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JP2001141906A - Microlens substrate and method of manufacturing the same - Google Patents

Microlens substrate and method of manufacturing the same

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JP2001141906A
JP2001141906A JP31951199A JP31951199A JP2001141906A JP 2001141906 A JP2001141906 A JP 2001141906A JP 31951199 A JP31951199 A JP 31951199A JP 31951199 A JP31951199 A JP 31951199A JP 2001141906 A JP2001141906 A JP 2001141906A
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JP
Japan
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microlens
photocatalyst
substrate
containing layer
energy
Prior art date
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JP31951199A
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Japanese (ja)
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Manabu Yamamoto
学 山本
Masahito Okabe
将人 岡部
Hironori Kobayashi
弘典 小林
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Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 製造工程が簡便であるため、コスト的に有利
であり、かつ精度良く製造されるため品質の良好なマイ
クロレンズ基板と、このようなマイクロレンズ基板の製
造方法を提供することを目的とする。 【解決手段】 基板と、この基板の表面上に設けられ、
濡れ性を変化させることができる濡れ性可変層と、この
濡れ性可変層上に設けられた複数のマイクロレンズとを
有することを特徴とするマイクロレンズ基板を提供する
ことにより上記目的を達成する。
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a microlens substrate which is advantageous in terms of cost due to a simple manufacturing process and which has good quality because it is manufactured with high accuracy, and a method for manufacturing such a microlens substrate. The purpose is to provide. A substrate is provided on a surface of the substrate,
The above object is achieved by providing a microlens substrate having a variable wettability layer capable of changing wettability and a plurality of microlenses provided on the variable wettability layer.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、基板上に複数のマ
イクロレンズが配置されたマイクロレンズ基板に関し、
特に簡便な製造方法で製造されるためコスト的に有利
で、かつ品質の良好なマイクロレンズ基板およびその製
造方法に関するものである。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a microlens substrate having a plurality of microlenses arranged on a substrate,
In particular, the present invention relates to a microlens substrate which is advantageous in cost because it is manufactured by a simple manufacturing method and has good quality, and a manufacturing method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、マイクロレンズを透明基板上に配
置したマイクロレンズ基板に対する需要が高くなってい
る。例えば、カラー液晶ディスプレイ(LCD)は、カ
ラーフィルタを使用して構成画素部を3原色(R,G,
B)とし、液晶の電気的スイッチングにより3原色の各
光の透過を制御してカラー表示を行うものであり、プラ
ズマディスプレイ等に比べて消費電力が小さいという長
所がある。このような液晶ディスプレイでは、表示を明
るく鮮明なものとするために、背後に照明用光源を備え
た、いわゆるバックライト方式が近年普及している。し
かし、照明用光源を使用した場合、消費電力が増大し、
上記の消費電力が小さいという液晶ディスプレイの長所
が損なわれることになる。このため、照明用光源からの
光を効率良くカラーフィルタの画素部に集光することに
より、照明用光源に要する電力を低減することが要求さ
れ、その手段として、マイクロレンズを透明基板上に配
列してなるマイクロレンズ基板を使用した液晶ディスプ
レイが提案されている(特開昭60−165623号
等)。
2. Description of the Related Art In recent years, demand for a microlens substrate in which a microlens is arranged on a transparent substrate has been increasing. For example, a color liquid crystal display (LCD) uses a color filter to form constituent pixel portions into three primary colors (R, G,
B) is to perform color display by controlling the transmission of each of the three primary colors by electrical switching of the liquid crystal, and has the advantage of lower power consumption than a plasma display or the like. In such a liquid crystal display, in order to make the display bright and clear, a so-called backlight system having a light source for illumination behind has been widely used in recent years. However, when using a light source for illumination, power consumption increases,
The advantage of the liquid crystal display that the above power consumption is small is spoiled. For this reason, it is required that the light from the illumination light source be efficiently condensed on the pixel portion of the color filter to reduce the power required for the illumination light source. As a means, micro lenses are arranged on a transparent substrate. A liquid crystal display using a microlens substrate has been proposed (Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-165623 and the like).

【0003】また、CCD等を使用したカラーイメージ
センサーでは、有効開口率を上げるために各受光セルに
対応したマイクロレンズを有するマイクロレンズ基板を
受光面に配設したものが開発されている(特開昭61−
67003号)。
A color image sensor using a CCD or the like has been developed in which a microlens substrate having a microlens corresponding to each light receiving cell is provided on the light receiving surface in order to increase the effective aperture ratio (see, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. H11-157556). Kaisho 61-
67003).

【0004】さらに、近年、光通信等で使用が増大して
いる光ファイバにおいても、光の結合を行う場合にマイ
クロレンズが組み合わされて使用されている(特開昭6
1−153602号)。
[0004] Further, even in an optical fiber, which has been increasingly used in optical communication and the like in recent years, a microlens is used in combination for coupling light (Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 6 (1988)).
1-153602).

【0005】このように、透明基板の一方の面にマイク
ロレンズが配置されたマイクロレンズ基板は種々の用途
で使用されている。このマイクロレンズの製造方法に
は、(1)ガラスに拡散させたイオン濃度の分布を利用
して屈折率勾配型のレンズとする方法(Electronics Le
tters Vol.17,No.13,PP452(1981))、(2)金型によっ
てプラスチックあるいはガラスの表面をレンズ状の凹凸
に成型する方法、(3)熱可塑性樹脂を用いてレンズの
平面形状にパターン化し、その後、熱可塑性樹脂の軟化
点以上に加熱して流動させることによりパターンエッジ
にダレを生じさせて凸レンズを形成する方法(特開昭6
0−38989号等)、(4)感光性樹脂にプロキシミ
ティ露光を施してパターンエッジにボケを生じさせ、こ
のボケに応じて光反応生成物の量に分布をもたせて凸レ
ンズ形状を得る方法(特開昭61−153602号)、
(5)感光性樹脂に強度分布をもたせた光を照射して露
光し、光強度に応じた屈折率分布パターンを形成して微
小レンズとする方法(特開昭60−72927号等)、
(6)感光性ガラスに対する光照射によって生じる結晶
化に伴った収縮を利用して凸レンズを形成する方法(Ap
plied Optics Vol.24,No.16,PP2520(1985))、(7)感
光性樹脂をアライナーを用いて所望のパターン状に露光
すると、非露光部から露光部に未反応のモノマーが移動
して露光部が盛り上がるという現象を利用した凸レンズ
形成方法(応用物理学会光学懇話会微小光学研究グルー
プ機関誌 Vol.5,No.2,PP118(1987),同 Vol.6,No.2,PP87
(1988))等の種々の方法が提案されている。
As described above, a microlens substrate having a microlens disposed on one surface of a transparent substrate is used for various purposes. This microlens manufacturing method includes (1) a method of forming a gradient index lens using the distribution of ion concentration diffused in glass (Electronics Le
tters Vol.17, No.13, PP452 (1981)), (2) a method in which the surface of plastic or glass is molded into lens-like irregularities using a mold, and (3) a planar shape of the lens using a thermoplastic resin. A method of forming a convex lens by patterning, and then heating and flowing above the softening point of the thermoplastic resin to cause sagging at the pattern edge (Japanese Patent Laid-Open No.
(4) Proximity exposure of a photosensitive resin to cause blur at a pattern edge, and a distribution of the amount of a photoreaction product according to the blur to obtain a convex lens shape ( JP-A-61-153602),
(5) a method of irradiating a photosensitive resin with light having an intensity distribution and exposing the same to form a refractive index distribution pattern corresponding to the light intensity to form a microlens (JP-A-60-72927, etc.);
(6) A method of forming a convex lens using shrinkage accompanying crystallization caused by light irradiation on photosensitive glass (Ap
plied Optics Vol.24, No.16, PP2520 (1985)), (7) When the photosensitive resin is exposed to a desired pattern using an aligner, unreacted monomers move from the non-exposed area to the exposed area. Convex lens formation method using the phenomenon that the exposed part rises (Applied Physics Society of Japan, Optical Society, Micro-optics Research Group, Journal Vol.5, No.2, PP118 (1987), Vol.6, No.2, PP87
(1988)).

【0006】しかしながら、上述したいずれの製造方法
においても、所望の特性を備えたマイクロレンズをより
簡便に製造することができず、このためコスト面で問題
があり、また品質の面でも問題があった。
However, in any of the above-described manufacturing methods, it is not possible to more easily manufacture a microlens having desired characteristics, and thus there is a problem in cost and a problem in quality. Was.

【0007】本発明は、上記事情に鑑みてなされたもの
であり、製造工程が簡便であるため、コスト的に有利で
あり、かつ精度良く製造されるため品質の良好なマイク
ロレンズ基板と、このようなマイクロレンズ基板の製造
方法を提供することを主目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and is advantageous in terms of cost because the manufacturing process is simple, and has a good quality microlens substrate because it is manufactured with high accuracy. It is a main object to provide a method for manufacturing such a microlens substrate.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は請求項1において、基板と、この基板の表
面上に設けられ、濡れ性を変化させることができる濡れ
性可変層と、この濡れ性可変層上に設けられた複数のマ
イクロレンズとを有することを特徴とするマイクロレン
ズ基板を提供する。
In order to achieve the above object, according to the present invention, there is provided a semiconductor device comprising: a substrate; and a wettability variable layer provided on a surface of the substrate and capable of changing wettability. And a plurality of microlenses provided on the variable wettability layer.

【0009】このように、本発明は、濡れ性可変層上に
複数のマイクロレンズを有する構成としたものであるの
で、予めマイクロレンズを設ける部分の濡れ性可変層の
濡れ性を液体との接触角が小さい親液性領域とし、他の
部分の濡れ性可変層を液体との接触角が大きい撥液性領
域とすることができる。したがって、このマイクロレン
ズを設ける親液性領域の部分にマイクロレンズ形成用塗
料を付着させることにより、液体との接触角の小さい親
液性領域にのみマイクロレンズ形成用塗料が付着するた
め、基板上に精度良くマイクロレンズを形成することが
できる。また、マイクロレンズの焦点距離は、マイクロ
レンズ形成用塗料の量と、このマイクロレンズ形成用塗
料が塗布される親液性領域(マイクロレンズ形成部)の
面積との関係で決定されるため、比較的容易に焦点距離
を制御することが可能となる。
As described above, since the present invention has a configuration in which a plurality of microlenses are provided on the variable wettability layer, the wettability of the variable wettability layer at the portion where the microlens is provided in advance is determined by contact with the liquid. The lyophilic region having a small angle can be used, and the wettability variable layer in other portions can be used as a lyophobic region having a large contact angle with a liquid. Therefore, by attaching the microlens-forming paint to the portion of the lyophilic region where the microlens is provided, the microlens-forming paint adheres only to the lyophilic region having a small contact angle with the liquid. A microlens can be formed with high precision. Also, the focal length of the microlens is determined by the relationship between the amount of the microlens forming paint and the area of the lyophilic region (microlens forming portion) to which the microlens forming paint is applied. The focal length can be easily controlled.

【0010】本発明においては、請求項2に記載するよ
うに、上記基板が、透明基板であることが好ましい。マ
イクロレンズの用途としては、液晶ディスプレイ等にお
いて、目視者方向への輝度を高めるために用いられた
り、CCD素子等の撮像素子の光感度を高めるために用
いられる等の光がマイクロレンズ基板を透過するように
構成されている必要があるケースが多い。したがって、
マイクロレンズ基板に用いられる基板は、透明基板であ
ることが好ましいのである。
In the present invention, it is preferable that the substrate is a transparent substrate. Microlenses are used in liquid crystal displays, etc., to increase the luminance in the direction of the viewer or to increase the light sensitivity of imaging devices such as CCD devices. In many cases, it is necessary to be configured to do so. Therefore,
The substrate used for the microlens substrate is preferably a transparent substrate.

【0011】上記請求項1または請求項2に記載の発明
においては、請求項3に記載するように、上記濡れ性可
変層が、少なくとも光触媒とバインダとからなる光触媒
含有層であり、かつエネルギーの照射により液体との接
触角が低下するように濡れ性が変化する層であることが
好ましい。
[0011] In the first or second aspect of the invention, as described in the third aspect, the variable wettability layer is a photocatalyst-containing layer comprising at least a photocatalyst and a binder, and has a low energy consumption. The layer is preferably a layer whose wettability changes so that the contact angle with the liquid is reduced by irradiation.

【0012】このように、エネルギー照射により液体と
の接触角が低下するように濡れ性の変化する光触媒含有
層が形成されれば、エネルギーのパターン照射等を行う
ことにより容易にこの層の濡れ性を変化させ、液体との
接触角の小さい親液性領域を形成とすることができ、マ
イクロレンズが形成される部分のみ容易に親液性領域と
することが可能となる。したがって、より簡便かつより
精度良く親液性領域を形成することができることから、
この親液性領域にマイクロレンズを形成することによ
り、より簡便な工程でより精度の高いマイクロレンズ基
板とすることができる。
As described above, if a photocatalyst-containing layer whose wettability changes so that the contact angle with a liquid is reduced by energy irradiation is formed, the wettability of this layer can be easily determined by performing energy pattern irradiation or the like. Can be changed to form a lyophilic region having a small contact angle with the liquid, and only a portion where a microlens is formed can be easily formed as a lyophilic region. Therefore, since the lyophilic region can be formed more easily and more accurately,
By forming a microlens in this lyophilic region, a more accurate microlens substrate can be obtained in a simpler process.

【0013】上記請求項3に記載するマイクロレンズ基
板においては、請求項4に記載するように、上記光触媒
含有層がフッ素を含み、上記光触媒含有層に対しエネル
ギーを照射した際に、上記光触媒の作用により上記光触
媒含有層表面のフッ素含有量がエネルギー照射前に比較
して低下するように上記光触媒含有層が形成されている
ことが好ましい。
In the microlens substrate according to the third aspect, as described in the fourth aspect, the photocatalyst containing layer contains fluorine, and when the photocatalyst containing layer is irradiated with energy, the photocatalyst containing layer contains fluorine. It is preferable that the photocatalyst-containing layer is formed so that the fluorine content on the surface of the photocatalyst-containing layer is reduced by the action as compared with before the irradiation with energy.

【0014】このように、本発明のマイクロレンズ基板
は、基板上に形成された光触媒含有層上のエネルギー照
射部分のフッ素含有量が低下するように構成されている
ので、エネルギーをパターン照射することにより、フッ
素含有量の低下した部分からなるパターンを形成するこ
とができる。フッ素含有量が低下するとその部分は、他
の部分と比較して親液性の高い領域となるので、マイク
ロレンズが形成される部分のみ容易に親液性領域とする
ことが可能となり、容易にマイクロレンズ基板を製造す
ることができる。
As described above, since the microlens substrate of the present invention is configured so that the fluorine content of the energy-irradiated portion on the photocatalyst-containing layer formed on the substrate is reduced, pattern irradiation with energy is performed. Thereby, it is possible to form a pattern composed of a portion having a reduced fluorine content. When the fluorine content is reduced, the portion becomes a region having higher lyophilicity as compared with other portions, so that only the portion where the microlens is formed can be easily set as the lyophilic region, and A microlens substrate can be manufactured.

【0015】上記請求項3または請求項4に記載のマイ
クロレンズ基板においては、請求項5に記載するよう
に、光触媒が、酸化チタン(TiO2)、酸化亜鉛(Z
nO)、酸化スズ(SnO2)、チタン酸ストロンチウ
ム(SrTiO3)、酸化タングステン(WO3)、酸化
ビスマス(Bi23)、および酸化鉄(Fe23)から
選択される1種または2種以上の物質であることが好ま
しい。中でも請求項6に記載するように光触媒が酸化チ
タン(TiO2)であることが好ましい。これは、酸化
チタンのバンドギャップエネルギーが高いため光触媒と
して有効であり、かつ化学的にも安定で毒性もなく、入
手も容易だからである。
In the microlens substrate according to the third or fourth aspect, as described in the fifth aspect, the photocatalyst comprises titanium oxide (TiO 2 ), zinc oxide (Z
nO), tin oxide (SnO 2), strontium titanate (SrTiO 3), tungsten oxide (WO 3), bismuth oxide (Bi 2 O 3), and one kind selected from iron oxide (Fe 2 O 3) or It is preferable to use two or more substances. In particular, as described in claim 6, the photocatalyst is preferably titanium oxide (TiO 2 ). This is because titanium oxide has a high band gap energy and is effective as a photocatalyst, and is chemically stable, has no toxicity, and is easily available.

【0016】上記請求項3から請求項6までのいずれか
の請求項に記載されたマイクロレンズ基板において、光
触媒含有層を構成する他の成分であるバインダは、請求
項7に記載するように、YnSiX(4-n)(ここで、Yは
アルキル基、フルオロアルキル基、ビニル基、アミノ
基、フェニル基またはエポキシ基を示し、Xはアルコキ
シル基またはハロゲンを示す。nは0〜3までの整数で
ある。)で示される珪素化合物の1種または2種以上の
加水分解縮合物もしくは共加水分解縮合物であるオルガ
ノポリシロキサンであることが好ましい。光触媒の触媒
作用に対抗する結合エネルギーを有し、撥液性を示すフ
ルオロアルキル基等の導入が容易であり、エネルギーが
照射された際の親液性を高くすることができるからであ
る。
In the microlens substrate according to any one of the third to sixth aspects, the binder as another component constituting the photocatalyst-containing layer may be as follows. Y n SiX (4-n) ( where, Y is an alkyl group, fluoroalkyl group, vinyl group, amino group, a phenyl group or an epoxy group, X until .n 0-3 showing an alkoxyl group or a halogen Is preferably an organopolysiloxane which is one or more hydrolytic condensates or co-hydrolytic condensates of the silicon compound represented by the formula (I). This is because it is easy to introduce a fluoroalkyl group or the like that has a binding energy that opposes the catalytic action of the photocatalyst and exhibits liquid repellency, and can increase lyophilicity when irradiated with energy.

【0017】上記請求項7に記載されたマイクロレンズ
基板においては、請求項8に記載されるように、上記オ
ルガノポリシロキサンを構成する上記珪素化合物の内、
フルオロアルキル基を含む珪素化合物が0.01モル%
以上含まれていることが好ましい。
In the microlens substrate according to the seventh aspect, as described in the eighth aspect, among the silicon compounds constituting the organopolysiloxane,
0.01 mol% of a silicon compound containing a fluoroalkyl group
It is preferable that the above is included.

【0018】このように、フルオロアルキル基を含む珪
素化合物が、0.01モル%以上含まれていれば、光触
媒含有層表面に十分にフッ素元素が含有されることにな
り、エネルギーが照射されフッ素元素の含有量が低下し
た光触媒含有層上の親液性領域と、エネルギーが未照射
の光触媒含有層表面における撥液性領域との濡れ性の差
異を大きくすることができることから、親液性領域にマ
イクロレンズを形成するに際して、マイクロレンズ形成
用塗料が撥液性領域にはみ出すことなく正確に付着させ
ることができ、品質の良好なマイクロレンズ基板を製造
することができるからである。
As described above, when the silicon compound containing a fluoroalkyl group is contained in an amount of 0.01 mol% or more, the surface of the photocatalyst-containing layer contains a sufficient amount of elemental fluorine. Since the difference in wettability between the lyophilic region on the photocatalyst-containing layer in which the content of the element has been reduced and the lyophobic region on the surface of the photocatalyst-containing layer where energy has not been irradiated can be increased, the lyophilic region This is because when forming microlenses, the microlens forming coating can be accurately adhered without protruding into the liquid-repellent region, and a high-quality microlens substrate can be manufactured.

【0019】上記請求項3から請求項8までのいずれか
の請求項に記載の発明においては、請求項9に記載する
ように(後述する請求項10または請求項11に記載の
発明においては、請求項12に記載するように)、上記
光触媒含有層上における表面張力40mN/mの液体と
の接触角が、エネルギーが照射されていない部分におい
て10度以上であり、エネルギーが照射された部分にお
いて10度未満であることが好ましい。
In the invention described in any one of claims 3 to 8, as described in claim 9 (in the invention described in claim 10 or 11 described below, The contact angle with the liquid having a surface tension of 40 mN / m on the photocatalyst-containing layer is 10 degrees or more in a portion where no energy is applied, and in a portion where the energy is applied. Preferably it is less than 10 degrees.

【0020】エネルギーが照射されていない部分は、撥
液性が要求される部分であることから、表面張力40m
N/mの液体との接触角が10度未満である場合は、撥
液性が十分でなく、マイクロレンズ形成用塗料が残存す
る可能性が生じるため好ましくない。また、エネルギー
が照射された部分の表面張力40mN/mの液体との接
触角が10度以上である場合は、この部分でのマイクロ
レンズ形成用塗料の広がりが劣る可能性があり、均一な
曲率が形成できない等の問題が生じる可能性があるから
である。
Since the portion not irradiated with energy is a portion requiring liquid repellency, a surface tension of 40 m
If the contact angle with the liquid of N / m is less than 10 degrees, the liquid repellency is not sufficient, and there is a possibility that the coating material for forming microlenses remains, which is not preferable. When the contact angle with the liquid having a surface tension of 40 mN / m is 10 degrees or more, the spread of the microlens-forming paint in this portion may be inferior, and the uniform curvature may be obtained. This is because there is a possibility that a problem such as the inability to form a pattern may occur.

【0021】このような請求項1から請求項9までのい
ずれかの請求項に記載のマイクロレンズ基板を用いた液
晶ディスプレイ(請求項13)や、撮像素子(請求項1
4)は、簡便な工程で得られる品質の高いマイクロレン
ズ基板を用いたものであるので、コスト面で有利であ
り、かつ品質も良好なものとすることができる。
A liquid crystal display (Claim 13) and an image pickup device (Claim 1) using the microlens substrate according to any one of the first to ninth aspects.
The method 4) uses a high-quality microlens substrate obtained in a simple process, so that it is advantageous in terms of cost and can have good quality.

【0022】さらに本発明は、上記目的を達成するため
に請求項10に記載するように、(1)基板上にエネル
ギー照射により照射部分の濡れ性が液体との接触角が低
下する方向に変化する光触媒含有層を設ける工程と、
(2)上記基板上に設けられた光触媒含有層上のマイク
ロレンズを形成する部位であるマイクロレンズ形成部
に、エネルギーをパターン照射してマイクロレンズ用露
光部を形成する工程と、(3)このマイクロレンズ用露
光部にマイクロレンズ形成用塗料を塗布し、マイクロレ
ンズを形成する工程とを含むことを特徴とするマイクロ
レンズ基板の製造方法を提供する。
Further, according to the present invention, in order to achieve the above object, as described in claim 10, (1) the wettability of the irradiated portion is changed in the direction in which the contact angle with the liquid is reduced by irradiating the substrate with energy. Providing a photocatalyst-containing layer,
(2) a step of pattern-irradiating energy to a microlens forming portion, which is a portion for forming a microlens on the photocatalyst-containing layer provided on the substrate, to form a microlens exposure portion; Applying a coating material for forming a microlens to an exposure unit for a microlens to form a microlens.

【0023】このように、本発明のマイクロレンズ基板
の製造方法においては、基板上に光触媒含有層を設け、
この光触媒含有層にエネルギーをパターン照射すること
により、液体との接触角を低下させたマイクロレンズ用
露光部を形成することができる。このマイクロレンズ用
露光部にマイクロレンズ形成用塗料を付着させることに
より容易にマイクロレンズを形成することができる。し
たがって、簡便な製造方法でかつマイクロレンズの位置
精度が正確であるマイクロレンズ基板を製造することが
できる。
As described above, in the method for manufacturing a microlens substrate according to the present invention, the photocatalyst containing layer is provided on the substrate,
By irradiating the photocatalyst-containing layer with a pattern of energy, it is possible to form a microlens exposure portion having a reduced contact angle with a liquid. The microlens can be easily formed by applying the microlens forming paint to the microlens exposure section. Therefore, a microlens substrate in which the positional accuracy of the microlens is accurate can be manufactured by a simple manufacturing method.

【0024】さらに、上記請求項10に記載のマイクロ
レンズの製造方法においては、請求項11に記載するよ
うに、上記マイクロレンズ用露光部にマイクロレンズ形
成用塗料を塗布する工程が、インクジェット方式で塗布
されることが好ましい。インクジェット方式で塗布する
ことにより、効率良くマイクロレンズ形成用塗料を塗布
することが可能となり、またマイクロレンズ形成用塗料
の塗布位置が正確であり、撥液性領域に残存するマイク
ロレンズ用塗料の量を抑えることが可能であるので、よ
り品質の良いマイクロレンズ基板を効率良く製造するこ
とができるからである。
Further, in the method of manufacturing a microlens according to the tenth aspect, the step of applying a coating material for forming a microlens to the microlens exposure portion may be performed by an inkjet method. Preferably, it is applied. By applying the ink-jet method, it is possible to apply the microlens-forming paint efficiently, and the application position of the microlens-forming paint is accurate, and the amount of the microlens paint remaining in the liquid-repellent area. This is because it is possible to efficiently manufacture a microlens substrate having higher quality.

【0025】[0025]

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
するが、まずマイクロレンズ基板について説明した後、
マイクロレンズ基板の製造方法について説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail. First, after describing a microlens substrate,
A method for manufacturing a microlens substrate will be described.

【0026】A.マイクロレンズ基板について まず、本発明のマイクロレンズ基板について詳細に説明
する。本発明のマイクロレンズ基板は、基板と、この基
板の表面上に設けられ、濡れ性を変化させることができ
る濡れ性可変層と、この濡れ性可変層上に設けられた複
数のマイクロレンズとを有することを特徴とするもので
ある。
A. First, the microlens substrate of the present invention will be described in detail. The microlens substrate of the present invention comprises a substrate, a variable wettability layer provided on the surface of the substrate and capable of changing wettability, and a plurality of microlenses provided on the variable wettability layer. It is characterized by having.

【0027】このように、本発明のマイクロレンズ基板
においては、マイクロレンズが濡れ性を変化させること
ができる濡れ性可変層上に設けられている。したがっ
て、予めマイクロレンズを設ける部分の濡れ性を液体と
の接触角が小さい親液性領域とし、他の部分を液体との
接触角が大きい撥液性領域とすることができる。このマ
イクロレンズを設けるマイクロレンズ形成部にマイクロ
レンズ形成用塗料を塗布・付着させることにより、液体
との接触角の小さい親液性領域にのみマイクロレンズ形
成用塗料が付着するため、基板上のマイクロレンズ形成
部全体にマイクロレンズ形成用塗料が均一に行き渡り、
基板に対して所定の角度を有し、所定の曲率を有するマ
イクロレンズを形成することができる。なお、ここで、
マイクロレンズ基板とは、少なくとも基板とその上に配
置された複数個のマイクロレンズからなるものであり、
マイクロレンズが所定の間隔をおいて配列されたマイク
ロレンズアレイとされていてもよい。
As described above, in the microlens substrate of the present invention, the microlens is provided on the variable wettability layer capable of changing the wettability. Therefore, the wettability of the portion where the microlens is provided in advance can be a lyophilic region having a small contact angle with the liquid, and the other portion can be a lyophobic region having a large contact angle with the liquid. By applying and adhering the microlens forming paint to the microlens forming portion where the microlenses are provided, the microlens forming paint adheres only to the lyophilic region having a small contact angle with the liquid. The coating for microlens formation spreads evenly over the entire lens formation section,
A microlens having a predetermined angle with respect to the substrate and having a predetermined curvature can be formed. Here,
The microlens substrate is composed of at least a substrate and a plurality of microlenses arranged thereon,
The microlens may be a microlens array in which the microlenses are arranged at predetermined intervals.

【0028】このような本発明のマイクロレンズ基板の
一例について図面を用いて説明する。
An example of such a microlens substrate of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0029】図1は、本発明のマイクロレンズ基板の一
例を示すものであり、このマイクロレンズ基板1は、基
板2と、この基板2上に設けられた濡れ性可変層3と、
さらにこの濡れ性可変層3上に形成された複数のマイク
ロレンズ4とからなるものである。このマイクロレンズ
4は、濡れ性可変層3を親液性領域としたマイクロレン
ズ形成部5上に形成されており、このマイクロレンズ形
成部5以外の部分は撥液性である濡れ性可変層3であ
る。上記マイクロレンズ4は、この濡れ性の差異を利用
して基板上に形成されたものである。
FIG. 1 shows an example of the microlens substrate of the present invention. The microlens substrate 1 includes a substrate 2, a variable wettability layer 3 provided on the substrate 2,
Further, it comprises a plurality of micro lenses 4 formed on the variable wettability layer 3. The microlens 4 is formed on a microlens forming portion 5 having the wettability variable layer 3 as a lyophilic region, and a portion other than the microlens forming portion 5 is a liquid-repellent wettability variable layer 3. It is. The micro lens 4 is formed on a substrate by utilizing the difference in wettability.

【0030】以下、本発明のマイクロレンズ基板を構成
する各部分についてそれぞれ説明する。
Hereinafter, each part constituting the microlens substrate of the present invention will be described.

【0031】(濡れ性可変層)上記濡れ性可変層3は、
その表面の濡れ性を、外からの刺激、例えば物理的刺
激、化学的刺激等により変化させることができる層であ
れば特に限定されるものではない。例えば、酸またはア
ルカリ等により表面の粗さの状態が変化し、濡れ性が変
化する層等であってもよいし、また紫外線や可視光等に
より濡れ性可変層内の物質が変化して濡れ性が変化する
層等であってもよい。
(Variable Wettability Layer) The variable wettability layer 3 comprises:
The layer is not particularly limited as long as it can change the wettability of the surface by an external stimulus such as a physical stimulus or a chemical stimulus. For example, it may be a layer whose surface roughness changes due to acid or alkali or the like, and the wettability changes, or a substance in the wettability variable layer changes due to ultraviolet light or visible light to get wet. It may be a layer or the like whose properties change.

【0032】また濡れ性の変化に関しては、刺激が加え
られる前が液体との接触角が大きく、刺激が加えられた
後に液体との接触角が小さく変化するような濡れ性可変
層であってもよいし、また逆に刺激が加えられる前が液
体との接触角が小さく、刺激が加えられた後に液体との
接触角が大きく変化するような濡れ性可変層であっても
よい。
Regarding the change in wettability, even if the wettability variable layer has a large contact angle with the liquid before the stimulus is applied and a small contact angle with the liquid after the stimulus is applied. Alternatively, the wettability variable layer may have a small contact angle with the liquid before the stimulus is applied, and a large change in the contact angle with the liquid after the stimulus is applied.

【0033】(光触媒含有層)本発明においては、この
濡れ性可変層が、エネルギーの照射により液体との接触
角が低下するように濡れ性が変化する光触媒含有層であ
ることが好ましい。このように、露光(本発明において
は、光が照射されたことのみならず、エネルギーが照射
されたことをも意味するものとする。)により液体との
接触角が低下するように濡れ性が変化する光触媒含有層
を設けることにより、エネルギーのパターン照射等を行
うことにより容易に濡れ性を変化させ、液体との接触角
の小さい親液性領域のパターンを形成することができ、
例えばマイクロレンズを形成する領域のみ容易に親液性
領域とすることが可能となる。したがって、効率的にマ
イクロレンズ基板が製造でき、コスト的に有利となるか
らである。なお、この場合のエネルギーとしては、通常
紫外光を含む光が用いられる。
(Photocatalyst-Containing Layer) In the present invention, it is preferable that the variable wettability layer is a photocatalyst-containing layer whose wettability changes so that the contact angle with a liquid is reduced by irradiation of energy. As described above, the wettability is reduced so that the contact angle with the liquid is reduced by the exposure (in the present invention, not only the irradiation of light but also the irradiation of energy). By providing the changing photocatalyst containing layer, it is possible to easily change the wettability by performing energy pattern irradiation and the like, and to form a pattern of a small lyophilic region having a small contact angle with a liquid,
For example, only a region where a microlens is formed can be easily made a lyophilic region. Therefore, the microlens substrate can be manufactured efficiently, which is advantageous in cost. In this case, as the energy in this case, light including ultraviolet light is usually used.

【0034】ここで、親液性領域とは、液体との接触角
が小さい領域であり、マイクロレンズ形成用塗料等に対
する濡れ性の良好な領域をいうこととする。また、撥液
性領域とは、液体との接触角が大きい領域であり、マイ
クロレンズ形成用塗料等に対する濡れ性が悪い領域をい
うこととする。
Here, the lyophilic region is a region having a small contact angle with a liquid, and is a region having good wettability with respect to a microlens forming paint or the like. The lyophobic region is a region having a large contact angle with a liquid, and is a region having poor wettability to a microlens forming paint or the like.

【0035】上記光触媒含有層は、露光していない部分
においては、表面張力40mN/mの液体との接触角が
10度以上、好ましくは表面張力30mN/mの液体と
の接触角が10度以上、特に表面張力20mN/mの液
体との接触角が10度以上であることが好ましい。これ
は、露光していない部分は、本発明においては撥液性が
要求される部分であることから、液体との接触角が小さ
い場合は、撥液性が十分でなく、マイクロレンズ形成用
塗料が撥液性領域に残存する可能性が生じたり、またマ
イクロレンズの基板に対する角度を大きくすることが困
難になる等の問題が生じる可能性があるためである。
The photocatalyst-containing layer has a contact angle of not less than 10 degrees with a liquid having a surface tension of 40 mN / m, preferably a contact angle of not less than 10 degrees with a liquid having a surface tension of 30 mN / m in a portion not exposed. In particular, the contact angle with a liquid having a surface tension of 20 mN / m is preferably 10 degrees or more. This is because the non-exposed portion is a portion requiring liquid repellency in the present invention. Therefore, when the contact angle with the liquid is small, the liquid repellency is not sufficient, and the coating material for forming microlenses is not provided. Is likely to remain in the liquid-repellent region, or it may be difficult to increase the angle of the microlens with respect to the substrate.

【0036】また、上記光触媒含有層は、露光すると液
体との接触角が低下して、表面張力40mN/mの液体
との接触角が10度未満、好ましくは表面張力50mN
/mの液体との接触角が10度以下、特に表面張力60
mN/mの液体との接触角が10度以下となるような層
であることが好ましい。露光した部分の液体との接触角
が高いと、この部分でのインクの広がりが劣る可能性が
あり、正確な曲率のマイクロレンズが得られない等の問
題が生じる可能性があるからである。
In the photocatalyst-containing layer, the contact angle with a liquid is reduced when exposed to light, and the contact angle with a liquid having a surface tension of 40 mN / m is less than 10 degrees, preferably a surface tension of 50 mN / m.
/ M of liquid has a contact angle of 10 degrees or less, especially a surface tension of 60
It is preferable that the layer has a contact angle with the liquid of mN / m of 10 degrees or less. If the contact angle of the exposed portion with the liquid is high, the spread of the ink in this portion may be inferior, and a problem such as the inability to obtain a microlens with an accurate curvature may occur.

【0037】なお、ここでいう液体との接触角は、種々
の表面張力を有する液体との接触角を接触角測定器(協
和界面科学(株)製CA−Z型)を用いて測定(マイク
ロシリンジから液滴を滴下して30秒後)し、その結果
から、もしくはその結果をグラフにして得たものであ
る。また、この測定に際して、種々の表面張力を有する
液体としては、純正化学株式会社製のぬれ指数標準液を
用いることができる。
Here, the contact angle with a liquid is measured by using a contact angle measuring device (CA-Z type manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.) to measure the contact angle with a liquid having various surface tensions (micrometer). 30 seconds after dropping the droplet from the syringe), and the result or the result is graphed. In this measurement, wetting index standard liquid manufactured by Junsei Chemical Co., Ltd. can be used as the liquid having various surface tensions.

【0038】本発明の光触媒含有層は、少なくとも光触
媒とバインダとから構成されていることが好ましい。こ
のような層とすることにより、エネルギー照射によって
光触媒の作用で臨界表面張力を高くすることが可能とな
り、液体との接触角を低くすることができる。
The photocatalyst-containing layer of the present invention preferably comprises at least a photocatalyst and a binder. With such a layer, the critical surface tension can be increased by the action of a photocatalyst by energy irradiation, and the contact angle with the liquid can be reduced.

【0039】このような光触媒含有層における、後述す
るような酸化チタンに代表される光触媒の作用機構は、
必ずしも明確なものではないが、光等の照射によって生
成したキャリアが、近傍の化合物との直接反応、あるい
は、酸素、水の存在下で生じた活性酸素種によって、有
機物の化学構造に変化を及ぼすものと考えられている。
The action mechanism of the photocatalyst represented by titanium oxide as described later in such a photocatalyst containing layer is as follows.
Although it is not always clear, carriers generated by irradiation with light, etc., change the chemical structure of organic matter by direct reaction with nearby compounds or active oxygen species generated in the presence of oxygen and water Is believed to be something.

【0040】このような光触媒の作用を用いて、油性汚
れを光照射によって分解し親水化して水により洗浄可能
なものとしたり、ガラス等の表面に親水性膜を形成して
防曇性を付与したり、あるいは、タイル等の表面に光触
媒の含有層を形成して空気中の浮遊菌の数を減少させる
いわゆる抗菌タイル等が提案されている。
By using the action of the photocatalyst, oily dirt is decomposed by light irradiation and made hydrophilic so that it can be washed with water, or a hydrophilic film is formed on the surface of glass or the like to provide anti-fogging properties. So-called antibacterial tiles have been proposed that reduce the number of airborne bacteria in the air by forming a layer containing a photocatalyst on the surface of the tile or the like.

【0041】本発明において濡れ性可変層として光触媒
含有層を用いた場合、光触媒により、バインダの一部で
ある有機基や添加剤の酸化、分解等の作用を用いて、露
光部の濡れ性を変化させて親液性とし、非露光部との濡
れ性に大きな差を生じさせることができる。よって、マ
イクロレンズ形成用塗料との受容性(親液性)および反
撥性(撥液性)を高めることによって、品質の良好でか
つコスト的にも有利なマイクロレンズ基板を得ることが
できる。
In the present invention, when a photocatalyst-containing layer is used as the variable wettability layer, the photocatalyst reduces the wettability of the exposed portion by using the action of oxidation and decomposition of an organic group or an additive which is a part of the binder. It can be changed to make it lyophilic and make a large difference in wettability with non-exposed areas. Therefore, by improving the receptivity (lyophilic property) and repellency (liquid repellency) with the microlens forming paint, a microlens substrate having good quality and advantageous in cost can be obtained.

【0042】また、本発明においてこのような光触媒含
有層を用いた場合、この光触媒含有層が少なくとも光触
媒とフッ素とを含有し、さらにこの光触媒含有層表面の
フッ素含有量が、光触媒含有層に対しエネルギーを照射
した際に、上記光触媒の作用によりエネルギー照射前に
比較して低下するように上記光触媒含有層が形成されて
いてもよい。
When such a photocatalyst-containing layer is used in the present invention, the photocatalyst-containing layer contains at least a photocatalyst and fluorine, and the fluorine content on the surface of the photocatalyst-containing layer is more than that of the photocatalyst-containing layer. The photocatalyst-containing layer may be formed such that when the energy is irradiated, the photocatalyst-containing layer is reduced by the action of the photocatalyst as compared with before the energy irradiation.

【0043】このような特徴を有するマイクロレンズ基
板においては、エネルギーをパターン照射することによ
り、容易にフッ素の含有量の少ない部分からなるパター
ンを形成することができる。ここで、フッ素は極めて低
い表面エネルギーを有するものであり、このためフッ素
を多く含有する物質の表面は、臨界表面張力がより小さ
くなる。したがって、フッ素の含有量の多い部分の表面
の臨界表面張力に比較してフッ素の含有量の少ない部分
の臨界表面張力は大きくなる。これはすなわち、フッ素
含有量の少ない部分はフッ素含有量の多い部分に比較し
て親液性領域となっていることを意味する。よって、周
囲の表面に比較してフッ素含有量の少ない部分からなる
パターンを形成することは、撥液性域内に親液性領域の
パターンを形成することとなる。
In a microlens substrate having such characteristics, a pattern composed of a portion having a small fluorine content can be easily formed by pattern irradiation with energy. Here, fluorine has an extremely low surface energy, so that the surface of a substance containing a large amount of fluorine has a smaller critical surface tension. Therefore, the critical surface tension of the portion having a low fluorine content is larger than the critical surface tension of the portion having a high fluorine content. This means that a portion having a low fluorine content is a lyophilic region as compared with a portion having a high fluorine content. Therefore, forming a pattern composed of a portion having a lower fluorine content than the surrounding surface forms a pattern of the lyophilic region in the lyophobic region.

【0044】したがって、このような光触媒含有層を用
いた場合は、エネルギーをパターン照射することによ
り、撥液性領域内に親液性領域のパターンを容易に形成
することができるので、この親液性領域のみにマイクロ
レンズを形成することが容易に可能となり、品質の良好
なマイクロレンズ基板とすることができる。
Accordingly, when such a photocatalyst-containing layer is used, the pattern of the lyophilic region can be easily formed in the lyophobic region by pattern irradiation with energy. The microlens can be easily formed only in the active region, and a high-quality microlens substrate can be obtained.

【0045】上述したような、フッ素を含む光触媒含有
層中に含まれるフッ素の含有量は、エネルギーが照射さ
れて形成されたフッ素含有量が低い親液性領域における
フッ素含有量が、エネルギー照射されていない部分のフ
ッ素含有量を100とした場合に10以下、好ましくは
5以下、特に好ましくは1以下であることが好ましい。
As described above, the content of fluorine contained in the fluorine-containing photocatalyst containing layer is determined by the fact that the fluorine content in the lyophilic region having a low fluorine content formed by irradiation of energy is determined by the energy irradiation. When the fluorine content of the unexposed portion is 100, it is preferably 10 or less, more preferably 5 or less, and particularly preferably 1 or less.

【0046】このような範囲内とすることにより、エネ
ルギー照射部分と未照射部分との親液性に大きな違いを
生じさせることができる。したがって、このような光触
媒含有層にマイクロレンズを形成することにより、フッ
素含有量が低下した親液性領域のみに正確にマイクロレ
ンズを形成することが可能となり、さらに基板に対して
所定の角度を有し、かつ所定の曲率を有するマイクロレ
ンズを形成することができ、精度良くマイクロレンズ基
板を得ることができるからである。なお、この低下率は
重量を基準としたものである。
By setting it within such a range, a large difference can be made in the lyophilicity between the energy-irradiated portion and the non-irradiated portion. Therefore, by forming a microlens in such a photocatalyst containing layer, it becomes possible to form a microlens only in the lyophilic region where the fluorine content is reduced, and furthermore, a predetermined angle with respect to the substrate is obtained. This is because a microlens having a predetermined curvature can be formed, and a microlens substrate can be obtained with high accuracy. In addition, this reduction rate is based on weight.

【0047】このような光触媒含有層中のフッ素含有量
の測定は、一般的に行われている種々の方法を用いるこ
とが可能であり、例えばX線光電子分光法(X-ray Phot
oelectron Spectroscopy, ESCA(Electron Spectroscop
y for Chemical Analysis)とも称される。)、蛍光X線
分析法、質量分析法等の定量的に表面のフッ素の量を測
定できる方法であれば特に限定されるものではない。
For the measurement of the fluorine content in the photocatalyst-containing layer, various methods generally used can be used, for example, X-ray photoelectron spectroscopy (X-ray Phot spectroscopy).
oelectron Spectroscopy, ESCA (Electron Spectroscop
y for Chemical Analysis). ), Any method capable of quantitatively measuring the amount of fluorine on the surface, such as X-ray fluorescence analysis and mass spectrometry.

【0048】本発明で使用する光触媒としては、光半導
体として知られる例えば酸化チタン(TiO2)、酸化
亜鉛(ZnO)、酸化スズ(SnO2)、チタン酸スト
ロンチウム(SrTiO3)、酸化タングステン(W
3)、酸化ビスマス(Bi23)、および酸化鉄(F
23)を挙げることができ、これらから選択して1種
または2種以上を混合して用いることができる。
The photocatalyst used in the present invention includes, for example, titanium oxide (TiO 2 ), zinc oxide (ZnO), tin oxide (SnO 2 ), strontium titanate (SrTiO 3 ), and tungsten oxide (W) which are known as optical semiconductors.
O 3 ), bismuth oxide (Bi 2 O 3 ), and iron oxide (F
e 2 O 3 ), and one or more of them may be used in combination.

【0049】本発明においては、特に酸化チタンが、バ
ンドギャップエネルギーが高く、化学的に安定で毒性も
なく、入手も容易であることから好適に使用される。酸
化チタンには、アナターゼ型とルチル型があり本発明で
はいずれも使用することができるが、アナターゼ型の酸
化チタンが好ましい。アナターゼ型酸化チタンは励起波
長が380nm以下にある。
In the present invention, titanium oxide is particularly preferably used because it has a high band gap energy, is chemically stable, has no toxicity, and is easily available. Titanium oxide includes anatase type and rutile type, and both can be used in the present invention, but anatase type titanium oxide is preferable. Anatase type titanium oxide has an excitation wavelength of 380 nm or less.

【0050】このようなアナターゼ型酸化チタンとして
は、例えば、塩酸解膠型のアナターゼ型チタニアゾル
(石原産業(株)製STS−02(平均粒径7nm)、
石原産業(株)製ST−K01)、硝酸解膠型のアナタ
ーゼ型チタニアゾル(日産化学(株)製TA−15(平
均粒径12nm))等を挙げることができる。
As such anatase type titanium oxide, for example, anatase type titania sol of peptized hydrochloric acid (STS-02 manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd. (average particle size: 7 nm);
ST-K01 manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd., anatase titania sol of nitric acid peptization type (TA-15 (average particle size: 12 nm) manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) and the like can be mentioned.

【0051】光触媒の粒径は小さいほど光触媒反応が効
果的に起こるので好ましく、平均粒径か50nm以下が
好ましく、20nm以下の光触媒を使用するのが特に好
ましい。また、光触媒の粒径が小さいほど、形成された
光触媒含有層の表面粗さが小さくなるので好ましく、光
触媒の粒径が100nmを越えると光触媒含有層の中心
線平均表面粗さが粗くなり、光触媒含有層の非露光部の
撥液性が低下し、また露光部の親液性の発現が不十分と
なるため好ましくない。
The smaller the particle size of the photocatalyst is, the more effective the photocatalytic reaction takes place. The average particle size is preferably 50 nm or less, more preferably 20 nm or less. In addition, the smaller the particle size of the photocatalyst is, the smaller the surface roughness of the formed photocatalyst-containing layer is. It is preferable that the particle size of the photocatalyst exceeds 100 nm. This is not preferred because the lyophobic properties of the non-exposed areas of the containing layer decrease and the lyophilic properties of the exposed areas become insufficient.

【0052】本発明のマイクロレンズ基板は、上述した
ように光触媒含有層表面にフッ素を含有させ、この光触
媒含有層表面にエネルギーをパターン照射することによ
り光触媒含有層表面のフッ素含有量を低下させ、これに
より撥液性領域中に親液性領域のパターンを形成し、こ
こにマイクロレンズを形成して得られるマイクロレンズ
基板であってもよい。この場合であっても、光触媒とし
て上述したような二酸化チタンを用いることが好ましい
が、このように二酸化チタンを用いた場合の、光触媒含
有層中に含まれるフッ素の含有量としては、X線光電子
分光法で分析して定量化すると、チタン(Ti)元素を
100とした場合に、フッ素(F)元素が500以上、
このましくは800以上、特に好ましくは1200以上
となる比率でフッ素(F)元素が光触媒含有層表面に含
まれていることが好ましい。
As described above, the microlens substrate of the present invention contains fluorine on the surface of the photocatalyst-containing layer, and pattern-irradiates the surface of the photocatalyst-containing layer with energy to reduce the fluorine content on the surface of the photocatalyst-containing layer. Thus, a microlens substrate obtained by forming a pattern of a lyophilic region in a lyophobic region and forming a microlens there may be used. Even in this case, it is preferable to use the titanium dioxide as described above as the photocatalyst. However, when titanium dioxide is used in this way, the content of fluorine contained in the photocatalyst containing layer is determined by X-ray photoelectron. Quantitative analysis by spectroscopy shows that when the titanium (Ti) element is 100, the fluorine (F) element is 500 or more,
Preferably, fluorine (F) element is contained on the surface of the photocatalyst-containing layer at a ratio of preferably 800 or more, particularly preferably 1200 or more.

【0053】フッ素(F)が光触媒含有層にこの程度含
まれることにより、光触媒含有層上における臨界表面張
力を十分低くすることが可能となることから表面におけ
る撥液性を確保でき、これによりエネルギーをパターン
照射してフッ素含有量を減少させたパターン部分におけ
る表面の親液性領域との濡れ性の差異を大きくすること
ができ、最終的に得られるマイクロレンズ基板の品質を
向上させることができるからである。
When fluorine (F) is contained in the photocatalyst-containing layer to this extent, the critical surface tension on the photocatalyst-containing layer can be sufficiently reduced, so that the liquid repellency on the surface can be ensured. Pattern, the fluorine content can be reduced and the difference in wettability with the lyophilic region on the surface in the pattern portion can be increased, and the quality of the finally obtained microlens substrate can be improved. Because.

【0054】さらに、このようなマイクロレンズ基板に
おいては、エネルギーをパターン照射して形成される親
液性領域におけるフッ素含有量が、チタン(Ti)元素
を100とした場合にフッ素(F)元素が50以下、好
ましくは20以下、特に好ましくは10以下となる比率
で含まれていることが好ましい。
Further, in such a microlens substrate, when the fluorine content in the lyophilic region formed by pattern irradiation of energy is such that the titanium (Ti) element is 100 and the fluorine (F) element is It is preferable that they are contained at a ratio of 50 or less, preferably 20 or less, particularly preferably 10 or less.

【0055】光触媒含有層中のフッ素の含有率をこの程
度低減することができれば、マイクロレンズ等を形成す
るためには十分な親液性を得ることができ、上記エネル
ギーが未照射である部分の撥液性との濡れ性の差異によ
り、マイクロレンズ等を精度良く形成することが可能と
なり、品質の良好なマイクロレンズ基板を得ることがで
きる。
If the content of fluorine in the photocatalyst-containing layer can be reduced to this extent, sufficient lyophilicity for forming microlenses and the like can be obtained, and the above-mentioned portion of the energy-unirradiated portion can be obtained. Due to the difference in wettability from the liquid repellency, it is possible to accurately form a microlens or the like, and a microlens substrate with good quality can be obtained.

【0056】本発明において、光触媒含有層に使用する
バインダは、主骨格が上記の光触媒の光励起により分解
されないような高い結合エネルギーを有するものが好ま
しく、例えば、(1)ゾルゲル反応等によりクロロまた
はアルコキシシラン等を加水分解、重縮合して大きな強
度を発揮するオルガノポリシロキサン、(2)撥水牲や
撥油性に優れた反応性シリコーンを架橋したオルガノポ
リシロキサン等を挙げることができる。
In the present invention, the binder used in the photocatalyst-containing layer preferably has a high binding energy such that the main skeleton is not decomposed by the photoexcitation of the photocatalyst. For example, (1) chloro or alkoxy by a sol-gel reaction or the like. Examples thereof include organopolysiloxanes that exhibit great strength by hydrolyzing and polycondensing silanes and the like, and (2) organopolysiloxanes obtained by crosslinking reactive silicones having excellent water repellency and oil repellency.

【0057】上記の(1)の場合、一般式: YnSiX(4-n) (ここで、Yはアルキル基、フルオロアルキル基、ビニ
ル基、アミノ基、フェニル基またはエポキシ基を示し、
Xはアルコキシル基、アセチル基またはハロゲンを示
す。nは0〜3までの整数である。)で示される珪素化
合物の1種または2種以上の加水分解縮合物もしくは共
加水分解縮合物であるオルガノポリシロキサンであるこ
とが好ましい。なお、ここでYで示される基の炭素数は
1〜20の範囲内であることが好ましく、また、Xで示
されるアルコキシ基は、メトキシ基、エトキシ基、プロ
ポキシ基、ブトキシ基であることが好ましい。
In the case of the above (1), the general formula: Y n SiX (4-n) (where Y represents an alkyl group, a fluoroalkyl group, a vinyl group, an amino group, a phenyl group or an epoxy group,
X represents an alkoxyl group, an acetyl group or a halogen. n is an integer from 0 to 3. ) Is preferably an organopolysiloxane that is one or more hydrolytic condensates or cohydrolytic condensates of the silicon compound represented by the formula (1). Here, the carbon number of the group represented by Y is preferably in the range of 1 to 20, and the alkoxy group represented by X is preferably a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, or a butoxy group. preferable.

【0058】具体的には、メチルトリクロルシラン、メ
チルトリブロムシラン、メチルトリメトキシシラン、メ
チルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシ
ラン、メチルトリt−ブトキシシラン;エチルトリクロ
ルシラン、エチルトリブロムシラン、エチルトリメトキ
シシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリイソ
プロポキシシラン、エチルトリt−ブトキシシラン;n
−プロピルトリクロルシラン、n−プロピルトリブロム
シラン、n−プロピルトリメトキシシラン、n−プロピ
ルトリエトキシシラン、n−プロピルトリイソプロポキ
シシラン、n−プロピルトリt−ブトキシシラン;n−
ヘキシルトリクロルシラン、n−へキシルトリブロムシ
ラン、n−ヘキシルトリメトキシシラン、n−ヘキシル
トリエトキシシラン、n−へキシルトリイソプロポキシ
シラン、n−へキシルトリt−ブトキシシラン;n−デ
シルトリクロルシラン、n−デシルトリブロムシラン、
n−デシルトリメトキシシラン、n−デシルトリエトキ
シシラン、n−デシルトリイソプロポキシシラン、n−
デシルトリt−ブトキシシラン;n−オクタデシルトリ
クロルシラン、n−オクタデシルトリブロムシラン、n
−オクタデシルトリメトキシシラン、n−オクタデシル
トリエトキシシラン、n−オクタデシルトリイソプロポ
キシシラン、n−オクタデシルトリt−ブトキシシラ
ン;フェニルトリクロルシラン、フェニルトリブロムシ
ラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエト
キシシラン、フェニルトリイソプロポキシシラン、フェ
ニルトリt−ブトキシシラン;テトラクロルシラン、テ
トラブロムシラン、テトラメトキシシラン、テトラエト
キシシラン、テトラブトキシシラン、ジメトキシジエト
キシシラン;ジメチルジクロルシラン、ジメチルジブロ
ムシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエト
キシシラン;ジフェニルジクロルシラン、ジフェニルジ
ブロムシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニ
ルジエトキシシラン;フェニルメチルジクロルシラン、
フェニルメチルジブロムシラン、フェニルメチルジメト
キシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン;トリク
ロルヒドロシラン、トリブロムヒドロシラン、トリメト
キシヒドロシラン、トリエトキシヒドロシラン、トリイ
ソプロポキシヒドロシラン、トリt−ブトキシヒドロシ
ラン;ビニルトリクロルシラン、ビニルトリブロムシラ
ン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシ
ラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリt
−ブトキシシラン;トリフルオロプロピルトリクロルシ
ラン、トリフルオロプロピルトリブロムシラン、トリフ
ルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロ
ピルトリエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリイ
ソプロポキシシラン、トリフルオロプロピルトリt−ブ
トキシシラン;γ−グリシドキシプロピルメチルジメト
キシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキ
シシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリイソプロポキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリt−ブトキシシラン;γ−
メタアクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ
−メタアクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、
γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−メタアクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−
メタアクリロキシプロピルトリイソプロポキシシラン、
γ−メタアクリロキシプロピルトリt−ブトキシシラ
ン;γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−
アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエ
トキシシラン、γ−アミノプロピルトリイソプロポキシ
シラン、γ−アミノプロピルトリt−ブトキシシラン;
γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−
メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メル
カプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプ
ロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルト
リイソプロポキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリ
t−ブトキシシラン;β−(3,4−エポキシシクロヘ
キシル)エチルトリメトキシシラン、β−(3,4−エ
ポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン;お
よび、それらの部分加水分解物;および、それらの混合
物を使用することができる。
Specifically, methyltrichlorosilane, methyltribromosilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltriisopropoxysilane, methyltri-t-butoxysilane; ethyltrichlorosilane, ethyltribromosilane, ethyltrichlorosilane Methoxysilane, ethyltriethoxysilane, ethyltriisopropoxysilane, ethyltri-t-butoxysilane; n
-Propyltrichlorosilane, n-propyltribromosilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, n-propyltriisopropoxysilane, n-propyltri-t-butoxysilane; n-
Hexyltrichlorosilane, n-hexyltribromosilane, n-hexyltrimethoxysilane, n-hexyltriethoxysilane, n-hexyltriisopropoxysilane, n-hexyltri-t-butoxysilane; n-decyltrichlorosilane, n-decyltribromosilane,
n-decyltrimethoxysilane, n-decyltriethoxysilane, n-decyltriisopropoxysilane, n-
Decyltri-t-butoxysilane; n-octadecyltrichlorosilane, n-octadecyltribromosilane, n
-Octadecyltrimethoxysilane, n-octadecyltriethoxysilane, n-octadecyltriisopropoxysilane, n-octadecyltri-t-butoxysilane; phenyltrichlorosilane, phenyltribromosilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyl Triisopropoxysilane, phenyltri-t-butoxysilane; tetrachlorosilane, tetrabromosilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrabutoxysilane, dimethoxydiethoxysilane; dimethyldichlorosilane, dimethyldibromosilane, dimethyldimethoxysilane , Dimethyldiethoxysilane; diphenyldichlorosilane, diphenyldibromosilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane Phenyl methyldichlorosilane,
Phenylmethyldibromosilane, phenylmethyldimethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane; trichlorohydrosilane, tribromohydrosilane, trimethoxyhydrosilane, triethoxyhydrosilane, triisopropoxyhydrosilane, tri-t-butoxyhydrosilane; vinyltrichlorosilane, vinyltribromo Silane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriisopropoxysilane, vinyltrit
-Butoxysilane; trifluoropropyltrichlorosilane, trifluoropropyltribromosilane, trifluoropropyltrimethoxysilane, trifluoropropyltriethoxysilane, trifluoropropyltriisopropoxysilane, trifluoropropyltri-t-butoxysilane; γ- Glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ
Glycidoxypropyltriisopropoxysilane, γ
-Glycidoxypropyltri-t-butoxysilane; γ-
Methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, γ
-Methacryloxypropylmethyldiethoxysilane,
γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ
-Methacryloxypropyltriethoxysilane, γ-
Methacryloxypropyltriisopropoxysilane,
γ-methacryloxypropyltri-t-butoxysilane; γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-
Aminopropylmethyldiethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltriisopropoxysilane, γ-aminopropyltri-t-butoxysilane;
γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, γ-
Mercaptopropylmethyldiethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltriisopropoxysilane, γ-mercaptopropyltri-t-butoxysilane; β- (3,4-epoxy Cyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane; and their partial hydrolysates; and mixtures thereof, can be used.

【0059】また、バインダとして、特にフルオロアル
キル基を含有するポリシロキサンが好ましく用いること
ができ、具体的には、下記に示すフルオロアルキルシラ
ンの1種または2種以上の加水分解縮合物、共加水分解
縮合物が挙げられ、一般にフッ素系シランカップリング
剤として知られたものを使用することができる。
As the binder, a polysiloxane containing a fluoroalkyl group is particularly preferably used. Specifically, one or two or more hydroalkylated condensates or co-hydrolysates of the following fluoroalkylsilanes are preferably used. Decomposition condensates can be used, and those generally known as fluorine-based silane coupling agents can be used.

【0060】CF3(CF23CH2CH2Si(OC
33;CF3(CF25CH2CH2Si(OC
33;CF3(CF27CH2CH2Si(OC
33;CF3(CF29CH2CH2Si(OC
33;(CF32CF(CF24CH2CH2Si(O
CH33;(CF32CF(CF26CH2CH2Si
(OCH33;(CF32CF(CF28CH2CH2
i(OCH33;CF3(C64)C24Si(OC
33;CF3(CF23(C64)C24Si(OC
33;CF3(CF25(C64)C24Si(OC
33;CF3(CF27(C64)C24Si(OC
33;CF3(CF23CH2CH2SiCH3(OCH
32;CF3(CF25CH2CH2SiCH3(OC
32;CF3(CF27CH2CH2SiCH3(OCH
32;CF3(CF29CH2CH2SiCH3(OC
32;(CF32CF(CF24CH2CH2SiCH
3(OCH32;(CF32CF(CF26CH2CH2
SiCH3(OCH32;(CF32CF(CF28
2CH2SiCH3(OCH32;CF3(C64)C2
4SiCH3(OCH32;CF3(CF23(C
64)C24SiCH3(OCH32;CF3(CF25
(C64)C24SiCH3(OCH32;CF3(CF
27(C64)C24SiCH3(OCH32;CF
3(CF23CH2CH2Si(OCH2CH33;CF3
(CF25CH2CH2Si(OCH2CH33;CF
3(CF27CH2CH2Si(OCH2CH33;CF3
(CF29CH2CH2Si(OCH2CH33;および
CF3(CF27SO2N(C25)C24CH2Si
(OCH33
CF 3 (CF 2 ) 3 CH 2 CH 2 Si (OC
H 3 ) 3 ; CF 3 (CF 2 ) 5 CH 2 CH 2 Si (OC
H 3 ) 3 ; CF 3 (CF 2 ) 7 CH 2 CH 2 Si (OC
H 3 ) 3 ; CF 3 (CF 2 ) 9 CH 2 CH 2 Si (OC
H 3) 3; (CF 3 ) 2 CF (CF 2) 4 CH 2 CH 2 Si (O
CH 3 ) 3 ; (CF 3 ) 2 CF (CF 2 ) 6 CH 2 CH 2 Si
(OCH 3 ) 3 ; (CF 3 ) 2 CF (CF 2 ) 8 CH 2 CH 2 S
i (OCH 3 ) 3 ; CF 3 (C 6 H 4 ) C 2 H 4 Si (OC
H 3) 3; CF 3 ( CF 2) 3 (C 6 H 4) C 2 H 4 Si (OC
H 3 ) 3 ; CF 3 (CF 2 ) 5 (C 6 H 4 ) C 2 H 4 Si (OC
H 3) 3; CF 3 ( CF 2) 7 (C 6 H 4) C 2 H 4 Si (OC
H 3 ) 3 ; CF 3 (CF 2 ) 3 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OCH
3 ) 2 ; CF 3 (CF 2 ) 5 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OC
H 3 ) 2 ; CF 3 (CF 2 ) 7 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OCH
3 ) 2 ; CF 3 (CF 2 ) 9 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OC
H 3 ) 2 ; (CF 3 ) 2 CF (CF 2 ) 4 CH 2 CH 2 SiCH
3 (OCH 3 ) 2 ; (CF 3 ) 2 CF (CF 2 ) 6 CH 2 CH 2
SiCH 3 (OCH 3 ) 2 ; (CF 3 ) 2 CF (CF 2 ) 8 C
H 2 CH 2 SiCH 3 (OCH 3 ) 2 ; CF 3 (C 6 H 4 ) C 2
H 4 SiCH 3 (OCH 3 ) 2 ; CF 3 (CF 2 ) 3 (C
6 H 4 ) C 2 H 4 SiCH 3 (OCH 3 ) 2 ; CF 3 (CF 2 ) 5
(C 6 H 4 ) C 2 H 4 SiCH 3 (OCH 3 ) 2 ; CF 3 (CF
2) 7 (C 6 H 4 ) C 2 H 4 SiCH 3 (OCH 3) 2; CF
3 (CF 2 ) 3 CH 2 CH 2 Si (OCH 2 CH 3 ) 3 ; CF 3
(CF 2 ) 5 CH 2 CH 2 Si (OCH 2 CH 3 ) 3 ; CF
3 (CF 2 ) 7 CH 2 CH 2 Si (OCH 2 CH 3 ) 3 ; CF 3
(CF 2) 9 CH 2 CH 2 Si (OCH 2 CH 3) 3; and CF 3 (CF 2) 7 SO 2 N (C 2 H 5) C 2 H 4 CH 2 Si
(OCH 3 ) 3

【0061】上記のようなフルオロアルキル基を含有す
るポリシロキサンをバインダとして用いることにより、
光触媒含有層の非露光部の撥液性が大きく向上し、マイ
クロレンズ形成用塗料の付着を妨げる機能、マイクロレ
ンズの基板に対する角度を所定の角度以上とする機能等
を発現することができる。
By using a polysiloxane containing a fluoroalkyl group as described above as a binder,
The liquid repellency of the non-exposed portion of the photocatalyst-containing layer is greatly improved, and a function of preventing adhesion of the microlens-forming paint and a function of setting the angle of the microlens with respect to the substrate to a predetermined angle or more can be exhibited.

【0062】また、上記の(2)の反応性シリコーンと
しては、下記一般式で表される骨格をもつ化合物を挙げ
ることができる。
As the reactive silicone of the above (2), compounds having a skeleton represented by the following general formula can be exemplified.

【0063】[0063]

【化1】 Embedded image

【0064】ただし、nは2以上の整数であり、R1
2はそれぞれ炭素数1〜10の置換もしくは非置換の
アルキル、アルケニル、アリールあるいはシアノアルキ
ル基であり、モル比で全体の40%以下がビニル、フェ
ニル、ハロゲン化フェニルである。また、R1、R2がメ
チル基のものが表面エネルギーが最も小さくなるので好
ましく、モル比でメチル基が60%以上であることが好
ましい。また、鎖末端もしくは側鎖には、分子鎖中に少
なくとも1個以上の水酸基等の反応性基を有する。
Here, n is an integer of 2 or more, and R 1 ,
R 2 is a substituted or unsubstituted alkyl, alkenyl, aryl or cyanoalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and 40% or less of the whole is vinyl, phenyl or halogenated phenyl in a molar ratio. Further, those in which R 1 and R 2 are methyl groups are preferred because the surface energy is minimized, and the molar ratio of the methyl groups is preferably 60% or more. Further, the chain terminal or the side chain has at least one or more reactive group such as a hydroxyl group in the molecular chain.

【0065】また、上記のオルガノポリシロキサンとと
もに、ジメチルポリシロキサンのような架橋反応をしな
い安定なオルガノシリコン化合物をバインダに混合して
もよい。
A stable organosilicon compound which does not undergo a cross-linking reaction such as dimethylpolysiloxane may be mixed with the above-mentioned organopolysiloxane in a binder.

【0066】本発明のマイクロレンズ基板においては、
このようにオルガノポリシロキサン等の種々のバインダ
を光触媒含有層に用いることができる。本発明において
は、上述したように、このようなバインダおよび光触媒
を含む光触媒含有層にフッ素を含有させ、エネルギーを
パターン照射することにより光触媒含有層表面のフッ素
を低減させ、これにより撥液性領域内に親液性領域を形
成するようにしてもよい。この際、光触媒含有層中にフ
ッ素を含有させる必要があるが、このようなバインダを
含む光触媒含有層にフッ素を含有させる方法としては、
通常高い結合エネルギーを有するバインダに対し、フッ
素化合物を比較的弱い結合エネルギーで結合させる方
法、比較的弱い結合エネルギーで結合されたフッ素化合
物を光触媒含有層に混入させる方法等を挙げることがで
きる。このような方法でフッ素を導入することにより、
エネルギーが照射された場合に、まず結合エネルギーが
比較的小さいフッ素結合部位が分解され、これによりフ
ッ素を光触媒含有層中から除去することができるからで
ある。
In the microlens substrate of the present invention,
As described above, various binders such as organopolysiloxane can be used for the photocatalyst-containing layer. In the present invention, as described above, the photocatalyst-containing layer containing such a binder and a photocatalyst contains fluorine, and by pattern irradiation with energy, the fluorine on the surface of the photocatalyst-containing layer is reduced, whereby the lyophobic region is formed. You may make it form a lyophilic area | region inside. At this time, it is necessary to contain fluorine in the photocatalyst containing layer, as a method of containing fluorine in the photocatalyst containing layer containing such a binder,
A method of binding a fluorine compound with a binder having a relatively high binding energy with a relatively weak binding energy, a method of mixing a fluorine compound bound with a relatively weak binding energy into a photocatalyst-containing layer, and the like can be given. By introducing fluorine in such a way,
This is because, when energy is applied, first, a fluorine bonding site having a relatively small binding energy is decomposed, whereby fluorine can be removed from the photocatalyst-containing layer.

【0067】上記第1の方法、すなわち、高い結合エネ
ルギーを有するバインダに対し、フッ素化合物を比較的
弱い結合エネルギーで結合させる方法としては、上記オ
ルガノポリシロキサンにフルオロアルキル基を置換基と
して導入する方法等を挙げることができる。
The first method, that is, a method of binding a fluorine compound with a binder having a high binding energy with a relatively weak binding energy, is a method of introducing a fluoroalkyl group as a substituent into the organopolysiloxane. And the like.

【0068】例えば、オルガノポリシロキサンを得る方
法として、上記(1)として記載したように、ゾルゲル
反応等によりクロロまたはアルコキシシラン等を加水分
解、重縮合して大きな強度を発揮するオルガノポリシロ
キサンを得ることができる。ここで、この方法において
は、上述したように上記一般式:YnSiX(4-n)(ここ
で、Yはアルキル基、フルオロアルキル基、ビニル基、
アミノ基、フェニル基またはエポキシ基を示し、Xはア
ルコキシル基、アセチル基またはハロゲンを示す。nは
0〜3までの整数である。)で示される珪素化合物の1
種または2種以上を、加水分解縮合物もしくは共加水分
解縮合することによりオルガノポリシロキサンを得るの
であるが、この一般式において、置換基Yとしてフルオ
ロアルキル基を有する珪素化合物を用いて合成すること
により、フルオロアルキル基を置換基として有するオル
ガノポリシロキサンを得ることができる。このようなフ
ルオロアルキル基を置換基として有するオルガノポリシ
ロキサンをバインダとして用いた場合は、エネルギーが
照射された際、光触媒含有層中の光触媒の作用により、
フルオロアルキル基の炭素結合の部分が分解されること
から、光触媒含有層表面にエネルギーを照射した部分の
フッ素含有量を低減させることができる。
For example, as a method for obtaining an organopolysiloxane, as described in (1) above, chloro or alkoxysilane is hydrolyzed or polycondensed by a sol-gel reaction or the like to obtain an organopolysiloxane exhibiting a large strength. be able to. Here, in this method, as described above, the general formula: Y n SiX (4-n) (where Y is an alkyl group, a fluoroalkyl group, a vinyl group,
X represents an amino group, a phenyl group or an epoxy group, and X represents an alkoxyl group, an acetyl group or a halogen. n is an integer from 0 to 3. 1) a silicon compound represented by
The organopolysiloxane is obtained by hydrolyzing or condensing a species or two or more species with a hydrolytic condensate. In this general formula, the organopolysiloxane is synthesized using a silicon compound having a fluoroalkyl group as the substituent Y. Thus, an organopolysiloxane having a fluoroalkyl group as a substituent can be obtained. When an organopolysiloxane having such a fluoroalkyl group as a substituent is used as a binder, when energy is irradiated, the action of the photocatalyst in the photocatalyst containing layer causes
Since the carbon bond portion of the fluoroalkyl group is decomposed, the fluorine content of the portion where the surface of the photocatalyst-containing layer is irradiated with energy can be reduced.

【0069】この際用いられるフルオロアルキル基を有
する珪素化合物としては、フルオロアルキル基を有する
ものであれば特に限定されるものではないが、少なくと
も1個のフルオロアルキル基を有し、このフルオロアル
キル基の炭素数が4から30、好ましくは6から20、
特に好ましくは6から16である珪素化合物が好適に用
いられる。このような珪素化合物の具体例は上述した通
りであるが、中でも炭素数が6から8であるフルオロア
ルキル基を有する上記珪素化合物、すなわちフルオロア
ルキルシランが好ましい。
The silicon compound having a fluoroalkyl group used at this time is not particularly limited as long as it has a fluoroalkyl group. However, the silicon compound having at least one fluoroalkyl group may be used. Has a carbon number of 4 to 30, preferably 6 to 20,
Particularly preferably, a silicon compound having 6 to 16 is suitably used. Specific examples of such a silicon compound are as described above, and among them, the silicon compound having a fluoroalkyl group having 6 to 8 carbon atoms, that is, fluoroalkylsilane is preferable.

【0070】本発明においては、このようなフルオロア
ルキル基を有する珪素化合物を上述したフルオロアルキ
ル基を有さない珪素化合物と混合して用い、これらの共
加水分解縮合物を上記オルガノポリシロキサンとして用
いてもよいし、このようなフルオロアルキル基を有する
珪素化合物を1種または2種以上用い、これらの加水分
解縮合物、共加水分解縮合物を上記オルガノポリシロキ
サンとして用いてもよい。
In the present invention, such a silicon compound having a fluoroalkyl group is mixed with the above-mentioned silicon compound having no fluoroalkyl group, and the cohydrolyzed condensate is used as the organopolysiloxane. Alternatively, one or more silicon compounds having such a fluoroalkyl group may be used, and a hydrolyzed condensate or co-hydrolyzed condensate thereof may be used as the organopolysiloxane.

【0071】このようにして得られるフルオロアルキル
基を有するオルガノポリシロキサンにおいては、このオ
ルガノポリシロキサンを構成する珪素化合物の内、上記
フルオロアルキル基を有する珪素化合物が0.01モル
%以上、好ましくは0.1モル%以上含まれていること
が好ましい。
In the organopolysiloxane having a fluoroalkyl group thus obtained, the silicon compound having the fluoroalkyl group is present in an amount of 0.01 mol% or more, preferably, of the silicon compounds constituting the organopolysiloxane. Preferably, it is contained in an amount of 0.1 mol% or more.

【0072】フルオロアルキル基がこの程度含まれるこ
とにより、光触媒含有層上の撥液性を高くすることがで
き、エネルギーを照射して親液性領域とした部分との濡
れ性の差異を大きくすることができるからである。
When the fluoroalkyl group is contained to this extent, the lyophobic property on the photocatalyst-containing layer can be enhanced, and the difference in wettability from the lyophilic region when irradiated with energy is increased. Because you can do it.

【0073】また、上記(2)に示す方法では、撥水牲
や撥油性に優れた反応性シリコーンを架橋することによ
りオルガノポリシロキサンを得るのであるが、この場合
も同様に、上述した一般式中のR1,R2のいずれかもし
くは両方をフルオロアルキル基等のフッ素を含有する置
換基とすることにより、光触媒含有層中にフッ素を含ま
せることが可能であり、またエネルギーが照射された場
合に、シロキサン結合より結合エネルギーの小さいフル
オロアルキル基の部分が分解されるため、エネルギー照
射により光触媒含有層表面におけるフッ素の含有量を低
下させることができる。
In the method shown in the above (2), an organopolysiloxane is obtained by crosslinking a reactive silicone having excellent water repellency and oil repellency. By making one or both of R 1 and R 2 in the compound a fluorine-containing substituent such as a fluoroalkyl group, fluorine can be contained in the photocatalyst-containing layer, and energy irradiation is performed. In this case, the portion of the fluoroalkyl group having a lower binding energy than the siloxane bond is decomposed, so that the content of fluorine on the surface of the photocatalyst-containing layer can be reduced by energy irradiation.

【0074】一方、後者の例、すなわち、バインダの結
合エネルギーより弱いエネルギーで結合したフッ素化合
物を導入させる方法としては、例えば、低分子量のフッ
素化合物を導入させる場合は、例えばフッ素系の界面活
性剤を混入する方法等を挙げることができ、また高分子
量のフッ素化合物を導入させる方法としては、バインダ
樹脂との相溶性の高いフッ素樹脂を混合する等の方法を
挙げることができる。
On the other hand, in the latter case, that is, as a method for introducing a fluorine compound bonded with energy lower than the binding energy of the binder, for example, when introducing a low molecular weight fluorine compound, for example, a fluorine-based surfactant is used. And a method of introducing a fluorine compound having a high molecular weight, such as a method of mixing a fluorine resin having high compatibility with the binder resin.

【0075】本発明において光触媒含有層には上記の光
触媒、バインダの他に、界面活性剤を含有させることが
できる。具体的には、日光ケミカルズ(株)製NIKK
OLBL、BC、BO、BBの各シリーズ等の炭化水素
系、デュポン社製ZONYL FSN、FSO、旭硝子
(株)製サーフロンS−141、145、大日本インキ
化学工業(株)製メガファックF−141、144、ネ
オス(株)製フタージェントF−200、F251、ダ
イキン工業(株)製ユニダインDS−401、402、
スリーエム(株)製フロラードFC−170、176等
のフッ素系あるいはシリコーン系の非イオン界面活性剤
を挙げることかでき、また、カチオン系界面活性剤、ア
ニオン系界面活性剤、両性界面活性剤を用いることもで
きる。
In the present invention, the photocatalyst-containing layer may contain a surfactant in addition to the photocatalyst and the binder. More specifically, NIKK manufactured by Nikko Chemicals Co., Ltd.
Hydrocarbons such as OLBL, BC, BO, and BB series, ZONYL FSN and FSO manufactured by DuPont, Surflon S-141 and 145 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., and Megafax F-141 manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc. 144, Neos Co., Ltd. manufactured by Fategent F-200, F251, Daikin Industries, Ltd. Unidyne DS-401, 402,
Examples include fluorine-based or silicone-based nonionic surfactants such as Florad FC-170 and 176 manufactured by 3M Co., Ltd., and a cationic surfactant, an anionic surfactant, and an amphoteric surfactant are used. You can also.

【0076】また、光触媒含有層には上記の界面活性剤
の他にも、ポリビニルアルコール、不飽和ポリエステ
ル、アクリル樹脂、ポリエチレン、ジアリルフタレー
ト、エチレンプロピレンジエンモノマー、エポキシ樹
脂、フェノール樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、ポ
リカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、ポリイ
ミド、スチレンブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ポ
リプロピレン、ポリブチレン、ポリスチレン、ポリ酢酸
ビニル、ポリエステル、ポリブタジエン、ポリベンズイ
ミダゾール、ポリアクリルニトリル、エピクロルヒドリ
ン、ポリサルファイド、ポリイソプレン等のオリゴマ
ー、ポリマー等を含有させることができる。
Further, in addition to the above-mentioned surfactants, the photocatalyst-containing layer contains polyvinyl alcohol, unsaturated polyester, acrylic resin, polyethylene, diallyl phthalate, ethylene propylene diene monomer, epoxy resin, phenol resin, polyurethane, melamine resin. Oligomers such as polycarbonate, polyvinyl chloride, polyamide, polyimide, styrene butadiene rubber, chloroprene rubber, polypropylene, polybutylene, polystyrene, polyvinyl acetate, polyester, polybutadiene, polybenzimidazole, polyacrylonitrile, epichlorohydrin, polysulfide, polyisoprene, A polymer or the like can be contained.

【0077】光触媒含有層中の光触媒の含有量は、5〜
60重量%、好ましくは20〜40重量%の範囲で設定
することができる。また、光触媒含有層の厚みは、0.
05〜10μmの範囲内が好ましく、特に好ましくは、
0.1〜0.2μmである。
The content of the photocatalyst in the photocatalyst containing layer is 5 to 5.
It can be set in the range of 60% by weight, preferably 20 to 40% by weight. Further, the thickness of the photocatalyst-containing layer is 0.1 mm.
It is preferably in the range of 05 to 10 μm, particularly preferably,
It is 0.1 to 0.2 μm.

【0078】上記光触媒含有層は、光触媒とバインダを
必要に応じて他の添加剤とともに溶剤中に分散して塗布
液を調製し、この塗布液を塗布することにより形成する
ことができる。使用する溶剤としては、エタノール、イ
ソプロパノール等のアルコール系の有機溶剤が好まし
い。塗布はスピンコート、スプレーコート、ディップコ
ート、ロールコート、ビードコート等の公知の塗布方法
により行うことができる。バインダとして紫外線硬化型
の成分を含有している場合、紫外線を照射して硬化処理
を行うことにより光触媒含有層を形成することかでき
る。
The photocatalyst-containing layer can be formed by dispersing a photocatalyst and a binder, if necessary, in a solvent together with other additives to prepare a coating solution, and applying the coating solution. As the solvent to be used, alcohol-based organic solvents such as ethanol and isopropanol are preferable. The coating can be performed by a known coating method such as spin coating, spray coating, dip coating, roll coating, and bead coating. When an ultraviolet-curable component is contained as a binder, the photocatalyst-containing layer can be formed by irradiating ultraviolet rays and performing a curing treatment.

【0079】(マイクロレンズ)本発明においては、図
1に示すように濡れ性可変層3、中でも上述した光触媒
含有層上に複数のマイクロレンズ4が設けられたところ
に特徴を有するものである。本発明では、上記光触媒含
有層において露光され、液体との接触角が低い親液性領
域に、マイクロレンズ形成用塗料により所定のパターン
でマイクロレンズが形成される。
(Microlens) The present invention is characterized in that a plurality of microlenses 4 are provided on the variable wettability layer 3, especially the above-mentioned photocatalyst containing layer, as shown in FIG. In the present invention, a microlens is formed in a predetermined pattern by a microlens-forming paint in the lyophilic region exposed to light in the photocatalyst-containing layer and having a low contact angle with a liquid.

【0080】本発明においては、基板上に形成されたマ
イクロレンズが、規則的にマイクロレンズが配列された
マイクロレンズアレイとされていることが好ましい。マ
イクロレンズの主たる用途である液晶ディスプレイや撮
像素子等においては、マイクロレンズアレイとして用い
られる場合が多いからである。この規則的な配列パター
ンは、それぞれ用いられる素子等の態様により決定され
る。
In the present invention, it is preferable that the microlenses formed on the substrate be a microlens array in which the microlenses are regularly arranged. This is because, in a liquid crystal display, an image sensor, or the like, which is a main use of a micro lens, it is often used as a micro lens array. This regular arrangement pattern is determined according to the mode of the elements used and the like.

【0081】また、各マイクロレンズの底面、すなわち
基板との接触面の形状は特に限定されるものではなく、
円形のみならず、多角形のものであってもよい。この場
合、マイクロレンズ底面の形状を多角形とすることによ
り、円形のものと比較してマイクロレンズが形成されて
いない領域の面積を小さくすることができることから、
開口率の高いマイクロレンズを容易に得ることができ
る。
The shape of the bottom surface of each microlens, that is, the shape of the contact surface with the substrate is not particularly limited.
The shape may be not only a circle but also a polygon. In this case, by making the shape of the bottom surface of the microlens a polygon, the area of the region where the microlens is not formed can be made smaller than that of a circular shape.
A microlens with a high aperture ratio can be easily obtained.

【0082】本発明のマイクロレンズ基板上における、
マイクロレンズが配置されている部位と、配置されてい
ない部位との面積比は、用いられる機能性素子や要求特
性により大きく異なるものではあるが、一般的な的に
は、10000:1〜1:10000の範囲内であると
することができる。また、マイクロレンズ基板の用途に
よって大幅に異なるものではあるが、一般にマイクロレ
ンズの焦点距離は100〜2500μmの範囲内であ
り、またマイクロレンズの形成ピッチは10〜1000
μmの範囲内である。
On the microlens substrate of the present invention,
The area ratio between the part where the microlens is arranged and the part where the microlens is not arranged varies greatly depending on the functional element used and the required characteristics, but is generally 10,000: 1 to 1: 1. It can be in the range of 10,000. The focal length of the microlens is generally in the range of 100 to 2500 μm, and the pitch of the microlens is 10 to 1000 μm, although it varies greatly depending on the use of the microlens substrate.
It is in the range of μm.

【0083】さらに、本発明のマイクロレンズ基板にお
いては、マイクロレンズの焦点距離を種々変化させたマ
イクロレンズ基板とすることができる。すなわち、本発
明のマイクロレンズ基板においては、マイクロレンズ形
成用塗料の基板への付着量を調整することにより、容易
に焦点距離を変化させたマイクロレンズを得ることがで
き、種々焦点距離を有するマイクロレンズを容易に形成
することができるのである。以下、この点ついて、図2
を用いて具体的に説明する。
Further, the microlens substrate of the present invention can be a microlens substrate in which the focal length of the microlens is variously changed. That is, in the microlens substrate of the present invention, by adjusting the amount of coating of the microlens forming paint on the substrate, a microlens having a changed focal length can be easily obtained. The lens can be easily formed. Hereinafter, this point will be described with reference to FIG.
This will be specifically described with reference to FIG.

【0084】図2(a)は、マイクロレンズ形成用塗料
を少量塗布したケースを示すものである。すなわち、基
板2上に形成された濡れ性可変層3において、親液性領
域とされたマイクロレンズ形成部5上に少量のマイクロ
レンズ形成用塗料を塗布し、曲率の小さいマイクロレン
ズ4を形成したものである。本発明のマイクロレンズ基
板においては、マイクロレンズ4が親液性とされたマイ
クロレンズ形成部5上に形成されていることから、図2
(a)に示すような少量のマイクロレンズ形成用塗料を
塗布した場合であっても、塗布されたマイクロレンズ形
成用塗料がマイクロレンズ形成部5全体にひろがる。し
たがって、曲率の小さい焦点距離の長いマイクロレンズ
を塗布量を少量とすることにより容易に形成することが
できる。
FIG. 2A shows a case where a small amount of a microlens forming paint is applied. That is, in the variable wettability layer 3 formed on the substrate 2, a small amount of a microlens forming paint was applied on the microlens forming portion 5, which was a lyophilic region, to form a microlens 4 having a small curvature. Things. In the microlens substrate of the present invention, since the microlenses 4 are formed on the lyophilic microlens forming section 5, FIG.
Even when a small amount of the microlens forming paint as shown in (a) is applied, the applied microlens forming paint spreads over the entire microlens forming section 5. Therefore, a microlens with a small curvature and a long focal length can be easily formed by reducing the amount of application.

【0085】図2(b)は、(a)よりも曲率が大きく
焦点距離の短いマイクロレンズ4を示すものである。本
発明においては、マイクロレンズ4の底面となるマイク
ロレンズ形成部5の面積が定まっていることから、この
マイクロレンズ形成部5内に塗布するマイクロレンズ形
成用塗料の量により、マイクロレンズ4の曲率および焦
点距離を決定することができる。図2(b)は、(a)
より多い量のマイクロレンズ形成用塗料を塗布した例を
示すものであり、このように本発明においては、マイク
ロレンズ形成用塗料の量を調整することにより、種々の
曲率および焦点距離を有するマイクロレンズを容易に得
ることができる。
FIG. 2B shows a microlens 4 having a larger curvature and a shorter focal length than that of FIG. In the present invention, since the area of the microlens forming portion 5 serving as the bottom surface of the microlens 4 is fixed, the curvature of the microlens 4 is determined by the amount of the microlens forming paint applied in the microlens forming portion 5. And the focal length can be determined. FIG.
FIG. 3 shows an example in which a larger amount of a microlens forming paint is applied. Thus, in the present invention, by adjusting the amount of the microlens forming paint, a microlens having various curvatures and focal lengths is adjusted. Can be easily obtained.

【0086】図2(c)は、さらに曲率が大きく焦点距
離の短いマイクロレンズ4を示すものである。この場
合、親液性領域であるマイクロレンズ形成部5と撥液性
領域である濡れ性可変層3との濡れ性の差が大きけれ
ば、マイクロレンズ形成用塗料をある程度多量に塗布し
ても、マイクロレンズ形成部5以外の部分にマイクロレ
ンズ形成用塗料がはみ出ることなくマイクロレンズを形
成することができる。このように、本発明においては、
濡れ性可変層の親液性領域と撥液性領域、すなわち図2
(c)では、親液性領域とされたマイクロレンズ形成部
5とその他の濡れ性可変層3との濡れ性の差を大きくす
るすることにより、曲率の大きい焦点距離の短いマイク
ロレンズを容易に形成することができる。
FIG. 2C shows a microlens 4 having a larger curvature and a shorter focal length. In this case, if the difference in wettability between the microlens forming portion 5 that is the lyophilic region and the wettability variable layer 3 that is the lyophobic region is large, even if the microlens forming paint is applied in a relatively large amount, The microlens can be formed without the microlens-forming paint protruding from portions other than the microlens forming portion 5. Thus, in the present invention,
The lyophilic region and the lyophobic region of the wettability variable layer, that is, FIG.
In (c), a microlens having a large curvature and a short focal length can be easily formed by increasing the difference in wettability between the microlens forming portion 5 which is a lyophilic region and the other wettability variable layer 3. Can be formed.

【0087】また、本発明のマイクロレンズ基板上のマ
イクロレンズは有色のマイクロレンズとすることも可能
である。このようにマイクロレンズを有色とすることに
より、通常カラー液晶ディスプレイ等の用いられるカラ
ーフィルタとしての機能およびマイクロレンズとしての
機能の両機能を有することができる。したがって、得ら
れる機能性素子を小型化、低コスト化させることが可能
となるといった利点を有する。
The microlens on the microlens substrate of the present invention can be a colored microlens. By making the microlenses colored in this way, it is possible to have both functions as a color filter and a function as a microlens that are usually used in a color liquid crystal display or the like. Therefore, there is an advantage that the obtained functional element can be reduced in size and cost.

【0088】このような本発明に用いられるマイクロレ
ンズを構成する材料としては、形成時には液状であり、
濡れ性可変層上に塗布可能かつその後硬化可能なもので
あり、さらに硬化後レンズとしての機能を有し得る電磁
波等のエネルギー線に対して透過性を有する材料であれ
ば特に限定されるものではない。このような樹脂として
は、上記透過性を有する樹脂を溶媒に熔解した溶液を塗
布した後溶剤を除去するようにしたもの、熱可塑性樹
脂、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂等種々の樹脂を挙げる
ことができるが、硬化が容易でかつ迅速であり、さらに
は硬化時にレンズ成形材料および基材が高温とならない
点で光硬化性樹脂が好ましい。
The material constituting the microlens used in the present invention is liquid at the time of formation,
It is a material that can be applied on the wettability variable layer and can be cured thereafter, and is not particularly limited as long as it is a material having transparency to energy rays such as electromagnetic waves that can have a function as a lens after curing. Absent. Examples of such a resin include those obtained by applying a solution obtained by dissolving the above-mentioned permeable resin in a solvent and then removing the solvent, thermoplastic resins, thermosetting resins, and various resins such as photocurable resins. Although it can be mentioned, a photocurable resin is preferable in that curing is easy and quick, and further, the lens molding material and the base material do not reach a high temperature during curing.

【0089】このような光硬化性樹脂は、通常少なくと
も1個以上の官能基を有し、光重合開始剤に硬化エネル
ギー線を照射することにより発生するイオンまたはラジ
カルによりイオン重合、ラジカル重合を行い、分子量を
増加させ必要であれば架橋構造の形成を行うモノマーや
オリゴマーと、光重合開始剤とを少なくとも有する樹脂
組成物を硬化させたものである。ここでいう官能基と
は、ビニル基、カルボキシル基、水酸基などの反応の原
因となる原子団もしくは結合様式をいう。
Such a photocurable resin usually has at least one functional group, and performs ion polymerization and radical polymerization by ions or radicals generated by irradiating a photopolymerization initiator with a curing energy ray. It is obtained by curing a resin composition having at least a monomer or oligomer for increasing the molecular weight and forming a crosslinked structure if necessary and a photopolymerization initiator. The term "functional group" as used herein means an atomic group or a bonding mode that causes a reaction such as a vinyl group, a carboxyl group, and a hydroxyl group.

【0090】このようなモノマー、オリゴマーとして
は、不飽和ポリエステル型、エンチオール型、アクリル
型等が挙げられ、中でも硬化速度、物性選択の幅の広さ
からアクリル型が好ましい。このようなアクリル型のモ
ノマー、オリゴマーの内、単官能基のものとしては、2
−エチルヘキシルアクリレート、2−エチルヘキシルE
O付加物アクリレート、エトキシジエチレングリコール
アクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2
−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシエ
チルアクリレートのカプロラクトン付加物、2−フェノ
キシエチルアクリレート、フェノキシジエチレングリコ
ールアクリレート、ノニルフェノールEO付加物アクリ
レート、ノニルフェノールEO付加物にカプロラクトン
付加したアクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキ
シプロピルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアク
リレート、フルフリルアルコールのカプロラクトン付加
物アクリレート、アクリロイルモルホリン、ジシクロペ
ンテニルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレー
ト、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート、イ
ソボニルアクリレート、4,4−ジメチル−1,3−ジ
オキソランのカプロラクトン付加物のアクリレート、3
−メチル−5,5−ジメチル−1,3−ジオキソランの
カプロラクトン付加物のアクリレート等を挙げることが
できる。
Examples of such monomers and oligomers include unsaturated polyester type, thiol type, and acrylic type. Among them, acrylic type is preferable from the viewpoint of curing speed and a wide range of choice of physical properties. Among such acrylic monomers and oligomers, those having a monofunctional group include 2
-Ethylhexyl acrylate, 2-ethylhexyl E
O adduct acrylate, ethoxydiethylene glycol acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2
-Hydroxypropyl acrylate, caprolactone adduct of 2-hydroxyethyl acrylate, 2-phenoxyethyl acrylate, phenoxydiethylene glycol acrylate, nonylphenol EO adduct, acrylate of caprolactone added to nonylphenol EO adduct, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate , Tetrahydrofurfuryl acrylate, caprolactone adduct of furfuryl alcohol, acryloylmorpholine, dicyclopentenyl acrylate, dicyclopentanyl acrylate, dicyclopentenyloxyethyl acrylate, isobonyl acrylate, 4,4-dimethyl-1,3- Acrylate of caprolactone adduct of dioxolane, 3
And acrylate of caprolactone adduct of -methyl-5,5-dimethyl-1,3-dioxolan.

【0091】また、アクリル型のモノマー、オリゴマー
の内、多官能のものとしては、ヘキサンジオールアクリ
レート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ポリ
エチレングリコールジアクリレート、トリプロピレング
リコールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペ
ンチルグリコールエステルジアクリレート、ヒドロキシ
ピバリン酸ネオペンチルグリコールエステルのカプロラ
クトン付加物ジアクリレート、1,6−ヘキサンジオー
ルのジグリシジルエーテルのアクリル酸付加物、ヒドロ
キシピバルアルデヒドとトリメチロールプロパンのアセ
タール化合物のジアクリレート、2,2−ビス[4−
(アクリロイロキシジエトキシ)フェニル]プロパン、
2,2−ビス[4−(アクリロイロキシジエトキシ)フ
ェニル]メタン、水添ビスフェノールエチレンオキサイ
ド付加物のジアクリレート、トリシクロデカンジメタノ
ールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアク
リレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ト
リメチロールプロパンプロピレンオキサイド付加物トリ
アクリレート、グリセリンプロピレンオキサイド付加物
トリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアク
リレートペンタアクリレート混合物、ジペンタエリスリ
トールのカプロラクトン付加物アクリレート、トリス
(アクリロイロキシエチル)イソシアヌレート、2−ア
クリロイロキシエチルホスフェート等を挙げることがで
きる。
Among the acrylic monomers and oligomers, polyfunctional ones include hexanediol acrylate, neopentyl glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, and neopentyl glycol ester hydroxypivalate. Acrylate, diacrylate of caprolactone adduct of hydroxypivalic acid neopentyl glycol ester, acrylic acid adduct of diglycidyl ether of 1,6-hexanediol, diacrylate of acetal compound of hydroxypivalaldehyde and trimethylolpropane, 2,2 -Bis [4-
(Acryloyloxydiethoxy) phenyl] propane,
2,2-bis [4- (acryloyloxydiethoxy) phenyl] methane, diacrylate of hydrogenated bisphenol ethylene oxide adduct, tricyclodecane dimethanol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, triacrylate Methylolpropane propylene oxide adduct triacrylate, glycerin propylene oxide adduct triacrylate, mixture of dipentaerythritol hexaacrylate pentaacrylate, dipentaerythritol caprolactone adduct acrylate, tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate, 2-acryloyloxy Ethyl phosphate and the like can be mentioned.

【0092】さらに、上記光重合開始剤としては、アセ
トフェノン系、ベンゾフェノン系、ミヒラーケトン系、
ベンジル系、ベンゾイン系、ベンゾインエーテル系、ベ
ンジルジメチルケタール系、ベンゾインベンゾエート
系、α−アシロキシムエステル系等のカルボニル化合
物、テトラメチルチウラムモノサルファイド、チオキサ
ントン類等のイオウ化合物、2,4,6−トリメチルベ
ンゾイルジフェニルフォスフィノキシド等のリン系化合
物を挙げることができる。
Further, examples of the photopolymerization initiator include acetophenone, benzophenone, Michler's ketone, and the like.
Carbonyl compounds such as benzyl, benzoin, benzoin ether, benzyldimethyl ketal, benzoin benzoate, α-acyloxime ester, sulfur compounds such as tetramethylthiuram monosulfide, thioxanthone, and 2,4,6-trimethyl Phosphorus compounds such as benzoyldiphenylphosphinoxide can be mentioned.

【0093】その他必要に応じて脂肪族アミン、芳香族
アミン等の光開始助剤、チオキサンソン等の光鋭感剤等
を添加しても良い。
In addition, if necessary, a photoinitiating auxiliary such as an aliphatic amine or an aromatic amine, or a photosensitizer such as thioxanthone may be added.

【0094】また、熱可塑性樹脂としては、特に可視光
域に透明性が高く、屈折率、分散特性、複屈折率などの
光学的特性に優れたものが好ましい。具体的には、ポリ
カーボネート、ポリメチルメタクリレート、メチルフタ
レート単独重合体または共重合体、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリスチレン、ジエチレングリコール、ビス
アリルカーボネート、アクリロニトリル・スチレン共重
合体、メチルメタクリレート・スチレン共重合体、ポリ
(−4−メチルペンテン−1)等を挙げることができ
る。
As the thermoplastic resin, those having high transparency, particularly in the visible light region, and excellent in optical characteristics such as a refractive index, a dispersion characteristic and a birefringence are preferable. Specifically, polycarbonate, polymethyl methacrylate, methyl phthalate homopolymer or copolymer, polyethylene terephthalate, polystyrene, diethylene glycol, bisallyl carbonate, acrylonitrile / styrene copolymer, methyl methacrylate / styrene copolymer, poly (- 4-methylpentene-1) and the like.

【0095】さらに、上述したように本発明のマイクロ
レンズ基板上のマイクロレンズを有色化することも可能
であるが、この有色化に際して用いられる着色剤として
は、染料、無機顔料、有機顔料等を挙げることができ、
通常有色フィルタに用いられている着色剤であれば特に
限定されるものではない。本発明においては、中でも高
い濃度を与えることができ、レンズ硬化時や、マイクロ
レンズ基板としての使用時に退色の起きにくい材料が好
ましい。
Further, as described above, it is possible to color the microlens on the microlens substrate of the present invention, but the coloring agent used for the coloration may be a dye, an inorganic pigment, an organic pigment, or the like. Can be mentioned,
The colorant is not particularly limited as long as it is a colorant usually used for a color filter. In the present invention, a material that can give a high concentration among them and that does not easily discolor at the time of curing the lens or when used as a microlens substrate is preferable.

【0096】具体的な着色剤としては、染料としては、
アゾ系染料、アントラキノン系染料、インジゴイド系染
料、フタロシアニン系染料、カルボニウム系染料、キノ
ンイミン系染料、メチン系染料、キノリン系染料、ニト
ロ系染料、ベンゾキノン系染料、ナフトキノン系染料、
ナフタルイミド系染料、ペリノン系染料、ピリリウム系
染料、チアピリリウム系染料、アズレニウム系染料、ス
クアリリウム塩系染料等を挙げることができる。また、
顔料としては、ジアントラキノン、ハロゲン化銅フタロ
シアニン、銅フタロシアニン、その他フタロシアニン系
顔料、ペリレン系顔料、ピラントロン系顔料等の多環キ
ノン系顔料、インジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ピ
ロール系顔料、ピロロピロール系顔料、アゾ系顔料等の
有機系顔料を挙げることができる。
As specific coloring agents, dyes include
Azo dyes, anthraquinone dyes, indigoid dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinone imine dyes, methine dyes, quinoline dyes, nitro dyes, benzoquinone dyes, naphthoquinone dyes,
Examples include naphthalimide dyes, perinone dyes, pyrylium dyes, thiapyrylium dyes, azurenium dyes, and squarylium salt dyes. Also,
Pigments include dianthraquinone, halogenated copper phthalocyanine, copper phthalocyanine, other phthalocyanine pigments, perylene pigments, polycyclic quinone pigments such as pyranthrone pigments, indigo pigments, quinacridone pigments, pyrrole pigments, and pyrrolopyrrole pigments Organic pigments such as pigments and azo pigments can be mentioned.

【0097】(基板)本発明のマイクロレンズ基板に用
いられる基板は、マイクロレンズ基板の用途によりその
材質は大きく異なるものである。例えば、液晶ディスプ
レイや撮像素子等に用いられる場合は、基板もマイクレ
ンズ同様に可視光等に対する透明性を求められるので、
透明基板である必要がある。一方、マイクロレンズ基板
を鋳型として用いる場合や、マイクロレンズ基板に対し
て光等を透過させて用いるのではなく反射させて用いる
場合等においては、透明基板である必要はない。
(Substrate) The material of the substrate used for the microlens substrate of the present invention varies greatly depending on the use of the microlens substrate. For example, when used for a liquid crystal display or an image sensor, the substrate is required to be transparent to visible light and the like, like the microphone lens.
It must be a transparent substrate. On the other hand, when the microlens substrate is used as a mold, or when the microlens substrate is used by reflecting light instead of transmitting light or the like, the transparent substrate does not need to be used.

【0098】このように、本発明に用いられる基板は、
その用途に応じて、金属材料、半導体材料、有機材料等
種々のものを用いることが可能である。しかしながら、
現在、最も一般的なマイクロレンズ基板の用途が、液晶
ディスプレイ、撮像素子等のマイクロレンズ基板に対し
て光を透過させて用いるケースが多いことから、本発明
においては、基板が透明基板であることが好ましい。
As described above, the substrate used in the present invention is:
Various materials such as a metal material, a semiconductor material, and an organic material can be used depending on the application. However,
At present, the most common use of a microlens substrate is to use a microlens substrate such as a liquid crystal display and an image pickup device by transmitting light to the microlens substrate in many cases. Is preferred.

【0099】このような透明基板としては、特に限定さ
れるものでなく、可視光を透過できる材料であれば、無
機材料であっても有機材料であってもよい。中でも好ま
しい材料としては、ソーダガラス、石英ガラス、光学ガ
ラス(例えば、HOYA(株)製、BSC7(商品名)
等)、電子工学用ガラス(無アルカリガラス等)、透光
性セラミックス、ポリカーボネート、メチルメタクリレ
ート単重合体または共重合体、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリスチレンなどのプラスチックフィルム、プラ
スチックシート等を挙げることができる。
Such a transparent substrate is not particularly limited, and may be an inorganic material or an organic material as long as it can transmit visible light. Among them, preferred materials include soda glass, quartz glass, and optical glass (for example, BSC7 (trade name) manufactured by HOYA Corporation).
Etc.), glass for electronics (eg, non-alkali glass), translucent ceramics, plastic films such as polycarbonate, methyl methacrylate homopolymer or copolymer, polyethylene terephthalate, and polystyrene, and plastic sheets.

【0100】本発明における上記基板の厚みは特に限定
さえるものではなく、マイクロレンズ基板の用いられる
用途に応じた厚みとすることができる。
The thickness of the substrate in the present invention is not particularly limited, and may be a thickness according to the use of the microlens substrate.

【0101】(遮光部)本発明のマイクロレンズ基板に
は、必要に応じて遮光部を設けてもよい。この遮光部
は、通常レンズ周囲の不要な光線がレンズに入射しない
ように設けられるものである。この遮光部について図3
および図4を用いて説明する。
(Light-shielding part) The microlens substrate of the present invention may be provided with a light-shielding part if necessary. The light-shielding portion is usually provided so that unnecessary light beams around the lens do not enter the lens. FIG.
This will be described with reference to FIG.

【0102】図3は、本発明のマイクロレンズ基板のマ
イクロレンズが設けられた面と反対側の面に遮光部を設
けた例を示すものである。図3に示すマイクロレンズ基
板1は、図1に示すマイクロレンズ基板と同様に基板2
上に濡れ性可変層3を設け、濡れ性可変層3中に親液性
領域としたマイクロレンズ形成部5を形成し、ここにマ
イクロレンズ4を設けたものである。図3に示すマイク
ロレンズ基板1には、さらにこのマイクロレンズ4が形
成された面と反対側の面に遮光部6が形成されている。
図3に示す例において、遮光部6はマイクロレンズ4が
形成された面と同様に濡れ性可変層3が設けられ、その
濡れ性可変層3中に親液性領域とした遮光部形成部7を
形成し、ここに遮光部6を設けたものである。
FIG. 3 shows an example in which a light-shielding portion is provided on the surface of the microlens substrate of the present invention opposite to the surface on which the microlenses are provided. The microlens substrate 1 shown in FIG. 3 is similar to the microlens substrate shown in FIG.
A variable wettability layer 3 is provided thereon, a microlens forming section 5 serving as a lyophilic region is formed in the variable wettability layer 3, and a microlens 4 is provided here. In the microlens substrate 1 shown in FIG. 3, a light shielding portion 6 is further formed on a surface opposite to the surface on which the microlenses 4 are formed.
In the example shown in FIG. 3, the light-shielding portion 6 is provided with the wettability variable layer 3 similarly to the surface on which the microlenses 4 are formed, and the light-shielding portion forming portion 7 in the wettability variable layer 3 is formed as a lyophilic region. Is formed, and a light shielding portion 6 is provided here.

【0103】このような遮光部4は、図4に示すように
マイクロレンズ4で収束された光の透過部分のみ開口部
とするように形成されてもよく、この例ではマイクロレ
ンズ4の中央部に相当する部位を開口部8としている。
The light-shielding portion 4 may be formed so that only the transmitting portion of the light converged by the microlens 4 is opened as shown in FIG. 4. In this example, the central portion of the microlens 4 is used. Is defined as an opening 8.

【0104】本発明のマイクロレンズ基板において、遮
光部を形成する位置は特に限定されるものではないが、
図3および図4に示すように、基板のマイクロレンズが
形成された面と反対側の面に形成されることが好まし
い。
In the microlens substrate of the present invention, the position where the light-shielding portion is formed is not particularly limited.
As shown in FIGS. 3 and 4, it is preferable that the substrate is formed on the surface opposite to the surface on which the microlenses are formed.

【0105】本発明における遮光部は、例えばスパッタ
リング法等によりクロム等の金属薄膜を形成し、これを
パターニングする方法等の従来の方法で設けられてもよ
いが、例えば上記図3に示すように透明基板上に濡れ性
可変層、好ましくは光触媒含有層を設け、その濡れ性の
変化を利用して形成するようにしてもよい。
The light-shielding portion in the present invention may be provided by a conventional method such as a method of forming a metal thin film of chromium or the like by a sputtering method and patterning the same, for example, as shown in FIG. A variable wettability layer, preferably a photocatalyst-containing layer, may be provided on a transparent substrate, and may be formed by utilizing the change in wettability.

【0106】本発明の遮光部を形成する材料としては、
上述したようなクロム等の金属、樹脂バインダ中にカー
ボン微粒子、金属酸化物、無機顔料、有機顔料等の遮光
性粒子を含有させた有機材料等を挙げることができる。
このような樹脂バインダとしては、ポリイミド樹脂、ア
クリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリアクリルアミド、ポリ
ビニルアルコール、ゼラチン、カゼイン、セルロース等
の樹脂を1種または2種以上混合したものや、感光性樹
脂、さらにはO/Wエマルジョン型の樹脂組成物、例え
ば、反応性シリコーンをエマルジョン化したもの等を用
いることができる。
As the material for forming the light shielding portion of the present invention,
Examples of the material include metals such as chromium as described above, and organic materials in which light-shielding particles such as carbon fine particles, metal oxides, inorganic pigments, and organic pigments are contained in a resin binder.
Examples of such a resin binder include polyimide resin, acrylic resin, epoxy resin, polyacrylamide, polyvinyl alcohol, gelatin, casein, cellulose, or a mixture of two or more resins, a photosensitive resin, and a photosensitive resin. / W emulsion-type resin compositions, for example, those obtained by emulsifying a reactive silicone can be used.

【0107】B.マイクロレンズ基板の製造方法につい
次に、本発明のマイクロレンズ基板の製造法について詳
しく説明する。本発明のマイクロレンズ基板の製造方法
は、(1)基板上にエネルギー照射により照射部分の濡
れ性が液体との接触角が低下する方向に変化する光触媒
含有層を設ける工程と、(2)上記基板上に設けられた
光触媒含有層上のマイクロレンズを形成する部位である
マイクロレンズ形成部に、エネルギーをパターン照射し
てマイクロレンズ用露光部を形成する工程と、(3)こ
のマイクロレンズ用露光部にマイクロレンズ形成用塗料
を塗布し、マイクロレンズを形成する工程とを有するも
のである。
B. About the manufacturing method of the micro lens substrate
Te next be described in detail the preparation of the micro lens substrate of the present invention. The method for manufacturing a microlens substrate according to the present invention includes: (1) providing a photocatalyst-containing layer on the substrate, the wettability of an irradiated portion being changed by energy irradiation in a direction in which a contact angle with a liquid is reduced; A step of irradiating a pattern with energy to form a microlens exposure section on a microlens formation section, which is a section for forming a microlens on a photocatalyst containing layer provided on a substrate, and (3) this microlens exposure section Applying a microlens-forming paint to the portion to form a microlens.

【0108】まず、第1の工程である光触媒含有層を設
ける工程について説明する。この光触媒含有層の形成
は、上述したような光触媒とバインダとを必要に応じて
他の添加剤とともに溶剤中に分散して塗布液を調製し、
この塗布液を塗布した後、加水分解、重縮合反応を進行
させてバインダ中に光触媒を強固に固定することにより
形成される。使用する溶剤としては、エタノール、イソ
プロルパノール等のアルコール系の有機溶剤が好まし
く、塗布はスピンコート、スプレーコート、ディップコ
ート、ロールコート、ビードコート等の公知の塗布方法
により行うことかできる。また、結合剤として、紫外線
硬化型の成分を含有している場合には、紫外線を照射し
て硬化処理を行うことにより、基材上に光触媒含有層を
形成することができる。
First, the first step of providing a photocatalyst-containing layer will be described. This photocatalyst containing layer is formed by dispersing a photocatalyst and a binder as described above in a solvent together with other additives as necessary to prepare a coating solution,
After the application of the coating solution, the photocatalyst is firmly fixed in a binder by advancing hydrolysis and polycondensation reactions, thereby forming a coating. The solvent used is preferably an alcoholic organic solvent such as ethanol or isopropyl alcohol, and the coating can be performed by a known coating method such as spin coating, spray coating, dip coating, roll coating, or bead coating. When an ultraviolet-curable component is contained as a binder, a photocatalyst-containing layer can be formed on a substrate by irradiating ultraviolet rays to perform a curing treatment.

【0109】次に第2の工程である、マイクロレンズ用
露光部の形成工程について説明する。第1の工程により
基材上に光触媒含有層が形成され、この光触媒含有層に
エネルギーを照射してマイクロレンズ用露光部を形成す
るのであるが、このマイクロレンズ用露光部の形成部位
の形状、配置等は、上述したマイクロレンズが形成され
る部位・配置等と同様であるのでここでの説明は省略す
る。
Next, a description will be given of a second step, that is, a step of forming a microlens exposure portion. The photocatalyst-containing layer is formed on the base material by the first step, and the photocatalyst-containing layer is irradiated with energy to form an exposure portion for microlenses. The arrangement and the like are the same as the above-described parts and arrangements where the microlenses are formed, and thus description thereof will be omitted.

【0110】本発明において照射されるエネルギーとし
ては、紫外光を含む光を用いることができる。このよう
な紫外光を含む光源としては、例えば、水銀ランプ、メ
タルハライドランプ、キセノンランプ等を挙げることが
できる。この露光に用いる光の波長は400nm以下の
範囲、好ましくは380nm以下の範囲から設定するこ
とができ、また、露光に際しての光の照射量は、露光さ
れた部位が光触媒の作用により親液性を発現するのに必
要な照射量とすることができる。
In the present invention, light including ultraviolet light can be used as the irradiation energy. As a light source including such ultraviolet light, for example, a mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, and the like can be given. The wavelength of light used for this exposure can be set within a range of 400 nm or less, preferably 380 nm or less, and the irradiation amount of light at the time of exposure is such that the exposed portion becomes lyophilic by the action of a photocatalyst. The irradiation dose required for expression can be set.

【0111】エネルギーの照射に際してパターン照射が
必要な場合は、上述したような光源を用い、フォトマス
クを介したパターン照射により行うことができるが、他
の方法として、エキシマ、YAG等のレーザーを用いて
パターン状に描画照射する方法を用いることも可能であ
る。しかしながら、このような方法は、装置が高価、取
り扱いが困難、さらには連続出力ができない等の問題を
有する場合がある。
When pattern irradiation is necessary for energy irradiation, pattern irradiation through a photomask can be performed using the above-described light source. Alternatively, a laser such as excimer or YAG is used. It is also possible to use a method of drawing and irradiating in a pattern shape. However, such a method may have a problem that the apparatus is expensive, difficult to handle, and that continuous output cannot be performed.

【0112】したがって、本発明においては、光触媒含
有層に対し、光触媒反応開始エネルギーを加え、この光
触媒反応開始エネルギーが加えられた領域内に反応速度
増加エネルギーをパターン状に加えることにより親液性
領域のパターンを形成するようにしてもよい。このよう
なエネルギーの照射方法を用いてパターンを形成するこ
とにより、パターン形成に際して、赤外線レーザ等の比
較的安価で取り扱いが容易である反応速度増加エネルギ
ーを用いることができ、これにより上述したような問題
が生じないからである。
Therefore, in the present invention, the photocatalytic reaction initiation energy is applied to the photocatalyst-containing layer, and the reaction rate increasing energy is applied in a pattern to the region to which the photocatalytic reaction initiation energy has been applied, thereby forming a lyophilic region. May be formed. By forming a pattern using such an energy irradiation method, it is possible to use a relatively inexpensive and easy-to-handle reaction speed increasing energy such as an infrared laser when forming a pattern, and thereby, as described above. This is because no problem occurs.

【0113】このようなエネルギーを加えることにより
濡れ性の変化した親液性領域のパターンが形成できるの
は、以下の理由による。すなわち、まずパターンを形成
する領域に対して光触媒反応開始エネルギーを加えるこ
とにより、光触媒含有層に対する光触媒の触媒反応を開
始させる。そして、この光触媒反応開始エネルギーが加
えられた領域内に、反応速度増加エネルギーを加える。
このように反応速度増加エネルギーを加えることによ
り、既に光触媒反応開始エネルギーが加えられ、光触媒
の触媒作用により反応が開始されている光触媒含有層内
の反応が、急激に促進される。そして所定の時間、反応
速度増加エネルギーを加えることにより、特性変化層内
の特性の変化を所望の範囲まで変化させ、反応速度増加
エネルギーが加えられたパターンを濡れ性の変化した親
液性領域のパターンとすることができるのである。
The reason that the pattern of the lyophilic region having changed wettability can be formed by applying such energy is as follows. That is, first, the photocatalytic reaction of the photocatalyst with the photocatalyst containing layer is started by applying the photocatalytic reaction start energy to the region where the pattern is formed. Then, the reaction rate increasing energy is added to the region where the photocatalytic reaction start energy is added.
By adding the reaction rate increasing energy in this manner, the photocatalytic reaction start energy is already added, and the reaction in the photocatalyst-containing layer in which the reaction is started by the catalytic action of the photocatalyst is rapidly promoted. Then, by applying the reaction rate increasing energy for a predetermined period of time, the change of the property in the property changing layer is changed to a desired range, and the pattern to which the reaction rate increasing energy is added is converted into the lyophilic region where the wettability has changed. It can be a pattern.

【0114】ここで、まず上記光触媒反応開始エネルギ
ーについて説明する。このエネルギー照射方法に用いら
れる光触媒反応開始エネルギーとは、光触媒が光触媒含
有層中の化合物に対して、その特性を変化させるための
触媒反応を開始させるエネルギーをいう。
Here, the photocatalytic reaction initiation energy will be described first. The photocatalytic reaction initiation energy used in this energy irradiation method refers to the energy at which the photocatalyst initiates a catalytic reaction for changing the characteristics of the compound in the photocatalyst-containing layer.

【0115】ここで加える光触媒反応開始エネルギーの
量は、光触媒含有層中の濡れ性の変化を急激に生じない
程度の量である。加えられる光触媒反応開始エネルギー
の量が少ない場合は、反応速度増加エネルギーを加えて
パターンを形成する際の感度が低下するため好ましくな
く、またこの量が多すぎると、光触媒反応開始エネルギ
ーを加えた光触媒含有層の特性の変化の度合いが大きく
なりすぎて、反応速度増加エネルギーを加えた領域との
差異が不明確となってしまうため好ましくない。この加
えるエネルギーの量に関しては、予めエネルギーを加え
る量と光触媒含有層中の濡れ性の変化量との予備実験等
を行うことにより決定される。
The amount of the photocatalytic reaction initiation energy added here is such that the wettability in the photocatalyst-containing layer does not suddenly change. If the amount of photocatalytic reaction initiation energy added is small, it is not preferable because the sensitivity in forming a pattern by adding the reaction rate increasing energy is unfavorable. The degree of change in the properties of the containing layer becomes too large, and the difference from the region to which the reaction rate increasing energy is added becomes unclear, which is not preferable. The amount of energy to be added is determined by performing preliminary experiments and the like on the amount of energy to be added and the amount of change in wettability in the photocatalyst-containing layer in advance.

【0116】この方法における光触媒反応開始エネルギ
ーとしては、光触媒反応を開始させることができるエネ
ルギーであれば特に限定されるものではないが、中でも
光であることが好ましい。
The photocatalytic reaction initiation energy in this method is not particularly limited as long as it is an energy capable of initiating the photocatalytic reaction, but light is particularly preferred.

【0117】本発明において用いられる光触媒は、その
バンドギャップによって触媒反応を開始する光の波長が
異なる。例えば、硫化カドニウムであれば496nm、
また酸化鉄であれば539nmの可視光であり、二酸化
チタンであれば388nmの紫外光である。したがっ
て、光であれば可視光であれ紫外光であれ本発明で用い
ることができる。しかしながら、上述したようにバンド
ギャップエネルギーが高いため光触媒として有効であ
り、かつ化学的にも安定で毒性もなく、入手も容易とい
った理由から光触媒としては二酸化チタンが好適に用い
られる関係上、この二酸化チタンの触媒反応を開始させ
る紫外光を含む光であることが好ましい。具体的には、
400nm以下の範囲、好ましくは380nm以下の範
囲の紫外光が含まれることが好ましい。
The photocatalyst used in the present invention has a different wavelength of light for initiating a catalytic reaction depending on its band gap. For example, if cadmium sulfide is 496 nm,
In the case of iron oxide, visible light of 539 nm is used, and in the case of titanium dioxide, ultraviolet light of 388 nm is used. Therefore, any light, whether visible light or ultraviolet light, can be used in the present invention. However, as described above, since the bandgap energy is high, it is effective as a photocatalyst, and titanium dioxide is preferably used as a photocatalyst because it is chemically stable, has no toxicity, and is easily available. It is preferable that the light includes ultraviolet light that initiates a catalytic reaction of titanium. In particular,
It is preferable that ultraviolet light in a range of 400 nm or less, preferably 380 nm or less is included.

【0118】このような紫外光を含む光の光源として
は、水銀ランプ、メタルハライドランプ、キセノンラン
プ、エキシマランプ等の種々の紫外線光源を挙げること
ができる。
Examples of the light source of light containing such ultraviolet light include various ultraviolet light sources such as a mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp and an excimer lamp.

【0119】本発明においては、この光触媒反応開始エ
ネルギーが加えられる範囲は、光触媒含有層の一部分で
あってもよく、例えばこの光触媒反応開始エネルギーを
パターン状に加え、さらに後述する反応速度増加エネル
ギーもパターン状に加えることにより、濡れ性が変化し
た親液性領域のパターンを形成することも可能である
が、工程の簡略化、単純化等の理由から、この光触媒反
応開始エネルギーをパターンを形成する領域全面にわた
って加えることが好ましく、このように全面にわたって
光触媒反応開始エネルギーが加えられた領域に反応速度
増加エネルギーをパターン状に加えることにより、光触
媒含有層上に親液性領域のパターンを形成するようにす
ることが好ましい。
In the present invention, the range to which the photocatalytic reaction initiation energy is applied may be a part of the photocatalyst containing layer. For example, the photocatalytic reaction initiation energy is applied in a pattern, and the reaction rate increasing energy described later is also increased. It is also possible to form a pattern of the lyophilic region having changed wettability by adding it in a pattern form, but for reasons such as simplification and simplification of the process, the photocatalytic reaction initiation energy is used to form the pattern. It is preferable to add the reaction speed increasing energy in a pattern to the region where the photocatalytic reaction initiation energy is applied over the entire surface, so that a pattern of the lyophilic region is formed on the photocatalyst containing layer. Is preferable.

【0120】次に、この方法に用いられる反応速度増加
エネルギーについて説明する。この方法に用いられる反
応速度増加エネルギーとは、上記光触媒反応開始エネル
ギーによって開始された光触媒含有層の濡れ性を変化さ
せる反応の反応速度を増加させるためのエネルギーをい
う。本発明においては、このような作用を有するエネル
ギーであればいかなるエネルギーであっても用いること
ができるが、中でも熱エネルギーを用いることが好まし
い。
Next, the reaction rate increasing energy used in this method will be described. The reaction rate increasing energy used in this method refers to energy for increasing the reaction rate of a reaction that changes the wettability of the photocatalyst-containing layer initiated by the photocatalytic reaction initiation energy. In the present invention, any energy can be used as long as it has such an effect, but it is particularly preferable to use thermal energy.

【0121】このような熱エネルギーをパターン状に光
触媒含有層に加える方法としては、光触媒含有層上に熱
によるパターンが形成できる方法であれば特に限定され
るものではないが、赤外線レーザによる方法や感熱ヘッ
ドによる方法等を挙げることができる。このような赤外
線レーザとしては、例えば指向性が強く、照射距離が長
いという利点を有する赤外線YAGレーザ(1064n
m)や、比較的安価であるという利点を有するダイオー
ドレーザ(LED;830nm、1064nm、110
0nm)等の他、半導体レーザ、He−Neレーザ、炭
酸ガスレーザ等を挙げることができる。
The method of applying such heat energy to the photocatalyst-containing layer in a pattern is not particularly limited as long as it can form a pattern by heat on the photocatalyst-containing layer. A method using a heat-sensitive head can be used. As such an infrared laser, for example, an infrared YAG laser (1064n) having an advantage of having high directivity and a long irradiation distance is used.
m) and a diode laser (LED; 830 nm, 1064 nm, 110) having an advantage of being relatively inexpensive.
0 nm), a semiconductor laser, a He-Ne laser, a carbon dioxide laser, and the like.

【0122】この方法においては、上述した光触媒反応
開始エネルギーを加えることにより、光触媒を活性化さ
せて光触媒含有層内の触媒反応による濡れ性の変化を開
始させ、この濡れ性の変化が生じた部分に反応速度増加
エネルギーを加えてその部分の触媒反応を促進させるこ
とにより、反応速度増加エネルギーが加えられた領域
と、加えられなかった領域との反応速度の差により、親
液性領域のパターンを形成することができる。
In this method, by applying the above-described photocatalytic reaction initiation energy, the photocatalyst is activated to start the change in wettability due to the catalytic reaction in the photocatalyst-containing layer, and the portion where the change in wettability occurs is generated. The reaction rate increase energy is added to the reaction to accelerate the catalytic reaction in that part, and the pattern of the lyophilic area is changed by the difference in the reaction rate between the area where the reaction rate increase energy is added and the area where the reaction rate increase energy is not added. Can be formed.

【0123】最後に、基板上にマイクロレンズを形成す
る第3の工程について説明する。この工程で用いられる
マイクロレンズ形成用塗料とは、上述したマイクロレン
ズの材料が含まれている塗料であり、マイクロレンズ用
露光部(マイクロレンズ形成部)に塗布することが可能
であり、その後硬化することにより、マイクロレンズと
しての機能を有するものであれば特に限定されるもので
はない。マイクロレンズが光硬化性樹脂からなるもので
ある場合、このマイクロレンズ形成用塗料の形態として
は、モノマーと光重合開始剤とが溶解または分散してい
る液体、オリゴマーと光重合開始剤とが溶解または分散
している液体、モノマーおよびオリゴマーと光重合開始
剤とが溶解もしくは分散している液体等を挙げることが
できる。また、マイクロレンズが上述したような有色マ
イクロレンズである場合は、上記マイクロレンズ形成用
塗料に上述した着色剤を混合した材料が用いられる。
Finally, the third step of forming a micro lens on a substrate will be described. The microlens forming paint used in this step is a paint containing the above-described microlens material, and can be applied to the microlens exposure section (microlens forming section) and then cured. By doing so, there is no particular limitation as long as it has a function as a microlens. When the microlens is made of a photocurable resin, the form of the microlens-forming coating may be a liquid in which a monomer and a photopolymerization initiator are dissolved or dispersed, and a solution in which an oligomer and a photopolymerization initiator are dissolved. Alternatively, a liquid in which a monomer or oligomer and a photopolymerization initiator are dissolved or dispersed, or a liquid in which a monomer or oligomer is dissolved or dispersed can be used. When the microlens is a colored microlens as described above, a material obtained by mixing the above-mentioned coloring agent with the above-mentioned microlens forming paint is used.

【0124】このようなマイクロレンズ形成用塗料のマ
イクロレンズ用露光部(マイクロレンズ形成部)への塗
布方法は、特に限定されるものではないが、具体的に
は、ディップコーティング、ロールコーティング、ビー
ドコーティング、スピンコーティング、エアドクターコ
ーティング、ブレードコーティング、ナイフコーティン
グ、ロッドコーティング、グラビアコーティング、ロー
タリースクリーンコーティング、キスコーティング、ス
ロットオリフィスコーティング、スプレーコーティン
グ、キャストコーティング、押出コーティングなどの方
法を用いることができ、これらは短時間に大量のマイク
ロレンズを形成することができる点で好ましい。
The method of applying such a microlens-forming paint to the microlens-exposed portion (microlens-forming portion) is not particularly limited, but specific examples include dip coating, roll coating, and bead coating. Methods such as coating, spin coating, air doctor coating, blade coating, knife coating, rod coating, gravure coating, rotary screen coating, kiss coating, slot orifice coating, spray coating, cast coating, and extrusion coating can be used. Is preferable in that a large amount of microlenses can be formed in a short time.

【0125】また、本発明においては、上記マイクロレ
ンズ形成用塗料をマイクロレンズ用露光部に塗布する際
して、ノズル吐出による方法を用いてもよい。このよう
なノズル吐出方法としては、例えばマイクロシリンジ、
ディスペンサー、インクジェット、針先よりマイクロレ
ンズ形成用塗料を電界などの外部刺激により飛ばす方
法、外部刺激により振動するピエゾ素子などの振動素子
を用いて素子よりマイクロレンズ形成用塗料を飛ばす方
法、針先に付着させたマイクロレンズ形成用塗料を基材
表面に付着させる方法等を用いることができる。これら
は接触角が大きく高さの高いレンズ形状物を形成する場
合に好適である。
Further, in the present invention, when applying the microlens-forming paint to the microlens exposure section, a method using nozzle discharge may be used. As such a nozzle discharge method, for example, a micro syringe,
Dispenser, ink jet, method to fly paint for microlens formation from external tip such as electric field from needle point, method to fly paint for microlens formation from element using vibrating element such as piezo element vibrated by external stimulus, A method of attaching the attached microlens-forming coating material to the surface of the substrate can be used. These are suitable for forming a lens-shaped object having a large contact angle and a high height.

【0126】本発明では、上述した塗布方法の中でも、
塗布の正確性および迅速性等の観点からインクジェット
方式でマイクロレンズ用塗料が塗布されることが好まし
い。この場合用いられるインクジェット装置としては、
特に限定されるものではないが、帯電したインクを連続
的に噴射し磁場によって制御する方法、圧電素子を用い
て間欠的にインクを噴射する方法、インクを加熱しその
発泡を利用して間欠的に噴射する方法等の各種の方法を
用いたインクジェット装置を用いることができる。
In the present invention, among the above-mentioned coating methods,
It is preferable that the paint for microlenses is applied by an inkjet method from the viewpoint of accuracy and speed of application. In this case, the inkjet device used includes:
Although not particularly limited, a method in which charged ink is continuously ejected and controlled by a magnetic field, a method in which ink is ejected intermittently using a piezoelectric element, an intermittent method in which ink is heated and foaming is utilized. An ink jet apparatus using various methods such as a method of ejecting ink to a liquid can be used.

【0127】このインクジェット方式でのマイクロレン
ズ形成用塗料の塗布は、マイクロレンズ形成用塗料に着
色剤が混合された有色マイクロレンズ形成用塗料の場合
にも有効である。
The application of the microlens forming paint by the ink jet method is also effective for a colored microlens forming paint in which a coloring agent is mixed with the microlens forming paint.

【0128】このようにしてマイクロレンズ用露光部内
に塗布されたマイクロレンズ形成用塗料を硬化させるこ
とによりマイクロレンズが基板上に形成され、マイクロ
レンズ基板が形成される。本発明において、マイクロレ
ンズ形成用塗料の硬化は用いる原料の種類により種々の
方法により行われる。例えば、溶剤に溶解した塗料であ
れば加熱等することにより溶剤を除去して固化が行われ
る。
The microlens is formed on the substrate by curing the microlens forming coating applied in the microlens exposure section in this manner, and the microlens substrate is formed. In the present invention, the curing of the coating material for forming microlenses is performed by various methods depending on the type of the raw material used. For example, in the case of a coating dissolved in a solvent, the solvent is removed by heating or the like, and solidification is performed.

【0129】このマイクロレンズ形成用塗料の硬化工程
を考慮すると、本発明に用いられるマイクロレンズの材
料の種類としては、光硬化性樹脂であることが好まし
い。これは、光硬化性樹脂を用いたマイクロレンズ形成
用塗料でであれば光を照射することにより、素早くマイ
クロレンズ形成用塗料を硬化することができるので、マ
イクロレンズ基板の製造時間を短縮することができるか
らである。
Considering the curing process of the coating material for forming microlenses, the type of the material of the microlenses used in the present invention is preferably a photocurable resin. This is because if a microlens forming paint using a photocurable resin is used, the microlens forming paint can be quickly cured by irradiating light, thereby shortening the manufacturing time of the microlens substrate. Because it can be.

【0130】上述したように、マイクロレンズ用露光部
内に塗布されたマイクロレンズ形成用塗料は均一に広が
っているため、このようなマイクロレンズ形成用塗料を
硬化させてマイクロレンズを形成した場合、マイクロレ
ンズの曲率が一定であり、位置精度も良好であるマイク
ロレンズ基板を形成することができる。
As described above, since the microlens-forming paint applied in the microlens-exposed portion spreads evenly, the microlens is formed by curing such a microlens-forming paint. A microlens substrate having a constant lens curvature and good positional accuracy can be formed.

【0131】C.液晶ディスプレイについて 本発明のマイクロレンズ基板は、目視者方向への輝度を
高めるために、例えば液晶ディスプレイ等のディスプレ
イに隣接または密着する部品として用いることができ
る。この場合、室内照明や太陽光などの周囲の外光の影
響を抑え、表示画質を向上させるために遮光部を設けて
もよい。また、光の透過性を高めるため、もしくは光の
干渉による発色を防止する等の目的から、濡れ性可変
層、好ましくは光触媒含有層の肉厚を薄くすることが好
ましい。具体的には、1μm以下、より好ましくは0.
2μ以下である。
C. C. Regarding Liquid Crystal Display The microlens substrate of the present invention can be used as a component adjacent to or in close contact with a display such as a liquid crystal display in order to increase the luminance in the direction of the viewer. In this case, a light-shielding portion may be provided in order to suppress the influence of ambient external light such as indoor lighting or sunlight and to improve display image quality. It is preferable to reduce the thickness of the wettability variable layer, preferably the photocatalyst-containing layer, for the purpose of enhancing light transmittance or preventing color formation due to light interference. Specifically, it is 1 μm or less, more preferably 0.1 μm.
2 μm or less.

【0132】図5は、本発明のマイクロレンズ基板を用
いた液晶ディスプレイの一例を示すものである。この液
晶ディスプレイは、アレイ側基板9と液晶部10とカラ
ーフィルタ11とからなる液晶ディスプレイ部12のカ
ラーフィルタ11側面に、マイクロレンズ基板1が配置
されてなるものである。このマイクロレンズ基板1は、
カラーフィルタ11の画素部との位置が一致するように
基板2上に各マイクロレンズ4が形成されたものであ
り、これらマイクロレンズ4がカラーフィルタ11側と
なるように配置されている。このマイクロレンズ基板1
には、上述したように外光の影響を抑え、表示画質を向
上させるために遮光部6が形成されている。このような
液晶ディスプレイにおいて、液晶ディスプレイ部12で
発生した光は、本発明のマイクロレンズ基板1を通過し
て外部に発光13として発せられ、マイクロレンズの作
用により目視者への輝度が高められる。
FIG. 5 shows an example of a liquid crystal display using the microlens substrate of the present invention. In this liquid crystal display, a microlens substrate 1 is arranged on a side surface of a color filter 11 of a liquid crystal display section 12 including an array side substrate 9, a liquid crystal section 10, and a color filter 11. This microlens substrate 1
Each micro lens 4 is formed on the substrate 2 so that the position of the pixel portion of the color filter 11 coincides with the pixel portion, and these micro lenses 4 are arranged on the color filter 11 side. This microlens substrate 1
As described above, the light shielding portion 6 is formed to suppress the influence of external light and improve the display image quality. In such a liquid crystal display, light generated in the liquid crystal display section 12 is emitted to the outside as light emission 13 through the microlens substrate 1 of the present invention, and the brightness of the viewer is increased by the action of the microlens.

【0133】本発明のマイクロレンズ基板を用いた液晶
ディスプレイは、品質が良好でかつコスト的に有利なマ
イクロレンズ基板を用いているので、液晶ディスプレイ
としての品質も良好でありかつ低コストの液晶ディスプ
レイとすることができるという利点を有するものであ
る。
Since the liquid crystal display using the microlens substrate of the present invention uses the microlens substrate which is good in quality and advantageous in cost, the liquid crystal display having good quality as the liquid crystal display and low cost is used. It has the advantage that it can be.

【0134】D.撮像素子について 本発明のマイクロレンズ基板は、撮像装置の光感度を高
めるために例えばCCDといった撮像素子に隣接もしく
は密着する部品として用いることができる。この場合、
好ましくは迷光によるコントラストの低下等といった特
性への悪影響を避ける等の理由により、遮光部を設ける
ことが好ましい。また上記液晶ディスプレイの場合と同
様に、濡れ性可変層、好ましくは光触媒含有層の肉厚を
薄くすることが好ましく、具体的な肉厚としては、1μ
m以下、より好ましくは0.2μ以下である。
D. Regarding the image pickup device The microlens substrate of the present invention can be used as a component adjacent to or in close contact with the image pickup device such as a CCD in order to increase the light sensitivity of the image pickup device. in this case,
It is preferable to provide a light-shielding portion for reasons such as avoiding adverse effects on characteristics such as a decrease in contrast due to stray light. Further, as in the case of the liquid crystal display, it is preferable to reduce the thickness of the wettability variable layer, preferably the photocatalyst containing layer, and the specific thickness is 1 μm.
m or less, more preferably 0.2 μm or less.

【0135】図6は、本発明のマイクロレンズ基板を用
いた撮像素子の一例を示すものである。この撮像素子
は、有色フィルタ14および光電変換素子15からなる
撮像素子部16の有色フィルタ14側面にマイクロレン
ズ基板1が配置されてなるものである。このマイクロレ
ンズ基板1は、有色フィルタ14側に遮光部6が配置さ
れ、この遮光部6が形成された基板2の反対側の面にマ
イクロレンズ4が形成されている。入射光17は、マイ
クロレンズ基板1のマイクロレンズ4を経て撮像素子部
16に入るので、撮像素子の光感度を高めることができ
る。
FIG. 6 shows an example of an image sensor using the microlens substrate of the present invention. This image sensor has a configuration in which the microlens substrate 1 is arranged on the side surface of the color filter 14 of the image sensor unit 16 including the color filter 14 and the photoelectric conversion element 15. The microlens substrate 1 has a light-shielding portion 6 disposed on the colored filter 14 side, and a microlens 4 formed on a surface opposite to the substrate 2 on which the light-shielding portion 6 is formed. The incident light 17 enters the image sensor 16 via the microlens 4 of the microlens substrate 1, so that the light sensitivity of the image sensor can be increased.

【0136】本発明のマイクロレンズ基板を用いた撮像
素子は、品質が良好でかつコスト的に有利なマイクロレ
ンズ基板を用いているので、撮像素子としての品質も良
好でありかつ低コストの撮像素子とすることができる。
Since the imaging device using the microlens substrate of the present invention uses a microlens substrate having good quality and being advantageous in cost, the imaging device having good quality and low cost as the imaging device is used. It can be.

【0137】なお、本発明は、上記実施形態に限定され
るものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明
の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同
一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いか
なるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
Note that the present invention is not limited to the above embodiment. The above embodiment is an exemplification, and has substantially the same configuration as the technical idea described in the scope of the claims of the present invention. It is included in the technical scope of the invention.

【0138】[0138]

【実施例】以下、本発明について、実施例を通じてさら
に詳述する。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples.

【0139】(実施例1/光触媒含有層の形成)イソプ
ロピルアルコール3g、オルガノシラン(東芝シリコー
ンTSL8113)0.4g、フルオロアルコキシシラ
ンMF−160E(トーケムプロダクツ)0.3g、光
触媒無機コーティング剤ST−K01(石原産業)2g
を混合した。この溶液をスピンコーティング法により、
石英ガラス製透明基板上に塗布した。そして150℃の
温度で10分間乾燥することにより、加水分解、重縮合
反応を進行させ、光触媒がオルガノポリシロキサン中に
強固に固定された膜厚0.2μmの透明な層を得ること
ができた。この光触媒含有層上に水銀ランプにより70
mW/cm2の照度で50秒問、マスクを介してパター
ン露光した。
(Example 1 / Formation of Photocatalyst-Containing Layer) 3 g of isopropyl alcohol, 0.4 g of organosilane (Toshiba Silicone TSL8113), 0.3 g of fluoroalkoxysilane MF-160E (Tochem Products), and photocatalytic inorganic coating agent ST- K01 (Ishihara Sangyo) 2g
Was mixed. This solution is applied by spin coating.
It was applied on a transparent substrate made of quartz glass. Then, by drying at a temperature of 150 ° C. for 10 minutes, the hydrolysis and the polycondensation reaction proceeded, and a transparent layer having a thickness of 0.2 μm in which the photocatalyst was firmly fixed in the organopolysiloxane was obtained. . On this photocatalyst containing layer, 70
Pattern exposure was performed through a mask for 50 seconds at an illuminance of mW / cm 2 .

【0140】非露光部および露光部の液体との接触角を
測定した結果、非露光部においては表面張力30mN/
mの液体(純正化学株式会社製、エチレングリコールモ
ノエチルエーテル)との接触角を接触角測定器(協和界
面科学株式会社製 CA−Z型)を用いて測定(マイク
ロシリンジから液滴を滴下して30秒後)した結果、3
2度であり、露光部では表面張力50mN/mの液体
(純正化学株式会社製ぬれ標準試薬液No.50)との
接触角を同様に測定した結果、7度であった。露光部、
非露光部で濡れ性が異なるパターンが形成された。
As a result of measuring the contact angle between the unexposed portion and the liquid in the exposed portion, the surface tension was 30 mN /
The contact angle with a liquid (ethylene glycol monoethyl ether manufactured by Junsei Chemical Co., Ltd.) is measured using a contact angle measuring device (CA-Z type manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.). 30 seconds later) as a result,
The contact angle with a liquid having a surface tension of 50 mN / m (wetting standard reagent liquid No. 50 manufactured by Junsei Chemical Co., Ltd.) was similarly measured at the exposed portion, and was 7 degrees. Exposure unit,
A pattern having different wettability was formed in the non-exposed area.

【0141】(実施例2/マイクロレンズのコーティン
グによる形成)石英ガラス製の透明基板上に、実施例1
に記載の光触媒含有層形成用材料を用い、スピンコーテ
ィング法にて光触媒含有層を形成した。これに開口部直
径50μmの円形パターンが2μm間隔で複数個並ん
だ、ネガ型フォトマスクを介して、水銀ランプにより7
0mW/cm2の照度で90秒間露光し、表面に親液性
領域からなる円形パターンが形成された透明基板を得
た。
(Example 2 / Formation by coating of microlens) Example 1 was formed on a transparent substrate made of quartz glass.
The photocatalyst containing layer was formed by the spin coating method using the photocatalyst containing layer forming material described in 1). Through a negative photomask in which a plurality of circular patterns having an opening diameter of 50 μm are arranged at an interval of 2 μm, a mercury lamp is used to form a 7-inch photomask.
Exposure was performed for 90 seconds at an illuminance of 0 mW / cm 2 to obtain a transparent substrate having a circular pattern composed of lyophilic regions formed on the surface.

【0142】紫外線硬化型モノマー(PO変性グリセリ
ントリアクリレート:荒川化学工業社製、商品名:ビー
ムセット720)1000g、硬化開始剤(チバスペシ
ャリティケミカルズ社製、商品名:イルガキュア18
4)50gを混合し、3分間攪拌した。得られた混合液
(マイクロレンズ形成用塗料)をビードコーティング法
(スライドコーティング法)にて、上記の濡れ性の異な
る円形パターンが施された透明基板上に、膜厚12μm
にて塗布したところ、露光部分(円形パターン部分)の
みに混合液が付着した。これを水銀ランプにより70m
W/cm2の照度で5秒間露光することにより、直径5
0μm、焦点距離1mmのマイクロレンズアレイを有す
るマイクロレンズ基板を得ることができた。
1000 g of an ultraviolet-curable monomer (PO-modified glycerin triacrylate: manufactured by Arakawa Chemical Industry Co., Ltd., trade name: Beam Set 720), a curing initiator (manufactured by Ciba Specialty Chemicals, trade name: Irgacure 18)
4) 50 g was mixed and stirred for 3 minutes. The resulting mixed solution (coating material for forming microlenses) was applied to a transparent substrate on which a circular pattern having a different wettability as described above was applied by a bead coating method (slide coating method) to a thickness of 12 μm.
As a result, the mixed solution adhered only to the exposed portion (circular pattern portion). 70m with a mercury lamp
Exposure for 5 seconds at an illuminance of W / cm 2 results in a diameter of 5
A microlens substrate having a microlens array of 0 μm and a focal length of 1 mm was obtained.

【0143】(実施例3/マイクロレンズの吐出法によ
る形成)石英ガラス製の透明基板上に、実施例1に記載
の光触媒含有層形成用材料を用い、スピンコーティング
法にて光触媒含有層を形成した。これに開口部直径20
0μmの円形パターンが100μm間隔で複数個並ん
だ、ネガ型フォトマスクを介して、水銀ランプにより7
0mW/cm2の照度で90秒間露光し、表面に親液性
領域の円形パターンが形成された透明基板を得た。
(Example 3 / Formation by Microlens Discharge Method) A photocatalyst-containing layer was formed on a transparent substrate made of quartz glass by the spin coating method using the photocatalyst-containing layer forming material described in Example 1. did. This has an opening diameter of 20
Through a negative photomask in which a plurality of 0 μm circular patterns are arranged at 100 μm intervals, a mercury lamp is used.
Exposure was performed for 90 seconds at an illuminance of 0 mW / cm 2 to obtain a transparent substrate having a circular pattern of lyophilic regions formed on the surface.

【0144】紫外線硬化型モノマー(PO変性グリセリ
ントリアクリレート:荒川化学工業社製、商品名:ビー
ムセット720)1000g、硬化開始剤紫外線硬化型
モノマー(PO変性グリセリントリアクリレート:荒川
化学工業社製、商品名:ビームセット720)1000
g、光重合開始剤(チバスペシャリティケミカルズ社
製、商品名:イルガキュア184)50gを混合し、3
分間攪拌した。得られた混合液(マイクロレンズ形成用
塗料)を液体精密定量吐出装置(EFD社製ディスペン
サー、1500XL−15)にて、上記の濡れ性の異な
る円形パターンが施された透明基板上の円形パターン部
分の中心に0.0001ml吐出した。このとき吐出液
(マイクロレンズ形成用塗料)は円形パターン部のみに
広がり、それ以外の部分に広がることは無かった。これ
を水銀ランプにより70mW/cm 2の照度で10秒間
露光することにより、直径200μm、焦点距離500
μmのマイクロレンズアレイを有するマイクロレンズ基
板を得ることができた。
UV-curable monomers (PO-modified glycerol)
Triacrylate: Arakawa Chemical Industry Co., Ltd., product name: B
Musset 720) 1000g, curing initiator UV curing type
Monomer (PO-modified glycerin triacrylate: Arakawa
Product name: Beam Set 720) 1000, manufactured by Chemical Industry Co., Ltd.
g, photopolymerization initiator (Ciba Specialty Chemicals, Inc.)
Irgacure 184) 50 g
Stirred for minutes. The resulting mixture (for microlens formation)
Dispenser for liquid precision dispensing (paint)
Sir, 1500XL-15).
Circular pattern on a transparent substrate with a circular pattern
0.0001 ml was discharged at the center of the minute. At this time
(Microlens forming paint) is only for the circular pattern part
It did not spread, it did not spread to other parts. this
70mW / cm by mercury lamp Two10 seconds at an illuminance of
By exposure, the diameter is 200 μm and the focal length is 500
Microlens base with micrometer microlens array
A board was obtained.

【0145】(実施例4/有色マイクロレンズの吐出法
による形成)石英ガラス製の透明基板上に実施例1に記
載の光触媒含有層形成用材料を用いスピンコーティング
法にて光触媒含有層を形成した。これに開口部直径20
0μmの円形パターンが100μm間隔で複数個並んだ
ネガ型フォトマスクを介して水銀ランプにより70mW
/cm2の照度で90秒間露光し、表面に親液性領域か
らなる円形パターンが形成された透明基板を得た。
(Example 4 / Formation of Colored Microlens by Discharge Method) A photocatalyst-containing layer was formed on a transparent substrate made of quartz glass by the spin coating method using the photocatalyst-containing layer forming material described in Example 1. . This has an opening diameter of 20
70 mW using a mercury lamp through a negative photomask in which a plurality of 0 μm circular patterns are arranged at intervals of 100 μm.
/ Cm 2 for 90 seconds to obtain a transparent substrate having a surface on which a circular pattern composed of a lyophilic region was formed.

【0146】次いで、紫外線硬化型モノマー(2官能ア
クリレートモノマー、日本化薬社製、商品名:KAYA
RADPEG400DA)500g、光重合開始剤(チ
バスペシャリティケミカルズ社製、商品名:ダロキュア
1173)25g、赤色染料(東京化成社製、ローズベ
ンガル)0.5gを混合し、3分間攪拌し、赤色用のマ
イクロレンズ形成用塗料を得た。
Next, an ultraviolet-curable monomer (bifunctional acrylate monomer, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name: KAYA
500 g of RADPEG 400DA), 25 g of a photopolymerization initiator (manufactured by Ciba Specialty Chemicals, trade name: Darocur 1173), and 0.5 g of a red dye (Rose Bengal, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) were mixed and stirred for 3 minutes, and the mixture was stirred for 3 minutes. A paint for forming a lens was obtained.

【0147】また、紫外線硬化型モノマー(2官能アク
リレートモノマー、日本化薬社製、商品名:KAYAR
ADPEG400DA)500g、光重合開始剤(チバ
スペシャリティケミカルズ社製、商品名:ダロキュア1
173)25g、緑色染料(東京化成社製、ビリリアン
トグリーン)0.5gを混合し、3分間攪拌し、緑色用
のマイクロレンズ形成用塗料を得た。
Further, an ultraviolet curable monomer (bifunctional acrylate monomer, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name: KAYAR
ADPEG400DA) 500 g, photopolymerization initiator (manufactured by Ciba Specialty Chemicals, trade name: Darocure 1)
173) and 0.5 g of a green dye (Villiant Green, manufactured by Tokyo Kasei Co., Ltd.) were mixed and stirred for 3 minutes to obtain a green microlens forming paint.

【0148】さらに、紫外線硬化型モノマー(2官能ア
クリレートモノマー、日本化薬社製、商品名:KAYA
RADPEG400DA)500g、光重合開始剤(チ
バスペシャリティケミカルズ社製、商品名:ダロキュア
1173)25g、青色染料(東京化成社製、ヴィクト
リアブルー)0.5gを混合し、3分間攪拌し、青色用
のマイクロレンズ形成用塗料を得た。
Further, an ultraviolet-curable monomer (bifunctional acrylate monomer, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name: KAYA
500 g of RADPEG400DA), 25 g of a photopolymerization initiator (manufactured by Ciba Specialty Chemicals, trade name: Darocur 1173), and 0.5 g of a blue dye (Victoria Blue, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) are mixed, and stirred for 3 minutes. A paint for forming a lens was obtained.

【0149】得られたマイクロレンズ形成用塗料を液体
精密吐出装置(EFD製ディスペンサー、1500XL
−15)にて、上記の濡れ性の異なる円形パターンが施
された透明基板上の円形パターン部分の中心に0.00
01ml吐出した。この時、吐出液(マイクロレンズ形
成用塗料)は円形パターン部のみに広がり、それ以外の
部分に広がることはなかった。これを水銀ランプにより
70mW/cm2の照度で10秒間露光することによ
り、直径200μm、焦点距離500μmの有色マイク
ロレンズアレイを有するマイクロレンズ基板を得た。
The obtained paint for forming a microlens was applied to a liquid precision discharge device (EFD dispenser, 1500XL
-15), the center of the circular pattern portion on the transparent substrate on which the circular pattern having the different wettability is applied is 0.00
01 ml was discharged. At this time, the discharge liquid (coating material for forming microlenses) spread only in the circular pattern portion, and did not spread in other portions. This was exposed to an illuminance of 70 mW / cm 2 for 10 seconds using a mercury lamp to obtain a microlens substrate having a colored microlens array having a diameter of 200 μm and a focal length of 500 μm.

【0150】(実施例5/有色マイクロレンズのコーテ
ィングによる形成)石英ガラス製透明基板上に実施例1
記載の光触媒含有層形成用材料を用いてスピンコーティ
ング法にて光触媒含有層を形成した。これに開口部直径
200μmの円形パターンが縦方向に100μm間隔、
横方向に700μm間隔で複数個並んだネガ型フォトマ
スクを介して、水銀ランプにより70mW/cm2の照
度で90秒間露光し、表面に親液性領域である円形パタ
ーンが施された透明基板を得た。
Example 5 / Formation by Coating of Colored Microlens Example 1 on a quartz glass transparent substrate
The photocatalyst containing layer was formed by spin coating using the photocatalyst containing layer forming material described above. In addition, a circular pattern having an opening diameter of 200 μm is vertically spaced at 100 μm intervals.
Exposure was performed for 90 seconds with a mercury lamp at an illuminance of 70 mW / cm 2 through a plurality of negative photomasks arranged at intervals of 700 μm in the horizontal direction. Obtained.

【0151】次いで、紫外線硬化型モノマー(2官能ア
クリレートモノマー:日本化薬社製、商品名:KAYA
RADPEG400DA)400g、紫外線硬化型モノ
マー(1,6ヘキサンジオールジアクリレート、日本化
薬社製、商品名:KS−HDDA)100g、光重合開
始剤(チバスペシャリティケミカルズ社製、商品名:ダ
ロキュア1173)25g、赤色染料(東京化成社製、
ローズベンガル)0.5gを混合し、3分間攪拌し、赤
色用マイクロレンズ形成用塗料を得た。
Next, an ultraviolet curable monomer (bifunctional acrylate monomer: manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name: KAYA
RADPEG400DA) 400 g, ultraviolet curable monomer (1,6 hexanediol diacrylate, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name: KS-HDDA) 100 g, photopolymerization initiator (Ciba Specialty Chemicals Co., trade name: Darocure 1173) 25 g , Red dye (Tokyo Kasei Co., Ltd.,
(0.5 g of Rose Bengal) and stirred for 3 minutes to obtain a red microlens forming paint.

【0152】また、紫外線硬化型モノマー(2官能アク
リレートモノマー:日本化薬社製、商品名:KAYAR
ADPEG400DA)400g、紫外線硬化型モノマ
ー(1,6ヘキサンジオールジアクリレート、日本化薬
社製、商品名:KS−HDDA)100g、光重合開始
剤(チバスペシャリティケミカルズ社製、商品名:ダロ
キュア1173)25g、緑色染科(東京化成社製ビリ
リアントグリーン)0.5gを混合し、3分間攪拌し、
緑色用マイクロレンズ形成用塗料を得た。
An ultraviolet-curable monomer (bifunctional acrylate monomer: manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name: KAYAR
ADPEG400DA) 400 g, UV curable monomer (1,6 hexanediol diacrylate, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name: KS-HDDA) 100 g, photopolymerization initiator (Ciba Specialty Chemicals Co., trade name: Darocure 1173) 25 g , 0.5 g of green dyeing department (Villiant Green manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and stirred for 3 minutes,
A green microlens forming paint was obtained.

【0153】さらに、紫外線硬化型モノマー(2官能ア
クリレートモノマー:日本化薬社製、商品名:KAYA
RADPEG400DA)400g、紫外線硬化型モノ
マー(1,6ヘキサンジオールジアクリレート、日本化
薬社製、商品名:KS−HDDA)100g、光重合開
始剤(チバスペシャリティケミカルズ社製、商品名:ダ
ロキュア1173)25g、青色染料(東京化成社製、
ヴィクトリアブルー)0.5gを混合し、3分間攪拌
し、青色用マイクロレンズ形成用塗料を得た。
Further, an ultraviolet-curable monomer (bifunctional acrylate monomer: manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name: KAYA
RADPEG400DA) 400 g, ultraviolet curable monomer (1,6 hexanediol diacrylate, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name: KS-HDDA) 100 g, photopolymerization initiator (Ciba Specialty Chemicals Co., trade name: Darocure 1173) 25 g , Blue dye (manufactured by Tokyo Chemical Industry,
(Victoria Blue) was mixed and stirred for 3 minutes to obtain a blue microlens forming paint.

【0154】得られた赤色用マイクロレンズ形成用塗料
を、ディップコーティング法にて、上記の濡れ性の異な
る円形パターンが施された透明基板上に12μmにて塗
布したところ、露光部分(円形パターン部分、親液性領
域)のみに塗料が付着した。これを水銀ランプにより7
0mW/cm2の照度で10秒間露光することにより硬
化させた。
The resulting red microlens forming paint was applied by a dip coating method on a transparent substrate having a circular pattern having the above-mentioned different wettability at a thickness of 12 μm. , Lyophilic area). This is done with a mercury lamp 7
The resin was cured by exposing to light of 0 mW / cm 2 for 10 seconds.

【0155】この赤色マイクロレンズを形成した透明基
板上に上記と同様にして光触媒含有層を形成し、赤色レ
ンズの縦方向の列から100μmの間隔をおいて上記と
同様の条件で親液性領域の円形パターンを形成した。緑
色用マイクロレンズ形成用塗料を用い、赤色と同様の操
作を行なうことで緑色マイクロレンズを形成した。
A photocatalyst-containing layer is formed on the transparent substrate on which the red microlens is formed in the same manner as described above, and a lyophilic region is formed at a distance of 100 μm from the vertical line of the red lens under the same conditions as above. Was formed. A green microlens was formed by performing the same operation as for the red color using the green microlens forming paint.

【0156】青色用マイクロレンズ形成用塗料を用いて
同様の操作を行ない、赤と緑のマイクロレンズの縦の列
の間に100μmの間隔をおいて青色マイクロレンズを
形成し、直径200μm、焦点距離1mmの有色マイク
ロレンズアレイを有するマイクロレンズ基板を得た。
The same operation was performed using the blue microlens forming coating material. A blue microlens was formed at a distance of 100 μm between vertical rows of red and green microlenses, and had a diameter of 200 μm and a focal length of 200 μm. A microlens substrate having a 1 mm colored microlens array was obtained.

【0157】(実施例6/遮光部のコーティングによる
形成)直径100μmであって、10μm間隔に並んだ
マイクロレンズアレイを有する本発明のマイクロレンズ
基板(基板:石英ガラス)の裏面に、実施例1記載の光
触媒含有層形成用材料を用いて光触媒含有層を形成し
た。次いで、開口部直径10μmであって、100μm
の間隔で並んだフォトマスクとレンズとの位置合わせを
行った後、水銀ランプによりパターン露光を行った。
(Example 6 / Formation of Coating of Light-Shielding Part) Example 1 was formed on the back surface of a microlens substrate (substrate: quartz glass) of the present invention having a microlens array having a diameter of 100 μm and arranged at intervals of 10 μm. A photocatalyst containing layer was formed using the photocatalyst containing layer forming material described above. Then, the opening diameter is 10 μm, and 100 μm
After the alignment of the photomask and the lens arranged at the intervals of, pattern exposure was performed using a mercury lamp.

【0158】次いで、紫外線硬化型モノマー(2官能ア
クリレートモノマー、日本化薬社製、商品名:KAYA
RADPEG400DA)500g、光重合開始剤(チ
バスペシャリティケミカルズ社製、商品名:ダロキュア
1173)25gの混合液にカーボンブラックを100
g分散し、遮光部形成用組成物を調製した。この遮光部
形成用組成物を、ブレードコーターによりパターン露光
された光触媒含有層上に全面塗布すると、非露光部はハ
ジキ、露光部のみに選択的に付着した。次いで、150
℃で30分間加熱して、遮光部を形成し、遮光部を有す
るマイクロレンズ基板を得た。
Next, an ultraviolet curable monomer (bifunctional acrylate monomer, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name: KAYA
RADPEG 400DA) and carbon black (100 g) in a mixed solution of 500 g of a photopolymerization initiator (trade name: Darocur 1173, manufactured by Ciba Specialty Chemicals).
g were dispersed to prepare a composition for forming a light-shielding portion. When this composition for forming a light-shielding portion was applied over the entire surface of the photocatalyst-containing layer which had been pattern-exposed by a blade coater, the non-exposed portion selectively adhered to only the exposed portion. Then 150
Heating was performed at 30 ° C. for 30 minutes to form a light-shielding portion, and a microlens substrate having a light-shielding portion was obtained.

【0159】(実施例7/遮光部の吐出法による形成)
直径700μmであって10μm間隔に並んだマイクロ
レンズアレイを有する本発明のマイクロレンズ基板(基
板:石英ガラス)の裏面に、実施例1記載の光触媒含有
層用材料を用いて光触媒含有層を形成した。次いで、開
口部直径10μmであって700μmの間隔で並んだフ
ォトマスクを介して、レンズとの位置合わせ後、水銀ラ
ンプによりパターン露光を行った。
(Embodiment 7 / Formation of light-shielding portion by discharge method)
A photocatalyst-containing layer was formed using the photocatalyst-containing layer material described in Example 1 on the back surface of the microlens substrate (substrate: quartz glass) of the present invention having a microlens array having a diameter of 700 μm and arranged at 10 μm intervals. . Next, through a photomask having an opening having a diameter of 10 μm and arranged at intervals of 700 μm, alignment with a lens was performed, followed by pattern exposure using a mercury lamp.

【0160】次いで、ディスペンサー(EFD社製)に
より露光部へ実施例6記載の遮光部形成用組成物を吐出
することにより、遮光部形成用組成物を露光部にのみ付
着させた。次いで、150℃で30分間加熱して、遮光
部を有するマイクロレンズ基板を得た。
Next, the composition for forming a light-shielding portion described in Example 6 was discharged onto an exposed portion by a dispenser (manufactured by EFD), so that the composition for forming a light-shielding portion was adhered only to the exposed portion. Next, heating was performed at 150 ° C. for 30 minutes to obtain a microlens substrate having a light-shielding portion.

【0161】(実施例8/マイクロレンズの吐出量によ
る焦点距離の変化)石英ガラス製透明基板上に実施例1
に記載の光触媒含有層形成用材料を用い、スピンコーテ
ィング法にて光触媒含有層を形成した。これに開口部直
径9mmの円形パターンをもつマスクを介して水銀ラン
プにより70mW/cm2の照度で90秒間露光し、表
面に親液性領域である円形パターンが施された透明基板
を得た。
Example 8 Change in Focal Length Due to Microlens Discharge Amount Example 1 on a quartz glass transparent substrate
The photocatalyst containing layer was formed by the spin coating method using the photocatalyst containing layer forming material described in 1). This was exposed to an illuminance of 70 mW / cm 2 for 90 seconds with a mercury lamp through a mask having a circular pattern with an opening diameter of 9 mm to obtain a transparent substrate having a circular pattern as a lyophilic region on the surface.

【0162】紫外線硬化型モノマー(2官能アクリレー
トモノマー、日本化薬社製、商品名:KAYARADP
EG400DA)500g、光重合開始剤(チバスペシ
ャリティケミカルズ社製、商品名:ダロキュア117
3)25gを混合し、3分間攪拌した。得られたマイク
ロレンズ形成用塗料をマイクロシリンジにて、上記の濡
れ性の異なる円形パターンが施された透明基板上の円形
パターン部分の中心に15〜55μL吐出した。このと
き吐出液(マイクロレンズ形成用塗料)は円形パターン
部のみに広がりそれ以外の部分に広がることは無く、ま
た滴下量が多いほど基板との接触角が大きくなった。こ
れを水銀ランプにより70mW/cm2の照度で10秒
間露光することにより、直径9mm、焦点距離27〜9
0mmのレンズを、樹脂混合液(マイクロレンズ形成用
塗料)の吐出量を制御することにより設計、作成するこ
とができた。結果を表1に示す。
UV-curable monomer (bifunctional acrylate monomer, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name: KAYARADP)
EG400DA) 500 g, photopolymerization initiator (manufactured by Ciba Specialty Chemicals, trade name: Darocur 117)
3) 25 g were mixed and stirred for 3 minutes. The obtained microlens-forming paint was discharged with a microsyringe at the center of the circular pattern portion on the transparent substrate on which the above-mentioned circular patterns having different wettabilities were applied, in an amount of 15 to 55 μL. At this time, the discharged liquid (coating material for forming a microlens) spread only to the circular pattern portion and did not spread to the other portions, and the contact angle with the substrate became larger as the amount of dripping was larger. This was exposed to an illuminance of 70 mW / cm 2 for 10 seconds using a mercury lamp to obtain a diameter of 9 mm and a focal length of 27-9.
A lens of 0 mm could be designed and created by controlling the discharge amount of the resin mixture (coating material for forming microlenses). Table 1 shows the results.

【0163】[0163]

【表1】 [Table 1]

【0164】(比較例)比較のために上記樹脂混合液
を、光触媒含有層を持たない石英ガラス製透明基板(濡
れ性のパターンを有していない基板)上に15〜55μ
L吐出した。このとき吐出液は吐出量が多くなるほど濡
れ広がり、その形状も安定せず様々な形となった。基板
との接触角も吐出量に従って変化することは無かった。
これを水銀ランプにより70mW/cm2の照度で10
秒間露光したが、得られたレンズ形状物は形状、直径、
焦点距離が制御されたものではなかった。樹脂溶液(マ
イクロレンズ形成用塗料)滴下量と基板との接触角、生
成されたレンズ形状物の直径および焦点距離の関係を表
2に示す。
(Comparative Example) For comparison, the above resin mixture was applied to a quartz glass transparent substrate having no photocatalyst containing layer (substrate having no wettability pattern) by 15 to 55 μm.
L was discharged. At this time, the discharged liquid became wet and spread as the discharge amount increased, and its shape was not stable, but took various shapes. The contact angle with the substrate did not change according to the discharge amount.
This is irradiated with a mercury lamp at an illuminance of 70 mW / cm 2 for 10
Exposure for 2 seconds, the resulting lens-shaped object has a shape, diameter,
The focal length was not controlled. Table 2 shows the relationship among the amount of the resin solution (coating material for forming microlenses) dropped, the contact angle with the substrate, the diameter of the formed lens-shaped object, and the focal length.

【0165】[0165]

【表2】 [Table 2]

【0166】表1および表2から明らかなように、実施
例8のマイクロレンズはマイクロレンズ形成用塗料の滴
下量によりマクロレンズの基材との接触角が変化し、焦
点距離もこれにともなって変化したが、比較例のマイク
ロレンズにはそのような傾向がなく、マイクロレンズ形
成用塗料の滴下量が増加すると形成されたレンズの半径
が大きくなっていた。
As is clear from Tables 1 and 2, the contact angle of the microlens of Example 8 with the base material of the macrolens changes depending on the amount of the microlens-forming paint dripped, and the focal length also changes accordingly. Although it changed, the microlens of the comparative example did not have such a tendency, and the radius of the formed lens increased as the amount of the microlens-forming paint dropped increased.

【0167】(実施例9)石英ガラス透明基板上に、実
施例1に記載の光触媒含有層形成用材料を用い、スピン
コーティング法にて光触媒含有層を形成した。
Example 9 A photocatalyst-containing layer was formed on a quartz glass transparent substrate by the spin coating method using the photocatalyst-containing layer forming material described in Example 1.

【0168】上記光触媒含有層を、高圧水銀ランプにて
25mW/cm2(365nm)の照度にて40秒間照
射し、これを照射したまま照射波長830nmの半導体
レーザにてパターン状に照射した。半導体レーザのパタ
ーン照射は、マイクロレンズアレイ形成用CADデータ
に基づき、ガルバノメータを用いて行われた。このと
き、半導体レーザ照射面の温度は50℃であった。照射
表面における表面張力50mN/mの液体(純正化学株
式会社製、ぬれ標準試薬液No.50)との接触角を接
触角測定器(協和界面科学株式会社製、CA−Z型)を
用いて測定(マイクロシリンジから液滴を滴下して30
秒後)した結果、7度であった。
The photocatalyst-containing layer was irradiated with a high-pressure mercury lamp at an illuminance of 25 mW / cm 2 (365 nm) for 40 seconds, and was irradiated in a pattern with a semiconductor laser having an irradiation wavelength of 830 nm. The pattern irradiation of the semiconductor laser was performed using a galvanometer based on the CAD data for forming the microlens array. At this time, the temperature of the semiconductor laser irradiation surface was 50 ° C. The contact angle of the irradiated surface with a liquid having a surface tension of 50 mN / m (manufactured by Junsei Chemical Co., Ltd., wet standard reagent No. 50) was measured using a contact angle measuring instrument (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd., CA-Z type). Measurement (30 drops by dropping a droplet from a micro syringe)
Seconds later), the result was 7 degrees.

【0169】紫外線硬化型モノマー(PO変成グリセリ
ントリアクリレート、荒川化学工業社製、商品名:ビー
ムセット720)1000g、光重合開始剤(チバスペ
シャリティケミカルズ社製、商品名:イルガキュア18
4)50g、を混合し、3分間攪拌し、マイクロレンズ
形成用塗料を作製した。
1000 g of an ultraviolet curable monomer (PO-modified glycerin triacrylate, manufactured by Arakawa Chemical Industries, trade name: Beam Set 720), a photopolymerization initiator (manufactured by Ciba Specialty Chemicals, trade name: Irgacure 18)
4) 50 g of the mixture was mixed and stirred for 3 minutes to prepare a coating material for forming a microlens.

【0170】得られたマイクロレンズ形成用塗料を液体
精密吐出装置(EFD製ディスペンサー、1500XL
−15)にて、上記のCADデータに基づき形成された
濡れ性の異なる部分に、0.0001mL吐出した。こ
のとき、吐出液(マイクロレンズ形成用塗料)は、CA
Dデータに基づき形成された濡れ性の異なる部分にのみ
広がり、それ以外の部分に広がることは無かった。
The obtained paint for forming a microlens was applied to a liquid precision discharge device (EFD dispenser, 1500XL
In -15), 0.0001 mL was discharged to a portion having different wettability formed based on the CAD data. At this time, the discharged liquid (paint for forming a microlens) is CA
It spread only to the portions having different wettability formed based on the D data, and did not spread to other portions.

【0171】これを水銀ランプにより70mW/cm2
の照度で10秒間露光することにより、CADデータに
より設定された直径30〜50μmの種々の底面形状を
有するマイクロレンズアレイを有するマイクロレンズ基
板を得た。
[0171] This was applied to a mercury lamp at 70 mW / cm 2
The microlens substrate having a microlens array having various bottom shapes with a diameter of 30 to 50 μm set by the CAD data was obtained by exposing at an illuminance of 10 seconds.

【0172】[0172]

【発明の効果】本発明は、基板と、この基板の表面上に
設けられ、濡れ性を変化させることができる濡れ性可変
層と、この濡れ性可変層上に設けられた複数のマイクロ
レンズとを有することを特徴とするマイクロレンズ基板
である。このように、本発明は、濡れ性可変層上に複数
のマイクロレンズを形成する構成としたものであるの
で、予めマイクロレンズを設ける部分の濡れ性可変層の
濡れ性を液体との接触角が小さい親液性領域とし、他の
部分の濡れ性可変層を液体との接触角が大きい撥液性領
域とすることができる。したがって、このマイクロレン
ズを設ける親液性領域の部分にマイクロレンズ形成用塗
料を付着させることにより、液体との接触角の小さい親
液性領域にのみマイクロレンズ形成用塗料が付着するた
め、基板上に精度良くマイクロレンズを形成することが
できる。また、マイクロレンズの焦点距離は、マイクロ
レンズ形成用塗料の量と、このマイクロレンズ形成用塗
料が塗布される親液性領域の面積との関係で決定される
ため、比較的容易に焦点距離を制御することが可能とな
るという効果を有する。
The present invention relates to a substrate, a variable wettability layer provided on the surface of the substrate and capable of changing the wettability, and a plurality of microlenses provided on the variable wettability layer. A microlens substrate comprising: As described above, since the present invention has a configuration in which a plurality of microlenses are formed on the variable wettability layer, the wettability of the variable wettability layer in the portion where the microlens is provided is determined by the contact angle with the liquid. The liquid-repellent region having a small contact angle with the liquid can be used as a small lyophilic region and the wettability variable layer in the other portion can be large. Therefore, by attaching the microlens-forming paint to the portion of the lyophilic region where the microlens is provided, the microlens-forming paint adheres only to the lyophilic region having a small contact angle with the liquid. A microlens can be formed with high precision. In addition, the focal length of the microlens is determined by the relationship between the amount of the microlens forming paint and the area of the lyophilic region to which the microlens forming paint is applied. This has the effect of enabling control.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のマイクロレンズ基板の一例を示す概略
断面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing an example of a microlens substrate of the present invention.

【図2】本発明のマイクロレンズ基板における焦点距離
の調整を示す概略断面図である。
FIG. 2 is a schematic sectional view showing adjustment of a focal length in the microlens substrate of the present invention.

【図3】本発明のマイクロレンズ基板に遮光部を形成し
た例を示す概略断面図である。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing an example in which a light shielding portion is formed on the microlens substrate of the present invention.

【図4】図3に示すマイクロレンズ基板の遮光部が形成
された面を示す概略平面図である。
FIG. 4 is a schematic plan view showing a surface of the microlens substrate shown in FIG. 3 on which a light shielding portion is formed.

【図5】本発明のマイクロレンズ基板を用いた液晶ディ
スプレイを示す概略断面図である。
FIG. 5 is a schematic sectional view showing a liquid crystal display using the microlens substrate of the present invention.

【図6】本発明のマイクロレンズ基板を用いた撮像素子
を示す概略断面図である。
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view illustrating an imaging device using the microlens substrate of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…マイクロレンズ基板 2…基板 3…濡れ性可変層 4…マイクロレンズ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Micro lens board 2 ... Substrate 3 ... Variable wettability layer 4 ... Micro lens

フロントページの続き (72)発明者 小林 弘典 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 Fターム(参考) 4M118 AA10 AB01 BA10 CB14 EA20 GB11 GC07 GD04 GD07 5C024 CY47 EX43 GZ36 Continuation of the front page (72) Inventor Hironori Kobayashi 1-1-1, Ichigaga-cho, Shinjuku-ku, Tokyo Dai Nippon Printing Co., Ltd. F term (reference) 4M118 AA10 AB01 BA10 CB14 EA20 GB11 GC07 GD04 GD07 5C024 CY47 EX43 GZ36

Claims (14)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板と、この基板の表面上に設けられ、
濡れ性を変化させることができる濡れ性可変層と、この
濡れ性可変層上に設けられた複数のマイクロレンズとを
有することを特徴とするマイクロレンズ基板。
A substrate provided on a surface of the substrate;
A microlens substrate comprising: a wettability variable layer capable of changing wettability; and a plurality of microlenses provided on the wettability variable layer.
【請求項2】 前記基板が、透明基板であることを特徴
とする請求項1記載のマイクロレンズ基板。
2. The microlens substrate according to claim 1, wherein the substrate is a transparent substrate.
【請求項3】 前記濡れ性可変層が、少なくとも光触媒
とバインダとからなる光触媒含有層であり、かつエネル
ギーの照射により液体との接触角が低下するように濡れ
性が変化する層であることを特徴とする請求項1または
請求項2に記載のマイクロレンズ基板。
3. The variable wettability layer is a photocatalyst-containing layer comprising at least a photocatalyst and a binder, and is a layer whose wettability changes so as to reduce a contact angle with a liquid by irradiation of energy. The microlens substrate according to claim 1, wherein the substrate is a microlens substrate.
【請求項4】 前記光触媒含有層がフッ素を含み、前記
光触媒含有層に対しエネルギーを照射した際に、前記光
触媒の作用により前記光触媒含有層表面のフッ素含有量
がエネルギー照射前に比較して低下するように前記光触
媒含有層が形成されていることを特徴とする請求項3記
載のマイクロレンズ基板。
4. The photocatalyst-containing layer contains fluorine, and when the photocatalyst-containing layer is irradiated with energy, the action of the photocatalyst lowers the fluorine content on the surface of the photocatalyst-containing layer as compared to before the energy irradiation. 4. The microlens substrate according to claim 3, wherein the photocatalyst-containing layer is formed so as to perform the process.
【請求項5】 前記光触媒が、酸化チタン(Ti
2)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化スズ(SnO2)、チ
タン酸ストロンチウム(SrTiO3)、酸化タングス
テン(WO3)、酸化ビスマス(Bi23)、および酸
化鉄(Fe23)から選択される1種または2種以上の
物質であることを特徴とする請求項3または請求項4に
記載のマイクロレンズ基板。
5. The method according to claim 1, wherein the photocatalyst is titanium oxide (Ti).
O 2 ), zinc oxide (ZnO), tin oxide (SnO 2 ), strontium titanate (SrTiO 3 ), tungsten oxide (WO 3 ), bismuth oxide (Bi 2 O 3 ), and iron oxide (Fe 2 O 3 ) The microlens substrate according to claim 3, wherein the substrate is at least one substance selected from the group consisting of:
【請求項6】 前記光触媒が酸化チタン(TiO2)で
あることを特徴とする請求項5記載のマイクロレンズ基
板。
6. The microlens substrate according to claim 5, wherein said photocatalyst is titanium oxide (TiO 2 ).
【請求項7】 前記バインダが、YnSiX(4-n)(ここ
で、Yはアルキル基、フルオロアルキル基、ビニル基、
アミノ基、フェニル基またはエポキシ基を示し、Xはア
ルコキシル基またはハロゲンを示す。nは0〜3までの
整数である。)で示される珪素化合物の1種または2種
以上の加水分解縮合物もしくは共加水分解縮合物である
オルガノポリシロキサンであることを特徴とする請求項
3から請求項6までのいずれかの請求項に記載のマイク
ロレンズ基板。
7. The method according to claim 1, wherein the binder is Y n SiX (4-n) (where Y is an alkyl group, a fluoroalkyl group, a vinyl group,
X represents an amino group, a phenyl group or an epoxy group, and X represents an alkoxyl group or a halogen. n is an integer from 0 to 3. 7. An organopolysiloxane which is one or more hydrolytic condensates or co-hydrolytic condensates of the silicon compound represented by the formula (7). 3. The microlens substrate according to claim 1.
【請求項8】 前記オルガノポリシロキサンを構成する
前記珪素化合物の内、フルオロアルキル基を含む珪素化
合物が、0.01モル%以上含まれていることを特徴と
する請求項7記載のマイクロレンズ基板。
8. The microlens substrate according to claim 7, wherein, among the silicon compounds constituting the organopolysiloxane, a silicon compound containing a fluoroalkyl group is contained in an amount of 0.01 mol% or more. .
【請求項9】 前記光触媒含有層上における表面張力4
0mN/mの液体との接触角が、エネルギーが照射され
ていない部分において10度以上であり、エネルギーが
照射された部分において10度未満であることを特徴と
する請求項3から請求項8までのいずれかの請求項に記
載のマイクロレンズ基板。
9. A surface tension 4 on the photocatalyst containing layer.
9. A contact angle with a liquid of 0 mN / m is 10 degrees or more in a part where energy is not irradiated and less than 10 degrees in a part where energy is irradiated. The microlens substrate according to claim 1.
【請求項10】 (1)基板上にエネルギー照射により
照射部分の濡れ性が液体との接触角が低下する方向に変
化する光触媒含有層を設ける工程と、(2)前記基板上
に設けられた光触媒含有層上のマイクロレンズを形成す
る部位であるマイクロレンズ形成部に、エネルギーをパ
ターン照射してマイクロレンズ用露光部を形成する工程
と、(3)このマイクロレンズ用露光部にマイクロレン
ズ形成用塗料を塗布し、マイクロレンズを形成する工程
とを含むことを特徴とするマイクロレンズ基板の製造方
法。
10. A step of: (1) providing a photocatalyst-containing layer on the substrate, the wettability of an irradiated portion being changed by energy irradiation in a direction in which the contact angle with a liquid decreases; and (2) providing a photocatalyst-containing layer on the substrate. Forming a microlens exposure portion by irradiating energy to the microlens formation portion which is a portion on the photocatalyst containing layer where the microlens is formed; and (3) forming a microlens formation portion on the microlens exposure portion. Applying a coating material to form a microlens.
【請求項11】 前記マイクロレンズ用露光部にマイク
ロレンズ形成用塗料を塗布する工程が、インクジェット
方式で塗布されることを特徴とする請求項10記載のマ
イクロレンズ基板の製造方法。
11. The method of manufacturing a microlens substrate according to claim 10, wherein the step of applying the microlens forming paint to the microlens exposure unit is performed by an inkjet method.
【請求項12】 前記光触媒含有層上における表面張力
40mN/mの液体との接触角が、エネルギーが照射さ
れていない部分において10度以上であり、エネルギー
が照射された部分において10度未満であることを特徴
とする請求項10または請求項11に記載のマイクロレ
ンズ基板の製造方法。
12. A contact angle with a liquid having a surface tension of 40 mN / m on the photocatalyst-containing layer is 10 degrees or more in a part where energy is not irradiated and is less than 10 degrees in a part where energy is irradiated. The method for manufacturing a microlens substrate according to claim 10, wherein:
【請求項13】 請求項1から請求項9までのいずれか
の請求項に記載のマイクロレンズ基板を用いたことを特
徴とする液晶ディスプレイ。
13. A liquid crystal display using the microlens substrate according to any one of claims 1 to 9.
【請求項14】 請求項1から請求項9までのいずれか
の請求項に記載のマイクロレンズ基板を用いたことを特
徴とする撮像素子。
14. An imaging device using the microlens substrate according to any one of claims 1 to 9.
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Cited By (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003121674A (en) * 2001-10-16 2003-04-23 Dainippon Printing Co Ltd Optical waveguide and method of manufacturing the same
JP2003139975A (en) * 2001-11-07 2003-05-14 Dainippon Printing Co Ltd Optical waveguide and method of manufacturing the same
JP2003272873A (en) * 2002-03-20 2003-09-26 Seiko Epson Corp Organic EL head, method of manufacturing the same, and image forming apparatus using the same
JP2004061634A (en) * 2002-07-25 2004-02-26 Dainippon Printing Co Ltd Method for manufacturing functional element
JP2004151428A (en) * 2002-10-31 2004-05-27 Dainippon Printing Co Ltd Method for manufacturing functional element
JP2004177243A (en) * 2002-11-27 2004-06-24 Dainippon Printing Co Ltd Method for measuring volume of microdroplet and substrate for collecting microdroplet used therefor
JP2006030634A (en) * 2004-07-16 2006-02-02 Seiko Epson Corp Microlens manufacturing method
US7375893B2 (en) 2005-05-19 2008-05-20 Seiko Epson Corporation Method of manufacturing microlens, microlens, optical film, screen for projection, projector system, electrooptical device and electronic equipment
US7532405B2 (en) 2004-10-06 2009-05-12 Panasonic Corporation Micro lens, micro lens array, and method of manufacturing the same
JP2009223250A (en) * 2008-03-19 2009-10-01 Nikon Corp Method for manufacturing optical element array, optical element array, and optical system
KR100937663B1 (en) 2007-12-24 2010-01-19 주식회사 동부하이텍 Manufacturing Method of Image Sensor
JP2010211082A (en) * 2009-03-12 2010-09-24 Ricoh Co Ltd Stereoscopic image forming apparatus and stereoscopic image forming method
JP2011040721A (en) * 2009-08-18 2011-02-24 Carl Zeiss Microimaging Gmbh High sensitivity detector apparatus
CN102147533A (en) * 2010-02-10 2011-08-10 介面光电股份有限公司 Stereoscopic image imaging device
JP2011154337A (en) * 2010-01-25 2011-08-11 J Touch Corp Three-dimensional video imaging device
JP2012068624A (en) * 2010-08-25 2012-04-05 Canon Inc Liquid lens and apparatus using the same
JP2016153861A (en) * 2015-02-20 2016-08-25 富士フイルム株式会社 Optical member, manufacturing method of optical member, and image display device
WO2017145551A1 (en) * 2016-02-26 2017-08-31 富士フイルム株式会社 Compound lens and method for manufacturing compound lens
JP2018131535A (en) * 2017-02-15 2018-08-23 ゼネラル株式会社 Photocurable inkjet ink
WO2020171037A1 (en) * 2019-02-22 2020-08-27 ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 Camera package, method of manufacturing camera package, and electronic equipment
CN111653689A (en) * 2020-06-15 2020-09-11 京东方科技集团股份有限公司 Preparation method of lens array, display device and preparation method thereof
JP2020531087A (en) * 2017-08-22 2020-11-05 ヴェリリー ライフ サイエンシズ エルエルシー Electric wet lens with oleophobic surface
JP2022048065A (en) * 2020-09-14 2022-03-25 中強光電股▲ふん▼有限公司 Near eye-light field display unit

Cited By (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003121674A (en) * 2001-10-16 2003-04-23 Dainippon Printing Co Ltd Optical waveguide and method of manufacturing the same
JP2003139975A (en) * 2001-11-07 2003-05-14 Dainippon Printing Co Ltd Optical waveguide and method of manufacturing the same
JP2003272873A (en) * 2002-03-20 2003-09-26 Seiko Epson Corp Organic EL head, method of manufacturing the same, and image forming apparatus using the same
JP2004061634A (en) * 2002-07-25 2004-02-26 Dainippon Printing Co Ltd Method for manufacturing functional element
JP2004151428A (en) * 2002-10-31 2004-05-27 Dainippon Printing Co Ltd Method for manufacturing functional element
JP2004177243A (en) * 2002-11-27 2004-06-24 Dainippon Printing Co Ltd Method for measuring volume of microdroplet and substrate for collecting microdroplet used therefor
JP2006030634A (en) * 2004-07-16 2006-02-02 Seiko Epson Corp Microlens manufacturing method
US7532405B2 (en) 2004-10-06 2009-05-12 Panasonic Corporation Micro lens, micro lens array, and method of manufacturing the same
US7375893B2 (en) 2005-05-19 2008-05-20 Seiko Epson Corporation Method of manufacturing microlens, microlens, optical film, screen for projection, projector system, electrooptical device and electronic equipment
KR100937663B1 (en) 2007-12-24 2010-01-19 주식회사 동부하이텍 Manufacturing Method of Image Sensor
JP2009223250A (en) * 2008-03-19 2009-10-01 Nikon Corp Method for manufacturing optical element array, optical element array, and optical system
JP2010211082A (en) * 2009-03-12 2010-09-24 Ricoh Co Ltd Stereoscopic image forming apparatus and stereoscopic image forming method
JP2011040721A (en) * 2009-08-18 2011-02-24 Carl Zeiss Microimaging Gmbh High sensitivity detector apparatus
DE102009038028B4 (en) 2009-08-18 2024-06-27 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Detector arrangement with increased sensitivity through light deflection elements with a flat light entry surface
JP2011154337A (en) * 2010-01-25 2011-08-11 J Touch Corp Three-dimensional video imaging device
CN102147533A (en) * 2010-02-10 2011-08-10 介面光电股份有限公司 Stereoscopic image imaging device
JP2012068624A (en) * 2010-08-25 2012-04-05 Canon Inc Liquid lens and apparatus using the same
JP2016153861A (en) * 2015-02-20 2016-08-25 富士フイルム株式会社 Optical member, manufacturing method of optical member, and image display device
US10353247B2 (en) 2015-02-20 2019-07-16 Fujifilm Corporation Optical member, optical member producing method, and image display device
WO2017145551A1 (en) * 2016-02-26 2017-08-31 富士フイルム株式会社 Compound lens and method for manufacturing compound lens
JP2018131535A (en) * 2017-02-15 2018-08-23 ゼネラル株式会社 Photocurable inkjet ink
JP7073483B2 (en) 2017-08-22 2022-05-23 ヴェリリー ライフ サイエンシズ エルエルシー Electric wet lens with oleophobic surface
JP2020531087A (en) * 2017-08-22 2020-11-05 ヴェリリー ライフ サイエンシズ エルエルシー Electric wet lens with oleophobic surface
US11191636B2 (en) 2017-08-22 2021-12-07 Verily Life Sciences Llc Electrowetting lenses having oleophobic surfaces
WO2020171037A1 (en) * 2019-02-22 2020-08-27 ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 Camera package, method of manufacturing camera package, and electronic equipment
US12132064B2 (en) 2019-02-22 2024-10-29 Sony Semiconductor Solutions Corporation Camera package, method for manufacturing camera package, and electronic device
CN111653689A (en) * 2020-06-15 2020-09-11 京东方科技集团股份有限公司 Preparation method of lens array, display device and preparation method thereof
WO2021254219A1 (en) * 2020-06-15 2021-12-23 京东方科技集团股份有限公司 Preparation method for lens array, and display device and preparation method therefor
JP7482020B2 (en) 2020-09-14 2024-05-13 中強光電股▲ふん▼有限公司 Near-eye light field display device
JP2022048065A (en) * 2020-09-14 2022-03-25 中強光電股▲ふん▼有限公司 Near eye-light field display unit

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