JP2002080484A - Phosphorus containing hydroquinone derivative, method for producing the same and flame retardant - Google Patents
Phosphorus containing hydroquinone derivative, method for producing the same and flame retardantInfo
- Publication number
- JP2002080484A JP2002080484A JP2001191818A JP2001191818A JP2002080484A JP 2002080484 A JP2002080484 A JP 2002080484A JP 2001191818 A JP2001191818 A JP 2001191818A JP 2001191818 A JP2001191818 A JP 2001191818A JP 2002080484 A JP2002080484 A JP 2002080484A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- general formula
- phosphorus
- following general
- hydroquinone
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 48
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 47
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 title claims abstract description 46
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 title claims abstract description 32
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 29
- 125000000687 hydroquinonyl group Chemical class C1(O)=C(C=C(O)C=C1)* 0.000 title claims abstract 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 12
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 31
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 25
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims abstract description 24
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 11
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims abstract description 10
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 claims abstract description 9
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 8
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims abstract description 7
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims abstract description 6
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 5
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N phosphine group Chemical group P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 claims description 7
- 150000004057 1,4-benzoquinones Chemical class 0.000 claims description 6
- 125000002993 cycloalkylene group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 claims description 4
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 abstract description 31
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 abstract description 31
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 10
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 36
- 150000005208 1,4-dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 26
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 description 20
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 18
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 14
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 13
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 11
- -1 ester compound Chemical class 0.000 description 10
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 10
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 10
- 239000000047 product Substances 0.000 description 9
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- FRASJONUBLZVQX-UHFFFAOYSA-N 1,4-naphthoquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C=CC(=O)C2=C1 FRASJONUBLZVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 6
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 6
- PCILLCXFKWDRMK-UHFFFAOYSA-N 1,4-Hydronaphthoquinone Natural products C1=CC=C2C(O)=CC=C(O)C2=C1 PCILLCXFKWDRMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 4
- YVXVNGVYXSQARS-UHFFFAOYSA-N diethyl(oxo)phosphanium Chemical compound CC[P+](=O)CC YVXVNGVYXSQARS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 4
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 4
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N TOTP Chemical compound CC1=CC=CC=C1OP(=O)(OC=1C(=CC=CC=1)C)OC1=CC=CC=C1C YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 3
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 3
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 3
- VYXHVRARDIDEHS-UHFFFAOYSA-N 1,5-cyclooctadiene Chemical compound C1CC=CCCC=C1 VYXHVRARDIDEHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004912 1,5-cyclooctadiene Substances 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N [3-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=CC(CN)=C1 FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940058905 antimony compound for treatment of leishmaniasis and trypanosomiasis Drugs 0.000 description 2
- 150000001463 antimony compounds Chemical class 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N lithium diisopropylamide Chemical compound [Li+].CC(C)[N-]C(C)C ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- NXPPAOGUKPJVDI-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2-diol Chemical class C1=CC=CC2=C(O)C(O)=CC=C21 NXPPAOGUKPJVDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 2
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 2
- GQAXWUVTNDQEQR-UHFFFAOYSA-N 1-diethylphosphoryloxyethane Chemical compound CCOP(=O)(CC)CC GQAXWUVTNDQEQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-cyano-4-methylpentan-2-yl)diazenyl]-2,4-dimethylpentanenitrile Chemical compound CC(C)CC(C)(C#N)N=NC(C)(C#N)CC(C)C WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZTDSGCADFWGKM-UHFFFAOYSA-N 3-[bis(3-hydroxypropyl)phosphoryl]propan-1-ol Chemical compound OCCCP(=O)(CCCO)CCCO SZTDSGCADFWGKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100029203 F-box only protein 8 Human genes 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100334493 Homo sapiens FBXO8 gene Proteins 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 101100273357 Pisum sativum AB80 gene Proteins 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940092714 benzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 125000002529 biphenylenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3C12)* 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- ACLBAKCXXIZYJV-UHFFFAOYSA-N chembl1463773 Chemical compound C=1C=CC=CC=1CP(=O)CC1=CC=CC=C1 ACLBAKCXXIZYJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XENVCRGQTABGKY-ZHACJKMWSA-N chlorohydrin Chemical compound CC#CC#CC#CC#C\C=C\C(Cl)CO XENVCRGQTABGKY-ZHACJKMWSA-N 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 125000004966 cyanoalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004976 cyclobutylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004978 cyclooctylene group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001983 dialkylethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 238000004992 fast atom bombardment mass spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 239000012362 glacial acetic acid Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005020 hydroxyalkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 125000000555 isopropenyl group Chemical group [H]\C([H])=C(\*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- UBJFKNSINUCEAL-UHFFFAOYSA-N lithium;2-methylpropane Chemical compound [Li+].C[C-](C)C UBJFKNSINUCEAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004957 naphthylene group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 1
- 150000002903 organophosphorus compounds Chemical class 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- MPQXHAGKBWFSNV-UHFFFAOYSA-N oxidophosphanium Chemical class [PH3]=O MPQXHAGKBWFSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000466 oxiranyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004817 pentamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- KHIWWQKSHDUIBK-UHFFFAOYSA-N periodic acid Chemical compound OI(=O)(=O)=O KHIWWQKSHDUIBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N potassium tert-butoxide Chemical compound [K+].CC(C)(C)[O-] LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N propionitrile Chemical compound CCC#N FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 238000002407 reforming Methods 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N sodium ethoxide Chemical compound [Na+].CC[O-] QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 125000005156 substituted alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000001721 transfer moulding Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000002759 woven fabric Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Fireproofing Substances (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 反応性難燃剤や含リンエポキシ樹脂の中間原
料として有用な含リンハイドロキノン誘導体を提供す
る。
【解決手段】 下記一般式(1)で表される含リンハイ
ドロキノン誘導体。
【化1】
(R1 およびR2 は置換されていてもよい直鎖状又は分
岐状のアルキル基を示し、該アルキル基中の1つあるい
は2つ以上のメチレン基は−CH=CH−によって置き
換えられていてもよく、それぞれが同一な基であっても
異なる基であってもよく、またR1とR2はPを含んであ
るいはPを含まないで環状物を形成してもよい。Xは酸
素原子又は硫黄原子を示す。Y、Zは水素原子、水酸
基、直鎖状又は分岐状のアルキル基、アラルキル基、ア
ルコキシ基、アリル基、アリール基又はシアノ基を示
し、YとZは環状物を形成してもよい。)(57) [Problem] To provide a phosphorus-containing hydroquinone derivative useful as an intermediate material for a reactive flame retardant or a phosphorus-containing epoxy resin. A phosphorus-containing hydroquinone derivative represented by the following general formula (1). Embedded image (R 1 and R 2 each represent a linear or branched alkyl group which may be substituted, and one or more methylene groups in the alkyl group may be replaced by -CH = CH-. And R 1 and R 2 may form a cyclic substance containing or not containing P. X represents an oxygen atom Y and Z each represent a hydrogen atom, a hydroxyl group, a linear or branched alkyl group, an aralkyl group, an alkoxy group, an allyl group, an aryl group or a cyano group, and Y and Z form a cyclic substance. May be used.)
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、含リンハイドロキ
ノン誘導体、その製造方法および難燃剤に関し、特にエ
ポキシ樹脂等を難燃化する目的で使用する、反応性難燃
剤として有用な含リンハイドロキノン誘導体およびその
製造方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a phosphorus-containing hydroquinone derivative, a method for producing the same, and a flame retardant. The present invention relates to the manufacturing method.
【0002】[0002]
【従来の技術】エポキシ樹脂は接着性、耐熱性、成形性
に優れていることから電子部品、電気機器、自動車部
品、FRP、スポーツ用品などの広い範囲で使用されて
いる。これらの中、電気部品、電気機器に使用される銅
張り積層板や封止材には難燃剤、特に臭素化エポキシ樹
脂やアンチモン化合物が使用されている。しかしなが
ら、含ハロゲン化物やアンチモン化合物は、人体に対す
る安全性が危惧され、こうしたことから、環境を配慮し
た難燃剤が望まれている。2. Description of the Related Art Epoxy resins are widely used in electronic parts, electric equipment, automobile parts, FRP, sporting goods, etc. because of their excellent adhesiveness, heat resistance and moldability. Of these, flame retardants, particularly brominated epoxy resins and antimony compounds, are used for copper-clad laminates and sealing materials used for electric components and electric equipment. However, halogen-containing compounds and antimony compounds are feared for their safety to the human body. Therefore, environmentally friendly flame retardants are desired.
【0003】従来、エポキシ樹脂の難燃化方法として
は、添加型の難燃剤をエポキシ樹脂に混練配合する方
法、反応性の難燃剤により、エポキシ樹脂と難燃剤とを
化学結合させてエポキシ樹脂を改質する方法等が提案さ
れている。[0003] Conventionally, as a method for making an epoxy resin flame-retardant, an addition-type flame retardant is kneaded and mixed with an epoxy resin, or a reactive flame retardant is used to chemically bond the epoxy resin and the flame retardant to form the epoxy resin. A reforming method and the like have been proposed.
【0004】添加型の難燃剤を用いる方法としては、例
えば、水和アルミナを用いる方法(特開平05−253
69号公報)、改質赤りんを用いる方法(特開昭63−
156860号公報)、改質赤りんと水和アルミナを用
いる方法(特開昭58−198521号公報)等が提案
されている。しかしながら、これらの添加型の難燃剤を
用いた場合には、難燃剤の添加量が多くなり、得られる
材料の成形性に問題がある。As a method of using an addition type flame retardant, for example, a method of using hydrated alumina (JP-A-05-253)
No. 69), a method using a modified red phosphorus (JP-A-63-1988).
156860) and a method using a modified red phosphorus and hydrated alumina (Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-198521). However, when these additive-type flame retardants are used, the amount of the flame retardant added increases, and there is a problem in the moldability of the obtained material.
【0005】一方、反応性の難燃剤を用いる方法は、難
燃剤の添加量が少なくてすむことから、各種のものが提
案されている。On the other hand, various methods using a reactive flame retardant have been proposed because the amount of the flame retardant to be added is small.
【0006】例えば、トリス(ヒドロキシプロピル)ホ
スフィンオキシドを用いる方法(特開昭57−1951
41号公報)、下記一般式(4)For example, a method using tris (hydroxypropyl) phosphine oxide (JP-A-57-1951)
No. 41), the following general formula (4)
【0007】[0007]
【化10】 Embedded image
【0008】(式中、x=0〜2、y=1〜3であり、
かつx+y=3、Rはメチレン基、エチレン基を示
す。)で表されるホスフィンオキシド誘導体を用いる方
法(特開昭63−95223号公報)、下記一般式
(5)(Where x = 0 to 2, y = 1 to 3;
And x + y = 3, and R represents a methylene group or an ethylene group. Using a phosphine oxide derivative represented by the following formula (JP-A-63-95223);
【0009】[0009]
【化11】 Embedded image
【0010】又は、下記一般式(6)Alternatively, the following general formula (6)
【0011】[0011]
【化12】 Embedded image
【0012】(式中、Rは炭素数1〜6のアルキル基、
nは0〜4を示す)で表される有機リン化合物を用いる
方法(特開平11−279258号公報、特開平11−
166035号公報)、ホスホン酸とオキシラン基を有
するポリエポキシ化合物又はエピハロヒドリンとを反応
させて得られるホスホン酸のエポキシエステル化合物を
用いる方法(特開昭51−143620号公報、特開平
03−84025号公報、特開平02−272014号
公報、特開平02−269730号公報)等が提案され
ている。Wherein R is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms;
a method using an organophosphorus compound represented by the following formula (n represents 0 to 4) (JP-A-11-279258, JP-A-11-279258)
No. 166035), a method using an epoxy ester compound of phosphonic acid obtained by reacting phosphonic acid with a polyepoxy compound having an oxirane group or epihalohydrin (JP-A-51-143620, JP-A-03-84025). JP-A-02-272014 and JP-A-02-269730) have been proposed.
【0013】[0013]
【発明が解決しようとする課題】また、特開2000−
80251号公報には、下記一般式(7)SUMMARY OF THE INVENTION In addition, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-2000
No. 80251 discloses the following general formula (7)
【0014】[0014]
【化13】 Embedded image
【0015】(式中、R’は2個以上のフェノール性O
H基を含む化合物、n’は0乃至3の整数であり、R”
は1〜8個の炭素原子を有する直鎖状または分岐状のア
ルキル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基又はア
リール基または1〜18個の炭素原子を有するアルキル
またはアルコキシ置換アルキル基またはアリール基であ
り、R”はP原子と共に環を形成してもよく、mは0又
は1である)で表されるリン含有化合物を用いる方法が
開示されている。この公報には、反応性難燃剤として非
常に広範囲のリン含有化合物が含まれる様に記載されて
いるが、実際に難燃性を示すものとして確かめられてい
るものは燐原子−酸素原子(P−O)の結合を有する化
合物が開示されているだけである。(Wherein R ′ represents two or more phenolic O
A compound containing an H group, n ′ is an integer of 0 to 3, and R ″
Is a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a cyclohexyl group, a cyclopentyl group or an aryl group or an alkyl or alkoxy-substituted alkyl group or an aryl group having 1 to 18 carbon atoms, R ″ may form a ring together with the P atom, and m is 0 or 1.) This publication discloses a method using a phosphorus-containing compound represented by the following formula: Although it is described that a wide range of phosphorus-containing compounds is included, compounds that have been confirmed to actually exhibit flame retardancy include compounds having a phosphorus atom-oxygen atom (PO) bond. I'm just there.
【0016】しかしながら、反応性難燃剤によるエポキ
シ樹脂の難燃化方法としては上記したとおり種々提案さ
れているものの、難燃効果が発揮されるまでエポキシ樹
脂のリン含有量を上げるのが困難であったり、また燐原
子−酸素原子(P−O)の結合を有するものは、耐湿
性、耐薬品性に劣るという問題がある。[0016] However, as described above, various methods for making an epoxy resin flame-retardant with a reactive flame retardant have been proposed, but it is difficult to increase the phosphorus content of the epoxy resin until the flame-retardant effect is exhibited. In addition, those having a phosphorus atom-oxygen atom (PO) bond have a problem that they are inferior in moisture resistance and chemical resistance.
【0017】即ち、本発明の課題は、エポキシ樹脂やエ
ピクロロヒドリンと反応するフェノール性OH基を有す
る反応性難燃剤として有用な新規な含リンハイドロキノ
ン誘導体および該含リンハイドロキノン誘導体を工業的
に有利な方法で製造することが出来る製造方法を提供す
ることにある。That is, an object of the present invention is to provide a novel phosphorus-containing hydroquinone derivative useful as a reactive flame retardant having a phenolic OH group that reacts with an epoxy resin or epichlorohydrin, and to produce the phosphorus-containing hydroquinone derivative industrially. An object of the present invention is to provide a manufacturing method that can be manufactured by an advantageous method.
【0018】また、本発明の課題は、該含リンハイドロ
キノン誘導体を用いた反応性難燃剤を提供することにあ
る。Another object of the present invention is to provide a reactive flame retardant using the phosphorus-containing hydroquinone derivative.
【0019】[0019]
【課題を解決するための手段】かかる課題は、下記一般
式(1)The problem is solved by the following general formula (1)
【0020】[0020]
【化14】 Embedded image
【0021】(式中、R1およびR2は置換されていても
よい直鎖状又は分岐状のアルキル基を示し、該アルキル
基中の1つあるいは2つ以上のメチレン基は−CH=C
H−によって置き換えられていてもよく、R1とR2は同
一な基であっても異なる基であってもよく、またR1と
R2はPを含んであるいはPを含まないで環状物を形成
していてもよい。Xは酸素原子又は硫黄原子を示す。(Wherein R 1 and R 2 represent an optionally substituted linear or branched alkyl group, and one or more methylene groups in the alkyl group may be -CHCHC
May be replaced by H-, R 1 and R 2 may be the same or different groups, and R 1 and R 2 may be cyclic with or without P May be formed. X represents an oxygen atom or a sulfur atom.
【0022】Y、Zは水素原子、水酸基、直鎖状又は分
岐状のアルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、アリ
ル基、アリール基又はシアノ基を示し、該アルキル基中
の1つあるいは2つ以上のメチレン基は−CH=CH−
によって置き換えられていてもよく、YとZは同一な基
であっても異なる基であってもよく、YとZは環状物を
形成していてもよい。)で表されることを特徴とする含
リンハイドロキノン誘導体により達成される。Y and Z each represent a hydrogen atom, a hydroxyl group, a linear or branched alkyl group, an aralkyl group, an alkoxy group, an allyl group, an aryl group or a cyano group, and one or more of the alkyl groups Methylene group is -CH = CH-
And Y and Z may be the same or different groups, and Y and Z may form a cyclic substance. This is achieved by a phosphorus-containing hydroquinone derivative represented by the following formula:
【0023】前記R1とR2が形成する環状物は、下記一
般式(12)または一般式(13)で表されるものが好
ましい。The cyclic substance formed by R 1 and R 2 is preferably represented by the following general formula (12) or (13).
【0024】[0024]
【化15】 (式中、R3は置換されていてもよいアルキレン基を示
す。)Embedded image (In the formula, R 3 represents an alkylene group which may be substituted.)
【0025】[0025]
【化16】 (式中、R4は置換されていてもよいシクロアルキレン
基またはアリーレン基を示す。)Embedded image (In the formula, R 4 represents a cycloalkylene group or an arylene group which may be substituted.)
【0026】また、前記一般式(1)で表される含リン
ハイドロキノン誘導体の第一の製造方法は、下記一般式
(2)The first method for producing the phosphorus-containing hydroquinone derivative represented by the general formula (1) is represented by the following general formula (2)
【0027】[0027]
【化17】 Embedded image
【0028】(式中、R1およびR2及びXは前記と同義
である。)で表される第2級ホスフィン誘導体から選ば
れる少なくとも1種と、下記一般式(3)(Wherein R 1, R 2 and X are as defined above), and at least one selected from secondary phosphine derivatives represented by the following general formula (3):
【0029】[0029]
【化18】 Embedded image
【0030】(式中、Y、Zは前記と同義である。)で
表されるベンゾキノン誘導体とを反応させることを特徴
とすることにより達成される。(Wherein, Y and Z have the same meanings as described above).
【0031】また、前記一般式(1)で表される含リン
ハイドロキノン誘導体の第二の製造方法は、下記一般式
(2)および一般式(2a)The second method for producing the phosphorus-containing hydroquinone derivative represented by the general formula (1) includes the following general formulas (2) and (2a).
【0032】[0032]
【化19】 Embedded image
【0033】(式中、R1およびR2及びXは前記と同義
である。)で表される第2級ホスフィン誘導体から選ば
れる少なくとも1種と、下記一般式(3)(Wherein R 1, R 2 and X have the same meanings as described above), and at least one selected from secondary phosphine derivatives represented by the following general formula (3):
【0034】[0034]
【化20】 Embedded image
【0035】(式中、Y、Zは前記と同義である。)で
表されるベンゾキノン誘導体とを反応させることを特徴
とすることにより達成される。(Wherein, Y and Z have the same meanings as described above).
【0036】さらに、本発明は、上記の含リンハイドロ
キノン誘導体を含有することを特徴とする難燃剤であ
る。Further, the present invention is a flame retardant comprising the above-mentioned phosphorus-containing hydroquinone derivative.
【0037】[0037]
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の含リンハイドロキノン誘導体は、下記一般式
(1)で表される。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The phosphorus-containing hydroquinone derivative of the present invention is represented by the following general formula (1).
【0038】[0038]
【化21】 Embedded image
【0039】一般式(1)式中、R1およびR2は、置換
されていてもよい直鎖状又は分岐状のアルキル基を示
し、アルキル基としては、炭素数1〜18、好ましくは
炭素数1〜8のアルキル基であり、具体的には、メチル
基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、3級ブチ
ル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキ
シル基等のアルキル基を例示することが出来る。また、
式中のR1とR2は、それぞれが同一の基であっても異な
る基であってもよい。また、該アルキル基中の1つある
いは2つ以上のメチレン基は−CH=CH−によって置
き換えられていてもよく、具体的には、ビニル基、アリ
ル基、イソプロペニル基等が挙げられる。In the general formula (1), R 1 and R 2 each represent a linear or branched alkyl group which may be substituted, and the alkyl group has 1 to 18 carbon atoms, preferably It is an alkyl group of Formulas 1 to 8, and specific examples thereof include alkyl groups such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a tertiary butyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, and a cyclohexyl group. . Also,
R 1 and R 2 in the formula may be the same or different groups. One or more methylene groups in the alkyl group may be replaced by -CH = CH-, and specific examples include a vinyl group, an allyl group, and an isopropenyl group.
【0040】また、R1およびR2は置換されていてもよ
く、置換基としてはフェニル基、アルコキシ基、シアノ
基、水酸基等が挙げられる。置換されているR1および
R2は、具体的には、ベンジル基等のアラルキル基、シ
アノアルキル基、シアノアルケニル基、ヒドロキシアル
キル基、ヒドロキシアルケニル基等が挙げられる。R 1 and R 2 may be substituted, and examples of the substituent include a phenyl group, an alkoxy group, a cyano group and a hydroxyl group. Specific examples of the substituted R 1 and R 2 include an aralkyl group such as a benzyl group, a cyanoalkyl group, a cyanoalkenyl group, a hydroxyalkyl group, and a hydroxyalkenyl group.
【0041】また、R1とR2はPを含んであるいはPを
含まないで環状物を形成していてもよい。R1およびR2
がPを含んで環状物を形成する場合は、下記一般式(1
2)で表される結合で形成された環状物が挙げられ
る。.Further, R 1 and R 2 may form a cyclic substance containing P or not containing P. R 1 and R 2
Forms a cyclic substance containing P, the following general formula (1)
Cyclic substances formed by the bond represented by 2). .
【化22】 Embedded image
【0042】一般式(12)中、R3は置換されていて
もよいアルキレン基を示す。In the general formula (12), R 3 represents an optionally substituted alkylene group.
【0043】アルキレン基としては、炭素数3〜9、好
ましくは炭素数4〜6のアルキレン基であり、具体的に
は、プロピレン基、ブチレン基、ペンタメチレン基、ヘ
キサメチレン基、ヘプタメチレン基、オクタメチレン
基、ノナメチレン基等を挙げることができる。R3は置
換されていてもよく、置換基としてはフェニル基、アル
コキシ基、シアノ基、水酸基等が挙げられる。The alkylene group is an alkylene group having 3 to 9 carbon atoms, preferably 4 to 6 carbon atoms, and specifically includes a propylene group, a butylene group, a pentamethylene group, a hexamethylene group, a heptamethylene group, Examples include an octamethylene group and a nonamethylene group. R 3 may be substituted, and examples of the substituent include a phenyl group, an alkoxy group, a cyano group, and a hydroxyl group.
【0044】R1およびR2がPを含まないで環状物を形
成する場合は、下記一般式(13)で表される結合で形
成された環状物が挙げられる。When R 1 and R 2 do not contain P to form a cyclic substance, a cyclic substance formed by a bond represented by the following general formula (13) can be mentioned.
【0045】[0045]
【化23】 Embedded image
【0046】一般式(13)中、R4は置換されていて
もよいシクロアルキレン基またはアリーレン基を示す。In the general formula (13), R 4 represents a cycloalkylene group or an arylene group which may be substituted.
【0047】シクロアルキレン基としては、炭素数4〜
9、好ましくは炭素数5〜7のシクロアルキレン基であ
り、具体的には、シクロブチレン基、シクロペンタメチ
レン基、シクロヘキサメチレン基、シクロヘプタメチレ
ン基、シクロオクチレン基、シクロノニレン基等を挙げ
ることができる。The cycloalkylene group has 4 to 4 carbon atoms.
9, preferably a cycloalkylene group having 5 to 7 carbon atoms, and specific examples thereof include a cyclobutylene group, a cyclopentamethylene group, a cyclohexamethylene group, a cycloheptamethylene group, a cyclooctylene group, and a cyclononylene group. be able to.
【0048】アリーレン基としては、フェニレン基、ビ
フェニレン基、ナフチレン基等を挙げることができる。Examples of the arylene group include a phenylene group, a biphenylene group and a naphthylene group.
【0049】R4は置換されていてもよく、置換基とし
てはフェニル基、アルコキシ基、シアノ基、水酸基等が
挙げられる。また、これらのR3およびR4の置換基の中
に、酸素原子,硫黄原子,窒素原子等のヘテロ原子が含
まれていても良い。R 4 may be substituted, and examples of the substituent include a phenyl group, an alkoxy group, a cyano group and a hydroxyl group. Further, in the substituents of R 3 and R 4 , a hetero atom such as an oxygen atom, a sulfur atom and a nitrogen atom may be contained.
【0050】式中のXは酸素原子、硫黄原子を示し、好
ましくは酸素原子である。式中のY、Zは、水素原子、
水酸基、直鎖状又は分岐状のアルキル基、ベンジル基等
のアラルキル基、アリル基、フェニル基等のアリール
基、メトキシ基,エトキシ基,プロポキシ基,フェニル
オキシ基等のアルコキシ基またはシアノ基を示す。アル
キル基としては、炭素数1〜18、好ましくは炭素数1
〜6であり、具体的には、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、イソプロピル基、3級ブチル基、シクロヘキシル
基等のアルキル基を例示することが出来る。該アルキル
基中の1つあるいは2つ以上のメチレン基は−CH=C
H−によって置き換えられていてもよい。また、Y及び
Zは、それぞれが同一の基であっても異なる基であって
もよい。X in the formula represents an oxygen atom or a sulfur atom, and is preferably an oxygen atom. Y and Z in the formula are a hydrogen atom,
A hydroxyl group, a linear or branched alkyl group, an aralkyl group such as a benzyl group, an aryl group such as an allyl group or a phenyl group, an alkoxy group such as a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, and a phenyloxy group; . The alkyl group has 1 to 18 carbon atoms, preferably 1 carbon atom.
And specifically, an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a tertiary butyl group, and a cyclohexyl group. One or more methylene groups in the alkyl group is -CH = C
It may be replaced by H-. Y and Z may be the same or different groups.
【0051】またYとZは環状物を形成している基でも
よく、Y及びZが環状物を形成している基の例示として
は、下記の式および名称で示される環状基が挙げられ
る。Further, Y and Z may be groups forming a cyclic substance, and examples of the group wherein Y and Z form a cyclic substance include the cyclic groups represented by the following formulas and names.
【0052】[0052]
【化24】 Embedded image
【0053】但し、()内の名称はハイドロキノンを含
む環の名称を表わす。また,これらの置換基の中に、酸
素原子,硫黄原子,窒素原子等のヘテロ原子が含まれて
いても良い。However, the name in parentheses indicates the name of the ring containing hydroquinone. Further, these substituents may contain a hetero atom such as an oxygen atom, a sulfur atom and a nitrogen atom.
【0054】前記一般式(1)で表される含リンハイド
ロキノン誘導体の具体的な化合物を例示すると、ジメチ
ルホスホニル−1,4−ハイドロキノン、ジエチルホス
ホニル−1,4−ハイドロキノン、ジ−n−プロピルホ
スホニル−1,4−ハイドロキノン、ジ−iso−プロ
ピルホスホニル−1,4−ハイドロキノン、ジ−n−ブ
チルホスホニル−1,4−ハイドロキノン、ジ−sec
−ブチルホスホニル−1,4−ハイドロキノン、ジ−t
ert−ブチルホスホニル−1,4−ハイドロキノン、
ジベンジルホスホニル−1,4−ハイドロキノン、Specific examples of the phosphorus-containing hydroquinone derivative represented by the general formula (1) include dimethylphosphonyl-1,4-hydroquinone, diethylphosphonyl-1,4-hydroquinone, and di-n- Propylphosphonyl-1,4-hydroquinone, di-iso-propylphosphonyl-1,4-hydroquinone, di-n-butylphosphonyl-1,4-hydroquinone, di-sec
-Butylphosphonyl-1,4-hydroquinone, di-t
tert-butylphosphonyl-1,4-hydroquinone,
Dibenzylphosphonyl-1,4-hydroquinone,
【0055】メチルエチルホスホニル−1,4−ハイド
ロキノン、メチル−n−プロピルホスホニル−1,4−
ハイドロキノン、メチル−n−ブチルホスホニル−1,
4−ハイドロキノン、メチル−iso−ブチルホスホニ
ル−1,4−ハイドロキノン、メチル−sec−ブチル
ホスホニル−1,4−ハイドロキノン、メチル−ter
t−ブチルホスホニル−1,4−ハイドロキノン、エチ
ル−n−プロピルホスホニル−1,4−ハイドロキノ
ン、エチル−iso−プロピルホスホニル−1,4−ハ
イドロキノン、エチル−tert−ブチルホスホニル−
1,4−ハイドロキノン、Methylethylphosphonyl-1,4-hydroquinone, methyl-n-propylphosphonyl-1,4-
Hydroquinone, methyl-n-butylphosphonyl-1,
4-hydroquinone, methyl-iso-butylphosphonyl-1,4-hydroquinone, methyl-sec-butylphosphonyl-1,4-hydroquinone, methyl-ter
t-butylphosphonyl-1,4-hydroquinone, ethyl-n-propylphosphonyl-1,4-hydroquinone, ethyl-iso-propylphosphonyl-1,4-hydroquinone, ethyl-tert-butylphosphonyl-
1,4-hydroquinone,
【0056】n−プロピル−iso−プロピルホスホニ
ル−1,4−ハイドロキノン、n−プロピル−n−ブチ
ルホスホニル−1,4−ハイドロキノン、n−プロピル
−sec−ブチルホスホニル−1,4−ハイドロキノ
ン、n−ブチル−sec−ブチルホスホニル−1,4−
ハイドロキノン、n−ブチル−tert−ブチルホスホ
ニル−1,4−ハイドロキノン、N-propyl-iso-propylphosphonyl-1,4-hydroquinone, n-propyl-n-butylphosphonyl-1,4-hydroquinone, n-propyl-sec-butylphosphonyl-1,4-hydroquinone, n-butyl -Sec-butylphosphonyl-1,4-
Hydroquinone, n-butyl-tert-butylphosphonyl-1,4-hydroquinone,
【0057】プロピレンホスホニル−1,4−ハイドロ
キノン、ブチレンホスホニル−1,4−ハイドロキノ
ン、ペンタメチレンホスホニル−1,4−ハイドロキノ
ン、ヘキサメチレンホスホニル−1,4−ハイドロキノ
ン、Propylenephosphonyl-1,4-hydroquinone, butylenephosphonyl-1,4-hydroquinone, pentamethylenephosphonyl-1,4-hydroquinone, hexamethylenephosphonyl-1,4-hydroquinone,
【0058】1,4−シクロペンチレンホスホニル−
1,4−ハイドロキノン、1,4−シクロオクチレンホ
スホニル−1,4−ハイドロキノン、1,5−シクロオ
クチレンホスホニル−1,4−ハイドロキノン、1,4-cyclopentylenephosphonyl-
1,4-hydroquinone, 1,4-cyclooctylenephosphonyl-1,4-hydroquinone, 1,5-cyclooctylenephosphonyl-1,4-hydroquinone,
【0059】2−(ジエチルホスホニル)−1,4−ナ
フタレンジオール、2−(ジメチルホスホニル)−1,
4−ナフタレンジオール、2−(ジエチルホスホニル)
−1,4−ナフタレンジオール、2−(ジ−n−プロピ
ルホスホニル)−1,4−ナフタレンジオール、2−
(ジ−iso−プロピルホスホニル)−1,4−ナフタ
レンジオール、2−(ジ−n−ブチルホスホニル)−
1,4−ナフタレンジオール、2−(ジ−sec−ブチ
ルホスホニル)−1,4−ナフタレンジオール、2−
(ジ−tert−ブチルホスホニル)−1,4−ナフタ
レンジオール、2−(ジベンジルホスホニル)−1,4
−ナフタレンジオール、2- (diethylphosphonyl) -1,4-naphthalenediol, 2- (dimethylphosphonyl) -1,
4-naphthalenediol, 2- (diethylphosphonyl)
-1,4-naphthalenediol, 2- (di-n-propylphosphonyl) -1,4-naphthalenediol, 2-
(Di-iso-propylphosphonyl) -1,4-naphthalenediol, 2- (di-n-butylphosphonyl)-
1,4-naphthalenediol, 2- (di-sec-butylphosphonyl) -1,4-naphthalenediol, 2-
(Di-tert-butylphosphonyl) -1,4-naphthalenediol, 2- (dibenzylphosphonyl) -1,4
-Naphthalene diol,
【0060】2−(メチルエチルホスホニル)−1,4
−ナフタレンジオール、2−(メチル−n−プロピルホ
スホニル)−1,4−ナフタレンジオール、2−(メチ
ル−n−ブチルホスホニル)−1,4−ナフタレンジオ
ール、2−(メチル−iso−ブチルホスホニル)−
1,4−ナフタレンジオール、2−(メチル−sec−
ブチルホスホニル)−1,4−ナフタレンジオール、2
−(メチル−tert−ブチルホスホニル)−1,4−
ナフタレンジオール、2−(エチル−n−プロピルホス
ホニル)−1,4−ナフタレンジオール、2−(エチル
−iso−プロピルホスホニル)−1,4−ナフタレン
ジオール、2−(エチル−tert−ブチルホスホニ
ル)−1,4−ナフタレンジオール、2- (methylethylphosphonyl) -1,4
-Naphthalenediol, 2- (methyl-n-propylphosphonyl) -1,4-naphthalenediol, 2- (methyl-n-butylphosphonyl) -1,4-naphthalenediol, 2- (methyl-iso-butylphosphonyl)-
1,4-naphthalenediol, 2- (methyl-sec-
Butylphosphonyl) -1,4-naphthalenediol, 2
-(Methyl-tert-butylphosphonyl) -1,4-
Naphthalene diol, 2- (ethyl-n-propylphosphonyl) -1,4-naphthalene diol, 2- (ethyl-iso-propylphosphonyl) -1,4-naphthalene diol, 2- (ethyl-tert-butylphosphonyl) -1,4-naphthalene diol,
【0061】2−(n−プロピル−iso−プロピルホ
スホニル)−1,4−ナフタレンジオール、2−(n−
プロピル−n−ブチルホスホニル)−1,4−ナフタレ
ンジオール、2−(n−プロピル−sec−ブチルホス
ホニル)−1,4−ナフタレンジオール、2−(n−ブ
チル−sec−ブチルホスホニル)−1,4−ナフタレ
ンジオール、2−(n−ブチル−tert−ブチルホス
ホニル)−1,4−ナフタレンジオール、2- (n-propyl-iso-propylphosphonyl) -1,4-naphthalenediol, 2- (n-
Propyl-n-butylphosphonyl) -1,4-naphthalenediol, 2- (n-propyl-sec-butylphosphonyl) -1,4-naphthalenediol, 2- (n-butyl-sec-butylphosphonyl) -1,4-naphthalene Diols, 2- (n-butyl-tert-butylphosphonyl) -1,4-naphthalenediol,
【0062】2−(プロピレンホスホニル)−1,4−
ナフタレンジオール、2−(ブチレンホスホニル)−
1,4−ナフタレンジオール、2−(ペンタメチレンホ
スホニル)−1,4−ナフタレンジオール、2−(ヘキ
サメチレンホスホニル)−1,4−ナフタレンジオー
ル、2- (propylenephosphonyl) -1,4-
Naphthalene diol, 2- (butylenephosphonyl)-
1,4-naphthalenediol, 2- (pentamethylenephosphonyl) -1,4-naphthalenediol, 2- (hexamethylenephosphonyl) -1,4-naphthalenediol,
【0063】2−(1,4−シクロペンチレンホスホニ
ル)−1,4−ナフタレンジオール、2−(1,4−シ
クロオクチレンホスホニル)−1,4−ナフタレンジオ
ール、2−(1,5−シクロオクチレンホスホニル)−
1,4−ナフタレンジオール、等を例示することが出来
る。2- (1,4-cyclopentylenephosphonyl) -1,4-naphthalenediol, 2- (1,4-cyclooctylenephosphonyl) -1,4-naphthalenediol, 2- (1, 5-cyclooctylenephosphonyl)-
Examples thereof include 1,4-naphthalene diol and the like.
【0064】なお、本発明においては、前記した含リン
ハイドロキノン誘導体は、反応原料から由来する該含リ
ンハイドロキノン誘導体同士の混合物であってもよい。In the present invention, the above-mentioned phosphorus-containing hydroquinone derivative may be a mixture of the phosphorus-containing hydroquinone derivatives derived from the reaction raw materials.
【0065】次いで、本発明の含リンハイドロキノン誘
導体の製造方法について説明する。本発明の前記一般式
(1)で表される含リンハイドロキノン誘導体は、下記
一般式(2)で表される第2級ホスフィン誘導体から選
ばれる少なくとも1種と、下記一般式(3)で表される
ベンゾキノン誘導体とを反応させることにその特徴があ
る。Next, a method for producing the phosphorus-containing hydroquinone derivative of the present invention will be described. The phosphorus-containing hydroquinone derivative represented by the general formula (1) of the present invention includes at least one selected from secondary phosphine derivatives represented by the following general formula (2) and a compound represented by the following general formula (3). Is characterized by reacting with a benzoquinone derivative.
【0066】下記一般式(2)The following general formula (2)
【0067】[0067]
【化25】 Embedded image
【0068】で表される第2級ホスフィン誘導体の式
中、R1とR2は、前記一般式(1)で表される含リンハ
イドロキノン誘導体の式中のそれぞれR1及びR2に相当
する基である。R1およびR2は、置換されていてもよい
直鎖状又は分岐状のアルキル基を示し、アルキル基とし
ては、炭素数1〜18、好ましくは炭素数1〜8のアル
キル基であり、具体的には、メチル基、エチル基、プロ
ピル基、イソプロピル基、3級ブチル基、シクロブチル
基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のアルキル
基を例示することが出来る。[0068] secondary wherein phosphine derivative represented by, R 1 and R 2 respectively correspond to R 1 and R 2 in the formula of the phosphorus-containing hydroquinone derivative represented by the general formula (1) Group. R 1 and R 2 represent a linear or branched alkyl group which may be substituted, and the alkyl group is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, preferably 1 to 8 carbon atoms. Specifically, an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a tertiary butyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, and a cyclohexyl group can be exemplified.
【0069】また、式中のR1とR2は、それぞれが同一
の基であっても異なる基であってもよい。また、該アル
キル基中の1つあるいは2つ以上のメチレン基は−CH
=CH−によって置き換えられていてもよい。また、R
1およびR2は置換されていてもよい。In the formula, R 1 and R 2 may be the same or different. One or more methylene groups in the alkyl group are -CH
= CH-. Also, R
1 and R 2 may be substituted.
【0070】また、R1とR2はPを含んであるいはPを
含まないで環状物を形成していてもよい。R1およびR2
がPを含んで環状物を形成する場合は、前記一般式(1
2)で表される結合で形成された環状物が挙げられる。
R1およびR2がPを含まないで環状物を形成する場合
は、前記一般式(13)で表される結合で形成された環
状物が挙げられる。また、式中のXは、前記一般式
(1)で表される含リンハイドロキノン誘導体の式中の
Xに相当し、酸素原子、硫黄原子を示し、好ましくは酸
素原子である。Further, R 1 and R 2 may form a cyclic substance containing P or not containing P. R 1 and R 2
Forms a cyclic material containing P, the above-mentioned general formula (1)
Cyclic substances formed by the bond represented by 2).
When R 1 and R 2 do not contain P to form a cyclic substance, a cyclic substance formed by the bond represented by the general formula (13) may be mentioned. X in the formula corresponds to X in the formula of the phosphorus-containing hydroquinone derivative represented by the general formula (1), and represents an oxygen atom or a sulfur atom, and is preferably an oxygen atom.
【0071】前記一般式(2)で表される第2級ホスフ
ィン誘導体は、公知の方法によって製造することができ
る。例えば、R1とR2とでPを含まない環を形成してい
るシクロアルキレンホスフィンオキシドの一例を示せ
ば、下記反応式(1)The secondary phosphine derivative represented by the general formula (2) can be produced by a known method. For example, the following reaction formula (1) shows an example of a cycloalkylenephosphine oxide in which R 1 and R 2 form a ring containing no P.
【0072】[0072]
【化26】 Embedded image
【0073】で表される反応により、ホスフィン(化合
物(8))と1,5−シクロオクタジエン(化合物
(9))をラジカル発生触媒の存在下に反応させて、
1,4−シクロオクチレンホスフィン(化合物(1
0))と1,5−シクロオクチレンホスフィン(化合物
(11))の混合物を得た後(特開昭55−12279
0号公報参照)、これを酸化することにより、目的とす
る1,4−シクロオクチレンホスフィンオキシドと1,
5−シクロオクチレンホスフィンオキシドの混合物を得
ることができる。By reacting phosphine (compound (8)) with 1,5-cyclooctadiene (compound (9)) in the presence of a radical generating catalyst,
1,4-cyclooctylenephosphine (compound (1
0)) and a mixture of 1,5-cyclooctylenephosphine (compound (11)) (JP-A-55-12279).
No. 0), and by oxidizing it, the desired 1,4-cyclooctylenephosphine oxide and 1,1
A mixture of 5-cyclooctylenephosphine oxides can be obtained.
【0074】また、本発明の前記一般式(1)で表され
る含リンハイドロキノン誘導体の製造方法において、前
記一般式(2)で表される第2級ホスフィン誘導体は、
互変異性体を形成していることから、反応原料の前記一
般式(2)で表される第2級ホスフィン誘導体に代え
て、下記一般式(2a)In the method for producing a phosphorus-containing hydroquinone derivative represented by the general formula (1) of the present invention, the secondary phosphine derivative represented by the general formula (2) is
Since a tautomer is formed, instead of the secondary phosphine derivative represented by the above general formula (2) as a reaction raw material, the following general formula (2a)
【0075】[0075]
【化27】 Embedded image
【0076】(式中、R1およびR2、Xは前記と同義で
ある。)で表される第2級ホスフィン誘導体を用いても
よい。(Wherein R 1, R 2 and X have the same meanings as described above).
【0077】また、前記一般式(2)および一般式(2
a)で表される第2級ホスフィン誘導体の互変異性体は
温度によって一方の誘導体となるが、反応原料としては
一般式(2)および一般式(2a)で表される第2級ホ
スフィン誘導体のいずれか一方でもよく、または両者の
混合物でもよい。Further, the general formula (2) and the general formula (2)
The tautomer of the secondary phosphine derivative represented by a) becomes one derivative depending on the temperature, and the secondary phosphine derivative represented by the general formula (2) or (2a) is used as a reaction raw material. , Or a mixture of both.
【0078】前記一般式(2a)で表される第2級ホス
フィン誘導体は、公知の方法によって製造することがで
きる。その一例を示すと、“KOZOLAPOFF”、
Vol4、475頁に記載されている方法により製造す
ることができる。The secondary phosphine derivative represented by the general formula (2a) can be produced by a known method. For example, "KOZOLAPOFF",
Vol 4, page 475.
【0079】もう一方の反応原料の下記一般式(3)The other reaction raw material has the following general formula (3)
【0080】[0080]
【化28】 Embedded image
【0081】で表されるベンゾキノン誘導体の式中、Y
及びZは、前記一般式(1)で表される含リンハイドロ
キノン誘導体の式中のそれぞれのY及びZに相当する基
である。In the formula of the benzoquinone derivative represented by the formula:
And Z are groups corresponding to Y and Z in the formula of the phosphorus-containing hydroquinone derivative represented by the general formula (1).
【0082】Y及びZは、水素原子、水酸基、直鎖状又
は分岐状のアルキル基、ベンジル基等のアラルキル基、
アリル基、フェニル基等のアリール基、メトキシ基,エ
トキシ基,プロポキシ基,フェニルオキシ基等のアルコ
キシ基またはシアノ基を示す。アルキル基としては、炭
素数1〜18、好ましくは炭素数1〜6であり、具体的
には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、3級ブチル基、シクロヘキシル基等のアルキル基を
例示することが出来る。また、Y及びZは、それぞれが
同一の基であっても異なる基であってもよい。Y and Z each represent a hydrogen atom, a hydroxyl group, a linear or branched alkyl group, an aralkyl group such as a benzyl group,
An aryl group such as an allyl group and a phenyl group; an alkoxy group such as a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group and a phenyloxy group; or a cyano group. The alkyl group has 1 to 18 carbon atoms, preferably 1 to 6 carbon atoms, and specifically includes an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a tertiary butyl group, and a cyclohexyl group. Examples can be given. Y and Z may be the same or different groups.
【0083】またYとZは環状物を形成している基でも
よく、Y及びZが環状物を形成している基の例示として
は、前記した環状基と同様の基が挙げられる。また,こ
れらの置換基の中に、酸素原子,硫黄原子,窒素原子等
のヘテロ原子が含まれていても良い。Further, Y and Z may be groups forming a cyclic substance. Examples of the group wherein Y and Z form a cyclic substance include the same groups as the above-mentioned cyclic groups. Further, these substituents may contain a hetero atom such as an oxygen atom, a sulfur atom and a nitrogen atom.
【0084】本発明の製造方法において、前記一般式
(2)および(2a)で表される第2級ホスフィン誘導
体から選ばれる少なくとも1種と、前記一般式(3)で
表されるベンゾキノン誘導体とを不活性溶媒の存在下に
反応させることにより目的とする前記一般式(1)で表
される含リンハイドロキノン誘導体を得ることが出来
る。In the production method of the present invention, at least one selected from the secondary phosphine derivatives represented by the general formulas (2) and (2a) and the benzoquinone derivative represented by the general formula (3) Is reacted in the presence of an inert solvent to obtain the desired phosphorus-containing hydroquinone derivative represented by the general formula (1).
【0085】前記一般式(2)または(2a)で表され
る第2級ホスフィン誘導体に対する前記一般式(3)で
表されるベンゾキノン誘導体とのモル比は、第2級ホス
フィン誘導体1モルに対して通常1.0〜1.5、好ま
しくは1.0〜1.2である。The molar ratio of the benzoquinone derivative represented by the general formula (3) to the secondary phosphine derivative represented by the general formula (2) or (2a) is based on 1 mol of the secondary phosphine derivative. And usually 1.0 to 1.5, preferably 1.0 to 1.2.
【0086】反応温度は、反応原料の種類にもよるが、
300℃以上では、目的生成物である前記一般式(1)
で表される含リンハイドロキノン誘導体が分解すること
から、通常、0〜150℃、好ましくは25〜100℃
とすることが好ましい。The reaction temperature depends on the type of the reactants,
At 300 ° C. or higher, the target product represented by the general formula (1)
Since the phosphorus-containing hydroquinone derivative represented by is decomposed, usually 0 to 150 ° C, preferably 25 to 100 ° C
It is preferable that
【0087】反応時間は、通常1〜8時間、好ましくは
2〜5時間である。The reaction time is generally 1 to 8 hours, preferably 2 to 5 hours.
【0088】不活性溶媒としては、前記した反応原料と
目的生成物とが不活性な溶媒であれば特に限定はない
が、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭
化水素類、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ジアル
キルエーテル等のエーテル類、アセトニトリル、プロピ
オニトリル等のニトリル類、クロロベンゼン等のハロゲ
ン化芳香族炭化水素及び塩化メチレン、クロロホルム等
のハロアルカン類等が挙げられ、これらは1種又は2種
以上を組合わせて用いることができる。The inert solvent is not particularly limited as long as the reaction raw material and the target product are inert solvents. For example, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, petroleum ethers and the like can be used. Examples include aliphatic hydrocarbons, ethers such as dialkyl ethers, nitriles such as acetonitrile and propionitrile, halogenated aromatic hydrocarbons such as chlorobenzene, and haloalkanes such as methylene chloride and chloroform. Alternatively, two or more kinds can be used in combination.
【0089】また、本発明の製造方法において、所望に
より酸触媒や塩基性触媒を用いて、反応を促進させるこ
とが出来る。酸触媒としては、例えば、塩酸、硫酸、蓚
酸、燐酸、過塩素酸、過ヨウ素酸、フッ化水素、メタン
スルホン酸、p−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホ
ン酸、トルフルオロ酢酸、氷酢酸等の1種又は2種以上
を組み合わせて用いることが出来る。In the production method of the present invention, the reaction can be promoted by using an acid catalyst or a basic catalyst, if desired. Examples of the acid catalyst include hydrochloric acid, sulfuric acid, oxalic acid, phosphoric acid, perchloric acid, periodic acid, hydrogen fluoride, methanesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, benzenesulfonic acid, trifluoroacetic acid, glacial acetic acid and the like. Alternatively, two or more kinds can be used in combination.
【0090】塩基性触媒としては、例えばナトリウム、
カリウム又はリチウム等のアルカリ金属、ナトリウムメ
トキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムt−ブトキ
シド等のアルコキシド、t−ブチルリチウム、リチウム
ジイソプロピルアミド等のアルキル金属化合物等の1種
又は2種以上を組み合わせて用いることが出来る。この
場合、触媒の添加量は、前記一般式(3)で表わされる
化合物に対して通常1〜10mol%、好ましくは1〜
5mol%である。As the basic catalyst, for example, sodium,
Use of one or a combination of two or more of alkali metals such as potassium or lithium, alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium t-butoxide, and alkyl metal compounds such as t-butyllithium and lithium diisopropylamide Can be done. In this case, the amount of the catalyst to be added is generally 1 to 10 mol%, preferably 1 to 10 mol%, of the compound represented by the general formula (3).
5 mol%.
【0091】反応終了後、濾過、乾燥して製品とするこ
とが出来るが、所望により常法の精製手段により精製を
行ってもよい。かくすることにより、前記一般式(1)
で表される含リンハイドロキノン誘導体を製造すること
が出来る。After completion of the reaction, the product can be filtered and dried to obtain a product. However, if desired, the product may be purified by a conventional purification means. By doing so, the above general formula (1)
The phosphorus-containing hydroquinone derivative represented by the following formula can be produced.
【0092】本発明の含リンハイドロキノン誘導体は難
燃剤、特に反応性難燃剤として用いることができる。具
体的には、該含リンハイドロキノン誘導体はフェノール
性OH基を持つことから、例えば、エポキシ樹脂と直接
反応させて、エポキシ樹脂中に該誘導体を導入して含リ
ンエポキシ樹脂としたり、或いは、エピクロロヒドリン
と反応させて含リンエポキシ樹脂とし、該含リンエポキ
シ樹脂を硬化して難燃性エポキシ樹脂組成物として用い
ることができる。The phosphorus-containing hydroquinone derivative of the present invention can be used as a flame retardant, especially a reactive flame retardant. Specifically, since the phosphorus-containing hydroquinone derivative has a phenolic OH group, for example, it is directly reacted with an epoxy resin, and the derivative is introduced into the epoxy resin to form a phosphorus-containing epoxy resin, or It can be reacted with chlorohydrin to form a phosphorus-containing epoxy resin, and the phosphorus-containing epoxy resin can be cured and used as a flame-retardant epoxy resin composition.
【0093】含リンエポキシ樹脂に硬化剤又は重合開始
剤を含有させて得られた難燃性エポキシ樹脂組成物は、
安全なプラスチック材料として、プリント配線板、電気
回路基板に用いられる銅張積層板、電気部品に用いられ
る封止材、成形材、注型材、接着剤、電気絶縁塗料材料
等として用いることが出来る。難燃性エポキシ樹脂組成
物を封止材の封止樹脂として用いる場合には、均一に混
合され、混練されていることが好ましい。混練の方法と
しては例えば、ロール、ニーダー、ミキサー等を用いて
加熱して行われ、その後冷却、粉砕しタブレット化する
などの方法で封止樹脂は製造される。A flame-retardant epoxy resin composition obtained by adding a curing agent or a polymerization initiator to a phosphorus-containing epoxy resin is as follows:
As a safe plastic material, it can be used as a printed wiring board, a copper-clad laminate used for an electric circuit board, a sealing material used for electric components, a molding material, a casting material, an adhesive, an electrically insulating paint material, and the like. When the flame-retardant epoxy resin composition is used as a sealing resin for a sealing material, it is preferable that the composition is uniformly mixed and kneaded. As a method of kneading, for example, a sealing resin is manufactured by heating using a roll, a kneader, a mixer, or the like, and then cooling, pulverizing, and tableting.
【0094】そして、上記で得られた封止樹脂を用いて
トランスファー成形等を行って、半導体素子やリードフ
レーム等を封止すると、難燃性及び耐湿電気信頼性が優
れた半導体装置が得られる。なお成形する方法としては
上記封止樹脂を用いること以外は特に限定するものでは
なく、一般の方法で成形が可能である。Then, when a semiconductor element, a lead frame, and the like are sealed by performing transfer molding or the like using the sealing resin obtained above, a semiconductor device having excellent flame retardancy and humidity electric resistance is obtained. . The method of molding is not particularly limited except that the above sealing resin is used, and molding can be performed by a general method.
【0095】また、上記の難燃性エポキシ樹脂組成物を
溶媒に溶かすことにより、樹脂ワニスとすることができ
る。調製した樹脂ワニスは、紙、ガラス織布、ガラス不
織布、あるいはガラス以外を成分とする布などの基材に
塗布、含浸させ、乾燥炉中で80〜200℃の範囲内で
乾燥させることにより、プリプレグを調製することがで
き、これを所定枚数重ね合わせて、加熱、加圧して積層
板、あるいはプリント配線板用の金属張り積層板を製造
することができる。A resin varnish can be obtained by dissolving the above flame-retardant epoxy resin composition in a solvent. The prepared resin varnish is applied to a substrate such as paper, glass woven fabric, glass nonwoven fabric, or a cloth having a component other than glass, impregnated, and dried in a drying oven at 80 to 200 ° C. A prepreg can be prepared, and a predetermined number of the prepregs can be stacked and heated and pressed to produce a laminate or a metal-clad laminate for a printed wiring board.
【0096】[0096]
【実施例】以下、本発明を実施例により詳細に説明する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。The present invention will be described below in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
【0097】製造例1 反応容器に1,5−シクロオクタジエン1843g(1
6.69mol)とトルエン3750mlを仕込み、十
分に窒素置換した。続いてホスフィン731g(21.
50mol)を仕込み、60℃に昇温した。ラジカル開
始剤として、2,2−アゾビス−(2,4−ジメチルバ
レロニトリル)58.8g(0.237mol)を3時
間かけて圧入し、60℃にて一晩熟成し、1,4−シク
ロオクチレンホスフィンと1,5−シクロオクチレンホ
スフィンよりなる混合物のトルエン溶液を得た。(混合
物の純度31.9wt%、1,4−シクロオクチレンホ
スフィン:1,5−シクロオクチレンホスフィン=3
8.4:61.6(GC相対面積比))Production Example 1 1843 g of 1,5-cyclooctadiene (1
6.69 mol) and 3750 ml of toluene were sufficiently purged with nitrogen. Subsequently, 731 g of phosphine (21.
50 mol) and heated to 60 ° C. 58.8 g (0.237 mol) of 2,2-azobis- (2,4-dimethylvaleronitrile) was injected as a radical initiator over 3 hours, aged at 60 ° C. overnight, and 1,4-cyclohexane was added. A toluene solution of a mixture consisting of octylenephosphine and 1,5-cyclooctylenephosphine was obtained. (Purity of mixture: 31.9 wt%, 1,4-cyclooctylenephosphine: 1,5-cyclooctylenephosphine = 3
8.4: 61.6 (GC relative area ratio)
【0098】攪拌機、コンデンサー、滴下ロートを備え
付けた2000mlの4つ口フラスコを十分に窒素置換
した後、上記反応液の一部434.6g(0.975m
ol)を室温下にて仕込んだ。さらにメタノール440
gを仕込み氷浴にて約5℃に冷却した後、過酸化水素1
06.5g(1.05mol)を滴下ロートより約3時
間かけて滴下した。反応の終点はガスクロマトグラフ法
にて判断した。酸化反応終了後、ロータリーエバポレー
ターで濃縮して、無色の結晶1,4−シクロオクチレン
ホスフィンオキシドと1,5−シクロオクチレンホスフ
ィンオキシドよりなる混合物152.8g(0.966
mol、1,4−シクロオクチレンホスフィンオキシ
ド:1,5−シクロオクチレンホスフィンオキシド=3
9.4:60.6(NMR相対面積比))を得た。After thoroughly replacing the nitrogen in a 2000 ml four-necked flask equipped with a stirrer, a condenser and a dropping funnel, 434.6 g (0.975 m
ol) at room temperature. In addition, methanol 440
g in an ice bath and cooled to about 5 ° C.
06.5 g (1.05 mol) was added dropwise from the dropping funnel over about 3 hours. The end point of the reaction was determined by gas chromatography. After the completion of the oxidation reaction, the mixture was concentrated with a rotary evaporator to give 152.8 g of a mixture of colorless crystalline 1,4-cyclooctylenephosphine oxide and 1,5-cyclooctylenephosphine oxide (0.966 g).
mol, 1,4-cyclooctylenephosphine oxide: 1,5-cyclooctylenephosphine oxide = 3
9.4: 60.6 (NMR relative area ratio)).
【0099】実施例1 かき混ぜ装置,温度計を備えた反応容器に、室温下、ト
ルエン900mlに、1,4−シクロオクチレンホスフ
ィンオキシド及び1,5−シクロオクチレンホスフィン
オキシドの混合物183.5g(純度87.0%,1.
00mol)を仕込み、攪拌して溶解させた。この反応
液を70℃へ昇温した後、微粉末の1,4−ベンソキノ
ン108.7g(1.00mol)を約3時間かけて少
量づつ添加した。添加終了後、70℃で約1時間熟成し
た後、室温まで冷却して生じた析出物をろ過、冷メタノ
ールで3回洗浄した後に80℃で減圧乾燥することによ
り、1,4−シクロオクチレンホスホニル−1,4−ハ
イドロキノン及び1,5−シクロオクチレンホスホニル
−1,4−ハイドロキノンの混合物192.7g(0.
724mol)を淡黄色結晶性粉末として得た。収率7
2.4%。Example 1 In a reaction vessel equipped with a stirring device and a thermometer, 183.5 g of a mixture of 1,4-cyclooctylenephosphine oxide and 1,5-cyclooctylenephosphine oxide was added to 900 ml of toluene at room temperature. Purity 87.0%, 1.
00 mol) and stirred to dissolve. After the temperature of the reaction solution was raised to 70 ° C., 108.7 g (1.00 mol) of 1,4-bensoquinone as a fine powder was added little by little over about 3 hours. After completion of the addition, the mixture was aged at 70 ° C. for about 1 hour, cooled to room temperature, and the resulting precipitate was filtered, washed with cold methanol three times, and dried at 80 ° C. under reduced pressure to give 1,4-cyclooctylene. 192.7 g of a mixture of phosphonyl-1,4-hydroquinone and 1,5-cyclooctylenephosphonyl-1,4-hydroquinone (0.
724 mol) as a pale yellow crystalline powder. Yield 7
2.4%.
【0100】1H NMR(300MHz,CD3 O
D) δ 1.43〜2.83(m,14H),6.7
7〜6.91(m,3H)31 P NMR(121.5MHz,CD3 OD) δ
42.5(s),66.8(s) FAB−MS(Pos.,m/z)267[M+H]+ IR(KBr,cm-1)3157(υOH),3080
(arom υC−H),1225(υP=O) 1 H NMR (300 MHz, CD 3 O
D) [delta] 1.43-2.83 (m, 14H), 6.7.
7-6.91 (m, 3H) 31 P NMR (121.5 MHz, CD 3 OD) δ
42.5 (s), 66.8 (s) FAB-MS (Pos., M / z) 267 [M + H] + IR (KBr, cm -1 ) 3157 (@OH), 3080
(Arom @ C-H), 1225 (@ P = O)
【0101】実施例2 かき混ぜ装置,温度計を備えた反応容器に、室温下、ト
ルエン500mlにジエチルホスフィンオキシド200
g(1.89mol)を仕込み、70℃へ昇温した後、
微粉末の1,4−ナフトキノン299g(1.89mo
l)を約3時間かけて少量づつ添加した。添加終了後、
70℃で約1時間反応した後、室温まで冷却して生じた
析出物をろ過、冷メタノールで3回洗浄した後に80℃
で減圧乾燥することにより、2−(ジエチルホスホニ
ル)−1,4−ナフタレンジオール361g(1.37
mol)を淡黄色結晶性粉末として得た。収率72.3
%。Example 2 In a reaction vessel equipped with a stirring device and a thermometer, 500 ml of toluene and 200 ml of diethylphosphine oxide were added at room temperature.
g (1.89 mol) and heated to 70 ° C.
299 g of fine powdered 1,4-naphthoquinone (1.89 mo
l) was added in small portions over about 3 hours. After the addition,
After reacting at 70 ° C. for about 1 hour, the precipitate formed by cooling to room temperature was filtered, washed three times with cold methanol, and then washed at 80 ° C.
361 g of 2- (diethylphosphonyl) -1,4-naphthalenediol (1.37).
mol) was obtained as a pale yellow crystalline powder. Yield 72.3
%.
【0102】1H NMR(300MHz,CD3 O
D) δ 0.90〜1.12(m,6H),2.11
〜2.58(m,4H),6.60(s,1H),7.
38(m,1H),7.80(m,1H),8.07
(m,2H)31 P NMR(121.5MHz,CD3 OD) δ
54.0(s),78.5(S) IR(KBr,cm-1)3179(υOH),3090
(arom υC−H),1205(υP=O) 1 H NMR (300 MHz, CD 3 O
D) δ 0.90 to 1.12 (m, 6H), 2.11
-2.58 (m, 4H), 6.60 (s, 1H), 7.
38 (m, 1H), 7.80 (m, 1H), 8.07
(M, 2H) 31 P NMR (121.5 MHz, CD 3 OD) δ
54.0 (s), 78.5 (S) IR (KBr, cm -1 ) 3179 (@OH), 3090
(Arom @ C-H), 1205 (@ P = O)
【0103】実施例3 実施例2において、ジエチルホスフィンオキシドに代え
て、ジエチル亜ホスフィン酸エチル253gをトルエン
500mlに溶解させ、3モル/L塩酸500mlと2
5℃で反応させた。反応終了後、反応液を分液し、有機
相を5mol%の炭酸水素ナトリウム水溶液500ml
と水500mlで2回洗浄した。次いで、実施例2と同
様に70℃へ昇温した後、微粉末の1,4−ナフトキノ
ン299g(1.89モル)を約3時間かけて少量づつ
添加した。添加終了後、70℃で約1時間反応した後、
室温まで冷却して生じる析出物をろ過、冷メタノールで
3回洗浄した後に80℃で減圧乾燥することにより、2
−(ジエチルホスホニル)−1,4−ナフタレンジオー
ル320g(1.21モル)を淡黄色結晶性粉末として
得た。収率64.0%。Example 3 In Example 2, 253 g of ethyl diethyl phosphinate was dissolved in 500 ml of toluene in place of diethyl phosphine oxide, and 500 ml of 3 mol / L hydrochloric acid was added to 500 ml of toluene.
The reaction was performed at 5 ° C. After the completion of the reaction, the reaction solution was separated, and the organic phase was mixed with 500 ml of a 5 mol% aqueous sodium hydrogen carbonate solution.
And 500 ml of water twice. Next, after the temperature was raised to 70 ° C. in the same manner as in Example 2, 299 g (1.89 mol) of 1,4-naphthoquinone as a fine powder was added little by little over about 3 hours. After the addition was completed, after reacting at 70 ° C. for about 1 hour
The precipitate formed upon cooling to room temperature was filtered, washed three times with cold methanol, and dried at 80 ° C. under reduced pressure to obtain 2
320 g (1.21 mol) of-(diethylphosphonyl) -1,4-naphthalenediol were obtained as a pale yellow crystalline powder. Yield 64.0%.
【0104】実施例4 実施例1と同様な装置に、室温下、トルエン750ml
に、1,4−シクロオクチレンホスフィンオキシド及び
1,5−シクロオクチレンホスフィンオキシドの混合物
263.6g(合計純度90.0%、1.50mol)
を仕込み、攪拌して溶解させた。この溶液を100℃に
昇温した後、1,4−ナフトキノン237.4g(1.
50mol)とトルエン1100mlのスラリー状態の
ものを約6時間かけて少量づつ滴下した。滴下終了後、
100℃で2時間熟成、次いで室温まで冷却して生じた
析出物をろ過、冷メタノールで3回洗浄した後に80℃
で減圧乾燥することにより、2−(1,4−シクロオク
チレンホスホニル)−1,4−ナフタレンジオール及び
2−(1,5−シクロオクチレンホスホニル)−1,4
−ナフタレンジオールの混合物302.22g(0.9
55mol)を淡黄色結晶性粉末として得た。収率6
3.6%。Example 4 In a device similar to that of Example 1, 750 ml of toluene was added at room temperature.
263.6 g of a mixture of 1,4-cyclooctylenephosphine oxide and 1,5-cyclooctylenephosphine oxide (total purity 90.0%, 1.50 mol)
Was stirred and dissolved by stirring. After the temperature of this solution was raised to 100 ° C., 237.4 g of 1,4-naphthoquinone (1.
A slurry of 50 mol) and 1100 ml of toluene were added dropwise little by little over about 6 hours. After dropping,
Aged at 100 ° C. for 2 hours, then cooled to room temperature, and the resulting precipitate was filtered, washed three times with cold methanol, and then washed at 80 ° C.
And dried under reduced pressure to give 2- (1,4-cyclooctylenephosphonyl) -1,4-naphthalenediol and 2- (1,5-cyclooctylenephosphonyl) -1,4.
302.22 g of a mixture of naphthalene diols (0.9
55 mol) as a pale yellow crystalline powder. Yield 6
3.6%.
【0105】1H NMR(300MHz,CD3 O
D) δ 1.67〜2.70(m,14H),6.6
3(s,1H)、7.40(m,1H),7.81
(m,1H)、8.10(m,2H)31 P NMR(121.5MHz,CD3 OD) δ
55.3(s),79.8(s) DI−EI(m/z)316 IR(KBr,cm-1)3179(υOH),3090
(arom υC−H),1205(υP=O) 1 H NMR (300 MHz, CD 3 O
D) [delta] 1.67-2.70 (m, 14H), 6.6.
3 (s, 1H), 7.40 (m, 1H), 7.81
(M, 1H), 8.10 (m, 2H) 31 P NMR (121.5 MHz, CD 3 OD) δ
55.3 (s), 79.8 (s) DI-EI (m / z) 316 IR (KBr, cm -1 ) 3179 (@OH), 3090
(Arom @ C-H), 1205 (@ P = O)
【0106】実施例5 ジエチルホスフィンオキシド200gの変わりにジベン
ジルホスフィンオキシド200gを用いた他は、実施例
2と同様の操作を行い、2−(ジベンジルホスホニル)
−1,4−ナフタレンジオール135.9gを得た。収
率70.0%。Example 5 The same operation as in Example 2 was carried out except that 200 g of dibenzylphosphine oxide was used instead of 200 g of diethylphosphine oxide, and 2- (dibenzylphosphonyl)
135.9 g of -1,4-naphthalene diol was obtained. Yield 70.0%.
【0107】実施例6 ジエチルホスフィンオキシド200gの変わりに、テト
ラメチレンホスフィンオキシド44.0gを用いた他
は、実施例2と同様の操作を行い、2−(テトラメチレ
ンホスホニル)−1,4−ナフタレンジオール88.6
gを得た。収率72.1%。Example 6 The procedure of Example 2 was repeated, except that 44.0 g of tetramethylenephosphine oxide was used instead of 200 g of diethylphosphine oxide, to give 2- (tetramethylenephosphonyl) -1,4-. Naphthalene diol 88.6
g was obtained. Yield 72.1%.
【0108】実施例7 かき混ぜ装置、温度計、滴下漏斗及びディーンスターク
を備えた反応容器に実施例1で合成した1,4−シクロ
オクチレンホスホニル−1,4−ハイドロキノン及び
1,5−シクロオクチレンホスホニル−1,4−ハイド
ロキノンの混合物100g(0.376mol)とエピ
クロロヒドリン83.4g(0.902mol)を入
れ、かき混ぜながら、120℃に加熱還流した。そこ
に、40wt%水酸化ナトリウム水溶液115g(1.
00mol)を穏やかに還流が続くように滴下した。そ
の間ディーンスタークに溜まった水を適宜廃棄した。水
酸化ナトリウム水溶液の滴下終了後、過剰のエピクロロ
ヒドリンを減圧下で除去し、トルエン500mlを加え
た。そのトルエン懸濁液を水500mlで3回洗浄し、
さらにトルエンを減圧下留去して、含リンエポキシ樹脂
を得た。収率97%。エポキシ当量202g/eq。P
含有量8.1重量%。Example 7 A reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, a dropping funnel and a Dean-Stark was placed in a reaction vessel prepared in Example 1 to prepare 1,4-cyclooctylenephosphonyl-1,4-hydroquinone and 1,5-cycloquinone. 100 g (0.376 mol) of a mixture of octylenephosphonyl-1,4-hydroquinone and 83.4 g (0.902 mol) of epichlorohydrin were added, and the mixture was heated to 120 ° C. under reflux while stirring. There, 115 g of 40 wt% aqueous sodium hydroxide solution (1.
00 mol) was added dropwise such that gentle reflux continued. During this time, the water accumulated in Dean Stark was properly discarded. After the completion of the dropwise addition of the aqueous sodium hydroxide solution, excess epichlorohydrin was removed under reduced pressure, and 500 ml of toluene was added. The toluene suspension was washed three times with 500 ml of water,
Further, toluene was distilled off under reduced pressure to obtain a phosphorus-containing epoxy resin. 97% yield. Epoxy equivalent 202 g / eq. P
Content 8.1% by weight.
【0109】IR(KBr,cm-1):3080(ar
om υC−H),1225(υP=O),910(エ
ポキシ基)IR (KBr, cm -1 ): 3080 (ar
om @ C--H), 1225 (@ P = O), 910 (epoxy group)
【0110】次に、合成した含リンエポキシ樹脂10.
0gと、メタキシリレンジアミン6.2g(45.6m
mol)を室温で十分攪拌した後、室温で3時間、その
後100℃で2時間硬化させ、エポキシ樹脂硬化物を得
た。Next, the synthesized phosphorus-containing epoxy resin
0 g and meta-xylylenediamine 6.2 g (45.6 m
mol) was cured at room temperature for 3 hours, and then cured at 100 ° C. for 2 hours to obtain a cured epoxy resin.
【0111】IR(KBr,cm-1):3300(υN
−H),3080(arom υC−H),1225
(υP=O) Tg(DSC法):82℃IR (KBr, cm -1 ): 3300 (ΔN
-H), 3080 (arom @ C-H), 1225
(ΥP = O) Tg (DSC method): 82 ° C.
【0112】<難燃性試験>難燃性試験は、上記で調製
したエポキシ樹脂硬化物(P含有量5.7重量%、ガラ
ス転移温度82℃)について、長さ125mm×幅13
mm×厚さ3mmに加工し、UL94に分類した材料の
垂直燃焼試験(94V−0、94V−1及び94V−
2)に従って試験した。その結果、UL−94はV−0
であった。<Flame Retardancy Test> The flame retardancy test was performed on the cured epoxy resin (P content: 5.7% by weight, glass transition temperature: 82 ° C.) with a length of 125 mm and a width of 13 mm.
mm × 3mm thickness, vertical burning test of materials classified as UL94 (94V-0, 94V-1 and 94V-
Tested according to 2). As a result, UL-94 is V-0
Met.
【0113】<耐薬品性試験>上記で調製した本発明に
係るエポキシ樹脂硬化物(P含有量5.7重量%、ガラ
ス転移温度82℃)、また比較としてエピコート828
(油化シェルエポキシ社製、エポキシ当量184〜19
4g/eq)の300gに硬化剤としてメタキシリレン
ジアミン215g(1.58mol)を用い、添加型難
燃剤として、トリクレジルホスフェートを10wt%添
加し、室温で3時間その後100℃で2時間硬化させ得
られたエポキシ樹脂硬化物(比較例1)の2つの試料
を、JISK7114に従い,耐薬品性の試験を行っ
た。<Chemical Resistance Test> The epoxy resin cured product of the present invention prepared above (P content: 5.7% by weight, glass transition temperature: 82 ° C.), and Epicoat 828 for comparison
(Yuika Shell Epoxy Co., epoxy equivalent 184-19
215 g (1.58 mol) of metaxylylenediamine as a curing agent was added to 300 g of 4 g / eq), and 10 wt% of tricresyl phosphate was added as an additive type flame retardant. The mixture was cured at room temperature for 3 hours and then at 100 ° C. for 2 hours. Two samples of the cured epoxy resin product (Comparative Example 1) were subjected to a chemical resistance test according to JIS K7114.
【0114】各々の樹脂硬化物を直径50mm、厚さ3
mmの円盤状に切削し,試験片をそれぞれ5つづつ作成
した。これらの試験片を10wt%(1000ml)の
硫酸に23℃で7日間浸せきさせた後、十分に水洗し、
減圧下にて90℃で一昼夜乾燥させた後、試験片の重量
と外観を調べた。Each of the resin cured products was prepared to have a diameter of 50 mm and a thickness of 3 mm.
The test pieces were cut into 5 mm disks to prepare five test pieces. After soaking these test pieces in sulfuric acid of 10 wt% (1000 ml) at 23 ° C. for 7 days, they were sufficiently washed with water,
After drying under reduced pressure at 90 ° C. for 24 hours, the weight and appearance of the test piece were examined.
【0115】その結果、本発明に係るエポキシ樹脂硬化
物は平均して2wt%減少したが,いずれの試験片にも
外観上変化はなかった。エピコート828にトリクレジ
ルホスフェートを10wt%混入させた樹脂硬化物は平
均して10wt%以上減少し、いずれの試験片の外観も
白濁していた。この違いは本発明により製造したエポキ
シ樹脂はリン原子がP−C共有結合により結合している
ため,極めて耐薬品性が強いが、トリクレジルホスフェ
ートのようなリン酸エステルはP−O−C結合により結
合しているため、加水分解し樹脂から溶出してしまった
ものと考えられる。そのため、樹脂重量が大幅に減少
し,外観も白濁したものと推察される。As a result, the epoxy resin cured product according to the present invention was reduced by 2 wt% on average, but there was no change in appearance in any of the test pieces. The cured resin obtained by mixing tricresyl phosphate in Epicoat 828 at 10 wt% was reduced by 10 wt% or more on average, and the appearance of each test piece was cloudy. This difference is due to the fact that the epoxy resin produced according to the present invention has a very strong chemical resistance because the phosphorus atom is bonded by a PC covalent bond, but the phosphate ester such as tricresyl phosphate has a P-O-C It is considered that since they were bonded by bonding, they were hydrolyzed and eluted from the resin. Therefore, it is considered that the resin weight was significantly reduced and the appearance became cloudy.
【0116】[0116]
【発明の効果】上記したとおり、本発明によれば、一般
式(1)で表される含リンハイドロキノン誘導体を提供
することができ、該誘導体はフェノール性OH基を有し
ているので、例えば、反応性難燃剤や含リンエポキシ樹
脂の中間原料として用いることが出来る効果を奏する。As described above, according to the present invention, a phosphorus-containing hydroquinone derivative represented by the general formula (1) can be provided. Since the derivative has a phenolic OH group, for example, And an effect that can be used as an intermediate material of a reactive flame retardant or a phosphorus-containing epoxy resin.
【0117】また、本発明の製造方法によれば、工業的
に有利な方法で、該含リンハイドロキノン誘導体を製造
することが出来る効果を奏する。Further, according to the production method of the present invention, there is an effect that the phosphorus-containing hydroquinone derivative can be produced by an industrially advantageous method.
【0118】また、本発明の含リンハイドロキノン誘導
体からなる難燃剤は、耐薬品性を有する難燃性エポキシ
樹脂用の反応性難燃剤として有用であり、特にプリント
配線板、電気回路基板に用いられる銅張積層板、電気部
品に用いられる封止材、成形材、注型材、接着剤、電気
絶縁塗料材料等の難燃化に有用な含リンエポキシ樹脂お
よびこれを含有する難燃性の優れたエポキシ樹脂組成物
に用いることができる効果を奏する。Further, the flame retardant comprising the phosphorus-containing hydroquinone derivative of the present invention is useful as a reactive flame retardant for a flame-retardant epoxy resin having chemical resistance, and is particularly used for printed wiring boards and electric circuit boards. Phosphorus-containing epoxy resin useful for flame-retarding copper-clad laminates, sealing materials used for electric parts, molding materials, casting materials, adhesives, electric insulating paint materials, etc. The effect which can be used for an epoxy resin composition is produced.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4H028 AA34 AA36 BA01 BA04 4H050 AA01 AA02 AA03 AB80 WA12 WA18 WA26 4J036 AB19 AB20 AC01 DC03 DC10 JA01 JA06 JA07 JA08 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page F term (reference) 4H028 AA34 AA36 BA01 BA04 4H050 AA01 AA02 AA03 AB80 WA12 WA18 WA26 4J036 AB19 AB20 AC01 DC03 DC10 JA01 JA06 JA07 JA08
Claims (5)
は分岐状のアルキル基を示し、該アルキル基中の1つあ
るいは2つ以上のメチレン基は−CH=CH−によって
置き換えられていてもよく、R1とR2は同一な基であっ
ても異なる基であってもよく、またR1とR2はPを含ん
であるいはPを含まないで環状物を形成していてもよ
い。Xは酸素原子又は硫黄原子を示す。Y、Zは水素原
子、水酸基、直鎖状又は分岐状のアルキル基、アラルキ
ル基、アルコキシ基、アリル基、アリール基又はシアノ
基を示し、該アルキル基中の1つあるいは2つ以上のメ
チレン基は−CH=CH−によって置き換えられていて
もよく、YとZは同一な基であっても異なる基であって
もよく、YとZは環状物を形成していてもよい。)で表
されることを特徴とする含リンハイドロキノン誘導体。[Claim 1] The following general formula (1) (Wherein R 1 and R 2 represent an optionally substituted linear or branched alkyl group, and one or more methylene groups in the alkyl group are replaced by —CH = CH— R 1 and R 2 may be the same or different groups, and R 1 and R 2 may form a cyclic substance containing or not containing P. X represents an oxygen atom or a sulfur atom, and Y and Z each represent a hydrogen atom, a hydroxyl group, a linear or branched alkyl group, an aralkyl group, an alkoxy group, an allyl group, an aryl group or a cyano group; One or more methylene groups in the alkyl group may be replaced by -CH = CH-, Y and Z may be the same or different groups, and Y and Z May form a cyclic substance.) Phosphorus-containing hydroquinone derivatives.
一般式(12)または一般式(13)で表されることを
特徴とする請求項1記載の含リンハイドロキノン誘導
体。 【化2】 (式中、R3は置換されていてもよいアルキレン基を示
す。) 【化3】 (式中、R4は置換されていてもよいシクロアルキレン
基またはアリーレン基を示す。)2. The phosphorus-containing hydroquinone derivative according to claim 1 , wherein the cyclic substance formed by R 1 and R 2 is represented by the following general formula (12) or (13). Embedded image (In the formula, R 3 represents an alkylene group which may be substituted.) (In the formula, R 4 represents a cycloalkylene group or an arylene group which may be substituted.)
表される第2級ホスフィン誘導体から選ばれる少なくと
も1種と、下記一般式(3) 【化5】 (式中、Y、Zは前記と同義である。)で表されるベン
ゾキノン誘導体とを反応させることを特徴とする下記一
般式(1) 【化6】 (式中、R1およびR2、X、Y、Zは前記と同義であ
る。)で表される含リンハイドロキノン誘導体の製造方
法。3. The following general formula (2): (Wherein R 1, R 2 and X have the same meanings as described above) and at least one selected from secondary phosphine derivatives represented by the following general formula (3): Wherein Y and Z have the same meanings as described above, and are reacted with a benzoquinone derivative represented by the following general formula (1): (Wherein, R 1 and R 2 , X, Y, and Z have the same meanings as described above).
表される第2級ホスフィン誘導体から選ばれる少なくと
も1種と、下記一般式(3) 【化8】 (式中、Y、Zは前記と同義である。)で表されるベン
ゾキノン誘導体とを反応させることを特徴とする下記一
般式(1) 【化9】 (式中、R1およびR2、X、Y、Zは前記と同義であ
る。)で表される含リンハイドロキノン誘導体の製造方
法。4. The following general formula (2) and general formula (2a): (Wherein R 1, R 2 and X are as defined above) and at least one selected from secondary phosphine derivatives represented by the following general formula (3): Wherein Y and Z have the same meanings as defined above, and are reacted with a benzoquinone derivative represented by the following general formula (1): (Wherein, R 1 and R 2 , X, Y, and Z have the same meanings as described above).
ロキノン誘導体を含有することを特徴とする難燃剤。5. A flame retardant comprising the phosphorus-containing hydroquinone derivative according to claim 1 or 2.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001191818A JP2002080484A (en) | 2000-06-29 | 2001-06-25 | Phosphorus containing hydroquinone derivative, method for producing the same and flame retardant |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000195769 | 2000-06-29 | ||
| JP2000-195769 | 2000-06-29 | ||
| JP2001191818A JP2002080484A (en) | 2000-06-29 | 2001-06-25 | Phosphorus containing hydroquinone derivative, method for producing the same and flame retardant |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002080484A true JP2002080484A (en) | 2002-03-19 |
Family
ID=26594946
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001191818A Pending JP2002080484A (en) | 2000-06-29 | 2001-06-25 | Phosphorus containing hydroquinone derivative, method for producing the same and flame retardant |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002080484A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003040968A (en) * | 2001-07-26 | 2003-02-13 | Toto Kasei Co Ltd | Novel phosphorus-containing epoxy resin and flame- retardant resin composition containing the same |
| KR100609419B1 (en) * | 2004-06-15 | 2006-08-03 | 송원산업 주식회사 | Functional organophosphorus compound and preparation method thereof |
| JP2012512198A (en) * | 2008-12-19 | 2012-05-31 | クラリアント・ファイナンス・(ビーブイアイ)・リミテッド | Hydrophosphorylation of phosphonous acid derivatives for flame retardants |
-
2001
- 2001-06-25 JP JP2001191818A patent/JP2002080484A/en active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003040968A (en) * | 2001-07-26 | 2003-02-13 | Toto Kasei Co Ltd | Novel phosphorus-containing epoxy resin and flame- retardant resin composition containing the same |
| KR100609419B1 (en) * | 2004-06-15 | 2006-08-03 | 송원산업 주식회사 | Functional organophosphorus compound and preparation method thereof |
| JP2012512198A (en) * | 2008-12-19 | 2012-05-31 | クラリアント・ファイナンス・(ビーブイアイ)・リミテッド | Hydrophosphorylation of phosphonous acid derivatives for flame retardants |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI615396B (en) | Halogen-modified modified cyclotriphosphazene halogen-free flame retardant and preparation method and application thereof | |
| JP2552780B2 (en) | Method and application for producing aromatic diphosphate | |
| WO2017071161A1 (en) | Cyclotriphosphazene halogen-free flame retardant containing imide structure, and preparation method and use | |
| US9527962B2 (en) | Phosphorous-containing compounds and their preparation process and use | |
| JP6124876B2 (en) | Phosphorus-containing compounds useful for the production of halogen-free ignition resistant polymers | |
| KR20130006371A (en) | Monofunctional, bifunctional, and multifunctional phosphinated phenols and their derivatives and preparation method thereof | |
| CN106986893B (en) | Phosphorus-containing compound and method for producing the same | |
| US20030125433A1 (en) | Phosphorus-containing hydroquinone derivatives, process for their production, phosphorus-containing epoxy resins made by using the derivatives, flame-retardant resin compositions, sealing media and laminated sheets | |
| TW201902884A (en) | Active ester composition | |
| JP2002080484A (en) | Phosphorus containing hydroquinone derivative, method for producing the same and flame retardant | |
| JP5240758B2 (en) | Flame retardant resin composition | |
| KR101965572B1 (en) | Synthesis method of flame retarding diol, flame retarding diol for the production of thermoplastic polyurethane, and thermoplastic polyurethane having the same | |
| CA2022811C (en) | Phosphorus compounds | |
| JP2002097249A (en) | Phosphorus-containing epoxy resin, method for producing the same, flame-retardant epoxy resin composition, sealing material and laminate using the same | |
| JPH04330081A (en) | Phosphorus compound | |
| TWI465457B (en) | Amino-containing multifunctional epoxy curing agents and their derivatives, preparation and use | |
| JP2004107211A (en) | Phosphorus compound and method for producing the same | |
| JPH11124389A (en) | Organophosphorus compound and its production | |
| KR101465993B1 (en) | Flame retardant and phosphorous-modified hardener | |
| KR20090017579A (en) | Method for producing amino group-containing phosphate ester compound, flame retardant resin and flame retardant resin composition | |
| JP2000063392A (en) | Method for producing phosphonic acid esters having epoxy group | |
| JP2004107364A (en) | Flame-retardant resin composition, laminate using the same, curing agent for epoxy resin, and flame-retardant phosphorus-containing epoxy resin composition | |
| JP2008195897A (en) | Prepreg and laminate | |
| KR20250110131A (en) | Flame retardant compound and flame retardant resin composition, flame retardant products using the same | |
| JP2003183525A (en) | Flame-retardant resin composition, sealing material and laminate using the same |