JP2001005012A - Vacuum impregnation method and device, liquid crystal / sealing material injection method and device - Google Patents
Vacuum impregnation method and device, liquid crystal / sealing material injection method and deviceInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 真空含浸用チャンバーの圧力を迅速、高精度
に所望圧力に変えることができる真空含浸方法・装置を
簡単な構成で提供する。
【解決手段】 真空含浸装置の構成では、横型円筒状の
チャンバー本体1内に円板状隔壁2a,2aを、円筒壁
1cの内周面に対し気密下で摺動できるように設けるこ
とにより、上記隔壁を内壁の一部とする真空含浸用チャ
ンバー3を区画形成する。このチャンバー3にワーク投
入口およびワーク取出し口を開閉自在に形成するととも
に、チャンバー3内を真空排気系5、真空破壊手段、加
圧用ガス供給源6および含浸材供給源8に連絡させる。
真空含浸操作に際しては、チャンバー3内のワーク9に
所定量の含浸材8bが含浸された時点で、上記隔壁を同
時に互いに離間する向きに移動させる。これにより、チ
ャンバー3の内容積が増大し、その内圧が低下するた
め、ワーク9への含浸処理が迅速に停止する。
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a vacuum impregnation method / apparatus with a simple structure capable of quickly and accurately changing a pressure of a vacuum impregnation chamber to a desired pressure. SOLUTION: In the configuration of the vacuum impregnation device, disk-shaped partitions 2a, 2a are provided in a horizontal cylindrical chamber main body 1 so as to be slidable in an airtight manner with respect to an inner peripheral surface of a cylindrical wall 1c. A chamber 3 for vacuum impregnation, in which the partition wall is a part of the inner wall, is formed. A work input port and a work take-out port are formed in this chamber 3 so as to be openable and closable, and the inside of the chamber 3 is connected to a vacuum exhaust system 5, a vacuum breaking means, a pressurizing gas supply source 6 and an impregnating material supply source 8.
In the vacuum impregnation operation, when the work 9 in the chamber 3 is impregnated with a predetermined amount of the impregnating material 8b, the partition walls are simultaneously moved so as to be separated from each other. As a result, the internal volume of the chamber 3 increases, and the internal pressure decreases, so that the impregnation of the work 9 is stopped quickly.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、チャンバー内圧の
調整・制御方法及び装置に関し、更に詳しくは、真空含
浸操作または液晶・封止材の注入操作の際に行うチャン
バー内圧の調整(変更)を、該チャンバーの内容積を変
動させることにより行う方法及びその装置に関する。ま
た本発明は、真空含浸操作または液晶・封止材の注入操
作を行う場合において、チャンバーの内圧を一定値に制
御するために、チャンバー内容積を一定値に維持する方
法及びその装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method and an apparatus for adjusting and controlling an internal pressure of a chamber, and more particularly, to an adjustment (change) of an internal pressure of a chamber performed in a vacuum impregnation operation or a liquid crystal / sealing material injection operation. The present invention relates to a method and an apparatus for performing the method by changing the internal volume of the chamber. Further, the present invention relates to a method and apparatus for maintaining the chamber internal volume at a constant value in order to control the internal pressure of the chamber to a constant value when performing a vacuum impregnation operation or a liquid crystal / sealing material injection operation. is there.
【0002】[0002]
【従来の技術】真空含浸操作や空セルへの液晶注入操作
は、減圧下のチャンバー内で行われる。ここで、従来の
真空含浸装置および真空含浸方法について概略を説明す
る。真空含浸装置では、ワークを収納して真空含浸操作
を行うためのチャンバーが真空排気系、真空破壊系、不
活性ガス供給系および含浸材供給系に連絡される。2. Description of the Related Art A vacuum impregnation operation and a liquid crystal injection operation into an empty cell are performed in a chamber under reduced pressure. Here, a conventional vacuum impregnation apparatus and vacuum impregnation method will be briefly described. In the vacuum impregnating apparatus, a chamber for accommodating a work and performing a vacuum impregnation operation is connected to a vacuum exhaust system, a vacuum breaking system, an inert gas supply system, and an impregnation material supply system.
【0003】真空含浸を行うに際しては、大気圧下のチ
ャンバーにワークを収納し、不活性ガス供給系から不活
性ガスを供給するのと並行して真空排気系で排気するこ
とにより、チャンバー内を不活性ガス雰囲気下において
所定真空度の減圧状態に維持する。含浸材供給系から含
浸材をチャンバー内に供給した後、不活性ガス供給系か
ら不活性ガスを供給し、その圧力により所定量の含浸材
をワークに含浸させる。その後、真空破壊系によりチャ
ンバー内を大気圧に戻してワークを回収する。なお、チ
ャンバー内の真空破壊を不活性ガス供給系からの不活性
ガス導入により行うこともある。When performing vacuum impregnation, a work is stored in a chamber under atmospheric pressure, and the inside of the chamber is evacuated by a vacuum exhaust system in parallel with the supply of the inert gas from the inert gas supply system. In an inert gas atmosphere, a reduced pressure state of a predetermined degree of vacuum is maintained. After the impregnating material is supplied into the chamber from the impregnating material supply system, an inert gas is supplied from the inert gas supply system, and a predetermined amount of the impregnating material is impregnated into the work by the pressure. Thereafter, the inside of the chamber is returned to the atmospheric pressure by a vacuum breaking system, and the work is collected. The vacuum in the chamber may be broken by introducing an inert gas from an inert gas supply system.
【0004】また、液晶注入装置は、空セル(空の液晶
セル)を収納して液晶の注入操作を行うためのチャンバ
ーを真空排気系、真空破壊系および不活性ガス供給系に
連絡して構成されている。そして、液晶の注入に際して
は、大気圧下のチャンバーに空セルを保持するととも
に、液晶ボートを収納する。不活性ガス供給系から不活
性ガスを供給するのと並行して真空排気系により排気し
て、チャンバー内および空セル内を不活性ガス雰囲気下
で所定真空度の減圧状態に維持する。液晶ボートの移動
により空セルの液晶注入口を液晶に浸漬させ、真空破壊
系によりチャンバー内を大気圧に戻すことで液晶注入を
開始する。真空排気系によりチャンバー内を所定真空度
の減圧状態に戻すことにより液晶注入を停止させる。真
空破壊系によりチャンバー内を大気圧に戻し、液晶セル
を取り出す。その後、液晶注入口から例えば紫外線硬化
樹脂からなる封止材を所定量注入し、液晶注入口に紫外
線を照射して硬化させることでこれを封止する。なお、
チャンバー内の真空破壊を不活性ガス供給系からの不活
性ガス導入により行うこともある。Further, the liquid crystal injecting apparatus is configured such that an empty cell (empty liquid crystal cell) is housed therein and a chamber for injecting liquid crystal is connected to a vacuum exhaust system, a vacuum breaking system and an inert gas supply system. Have been. When the liquid crystal is injected, the empty cell is held in the chamber under the atmospheric pressure, and the liquid crystal boat is stored. Evacuation is performed by a vacuum exhaust system in parallel with the supply of the inert gas from the inert gas supply system, and the inside of the chamber and the inside of the empty cell are maintained at a reduced pressure of a predetermined degree of vacuum under an inert gas atmosphere. The liquid crystal injection port of the empty cell is immersed in the liquid crystal by moving the liquid crystal boat, and the liquid crystal injection is started by returning the inside of the chamber to the atmospheric pressure by the vacuum breaking system. The liquid crystal injection is stopped by returning the inside of the chamber to a reduced pressure state of a predetermined degree of vacuum by a vacuum exhaust system. The inside of the chamber is returned to atmospheric pressure by a vacuum breaking system, and the liquid crystal cell is taken out. Thereafter, a predetermined amount of a sealing material made of, for example, an ultraviolet curable resin is injected from the liquid crystal injection port, and the liquid crystal injection port is irradiated with ultraviolet rays to be cured, thereby sealing the liquid crystal injection port. In addition,
The vacuum in the chamber may be broken by introducing an inert gas from an inert gas supply system.
【0005】ところが、上記従来技術においては、チャ
ンバー内圧を調整(変更)する場合、内圧を上昇させる
ときにはチャンバーに真空破壊系から大気を導入する
か、または不活性ガス供給系から不活性ガスを導入し、
内圧を下降させる(減圧する)ときには真空排気系によ
りチャンバー内を排気していた。すなわち、内圧上昇時
には大気または不活性ガスの流量調整を行い、減圧操作
時には真空バルブの開口度調整により排気速度を調整し
ていた。また、これらの操作では、チャンバー内の真空
度を検出するセンサからの信号をフィードバックする自
動設定方式か、または手動調整方式が採用されてきた。However, in the above-mentioned conventional technique, when the internal pressure of the chamber is adjusted (changed), when the internal pressure is increased, air is introduced into the chamber from a vacuum breaking system or an inert gas is introduced from an inert gas supply system. And
When the internal pressure was reduced (decreased), the inside of the chamber was evacuated by a vacuum evacuation system. That is, the flow rate of the atmosphere or the inert gas is adjusted when the internal pressure rises, and the evacuation speed is adjusted by adjusting the opening degree of the vacuum valve during the pressure reduction operation. In these operations, an automatic setting method for feeding back a signal from a sensor for detecting the degree of vacuum in the chamber or a manual adjustment method has been adopted.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】このため従来のチャン
バー内圧の調整方法・装置では応答性が良くないので、
目的の真空度にしたり大気圧にしたりする際にディレー
(時間的な遅れ)が生じやすく、迅速・高精度な内圧調
整を行うのが難しいという問題があった。For this reason, the conventional method and apparatus for adjusting the internal pressure of the chamber have poor responsiveness.
There is a problem that delay (time delay) is likely to occur when a desired degree of vacuum or atmospheric pressure is set, and it is difficult to adjust the internal pressure quickly and accurately.
【0007】本発明は、上記問題点に鑑みなされたもの
で、その目的は真空含浸操作、または液晶および封止材
の注入操作を行うためのチャンバーの圧力を、簡便・確
実、かつ迅速・高精度に調整し(所望の圧力に変え
る)、または制御(所望の圧力に維持)することができ
る真空含浸方法および装置、ならびに液晶・封止材の注
入方法および装置を簡単な構成で提供することにある。The present invention has been made in view of the above problems, and has as its object to reduce the pressure of a chamber for performing a vacuum impregnation operation or an operation of injecting a liquid crystal and a sealing material in a simple, reliable, quick, and high pressure. Provided are a vacuum impregnation method and apparatus which can be adjusted with precision (changed to a desired pressure) or controlled (maintained at a desired pressure), and a method and apparatus for injecting a liquid crystal and a sealing material with a simple configuration. It is in.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の真空含
浸方法は、真空含浸用チャンバー内のワークに所定量の
材料が含浸された時点で、前記チャンバーの内容積を増
大させてその内圧を低下させることにより、ワークへの
含浸処理を停止させ、それによって含浸量を所定値に調
整するようにしたことを特徴とするものである。According to the vacuum impregnation method of the present invention, when a predetermined amount of material is impregnated into a work in a vacuum impregnation chamber, the internal volume of the chamber is increased to increase the internal pressure. , The impregnation of the work is stopped, and the amount of impregnation is adjusted to a predetermined value.
【0009】請求項2に記載の液晶・封止材の注入方法
は、液晶表示セルを構成するための空セルを液晶・封止
材注入用のチャンバーに収納し、該チャンバーおよび空
セルを減圧状態にするとともに空セルの液晶注入口をチ
ャンバー内の液晶貯留部に収容された液晶に接触させ、
チャンバー内圧を上昇させて液晶注入を行い、チャンバ
ー内を減圧状態に戻して液晶注入を停止させた後、液晶
注入口をチャンバー内の封止材貯留部に収容された封止
材に接触させ、チャンバー内圧を上昇させて封止材注入
を行い、チャンバー内を減圧状態に戻して封止材注入を
停止させる液晶・封止材の注入方法であって、チャンバ
ー内圧の上昇操作をチャンバー内容積を減少させること
により行い、チャンバー内を減圧状態に戻すための圧力
下降操作を、チャンバー内容積を増大させることにより
行うことを特徴とする。According to a second aspect of the present invention, an empty cell for forming a liquid crystal display cell is housed in a chamber for injecting a liquid crystal and a sealing material, and the chamber and the empty cell are depressurized. And put the liquid crystal injection port of the empty cell into contact with the liquid crystal stored in the liquid crystal storage in the chamber,
After raising the internal pressure of the chamber to perform liquid crystal injection, returning the inside of the chamber to a reduced pressure state and stopping the liquid crystal injection, the liquid crystal injection port is brought into contact with the sealing material accommodated in the sealing material storage part in the chamber, This is a liquid crystal / sealing material injection method in which the sealing material is injected by increasing the pressure in the chamber, and the inside of the chamber is returned to a reduced pressure state to stop the injection of the sealing material. It is characterized in that it is performed by reducing the pressure, and the pressure lowering operation for returning the inside of the chamber to a reduced pressure state is performed by increasing the volume in the chamber.
【0010】請求項3に記載の真空含浸装置は、チャン
バー本体内に隔壁を該チャンバー本体の内壁に対し摺動
自在に設けることにより、前記隔壁を内壁の一部とする
真空含浸用チャンバーを区画形成し、該チャンバーにワ
ーク投入口およびワーク取出し口を開閉自在に形成する
とともに、該チャンバー内を真空排気手段、真空破壊手
段、加圧不活性ガスの供給源および含浸材の供給源に連
絡させたことを特徴とする。According to a third aspect of the present invention, in the vacuum impregnating apparatus, a partition is provided in the chamber main body so as to be slidable with respect to an inner wall of the chamber main body, thereby defining a vacuum impregnation chamber in which the partition is a part of the inner wall. A work inlet and a work outlet are formed in the chamber so as to be openable and closable, and the inside of the chamber is connected to a vacuum exhaust means, a vacuum breaking means, a supply source of a pressurized inert gas and a supply source of an impregnating material. It is characterized by having.
【0011】請求項4に記載の液晶・封止材の注入装置
は、チャンバー本体内に隔壁を該チャンバー本体の内壁
に対し摺動自在に設けることにより、前記隔壁を内壁の
一部とする液晶・封止材注入用のチャンバーを区画形成
し、該チャンバーにワーク導入口およびワーク取出し口
を開閉自在に形成するとともに、該チャンバー内を真空
排気手段、真空破壊手段および加圧不活性ガスの供給源
に連絡させたことを特徴とする。According to a fourth aspect of the present invention, there is provided an apparatus for injecting a liquid crystal and a sealing material, wherein a partition is provided in a chamber main body so as to be slidable with respect to an inner wall of the chamber main body, so that the partition is a part of the inner wall. -A chamber for sealing material injection is defined and a work inlet and a work outlet are formed in the chamber so as to be openable and closable, and the inside of the chamber is evacuated, evacuated and supplied with a pressurized inert gas. The source was contacted.
【0012】請求項5に記載の真空含浸装置は、ワーク
投入口およびワーク取出し口を開閉自在に形成した真空
含浸用チャンバーにベローズを連結し、これらチャンバ
ー内の空間とベローズ内の空間とを互いに連通させると
ともに、前記チャンバー内を真空排気手段、真空破壊手
段、加圧不活性ガスの供給源および含浸材の供給源に連
絡させたことを特徴とする。In a vacuum impregnating apparatus according to a fifth aspect of the present invention, a bellows is connected to a vacuum impregnation chamber in which a work inlet and a work outlet are formed so as to be openable and closable, and the space in the chamber and the space in the bellows are mutually connected. In addition to the communication, the inside of the chamber is connected to a vacuum exhaust unit, a vacuum breaking unit, a supply source of a pressurized inert gas, and a supply source of an impregnating material.
【0013】請求項6に記載の液晶・封止材の注入装置
は、ワーク導入口およびワーク取出し口を開閉自在に形
成した液晶・封止材注入用のチャンバーにベローズを連
結し、これらチャンバー内の空間とベローズ内の空間と
を互いに連通させたるとともに、前記チャンバー内を真
空排気手段、真空破壊手段および加圧不活性ガスの供給
源に連絡させたことを特徴とする。In the liquid crystal / sealing material injection apparatus according to the present invention, a bellows is connected to a liquid crystal / sealing material injection chamber in which a work inlet and a work outlet are formed so as to be openable and closable. And the space in the bellows are communicated with each other, and the inside of the chamber is connected to a vacuum exhaust means, a vacuum breaking means, and a supply source of a pressurized inert gas.
【0014】請求項1に記載の真空含浸方法および、請
求項3,5に記載の真空含浸装置では、チャンバー内の
圧力を調整することで、含浸材の含浸量を調整すること
ができる。この場合において、チャンバー内容積の増大
・減少による内圧の調整は、上記従来技術に比べて迅速
・確実に行うことができるため、圧力調整時の応答性が
高くタイムタクトの短縮、含浸製品の品質向上が達成で
きる。In the vacuum impregnation method according to the first aspect and the vacuum impregnation apparatus according to the third and fifth aspects, the impregnation amount of the impregnation material can be adjusted by adjusting the pressure in the chamber. In this case, the adjustment of the internal pressure by increasing or decreasing the volume in the chamber can be performed more quickly and more reliably than in the above-described conventional technology, so that the response during pressure adjustment is high, the time tact is reduced, and the quality of the impregnated product is improved. Improvement can be achieved.
【0015】請求項2に記載の液晶・封止材の注入方法
および、請求項4,6に記載の液晶・封止材の注入装置
では、液晶・封止材注入用チャンバー内の圧力上昇によ
り液晶注入が開始され、圧力低下により液晶注入が停止
される。封止材の注入開始・注入停止も同様にして行わ
れる。これらの場合において、チャンバー内容積の増大
・減少による内圧の調整は、上記従来技術に比べて迅速
・確実に行うことができるため圧力調整時の応答性が高
く、タイムタクトの短縮、液晶セルの品質向上が達成で
きる。In the liquid crystal / sealing material injection method according to the second aspect and the liquid crystal / sealing material injection apparatus according to the fourth and sixth aspects, the pressure in the liquid crystal / sealing material injection chamber is increased. The injection of liquid crystal is started, and the injection of liquid crystal is stopped by the pressure drop. The injection of the sealing material is started and stopped in the same manner. In these cases, the adjustment of the internal pressure by increasing or decreasing the volume in the chamber can be performed more quickly and more reliably than in the above-described conventional technology, so that the response during pressure adjustment is high, the time tact is shortened, and the liquid crystal cell is not required. Quality improvement can be achieved.
【0016】透明導電膜が成膜された透明ガラス、また
はポリマーフィルムによって構成される液晶表示デバイ
スを製造するに際し、液晶を真空注入したのち封止する
方法または装置では、請求項2に記載の液晶・封止材注
入方法または請求項4,6に記載の液晶・封止材注入装
置が特に好ましく採用できる。In a method or an apparatus for sealing a liquid crystal display device comprising a transparent glass or a polymer film on which a transparent conductive film is formed, the liquid crystal being vacuum-injected and then sealed. The sealing material injection method or the liquid crystal / sealing material injection device according to claims 4 and 6 can be particularly preferably employed.
【0017】請求項7に記載の真空含浸装置は、請求項
3または5に記載の真空含浸装置において、前記真空含
浸用チャンバー内にワーク用のハンドリングマニプレー
タを移動自在に設けるとともに、該ハンドリングマニプ
レータの移動に起因するチャンバー内容積の増大・減少
を相殺することによりチャンバー内の圧力を一定に維持
するための圧力制御手段を設けたことを特徴とする。According to a seventh aspect of the present invention, in the vacuum impregnating apparatus according to the third or fifth aspect, a handling manipulator for a workpiece is movably provided in the vacuum impregnation chamber, and the work manipulator of the handling manipulator is provided. A pressure control means for maintaining a constant pressure in the chamber by offsetting an increase / decrease in the volume in the chamber due to the movement is provided.
【0018】請求項7に記載の真空含浸装置において
は、ハンドリングマニプレータの移動に起因するチャン
バー内容積の増大・減少を相殺することにより、チャン
バー内圧力を一定に維持するので圧力制御の応答性が高
くなる。したがって、上記相殺操作を行いながら含浸操
作を行うことで、含浸量の調整をより高精度に行うこと
ができる。In the vacuum impregnating apparatus according to the present invention, the pressure inside the chamber is kept constant by canceling the increase / decrease of the volume inside the chamber caused by the movement of the handling manipulator, so that the response of the pressure control is improved. Get higher. Therefore, by performing the impregnation operation while performing the offset operation, the impregnation amount can be adjusted with higher accuracy.
【0019】請求項8に記載の液晶・封止材の注入装置
は、請求項4または6に記載の液晶・封止材の注入装置
において、前記液晶・封止材注入用のチャンバー内に液
晶ボート、封止材ボートおよび、これらのボートを前記
チャンバー内で移動させるためのハンドリングマニプレ
ータを設けるとともに、該ハンドリングマニプレータの
移動に起因するチャンバー内容積の増大・減少を相殺す
ることによりチャンバー内の圧力を一定に維持するため
の圧力制御手段を設けたことを特徴とする。The liquid crystal / sealing material injection device according to claim 8 is the liquid crystal / sealing material injection device according to claim 4 or 6, wherein the liquid crystal / sealing material injection chamber is filled with liquid crystal. A boat, a sealing material boat, and a handling manipulator for moving these boats in the chamber are provided, and the pressure in the chamber is reduced by offsetting an increase / decrease in the volume in the chamber caused by the movement of the handling manipulator. Pressure control means for maintaining the pressure constant.
【0020】請求項8に記載の液晶・封止材の注入装置
では、ハンドリングマニプレータの移動に起因するチャ
ンバー内容積の増大・減少を相殺することにより、チャ
ンバー内圧を一定に維持するので圧力制御の応答性が高
くなる。したがって、上記相殺操作を行いながら液晶お
よび封止材の注入操作を行うことで、これらの注入量調
整をより高精度に行うことができる。In the liquid crystal / sealing material injection apparatus according to the present invention, the chamber internal pressure is maintained constant by canceling the increase / decrease of the chamber internal volume caused by the movement of the handling manipulator. Responsiveness increases. Therefore, by performing the operation of injecting the liquid crystal and the sealing material while performing the above-described offsetting operation, the injection amount of these can be adjusted with higher accuracy.
【0021】[0021]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を、図
面を参照しながら説明する。 第1の実施の形態 図1は真空含浸装置の概略構造および、これによる真空
含浸操作の前段工程を示す正面断面図であり、図2は図
1の装置による真空含浸操作の後段工程を示す正面断面
図である。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. 1. First Embodiment FIG. 1 is a schematic sectional view showing a schematic structure of a vacuum impregnation apparatus and a preceding step of a vacuum impregnation operation using the apparatus. FIG. 2 is a front view showing a latter step of a vacuum impregnation operation using the apparatus of FIG. It is sectional drawing.
【0022】まず、図1をもとに上記真空含浸装置の構
造について説明する。左右両端部を側板1a,1bで閉
鎖した横型円筒状容器であるチャンバー本体1内に、一
対の円板状隔壁2a,2bを円筒壁1cの内周面に気密
下で摺動できるように設け、隔壁2a,2bと円筒壁1
cとにより真空含浸用チャンバー3をチャンバー本体1
内に区画形成する。そのために、隔壁2a,2bを図略
のエアシリンダにより前後動自在とする。この場合、隔
壁2a,2bは図1中、双方向の太い矢印で示すように
互いに接近・離間自在とする。チャンバー3内を、バル
ブ4aを設けた配管を介して真空排気系5に、バルブ4
bを設けた配管を介して加圧用ガス供給源6に、それぞ
れ連絡させる。この加圧用ガス供給源6は、チャンバー
3に加圧状態の不活性ガス(圧力1kgf/cm2 程
度)を供給できるように構成する。また、チャンバー3
内には真空破壊バルブを設けた大気開放配管(図略)を
連絡する。さらに、チャンバー3内下部をバルブ7を設
けた配管を介して、含浸材供給源8を構成する常圧タン
ク8aに連絡する。このタンク8aには液状の含浸材8
bを充填しておく。First, the structure of the vacuum impregnation apparatus will be described with reference to FIG. A pair of disk-shaped partitions 2a, 2b are provided in a chamber body 1 which is a horizontal cylindrical container closed on both left and right ends by side plates 1a, 1b so as to be able to slide in an airtight manner on the inner peripheral surface of the cylindrical wall 1c. , Partition walls 2a, 2b and cylindrical wall 1
and the chamber 3 for vacuum impregnation
Compartments are formed inside. For this purpose, the partition walls 2a and 2b can be moved back and forth by an air cylinder (not shown). In this case, the partition walls 2a and 2b are allowed to approach and separate from each other as shown by the thick double-headed arrow in FIG. The inside of the chamber 3 is connected to a vacuum evacuation system 5 via a pipe provided with a valve
b is connected to the gas supply source 6 for pressurization via the pipe provided with b. The pressurized gas supply source 6 is configured to be capable of supplying a pressurized inert gas (pressure of about 1 kgf / cm 2 ) to the chamber 3. Also, chamber 3
The inside is connected to an atmosphere open pipe (not shown) equipped with a vacuum break valve. Further, the lower part inside the chamber 3 is connected to a normal pressure tank 8 a constituting an impregnating material supply source 8 via a pipe provided with a valve 7. This tank 8a contains liquid impregnating material 8
Fill with b.
【0023】この真空含浸装置の使用に際しては、図1
に示すようにワーク9をチャンバー3に入れ、真空排気
系5によりチャンバー3内のバックグラウンド圧力を所
定値に低下させる。バルブ7を介して含浸材8bをチャ
ンバー3内に供給し、ワーク9を含浸材8bに浸漬させ
る。ついで、バルブ4bを介して加圧不活性ガスをチャ
ンバー3内に導入し、この加圧ガスの圧力によってワー
ク9に含浸材8bを含浸させる。When using this vacuum impregnation apparatus, FIG.
The work 9 is placed in the chamber 3 and the background pressure in the chamber 3 is reduced to a predetermined value by the evacuation system 5 as shown in FIG. The impregnating material 8b is supplied into the chamber 3 through the valve 7, and the work 9 is immersed in the impregnating material 8b. Then, a pressurized inert gas is introduced into the chamber 3 through the valve 4b, and the impregnating material 8b is impregnated into the work 9 by the pressure of the pressurized gas.
【0024】含浸量が所定値になったことが、チャンバ
ー3内液面を検出するセンサなどで確認された時点で、
図2に示すように隔壁2a,2bを互いに迅速に離間さ
せる。これによりチャンバー3内の容積が増大するた
め、その内圧が低下する結果、含浸工程をすばやく停止
させることができる。したがって、含浸量を所定値に高
精度に調整することが可能となる。なお、図1では一対
の隔壁2a,2bを同時に移動させて相互に接近・離間
するようにしてあるので、この接近・離間操作を極めて
迅速に行うことができるが、隔壁を1枚設けてチャンバ
ー3を形成しても良い。When it is confirmed that the impregnation amount has reached a predetermined value by a sensor or the like for detecting the liquid level in the chamber 3,
As shown in FIG. 2, the partition walls 2a and 2b are quickly separated from each other. As a result, the volume inside the chamber 3 increases, and the internal pressure decreases, so that the impregnation step can be stopped quickly. Therefore, the impregnation amount can be adjusted to a predetermined value with high accuracy. In FIG. 1, the pair of partitions 2a and 2b are simultaneously moved to approach and separate from each other, so that the approach and separation operations can be performed very quickly. 3 may be formed.
【0025】第2の実施の形態 図3は、液晶・封止材注入装置の概略構造および、これ
による液晶注入工程を示す正面断面図である。図4は、
図3の装置において上記液晶注入工程に引き続いて行う
封止材注入工程を示す正面断面図である。Second Embodiment FIG. 3 is a front sectional view showing a schematic structure of a liquid crystal / sealing material injecting apparatus and a liquid crystal injecting process by the same. FIG.
FIG. 4 is a front sectional view showing a sealing material injecting step performed after the liquid crystal injecting step in the apparatus of FIG. 3.
【0026】まず、図3をもとに上記液晶・封止材注入
装置の構造について説明する。チャンバー本体11は上
記チャンバー本体1と、液晶・封止材注入室13(注入
用チャンバー)は上記チャンバー3と、それぞれ同様の
構造とする。ただし、円筒壁11cを石英ガラスで形成
するとともに、円筒壁11cの近傍に紫外線ランプ(図
略)を配備する。こうすることで、液晶・封止材注入室
13(以下、注入室と略記することがある)内のワーク
に紫外線を照射することができるうえ、注入室13内を
肉眼で監視することができる。図3において11a,1
1bは側板、12a,12bは摺動自在の隔壁である。First, the structure of the liquid crystal / sealing material injection device will be described with reference to FIG. The chamber body 11 has the same structure as the chamber body 1, and the liquid crystal / sealant injection chamber 13 (injection chamber) has the same structure as the chamber 3. However, the cylindrical wall 11c is formed of quartz glass, and an ultraviolet lamp (not shown) is provided near the cylindrical wall 11c. By doing so, it is possible to irradiate the work in the liquid crystal / sealing material injection chamber 13 (hereinafter, may be abbreviated as injection chamber) with ultraviolet light, and to monitor the interior of the injection chamber 13 with the naked eye. . In FIG. 3, 11a, 1
1b is a side plate, and 12a and 12b are slidable partitions.
【0027】注入室13内を、(1)バルブ14aを設
けた配管を介して真空排気系15と、(2)バルブ14
bを設けた配管を介して加圧用ガス供給源16と、
(3)真空破壊バルブを設けた大気開放配管(図略)
と、それぞれを連絡させる。加圧用ガス供給源16は、
注入室13に加圧状態の不活性ガスを供給できるように
構成する。注入室13内には、液晶セル21(空セル2
1a,液晶注入後の液晶セル21b)の保持および上下
動を行う第1のハンドリングマニプレータ(図略)と、
液晶ボート22(図3)および封止材ボート23(図
4)の水平方向の移動を行う第2のハンドリングマニプ
レータ(図略)とを設ける。The interior of the injection chamber 13 is connected to (1) a vacuum exhaust system 15 through a pipe provided with a valve 14a, and (2) a valve 14a.
b. a gas supply source for pressurization 16 through a pipe provided with b.
(3) Open air piping with vacuum break valve (not shown)
And let them contact each other. The pressurizing gas supply source 16
It is configured such that a pressurized inert gas can be supplied to the injection chamber 13. In the injection chamber 13, a liquid crystal cell 21 (empty cell 2) is provided.
1a, a first handling manipulator (not shown) for holding and vertically moving the liquid crystal cell 21b) after the liquid crystal is injected;
A second handling manipulator (not shown) for moving the liquid crystal boat 22 (FIG. 3) and the sealing material boat 23 (FIG. 4) in the horizontal direction is provided.
【0028】この液晶・封止材注入装置による液晶・封
止材の注入および、注入口封止の操作は以下のように行
う。液晶を溜めた液晶ボート22および、封止材として
紫外線硬化樹脂を溜めた封止材ボート23を注入室13
に入れ、これらを上記第2のハンドリングマニプレータ
により水平方向に保持する。ついで、注入室13に空セ
ル21aを入れ、図3に示すように第1のハンドリング
マニプレータにより空セル21aを鉛直方向に保持す
る。真空排気系15によって注入室13内および空セル
21a内を排気し、これらの圧力を所定値に低下させ
る。液晶ボート22を第2のハンドリングマニプレータ
により水平方向に移動させて空セル21aの直下に位置
決めし、ついで空セル21aを降下させ、その液晶注入
口(図略)を液晶に浸漬する。The operation of injecting the liquid crystal and the sealing material by this liquid crystal and sealing material injecting apparatus and sealing the injection port are performed as follows. A liquid crystal boat 22 containing liquid crystal and a sealing material boat 23 containing ultraviolet curing resin as a sealing material are filled in the injection chamber 13.
And these are held horizontally by the second handling manipulator. Next, the empty cell 21a is put into the injection chamber 13, and the empty cell 21a is held in the vertical direction by the first handling manipulator as shown in FIG. The inside of the injection chamber 13 and the inside of the empty cell 21a are evacuated by the vacuum evacuation system 15, and these pressures are reduced to predetermined values. The liquid crystal boat 22 is moved in the horizontal direction by the second handling manipulator to be positioned immediately below the empty cell 21a, then the empty cell 21a is lowered, and the liquid crystal injection port (not shown) is immersed in the liquid crystal.
【0029】ここで通常は、上記真空破壊バルブを開放
して注入室13内を大気圧に戻して液晶注入を開始す
る。これに対し本発明では、隔壁12a,12bを図3
の太い矢印で示すように互いに接近(加圧方向に移動)
させることにより、注入室13内の圧力をすばやく上昇
させて液晶注入を開始する。所定量の液晶が注入された
ら、図4の太い矢印で示すように隔壁12a,12bを
減圧方向に移動させ、(液晶注入後の)液晶セル21b
の内圧と液晶注入室13の内圧とをバランスさせること
により、すばやく注入を停止する。Normally, the vacuum break valve is opened to return the pressure in the injection chamber 13 to the atmospheric pressure, and the liquid crystal injection is started. On the other hand, in the present invention, the partition walls 12a and 12b are
Approach each other as indicated by the thick arrow (moves in the direction of pressure)
Thus, the pressure in the injection chamber 13 is quickly increased, and the liquid crystal injection is started. When a predetermined amount of liquid crystal has been injected, the partition walls 12a and 12b are moved in the decompression direction as shown by the thick arrows in FIG.
The injection is quickly stopped by balancing the internal pressure of the liquid crystal injection chamber 13 with the internal pressure of the liquid crystal injection chamber 13.
【0030】ついで、液晶ボート22に替えて封止材ボ
ート23を移動させ、液晶セル21bの液晶注入口を上
記封止材槽の封止材に浸漬する。隔壁12a,12bを
加圧方向に移動させ注入室13内を昇圧させることによ
り、液晶注入口を介して所定量の封止材を注入する。封
止材注入の停止操作は、液晶注入の停止操作と同様にし
てすばやく行う。その後、円筒壁11cを介して液晶注
入口に紫外線を照射することにより封止材を硬化させ
る。最後に注入室13の内圧を大気圧に戻し、液晶セル
21bを取り出す。Next, the sealing material boat 23 is moved in place of the liquid crystal boat 22, and the liquid crystal injection port of the liquid crystal cell 21b is immersed in the sealing material in the sealing material tank. By moving the partition walls 12a and 12b in the pressure direction to increase the pressure in the injection chamber 13, a predetermined amount of the sealing material is injected through the liquid crystal injection port. The operation of stopping the injection of the sealing material is quickly performed in the same manner as the operation of stopping the injection of the liquid crystal. Thereafter, the sealing material is cured by irradiating the liquid crystal injection port with ultraviolet rays through the cylindrical wall 11c. Finally, the internal pressure of the injection chamber 13 is returned to the atmospheric pressure, and the liquid crystal cell 21b is taken out.
【0031】封止材の注入量は液晶のそれに比べて非常
に少ないため、注入室13の内圧を相当迅速に変化させ
ることが要求されるが、上記実施の形態によれば、パル
ス的な圧力変化を加えることが可能なため、上記要求に
的確にこたえることができる。なお、図3の液晶・封止
材注入装置では、加圧用ガス供給源16を設け、注入室
13に加圧状態の不活性ガスを供給できるように構成し
てあるので、不活性ガスによる加圧下で液晶注入および
封止材注入を行うこともできる。Since the injection amount of the sealing material is very small as compared with that of the liquid crystal, it is required to change the internal pressure of the injection chamber 13 very quickly. Since it is possible to make changes, it is possible to accurately meet the above requirements. In the liquid crystal / sealant injecting apparatus shown in FIG. 3, a pressurizing gas supply source 16 is provided so that the injecting chamber 13 can be supplied with a pressurized inert gas. Liquid crystal injection and sealing material injection can also be performed under pressure.
【0032】第3の実施の形態 図5は、図1に示すチャンバー3(または図3の注入室
13)の実質的な内容積を変更することによってチャン
バー3の内圧を所定値に上昇または下降させるための圧
力調整手段30に係るもので、その概略構造および作用
を示す正面断面図である。この圧力調整手段30では、
エアシリンダ等の往復直線運動機構31と、該機構31
より円筒状シリンダ32内を摺動するピストン34とか
らなるものをチャンバー3に連結し、シリンダ32とピ
ストン34で形成される円筒室32aをチャンバー3内
に連通させる。なお、ピストン34はピストン棒33の
先端に設ける。Third Embodiment FIG. 5 shows that the internal pressure of the chamber 3 is raised or lowered to a predetermined value by changing the substantial internal volume of the chamber 3 (or the injection chamber 13 of FIG. 3) shown in FIG. FIG. 4 is a front sectional view showing a schematic structure and operation of the pressure adjusting means 30 for causing the pressure to be adjusted. In this pressure adjusting means 30,
A reciprocating linear motion mechanism 31 such as an air cylinder;
A cylinder consisting of a piston 34 sliding in the cylindrical cylinder 32 is connected to the chamber 3, and a cylindrical chamber 32 a formed by the cylinder 32 and the piston 34 communicates with the chamber 3. The piston 34 is provided at the tip of the piston rod 33.
【0033】この圧力調整手段30においては、ピスト
ン34を太い矢印方向に前進(後退)させることで、チ
ャンバー3と円筒室32aとの合計内容積が減少(増
大)するため、チャンバー3の内圧を上昇(下降)させ
ることができる。したがって、この圧力調整手段30に
よれば上述の真空含浸の停止操作や、液晶注入・封止材
注入の開始・停止操作あるいは中断・再開を迅速、かつ
高精度に行うことが可能になる。なぜなら、上記真空含
浸操作や、液晶注入・封止材注入操作は大気圧に近い減
圧下で行われるものであり、このような条件では、通常
行われている真空排気による減圧操作や、不活性ガス導
入による減圧状態から大気圧状態への復帰(昇圧)に比
べて、チャンバー3の内容積増減による圧力調整を、よ
り迅速・高精度に行うことができるからである。In this pressure adjusting means 30, the total internal volume of the chamber 3 and the cylindrical chamber 32a is reduced (increased) by advancing (retreating) the piston 34 in the direction of the thick arrow. Can be raised (falled). Therefore, according to the pressure adjusting means 30, it is possible to quickly and accurately perform the above-described vacuum impregnation stop operation, liquid crystal injection / sealing material injection start / stop operation or interruption / resumption. This is because the vacuum impregnation operation and the liquid crystal injection / sealing material injection operation are performed under a reduced pressure close to the atmospheric pressure. This is because pressure adjustment by increasing or decreasing the internal volume of the chamber 3 can be performed more quickly and with higher accuracy than when returning from a reduced pressure state to an atmospheric pressure state (pressure increase) by gas introduction.
【0034】第4の実施の形態 図6は、チャンバー3(または注入室13)の内圧を所
定値に上昇または下降させるための別の圧力調整手段4
0に係るもので、その概略構造および作用を示す正面断
面図である。この圧力調整手段40ではエアシリンダ等
の往復直線運動機構41と、該機構41より伸縮するベ
ローズ45とからなるものをチャンバー3に連結し、こ
のベローズ45内の空間をチャンバー3内に連通させ
る。この場合、往復直線運動機構41の駆動棒43の先
端部に円板44を設け、この円板44にベローズ45の
片側端部を固定する。Fourth Embodiment FIG. 6 shows another pressure adjusting means 4 for increasing or decreasing the internal pressure of the chamber 3 (or the injection chamber 13) to a predetermined value.
FIG. 4 is a front sectional view showing a schematic structure and an operation of the apparatus according to FIG. In the pressure adjusting means 40, a reciprocating linear motion mechanism 41 such as an air cylinder and a bellows 45 which expands and contracts by the mechanism 41 are connected to the chamber 3, and the space in the bellows 45 communicates with the chamber 3. In this case, a disk 44 is provided at the tip of the drive rod 43 of the reciprocating linear motion mechanism 41, and one end of the bellows 45 is fixed to the disk 44.
【0035】この圧力調整手段40においては、円板4
4を太い矢印方向に前進(後退)させることで、チャン
バー3の内圧を上昇(下降)させることができる。チャ
ンバー3内を大気圧に近い減圧状態にして液晶注入等の
操作を行う場合においては、真空ポンプで減圧操作を行
うと、減圧速度が真空ポンプの排気速度に左右される
し、排気の制御性も高くない。これに対して、上記圧力
調整手段40によれば、上述の真空含浸操作や、液晶・
封止材の注入操作において、図5の圧力調整手段と同様
の効果が得られる。また、図5の圧力調整手段ではピス
トン34が前後動する際、気体のリークが発生する場合
があるが、図6の圧力調整手段においては、ベローズ4
5の伸縮時にチャンバー3内が完全に気密状態に維持さ
れるため圧力調整を再現性良く、しかもより高精度に行
うことができる。In the pressure adjusting means 40, the disk 4
The internal pressure of the chamber 3 can be increased (decreased) by advancing (retreating) 4 in a thick arrow direction. In the case where the pressure inside the chamber 3 is reduced to a pressure close to the atmospheric pressure and an operation such as liquid crystal injection is performed, if the pressure reduction operation is performed by the vacuum pump, the pressure reduction speed is affected by the pumping speed of the vacuum pump, and the controllability of the pumping is controlled. Not too high. On the other hand, according to the pressure adjusting means 40, the above-mentioned vacuum impregnation operation, the liquid crystal
In the operation of injecting the sealing material, the same effect as that of the pressure adjusting means in FIG. 5 can be obtained. In the pressure adjusting means of FIG. 5, when the piston 34 moves back and forth, gas leakage may occur, but in the pressure adjusting means of FIG.
Since the inside of the chamber 3 is maintained in a completely airtight state at the time of expansion and contraction of the pressure 5, pressure adjustment can be performed with good reproducibility and with higher accuracy.
【0036】上記第3,第4の実施の形態では、往復直
線運動機構31,41としてステッピングモータ(図
略)によるものを設けることができる。このようにする
と、ステッピングモータ(パルスモータ)のパルス数を
制御することによって、チャンバー3の内容積、したが
ってその圧力を非常に高精度に調整することができる。
また、予備実験においてステッピングモータを用いて上
記真空含浸操作または、液晶・封止材の注入操作を行う
ことにより、これら操作の各工程におけるステッピング
モータの望ましいパルス数を求め、正式な操作の各工程
での適正なパルス数をあらかじめ設定しておくことで、
各工程におけるチャンバー3内圧の調整を自動的に、か
つ迅速・高精度に行うことが可能となる。In the third and fourth embodiments, the reciprocating linear motion mechanisms 31, 41 may be provided by a stepping motor (not shown). In this way, by controlling the number of pulses of the stepping motor (pulse motor), the internal volume of the chamber 3, that is, its pressure can be adjusted with very high accuracy.
In a preliminary experiment, by performing the vacuum impregnation operation or the liquid crystal / sealing material injection operation using a stepping motor, the desired number of pulses of the stepping motor in each step of these operations was obtained, and each step of the formal operation was performed. By setting the appropriate number of pulses in advance,
The adjustment of the internal pressure of the chamber 3 in each step can be performed automatically, quickly and with high accuracy.
【0037】また、第3の実施の形態ではピストン31
の前後動位置を、第4の実施の形態では円板44の前後
動位置を、それぞれ直読できるように目盛り(図略)を
適所に設けるとともに、この目盛りとチャンバー内圧と
の関係を明らかにしておくことが好ましい。こうするこ
とで自動式、手動式のいずれにおいても、工程設定を容
易に定量化でき、上記のようにステッピングモータを設
ける場合、特に有利な結果を得ることができる。In the third embodiment, the piston 31
In the fourth embodiment, a scale (not shown) is provided at an appropriate position so that the front and rear movement position of the disk 44 can be directly read, and the relationship between the scale and the chamber internal pressure is clarified. Preferably. By doing so, the process setting can be easily quantified in both the automatic type and the manual type, and particularly advantageous results can be obtained when the stepping motor is provided as described above.
【0038】第5の実施の形態 この実施の形態は上記圧力調整手段30,40と違っ
て、チャンバー3(または注入室13)の内圧を所定値
に維持するための圧力制御手段に係るもので、図7はそ
の概略構造および作用を示す正面断面図である。図1の
実施の形態ではハンドリングマニプレータをチャンバー
3内に移動自在に挿入した構成となっているが、上記マ
ニプレータを移動させると、これがチャンバー3内で占
める容積が変化するため、上記マニプレータの操作時に
チャンバー3の内圧に変化が生じる。上記マニプレータ
の配置数が多く、しかもチャンバー3が小型の場合、上
記圧力変化は無視できなくなる。Fifth Embodiment This embodiment relates to a pressure control means for maintaining the internal pressure of the chamber 3 (or the injection chamber 13) at a predetermined value, unlike the pressure adjustment means 30 and 40. FIG. 7 is a front sectional view showing the schematic structure and operation. In the embodiment of FIG. 1, the handling manipulator is movably inserted into the chamber 3. However, when the manipulator is moved, the volume occupied in the chamber 3 changes, so that when the manipulator is operated, A change occurs in the internal pressure of the chamber 3. When the number of the manipulators is large and the chamber 3 is small, the pressure change cannot be ignored.
【0039】そこで、図7の実施の形態は、チャンバー
3内でのハンドリングマニプレータの移動に起因するチ
ャンバー3(または注入室13)の内圧変動を防止する
ように構成したものである。すなわち、ハンドリングマ
ニプレータ51を移動させる際に生じる、チャンバー3
内容積の変化量を相殺することによりチャンバー3内圧
力を一定値に維持するための手段として、図6に示す圧
力調整手段40と同様構造の圧力制御手段70を設け
る。この場合、ベローズ74内の空間をチャンバー3内
に連通させる。また、ハンドリングマニプレータ51の
駆動機構60の構造は、圧力制御手段70と同様とす
る。図7において51aはマニプレータ51の駆動棒で
ある。61,71は往復直線運動機構であり、63,7
3はこれらの運動機構に設けた駆動棒である。上記駆動
機構60では、マニプレータ51の操作時に駆動棒51
aが上昇・下降することと、ベローズ64が伸縮するこ
ととに起因してチャンバー3の実質的内容積が変化する
が、ベローズ74を伸縮させることで、上記実質的内容
積の変化を相殺してチャンバー3の内圧を一定値に維持
することができる。Therefore, the embodiment shown in FIG. 7 is configured to prevent the internal pressure of the chamber 3 (or the injection chamber 13) from fluctuating due to the movement of the handling manipulator in the chamber 3. That is, the chamber 3 generated when the handling manipulator 51 is moved.
As means for maintaining the pressure inside the chamber 3 at a constant value by canceling the amount of change in the internal volume, a pressure control means 70 having the same structure as the pressure adjusting means 40 shown in FIG. 6 is provided. In this case, the space in the bellows 74 is communicated with the inside of the chamber 3. The structure of the driving mechanism 60 of the handling manipulator 51 is the same as that of the pressure control unit 70. In FIG. 7, reference numeral 51a denotes a driving rod of the manipulator 51. 61, 71 are reciprocating linear motion mechanisms;
Reference numeral 3 denotes a drive rod provided in these movement mechanisms. In the drive mechanism 60, the drive rod 51 is operated when the manipulator 51 is operated.
Although the substantial internal volume of the chamber 3 changes due to the rise and fall of “a” and the expansion and contraction of the bellows 64, the expansion and contraction of the bellows 74 offsets the change in the substantial internal volume. Thus, the internal pressure of the chamber 3 can be maintained at a constant value.
【0040】なお、マニプレータ51の移動によるチャ
ンバー3内容積の変動量が大きい場合、ベローズ74の
口径をそれに対応して大きくすることが好ましく、上記
相殺操作をより迅速に行うことができる。また、圧力制
御手段70に代えて、図5に示す圧力調整手段30と同
様構造の圧力制御手段を設けても良い。この場合、チャ
ンバー3内容積の変動量が大きいときには、シリンダ3
2の口径をそれに対応して大きくすることが好ましい。When the amount of change in the internal volume of the chamber 3 due to the movement of the manipulator 51 is large, it is preferable to increase the diameter of the bellows 74 correspondingly, so that the offset operation can be performed more quickly. Further, instead of the pressure control means 70, a pressure control means having the same structure as the pressure adjustment means 30 shown in FIG. 5 may be provided. In this case, when the fluctuation amount of the volume inside the chamber 3 is large, the cylinder 3
It is preferable to increase the caliber of No. 2 correspondingly.
【0041】[0041]
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明に
よれば以下の効果が得られる。 (1)請求項1の発明による効果 チャンバー内容積の増大により真空含浸用チャンバーの
内圧を低下させて含浸処理を停止させるようにしたの
で、通常の圧力調整方法と違って、チャンバー内雰囲気
の残留ガスの分圧を変化させることがなく、簡便・高精
度に含浸量を調整することができるうえ、含浸製品の品
質も安定する。 (2)請求項2の発明による効果 液晶注入・封止材注入用チャンバーの内容積減少により
チャンバー内圧を上昇させて液晶注入を開始し、該チャ
ンバーの内容積増大によりチャンバー内圧を下降させて
液晶注入を終了した後、上記と同様の操作でチャンバー
内圧を上昇させて封止材注入を開始し、上記と同様の操
作によりチャンバー内圧を下降させて封止材注入を終了
するようにしたので、簡便・高精度に液晶および封止材
の注入量を調整することができる。また、封止材の注入
量は液晶のそれに比べて相当少ないので、本発明は封止
材の注入量を調整するうえで特に有利である。 (3)請求項3の発明による効果 この真空含浸装置によれば、請求項1に記載の含浸方法
を簡便・的確に実施できるうえ、構造も簡単なため安価
に提供することができる。 (4)請求項4の発明による効果 この液晶・封止材の注入装置によれば、請求項2に記載
の注入方法を簡便・的確に実施できるうえ、構造も簡単
なため安価に提供することができる。 (5)請求項5の発明による効果 真空含浸用チャンバーにベローズを連結し、チャンバー
内の空間とベローズ内の空間とを連通させ、ベローズの
伸縮によりチャンバー内圧を調整するようにしたので、
請求項3の発明による効果に加えて、チャンバー内圧調
整手段の構造がより簡単となる効果がある。さらに、チ
ャンバー内の気体または液体の漏洩がないから、非常に
高い信頼性が得られる。 (6)請求項6の発明による効果 液晶・封止材注入用チャンバーにベローズを連結し、こ
れらチャンバー内の空間とベローズ内の空間とを連通さ
せたので、請求項4の発明による効果に加えて、チャン
バー内圧調整手段の構造がより簡単となる効果がある。
さらに、チャンバー内の気体または液体の漏洩がないか
ら、非常に高い信頼性が得られる。 (7)請求項7の発明による効果 ハンドリングマニプレータの移動に起因する真空含浸用
チャンバーの内容積変化を圧力制御手段で相殺すること
により、チャンバー内圧を一定値に維持するようにした
ので、含浸量を特に高精度に調整することができる。ま
た、上記圧力制御手段は構造が簡単なものですむため、
本発明に係る真空含浸装置は安価に提供することができ
る。 (8)請求項8の発明による効果 ハンドリングマニプレータの移動に起因する液晶・封止
材注入用チャンバーの内容積変化を圧力制御手段で相殺
することによって、チャンバー内圧を一定値に維持する
ようにしたので、液晶および封止材の注入量を非常に高
精度に調整することができる。また、上記圧力制御手段
は簡単な構造ですむため、本発明に係る液晶・封止材の
注入装置は安価に提供することができる。As apparent from the above description, the following effects can be obtained according to the present invention. (1) Effect of the Invention of Claim 1 Since the internal pressure of the vacuum impregnation chamber is reduced by increasing the internal volume of the chamber and the impregnation process is stopped, unlike the normal pressure adjustment method, the atmosphere in the chamber remains. The impregnation amount can be easily and accurately adjusted without changing the partial pressure of the gas, and the quality of the impregnated product is stabilized. (2) Effect of the Second Invention The liquid crystal is injected by increasing the internal pressure of the chamber for liquid crystal injection / sealing material injection to start liquid crystal injection by decreasing the internal volume of the chamber for liquid crystal injection / sealing material injection, and decreasing the internal pressure of the chamber by increasing the internal volume of the chamber. After finishing the injection, the sealing material injection was started by increasing the chamber internal pressure by the same operation as above, and the sealing material injection was ended by lowering the chamber internal pressure by the same operation as above. The injection amount of the liquid crystal and the sealing material can be easily and accurately adjusted. Further, since the injection amount of the sealing material is considerably smaller than that of the liquid crystal, the present invention is particularly advantageous in adjusting the injection amount of the sealing material. (3) Effect of the Invention of Claim 3 According to this vacuum impregnation apparatus, the impregnation method described in claim 1 can be carried out simply and accurately, and the structure is simple, so that it can be provided at low cost. (4) Effect of the Invention of Claim 4 According to the liquid crystal / sealing material injection device, the injection method described in claim 2 can be simply and accurately implemented, and the structure is simple, so that the device can be provided at low cost. Can be. (5) Effect of the invention of claim 5 The bellows is connected to the vacuum impregnation chamber, the space in the chamber and the space in the bellows are communicated, and the internal pressure of the chamber is adjusted by expansion and contraction of the bellows.
In addition to the effect of the third aspect of the present invention, there is an effect that the structure of the chamber internal pressure adjusting means becomes simpler. Furthermore, very high reliability is obtained since there is no leakage of gas or liquid in the chamber. (6) Effect of the invention of claim 6 The bellows are connected to the chamber for injecting liquid crystal and sealing material, and the space in these chambers and the space in the bellows are communicated. Thus, there is an effect that the structure of the chamber internal pressure adjusting means becomes simpler.
Furthermore, very high reliability is obtained since there is no leakage of gas or liquid in the chamber. (7) Effect of the invention of claim 7 Since the internal volume change of the vacuum impregnation chamber caused by the movement of the handling manipulator is offset by the pressure control means, the chamber internal pressure is maintained at a constant value, so that the impregnation amount is maintained. Can be adjusted with particularly high precision. In addition, since the above pressure control means requires only a simple structure,
The vacuum impregnation device according to the present invention can be provided at low cost. (8) Effect of the Invention of Claim 8 A change in the internal volume of the liquid crystal / sealing material injection chamber due to the movement of the handling manipulator is canceled by the pressure control means, so that the chamber internal pressure is maintained at a constant value. Therefore, the injection amount of the liquid crystal and the sealing material can be adjusted with very high precision. Further, since the pressure control means has a simple structure, the liquid crystal / sealing material injection device according to the present invention can be provided at low cost.
【図1】第1の実施の形態に係るもので、真空含浸装置
の概略構造および、これによる真空含浸操作の前段工程
を説明する正面断面図である。FIG. 1 is a front cross-sectional view according to a first embodiment, illustrating a schematic structure of a vacuum impregnation apparatus and a preceding step of a vacuum impregnation operation using the apparatus.
【図2】図1の装置による真空含浸操作の後段工程を説
明する正面断面図である。FIG. 2 is a front sectional view for explaining a latter step of a vacuum impregnation operation by the apparatus of FIG. 1;
【図3】第2の実施の形態に係るもので、液晶・封止材
注入装置の概略構造および、これによる液晶注入工程を
示す正面断面図である。FIG. 3 is a front cross-sectional view showing a schematic structure of a liquid crystal / sealing material injection device and a liquid crystal injection process using the device according to the second embodiment.
【図4】図3の装置において液晶注入工程に引き続いて
行う封止材注入工程を示す正面断面図である。FIG. 4 is a front sectional view showing a sealing material injecting step performed after the liquid crystal injecting step in the apparatus of FIG. 3;
【図5】第3の実施の形態に係る圧力調整手段の概略構
造および作用を説明する正面断面図である。FIG. 5 is a front sectional view illustrating a schematic structure and operation of a pressure adjusting unit according to a third embodiment.
【図6】第4の実施の形態に係る圧力調整手段の概略構
造および作用を説明する正面断面図である。FIG. 6 is a front sectional view illustrating a schematic structure and operation of a pressure adjusting unit according to a fourth embodiment.
【図7】第5の実施の形態に係る圧力制御手段の概略構
造および作用を説明する正面断面図である。FIG. 7 is a front sectional view illustrating a schematic structure and operation of a pressure control unit according to a fifth embodiment.
1 チャンバー本体 1a,1b 側板 1c 円筒壁 2a,2b 隔壁 3 真空含浸用チャンバー 4a,4b バルブ 5 真空排気系 6 加圧用ガス供給源 7 バルブ 8 含浸材供給源 8a 常圧タンク 8b 含浸材 9 ワーク 11 チャンバー本体 11a,11b 側板 11c 円筒壁 12a,12b 隔壁 13 液晶・封止材注入室(チャンバー) 14a,14b バルブ 15 真空排気系 16 加圧用ガス供給源 21 液晶セル 21a 液晶セル(空セル) 21b 液晶セル(液晶注入後) 22 液晶ボート 23 封止材ボート 30 圧力調整手段 31 往復直線運動機構 32 シリンダ 32a 円筒室 33 ピストン棒 34 ピストン 40 圧力調整手段 41 往復直線運動機構 43 駆動棒 44 円板 45 ベローズ 51 ハンドリングマニプレータ 51a 駆動棒 60 駆動機構 61,71 往復直線運動機構 63,73 駆動棒 64,74 ベローズ 70 圧力制御手段 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Chamber main body 1a, 1b Side plate 1c Cylindrical wall 2a, 2b Partition wall 3 Vacuum impregnation chamber 4a, 4b Valve 5 Vacuum exhaust system 6 Pressurizing gas supply source 7 Valve 8 Impregnating material supply source 8a Normal pressure tank 8b Impregnating material 9 Work 11 Chamber main body 11a, 11b Side plate 11c Cylindrical wall 12a, 12b Partition wall 13 Liquid crystal / sealing material injection chamber (chamber) 14a, 14b Valve 15 Vacuum exhaust system 16 Pressurizing gas supply source 21 Liquid crystal cell 21a Liquid crystal cell (empty cell) 21b Liquid crystal Cell (after liquid crystal injection) 22 Liquid crystal boat 23 Sealant boat 30 Pressure adjusting means 31 Reciprocating linear motion mechanism 32 Cylinder 32a Cylindrical chamber 33 Piston rod 34 Piston 40 Pressure adjusting means 41 Reciprocating linear motion mechanism 43 Drive rod 44 Disk 45 Bellows 51 Handling manipulator 51a Driving Rod 60 drive mechanism 61, 71 reciprocating linear motion mechanism 63, 73 the drive rod 64, 74 a bellows 70 pressure control means
Claims (8)
量の材料が含浸された時点で、前記チャンバーの内容積
を増大させてその内圧を低下させることにより、ワーク
への含浸処理を停止させることを特徴とする真空含浸方
法。1. When the work in a vacuum impregnation chamber is impregnated with a predetermined amount of material, the impregnation of the work is stopped by increasing the internal volume of the chamber and lowering the internal pressure. A vacuum impregnation method.
液晶・封止材注入用のチャンバーに収納し、該チャンバ
ーおよび空セルを減圧状態にするとともに空セルの液晶
注入口をチャンバー内の液晶貯留部に収容された液晶に
接触させ、チャンバー内圧を上昇させて液晶注入を行
い、チャンバー内を減圧状態に戻して液晶注入を停止さ
せた後、液晶注入口をチャンバー内の封止材貯留部に収
容された封止材に接触させ、チャンバー内圧を上昇させ
て封止材注入を行い、チャンバー内を減圧状態に戻して
封止材注入を停止させる液晶・封止材の注入方法であっ
て、チャンバー内圧の上昇操作をチャンバー内容積を減
少させることにより行い、チャンバー内を減圧状態に戻
すための圧力下降操作を、チャンバー内容積を増大させ
ることにより行うことを特徴とする液晶・封止材の注入
方法。2. An empty cell for constituting a liquid crystal display cell is housed in a chamber for injecting a liquid crystal and a sealing material, the chamber and the empty cell are evacuated, and the liquid crystal injection port of the empty cell is placed in the chamber. After contacting the liquid crystal stored in the liquid crystal storage section, raising the internal pressure of the chamber to inject the liquid crystal, returning the chamber to a reduced pressure state and stopping the liquid crystal injection, the liquid crystal injection port is stored in the sealing material in the chamber. This is a method of injecting a liquid crystal / sealing material in which the sealing material is brought into contact with the sealing material, the pressure inside the chamber is increased, the sealing material is injected, and the inside of the chamber is returned to a reduced pressure state to stop the injection of the sealing material. Then, the operation of increasing the pressure in the chamber is performed by reducing the volume in the chamber, and the operation of lowering the pressure to return the chamber to a reduced pressure state is performed by increasing the volume in the chamber. A liquid crystal / encapsulating material injection method characterized by the above-mentioned.
本体の内壁に対し摺動自在に設けることにより、前記隔
壁を内壁の一部とする真空含浸用チャンバーを区画形成
し、該チャンバーにワーク投入口およびワーク取出し口
を開閉自在に形成するとともに、該チャンバー内を真空
排気手段、真空破壊手段、加圧不活性ガスの供給源およ
び含浸材の供給源に連絡させたことを特徴とする真空含
浸装置。3. A chamber for vacuum impregnation in which the partition wall is part of the inner wall is formed by slidably providing a partition wall in the chamber main body with respect to the inner wall of the chamber main body. And a work take-out port is formed to be freely openable and closable, and the inside of the chamber is connected to a vacuum exhaust means, a vacuum breaking means, a supply source of a pressurized inert gas and a supply source of an impregnation material. .
本体の内壁に対し摺動自在に設けることにより、前記隔
壁を内壁の一部とする液晶・封止材注入用のチャンバー
を区画形成し、該チャンバーにワーク導入口およびワー
ク取出し口を開閉自在に形成するとともに、該チャンバ
ー内を真空排気手段、真空破壊手段および加圧不活性ガ
スの供給源に連絡させたことを特徴とする液晶・封止材
の注入装置。4. A chamber for injecting a liquid crystal and a sealing material, wherein the partition is a part of the inner wall, is formed by providing a partition in the chamber main body so as to be slidable with respect to an inner wall of the chamber main body. A liquid crystal / encapsulation wherein a work inlet and a work outlet are formed in the chamber so as to be openable and closable, and the inside of the chamber is connected to a vacuum exhaust means, a vacuum breaking means and a supply source of a pressurized inert gas. Material injection equipment.
閉自在に形成した真空含浸用チャンバーにベローズを連
結し、これらチャンバー内の空間とベローズ内の空間と
を互いに連通させるとともに、前記チャンバー内を真空
排気手段、真空破壊手段、加圧不活性ガスの供給源およ
び含浸材の供給源に連絡させたことを特徴とする真空含
浸装置。5. A bellows is connected to a vacuum impregnation chamber in which a work input port and a work takeout port are formed to be openable and closable, and the space in the chamber and the space in the bellows communicate with each other. A vacuum impregnating apparatus, which is connected to an exhaust unit, a vacuum breaking unit, a supply source of a pressurized inert gas, and a supply source of an impregnating material.
閉自在に形成した液晶・封止材注入用のチャンバーにベ
ローズを連結し、これらチャンバー内の空間とベローズ
内の空間とを互いに連通させたるとともに、前記チャン
バー内を真空排気手段、真空破壊手段および加圧不活性
ガスの供給源に連絡させたことを特徴とする液晶・封止
材の注入装置。6. A bellows is connected to a chamber for injecting a liquid crystal and a sealing material in which a work introduction port and a work takeout port are formed so as to be openable and closable so that the space in the chamber and the space in the bellows communicate with each other. A liquid crystal / sealing material injection device, wherein the inside of the chamber is connected to a vacuum exhaust means, a vacuum breaking means, and a supply source of a pressurized inert gas.
のハンドリングマニプレータを移動自在に設けるととも
に、該ハンドリングマニプレータの移動に起因するチャ
ンバー内容積の増大・減少を相殺することによりチャン
バー内の圧力を一定に維持するための圧力制御手段を設
けたことを特徴とする請求項3または5に記載の真空含
浸装置。7. A handling manipulator for a workpiece is movably provided in the vacuum impregnation chamber, and the pressure in the chamber is kept constant by offsetting an increase / decrease in the volume of the chamber caused by the movement of the handling manipulator. 6. A vacuum impregnating apparatus according to claim 3, further comprising a pressure control means for maintaining the pressure in the vacuum impregnating apparatus.
に液晶ボート、封止材ボートおよび、これらのボートを
前記チャンバー内で移動させるためのハンドリングマニ
プレータを設けるとともに、該ハンドリングマニプレー
タの移動に起因するチャンバー内容積の増大・減少を相
殺することによりチャンバー内の圧力を一定に維持する
ための圧力制御手段を設けたことを特徴とする請求項4
または6に記載の液晶・封止材の注入装置。8. A liquid crystal boat, a sealing material boat, and a handling manipulator for moving these boats in the chamber are provided in the liquid crystal / sealing material injection chamber, and the handling manipulator is moved. 5. A pressure control means for maintaining a constant pressure in the chamber by canceling the increase / decrease of the volume in the chamber caused by the pressure.
Or a liquid crystal / sealing material injection device according to 6.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11178681A JP2001005012A (en) | 1999-06-24 | 1999-06-24 | Vacuum impregnation method and device, liquid crystal / sealing material injection method and device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11178681A JP2001005012A (en) | 1999-06-24 | 1999-06-24 | Vacuum impregnation method and device, liquid crystal / sealing material injection method and device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001005012A true JP2001005012A (en) | 2001-01-12 |
Family
ID=16052703
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11178681A Pending JP2001005012A (en) | 1999-06-24 | 1999-06-24 | Vacuum impregnation method and device, liquid crystal / sealing material injection method and device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001005012A (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007180106A (en) * | 2005-12-27 | 2007-07-12 | Daiwa Yuso Kiki Kk | Impregnation injection method and device therefor |
| KR100783705B1 (en) * | 2001-06-26 | 2007-12-07 | 삼성전자주식회사 | Coupling device for substrate for display device and manufacturing method of display device using same |
| US8094408B2 (en) | 2006-09-20 | 2012-01-10 | Hitachi Global Storage Technologies, Netherlands B.V. | Magnetic disk drive sealed with low vapor pressure fluorine oil |
| CN116219389A (en) * | 2023-02-08 | 2023-06-06 | 深圳天成真空技术有限公司 | Winding type vacuum coating equipment |
-
1999
- 1999-06-24 JP JP11178681A patent/JP2001005012A/en active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100783705B1 (en) * | 2001-06-26 | 2007-12-07 | 삼성전자주식회사 | Coupling device for substrate for display device and manufacturing method of display device using same |
| JP2007180106A (en) * | 2005-12-27 | 2007-07-12 | Daiwa Yuso Kiki Kk | Impregnation injection method and device therefor |
| US8094408B2 (en) | 2006-09-20 | 2012-01-10 | Hitachi Global Storage Technologies, Netherlands B.V. | Magnetic disk drive sealed with low vapor pressure fluorine oil |
| CN116219389A (en) * | 2023-02-08 | 2023-06-06 | 深圳天成真空技术有限公司 | Winding type vacuum coating equipment |
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