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JP2001034231A - EL display device - Google Patents

EL display device

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Publication number
JP2001034231A
JP2001034231A JP11208244A JP20824499A JP2001034231A JP 2001034231 A JP2001034231 A JP 2001034231A JP 11208244 A JP11208244 A JP 11208244A JP 20824499 A JP20824499 A JP 20824499A JP 2001034231 A JP2001034231 A JP 2001034231A
Authority
JP
Japan
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pixel
pixel electrode
light emission
display device
display
Prior art date
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Application number
JP11208244A
Other languages
Japanese (ja)
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JP3733582B2 (en
Inventor
Mutsumi Kimura
睦 木村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP20824499A priority Critical patent/JP3733582B2/en
Publication of JP2001034231A publication Critical patent/JP2001034231A/en
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  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Control Of Indicators Other Than Cathode Ray Tubes (AREA)
  • Control Of El Displays (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 隣接画素の発光によって非発光であるべき画
素が発光しないようにしたEL表示装置を提供する。 【解決手段】 本発明の表示装置は、少なくとも画素電
極(34)と発光膜(32)と陰極(33)とを積層してなる単位表
示画素を二次元に複数配置している表示画素形成層(3)
と、複数の単位表示画素のうち選択されたもの(Sn)の
画素電極に発光レベルの電源(VH)を供給し、複数の単
位表示画素のうち選択されないもの(Sn-1)の画素電極
に非発光レベルの電源(VL)を供給するスイッチ回路
(S)を備える。それにより、非選択表示画素の画素電極
の電位を非発光レベルにクランプし、発光を防止する。
(57) Abstract: Provided is an EL display device in which a pixel that should not emit light does not emit light due to light emission of an adjacent pixel. SOLUTION: The display device of the present invention has a display pixel forming layer in which a plurality of unit display pixels each having at least a pixel electrode (34), a light emitting film (32), and a cathode (33) are two-dimensionally arranged. (3)
And supplying a power (VH) at a light emission level to the pixel electrode selected from the plurality of unit display pixels (Sn) and supplying the power to the pixel electrode not selected from the plurality of unit display pixels (Sn-1). A switch circuit that supplies power (VL) at a non-light emitting level
(S) is provided. Thus, the potential of the pixel electrode of the non-selected display pixel is clamped to the non-light emitting level, thereby preventing light emission.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、EL(electro lumines
cence)表示装置の改良に関し、特に、電流リークによる
非選択画素の発光を防止したEL表示装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to an EL (electro lumines
cence) The present invention relates to an improvement in a display device, and particularly to an EL display device in which light emission of a non-selected pixel due to a current leak is prevented.

【0002】[0002]

【従来の技術】EL表示装置の構成について図7を参照
して説明する。同図は、EL装置を断面図によって概略
説明する説明図であり、大別して、基板1、画素の発光
を制御する回路が形成された集積回路層2及びEL発光
画素をマトリクス状に配列して形成した表示画素形成層
3によって構成される。
2. Description of the Related Art The structure of an EL display device will be described with reference to FIG. FIG. 1 is an explanatory view schematically illustrating an EL device by a cross-sectional view, and is roughly divided into a substrate 1, an integrated circuit layer 2 on which a circuit for controlling light emission of pixels is formed, and EL light-emitting pixels arranged in a matrix. The display pixel forming layer 3 is formed.

【0003】基板1は、発光層の光を透過させる透明な
ガラス基板である。集積回路形成層2は、指定された配
置位置(アドレス)の各画素を点灯させるスイッチ回路
S群からなる選択回路等を集積している。表示画素形成
層3は、集積回路形成層2上にITO膜をパターニング
して形成し、マトリクス状に配列された複数の透明な画
素電極(陽極)34と、この画素電極34及び集積回路
形成層2上に堆積された正孔輸送層31と、この正孔輸
送層31上に有機ELを堆積して形成された発光層32
と、更に、この発光層32上に形成された陰極33によ
って構成されている。
[0003] The substrate 1 is a transparent glass substrate that transmits light of the light emitting layer. The integrated circuit formation layer 2 integrates a selection circuit and the like composed of a group of switch circuits S for lighting each pixel at a specified arrangement position (address). The display pixel formation layer 3 is formed by patterning an ITO film on the integrated circuit formation layer 2, a plurality of transparent pixel electrodes (anodes) 34 arranged in a matrix, and the pixel electrode 34 and the integrated circuit formation layer. And a light emitting layer 32 formed by depositing an organic EL on the hole transport layer 31.
And a cathode 33 formed on the light emitting layer 32.

【0004】かかる構成において、図示しないデコーダ
の出力により、例えば、選択回路のスイッチ回路Sn
閉成する。それにより、電源Eが画素電極34に印加さ
れ、電流Iaが画素電極34から陰極33に向って流れ
る。画素電極34と陰極33間の有機EL発光層32が
発光する。発光層32で発生した光は、透明な画素電極
34、集積回路形成層2及びガラス基板1を通過して外
部に放射される。また、閉成しないスイッチ回路Sn+1
が接続された画素電極34と陰極間32には、発光に必
要な電圧が印加されず、両者に挟まれた発光層32は発
光しない。このようにして、マトリクス状に配置された
各画素の発光を個別に制御することによって二次元画像
が形成される。
[0004] In such a configuration, the output of the decoder (not shown), for example, closing the switch circuit S n of the selection circuit. Thereby, the power source E is applied to the pixel electrode 34, current I a flows toward the cathode 33 from the pixel electrode 34. The organic EL light emitting layer 32 between the pixel electrode 34 and the cathode 33 emits light. The light generated in the light emitting layer 32 passes through the transparent pixel electrode 34, the integrated circuit forming layer 2, and the glass substrate 1 and is emitted to the outside. Also, the switch circuit S n + 1 that does not close
The voltage required for light emission is not applied between the pixel electrode 34 and the cathode 32 to which is connected, and the light emitting layer 32 sandwiched between them does not emit light. In this way, a two-dimensional image is formed by individually controlling the light emission of each pixel arranged in a matrix.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た構成のEL表示装置では、発光層32が各画素毎に独
立した領域として形成されていない。発光層32は高抵
抗であり、正孔輸送層31は低抵抗であるので、発光画
素の駆動電流Iaの一部が消灯している隣接画素にリー
ク電流i0として流れ込む。それにより、一部の画素電
極34の電位が高くなり、本来非発光(オフ)であるべ
き画素部分から(弱い)発光が生じるという不具合があ
る。これは、コントラスト低下、輪郭のぼけの原因とな
る。
However, in the EL display device having the above structure, the light emitting layer 32 is not formed as an independent region for each pixel. Emitting layer 32 has a high resistance, since the hole transport layer 31 is a low resistance, flows to the adjacent pixels a part of the drive current I a of the light emitting pixel is off as leakage current i 0. As a result, the potential of some of the pixel electrodes 34 is increased, and there is a problem that (weak) light emission is generated from a pixel portion that should not emit light (off). This causes a decrease in contrast and blurring of the outline.

【0006】よって、本発明は、隣接画素の発光によっ
て非発光であるべき画素が発光しないようにしたEL表
示装置を提供することを目的とする。
Accordingly, it is an object of the present invention to provide an EL display device in which a pixel which should not emit light does not emit light due to light emission of an adjacent pixel.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本発明のEL表示装置は、少なくとも画素電極と発光膜
と陰極とを積層してなる単位表示画素を二次元に複数配
置している表示画素形成層と、上記複数の単位表示画素
のうち選択されたものの画素電極に発光レベルの電源を
供給する画素選択回路と、上記複数の単位表示画素のう
ち選択されないものの画素電極に非発光レベルの電源を
供給する発光抑止回路と、を備える。
In order to achieve the above object, an EL display device according to the present invention has a display in which a plurality of unit display pixels each having at least a pixel electrode, a light-emitting film, and a cathode are stacked two-dimensionally. A pixel formation layer, a pixel selection circuit that supplies power of a light emission level to a pixel electrode of a selected one of the plurality of unit display pixels, and a non-light emission level of a pixel electrode of a non-selected one of the plurality of unit display pixels. A light emission suppression circuit for supplying power.

【0008】また、本発明のEL表示装置は、少なくと
も画素電極とEL発光膜と陰極とを積層してなる単位表
示画素を二次元に複数配置している表示画素形成層と、
上記複数の単位表示画素のうち選択されたものの画素電
極に発光レベルの電源を供給する画素選択回路と、上記
複数の単位表示画素のうち選択されないものの画素電極
に非発光レベルの電源を供給する発光抑止回路と、を形
成した集積回路層と、を備える。
The EL display device of the present invention further comprises a display pixel forming layer in which a plurality of unit display pixels each having at least a pixel electrode, an EL light emitting film, and a cathode are stacked two-dimensionally.
A pixel selection circuit for supplying power of a light emission level to a pixel electrode of a selected one of the plurality of unit display pixels, and light emission for supplying power of a non-light emission level to a pixel electrode of a non-selected one of the plurality of unit display pixels And an integrated circuit layer on which the suppression circuit is formed.

【0009】かかる構成によって、非発光(オフ)とな
る画素の画素電極(陽極) 電位を非発光レベルに強
制的にクランプし、画素電極の電位がフローティングと
なることを防止して、非選択画素の発光を防止する。
With this configuration, the potential of the pixel electrode (anode) of the pixel that does not emit light (off) is forcibly clamped to the non-emission level, and the potential of the pixel electrode is prevented from floating, thereby preventing the non-selected pixel from being turned off. To prevent light emission.

【0010】また、上記EL発光膜と上記画素電極相互
間に更に低抵抗の正孔輸送層を形成した場合にも、画素
電極の電位を制御することによって正孔輸送層を流れる
電流を制御することが可能となる。
Further, even when a hole transport layer having a lower resistance is formed between the EL light emitting film and the pixel electrode, the current flowing through the hole transport layer is controlled by controlling the potential of the pixel electrode. It becomes possible.

【0011】好ましくは、上記集積回路層は、TFTに
よって構成されたスイッチング素子を含む。
[0011] Preferably, the integrated circuit layer includes a switching element constituted by a TFT.

【0012】好ましくは、上記画素選択回路及び上記発
光抑止回路を相補型構成のTFT回路で形成する。それ
により、素子数及び配線数の減少、開口効率の向上を図
ることが可能となる。
Preferably, the pixel selection circuit and the light emission suppression circuit are formed by complementary TFT circuits. Thus, it is possible to reduce the number of elements and the number of wirings and to improve the aperture efficiency.

【0013】好ましくは、上記集積回路層は、上記画素
電極に発光レベルの電源を供給する第1の電位(例え
ば、高電位)印加用バス配線と、上記画素電極に非発光
レベルの電源を供給する第2の電位(例えば、低電位)
印加用バス配線と、を備える。それにより、所定電位印
加の確実を図る。また、TFT特性、有機EL特性に合
わせて、個々に印加電位を最適化することが可能とな
る。
Preferably, the integrated circuit layer includes a bus line for applying a first potential (for example, a high potential) for supplying power of a light emission level to the pixel electrode, and a power supply of a non-light emission level for the pixel electrode. Second potential (eg, low potential)
And an application bus wiring. This ensures application of the predetermined potential. In addition, it is possible to individually optimize the applied potential according to the TFT characteristics and the organic EL characteristics.

【0014】好ましくは、上記単位表示画素の各々は、
互いに平行に一方向に延在する複数の走査線と、各走査
線の延在方向と直交する複数のデータ線と、上記複数の
走査線と上記複数のデータ線とによって画定される複数
の領域内に、マトリクス状に配置されて各行毎に表示情
報が更新され、上記第2の電位印加用バス配線として、
前行の単位表示画素列が接続されるデータ線が使用され
る。
Preferably, each of the unit display pixels includes:
A plurality of scanning lines extending in one direction in parallel with each other, a plurality of data lines orthogonal to an extending direction of each scanning line, and a plurality of regions defined by the plurality of scanning lines and the plurality of data lines Inside, the display information is updated for each row arranged in a matrix, and as the second potential application bus wiring,
A data line to which the unit display pixel column of the previous row is connected is used.

【0015】こうすることにより、ライン走査型の表示
を行うEL表示器においては、選択された走査線以外の
走査線は制御信号が非発光(消灯)レベルであるので選
択された走査線の前又は後の行の走査線をクランプ電位
として利用することが可能である。それにより、バス配
線が減少して画素電極面積を増加することが可能とな
り、開口効率が向上する。配線の減少により歩留りの向
上も期待出来る。
In this manner, in the EL display for performing the line scanning type display, since the control signal of the scanning lines other than the selected scanning line is at the non-light emitting (light-out) level, the scanning line is located before the selected scanning line. Alternatively, it is possible to use a scanning line in a later row as a clamp potential. As a result, the number of bus lines can be reduced and the area of the pixel electrode can be increased, so that the aperture efficiency is improved. The yield can be expected to improve due to the decrease in wiring.

【0016】[0016]

【実施の形態】以下、本発明の実施の形態について、図
面を参照して説明する。図1は、本発明の実施の形態を
説明する説明図である。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is an explanatory diagram illustrating an embodiment of the present invention.

【0017】同図において、EL表示装置は基板1、画
素の発光を制御する回路が形成された集積回路層2及び
EL発光画素をマトリクス状に二次元配列して形成した
表示画素形成層3によって構成される。基板1は、発光
層の光を透過させる透明なガラス基板である。また、集
積回路形成層2は、指定された配置位置(アドレス)の
各画素を点灯させるスイッチ回路S群からなる選択回路
等を集積している。そして、表示画素形成層3は、集積
回路形成層2上にITO膜をパターニングして形成さ
れ、マトリクス状に配列された複数の透明な画素電極
(陽極)34と、この画素電極34及び集積回路形成層
上に堆積された正孔輸送層31と、この正孔輸送層31
上に有機ELを堆積して形成された発光層32と、更
に、この発光層32上に形成された陰極33と、によっ
て構成されている。このように、積層形成された表示画
素形成層3の一画素分は単位表示画素に相当する。
In FIG. 1, the EL display device includes a substrate 1, an integrated circuit layer 2 on which a circuit for controlling light emission of pixels is formed, and a display pixel forming layer 3 formed by two-dimensionally arranging EL light emitting pixels in a matrix. Be composed. The substrate 1 is a transparent glass substrate that transmits light of the light emitting layer. Further, the integrated circuit forming layer 2 integrates a selection circuit including a group of switch circuits S for lighting each pixel at a specified arrangement position (address). The display pixel forming layer 3 is formed by patterning an ITO film on the integrated circuit forming layer 2 and a plurality of transparent pixel electrodes (anodes) 34 arranged in a matrix. A hole transport layer 31 deposited on the formation layer, and the hole transport layer 31
The light emitting layer 32 is formed by depositing an organic EL thereon, and further includes a cathode 33 formed on the light emitting layer 32. In this way, one pixel of the display pixel forming layer 3 formed by lamination corresponds to a unit display pixel.

【0018】そして、表示画素の発光を制御する集積回
路形成層2の各表示画素を作動させるスイッチ回路S
を、作動時に信号を中継する常開接点及び非作動時に信
号を中継する常閉接点の相補的な出力を発生する相補ス
イッチ回路としている。各相補スイッチ回路の常開接点
側には、電源回路から発光層を活性化させるに十分な第
1の電位として、例えば、高電圧VHが供給される。常
閉接点側には、電源回路から発光層を非活性化させるに
十分な電位として、例えば、低電圧VLが供給される。
図示しないデコーダによって発光すべき画素が選択さ
れ、該当する1つ若しくは複数の相補スイッチ回路に制
御信号が供給される。制御信号が供給された相補スイッ
チ回路は、出力を常開接点側に切替え、発光層を活性化
させる高電圧VHを選択して画素電極に供給する。それ
により、選択された表示画素は発光する。また、選択さ
れない画素では、相補スイッチ回路は、常閉接点側のレ
ベルの中継を維持し、発光層を非活性化させる低電圧V
Lを画素電極に供給する。従って、選択されていない表
示画素の画素電極の電位(あるいは電圧)は強制的にV
Lになされ、画素電極の電位の浮動状態は回避される。
それにより、比較的に低抵抗である正孔輸送層3を流れ
る電流を制御可能となる。また、画素電極からの電流リ
ークによる発光が抑制される。発光画素が非発光画素に
与える影響が減少する結果、画素同士をより近接して配
置することが可能となり、画素密度を高めることが可能
となる。相補スイッチ回路の常開接点側回路は、単位表
示画素を発光させる選択回路に相当し、常閉接点側回路
は、単位表示画素を発光させない発光抑止回路に相当す
る。なお、同等の機能を発揮すれば、相補スイッチ回路
によらずとも良いものである。
An integrated circuit for controlling the light emission of the display pixels.
Switch circuit S for operating each display pixel of the road forming layer 2
Are normally open contacts that relay signals when activated, and
Switches that generate complementary outputs of normally closed contacts that relay signals
It is a switch circuit. Normally open contact of each complementary switch circuit
On the side, there is enough power to activate the light emitting layer from the power supply circuit
For example, the high voltage VHIs supplied. Always
On the closed contact side, deactivate the light emitting layer from the power supply circuit
As a sufficient potential, for example, a low voltage VLIs supplied.
A pixel to emit light is selected by a decoder (not shown).
Control the corresponding one or more complementary switch circuits.
A control signal is supplied. The complementary switch to which the control signal is supplied
Switch switches the output to the normally open contact side and activates the light emitting layer
High voltage VHIs supplied to the pixel electrode. It
Thus, the selected display pixel emits light. Also selected
For pixels that do not, the complementary switch circuit
Low voltage V to maintain bell relay and deactivate light emitting layer
LIs supplied to the pixel electrode. Therefore, unselected tables
The potential (or voltage) of the pixel electrode of the indicated pixel is forced to V
LThe floating state of the potential of the pixel electrode is avoided.
Thereby, the gas flows through the hole transport layer 3 having a relatively low resistance.
Current can be controlled. In addition, current leakage from the pixel electrode
Light emission due to arcs is suppressed. Luminescent pixels become non-luminous pixels
As a result, the pixels are placed closer together.
Can be installed, and the pixel density can be increased.
Becomes The normally open contact side circuit of the complementary switch circuit is shown in the unit table.
Equivalent to the selection circuit that makes the indicated pixel emit light, normally closed contact side circuit
Corresponds to a light emission suppression circuit that does not cause the unit display pixels to emit light.
You. If the equivalent function is exhibited, the complementary switch circuit
It is good regardless.

【0019】図2は、1画素分の相補スイッチ回路Sの
構成例を示している。同図においてトランジスタQ1
至Q4はN型のTFTである。同図の左側上下方向に高
電位バスラインBH、低電位バスラインBL、が配置され
る。右側上下方向には、相補的な信号が供給されるデー
タ線xn,/xn、下側左右方向には走査線ynが配置さ
れる。データ線xn,/xn、走査線ynは、図示しない
デコーダによって駆動される。同図において、トランジ
スタQ1のソース・ドレイン領域の一方はEL発光素子
の陽極(画素電極)Aに接続される。他方は高電位バス
ラインBHに接続される。トランジスタQ2のソース・ド
レイン領域の一方はEL発光素子の陽極Aに接続され
る。他方は、低電位バスラインBLに接続される。高電
位バスラインBH及びデータ線xn相互間に、電位保持の
ためのキャパシタC1及びトランジスタQ3が直列に接続
される。キャパシタC1及びトランジスタQ3の接続点は
トランジスタQ1のゲートに接続される。また、低電位
バスラインBL及びデータ線/xn相互間に、電位保持の
ためのキャパシタC2及びトランジスタQ4が直列に接続
される。キャパシタC2及びトランジスタQ4の接続点は
トランジスタQ2のゲートに接続される。トランジスタ
3及びQ4の各ゲートは走査線ynに接続される。
FIG. 2 shows a configuration example of the complementary switch circuit S for one pixel. In the figure, transistors Q 1 to Q 4 are N-type TFTs. A high-potential bus line B H and a low-potential bus line B L are arranged in the vertical direction on the left side of FIG. The right vertical, data lines x n where complementary signals are supplied, / x n, the scanning lines y n are arranged on the lower left and right directions. Data line x n, / x n, the scanning lines y n are driven by a decoder (not shown). In the figure, one of the source / drain regions of the transistor Q1 is connected to the anode (pixel electrode) A of the EL element. The other is connected to the high potential bus line BH . One of the source and drain regions of the transistor Q 2 is connected to the anode A of the EL light emitting element. The other is connected to low potential bus line BL . Between the high potential bus line B H and the data line x n mutually the capacitor C 1 and the transistor Q 3 for potential holding is connected in series. Connection point of the capacitors C 1 and the transistor Q 3 are connected to the gate of the transistor Q 1. Further, between the low-potential bus line B L and the data line / x n mutually, capacitor C 2 and the transistor Q 4 for the potential holding it is connected in series. Connection point of the capacitors C 2 and the transistor Q 4 are connected to the gate of the transistor Q 2. The gates of the transistors Q 3 and Q 4 are connected to the scan line y n.

【0020】かかる構成において、選択された配列の発
光素子ELnを発光させる場合には、デコーダは、選択
された行の走査線ynを、トランジスタQ3、Q4を導通
させる「H」レベルに設定する。また、データ線xn
/xnをそれぞれトランジスタQ1を導通させる「H」レ
ベル、トランジスタQ2を非導通とする「L」レベルに
設定する。走査線ynが「H」レベルとなることによっ
て、トランジスタQ3及びQ4は共に導通する。それによ
り、データ線xn及び/xnの各電位によってそれぞれキ
ャパシタC1及びC2が充電されて対応する電位が次回走
査(書込み)まで保持される。また、トランジスタQ1
及びQ2の各ゲートをそれぞれ「H」レベル、「L」レ
ベルに設定する。トランジスタQ1は導通し、高電位バ
スラインBHの電位VHを陽極Aに印加し、動作電流を供
給する。トランジスタQ2は非導通であり、低電位バス
ラインBLの電位VLの陽極Aへの中継は遮断される。発
光素子ELnに高電位バスラインBHから高電圧VHが画
素電極に印加されることによって発光素子ELnは発光
する。
[0020] In such a configuration, in the case where the light emitting elements EL n of the selected sequence, the decoder scanning lines y n in the selected row, thereby turning on the transistor Q 3, Q 4 "H" level Set to. Also, data lines x n ,
/ X n is set to an “H” level for turning on the transistor Q 1 and an “L” level for turning off the transistor Q 2 . By scanning lines y n becomes "H" level, the transistors Q 3 and Q 4 are turned together. Thereby, the capacitors C 1 and C 2 are charged by the potentials of the data lines x n and / x n , respectively, and the corresponding potentials are held until the next scanning (writing). Also, the transistor Q 1
And each "H" level gates of Q 2, is set to "L" level. Transistor Q 1 is turned, the electric potential V H on the high potential bus line B H is applied to the anode A, and supplies the operating current. Transistor Q 2 are non-conductive, relay to the anode A of the potential V L on the low potential bus line B L is interrupted. The light emitting element EL n by the high voltage V H is applied to the pixel electrode from the high potential bus line B H to the light emitting element EL n emits light.

【0021】一方、選択された行の発光素子ELnを発
光させない場合には、デコーダは、データ線xn,/xn
をそれぞれトランジスタを非導通にさせる「L」レベ
ル、導通にさせる「H」レベルに設定する。走査線yn
は「H」レベルであるので、トランジスタQ3及びQ4
共に導通している。それにより、電位保持キャパシタC
1及びC2は、それぞれ「L」レベル、「H」レベルに設
定さ、次回走査(書込み)まで保持される。また、トラ
ンジスタQ1及びQ2の各ゲートをそれぞれ「L」レベ
ル、「H」レベルに設定する。トランジスタQ1は非導
通となり、高電位バスラインBHの電位VHによる陽極A
への駆動電流の供給は停止する。一方、トランジスタQ
2は導通し、低電位バスラインBLの電位VLが陽極Aに
中継される。陽極Aの電位は定電位に維持される低電位
バスラインの電位VLにクランプされる。発光素子ELn
に低電圧VLが印加されることによって発光しない。な
お、上記実施例では、各トランジスタをN型で構成した
がP型で構成することが出来る。
On the other hand, the light emitting elements EL of the selected rownDepart
If the light is not to be emitted, the decoder uses the data line xn, / Xn
"L" level to make each transistor non-conductive
Set to “H” level to make it conductive. Scan line yn
Is at "H" level, so that the transistor QThreeAnd QFourIs
Both are conducting. Thereby, the potential holding capacitor C
1And CTwoAre set to “L” level and “H” level respectively.
Is held until the next scanning (writing). Also, tiger
Transistor Q1And QTwoEach gate of "L" level
Set to “H” level. Transistor Q1Is unguided
And the high-potential bus line BHPotential VHAnode A
The supply of the drive current to is stopped. On the other hand, transistor Q
TwoIs conductive and the low potential bus line BLPotential VLBecomes anode A
Will be relayed. The potential of the anode A is a low potential maintained at a constant potential
Bus line potential VLIs clamped to. Light emitting element ELn
Low voltage VLDoes not emit light when is applied. What
In the above embodiment, each transistor is configured as an N-type transistor.
Can be configured as a P-type.

【0022】図3は、図2に示した相補スイッチ回路の
集積回路パターンを示している。同図においてAは、E
L発光素子の陽極(画素電極)である。機能素子部分に
は図2と対応する符号が記されているので構成の説明は
省略する。配線膜間の接続はコンタクトホールによって
行われる。
FIG. 3 shows an integrated circuit pattern of the complementary switch circuit shown in FIG. In the figure, A is E
This is the anode (pixel electrode) of the L light emitting element. Since the reference numerals corresponding to those in FIG. 2 are given to the functional element portions, the description of the configuration is omitted. The connection between the wiring films is made by a contact hole.

【0023】図4は、図2に示したスイッチ回路をN型
のTFT(Q11)とP型のTFT(Q12)とを用いた相
補型TFTのトランジスタで構成した例を示している。
相補型TFTを使用することによって、図2で示したデ
ータ線の信号/xn、キャパシタC2及びトランジスタQ
4が不要となる。
FIG. 4 shows an example in which the switch circuit shown in FIG. 2 is composed of complementary TFT transistors using an N-type TFT (Q 11 ) and a P-type TFT (Q 12 ).
By using the complementary TFT, the signal / x n of the data line, the capacitor C 2 and the transistor Q shown in FIG.
4 becomes unnecessary.

【0024】この回路の動作について述べれば、走査線
nに「H」レベルの信号が印加されると、N型TFT
であるトランジスタQ13は導通する。それにより、デー
タ線xnの信号レベルによって電位保持のキャパシタC
11が充電され、次回走査まで保持される。また、データ
線xnの「H」レベルは、トランジスタQ11を導通と
し、トランジスタQ12を非導通とする。EL発光素子の
画素電極Aは低レベルにクランプされ、発光は阻止され
る。
[0024] Stated operation of this circuit, when the "H" level signal is applied to the scanning lines y n, N-type TFT
Transistor Q 13 is conductive. Thereby, the potential holding capacitor C is set according to the signal level of the data line xn.
11 is charged and held until the next scan. Further, "H" level of the data line x n is the conduction transistors Q 11, and non-conducting transistor Q 12. The pixel electrode A of the EL light emitting element is clamped at a low level, and light emission is blocked.

【0025】一方、走査線ynが「H」レベルであっ
て、データ線xnが「L」レベル(あるいは負レベル)
であると、トランジスタQ11を非導通とし、トランジス
タQ12を導通とする。それにより、レベルクランプは解
除され、EL発光素子の画素電極Aには高電位バスライ
ンBHから高レベルVHが印加され、駆動電流が流れて発
光する。
On the other hand, the scanning lines y n is "H" level, the data line x n is "L" level (or a negative level)
If it is, the non-conductive transistor Q 11, and conducts the transistor Q 12. As a result, the level clamp is released, the high level V H is applied from the high potential bus line B H to the pixel electrode A of the EL light emitting element, and the drive current flows to emit light.

【0026】図5は、図4で説明した低電位バスライン
Lを不要としたスイッチ回路例を示している。他の構
成は、図4と同じであるので説明は省略する。この例で
は、順次走査型で画面表示を更新する場合、走査線yn
がアクセスされているとき、その前の行の走査線yn-1
は非アクセス(「L」レベル)であることを利用してい
る。トランジスタQ11のドレイン・ソース領域の一方を
走査線yn-1に接続し、他方を発光素子の陽極Aに接続
している。
FIG. 5 shows an example of a switch circuit which does not require the low potential bus line BL described in FIG. The other configuration is the same as that of FIG. In this example, when the screen display is updated by the progressive scanning type, the scanning line y n
Is accessed, scan line y n-1 of the previous row
Is non-access (“L” level). Connect one of the drain-source region of the transistor Q 11 to the scan line y n-1, connecting the other to the anode A of the light emitting element.

【0027】図6は、図5のスイッチ回路の集積回路パ
ターンを示している。同一構成には同一符号を付し、説
明は省略する。図3に示す配線パターンに比べて、バス
ラインの数が減り、EL発光素子の陽極(画素電極)A
の面積を大きくすることが出来る。また、画素密度を高
くすることが可能である。
FIG. 6 shows an integrated circuit pattern of the switch circuit of FIG. The same components are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted. Compared with the wiring pattern shown in FIG. 3, the number of bus lines is reduced, and the anode (pixel electrode) A of the EL light emitting element is reduced.
Area can be increased. Further, it is possible to increase the pixel density.

【0028】上述した実施例によれば、電流リークによ
る発光を抑制することが可能となるので画素同士をより
近接して配置することが可能となり、画素の高密度化が
可能となる。また、隣接する画素の走査線をクランプ電
位として活用することによって配線が減少し、画素電極
の面積を大とすることが可能となり、開口効率が向上す
る。
According to the above-described embodiment, light emission due to current leakage can be suppressed, so that pixels can be arranged closer to each other, and the density of pixels can be increased. Further, by using the scanning lines of the adjacent pixels as the clamp potential, the number of wirings is reduced, the area of the pixel electrode can be increased, and the aperture efficiency is improved.

【0029】なお、本発明は、有機EL表示装置のみな
らず、一般の有機半導体膜を使用する発光装置に対し
て、隣接画素電極からの電流リークを防止する場合にに
も適用可能である。
The present invention can be applied not only to an organic EL display device but also to a light emitting device using a general organic semiconductor film in the case where current leakage from an adjacent pixel electrode is prevented.

【0030】[0030]

【発明の効果】以上説明しように、本発明の表示装置に
よれば、非表示画素の画素電極の電位を所定の電位にレ
ベルクランプするようにしたので、隣接する画素電極か
らの電流リークによる発光が抑制される。
As described above, according to the display device of the present invention, the potential of the pixel electrode of the non-display pixel is clamped to a predetermined potential, so that the light emission due to the current leak from the adjacent pixel electrode. Is suppressed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1は、本発明の表示装置を説明する説明図で
ある。
FIG. 1 is an explanatory diagram illustrating a display device of the present invention.

【図2】図2は、スイッチ回路の構成例を説明する回路
図である。
FIG. 2 is a circuit diagram illustrating a configuration example of a switch circuit.

【図3】図3は、図2に示したスイッチ回路の集積回路
パターンを示す説明図である。
FIG. 3 is an explanatory diagram illustrating an integrated circuit pattern of the switch circuit illustrated in FIG. 2;

【図4】図4は、相補型TFTを使用した他のスイッチ
回路の構成例を示す回路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram showing a configuration example of another switch circuit using complementary TFTs.

【図5】図5は、図4のスイッチ回路の一部を変更した
スイッチ回路例を示す回路図である。
FIG. 5 is a circuit diagram illustrating a switch circuit example in which a part of the switch circuit in FIG. 4 is modified;

【図6】図6は、図5に示したスイッチ回路の集積回路
パターンを示す説明図である。
FIG. 6 is an explanatory diagram showing an integrated circuit pattern of the switch circuit shown in FIG. 5;

【図7】図7は、EL発光表示装置の不具合を説明する
説明図である。
FIG. 7 is an explanatory diagram for explaining a defect of the EL light emitting display device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ガラス基板 2 集積回路形成層 3 表示画素形成層 31 正孔輸送層 32 発光層 33 陰極 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Glass substrate 2 Integrated circuit formation layer 3 Display pixel formation layer 31 Hole transport layer 32 Light emitting layer 33 Cathode

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】少なくとも画素電極と発光膜と陰極とを積
層してなる単位表示画素を二次元に複数配置している表
示画素形成層と、 前記複数の単位表示画素のうち選択されたものの画素電
極に発光レベルの電源を供給する画素選択回路と、 前記複数の単位表示画素のうち選択されないものの画素
電極に非発光レベルの電源を供給する発光抑止回路と、 を備える二次元表示装置。
A display pixel forming layer in which a plurality of unit display pixels each having at least a pixel electrode, a light-emitting film, and a cathode are stacked two-dimensionally; and a pixel of a selected one of the plurality of unit display pixels. A two-dimensional display device, comprising: a pixel selection circuit that supplies power of a light emission level to an electrode; and a light emission suppression circuit that supplies power of a non-light emission level to a pixel electrode of an unselected one of the plurality of unit display pixels.
【請求項2】少なくとも画素電極とEL発光膜と陰極と
を積層してなる単位表示画素を二次元に複数配置してい
る表示画素形成層と、 前記複数の単位表示画素のうち選択されたものの画素電
極に発光レベルの電源を供給する画素選択回路と、前記
複数の単位表示画素のうち選択されないものの画素電極
に非発光レベルの電源を供給する発光抑止回路と、を形
成した集積回路層と、 を備えるEL表示装置。
2. A display pixel forming layer in which a plurality of unit display pixels each having at least a pixel electrode, an EL light emitting film, and a cathode are stacked two-dimensionally, and a display pixel forming layer selected from the plurality of unit display pixels. An integrated circuit layer formed with a pixel selection circuit that supplies power of a light emission level to a pixel electrode, and a light emission suppression circuit that supplies power of a non-light emission level to a pixel electrode of an unselected one of the plurality of unit display pixels; EL display device comprising:
【請求項3】前記表示画素形成層は、前記EL発光膜と
前記画素電極相互間に更に低抵抗の正孔輸送層を有する
請求項1又は2記載のEL表示装置。
3. The EL display device according to claim 1, wherein the display pixel forming layer further has a low-resistance hole transport layer between the EL light emitting film and the pixel electrode.
【請求項4】前記集積回路層は、TFTによって構成さ
れたスイッチング素子を含む請求項2又は3に記載のE
L表示装置。
4. The E-cell according to claim 2, wherein said integrated circuit layer includes a switching element constituted by a TFT.
L display device.
【請求項5】前記画素選択回路及び前記発光抑止回路
を、N型及びP型からなる相補型のTFT回路で形成し
た請求項2に記載のEL表示装置。
5. The EL display device according to claim 2, wherein the pixel selection circuit and the light emission suppression circuit are formed by N-type and P-type complementary TFT circuits.
【請求項6】前記集積回路層は、前記画素電極に発光レ
ベルの電源を供給する第1の電位印加用バス配線と、前
記画素電極に非発光レベルの電源を供給する第2の電位
印加用バス配線と、を備える請求項2乃至5のいずれか
に記載のEL表示装置。
6. The integrated circuit layer includes a first potential applying bus line for supplying a light emitting level power supply to the pixel electrode, and a second potential applying power supply for supplying a non-light emitting level power supply to the pixel electrode. The EL display device according to claim 2, further comprising: a bus wiring.
【請求項7】前記単位表示画素の各々は、互いに平行に
一方向に延在する複数の走査線と、各走査線の延在方向
と直交する複数のデータ線と、前記複数の走査線と前記
複数のデータ線とによって画定される複数の領域内に、
マトリクス状に配置されて各行毎に表示情報が更新さ
れ、 前記第2の電位印加用バス配線として、前行の単位表示
画素列が接続されるデータ線が使用される、請求項6記
載のEL表示装置。
7. Each of the unit display pixels includes a plurality of scanning lines extending in one direction in parallel with each other, a plurality of data lines orthogonal to an extending direction of each scanning line, and a plurality of scanning lines. In a plurality of regions defined by the plurality of data lines,
7. The EL according to claim 6, wherein display information is updated for each row by being arranged in a matrix, and a data line to which a unit display pixel column of a previous row is connected is used as the second potential application bus line. 8. Display device.
【請求項8】前記画素選択回路及び前記発光抑止回路を
相補的な出力を発生するスイッチ回路によって構成する
請求項1又は2記載の表示装置。
8. The display device according to claim 1, wherein said pixel selection circuit and said light emission suppression circuit are constituted by switch circuits for generating complementary outputs.
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