 11
3 is a container bottom 110 with the container body 109 left upward.
Then, only the cassette C placed on the upper surface is lowered and taken into the carry-in / out chamber 105.
【0013】図9を参照して、ボールねじ114には、
水平移動アーム116が設けられている。水平移動アー
ム116は、容器底部載置台113の下方に位置し、水
平方向へ置き倒して屈曲可能になされた多関節アームよ
りなる。水平移動アーム116の先端には、常に水平状
態になるように、遊嵌状態で首振り可能になされたアー
ム補助部材116Aが設けられている。アーム補助部材
116Aの両端には、開閉可能にされた爪部117が設
けられている。水平移動アーム116を屈曲させた状態
で、爪部117を開閉作動することにより、沈み込んだ
カセットCの側壁を把持し得るようになっている。Referring to FIG. 9, ball screw 114 has
A horizontal movement arm 116 is provided. The horizontal movement arm 116 is located below the container bottom mounting table 113, and is composed of a multi-joint arm that can be placed horizontally and bent to be bent. At the end of the horizontal moving arm 116, an arm assisting member 116A is provided which is swingable in a loosely fitted state so as to be always in a horizontal state. At both ends of the arm auxiliary member 116A, claw portions 117 that can be opened and closed are provided. By opening and closing the pawl portion 117 with the horizontal moving arm 116 bent, the side wall of the sunk cassette C can be gripped.
【0014】カセット収容容器用ポート106の入口に
は、この部分を開閉して作業エリアとの連通・遮断を行
なうためのシャッタ機構118が設けられている。At the entrance of the cassette container port 106, there is provided a shutter mechanism 118 for opening and closing this portion to open and close the communication with the work area.
【0015】搬出入室105内には、カセット収容容器
用ポート106のすぐ後側の位置に、キャリアトランス
ファ119が、エレベータ120を介して、昇降可能に
設置されている。キャリアトランスファ119の後側
に、トランスファステージ121が設置されている。ト
ランスファステージ121の上方にキャリアストックス
テージ122が設けられている。キャリアストックステ
ージ122には、カセット収容容器用ポート106から
キャリアトランスファ119により搬送されてくるウェ
ハキャリアCを、それぞれ横向きで、たとえば2列4段
に保管できるように、複数の棚が形成されている。In the loading / unloading room 105, a carrier transfer 119 is installed at a position immediately behind the cassette housing port 106 via an elevator 120 so as to be able to move up and down. A transfer stage 121 is provided behind the carrier transfer 119. A carrier stock stage 122 is provided above the transfer stage 121. A plurality of shelves are formed on the carrier stock stage 122 so that the wafer carriers C transported from the cassette housing container port 106 by the carrier transfer 119 can be stored horizontally, for example, in two rows and four stages. .
【0016】搬出入室105の保持体収容室側には、ウ
ェハトランスファ123が、移載用エレベータ124に
よって、昇降可能に支持されて設置されている。ウェハ
トランスファ123は、昇降しながら、トランスファス
テージ122上のウェハキャリアC内のウェハWを1枚
ずつ取出して、保持体収容室20内に収容されたウェハ
ポート100に収容保持させる。ウェハトランスファ1
23は、また、ウェハポート102からウェハWをトラ
ンスファステージ121上のウェハキャリアC内に戻す
働きもする。A wafer transfer 123 is installed on the side of the loading / unloading chamber 105 on the side of the holding body accommodating chamber so as to be vertically movable by a transfer elevator 124. The wafer transfer 123 takes out the wafers W in the wafer carrier C on the transfer stage 122 one by one while moving up and down, and stores the wafers W in the wafer port 100 stored in the holder storage chamber 20. Wafer transfer 1
23 also functions to return the wafer W from the wafer port 102 into the wafer carrier C on the transfer stage 121.
【0017】キャリアストックステージ122に並ん
で、内部HEPAフィルタ125が設けられている。H
EPAフィルタ125の上方から導入されたクリーン度
の高い清浄空気を水平方向および下方向へ順次屈曲させ
て、ポート用HEPAフィルタ125を通過させた後、
カセット収容容器用ポート106を通って、その下方へ
流し、室内へ循環させてワンスルーで排気するようにな
っている。An internal HEPA filter 125 is provided alongside the carrier stock stage 122. H
After the clean air with a high degree of cleanness introduced from above the EPA filter 125 is sequentially bent horizontally and downward, and passed through the port HEPA filter 125,
The gas flows downward through the cassette housing container port 106, is circulated indoors, and is exhausted one-through.
【0018】特開平6−196545号公報に記載の装
置は、図10(A)および(B)に示すように、処理装
置127と搬出入室128を備える。コンテナ133
は、ボックス(あるいは、ボックスストップまたはポッ
トとして特定される)132およびボックスドア(また
はポットドア)131を有している。複数のウェハ12
9を収納するウェハカセット130はボックスドア13
1の上に載せられている。この装置は、特開平7−16
1797号公報に記載の装置と異なり、搬出入室128
内には、ウェハ129を収納したウェハカセット130
とボックスドア131のみが持ち込まれる。ただし、特
開平7−161797号公報の装置と同様に、ウェハカ
セット130の昇降部の側部に、昇降機構134を有す
る。昇降機構134は搬出入室128内に設けられてい
る。また、この装置は、処理前ステージ135まで、ウ
ェハカセット135毎、搬送する、マニプレータアーム
136を有している。The apparatus described in JP-A-6-196545 has a processing apparatus 127 and a loading / unloading chamber 128 as shown in FIGS. 10 (A) and 10 (B). Container 133
Has a box (or identified as a box stop or pot) 132 and a box door (or pot door) 131. Multiple wafers 12
9 is housed in the box door 13
On top of one. This device is disclosed in
Unlike the device described in US Pat.
Inside, a wafer cassette 130 containing wafers 129 is provided.
And only the box door 131 is brought in. However, similarly to the apparatus disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-161797, a lifting mechanism 134 is provided on the side of the lifting section of the wafer cassette 130. The elevating mechanism 134 is provided in the carry-in / out room 128. Further, this apparatus has a manipulator arm 136 that transports the entire wafer cassette 135 to the pre-processing stage 135.
【0019】特開平7−297257号公報に記載の装
置は、図11に示すように、カセットCがカセット収容
容器108と一体化されている。カセット収容容器10
8は、容器保管ステージ137に、複数個保管される。
この点で、この装置は、特開平7−161797号公報
に記載の装置と異なり、ひいては、その分、省スペース
化が図られる。In the apparatus disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-297257, a cassette C is integrated with a cassette container 108 as shown in FIG. Cassette storage container 10
8 are stored on the container storage stage 137.
In this respect, this device is different from the device described in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 7-161797, and as a result, space is saved.
【0020】なお、カセット内の基板の支持を、液晶表
示装置の場合、全面支持で行なうと、傷の発生と発塵が
生じるという問題点がある。したがって、対向する2辺
の基板底面間に、十数mm程度の間隔を設ける形状のも
のが多い。Incidentally, in the case of a liquid crystal display device, if the substrate in the cassette is supported on the entire surface, there is a problem that scratches and dust are generated. Therefore, in many cases, an interval of about several tens of mm is provided between the two opposite substrate bottom surfaces.
【0021】[0021]
【発明が解決しようとする課題】さて、半導体、液晶表
示装置などの各種電子部品の製造工程においては、基板
の大型化が進展している。しかも、工程数や処理装置数
が多く、大規模な工場施設が必要となってきている。し
かし、建設や保守、維持費などを抑え、装置のメーカー
から工場までのトラックなどによる搬送を容易にし、製
造や工程管理などの作業性を図るためには、各処理や移
動すべき装置あるいは付帯設備などの小型化を図る必要
がある。In the manufacturing process of various electronic components such as semiconductors and liquid crystal display devices, the size of substrates has been increasing. In addition, the number of processes and the number of processing devices are large, and large-scale factory facilities are required. However, in order to reduce construction, maintenance, and maintenance costs, facilitate transportation by truck from equipment manufacturers to factories, and improve workability in manufacturing and process management, the equipment or auxiliary equipment to be moved or moved It is necessary to reduce the size of the equipment.
【0022】また、生産のタクトを落とさないよう真空
引き時間などを低減する必要がある。特開平7−161
797号のように、3台のHEPAを調整するような複
雑な空調調整を不要にして、クリーン度を安定化させる
ためにも、ロードロック室等に基板を受け渡す予備室の
容積をなるべく小さくする必要がある。Further, it is necessary to reduce the evacuation time and the like so as not to reduce the production cycle. JP-A-7-161
In order to stabilize the cleanness by eliminating the need for complicated air-conditioning adjustment such as adjusting three HEPAs as in JP-A-797, the volume of a spare chamber for transferring substrates to a load lock chamber or the like is made as small as possible. There is a need to.
【0023】ところが、特開平7−161797号公報
あるいは特開平7−297257号公報に記載の装置で
は、搬出入室のスペースが、図6のX×Y面にカセット
の外周の容積の20倍以上大きなスペースが必要とな
る。さらに、図7を参照して、奥行方向Bを考えると、
さらにその2倍ないし3倍以上と、大きなスペースが必
要となる。However, in the apparatus described in JP-A-7-161797 or JP-A-7-297257, the space of the loading / unloading chamber is at least 20 times larger than the outer peripheral volume of the cassette on the X.times.Y plane in FIG. Space is required. Further, referring to FIG. 7, considering the depth direction B,
Further, a large space is required which is twice or three times or more.
【0024】したがって、以下の項目が検討課題とな
る。 搬出入室に、複数のカセットおよびカセット収容容
器を収めていること。Therefore, the following items are to be studied. A plurality of cassettes and cassette storage containers are stored in the loading / unloading room.
【0025】 カセットおよびカセット収容容器の移
載や昇降機構を搬出入室に収めていること。The transfer of the cassette and the cassette container and the elevating mechanism are housed in the carry-in / out room.
【0026】 カセットまたはカセット収容容器の昇
降機構を搬出入室に収めていること。かつ昇降機構を、
カセットまたはカセット収容容器の側部に形成している
こと。このような稼動や摺動部を搬出入室に設けるの
は、発塵などにより、製品の品質や歩留りが低下しやす
いなどの問題点がある。また、特に、液晶表示装置で
は、数百mm角以上の大型の基板を用い、カセットなど
を含めた重量は大きく、このような片持ち構造で摺動部
を設けると、大きなモーメントに耐えるため、垂直移動
アーム115、水平移動アーム116、ボールねじ11
4やその軸受が一回り大きくなったり、寿命が短くなる
などの問題を生じさせる。また、軸受が搬出入室にあ
り、メンテナンスの作業時間を増し、装置の稼働率が下
がるおそれがある。The elevating mechanism of the cassette or the cassette accommodating container is housed in the carry-in / out room. And lifting mechanism,
Formed on the side of the cassette or cassette container. Providing such an operation or sliding portion in the carry-in / out chamber has a problem that the quality of the product and the yield are likely to be reduced due to dust generation or the like. In addition, in particular, in a liquid crystal display device, a large substrate having a size of several hundred mm square or more is used, and the weight including a cassette and the like is large. Vertical movement arm 115, horizontal movement arm 116, ball screw 11
4 and its bearings become larger and their life is shortened. Further, since the bearings are located in the carry-in / out room, maintenance work time may be increased, and the operation rate of the device may be reduced.
【0027】 また、特開平7−161797号公報
の開示の装置では、クリーン度を安定化するため、3台
のHEPAの流量や位置を調整するような複雑な空調装
置が必要で、HEPAのスペースもかさむ。Further, in the apparatus disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-161797, a complicated air conditioner for adjusting the flow rate and position of three HEPAs is required in order to stabilize the cleanness, and the HEPA space is required. I'm sorry.
【0028】 特に、液晶表示装置では、数百mm角
以上の大型の基板を用い、厚みも0.5〜1.1mmと
薄いものなので、従来のように、2辺支持構造では、基
板が10〜数十mm程度反る。したがって、基板受け渡
し時などの干渉や割れを防止するため、基板間の間隔を
大きく取る必要がある。しかし、カセットやカセット収
容容器が大きく、重量が増し、上記〜の課題を、相
乗的に大きくする。Particularly, a liquid crystal display device uses a large substrate of several hundred mm square or more and has a thin thickness of 0.5 to 1.1 mm. Warp by about several tens mm. Therefore, it is necessary to increase the distance between the substrates in order to prevent interference and cracks during the transfer of the substrates. However, the size of the cassette or the cassette housing container is large and the weight is increased, so that the above-mentioned problems are synergistically increased.
【0029】また、特開平6−196545号公報記載
の装置では、上述の項の問題は低減されるが、上記
〜の問題は同様に存在する。すなわち、図10に示す
ように、カセット寸法に比べ、図10(B)に示す断面
図の面内において、カセットの10倍前後のスペースを
必要とする。In the apparatus described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-196545, the problems described in the above items are reduced, but the problems described above also exist. That is, as shown in FIG. 10, a space about ten times as large as the cassette is required in the plane of the cross-sectional view shown in FIG.
【0030】さらに、これらの電子部品の製造工程にお
いて、基板を搭載したカセットの搬送には、床面に敷設
したレール上を移動する無人搬送車が一般的に用いられ
ている。しかし、この場合、無人搬送車軌道用レールや
各種処理装置、さらには、クリーン度向上のためのHE
PAユニットなどを床面に設置することになる。ひいて
は、床面積が大きくなる。これにより、有効床面積率が
下がり、メンテナンスや日常の作業性が悪くなったり、
工程内のクリーン度管理が困難になったり、工場の建設
コストが増すなどの問題点があった。Further, in the manufacturing process of these electronic components, an unmanned carrier moving on a rail laid on the floor is generally used to transport a cassette on which substrates are mounted. However, in this case, rails for automatic guided vehicle tracks, various processing devices, and HE for improving cleanliness.
A PA unit and the like will be installed on the floor. As a result, the floor area increases. As a result, the effective floor area ratio decreases, maintenance and daily workability deteriorate,
There were problems such as difficulty in managing cleanliness in the process and increase in factory construction costs.
【0031】それゆえにこの発明の目的は、有効床面積
が向上する、電子部品の製造装置を提供することにあ
る。Therefore, an object of the present invention is to provide an electronic component manufacturing apparatus with an improved effective floor area.
【0032】また、この発明の目的は、メンテナンスや
日常の作業性が悪くならない電子部品の製造装置を提供
することにある。It is another object of the present invention to provide an electronic component manufacturing apparatus which does not deteriorate maintenance and daily workability.
【0033】この発明にさらに他の目的は、工程内のク
リーン度管理が容易になる電子部品の製造装置を提供す
ることにある。Still another object of the present invention is to provide an electronic component manufacturing apparatus which makes it easy to manage cleanliness in a process.
【0034】この発明のさらに他の目的は、工場の建設
コストを抑えることができるように改良された部品の製
造装置を提供することにある。Still another object of the present invention is to provide a component manufacturing apparatus improved so that the construction cost of a factory can be suppressed.
【0035】この発明のさらに他の目的は、そのような
製造装置を用いて電子部品を製造する方法を提供するこ
とを目的とする。Still another object of the present invention is to provide a method for manufacturing an electronic component using such a manufacturing apparatus.
【0036】[0036]
【課題を解決するための手段】請求項1に係る電子部品
の製造装置は、基板に所定の処理を施す処理室を備え
る。上記処理室に、上記基板を上記処理室に移送する操
作を行なうロードロック室等の隣接室が接続されてい
る。上記隣接室に上記基板を複数枚上下方向に間隔をお
いて積み重ねて搭載したカセットの中から、該基板を取
出して、上記ロードロック室へ搬出する操作を行なう搬
出入室が接続されている。当該装置は、天井に配設され
たレール軌道を移動し、上記カセットをカセット収容容
器に入れて上記搬出入室へ搬送する搬送機を備える。上
記搬出入室内に、カセット収容容器とともに搬送されて
きた上記カセットを昇降させる昇降手段が設けられてい
る。当該装置は、上記カセットから、ほぼ一定の水平位
置で水平方向に上記基板を1枚だけ取出して、上記隣接
室へ搬出する搬出手段を備える。According to a first aspect of the present invention, there is provided an electronic component manufacturing apparatus including a processing chamber for performing a predetermined process on a substrate. An adjacent chamber such as a load lock chamber for performing an operation of transferring the substrate to the processing chamber is connected to the processing chamber. A carry-in / out chamber is connected to take out the substrate from a cassette in which a plurality of the substrates are stacked in the adjacent chamber at an interval in the vertical direction and carry the substrate to the load lock chamber. The apparatus includes a transfer device that moves along a rail track provided on a ceiling, places the cassette in a cassette storage container, and transfers the cassette to the loading / unloading chamber. Elevating means for elevating the cassette conveyed together with the cassette housing container is provided in the carry-in / out chamber. The apparatus includes an unloading unit that unloads only one substrate in the horizontal direction from the cassette at a substantially constant horizontal position and unloads the substrate to the adjacent chamber.
【0037】この発明によれば、搬出入室に、単数(ま
たは処理ダクトを改善するため横置きなどで2〜3個程
度の最低限の数)のカセットおよびカセット収容容器を
収めている(あるいは、処理タクトを改善するため処理
装置に複数の搬出入室を設けてもよい)。According to the present invention, a single cassette (or a minimum of about two or three cassettes in a horizontal position or the like for improving the processing duct) and a cassette accommodating container are accommodated in the carry-in / out chamber (or A plurality of loading / unloading chambers may be provided in the processing apparatus to improve processing tact time).
【0038】また、搬出入室内で、複数のカセットおよ
びカセット収容容器の保管や移載はなく、移載機構など
は不要となる。また、昇降機構の一部を搬出入室外に置
き、基板は一定の水平位置で取出されるので、隣接する
ロードロック室等の隣接室への出入口を小さくできる。Further, there is no need to store or transfer a plurality of cassettes and cassette housing containers in the loading / unloading chamber, and a transfer mechanism is not required. Further, since a part of the elevating mechanism is placed outside the loading / unloading chamber and the substrate is taken out at a fixed horizontal position, the entrance to an adjacent chamber such as an adjacent load lock chamber can be reduced.
【0039】したがって、半導体、液晶表示装置などの
各種電子部品の清浄気体密封容器内の基板搬送式製造工
程において、大型基板であっても、工程数や処理装置数
が多くとも、各種処理装置を格段に小型化できる(従来
の数分の1以下にできる)。したがって工場施設を最小
限にし、建設や保守、維持費などを抑え、装置の、メー
カーから工場までのトラックなどの搬送を容易にし、製
造や工程管理などの作業性を向上させることができる。Therefore, in the substrate transfer type manufacturing process of various electronic components such as semiconductors and liquid crystal display devices in a clean gas-tight container, even if the substrate is large, even if the number of processes and the number of processing devices are large, various processing devices are required. The size can be significantly reduced (can be reduced to a fraction of the conventional size). Therefore, the number of factory facilities can be minimized, construction, maintenance, maintenance costs, and the like can be suppressed, equipment can be easily transported from a maker to a factory, and workability such as manufacturing and process management can be improved.
【0040】また、真空引き時間などを低減させて、製
造タクトを抑えることができる。また、特開平7−16
1797号のように、3台のHEPAを調節するような
複雑な空調調整が不要となる。また、クリーン度を安定
化させ、かつ製品の品質や歩留りを向上できる。Further, the manufacturing time can be suppressed by reducing the evacuation time and the like. Also, Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-16 / 1994
No complicated air conditioning adjustment such as adjusting three HEPAs as in the case of 1797 is required. Further, the degree of cleanliness can be stabilized, and the quality and yield of products can be improved.
【0041】また、搬送車軌道用レールを床面に設置す
ることなく、床面積を小さくできる。これにより、有効
床面積率が増し、メンテナンスや日常の作業性を改善
し、工程内のクリーン度管理が容易になり、工場の建設
コストを抑えることができる。Further, the floor area can be reduced without installing the rail for the carrier track on the floor. As a result, the effective floor area ratio increases, maintenance and daily workability are improved, cleanliness management in the process is facilitated, and plant construction costs can be reduced.
【0042】請求項2に係る電子部品の製造装置におい
ては、上記昇降手段は、上記カセットの重心近傍を下か
ら支えて、該カセットを昇降させる昇降部と、上記搬出
入室の外部に設けられ、上記昇降部を受ける受け部と、
を含む。上記昇降部は、ベローズで囲まれている。In the electronic component manufacturing apparatus according to a second aspect, the elevating means is provided outside the loading / unloading chamber, the elevating unit supporting the vicinity of the center of gravity of the cassette from below and elevating the cassette, and A receiving part for receiving the elevating part,
including. The elevating unit is surrounded by bellows.
【0043】この発明によれば、カセットまたはカセッ
ト収容容器の昇降機構を搬出入室外に収めている。か
つ、昇降機構を、カセット収容容器の中心付近に形成し
ている。したがって、摺動部などの発塵などにより、製
品の品質や歩留りの低下をなくし、保守作業も容易で、
ねじ部や軸部などの強度も低減できて、小型化できる。According to the present invention, the elevating mechanism of the cassette or the cassette accommodating container is housed outside the loading / unloading room. Further, the elevating mechanism is formed near the center of the cassette housing container. Therefore, the quality of the product and the yield are not reduced due to the generation of dust from the sliding parts, etc.
The strength of the screw and the shaft can be reduced, and the size can be reduced.
【0044】また、カセット収容容器の側部に昇降機構
などがないので、カセット収容容器の搬入経路を小さく
でき、搬入ロボットや移送装置なども簡素で設計が容易
である。たとえば、カセット収容容器の側部に、確認の
ための内圧計や基板の覗き窓を取付けて、基板搬入工程
におけるガラス基板の割れ、その他の異常を容易に黙視
し、確認ができる。Further, since there is no elevating mechanism on the side of the cassette housing container, the carry-in path of the cassette housing container can be reduced, and the carrying-in robot and the transfer device are simple and easily designed. For example, an internal pressure gauge and a viewing window for the substrate are attached to the side of the cassette container so that the glass substrate can be easily observed and checked for cracks and other abnormalities in the substrate loading process.
【0045】また、搬送車軌道用レールを床面に設置す
ることなく、床面積を小さくできる。これにより、有効
床面積率が増し、メンテナンスや日常の作業性を改善
し、工程内のクリーン度管理が容易になり、工場の建設
コストを抑えることができる。Further, the floor area can be reduced without installing the rail for the carrier track on the floor. As a result, the effective floor area ratio increases, maintenance and daily workability are improved, cleanliness management in the process is facilitated, and plant construction costs can be reduced.
【0046】請求項3に係る電子部品の製造装置におい
ては、上記カセットは、上記基板を下から、少なくとも
4点で支える、水平方向に延びた少なくとも4個の突出
部を有する基板支持手段を備える。上記突出部の先端部
には、上記基板に下から当接し、該基板を支持するピン
が設けられている。According to a third aspect of the present invention, in the electronic component manufacturing apparatus, the cassette includes substrate support means having at least four horizontally extending protrusions for supporting the substrate at at least four points from below. . At the tip of the protruding portion, a pin is provided which contacts the substrate from below and supports the substrate.
【0047】この発明においても、複数のカセット収容
容器の軽量小型化が図れ、搬出入室も小型化できる。Also in the present invention, the plurality of cassette storage containers can be reduced in weight and size, and the loading / unloading room can be reduced in size.
【0048】説明を付け加えると、二次元理想解で、基
板の2点支持において、基板の最大撓みは、支持間距離
の3乗に比例し、基板の厚みの3乗に反比例するので、
基板が大きくあるいは薄くなるほど極端に基板の反り量
が増す。支持点の距離を小さくすることにより、反りが
減り、基板の受渡し時などの異常振動やわずかな位置ず
れ等による干渉で、発生する基板の欠けや割れなどの不
良を低減し、カセット内の基板間隔も小さくして、カセ
ット収容容器の小型化も図れる。To add an explanation, in a two-dimensional ideal solution, in two-point support of the substrate, the maximum deflection of the substrate is proportional to the cube of the distance between supports and inversely proportional to the cube of the thickness of the substrate.
As the substrate becomes larger or thinner, the amount of warpage of the substrate increases extremely. By reducing the distance between the support points, warpage is reduced, and defects such as chipping or cracking of the substrate caused by interference due to abnormal vibration or slight displacement at the time of transfer of the substrate are reduced, and the substrate in the cassette is reduced. By reducing the interval, the size of the cassette housing container can be reduced.
【0049】エッジ2辺近傍の線支持や広範な面(たと
えば、ほぼ全面)支持は、基板との接触部が増し、異物
付着や傷付きなどの確率が増し、好ましくない。また、
広範な面の支持部を設けるとカセット全体の重量が増
し、基板の受取りなどが困難となり、好ましくない。し
たがって、4〜6点程度の凸状突出部を設けることが好
ましい。It is not preferable to support the line near the two sides of the edge or to support a wide area (for example, almost the entire surface) because the number of contact portions with the substrate increases, and the probability of adhesion of foreign matter and damage increases. Also,
Providing the support portion on a wide surface increases the weight of the entire cassette and makes it difficult to receive a substrate, which is not preferable. Therefore, it is preferable to provide about 4 to 6 convex protrusions.
【0050】また、支持部は剛性を確保し、比較的軽量
で、定期的に洗浄が容易なアルミニウムが好ましい。基
板の当接部には、基板に傷を付けることなく、当接する
部材も摩耗や欠けが少なく、酸性洗浄剤などに対する耐
薬品性の高いテフロンなどの樹脂が好ましい。The supporting portion is preferably made of aluminum, which secures rigidity, is relatively lightweight, and is easy to clean periodically. In the abutting portion of the substrate, a resin such as Teflon, which does not damage the substrate, causes less abrasion and chipping of the abutting member, and has high chemical resistance to an acidic cleaning agent or the like, is preferable.
【0051】さらに、搬送車軌道用レールを床面に設置
することなく、床面積を小さくできる。これにより、有
効床面積率が増し、メンテナンスや日常の作業性を改善
し、工程内のクリーン度管理が容易になり、工場の建設
コストを抑えることができる。Further, the floor area can be reduced without installing a rail for a carrier track on the floor. As a result, the effective floor area ratio increases, maintenance and daily workability are improved, cleanliness management in the process is facilitated, and plant construction costs can be reduced.
【0052】請求項4に係る電子部品の製造装置におい
ては、上記突出部は、少なくとも6個設けられている。In the electronic component manufacturing apparatus according to the fourth aspect, at least six protrusions are provided.
【0053】液晶などの大型の四角形状の基板の反り低
減とカセットの軽量化をバランスよく両立させるために
は、突出部は6ヵ所程度が好ましい。二次元理想解で
は、反りを約1/8程度に低減できる。In order to achieve a good balance between the reduction in warpage of a large rectangular substrate such as a liquid crystal substrate and the weight reduction of a cassette, it is preferable that the number of protrusions is about six. In the two-dimensional ideal solution, the warpage can be reduced to about 1/8.
【0054】請求項5に係る電子部品の製造装置におい
ては、上記突出部は、平面形状で、なめらかな曲線の山
型を有している。In the electronic component manufacturing apparatus according to the fifth aspect, the projecting portion has a planar shape and a chevron shape with a smooth curve.
【0055】基板支持部の軽量化と剛性確保のために
は、片持ち支持に対し、応力が均一になるような基板支
持部の断面形状が好ましい。かつ、基板間隔を最小に
し、板材などの加工と組立が容易なように、厚みを一様
にすることが好ましい。さらに、角部などをなくして、
基板との接触時の傷付けや発塵を防止するため、なめら
かな山型(波型)などの形状が好ましい。In order to reduce the weight and secure the rigidity of the substrate supporting portion, it is preferable that the cross-sectional shape of the substrate supporting portion is such that the stress becomes uniform with respect to cantilever support. In addition, it is preferable to make the thickness uniform so as to minimize the distance between the substrates and facilitate processing and assembly of a plate material or the like. In addition, eliminating corners,
In order to prevent scratching and dust generation at the time of contact with the substrate, a shape such as a smooth mountain shape (wave shape) is preferable.
【0056】請求項6に係る電子部品の製造装置におい
ては、上記レール軌道と上記搬出入室は、平面図におい
て、重なっている。In the electronic component manufacturing apparatus according to the sixth aspect, the rail track and the carry-in / out chamber overlap in a plan view.
【0057】この発明によれば、床面積を小さくし、有
効床面積率が増し、工程内のクリーン度管理が容易にな
り、工場の建設コストを抑えることができる。According to the present invention, the floor area is reduced, the effective floor area ratio is increased, the cleanliness in the process is easily managed, and the construction cost of the factory can be reduced.
【0058】請求項7に係る電子部品の製造方法におい
ては、まず、天井に配設されたレール軌道を移動する搬
送機により、基板を複数枚上下方向に間隔をおいて積み
重ねて搭載したカセットを、カセット収容容器に入れ
て、搬出入室内に搬送する。上記カセット収容容器の下
部に設けられている遮蔽手段と、上記搬出入室の側壁に
設けられた遮蔽手段とを係合させることにより、上記搬
出入室を上部領域と下部領域に遮断する。上記搬出入室
の上記下部領域の雰囲気を清浄な気体で置換する。上記
カセット収容容器から上記カセットを取出し、これを上
記下部領域まで下降させる。上記カセットから、ほぼ一
定の水平位置で水平方向に、上記基板を1枚だけ取出
し、隣接室へ搬入する。In the method of manufacturing an electronic component according to the present invention, first, a cassette in which a plurality of substrates are stacked and mounted at an interval in the vertical direction by a carrier moving on a rail track provided on the ceiling is provided. , And transported into the loading / unloading chamber. By engaging the shielding means provided at the lower part of the cassette accommodating container with the shielding means provided on the side wall of the carry-in / out chamber, the carry-in / out chamber is blocked by the upper area and the lower area. The atmosphere in the lower area of the loading / unloading chamber is replaced with a clean gas. The cassette is removed from the cassette housing container and lowered to the lower region. Only one substrate is taken out of the cassette at a substantially constant horizontal position in the horizontal direction, and is carried into an adjacent room.
【0059】この発明によれば、上記請求項1で述べた
と同様の効果を得ることができる。請求項8に係る電子
部品の製造方法においては、上記カセット収容容器の搬
送は、該カセット収容容器内の圧力を陽圧にして行な
う。According to the present invention, the same effects as those described in the first aspect can be obtained. In the electronic component manufacturing method according to the eighth aspect, the transport of the cassette housing container is performed by setting the pressure in the cassette housing container to a positive pressure.
【0060】搬送体の内部は、清浄な気体であれば、真
空圧でもよいが、Oリングなどの破損や寿命などによ
り、外部の清浄でない空気が入り込まないよう、また、
基板取出し時の大気圧開放や底板開放など一連の作業性
と時間短縮のためには、大気圧よりわずかに陽圧にする
ことが好ましい。The inside of the carrier may be at a vacuum pressure as long as it is a clean gas. However, the outside unclean air is prevented from entering due to breakage or life of the O-ring or the like.
For a series of workability and time reduction, such as opening the atmospheric pressure and opening the bottom plate at the time of taking out the substrate, it is preferable to make the pressure slightly higher than the atmospheric pressure.
【0061】請求項9に係る電子部品の製造方法におい
ては、上記基板の上記隣接室への搬入は、該隣接室に設
けられた移送手段によって行われる。In the electronic component manufacturing method according to the ninth aspect, the substrate is carried into the adjacent room by a transfer means provided in the adjacent room.
【0062】この発明によれば、新たに基板搬入装置を
設ける必要がない。According to the present invention, it is not necessary to newly provide a substrate loading device.
【0063】[0063]
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
について説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【0064】図1は、本発明に係る電子部品の製造装置
の部分断面図である。処理装置本体部は省略するが、ス
パッタリング、CVDなどの薄膜形成、検査、レジスト
塗布、露光、パターニングなどのパターン形成や、加
熱、乾燥、洗浄イオン注入など、各種の単一あるいは連
続処理を行なういずれの装置にも用いることができる。FIG. 1 is a partial sectional view of an electronic component manufacturing apparatus according to the present invention. Although the main body of the processing apparatus is omitted, any single or continuous processing such as thin film formation such as sputtering and CVD, pattern formation such as inspection, resist coating, exposure, patterning, heating, drying and cleaning ion implantation is performed. It can also be used for the device described above.
【0065】図1を参照して、本発明に係る製造装置
は、被処理体である基板1に所定の処理を施す処理室2
を備える。処理室2に、ロードロック室3が接続されて
いる。ロードロック室3は、処理体である基板1を挿脱
する移送機構(図示せず)を有する。ロードロック室3
に、カセット5内に収容されている複数の基板1を搬出
入する操作を行なう搬出入室6が接続されている。処理
室2とロードロック室3と搬出入室6とで、処理装置7
が構成されている。Referring to FIG. 1, a manufacturing apparatus according to the present invention includes a processing chamber 2 for performing a predetermined process on a substrate 1 which is an object to be processed.
Is provided. The load lock chamber 3 is connected to the processing chamber 2. The load lock chamber 3 has a transfer mechanism (not shown) for inserting and removing the substrate 1 as a processing body. Load lock room 3
Is connected to a loading / unloading chamber 6 for loading and unloading a plurality of substrates 1 accommodated in the cassette 5. The processing chamber 2, the load lock chamber 3, and the loading / unloading chamber 6 are provided with
Is configured.
【0066】搬出入室6には、搬出入扉4からカセット
5およびカセット収容容器8が搬入される。搬出入室6
からロードロック室3には、基板1のみが搬入される。
搬出入室6内では、カセット5を昇降する。ほぼ一定の
水平位置から各基板1を、ロードロック室3に搬入す
る。これにより、搬出入室6の容積を、カセット5の外
周容積の約2倍程度(大きくとも約3倍以下)に、小型
化を図ることができた。The cassette 5 and the cassette container 8 are loaded into the loading / unloading chamber 6 through the loading / unloading door 4. Loading / unloading room 6
, Only the substrate 1 is carried into the load lock chamber 3.
Inside the loading / unloading chamber 6, the cassette 5 is moved up and down. Each substrate 1 is carried into the load lock chamber 3 from a substantially constant horizontal position. As a result, the volume of the carry-in / out chamber 6 can be reduced to about twice (about three times or less at most) the outer peripheral volume of the cassette 5.
【0067】ただし、搬出入室6内にn個のカセット収
容容器8を横置きなどにして、搬出入室6の容積を2n
+α(最小2n強、ゲートバルブ数や移載スペースの取
り方による)とし、基板当りの真空引き等の基板取組み
時間を低減してもよい。However, the volume of the carry-in / out chamber 6 is set to 2n by placing the n cassette accommodation containers 8 in the carry-in / out chamber 6 horizontally.
+ Α (minimum of 2n or more, depending on the number of gate valves and how to take up a transfer space) may be used to reduce the time required for assembling a substrate, such as evacuation.
【0068】また、搬出入室6内には、基板1またはカ
セット5を昇降させる機構9が設けられている。昇降機
構9は、基板1またはカセット5のほぼ重心近くに設け
られる。昇降機構のガイド(摺動)10の受け部は、搬
出入室6の外部に設けられる。搬出入室6内に存在する
昇降部(シャフト)11は、ベローズ12で囲まれ、搬
出入室6の外部と遮断される。In the loading / unloading chamber 6, a mechanism 9 for raising and lowering the substrate 1 or the cassette 5 is provided. The elevating mechanism 9 is provided substantially near the center of gravity of the substrate 1 or the cassette 5. The receiving portion of the guide (sliding) 10 of the lifting mechanism is provided outside the loading / unloading chamber 6. The elevating unit (shaft) 11 existing in the carry-in / out room 6 is surrounded by a bellows 12 and is shut off from the outside of the carry-in / out room 6.
【0069】複数の基板1をカセット5に搭載したカセ
ット収容容器(本体)8およびカセット収容容器8の底
板13で囲まれた空間部分を、清浄度の高い不活性ガス
を入れることにより、やや大気圧より陽圧にする。これ
により、基板1を、Oリング14などを介して密封した
状態にする。このような状態にされた搬送体15を、製
造工程の処理装置間などを搬送させ、搬出入室内に搬入
される。The space enclosed by the cassette housing container (main body) 8 in which the plurality of substrates 1 are mounted on the cassette 5 and the bottom plate 13 of the cassette housing container 8 is filled with an inert gas having a high degree of cleanliness to make it slightly larger. Make the pressure more positive than the atmospheric pressure. Thus, the substrate 1 is sealed with the O-ring 14 or the like. The transport body 15 in such a state is transported between processing apparatuses in a manufacturing process or the like, and is transported into the transport chamber.
【0070】図2に、搬送体15の構造を示す。図2
(A)は側部断面図であり、図2(B)は上部断面図で
ある。FIG. 2 shows the structure of the carrier 15. FIG.
2A is a side sectional view, and FIG. 2B is an upper sectional view.
【0071】搬送体15は、基板支持部16を備える。
基板支持部16は、アルミ製であり、約3mmの厚みを
有する。基板支持部16は、基板1を受けるため、基板
の面内方向に6ヵ所が、なめらかな山型に突出してい
る。突出部の先端近傍には、基板1に当接して基板1を
支持する、テフロン樹脂からなる、ピン17が設けられ
ている。基板1のサイズについて説明すると、厚みは
1.1mmであり、幅は550mmであり、長さ650
mmである。幅方向に、基板の端部から約150mm内
側にピン17が設けられている。基板1の端部はローラ
(図示せず)で押さえられ、反りが、おおよそ10mm
以下に抑えられている。各基板1間の間隙は30mm程
度である。カセット5内に、20枚の基板1が収容され
ている。The carrier 15 has a substrate support 16.
The substrate support 16 is made of aluminum and has a thickness of about 3 mm. In order to receive the substrate 1, the substrate supporting portions 16 project in a smooth mountain shape at six locations in the in-plane direction of the substrate. A pin 17 made of Teflon resin and provided in contact with the substrate 1 and supporting the substrate 1 is provided near the tip of the protruding portion. To describe the size of the substrate 1, the thickness is 1.1 mm, the width is 550 mm, and the length is 650.
mm. A pin 17 is provided in the width direction about 150 mm inward from the end of the substrate. The edge of the substrate 1 is pressed by a roller (not shown), and the warp is approximately 10 mm.
It is kept below. The gap between the substrates 1 is about 30 mm. In the cassette 5, twenty substrates 1 are accommodated.
【0072】図3を参照して、処理装置7への基板1の
搬送受渡し法を説明する。図3(a)を参照して、複数
の基板1が搭載されたカセット5をカセット収容容器8
に収めてなる搬送体15を、処理装置の扉4を開いて、
搬出入室6に収める。With reference to FIG. 3, a method of transferring the substrate 1 to the processing apparatus 7 will be described. Referring to FIG. 3A, a cassette 5 on which a plurality of substrates 1 are mounted is placed in a cassette accommodation container 8.
Open the door 4 of the processing apparatus,
It is stored in the loading / unloading room 6.
【0073】図3(b)を参照して、扉4を閉めて、搬
送体15の下方に、大気圧よりわずかに陽圧の、清浄な
N2などの不活性ガスを充填し、大気と置換する。その
後、わずかに底板13を下降させる。なお、このとき、
カセット収容容器(本体)8の外の、上部および側部の
大気がカセット収容容器(本体)8の内部に入り込まな
いように、カセット収容容器(本体)8の底部18は、
搬出入室6内に設けられた側壁突出部19とOリング1
4などを介して、当接させる。Referring to FIG. 3B, the door 4 is closed, and a lower portion of the carrier 15 is filled with an inert gas such as N 2 which is slightly positive pressure than the atmospheric pressure and is clean. Replace. Thereafter, the bottom plate 13 is slightly lowered. At this time,
The bottom portion 18 of the cassette housing container (main body) 8 is provided so that the upper and side atmospheres outside the cassette housing container (main body) 8 do not enter the inside of the cassette housing container (main body) 8.
Side wall protrusion 19 and O-ring 1 provided in loading / unloading chamber 6
4 and so on.
【0074】その後、図3(c)を参照して、搬出入室
6の上部および下部領域を同時に真空引き排気する。ゲ
ートバルブ20を開いた後、カセット5を定位置に順次
下降させる。次に、図示しない隣接のロードロック室内
に設けられたロボットで、基板1を1枚ごと、処理室2
内に搬入する。また、処理が完了した基板は、逆にカセ
ット5に戻される。Thereafter, referring to FIG. 3C, the upper and lower regions of the carry-in / out chamber 6 are simultaneously evacuated and evacuated. After opening the gate valve 20, the cassette 5 is sequentially lowered to the home position. Next, a robot provided in an adjacent load lock chamber (not shown) loads the substrates 1 one by one into the processing chamber 2.
Carry in. The processed substrate is returned to the cassette 5 on the contrary.
【0075】図4に、搬送体を搬送する搬送機の概略図
を示す。天井22にレール23が配設されている。レー
ル23に車24を取付けて、搬送機21が移動できるよ
うになっている。搬送機21は、たとえば自走式で、各
搬送機21は回転モータ(図示せず)を内蔵している。
レール23の下部には、高周波等の電源と信号を供給す
る給電線管25が配設されている。高周波電流を流し、
誘導電流を発生させて回転モータを駆動させてもよい。
これにより、非接触で発塵が少なくなる。しかも、搬送
機21内に大容量の充電器を設ける必要がなく、かつ充
電時間ロスを発生させることなく、給電できる。FIG. 4 is a schematic view of a transporter for transporting a transport body. A rail 23 is provided on the ceiling 22. A car 24 is attached to the rail 23 so that the transporter 21 can move. The transporters 21 are, for example, self-propelled, and each transporter 21 has a built-in rotation motor (not shown).
A feeder tube 25 for supplying a high-frequency power source and a signal is provided below the rail 23. High-frequency current,
The rotating motor may be driven by generating an induced current.
This reduces dust generation without contact. In addition, power can be supplied without providing a large-capacity charger in the transporter 21 and without causing a loss in charging time.
【0076】また、搬送機21は、半導体15を引っか
ける抜差しピン26および搬送体15の受渡し時などに
稼動する昇降ユニット27を備えている。Further, the transporter 21 is provided with an insertion / removal pin 26 for hooking the semiconductor 15 and an elevating unit 27 which operates when the transporter 15 is delivered.
【0077】また、図5に示すように、多数ある処理装
置7の中、少なくとも一部の上に、搬送機21の通過経
路または搬送体15の受渡し位置を配置するように、軌
道レール23を配設する。床面にレール等を配設するこ
とがないので、工場全体の床面積を格段に小さくするこ
とができる。また、床の作業者の作業性を改善すること
ができ、かつ安全性を確保することができる。Further, as shown in FIG. 5, the track rail 23 is disposed on at least a part of the many processing devices 7 so that the passage route of the transporter 21 or the delivery position of the transport body 15 is arranged. Arrange. Since no rails or the like are provided on the floor, the floor area of the entire factory can be significantly reduced. Further, the workability of the floor worker can be improved, and safety can be ensured.
【0078】なお、本実施例では、搬出入室6の隣接室
がロードロック室3の場合を例示したが、その他、ロボ
ット室、前処理室、処理室等、各種従来同様の装置の基
板の受入れまたは中継室であってもよい。In this embodiment, the case where the load-lock chamber 3 is adjacent to the loading / unloading chamber 6 is exemplified. However, the substrate reception of various conventional apparatuses such as a robot room, a pre-processing room, and a processing room is also possible. Or it may be a relay room.
【0079】今回開示された実施の形態はすべての点で
例示であって制限的なものではないと考えられるべきで
ある。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求
の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味お
よび範囲内でのすべての変更が含まれることが意図され
る。The embodiments disclosed this time are to be considered in all respects as illustrative and not restrictive. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, rather than the description above, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.
【図1】 本発明の実施の形態に係る処理装置の部分断
面図である。FIG. 1 is a partial cross-sectional view of a processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
【図2】 本発明の実施の形態に係る搬送体の構造を示
す図である。FIG. 2 is a diagram illustrating a structure of a transport body according to the embodiment of the present invention.
【図3】 処理装置への基板の搬送受渡し法を説明する
ための図である。FIG. 3 is a diagram for explaining a method of transferring a substrate to a processing apparatus.
【図4】 本発明の実施の形態に係る搬送機の断面図で
ある。FIG. 4 is a cross-sectional view of the transporter according to the embodiment of the present invention.
【図5】 本発明に係る搬送機を軌道レールに配設した
状態を説明するための断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view for explaining a state in which the transporter according to the present invention is disposed on a track rail.
【図6】 従来の処理装置の概略断面図である。FIG. 6 is a schematic sectional view of a conventional processing apparatus.
【図7】 従来の処理装置の概略平面図である。FIG. 7 is a schematic plan view of a conventional processing apparatus.
【図8】 従来のカセット収容容器用ポートの断面図で
ある。FIG. 8 is a cross-sectional view of a conventional cassette housing container port.
【図9】 従来のカセット水平移動機構の斜視図であ
る。FIG. 9 is a perspective view of a conventional cassette horizontal movement mechanism.
【図10】 他の従来の処理装置を示す図である。FIG. 10 is a diagram showing another conventional processing apparatus.
【図11】 さらに他の従来の処理装置の概略断面図で
ある。FIG. 11 is a schematic sectional view of still another conventional processing apparatus.
1 基板、2 処理室、3 ロードロック室、6 搬出
入室、8 カセット収容容器、11 シャフト、13
底板。1 substrate, 2 processing chamber, 3 load lock chamber, 6 loading / unloading chamber, 8 cassette storage container, 11 shaft, 13
Bottom plate.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 平山 昌樹 宮城県仙台市青葉区荒巻字青葉05 東北大 学大学院工学研究科内 (72)発明者 大見 忠弘 宮城県仙台市青葉区米ヶ袋2−1−17− 301 Fターム(参考) 3F022 AA08 BB09 CC02 EE05 FF26 KK20 LL12 MM01 5F031 CA02 CA05 DA01 DA09 FA01 FA02 FA03 FA07 FA11 FA12 GA58 MA23 MA26 MA27 MA28 MA29 MA33 NA02 NA04 NA05 NA09 NA10 PA09 PA18 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Masaki Hirayama 05 Aoba Aramaki, Aoba-ku, Aoba-ku, Sendai, Miyagi Prefecture Within the Graduate School of Engineering, Tohoku University (72) Inventor Tadahiro Omi 2 Yonegabukuro, Aoba-ku, Sendai-shi, Miyagi −1-17− 301 F term (reference) 3F022 AA08 BB09 CC02 EE05 FF26 KK20 LL12 MM01 5F031 CA02 CA05 DA01 DA09 FA01 FA02 FA03 FA07 FA11 FA12 GA58 MA23 MA26 MA27 MA28 MA29 MA33 NA02 NA04 NA05 NA09 NA10 PA09 PA18
Claims (9)
る操作を行なうロードロック室等の隣接室と、 前記隣接室に接続され、前記基板を複数枚上下方向に間
隔をおいて積み重ねて搭載したカセットの中から、該基
板を取出して、前記隣接室へ搬出する操作を行なう搬出
入室と、 天井に配設されたレール軌道を移動し、前記カセットを
カセット収容容器に入れて前記搬出入室へ搬送する搬送
機と、 前記搬出入室内に設けられ、カセット収容容器とともに
搬送されてきた前記カセットを昇降させる昇降手段と、 前記カセットから、ほぼ一定の水平位置で水平方向に前
記基板を1枚だけ取出して、前記隣接室へ搬出する搬出
手段と、を備えた、電子部品の製造装置。A processing chamber for performing a predetermined process on a substrate; an adjacent chamber connected to the processing chamber for performing an operation of transferring the substrate to the processing chamber; and an adjacent chamber connected to the adjacent chamber. A loading / unloading chamber for taking out the substrate from a cassette in which a plurality of the substrates are stacked and mounted at an interval in the vertical direction and carrying the substrate to the adjacent room; and a rail track provided on a ceiling. A transfer device that moves, inserts the cassette into a cassette storage container, and transfers the cassette to the loading / unloading chamber; a lifting / lowering unit that is provided in the loading / unloading chamber and lifts the cassette that has been transported together with the cassette storage container; An unloading means for unloading only one substrate in a horizontal direction at a substantially constant horizontal position and unloading the substrate to the adjacent room.
昇降させる昇降部と、 前記搬出入室の外部に設けられ、前記昇降部を受ける受
け部と、を含み、 前記昇降部は、ベローズで囲まれている、請求項1に記
載の電子部品の製造装置。2. The elevating unit includes: an elevating unit that supports the vicinity of the center of gravity of the cassette from below to elevate the cassette; and a receiving unit that is provided outside the loading / unloading chamber and receives the elevating unit. The electronic component manufacturing apparatus according to claim 1, wherein the lifting unit is surrounded by a bellows.
なくとも4点で支える、水平方向に延びた少なくとも4
個の突出部を有する基板支持手段を備え、 前記突出部の先端部には、前記基板に下から当接し、該
基板を支持するピンが設けられている、請求項1に記載
の電子部品の製造装置。3. The cassette comprises at least four horizontally extending substrates supporting the substrate from below at at least four points.
2. The electronic component according to claim 1, further comprising: a substrate supporting unit having a plurality of protrusions, wherein a pin that abuts on the substrate from below and supports the substrate is provided at a tip end of the protrusion. 3. manufacturing device.
ている、請求項3に記載の電子部品の製造装置。4. The electronic component manufacturing apparatus according to claim 3, wherein at least six protrusions are provided.
曲線の山型を有している、請求項3に記載の電子部品の
製造装置。5. The electronic component manufacturing apparatus according to claim 3, wherein the projecting portion has a planar shape and a smooth curved mountain shape.
図において、重なっている、請求項1に記載の電子部品
の製造装置。6. The electronic component manufacturing apparatus according to claim 1, wherein the rail track and the loading / unloading chamber overlap in a plan view.
搬送機により、基板を複数枚上下方向に間隔をおいて積
み重ねて搭載したカセットを、カセット収容容器に入れ
て、搬出入室内に搬送する工程と、 前記カセット収容容器の下部に設けられている遮蔽手段
と、前記搬出入室の側壁に設けられた遮蔽手段とを係合
させることにより、前記搬出入室を上部領域と下部領域
に遮断する工程と、 前記搬出入室の前記下部領域の雰囲気を清浄な気体で置
換する工程と、 前記カセット収容容器から前記カセットを取出し、これ
を前記下部領域まで下降させる工程と、 前記カセットから、ほぼ一定の水平位置で水平方向に、
前記基板を1枚だけ取出し、隣接室へ搬入する工程と、
を備えた、電子部品の製造方法。7. A cassette, in which a plurality of substrates are stacked and mounted at intervals in the vertical direction, is loaded into a cassette accommodating container and transported into a loading / unloading chamber by a transporter moving on a rail track provided on a ceiling. And closing the loading / unloading chamber into an upper area and a lower area by engaging a shielding means provided at a lower portion of the cassette accommodating container with a shielding means provided on a side wall of the loading / unloading chamber. A step of replacing the atmosphere in the lower area of the loading / unloading chamber with a clean gas; a step of taking out the cassette from the cassette accommodating container and lowering the cassette to the lower area; Horizontally in horizontal position,
A step of taking out only one substrate and carrying it into an adjacent room;
A method for manufacturing an electronic component, comprising:
ット収容容器内の圧力を陽圧にして行なう、請求項7に
記載の電子部品の製造方法。8. The method for manufacturing an electronic component according to claim 7, wherein the transport of the cassette housing container is performed by setting the pressure in the cassette housing container to a positive pressure.
接室に設けられた移送手段によって行われる、請求項7
に記載の電子部品の製造方法。9. The transfer of the substrate into the adjacent room by a transfer means provided in the adjacent room.
3. The method for manufacturing an electronic component according to claim 1.
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