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JP2001127119A - Flexible tape for forming fine pattern and its manufacturing method - Google Patents

Flexible tape for forming fine pattern and its manufacturing method

Info

Publication number
JP2001127119A
JP2001127119A JP30529699A JP30529699A JP2001127119A JP 2001127119 A JP2001127119 A JP 2001127119A JP 30529699 A JP30529699 A JP 30529699A JP 30529699 A JP30529699 A JP 30529699A JP 2001127119 A JP2001127119 A JP 2001127119A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
film layer
film
flexible tape
adhesive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP30529699A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazumi Nagai
和三 永井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toray Industries Inc filed Critical Toray Industries Inc
Priority to JP30529699A priority Critical patent/JP2001127119A/en
Publication of JP2001127119A publication Critical patent/JP2001127119A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a film base IC mounted board which can utilize the prior art TAB tape manufacturing line and has an ultrafine pitch of 50μm or less, particularly, a flexible tape which can be bonded with outer leads by bending TAB system after mounting an LCD driven IC. SOLUTION: This bending tape consists of a first film layer (a) and a second film layer (c) with an adhesive layer (b) in between: the second film layer is surfaced with a metal layer (d), and the first film layer (a) and the adhesive layer (b) can easily be released integrally from the rear of the second film layer (c).

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路
(IC)搭載用のファインピッチ、特にパターンピッチ
50μm未満のフレキシブル基板の製造に用いられるフ
レキシブルテープおよびその製法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a flexible tape used for manufacturing a flexible substrate having a fine pitch for mounting a semiconductor integrated circuit (IC), in particular, a pattern pitch of less than 50 .mu.m, and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示素子(LCD)、なかでもノー
トPC、モニタ用など大型LCDの駆動ICはTABテ
ープを搭載基板とするTCP(テープキャリアパッケー
ジ)が好ましく用いられているが、表示の高精細化、駆
動ICの多出力化、ICの小型化などの進展に伴い、T
CPに用いられるTABテープのパターンピッチはファ
イン化の一途を辿っている。
2. Description of the Related Art For a liquid crystal display element (LCD), especially a driving IC for a large LCD such as a notebook PC and a monitor, a TCP (tape carrier package) using a TAB tape as a mounting substrate is preferably used. With the progress of definition, multi-output drive IC, and miniaturization of IC, T
The pattern pitch of the TAB tape used for the CP continues to be finer.

【0003】TABテープパターンのファイン化対応
は、材料面ではベースフィルムの高寸法安定化、接着剤
の高機能化(高接着化、高絶縁信頼化)、銅箔の薄膜化
および銅箔接着処理面の平坦化などによって実現されて
きており、現在既にTABテープのインナーリード(I
L)ピッチは50μm、さらにはこれを上回るファイン
ピッチ(45μm前後)のものまで実現されてきてい
る。
[0003] In response to finer TAB tape patterns, in terms of material, high dimensional stability of the base film, higher functionality of the adhesive (higher adhesion, higher insulation reliability), thinner copper foil and copper foil bonding treatment This has been realized by flattening the surface, etc., and the inner lead (I
L) The pitch is 50 μm, and even finer pitches (about 45 μm) have been realized.

【0004】LCD駆動IC搭載基板としてのTABテ
ープパターンピッチは更なるファイン化の実現が望まし
いが、50μm未満、とりわけ45μm未満の領域にな
るとTABテープ方式そのままでは対応に限界がある。
即ち、サブトラクティブ(エッチング)法で超ファイン
な銅パターンを形成するためには銅箔厚さを薄くしてい
くことが絶対的な要件となるが、TABテープのインナ
リード先端部はいわゆるフライングリードであり、ベー
スフィルムに支えられていない。このため、銅箔厚さを
ファインピッチ化に対応して、薄膜化していくとインナ
リードの曲げ強度が急速に低下してしまう。従ってTA
Bテープの製造或いは取り扱い工程で多出力のフライン
グリードが折れ曲がり、歩留まりが悪く工業的に実用価
値が大幅に低下する。
[0004] It is desirable to further refine the TAB tape pattern pitch as an LCD drive IC mounting substrate. However, if the area is less than 50 µm, especially less than 45 µm, there is a limit to the use of the TAB tape system as it is.
That is, in order to form an ultra-fine copper pattern by the subtractive (etching) method, it is an absolute requirement that the thickness of the copper foil be reduced, but the leading end of the inner lead of the TAB tape is a so-called flying lead. And is not supported by the base film. Therefore, when the thickness of the copper foil is reduced in response to the fine pitch, the bending strength of the inner lead is rapidly reduced. Therefore TA
In the process of manufacturing or handling the B tape, the flying leads of multiple outputs are bent, and the yield is poor, and the practical value is greatly reduced industrially.

【0005】このため、TAB(フライングリード)方
式ではなくベースフィルムと極薄の銅箔の構成からなる
材料を用いて超ファインパターンを形成し、これにLC
D駆動ICを搭載する(COF)方式が検討されてい
る。
For this reason, instead of the TAB (flying lead) method, an ultra-fine pattern is formed using a material composed of a base film and an ultra-thin copper foil.
A (COF) method in which a D drive IC is mounted is being studied.

【0006】一方、サブトラクト法で超ファインパター
ンテープを生産するには、フォトレジスト塗布・露光・
現像・エッチングなど何れも従来のTABテープ製造ラ
インを使用することが最も適しているが、ベースフィル
ムの厚さが薄いとフィルムの腰が弱いためスムースなテ
ープ搬送が出来なく、TABテープの製造ラインに適用
することが困難になるなどの問題がある。
On the other hand, in order to produce a super fine pattern tape by the subtract method, photoresist coating, exposure,
It is most suitable to use the conventional TAB tape production line for both development and etching. However, if the base film is thin, the film is weak and the tape cannot be transported smoothly. There is a problem that it is difficult to apply the method.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明は従来のTAB
テープ製造ラインを利用できて、50μm以下の超ファ
インピッチのフィルムベースIC搭載基板、なかでもL
CD駆動IC搭載後の折り曲げTAB方式でアウタリー
ドボンディング可能なフレキシブル基板用材料をを提供
することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to a conventional TAB.
Utilizes a tape production line and has an ultra-fine pitch film-based IC mounting substrate of 50 μm or less.
An object of the present invention is to provide a material for a flexible substrate which can be subjected to outer lead bonding by a bent TAB method after mounting a CD drive IC.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、第1
のフィルム層(a)と、接着剤層(b)を介して第2の
フィルム層(c)からなり、第2のフィルム層表面に金
属層(d)が形成され、第1のフィルム層(a)と接着
剤層(b)が一体化して第2のフィルム層(c)の裏面
から容易に剥離して分離できることを特徴とするフレキ
シブルテープおよびその製造方法を提供するものであ
る。
That is, the present invention provides the following:
And a second film layer (c) via an adhesive layer (b), a metal layer (d) is formed on the surface of the second film layer, and the first film layer ( The present invention provides a flexible tape characterized in that a) and an adhesive layer (b) are integrated and can be easily separated and separated from the back surface of the second film layer (c), and a method for producing the same.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】本発明について詳細に説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention will be described in detail.

【0010】本発明におけるフレキシブルテープとは、
半導体素子搭載用フレキシブル基板(FPC)を製造す
るためのテープ材料であって、とりわけTABテープ製
造ラインで超ファインパターンを形成する際に好適に用
いられるものである。
The flexible tape in the present invention is
A tape material for manufacturing a flexible substrate (FPC) for mounting a semiconductor element, which is suitably used especially when forming a super fine pattern in a TAB tape manufacturing line.

【0011】TAB方式によるLCD駆動ICは液晶表
示画面の額縁部を少なくするため、いわゆるフレックス
TAB(またはbentTAB)と称する折り曲げTA
Bテープに搭載され、LCDパネルに搭載(アウタリー
ドボンディング:OLB)されることが多い。折り曲げ
TABテープは、TABテープ折り曲げ部にスリット孔
を形成しておき、更にスリット部の導体にフレックス剤
を塗布して作成される(この工程をフレックス処理工程
という)。
In a TAB-type LCD driving IC, a bent TA called a so-called flex TAB (or bentTAB) is used to reduce a frame portion of a liquid crystal display screen.
It is often mounted on a B tape and mounted on an LCD panel (outer lead bonding: OLB). The bent TAB tape is formed by forming a slit hole in a bent portion of the TAB tape and applying a flexing agent to a conductor in the slit portion (this step is referred to as a flex processing step).

【0012】一方、銅箔厚さが極薄である材料を使用す
るCOF方式ではスリット孔の形成は困難な問題が多い
反面、ベースフィルムの厚さを薄くすればスリット孔無
しでも折り曲げが可能であり上記フレックス処理工程が
不要となるメリットもある。
On the other hand, in the COF method using a material having an extremely thin copper foil, it is often difficult to form slit holes. On the other hand, if the thickness of the base film is reduced, it is possible to bend even without slit holes. There is also an advantage that the flex processing step becomes unnecessary.

【0013】本発明のフレキシブルテープはCOF方式
に好適に使用できるものとして第1のフィルム層(a)
と、接着剤層(b)を介して第2のフィルム層(c)、
第2のフィルム層に形成された金属層(d)から主に構
成されており、接着剤層と第2のフィルム層が剥離する
際に第1のフィルム層と接着剤層が一体化し、容易に剥
離できるところに特徴がある。また、第2のフィルム層
と接着剤層が一体化し、第1のフィルム層と容易に剥離
できても構わない。
The flexible tape of the present invention is preferably used as a first film layer (a) for use in a COF system.
And a second film layer (c) via an adhesive layer (b),
It is mainly composed of the metal layer (d) formed on the second film layer, and when the adhesive layer and the second film layer are peeled off, the first film layer and the adhesive layer are integrated and easily formed. The feature is that it can be peeled off. Further, the second film layer and the adhesive layer may be integrated, and may be easily separated from the first film layer.

【0014】本発明において、ファインパターン形成が
容易となるため、金属層の厚さは12μm以下にするこ
とが好ましい、さらに好ましくは10μm、8μm、さ
らには6μmと薄くすることで、パターンの形状がくず
れることなくより高精細なパターンピッチを得ることが
可能となる。また、金属層の材料は、銅または銅合金箔
が好ましい。第2のフィルム層(c)の表面に金属層
(d)を形成する手段としては接着剤を用いて銅または
銅合金箔を張り合わせる方法、銅または銅合金箔にポリ
イミド前駆体を塗布乾燥する方法およびポリイミドなど
のフィルム表面に銅メッキする方法などがあるが、金属
層厚さを出来る限り薄くするのに最も好適な方法はフィ
ルム表面にメッキする方法である。
In the present invention, in order to facilitate the formation of a fine pattern, the thickness of the metal layer is preferably 12 μm or less, more preferably 10 μm, 8 μm, and further preferably 6 μm, so that the shape of the pattern is reduced. It is possible to obtain a higher definition pattern pitch without breaking. The material of the metal layer is preferably copper or a copper alloy foil. Means for forming the metal layer (d) on the surface of the second film layer (c) include a method of laminating a copper or copper alloy foil using an adhesive, and applying a polyimide precursor to the copper or copper alloy foil and drying. There are a method and a method of copper plating on the surface of a film such as polyimide. The most preferable method for making the thickness of the metal layer as thin as possible is a method of plating on the film surface.

【0015】本発明の第2のフィルム層厚さはLCD駆
動ICのアウターリードボンディング時の折り曲げ実装
が容易となることから、好ましくは40μm以下、より
好ましくは、30μm、25μmと薄くすることにより
その効果が大きくなる。また、第1のフィルム層と第2
のフイルム層厚さの和については、レジスト塗布・露光
・現像・エッチングなどのパターン形成工程でのフィル
ム搬送が容易となることから、好ましくは60μm以
上、さらに好ましくは75μm以上である。なお、フィ
ルム搬送性を左右するフィルムの腰の強さはフィルムの
弾性率とフィルム厚さであり、特にフィルム厚さ依存性
が強い。
The thickness of the second film layer of the present invention is preferably reduced to 40 μm or less, more preferably 30 μm or 25 μm, because the LCD drive IC can be easily folded and mounted at the time of outer lead bonding. The effect increases. In addition, the first film layer and the second
Is preferably 60 μm or more, more preferably 75 μm or more, because the film can be easily transported in a pattern forming process such as resist coating, exposure, development and etching. Note that the stiffness of the film, which affects the film transportability, is the elastic modulus and the film thickness of the film, and is particularly strongly dependent on the film thickness.

【0016】本発明のフレキシブルテープに用いる第1
および第2のフイルムは耐熱性、寸法安定性、耐薬品
性、電気絶縁性などを満足しておれば材質は特に限定さ
れないが、代表的なものとしては”カプトン”、”アピ
カル”、”ユーピレツクス”などに代表されるポリイミ
ドフィルムがあげられる。
The first type used for the flexible tape of the present invention
The material of the second film is not particularly limited as long as it satisfies heat resistance, dimensional stability, chemical resistance, electrical insulation, and the like, but typical examples include “Kapton”, “apical”, and “upilex”. And the like.

【0017】接着剤層(b)の材質については、TAB
テープのパターン加工工程を通ることより、この工程で
剥離や薬液浸透による損傷を避けるため、通常使用され
るTABテープ用接着剤が好適に用いられるが、最終的
には導体の接着機能や絶縁機能を必要とするものではな
いことより他の接着剤も使用可能であり、特に限定する
ものではない。但し、最終工程で第1のフィルム層
(a)は単独または接着剤層(b)と一体化して容易に
剥離手出来ることが必要である。また接着剤の厚さにつ
いては特に限定されず、通常3〜30μmの範囲で適宜
選択される。
For the material of the adhesive layer (b), TAB
Usually, a TAB tape adhesive is preferably used to avoid damage due to peeling or chemical penetration during the tape patterning process, but ultimately a conductor bonding function or an insulating function is used. Since other adhesives are not required, other adhesives can be used, and there is no particular limitation. However, in the final step, it is necessary that the first film layer (a) can be easily peeled off alone or integrated with the adhesive layer (b). The thickness of the adhesive is not particularly limited, and is usually appropriately selected in the range of 3 to 30 μm.

【0018】本発明においては、接着剤層(b)、第1
のフィルム層(a)、第2のフィルム層(c)の材質に
もよるが、剥離をより容易にし、剥離した後のテープの
形状を安定させるために、目的とする剥離界面に離型処
理層を存在させることがよい。具体的には、第1のフィ
ルム層(a)と接着剤層(b)の界面、もしくは接着剤
層(b)と第2のフィルム層(c)の界面であって、そ
のいずれか一つでよい。また、離型処理層の材質は、目
的とする離型性をもつものであれば特に限定はされない
が、シリコーン系離型剤が好ましく用いられる。具体的
には東レダウコーニング(株)製シリコーン離型剤SR
X−244、SRX−345、SRX−357、SRX
−370、SD−7223、SD−7227などを適宜
選択して使用できる。実際の離型層は、それぞれの離型
剤を溶解希釈し、対応する所定の硬化触媒を規定量添加
してフィルム面に塗布・乾燥熱処理をして形成される。
In the present invention, the adhesive layer (b), the first
Although it depends on the material of the film layer (a) and the second film layer (c), in order to make the peeling easier and to stabilize the shape of the tape after the peeling, a release treatment is performed on the target peeling interface. Preferably a layer is present. Specifically, an interface between the first film layer (a) and the adhesive layer (b) or an interface between the adhesive layer (b) and the second film layer (c), and any one of them Is fine. The material of the release treatment layer is not particularly limited as long as it has a desired release property, but a silicone release agent is preferably used. Specifically, Toray Dow Corning Co., Ltd. silicone release agent SR
X-244, SRX-345, SRX-357, SRX
-370, SD-7223, SD-7227 and the like can be appropriately selected and used. An actual release layer is formed by dissolving and diluting each release agent, adding a predetermined amount of a corresponding predetermined curing catalyst, and applying and drying heat treatment on the film surface.

【0019】本発明において、第1のフィルム層(a)
からの剥離、または第1のフィルム層(a)と接着剤層
(b)は一体化したものの剥離について、容易に剥離分
離除去するための剥離強度は3N/cm以下、好ましく
は1N/cm以下、更に好ましくは0.5N/cm以下
である。但し、0.1N/cm以下になるとパターン形成
工程搬送時に剥離してしまうため好ましくない。
In the present invention, the first film layer (a)
, Or the first film layer (a) and the adhesive layer (b) are integrated, but the peel strength for easily separating and removing is 3 N / cm or less, preferably 1 N / cm or less. , More preferably 0.5 N / cm or less. However, if it is 0.1 N / cm or less, it is not preferable because it peels off during the conveyance of the pattern forming step.

【0020】また剥離強度の測定方法は、JIS−K
6854(接着剤の剥離強さ試験方法)で定める方法の内、
T形剥離試験に準じるものとする。
The measuring method of the peeling strength is described in JIS-K
6854 (Adhesive peel strength test method)
It shall conform to the T-type peel test.

【0021】本発明のフレキシブルテープの製造方法に
ついては、まず、第1のフィルム層に予め接着剤層を設
けておき、次いで金属層を形成した第2のフィルム層を
張り合わせる方法が好ましい。また離型処理層を設ける
場合は、(1)金属層(d)を形成した第2のフィルム
層(c)の、金属層が形成されていない面を予め離型処
理しておき、接着剤層(b)を設けた第1のフィルム層
(a)と張り合わせる、(2)金属層(d)を形成した
第2のフィルム層(c)の、金属層が形成されていない
面を予め離型処理し、その離型処理面に接着剤層(b)
を形成したものを、第1のフィルム層(a)と張り合わ
せるなどの方法がある。
As for the method for producing the flexible tape of the present invention, it is preferable to first provide an adhesive layer on the first film layer, and then bond the second film layer having the metal layer formed thereon. When a release treatment layer is provided, (1) the surface of the second film layer (c) on which the metal layer (d) is formed, on which the metal layer is not formed, is subjected to release treatment in advance, and an adhesive (2) The surface of the second film layer (c) on which the metal layer (d) is formed, where the metal layer is not formed, is previously bonded to the first film layer (a) provided with the layer (b). Release treatment and adhesive layer (b) on the release treatment surface
Is formed on the first film layer (a).

【0022】また、各フィルムを張り合わせる方法とし
ては、ロールラミネート法が好適であるが、これに限定
されるものではない。
As a method for laminating each film, a roll lamination method is suitable, but not limited thereto.

【0023】本発明のフレキシブルテープの幅方向の構
成として接着剤層(b)、第2のフィルム層(c)およ
び金属層(d)は、第一のフィルム層(a)のテープ両
側端部に形成するスプロケット孔部分より内側に存在し
ていることが好ましい。この場合のテープの幅方向構成
は第2図に示す通りである。TABテープはテープエッ
ジ部にスプロケット孔(インデックスホール)を設けて
おき、各工程でのフィルム搬送、或いは露光工程などの
テープ送りや位置決めに利用している。本発明のフレキ
シブルテープも上記TABテープ生産ラインでパターン
加工(フオトレジスト塗布・露光・現像・エッチング・
メッキなど)するので、スプロケット孔部はパターン形
成をしない。即ちこの部分には金属層の存在は不要であ
るし、スプロケット孔部分に銅箔が存在しないことによ
り、フォトレジスト塗布時にフォトレジストがスプロケ
ット部分に広がらないなどの利点がある。さらにスプロ
ケット孔は金型によるプレス穿孔で形成されるので多層
構造となっているより単層である方がプレス穿孔し易い
などの利点もある。但し、この場合には第1のフィルム
層(a)の厚さは50μm以上であることが望ましい。
The adhesive layer (b), the second film layer (c) and the metal layer (d) of the flexible tape of the present invention in the width direction are formed by forming both ends of the first film layer (a) on both sides of the tape. It is preferable that the sprocket hole exists inside the sprocket hole portion formed at the bottom. The configuration in the width direction of the tape in this case is as shown in FIG. The TAB tape is provided with a sprocket hole (index hole) at the tape edge portion, and is used for film transport in each step or tape feeding and positioning in an exposure step. The flexible tape of the present invention is also subjected to pattern processing (photoresist coating, exposure, development, etching,
(For example, plating), so that the sprocket holes do not form a pattern. That is, there is no need to provide a metal layer in this portion, and there is an advantage that the photoresist does not spread to the sprocket portion at the time of applying the photoresist because the copper foil does not exist in the sprocket hole portion. Furthermore, since the sprocket holes are formed by press punching using a mold, there is an advantage that a single layer is easier to press punch than a multilayer structure. However, in this case, the thickness of the first film layer (a) is desirably 50 μm or more.

【0024】パターン形成後必要に応じて導体パターン
にスズ、金などのメッキを施しICが搭載される。IC
搭載前或いはIC搭載後にキャリヤである第1のフィル
ム層(a)または第1のフィルム層(a)と接着剤層
(b)は一体化して剥離分離除去して使用される。
After the pattern is formed, the conductor pattern is plated with tin, gold or the like as necessary, and the IC is mounted. IC
Before the mounting or after the mounting of the IC, the first film layer (a) or the first film layer (a), which is a carrier, and the adhesive layer (b) are integrated, peeled, separated and used.

【0025】本発明のフレキシブルテープは、金属層
(d)の厚さが12μm以下と薄いこと、第1のフィル
ム(a)と第2のフィルム(b)の厚さの和が60μm
以上と厚いこと、そのためTABテープ製造ラインで5
0μm未満の超ファインピッチの導体パターン形成が容
易である。さらに導体支持基板である第2のフィルム厚
さが薄く、かつ最終工程で第1のフィルム(a)または
第1のフィルムと接着剤層(c)が一体化して容易に剥
離除去できるので、液晶駆動ICを搭載したCOF基板
として、折り曲げ方式で液晶パネルに接続が可能とな
る。
In the flexible tape of the present invention, the thickness of the metal layer (d) is as thin as 12 μm or less, and the sum of the thicknesses of the first film (a) and the second film (b) is 60 μm.
It is thicker than above.
It is easy to form a conductor pattern having an ultra fine pitch of less than 0 μm. Further, since the thickness of the second film serving as the conductor supporting substrate is small, and the first film (a) or the first film and the adhesive layer (c) are integrated and can be easily peeled off in the final step, the liquid crystal As a COF substrate on which a driving IC is mounted, it can be connected to a liquid crystal panel by a bending method.

【0026】また、本発明のフレキシブルテープは上記
用途のみならず折り曲げが容易でかつ超ファインピッチ
のフレキシブル基板を必要とする用途には極めて好適に
使用できる。
In addition, the flexible tape of the present invention can be extremely suitably used not only for the above-mentioned applications but also for applications which are easy to bend and require a flexible substrate having an ultra fine pitch.

【0027】[0027]

【実施例】以下、実施例により本発明をさらに具体的に
説明する。
The present invention will be described more specifically with reference to the following examples.

【0028】実施例1 宇部興産(株)製ポリイミドフィルム”ユーピレック
ス”50S(厚さ50μm、幅508mm)にTABテ
ープ用接着剤#7100(東レ(株)製)を塗布乾燥し
て、第1のフィルム層(a)表面に接着剤層(b)を形
成した。接着剤の乾燥後の厚さは12μmである。な
お、接着剤乾燥後エージング熱処理を施し接着剤は半硬
化状態とした。
Example 1 An adhesive # 7100 for TAB tape (manufactured by Toray Industries, Inc.) was applied to a polyimide film "UPILEX" 50S (manufactured by Ube Industries, Ltd.) 50S (thickness: 50 μm, width: 508 mm) and dried. An adhesive layer (b) was formed on the surface of the film layer (a). The thickness of the adhesive after drying is 12 μm. The adhesive was dried and then subjected to an aging heat treatment to make the adhesive semi-cured.

【0029】これに、新日鐵化学(株)製無接着剤FP
C用銅張積層板”エスパネックス”SC12−25−0
0WE(ポリイミドフィルム層(c)の厚さ25μm,
銅箔層(d)の厚さ12μm、幅500mm)をロール
ラミネート法で張り合わせ、接着剤#7100の熱硬化
処理を施して、図1に示す構成のフレキシブルテープを
作成した。これを35mm幅にスリットしてTABテー
プ加工ラインで使用できるようにし、スプロケット孔を
形成した後銅箔の表面研磨(整面)処理・フォトレジス
ト塗布・パターン露光(パターンピッチ45μm、L/
S=25/20設定、出力数384本のLCD用TAB
モデルパターン)・現像・銅エッチング・ソルダーレジ
ス塗布・スズメッキと一連のTABテープ工程でパター
ン形成した。
In addition, the adhesive-free FP manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.
Copper-clad laminate for C "ESPANEX" SC12-25-0
0WE (polyimide film layer (c) thickness 25 μm,
A copper tape layer (d) having a thickness of 12 μm and a width of 500 mm) was adhered by a roll laminating method, and a thermosetting treatment of an adhesive # 7100 was performed to prepare a flexible tape having a configuration shown in FIG. This is slit to a width of 35 mm so that it can be used in a TAB tape processing line. After forming a sprocket hole, the surface of the copper foil is polished (regulated), photoresist is applied, and a pattern is exposed (pattern pitch 45 μm, L / L
S = 25/20 setting, 384 output TAB for LCD
A pattern was formed by a series of TAB tape processes of (model pattern), development, copper etching, solder resist coating, tin plating.

【0030】第1のフィルム層(a)と第2のフィルム
層(c)の厚さの和は75μmであり、TABテープ加
工ラインでの搬送性は良好であった。
The sum of the thicknesses of the first film layer (a) and the second film layer (c) was 75 μm, and the transportability in the TAB tape processing line was good.

【0031】なお、用いた銅箔厚さが12μmと薄いた
め、パターン欠損は発生せず導体断面形状も適正なもの
であった。
Since the copper foil used was as thin as 12 μm, no pattern loss occurred and the conductor cross-sectional shape was appropriate.

【0032】このテープの(a)+(b)//(c)+
(d)界面の剥離強度は2.8N/cmであり、剥離に
困難を伴わなかった。さらに第2のフィルム層(c)厚
さが25μmと薄いため、折り曲げ抵抗も低く折り曲げ
実装が容易であることも確認できた。
(A) + (b) // (c) +
(D) The peel strength at the interface was 2.8 N / cm, and there was no difficulty in peeling. Furthermore, since the thickness of the second film layer (c) was as thin as 25 μm, it was also confirmed that bending resistance was low and bending mounting was easy.

【0033】実施例2 ポリイミドフィルム表面にメッキ法で銅層が形成され
た、東洋メタライジング(株)製、接着剤無し2層FP
C基板”メタロイヤル”PI-25B-CCS-08(ポリイミドフ
ィルム層(c)の厚さ25μm、銅層(d)の厚さ8μ
m、幅500mm)のフィルム表面に縮合反応型シリコ
ーン系離型剤(東レダウコーニング(株)製SRX24
4/触媒SRX−224AC規定量、トルエン/n−ヘ
キサン=3/7混合溶剤、0.6%溶液)を塗布乾燥さ
せた(目付量0.1g/m2)。
Example 2 Two-layer adhesiveless FP manufactured by Toyo Metallizing Co., Ltd. having a copper layer formed on the surface of a polyimide film by plating.
C substrate "Metaroyal" PI-25B-CCS-08 (Polyimide film layer (c) thickness 25 μm, copper layer (d) thickness 8 μm
m, width of 500 mm) on a film surface of a condensation-reactive silicone release agent (SRX24 manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.
4 / Specified amount of catalyst SRX-224AC, toluene / n-hexane = 3/7 mixed solvent, 0.6% solution) was applied and dried (basis weight 0.1 g / m 2 ).

【0034】これを実施例1で使用したポリイミドフィ
ルム(a)/接着剤(b)積層体にロールラミネート法
で張り合わせ、接着剤#7100の熱硬化処理を施して
図1に示す構成のフレキシブルテープを作成した。
This was laminated to the polyimide film (a) / adhesive (b) laminate used in Example 1 by a roll laminating method, and subjected to a thermosetting treatment of an adhesive # 7100 to obtain a flexible tape having the structure shown in FIG. It was created.

【0035】このものを、実施例1と同様の方法でパタ
ーンピッチ35μm(L/S=20/15)のモデルサ
ンプルを作成した。銅箔厚さが8μmと薄いためパター
ン欠損無く良好な結果を得た。
A model sample having a pattern pitch of 35 μm (L / S = 20/15) was prepared in the same manner as in Example 1. Since the copper foil thickness was as thin as 8 μm, good results were obtained without pattern defects.

【0036】また、このものは第1のフィルム層と接着
剤層は一体化して第2のフィルム層から容易に剥離で
き、剥離強度は0.8N/cmであつた。
In addition, the first film layer and the adhesive layer were integrated and easily peeled from the second film layer, and the peel strength was 0.8 N / cm.

【0037】また第2のフィルム層(c)厚さが25μ
mと薄いため、折り曲げ抵抗も低く折り曲げ実装が容易
であることも確認できた。
The thickness of the second film layer (c) is 25 μm.
It was also confirmed that bending resistance was low and bending mounting was easy because of the small thickness of m.

【0038】実施例3 東レ(株)製TABテープ用フィルムキャリアテープ3
1N0−00JS(ベースフィルム:”ユーピレック
ス”75S(宇部興産(株)製)、幅48mm、接着剤
#7100(東レ(株)製)、接着剤幅41mm、接着
剤厚さ12μm)に、実施例2で使用した離型処理を施
した”メタロイヤル”PI-25B-CCS-08を41mm幅にス
リットしたものをロールラミネート法で張り合わせ、接
着剤の熱硬化処理を施して2図に示す構成のフレキシブ
ルテープを作成した。
Example 3 Film carrier tape 3 for TAB tape manufactured by Toray Industries, Inc.
1N0-00JS (base film: "UPILEX" 75S (manufactured by Ube Industries, Ltd.), width 48 mm, adhesive # 7100 (manufactured by Toray Industries, Ltd.), adhesive width 41 mm, adhesive thickness 12 μm) The "Metaroyal" PI-25B-CCS-08, which has been subjected to the release treatment used in Step 2, is slit to a width of 41 mm, bonded together by a roll lamination method, subjected to a thermosetting treatment of an adhesive, and configured as shown in FIG. A flexible tape was created.

【0039】これを用い、実施例1と同様の方法でパタ
ーンピッチ35μm(L/S=20/15)のモデルサ
ンプルを作成した。銅箔厚さが8μmと薄いためパター
ン欠損無く良好な結果を得た。
Using this, a model sample having a pattern pitch of 35 μm (L / S = 20/15) was prepared in the same manner as in Example 1. Since the copper foil thickness was as thin as 8 μm, good results were obtained without pattern defects.

【0040】また、このフレキシブルテープはスプロケ
ット孔形成部は第1のフィルム層(a)のみであるた
め、銅表面へのフォトレジスト塗布時にスプロケット孔
領域にレジストで汚染されず取り扱いが容易であった。
Further, since the sprocket hole forming portion of this flexible tape is only the first film layer (a), the sprocket hole region was not contaminated with the resist when the photoresist was applied to the copper surface, and was easy to handle. .

【0041】第1のフィルム層(a)と接着剤層(b)
は一体化して第2のフィルム層(c)から容易に剥離で
き、剥離強度は0.8N/cmであった。
First film layer (a) and adhesive layer (b)
Was integrated and easily peeled off from the second film layer (c), and the peel strength was 0.8 N / cm.

【0042】さらに、第2のフィルム層(c)厚さが2
5μmと薄いため、折り曲げ抵抗も低く折り曲げ実装が
容易であることも確認できた。
Further, the thickness of the second film layer (c) is 2
Since the thickness was as thin as 5 μm, it was also confirmed that bending resistance was low and bending mounting was easy.

【0043】実施例4 実施例2で使用した”メタロイヤル”PI-25-CCS-08のフ
ィルム表面にシリコーン系離型剤を塗布乾燥させた離型
処理層に、TABテープ用接着剤#7100を塗布乾燥
(塗布厚み8μm)させ、エージング熱処理により接着
剤を半硬化状態とした。このものに東レデュポン(株)
製ポリイミドフイルム”カプトン”200EN(厚み5
0μm)をロールラミネート法で張り合わせ接着剤の熱
硬化処理を施して図1に示す構成のフレキシブルテープ
を作成した。これを35mm幅にスリットして実施例1
と同様の方法でパターンピッチ35μm(L/S=20
/15)のモデルサンプルを作成した。銅箔厚さが8μ
mと薄いためパターン欠損無く良好な結果を得た。
Example 4 A TAB tape adhesive # 7100 was applied to a release layer obtained by applying and drying a silicone release agent on the film surface of "Metaroyal" PI-25-CCS-08 used in Example 2. Was applied and dried (application thickness: 8 μm), and the adhesive was semi-cured by aging heat treatment. To this product Toray Dupont Co., Ltd.
Polyimide film "Kapton" 200EN (thickness 5
0 μm) was subjected to a thermosetting treatment of a bonding adhesive by a roll lamination method to prepare a flexible tape having a configuration shown in FIG. Example 1
Pattern pitch 35 μm (L / S = 20)
/ 15) model sample was prepared. 8μ thick copper foil
Since m was thin, good results were obtained without pattern loss.

【0044】また、このものは第1のフィルム層と接着
剤層は一体化して第2のフィルム層から容易に剥離で
き、剥離強度は0.8N/cmであった。
In addition, the first film layer and the adhesive layer were integrated and easily peeled from the second film layer, and the peel strength was 0.8 N / cm.

【0045】さらに、第2のフィルム層(c)厚さが2
5μmと薄いため、折り曲げ抵抗も低く折り曲げ実装が
容易であることも確認できた。
Further, the thickness of the second film layer (c) is 2
Since the thickness was as thin as 5 μm, it was also confirmed that bending resistance was low and bending mounting was easy.

【0046】実施例5 東洋メタライジング(株)製”メタロイヤル”PI-25B-C
CS-08のポリイミドフイルム(c)面に東レ(株)製T
ABテープ用接着剤(b)#7100を塗布乾燥(乾燥
後の厚さ12μm)し、更にエージング熱処理により接
着剤を半硬化状態とした。これに実施例2で使用したと
同じシリコーン系離型剤で予め離型処理したポリイミド
フィルム”(a)ユーピレックス”50S(厚さ50μ
m)をロールラミネート法で張り合わせ、接着剤の熱硬
化処理を施して図1に示す構成のフレキシブルテープを
作成した。これを35mm幅にスリットして実施例1と
同様の方法でパターンピッチ35μm(L/S=20/
15)のモデルサンプルを作成した。銅箔厚さが8μm
と薄いためパターン欠損無く良好な結果を得た。
Example 5 "Metaroyal" PI-25B-C manufactured by Toyo Metallizing Co., Ltd.
Toray Co., Ltd. T
The AB tape adhesive (b) # 7100 was applied and dried (dry thickness: 12 μm), and further the adhesive was semi-cured by aging heat treatment. A polyimide film "(a) Upilex" 50S (thickness: 50 μm) which was previously subjected to release treatment with the same silicone release agent as used in Example 2 was used.
m) were laminated by a roll laminating method, and a thermosetting treatment of an adhesive was performed to prepare a flexible tape having a configuration shown in FIG. This was slit to a width of 35 mm, and a pattern pitch of 35 μm (L / S = 20 /
15) A model sample was prepared. Copper foil thickness is 8μm
As a result, good results were obtained without pattern defects.

【0047】また、このものは第1のフィルム層と接着
剤層は一体化して第2のフィルム層から容易に剥離で
き、剥離強度は0.8N/cmであった。
In addition, the first film layer and the adhesive layer were integrated and could be easily peeled off from the second film layer, and the peel strength was 0.8 N / cm.

【0048】さらに、第2のフィルム層(c)厚さが2
5μmと薄いため、折り曲げ抵抗も低く折り曲げ実装が
容易であることも確認できた。
Further, the thickness of the second film layer (c) is 2
Since the thickness was as thin as 5 μm, it was also confirmed that bending resistance was low and bending mounting was easy.

【0049】[0049]

【発明の効果】本発明のフレキシブルテープを使用すれ
ば、TABテープ加工ラインを使用して50μm未満の
超ファインピッチフレキシブル基板が歩留まり良く生産
でき、これにCOF方式で液晶駆動ICを搭載した後、
液晶パネルに折り曲げ実装ができる。
By using the flexible tape of the present invention, an ultra-fine pitch flexible substrate of less than 50 μm can be produced with good yield using a TAB tape processing line.
Can be folded and mounted on liquid crystal panels.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のフレキシブルテープの基本構成断面
図。
FIG. 1 is a sectional view showing the basic structure of a flexible tape according to the present invention.

【図2】本発明の請求項9に記載のフレキシブルテープ
幅方向断面。
FIG. 2 is a cross-sectional view in the width direction of the flexible tape according to claim 9 of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 第1のフィルム層(a) 2 接着剤層(b) 3 第2のフィルム層(c) 4 金属層(d) 5 テープ端部スプロケット孔形成部 Reference Signs List 1 first film layer (a) 2 adhesive layer (b) 3 second film layer (c) 4 metal layer (d) 5 tape end sprocket hole forming portion

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】第1のフィルム層(a)と、接着剤層
(b)を介して第2のフィルム層(c)からなり、第2
のフィルム層表面に金属層(d)が形成され、第1のフ
ィルム層(a)と接着剤層(b)が一体化して第2のフ
ィルム層(c)の裏面から容易に剥離して分離できるこ
とを特徴とするフレキシブルテープ。
1. A first film layer (a) comprising a first film layer (a) and a second film layer (c) via an adhesive layer (b).
A metal layer (d) is formed on the surface of the film layer, and the first film layer (a) and the adhesive layer (b) are integrated and easily peeled off from the back surface of the second film layer (c) and separated. Flexible tape characterized by being able to.
【請求項2】第2のフィルム層表面に形成される金属層
(d)の厚さが12μm以下であることを特徴とする請
求項1記載のフレキシブルテープ
2. The flexible tape according to claim 1, wherein the thickness of the metal layer (d) formed on the surface of the second film layer is 12 μm or less.
【請求項3】請求項1に記載のフレキシブルテープであ
って、第2のフィルム層(c)と接着剤層(b)が一体
化して第1のフィルム層(a)と容易に剥離して分離で
きることを特徴とするフレキシブルテープ。
3. The flexible tape according to claim 1, wherein the second film layer (c) and the adhesive layer (b) are integrated and easily peeled off from the first film layer (a). Flexible tape characterized by being separable.
【請求項4】第1のフィルム層(a)と接着剤層(b)
の界面、もしくは接着剤層(b)と第2のフィルム層
(c)の界面に離型処理層が存在することを特徴とする
請求項1または3記載のフレキシブルテープ。
4. A first film layer (a) and an adhesive layer (b)
4. The flexible tape according to claim 1, wherein a release treatment layer is present at an interface of the adhesive layer or at an interface between the adhesive layer (b) and the second film layer (c).
【請求項5】離型処理層はシリコーン系化合物を含むこ
とを特徴とする請求項4記載のフレキシブルテープ。
5. The flexible tape according to claim 4, wherein the release treatment layer contains a silicone compound.
【請求項6】第2のフィルム層(c)の厚さは40μm
以下、および第1と第2のフィルム厚さの和が60μm
以上であることを特徴とする請求項1記載のフレキシブ
ルテープ。
6. The thickness of the second film layer (c) is 40 μm.
Below, and the sum of the first and second film thicknesses is 60 μm
The flexible tape according to claim 1, wherein:
【請求項7】第1のフィルム層(a)と接着剤層(b)
が一体化したものの第2のフィルム層(c)裏面からの
剥離強度は3N/cm未満であることを特徴とする請求
項1記載のフレキシブルテープ。
7. A first film layer (a) and an adhesive layer (b)
2. The flexible tape according to claim 1, wherein the peel strength from the back surface of the second film layer (c) is less than 3 N / cm.
【請求項8】接着剤層(b)、第2のフィルム層(c)、およ
び金属層(d)の幅は第1のフィルム層(a)のテープ両端部
に形成するスプロケット孔部分より内側に存在している
ことを特徴とする請求項1のフレキシブルテープ。
8. The widths of the adhesive layer (b), the second film layer (c), and the metal layer (d) are inside the sprocket holes formed at both ends of the tape of the first film layer (a). The flexible tape according to claim 1, wherein
【請求項9】第一のフィルム層(a)表面に予め接着剤
層(b)を設けておき、金属層(d)を形成した第2の
フィルム層(c)を張り合わせることを特徴とする請求
項1記載のフレキシブルテープの製造方法。
9. An adhesive layer (b) is provided on the surface of the first film layer (a) in advance, and the second film layer (c) on which the metal layer (d) is formed is laminated. The method for producing a flexible tape according to claim 1.
【請求項10】金属層(d)を形成した第2のフィルム
層(c)の、金属層が形成されていない面を予め離型処
理しておき、接着剤層(b)を設けた第1のフィルム層
(a)と張り合わせることを特徴とする請求項1記載の
フレキシブルテープの製造方法。
10. A second film layer (c) on which a metal layer (d) is formed, a surface of the second film layer (c) on which the metal layer is not formed is subjected to a mold release treatment in advance, and an adhesive layer (b) is provided. 2. The method for producing a flexible tape according to claim 1, wherein the flexible tape is laminated with the first film layer (a).
【請求項11】金属層(d)を形成した第2のフィルム
層(c)の、金属層が形成されていない面を予め離型処
理し、その離型処理面に接着剤層(b)を形成したもの
を、第1のフィルム層(a)と張り合わせることを特徴
とする請求項1記載のフレキシブルテープの製造方法。
11. A surface of the second film layer (c) on which the metal layer (d) is formed, on which the metal layer is not formed, is subjected to a release treatment in advance, and an adhesive layer (b) is formed on the release treated surface. 2. The method for producing a flexible tape according to claim 1, wherein the formed film is bonded to the first film layer (a).
【請求項12】金属層(d)を形成した第2のフィルム
層(c)の、金属層が形成されていない面に接着剤層
(b)を形成したものを、予め離型処理した第1のフィ
ルム層(a)と張り合わせることを特徴とする請求項1
記載のフレキシブルテープの製造方法。
12. A second film layer (c) on which a metal layer (d) is formed, wherein an adhesive layer (b) is formed on a surface on which the metal layer is not formed, is subjected to a mold release treatment in advance. 2. A laminate according to claim 1, wherein said laminate is laminated with said first film layer (a).
A method for producing the flexible tape according to the above.
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