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JP2001298076A - 基板搬送コンテナ - Google Patents

基板搬送コンテナ

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Publication number
JP2001298076A
JP2001298076A JP2000110138A JP2000110138A JP2001298076A JP 2001298076 A JP2001298076 A JP 2001298076A JP 2000110138 A JP2000110138 A JP 2000110138A JP 2000110138 A JP2000110138 A JP 2000110138A JP 2001298076 A JP2001298076 A JP 2001298076A
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JP
Japan
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substrate
container
substrate transport
transport container
bottom cover
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Pending
Application number
JP2000110138A
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English (en)
Inventor
Koichiro Saga
幸一郎 嵯峨
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
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Priority to TW090108537A priority patent/TW499726B/zh
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Priority to KR1020010019291A priority patent/KR100760597B1/ko
Priority to EP01400938A priority patent/EP1146547A3/en
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 内部の水分濃度上昇を低く抑えて電子基板を
収納することができ、電子基板表面での自然酸化膜の生
成を防止することが可能で、かつ外部から収納状態を検
知可能な密閉式の基板搬送コンテナを提供する。 【解決手段】 電子基板Wを出し入れするための開口部
21を有するコンテナ本体2と、この開口部21を密閉
する底蓋3とを備えた基板搬送コンテナ1において、コ
ンテナ本体2及び底蓋3が、非晶質ポリオレフィンを主
成分として構成されている。吸湿性の低い非晶質ポリオ
レフィンを主成分としてコンテナ本体や底蓋を構成する
ことで、内壁からの水分の放出を小さく抑え、密閉内部
における水分濃度の上昇を防止する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、基板搬送コンテナ
に関し、特には、半導体ウエハや液晶基板等の電子基板
の搬送に用いられる密閉式の基板搬送コンテナに関す
る。
【0002】
【従来の技術】半導体ウエハ、液晶基板、磁気ディスク
等の電子基板を用いた電子機器の製造は、発塵のないク
リーンルーム内において行われている。一方、プロセス
処理装置間において電子基板を搬送する場合には、可搬
式で密閉可能な局所清浄化コンテナ(すなわち基板搬送
コンテナ)内に、カセットに保持させた電子基板を収納
した状態で行う。これによって、クリーンルームの内外
において、電子基板を大気中の塵埃に暴露させることな
く電子基板を搬送することができる。このような基板搬
送コンテナは、SMIF(Standard Mechanical Interf
ace )ポッドという商品名(アシストテクノロジー社)
で市販されている。
【0003】このSMIFポッドは、大気中の塵埃の混
入を防止できるレベルで内部が密閉されるが、酸素、水
分、揮発性有機物等の低分子は容易に内部に侵入する。
このため、工程間搬送中に侵入した低分子によって、内
部に収納された電子基板が汚染され、例えば、半導体ウ
エハの表面に自然酸化膜が成長したり、有機物やホウ
素、リン等の分子吸着汚染が起こる。最先端のデバイス
においては、このような汚染がデバイス特性に大きな影
響を与える要因になる。
【0004】そこで、コンテナ本体の開口部の周縁にフ
ランジを設け、底蓋の周縁に設けたOリングをこのフラ
ンジに密着させることによって、基板搬送コンテナ内部
の密閉性を高め、低分子の浸入を抑えた基板搬送コンテ
ナが特開平10-56050に開示されている。そして、例えば
半導体ウエハのように、高い清浄度が要求される電子基
板を搬送する場合には、基板が収納された基板搬送コン
テナの内部をアルゴン(Ar)や窒素ガス(N2)等の
不活性なガス(以下、不活性ガスと記す)で置換する。
この際、不活性ガスによるコンテナの内部雰囲気の置換
は、底蓋を開閉する都度行われ、これによって電子基板
への有機物、ホウ素、燐等の分子吸着汚染や、電子基板
表面への自然酸化膜の形成を防止している。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記構成の
基板搬送コンテナは、ポリカーボネートのようなプラス
ティック材料を用いて構成されている。ポリカーボネー
トは吸水率20%と、吸湿性の高い材料であるため、時
間経過にともなって内壁から水分が徐々に放出される。
このため、密閉された基板搬送コンテナ内部の水分濃度
を長期間に亘って低く保つことができず、内部に収納さ
れた電子基板の表面に自然酸化膜が形成される。
【0006】また、コンテナの内部が微粒子で汚染され
た場合には、コンテナを洗浄する必要があるが、ポリカ
ーボネートは除電効果を有する洗浄液の一つであるIP
A(イソプロピルアルコール)に侵食されるため、これ
を使用できないと言った問題もある。
【0007】一方、内壁からの水分放出を抑えることを
目的として、金属材料を用いて基板搬送コンテナを構成
した場合、基板搬送コンテナ内の水分濃度を低く抑える
ことができる。ところが、金属材料からなる基板搬送コ
ンテナは重く、搬送に適しているとは言い難い。さら
に、金属材料からなる基板搬送コンテナは、切削によっ
て形成されるため、生産性が悪くコストが高くなる。し
かも、内部に収納された電子基板を、赤外線などによっ
て外部から検知できないと言った問題もある。
【0008】そこで本発明は、長期の保存においても内
部の水分濃度を低く抑えて電子基板を密閉収納すること
ができ、これにより電子基板表面での自然酸化膜の生成
を防止することが可能で、かつ密閉状態において内部の
電子基板を検知可能な基板搬送コンテナを提供すること
を目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るための本発明の基板搬送コンテナは、電子基板を出し
入れするための開口部を有するコンテナ本体と、この開
口部を密閉する底蓋とを備えた基板搬送コンテナにおい
て、少なくともコンテナ本体及び底蓋の一方が、非晶質
ポリオレフィンを主成分として構成されたことを特徴と
している。
【0010】このような基板搬送コンテナでは、吸湿性
が低い非晶質ポリオレフィンを主成分としてコンテナ本
体や底蓋が構成されている。このため、内壁からの水分
の放出が小さく抑えられ、長期間に亘って密閉した場合
であっても密閉内部の水分濃度の上昇が抑えられる。さ
らに、非晶質ポリオレフィンは透明性を有しているた
め、密閉状態であっても内部に収納した電子基板が検知
される。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、本発明の基板搬送コンテナ
の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。
【0012】(第1実施形態)図1は、実施形態の基板
搬送コンテナの構成及びこれを用いた基板収納方法を説
明する図である。
【0013】この図に示す基板搬送コンテナ1は、電子
基板(例えば半導体ウエハ)Wを収納するコンテナ本体
2と、底蓋3とを備えている。
【0014】コンテナ本体2は、複数の電子基板Wを保
持したキャリアLを収納できる程度の大きさを有してお
り、底面側にはキャリアLを出し入れするための開口部
21が設けられている。そして、開口部21の周縁部分
は、全周に亘って外方向に折り曲げられたフランジ22
として構成されている。
【0015】底蓋3は、コンテナ本体2の開口部21を
塞ぐ大きさを有しており、開口部21を塞いだ状態で底
蓋3のフランジ22に対して周縁部分が当接される。こ
の底蓋3には、コンテナ本体2の開口部21を塞いだ状
態でフランジ22に当接される周縁部分に、底蓋3の全
周に亘る2重のOリング溝31が形成されている。そし
て、これらのOリング溝31の内部には、Oリング4が
内設されている。
【0016】さらに、2重のOリング溝31に挟まれた
位置には、底蓋3の全周に亘る真空溝32が、部分的に
Oリング溝31に連通される状態(図示省略)で設けら
れている。また、底蓋3には、コンテナ本体2の開口部
21を塞いだ状態で、真空溝32と外部とを接続する2
本の配管33,33が設けられている。これらの配管3
3,33には、バルブ34が備えられていることとす
る。
【0017】ここで、コンテナ本体2と底蓋3とは、非
晶質ポリオレフィンを主成分とする材料によって構成さ
れていることとする。
【0018】非晶質ポリオレフィンは、一般的に、重合
体の主鎖または側鎖に飽和炭化水素環構造を有する環状
オレフィン樹脂であり、単環シクロオレフィンやノルボ
ンネル環を有するモノマーのうち不飽和結合が一つのモ
ノマーの開環重合体、及びこれらの開環重合体の水素化
物である。
【0019】上記単環シクロオレフィンとしては、例え
ば、シクロブテン、1−メチルシクロペンテン、3−メ
チルシクロブテン、3,4−ジイソプロペニルシクロブ
テン、シクロペンテン、3−メチルシクロペンテン、シ
クロヘキセン、シクロオクテン、1−メチルシクロオク
テン、5−メチルシクロオクテン、シクロオクタテトラ
エン、シクロドデセン等が挙げられる。
【0020】また、ノルボンネル環を有するモノマーの
うち不飽和結合が一つのものとしては、例えば、2−メ
チル−ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エン、2,
2−ジメチル−ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−エ
ン、2−エチル−ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2−
エン、2−ブチル−ビシクロ[2.2.1]ヘプタ−2
−エン、2−ヘキシル−ビシクロ[2.2.1]ヘプタ
−2−エン、2−フェニル−ビシクロ[2.2.1]ヘ
プタ−2−エン、2−オクチル−ビシクロ[2.2.
1]ヘプタ−2−エン、2−オクタデシル−ビシクロ
[2.2.1]ヘプタ−2−エン等が挙げられる。
【0021】次に、このような構成の基板搬送コンテナ
1に電子基板Wを収納する場合に用いられる基板搬送装
置5の構成を説明する。
【0022】この基板搬送装置5は、ここでの図示を省
略したプロセス処理装置に併設されているものであり、
基板搬送コンテナ1の底蓋3を載置した状態で昇降する
昇降機6を備えている。この昇降機6には、昇降機6上
に載置された底蓋3の配管33,33に接続されるガス
導入管7及び排気管8が固定されており、排気管8には
排気ポンプ81が備えられている。
【0023】また、この昇降機6は、底蓋3よりも大き
い径で上面を開口させた筐体9内に配置されている。こ
の筐体9は、昇降機6上に基板搬送コンテナ1を載置し
た状態で、コンテナ本体2のフランジ22の最外周部分
を当該筐体9の上端で支持すると共に、筐体9の上面の
開口がコンテナ本体2によって塞がれるように構成され
ている。尚、ここでの図示は省略したが、筐体9は、プ
ロセス処理装置の電子基板導入室と連通されると共に、
排気管や不活性ガスの導入管が設けられていることとす
る。
【0024】次に、この基板搬送装置5を用いて、基板
搬送コンテナ1内に電子基板Wを収納する手順を説明す
る。
【0025】ここで、プロセス処理装置での処理が終了
した電子基板Wは、底蓋3上のカセットL内に保持され
た状態で昇降機6上に載置されていることとする。この
状態においては、底蓋3の配管33,33とガス導入管
7及び排気管8とが接続された状態になっている。ま
た、基板搬送装置5の筐体9上には、筐体9の上端にフ
ランジ22を支持させた状態で、コンテナ本体2が載置
されていることとする。
【0026】そこで先ず、コンテナ本体2及び筐体9内
部を、不活性ガスで十分に置換するか、または減圧状態
にした後、電子基板Wが載置された昇降機6を上昇させ
る。これによって、不活性ガス雰囲気または減圧状態に
保たれたコンテナ本体2内にカセットLが収納され、コ
ンテナ本体2のフランジ22によって底蓋3のOリング
溝31及び真空溝32が塞がれることになる。
【0027】次に、排気管8に接続されている底蓋3の
配管33のバルブ34を開き、排気管8に設けられてい
る真空ポンプ81を作動させる。これによって、配管3
3に連通する真空溝32内及びOリング溝31内のガス
を排気して減圧し、コンテナ本体2に対して底蓋3を真
空吸着させると共に、Oリング4をフランジ22に押し
圧させてコンテナ本体2内を密閉する。その後、排気ポ
ンプ81を停止させると共に配管33のバルブ34を閉
じ、不活性ガス雰囲気(または減圧状態)に保たれた基
板搬送コンテナ1内に電子基板Wを密閉収納する。
【0028】そして、電子基板Wが密閉収納された基板
搬送コンテナ1を、基板搬送装置5から離脱させる。こ
の際、筐体9内が減圧状態である場合には、筐体9内を
大気圧に戻すことによって、筐体9に対する基板搬送コ
ンテナ1の密着状態を開放する。その後、基板搬送コン
テナ1を、次の工程に搬送する。
【0029】また、以上のようにして基板搬送コンテナ
1内に密閉収納された電子基板Wを、基板搬送コンテナ
1内から搬出する場合には次のようにする。先ず、次工
程のプロセス処理装置に併設された基板搬送装置5の昇
降機6上に、基板搬送コンテナ1を載置する。この際、
底蓋3の配管33,33をガス導入管7及び排気管8に
接続させるようにする。次に、ガス導入管7に接続され
ている配管33のバルブ34を開き、ガス導入管7から
配管33に不活性ガスを導入し、配管33に連通する真
空溝32内及びOリング溝31内に不活性ガスを供給す
る。これによって、真空溝32内及びOリング溝31内
を加圧し、コンテナ本体2のフランジ22に対する底蓋
3の密着状態を開放する。
【0030】以上の後、基板搬送装置5の昇降機6を下
降させる。これによって、コンテナ本体2が筐体9の上
端に支持された状態で、底蓋3が昇降機6と共に筐体9
内に降下し、コンテナ本体2内から筐体9内に電子基板
Wが搬出される。
【0031】以上説明したようにして用いられる基板搬
送コンテナ1は、吸湿性が低い非晶質ポリオレフィンを
主成分としてコンテナ本体2や底蓋3が構成されている
ため、内壁からの水分の放出を小さく抑えることができ
る。したがって、長期間に亘って密閉した場合であって
も、密閉内部における水分濃度の上昇を抑えることがで
き、内部に密閉収納した電子基板表面での自然酸化膜の
形成を防止することができる。この結果、この基板搬送
コンテナ1内に密閉収納された電子基板を用いて形成さ
れる製品(例えば半導体装置)においては、電気的特性
等の品質を保持することが可能になると共に歩留まりの
向上を図ることが可能になる。
【0032】さらに、非晶質ポリオレフィンは透明性を
有するため、基板搬送コンテナ1を密閉した状態であっ
ても、内部に収納した電子基板Wを外部から検知するこ
とが可能である。また、ポリカーボネートで構成された
ものと異なり、非晶質ポリオレフィンで構成された基板
搬送コンテナ1は、IPAに侵食されることはない。こ
のため、基板搬送コンテナ1が微粒子汚染された場合
に、除電効果を有するIPAを用いた洗浄を行うことが
できる。
【0033】しかも、樹脂材料を主成分として基板搬送
コンテナ1が構成されているため、金属材料を用いた場
合と比較して軽量でかつ成形性にも優れている。このた
め、この基板搬送コンテナ1は、容易に搬送可能でかつ
生産性が高く製造コストの安いものとなる。
【0034】図2は、密閉された基板搬送コンテナ内部
の水分濃度の経時変化を示すグラフである。ここでは、
実施形態の非晶質ポリオレフィンを主成分とする基板搬
送コンテナ、及び従来のポリカーボネートを主成分とす
る基板搬送コンテナに関し、コンテナ本体内を窒素ガス
で置換して水分濃度を約10ppmにまで低減して密閉
した後の水分濃度の経時変化を測定した。尚、非晶質ポ
リオレフィンは吸水率0.01%程度であり、ポリカー
ボネートは吸水率0.2%程度である。
【0035】このグラフに示すように、従来の基板搬送
コンテナ(ポリカーボネート製)における水分濃度と
比較して、実施形態の基板搬送コンテナ(非晶質ポリオ
レフィン製)における水分濃度の経時的な上昇が低く
抑えられ、コンテナ内壁からの水分放出が少ないことが
確認された。
【0036】
【発明の効果】以上説明したように本発明の基板搬送コ
ンテナによれば、吸湿性が低い非晶質ポリオレフィンを
主成分としてコンテナ本体や底蓋を構成することで、長
期の密閉状態においても内壁からの水分の放出を抑えて
密閉内部の水分濃度を低く保つことができ、内部に収納
された電子基板表面での自然酸化膜の生成を防止するこ
とが可能になる。しかも、非晶質ポリオレフィンは透明
性を有するため、密閉状態であっても電子基板の収納状
態を外部から検知することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施形態の基板搬送コンテナの構成及びこれを
用いた基板収納方法を説明する構成図である。
【図2】基板搬送コンテナ内部の水分濃度の経時変化を
示すグラフである。
【符号の説明】
1…基板搬送コンテナ、2…コンテナ本体、3…底蓋、
21開口部、W…電子基板
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成12年6月5日(2000.6.5)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0005
【補正方法】変更
【補正内容】
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記構成の
基板搬送コンテナは、ポリカーボネートのような透明
ラスティック材料を用いて構成されている。ポリカーボ
ネートは吸水率0.2%と、吸湿性の高い材料であるた
め、時間経過にともなって内壁から水分が徐々に放出さ
れる。このため、密閉された基板搬送コンテナ内部の水
分濃度を長期間に亘って低く保つことができず、内部に
収納された電子基板の表面に自然酸化膜が形成される。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 電子基板を出し入れするための開口部を
    有するコンテナ本体と、前記開口部を密閉する底蓋とを
    備えた基板搬送コンテナにおいて、 少なくとも前記コンテナ本体及び底蓋の一方が、非晶質
    ポリオレフィンを主成分として構成されたことを特徴と
    する基板搬送コンテナ。
JP2000110138A 2000-04-12 2000-04-12 基板搬送コンテナ Pending JP2001298076A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100607723B1 (ko) * 2001-08-13 2006-08-01 동부일렉트로닉스 주식회사 Smif 장치의 smif 파드
KR100760597B1 (ko) * 2000-04-12 2007-09-20 소니 가부시끼 가이샤 기판 반송 컨테이너

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7185764B2 (en) * 2002-06-24 2007-03-06 Macronix International Co., Ltd. Wafer shipping device and storage method for preventing fluoridation in bonding pads
US7191901B2 (en) * 2002-08-15 2007-03-20 Corning Incorporated Substrate container that does not degrade substrate surface
US20050155874A1 (en) * 2004-01-21 2005-07-21 Noah Chen SMIF box and loading system of reticle
WO2005101484A1 (ja) * 2004-04-07 2005-10-27 Right Mfg Co. Ltd. 基板収納容器の雰囲気置換ポート接続装置
US7314068B2 (en) * 2004-05-12 2008-01-01 Miraial Co., Ltd. Apparatus for replacing gas in storage container and method for replacing gas therewith
CN101010379B (zh) * 2004-08-30 2010-06-02 富士塑料股份有限公司 洁净室用成形品及其制造方法
JP4012190B2 (ja) * 2004-10-26 2007-11-21 Tdk株式会社 密閉容器の蓋開閉システム及び開閉方法
FR2915831B1 (fr) * 2007-05-04 2009-09-25 Alcatel Lucent Sas Interface d'enceinte de transport
JP5993252B2 (ja) * 2012-09-06 2016-09-14 東京エレクトロン株式会社 蓋体開閉装置及びこれを用いた熱処理装置、並びに蓋体開閉方法
TWI866365B (zh) * 2013-01-22 2024-12-11 美商布魯克斯自動機械美國公司 基材處理工具及基材運送的方法
EP2916326B1 (en) * 2014-03-03 2017-09-20 Comecer S.p.A. A system to hermetically seal an access opening allowing access to a chamber suited to contain toxic and/or radioactive fluids

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3413837A1 (de) * 1984-04-12 1985-10-17 Wacker-Chemitronic Gesellschaft für Elektronik-Grundstoffe mbH, 8263 Burghausen Verpackung fuer halbleiterscheiben
US4724874A (en) * 1986-05-01 1988-02-16 Asyst Technologies Sealable transportable container having a particle filtering system
KR930700975A (ko) * 1991-04-11 1993-03-16 플루오로웨어, 아이엔시. 폴리프로필렌 웨이퍼 캐리어
US5469963A (en) * 1992-04-08 1995-11-28 Asyst Technologies, Inc. Sealable transportable container having improved liner
JPH07172476A (ja) * 1993-12-17 1995-07-11 Fuji Seal Co Ltd 薬剤用密封容器
US5878794A (en) * 1997-01-21 1999-03-09 Eastman Chemical Company Batch inclusion package for amorphous polyolefins and process for its preparation
EP0957514A4 (en) * 1996-03-29 2006-10-04 Tokyo Electron Ltd INSTRUMENT AND ASSEMBLY EQUIPMENT APPLIED IN CLEANROOM
EP0892831B1 (en) * 1996-04-12 2000-05-10 Dsm N.V. Thermoplastic elastomer
JP2864458B2 (ja) * 1996-08-07 1999-03-03 ティーディーケイ株式会社 クリーン搬送方法、クリーンボックス及びクリーン搬送装置
JP3838786B2 (ja) * 1997-09-30 2006-10-25 信越ポリマー株式会社 精密基板収納容器及びその位置決め構造並びに精密基板収納容器の位置決め方法
JP3993924B2 (ja) * 1997-11-06 2007-10-17 リンテック株式会社 チップ体搬送用カバーテープおよび封止構造体
JPH11165762A (ja) * 1997-12-01 1999-06-22 Lintec Corp チップ体搬送用カバーテープおよび封止構造体
JP3556480B2 (ja) * 1998-08-17 2004-08-18 信越ポリマー株式会社 精密基板収納容器
JP2001298076A (ja) * 2000-04-12 2001-10-26 Sony Corp 基板搬送コンテナ

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100760597B1 (ko) * 2000-04-12 2007-09-20 소니 가부시끼 가이샤 기판 반송 컨테이너
KR100607723B1 (ko) * 2001-08-13 2006-08-01 동부일렉트로닉스 주식회사 Smif 장치의 smif 파드

Also Published As

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