JP2001298076A - 基板搬送コンテナ - Google Patents
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Abstract
収納することができ、電子基板表面での自然酸化膜の生
成を防止することが可能で、かつ外部から収納状態を検
知可能な密閉式の基板搬送コンテナを提供する。 【解決手段】 電子基板Wを出し入れするための開口部
21を有するコンテナ本体2と、この開口部21を密閉
する底蓋3とを備えた基板搬送コンテナ1において、コ
ンテナ本体2及び底蓋3が、非晶質ポリオレフィンを主
成分として構成されている。吸湿性の低い非晶質ポリオ
レフィンを主成分としてコンテナ本体や底蓋を構成する
ことで、内壁からの水分の放出を小さく抑え、密閉内部
における水分濃度の上昇を防止する。
Description
に関し、特には、半導体ウエハや液晶基板等の電子基板
の搬送に用いられる密閉式の基板搬送コンテナに関す
る。
等の電子基板を用いた電子機器の製造は、発塵のないク
リーンルーム内において行われている。一方、プロセス
処理装置間において電子基板を搬送する場合には、可搬
式で密閉可能な局所清浄化コンテナ(すなわち基板搬送
コンテナ)内に、カセットに保持させた電子基板を収納
した状態で行う。これによって、クリーンルームの内外
において、電子基板を大気中の塵埃に暴露させることな
く電子基板を搬送することができる。このような基板搬
送コンテナは、SMIF(Standard Mechanical Interf
ace )ポッドという商品名(アシストテクノロジー社)
で市販されている。
入を防止できるレベルで内部が密閉されるが、酸素、水
分、揮発性有機物等の低分子は容易に内部に侵入する。
このため、工程間搬送中に侵入した低分子によって、内
部に収納された電子基板が汚染され、例えば、半導体ウ
エハの表面に自然酸化膜が成長したり、有機物やホウ
素、リン等の分子吸着汚染が起こる。最先端のデバイス
においては、このような汚染がデバイス特性に大きな影
響を与える要因になる。
ランジを設け、底蓋の周縁に設けたOリングをこのフラ
ンジに密着させることによって、基板搬送コンテナ内部
の密閉性を高め、低分子の浸入を抑えた基板搬送コンテ
ナが特開平10-56050に開示されている。そして、例えば
半導体ウエハのように、高い清浄度が要求される電子基
板を搬送する場合には、基板が収納された基板搬送コン
テナの内部をアルゴン(Ar)や窒素ガス(N2)等の
不活性なガス(以下、不活性ガスと記す)で置換する。
この際、不活性ガスによるコンテナの内部雰囲気の置換
は、底蓋を開閉する都度行われ、これによって電子基板
への有機物、ホウ素、燐等の分子吸着汚染や、電子基板
表面への自然酸化膜の形成を防止している。
基板搬送コンテナは、ポリカーボネートのようなプラス
ティック材料を用いて構成されている。ポリカーボネー
トは吸水率20%と、吸湿性の高い材料であるため、時
間経過にともなって内壁から水分が徐々に放出される。
このため、密閉された基板搬送コンテナ内部の水分濃度
を長期間に亘って低く保つことができず、内部に収納さ
れた電子基板の表面に自然酸化膜が形成される。
た場合には、コンテナを洗浄する必要があるが、ポリカ
ーボネートは除電効果を有する洗浄液の一つであるIP
A(イソプロピルアルコール)に侵食されるため、これ
を使用できないと言った問題もある。
目的として、金属材料を用いて基板搬送コンテナを構成
した場合、基板搬送コンテナ内の水分濃度を低く抑える
ことができる。ところが、金属材料からなる基板搬送コ
ンテナは重く、搬送に適しているとは言い難い。さら
に、金属材料からなる基板搬送コンテナは、切削によっ
て形成されるため、生産性が悪くコストが高くなる。し
かも、内部に収納された電子基板を、赤外線などによっ
て外部から検知できないと言った問題もある。
部の水分濃度を低く抑えて電子基板を密閉収納すること
ができ、これにより電子基板表面での自然酸化膜の生成
を防止することが可能で、かつ密閉状態において内部の
電子基板を検知可能な基板搬送コンテナを提供すること
を目的とする。
るための本発明の基板搬送コンテナは、電子基板を出し
入れするための開口部を有するコンテナ本体と、この開
口部を密閉する底蓋とを備えた基板搬送コンテナにおい
て、少なくともコンテナ本体及び底蓋の一方が、非晶質
ポリオレフィンを主成分として構成されたことを特徴と
している。
が低い非晶質ポリオレフィンを主成分としてコンテナ本
体や底蓋が構成されている。このため、内壁からの水分
の放出が小さく抑えられ、長期間に亘って密閉した場合
であっても密閉内部の水分濃度の上昇が抑えられる。さ
らに、非晶質ポリオレフィンは透明性を有しているた
め、密閉状態であっても内部に収納した電子基板が検知
される。
の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。
搬送コンテナの構成及びこれを用いた基板収納方法を説
明する図である。
基板(例えば半導体ウエハ)Wを収納するコンテナ本体
2と、底蓋3とを備えている。
持したキャリアLを収納できる程度の大きさを有してお
り、底面側にはキャリアLを出し入れするための開口部
21が設けられている。そして、開口部21の周縁部分
は、全周に亘って外方向に折り曲げられたフランジ22
として構成されている。
塞ぐ大きさを有しており、開口部21を塞いだ状態で底
蓋3のフランジ22に対して周縁部分が当接される。こ
の底蓋3には、コンテナ本体2の開口部21を塞いだ状
態でフランジ22に当接される周縁部分に、底蓋3の全
周に亘る2重のOリング溝31が形成されている。そし
て、これらのOリング溝31の内部には、Oリング4が
内設されている。
位置には、底蓋3の全周に亘る真空溝32が、部分的に
Oリング溝31に連通される状態(図示省略)で設けら
れている。また、底蓋3には、コンテナ本体2の開口部
21を塞いだ状態で、真空溝32と外部とを接続する2
本の配管33,33が設けられている。これらの配管3
3,33には、バルブ34が備えられていることとす
る。
晶質ポリオレフィンを主成分とする材料によって構成さ
れていることとする。
体の主鎖または側鎖に飽和炭化水素環構造を有する環状
オレフィン樹脂であり、単環シクロオレフィンやノルボ
ンネル環を有するモノマーのうち不飽和結合が一つのモ
ノマーの開環重合体、及びこれらの開環重合体の水素化
物である。
ば、シクロブテン、1−メチルシクロペンテン、3−メ
チルシクロブテン、3,4−ジイソプロペニルシクロブ
テン、シクロペンテン、3−メチルシクロペンテン、シ
クロヘキセン、シクロオクテン、1−メチルシクロオク
テン、5−メチルシクロオクテン、シクロオクタテトラ
エン、シクロドデセン等が挙げられる。
うち不飽和結合が一つのものとしては、例えば、2−メ
チル−ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン、2,
2−ジメチル−ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エ
ン、2−エチル−ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−
エン、2−ブチル−ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2
−エン、2−ヘキシル−ビシクロ[2.2.1]ヘプタ
−2−エン、2−フェニル−ビシクロ[2.2.1]ヘ
プタ−2−エン、2−オクチル−ビシクロ[2.2.
1]ヘプタ−2−エン、2−オクタデシル−ビシクロ
[2.2.1]ヘプタ−2−エン等が挙げられる。
1に電子基板Wを収納する場合に用いられる基板搬送装
置5の構成を説明する。
略したプロセス処理装置に併設されているものであり、
基板搬送コンテナ1の底蓋3を載置した状態で昇降する
昇降機6を備えている。この昇降機6には、昇降機6上
に載置された底蓋3の配管33,33に接続されるガス
導入管7及び排気管8が固定されており、排気管8には
排気ポンプ81が備えられている。
い径で上面を開口させた筐体9内に配置されている。こ
の筐体9は、昇降機6上に基板搬送コンテナ1を載置し
た状態で、コンテナ本体2のフランジ22の最外周部分
を当該筐体9の上端で支持すると共に、筐体9の上面の
開口がコンテナ本体2によって塞がれるように構成され
ている。尚、ここでの図示は省略したが、筐体9は、プ
ロセス処理装置の電子基板導入室と連通されると共に、
排気管や不活性ガスの導入管が設けられていることとす
る。
搬送コンテナ1内に電子基板Wを収納する手順を説明す
る。
した電子基板Wは、底蓋3上のカセットL内に保持され
た状態で昇降機6上に載置されていることとする。この
状態においては、底蓋3の配管33,33とガス導入管
7及び排気管8とが接続された状態になっている。ま
た、基板搬送装置5の筐体9上には、筐体9の上端にフ
ランジ22を支持させた状態で、コンテナ本体2が載置
されていることとする。
部を、不活性ガスで十分に置換するか、または減圧状態
にした後、電子基板Wが載置された昇降機6を上昇させ
る。これによって、不活性ガス雰囲気または減圧状態に
保たれたコンテナ本体2内にカセットLが収納され、コ
ンテナ本体2のフランジ22によって底蓋3のOリング
溝31及び真空溝32が塞がれることになる。
配管33のバルブ34を開き、排気管8に設けられてい
る真空ポンプ81を作動させる。これによって、配管3
3に連通する真空溝32内及びOリング溝31内のガス
を排気して減圧し、コンテナ本体2に対して底蓋3を真
空吸着させると共に、Oリング4をフランジ22に押し
圧させてコンテナ本体2内を密閉する。その後、排気ポ
ンプ81を停止させると共に配管33のバルブ34を閉
じ、不活性ガス雰囲気(または減圧状態)に保たれた基
板搬送コンテナ1内に電子基板Wを密閉収納する。
搬送コンテナ1を、基板搬送装置5から離脱させる。こ
の際、筐体9内が減圧状態である場合には、筐体9内を
大気圧に戻すことによって、筐体9に対する基板搬送コ
ンテナ1の密着状態を開放する。その後、基板搬送コン
テナ1を、次の工程に搬送する。
1内に密閉収納された電子基板Wを、基板搬送コンテナ
1内から搬出する場合には次のようにする。先ず、次工
程のプロセス処理装置に併設された基板搬送装置5の昇
降機6上に、基板搬送コンテナ1を載置する。この際、
底蓋3の配管33,33をガス導入管7及び排気管8に
接続させるようにする。次に、ガス導入管7に接続され
ている配管33のバルブ34を開き、ガス導入管7から
配管33に不活性ガスを導入し、配管33に連通する真
空溝32内及びOリング溝31内に不活性ガスを供給す
る。これによって、真空溝32内及びOリング溝31内
を加圧し、コンテナ本体2のフランジ22に対する底蓋
3の密着状態を開放する。
降させる。これによって、コンテナ本体2が筐体9の上
端に支持された状態で、底蓋3が昇降機6と共に筐体9
内に降下し、コンテナ本体2内から筐体9内に電子基板
Wが搬出される。
送コンテナ1は、吸湿性が低い非晶質ポリオレフィンを
主成分としてコンテナ本体2や底蓋3が構成されている
ため、内壁からの水分の放出を小さく抑えることができ
る。したがって、長期間に亘って密閉した場合であって
も、密閉内部における水分濃度の上昇を抑えることがで
き、内部に密閉収納した電子基板表面での自然酸化膜の
形成を防止することができる。この結果、この基板搬送
コンテナ1内に密閉収納された電子基板を用いて形成さ
れる製品(例えば半導体装置)においては、電気的特性
等の品質を保持することが可能になると共に歩留まりの
向上を図ることが可能になる。
有するため、基板搬送コンテナ1を密閉した状態であっ
ても、内部に収納した電子基板Wを外部から検知するこ
とが可能である。また、ポリカーボネートで構成された
ものと異なり、非晶質ポリオレフィンで構成された基板
搬送コンテナ1は、IPAに侵食されることはない。こ
のため、基板搬送コンテナ1が微粒子汚染された場合
に、除電効果を有するIPAを用いた洗浄を行うことが
できる。
コンテナ1が構成されているため、金属材料を用いた場
合と比較して軽量でかつ成形性にも優れている。このた
め、この基板搬送コンテナ1は、容易に搬送可能でかつ
生産性が高く製造コストの安いものとなる。
の水分濃度の経時変化を示すグラフである。ここでは、
実施形態の非晶質ポリオレフィンを主成分とする基板搬
送コンテナ、及び従来のポリカーボネートを主成分とす
る基板搬送コンテナに関し、コンテナ本体内を窒素ガス
で置換して水分濃度を約10ppmにまで低減して密閉
した後の水分濃度の経時変化を測定した。尚、非晶質ポ
リオレフィンは吸水率0.01%程度であり、ポリカー
ボネートは吸水率0.2%程度である。
コンテナ(ポリカーボネート製)における水分濃度と
比較して、実施形態の基板搬送コンテナ(非晶質ポリオ
レフィン製)における水分濃度の経時的な上昇が低く
抑えられ、コンテナ内壁からの水分放出が少ないことが
確認された。
ンテナによれば、吸湿性が低い非晶質ポリオレフィンを
主成分としてコンテナ本体や底蓋を構成することで、長
期の密閉状態においても内壁からの水分の放出を抑えて
密閉内部の水分濃度を低く保つことができ、内部に収納
された電子基板表面での自然酸化膜の生成を防止するこ
とが可能になる。しかも、非晶質ポリオレフィンは透明
性を有するため、密閉状態であっても電子基板の収納状
態を外部から検知することが可能である。
用いた基板収納方法を説明する構成図である。
示すグラフである。
21開口部、W…電子基板
基板搬送コンテナは、ポリカーボネートのような透明プ
ラスティック材料を用いて構成されている。ポリカーボ
ネートは吸水率0.2%と、吸湿性の高い材料であるた
め、時間経過にともなって内壁から水分が徐々に放出さ
れる。このため、密閉された基板搬送コンテナ内部の水
分濃度を長期間に亘って低く保つことができず、内部に
収納された電子基板の表面に自然酸化膜が形成される。
Claims (1)
- 【請求項1】 電子基板を出し入れするための開口部を
有するコンテナ本体と、前記開口部を密閉する底蓋とを
備えた基板搬送コンテナにおいて、 少なくとも前記コンテナ本体及び底蓋の一方が、非晶質
ポリオレフィンを主成分として構成されたことを特徴と
する基板搬送コンテナ。
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