JP2001357571A - Method for manufacturing optical recording medium - Google Patents
Method for manufacturing optical recording mediumInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、光学記録媒体の製
造方法に係わる。[0001] The present invention relates to a method for manufacturing an optical recording medium.
【0002】[0002]
【従来の技術】次世代の光ディスクメディアとして、片
面にNTSC4時間記録再生ができる光ディスクメディ
アが提案されている。これは、家庭用ビデオディスクレ
コーダーとして4時間程度の記録再生を可能にすること
により、現行のVTR(VideoTape Recorder )に代わ
る新しい記録媒体としての機能を備えるものである。2. Description of the Related Art As a next-generation optical disk medium, an optical disk medium capable of recording and reproducing NTSC for 4 hours on one side has been proposed. This is to provide a function as a new recording medium replacing the current VTR (VideoTape Recorder) by enabling recording and reproduction for about 4 hours as a home video disk recorder.
【0003】また、このような記録媒体として、CD
(Compact Disc)と同じ形状、サイズに選定することに
よってCDの手軽さ、使い勝手に慣れ親しんだユーザー
にとって違和感のない商品とすることができる。[0003] As such a recording medium, a CD is used.
By selecting the same shape and size as (Compact Disc), it is possible to make the product comfortable for users who are accustomed to the simplicity and convenience of the CD.
【0004】さらに、ディスク形態の最大の特徴として
のアクセスの速さを利用し、小型、簡便な記録機という
だけでなく、瞬時に録画、再生やトリックプレイ、編集
など多彩な機能を盛り込んだ商品を実現できる。[0004] Furthermore, utilizing the speed of access as the biggest feature of the disk form, it is not only a compact and simple recorder, but also a product incorporating various functions such as instant recording, playback, trick play, and editing. Can be realized.
【0005】上記のような商品を実現化するに、例えば
8GB以上の記録容量を有するものとすることが要求さ
れてきている。[0005] In order to realize the above products, it is required to have a recording capacity of, for example, 8 GB or more.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来、
CDと同径サイズであって、一主面のみに単層の情報信
号層を有するものにおいては、8GB以上の記録容量を
有する光学記録媒体は存在していなかった。However, conventionally,
No optical recording medium having a recording capacity of 8 GB or more existed in a disk having the same diameter as a CD and having a single information signal layer on only one main surface.
【0007】既に提案されているDVD(Digital Vers
atile Disc) においては、情報信号部の領域内、すなわ
ちディスクの中心部から半径24〜58(mm)の範囲
の領域内において、照射レーザー光波長λ=0.65μ
m、レンズの開口数N.A.=0.6の条件下において
記録容量は4.7GBである。ECCや変調方式などの
信号フォーマットを変えずに、上記DVDよりさらに大
容量化を図る場合、例えば8GB以上を実現する為に
は、下記〔数1〕を満足することが必要となる。[0007] DVDs (Digital Vers
Atile Disc), the irradiation laser light wavelength λ = 0.65 μm in the region of the information signal portion, that is, in the region having a radius of 24 to 58 (mm) from the center of the disc.
m, the numerical aperture of the lens N. A. The recording capacity is 4.7 GB under the condition of = 0.6. When the capacity is to be further increased than that of the DVD without changing the signal format such as the ECC or the modulation method, for example, in order to realize 8 GB or more, it is necessary to satisfy the following [Equation 1].
【数1】 4.7×(0.65/0.60×N.A./λ)2 ≧8## EQU1 ## 4.7 × (0.65 / 0.60 × NA / λ) 2 ≧ 8
【0008】上記式より、N.A./λ≧1.20を満
たすことが必要である。したがって、照射レーザー光の
波長λを短くするか、あるいはレンズの開口数N.A.
の値を高くするかのどちらかの条件が必要となる。From the above equation, N.I. A. It is necessary to satisfy /λ≧1.20. Therefore, the wavelength λ of the irradiation laser light is reduced, or the numerical aperture N. A.
Either condition of increasing the value of is required.
【0009】上記条件を満たすために、例えばN.A.
を高くする場合には、光ディスクの情報信号上であっ
て、再生用レーザー光照射面側に形成されてなる光透過
層の厚さを薄くする必要がある。これは、光学ピックア
ップの光軸に対してディスク面が垂直からズレる角度
(チルト角)の許容量が小さくなるためであり、このチ
ルト角が光透過層の厚さによる収差の影響を受け易いた
めである。To satisfy the above conditions, for example, A.
In order to increase the thickness, it is necessary to reduce the thickness of the light transmitting layer formed on the information signal of the optical disk and on the side of the reproduction laser beam irradiation surface. This is because the tolerance of the angle (tilt angle) at which the disk surface deviates from the perpendicular with respect to the optical axis of the optical pickup becomes small, and this tilt angle is easily affected by aberration due to the thickness of the light transmitting layer. It is.
【0010】また、上記のように高密度の光学記録媒体
を作製するためには、同様の理由から、光透過層の厚さ
むら(Δt)についても低減化させる必要がある。Further, in order to manufacture a high-density optical recording medium as described above, it is necessary to reduce the thickness unevenness (Δt) of the light transmitting layer for the same reason.
【0011】上述したことに鑑みて、本発明において
は、特にレンズの開口数N.A.を高くした場合に対応
可能で、例えば8GB以上の大容量の光学記録媒体を作
製する方法を提供するものである。In view of the above, in the present invention, in particular, the numerical aperture of the lens N.P. A. It is possible to provide a method for producing a large-capacity optical recording medium of, for example, 8 GB or more.
【0012】[0012]
【課題を解決するための手段】本発明は、レーザー光が
入射する側の面に、情報信号部と、光透過層とを具備す
る光学記録媒体の製造する方法であるものとする。本発
明においては、膜厚0.6mm以上の基板上に、トラッ
クピッチP≦0.65μmの信号を形成し、この信号を
形成した面に反射膜および記録膜を形成し、この基板の
成膜面上に、紫外線硬化性樹脂により光透過層を形成し
て光学記録媒体を作製するものであるが、特に、光透過
層の厚さtは、t=10〜177μmであるものとし、
光透過層の厚さむらをΔtとしたときに、光学記録媒体
を再生、もしくは記録再生する光学系の開口数N.A.
および照射するレーザー光の波長λとの間に、 |Δt |≦5.26( λ/N.A.4 )(μm) の関係を満たすようにするものとする。According to the present invention, there is provided a method for manufacturing an optical recording medium having an information signal portion and a light transmitting layer on a surface on which a laser beam is incident. In the present invention, a signal having a track pitch P ≦ 0.65 μm is formed on a substrate having a thickness of 0.6 mm or more, and a reflection film and a recording film are formed on the surface on which the signal is formed. An optical recording medium is manufactured by forming a light-transmitting layer on the surface with an ultraviolet-curable resin. In particular, the thickness t of the light-transmitting layer is t = 10 to 177 μm,
When the thickness unevenness of the light transmitting layer is Δt, the numerical aperture N.sub.N of the optical system for reproducing or recording / reproducing the optical recording medium is set. A.
And between the wavelength lambda of the laser beam to be irradiated, | Δt | ≦ 5.26 (. Λ / N.A 4) shall be to satisfy the relation ([mu] m).
【0013】本発明の製造方法によれば、特にレンズの
開口数N.A.を高くした場合に対応可能で、例えば8
GB以上の大容量の光学記録媒体が得られる。According to the manufacturing method of the present invention, the numerical aperture of the lens is particularly high. A. Can be increased, for example, 8
A large-capacity optical recording medium of GB or more can be obtained.
【0014】[0014]
【発明の実施の形態】以下、本発明の具体的な実施の形
態について、図面を参照しながら詳細に説明する。な
お、本実施例においては、光ディスクであって、情報信
号部を有する基板上の光透過層を通過させることによ
り、レーザー光を照射して信号の再生を行う光ディスク
に適用した例について説明するが、本発明は下記に示す
実施例に限定されるものではない。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, specific embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the present embodiment, an example will be described in which the present invention is applied to an optical disc, which reproduces a signal by irradiating a laser beam by passing through a light transmitting layer on a substrate having an information signal portion. However, the present invention is not limited to the embodiments described below.
【0015】一般的にディスクスキューマージンΘと記
録再生光学系のレーザー光の波長λ、レンズの開口数
N.A.、および光学記録媒体のレーザー照射面側であ
って、情報信号上に形成された光透過層の厚さtとは相
関関係にある。実用上充分そのプレイヤビリティが実証
されているコンパクトディスク(CD)の例を基準にこ
れらのパラメータとΘとの関係が、特開平3−0971
34号公報に示されている。これによると、|Θ|≦8
4.115°(λ/N.A.3 /t)であればよく、こ
れは本発明の光学記録媒体にも適用することができる。Generally, the disc skew margin Θ, the wavelength λ of the laser beam of the recording / reproducing optical system, the numerical aperture of the lens N.P. A. , And the thickness t of the light transmitting layer formed on the information signal on the laser irradiation surface side of the optical recording medium. The relationship between these parameters and Θ is described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-0971 based on an example of a compact disk (CD) whose playability has been sufficiently demonstrated for practical use.
No. 34 publication. According to this, | Θ | ≦ 8
The angle may be 4.115 ° (λ / NA 3 / t), and this can be applied to the optical recording medium of the present invention.
【0016】ここで、ディスクを実際に量産する場合の
スキューマージンΘの具体的な限界値を考えると、0.
4°とするのが妥当である。これは、量産を考えた場
合、これより小さくすると歩留まりが低下し、コストが
上がるからである。既存の記録媒体についても、CDで
は0.6°、DVDでは0.4°である。Here, considering the specific limit value of the skew margin 場合 when the disks are actually mass-produced,
A value of 4 ° is reasonable. This is because, when considering mass production, if the size is smaller than this, the yield decreases and the cost increases. The existing recording medium is also 0.6 ° for a CD and 0.4 ° for a DVD.
【0017】従って、スキューマージンΘ=0.4°と
して、レーザー光の短波長化、高N.A.化により光透
過層の厚さをどの程度に設定すべきかを計算すると、ま
ずレーザー光の波長λをλ=0.65μmとすると、
N.A.は上記〔数1〕の結果式のN.A./λ≧1.
20から、0.78以上であることが要求される。すな
わちt≦288μmであることが導き出される。Accordingly, by setting the skew margin Θ = 0.4 °, shortening the wavelength of the laser beam and increasing the N.V. A. Calculating how much the thickness of the light transmitting layer should be set by the conversion, first, assuming that the wavelength λ of the laser light is λ = 0.65 μm,
N. A. Is N.V. in the result equation of [Equation 1]. A. / Λ ≧ 1.
From 20, it is required that it be 0.78 or more. That is, it is derived that t ≦ 288 μm.
【0018】また、レーザー光が短波長化し、λ=0.
4μm程度となった場合、レンズの開口数については、
N.A.≧0.78であるものとすると、光透過層の厚
さtはt=177μmになる。この場合、基板の厚さが
1.2mmであるCD等の製造設備を流用することを考
慮すると、ディスク全体の厚さは最大約1.38mmと
なる。Further, the wavelength of the laser light is shortened, and λ = 0.
When it is about 4 μm, the numerical aperture of the lens is
N. A. Assuming that ≧ 0.78, the thickness t of the light transmitting layer is t = 177 μm. In this case, the thickness of the entire disc is about 1.38 mm at the maximum in consideration of diverting manufacturing equipment for a CD or the like having a substrate thickness of 1.2 mm.
【0019】また、MOの磁界変調を考慮すると、光透
過層の厚さtはさらに薄くすることが要求され、例えば
30μm以下に形成することにより、MOでの記録再生
が容易になる。In consideration of the magnetic field modulation of the MO, the thickness t of the light transmission layer is required to be further reduced. For example, by forming the thickness t to 30 μm or less, recording and reproduction with the MO becomes easy.
【0020】一方、光透過層の厚さtの下限は、記録膜
あるいは反射膜を保護する光透過層の保護機能によって
決まり、信頼性や後に記述する2群レンズの衝突の影響
を考慮すると10μm以上であることが望ましい。On the other hand, the lower limit of the thickness t of the light transmission layer is determined by the protection function of the light transmission layer for protecting the recording film or the reflection film, and is 10 μm in consideration of the reliability and the influence of the collision of the second group lens described later. It is desirable that this is the case.
【0021】上記のように記録密度を上げるためには
N.A./λの値を上げることが不可欠である。この場
合、例えば記憶容量として8GBを達成させるために、
少なくともN.A.を0.7以上とし、レーザーの波長
λを0.68μm以下とすることが必要となる。また上
記のように光透過層の厚さとスキューとの間には、上述
した関係があるが、赤色レーザーから青色レーザーまで
対応することを考慮して、光透過層の厚さは10〜17
7μmに設定するのが適切である。In order to increase the recording density as described above, N. A. It is essential to increase the value of / λ. In this case, for example, in order to achieve a storage capacity of 8 GB,
At least N. A. Is set to 0.7 or more, and the wavelength λ of the laser is set to 0.68 μm or less. Further, as described above, the relationship between the thickness of the light transmitting layer and the skew is as described above. However, in consideration of the correspondence from the red laser to the blue laser, the thickness of the light transmitting layer is 10 to 17
It is appropriate to set it to 7 μm.
【0022】光学記録媒体において、8GBの記録容量
を達成するためには、記録信号のトラックピッチPおよ
び線密度dを調整する必要がある。その条件としては、
下記〔数2〕を満たすことが必要である。In order to achieve a recording capacity of 8 GB in the optical recording medium, it is necessary to adjust the track pitch P and the linear density d of the recording signal. The condition is
It is necessary to satisfy the following [Equation 2].
【数2】 (0.74/P)×(0.267/d)×4.7≧8 すなわち、d≦0.1161/P(μm/bit)を満
たせばよい。(0.74 / P) × (0.267 / d) × 4.7 ≧ 8 That is, d ≦ 0.1161 / P (μm / bit) may be satisfied.
【0023】トラックピッチP=0.56μmのとき、
線密度d≦0.206μm/bitとなるが、これはD
VDのROM(Read Only Memory) を基準にしており、
記録再生の信号処理技術の進歩(具体的には、PRML
の適用や、ECCの冗長度を減らす等)を考慮すると、
さらに15%程度の線密度の増加が見込まれ、その分ト
ラックピッチPを増やすことが可能である。このことか
らトラックピッチPは最大で0.64μm程度とするこ
とができる。When the track pitch P is 0.56 μm,
The linear density d ≦ 0.206 μm / bit is obtained.
Based on VD ROM (Read Only Memory)
Advances in signal processing technology for recording and reproduction (specifically, PRML
Application and reducing the redundancy of ECC)
Further, the linear density is expected to increase by about 15%, and the track pitch P can be increased accordingly. From this, the track pitch P can be set to about 0.64 μm at the maximum.
【0024】さらに高密度記録媒体においては、トラッ
クピッチ変動ΔPについても公差が厳しくなる。CDや
DVDの記録再生パラメータをそのまま転用すると、D
VDでのトラックピッチ0.74μm、公差±0.03
から、下記〔数3〕のようになる。Further, in a high-density recording medium, the tolerance for the track pitch fluctuation ΔP becomes strict. If the recording and playback parameters of CD and DVD are diverted as they are, D
Track pitch in VD 0.74 μm, tolerance ± 0.03
Thus, the following [Equation 3] is obtained.
【数3】|ΔP|≦0.03P/0.74=0.04P したがって、トラックピッチP=0.56とすると、|
ΔP|≦0.023μmとなる。| ΔP | ≦ 0.03P / 0.74 = 0.04P Therefore, if the track pitch P = 0.56, then |
ΔP | ≦ 0.023 μm.
【0025】さらに光透過層の厚さむらΔtについて
も、さらなる高精度さが要求されるようになる。Further, a higher accuracy is required for the thickness irregularity Δt of the light transmitting layer.
【0026】光透過層の厚さtが、再生用の対物レンズ
の設計中心からずれた場合、その厚さ誤差がスポットに
与える収差量は、レンズの開口数N.A.の4乗に、ま
たレーザー光の波長λに比例する。従って高N.A.化
したり、または短波長化したりすることによって高密度
記録化を図る場合には、その量(光透過層の厚さむらΔ
t)はさらに厳しく制限される。具体的なシステム例と
してCDに関しては、N.A.=0.45が実用化され
ており光透過層の厚さの誤差規格は±100μmであ
る。またDVDに関しては、N.A.=0.6が実用化
されており、光透過層の厚さの誤差規格は±30μmで
あるとされている。ここで、CDでの光透過層の厚さの
許容量±100μmを基準にすると、下記〔数4〕のよ
うになる。When the thickness t of the light transmission layer deviates from the design center of the objective lens for reproduction, the amount of aberration given to the spot by the thickness error depends on the numerical aperture of the lens. A. To the fourth power and to the wavelength λ of the laser light. Therefore, high N.I. A. In the case where high-density recording is to be achieved by reducing the wavelength or shortening the wavelength, the amount (the thickness unevenness of the light transmitting layer Δ
t) is further severely restricted. Regarding CD as a specific system example, N.A. A. = 0.45 has been put to practical use, and the error standard for the thickness of the light transmitting layer is ± 100 μm. Regarding DVD, N.I. A. = 0.6 has been put to practical use, and the error standard for the thickness of the light transmitting layer is ± 30 μm. Here, on the basis of the permissible amount of the thickness of the light transmitting layer in the CD ± 100 μm, the following [Equation 4] is obtained.
【数4】 Δt=±(0.45/N.A.)4 ×(λ/0.78)×100 =±5.26×(λ/N.A.4 )μm (N.A.は、開口数)[Number 4] Δt = ± (0.45 / N.A. ) 4 × (λ / 0.78) × 100 = ± 5.26 × (λ / N.A. 4) μm (N.A. is , Numerical aperture)
【0027】ここで、光透過層厚さ100μm中心に対
し、波長0.68μm、N.A.=0.875で光透過
層の厚さ誤差とジッター値との関係について実験を行っ
た結果を図1に示す。図1より、例えばDVDにおいて
スキューなど摂動がない場合のジッター基準である8%
になるところを見ると約±7μmであることがわかる。
上式から導き出される数値は±6μmであり、この規格
を満足するディスク媒体からは良好な信号が得られるこ
とになる。Here, with respect to the center of the light transmitting layer having a thickness of 100 μm, the wavelength is 0.68 μm and the N.D. A. FIG. 1 shows the result of an experiment conducted on the relationship between the thickness error of the light transmitting layer and the jitter value at 0.875. From FIG. 1, for example, 8% which is a jitter standard when there is no perturbation such as skew in DVD
It can be seen from FIG.
The numerical value derived from the above equation is ± 6 μm, and a good signal can be obtained from a disk medium satisfying this standard.
【0028】したがって、高密度化に従い、光透過層厚
さに許容されるむらΔtは、下記〔数5〕のようにな
る。Therefore, as the density increases, the unevenness Δt allowed for the thickness of the light transmitting layer is as shown in the following [Equation 5].
【数5】|Δt|≦5.26×(λ/N.A.4 )μm| Δt | ≦ 5.26 × (λ / NA 4 ) μm
【0029】また、上述した光透過層厚さむら(Δt)
は、記録再生用レーザー光が照射されるディスク表面内
で、均一であることを前提としており、フォーカス点を
ずらすことによって収差補正可能である。ところが、こ
の領域内(スポット内)でもし光透過層厚さむらがある
とフォーカス点の調整では補正できない。そしてこの量
は厚さ中心値に対して±3λ/100以下に押さえる必
要がある。In addition, the above-mentioned thickness variation of the light transmitting layer (Δt)
Is based on the premise that the recording / reproducing laser light is uniform on the surface of the disk, and aberration can be corrected by shifting the focus point. However, if there is unevenness in the thickness of the light transmitting layer in this area (in the spot), it cannot be corrected by adjusting the focus point. This amount needs to be suppressed to ± 3λ / 100 or less with respect to the thickness center value.
【0030】さらに偏心Eに関してもDVDの50μm
に対し、E≦50×P/0.74=67.57P(μ
m)となる。Further, regarding the eccentricity E, 50 μm
E ≦ 50 × P / 0.74 = 67.57P (μ
m).
【0031】以上より、記憶容量8GBの高密度を達成
するための光学記録媒体に必要な条件をまとめると、以
下のようになる。記録再生光学系がλ≦0.68μmか
つN.A./λ≧1.20をみたし、かつ、少なくとも
情報信号部の形成領域において、光透過層の膜厚t=1
0〜177μm, 光透過層厚さむら|Δt|≦5.26( λ/N.
A.4 )(μm) トラックピッチP≦0.64μm 公差|ΔP|≦0.04Pμm 線密度d≦0.1161/P(μm/bit) ディスクスキュー Θ≦84.115×(λ/N.A.
3 /t) 偏心E≦67.57P(μm) 表面粗さ|Ra|≦3λ/100(スポット照射領域
内)From the above, the conditions necessary for an optical recording medium to achieve a high storage capacity of 8 GB are summarized as follows. If the recording / reproducing optical system has λ ≦ 0.68 μm and A. /Λ≧1.20, and the thickness t = 1 of the light transmitting layer in at least the formation region of the information signal portion.
0 to 177 μm, light transmission layer thickness unevenness | Δt | ≦ 5.26 (λ / N.
A. 4 ) (μm) Track pitch P ≦ 0.64 μm Tolerance | ΔP | ≦ 0.04 Pμm Linear density d ≦ 0.1161 / P (μm / bit) Disk skew Θ ≦ 84.115 × (λ / NA.
3 / t) Eccentricity E ≦ 67.57P (μm) Surface roughness | Ra | ≦ 3λ / 100 (within spot irradiation area)
【0032】光学記録媒体を作製するためには、先ず、
上述したような光学記録媒体に必要なスペックをみたす
ピッチおよびピッチむらを実現した転写用スタンパを用
い、射出成形法にて基板を作製し、同時に情報信号を構
成する微細凹凸を形成する。このようなピッチむらの少
ない高精度スタンパは従来の送りをネジで行う構造では
達成が困難である為、リニアモータによる送り構造をも
った原盤露光装置で製造する。さらに光学系は空気の揺
らぎを排除する為のカバーで覆うこととし、露光用レー
ザーの冷却水の振動を除去するため、レーザーと露光装
置の間に防振材を設置する。In order to manufacture an optical recording medium, first,
A substrate is manufactured by an injection molding method using a transfer stamper that realizes the pitch and the pitch unevenness that meet the specifications required for the optical recording medium as described above, and at the same time, the fine irregularities forming the information signal are formed. Such a high-precision stamper with little pitch unevenness is difficult to achieve with a conventional structure in which a feed is performed by a screw. Therefore, the stamper is manufactured using a master exposure apparatus having a linear motor feed structure. Further, the optical system is covered with a cover for eliminating air fluctuation, and a vibration isolator is provided between the laser and the exposure apparatus in order to eliminate vibration of cooling water of the exposure laser.
【0033】上記基板の情報信号面上に反射膜、または
記録膜、あるいはこれらの両方を成膜する。本発明によ
り作製される光学記録媒体においては、上記反射膜ある
いは記録膜上に形成する光透過層側からレーザー光を照
射して信号記録や再生を行うので、予めこれら反射膜ま
たは記録膜の成膜による信号形状の変形を考慮して、基
板上にピットを形成する必要がある。A reflective film, a recording film, or both are formed on the information signal surface of the substrate. In the optical recording medium manufactured according to the present invention, since signal recording and reproduction are performed by irradiating a laser beam from the light transmitting layer formed on the reflective film or the recording film, the reflective film or the recording film is formed in advance. It is necessary to form pits on the substrate in consideration of the deformation of the signal shape due to the film.
【0034】例えば10GB容量のROMの場合は、基
板側から見たときの信号ピットのアシンメトリーが25
%であるとすると、基板と反対側から見たときのアシン
メトリーは10%である。即ち、本発明においては、基
板側とは反対側からレーザー光を照射して信号の再生を
行う為、例えば光照射側から見てアシンメトリー10%
であるピットを形成する為には、基板に形成するピット
形状をアシンメトリー25%にしておく必要がある。For example, in the case of a 10 GB ROM, the asymmetry of the signal pit when viewed from the substrate side is 25.
%, The asymmetry when viewed from the opposite side of the substrate is 10%. That is, in the present invention, since the signal is reproduced by irradiating the laser beam from the side opposite to the substrate side, for example, the asymmetry is 10% when viewed from the light irradiation side.
In order to form a pit, it is necessary to make the pit shape formed on the substrate 25% asymmetry.
【0035】同様に記録ディスクに形成される案内用溝
(グルーブ)に関しても記録膜でグルーブデューティが
変化すること、例えばグルーブ記録(記録再生面からみ
て凹部への記録再生)の場合、溝が狭まるので、スタン
パの形状を予め広めにしておく等の対応が必要となる。
例えばランド/グルーブ記録の場合、光照射側から見
て、ランドとグルーブの幅デューティ50%を得るため
には、基板側からみて55〜65%に設定するのが好適
である。Similarly, with respect to the guide groove (groove) formed on the recording disk, the groove duty changes in the recording film. For example, in the case of groove recording (recording / reproducing to the concave portion as viewed from the recording / reproducing surface), the groove becomes narrower. Therefore, it is necessary to take measures such as widening the shape of the stamper in advance.
For example, in the case of land / groove recording, in order to obtain a land and groove width duty of 50% when viewed from the light irradiation side, it is preferable to set the width to 55 to 65% when viewed from the substrate side.
【0036】なお基板は、単板でディスクを構成する場
合、ある程度の剛性が要求される為0.6mm以上であ
ることが望ましい。同様に、2枚貼り合わせた構造の場
合は、一枚の基板はその半分である0.3mm以上であ
ることが好適である。When a disk is formed of a single plate, the substrate is required to have a certain degree of rigidity. Similarly, in the case of a structure in which two substrates are bonded, it is preferable that one substrate has a thickness of 0.3 mm or more, which is half of that.
【0037】上記のように基板を射出成形により作製し
た後は、図2に示すように、この基板10の情報信号部
11上に記録膜または反射膜を成膜する。例えば目的と
する光ディスクが、ROMの場合はAlなどの反射膜を
20〜60nmの膜厚に成膜する。After the substrate is manufactured by injection molding as described above, a recording film or a reflection film is formed on the information signal portion 11 of the substrate 10 as shown in FIG. For example, when the target optical disk is a ROM, a reflective film of Al or the like is formed to a thickness of 20 to 60 nm.
【0038】情報信号部11上に情報記録膜を形成する
場合としては、例えば相変化型の光学記録媒体を作製す
るときには、例えばAl膜、ZnS−SiO2 膜、Ge
SbTe膜、ZnS−SiO2 膜を順次積層して成膜す
る。When an information recording film is formed on the information signal section 11, for example, when a phase change type optical recording medium is manufactured, for example, an Al film, a ZnS—SiO 2 film, a Ge
An SbTe film and a ZnS-SiO 2 film are sequentially laminated and formed.
【0039】また、目的とする光ディスクを光磁気ディ
スクとする場合には、例えばAl膜、SiN膜、TbF
eCo膜、SiN膜を順次積層して成膜する。When the target optical disk is a magneto-optical disk, for example, an Al film, a SiN film, a TbF
An eCo film and a SiN film are sequentially laminated to form a film.
【0040】また、目的とする光ディスクを追記型ディ
スクとする場合には、Au膜またはAl膜をスパッタし
た後、シアニン系または、フタロシアニン系の有機色素
膜をスピンコートで塗布し乾燥することによって成膜す
る。When the target optical disk is a write-once disk, the Au film or the Al film is sputtered, and then a cyanine or phthalocyanine organic dye film is applied by spin coating and dried. Film.
【0041】図2の例では、基板10側とは反対側の主
面側から、記録再生用対物レンズLを通じて記録再生用
のレーザー光Lの照射がなされる。In the example shown in FIG. 2, recording and reproduction laser light L is applied through the recording and reproduction objective lens L from the main surface side opposite to the substrate 10 side.
【0042】次に図3に示すように、更にその上に紫外
線硬化性樹脂で、光透過層12を形成する。すなわち、
上述のように形成されるいずれかの構造の光ディスクに
おける情報信号部上の成膜面に、液状の紫外線硬化性樹
脂を滴下し、さらに回転延伸することにより光透過層1
2を形成する。紫外線硬化性樹脂の粘度としては、30
0cps以上3000cps以下のものが好適である。
例えば、25℃で5800cpsの粘度の紫外線硬化性
樹脂を適用した場合には、基板10上に紫外線硬化性樹
脂を滴下した後、基板10を2000rpmで11秒間
回転させることにより、最終的に100μm程度の光透
過層12を形成することができる。Next, as shown in FIG. 3, a light transmitting layer 12 is further formed thereon by using an ultraviolet curable resin. That is,
A liquid ultraviolet curable resin is dropped on the film formation surface on the information signal portion of the optical disc having any of the structures formed as described above, and is further rotationally stretched to form the light transmitting layer 1.
Form 2 The viscosity of the ultraviolet curable resin is 30
Those having a value of 0 cps or more and 3000 cps or less are preferable.
For example, when an ultraviolet curable resin having a viscosity of 5800 cps at 25 ° C. is applied, the ultraviolet curable resin is dropped on the substrate 10, and the substrate 10 is rotated at 2000 rpm for 11 seconds, and finally, about 100 μm. Of the light transmitting layer 12 can be formed.
【0043】ここで、光透過層12を形成する際、基板
10の内周部分、例えば半径25mmの位置に紫外線硬
化性樹脂を滴下し、回転延伸させると、遠心力と粘性抵
抗との関係から光透過層12の厚さに内外周差が生じ
る。この量は30μm以上にもなり、上述したような光
透過層12の厚さの範囲を満たすことができなくなるお
それがある。Here, when the light transmitting layer 12 is formed, an ultraviolet curable resin is dropped on the inner peripheral portion of the substrate 10, for example, at a position having a radius of 25 mm, and is rotated and stretched. There is a difference between the inner and outer circumferences in the thickness of the light transmitting layer 12. This amount becomes 30 μm or more, and there is a possibility that the above-described thickness range of the light transmission layer 12 cannot be satisfied.
【0044】このような光透過層12の内外周差を回避
するためには、基板10の中心孔13を何らかの手段を
用いて埋めた状態で、紫外線硬化性樹脂滴下を行うこと
が有効である。例えば、0.1mmの厚さのポリカーボ
ネートのシートを、直径Φが30mmの円形に加工し、
基板10の中心部に接着した後、中心から紫外線硬化性
樹脂を滴下し、回転延伸を行い、紫外線を照射して紫外
線硬化性樹脂が硬化し、その後、中心孔を打ち抜く方法
が考えられる。このプロセスによれば、内外周差、すな
わち光透過層12のうねりが10μmp−p(ピーク・
トゥー・ピ−ク、以下において同じ)以内に低減された
光透過層を得ることができた。In order to avoid such a difference between the inner and outer peripheries of the light transmitting layer 12, it is effective to drop the ultraviolet curable resin while the center hole 13 of the substrate 10 is filled with some means. . For example, a sheet of polycarbonate having a thickness of 0.1 mm is processed into a circle having a diameter Φ of 30 mm,
After bonding to the central portion of the substrate 10, an ultraviolet curable resin is dropped from the center, rotationally stretched, irradiated with ultraviolet light to cure the ultraviolet curable resin, and then a center hole is punched out. According to this process, the difference between the inner and outer circumferences, that is, the undulation of the light transmitting layer 12 is 10 μmp-p (peak
A reduced light transmission layer could be obtained within two peaks (the same applies hereinafter).
【0045】なお、光透過層12を形成する際に、ディ
スク外周へはみ出すことが考えられるので、ディスクの
径は、CD等の径(120mm)を基準として、120
mm+5mmを最大値としておくことが望ましい。When the light transmitting layer 12 is formed, it is conceivable that the light transmissive layer 12 protrudes to the outer periphery of the disk. Therefore, the diameter of the disk is determined based on the diameter (120 mm) of a CD or the like.
It is desirable to set mm + 5 mm as the maximum value.
【0046】また、図4に示すように、例えば厚さ10
0μmのポリカーボネートのシート14を紫外線硬化性
樹脂15を介して接着することにより、光透過層12を
形成してもよい。この場合のシート14の厚さむらと接
着用の紫外線硬化性樹脂15の厚さむらとの和が10μ
mp−p以下であればよい。例えば、基板10と同径に
加工したシート14を接着用の紫外線硬化性樹脂15を
介して基板10上に設置し、回転延伸させることによ
り、シート14が紫外線硬化性樹脂15の重しとなって
極薄の紫外線硬化性樹脂の層が形成され、トータルの厚
さむらを10μm以下、すなわち紫外線硬化性樹脂の層
の厚さの最大値と最小値との差を10μm以下にするこ
とができる。Further, as shown in FIG.
The light transmitting layer 12 may be formed by bonding a sheet of polycarbonate having a thickness of 0 μm via an ultraviolet curable resin 15. In this case, the sum of the thickness unevenness of the sheet 14 and the thickness unevenness of the ultraviolet curable resin 15 for bonding is 10 μm.
mp-p or less is sufficient. For example, a sheet 14 processed into the same diameter as the substrate 10 is placed on the substrate 10 via an ultraviolet-curable resin 15 for adhesion, and is rotated and stretched so that the sheet 14 becomes a weight of the ultraviolet-curable resin 15. A very thin UV-curable resin layer is formed, and the total thickness unevenness can be 10 μm or less, that is, the difference between the maximum value and the minimum value of the UV-curable resin layer thickness can be 10 μm or less. .
【0047】また、本発明の光学記録媒体の製造方法
は、図5に示すように基板10に形成された第1の記録
層17上に中間層16を介して第2の記録層18が形成
された多層構造の光学記録媒体を作製する場合にも適用
できる。In the method of manufacturing an optical recording medium according to the present invention, a second recording layer 18 is formed on a first recording layer 17 formed on a substrate 10 via an intermediate layer 16 as shown in FIG. The present invention can also be applied to the case where an optical recording medium having a multilayer structure is manufactured.
【0048】また、上述した各構成の光ディスクにおい
てはスキューが発生しやすいが、スキューを軽減する為
に、図6に示すように、基板10上であって光透過層1
2形成面側とは反対の面側にスキュー補正部材19とし
て紫外線硬化性樹脂を塗布することが有効である。この
場合、スキュー補正部材19は光透過層12と同じ材料
でコートしてもよいし、または、光透過層12の材料で
ある紫外線硬化性樹脂よりも硬化収縮率の高い材料を薄
く塗布してもよい。Also, skew is likely to occur in the optical discs of the above-described configurations, but in order to reduce the skew, as shown in FIG.
It is effective to apply an ultraviolet curable resin as the skew correction member 19 on the surface opposite to the surface on which the second member 2 is formed. In this case, the skew correction member 19 may be coated with the same material as the light transmitting layer 12, or may be thinly coated with a material having a higher curing shrinkage than the ultraviolet curable resin that is the material of the light transmitting layer 12. Is also good.
【0049】なお、上記のような高密度記録の光ディス
クを記録再生するためには、後述する高いN.A.の対
物レンズを有したピックアップが必要となる。この場
合、対物レンズとディスク面との間の距離(以下、W.
D.という。)を従来の距離に対して短くすることが望
ましい。しかしながら、対物レンズとディスク面との間
の距離を短くすると、対物レンズがディスク面に衝突し
てディスク表面を傷つけてしまうおそれがある。In order to record / reproduce data on / from the above-described optical disk of high-density recording, a high N.D. A. A pickup having an objective lens is required. In this case, the distance between the objective lens and the disk surface (hereinafter referred to as “W.
D. That. ) Is desirably shorter than the conventional distance. However, if the distance between the objective lens and the disk surface is reduced, the objective lens may collide with the disk surface and damage the disk surface.
【0050】これを防止するために、図7に示すように
光透過層12上に表面ハードコート(鉛筆硬度H以上)
20を施すことが有効である。また光透過層12の厚さ
が薄くなると、ごみが付着した場合に信号再生不良を招
来しやすくなるので、ハードコート20の材料として
は、帯電防止の機能を具備するものが好適である。この
帯電防止により光ディスク表面へのごみの吸着を防ぐこ
とができ、信号不良を効果的に回避することができる。To prevent this, a surface hard coat (pencil hardness H or more) is formed on the light transmitting layer 12 as shown in FIG.
Applying 20 is effective. When the thickness of the light transmitting layer 12 is reduced, signal reproduction failure is likely to occur when dust adheres. Therefore, a material having an antistatic function is preferable as the material of the hard coat 20. The prevention of the charge prevents dust from adsorbing to the surface of the optical disk, thereby effectively preventing signal defects.
【0051】また、本発明方法によって作製される光デ
ィスクにおいては、測定光の波長を780nmとした場
合、光透過層の面内複屈折量は、往復で平均15nm以
下、周内変動が15nmp−pであることが好ましい。In the optical disk manufactured by the method of the present invention, when the wavelength of the measurement light is 780 nm, the in-plane birefringence of the light transmitting layer is 15 nm or less on average in a reciprocating manner, and the fluctuation in the circumference is 15 nm pp. It is preferred that
【0052】本発明方法により作製される光ディスクに
おいて、例えば厚さ100μmのポリカーボネートのシ
ートを用いて光透過層を形成した場合であって、情報記
録層を相変化膜とした場合に記録再生実験を行った。こ
の場合、線密度が0.21μm/bitでジッター8%
が得られた。また、このような光ディスクの複屈折量を
測定した。この測定結果を図23に示す。図23におい
て、横軸は半径方向の位置(mm)を示し、縦軸は複屈
折量(nm)を示す。図23においては、その分布を縦
方向の線分で表示し、各線分を横切る横線分位置が平均
値となる。この複屈折量は、往復で平均15nm以下、
周内変動は15nmp−p以下とすることができた。In the optical disc manufactured by the method of the present invention, a recording / reproducing experiment was performed when the light transmitting layer was formed using a polycarbonate sheet having a thickness of, for example, 100 μm and the information recording layer was a phase change film. went. In this case, when the linear density is 0.21 μm / bit and the jitter is 8%
was gotten. Further, the birefringence of such an optical disk was measured. FIG. 23 shows the measurement results. In FIG. 23, the horizontal axis indicates the radial position (mm), and the vertical axis indicates the birefringence (nm). In FIG. 23, the distribution is represented by vertical line segments, and the horizontal line segment position crossing each line segment is the average value. This birefringence amount is 15 nm or less on average in round trip,
The intra-period variation could be 15 nm pp or less.
【0053】また、本発明方法により作製される光ディ
スクにおいて、光透過層12を液状光硬化性樹脂を情報
記録部11上に塗布し、回転延伸した後、光硬化するこ
とにより形成した場合であって、情報記録層を相変化膜
とした場合に同様の記録再生実験を行った。この場合、
この場合、線密度が0.21μm/bitでジッター7
%が得られた。また、このような光ディスクの複屈折量
を測定した。この測定結果を図24に示す。図24にお
いて、横軸は半径方向の位置(mm)を示し、縦軸は複
屈折量(nm)を示す。図24においては、その分布を
縦方向の線分で表示し、各線分を横切る横線分位置が平
均値となる。この複屈折量は、光透過層をポリカーボネ
ートシートにより形成した場合よりもさらに少なくする
ことができ、往復で平均5nm以下、周内変動は5nm
p−p以下とすることができた。Further, in the optical disk manufactured by the method of the present invention, the light transmitting layer 12 is formed by applying a liquid photo-curable resin on the information recording section 11, rotating and stretching, and then photo-curing. A similar recording / reproducing experiment was performed when the information recording layer was a phase change film. in this case,
In this case, when the linear density is 0.21 μm / bit and the jitter is 7
%was gotten. Further, the birefringence of such an optical disk was measured. FIG. 24 shows the measurement results. In FIG. 24, the horizontal axis indicates the radial position (mm), and the vertical axis indicates the birefringence (nm). In FIG. 24, the distribution is represented by vertical line segments, and the position of a horizontal line segment crossing each line segment is the average value. This birefringence amount can be further reduced as compared with the case where the light transmission layer is formed of a polycarbonate sheet.
pp or less could be achieved.
【0054】このように本発明方法によって作製される
光ディスクは、従来のCDやDVDの面内複屈折量が1
00nmであることと比較しても安定した優れた特性を
有することがわかる。As described above, the optical disk manufactured by the method of the present invention has a conventional CD or DVD having an in-plane birefringence of 1 unit.
It can be seen that the composition has stable and excellent characteristics as compared with the case where the thickness is 00 nm.
【0055】また、本発明方法によって作製される光学
記録媒体においては、各種記録膜の形成面にシラン処理
を施したものとしてもよい。シラン処理を施すことによ
り、光透過層12を形成する際に用いる紫外線硬化性樹
脂と、各種記録膜との密着性を向上させることができ
る。In the optical recording medium manufactured by the method of the present invention, the surface on which various recording films are formed may be subjected to a silane treatment. By performing the silane treatment, it is possible to improve the adhesion between the ultraviolet curable resin used for forming the light transmitting layer 12 and various recording films.
【0056】また、本発明方法によって作製される光学
記録媒体においては、光透過層12の表面に、反射防止
膜を例えばスパッタ等の方法で形成してものとしてもよ
い。この反射防止膜の屈折率Nは、光透過層12の屈折
率よりも低いものであることが望ましく、また、この反
射防止膜の厚さは、記録再生を行う光の波長をλとした
場合に、(λ/3)/n(nm)以下、好ましくは(λ
/4)/n(nm)程度とすることが望ましい。In the optical recording medium manufactured by the method of the present invention, an antireflection film may be formed on the surface of the light transmitting layer 12 by a method such as sputtering. It is desirable that the refractive index N of the antireflection film is lower than the refractive index of the light transmitting layer 12, and the thickness of the antireflection film is determined when the wavelength of light for recording and reproduction is λ. In addition, (λ / 3) / n (nm) or less, preferably (λ
/ 4) / n (nm).
【0057】本発明方法によって作製される光学記録媒
体のように、レンズの開口数N.A.を高いものに対応
したものとすると、記録再生用のレーザー光の入射角も
大きくなり、これにより光透過層12の表面における光
の反射が無視できなくなる。例えば、N.A.=0.4
5の場合には、記録再生光の入射角は、26.7°、
N.A.=0.6の場合には、36.9°となる。As in the case of the optical recording medium manufactured by the method of the present invention, the numerical aperture N.L. A. If the height corresponds to a high value, the incident angle of the recording / reproducing laser beam also becomes large, so that the reflection of light on the surface of the light transmitting layer 12 cannot be ignored. For example, N. A. = 0.4
In the case of 5, the incident angle of the recording / reproducing light is 26.7 °,
N. A. In the case of = 0.6, it is 36.9 °.
【0058】ここで、N.A.=0.8の場合には、記
録再生光の入射角は、53.1°にもなり、光の反射の
影響が大きくなる。すなわち光透過層12の表面におけ
る光の反射率は、記録再生用のレーザー光の入射角に依
存していることが確かめられており、光透過層12の屈
折率が例えば1.52の場合には、s偏光成分の表面反
射率は15%を越える。(キノメレスグリオ株式会社出
版「レーザーアンドオプティクスガイド」の168頁参
照)この場合、光量の損失という問題を生じるとともに
実効N.A.の低下をもたらす。このような問題を回避
するために光透過層12の表面には、反射防止膜を形成
することが有効である。Here, N.I. A. In the case of = 0.8, the incident angle of the recording / reproducing light is as high as 53.1 °, and the influence of light reflection is large. That is, it has been confirmed that the reflectivity of light on the surface of the light transmitting layer 12 depends on the incident angle of the recording / reproducing laser light, and when the refractive index of the light transmitting layer 12 is 1.52, for example. Indicates that the surface reflectance of the s-polarized light component exceeds 15%. (See page 168 of "Laser and Optics Guide" published by Kinomeles Griot Co., Ltd.) A. Causes a decrease. In order to avoid such a problem, it is effective to form an antireflection film on the surface of the light transmitting layer 12.
【0059】反射防止膜の材料には、光透過層12の屈
折率を1.52とした場合には、光学的に屈折率が1.
23程度のものを用いることが理想であることが知られ
ている(共立出版 光学技術シリーズ11 光学薄膜
第28頁参照)。しかし工業的には、例えばMgF2 が
用いられる。MgF2 の屈折率nは1.38である。記
録再生用のレーザー光の波長を650nmとすると、M
gF2 よりなる反射防止膜の厚さは、(λ/4)/n
(nm)の式に各数値を代入することにより、約120
nmの厚さに形成することが好ましいことがわかる。When the refractive index of the light transmitting layer 12 is 1.52, the material of the antireflection film has an optical refractive index of 1.
It is known that it is ideal to use about 23 (Kyoritsu Shuppan Optical Technology Series 11 Optical Thin Film
See page 28). However, industrially, for example, MgF 2 is used. The refractive index n of MgF 2 is 1.38. Assuming that the wavelength of the recording / reproducing laser beam is 650 nm, M
The thickness of the antireflection film made of gF 2 is (λ / 4) / n
By substituting each numerical value into the equation (nm), about 120
It can be seen that it is preferable to form the layer with a thickness of nm.
【0060】ところで、光透過層12の表面における光
の反射量は、反射防止膜の厚さを0から(λ/4)/n
(nm)の範囲で減少させていくと、(λ/4)/n
(nm)とした場合に最少となることが確かめられてい
る。一方、反射防止膜の厚さが(λ/4)/n(nm)
を越えると光の反射量は増大し、(λ/2)/n(n
m)となったときに最大となることも確かめられてい
る。このことから、反射防止膜の厚さは、工業上に成膜
技術も考慮し、また、実用上(λ/3)/n(nm)以
下であれば良いことが確認された。Incidentally, the amount of light reflected on the surface of the light transmitting layer 12 is determined by setting the thickness of the antireflection film from 0 to (λ / 4) / n.
(Λ / 4) / n
(Nm), it has been confirmed that the minimum value is obtained. On the other hand, when the thickness of the antireflection film is (λ / 4) / n (nm)
Is exceeded, the amount of light reflection increases, and (λ / 2) / n (n
It has been confirmed that the maximum value is obtained when m). From this, it was confirmed that the thickness of the antireflection film should be not more than (λ / 3) / n (nm) for practical use in consideration of the film forming technology in industry.
【0061】上述したように光透過層12の表面に反射
防止膜を形成したとき、例えば屈折率1.52の光透過
層12上に反射防止膜としてMgF2 を単層で(λ/
4)/n(nm)の厚さに形成したとき、記録再生用の
レーザー光として550nmのものを使用した場合に
は、記録再生用のレーザー光の入射角が60°程度まで
は、50%以上の光量の低減を防止することができる
(キノメレスグリオ株式会社出版「レーザーアンドオプ
ティクスガイド」の174頁参照)。When an anti-reflection film is formed on the surface of the light transmission layer 12 as described above, for example, a single layer of MgF 2 (λ /
4) When formed at a thickness of / n (nm), when a laser beam for recording / reproducing having a thickness of 550 nm is used, the incident angle of the laser beam for recording / reproducing is about 50% until the incident angle is about 60 °. It is possible to prevent the above reduction in light amount (see page 174 of “Laser and Optics Guide” published by Kinomeles Griot Co., Ltd.).
【0062】本発明の光学記録媒体の製造方法は、単板
構造のディスクのみならず、図8に示すような、最終的
に得る基板10の半分の厚さの2枚の基板51、52
を、2枚貼り合わせて、両面に情報信号記録部を有する
いわゆる両面構造の光学記録媒体を作製する場合にも適
用できる。この場合、厚さ0.6mmの基板51,52
に、最大170μmの光透過層12を形成して貼り合わ
せるので、ディスクの厚さは(0.6+0.17)×2
+(接着層の厚さ)となり、接着層の厚さを0.06m
mとすると、ディスクの厚さは1.60mmとなる。ま
た、本発明の光学記録媒体の製造方法は、図9に示すよ
うに、1枚の基板50の両面に情報信号記録面と光透過
層12を有するようないわゆる両面構造の光学記録媒体
を作製する場合にも適用できる。The method of manufacturing an optical recording medium according to the present invention is not limited to a disk having a single-plate structure, but also includes two substrates 51 and 52 each having a thickness half that of the finally obtained substrate 10 as shown in FIG.
Can be applied to the case where two sheets are bonded together to produce an optical recording medium having a so-called double-sided structure having information signal recording portions on both sides. In this case, the substrates 51 and 52 having a thickness of 0.6 mm are used.
In addition, since a light transmitting layer 12 having a maximum of 170 μm is formed and bonded, the thickness of the disc is (0.6 + 0.17) × 2.
+ (Thickness of adhesive layer), and the thickness of the adhesive layer is 0.06 m
If m, the thickness of the disk is 1.60 mm. In addition, as shown in FIG. 9, the method for manufacturing an optical recording medium of the present invention produces an optical recording medium having a so-called double-sided structure in which an information signal recording surface and a light transmitting layer 12 are provided on both surfaces of one substrate 50. It can be applied to the case.
【0063】次に、本発明の光学記録媒体の製造方法の
具体的な適用例を説明する。図10に示すように、押し
出し成形、またはキャスト法で作られた例えば100μ
m厚さのポリカーボネートのシート40を用意し、この
シート40のガラス転移点よりも高い温度に熱せられた
スタンパー41上に設置し、かつローラー42に圧力を
かけてこれらを圧着させる。この場合の圧力は、たとえ
ば280Kgfとすることができる。Next, a specific application example of the method for manufacturing an optical recording medium of the present invention will be described. As shown in FIG. 10, for example, 100 μm made by extrusion molding or casting method.
An m-thick polycarbonate sheet 40 is prepared, placed on a stamper 41 heated to a temperature higher than the glass transition point of the sheet 40, and pressed against a roller 42 by applying pressure. The pressure in this case can be, for example, 280 kgf.
【0064】この操作により、図11に示すように、シ
ート40上にスタンパー41の情報ピットあるいは案内
溝を転写することができる。そしてこれを冷却した後、
スタンパー41からシート40を剥離することによっ
て、例えば100μmの膜厚の薄板基板43が得られ
る。By this operation, information pits or guide grooves of the stamper 41 can be transferred onto the sheet 40 as shown in FIG. And after cooling it,
By peeling the sheet 40 from the stamper 41, a thin substrate 43 having a thickness of, for example, 100 μm is obtained.
【0065】続いて、上述したような製造工程と同様
に、記録膜や反射膜を成膜することによって、最終的に
目的とする薄型の光学記録媒体を作製することができ
る。Subsequently, by forming a recording film and a reflection film in the same manner as in the above-described manufacturing process, a target thin optical recording medium can be finally manufactured.
【0066】また、この図11に示した薄板基板43を
用いて、多層構造の光学記録媒体を作製することもでき
る。Using the thin substrate 43 shown in FIG. 11, an optical recording medium having a multilayer structure can be manufactured.
【0067】先ず、図12に示すように、スタンパー1
41上に液状紫外線硬化性樹脂60を滴下し、図11に
おいて示した薄板基板43を記録層側を液状紫外線硬化
性樹脂60に接触させて設置する。First, as shown in FIG.
A liquid ultraviolet curable resin 60 is dropped on 41, and the thin substrate 43 shown in FIG. 11 is placed with the recording layer side in contact with the liquid ultraviolet curable resin 60.
【0068】このように、図13に示すように、液状光
硬化性樹脂を介して回転基台61上に配置した状態で薄
板基板が重ね合わされたスタンパー141を回転させ
て、液状紫外線硬化性樹脂60を延伸し、所要の厚さ、
例えば20μmとし、その後、図14に示すように薄板
基板43側からランプ62により紫外線を照射し、液状
紫外線硬化性樹脂60を硬化させる。In this way, as shown in FIG. 13, the stamper 141 on which the thin substrate is superimposed is rotated while being placed on the rotating base 61 via the liquid photocurable resin, and the liquid ultraviolet curable resin is Stretch 60, the required thickness,
For example, the thickness is set to 20 μm. Thereafter, as shown in FIG. 14, ultraviolet rays are irradiated from the thin plate substrate 43 side by a lamp 62 to cure the liquid ultraviolet curable resin 60.
【0069】図15に示すように、薄板基板43と、例
えば20μmの厚さの光硬化された紫外線硬化性樹脂6
0を一体として、スタンパー141から剥離する。As shown in FIG. 15, a thin plate substrate 43 and a photo-cured ultraviolet curable resin 6 having a thickness of, for example, 20 μm are formed.
0 is integrally removed from the stamper 141.
【0070】上述のようにして、スタンパー141によ
り紫外線硬化性樹脂60に転写された微細凹凸上に、例
えばSi化合物や、Al、Au等の金属薄膜を成膜する
ことにより各種記録膜を形成することができる。As described above, various recording films are formed by forming a metal thin film of, for example, an Si compound, Al, Au, or the like on the fine irregularities transferred to the ultraviolet curable resin 60 by the stamper 141. be able to.
【0071】また、更に図12〜図15を用いて説明し
た工程を繰り返し行うことによって、3層以上の光ディ
スクを作製することもできる。Further, by repeating the steps described with reference to FIGS. 12 to 15, an optical disk having three or more layers can be manufactured.
【0072】上述のようにして得られた記録膜上に、図
16に示すように例えば射出成形によって得られた基板
10を紫外線硬化性樹脂を介して例えば20μmの間隔
をもって貼り合わせることにより、剛性の高い光ディス
クを作製することができる。As shown in FIG. 16, a substrate 10 obtained by, for example, injection molding is adhered to the recording film obtained as described above at an interval of, for example, 20 μm via an ultraviolet curable resin, thereby obtaining rigidity. An optical disk with high performance can be manufactured.
【0073】また、図17に示すように、最終的に得ら
れた記録膜上に例えばAl,Au等の高反射膜70を成
膜し、さらに保護膜71を形成することにより、多層構
造の薄型の光ディスクを作製することができる。この場
合、記録層の層数をNとしたとき、最終的に得られる光
ディスクの厚さは、薄板基板43の厚さ、例えば100
μmと、各層間の紫外線硬化性樹脂層のN倍の厚さと、
高反射膜70と保護膜71の厚さ、例えば5μmとの和
となる。すなわち、例えば各層間の紫外線硬化性樹脂層
の厚さを20μmとし高反射膜70と保護膜71の厚さ
を5μmとした場合であって、4層構造の光ディスクを
作製したとき、光ディスク全体としては185μmの厚
さになる。しかし、このようにして得られる光ディスク
は剛性が非常に低いので、薄板基板43側に、剛性を有
する厚板を貼り合わせて支持するとか、記録再生時にお
いて高速回転によってフレキシブルな光ディスクがフラ
ットになることを利用して記録再生を行う等の工夫が必
要となる。As shown in FIG. 17, a high-reflection film 70 of, for example, Al, Au or the like is formed on the finally obtained recording film, and a protective film 71 is further formed. A thin optical disk can be manufactured. In this case, assuming that the number of recording layers is N, the thickness of the optical disc finally obtained is the thickness of the thin substrate 43, for example, 100
μm, N times the thickness of the ultraviolet curable resin layer between each layer,
The sum of the thickness of the high reflection film 70 and the protection film 71, for example, 5 μm. That is, for example, when the thickness of the ultraviolet curable resin layer between the respective layers is 20 μm and the thickness of the high reflection film 70 and the protective film 71 is 5 μm, when an optical disk having a four-layer structure is manufactured, Is 185 μm thick. However, the optical disk obtained in this way has a very low rigidity, so that a rigid thick plate is bonded and supported on the thin plate 43 side, or a flexible optical disk becomes flat by high-speed rotation during recording and reproduction. It is necessary to devise recording and reproduction utilizing this fact.
【0074】上記において説明した各記録層間の厚さの
例の20μmという数値は、最終的に得られる光ディス
クの層数と、この光ディスクを記録再生するピックアッ
プのレンズの可動距離とで決定される。例えば、レンズ
の可動距離すなわち2群レンズの間隔が50μmである
場合には、図18に示すように基板10と薄板基板43
とを50μmの間隔で紫外線硬化性樹脂を介して貼り合
わせればよく、また、図19に示すように3層構造の光
ディスクを作製する場合には、薄板基板43と基板10
との間に、25μmの間隔で記録層を挟んで形成すれば
よい。The numerical value of 20 μm in the example of the thickness between the recording layers described above is determined by the number of layers of the optical disk finally obtained and the movable distance of the lens of the pickup for recording and reproducing the optical disk. For example, when the movable distance of the lens, that is, the distance between the second group lenses is 50 μm, as shown in FIG.
May be bonded at an interval of 50 μm via an ultraviolet curable resin, and when an optical disc having a three-layer structure is manufactured as shown in FIG.
May be formed with the recording layer interposed at an interval of 25 μm.
【0075】また、本発明の光学記録媒体の製造方法に
おいては、上述した構造の光ディスクの他、図20に示
すように、薄板基板43と、例えば射出成形で作成した
例えば1.1mmの厚さのディスク形状基板50とを、
紫外線硬化性樹脂を介して貼り合わせて圧着し、この基
板側から紫外線を照射する事により接着しても光ディス
クにも適用することができる。In the method of manufacturing an optical recording medium according to the present invention, in addition to the optical disk having the above-described structure, as shown in FIG. And the disk-shaped substrate 50 of
It can be applied to an optical disk even if it is bonded by pressing and bonding through an ultraviolet curable resin and irradiating ultraviolet rays from the substrate side.
【0076】また、本発明においては、図21に示すよ
うに、射出成形によって両面に記録層を形成する微細凹
凸が転写された基板50と、薄板基板43とを、紫外線
硬化性樹脂を介して貼り合わせて圧着し、薄板基板43
側から紫外線を照射して接着して、最終的に4層構造の
光ディスクを作製することもできる。Further, in the present invention, as shown in FIG. 21, the thin plate substrate 43 and the substrate 50 on which the fine irregularities forming the recording layers are transferred by injection molding are transferred via the ultraviolet curable resin. It is bonded and crimped, and the thin substrate 43
By irradiating ultraviolet rays from the side and bonding, an optical disc having a four-layer structure can be finally manufactured.
【0077】次に、基板上に形成されるピット、または
グルーブの深さについて説明する。以下において、光透
過層の屈折率nとする。最も変調度が得られるピットま
たはグルーブの深さは(λ/4)/nであり、ROM等
はこの深さに設定する。Next, the depth of pits or grooves formed on the substrate will be described. Hereinafter, the refractive index n of the light transmitting layer is referred to. The depth of the pit or groove at which the highest degree of modulation can be obtained is (λ / 4) / n, and the ROM or the like is set to this depth.
【0078】また、グルーブ記録やランド記録におい
て、プッシュプルでトラッキングエラー信号を得ようと
する場合、プッシュプル信号はピットまたはランドの深
さが(λ/8)/nのときに最大となる。Further, in the case of obtaining a tracking error signal by push-pull in groove recording or land recording, the push-pull signal becomes maximum when the depth of the pit or land is (λ / 8) / n.
【0079】さらに、ランド/グルーブ記録において、
グルーブ深さはサーボ信号の特性とともに、クロストー
クやクロスイレースの特性を考慮すべきであり、実験的
にはクロストークは(λ/6)/n〜(λ/3)/nが
最小になり、クロスイレースは深い方が影響が少ないこ
とが確認されている。また、グルーブ傾き等を考慮し、
両特性を満足させようとすると、(3λ/8)/nが最
適となる。本発明製造方法により作製される高密度記録
の光学記録媒体は、上記深さの範囲内で適用可能であ
る。Further, in land / groove recording,
The groove depth should take into account the characteristics of the servo signal as well as the characteristics of crosstalk and cross-erase. Experimentally, the crosstalk is (λ / 6) / n to (λ / 3) / n, which is the minimum. It has been confirmed that the deeper the cross erase, the less the effect. Also, considering the groove inclination, etc.,
In order to satisfy both characteristics, (3λ / 8) / n is optimal. The optical recording medium for high-density recording manufactured by the manufacturing method of the present invention can be applied within the above-described depth range.
【0080】次に高N.A.を実現させる記録再生の実
施例について説明する。図22は、光ディスクと記録再
生用レンズの構成を示す。Next, at the high N.P. A. A description will be given of an embodiment of recording and reproduction for realizing the above. FIG. 22 shows a configuration of an optical disk and a recording / reproducing lens.
【0081】第1のレンズ31と光ディスク21との間
に第2のレンズ32を配置する。この2群レンズ構成に
することで、N.A.を0.7以上にすることが可能と
なり、第2のレンズ32の第1面32aと光ディスク2
1の表面との間隔(W.D.)を狭くすることができ
る。また、第1のレンズ31及び第2のレンズ32の第
1面31a、第2面31b、第3面32a、及び第4面
32bは夫々非球面形状にすることが望ましい。The second lens 32 is disposed between the first lens 31 and the optical disk 21. With this two-group lens configuration, the N.D. A. Can be set to 0.7 or more, and the first surface 32a of the second lens 32 and the optical disk 2
1 can be narrowed with respect to the surface (WD). Further, it is desirable that the first surface 31a, the second surface 31b, the third surface 32a, and the fourth surface 32b of the first lens 31 and the second lens 32 have an aspheric shape, respectively.
【0082】この2群レンズを用いることにより、上述
した光ディスクの高密度記録再生を行うことが可能とな
る。By using this two-group lens, it is possible to perform high-density recording and reproduction on the optical disk described above.
【0083】[0083]
【発明の効果】本発明の光学記録媒体の製造方法によれ
ば、特に記録再生光学系の対物レンズの開口数N.A.
を高くする場合に好適で、例えば8GB以上もの大容量
の光学記録媒体が得られた。According to the method of manufacturing an optical recording medium of the present invention, the numerical aperture N.sub. A.
, And a large capacity optical recording medium of, for example, 8 GB or more was obtained.
【0084】また、本発明の光学記録媒体の製造方法に
よれば、紫外線硬化性樹脂を、基板上に滴下し、回転延
伸することによって光透過層を形成するようにしたこと
によって、光透過層を均一にかつ容易に成膜することが
できた。Further, according to the method of manufacturing an optical recording medium of the present invention, the light-transmitting layer is formed by dropping the ultraviolet-curable resin on the substrate and rotating and stretching the resin. Could be uniformly and easily formed.
【0085】また、本発明の光学記録媒体の製造方法に
よれば、基板の中心孔をシートにより塞ぎ、紫外線硬化
性樹脂を基板上に滴下し、回転延伸を行い、紫外線を照
射して硬化し、その後基板の中心部を打ち抜いて中心孔
を穿設することによって、光透過層を光ディスクの内周
部と外周部とで厚さむらが極めて少なく作製することが
できた。Further, according to the method of manufacturing an optical recording medium of the present invention, the central hole of the substrate is covered with a sheet, an ultraviolet curable resin is dropped on the substrate, the film is rotated and stretched, and cured by irradiating ultraviolet light. Then, by punching out the center portion of the substrate to form a center hole, it was possible to manufacture the light transmitting layer with extremely small thickness unevenness between the inner and outer peripheral portions of the optical disk.
【0086】また、本発明の光学記録媒体の製造方法に
よれば、光透過層をポリカーボネートのシートと紫外線
硬化性樹脂を介して接着することによって成膜すること
としたことによって、光透過層を均一な厚さをもって容
易に形成でき、光学記録媒体の製造工程の簡略化を図る
ことができた。According to the method of manufacturing an optical recording medium of the present invention, the light transmitting layer is formed by bonding the light transmitting layer to a polycarbonate sheet via an ultraviolet curable resin. It could be easily formed with a uniform thickness, and the manufacturing process of the optical recording medium could be simplified.
【0087】また、本発明の光学記録媒体の製造方法に
よれば、光透過層上に、ハードコートを施すことによっ
て、光ディスクの剛性を高め傷の発生を回避でき、かつ
帯電防止効果を持たせることによってごみの付着を防止
し再生信号不良を効果的に回避できた。Further, according to the method of manufacturing an optical recording medium of the present invention, by applying a hard coat on the light transmitting layer, the rigidity of the optical disk can be increased to prevent the occurrence of scratches and to have an antistatic effect. As a result, dust was prevented from adhering and defective reproduction signals could be effectively avoided.
【図1】光透過層の厚さ誤差によるジッター値の変化の
関係を示す。FIG. 1 shows a relationship of a change in a jitter value due to a thickness error of a light transmitting layer.
【図2】本発明方法により作製される光ディスクの一例
の概略断面図を示す。FIG. 2 shows a schematic cross-sectional view of an example of an optical disk manufactured by the method of the present invention.
【図3】本発明方法により作製される光ディスクの一例
の概略断面図を示す。FIG. 3 shows a schematic cross-sectional view of an example of an optical disk manufactured by the method of the present invention.
【図4】本発明方法により作製される光ディスクの他の
一例の概略断面図を示す。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of another example of the optical disk manufactured by the method of the present invention.
【図5】本発明方法により作製される光ディスクの他の
一例の概略断面図を示す。FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of another example of the optical disk manufactured by the method of the present invention.
【図6】本発明方法により作製される光ディスクの他の
一例の概略断面図を示す。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of another example of the optical disk manufactured by the method of the present invention.
【図7】本発明方法により作製される光ディスクの他の
一例の概略断面図を示す。FIG. 7 is a schematic sectional view of another example of the optical disk manufactured by the method of the present invention.
【図8】本発明方法により作製される光ディスクの他の
一例の概略断面図を示す。FIG. 8 is a schematic sectional view of another example of the optical disk manufactured by the method of the present invention.
【図9】本発明方法により作製される光ディスクの他の
一例の概略断面図を示す。FIG. 9 is a schematic sectional view of another example of the optical disk manufactured by the method of the present invention.
【図10】本発明方法による光ディスクの一例の作製工
程図に示す。FIG. 10 is a manufacturing process drawing of an example of an optical disk according to the method of the present invention.
【図11】本発明方法により作製される多層光ディスク
を構成する薄板基板の概略断面図を示す。FIG. 11 is a schematic sectional view of a thin substrate constituting a multilayer optical disk manufactured by the method of the present invention.
【図12】本発明方法による一例の多層光ディスクの作
製工程図を示す。FIG. 12 is a process chart of an example of a multilayer optical disc according to the method of the present invention.
【図13】本発明方法による一例の多層光ディスクの作
製工程図を示す。FIG. 13 shows a manufacturing process diagram of an example of a multilayer optical disk according to the method of the present invention.
【図14】本発明方法による一例の多層光ディスクの作
製工程図を示す。FIG. 14 is a view showing a manufacturing process of an example of a multilayer optical disk according to the method of the present invention.
【図15】本発明方法による一例の光ディスクの作製工
程図を示す。FIG. 15 shows a manufacturing process chart of an example optical disk according to the method of the present invention.
【図16】本発明方法により作製される光ディスクの一
例の概略断面図を示す。FIG. 16 is a schematic sectional view of an example of an optical disk manufactured by the method of the present invention.
【図17】本発明方法により作製される光ディスクの一
例の概略断面図を示す。FIG. 17 is a schematic cross-sectional view of an example of an optical disk manufactured by the method of the present invention.
【図18】本発明方法により作製される2層構造の光デ
ィスクの一例の概略断面図を示す。FIG. 18 is a schematic sectional view of an example of an optical disc having a two-layer structure manufactured by the method of the present invention.
【図19】本発明方法により作製される3層構造の光デ
ィスクの一例の概略断面図を示す。FIG. 19 is a schematic sectional view of an example of an optical disk having a three-layer structure manufactured by the method of the present invention.
【図20】本発明方法により作製される光ディスクの一
例の概略断面図を示す。FIG. 20 is a schematic sectional view of an example of an optical disk manufactured by the method of the present invention.
【図21】本発明方法における一例の光ディスクの概略
断面図を示す。FIG. 21 is a schematic sectional view of an example of an optical disk in the method of the present invention.
【図22】本発明方法により作製される光ディスクに対
して記録、あるいは再生する光学系に用いる2群レンズ
の構成図を示す。FIG. 22 is a configuration diagram of a two-unit lens used in an optical system that records or reproduces data on or from an optical disc manufactured by the method of the present invention.
【図23】本発明方法により作製される光ディスクの光
透過層の複屈折量の測定結果を示す。FIG. 23 shows a measurement result of a birefringence amount of a light transmitting layer of an optical disc manufactured by the method of the present invention.
【図24】本発明方法により作製される光ディスクの光
透過層の複屈折量の測定結果を示す。FIG. 24 shows a measurement result of a birefringence amount of a light transmitting layer of an optical disc manufactured by the method of the present invention.
【符号の説明】 10,50,51,52 基板、11 情報信号部、1
2 光透過層、13中心孔、14 シート、15 紫外
線硬化性樹脂、16 中間層、17 第1の記録層、1
8 第2の記録層、19 スキュー補正部材、20 ハ
ードコート、21 光ディスク、31 第1のレンズ、
32 第2のレンズ、40 シート、41,141 ス
タンパー、42 ローラー、43 薄板基板、60 液
状紫外線硬化性樹脂、61 回転基台、62 ランプ、
70 高反射膜、71 保護膜[Description of Signs] 10, 50, 51, 52 substrate, 11 information signal section, 1
2 light transmission layer, 13 center hole, 14 sheet, 15 ultraviolet curable resin, 16 intermediate layer, 17 first recording layer, 1
8 second recording layer, 19 skew correction member, 20 hard coat, 21 optical disk, 31 first lens,
32 second lens, 40 sheets, 41, 141 stamper, 42 roller, 43 thin plate substrate, 60 liquid ultraviolet curable resin, 61 rotating base, 62 lamp,
70 high reflection film, 71 protective film
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中沖 有克 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 金子 正彦 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 Fターム(参考) 5D029 LB07 LB20 WB11 5D119 AA22 BA01 BB04 JA43 JB02 5D121 AA04 EE22 FF03 GG02 GG24 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Arikatsu Nakaoki 6-35, Kita-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Inside Sony Corporation (72) Inventor Masahiko Kaneko 6-7-1, Kita-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo No. 35 Sony Corporation F term (reference) 5D029 LB07 LB20 WB11 5D119 AA22 BA01 BB04 JA43 JB02 5D121 AA04 EE22 FF03 GG02 GG24
Claims (6)
号部と、光透過層とを具備する光学記録媒体の製造方法
であって、 膜厚0.6mm以上の基板上に、トラックピッチP≦
0.65μmの信号を形成する工程と、 上記信号を形成した面に反射膜、あるいは記録膜の少な
くともいずれかを形成する工程と、 上記基板の成膜面上に、紫外線硬化性樹脂により光透過
層を形成する工程とを有し、 上記光透過層は、厚さtをt=10〜177μmとし、 該光透過層の厚さむらをΔtとしたときに、上記光学記
録媒体に対して信号を再生、もしくは記録再生する光学
系のレンズの開口数N.A.および照射するレーザー光
の波長λとの間に、 |Δt |≦5.26( λ/N.A.4 )(μm) の関係を満たすようにすることを特徴とする光学記録媒
体の製造方法。1. A method for manufacturing an optical recording medium comprising an information signal portion and a light transmitting layer on a surface on which laser light is incident, comprising: a substrate having a track pitch of 0.6 mm or more; P ≦
A step of forming a signal of 0.65 μm; a step of forming at least one of a reflection film and a recording film on the surface on which the signal is formed; and a light transmission by an ultraviolet curable resin on the film formation surface of the substrate. Forming a layer, wherein the light transmitting layer transmits a signal to the optical recording medium when the thickness t is t = 10 to 177 μm and the thickness unevenness of the light transmitting layer is Δt. The numerical aperture N. of the lens of the optical system for reproducing or recording / reproducing. A. And between the wavelength of the irradiated laser beam λ, | Δt | ≦ 5.26 ( . Λ / N.A 4) The method of manufacturing an optical recording medium, characterized in that to satisfy the relation ([mu] m) .
を、上記基板上に滴下し、回転延伸することによって形
成することを特徴とする請求項1に記載の光学記録媒体
の製造方法。2. The method for manufacturing an optical recording medium according to claim 1, wherein the light transmitting layer is formed by dropping the ultraviolet curable resin onto the substrate and subjecting the resin to rotational stretching.
より塞ぐ工程と、 上記紫外線硬化性樹脂を上記基板上に滴下し、回転延伸
を行う工程と、 紫外線を照射して上記紫外線硬化性樹脂を硬化させた
後、上記基板の中心部を打ち抜いて中心孔を穿設する工
程を有することを特徴とする請求項2に記載の光学記録
媒体の製造方法。3. A step of closing a central hole formed in the substrate with a sheet, a step of dropping the ultraviolet-curable resin on the substrate and performing rotational stretching, and a step of irradiating ultraviolet rays to the ultraviolet-curable resin. 3. The method for manufacturing an optical recording medium according to claim 2, further comprising a step of punching a center portion of the substrate after hardening the substrate to form a center hole.
ボネートのシートとを、上記紫外線硬化性樹脂を介して
接着することによって、厚さt=10〜177μmの上
記光透過層を形成することを特徴とする請求項1に記載
の光学記録媒体の製造方法。4. The light-transmitting layer having a thickness of t = 10 to 177 μm is formed by adhering the substrate and a 100 μm-thick polycarbonate sheet via the ultraviolet-curable resin. The method for producing an optical recording medium according to claim 1.
して上記基板上に配置した後、回転延伸させることを特
徴とする請求項4に記載の光学記録媒体の製造方法。5. The method for manufacturing an optical recording medium according to claim 4, wherein the sheet is placed on the substrate via the ultraviolet-curable resin, and is then stretched by rotation.
ことを特徴とする請求項1に記載の光学記録媒体の製造
方法。6. The method according to claim 1, wherein a hard coat is applied on the light transmitting layer.
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