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JP2001517329A - 偏光子及び液晶表示素子 - Google Patents

偏光子及び液晶表示素子

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JP2001517329A JP53241599A JP53241599A JP2001517329A JP 2001517329 A JP2001517329 A JP 2001517329A JP 53241599 A JP53241599 A JP 53241599A JP 53241599 A JP53241599 A JP 53241599A JP 2001517329 A JP2001517329 A JP 2001517329A
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Abstract

(57)【要約】 本発明は光偏光子および偏光子に基づき情報を表示する装置、特に、液晶表示(LCI)素子に関し、投影型、発光、光変調、光変調のマトリクスシステムを含む平面液晶ディスプレイに使用可能である。本発明の目的はそのような偏光子に基づく改善された輝度と色彩を有するLCI素子を提供する高度に優れた偏光子を提供することにある。その目的は、そのような偏光子に基づく偏光子とLCI素子の製造にあたって偏光波長が増加するにつれて大きくなる少なくとも1つの屈折率を有する、すなわち異常な分散を有する少なくとも1つの複屈折異方性吸収層を使用することによって達成される。この層を使用することにより二色性かつ干渉型の偏光子を創ることが可能になる。さらに、この層を使用することにより、比較的簡潔な設計で実際にすべてのエネルギーを有する非偏光放射を偏光放射に変換する偏光子を創ることが可能になる。異常な分散を有する複屈折異方性吸収層に基づく偏光子の上記の特性は、高い輝度、色彩、良好な角度特性及び影がないことにおいて区別されるカラ一及びモノクロの双方のLCI素子を創ることを可能にする。

Description

【発明の詳細な説明】 偏光子及び液晶表示素子 技術分野 本発明は、光学(optic)及び、特に光偏光子とそれに基づく液晶表示素子に関 する。 自然光を偏光された光に変換する光偏光子、及びそれに基づく液晶表示(LC I)素子は、液晶上に情報を表示し、システムをモニタし、そして光をブロッキ ングする現在の装置にとって必要な素子である。 従来技術 現在用いられている偏光子は、単軸テンションにより配向されたフィルム、有 機染料によりまとめて染められたポリマーフィルム、又はヨウ素化合物である。 ポリマーとして、ポリビニルアルコール(PVA)が主に用いられている(例え ば、米国特許第5,007,942(1991)参照)。 ヨウ素で染められたPVAに基づく偏光子は、高い偏光特性を持っており、ス クリーン、時計、計算機、パーソナルコンピュータ、その他のための液晶表示器 の生産に広く用いられている。 しかしながら、PVAに基づく偏光子は高価格、低熱抵抗であるため、大量生 産の消費物、特に自動車産業、建設、建築用の複層ガラスやフィルムの生産に用 いることを許容しない。このような状況は、代わりに新しいタイプの偏光子の開 発を呼び起こしている。 公知の偏光子はネマティック相を形成することができる分子的に配向された二 色性の染料の層がその上に設けられた基板である(米 国特許第2,544,6593(1951)、及び公開特許第1-183602号公報(1989)) 前記偏光子はPVAによる偏光子と比べて高い熱抵抗を持っている。なぜなら 偏光子の分子的に配向され染料のフィルムは、高い熱的安定性を持っており、例 えばガラスのように安定した材料に形成できるからである。 米国特許第2,544,6593号及び公開特許第1-183602号公報の偏光子の欠点を述べ ると、第1に、不十分な偏光性能と低コントラストである。 偏光子(PCT WO 94/28073(1994))は、スルホン酸又はアゾ及び多環式化合物 の非有機塩、又は一般式(I)のそれらの混合である水溶性染料の分子のオーダ ーの層の0.1−1.5mcmの厚さの薄いフィルムがその上に設けられた基板 であり、より高い偏光特性を持っている。 {クロモジェン}(SO3M)n、ここでクロモジェン(Chromogene)は染料の クロモホルシステム(chromophore system)である。M−H+,Li+,Na+,K+ ,Cs+,NH4 +は、安定したリオトロピック液晶相を形成することができ、そ れらに基づいて安定したリオトロピック液晶(LLC)及びそれに基づく化合物 を生産することができる。 PCT WO 94/28073により偏光子を作るために、基板表面に染料のLLCが設け られ、同時に機械的配向とそれに続く溶媒の蒸発が起こる。それにより基板表面 には、効率良く光を偏光することのできる分子オーダーの染料層−偏光コーティ ング(PC)の薄いフィルムが形成される。しかし、前記偏光子は、高解像度L C装置に用いるにはまだ不十分な偏光特性である。 他の物理的現象による偏光子「動作」が知られている。例えば、 異なった反射率による異なった偏光である。このタイプの偏光子は反射偏光子と して引用されている。そこで用いられているのは、ブリュスター角(Brewster a ngle)に近い傾いた角度で、かつ複屈折材料の表面から通常の(表面に直角な) 入射と光反射での、誘電体材料の表面からの光ビームの入射及び反射の両者の偏 光現象である。この場合、偏光特性の改善は反射偏光子の多層設計を用いて達成 される。 認識される厚みが、少なくとも1つの直線偏光された光成分についての偏光子 の出力における干渉の極端にある、少なくとも1つの複屈折層を有している偏光 子が知られている。このような偏光子は、2つの透明な(動作波長範囲において 非吸収)ポリマー材料に挟まれた層を有しており、少なくともそれらの1つは複 屈折の層である。前記ポリマー材料における複屈折は、そのような材料から作ら れたフィルムが同じ方向に2−10回引き伸はされる時に形成される。ポリマー 材料の他の層、これは複屈折層を有する層に挟まれている、は光学的に等方性の ものである。複屈折層の通常の屈折率は光学的に等方性の層に屈折率に等しい。 公知の偏光子の動作原理は以下の通りである。非偏光光の1つの直線偏光され た成分、その成分に対して複屈折層の並外れた(大きい)屈折率が対応する、は 本質的に複屈折層と光学的に等方性の層の境界における屈折率の差により多層光 偏光子から反射される。層の厚さが波長のオーダーである場合、層の境界から反 射した光ビームは互いに干渉する。層の厚さとそれらの屈折率が適正に選択され るとき、層の境界から反射された波の間の光路差は波長の整数に等しい。即ち、 反射した波の干渉結果は、それらの相互強化により最大干渉となる。この場合、 非偏光光の直線偏光された成分の反射、その成分に対して複屈折層の並外れた( 大きい)屈折率が対応する 、は相当強化される。 複屈折層の通常の(小さい)屈折率は、光学的に等方性のポリマー層の屈折率 に本質的に等しいように選択される。即ち、複屈折の光学的に等方性のポリマー 層の境界で屈折率の差(急激な変化)はない。そのため、入射した非偏光光の他 の直線偏光された成分、その成分に対して複屈折層の通常の(小さい)屈折率が 対応する、は反射なしに多層光偏光子を完全に通過する。 このように、非偏光光が公知の偏光子に入射するとき、1つの直線偏光された 成分が反射され、他の直線偏光された成分は偏光子を通過する。すなわち、光偏 光は光の通過と反射を生ずる。 PCT WO95/17691から知られた偏光子は組み合わされたもので、さらに弱い吸収 と二色性を持った二色性偏光子を有し、反射光偏光子と共に光学的に配置されて いる。追加の二色性偏光子が果たす役割、その透過軸は反射光偏光子の透過軸に 平行である、は組み合わされた偏光子が半透明に対して動作するとき、外部光の 除去を減少することである。 公知の偏光子の不利な点の1つは、その光学特性の比較的強い分光依存性を有 していることである。即ち、偏光容量と偏光された光の波長の反射率(及び透過 )の依存である。この不利な点は、用いられる材料の反射率が、偏光された光波 長が増加するにつれて減少するという状況により引き起こされる。 公知の偏光子(PCT WO95/17691)の他の不利な点は、非常に多くの挿入層を用 いなければならないことであり、これは透明ポリマー材料の最大複屈折値(複屈 折材料の通常及び並外れた屈折率の差)が低く、そして一般に0.1−0.2を 超えないという状況で生じる。この理由のため、層境界からの反射率は小さく、 光偏光子から全体として高い光反射を得るためには、非常に多くの数の層(10 0−600)を使う必要があり、この層を設けることは非常に困難な課題であり 、特別に正確な機器を必要とする。 前記文献の偏光子に多くの数の層を必要とする第2の理由は、次の通りである 。多層コーティングにおいて広い波長範囲で光を偏光するため、広い分光範囲内 で(自身の)波長に対する各対のグループの(調整)のために異なった厚さを持 った多くの対の挿入層又は対のグループが利用可能でなければならないことであ る。 それにもかかわらず、対の層の多くのグループ、それらの各々はそれ自身の波 長のために調整される、が用いられるときでさえ、公知の偏光子の光学特性は偏 光された光の波長に相当依存している。 二色性でかつ干渉タイプの上記偏光子は入力光エネルギーの50%より多くは 利用していないことに注意すべきである。 一方、入力光エネルギーの50%より多く利用している偏光子は公知である。 少なくとも1つのフィルムプレートとして実現されている偏光子(米国特許第 3,522,985(1970))が知られている。そこで適用されているのは、 ・ 偏光手段は直線偏光され、互いに直角な2つの多数(pluralities)に異なっ た焦点を合わせ、光ビームはそこに入射する非偏光光を構成する。 ・偏光子へ入射する非偏光光の前記2つの成分の1つの偏光の光ビームの少なく とも1つの多数の偏光を変えるための手段。 ・偏光子から出力された光のコリメーションのための手段、シリンダー状のレン ズの配列の形で実現される。 上記偏光手段は、2対の誘電体層よりなり、前記対の1つの層は複屈折層であ り、他は光学的に等方性である。それにより、前記層はそれらの適当に形づくら れた表面により相互に結合され、それに より同一のシリンダー状マイクロレンズの均質な配列を形成する。 配置された前記誘電体層の対の間には、連続的な半波複屈折プレートがあり、 そのプレートの光軸は前記シリンダー状レンズの幾何学軸の方向に対し45°の 角度である。 偏光変化のための前記手段は、区分された複屈折位相遅延プレートであり、そ れは半波又は4分の1波プレートであり、偏光子面に平行であり、前記シリンダ ー状レンズの幾何学軸の方向に対し45°の角度で光軸を有している。前記手段 の下流で、2つの出力された多数のビームが前記区分、又は前記区分された複屈 折位相遅延プレートの区分間の区分及び間隔に焦点が合わされる。それは結果と して、同じ偏光の前記焦点を合わされた光ビームの少なくとも1つの多数の偏光 状態の変換となり、すべの光ビームは前記位相遅延偏光子を通過し、同一の偏光 を得、そしてそれらによって移動したエネルギーは、偏光子上に入射する非偏光 光のエネルギーに実際等しくなる。 米国特許第3,522,985の偏光子において、前記偏光手段に含まれている複屈折 誘電体層、及び偏光子上に入射する非偏光光の2つの直線偏光された成分の少な くとも1つの多数の光ビームの偏光を変化するための手段は、ポリエチレンテレ フタレート、又は予め決められた方向に分子配向された類似のポリマーにより実 現される。 米国特許第3,522,985による偏光子の不利な点は、出力した光偏光の低い効率 であり、それは以下により生じる。 ・偏光面に直角な入射光線の部分のみ偏光する性能。 ・複屈折材料として分子配向されたポリエチレンテレフタレート及び同様の材料 の使用。 米国特許第5,566,367(1996)による偏光子は、入ってくる非偏光光を複数の同 一の光ビームに変換するための手段、前記非偏光光ビ ームを異なった偏光を持った偏光通過光ビーム及び反射光ビームに分割する偏光 手段、前記偏光手段から反射された光ビームの偏光を変化させるための手段、及 び本質的に同じ方向に沿った偏光子から出力された光ビームを方向付ける反射手 段を有する。公知の偏光子(米国特許第5,566,367)において、非偏光光ビーム を偏光された通過光ビームと反射光ビーム、これは異なった偏光を持っている、 に分割する手段は光ビーム軸に対し本質的に傾斜した角度(ブリュスター角度に アプローチする角度で)で配置された一対の誘電体表面を有しており、偏光を変 更する手段は前記表面間に置かれた半波プレートを有している。この偏光子にお いて、反射手段は光ビームの軸に対して本質的に傾斜した角度(フルの内部反射 角度より大きい角度で)で配列された一対の誘電体表面を有する。この公知の偏 光子は非偏光光を偏光光に変換する高エネルギー係数を持っている、即ち、実際 に非偏光光のすべてのエネルギーは出力された偏光光に変換され、この偏光子は また比較的平らなデザインを持っている。 米国特許第5,556,367の偏光子の主たる不利な点は、上記偏光子と同様に、相 対的に低い偏光効率であり、出力光の偏光が低い度合いであり、そしてある場合 、製造するのが困難であることである。 先に述べたように、上記偏光子は情報を表示するための種々の装置、特に液晶 表示(LCI)素子の製造のために用いることができる。 最も典型的なLCI素子は2つの平行なガラスプレートにより形成された平ら なディッシュとして実現される装置であり、そのプレートの内部表面上には光学 的に透明な導電材料、例えば二酸化スズの電極が設けられる。前記プレートの電 極を有した表面は、プレートの表面及びLCフィルムの容量においてLC分子の 予め決められ た均質な配向を提供する特別な処理を施こされる。均質な配向の場合、プレート 表面における液晶分子の大きな軸は配向方向に平行に配列され、その方向は通常 互いに直角に選択される。ディッシュが組み立てられた後、5−20mcmの厚 さの層を形成し、アクティブな媒体であり、電圧が印加されたときにその光学的 特性(偏光面回転角度)を変化させるLCで満たされる。光学的特性の変化はク ロスした偏光子に記録(registered)され、通常はディッシュの外側表面に接着剤 でくっつけられる(L.K.Vistin,JHCA,1983,vol.XXVII,iss.2,p.141-148)。 さらに、表示部分、その部分の電極を横切って電圧は印加されない、は光を透 過し、光領域が現れる。一方、電圧下の表示部分は暗い領域が現れる。カラーの 像を創りだすために、LC素子は、有機又は非有機染料で染められ、パターン素 子の形(文字合成及びゲーム表示器)、又は光フィルタ素子を通った光の適当な 染色を提供するRGB又はCMYタイプ(マトリクススクリーン)の光フィルタ の配列の形を実現する、追加の特別な層を有する。 現在用いられている偏光子は、ポリビニルアルコールフィルムを基に、ヨウ素 の蒸気又は二色染料で染められ、低い機械的強度を持ち、この理由のため機械的 損傷に対して保護するための特別な手段が必要であり、その手段はLC装置をよ り複雑にそして高価にしている。従来のPVAに基づく偏光子は、10層ほどの 多くの層を有する複雑なシステムである。 1.保護フィルム 6.粘着性の層 2.弱い接着剤 7.第2の支持フィルム 3.第1の支持フィルム 8.接着剤 4.粘着層 9.シリコン層 5.偏光フィルム 10.基板フィルム 偏光子が接着剤でくっつけられたとき、シリコン化されたフィルムは取り除か れ(層9又は10)、LCI素子の組み立てにおいて、接着剤を持った保護フィ ルム(層1及び2)は取り除かれ、保護ガラスで置き換えることができる。 結果として、LCIが組み立てられた後、20層より多い層を含む装置が現れ る。偏光子の1つの層に対しての損傷でさえ、LCI素子を製造するためには不 適切に作用することに注意すべきである(A.E.Perregaux,SPIE,Vol.307,p. 70-75)。 機械的損傷に対して偏光子を保護する一つの方法は、ディッシュの内側の置き 替えである。そのため、ディッシュプレートが製造され、透明電極が設けられた 後、ポリマーの溶液、例えばポリビニルアルコール、それはヨウ素又は二色染料 を有することができる、がプレートに適用される。それからポリマー溶液は、例 えばドクターブレードを用いてシェアリングフォースされ、それはプレートの表 面に沿って動かされる。その上に直線ポリマー分子がブレードの動きに沿って配 列される。溶媒が取り除かれた後、ヨウ素と二色染料を含む、このように形成さ れた配向PVAフィルムは、偏光子及びLC配向としての役を果たす。それから ディッシュは組み立てられ、LCを満たされ、シールされる。このように作られ た偏光子はセルの内側にあり、外部の機械的効果に対して保護される(米国特許 第3,941,901(1976))。 前記装置の欠点は次の通りである。 a)このような偏光子を製造するために、ポリビニルアルコール又は他のビニル ポリマーを用い、染色のためにヨウ素を用いることによる低い熱的安定性。 b)染色のためのヨウ素ポリマーフィルムの使用、これは結果として低いコント ラストと電力消費の上昇をもたらし、装置の寿命を縮 める。 より熱的に安定した、そしてより高いコントラストを持った装置が知られてお り(RF特許第96107430,B.I.No.21(1998),p.84-85)、そこでは用いられている偏 光子として、安定したリオトロピック液晶相−偏光コーティング(PC)を形成 することのできる二色の染料の分子配向層の薄いフィルムである。PCは偏光子 及びLCの均質な配向のための配列として役立つことができる。 LCセルは組み立てられ、標準的方法では、そのように作られたプレートは必 要な液晶で満たされ、シールされる。 このようなタイプの装置の欠点は、生成された像の低輝度と不十分な色飽和で ある。このような欠点の理由の1つは、可視スペクトル光の50−60%を吸収 する二色偏光子の使用と、光の流れの部分を追加的に吸収する染料の使用である 。高い色飽和を達成するために、この場合、より大きい輝度の光源が必要であり 、それは表示により増加したエネルギー消費と結びついている。増加したエネル ギー消費は、情報を表示するための代替装置と比較し、エネルギー節約装置とし てのLC表示の利点を失わせることになる。 発明の要約 本発明の目的は、比較的簡素なデザインで、広いスペクトラム領域で高い分極 特性を備えた色々なタイプの偏光子を提供することである。 本発明の他の目的は、前記偏光子に基づいた高い輝度と高い画像の色飽和特性 を備えた液晶表示(LCI)素子を提供することである。 これらの目的は、偏光された光の波長の増大に伴って増大する少なくとも1つ の屈折率を備える少なくとも1つの複屈折異方性吸収 層を、偏光子及びこれに基づくLCI素子の製造において使用することにより達 成できる。 本発明の顕著な特徴は、偏光された光の波長の増大に伴って増大する少なくと も1つの屈折率を備える少なくとも1つの複屈折異方性吸収層である。この依存 関係は、異常な分散は少なくとも1つの屈折率の値の著しい増大に帰着すると言 うことができる。このことは、今度は、ポリマ材料のプロトタイプ(0.2)に 対する同じ値を大きく越えることができ、そして、請求項に記載の偏光子におけ る複屈折異方性吸収層に対する0.7−0.8に到達する複屈折値の著しい増大 に帰着する。 本発明における少なくとも1つの複屈折異方性吸収層は、偏光された光の波長 に直接比例する少なくとも1つの屈折率を備えている。 このような複屈折層の使用により、「干渉型」、2色性偏光子、及び、入射光 のエネルギの50%を越える部分を使用する偏光子を含む、色々なタイプの偏光 子を製造することができる。 請求項に記載の「干渉型」の偏光子の大きな特徴は、少なくとも1つの直線偏 光された光成分用の偏光子の出力において干渉極値が実現できるような厚さを備 えた少なくとも1つの複屈折層である。複屈折層の厚さは、層の製造に使用され る材料のタイプにも依存して選択される。このような大きな複屈折率の値に起因 して、必要な層の数は、公知の偏光子に比較して劇的に少なくなる。 更に、光の波長の干渉極値(最大値と最小値)を得るための条件に頼ることは 著しく低下し、そして、好ましい実施例では完全に除去されており、これによっ て広いスペクトラム領域における偏光子の高い偏光特性が与えられる。 少なくとも1つの複屈折異方性吸収層の使用により、「干渉型」 の偏光子において僅かな光の損失が起こるが、これらの損失は非常に小さいもの であり、特に、0.1mcm厚よりも薄い層においては非常に小さく、そして、 達成された結果、即ち、10程度の少ない層が使用された時の広いスペクトラム 領域における高い偏光特性という条件では、これらの損失を償うものである。 以後において、光及び光学(偏光子)の観念は、紫外線に近い、及び、赤外線 に近い範囲の波長、即ち、250−300nmから1000−2000nm(0 .25−0.3から1−2mcm)の可視電磁気放射を意味するものとする。 以後において、平坦な層の観念は、もっぱら既に理解されているものについて 言及するものである。一般性を失わせることなしに、円筒状、球状、及びその他 の一層複雑な形状のような異なる形状の層を備える偏光子をも意味している。更 に、提案の「干渉型」の偏光子は、構造上において単一かつ隔離されたものであ り、そして、色々な基板上、或いは基板と基板の間に適用されるものとして実現 することができる。 複屈折層は、少なくとも2つの異なる屈折率を備えた層のことを指し示すもの であり、2つの異なる屈折率は、1つの直線偏光された光の成分に対する特異な neと、他の垂直に直線偏光された光の成分に対する通常のnoである。Δn=ne −noの値は、異方性屈折率、或いは、単に光学的異方性を示している。以後に おいて、特異な屈折率と通常の屈折率に対応する光学軸は直交して層平面の上に 配置されていると仮定する。特異な屈折率neが対応する光学軸は、この方法、 或いは他の方法によって強調される。例えば、この軸は、ポリマ材料層の引き出 し方向、或いは、配向されたネマチック液晶におけるディレクタになり得る。こ のような水晶光学の観念における複屈折層は、主軸に平行に切り抜かれた光学的 に単一軸 のプレートに対応している。以後において実施例として考慮されるものは、ne >noである光学的に正の複屈折層である。一般性を失わせることなく、ne<no である光学的に負の複屈折層にも適用できると推測される。 更に一般的なケースでは、例えば、光学的に2軸の層に対しては、3つの異な る屈折率nx=ne,ny=no,nzがある。屈折率nxは、光の波における発振方 向に対応しており、その方向は層平面に対して平行な方向であり、かつ、層平面 における方向Xと同様の方法で強調されたものに沿って向けられており、屈折率 nyは光の波における発振方向Yに対応しており、これもまた層平面に対して平 行な方向であるが、X方向に対して垂直であり、屈折率nzは光の波における発 振方向Zに対応しており、層平面に対して垂直になっている。複屈折層の製造方 法と使用された材料のタイプに依存して、比率、或いは屈折率nx,ny,nzを 異ならせることができる。 提案した偏光子における少なくとも1つの複屈折異方性吸収層は、偏光された 光の波長の増大に伴って増大する1種類又は2種類、或いは3種類の屈折率を持 つことができる。 最も好ましいのは、少なくとも1つの複屈折異方性吸収層が、偏光された光の 波長に直接比例する少なくとも1つの屈折率を持つ、本発明における「干渉型」 の偏光子の使用である。例えば、dを複屈折異方性吸収層の厚さ、mを干渉最大 状態に対応する干渉次数とした時に、もし、公式2dne=mλにおいて、特異 率neが光の波長に直接比例すると、即ち、ne=Aλ(ここでAは比例係数)で あるとすると、波長が「短くなる」、つまり、このケースにおける干渉最大値の 状態が全ての波長に対して、更には、干渉の全ての次数に対して、即ち、mの全 ての値に対して、満足される。更に、 同じ材料が別の厚さを備えていた場合は、干渉が最小の状態に対して、光の波長 からの独立が同様に与えられる。光の波長に対して屈折率を直接比例させること は、偏光された光の波長の増大に伴って単純に増大する屈折率よりも、一層厳し い要求(状態)である。 本発明によれば、偏光子の少なくとも1つの複屈折異方性吸収層が、1.9以 上の少なくとも1つの屈折率の最大値を備えている、「干渉型」の偏光子が好適 である。これによって、必要な層の数は10を越えず、高い偏光特性を備えたス ペクトラム領域は、プロトタイプに比較して3倍広くなる。 行った実験と評価により、少なくとも1つの複屈折異方性吸収層が、動作波長 領域において0.1以上の最大吸収率を持つような偏光子もまた好適であること が論証された。 最適であるのは、1つの直線偏光された光成分に対する干渉の最小値と、同時 に、他の垂直に直線偏光された光成分に対する干渉の最大値が偏光子の出力にお いて得るように、複屈折異方性吸収層の厚さが選択された「干渉型」の偏光子で ある。 実際のところ、複屈折層の特色は、少なくとも2つの、その値の点で異なる屈 折率、例えば、層平面に配置されたXとY軸に対応するnxとny、が存在するに すぎないという事実である。この事実に基づいて、層の厚さと干渉次数(mの数 )は、1つの直線偏光された光成分に対する干渉の最小値と、同時に、他の垂直 に直線偏光された光成分に対する干渉の最大値が偏光子の出力において得るよう に選択することができる。干渉の最小値は通常の屈折率に対応させることができ 、それによって干渉の最大値が特異な屈折率によって決定される。干渉の最小値 が特異な屈折率に対応している時は、これと反対の状態が可能であり、それによ って干渉の最大値が通常の屈折率によって決定される。 また、少なくとも2層から構成される「干渉型」の偏光子も好適であり、2層 のうちの少なくとも1層は複屈折異方性吸収層であり、他の層は光学的に等方性 の層であって、その屈折率は複屈折層の屈折率の1つと一致するか、或いは、最 大限に近い値である。他の複屈折層の屈折率と光学的に等方性の層の屈折率の間 の差は0.2を越え、0.7−0.8に到達する。 この形態では、非偏光の入射光の1つの直線偏光された成分は、この成分は複 屈折異方性吸収層の特異な(大きな)屈折率に対応しているが、本質的に層の境 界における2つの屈折率の間の差異に基づいて多数層の偏光子から反射される。 層の厚さとそれらの屈折率が適切に選択された場合は、同じ複屈折異方性吸収層 の境界から反射された波の間の光路差は、波長の整数倍となる、即ち、それらの 干渉の結果は、反射光の相互の強化の結果、干渉の最大値となる。それによって 、光学的に等方性の材料の層の光学的厚さは、波長よりも著しく大きくなること ができると共に、波長の次数となることができる。この結果、非偏光状態の光の 直線偏光された成分の反射は、この成分は複屈折異方性吸収層の特異な(大きな )屈折率に対応しているが、著しく強められる。 複屈折異方性吸収層の通常の(小さい)屈折率は、光学的に等方性の層の屈折 率に一致する、或いは、最大限に近づく、即ち、層の境界における屈折率の差( 急な変化)がなくなる。このように、非偏光の入射光の他の直線偏光された成分 は、この成分は複屈折異方性吸収層の通常の(小さい)屈折率に対応するが、反 射することなく多層の偏光子を完全に通過する。 本発明の他の形態は、少なくとも2つの異なる複屈折層から構成され、少なく とも1つの層がその屈折率が複屈折層の屈折率の1つに一致するか、或いは最大 限に近い値である複屈折異方性吸収層で あり、複屈折層の第2の屈折率と複屈折異方性吸収層の第2の屈折率が互いに異 なっており、第2の屈折率同士の差異は0.2を越える「干渉型」の偏光子であ る。 大きな範囲への干渉結果は、強度の比率、つまり干渉光線の電界の振幅によっ て影響される。干渉最小値(理論的には0に等しい)における最小限の強度値は それらの品質において得られることが知られている。それ故に、干渉が最小の条 件に対して、干渉波形の振幅の等化を達成できる最大限に与えることは合理的で あり、このことによって、偏光された光の対応する成分の光線の最大の「ブラン キング」が保証される。干渉が最大の条件に対して干渉の結果を最適にするため には、各層の境界からの反射係数は増大させなければならない。 本発明による偏光子の製造に対する技術の選択は、複屈折異方性吸収層及ひそ の他の層に使用される材料の種類に依存するが、本発明の本質に対して重要では ない。 本発明の特徴は、少なくとも1つの複屈折異方性吸収層が下記のものから形成 され得る事実である: ・下記一般式(II): {色原体}−(XO-M+n 〔式中、色原体は染料発色団系であり;X=CO,SO2,OSO2,OPO(O-M+):M=RR'NH2; RR'R''NH;RR'R''R^N;RR'R''^P,when R,R',R'',R^=CH3,ClC2H4,C2H5, C3H7,C4H9,C6H5CH2、置換されたフェニル又はヘテロアリール;YH-(CH2-CH2Y)m -CH2CH2,Y=0、又はNH,m=0-5、N−アルキルピリジニウムカチオン、N−アル キルキノリニウムカチオン、N−アルキルイミダゾリウムカチオン、N−アルキ ルチアゾリニウムカチオン、等;n=1−7〕で表わされる二色性ニオン性染料 の少なくとも1つの有機塩; ・下記一般式(III): (M1 +,O-X'-)m[M1 +O-X'-(CH2)p-Z-]g{色原体}[-Z-(CH2p-XO-M+r,(-XO- M+n, 〔式中、色原体は、染料発色団系であり;Z=SO2NH,SO2,CONH,CO,O,S,NH, CH2;p=1-10;f=0-9;g=0-9;n=0-9,m=0-9,n+f=1-10:m+g=1-10;X,X'=CO,SO2,O SO2,PO(O-M+);M≠M1M,M1=H;次のタイプの非有機カチオン:NH4,Li,Na,K, Cs,Mg,Ca,Ba,Fe,Ni,Co、等;次のタイプの有機カチオン:RHN3,RR'NH2, RR'R''NH;RR'R''R*N;RR'R''R*P、ここでR,R',R'',R*=alkyl又は次のタイプの 置換されたアルキル:CH3ClC2H4,HOC2H4,C2H3,C3H7,C4H9,C6H5CH2、置換さ れたフェニル又はヘテロアリール、YH-(CH2-CH2Y)k-CH2CH2-,Y=0,or NH,k=0- 10;次のタイプの複素芳香族カチオン:N−アルキルピリジニウム、N−アルキ ルキノリニウム、N−アルキルイミダゾリニウム、N−アルキルチアゾリニウム 、等〕で表わされる異なったカチオンと二色性アニオン性染料との少なくとも1 つの混合された不斉性塩; ・下記一般式(IV): (M+O-X'-)m[M+O-X'-(CH2)p-Z-]g{色原体}[-Z-(CH2)p-XO-SUR]f(XO-SUR)m 〔式中、色原体は染料発色団系であり;Z=SO2NH,SO2,CONH,CO,O,S,NH,CH2 ;p=1-10;f=0-4;g=0-9;n=0-4,m=0-9,n+f=1-4:m+g=1-10;X,X'=CO,SO2,OSO2 ,PO(O-M+);M=H;次のタイプの非有機カチオン:NH4,Li,Na,K,Cs,Mg,Ca, Ba,Fe,Ni,Co、等;次のタイプの有機カチオン:RHN3,RR'NH2,RR'R''NH;RR' R''R*N;RR'R''R*P、ここでR,R',R'',R*=次のタイプのアルキル又は置換さ れたアルキル:CH3ClC2H4,HOC2H4,C2H3-C10H21,C6H5CH2、置換されたフェニ ル又はヘテロアリール、YH-(CH2-CH 2 Y)k-CH2CH2-,Y=0、又はNH,k=0-10;次のタイプの複素芳香族カチオン:N− アルキルピリジニウム、N−アルキルキノリニウム、N−アルキルイミダゾリウ ム、N−アルキルチアゾリニウム、等;K'SUR+,SUR=KSUR+,K'SUR+,AmSUR、こ こで KSUR+及びK'SUR+は界面活性カチオンであり、AmSURは両性界面活性剤であ る〕で表わされる界面活性カチオン及び/又は両性界面活性剤と二色性アニオン 性染料との少なくとも1つの会合物; ・下記一般式(V): (M+O-X-)m[M+O-X'-(CH2)p-Z-]u{色原体+}SUR 〔式中、色原体は染料発色団系であり,Z=SO2NH,SO2,CONH,CO,O,S,NH,CH2 ;p=1-10;g=0-1;m=0-1,m+g-1;X=CO,SO2,OSO2,PO(O-M+);M=H;次のタイプの 非有機カチオン:NH4,Li,Na,K,Cs,Mg,Ca,Ba,Fe,Ni,Co、等,次のタイ プの有機カチオン:RHN;RR'NH2;RR'R''NH;RR'R''R*N;RR'R''R*P、ここでR,R', R'',R*=次のタイプのアルキル又は置換されたアルキル:CH3ClC2H4,HOC2H4, C2H3-C10H21,C6H5CH2、置換されたフェニル又はヘテロアリール、YH-(CH2-CH2Y )k-CH2CH2-,Y=0、又はNH,k=0-10;次のタイプの複素芳香族カチオン:N−ア ルキルピリジニウム、N−アルキルキノリニウム、N−アルキルイミダゾリニウ ム、N−アルキルチアゾリニウム、等;KSUR+(界面活性カチオン)、SUR=ASUR- ,AmSUR、ここでASUR-は界面活性カチオンであり、AmSURは両性界面活性剤であ る〕で表わされる界面活性アニオン及び/又は両性界面活性染料と二色性カチオ ン色素との少なくとも1つの会合物; ・下記一般式(VI): {色原体}-[Z-(CH2)-p-X+RR'R''SUR]m 〔式中、色原体は染料発色団系であり;Z=SO2NH,SO2,CONH,CO, O,S,NH,CH2;p=1-10;X=N,P;R,R',R''=次のタイプのアルキル又は置換され たアルキル:CH3,ClC2H4,HOC2H4,C2H5,C3H3;SUR=ASUR-,AmSUR、ここでASUR- は界面活性カチオンであり、AmSURは両性界面活性剤であり;n=1−4〕で表 わされる界面活性カチオン及び/又は両性界面活性剤と二色性カチオン染料との 少なくとも1つの会合物; ・イオノゲン又は親水性基を含まない少なくとも1つの水不溶性二色性染料及 び/又は顔料; ・二色性染料であるか、又は成分として、液晶、及び/又は液晶染料以外の二 色性染料を含み、そしてたとえば、紫外線を用いて硬化することによって層への 適用の後、この又は他の態様でガラス化された少なくとも1つの低分子熱互変液 晶物質; ・二色性染料及び/又はヨウ素化合物により着色された、調節された親水性程 度を有する、液晶材料以外の少なくとも1つのポリマー材料; ・多量のポリマー鎖二色性染料に溶解され、そして/又はそれにより化学的に 結合され、そして0.2mcm以下の厚さを有する、少なくとも1つのポリマー熱互変 液晶及び/又は非液晶物質; ・リオトロピック液晶相を形成し、そして0.1mcm以下の厚さを有する少なくと も1つの二色性染料; ・0.1mcm以下の厚さを有する、ポリマー構造の少なくとも1つの二色性染料; ・一般式{色原体}(SO3M)n〔式中、色原体は染料発色団系であり;M=H+、 非有機カチオン〕で表わされる安定したリオトロピック液晶相を形成し;そして 0.1mcm以下の厚さを有する少なくとも1つの水溶性有機染料;又は ・それらの混合物。 一般式(II−VI)を有する少なくとも1つの二色性染料は、次のものから選択 され得る: ・安定したリオトロピック液晶相を形成できる染料、たとえばインダンソルン の誘導体のスルホ−酸、ナフタレン−1,4,5,8−、ベリレン−及びアンタ トロン−3,4,9,10−テトラカルボン酸の対称ジフェニルジイミド及びジベ ンズイミダゾールの誘導体のスルホ−酸、直接黄色耐光堅牢性0〔4〕、等; ・直接染料、たとえばベンゾプルプレン4B(C.I.448)、C.I.直接オレンジ 26、C.I.直接赤48又は5’、C.I.直接紫88、C.I.直接青19、等; ・活性染料(トリアジン、ビニルスルホン、又はProtions T)、たとえばC.I. 活性赤1、C.I.活性黄1、C.I.活性青4、等; ・酸性染料、たとえばブロムアミン酸の種々の誘導体、酸性鮮紅アントラキノ ンN8S、鮮青アントラキノン(C.I.61585)、酸性緑アントラキノンN2S(C .I.615890)、酸性鮮緑アントラキノンN4Zh、酸性赤138、C.I.酸性黄135、C.I. 、酸性赤87、C.I.、酸性黒1、等; ・多環式染料、たとえばナフタレン−1,4,5,8−、ペリレン−及びアン タトロン−3,4,9,10−テトラカルボン酸の不斉フェニルアミド及びベンズ イミダゾールの一連のスルホ−酸;インジゴ、チオインジゴ又はキナクリドンの 誘導体のジスルホ−酸〔RF特許第95117403BIN26号(1997)、p.239のための出 願〕、及びバット染料及び顔料に基づく他のスルホ−酸。 一般式(V−VI)で表わされる少なくとも1つの二色性カチオン染料は次のも のから選択され得る: ・発光染料;ポレメチン(シアニン、ヘミシアニン、等)染料;アリール炭素 染料;ジ−及びトリアリールフェニルメタン、チオピ ラネン、ピロニン、アクリジン、オキカジン、チアジン、キサンテン、アジン、 等の染料の複素環式誘導体。 イオノゲン又は親水性基を含まない少なくとも1つの二色性染料及び/又は顔 料は、次のものから選択され得る: ・バット顔料;分散顔料;アントラキノン顔料;インジゴイド顔料;アゾ−化 合物;ペリノン染料;多環式化合物;アントロンの複素環式誘導体:金属錯体化 合物;芳香族複素環式化合物;発光染料。 必要な物理−機械、接着、均等化、フィルム−形成、等の性質を提供するため には、上記染料の他に、偏光子の少なくとも1つの複屈折異方性吸収層はさらに 、改質剤を含むことができ、ここで前記改質剤の能力においては、種々のタイプ の親水性及び疎水性ポリマー、たとえば種々のタイプの液晶及び疎水性ポリマー 、液晶及び珪素−有機ポリマー、可塑剤及びワニス、たとえば珪素−有機ワニス 、並びに非イオノゲン界面活性剤が使用され得る。 改質剤の使用はまた、複屈折異方性吸収層における微小欠陥の存在のために可 能である光の散乱の低下を可能にする。 上記で論じられたバージョンは、提案された偏光子のための複屈折異方性吸収 層を形成するための他の材料の使用の可能性を制限しない。 提案された偏光子における複屈折異方性吸収層は、固体及び液体の両者であり 得る。 上記材料は、<干渉タイプ>の偏光子のみならず、また、下記請求の範囲に記 載され、そして他の物理的現象に基づいての偏光子及びそれに基づいてのLCI要 素を製造するための複屈折異方性吸収層を形成するために使用され得ることが注 目されるべきである。 本発明の偏光子の製造のためには、適切な染料(II−VI)の水性 、水−有機、及び有機溶液が、徐々に上昇する濃度の希釈溶液(たとえば、蒸発 又は膜限外濾過による)により、又は必要な濃度まで、適切な溶媒(水、水及び アルコールの混合液、DMFA又はDMSO型の双極性溶媒、セロソルブ、エチルアセテ ート及び他の水混和性溶媒)に乾燥染料を溶媒することにより調製され得る。 層を形成するために使用される技法に依存して、1〜30%の濃度を有する染料 溶液が使用される。 アメリカ特許第2,544,659号(1951)の方法が使用される場合、支持体の表面 を、必要とされる方向に摩擦する予備試験に基づいて、より希釈された溶液が適 用されるが、ところが、層がPCT WO94/28073(1994)の技法に従っての機械的延 伸を用いての支持体の摩擦を伴わないで形成される場合、より濃縮された染料溶 液、たとえば安定したリオトロピック液晶相を形成する溶液が使用される。 染料(II−VI)に基づいて構成される安定性LLCの機械的指図は、表面間にLLC 層が分配される、他の表面から1つの表面の押し離しの時点で、又は支持体表面 上へのLLCの適用と同時に行なわれ得る剪断力が適用される時点で創造されるメ ニスカス上に引張歪を引き起こす力の作用により行なわれ得る。 剪断力下での支持体表面へのLLCの延伸は、LLCがダイ又はドクターブレードを 用いて適用される場合、達成され得、ここで後者のドクターブレードは、ブレー ド又はシリンダー型のものであり得る。 染料溶液(II−VI)はさらに、水混和性有機溶媒の外に、非イオノゲン性界面 活性剤、結合剤及びフィルム形成試薬を含むことができ、そして次のものが使用 され得る:ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸及び そのエーテル、ポリアクリルアミド、ポリエチレンオキシド、及びポリエチレン グリコール、 ポリプロピレングリコール、及びそれらのコポリマー、セルロースのエチレン及 びオキシプロピルエステル、カルボキシメチルセルロースのナトリウム塩、等。 さらに、安定性を改良するために、染料溶液は、アミドシリーズのヒドロトロー プ添加剤、たとえばジメチルホルムアミド、リン酸のアルキルアミド、カルバミ ド及びそのN−置換誘導体、N−アルキルピロクドン、ジシアンアミド、及びま た、それらの混合物、及びアミド及びグリコールの混合物を含むことができる。 染料(II−VI)はまた、一般式(I)の二色性アニオン性染料の非有機塩と組 合して、複屈折異方性吸収層を形成するためにも使用される。 染料溶液(II−VI)を生成するためには、多くの技法が使用され得る。 1つの技法は、異なった塩基を用いての、二色性アニオン染料の適切なカルボ ン酸、ホスホン酸又はスルホ−酸の希釈溶液の連続的な段階的中和から成り、そ の中和における塩基は次のものが使用され得る:金属水酸化物、脂肪族又は複素 環式アミン、又はアンモニウムの四−置換されたカチオンの水酸化物。染料の使 用される酸は、無機塩から事前に清浄され、たとえばそれらは塩酸により洗浄さ れ、そして続いて、100℃で乾燥せしめられる。 他の技法は、60℃を越えない温度での、計算された量の適切な塩基を有する二 色性アニオン染料のアンモニウム塩溶液の加熱から成り、ここで前記温度で、開 放されたアンモニアが揮発し、そして適切な混合された塩が形成され、ここでカ チオンの1つはアンモニウムカチオンであろう。また、イオン交換樹脂又は膜技 法を用いてのカチオン交換の通常の反応が使用され得る。 有機カチオンを含む二色性染料の不斉塩を調製するために適切な 第3の普遍的技法は、二色性染料溶液の同時精製を可能にする膜技法を用いての 種々のイオンの交換から成る。 イオノゲン基又はそれらの混合物を含んで成る二色性染料と少なくとも1モル の界面活性イオン、又はそれらの混合物との会合物を得るためには、多くの技法 が使用され得る。 1つの技法は、置換基の1つとして、8〜10個の炭素原子有する炭化水素基を 含む四置換されたアンモニウムカチオンの脂肪族又は複素環式アミン又は水酸化 物を用いての、二色性アニオン性染料のそれぞれの酸性形の希釈されて溶液の中 和から成る。使用される安色酸は、無機塩から前記のように精製され、たとえば それらは塩酸を用いて洗浄され、そして続いて、100℃で乾燥される。 他の技法は、開放されたアンモニアが揮発し、そして適切な会合物が形成され る、60℃を越えない温度で、適切な界面活性塩基を有する、二色性アニオン性 染料のアンモニウム塩の溶液の加熱から成る。また、イオン交換樹脂及び膜技法 を用いてのカチオン交換の通常の反応が使用され得る。 イオノゲン基又はそれらの混合物を含んで成るいづかかの二色性染料と少なく とも1モルの界面活性剤又はそれらの混合物との会合物を得るために適切な第3 の方法は、種々のイオンと界面活性イオンとの交換から成る。前記変換は、イオ ノゲン基又はそれらの混合物を含んで成る二色性染料と少なくとも1モルの界面 活性イオン又はそれらの混合物との会合溶液の所望しない非有機、及び有機不純 物からの同時精製を可能にする膜技法を用いて行なわれ得る。膜精製の間、溶液 中へのコンプレキソン、たとえばトリロンB又は異なった型のクラウン−エーテ ルの導入は、微小粒子及び沈殿物の形成の原因でもあり得る多価カチオン(Ca, Cu,Al、等)の排除を可能にする。 異なった技法が、概して、ほとんどの有機溶媒に容易に溶解できない、イオノ ゲン又は親水性基、又はそれらの混合物を含まない水−不溶性二色性染料及び/ 又は顔料から偏光膜を形成するために使用され得る。 従って、バット染料、アントラキノン誘導体、ペリノン及びポリシクロキノン 化合物に基づいての偏光膜の形成は、実質的には、次の方法により実施され得る : ・リオトロピック液晶状態で存在することができる、前記染料(バットソール 型)の還元形の非有機及び有機硫酸エーテルの溶液の、同時延伸作用による支持 体表面上への適用。従って、硫酸エーテルの形成された延伸層はさらに、酸化加 水分解にゆだねられる。それにより、すでに水不溶性である染料の延伸された層 が、その表面上に形成される。 ・また、リオトロピック液晶状態で存在することができる、種々の塩(非有機 及び有機)の溶液の形での還元形の前記染料(ロイコー化合物型の)の、同時延 伸作用による支持体表面への適用。従って、形成される層はさらに、化学的又は 電気化学的酸化にゆだねられ、それにより、すでに水不溶性である染料の層が形 成される。 ・3,4,9,10−ペリレンテトラカルボン酸(PTCA)のジフェニルジイミド 及びジペンズイミダゾールの水不溶性対称及び不斉誘導体に基づいて偏光膜を製 造するためには、また、リオトロピック液晶状態で存在することができる、非有 機及び有機塩溶液の形での1,1’−ビナフチル−4,4’,5,5’,8,8 ’−ヘキサカルボン酸(BHCA)の適切な誘導体が使用される。さらなる化学的及 び電気化学的還元処理、又はUF−放射線においては、BHCAの誘導体が循環され、 PTCAの誘導体の延伸された層が形成される。 ・顔料に基づいて偏光膜を形成するのに適切なさらなる技法は、 硫酸又は種々の濃度のオレウムにおける二色性染料及び/又は顔料のリオトロピ ック液晶溶液の、同時延伸作用による支持体表面上への適用から成る。水不溶性 の延伸された層の形成は、水による酸の続く注意した希釈において生じ、前記希 釈は、100%の湿度が層上に創造される場合に行なわれ得る。 剪断力の作用下での支持体表面上での複屈折層の形成は、ダイ又はドクターブ レード(これは、ナイフ又はシリンダー型のものであり得る)を用いての溶液の 適用により実施され得る。 複屈折層の形成においては、適用期間が制限されない場合に使用され得る、磁 気、電磁及び静電場が利用され得、又は偏光膜の製造のためには、希釈溶液が使 用される。 金属錯体染料に基づいて複屈折層を得るためには、染料が支持体表面上に直接 的に蒸着される。このためには、予備支持体上に、金属酸化物の延伸された層が 適用され(方向づけされた蒸着による)、この後、表面は適切な染料の溶液によ り処理される。それにより、本発明の偏光子の干渉型を製造するために特に適切 な、水不溶性金属錯体染料の超薄型延伸層が形成され得る。 水−不溶性二色性染料及び/又は顔料に基づいて複屈折層を得るためのより一 般的な技法は、0.5mcmよりも大きくなく、そして20以下の長さ−直径比を有する 異方性粒子を生成するために前記染料の分散により得られる特定の出力形の調製 から成る。そのような出力形の安定化のためには、種々の界面活性剤が使用され る。そのようにして生成された出力形に基づけば、異なった溶媒、たとえば水、 モノマー、又はポリマー溶融体において、高く濃縮された(二色性染料及び/又 は顔料、又はそれらの混合物の含有率;10%よりも低くなり)システムが調製さ れる。それにより、そのようにして調製されたシステムはまた、液晶状態で存在 することができる。そのよ うな高く濃縮されたシステムが、同時延伸作用及び続く適切な処理を伴って、支 持体表面に適用される場合、複屈折異方性吸収層が生成される。溶媒が除去され る場合(蒸発又は希釈、続く洗浄による)、二色性染料及び/又は顔料から主に 成る偏光膜が形成される。この場合、モノマー又は溶融されたポリマーが使用さ れ、より厚い(5mcmまでの)偏光膜が形成される。 適用方法の選択は、有機又は非有機ガラス、蒸着された半導体層を担持するシ リケートガラス、又は蒸着されたアルミニウム層を担持する珪素プレートの固体 、平ら、球状、又は円柱状の透明な又は反対性表面であり得る支持体のタイプに より決定される。 複屈折異方性吸収層を形成するためには、次の標準方法が使用され得る:回転 シリンダーの形でのローラードクターブレードによる適用、スリットダイによる 適用、及び他の方法。最後に、種々の被膜を適用するための標準の装置、たとえ ばワニスペイント産業のユニット、及びまた、種々のタイプのプリント装置、た とえばフレキソ印刷ユニットが使用され得る。 ある場合、適用の後、その適用された層は乾燥され、その結果、溶媒が排除さ れるであろう。他の場合、たとえば熱可塑性ポリマー材料及びガラス化材料に関 しては、適用された層は、適用の後、冷却される。 適用の間、液晶相を形成する材料の複屈折異方性吸収層を得るために使用され 得る他の方法は、液晶相を延伸するために前記のようにして調製された支持体上 への、アメリカ特許第2,524,286号に従ってのそのような材料の適用から成る。 そのような技法の1つは、LC−ディスプレーの製造において熱互変性低分子液晶 混合物を延伸するために知られ、且つそのために使用されるそのようなこすりつ けの前、その上に適用される支持体又は薄ポリマー層の一方向性こ すりつけである。 複屈折異方性吸収層を得るためのもう1つの技法は、直線偏光紫外線により層 を照射することによって、この又は他の態様で適用される層の光−延伸の既知技 法である。 温度転移形高分子材料からの複屈折異方性吸収層の応用のために、多数の平面 ダイを有し1走行で必要な厚さの異なる高分子材料の数層を設けることが可能な ものを含む、エクストルーダが使用可能である。 複屈折異方性吸収層に基づいて形成するための上記の材料、それらの製造及び 技術はまた、提案された発明において以下に記載の他のタイプLCI素子の偏光 子の製造においても使用可能である。 干渉形の提案された偏光子は結合された形態の両方、即ち、「反射」と「透過 」の両方で動作するもの、及び「反射」のためにのみ動作するもの、によって実 施され得る。これらの場合において、実施例は少なくとも光反射層を備えた偏光 子である。光反射層は金属層でよい。光反射層を適用することにより、偏光子の 境界から、干渉のための、最適な反射率を選択することも可能になる。 偏光子の製造において、基板上に設けられる最初の層は、光反射層(部分的ま たは完全な反射鏡)と、複屈折異方性吸収層の両方でよい。 反射層は、金属と、高い屈折率と低い屈折率を持つ中間層材料の多層誘電体鏡 の形態との両方で作られる。 金属コーティングは、例えば、真空中の熱蒸着によって簡単に設けられるが、 そのようなコーティングによって光の吸収が起こり、それにより偏光子の伝送( 反射)が減少する。反射する金属コーティングを得るためには、アルミニューム (Al)、銀(Ag)、および他の金属が使用できる。 多層誘電体鏡の場合は、光の吸収はないが、それらの適用のプロセスはかなり 複雑で困難である。高い屈折率を持つ材料としてTiO2,MgO,ZnS,ZnSe,ZrO2,氷 晶石、および高分子がそれらのコーティングのために使用でき、低い屈折率を持 つ材料としてはSiO2,Al2O3,CaF2,BaF2,AIN,BN,または高分子が使用できる。 基板または偏光子の上に反射層を設けるために、例えば、続く熱処理と対にな る真空中での熱蒸着、マグネトロン・スパッタリングといった標準的な方法が使 用できる。 「光透過器」として、または「反射器」として動作する偏光子をその上に設け ることができる基板材料としては、動作波長範囲で透過性のある任意の材料、例 えば、水晶、ガラス、高分子その他が使用可能である。 「反射」のためにのみ動作する偏光子をその上に設けることができる基板材料 としては、動作波長範囲で透過性のある任意の材料、例えば、水晶、ガラス、高 分子とともに、動作波長範囲で透過性のある他の材料、例えば、半導体材料、ガ ラスセラミック、プラスチック、その他が使用可能である。 特定されない厚さ、即ち、少なくとも1つの直線偏光の光成分については偏光 子の出力における干渉の極値が現れない厚さ、を持つ上記複屈折異方性吸収層を 使用することにより、2色性のタイプの偏光子を生成することもできる。 複屈折異方性吸収層は、ある方向に整列した分子の染色層であり、分子の平面 とその中のダイポール・モーメントは、表面の異方性または機械的な配向の方向 のいずれかによって決定される方向に比べて均等に方向付けられている。 上記偏光子の動作原理は、上記層を通過する非偏光の光が染色発色団システム により部分的に吸収されるということに基づいている 。それにより、電磁界の電気成分の振動方向が光伝送ダイポール・モーメントに 垂直な光波の部分のみを通す(図4)。 使用された染料に応じて、請求の範囲の偏光子はスペクトルの可視部分におい てだけではなく、UF領域、および近IR領域においても偏光を与えることができる ことに着目すべきである。UF領域でのみ吸収をする2色性色素を使用する場合は 、複屈折層は相遅延層として使用できる。 本発明による2色性のタイプの偏光子の本質的に際だつ特徴は、少なくとも1 つの複屈折異方性吸収層が染料(II−IV)、および/または水に不溶な2色性色 素で形成されており、および/またはイオン性または親水性のグループを含まな い顔料で形成されているという環境である。 上記染料の使用により、 ・偏光特性が向上し高い効率の欠陥のない偏光子を作ることができ、それは、PC T出願第Wo 94/28073号(1994)の知られた偏光子と比べて、低い伝導度とは 別に、LC配向に対する制御された能力をもっている; ・良好な誘電体の性質とは別に、湿度の影響に対する高い耐性を表す偏光子を作 ることができる; ・高効率の偏光子の製造に適する染料の種類の幅を広げることができる。 PCT出願第Wo 94/28073号(1994)の知られた偏光子の製造に使用される染 料と異なり、上記染料(II−IV)を使用すると2色性色素の分子内の疎水性-親 水性のバランスを調整でき、これは濃度転移形液晶(LLC)相を生成するため には非常に重要である。こうして、ある疎水性-親水性のバランスの生成はその ような染料分子の分子を越える集合体を生成し、それにより、そのような集合 体がある濃度に達すると、溶液は配向された液晶状態に転移する。溶液がLLC 状態で基板表面に与えられると、配向動作と同時に、複屈折異方性吸収層が形成 でき、その中で2色性色素の分子の発色団システムの相とその上の光伝送ダイポ ール・モーメントとが、表面異方性、または磁界または電磁界により行われる効 果のいずれかにより決定される方向に対して配向される。 有機イオン(染料II−IV)の少なくとも1つのイオンを使用すると、疎水性- 親水性のバランスに与える強い影響が見られる。この事情に起因して、非有機的 な、対称的塩または酸の形態にあるLLC相を形成できない染料溶液用の、安定 な濃度転移形液晶相が得られる。 例えば、SURで染料を凝縮した結果、異方性の形態を含むミセル(集合体) の形成を伴って集合させられるべきSURの特性と特異性を持つ関連物が形成さ れる。 イオン性のグループの数と、表面活性イオンのモル比と、タイプとに依存して 、2色性色素の分子は、親水性(極)成分と、SURの疎水性の部分の機能を遂 行することの両方であり得る。こうして、2色性色素分子内の2つのイオン性の グループの存在において、上記染料が表面活性イオンの1モルで凝縮されると、 表面活性関連物が形成され、その中で親水性の部分が染料分子に直接的に結合し ている。両性のSURの1モルを持つ1つのイオングループで2色性色素が凝縮 されると、染料分子が疎水性部内にある関連物が形成される。異なるタイプの表 面活性イオンと表面活性材を持つ様々なタイプの染料の異なる組み合わせの例を 以下に示す。そのような凝縮の結果、異方性の形態のものを含むミセル(集合体 )の形成を伴って集合するSURの特性と特異性を持つ関連物が形成される。そ れにより2色性色素は集合体即ちミセルの周辺と内部の両方に配置 される。 染料分子が内部に配列される場合は、液晶のための良好なオリエンタントであ るSUR炭化水素基が複屈折異方性吸収層の表面に配置される。基の構造を変化 させることにより、PCの配向能力を変化させることができ、これは異なるタイプ のLCIの製造のために重要である。 請求の範囲の光偏光子の偏光コーティング内の低移動度の有機イオンの存在に より、低い伝導度が得られ、これはエネルギー消費を低減し、それにより液晶装 置の寿命を長くする。 表面活性の性質はまた、LLCの構成要素の良好な湿潤性と接着性とを与える 。その構成要素を基板表面に塗った後、そして、乾燥した後に、5%を越えない 変動の厚さをもつ、欠陥のない均質なPCが生成される。 少なくとも1モルの表面活性イオン、またはそれらの混合物を持つ、イオン性 のグループ、またはそれらの混合物を備える2色性色素(II−IV)の関連物を使 用することにより、2色性色素分子内の疎水性-親水性のバランスを制御するこ とができる。こうして、ある疎水性-親水性のバランスの生成はそのような染料 分子の分子を越える集合体を形成するための条件の1つであり、それにより、そ のような集合体がある濃度に達すると、溶液は配向された液晶状態に転移する。 表面活性イオンを持つ2色性色素に基づく関連物の特性の1つは、可溶化現象 によって、水中および水成有機イオン媒体中で水に溶解しない染料の溶解度を増 大する能力であり、これにより、少なくとも1つの複屈折異方性吸収層がさらに 可溶性の2色性色素を含む偏光子を得ることができる。構造に依存して、可溶性 染料の光転移のダイポール・モーメントは関連する染料の光転移ダイポール・モ ーメントと、またはある角度でそれに対して配置されたものとのいずれかと一致 することができる。これは表面活性イオン構造と染料のモル比、即ち、1つの関 連物内のSURに依存する。 疎水性-親水性のバランスに影響する動作とは別に、有機イオン、特に表面活 性剤の性質は、異なる溶媒内の関連物の溶解度に強い影響を与え、このことは、 翻って、集合体の寸法とLLC相の形成のプロセスに影響する。 こうして、疎水性-親水性のバランスと、少なくとも1モルの有機イオンおよ び/または表面活性イオンまたはそれらの混合物を持つ、イオン性のグループま たはそれらの混合物を含む2色性色素関連物の溶解度と、の2つの要素の変化に より、形成プロセスとLLC相のタイプとの両方を制御可能になる。分子の配向 の度合いも、上記の環境に、依存し、したがって、LLCの構成要素が基板表面 に設けられて、続いて溶媒を除去した後に形成されたPCの偏光パラメータに依存 する。 水に不溶な2色性色素および/またはイオン性即ち親水性のグループを含まな い顔料に基づいて複屈折異方性吸収層内にイオンが存在しないことにより、請求 の範囲の偏光子の高い誘電性が得られ、それによりエネルギー消費の低減がなさ れて、液晶の寿命が延びる。 低い伝導度とは別に、複屈折異方性吸収層を形成するために、水に不溶な2色 性色素または顔料を用いることにより、湿度への影響に対する高い耐性が得られ る。さらに、請求の範囲の偏光子の製造には、市販の染料および顔料が使用でき るので、特別の染料または顔料の合成は必要でない。 染料(II−IV)および/または水に不溶な2色性色素および/またはイオン性即 ち親水性のグループを含まない顔料またはその混合 物を使用することにより、熱的に安定で光に強い偏光子の生成が可能になり: ・その中で、少なくとも1つの複屈折異方性吸収層が、有機材料または非有機材 料のフィルムまたはプレートの形態で基板表面上に形成され; ・それは、基板として、複屈折プレートまたはフィルムを備えており、少なくと も1つの複屈折異方性吸収層は前記プレートまたはフィルムの主光軸に対して4 5°の角度で形成されており; ・その中で、少なくとも1つの複屈折異方性吸収層は、色と偏光軸方向に関して 互いに完全に異なる、特定されない形態の少なくとも2つのフラグメントを備え ており;・それはさらに、色と偏光軸方向に関して互いに異なる、特定されない 形状の少なくとも2つのフラグメントを含む少なくとも1つの複屈折異方性吸収 層を備えており; ・それはさらに、複屈折異方性吸収層の間に、無色または色のついた材料の透明 な層を備えており; ・それはさらに、非有機材料および/または様々な高分子材料で形成された配向 用の層を備えており; ・それはさらに光反射層を備えており; ・その中で、光反射層は金属層である。 少なくとも1つの複屈折異方性吸収層か、色と偏光軸方向に関して互いに異な る、特定されない形状の少なくとも2つのフラグメントを含むを備えている、偏 光子の製造のために、以下の技術が使用できる:等方性偏光ベクトルを持つ層の 上の印刷方法(フレクソ−ステンシリング(flexo-stenciling)、レリーフ、ま たはグラービュア(gravure))を用いて、必要な形態の水に不溶なワニスの形 態でパターンが形成される。ワニスが硬化された後に、露出層は適 当な溶媒(水、又は水と有機溶媒との混合)により洗浄される。次いで、上記ワ ニスでできた固定の複屈折層とは異なる色および偏光ベクトルを持つ他の層が再 び基板上に形成される。次いで必要な形態のワニス層が再び形成され、それによ り前のパターンが露出されたままになる。硬化とそれに続く洗浄の後に、偏光パ ターンが生成され、該パターンは異なる色および偏光ベクトルの方向の部分を有 する。 マルチローラ印刷の異なる技術を用いることにより、「ロール・トゥ・ロール 」技術に従って多色偏光パターンが形成される。 ワニスの代わりに様々な接着剤を用いることにより、自己接着偏光フィルムの 形態の偏光子を製造できる。バターンの形態で複屈折異方性吸収層上に接着剤層 を形成することと、これに続く任意の表面上の複屈折異方性吸収層の転移とが、 偏光子を外部に配置するLCインディケータの製造と、異なる種類の商標の保護の ため、または、例えば、宣伝における異なったカラー効果を得るためとの、両方 に使用できる。接着技術に従って偏光子を製造する場合は、逆の転移技術も可能 である。すなわち、必要な形態の接着層を必要な表面上に形成し、その上に接着 剤の上の複屈折異方性吸収層が形成されたフィルムを形成し、分離する。接着剤 層の形態にのみ対応する複屈折異方性吸収層はフィルム表面から除去されて必要 な表面になる。 染料(II−IV)および/または水に不溶な2色性色素および/またはイオン性即 ち親水性のグループを含まない顔料またはその混合物を使用することにより、複 屈折異方性吸収層の層毎の形成の技術を実現することができる。この結果、次々 と形成された数個の複屈折異方性吸収層であって、各々が色および偏光ベクトル の方向に関して異なることができる非特定的な形状の数個のフラグメントから なるもの、から成る偏光子を生成できる。 同一の染料または他の染料の次の層が、無色または色付きの前の層の上にまた は透明材料の中間層の上に形成される。これにより、次の層の偏光ベクトルの方 向は、前の層の偏光軸の方向に対して非特定的な方法で変化させられ得る。 偏光光面が偏光子内で回転すると、ある領域が明るくなり、他の領域が染色さ れ得る(単色偏光子の場合は、同一の色の異なる部分は異なる偏光ベクトル方向 をもつ)。偏光光平面の回転において、異なる染料を使用する場合は、異なる色 パターンにおける染色の消滅(異なる色の領域が同一の偏光ベクトル方向をもう 場合)、または偏光ベクトルに関して互いに異なる、異なる色の部分の順次の消 滅、のいずれかが起こる。偏光子の上に引用した例は、商標の保護とセキュリテ ィのために、特別の色効果を生成する態様(宣伝、ショウビジネス)において、 興味がある。 複屈折異方性吸収層を形成するに際して、基板表面は、光学的に活性なものを 含む異なるサブ層、例えば、光反射、特に、拡散反射、複屈折または相遅延層を 用いて、さらに変形できる。こうして、基板と偏光コーティングの間に、やはり 伝送層として働くことができる光反射層をさらに備える偏光子が生成される。 例えば、ポリビニル・アルコールまたはポリエチレンテレフタレートの4分の 1波長複屈折プレートまたはフィルムが基板として使用される場合で、複屈折異 方性吸収層が基板の主光軸に対して45°の角度で設けられる場合は、円偏光子 が生成される(図5において、aおよびbはそれぞれ、通常光線および異常光線の 方向であり、nは偏向層の偏向ベクトルの方向である)。複屈折層の厚さは次の 条件を満たさなければならない。 d(n0e)λ/4+mλ/2 ただし、dはポリマフィルムの厚さであり、nOおよびneは通常および異常屈折率 であり、λは波長であり、mは整数である。 複屈折異方性吸収層が高分子フィルム(ポリエチレンテレフタレート、チラセ チルセルロース、その他の透明なフィルム材料)上に形成されると、自己接着フ ィルムを含む、フレキシブル偏光フィルムの形態の偏光子が得られる。請求の範 囲の偏光子の製造のために、ポリビニルブチレラルを含む、異なる接着剤が、積 層構造の様々なタイプ、例えば、自動車産業および建設業にとって興味のある、 3重ガラスまたは多層フィルムを生成するために使用できる。 表1〜3に示されるように、本発明の二色型の偏光子は、PCT WO94/28073(199 4)の偏光子に比較して、導電性は別として、湿気の効果に対する高い耐性及びよ り高い二色比を示す。 さらに、本発明の偏光子は、それらの領域を通して均質な性質を有し、その性 質の1つの基準は、5%を超えない、複屈折異方性吸収層の異なった厚さである 。 表1:一般式(II)の二色性アニホン性染料の有機塩に基づいての光偏光子の特 徴 * PCT WO94/28073(1994)出願に従っての既知の偏光子 2:一般式(III)の二色性アニオン性染料の不斉混合塩に基づいての光偏光子 の特徴 * PCT WO94/28073(1994)出願に従って知られている偏光子 表3:一般式(IV−IV)の、イオノゲン基を含む二色性染料と界面活性剤との含 合物に基づいての光偏光子の特徴 * PCT WO94/28073(1994)出願に従って知られている偏光子 波長が長くなるにつれて上昇する少なくとも1つの屈折率を有する複屈折異方 性吸収層に基づいての二色性及び干渉型の上記偏光子が50%よりも高くない入射 光エネルギーの利用すると思われることを注目すべきである。 異常分散性を有する複屈折層の使用はまた、偏光線への非偏光線の実質的に完 全なエネルギーの転換を提供する偏光子の生成を可能にする。 前記型の本発明の偏光子は、次のものを包含する: ・偏光子に対する光入射を構成する多数の非偏光光線を、同数の同一組の異な った偏光光線に分割するための偏光手段、及び ・前記多数組の異なった偏光光線により包含される少なくとも1 つの多数の同一の偏光光線の偏光を変えるための手段。 少なくとも1つの光学的等方層に隣接する少なくとも1つの複屈折異方性吸収 層からそれぞれ成る集束光学要素の形で実行される前記偏光手段は、断片化され た半透明複屈折性プレートの形で実行される偏光変化のための前記手段により光 学的に位置合せされる。 単純化のために、前記偏光子は、透過型偏光手段に基づいて偏光子として言及 されるであろう。 この偏光子の特徴はまた、偏光された光波長が上昇するにつれて上昇する少な くとも1つの屈折率を有する少なくとも1つの複屈折異方性吸収層の、前記偏光 手段における使用でもある。 本発明の偏光子の前記光束光学要素は、振幅区分プレートの形で順に実行され 得る、区分プレートの形で実行され得、ここで偶数区分は少なくとも1つの光学 的等方層に隣接する少なくとも1つの複屈折異方性吸収層を包含し、そして奇数 区分は光学的等方層から製造される。 位相ゾーンプレートは、請求の範囲に記載された偏光子のゾーンプレートの他 のバージョンとして役立ち得る。 位相ゾーンプレートは、そのプレートに沿うものを含めて、少なくとも一つの 方向に沿って変化する少なくとも一つの屈折率を持ち得る。 位相ゾーンプレートの少なくとも一つの屈折率は、非単調変化を含む所定のル ールに従ったプレート面に沿う方向に変化し得る。 請求の範囲に記載された偏光子の偏光変化手段は、偏光された光の波長の増加 に伴って大きくなる少なくとも一つの屈折率を有する区分された半透明の複屈折 異方性吸収層も備え得る。 透過型の偏光手段に基づく偏光子の少なくとも一つの複屈折異方性吸収層の少 なくとも一つの屈折率は、偏光された光の波長に直接 に比例し得る。 請求の範囲に記載された偏光子の少なくとも一つの複屈折異方性吸収層は、少 なくとも一つの直線偏光された光成分のために偏光子の出力における干渉エクス トリマムが実現されるような厚さを持ち得る。それによって、少なくとも一つの 複屈折異方性吸収層の厚さは、光学的な偏光子の出力において、透過光の一つの 直線偏光成分の干渉の最小値および透過光の他の直角の直線偏光成分の干渉の最 大値を獲得する条件を満足する。 請求の範囲に記載された偏光子の製造のために、層は、光学的に等方性の層の 屈折率が複屈折層の屈折率の一つに一致するか、または、最大限に近接するよう に選ばれる。 好ましいのは、偏光変化手段が、区分された半透明の二分の一波長複屈折板、 または、焦点合わせ光学要素の焦点に或いは焦点から外れて配置された部分を有 する層の形態で実施されることを特徴とする偏光子である。 偏光変化手段において、『収色性の』の二分の一波長または四分の一波長板( 円偏光子用)が使用されるとき、位相キャリーオーバー(または、トラベル差) は波長の二分の一または四分の一であり、光がそのような板を透過すると、動作 範囲の全ての波長に対して、波長の二分の一または四分の一だけ位相が変化する 。 他のバージョンは、偏光変化手段が、焦点合わせ光学要素の焦点から外れて配 置された四分の一波長板の部分を有すると共に、通常および特別の光線の間の位 相差を規定する板の部分を有する区分された半透明の複屈折板の形態で実施され ることを特徴とする偏光子であり、通常および特別の光線は、焦点合わせ光学要 素の焦点に配置された四分の一波長板の部分によって規定された位相差からπだ け位相がずれている。 請求の範囲に記載された偏光子の偏光変化手段は、ねじれ構造を有する液晶の 区分された半透明の重合されたプレーナ層の形態で実施され得る。ここで、プレ ーナ層の厚み内における液晶の光学的軸は、焦点合わせ光学要素の焦点に或いは 焦点から外れて配置された部分に対して90°の角度だけ回転される。 請求の範囲に記載された偏光子は、該偏光子に入射する非偏光の光の各偏光成 分に対する異なる焦点倍率を有する焦点合わせ光学要素として形成された偏光手 段を備えるフィルムまたはプレートの形態で実施され、また、同様に偏光された 少なくとも一つの複数の光ビームの偏光変化手段に光学的に整合され得る。前記 焦点合わせ光学要素は、ボリュームまたは位相収集レンズ、すなわち、ゾーンプ レート光学[G.S.Landsberg,Optics,rev.and suppd 5th ed.,<<Nauka>>:発 表者,モスクワ,1976]より知られる様々な種類として形成され得る。 請求の範囲に記載されたバージョンは、異常分散が観測される波長領域につい て、動作する波長領域とは異なっており、そのバージョンは、複数のボリューム または位相レンズを表す少なくとも一つの複屈折異方性吸収層を備えた偏光子で ある。この場合、上記レンズを形成するために適切なダイを使用することによっ て、赤外線領域における偏光を提供する偏光子を作成することも可能となる。 焦点合わせ光学要素は、レンズを有するだけでなく、ミラーおよびそれらの結 合をも備え得ることに注意しなければならない。 本発明の特徴となる構成は、偏光子の製造に、異常分散を有する少なくとも一 つの複屈折異方性吸収層を使用することであり、また、偏光手段により構成され 、さらに、少なくとも一つの偏光された光成分の偏光を変化させるための手段の いくつかの例として実施されることである。 上記の異常分散を有する複屈折異方性吸収層を形成するために、上記の請求の 範囲に記載された干渉およびダイクロイック(dichroic)型の偏光子に使用される 材料および技術が利用され得る。 上述されたバージョンは、提案された光偏光子の複屈折層を形成するための他 の材料の使用の可能性を制限するものではない。 方向性を有する複屈折材料を適用するための技術の選択は、使用される材料に 依存し、本発明の重要な特徴ではない。本発明に係る複屈折材料の偏光層は、平 らなものだけでなく、集束するものであってもよく、例えば、レンズやミラーに より形成してもよい。 写真製版技術は、区分された複屈折層を作成するために利用され得る。屈熱性 のポリマー材料、および、多く(10〜100個)の平らなダイを有するものを 含み、一度の動作で異なるポリマー材料の所望の厚みの多数の層を適用すること を許容するエクストルーダ(extruder)の適用が利用され得る。 使用されたどのような技術によっても最終結果は、異なる軸に対して変化する 屈折率は別として、吸収率の最適値と共に二色性も備えた複屈折材料の方向性を 有する層でなければならない。 請求の範囲に記載された偏光子の動作原理は、以下に述べられる。非偏光の光 線は、そこに適用される偏光手段を備えるフィルムまたはプレートとして形成さ れた偏光子の第1の平らな面に入射される。この非偏光の光線は、該入射する非 偏光の光の各偏光成分に対する異なる焦点倍率を有する焦点合わせ光学要素とし て形成された偏光手段を通って、異なるように偏光された光ビームの複数のペア に分割される。結果として生じる異なるように偏光された光ビームの複数のペア は、同時に、2組の複数の偏光された光ビームであり、その各々において、光は 前記複数からなる全ての光ビームに等しく偏光される。さらに、これら複数の光 ビームの一つは、前記異な るように偏光された複数の光ビームにより構成され、例えば、同一の面において 直線偏光された平行の光ビームの形態を持ち得る。また、他の複数の光ビームは 、例えば、その光ビームが直線偏光されて焦点合わせ光学要素の焦点に集束する 第1の複数のビームの偏光面に直角な面において直線偏光された光として形成さ れ得る。他の複数の光ビームは、偏光子の第2の平らな表面に規則的に配置され 、その第2の表面は、その表面に適用される区分された半透明の複屈折板として 形成され、等しく偏光された少なくとも一つの複数の光ビームの偏光変化手段を 備える。等しく偏光された少なくとも一つの複数の光ビームは、偏光子の第2の 表面に配置された前記偏光変化手段を通り、その偏光は、その偏光状態が、偏光 子の第2の境界を介して通った他の複数の同様に偏光された光ビームの偏光状態 に一致するように変化する。その結果、透過型の偏光手段に基づく偏光子を出る 両方の複数の光ビームは、同様に偏光されることになる。さらに、偏光子の外に 出るこれら両方の複数の光ビームは、特に、同じ方向において、光偏光子に入射 する光のエネルギーの少なくとも50%以上の量の光エネルギーを伝達する。 非偏光の放射を偏光にするものの全てのエネルギーの50%以上の変換を提供 する請求の範囲に記載された偏光子の他のものは、反射型の偏光手段に基づく偏 光子である。 前記偏光子は、少なくとも一つのフィルムまたプレートの形態により実施され 、そこでは、入ってくる非偏光の光を複数の同等の光ビームに変換する手段、非 偏光の光ビームを異なる偏光を有する偏光された透過および反射光ビームに分割 する偏光手段、および、偏光手段から反射される光ビームの偏光および方向を変 化させる手段が適用される。 請求の範囲に記載された偏光子の特徴となる構成は、偏光手段が 偏光された光の波長が増加すると少なくとも一つが増大する屈折率を有する少な くとも一つの複屈折異方性吸収層、すなわち、一定で層の厚さを横切り、所定の ルールに従って層の厚さの横切り方を変化させる光学的軸方向を有する複屈折層 を備えることである。 使用された複屈折層によれは、非偏光の光ビームの分割は、直角偏光および光 を伴い直線偏光されて透過或いは反射されるように、または、偏光回転の異符号 および光を有し円偏光されて透過或いは反射されるように行われ得る。 請求の範囲に記載された偏光子の反射光ビームの方向および偏光変化手段は、 区分された金属ミラーを備え得る。 好ましい偏光子は、その偏光手段が少なくとも一つの複屈折異方性吸収層、ま たは、一定で,層の厚さを横切り,光学的軸を有する複屈折層を含んでおり、そ こで、区分された金属ミラーの上流には四分の一波長板が配置されている。 また、好ましい偏光子は、偏光された光の波長の増加に伴って大きくなる少な くとも一つの屈折率を有する少なくとも一つの複屈折異方性吸収層を備えている 。 さらに、好ましい偏光子は、複屈折層の異方性吸収が観測されると、従って、 異常分散の条件が満たされると、波長領域は、動作範囲の波長に一致する。 最も好ましいのは、偏光された光の波長に直接比例する少なくとも一つの屈折 率を有する複屈折異方性吸収層の使用である。 本発明に係る偏光子は、少なくとも一つの複屈折異方性吸収層、および、請求 の範囲に記載された干渉型の偏光子を製造するために使用される材料で形成され た層を備え得る。 上述したバージョンは、提案された偏光子用の複屈折異方性吸収層を形成する ための他の材料の使用を制限するものではない。 提案された偏光子における複屈折異方性吸収層は、固体および液体の両方であ っても良い。 一定で,層の厚さを横切り,光学的軸の方向を有する複屈折層を製造するため に、一軸または二軸のテンションで延伸され、動作波長範囲で透過する(光を吸 収しない)ポリマーフィルムが使用され得る。 所定のルールに従って層の厚さの横切り方を変化させる光学的軸方向を有する 複屈折層の一例は、コレステリック(choresteric)液晶である。そのような層に おいて、スティック形状の分子の長軸に対応する光学的軸は、大きな屈折率に対 して、層の面に平行になるように残る厚さを横切る金属運動で回転される。その 厚さを横切る距離は、光学的軸が360°だけ全回転させるとき、コレステリッ クのスパイラルピッチとして参照される。光学的軸の回転の方向は、スパイラル が右回りとして参照される時計回り、および、スパイラルが左回りとして参照さ れる反時計回りの両方あり得る。そのようなコレステリック液晶の複屈折層の構 造(構成)は、プレーナ構成、すなわちグランジャン構成(Grandjean texture) として参照される。プレーナ構成のコレステリック液晶の複屈折層における主た る光学的特性は、次の通りである。 1.光が層に入射されるとき、光の選択的な反射領域があり、その領域のスペ クトル位置はコレステリックのスパイラルピッチに比例する。 2.光の選択的な反射領域のスペクトル幅は、屈折率の異方性(すなわち、通 常および特別の屈折率の間の差)に比例する。 3.光の選択的な反射領域内において、或る非偏光の光の円偏光成分は、その 成分の方向はコレステリックのスパイラル回転方向に一致しているが、完全に反 射され、他の非偏光の光の円偏光成分は 、その成分の方向はコレステリックのスパイラル回転方向と反対であるが、層を 完全に透過する。 従って、プレーナ構成のコレステリック液晶は、透過および反射の両方の光に 対する反射型の円偏光子である。そのような層は、非偏光の光ビームを異なる偏 光を有する透過および反射の光ビームに分割する偏光手段として役に立つ、すな わち、偏光手段に含まれ得る。必要ならば、知られている四分の一波長板が円偏 光を直線偏光に変換するために利用され得る。 本発明に係る好ましい偏光子は、偏光手段がコレステリック液晶の少なくとも 一つの層を備えている。 また、本発明に係るさらに好ましい偏光子は、ポリマーのコレステリック液晶 による製造されたコレステリック液晶の少なくとも一つの層を備えている。 コレステリック液晶の少なくとも一つの層は、その層の厚さを横切るコレステ リックのスパイラルピッチの勾配を有し、その結果、100nmよりも少なくな い光の選択的反射バンドのスペクトル幅を有する。 反射型の偏光手段は、3つの異なるスペクトル領域における光の選択的反射バ ンドを有するコレステリック液晶の少なくとも3つの層を備え得る。 入射する非偏光の光を複数の同等の光ビームに変換する手段は、そこに来る光 ビームを偏光子の内部方向に向けて集束する微小レンズまたは微小プリズムのシ ステムの形態として実施され得る。特に、微小レンズシステムは、偏光面を完全 に変換する正のシリンドリカル微小レンズの形態として実施され得る。 本発明に係る偏光子の製造技術は、複屈折層として利用される材料に依存し、 それは発明の特徴として重要ではない。 提案された偏光子の表面の形成において、少なくとも一つの複屈折層を備える 偏光コーティング、および、以下の標準的な方法、すなわち、延伸されたポリマ ーフィルムによる予め修正された薄板、ローラによる液晶における使用された材 料の適用、ドクターブレード(doctor blade)、非回転シリンダとして形成された ブレード、スリットダイを使用する適用、および、他の方法が使用され得る。幾 つかのケースでは、層が適用された後、溶媒を取り除くために乾燥される。他の ケースでは、例えば、熱可塑性のポリマー材料およびガラス変性(vitrify)材料n oために、適用された層はその後冷やされる。 液晶相を形成する材料の複屈折層を得るために使用され得る他の技術は、液晶 相が適用される場合、液晶相の方向付けのために事前に用意された基板上にその 材料を適用することで得られる(米国特許第2524286号(1950))。 これらの技術の一つは、基板の一方向の研磨、または、事前に基板上に適用され た薄いポリマーフィルムの研磨であり、これは、知られており、また、液晶ディ スプレイの製造における屈熱性低分子液晶の混合の向きを合わせるために利用さ れている。 複屈折層を得るための他の技術は、この手法或いは他の手法において、直線偏 光の紫外光による照射を使用した層に予め適用される知られた写真基礎技術であ る。 屈熱性ポリマー材料の複屈折層を適用するために、数個の平らなダイを有する 押出機を含み、および、一度の動作で所望の厚さの異なるポリマー材料の幾つか の層を適用することを許容するエクストルーダが使用され得る。 プレーナ構成のコレステリック液晶の層を製造するために、次の材料、すなわ ち、コレステリ・エステル、光学的に活性なコンパウ ンドで処理されたネマティック液晶、光学的な活性中心が化学的にネマティック 液晶の分子に結合されているチラルネマティック(chiral nematic)と呼ばれるも の、ポリマーのコレステリック液晶、例えば、ポリペプチドおよびセルロース・ エステルの離液(lyotropic)コレステリック液晶が使用され得る。 製造された層は、液体および固体の両方であり得る。層のキュアリング(curin g)は、温度を下げ、溶媒の蒸発により、光誘導による重合を含む重合によって行 われ得る。 入射する非偏光の光を複数の同等の光ビームに変換する手段は、光ビームを集 束する他の手段と同様なボリュームおよび平らなフレネルレンズ(Fresnellense) の両方の微小レンズのシステム、および、微小プリズムのシステムである。微小 プリズムのシステムは、例えば、三角形状のボリュームプリズム、或いは、例え ば、分配された厚さを横切るものおよび表面屈折率を有するフラットプリズム、 および、他の光線を偏光させる手段として構成される。 微小レンズまたは微小プリズムのシステムを製造するために、例えば、大きな 屈折率をゆうするポリマー材料と共にポリマーフィルムによる所望の形状の予め 準備された凹部を満たすモジューリング(moduling)およびキャスティング(casti ng)技術、光誘導による重合および他の技術が使用され得る。 区分された金属ミラーを適用するために、次の標準的な方法、真空における熱 蒸発、その後の熱処理を伴う発散の適用、マグネトロン・スパッタリング、およ び、他の方法が使用され得る。ミラーの適用のために、アルミニウム(Al)、 銀(Ag)、および、他の金属が使用され得る。 反射型の偏光手段に基づく請求の範囲に記載された偏光子の動作の原理は、こ の偏光子の具体例の記述において開示される。 以上において、上記の請求の範囲に記載された偏光子は、情報を表示する様々 な装置に使用され得るものであり、特に、平面ディスプレイを含む液晶表示要素 の製造に使用され得る。 本発明の目的は、液晶表示要素により発生された画像の改良された輝度および 色彩度を提供することである。 この目的は、第1および第2のプレートの間に配置された液晶の層と、偏光さ れた光の波長の増加に伴って大きくなる少なくとも一つの屈折率を有する少なく とも一つの複屈折異方性吸収層とを備え、前記プレートの少なくとも一つは電極 を含む液晶表示要素(LCI)により達成される。 前記層を形成するために、前に請求の範囲に記載された偏光子用のものと同じ 材料および技術が使用される。 高品質の画像は、高い偏光特性を有する干渉型の少なくとも一つの偏光子を備 えたLCI要素によって提供される。 請求の範囲に記載されたLCI要素は、さらに、一つのプレート上に、同時に 電極である拡散反射層、および、該反射層の上に直接、或いは、反射コーティン グ上に適用された誘電性サブレイヤ上に配置された少なくとも一つの複屈折異方 性吸収層を備え得る。 LCI要素の他のバージョンは、プレートの一つの上にカラー要素の付加層が 偏光子とプレートとの間に形成されることを特徴とする。 請求の範囲に記載されたLCI要素の偏光子は、少なくとも部分的に光を反射 する少なくとも一つの層をさらに備え得る。この光反射層は、金属により作られ 得る。 請求の範囲に記載されたLCI要素の少なくとも一つの偏光子の少なくとも一 つの複屈折異方性吸収層は、位相遅延および/または偏光軸方向の面において相 互に異なる要素の形態として実施され得 る。 請求の範囲に記載されたLCI要素の一つの偏光子は、偏光軸が相互に垂直方 向となっている少なくとも二つの異なる色の複屈折異方性吸収層を備え、その一 方の層は他方の層の上に適用され、または、少なくとも一つの中間層がそれらの 層を分割する。そして、他のプレート上で、偏光子は、第1のプレート上の複屈 折異方性吸収層の一つの偏光軸方向に一致している偏光軸を有する灰色の少なく とも一つの複屈折異方性吸収層を備える。 反射型の偏光手段に基づく偏光子の使用は、非偏光の光の50%よりも多く利 用しており、高輝度を提供し、また、LCI要素により消費される電力量を低減 する。 提案されたLCI要素は、第1および第2のプレートの間に配置された液晶層 を備え、そこに、該プレート電極の少なくとも一つおよび偏光子が配置される。 少なくとも一つの偏光子は、該偏光子に入射する複数の非偏光の光ビームを異な る偏光の光ビームの同じ複数の同様のペアに分割する偏光手段を備える。この偏 光手段は、焦点合わせ光学要素の形態として実施され、各光学的要素は、偏光さ れた光の波長の増加に伴って大きくなる少なくとも一つの屈折率を有する少なく とも一つの複屈折異方性吸収層を備え、少なくとも一つの光学的等方性層に隣接 する。偏光手段は、異なるように偏光された光ビームの複数のペアにより構成さ れた同様に偏光された光ビームの少なくとも一つの偏光変化手段として光学的に 整合される。 請求の範囲に記載されたLCI要素の焦点合わせ光学要素の少なくとも一つの 複屈折異方性吸収層は、複数のボリュームおよび位相レンズの形態として実施さ れ得る。 請求の範囲に記載されたLCI要素の焦点合わせ光学要素は、ゾーンプレート の形態として実施され得る。 ゾーンプレートの一種は、振幅ゾーンプレートであり、その偶数ゾーンは、少 なくとも一つの光学的等方性層に隣接する少なくとも一つの複屈折異方性吸収層 を備え、また、その奇数ゾーンは、光学的等方性材料により実施される。 他の種類のゾーンプレートは、位相ゾーンプレートである。 LCI要素の偏光変化手段は、偏光された光の波長の増加に伴って大きくなる 少なくとも一つの屈折率を有する区分された半透明の複屈折異方性吸収層を備え 得る。 偏光変化手段は、区分された半透明の二分の一波長複屈折板、または、焦点合 わせ光学要素の焦点に或いは焦点から外れて配置された部分を有する層の形態と して実施され得る。 請求の範囲に記載されたLCI要素の偏光子の偏光変化手段は、焦点合わせ光 学要素の焦点から外れて配置された四分の一波長板として形成る部分を有すると 共に、通常および特別の光線の間の位相差を規定する部分を有する区分された半 透明の複屈折板の形態で実施され得る。通常および特別の光線は、焦点合わせ光 学要素の焦点に配置された四分の一波長板として形成された部分によって規定さ れた位相差からπだけ位相がずれている。 請求の範囲に記載されたLCI要素の偏光変化手段は、ねじれ構造を有する液 晶の区分された半透明の重合されたプレーナ層の形態で実施され得る。ここで、 プレーナ層の厚み内における液晶の光学的軸は、焦点合わせ光学要素の焦点に或 いは焦点から外れて配置された部分に対して90°の角度だけ回転される。 請求の範囲に記載されたLCI要素の偏光変化手段は、区分された半透明の収 色性の複屈折板の形態で実施され得る。 反射型の偏光手段に基づく偏光子を使するLCI素子によって、明るさの増加 及び低電力消費が提供される。 提案されたLCI素子は第1及び第2のプレートの間に配置された液晶層を含 み、それらの位置決めされた少なくとも一つのプレート上には電極及び偏光子が ある。少なくとも一つの偏光子が少なくとも一枚のフィルムまたはプレートの形 で実現され、その上には、非偏光入射光を複数の同一の光ビームに変換する手段 、非偏光ビームを、異なる偏光を有する偏光透過光ビーム及び反射光ビームに分 割するための偏光手段、該偏光手段は偏光光の波長が増加するにつれて大きくな る少なくとも1つの屈折率を有する少なくとも複屈折異方性吸収層、または、層 の厚さを横切って一定方向の光軸を有する複屈折層、または、所定規則に従って 層の厚さを横切って変わる光軸の方向を有する複屈折層を含み、そして、偏光手 段から反射した光ビームの偏光及び方向を変えるための手段が設けられる。 請求されたLCI素子の反射光ビームの偏光及び方向を変える手段は区分され た金属鏡を含むことができる。 LCI素子の偏光手段は、少なくとも一つの複屈折異方性吸収層、または、層 の厚さを横切って一定の光軸方向を有し、かつ区分された金属鏡の上流に四分の 一波長プレートを有する複屈折層を含むことができる。 LCI素子の偏光手段は、所定の規則に従って層の厚さを横切って変化する光 軸方向を有する少なくとも1つの複屈折層として、高分子のコレステリック液晶 で製造することができる少なくとも1つのコレステリック液晶層を含むことがで きる。 コレステリック液晶の少なくとも一つの層は、厚さを横切って、コレステリッ クらせんピッチの変化度を有し、その結果として、100nmより小さくない光 選択性反射バンドのスペクトル幅を有する。 偏光手段は、3つの異なるスペクトル範囲の光選択性反射バンド を有する少なくとも3つのコレステリック液晶の層を含むことができる。 請求されたLCI素子の偏光子の非偏光入射光を変換する手段は、マイクロレ ンズ、または、偏光子内部に向かう方向にそれらから出てくる光ビームを絞るマ イクロプリズムのシステムの形で実現される。 マイクロレンズのシステムは、偏光子表面を完全に覆う正のシリンダー状マイ クロレンズの形で実現される。 請求されたLCI素子の偏光子は、フィルムまたはプレートの第1の表面上に 、マイクロレンズシステムと、前記マイクロレンズシステムで光学的に記録され た区分された金属鏡とを含み、フィルムまたはプレートの第2の表面上に、コレ ステリック液晶の少なくとも一つの層を含んでいる。 請求されたLCI素子の偏光子は、フィルムまたはプレートの第1の表面上に 、マイクロレンズシステム、前記マイクロレンズシステムで光学的に記録された 区分金属鏡、そして四分の一波長プレートを含み、そして、偏光子は、第2の表 面には、さらに、少なくとも一つの複屈折異方性吸収層または層の厚さを横切る 一定方向の光軸を有する複屈折層を含んでいる。 偏光子は、フィルムまたはプレートの第1の表面上に、区分金属鏡を含み、そ して、フィルムまたはプレートの第2の表面上に、引き続いて、金属鏡の区分で 光学的に記録されたマイクロレンズシステム、及び、少なくとも1つのコレステ リック液晶の層が設けられる。 偏光子が、フィルムまたはプレートの第1の表面上に、区分金属鏡、及び、四 分の一波長プレートとを含み、フィルムまたはプレートの第2の表面上に引き続 いて、金属鏡の区分で光学的に記録され たマイクロレンズシステムと、少なくとも一つの複屈折異方性吸収層または層の 厚さを横切る一定方向の光軸を有する複屈折層を設けたLCI素子が好ましい。 請求されたLCI素子の偏光子は、少なくとも2層に積層されたフィルムまた はプレートを含むことができ、第1のフィルムまたはプレートの外部表面に、第 1のマイクロレンズシステムが設けられ、第1または第2のフィルムまたはプレ ートの内部表面に、区分金属鏡が設けられ、そして第2のフィルムまたはプレー トの外部表面に、区分金属鏡と第1のマイクロレンズシステムで光学的に記録さ れた第2のマイクロレンズシステムが追加して設けられ、そして、偏光子は、少 なくとも一つのコレステリック液晶層を含むことができる。 偏光素子が少なくとも2層で積層されたフィルムまたはプレートを含むLCI 素子は、第1のフィルムまたはプレートの外部表面上に、第1のマイクロレンズ システムが設けられ、第1または第2のフィルムまたはプレートの内部表面上に 、区分金属鏡と四分の一波長プレートが設けられ、第2のフィルムまたはプレー トの外部表面上に、区分金属鏡と第1のマイクロレンズシステムとで光学的に記 録された第2のマイクロレンズシステムが追加的に設けられ、そして、少なくと も1つの複屈折異方性吸収層または層の厚さを横切る一定方向の光軸を有する複 屈折層があるものが好ましい。 偏光子が少なくとも2層に積層されたフィルムまたはプレートを含むLCI素 子は、第1のフィルムまたはプレートの外部表面上に、マイクロプリズムシステ ムが設けられ、第1または第2のフィルムまたはプレートの内部表面上に、マイ クロプリズムシステムで光学的に記録された区分金属鏡が設けられ、第2のフィ ルムまたはプレートの外部表面上に、少なくとも1つのコレステリック液晶の層 が設けられたものが好ましい。 偏光子が少なくとも2層に積層されたフィルムまたはプレートを含むLCI素 子は、第1のフィルムまたはプレートの外部表面上に、マイクロプリズムシステ ムが設けられ、第1のフィルムまたはプレートの内部表面上に、マイクロプリズ ムシステムで光学的に記録された区分金属鏡と四分の一波長プレートが設けられ 、第2のフィルムまたはプレートの外部表面上に、少なくとも一つの複屈折異方 性吸収層または層の厚さを横切って一定の光軸方向を有する複屈折層が設けられ たものが好ましい。 少なくとも一つの偏光子が非有機材料でまたはポリマーを基礎として形成され た配向層をさらに含むLCI素子が好ましい。 配向層は、複屈折異方性吸収層上、及び基板と前記層との間に共に形成するこ とができる。 他の変形例は、少なくとも1つのプレートにおいて、少なくとも一つの偏光子 の少なくとも一つの複屈折異方性吸収層が、透明電極の上に、またはプレートと 電極の間に、または透明電極を覆う誘電体フィルム上に、または液晶を配向する 層と電極を覆う誘電体副層との間に、または層の裏面上に配置されていることを 特徴とするLCI素子である。 好ましいLCI素子は、1つのプレートにおいて、同時に電極として役に立つ 拡散反射コーティングが形成され、そして少なくとも1つの複屈折異方性吸収層 が反射コーティング上に、または反射コーティング上に設けられた誘電体副層上 に、または液晶を配向する層と反射コーティング上に設けられた他の層との間に 直接配置されていることを特徴としている。 上で挙げたLCI素子の全変形例に使用された少なくとも一つの複屈折異方性 吸収層は、偏光光波長に直接正比例する少なくとも一 つの屈折率を有することができる。 上で挙げたLCI素子の全変形例における、少なくとも一つの偏光子の少なく とも1つの複屈折異方性吸収層は、少なくとも1つの直線偏光光成分に対する偏 光子出力における干渉極値が認識される厚さを有することができる。 上で挙げたLCI素子の全変形例における、少なくとも一つの偏光子の少なく とも1つの複屈折異方性吸収層の厚さは、一つの直線偏光光成分に対する偏光子 出力における干渉極小値と、他の直交する直線偏光光成分についての干渉極小値 とを得る条件を満たすことができる。 少なくとも2層を含むLCI素子の上で挙げた全変形例における少なくとも1 つの偏光子は、少なくともそれらの一つとして、複屈折異方性吸収層を含み、そ して他の層は、屈折率が一致するかまたは複屈折層の屈折率の一つに最大限に近 い光学的に等方性の層である。 少なくとも2つの複屈折層を含むLCI素子の上で挙げた全変形例における少 なくとも一つの偏光子は、少なくともそれらの一つとして、異方性吸収層を含み 、その層の屈折率が複屈折層の屈折率の一つに最大限に近い一つの屈折率を含み 、そして複屈折層と複屈折異方性吸収層の第2の屈折率は互いに異なっている。 LLC構成における使用染料を変えることによって、灰色を含む異なる色を有 するLC素子を作ることができる。灰色は、それらの層がディッシュプレート上 に形成される場合、黄色、赤色及び青色の複屈折異方性吸収層を一層一層適用す ることによっても得ることができる。 複屈折異方性吸収層を形成するために、有機の、特に、表面活性イオンの少な くとも1モルを有するイオノゲングループを含む二色 性結晶染料と連携した利用は、それがLCI素子の内側に配置されている場合に 、偏光子の良好な配向性能を提供し、それにより、さらなる配向LC層を設ける 必要性が避けられる。有機イオンの構造を変えることによって、偏光子の製造中 における溶剤の配向と濡れの性能を変えることができ、これは、種々のタイプの LCI素子の製造に関して重要である。 さらに、偏光コーティング中の低移動有機イオンの存在は、低電導度を提供し 、代わりにエネルギー消費を低くし、液晶装置の有効寿命を延ばす。偏光子が内 部に配置される場合、それによって、付加的な絶縁層を設ける必要性は回避され る。 請求されたLCI素子の色配置の変形例は、偏光子の製造に関して、最も異な る染料、例えば、式(II−IV)の染料を使用することによって提供される。 複屈折異方性吸収層を基礎とする干渉偏光子の利用は、請求されたLCI素子 の表面を横切って高い輝度と均質性ばかりでなく、反射に関する良好な角度特性 と動作中にける影の不在を提供する。 エネルギー消費の低下と同時にLCI素子の増加した輝度は、入射光エネルギ ーの50%より多くを役立たせる偏光子によって実現される。 複屈折異方性吸収層を形成するための上記材料の利用は、モノクロとカラーの LCI素子とそれらに基づく表示素子の両方を製造できる可能性を提供する。 高解像度表示装置を製造することを意図して提案された装置における画像の高 輝度とコントラストを達成するために、付加的に配向しそして明るくする層が複 屈折異方性吸収層と並んで使用されることができる。 複屈折異方性吸収層に基づいた請求された偏光子の利用は、従来 のフィルムベースの偏光フィルム、特にPVAに基づくヨウ素偏光子の利用を排 除しない。例えば、第2のプレートの外側に接着されたヨウ素ベースの反射また は透過の偏光子を有する第1のプレート上に内部偏光子を結合することは、高い 画像輝度とコントラストを有する装置を作り出すことができ、そして、最初のガ ラスの外側に接着された偏光子を保護するために通常使用されている付加的なガ ラスを必要としない。 さらに、複屈折吸異方性収層に基づく偏光子を使用して、偏光子の外部配置を 有するLC表示素子を製造することができる。この目的のために、複屈折異方性 吸収層が、透明等方性高分子フィルム上に設けられ、その後、フィルムで作られ た偏光子が、プレートの外側に接着される。この方法で作られたLC装置は、P VAフィルムに基づく通常の偏光子を有するLC装置と比較してはるかに少ない 層からなることに注意すべきである。 図面の簡単な説明 本発明に係る干渉型偏光子は、図1ないし3に示すように、特別の実施例のあ る例によって図示される。図1は、本発明に係る反射型の一層偏光子を図示して いる。図2は、光波長における偏光子の層の屈折率の依存の種類を図示している 。図3は、本発明に係る多層偏光子を図示している。 二色型の偏光子およびそれに基づく円形偏光子は、図4及び5に表されている 。 本発明に係る透過型の偏光手段の基づく偏光子は、図6ないし12に示される 特別の実施例の特定の例によって図示されている。 図6は1枚のフィルムの形状に組み込まれた提案された偏光子の1つの変形の 断面を図示しているが、使用されるその表面上には、 複屈折異方性吸収材料で製造されたボリウムレンズの形式の偏光手段、および区 画化された半透明の複屈折プレート形式であって該プレートの区画が該ボリウム レンズの焦点に配置される偏光された光束の偏光を変更する手段が存在する。図 7は、図6に係る提案された偏光子の一般的外観を図示している。図8は、1枚 のフィルム形状に組み込まれた提案された偏光子の1つの変形の断面を図示して いるが、使用されるフィルムの表面上には、該ボリウムレンズ形式の偏光手段、 および区画化された半透明の複屈折プレート形式であって該プレートの区画が該 ボリウムレンズの焦点に配置される偏光された光束の偏光を変更する手段が存在 する。図9は、1枚のフィルム形状の提案された偏光子の1つの変形の区画を図 示しているが、使用される該フィルムの表面には、複屈折かつ光学的に等方性で ある材料のインターリービング層で製造された振幅ゾーンプレート形式の偏光手 段、および、該振幅ゾーンプレートの焦点の外側に配置された四分の一波長プレ ート形式であり、かつ該振幅ゾーンプレートの焦点の外側に配置された四分の一 波長プレート形式の該区画によって決定される位相差からπ相違する通常および 特異光線間の位相差を決定する区画を有し、区画化された半透明の複屈折プレー ト形式で組み込まれた偏光された光束の偏光を変更する手段が存在する。図10 は、図9に係る提案された偏光子の1つの変形において使用される振幅ゾーンプ レートの可能な設計の1つの断面を示す。図11は、1層は複屈折異方性吸収層 であり、他の2層は1つは複屈折層の通常の屈折率に等しく他の2つは特異な屈 折率に等しい異なる屈折率を有する光学的に等方性である3層で構成される位相 ゾーンプレートの断面図を示す。これらの層の境界は、屈折率の比率が存在する 場合には、それらが、相互に直交するプレート中で直線的に変更される光線の焦 点を合わせることが可能な同一の位相ゾ ーンプレートのアレイの役割を果たすことを許容する表面プロファイルを有する 。位相ゾーンプレートのこれらのアレイは、1つのこのようなゾーンプレートの 半分の厚さだけ相互にずらされている。図12はフィルム形式の提案された偏光 子の変形の区画を示しているが、使用されるフィルムの表面上には、図11に示 されている設計のプレートであって、インターリービング複屈折異方性吸収およ び光学的に等方性の材料の位相ゾーンプレート形式の偏光手段、ならびに該ボリ ウムレンズの焦点に配置された区画面で区画化された半透明の複屈折プレート形 式で組み込まれた偏光された光の束の偏光を変更する手段が存在する。 本発明に係る反射型の変更手段に基づく偏光子が、図13−21に特別の実施 例の特定の例によって図示されている。 図13は、使用されるフィルムまたはプレートの第1の表面上にはマイクロレ ンズシステムおよび区画化された金属鏡が存在し、その第2の表面上には少なく とも1層のコレステリック液晶を含む偏光手段が存在する1枚のフィルム又はプ レート形式に組み込まれていることによって特徴付けられた提案された偏光子の 断面図である。図14は、図13に係る提案された偏光子の一般的外観を示して いる。図15は、使用されるフィルムまたはプレートの第1の表面上にはマイク ロレンズシステム、金属鏡、および四分の一波長プレートが存在し、その第2の 表面上には、層厚さにわたって、一定の光軸方向を有する少なくとも1つの複屈 折層を含む偏光手段が存在する1枚のフィルム又はプレート形式に組み込まれて いることによって特徴付けられた提案された偏光子の断面図である。図16及び 17は、使用されるフィルムまたはプレートの第1の表面上には金属鏡が存在し 、その第2の表面上には偏光手段およびマイクロレンズシステムが存在する1枚 のフィルム又はプレート形式に組み込ま れていることによって特徴付けられた提案された偏光子の断面図である。図18 及び19は、使用される外側表面上に偏光手段および2つのマイクロレンズシス テムが存在し、その内表面には区画化された金属鏡37が存在する2層化された フィルム又はプレート形式に組み込まれた提案された偏光子の変形の区画を示す 。図20及び21は、使用される外側表面上に偏光手段および1つのマイクロレ ンズシステムが存在し、その内表面には区画化された金属鏡37が存在する2層 化されたフィルム又はプレート形式に組み込まれた提案された偏光子の変形の区 画を示す。 最も典型的な構成のクレームされたLCI素子の例が、図22−27に示され ている。図22は従来のツイストネマテックに基づく透過型素子を示し、図23 は偏光層及び電極の別の配置を有する従来のツイストネマテックに基づく透過型 素子を示し、図24は従来のツイストネマテックに基づく反射型のLC表示器を 示し、図25はスーパーツイストネマテックに基づく透過型のLC表示器を示し 、図26は色スイッチング効果を具備するLC表示器を示し、図26はマトリッ クスLC表示器を示す。 クレームされた偏光子及び液晶表示素子の望ましい実施例の説明干渉型偏光子 図1は本発明に係る複屈折異方性吸収層1を具備する反射型一層偏光子のダイ ヤグラムであって、その屈折率(特異ne、通常n0)は共に偏光された光波長に 比例することを特徴とする。もっとも簡単な変形においては、層1は両側で大気 に接する。もっとも複雑な変形においては、使用される表面の一方上には、光反 射コーティングが存在する。層1は基板上にも、および、例えば透明ガラス(図 中破線で示される)上にも適用され得る。反射型の提案された偏光子の動作は以 下のように説明され得る。偏光されていない光は、 成分の偏光面が相互に垂直である2つの直線偏光された成分2及び5(これら2 つの成分は、図示するため、および一層の理解のために図1中で慣習的に分離さ れている)で構成される。複屈折異方性吸収層1の光軸と平行に偏光された成分 2は、部分的に層1の境界で反射され、光線3を形成する。層1と媒体間の界面 の境界の光の部分的な反射は、該境界における屈折率の変化(相違)に起因して 発生する。光の部分的な反射に対して、層1に付加的に適用される光反射コーテ ィングが使用され得る。複屈折異方性吸収層1を通過した成分2のエネルギの他 の部分は層1の第2の境界で反射され、層1を再度通過して光線4を形成する。 反射された光線3及び4は成分2として同様に偏光される。 層1の厚さは、より大きい屈折率neに対応する光3及び4の軌跡の光学的差 Δeは偏光された光半波長の奇数と等しくなるように、光波長をλ、mを干渉数 としたときにΔe=λ/2+mλとなるように選択される。層1の両側における 媒体が透明(非吸収性)であり、かつ層1の屈折率より小さい屈折率を有する場 合には、軌跡の光学的差Δeは2dne+λ/2に等しい。ここで、dは層の厚さ であり、値λ/2は光学的により高密度な媒体におけるのと同様に、第1におけ る反射による位相変化である。この場合、光線3及び4の干渉の結果はそれら間 の相互減衰であり、最適な場合には完全なブラッキングである。光線3及び4の 完全なブラッキングは、光線3及び4の強度(振幅)が同一、又はそれらの値が 近接しているときに達成され、例えば付加的に適用される光反射コーティングを 使用しての層1の境界の反射率の適切な選択によって達成され得る。光反射コー ティングは、単層あるいは多層型の金属性あるいは誘電性のコーティングであれ ばよい。光波長(ne〜λ)に対する複屈折異方性吸収層1の特異な屈折率の比 例条件が一致したとき には、等式Δe=2dne+λ/2=λ/2+mλは、広いスペクトラム範囲で高 偏光特性を有する動作光波長範囲のすべての範囲で成立するであろう。 複屈折異方性吸収層1の光軸に直角に偏光される他の直線偏光された成分5は 、層1の第1の境界で部分的に反射され、光線6を形成する。層1を通過した成 分5の他の部分は、層1の第2の境界で反射され、層1を再度通過し、光線7を 形成する。反射された光線6及び7は,入射成分5と同様に偏光される。光線6 及び7の干渉の結果は相互の強度、即ち通常の(小さい)屈折率noに対応する それらの間の軌跡の光学的差に対する最大の干渉Δoは、波長の整数倍であり、 Δo=2dno+λ/2=λ/2+mλ(光線6が層1の第1の境界で反射された ときに位相変化λ/2がこの成分に対しても発生する)である。光波長(ne〜 λ)に対する複屈折異方性吸収層1の通常の屈折率の比例条件が一致したときは 、偏光子の偏光特性の特異な依存性の除去を意味する等式Δo−2dno+λ/2 =mλは動作光波長の全範囲で成立する。 従って、広いスペクトラム範囲において、複屈折材料の層1の軸に平行に偏光 された成分2の全反射は、層1の軸に垂直に偏光された成分5の反射より極めて 小である。 干渉の結果として反対状況の可能性のある実現として、複屈折材料である層1 の光軸に平行に偏光された成分2の全反射は、層1の光軸に垂直に偏光された成 分5の反射よりはるかに大きい。この状況は、特異な(大きい)屈折率neに対 応する層1の厚さが光線3および4の軌跡の光学的差Δeが偏光された光半波の 偶数倍、即ちΔe=mλであるように選択されたときに発生し得る。この場合、 光線3及び4の干渉の結果は、最大干渉、即ち相互強調である。さらに、通常の (小さい)屈折率noに対応する光線6および7の軌 跡の光学的差Δoは偏光された半波の奇数倍Δe=λ/2+mλである。この場合 、光線6及び7の干渉の結果は最小干渉、即ちそれらの相互減衰である。そして 、干渉の結果として、複屈折材料の層1の光軸に平行に偏光された成分2の全反 射は、複屈折材料の層1の光軸に垂直に偏光された成分5の反射よりずっと大で ある。 図2は可視光線波長、即ち400−700nmの領域において偏光子中の層の 屈折率の依存性を図示している。曲線8はプロトタイプに係る偏光子に対応する が、層の屈折率は光波長の増加に応じて減少する。光学的なこのような依存性は 通常の散乱として参照され、透明材料の特性である。曲線9は本発明に係る偏光 子に相当し、層の少なくとも1つの屈折率は光波長の増加に応じて増加する。光 学的なこのような依存性は特異な散乱として参照され、このような依存性の実現 のために偏光子は特別な方法で設計されなければならない。実施された実験およ び解析は、この目的のためには少なくとも1つの複屈折異方性吸収層が動作波長 範囲において0.1より小さくない最大屈折率を有することによって特徴付けら れる偏光子が望ましいことを示している。ここで、光学において、製造されてい る層kの屈折率は材料Zで製造された層の全体的な屈折率の仮想的部分=n−i kにおける係数として決定される(GOST標準7601−78参照)。曲線1 0は、少なくとも1つの複屈折異方性吸収層が少なくとも動作波長の所定範囲に おいて偏光された光波長に直接比例する少なくとも1つの屈折率を有することを 特徴とする、本発明に係る偏光子の望ましい変形に対応する。屈折率の光波長に 対する直接的な比例は、光波長の増加に応じた屈折率の通常の増加以上に厳格な 要求(条件)である。広いスペクトラムにおける高偏光特性は、動作波長の所定 範囲および全波長において偏光された光波長が増加するに応じて屈折率が増加す ることによって特徴付けさ れた偏光子中に付加される。異方性吸収が発生し、従って、異常な散乱が観察さ れる波長領域は、動作波長領域と一致する、または一致しないことが承知される べきである。干渉型のクレームされた偏光子に対しては、異常な散乱が観察され る、即ち光波長の増加に応じて少なくとも屈折率が増加する波長動作領域が望ま しい。 図3は4つの複屈折異方性吸収層1を具備する本発明に係る多層偏光子を図示 したものであって、偏光された光波長の増加にともなってこれらの層の特異な屈 折率neが大きくなることを特徴とする。これらの層1は光学的に等方性の材料 の4つの層11で挟まれるが、複屈折材料に通常の屈折率noは光学的に等方性 の材料の屈折率niと一致するか、あるいは略一致する。複屈折異方性吸収層1 は同一の材料、又は、例えば波長の増加に応じて特異な屈折率neが増加する範 囲のスペクトル範囲で相違する異なる材料として組みこまれ得る。 提案された偏光子の動作は、以下のように説明され得る。偏光されていない光 は、偏光面が相互に直交する2つの直線偏光された成分2及び5からなる(図3 のこれら2つの成分は、図示のため、および理解を容易にするために通常分離し て示される)。複屈折異方性吸収層1の光軸に平行に偏光された成分2は、部分 的に層1と光学的に等方性の層11の境界で反射され、光線3を形成する。反射 された光線3は、入射する成分2と同様な方法で偏光される。 層1の厚さは、全ての層の干渉3の結果が最大干渉である、即ち相互に強調す るように選択する。そこでの反射は98−99.9%に達するが、これは直線偏 光された成分2が部分的に完全に偏光子から反射され、光線12を形成すること を意味する。単に増加する以上により厳しい条件、即ち光波長(ne−λ)に対 する複屈折異方性吸収層1の特異な屈折率の直接比例条件が満足されたときに、 最大干渉条件は全動作波長領域で一致するであろう。 偏光されていない光成分5に対して、層1の光軸に対する直線変調された垂直 性は、光学的に等方性の層の屈折率に等しい層1の通常の屈折率noに対応する (no=ni)。この場合、層1と11の境界からの反射はなく、直線偏光された 成分5は、まったく反射なく完全に多層偏光子を通過する。偏光子の外側表面で の成分5の反射は、『磨き』の通常の方法の使用、即ち外側表面に約四分の一波 長の光学的厚さおよびno 1/2の屈折率を有する等方性の層の適用により除去され 得る。 その結果、多層偏光子に衝突する偏光された光は2つの部分に分割され、偏光 子を通過する直線偏光された光線12および偏光子で反射する直角に偏光された 光線13に伝達される。 上記の例は、提案される偏光子の特別な実施例のあり得る変形に制限されない 。従って、上記の全ての例において、10以上でない層が使用されたときに、広 いスペクトル範囲において偏光子の高偏光特性が具備される。 二色性偏光子 タイトル化された偏光子の動作原理は、層の通過中に偏光された光が染料の発 色団システムによって部分的に吸収されることに基づいている。光波のその部分 だけが通過することにより、電磁場の振動方向において電気成分は光遷移双極子 に対して直角となる(図4)。 複屈折異方性吸収層が四分の一複屈折プレート又は基板の主光軸に対して45 °の角度をなすフィルムに適用された場合は、円形の偏光子が製造され得る(図 5、a及びbはそれぞれ通常及び特異光線であり、nは偏光層偏光ベクトル方向 である)。複屈折フィルムの厚さは以下の条件を満足しなければならない。 d(no−ne)=λ/4+mλ/2 ここで、dはポリマーフィルムの厚さ、no及びneは通常及び特異屈折率、λ は波長、mは整数である。 透明型の偏光手段に基づく偏光子 図6は、1枚のフィルム11の形式の組み込まれた提案された偏光子の1つの 変形の断面図を示しているが、使用されるフィルムの一方の表面上には複屈折異 方性吸収材料で製造されたボリウムレンズ形式の偏光手段、及び区画化された半 透明半波長複屈折プレートの形式で組み込まれた偏光された光の束18の偏光を 変更する手段が存在するが、該プレートの区画19は該ボリウムレンズ15の焦 点に配置される。偏光された光の束18の偏光を変更する手段は又、該層の厚さ 内における液晶の光軸の90°の回転を有するツイスト構造を有する液晶の区画 化された半透明の重合された複屈折層の形式で組み込まれ得るが、この層の区画 もまた該ボリウムレンズ15の焦点に配置される。 提案された偏光子の動作は以下のように説明され得る(一層の理解のために、 図6において、異なる偏光光束17及び18並びにそれらの延長13及び20の 軌跡は考慮されている偏光子の隣合う基本セルに描かれている)。偏光されてい ない光14は、ボリウムレンズ15が配置されている偏光子の第1の表面に入射 する。複屈折材料で製造され、パターン平面内にある光軸16及びフィルム11 の等方性材料の屈折率に等しい通常屈折率のボリウムレンズ15を通過するとき に、ボリウムレンズ15を通過したパターン平面に対して直角に直線偏光された 成分17はレンズ15とフィルム11の接触面の境界において反射されずに、こ の環境の元で入射光線1の方向及び形状を維持した光線17はフィルム11の第 2の境界を通過し、パターンに垂直に偏光された平行光線13を形成する。区画 化された半透明の半波複屈折プレートの区画19の横方向の寸法はボリウムレン ズ15の横方向の寸法に比較して極めて小さくなるように選択されているので( 例えば、半波プレートの区画19の横方向寸法は10mcmであり、マイクロレ ンズのそれは100−200mcmである)、区画化された半透明の半波複屈折 プレートは平行光線13の偏光に影響を及ぼさない。複屈折材料製で、光軸16 がパターン平面内にあり、特異屈折率がフィルム11の等方性材料の屈折率を越 えるボリウムレンズ15を通過すると、パターン平面で直線偏光されたレンズ1 5を通過した成分18は区画化された半透明の半波複屈折プレートの区画19が 配置されているフィルム11の第2の表面で焦点を結ぶが、収束光束18は通過 したときに該区画は該光束20の偏光を変更し、パターン平面に直角に直線偏光 された発散光束20を形成する。偏光面のこのような変更は、入射光の変更面に 対して45°の角度をなす光軸を有する半透明の半波複屈折プレートの周知の光 学的性質によって引き起こされる。従って、この偏光子の動作の結果、偏光され ていない光14のエネルギは、同様な直線偏光を有する出力する高偏光された光 線13及び20のエネルギの50%以上変換される。 図7は、その断面図が図6に示されている提案された偏光子の外観を図示して いる。この偏光子はフィルム又はプレート11の形式に組み込まれるが、このフ ィルム又はプレートの第1の表面上には複屈折材料で製造された円筒状のマイク ロレンズ15のシステムが配置され、フィルム又はプレート11の第2の表面上 にはそこに入射する直線偏光された光線の偏光を変更する手段が配置されるが、 この手段は半透明等方性フィルムのストリップシステムの形式であり、該円筒状 レンズ15のシステムと光学的に整合させられる。図7は又、偏光子に入射する 偏光されていない光の束14の軌跡、並 びに一平面で直線偏光された偏光子から出る光の方向同一の束13及び20の軌 跡を図示する。 図8はフィルム11の形式に組み込まれた提案される偏光子の1つの変形の断 面図を示すが、該フィルムの表面にはボリウムレンズ15の形式に組み込まれた 偏光手段、および区画化された半透明半波複屈折プレートであって、該ボリウム レンズ15の焦点の外側に配置されたプレートの形式に組み込まれた偏光された 光束17の偏光を変更する手段が存在する。偏光された光束17の偏光を変更す る手段は又、該層の厚さ中で液晶の光軸の90°の回転を有するツイスト構造を 有する液晶の区画化された半透明の重合された複屈折層の形式でも組み込まれ得 るが、該層の区画も該ボリウムレンズ15の焦点の外側に配置される。 提案された偏光子の動作は以下のように説明され得る(明瞭化のために、図8 において、異なる偏光光線17及び18の軌跡、並びにそれらの延長22及び2 3は考慮している偏光子の隣合う基本セルに図示されている)。偏光されていな い光14はボリウムレンズ15が配置されていいる偏光子の第1の表面に入射す る。 複屈折材料製であり、パターン平面内に配置された光軸を有し、フィルム11 の複屈折材料の屈折率と等しい通常屈折率を有するボリウムレンズを通過してパ ターン平面に垂直に直線偏光された成分17は、該レンズ15を通過して、レン ズ15とフィルム11の接触面の境界で反射されないので、光線17は入射光線 14の方向及び形状を維持する。区画化された半透明半波複屈折プレートの区画 が配置されるフィルム11の第2の境界を通過して、光線17はその偏光を変更 してパターン平面内で偏光された光の平行束22を形成する。偏光面のこのよう な変更は、入射光の偏光面に対して45°の角度の光軸を有する半透明半波複屈 折プレートの周知の光学的 性質によって引き起こされる。区画化された半透明半波複屈折プレートの区画2 1の横方向の寸法はボリウムレンズ15の横方向の寸法と比較して極めて小さく なるように選択されている(例えば、半んみプレートの区画19の間の間隔の横 方法寸法は10mcmであり、マイクロレンズのそれは100−200mcmで ある)ので、区画化された半透明半波複屈折プレートの区画21の間の間隔は平 行光線46の偏光に実際上影響をあたえない。複屈折材料製であり、パターン平 面内に配置された光軸を有し、フィルム11の複屈折材料の屈折率を越える特異 屈折率を有するボリウムレンズ15を通過するパターン平面内で直線偏光された 成分18は、ボリウムレンズ15を通過後フィルム11の第2の表面上で焦点を結 び、区画化された半透明半波複屈折プレートの隣合う区画21に到達し、パター ン平面内で光束18にように偏光された発散光束23の形式で偏光子を離れる。 このように、この偏光子の動作の結果、偏光されていない光14のエネルギは同 一直線偏光を有する出力高偏光光束13及び30のエネルギに50%以上変換さ れる。 図9はフィルム11形式に組み込まれた提案される偏光子の1つの変形の断面 を図示するが、該フィルム上には複屈折性かつ光学的等方性の材料のインターリ ーブ層で製造された振幅ゾーンプレート24の形式の偏光手段、並びに区画化さ れた半透明複屈折プレートであって、該振幅ゾーンプレート24の焦点の外側に 配置される四分の一波長プレートの形式の区画並びに通常及び特異光線間の位相 差を該振幅ゾーンプレート24の焦点に配置された四分の一波長プレートの形式 の区画25によって決定される位相差からλ異なるように決定するプレートの形 式で組み込まれた偏光された光束17及び18の偏光を変更する手段が存在する 。 提案された偏光子の動作は以下のように説明され得る(明瞭化の ために、図9において、異なる偏光光線17及び18の軌跡、従ってそれらの延 長27及び28の軌跡は考慮している偏光子の隣合う基本セル上に図示されてい る)。偏光されていない光14は振幅ゾーンプレート24が配置されている偏光 子の第1の表面に入射する。パターン平面に垂直に直線偏光された成分17は、 複屈折異方性吸収材料及び光学的等方性材料のインターリーブ層で製造され、該 複屈折材料の光軸16がパターン平面内に置かれ、その通常屈折率が該等方性材 料の屈折率と等しい振幅ゾーンプレート24を通過し、ゾーンプレート通過後は 、複屈折性及び等方性のインターリーブ層の接触面の境界で反射されることはな いので、光束17は入射光線の方向及び形状を維持し続ける。パターン平面に垂 直に直線偏光された光束17は、フィルム11の第2の境界を通過し、区画化さ れた半透明四分の一波長複屈折プレートが配置された該振幅ゾーンプレート24 の焦点の外側で偏光を変更し、円形に偏光された光束27を形成する。従って、 半透明四分の一波長複屈折プレートの区画25の間に間隔を空けて配置された区 画26を有し、半透明四分の一波長複屈折プレートの該区画25によって決定さ れる位相差からπ異なる通常及び特異光線の間の位相差を決定する半透明複屈折 プレートは実際上平行光束27の偏光に影響を及ぼさないが、これはその横方向 の寸法が振幅ゾーンプレート24の横方向の寸法に比較して極めて小さくなるよ うに選択されている(例えば、複屈折プレート26の横方向の寸法は10mcm であり、振幅ゾーンプレートの横方向の寸法は100−200mcmである)か らである。パターン平面内で偏光された直線偏光された成分18は、複屈折異方 性吸収材料と光学的等方性材料のインターリーブ層であり、該複屈折材料の光軸 がパターン平面内に置かれ、その特異屈折率が該等方性材料の屈折率を越える振 幅ゾーンプレート24を通過し、ゾーン プレート24通過後、半透明複屈折プレートの区画25によって決定される位相 差とπ異なる通常及び特異光束間の位相差を決定する半透明複屈折プレート11 の区画が配置されたフィルム11の第2の表面上の焦点を結ぶが、この区画は四 分の一波長プレートであり、収束するパターン平面内で直線偏光された光線18 がそこを通過すると、光線18は偏光を変更し、円形に偏光された光線27と同 様に円形に偏光された光の発散束28を形成する。光束17及び18の偏光面の このような変更は、入射光の偏光面に対して45°の角度をなす光軸を有する適 切な半透明複屈折プレートの周知の光学的性質によって引き起こされる。そして 、偏光子の動作の結果、偏光されていない光14のエネルギは、50%以上同一 の円形偏光を有する光偏光光束27及び28のエネルギに変換される。 図10は図9に係る提案された偏光子の変形で使用される振幅ゾーンプレート の可能な設計の1つの断面図を示す。断面が図10に示される振幅ゾーンプレー ト24の設計において、通常光線の屈折率no及び特異光線の屈折率neを有し、 普通指向される光軸16がパターン平面内に配置され、屈折率noを有する光学 的に等方性の材料30、31及び32の間に配置される複屈折異方性吸収材料の 領域1が使用される。このような構成により、振幅ゾーンプレートは、光束の外 形および光の強度を変更することなく、バターン平面に対して垂直に偏光された 光束5を伝送し、振幅ゾーンプレートの出口においてパターン平面に対して垂直 に直線偏光された平行光束17を形成し、共にパターン平面で直線偏光される光 線29および遅延光線2を伝送し、回折によって光線29から同じくパターン平 面で直線偏光される収束光18を形成する。該振幅ゾーンプレートの上記の動作 を具備するために、ある関係が、フィルム内における干渉現象のために複屈折材 料で製造された層の部分1を有する該 振幅ゾーンプレートのゾーンによってパターン平面内で直線偏光される光束2を 無くする層30及び32の間だけでなく、屈折率ne、no、波長λ、層1の厚さ の間にも維持されなければならない。例えば、図10に示された場合においては 、この関係は2d2e+λ/2=mλの形式を有する。ここで、mは干渉次数と して参照される整数である。このように、振幅ゾーンプレートの出口において、 相互に直交する直線偏光を有する平行光束17及び収束光束18である2つの光 束が形成される。 図11は3層からなる位相ゾーンプレートの断面を示し、3層の内の1層11 は等方性層であり、屈折率n1を有し、他の層1は複屈折異方性吸収層であり、 パターン平面内にある軸16に沿って屈折率n1を有し、パターン平面に垂直な 軸33に沿って屈折率n2>n1を有し、これに従う最後の層30は最初の層と同 様等方性層であるが複屈折率n2を有する。境界11と11は、層11と30同 様、これらの屈折率間の前記関係に適合する条件下で、これらが、相互に垂直な 平面内で直線偏光した光線を種々に焦点づけることのできる位相ゾーンプレート の配列として作用することを可能とする表面プロファイルを有する。これら位相 ゾーンプレート34および35の配列は、このような1つの位相ゾーンプレート の半分の幅で互いに対してシフトしている。 図11に示す位相ゾーンプレートの作用を以下に説明する。層11の平坦な表 面を透過し位相ゾーンプレートの層11と1との境界34に到達した互いに垂直 に直線偏光して重なった2つの光線2と5となる非偏光な光14の光線は、そこ を透過し、層1内で2つの光線に分離される。分離された2つの光線の内、光線 18はパターン平面内で偏光され、光線17はパターン平面に垂直に偏光される 。さらに、等方性の層11の屈折率と軸16に沿って偏光された光 波に対する複屈折層1の屈折率とが一致するという事実から、光線2は、これも また軸16に沿って偏光されるが、層11と1との境界34を有する位相ゾーン プレートを透過し、光線2と同様に導かれて、すなわち偏光子平面に垂直に伝搬 し同一偏光を有して、光線18に変化させる。等方性層11の屈折率と軸33に 沿って偏光された光波に対する複屈折層1の屈折率とが一致しない理由は、軸3 3に沿って偏光される光線5が、位相ゾーンプレートの層11と1との境界を透 過し、すなわち前記位相ゾーンプレートの焦点に対し光線5の伝搬方向から偏向 される光線17に変化するからである。さらに、パターン平面に垂直に偏向され た光線17は、層の平面に対し傾斜して、層1内の伝搬を継続し、層1と30と の間の境界35を有する他の位相ゾーンプレートに到達し、そこを透過する。こ れにより、方向を変えずに、すなわち光線17の伝搬方向に沿って、パターン平 面に垂直に層30内を伝搬する光線17と同様に偏光された光線13に変化させ る。何故ならば、等方性層30の屈折率とパターン平面に垂直な軸33に沿って 偏光される光に対する複屈折層1の屈折率と一致するからである。等方性層30 の屈折率と軸16に沿って偏光された光波に対する複屈折層1の屈折率とが一致 しない理由は、軸16に沿って偏光された光線18が位相ゾーンプレートの層1 と30との境界35を透過し、すなわち層1と30との間の境界35を有する位 相ゾーンプレートの焦点に対する光線18の伝搬方向から偏向される光線22に 変化するからである。 図12は提案した偏光子の変形例の断面の概略を示す。この偏光子の偏光手段 は、図11を用いて説明したプレートと同一デザインの位相ゾーンプレート34 と35の配列の形式で実施される。それぞれ位相ゾーンプレート35と34によ り焦点づけられた光線22と13は、非偏光の光14が入射する表面の反対側に ある偏光子の 出射表面上に位置づけられた焦点に集められる。偏光子の出射表面上には、前記 半波複屈折プレートの光軸方向に45°の角度で配置された偏光平面を有する直 線偏光光ビームの偏光に変化させる手段である、半透明の半波複屈折プレートが 区画化された区画部19が配置されている。これら区画部は、垂直偏光に対して パターン平面内に偏光される光ビーム22の偏光を変え、これらを光ビーム20 に変換する。上記偏光を変化させる手段により影響される動作により、偏光子を 去る光線20と36は、同等に偏光され、すなわちこの場合パターン平面に垂直 となる。したがって、偏光子の作用の結果として、非偏光な光14のエネルギは 、同一平面内で直線偏光を有する高度に偏光されたビーム20と36の出射エネ ルギに、50%を越える程度で変換される。 図6〜図9、図12に示された非偏光の光ビームの各々を異なる相互に垂直な 直線偏光を有する2つの直線偏光の光ビームに分離する手段のデザインおよび上 記直線偏光された光ビームの少なくとも1つの偏光を変化させる手段のデザイン は、他の変形例でも組み合わせることができる。 したがって、偏光された光の波長が増加するに連れて増加する少なくとも1つ の屈折率を有する複屈折材料の使用は、非屈折放射の全エネルギの50%を越え た変形例を提供する偏光子の作成を可能とする。一方、フィルムまたはプレート である比較的単純なデザインを有して、フィルムまたはプレートの表面上に前記 複屈折された層を実施した光エレメントを焦点づける形式で偏光手段が加えられ 、フィルムまたはプレートの表面上に区画化された半透明な複屈折プレートまた は層の形式で実施された偏光に変化させる手段を加えたもので光学的にレジスタ (整合)される。 反射式偏光手段に基づく偏光子 図13は、フィルムまたはプレートの第1表面上にマイクロレンズ38の装置 と該マイクロレンズの装置に光学的に整合され区画化された金属鏡37が逐次加 えられ、第2表面上に非偏光の光ビームを少なくとも1つのコレステリック液晶 の層を含む偏光透過反射光ビームに分離する手段39が加えられた変形例1によ り提案した偏光子の断面を概略的に示す。 提案された偏光子の作用は、以下のように説明できる(明瞭にするため図13 において異なる層の境界における屈折を考慮せずに1つのマイクロレンズのみに 対して光線の伝搬を簡略化して示す)。非偏光光14が偏光子の第1表面上に入 射し、光ビーム41を形成する偏光子の内側方向にマイクロレンズにより焦点づ けられる。区画化された金属鏡37は非偏光光14を実際上シールドしない。何 故ならば、その光反射エレメントの横方向の寸法はマイクロレンズの横方向の寸 法よりずっと小さく選択される(例えば、光反射エレメントの横方向の寸法は1 0mcmであり、マイクロレンズの横方向の寸法は100〜200mcmである)か らである。レンズ38により焦点づけられた光ビーム41は、非偏光光ビームを 少なくとも1つのコレステリック液晶の層を含む偏光透過反射光ビームに分離す る手段39に到達する。これにより、非偏光光ビーム41の光エネルギの約半分 は、例えばRIGHT(右)円偏光(透過光ビームの円偏光の方向が使用したコレス テリック液晶のスパイラルのサインと反対である)を有する透過光ビーム27の エネルギに変換される。非偏光の光ビーム41の光エネルギの他の半分は、この 場合、LEFT(左)円偏光を有する(反射光ビームの円偏光の方向が使用したコレ ステリック液晶のスパイラルのサインと一致する)反射光ビーム40のエネルギ に変換される。左円偏光を有する反射光ビーム40は、金属鏡37の光反射エレ メント上の1点に(この目的のため、焦 点距離または換言すればマイクロレンズ38の焦点パワー(倍率)が適切に選択 されて)焦点づけられる。金属鏡37から反射された光ビーム28は、右円偏光 、すなわち金属鏡37上に衝突する光ビーム30の偏光と反対である偏光を有す る。このような偏光の変化は、金属鏡に関する公知の光学的特性により引き起こ される。右円偏光を有する光ビーム28は、何等の変化なしでコレステリック液 晶の層を透過する。したがって、偏光子の作用の結果として、非偏光光14のエ ネルギは、高度に同等な円偏光を有する偏光ビーム27と28の出射エネルギに 実際上完全に変換される。 偏光子の動作波長領域を広げるため、非偏光光ビームを少なくとも1つの複屈 折層の形式で実施される偏光通過反射光ビームに分離する手段は、3つの異なる スペクトル領域内における光の選択的反射幅を有する少なくとも3つのコレステ リック液晶の層を含む。 拡張された動作波長領域を有する偏光子の同一または他の変形例において、少 なくとも1つのコレステリック液晶の層は、その厚さ方向を横断してコレステリ ックスパイラルピッチの勾配を有し、その結果、100nm以上の光選択反射幅の スペクトル幅を有する。 好ましくは偏光子は、少なくとも1つのコレステリック液晶の層がポリマーコ レステリック液晶からなることで特徴づけられる。 偏光子から出射された円偏光光の直線偏光へのエネルギ損失を避けるため、1 /4波長プレートを偏光子の出射で付加的に位置づけることができる。 図14は図13で断面図が示される提案した偏光子の全体を概略示す。偏光子 は1つのフィルムまたはプレートの形式で実施され、フィルムまたはプレートの 第1の表面上に、順次、マイクロレンズ38の装置および該マイクロレンズの装 置に光学的に整合され区画化された金属鏡37が加えられ、フィルムまたはプレ ートの第2の 表面上に、非偏光光ビームを、少なくとも1つのコレステリック液晶の層を含む 偏光透過反射光ビームに分離する手段39が加えられる。偏光子の作用の結果と して、非偏光光14のエネルギは、同等な円偏光を有する偏光ビーム27と28 のエネルギに特に完全に変換される。 図15は、1つのフィルムまたはプレート11の形式で実施され、フィルムま たはプレートの第1表面上に、マイクロレンズ38の装置および該マイクロレン ズの装置に光学的に整合され区画化された金属鏡37が加えられた他の変形例に より提案した偏光子の断面を示す。区画化された金属鏡37の上流に、区画化さ れた1/4波長プレート25が配置される。すなわち、図15に示されるように 、区画化された金属鏡37の少なくとも全表面を被うか、または非区画化された 、すなわち偏光子の第1表面を全て被う。フィルム11の第2表面上には、非偏 光光ビームを、層の厚さを横断して一定の光軸方向をもつ少なくとも1つの複屈 折層を含む偏光透過反射光ビームに分離する手段42が加えられる。 提案した偏光子の作用を以下に説明する(明瞭にするため、種々の層の境界に おける屈折を考慮せず、1つのマイクロレンズに対してのみ、図13において光 線の伝搬を簡略化して示す)。非偏光光14が偏光子の第1表面上に入射し、光 ビーム41を形成する偏光子の内側方向にマイクロレンズにより焦点づけられる 。区画化された金属鏡37は、非偏光光14を実際上シールドしない。何故なら ば、その光反射エレメントの横方向の寸法は、マイクロレンズの横方向の寸法よ り小さく選択される(例えば、光反射エレメントの横寸法は10mcmありマイク ロレンズの横寸法は100〜200mcmである)。レンズ38により焦点づけら れた光ビーム41は、非偏光光ビームを、層の厚さを横断して一定な光軸の方向 を有する少な くとも1つの複屈折層を含む偏光透過反射光ビームに分離する手段42に到達す る。これにより、非偏光光ビーム41の光エネルギの約半分が、例えばパターン 平面に垂直な直線偏光を有する透過光ビーム17のエネルギに変換される。非偏 光光ビーム41の光エネルギの他の半分は、この場合パターン平面に平行な直線 偏光を有する反射光ビーム3のエネルギに変換される。パターン平面に平行な直 線偏光を有する反射光ビーム3は、1/4波長プレート25を透過し、金属鏡3 7の光反射エレメント上の1点に焦点づけられる(この目的のため、焦点距離ま たは換言すればマイクロレンズ38の焦点パワーは適切に選択される)。金属鏡 37から反射し再度1/4波長プレート25を透過した光ビーム13は、パター ン平面に垂直な、すなわち金属鏡37上に入射する光ビーム7の直線偏光に垂直 な、直線偏光を有する。このような偏光の変化は1/4波長プレートと金属鏡と の組合せに係る公知の特性により引き起こされる。パターン平面に垂直な直線偏 光を有する光ビーム13は、変化せずに層の厚さを横断して一定な光軸方向をも つように複屈折層を透過する。したがって、偏光子の作用の結果として、非偏光 光14のエネルギは、同等の高度の直線偏光(この場合偏光はパターン平面に対 し垂直である)を有する出射偏光ビーム17と13のエネルギに実際上完全に変 換される。 図16は、1つのフィルムまたはプレート11の形式で実施され、フィルムま たはプレートの第1表面上に、区画化された金属鏡37が加えられ、フィルムの 第2表面上には、順次、金属鏡37の区画部と光学的に整合されたマイクロレン ズ38の装置、および非偏光光ビームを少なくとも1つのコレステリックの層を 含む偏光透過反射光ビームに分離する手段39が加えられた、提案した偏光子の 断面を示す。 提案した偏光子の作用を以下に説明する(明瞭化のため、図16において、光 線の伝搬を種々の層の境界での屈折を考慮せずに、1つのマイクロレンズのみに ついて光線の伝搬を簡略化して示す)。非偏光光14は、フィルム11とマイク ロレンズ38の装置とを透過する。マイクロレンズ38の装置は焦点づけること により入射非偏光光14を複数の同等な光ビームに変換する。これらのビームは 非偏光光ビームを、少なくとも1つのコレステリック液晶の層を含む偏光透過反 射光ビームに分離する手段39に到達する。区画化された金属鏡37は、非偏光 光14を実際上シールドしない。何故ならば、その光反射エレメントの横寸法は マイクロレンズの横寸法よりずっと小さく(例えば、光反射エレメントの横寸法 は10mcmであり、マイクロレンズの横寸法は100〜200mcmである)選択さ れるからである。この理由のため、偏光手段39を透過した非偏光光ビームの光 エネルギの約半分が、例えば(透過光ビームの円偏光の方向が使用したコレステ リック液晶のスパイラルのサインの反対である)右円偏光を有する透過光ビーム 27のエネルギに変換される。非偏光光ビームの光エネルギの他の半分は、この 場合、(透過光ビームの円偏光の方向が使用したコレステリック液晶のスパイラ ルのサインに対し反対である)左円偏光を有する反射光ビーム40のエネルギに 、変換される。左円偏光を有し偏光手段39から反射され再度マイクロレンズ3 8の装置を透過した光ビーム40は、金属鏡37の光反射エレメント上の1点に 焦点づけられる(この目的のため、焦点距離または換言すればマイクロレンズ3 8の焦点パワーは適切に選択される)。金属鏡37から選択された光ビーム28 は、右光偏光、すなわち金属鏡37上に入射する光ビーム40の偏光と反対の偏 光を有する。このような偏光の変化は金属鏡の公知の特性により引き起こされる 。右偏光を有する光ビーム28は、何 等の変化なしにコレステリック液晶の層を透過する。したがって、偏光子の作用 の結果として、非偏光光14のエネルギは、同等に高度な直線偏光を有する出射 偏光ビーム27と28のエネルギに特に完全に変換される。 本発明によるより好ましい偏光子は、少なくとも1つのコレステリック液晶の 層が、コレステリックスパイラルピッチの傾斜で、厚さを横断し、結果として、 100nm以上の光選択反射バンドのスペクトル幅を有する。 図17は、1つのフィルムまたはプレート11の形式で実施され、フィルムま たはプレートの第1表面上に、区画化された金属鏡37が加えられた提案した偏 光子の断面を示す。区画化された金属鏡37の上流で、区画化された1/4波長 プレート25が、すなわち図17に示されるように区画化された金属鏡37の少 なくとも全表面を被って、加えられ、または非区画化部が、すなわち偏光子の第 1表面を全て被って、加えられる。フィルムの第2表面上に、順次、金属鏡37 の区画化された部分に光学的に整合されたマイクロレンズ38の装置、および非 偏光光ビームを、層の厚さを横断して一定な光軸の方向を有する少なくとも1つ の複屈折層を含む偏光透過反射光ビームに分離する手段42が加えられる。 提案した偏光子の作用を以下に説明する(明瞭化のため、図17において光線 の伝搬は、種々の層の境界における屈折を考慮せずに、1つのマイクロレンズに 対してにみ簡略化して示される)。非偏光光14はフィルムまたはプレート11 およびマイクロレンズ38を透過する。この装置は焦点づけることにより入射さ れる非偏光光14を複数の同等な光ビームに変換する。これらのビームは非偏光 光ビームを、層の厚さを横断して一定の光軸の方向を有する少なくとも1つの複 屈折層を含む偏光透過反射光ビームに分離する手段4 2に到達する。区画化された金属鏡37は非偏光光14を実際にはシールドしな い。何故ならば、その光反射エレメントの横寸法はマイクロレンズの横寸法より ずっと小さく(例えば、光反射エレメントの横寸法は10mnmであるのに対し マイクロレンズの横寸法は100〜200mnmである)選択されるからである 。この理由のため、偏光手段42を透過した非偏光光ビーム光エネルギの約半分 が、例えばパターンプレーンに垂直な直線偏光を有する透過光ビーム17のエネ ルギに変換される。非偏光光ビームの光エネルギの他の半分は、この場合、パタ ーン平面に平行な直線偏光を有する反射光ビーム3のエネルギに変換される。偏 光手段42から反射されマイクロレンズ38の装置を再度透過した光ビーム3は 、1/4波長プレート25を透過し、金属鏡37の光反射エレメント上の1点に 焦点づけられる(この目的のため、焦点距離、または換言すれば、マイクロレン ズ38の焦点パワーは適切に選択される)。1/4波長プレート25を透過し金 属鏡37から反射され、かつ1/4波長プレート25を再度透過した光ビーム1 3は、パターン平面に垂直、すなわち金属鏡37上に入射する光ビーム3の偏光 に垂直な直線偏光を有する。このような偏光の変化は、1/4波長プレートと金 属鏡の組合せの公知の特性により引き起こされる。パターン平面に垂直な直線偏 光を有する光ビーム13は、変化なく、層の厚さを横断して一定の光軸をもつよ うに複屈折層を透過する。したがって、偏光子の作用の結果として、非偏光光1 4のエネルギは同等な高度の直線偏光を有する(この場合、偏光はパターン平面 に対して垂直である)出射偏光ビーム17と13のエネルギに特に完全に変換さ れる。 図18は、例えば積層されたフィルムまたはプレート11と30が、その外部 表面上にフィルムまたはプレートがマイクロレンズ3 8の装置に加えられ、第1または第2フィルムまたはプレートの内部表面上に区 画化された金属鏡37が加えられ、第2フィルムまたはプレートの外部表面上に 、順次、金属鏡37の区画部とマイクロレンズの第1装置とが光学的に整合され たマイクロレンズ38の第2装置、および非偏光光ビームを少なくとも1つのコ レステリック液晶の層を含む偏光透過反射光ビームに分離する手段39が加えら れた、2つの形式で、実施された他の変形例の提案した偏光子の断面を示す。 提案した偏光子の作用を以下に説明する(明瞭化のため、図18において光線 の伝搬は簡略化して1つのマイクロレンズのみ示す)。非偏光光14は、マイク ロレンズ38の第1装置を透過し、この装置は入射する非偏光光14を複数の同 等な光ビーム41に変換し、金属鏡37の区画部で被われない第1フィルムまた はプレートの内部表面の場所にこれらを焦点づける。焦点を透過した後、ビーム 41はマイクロレンズの第2装置を透過し、非偏光光ビームを少なくとも1つの コレステリック液晶の層を含む偏光透過反射光ビームに分離する手段39に到達 する。偏光手段39を透過した非偏光光ビームの光エネルギの約半分は、例えば 右円偏光(透過光ビームの円偏光の方向が、使用したコレステリック液晶のスパ イラルのサインに反対である)を有する透過光ビーム27のエネルギに変換され る。非偏光光ビームの光エネルギの他の半分は、この場合、左円偏光を有する( 反射光ビームの円偏光の方向が使用したコレステリック液晶のスパイラルのサイ ンに一致する)反射光ビーム40のエネルギに変換される。偏光手段39から反 射されマイクロレンズ38の第2装置を再度透過した左円偏光光ビーム40は、 平行な光線を有する、すなわち無限に焦点づけられる(この目的のため、焦点距 離、または換言すればマイクロレンズ38の焦点パワーは適切に選 択される)。金属鏡37から反射された後、光ビーム40は、右偏光、すなわち 金属鏡37上に入射する光ビーム40の偏光と反対の偏光を有する光ビーム28 に変換される。このような偏光の変化は、金属鏡の公知の特性により引き起こさ れる。区画化された金属鏡37は、実際上完全にビーム40を反射する。すなわ ち、光エネルギの損失は発生しない。何故ならば、光反射エレメントのない位置 の横寸法が、マイクロレンズの横寸法よりずっと小さく選択されるからである( 例えば、このような位置の横寸法は10mcmであり、マイクロレンズの横寸法は 100〜200mcmである)。右円偏光と平行光線を有する光ビーム28は、偏 光および強度状態を変化させずマイクロレンズの第2装置およびコレステリック 液晶層を透過するが、これらはレンズの第2装置を透過するため、収束ビームに 変換される。したがって、偏光子の作用の結果として、非偏光光14のエネルギ は、同等な高度の円偏光を有する出射偏光ビーム27と28のエネルギに実際上 完全に変換される。 図19は、2つの形式で、例えば積層されたフィルムまたはプレート11と3 0で、実施された他の変形例による提案した偏光子の断面を示す。第1フィルム またはプレートの外部表面上に、マイクロレンズ38の第1装置が加えられ、例 えば第1プレートの内部表面上に区画化された金属鏡37が加えられ、その上に 、必要ならば全ての区画化された金属鏡37および可能ならば使用された応用技 術を簡略化するため、金属鏡37の区画部により被われない位置もまた被う1/ 4波長プレートが加えられる。第2フィルムまたはプレートの外部表面上に、順 次、金属鏡37の区画部とマイクロレンズの第1装置とが光学的に整合されたマ イクロレンズ38の第2装置および非偏光光ビームを非偏光光ビームを層の厚さ 方向を横断して一定の光軸方向を有する少なくとも1つの複屈折層を含む偏光透 過反射光ビームに分離する手段42が加えられる。 提案した偏光子の作用を以下に説明する(明瞭化のため、図19において、光 線の伝搬を簡略化して1つのマイクロレンズに対してのみ示す)。非偏光光14 はマイクロレンズ38の第1装置を透過する。この装置は、入射非偏光光14を 複数の同等な光ビーム41に変換し、金属鏡37の区画部で被われない第1フィ ルムの内部表面の位置上にこれらを焦点づける。焦点を透過した後、ビーム41 はマイクロレンズの第2装置を透過し、非偏光光ビームを、層の厚さを横断して 一定の光軸方向を有する少なくとも1つの複屈折層を含む偏光透過反射光ビーム に分離する手段42に到達する。偏光手段42を透過した非偏光光ビームの光エ ネルギの約半分が、例えばパターン平面に垂直な直線偏光を有する透過光ビーム 17のエネルギに変換される。非偏光光ビームの光エネルギの他の半分は、この 場合、パターン平面に平行な直線偏光を有する反射光ビーム3のエネルギに変換 される。1/4波長プレート25を透過し、金属鏡37から反射され、再び1/ 4波長プレート25を透過した光ビーム13は、パターン平面に垂直な直線偏光 、すなわち金属鏡37上へ入射する光ビーム3の偏光に垂直な偏光を有する。こ のような偏光の変化は、1/4波長プレートと金属鏡の組合せに関する公知の光 学的特性により引き起こされる。区画化された金属鏡は実際上完全にビーム3を 反射する。すなわち、光エネルギの損失は発生しない。何故ならば、光反射エレ メントのない位置での横寸法はマイクロレンズの横寸法よりずっと小さく選択さ れるからである(例えば、このような位置の横寸法は10mcmであり、マイクロ レンズの横寸法は100〜200mcである)。パターン平面に垂直な直線偏光を 有する光ビーム13は、偏光および強度状態の変化なしで、層の厚さ方向を横断 して一定な光軸方向をもつように複屈折層を透過する が、これらはレンズの第2装置を透過するため収束ビームに変換される。したが って、偏光子14の作用の結果として、非偏光光14のエネルギは、高度の同等 な直線偏光(この場合偏光はパターン平面に対し垂直である)を有する出射偏光 ビーム17と13のエネルギに実際上完全に変換される。 図20は、例えば、積層されたフィルム又はプレート11及び30による2つ の形式でインプリメントされた偏光子の提案バージョンの断面図を概略的に示す 。このフィルム又はプレートの外側表面上には、微小プリズムシステム43が提 供され、第1又は第2のフィルム又はプレートの内部表面には、微小プリズムシ ステム43と光学的に整列された区切られた金属鏡37が提供される。第2のフ ィルム又はプレートの外側表面上には、非偏光光ビームを、偏光された透過及び 反射光ビームに分割する偏光手段39が提供され、コレステリック液晶の少なく とも1層を含む。 提案の偏光子の動作を以下に説明する(明確にするために、図20において、 光線の経路を単純な方法で示す)。非偏光光14は微小プリズムシステム43を 経由し、このシステムは入射された非偏光光14を複数の同等な平行光線である 光ビーム41に変換する。ビーム41は、微小ブリズムシステム43の左右の傾 斜によりフィルム平面に垂直から、各々左右とも等しい角度に偏向され(このバ ージョンでは微小プリズムの材質の屈折率がフィルムの材質の屈折率よりも大き いように選択される)、金属鏡37の光反射要素によって占有されない区切られ た金属鏡37の位置を通過する。そして、非偏光ビームは、非偏光光ビームを、 偏光された透過及び反射光ビームに分割する偏光手段39に至り、この偏光手段 39はコレステリック液晶の少なくとも1層を含む。偏光手段39を通過した非 偏光光ビーム41の光エネルギーのおおよそ半分が、例えば、右円 偏光(透過光ビームの円偏光の方向が、使用されたコレステリック液晶のスパイ ラル符号と反対である)を有する透過光ビーム27のエネルギーに変換される。 非偏光光ビーム41の他の半分の光エネルギーは、この場合、左円偏光(反射光 ビームの円偏光の方向が、使用されたコレステリック液晶のスパイラル符号と一 致する)とともに、反射された光ビーム40のエネルギーに変換される。金属鏡 37から反射された後の光ビーム40は右円偏光を有する光ビーム28、即ち、 金属鏡37に入射する光ビーム40の偏光とは反対の偏光、に変換される。この ような偏光の変化は、金属鏡37における周知の光学的性質に起因する。区切ら れた金属鏡37は実際には完全にビーム40を反射し、光反射要素の横断的な寸 法がビーム40の横断的な寸法に等しいか又は僅かに超えるように選択されるの で、光エネルギーの損失は起こらない.っ右円偏光を有する光ビーム28は、偏 光状態及び強度の変化なしに、コレステリック液晶の層を通過する。従って、偏 光子の動作の結果として、非偏光光14のエネルギーは、実際には完全に、同等 で高位の円偏光を有する出射偏光ビーム27及び28のエネルギーに変換される 。 第1のフィルムの外側表面に適用された微小プリズムシステム43は、フィル ムに対して外側の方向の頂点に面することができる。微小プリズムは三角形状と は異なる形状を有することができる。 図21は、例えば、積層されたフィルム又はプレート11及び30による2つ の形式でインプリメントされた偏光子の提案バージョンの断面図を概略的に示す 。第1のフィルム又はプレートの外側表面上には、微小プリズムシステム43が 提供され、第1のフィルム又はプレートの内部表面上には、微小プリズムシステ ム43と1/4波長板25とに光学的に整列された金属鏡37が一連に提供され 、1/4波長板25は、必要に応じて、金属鏡37の全ての区切り をカバーし、出来るかぎり適用技術を簡素化するために、金属鏡37の区切りに よりカバーされない位置をカバーする。第2のフィルムの外側表面上には、非偏 光光ビームを、偏光された透過及び反射光ビームに分割する偏光手段42があり 、層の厚みをまたがって光学軸の方向で一定である少なくとも1つの複屈折層を 含む。 提案の偏光子の動作を以下に説明する(明確にするために、図21において、 光線の経路を単純な方法で示す)。非偏光光14は微小プリズムシステム43を 経由し、このシステムは入射された非偏光光14を複数の同等な平行光線である 光ビーム41に変換する。ビーム41は、微小プリズム43の左右の傾斜により フィルム平面に垂直から、各々左右とも等しい角度に偏向され、金属鏡37の光 反射要素によって占有されない区切られた金属鏡37の位置を通過する。そして 、非偏光ビームは、非偏光光ビームを、偏光された透過及び反射光ビームに分割 する偏光手段42に至り、この偏光手段42は、層の厚みをまたがって光学軸の 方向にて一定である少なくとも1つの複屈折層を含む。偏光手段42を透過した 非偏光光ビーム41の光エネルギーのおおよそ半分が、例えば、パターン面に垂 直な直線偏光を有する通過光ビーム17のエネルギーに変換される。非偏光光ビ ーム41の他の半分の光エネルギーは、この場合、パターン面に平行な直線偏光 を有する反射光ビーム3のエネルギーに変換される。1/4偏光板25を通過し 、金属鏡37で反射され、再度、1/4波長板25を通過した光ビーム13は、 パターン面に垂直な直線偏光、即ち、金属鏡37に入射するビーム3の偏光に直 交する偏光を有する。このような偏光の変化は、1/4波長板と金属鏡の組み合 わせによる周知の光学的性質に起因する。区切られた金属鏡37は実際には完全 にビーム3を反射し、光反射要素の横断的な寸法がビーム3の横断的な寸法に等 しいか又は僅かに超えるよ うに選択されるので、光エネルギーの損失は起こらない。パターン面に垂直な直 線偏光を有する光ビーム3は、偏光状態及び強度の変化なしに、偏光手段42を 通過する。 従って、偏光子の動作の結果として、非偏光光14のエネルギーは、実際には 完全に、同等で高位の直線偏光を有する出射偏光ビーム17及び13のエネルギ ーに変換される。 提案した偏光子の特定の実施形態についての他の可能なバージョンは、上述し た例で限定されない。 最も典型的な形態におけるクレームされたLCIの例 図22に示すLC指示器は、ガラス、プラスチック、又は他の硬い又は可撓性 の透明材料にて製作された2つのプレート44及び45からなる。ネマチック液 晶層52に面したこれらのプレートの内面には、透明電極46及び47が提供さ れる。透明電極上には、表面の輪郭を滑らかにしプレートの全体表面の均一特性 を提供するための高分子又は他の材料からなる絶縁フィルム48又は49が提供 される。偏光被覆50及び51がこれらのフィルム上に提供され、プレート44 及び45上の透過軸に対して互いに垂直に配向される。偏光被覆それ自身はこの ネマチック液晶分子の配向されている。 図23は、透過型LC指示器の他のバージョンであり、プレート44及び45 の表面には、最初に、フィルム48及び49により保護された偏光被覆50及び 51が提供され、そして透明電極46及び47が配置される。電極上には、LC ネマチックを配向するフィルム53及び54が提供される。本設計において、偏 光被覆と液相層からの絶縁のために必要な表面の平滑化が提供され、そして偏光 被覆に含まれる他の表面のイオン及び分子がこの被覆に到達しないように環境を 確保する。 LC指示器(図24)の反射バージョンにおいて、第2のプレー トは、例えば結晶シリコンのような透明及び不透明な両方の材質からなる。この 第2のプレートには、光反射層55が形成される。反射層は、ポリマーの屈折率 以外の屈折率を有する不特定な又は所定形状の粒子を備えたポリマーフィルムの アルミニウム鏡への適用により得られ、そして光を良好に反射するアルミニウム 粉又は他の材料のサスペンションを備えたポリマーフィルムへの適用により得ら れ、又は表面輪郭反射層55、例えば、アルミニウムフィルムが後に適用される プレート表面上の表面輪郭を作成することにより得られる。表面輪郭は、研磨材 による表面処理により形成され、刻み込み、刻印、所定の形状と寸法の粒子を含 むポリマーフィルムにより形成され、又はプレートそれ自身の表面、ポリマーフ ィルムの表面、又は他の適用可能な材料の表面のマスクを介した選択的なエッチ ングにより、形成される。アルミニウムフィルムは連続的な電極として提供され る。エッチングにより、フォトリソグラフィ技術をを使用して、予め決められた 輪郭10〜100mcmの幅によるアルミニウムの狭い条片で所定の形態の電極 が、例えば、平面表示マトリクススクリーンのための方形なマトリクスにより得 られ、それにより、指示器の全体の動作分野における反射背景を保持する。偏光 被覆は、反射被覆上に直接的に適用されるか、又は反射器上に形成される平滑及 び絶縁サブ層上に適用される。 如何なる理由によっても、反射層は電極としては使用されず、又は非導電材料 で作られたとしても、この場合、電極は絶縁サブ層又は直接的に反射器上に提供 される。ポリマーフィルム、酸化アルミニウム、酸化シリコン又は他の誘電材料 が、絶縁層として利用できる。この場合に、偏光被覆は反射器及び電極の両方に 適用される。 強くツイストされたネマチック52を有する透過型バージョンのLC指示器に おける色補償のために、さらに予め決められた光学的 厚みを有し、第2のプレート(図25)に配置された所定の異方性層1が使用さ れる。この層1は偏光被覆51上、又はその上に提供される層49,47又は5 4(図23)上に直接に配置される。光学的な異方性層は、ポリマーフィルム、 又はLCポリマーの適用により形成され、分子は電磁力の作用、又はこの層が適 用されとき又は適用後の機械的な張力、の下で予め決められた方向に配向される 。さらに、異方性フィルムを可能とし、偏光光によりフィルム材料のフォト重合 により光学的経路と複屈折長円形の軸方向において特定の差異を有する(特許第 2,013,794(1994))、フォト―異方性材料を使用することができ る。 スーパーツイストネマチックを持ったLC指示器の反射バージョンにおいて、 偏光子の間のプレート上の両方に配置された2つの付加的な光学的層が必要とさ れる。これらは直接的に偏光被覆に、又はそこに提供された層に適用される。 色合いへの適用として、フォトリソグラフィ又は印刷技術を使用し、種々の色 合いを使用して、種々の色の範囲を有する偏光層が得られ、利点として情報及び 人間工学的な可能性を持った指示器に拡張される。 本発明によれば、LCセルは光切り換え特性を提供することができ、偏光被覆 の1つには、自然な灰色が提供され、他方の上には、直接、又はこれらを分離す る非吸収層11を経て、2つの偏光被覆51及び56(図26)が適用される。 これにより、偏光被覆51又は56は種々の色を有し、これらの偏光軸は互いに 垂直となる。 セルの内側における偏光素子の配置は、さらにマトリクスLC指示器(図27 )の色バージョンを実現することができる。バージョンの1つにおいて、偏光被 覆は、透明電極47、又はイオンサブ層49のマトリクス上に配置された色マト リクス57に直接適用され る。 色マトリクス又はパターンは、型紙印刷技術又は他の印刷方法を使用した適切 な色合いによるポリマー層の選択的な色付けとともに、フォトレジストマスクを 介してスパッタリングにより製作される。偏光子及び互いに関連する色マトリク スの配置は、本発明において基本的に重要なことではなく、層の適用の技術的な 要因により決定される。 セルの内側に配置された偏光素子を有するLC指示器の動作の原理は、90° ネマチック(図22)によりツイストされた透過型バージョンのLC指示器の例 により論じられる。非偏光光の流れは、第1のプレート側からの指示器上に入射 される。基板44、透明電極46及び平滑サブ層48を通過した光は、偏光被覆 50を経て偏光される。もし、電極に電圧が印加されていないときは、この光は 液晶層52を通過し、それによりその偏光板が90°回転し、減衰もなく第2の 偏光層、サブ層49、透明電極47及びプレート45を経て通過する。これによ り、電極の範囲が明るく見える。電圧が電極に与えられると、電界の作用の下で 、ネマチックツイスト形態は、ネマチック光学軸がプレート44及び45の面に 垂直に配向されるホームオトロピック(homeotropic)形態に移行し、そこを透過 する光の偏光面の回転を停止する。光がネマチック層を通過すると、光偏光方向 の偏光子50により決定される方向は変化せず、ネマチック52の外側において 、第2の偏光子51の偏光方向に垂直となる。光が偏光子51を通過すると、光 は吸収され、この範囲は暗く見える。電極のない範囲の指示器では、ネマチック のツイスト形態は常に保持され、これらの範囲は常に明るく見える。 光が反射されると、平面的に偏光された光の方向は変化せず、指示器の反射形 式では、動作原理は上述と同じである。唯一の相違は 光が基板45を通過せず、全ての素子を2度通過することである。 スーパーツイストネマチック(図25)に基づいたLC指示器の場合には、第 1の偏光子50により平面的に偏光された光は、スーパーネマチックを通過し、 長円形に偏光した偏光子に変換される。これにより、光は波長の光学的な差異に 依存した所定の色を得る。光学的な異方性層は、セルの出力にてそのセルが色付 けされないように、又はその逆に、セルを通過する光の色を補償し、互いの関係 において、偏光被覆軸の初期配向、及び異方性層及びその厚みによって、必要な 色付けの製作を可能にする。電圧が電極要素に適用されると、液晶はツイスト状 態から一軸状態に変換され、光偏光面の回転が停止される。この理由により、光 は偏光面方向の変化なしにそこを通過する。異方性層を通過すると、光は円形又 は長円形の偏光を得て、第2の偏光層を離れた後、光はターンオフ状態の色合い に付加された色合いとなる。 光スイッチの動作を図26により説明する。偏光層50を通過した後、ターン オフモードの光は、90°の偏光面回転を持つネマチックを通過し、その軸が第 1の偏光被覆50の軸に垂直に配向された偏光層56を通過し、その偏光軸の方 向が層56の軸に垂直である2色性の偏光子51の第2の層により吸収される。 セルがターンオンすると、LCを通過した光通過面方向は変化せず、光は2色性 の偏光子56で吸収され、他の色で色付けされる。 マトリクス色LCI素子の場合では、素子がターンオフされると、光は偏光子 50、LC及び第2の自然偏光子51を通過し、色合い57により選択的に吸収 される。これにより素子は適切な色に色付けされると見られる。素子がターンオ ンすると、光は偏光子50により偏光され、偏光面の回転なしに、LC層を通過 し、偏光子51により阻止される。その結果、この素子は暗くなる。 図22〜図27に示されるLC指示器の設計の何れか1つに使用される少なく とも1つの偏光被覆は、干渉形の偏光子の形態でインプリメントされる。 透明プレート44及び45(図22,図23,図25〜図27)の外側表面上 において偏光子の配置を提供する半透明LC指示器の設計では、偏光された入射 光の50%以上を1つの直線偏光光に変換するための少なくも1つの偏光子が使 用が可能である。 従って、偏光光波長の増大として展開する少なくとも1つの屈折率を有し、少 なくとも1つの複屈折異方性吸収層を備えた高効率偏光子の使用は、色及び単色 LC素子の両方の製造を可能とし、その素子の形態は、上述したバージョンによ って限定されず、高輝度と、色の飽和と、良好な角度特性と、影の不在とにより 差別化される。 発明の適用分野 クレームされた偏光子は、照明器具や、光学的変調器や、証券や商標の保護の ための光変調のマトリクスシステムに使用可能であり、自動車工業用や、建築業 や、建造物や、広告、等のための積層フィルムやガラスを含む偏光フィルムやガ ラスの製造において、また、サングラスやシールドのような消費財の製造に対し て、使用可能である。 クレームされた液晶指示素子は、種々の目的の指示器の技術手段、例えば、投 射型を含む平面液晶表示においても使用可能である。 リスト 1…複屈折層 2,29…パターン平面で直線偏光された入射光成分 3,4,12…パターン平面で直線偏光された反射光成分 5…パターン平面に垂直に直線偏光された入射光成分 6,7…パターン平面に垂直に直線偏光された反射光成分 8,9,10…光の波長に対する屈折率のグラフ 11,30,31,32…等方性の層 14,41…非偏光光線(入射または透過) 15…複屈折材料のレンズ 16,33…複屈折層の光軸の従来の指定 17,13,20,36…パターン平面に垂直に直線偏光された透過光成分 18,23,22…パターン平面で直線偏光された透過光成分 19,21…二分の一波長位相遅延板の断面 24…振幅ゾーンプレート 25,26…四分の一波長位相遅延板の断面 28,28…円偏光された透過光 34,35…位相ゾーンプレートの誘電層の表面プロファイルの境界 37…金属鏡 38…等方性材料のレンズ 39…コレステリック液晶の層 40…円偏光反射光 42…非偏光を透過成分と直線偏光成分とに分割する偏光手段(1層または多層手 段) 43…微小プリズム 44,45…液晶セルの壁(基体) 46,47…液晶セルの電極 48,49…LCIの絶縁フィルム 50,51,56…液晶セルの2色性偏光子 52…液晶セルのネマチック液晶の層 53,54…液晶セルの配向層 55…液晶セルの反射層 57…LCIの色マトリクス
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (31)優先権主張番号 98103709 (32)優先日 平成10年2月24日(1998.2.24) (33)優先権主張国 ロシア(RU) (31)優先権主張番号 98103710 (32)優先日 平成10年2月24日(1998.2.24) (33)優先権主張国 ロシア(RU) (31)優先権主張番号 98103736 (32)優先日 平成10年2月24日(1998.2.24) (33)優先権主張国 ロシア(RU) (31)優先権主張番号 98103743 (32)優先日 平成10年2月24日(1998.2.24) (33)優先権主張国 ロシア(RU) (31)優先権主張番号 98104867 (32)優先日 平成10年3月2日(1998.3.2) (33)優先権主張国 ロシア(RU) (31)優先権主張番号 98104984 (32)優先日 平成10年3月16日(1998.3.16) (33)優先権主張国 ロシア(RU) (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),CN,JP,K R,US (72)発明者 ミロチン,アレキサンドル アレキサンド ロビチ ロシア連邦,125502 モスコー,ウリツァ ペトロザボドスカヤ,デー 17,コルプ ス 2,クバルチーラ 152 (72)発明者 ベルヤエフ,セルゲイ バシリエビチ ロシア連邦,141700 モスコフスカヤ オ ブラスト,ゲー.ドルゴプルドニー,プロ スペクト パツェーバ,デー.14 クバル チーラ 77 (72)発明者 ハーン,イール グボン ロシア連邦,141700 モスコフスカヤ オ ブラスト,ゲー.ドルゴプルドニー,プロ スペクト パツェーバ,デー.14 クバル チーラ 26 (72)発明者 カールポフ,イゴール ニコラエビチ ロシア連邦,125422 モスコー,ドミトロ フスキイ プロスペクト,デー.4,グバ ルチーラ 120 (72)発明者 マリモネンコ,ニコライ ウラジミロビチ ロシア連邦,141730 モスコフスカヤ,オ ブラスト,ゲー.ローブニヤ,ウリツァ レニーナ,デー.6/3,グバルチーラ 18 (72)発明者 シシュキーナ,エレナ ユリエフナ ロシア連邦,127412 モスコー,ウリツァ アンガルスカヤ,デー.57,コルプス 2,クバルチーラ 94 (72)発明者 ボロツォフ,ゲオルギー ニコラエビチ ロシア連邦,107078 モスコー,ウリツァ サドボ―スパスカヤ,デー.21,クバル チーラ 268

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.少なくとも1つの複屈折層を含む偏光子であって、 前記少なくとも1つの複屈折層は、異方性の吸収層であり、且つ偏光された光 の波長が増加するにしたがって大きくなる少なくとも1つの屈折率を有すること を特徴とする偏光子。 2.前記少なくとも1つの複屈折異方性吸収層は、偏光された光の波長に直接 比例した少なくとも1つの屈折率を有することを特徴とする請求項1に記載の偏 光子。 3.前記少なくとも1つの複屈折異方性吸収層は、前記偏光子の出力の極値に おける干渉が少なくとも1つの直線偏光成分のために実現されるような厚さを有 することを特徴とする請求項1に記載の偏光子。 4.前記少なくとも1つの複屈折異方性吸収層の厚さは、前記偏光子の出力に おいて、1つの直線偏光成分の干渉の極小値及び他の直交する直線偏光成分の干 渉の極大値を得られるような条件を満足することを特徴とする請求項3に記載の 偏光子。 5.更に、前記複屈折層の屈折率に一致又は最大限近似した屈折率を有する少 なくとも1つの等方性層を有することを特徴とする請求項1に記載の偏光子。 6.更に、少なくとも1つの複屈折層を有し、その層の1つの屈折率は前記複 屈折異方性吸収層の屈折率に一致又は最大限近似したものであって、複屈折層の 第2の屈折率と前記複屈折異方性吸収層の屈折率は互いに異なることを特徴とす る請求項1に記載の偏光子。 7.前記少なくとも1つの複屈折異方性吸収層は、色及び/又は偏光軸方向に 関してお互いに異なっている少なくとも2つの明示さ れない形状の断片を有することを特徴とする請求項1に記載の偏光子。 8.更に、色及び/又は偏光軸方向に関してお互いに異なっている少なくとも 2つの明示されない形状の断片を有する少なくとも1つの複屈折異方性吸収層を 有することを特徴とする請求項7に記載の偏光子。 9.2つの複屈折異方性吸収層の間において、前記偏光子は更に、透明、無色 、又は着色材料の層を有することを特徴とする請求項8に記載の偏光子。 10.更に、非有機的な材料及び/又はポリマー材料以外の材料から構成され る配光層を有することを特徴とする請求項1に記載の偏光子。 11.更に、光反射層を有することを特徴とする請求項1に記載の偏光子。 12.前記光反射層は、金属性であることを特徴とする請求項11に記載の偏 光子。 13.前記複屈折異方性吸収層は、物質の表面に形成されていることを特徴と する請求項1に記載の偏光子。 14.物質としての前記偏光子は、複屈折プレート又はフィルムを有し、前記 複屈折異方性吸収層は前記プレート又はフィルムの主光軸に対して45度の角度 に形成されていることを特徴とする請求項13に記載の偏光子。 15.・前記偏光子に入射される光から構成される複数の非偏光ビームを、同 じ複数の、異なって偏光された光ビームの同一の一対に分割するための偏光手段 、及び ・前記複数の異なって偏光された光ビームの一対から構成される少なくとも1 つの複数の同一に偏光された光ビームの偏光を変化さ せる手段とを有する偏光子であって、 前記偏光手段は、光学的に偏光変化手段に対して位置決めされる結像光学素子 の形状を実現するものであり、及び少なくとも1つの光学的等方性層に隣接した 少なくとも1つの複屈折層から構成され、 前記少なくとも1つの複屈折層は、異方性の吸収層であり、且つ偏光された光 の波長が増加するにしたがって大きくなる少なくとも1つの屈折率を有すること を特徴とする偏光子。 16.前記少なくとも1つの複屈折異方性吸収層は、容積又は位相レンズの一 組の形状を実現することを特徴とする請求項15に記載の偏光子。 17.前記結像光学素子は、ゾーンプレートの形状を実現することを特徴とす る請求項15に記載の偏光子。 18.前記ゾーンプレートは、振幅ゾーンプレート、少なくとも1つの光学的 等方性層に隣接する少なくとも1つの複屈折異方性吸収層から構成される偶数ゾ ーン、光学的等方性材料から形成される奇数ゾーンの形状を実現することを特徴 とする請求項17に記載の偏光子。 19.前記ゾーンプレートは、位相ゾーンプレートの形状を実現しており、前 記位相ゾーンプレートの屈折率の少なくとも1つが、単調でない方法を含む特定 の規則にしたがって少なくとも1つの方向に沿って変化することを特徴とする請 求項17に記載の偏光子。 20.前記偏光変化手段は、偏光された光の波長が増加するにしたがって大き くなる少なくとも1つの屈折率を有する区分された半透明な複屈折異方性吸収層 から構成される請求項15に記載の偏光子。 21.前記偏光変化手段は、区分された半透明な2分の1波複屈 折プレート、又は前記結像光学素子の焦点内に又は焦点の外に配置された区域を 有する層の形状を実現することを特徴とする請求項15〜20の何れか1項に記 載の偏光子。 22.前記偏光変化手段は、前記結像光学素子の焦点の外に配置された4分の 1波の形状の区域、及び通常光と非通常光との位相差を決定するプレートの形状 の区域を有する区分された半透明な複屈折プレートの形状を実現し、前記位相差 は結像光学素子の焦点内に配置された4分の1波プレートの形状の前記区域によ って決定される位相差からのπだけ異なるものであることを特徴とする請求項1 5〜20の何れか1項に記載の偏光子。 23.前記偏光変化手段は、前記結像光学素子の焦点内又は焦点外に配置され た区域で、前記層の厚さ中において液晶の光軸が90度回転するようなツイスト 構成を有する液晶の区分された半透明な複屈折2次元プレートの形状を実現する ことを特徴とする請求項15〜20の何れか1項に記載の偏光子。 24.前記偏光変化手段は、無色で区分された半透明な複屈折プレートの形状 を実現することを特徴とする請求項15〜20の何れか1項に記載の偏光子。 25.入力された非偏光を複数の同一な光ビームに変換する手段、 非偏光ビームを、異なった偏光を有する偏光された透過及び反射光ビームに分 割する偏光手段、及び 前記偏光手段から反射された光ビームの偏光及び方向を変化させる手段とを含 む偏光子であって、 前記偏光子は、前記手段が貼られるような少なくとも1つのフィルムプレート の形状を実現し、 前記偏光手段は、偏光された光の波長が増加するにしたがって大 きくなる少なくとも1つの屈折率を有する少なくとも1つの複屈折異方性吸収層 、又は層の厚さに渡って一定の方向の光軸を有する複屈折層、又は一定の規則に 従い層の厚さに渡って変化する光軸を有する複屈折層を有することを特徴とする 偏光子。 26.前記反射光ビームの偏光及び方向を変化させる手段は、区分された金属 鏡を有することを特徴とする請求項25に記載の偏光子。 27.前記偏光手段は、少なくとも1つの複屈折異方性吸収層又は層の厚さに 渡って一定の方向の光軸を有する複屈折層を有し、及び前記区分された金属鏡の 上流に4分の1波プレートを有することを特徴とする請求項25又は26に記載 の偏光子。 28.少なくとも1つのコレステリックな液晶の層を、一定の規則に従い層の 厚さに渡って変化する光軸を有する少なくとも1つの複屈折層として有すること を特徴とする請求項25又は26に記載の偏光子。 29.前記少なくとも1つのコレステリックな液晶の層は、ポリマーコレステ リック液晶から作られることを特徴とする請求項28に記載の偏光子。 30.前記少なくとも1つのコレステリックな液晶の層は、層の厚さに渡って 、コレステリックなスパイラスピッチの勾配を有しており、結果として100n m以上の帯域で選択的に反射された光のスペクトル幅を有することを特徴とする 請求項28に記載の偏光子。 31.3つの異なったスペクトル範囲で光を選択的に反射する帯域を有する少 なくとも3つのコレステリックな液晶の層を有することを特徴とする請求項28 に記載の偏光子。 32.前記入力された非偏光を変換する手段は、そこから出力さ れる光ビームを偏光子の内側の方向に向かってフォーカスする微小レンズ又は微 小プリズムシステムの形状を実現することを特徴とする請求項25又は26に記 載の偏光子。 33.前記微小レンズシステムは、偏光子の表面を完全に覆う正のシリンドリ カル微小レンズの形状を実現することを特徴とする請求項32に記載の偏光子。 34.フィルム又はプレートの第1の表面上で、微小レンズシステム及び前記 微小レンズシステムに対して光学的に位置決めされた区分された金属鏡を有し、 フィルム又はプレートの第2の表面上で、少なくとも1つのコレステリックな 液晶の層を有することを特徴とする請求項26に記載の偏光子。 35.フィルム又はプレートの第1の表面上で、微小レンズシステム、前記微 小レンズシステムに対して光学的に位置決めされた区分された金属鏡、及び4分 の1波長プレートを有し、 第2の表面上で、少なくとも1つの複屈折異方性吸収層又は一定の規則に従い 層の厚さに渡って変化する光軸を有する少なくとも1つの複屈折層を有すること を特徴とする請求項26に記載の偏光子。 36.フィルム又はプレートの第1の表面上で、区分された金属鏡を有し、 フィルム又はプレートの第2の表面上に連続的に貼られる、前記金属鏡の区分 に対して光学的に位置決めされた微小レンズシステム、及び少なくとも1つのコ レステリックな液晶の層を有することを特徴とする請求項26に記載の偏光子。 37.フイルム又はプレートの第1の表面上で、区分された金属鏡及び4分の 1波プレートを有し、 フィルム又はプレートの第2の表面上に連続的に貼られる、前記金属鏡の区分 に対して光学的に位置決めされた微小レンズシステム、及び少なくとも1つの複 屈折異方性吸収層又は一定の規則に従い層の厚さに渡って変化する光軸を有する 複屈折層を有することを特徴とする請求項26に記載の偏光子。 38.第1の微小レンズシステムに貼られる第1のフィルム又はプレートの外 側表面上に、区分された金属鏡に貼られる第1又は第2のフィルム又はプレート の内側表面上に、及び前記金属鏡の区域及び前記第1の微小レンズシステムに対 して光学的に位置決めされる第2の微小レンズシステムに追加的に貼られる第2 のフィルム又はプレートの外側表面上に、少なくとも2つの被覆されたフィルム 又はプレートを有し、及び 少なくとも1つのコレステリックな液晶の層を有することを特徴とする請求項 26に記載の偏光子。 39.第1の微小レンズシステムに貼られる第1のフィルム又はプレートの外 側表面上に、区分された金属鏡及び4分の1波プレートに貼られる第1又は第2 のフィルム又はプレートの内側表面上に、前記金属鏡の区域及び前記第1の微小 レンズシステムに対して光学的に位置決めされる第2の微小レンズシステムに追 加的に貼られる第2のフィルム又はプレートの外側表面上に、少なくとも2つの 被覆されたフィルム又はプレートを有し、及び 少なくとも1つの複屈折異方性吸収層又は一定の規則に従い層の厚さに渡って 変化する光軸を有する複屈折層を有することを特徴とする請求項26に記載の偏 光子。 40.微小レンズシステムに貼られる第1のフィルム又はプレートの外側表面 上に、前記微小レンズシステムに対して光学的に位置決めされる区分された金属 鏡に貼られる第1又は第2のフィルム又 はプレートの内側表面上に、コレステリックな液晶の層の1つの層に貼られる第 2のフィルム又はプレートの外側表面上に、少なくとも2つの被覆されたフィル ム又はプレートを有することを特徴とする請求項26に記載の偏光子。 41.微小レンズシステムに貼られる第1のフィルム又はプレートの外側表面 上に、前記微小レンズシステムに対して光学的に位置決めされる区分された金属 鏡及び4分の1波プレートに連続的に貼られる第1又は第2のフィルム又はプレ ートの内側表面上に、少なくとも1つの複屈折異方性吸収層又は一定の規則に従 い層の厚さに渡って変化する光軸を有する複屈折層に貼られる第2のフィルム又 はプレートの外側表面上に、少なくとも2つの被覆されたフィルム又はプレート を有することを特徴とする請求項26に記載の偏光子。 42.前記少なくとも1つの複屈折異方性吸収層は、偏光された光の波長に直 接比例する少なくとも1つの屈折率を有することを特徴とする請求項15〜20 、25、35、37、39又は41の何れか1項に記載の偏光子。 43.前記少なくとも1つの複屈折異方性吸収層は、少なくとも1つの直線偏 光成分に対して前記偏光子の出力における干渉の極値を実現するような厚さを有 することを特徴とする請求項15〜20、25、35、37、39又は41の何 れか1項に記載の偏光子。 44.前記少なくとも1つの複屈折異方性吸収層の厚さは、前記偏光子の出力 において、1つの直線偏光成分の干渉の極小値及び他の直交する直線偏光成分の 干渉の極大値を得られるような条件を満足するものであることを特徴とする請求 項43に記載の偏光子。 45.前記偏光手段は、少なくとも2つの層を有し、そのうちの1つは複屈折 異方性吸収層であり、他方は前記複屈折層の屈折率と 等しい又は最大限に近似した屈折率を有する光学的等方性層であることを特徴と する請求項15〜20、25、35、37、39又は41の何れか1項に記載の 偏光子。 46.前記偏光手段は、少なくとも2つ複屈折の層を有し、そのうちの1つは 異方性吸収層であり、その層の屈折率は前記複屈折層の屈折率と等しい又は最大 限に近似したものであって、複屈折層の第2の屈折率と複屈折異方性吸収層の屈 折率は互いに異なることを特徴とする請求項15〜20、25、35、37、3 9又は41の何れか1項に記載の偏光子。 47.少なくとも1つの複屈折性異方性吸収層が、 ・下記一般式: {色原体}−(XO-M+n 〔式中、色原体は染料発色団系であり;X=CO,SO2,OSO2,OPO(O-M+):M=RR'NH2 ;RR'R''NH;RR'R''R^N;RR'R''^P,when R,R',R'',R^=CH3,ClC2H4,C2H5 ,C3H7,C4H9,C6H5CH2、置換されたフェニル又はヘテルアリール;YH-(CH2-CH2 Y)m-CH2CH2,Y-O,又はNH,m=0.5、N−アルキルピリジニウム カチオン、N −アルキルキノリニウム カチオン、N−アルキルイミダゾリウム カチオン、 N−アルキルチアゾリニウム カチオン、等;n=1−7〕で表わされる二色性 アニオン性染料の少なくとも1つの有機塩; ・下記一般式: (M1 +,O-X'-)m〔M1 +O-X'-(CH2)p-Z-〕g{色原体}〔-Z-(CH2)p-XO-M+n(- XO-M+m 〔式中、色原体は、染料発色団系であり;Z=SO2NH,SO2,CONH,CO,O,S,NH, CH2;p=1-10;f=0-9,g=0-9,n=0-9,m=0-9,n+f=1-10;m+g=1-10;X,X'=CO,S O2,OSO2,PO(O-M+);M≠M1M,M1=H;次のタイプの非有機カチオン:NH4,Li ,Na,K,Cs,Mg, Ca,Ba,Fe,Ni,Co2;次のタイプの有機カチオン:RHN3,RR'NH2,RR'R''NH;R R'R''R*N;RR'R''R*P,ここでR,R',R'',R*=alkyl又は次のタイプの置換され たアルキル:CH3ClC2H4,HOC2H4,C2H3,C3H7,C4H9,C6H5CH2、置換されたフェ ニル又はヘテロアリール、YH-(CH2-CH2Y)k-CH2CH2-,Y=0,or NH,k=0-10;次の タイプの複素芳香族カチオン:N−アルキルピリジニウム、N−アルキルキノリ ニウム、N−アルキルイミダゾリニウム、N−アルキルチアゾリニウム、等〕で 表わされる異なったカチオンと二色性アニオン性染料との少なくとも1つの混合 された不斉性塩; ・下記一般式: (M+O-X'-)m〔M+O-X'-(CH2)p-Z-〕g{色原体}〔-Z-(CH2)p-XO-SUR〕f(XO-SU R)m 〔式中、色原体は染料発色団系であり;Z-SO2NH,SO2,CONH,CO,O,S,NH,CH2 ;p=1-10;f=0-4;g=0-9;n=0-4,m=0-9,n+f=1-4;m+g=0-10;X,X'=CO,SO2 ,OSO2,PO(O-M+);M=H;次のタイプの非有機カチオン:NH4,Li,Na,K,Cs,M g,Ca,Ba,Fe,Ni,Co、等;次のタイプの有機カチオン:RHN3,RR'NH2,RR'R' 'NH;RR'R''R*N;RR'R''R*P、ここでR,R',R'',R*=次のタイプのアルキル又は 置換されたアルキル:CH3ClC2H4,HOC2H4,C2H5-C10H21,C5H5CH2、置換された フェニル又はヘテロアリール、YH-(CH2-CH2Y)k-CH2CH2-,Y=0、又はNH,k=0-10 ;次のタイプの複素芳香族カチオン:N−アルキルピリジニウム、N−アルキル キノリニウム、N−アルキルイミダゾリウム、N−アルキルチアゾリニウム、等 ;K'SUR+,SUR=KSUR+,K'SUR+,AmSUR、ここで:KSUR+及びK'SUR+は界面活性カ チオンであり、AmSURは両性界面活性剤である〕 で表わされる界面活性カチオン及び/又は両性界面活性剤と二色性 アニオン性染料との少なくとも1つの包含物; ・下記一般式: (M+O-X-)m〔M+O-X'-(CH2)p-Z-〕g{色原体+}SUR 〔式中、色原体は染料発色団系であり;Z=SO2NH,SO2,CONH,CO,O,S,NH,C H2,p=1-10;g=0-1;m=0-1;m+g=1;X=CO,SO2,OSO2,PO(O-M+);M=H;次のタイ プの非有機カチオン:NH4,Li,Na,K,Cs,Mg,Ca,Ba,Fe,Ni,Co、等;次の タイプの有機カチオン:RNH3RR'NH2;RR'R''NH;RR'R''R*N;RR'R''R*P、ここで R,R',R'',R*=次のタイプのアルキル又は置換されたアルキル:CH3,ClC2H4, HOC2H4,C2H3-C10H21,C6H5CH2、置換されたフェニル又はヘテロアリール、YH-( CH2-CH2Y)k-CH2CH2,Y=0、又はNH,k=0-10;次のタイプの複素芳香族カチオン: N−アルキルピリジニウム、N−アルキルキノリニウム、N−アルキルイミダゾ リニウム、N−アルキルチアゾリニウム、等;KSUR+(界面活性カチオン)、SUR =ASUR-,AmSUR、ここでASUR-は界面活性カチオンであり、AmSURは両性界面活性 剤である〕で表わされる界面活性アニオン及び/又は両性界面活性染料と二色性 カチオン色素との少なくとも1つの包含物; ・下記一般式: {色原体}−〔Z-(CH2)p-X+RR'R''SUR〕m 〔式中、色原体は染料発色団系であり;Z=SO2NH,SO2CONH,CO,O,S,NH,CH2 ;p=1-10;X=N,D;R,R',R''=次のタイプのアルキル又は置換されたアルキルC H2,ClC2H4,HOC2H4,C2H5,C3H3;SUR=ASUR-,AmSUR、ここでASUR-は界面活性 カチオンであり、AmSURは両性界面活性剤であり;n=1−4〕で表わされる界 面活性カチオン及び/又は両性界面活性剤と二色性カチオン染料との少 なくとも1つの包含物; ・イオノゲン又は親水性基を含まない少なくとも1つの水不溶性二色性染料及 び/又は顔料; ・二色性染料であるか、又は成分として、液晶、及び/又は液晶染料以外の二 色性染料を含み、そしてたとえば、紫外線を用いて硬化することによって層への 適用の後、この又は他の態様でガラス化された少なくとも1つの低分子熱互変液 晶物質; ・二色性染料及び/又はヨウ素化合物により着色された、調節された親水性程 度を有する、液晶材料以外の少なくとも1つのポリマー材料; ・多量のポリマー鎖二色性染料に溶解され、そして/又はそれにより化学的に 結合される少なくとも1つのポリマー熱互変液晶及び/又は非液晶物質; ・リオトロピック液晶相を形成する少なくとも1つの二色性染料; ・ポリマー構造の少なくとも1つの二色性染料; ・一般式{色原体}(SO3M)n〔式中、色原体は染料発色団系であり;M=H+、 非有機カチオン〕で表わされる安定したリオトロピック液晶相を形成し;そして 0.1mcm以下の厚さを有する少なくとも1つの水溶性有機染料;又は ・それらの混合物から形成されることを特徴とする請求の範囲第15〜20,25, 35,37,39,41の何れか1項に記載の偏光子。 47.少なくとも1つの二色性染料又は顔料が、リオトロピック液晶相を形成す ることができる一連の染料;安定したリオトロピック液晶相を形成することがで きる一連の染料;一連の発光染料;直接染料種類;活性資料種類;酸性染料種類 ;多環式資料の一連のスルホー酸;ポリメチン、シアニン、ヘミシアニン染料型 ;アリール炭 素染料型;ジ−及びトリアリールメタン、又はチオピラニン、ピロニン、アシル ジン、オキサジニン、チアジニン、キサンテニン、アジン染料の複素環式誘導体 型;一連のバット染料;一連の分散染料:一連のアントラキノン染料;一連のイ ンジゴイド染料;一連のモノ−又はポリアゾ化合物;一連のペリノン染料;一連 の多環式化合物;アントロンの一連の複素環式誘導体;一連の金属錯体化合物; 一連の芳香族複素環式化合物;又はそれらの混合物から選択されることを特徴と する請求項46に記載の偏光子。 48.少なくとも1つの複屈折異方性吸収層は、改質材であって使用される改質 材としては液晶シリコン有機ポリマを含むもの、及び/又はシリコン有機及び/ 又はイオン性界面活性剤を含む可塑剤及びワニスをさらに具備することを特徴と する請求項1〜20,25〜26,35,37,39,41記載の偏光子。 49.第1および第2のプレートの間に配置された液晶の層を具備し、配置され たプレートの少なくとも一方は電極と偏光子である液晶表示素子において、少な くとも1つの偏光子は偏光波長が増加するにつれて大きくなる少なくとも1つの 屈折率を有する少なくとも1つの複屈折異方性吸収層を具備することを特徴とす る液晶表示素子。 50.少なくとも1つの偏光子の少なくとも1つの複屈折異方性吸収層は位相遅 延及び/又は偏光軸の方向の値に関して互いに異なる素子の形で実現されること を特徴とする請求項49に記載の液晶表示素子。 51.1つの偏光子は相互に垂直な偏光軸の方向を有する異なる色の少なくとも 2つの複屈折異方性吸収層を具備し、その層は一方が他方の上に或いはそれらを 隔てる少なくとも1つの中間層の上に貼られ、他のプレートの上には第1のプレ ートの上の一方の複屈折異 方性吸収層の偏光軸の方向に一致する偏光軸の方向を有する少なくとも1つの灰 色の複屈折異方性吸収層を具備することを特徴とする請求項49に記載の液晶表 示素子。 52.一方のプレートの上には拡散反射層をさらに具備し、その層は電極として の役も果たし、少なくとも1つの複屈折異方性吸収層は反射層または反射層に貼 られた誘電体副層の直上に貼られることを特徴とする請求項49〜51の何れか 1項に記載の液晶表示素子。 53.少なくとも1つの偏光子の少なくとも1つの複屈折異方性吸収層は偏光波 長に正比例する少なくとも1つの屈折率を有することを特徴とする請求項49〜 51の何れか1項に記載の液晶表示素子。 54.少なくとも1つの偏光子の少なくとも1つの複屈折異方性吸収層はその認 識される厚みが少なくとも1つの直線偏光成分についての偏光子の出力における 干渉の極端にあることを特徴とする請求項49〜51の何れか1項に記載の液晶 表示素子。 55.少なくとも1つの偏光子の少なくとも1つの複屈折異方性吸収層の厚みは 一方の直線偏光成分についての干渉最小と他方の直交する偏光成分についての干 渉最大とを偏光子の出力において得る条件を満足することを特徴とする請求項5 4に記載の液晶表示素子。 56.少なくとも1つの偏光子は少なくとも2つの層を具備し、それらの中で一 方は複屈折異方性吸収層であり他方は複屈折層の屈折率の1つに一致するかまた は最大でもそれに近い屈折率の光学的に等方性の層であることを特徴とする請求 項54に記載の液晶表示素子。 57.少なくとも1つの偏光子は少なくとも2つの異なる複屈折層を具備し、そ れらの複屈折層の中で少なくとも一方は異方性吸収層 であり、その異方性吸収層の1つの屈折率は複屈折層の屈折率の1つに一致する か最大でもそれに近く、複屈折層と複屈折異方性吸収層の第2の屈折率は互いに 異なることを特徴とする請求項54に記載の液晶表示素子。 58.偏光子は光を少なくとも部分的に反射する少なくとも1つの層をさらに具 備することを特徴とする請求項54に記載の液晶表示素子。 59.光反射層は金属層であることを特徴とする請求項58に記載の液晶表示素 子。 60.第1および第2のプレートの間に配置された液晶層を具備し、配置された プレートの少なくとも一方は電極および偏光子である液晶表示素子において、少 なくとも1つの偏光子は偏光子への入射光の複数の非偏光ビームを異なって偏光 されたビームの等しく複数の同一の対に分割する偏光手段であって、集束光素子 の形で実現され、その素子の各々は、少なくとも1つの光学等方性層の近傍に、 偏光波長が増加するにつれて大きくなる少なくとも1つの屈折率を有する少なく とも1つの複屈折異方性吸収層を具備し、該偏光手段は該異なって偏光されたビ ームの複数の対が具備する少なくとも1つの複数の同じように偏光された光ビー ムの偏光を変える手段とともに光学的に記録されることを特徴とする液晶表示素 子。 61.少なくとも1つの複屈折層は複数の体積または位相レンズの形で実現され ることを特徴とする請求項60に記載の液晶表示素子。 62.集束光素子はゾーンプレートの形で実現される請求項60に記載の液晶表 示素子。 63.ゾーンプレートは振幅ゾーンプレートの形で実現され、その偶数のゾーン は少なくとも1つの光学等方性層に近接した少なくと も1つの複屈折異方性吸収層を具備し、奇数ゾーンは光学等方性材料からなるこ とことを特徴とする請求項62に記載の液晶表示素子。 64.ゾーンプレートは位相ゾーンプレートの形で実現され、その位相ゾーンプ レートの少なくとも1つの屈折率は単調でない態様を含む或る規則に従って少な くとも1つの方向に向かって変化することを特徴とする請求項62に記載の液晶 表示素子。 65.偏光を変える手段は偏光の波長が増加するにつれて大きくなる少なくとも 1つの屈折率を有する区分された半透明複屈折異方性吸収層を具備することを特 徴とする請求項60に記載の液晶表示素子。 66.偏光を変える手段は区分された半透明二分の一波長複屈折板または集束光 学素子の焦点または焦点の外に配置された区域を有する層の形で実現されること を特徴とする請求項60〜65の何れか1項に記載の液晶表示素子。 67.偏光を変える手段は、集束光学素子の焦点の外に配置された四分の一波長 板の形の区域と通常の及び特異的な光線の間の位相差を決定するプレートの形の 区域とを有する区分された半透明複屈折プレートの形で実現され、該位相差は集 束光学素子の焦点に配置された四分の一波長板の形の区域によって決まる位相差 とはπだけ異なっていることを特徴とする請求項60〜65の何れか1項に記載 の液晶表示素子。 68.偏光を変える手段は、ツイスト構造を有する液晶の区分された半透明重合 体の平面層の形で実現され、該層の厚み内で液晶の光軸が90°の角度で回転し、 集束光学素子の焦点または焦点の外に配置された区域を有することを特徴とする 請求項60〜65の何れか1項に記載の液晶表示素子。 69.偏光を変える手段は、区分された半透明無彩色複屈折プレートで実現され ることを特徴とする請求項60〜65の何れか1項に記載の液晶表示素子。 70.第1および第2のプレートの間に配置された液晶の層を具備し、そのプレ ートの少なくとも一方は電極と偏光子が配置される液晶表示素子において、少な くとも一方の偏光子は少なくともフィルムまたはプレートの形で実現され、その 上に、入力された非偏光を複数の同一の光ビームに変換する手段と、非偏光ビー ムを異なる偏光の偏光透過および反射光に分割する偏光手段であって、その偏光 手段は偏光の波長が増加するにつれて大きくなるすくなくとも1つの屈折率を有 する少なくとも1つの複屈折異方性吸収層または層の厚み方向で一定または或る 規則に従って変化する方向の光軸を有する複屈折層を有するもの、及び偏光手段 から反射される光ビームの偏光および方向を変える手段とが貼られることを特徴 とする液晶表示素子。 71.反射光ビームの偏光および方向を変える手段は区分された金属鏡を有する ことを特徴とする請求項70に記載の液晶表示素子。 72.偏光手段は、層の厚み方向で一定の光軸方向を有する少なくとも1つの複 屈折異方性吸収層または複屈折層を具備し、区分された金属鏡の四分の一波長板 を具備することを特徴とする請求項70〜71の何れか1項に記載の液晶表示素 子。 73.層の厚み方向で或る規則に従って変化する光軸方向を有する少なくとも1 つの複屈折層としてコレステリック液晶の少なくとも1つの層を具備することを 特徴とする請求項70〜71の何れか1項に記載の液晶表示素子。 74.コレステリック液晶の少なくとも1つの層はコレステリック液晶のポリマ ーからなることを特徴とする請求項73に記載の液晶 表示素子。 75.コレステリック液晶の少なくとも1つの層は厚さ方向にコレステリック液 晶のスパイラルピッチの勾配を有し、その結果、100mmより小さくない光選択性 反射帯域のスペクトル幅を有することを特徴とする請求項73〜74の何れか1 項に記載の液晶表示素子。 76.3つの異なるスペクトル範囲に光選択性反射帯域を有するコレステリック 液晶の少なくとも3つの層を具備することを特徴とする請求項73に記載の液晶 表示素子。 77.入力非偏光を変換する手段が光ビームを偏光子の内側の方向に集める微小 レンズまたは微小プリズムのシステムの形で実現されることを特徴とする請求項 70〜71の何れか1項に記載の液晶表示素子。 78.微小レンズのシステムは偏光子の表面を完全に覆う正円柱微小レンズの形 で実現されることを特徴とする請求項77に記載の液晶表示素子。 79.偏光子のフィルムまたはプレートの第1の表面の上には、微小レンズのシ ステムと該微小レンズのシステムが光学的に記録された区分された金属鏡を具備 し、フィルムまたはプレートの第2の表面の上には、コレステリック液晶の少な くとも1つの層を具備することを特徴とする請求項71に記載の液晶表示素子。 80.偏光子はフィルムまたはプレートの第1の表面の上に微小レンズのシステ ム、該微小レンズのシステムが光学的に記録された区分された金属鏡と、四分の 一波長板を具備し、第2の表面の上に層の厚み方向で一定の光軸方向を有する複 屈折異方性吸収層または複屈折層を具備することを特徴とする請求項71に記載 の液晶表示素子。 81.偏光子はフィルムまたはプレートの第1の表面の上に区分さ れた金属鏡を具備し、フィルムまたはプレートの第2の表面の上に金属鏡の区域 が光学的に記録された微小レンズのシステムと、少なくとも1つのコレステリッ ク液晶の層が順に貼られることを特徴とする請求項71に記載の液晶表示素子。 82.偏光子はフィルムまたはプレートの第1の表面の上に区分された金属鏡と 四分の一波長板を具備し、フィルムまたはプレートの第2の表面の上に金属鏡の 区域が光学的に記録された微小レンズのシステムと、層の厚み方向で一定の光軸 方向を有する複屈折異方性吸収層または複屈折層が順に貼られることを特徴とす る請求項71に記載の液晶表示素子。 83.偏光子は少なくとも2つの積層されたフィルムまたはプレートを具備し、 第1のフィルムまたはプレートの外部表面の上には第1の微小レンズの第1のシ ステムが貼られ、第1または第2のフィルムまたはプレートの内部表面の上には 区分された金属鏡が貼られ、第2のフィルムまたはプレートの外部表面の上には さらに金属鏡の区域と微小レンズの第1のシステムが光学的に記録された微小レ ンズの第2のシステムが貼られ、さらに少なくとも1つのコレステリック液晶の 層を具備することを特徴とする請求項71に記載の液晶表示素子。 84.偏光子は少なくとも2つの積層されたフィルムまたはプレートを具備し、 第1のフィルムまたはプレートの外部表面の上には微小レンズの第1のシステム が貼られ、第1または第2のフィルムまたはプレートの内部表面の上には区分さ れた金属鏡と四分の一波長板が貼られ、第2のフィルムまたはプレートの外部表 面の上にはさらに区分された金属鏡と微小レンズの第1のシステムが光学的に記 録された微小レンズの第2のシステムが貼られ、さらに層の厚み方向で一定の光 軸方向を有する少なくとも1つの複屈折異方性吸収層 または複屈折層を具備することを特徴とする請求項71に記載の液晶表示素子。 85.偏光子は少なくとも2つの積層されたフィルムまたはプレートを具備し、 第1のフィルムまたはプレートの外部表面の上には微小レンズのシステムが貼ら れ、第1または第2のフィルムまたはプレートの内部表面の上にはさらに微小レ ンズのシステムが光学的に記録された区分された金属鏡が貼られ、第2のフィル ムまたはプレートの外部表面の上にはコレステリック液晶の層が貼られることを 特徴とする請求項71に記載の液晶表示素子。 86.偏光子は少なくとも2つの積層されたフィルムまたはプレートを具備し、 第1のフィルムまたはプレートの外部表面の上には微小レンズのシステムが貼ら れ、第1のフィルムまたはプレートの内部表面の上にはさらに微小レンズのシス テムが光学的に記録された区分された金属鏡と四分の一波長板が順に貼られ、第 2のフィルムまたはプレートの外部表面の上には層の厚み方向で一定の光軸方向 を有する少なくとも1つの複屈折異方性吸収層または複屈折層が貼られることを 特徴とする請求項71に記載の液晶表示素子。 87.少なくとも1つの偏光子は偏光の波長に正比例する少なくとも1つの屈折 率を有する少なくとも1つの複屈折異方性吸収層を具備することを特徴とする請 求項60〜65,70,71,80,82,84,86の何れか1項に記載の液 晶表示素子。 88.少なくとも1つの偏光子の少なくとも1つの複屈折異方性吸収層はその認 識される厚みが少なくとも1つの直線偏光成分についての偏光子の出力における 干渉の極端にあることを特徴とする請求項60〜65,70,71,80,82 ,84,86の何れか1項に記載の液晶表示素子。 89.偏光子の少なくとも1つの複屈折異方性吸収層の厚みは一方 の直線偏光成分についての干渉最小と他方の直交する偏光成分についての干渉最 大とを偏光子の出力において得る条件を満足することを特徴とする請求項88に 記載の液晶表示素子。 90.少なくとも1つの偏光子は少なくとも2つの層を具備し、それらの中で少 なくとも一方は複屈折異方性吸収層であり他方は複屈折層の屈折率の1つに一致 するかまたは最大でもそれに近い屈折率の光学的に等方性の層であることを特徴 とする請求項60〜65,70,71,80,82,84,86に記載の液晶表 示素子。 91.少なくとも1つの偏光子は少なくとも2つの複屈折層を具備し、それらの 複屈折層の中で少なくとも一方は異方性吸収層であり、その異方性吸収層の1つ の屈折率は複屈折層の屈折率の1つに一致するか最大でもそれに近く、複屈折層 と複屈折異方性吸収層の第2の屈折率は互いに異なることを特徴とする請求項6 0〜65,70,71,80,82,84,86に記載の液晶表示素子。 92.偏光子の少なくとも一方はさらに非有機性材料で形成されたもしくはポリ マー材料を基礎とする配向層を具備する請求項49〜51,60〜65,70, 71,80,82,84,86に記載の液晶表示素子。 93.少なくとも1つの偏光子中の少なくとも1つの複屈折性異方性吸収層が、 ・下記一般式: {色原体}−(XO-M+n 〔式中、色原体は染料発色団系であり;X=CO,SO2,OSO2,OPO(O-M+):M=RR'NH2 ;RR'R''NH;RR'R''R^N;RR'R''^P,when R,R',R'',R^=CH3,ClC2H4,C2H5 ,C3H7,C4H9,C6H5CH2、置換されたフェニル又はヘテルアリール;YH-(CH2-CH2 Y)m-CH2CH2,Y-O、又はNH,m=0-5、N−アルキルピリジニウム カチオン、N −アル キルキノリニウム カチオン、N−アルキルイミダゾリウム カチオン、N−ア ルキルチアゾリニウム カチオン、等;n=1−7〕で表わされる二色性アニオ ン性染料の少なくとも1つの有機塩; ・下記一般式: (M1 +,O-X'-)m〔M1 +O-X'-(CH2)p-Z-〕g{色原体}〔-Z-(CH2)p-XO-M+n(-XO- M+m 〔式中、色原体は、染料発色団系であり;Z=SO2NH,SO2,CONH,CO,O,S,NH, CH2;p=1-10;f=0-9;g=0-9,n=0-9,m=0-9,n+f=1-10;m+g=1-10;X,X'=CO,S O2,OSO2,PO(O-M+);M≠M1M,M1=H;次のタイプの非有機カチオン:NH4,Li,Na ,K,Cs,Mg,Ca,Ba,Fe,Ni,Co、等;次のタイプの有機カチオン:RHN3,RR' NH2,RR'R''NH;RR'R''R*N;RR'R''R*P、ここでR,R',R'',R*=alkyl又は次の タイプの置換されたアルキル:CH3ClC2H4,HOC2H4,C2H3,C3H7,C4H9,C6H5CH2 、置換されたフェニル又はヘテロアリール、YH-(CH2-CH2Y)k=CH2CH2-,Y=0,or NH,k=0-10;次のタイプの複素芳香族カチオン:N−アルキルピリジニウム、N −アルキルキノリニウム、N−アルキルイミダゾリニウム、N−アルキルチアゾ リニウム、等〕で表わされる異なったカチオンと二色性アニオン性染料との少な くとも1つの混合された不斉性塩; ・下記一般式: (M+O-X'-)m〔M+O-X'-(CH2)p-Z-〕g{色原体}〔-Z-(CH2)p-XO-SUR〕f(XO-SUR )m 〔式中、色原体は染料発色団系であり;Z=SO2NH,SO2,CONH,CO,O,S,NH,CH2 ;p=1-10;f=0-4;g=0-9;n=0-4,m=0-9,n+f=1-4;m+g=0-10;X,X'=CO,SO2 ,OSO2,PO(O-M+);M=H;次のタイプの非有機カチオン:NH4,Li,Na,K,Cs,M g,Ca,Ba,Fe,Ni,Co、等;次のタイプの有機カチオン:RHN3,RR'NH2,RR'R' 'NH ;RR'R''R*N;RR'R''R*P、ここでR,R',R'',R*=次のタイプのアルキル又は置 換されたアルキル:CH3ClC2H4,HOC2H4,C2H5-C10H21,C6H5CH2、置換されたフ ェニル又はヘテロアリール、YH-(CH2-CH2Y)k-CH2CH2-,Y=0、又はNH,k=0-10; 次のタイプの複素芳香族カチオン:N−アルキルピリジニウム、N−アルキルキ ノリニウム、N−アルキルイミダゾリウム、N−アルキルチアゾリニウム、等; K'SUR+,SUR=KSUR+,K'SUR+,AmSUR、ここで:KSUR+及びK'SUR+は界面活性カチ オンであり、AmSURは両性界面活性剤である〕 で表わされる界面活性カチオン及び/又は両性界面活性剤と二色性アニオン性染 料との少なくとも1つの包含物; ・下記一般式: (M+O-X-)m〔M+O-X'-(CH2)p-Z-〕g{色原体+}SUR 〔式中、色原体は染料発色団系であり,Z=SO2NH,SO2,CONH,CO,O,S,NH,CH2 ,p=1-10;g=0-1;m=0-1;m+g=1,X=CO,SO2,OSO2,PO(O-M+);M=H;次のタイ プの非有機カチオン:NL4,Li,Na,K,Cs,Mg,Ca,Ba,Fe,Ni,Co、等;次の タイプの有機カチオン:RNH3RR'NH2;RR'R''NH;RR'R''R*N;RR'R''R*P、ここで R,R',R'',R*=次のタイプのアルキル又は置換されたアルキル:CH3,ClC2H4, HOC2H4,C2H3-C10H21,C6H5CH2、置換されたフェニル又はヘテロアリール、YH-( CH2-CH2Y)k-CH2CH2,Y=0、又はNH,k=0-10;次のタイプの複素芳香族カチオン: N−アルキルピリジニウム、N−アルキルキノリニウム、N−アルキルイミダゾ リニウム、N−アルキルチアゾリニウム、等;KSUR+(界面活性カチオン)、SUR =ASUR-,AmSUR、ここでASUR-は界面活性カチオンであり、AmSURは両性界面活性 剤である〕で表わされる界面活性アニ オン及び/又は両性界面活性染料と二色性カチオン色素との少なくとも1つの包 含物; ・下記一般式: {色原体}−〔Z-(CH2)p-X+RR'R''SUR〕m 〔式中、色原体は染料発色団系であり;Z-SO2NH,SO2CONH,CO,O,S,NH,CH2 ;p=1-10,X=N,D,R,R',R''=次のタイプのアルキル又は置換されたアルキル :CH2,ClC2H4,HOC2H4,C2H5,C3H3;SUR=ASUR-,AmSUR、ここでASUR-は界面活 性カチオンであり、AmSURは両性界面活性剤であり;n=1−4〕で表わされる 界面活性カチオン及び/又は両性界面活性剤と二色性カチオン染料との少なくと も1つの包含物; ・イオノゲン又は親水性基を含まない少なくとも1つの水不溶性二色性染料及 び/又は顔料; ・二色性染料であるか、又は成分として、液晶、及び/又は液晶染料以外の二 色性染料を含み、そしてたとえば、紫外線を用いて硬化することによって層への 適用の後、この又は他の態様でガラス化された少なくとも1つの低分子熱互変液 晶物質; ・二色性染料及び/又はヨウ素化合物により着色された、調節された親水性程 度を有する、液晶材料以外の少なくとも1つのポリマー材料; ・多量のポリマー鎖二色性染料に溶解され、そして/又はそれにより化学的に 結合される少なくとも1つのポリマー熱互変液晶及び/又は非液晶物質; ・リオトロピック液晶相を形成する少なくとも1つの二色性染料; ・ポリマー構造の少なくとも1つの二色性染料; ・一般式{色原体}(SO3M)n〔式中、色原体は染料発色団系であ り;M=H+、非有機カチオン〕で表わされる安定したリオトロピック液晶相を 形成し;そして0.1mcm以下の厚さを有する少なくとも1つの水溶性有機染料;又 は ・それらの混合物から形成されることを特徴とする請求項49〜51,60〜 65,70,71,80,82,84,86の何れか1項に記載の液晶表示要素 。 94.少なくとも1つの二色性染料又は顔料が、リオトロピック液晶相を形成す ることができる一連の染料;安定したリオトロピック液晶相を形成することがで きる一連の染料;一連の発光染料;直接染料種類;活性染料種類,酸性染料種類 ;多環式資料の一連のスルホー酸;ポリメチン、シアニン、ヘミシアニン染料型 ;アリール炭素染料型;ジ−及びトリアリールメタン、又はチオピラニン、ピロ ニン、アシルジン、オキサジニン、チアジニン、キサンテニン、アジン染料の複 素環式誘導体型;一連のバット染料;一連の分散染料;一連のアントラキノン染 料;一連のインジゴイド染料;一連のモノ−又はポリアゾ化合物;一連のペリノ ン染料;一連の多環式化合物;アントロンの一連の複素環式誘導体;一連の金属 錯体化合物;一連の芳香族複素環式化合物;又はそれらの混合物から選択される ことを特徴とする請求項93に記載の液晶表示要素。 95.少なくとも1つの偏光子中の少なくとも1つの複屈折性異方性吸収層が、 異なった型の親水性又は疎水性ポリマー、たとえば液晶性珪素−有機ポリマーで ある改質剤;及び/又は可塑剤及びワニス、たとえば珪素一有機及び/又は非イ ノゲン性界面活性剤をさらに含んで成ることを特徴とする請求項49〜51,6 0〜65,70,71,80,82,84,86の何れか1項に記載の液晶表示 要素。
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WO (1) WO1999031535A1 (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7132138B2 (en) 2000-12-06 2006-11-07 Nitto Denko Corporation Liquid crystal information displays
JP2010033040A (ja) * 2008-06-30 2010-02-12 Fujifilm Corp 光学補償フィルム、及び液晶表示装置
WO2011067959A1 (ja) * 2009-12-04 2011-06-09 日東電工株式会社 偏光膜生成用コーティング液及び偏光膜
JP2012513611A (ja) * 2008-12-22 2012-06-14 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 並列する偏光子/偏光子ゾーンを有する多層光学フィルム
JP2013532845A (ja) * 2010-07-23 2013-08-19 エルジー・ケム・リミテッド 光学フィルム
JP2019512883A (ja) * 2016-03-10 2019-05-16 レッド バンク テクノロジーズ リミテッド ライアビリティ カンパニー キラル液晶性エミッタを利用する帯域縁部放出強化有機発光ダイオード

Families Citing this family (115)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5910854A (en) 1993-02-26 1999-06-08 Donnelly Corporation Electrochromic polymeric solid films, manufacturing electrochromic devices using such solid films, and processes for making such solid films and devices
RU2124746C1 (ru) 1997-08-11 1999-01-10 Закрытое акционерное общество "Кванта Инвест" Дихроичный поляризатор
US8294975B2 (en) 1997-08-25 2012-10-23 Donnelly Corporation Automotive rearview mirror assembly
CN100409043C (zh) * 1997-12-16 2008-08-06 “尼奥匹克”俄罗斯联邦全国科技中心 偏振片和液晶显示元件
US6329925B1 (en) 1999-11-24 2001-12-11 Donnelly Corporation Rearview mirror assembly with added feature modular display
US6693517B2 (en) 2000-04-21 2004-02-17 Donnelly Corporation Vehicle mirror assembly communicating wirelessly with vehicle accessories and occupants
US6477464B2 (en) 2000-03-09 2002-11-05 Donnelly Corporation Complete mirror-based global-positioning system (GPS) navigation solution
US6846522B1 (en) * 1999-09-27 2005-01-25 Optiva, Inc. Decorative material and method of its fabrication
US7004593B2 (en) 2002-06-06 2006-02-28 Donnelly Corporation Interior rearview mirror system with compass
US7370983B2 (en) 2000-03-02 2008-05-13 Donnelly Corporation Interior mirror assembly with display
US7167796B2 (en) 2000-03-09 2007-01-23 Donnelly Corporation Vehicle navigation system for use with a telematics system
DE10026080A1 (de) * 2000-05-24 2001-12-06 4D Vision Gmbh Polarisationsfilter und Verfahren zu dessen Herstellung
US6549335B1 (en) 2000-07-28 2003-04-15 3M Innovative Properties Company High durability circular polarizer for use with emissive displays
WO2006124682A2 (en) 2005-05-16 2006-11-23 Donnelly Corporation Vehicle mirror assembly with indicia at reflective element
RU2207603C2 (ru) * 2001-06-04 2003-06-27 Хан Ир Гвон Оптическое устройство для получения и/или преобразования поляризованного электромагнитного излучения и оптическое устройство в виде жидкокристаллического дисплея
US7113337B2 (en) 2001-07-10 2006-09-26 Nitto Denko Corporation Multilayer optical coating
RU2226288C2 (ru) * 2001-07-10 2004-03-27 ОПТИВА, Инк. Многослойное оптическое покрытие
US7002661B2 (en) 2001-07-12 2006-02-21 Tecdis S.P.A. Method of manufacturing liquid crystal displays having an internal polarizer
WO2003025092A1 (en) * 2001-09-21 2003-03-27 Optiva, Inc. Liquid crystal display with reflecting polarizer
RU2226708C2 (ru) * 2001-09-21 2004-04-10 ОПТИВА, Инк. Жидкокристаллический дисплей с отражающим поляризатором
US6985291B2 (en) 2001-10-01 2006-01-10 3M Innovative Properties Company Non-inverting transflective assembly
RU2226293C2 (ru) * 2001-10-02 2004-03-27 ОПТИВА, Инк. Панель дисплея и многослойная пластина для ее изготовления
US7329013B2 (en) 2002-06-06 2008-02-12 Donnelly Corporation Interior rearview mirror system with compass
RU2002114926A (ru) 2002-06-07 2003-12-10 ООО "Оптива-Технологи " Сульфопроизводные индантрона, лиотропная жидкокристаллическая система и анизотропная пленка на их основе
RU2002117253A (ru) 2002-06-28 2003-12-20 ООО "Оптива-Технологи " Сульфопроизводные 1,8-нафтоилен-1',2'-бензимидазола, лиотропная жидкокристаллическая система и анизотропная пленка на их основе
JP4234960B2 (ja) * 2002-07-17 2009-03-04 富士フイルム株式会社 偏光板の製造方法
US6583284B1 (en) 2002-08-07 2003-06-24 Optiva, Inc. Anisotropic films based on sulfoderivatives of phenanthro-9′, 10′:2,3-quinoxaline and lyotropic liquid crystal systems and method for making
US7317499B2 (en) * 2002-08-22 2008-01-08 Nitto Denko Corporation Multilayer plate and display panel with anisotropic crystal film and conducting protective layer
EP1543358A2 (en) 2002-09-20 2005-06-22 Donnelly Corporation Mirror reflective element assembly
US7310177B2 (en) 2002-09-20 2007-12-18 Donnelly Corporation Electro-optic reflective element assembly
JP2004119514A (ja) * 2002-09-24 2004-04-15 Toshiba Corp パターン形成方法及び半導体装置の製造方法
US7190416B2 (en) * 2002-10-18 2007-03-13 Nitto Denko Corporation Liquid crystal display with touch panel having internal front polarizer
US7160485B2 (en) 2003-04-25 2007-01-09 Nitto Denko Corporation Lyotropic liquid crystal systems based on perylenetetracarboxylic acid dibenzimidazole sulfoderivatives, related anisotropic films, and methods for making
US7025900B2 (en) 2003-06-25 2006-04-11 Nitto Denko Corporation Perylenetetracarboxylic acid dibenzimidazole sulfoderivatives containing oxo-groups in the perylene core which form part of a para-quinoid system of bonds, lyotropic liquid crystal systems and anisotropic films containing the same, and methods for making the same
TWI224214B (en) * 2003-06-26 2004-11-21 Chunghwa Picture Tubes Ltd Polarizer manufacturing method
US7804649B2 (en) 2003-09-09 2010-09-28 3M Innovative Properties Company Microreplicated achromatic lens
US20050231809A1 (en) * 2003-09-09 2005-10-20 Carlson Daniel H Microreplicated polarizing article
US7165959B2 (en) * 2003-09-09 2007-01-23 3M Innovative Properties Company Apparatus and method for producing two-sided patterned webs in registration
US7224529B2 (en) * 2003-09-09 2007-05-29 3M Innovative Properties Company Microreplicated article
US7446924B2 (en) 2003-10-02 2008-11-04 Donnelly Corporation Mirror reflective element assembly including electronic component
US7308341B2 (en) 2003-10-14 2007-12-11 Donnelly Corporation Vehicle communication system
JP4719156B2 (ja) * 2003-11-06 2011-07-06 住友化学株式会社 配向した重合体の膜を含む二色性のゲスト−ホスト偏光子
KR100677062B1 (ko) 2003-11-24 2007-02-01 엘지.필립스 엘시디 주식회사 편광기능이 구비된 컬러필터 기판 및 그 제조 방법
US7161728B2 (en) * 2003-12-09 2007-01-09 Idc, Llc Area array modulation and lead reduction in interferometric modulators
EP1714092B1 (en) * 2004-02-05 2011-11-02 Worldbest Corporation Radiator apparatus
US7267849B2 (en) 2004-03-02 2007-09-11 Nitto Denko Corporation Compensator for liquid crystal display
US7733443B2 (en) * 2004-03-09 2010-06-08 Nitto Denko Corporation LCD comprising backlight and reflective polarizer on front panel
US7456915B2 (en) * 2004-03-26 2008-11-25 Nitto Denko Corporation Liquid crystal display panel with broadband interference polarizers
US7651738B2 (en) * 2004-06-08 2010-01-26 Nitto Denko Corporation Supramolecular composite film material and method for fabricating
KR20060009731A (ko) * 2004-07-26 2006-02-01 삼성전자주식회사 광변환 방법과, 이를 수행하기 위한 광학필름과, 이를갖는 표시장치
JP4292132B2 (ja) * 2004-09-24 2009-07-08 株式会社 日立ディスプレイズ 液晶表示装置
JP2006098790A (ja) * 2004-09-29 2006-04-13 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶プロジェクタ、液晶パネルおよびその製造方法
US7436469B2 (en) * 2004-10-15 2008-10-14 3M Innovative Properties Company Composite diffuser plates and direct-lit liquid crystal displays using same
US7446827B2 (en) * 2004-10-15 2008-11-04 3M Innovative Properties Company Direct-lit liquid crystal displays with laminated diffuser plates
US7710511B2 (en) * 2004-10-15 2010-05-04 3M Innovative Properties Company Liquid crystal displays with laminated diffuser plates
JP2006126419A (ja) * 2004-10-28 2006-05-18 Quanta Display Japan Inc 液晶表示装置
EP1874524B1 (en) * 2005-03-09 2009-03-11 3M Innovative Properties Company Apparatus and method for making microreplicated article
WO2006098934A1 (en) 2005-03-09 2006-09-21 3M Innovative Properties Company Apparatus and method for making microreplicated article
EP1856566A1 (en) * 2005-03-09 2007-11-21 3M Innovative Properties Company Microreplicated article with defect-reducing surface
CN101137449B (zh) 2005-03-09 2012-08-29 3M创新有限公司 微复制物品及其生产方法
CN101137481A (zh) * 2005-03-09 2008-03-05 3M创新有限公司 用于生产对准的两面压花织物的设备和方法
US20060209428A1 (en) * 2005-03-09 2006-09-21 Dobbs James N Microreplicated article with moire reducing surface
CN100573245C (zh) * 2005-04-28 2009-12-23 夏普株式会社 液晶显示装置
US7538844B2 (en) * 2005-04-29 2009-05-26 University Of Central Florida Research Foundation, Inc. Multi-domain in-plane switching liquid crystal displays with interleaved common and pixel chevron-shaped electrodes in both horizontal and vertical directions to divide electrode structure into two regions
JP2006323302A (ja) * 2005-05-20 2006-11-30 Sanyo Epson Imaging Devices Corp 表示装置
JP2008203282A (ja) * 2005-06-03 2008-09-04 Sharp Corp 画像表示装置
US20060291055A1 (en) * 2005-06-15 2006-12-28 3M Innovative Properties Company Diffuse Multilayer Optical Article
EP1949666B1 (en) 2005-11-01 2013-07-17 Magna Mirrors of America, Inc. Interior rearview mirror with display
US7924368B2 (en) * 2005-12-08 2011-04-12 3M Innovative Properties Company Diffuse multilayer optical assembly
KR20070071346A (ko) * 2005-12-30 2007-07-04 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 복굴절성 중합체 층을 포함하는 휘도 증강용 광학필름복합체
GB0600763D0 (en) 2006-01-13 2006-02-22 Crysoptix Ltd 6, 7-dihydrobenzimidazo[1,2-C]quininazolin-6-one carboxylic acid, its esters and method of synthesis thereof
GB0600764D0 (en) 2006-01-13 2006-02-22 Crysoptix Ltd Organic compound, optical crystal film and method of production thereof
WO2007125696A1 (ja) * 2006-04-27 2007-11-08 Nitto Denko Corporation 偏光膜の製造方法、及び液晶表示装置
JP2008047673A (ja) * 2006-08-14 2008-02-28 Canon Inc 露光装置及びデバイス製造方法
US8596783B1 (en) 2006-12-05 2013-12-03 Michael Cain Finley Light control system and associated methods
CN101563629A (zh) * 2006-12-19 2009-10-21 皇家飞利浦电子股份有限公司 用于自动立体显示设备的透镜结构
JP2009008882A (ja) * 2007-06-28 2009-01-15 Murakami Corp 液晶防眩ミラー
US7791807B2 (en) * 2008-02-06 2010-09-07 Microvision, Inc. Avoiding interference artifacts in a head-up display or a reflected see-through type display
US8154418B2 (en) 2008-03-31 2012-04-10 Magna Mirrors Of America, Inc. Interior rearview mirror system
US20090269591A1 (en) 2008-04-24 2009-10-29 Crysoptix Kk Organic Compound, Optical Film and Method of Production thereof
TW201015125A (en) 2008-10-01 2010-04-16 Ind Tech Res Inst Optical sheet
JP5051475B2 (ja) * 2008-10-27 2012-10-17 セイコーエプソン株式会社 1/4波長板、光ピックアップ装置及び反射型液晶表示装置
KR101518734B1 (ko) * 2008-12-23 2015-05-12 삼성전자주식회사 편광된 광을 제공하는 백라이트 유닛 및 이를 채용한 디스플레이 장치
KR20110139239A (ko) 2009-02-27 2011-12-28 닛토덴코 가부시키가이샤 방향족 테트라카복실릭 비스벤조이미다졸 유도체를 기재로하는 유방성 액정시스템 및 그 제조방법
DE102010043200A1 (de) * 2010-02-10 2011-08-11 Johnson Controls Automotive Electronics GmbH, 75196 Anzeigeelement für eine Anzeigeeinheit in einem Fahrzeug
JP5442518B2 (ja) * 2010-03-31 2014-03-12 富士フイルム株式会社 光吸収異方性膜、偏光フィルム及びその製造方法、並びにそれを用いた表示装置
KR102089807B1 (ko) * 2011-12-20 2020-03-16 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 편광막 형성용 조성물 및 편광막
JP2013246407A (ja) * 2012-05-29 2013-12-09 Dainippon Printing Co Ltd 光学シートおよび表示装置
KR101372932B1 (ko) * 2013-04-30 2014-03-12 한국생산기술연구원 펄스 uv를 이용한 광배향 장치
EP2994791A1 (en) * 2013-05-07 2016-03-16 Koninklijke Philips N.V. Optical system providing polarized light
DE112014002328T5 (de) * 2013-05-08 2016-01-21 Fujifilm Corporation Zirkulär polarisierter Licht-Separationsfilm, Verfahren zur Erzeugung eines zirkulär polarisierten Licht-Separationsfilmes, Infrarot-Sensor und Abtastsystem und Abtastverfahren unter Verwendung von Licht
JP6150941B2 (ja) 2013-07-02 2017-06-21 コリア インスティテュート オブ インダストリアル テクノロジーKorea Institute Of Industrial Technology 偏光パルスuvを用いた光配向方法及びパターンドリターダ製造方法
US9841606B2 (en) * 2013-11-04 2017-12-12 Massachusetts Institute Of Technology Optical filters with engineered birefringence
CN109597202B (zh) 2013-11-27 2021-08-03 奇跃公司 虚拟和增强现实系统与方法
CN208737792U (zh) * 2016-01-20 2019-04-12 Agc株式会社 镜面显示装置、光反射透射型部件和窗材
US10185148B2 (en) * 2016-03-21 2019-01-22 Shenzhen Dlodlo New Technology Co., Ltd. Short-range optical amplification module, spectacles, helmet and VR system
WO2017161487A1 (zh) * 2016-03-21 2017-09-28 深圳多哚新技术有限责任公司 短距离光学放大模组、眼镜、头盔及vr系统
US20180228612A1 (en) 2017-02-14 2018-08-16 HD LifeSciences LLC High X-Ray Lucency Lattice Structures
US20200000595A1 (en) 2016-06-07 2020-01-02 HD LifeSciences LLC High X-Ray Lucency Lattice Structures
US10281630B2 (en) 2016-09-19 2019-05-07 Apple Inc. Optical films for electronic device displays
EP4331842A3 (en) 2017-04-01 2024-05-29 Nanohive Medical LLC Three-dimensional lattice structures for implants
EP3385779A1 (en) * 2017-04-05 2018-10-10 Koninklijke Philips N.V. Multi-view display device and method
US11536886B2 (en) * 2017-06-26 2022-12-27 3M Innovative Properties Company Roll of film including multilayer birefringent reflective polarizer having low pass axis variation
WO2019106790A1 (ja) * 2017-11-30 2019-06-06 シャープ株式会社 表示デバイス、表示デバイスの製造方法、表示デバイスの製造装置
CN119595595A (zh) * 2018-06-21 2025-03-11 鲁姆斯有限公司 光导光学元件(loe)的板之间折射率不均匀性的测量技术
CA3106538A1 (en) 2018-07-26 2020-01-30 HD LifeSciences LLC Dynamic implant fixation plate
CN108957616A (zh) * 2018-09-11 2018-12-07 深圳市盛波光电科技有限公司 一种染料型偏光片的制造方法
US11497617B2 (en) 2019-01-16 2022-11-15 Nanohive Medical Llc Variable depth implants
US11739425B2 (en) 2019-08-14 2023-08-29 Apple Inc. Electronic device coatings for reflecting mid-spectrum visible light
US20210103084A1 (en) 2019-10-03 2021-04-08 American Polarizers, Inc. Multi-Axis Polarizer Film For Anti-Counterfeit Applications And Method Of Making The Same
JP7349908B2 (ja) * 2019-12-27 2023-09-25 住友化学株式会社 画像表示装置
CN112817072B (zh) * 2020-12-31 2022-03-25 深圳市麓邦技术有限公司 透镜矩阵制造系统及方法
TWI835278B (zh) * 2022-09-05 2024-03-11 英屬維爾京群島商威爾德嘉德有限公司 偏光鏡、拍攝控制方法和電子設備
DE102022134123A1 (de) * 2022-12-20 2024-06-20 Sioptica Gmbh Lichtfilter sowie Beleuchtungseinrichtung und Bildschirm mit einem solchen Lichtfilter
CN118732100A (zh) * 2024-07-08 2024-10-01 马鞍山东毅新材料科技有限公司 一种可优化色偏的增亮膜及其生产方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08258208A (ja) * 1995-03-17 1996-10-08 Hitachi Ltd 反射防止膜及びその反射防止膜を備える表示装置
JPH08511109A (ja) * 1993-05-21 1996-11-19 ロシアン テクノロジー グループ 熱安定で且つ耐光堅牢な二色偏光子
JPH09507308A (ja) * 1993-12-21 1997-07-22 ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー 光学偏光装置

Family Cites Families (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2524286A (en) 1946-05-14 1950-10-03 John F Dreyer Flexible noncrystalline self-contained polarizing films and methods of making and using the same
US2544659A (en) 1946-05-14 1951-03-13 John F Dreyer Dichroic light-polarizing sheet materials and the like and the formation and use thereof
US3522985A (en) * 1965-10-23 1970-08-04 Polaroid Corp High-transmission light polarizer
US3528723A (en) * 1967-08-30 1970-09-15 Polaroid Corp Light polarizing device
US3941901A (en) 1974-02-15 1976-03-02 Hoffmann-La Roche Inc. Surface alignment method for liquid crystal cells and production of polarizers therefor
JP2510873B2 (ja) 1988-01-18 1996-06-26 日本化薬株式会社 偏光板
US5486949A (en) * 1989-06-20 1996-01-23 The Dow Chemical Company Birefringent interference polarizer
US5126880A (en) 1990-12-18 1992-06-30 The Dow Chemical Company Polymeric reflective bodies with multiple layer types
JP3273955B2 (ja) * 1991-04-09 2002-04-15 キヤノン株式会社 画像投影装置
RU2017186C1 (ru) * 1991-04-30 1994-07-30 Малое предприятие "Инком" Жидкокристаллический экран и способ его изготовления
RU2013794C1 (ru) 1991-07-26 1994-05-30 Московское научно-производственное объединение "НИОПИК" Жидкокристаллический индикаторный элемент
USRE37377E1 (en) * 1992-10-09 2001-09-18 Asahi Glass Company, Ltd. LCD device including an illumination device having a polarized light separating sheet between a light guide and the display
EP0596531B1 (en) * 1992-11-06 1997-07-09 Kabushiki Kaisha Toshiba Antireflection film and display apparatus comprising the same
TW289095B (ja) * 1993-01-11 1996-10-21
US5408321A (en) * 1993-06-07 1995-04-18 E. I. Du Pont De Nemours And Company Apparatus for measurement of specific dichroism of sheet materials
DE4328785A1 (de) * 1993-08-26 1995-03-02 Consortium Elektrochem Ind Optische Elemente mit abbildender farb- und polarisationsselektiver Reflexion enthaltend cholesterische Flüssigkristalle sowie Herstellung und Verwendung dieser Elemente
MY121195A (en) * 1993-12-21 2006-01-28 Minnesota Mining & Mfg Reflective polarizer with brightness enhancement
JP2942129B2 (ja) * 1993-12-24 1999-08-30 シャープ株式会社 投影型カラー液晶表示装置
RU2110818C1 (ru) * 1995-07-31 1998-05-10 Поларайзер Интернэшнл, ЛЛСи Дихроичный поляризатор света и способ его изготовления
EP0792257B1 (en) 1994-11-18 2003-04-09 Optiva, Inc. Material for dichroic light polarizers
US5650873A (en) 1995-01-30 1997-07-22 Lockheed Missiles & Space Company, Inc. Micropolarization apparatus
US5757547A (en) * 1995-04-24 1998-05-26 Polycom, Inc. High efficiency homogeneous polarization converter
US6081378A (en) * 1995-04-24 2000-06-27 Polycom, Inc. High efficiency homogeneous polarization converter
US6088067A (en) 1995-06-26 2000-07-11 3M Innovative Properties Company Liquid crystal display projection system using multilayer optical film polarizers
RU2120651C1 (ru) 1996-04-15 1998-10-20 Поларайзер Интернэшнл, ЛЛСи Жидкокристаллический индикаторный элемент
US6028703A (en) * 1997-03-14 2000-02-22 Nikon Corporation High-efficiency polarizing arrangement and projection apparatus using the same
CN1163765C (zh) * 1997-05-09 2004-08-25 罗利克有限公司 光学元件和包含它的防伪或防拷贝元器件
CN100409043C (zh) * 1997-12-16 2008-08-06 “尼奥匹克”俄罗斯联邦全国科技中心 偏振片和液晶显示元件
US6784961B2 (en) * 2000-05-31 2004-08-31 Sony Corporation Apparatus and method for displaying image

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08511109A (ja) * 1993-05-21 1996-11-19 ロシアン テクノロジー グループ 熱安定で且つ耐光堅牢な二色偏光子
JPH09507308A (ja) * 1993-12-21 1997-07-22 ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー 光学偏光装置
JPH08258208A (ja) * 1995-03-17 1996-10-08 Hitachi Ltd 反射防止膜及びその反射防止膜を備える表示装置

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7132138B2 (en) 2000-12-06 2006-11-07 Nitto Denko Corporation Liquid crystal information displays
JP2010033040A (ja) * 2008-06-30 2010-02-12 Fujifilm Corp 光学補償フィルム、及び液晶表示装置
JP2012513611A (ja) * 2008-12-22 2012-06-14 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 並列する偏光子/偏光子ゾーンを有する多層光学フィルム
WO2011067959A1 (ja) * 2009-12-04 2011-06-09 日東電工株式会社 偏光膜生成用コーティング液及び偏光膜
JP2013532845A (ja) * 2010-07-23 2013-08-19 エルジー・ケム・リミテッド 光学フィルム
US9316769B2 (en) 2010-07-23 2016-04-19 Lg Chem, Ltd. Optical film
JP2016128910A (ja) * 2010-07-23 2016-07-14 エルジー・ケム・リミテッド 反射型偏光板及びディスプレイ装置
JP2019512883A (ja) * 2016-03-10 2019-05-16 レッド バンク テクノロジーズ リミテッド ライアビリティ カンパニー キラル液晶性エミッタを利用する帯域縁部放出強化有機発光ダイオード
JP7181796B2 (ja) 2016-03-10 2022-12-01 レッド バンク テクノロジーズ リミテッド ライアビリティ カンパニー キラル液晶性エミッタを利用する帯域縁部放出強化有機発光ダイオード
US12207551B2 (en) 2016-03-10 2025-01-21 Red Bank Technologies Llc Band edge emission enhanced organic light emitting diode utilizing chiral liquid crystalline emitter

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DE69825251D1 (de) 2004-09-02

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