JP2002247287A - Image reading element - Google Patents
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- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims abstract description 25
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- -1 porphyrin compound Chemical class 0.000 claims abstract description 11
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 claims abstract description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 33
- SJHHDDDGXWOYOE-UHFFFAOYSA-N oxytitamium phthalocyanine Chemical compound [Ti+2]=O.C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 SJHHDDDGXWOYOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 230000004298 light response Effects 0.000 abstract description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 22
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 11
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 11
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 11
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 9
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 9
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 7
- 206010034960 Photophobia Diseases 0.000 description 6
- 208000013469 light sensitivity Diseases 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 5
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 3
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 3
- CMSGUKVDXXTJDQ-UHFFFAOYSA-N 4-(2-naphthalen-1-ylethylamino)-4-oxobutanoic acid Chemical compound C1=CC=C2C(CCNC(=O)CCC(=O)O)=CC=CC2=C1 CMSGUKVDXXTJDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 150000004032 porphyrins Chemical class 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBECDWUDYQOTSW-UHFFFAOYSA-N 2-ethylbut-3-enal Chemical compound CCC(C=C)C=O CBECDWUDYQOTSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 102100033007 Carbonic anhydrase 14 Human genes 0.000 description 1
- 101100321669 Fagopyrum esculentum FA02 gene Proteins 0.000 description 1
- 101000867862 Homo sapiens Carbonic anhydrase 14 Proteins 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002433 Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer Polymers 0.000 description 1
- AZWHFTKIBIQKCA-UHFFFAOYSA-N [Sn+2]=O.[O-2].[In+3] Chemical compound [Sn+2]=O.[O-2].[In+3] AZWHFTKIBIQKCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 230000004397 blinking Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229920006026 co-polymeric resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 229920001038 ethylene copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000005329 float glass Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000000608 laser ablation Methods 0.000 description 1
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000000113 methacrylic resin Substances 0.000 description 1
- JTHNLKXLWOXOQK-UHFFFAOYSA-N n-propyl vinyl ketone Natural products CCCC(=O)C=C JTHNLKXLWOXOQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000000634 powder X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
- 230000036962 time dependent Effects 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば光導電層を
有し、光による画像情報を電気信号に変換してこの電気
信号を画像形成機器などに出力するイメージセンサーに
好適に用いられる画像読み取り素子に関するものであ
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an image reading apparatus suitably used for an image sensor having, for example, a photoconductive layer, converting image information by light into an electric signal, and outputting the electric signal to an image forming apparatus or the like. It relates to an element.
【0002】[0002]
【従来の技術】例えばファクシミリなどに搭載されるイ
メージセンサーにおいて、画像情報を電気信号に変換す
る素子として、画像読み取り素子が使用されている。2. Description of the Related Art For example, in an image sensor mounted on a facsimile or the like, an image reading element is used as an element for converting image information into an electric signal.
【0003】図1は、イメージセンサーの構造の一例を
示す概略断面図であり、この図において、91は画像読
み取り素子、92はロッドレンズアレイ、93は光源、
94は原稿である。図1に示すように、矢印方向に走行
する原稿94に光源93からの光が照射されて当該原稿
94から画像濃度に応じた強度の光が反射され、この反
射光は、ロッドレンズアレイ92を介して画像読み取り
素子91に入射され、画像読み取り素子91において、
光強度に応じた大きさの信号電流に変換される。FIG. 1 is a schematic sectional view showing an example of the structure of an image sensor. In this figure, 91 is an image reading element, 92 is a rod lens array, 93 is a light source,
Reference numeral 94 denotes an original. As shown in FIG. 1, light from a light source 93 is applied to a document 94 traveling in the direction of the arrow, and light having an intensity corresponding to the image density is reflected from the document 94. Incident on the image reading element 91, and in the image reading element 91,
It is converted into a signal current of a magnitude corresponding to the light intensity.
【0004】図2は、画像読み取り素子に入射する光の
強度変化による画像情報が、信号電流の経時的変化すな
わち時系列信号として出力されるまでのプロセスを示す
概略図である。図2に示すプロセスは、信号電流の変化
をそのまま読み出す光電流型のプロセスであって、光電
変換により得られる信号電流は、例えば、画素ごとに配
列された個別電極からなる対向電極(図示省略)を介し
て、画像形成装置における例えば発光ダイオードよりな
る露光手段に逐次送信される。FIG. 2 is a schematic diagram showing a process until image information due to a change in intensity of light incident on an image reading element is output as a time-dependent change of a signal current, that is, a time-series signal. The process shown in FIG. 2 is a photocurrent type process in which a change in signal current is read out as it is. A signal current obtained by photoelectric conversion is, for example, a counter electrode (not shown) composed of individual electrodes arranged for each pixel. , Are sequentially transmitted to an exposing unit including, for example, a light emitting diode in the image forming apparatus.
【0005】図3は、画像読み取り素子の基本的な構造
を示す説明用断面図である。この画像読み取り素子は、
画素ごとに形成された対向電極96と、すべての対向電
極96に共通の透明電極95との間に、光導電性物質
(光により電荷を発生する物質)を含有する光導電層9
7が介在されて構成されている。98は透明支持体であ
る。このような構造を有する画像読み取り素子におい
て、透明電極95は、通常、酸化インジウム(In2 O
3 )からなる膜、酸化スズからなる(SnO2 )からな
るNESA膜(米国PPG社登録商標)、または、酸化
インジウム−酸化スズ(In2 O3 −SnO2 )からな
るITO膜などにより構成される透明導電膜によって形
成されている。一方、光導電層97を構成する光導電性
物質としては、印刷法、コート法などの簡便な方法によ
り製膜することができ、面積の大きな素子を経済的に製
造することができることなどの観点から、有機物質より
なるものが検討されている。FIG. 3 is an explanatory sectional view showing the basic structure of the image reading element. This image reading element is
A photoconductive layer 9 containing a photoconductive substance (a substance that generates charges by light) is provided between a counter electrode 96 formed for each pixel and a transparent electrode 95 common to all the counter electrodes 96.
7 are interposed. Reference numeral 98 denotes a transparent support. In the image reading device having such a structure, the transparent electrode 95 is usually made of indium oxide (In 2 O).
3 ), a NESA film made of tin oxide (SnO 2 ) (registered trademark of PPG, USA), or an ITO film made of indium oxide-tin oxide (In 2 O 3 —SnO 2 ). It is formed of a transparent conductive film. On the other hand, as a photoconductive substance constituting the photoconductive layer 97, a film can be formed by a simple method such as a printing method or a coating method, and a device having a large area can be economically manufactured. Therefore, those composed of organic substances are being studied.
【0006】現在までに、有機物質よりなる光導電性物
質を使用して構成される画像読み取り素子に関し、下記
のような技術が紹介されている。 (イ)画像読み取り素子を構成する光導電性物質とし
て、アゾ系顔料を使用する技術(例えば特開昭61−2
85262号公報、特開昭61−291657号公報、
特開平1−184961号公報参照)。 (ロ)画像読み取り素子を構成する光導電性物質とし
て、チタニルフタロシアニン顔料を使用する技術(例え
ば特開平4−62476号公報参照)。 (ハ)画像読み取り素子を構成する光導電性物質とし
て、キナクリドン系顔料を使用し、必要に応じて電荷輸
送物質を使用する技術(例えば特開平6−326290
号公報参照)。Until now, the following techniques have been introduced with respect to an image reading element constituted by using a photoconductive substance made of an organic substance. (A) A technique using an azo pigment as a photoconductive substance constituting an image reading element (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-2 / 1986)
No. 85262, JP-A-61-291657,
See JP-A-1-184951. (B) A technique using a titanyl phthalocyanine pigment as a photoconductive substance constituting an image reading element (see, for example, JP-A-4-62476). (C) A technique in which a quinacridone pigment is used as a photoconductive substance constituting an image reading element and a charge transporting substance is used as necessary (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-326290).
Reference).
【0007】ところで、イメージセンサーに搭載される
画像読み取り素子には、下記のような特性が要求され
る。 (1)光電流が高く、暗電流が低いこと。これは、光感
度特性に優れ、明暗電流比が高いことである。具体的に
は、光感度特性に優れているとは、例えば、数V〜数十
V程度の電圧を印加した状態で、画像読み取り素子に対
し1000ルクスの照度で光照射したとき、103 nA
/10mm2 以上(1nA/dot以上)の光電流が流
れることをいい、明暗電流比が高いとは、少なくとも一
方の極性の電界での暗電流が極めて少なく、暗電流値に
対する光電流値の比が大きいことをいう。 (2)光応答速度が高いこと。具体的には、光電流の立
ち上がり時間(Tr)および立ち下がり時間(Td)が
短いことである。By the way, the following characteristics are required for the image reading element mounted on the image sensor. (1) High photocurrent and low dark current. This means that it has excellent light sensitivity characteristics and a high light-dark current ratio. Specifically, excellent light sensitivity characteristics means that, for example, when an image reading element is irradiated with light at an illuminance of 1000 lux while applying a voltage of about several volts to several tens of volts, 10 3 nA
/ 10 mm 2 or more (1 nA / dot or more) means that a photocurrent flows, and a high light-to-dark current ratio means that a dark current in an electric field of at least one polarity is extremely small and a ratio of a photocurrent value to a dark current value Means greater. (2) High light response speed. Specifically, the rise time (Tr) and the fall time (Td) of the photocurrent are short.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
画像読み取り素子は、上記の両方の特性を共に十分に満
足するものではなく、特に、画像の解像度や階調を左右
する明暗電流比に関しては、光導電層の向上が望まれて
いた。However, the conventional image reading device does not sufficiently satisfy both of the above-mentioned characteristics, and in particular, the light-to-dark current ratio which affects the resolution and gradation of an image is not sufficient. Improvements in the photoconductive layer have been desired.
【0009】本発明は、以上のような事情に基いてなさ
れたものであって、その目的は光感度特性に優れ、明暗
電流比が高く、しかも、光応答速度の高い画像読み取り
素子を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide an image reading element having excellent light sensitivity characteristics, a high light / dark current ratio, and a high light response speed. It is in.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】本発明の画像読み取り素
子は、光導電層と、透明電極とを有する画像読み取り素
子において、透明電極は、酸化アルミニウムを含有する
酸化亜鉛よりなる透明導電膜により形成されていること
を特徴とする。本発明の画像読み取り素子は、上記の光
導電層は、ポルフィリン系化合物よりなる光導電性物質
を含有してなることが好ましい。また、本発明の画像読
み取り素子は、上記のポルフィリン系化合物よりなる光
導電性物質は、チタニルフタロシアニンのY型結晶物質
であることが好ましい。According to the present invention, there is provided an image reading element having a photoconductive layer and a transparent electrode, wherein the transparent electrode is formed of a transparent conductive film made of zinc oxide containing aluminum oxide. It is characterized by having been done. In the image reading element of the present invention, it is preferable that the photoconductive layer contains a photoconductive substance made of a porphyrin compound. In the image reading element of the present invention, the photoconductive substance composed of the porphyrin compound is preferably a Y-type crystal substance of titanyl phthalocyanine.
【0011】[0011]
【作用】以上のような画像読み取り素子によれば、当該
画像読み取り素子を構成する透明電極は、酸化アルミニ
ウムを含有する酸化亜鉛よりなる透明導電膜によって形
成されており、この透明導電膜は透明で仕事函数が小さ
く、ショットキー障壁が高いため、光非照射時の暗電流
を低いものとすることができ、その結果として、高い明
暗電流比が得られると共に、光導電層においては、その
透明電極側に高電界部分が形成される結果、光導電層の
光導電性物質自身が光を吸収することによるフィルタ効
果が小さいものとなり、従って、優れた光感度特性と、
高い光応答速度を共に達成することができる。According to the above-described image reading element, the transparent electrode constituting the image reading element is formed of a transparent conductive film made of zinc oxide containing aluminum oxide, and this transparent conductive film is transparent. Since the work function is small and the Schottky barrier is high, the dark current when light is not irradiated can be made low. As a result, a high light-to-dark current ratio is obtained, and the transparent electrode is formed in the photoconductive layer. As a result of the formation of the high electric field portion on the side, the filter effect due to absorption of light by the photoconductive substance itself of the photoconductive layer becomes small, and therefore, excellent photosensitivity characteristics,
Both high light response speeds can be achieved.
【0012】光導電層を形成する光導電物質としてチタ
ニルフタロシアニンのY型結晶物質などのポルフィリン
系化合物を用いることにより、上記の効果を確実に得る
ことができる。By using a porphyrin-based compound such as a Y-type crystal substance of titanyl phthalocyanine as a photoconductive material for forming the photoconductive layer, the above-mentioned effects can be surely obtained.
【0013】[0013]
【発明の実施の形態】以下、本発明の画像読み取り素子
について詳細に説明する。図4は、本発明の画像読み取
り素子の構成の一例を示す断面図である。この画像読み
取り素子は、透明電極1と対向電極2との間に光導電層
3が介在されて構成されている。すなわち、絶縁性支持
体4上に膜状の透明電極1が形成され、この透明電極1
上に、光導電層3と対向電極2とがこの順に積層して設
けられることにより、画像読み取り素子が構成される。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, an image reading device according to the present invention will be described in detail. FIG. 4 is a sectional view showing an example of the configuration of the image reading element of the present invention. This image reading element is configured such that a photoconductive layer 3 is interposed between a transparent electrode 1 and a counter electrode 2. That is, the film-shaped transparent electrode 1 is formed on the insulating support 4,
An image reading element is constituted by providing the photoconductive layer 3 and the counter electrode 2 on top of each other in this order.
【0014】画像読み取り素子を構成する絶縁性支持体
4としては、ガラス(例えばフロートガラス、ソーダガ
ラス)、石英(水晶)、透明樹脂(例えばポリエチレン
テレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエ
ーテルスルホン、ポリカーボネート)など絶縁性および
透明性を有する材料より形成されている。As the insulating support 4 constituting the image reading element, glass (for example, float glass, soda glass), quartz (quartz), transparent resin (for example, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyether sulfone, polycarbonate), etc. It is formed of an insulating and transparent material.
【0015】画像読み取り素子を構成する透明電極1
は、酸化アルミニウムを含有する酸化亜鉛(以下、「A
ZO」という。)よりなる透明導電膜によって形成され
る。このAZOは、酸化亜鉛に、例えば10質量%以
下、好ましくは1〜5質量%の酸化アルミニウムを含有
するものである。この透明電極1を形成するAZOの膜
厚は通常、例えば1μm以下、好ましくは0.1〜0.
5μmとされる。Transparent electrode 1 constituting image reading element
Is zinc oxide containing aluminum oxide (hereinafter referred to as “A
ZO ”. ). This AZO contains, for example, 10% by mass or less, preferably 1 to 5% by mass of aluminum oxide in zinc oxide. The film thickness of AZO forming the transparent electrode 1 is usually, for example, 1 μm or less, preferably 0.1 to 0.1 μm.
5 μm.
【0016】AZOよりなる透明電極1の形成方法とし
ては、真空蒸着法やスパッタリング法などの蒸着技術を
採用することができる。例えば、酸化亜鉛の粉末に適宜
の割合で酸化アルミニウムを含有させてなる焼結体をタ
ーゲットとして、交流マグネトロンスパッタリング法に
より、1PaのArガス圧の雰囲気下に、スパッタ供給
交流電力を100Wとし、基板温度を100℃とした条
件でスパッタを行うことが好ましい。また、レーザーア
ブレーションなどによる蒸着法によって成膜を行うこと
もできる。As a method for forming the transparent electrode 1 made of AZO, an evaporation technique such as a vacuum evaporation method or a sputtering method can be adopted. For example, using a sintered body obtained by adding aluminum oxide in an appropriate ratio to powder of zinc oxide as a target, the AC power is set to 100 W by sputtering magnetron sputtering under an atmosphere of Ar gas pressure of 1 Pa, It is preferable to perform sputtering at a temperature of 100 ° C. Further, film formation can also be performed by an evaporation method such as laser ablation.
【0017】透明電極1と対向電極2との間に介在する
光導電層3は、光導電性物質としてポルフィリン系化合
物が含有されている。具体的には、ポルフィリン系化合
物のうち、特にチタニルフタロシアニン(オキシチタニ
ウムフタロシアニン)のY型結晶物質を用いることが好
ましい。ここで、チタニルフタロシアニンは下記の構造
式で表わされる化合物である。The photoconductive layer 3 interposed between the transparent electrode 1 and the counter electrode 2 contains a porphyrin compound as a photoconductive substance. Specifically, among porphyrin-based compounds, it is particularly preferable to use a Y-type crystal substance of titanyl phthalocyanine (oxytitanium phthalocyanine). Here, titanyl phthalocyanine is a compound represented by the following structural formula.
【0018】[0018]
【化1】 Embedded image
【0019】チタニルフタロシアニンの「Y型結晶」
は、安定型のA型結晶(単斜晶であって「β型」とも称
される。)と、安定型のB型結晶(三斜晶であって「α
型」とも称される。)などとの中間安定相として存在す
る。このY型結晶の結晶構造は、空間群P21 /cの単
斜晶であり、その格子定数は、a≒1.38nm、b≒
1.39nm、c≒1.51nm、β≒120.2°で
ある。また、Y型結晶についてab面におけるパッキン
グのねじれ角は4°であり、結晶構造が類似するA型結
晶についてのねじれ角(19°)よりも小さい。"Y-type crystal" of titanyl phthalocyanine
Are stable A-type crystals (monoclinic and also referred to as “β type”) and stable B-type crystals (triclinic and “α
Also called a "type." ) Exists as an intermediate stable phase. The crystal structure of this Y-type crystal is a monoclinic crystal of a space group P2 1 / c, and its lattice constant is a ≒ 1.38 nm, b ≒.
1.39 nm, c ≒ 1.51 nm, β ≒ 120.2 °. The twist angle of the packing in the ab plane of the Y-type crystal is 4 °, which is smaller than the twist angle (19 °) of the A-type crystal having a similar crystal structure.
【0020】図5は、チタニルフタロシアニンのY型結
晶物質におけるX線回折図〔粉末X線回折(CuK
α)〕である。同図に示されるように、Y型結晶物質の
X線回折においては、9.6°、24.1°および2
7.2°の付近に特徴的なピークが認められ、回折図に
おいてこれらのピークの存在を確認することにより、Y
型結晶物質の同定を行うことができる。FIG. 5 is an X-ray diffraction diagram of a titanyl phthalocyanine Y-type crystal material [powder X-ray diffraction (CuK
α)]. As shown in the figure, 9.6 °, 24.1 ° and 2
Characteristic peaks are observed around 7.2 °, and by confirming the presence of these peaks in the diffractogram, Y
Identification of the type crystal material can be performed.
【0021】前記Y型結晶物質は、チタニルフタロシア
ニンの他の結晶構造(A型、B型)を有する物質より
も、画像読み取り特性、特に光応答特性の向上効果にお
いて格段に優れており、斯かるY型結晶物質を光導電性
物質として光導電層3に含有させることにより、得られ
る画像読み取り素子は、優れた光感度特性および高い明
暗電流比を有すると共に、高い光応答速度を有するもの
となる。The Y-type crystal substance is much more excellent in improving the image reading characteristics, particularly the light response characteristic, than the substance having another crystal structure (A type, B type) of titanyl phthalocyanine. By including the Y-type crystal substance as a photoconductive substance in the photoconductive layer 3, the obtained image reading device has excellent photosensitivity characteristics, a high light-dark current ratio, and a high photoresponse speed. .
【0022】光導電層3の形成方法としては、(1)前
記Y型結晶物質を透明電極1上に蒸着する方法、(2)
前記Y型結晶物質とバインダー樹脂とを有機溶剤中に溶
解または分散させて塗布液を調製し、この塗布液を、例
えばバーコーター法、スピンナー法、印刷法、浸漬法な
どによって透明電極1上に塗布し、塗膜を乾燥する方法
などを挙げることができ、(2)の方法を用いることが
好ましい。このようにして形成される光導電層3の厚さ
は、通常0.1〜10μmとされ、好ましくは0.5〜
3.0μmとされる。The method of forming the photoconductive layer 3 includes: (1) a method of depositing the Y-type crystal substance on the transparent electrode 1;
The Y-type crystal substance and the binder resin are dissolved or dispersed in an organic solvent to prepare a coating solution, and the coating solution is applied to the transparent electrode 1 by, for example, a bar coater method, a spinner method, a printing method, or a dipping method. A method of applying and drying the coating film can be used, and the method (2) is preferably used. The thickness of the photoconductive layer 3 thus formed is generally 0.1 to 10 μm, preferably 0.5 to 10 μm.
3.0 μm.
【0023】光導電層3の形成に使用されるバインダー
樹脂としては、電子写真感光体用のバインダー樹脂とし
て知られているものをそのまま使用することができ、例
えばポリエチレン、ポリプロピレン、塩化ビニル、酢酸
ビニル、ビニルブチラール、ビニルホルマール、アクリ
ル樹脂、メタクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン
樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、アルキッド
樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコーン樹脂、メラミ
ン樹脂などの付加重合型または重縮合型の重合体よりな
る樹脂;塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル
−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体などの共重合体
樹脂;ポリ−N−ビニルカルバゾールなどの高分子有機
半導体などを例示することができ、これらのうちポリカ
ーボネートが好ましい。光導電層3を構成するバインダ
ー樹脂と、チタニルフタロシアニンのY型結晶物質との
割合としては、例えば、バインダー樹脂100質量部に
対してY型結晶物質が10〜100質量部の割合とされ
る。As the binder resin used for forming the photoconductive layer 3, those known as binder resins for electrophotographic photosensitive members can be used as they are, for example, polyethylene, polypropylene, vinyl chloride, vinyl acetate. Consisting of polymers of addition polymerization type or polycondensation type such as vinyl butyral, vinyl formal, acrylic resin, methacrylic resin, epoxy resin, polyurethane resin, phenolic resin, polyester resin, alkyd resin, polycarbonate resin, silicone resin and melamine resin. Resins; copolymer resins such as vinyl chloride-vinyl acetate copolymer and vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride copolymer; and high-molecular organic semiconductors such as poly-N-vinyl carbazole. Of these, polycarbonate is preferred There. The ratio of the binder resin constituting the photoconductive layer 3 to the Y-type crystal substance of titanyl phthalocyanine is, for example, a ratio of 10 to 100 parts by mass of the Y-type crystal substance to 100 parts by mass of the binder resin.
【0024】この光導電層3中には、必要に応じてP型
またはN型の電荷輸送物質(CTM)が含有されていて
もよい。CTMの含有割合は、バインダー樹脂100質
量部に対して0〜100質量部とされる。The photoconductive layer 3 may contain a P-type or N-type charge transport material (CTM), if necessary. The content ratio of CTM is set to 0 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder resin.
【0025】対向電極2は、例えばアルミニウム、す
ず、鉛、ニッケル、パラジウム、金、白金などの金属
を、光導電層3の表面に蒸着またはスパッタリングする
ことにより形成することができる。なお、図4において
は、1つの対向電極しか図示していないが、本発明の画
像読み取り素子を構成する対向電極は、通常、画素ごと
に配列された個別電極から構成されている。The counter electrode 2 can be formed by depositing or sputtering a metal such as aluminum, tin, lead, nickel, palladium, gold or platinum on the surface of the photoconductive layer 3. Although only one counter electrode is shown in FIG. 4, the counter electrode constituting the image reading element of the present invention is generally formed of individual electrodes arranged for each pixel.
【0026】AZOは、透明で仕事函数が小さいため、
従来の透明導電膜として用いられているNESA膜、I
TO膜に比して大きいショットキー障壁が形成されて、
光非照射時の暗電流を低いものとすることができ、その
結果として、高い明暗電流比が得られると共に、光導電
層3においては、その透明電極1側に高電界部分が形成
される結果、光導電層3の光導電性物質自身が光を吸収
することによるフィルタ効果が小さいものとなり、従っ
て、優れた光感度特性と、高い光応答速度を共に達成す
ることができる。AZO is transparent and has a small work function.
NESA film used as a conventional transparent conductive film, I
A Schottky barrier larger than the TO film is formed,
The dark current at the time of non-irradiation of light can be reduced, and as a result, a high light-to-dark current ratio can be obtained, and a high electric field portion is formed in the photoconductive layer 3 on the transparent electrode 1 side. In addition, the filter effect due to the photoconductive substance itself of the photoconductive layer 3 absorbing light is small, and therefore, both excellent photosensitivity characteristics and high photoresponse speed can be achieved.
【0027】上記のような構成を有する画像読み取り素
子は、透明電極1に対する対向電極2の極性が正または
負になるよう、両電極間に電圧を印加して使用される。
そして、この画像読み取り素子は、透明電極1と対向電
極2との間に光導電層3のみが介在されている単構成で
あることにより、両電極間に印加する電圧(駆動電圧)
を低く設定することができる。なお、本発明の画像読み
取り素子の構成は、図4に示すものに限定されず、下記
に示すような種々の構成を採用することができる。The image reading element having the above-described configuration is used by applying a voltage between both electrodes so that the polarity of the counter electrode 2 with respect to the transparent electrode 1 becomes positive or negative.
Since this image reading element has a single configuration in which only the photoconductive layer 3 is interposed between the transparent electrode 1 and the counter electrode 2, a voltage (drive voltage) applied between both electrodes is provided.
Can be set low. Note that the configuration of the image reading element of the present invention is not limited to the configuration shown in FIG. 4, and various configurations as described below can be employed.
【0028】<対向電極側の極性を(正)として使用す
る場合の構成> (1)透明電極/光導電層/N型電荷輸送層(N型CT
L)/対向電極 (2)透明電極/P型電荷輸送層(P型CTL)/光導
電層/対向電極 (3)透明電極/電子注入阻止層/光導電層/対向電極 (4)透明電極/電子注入阻止層/光導電層/N型CT
L/対向電極 (5)透明電極/P型CTL/光導電層/ホール注入阻
止層/対向電極<Structure in the case of using the polarity of the counter electrode side as (positive)> (1) Transparent electrode / photoconductive layer / N-type charge transport layer (N-type CT
L) / counter electrode (2) transparent electrode / p-type charge transport layer (p-type CTL) / photoconductive layer / counter electrode (3) transparent electrode / electron injection blocking layer / photoconductive layer / counter electrode (4) transparent electrode / Electron injection blocking layer / Photoconductive layer / N-type CT
L / counter electrode (5) Transparent electrode / P-type CTL / photoconductive layer / hole injection blocking layer / counter electrode
【0029】<対向電極側の極性を(負)として使用す
る場合の構成> (1)透明電極/光導電層/P型CTL/対向電極 (2)透明電極/N型CTL/光導電層/対向電極 (3)透明電極/ホール注入阻止層/光導電層/対向電
極 (4)透明電極/ホール注入阻止層/光導電層/P型C
TL/対向電極 (5)透明電極/N型CTL/光導電層/電子注入阻止
層/対向電極<Configuration when using the polarity of the counter electrode side as (negative)> (1) Transparent electrode / photoconductive layer / P-type CTL / counter electrode (2) Transparent electrode / N-type CTL / photoconductive layer / Counter electrode (3) Transparent electrode / hole injection blocking layer / photoconductive layer / counter electrode (4) Transparent electrode / hole injection blocking layer / photoconductive layer / P-type C
TL / counter electrode (5) Transparent electrode / N-type CTL / photoconductive layer / electron injection blocking layer / counter electrode
【0030】上記において、「ホール注入阻止層」は、
ホールの流れを阻止することによって暗電流の発生を抑
制するものであり、例えば106 〜1014Ω・cm程度
の抵抗率を有する例えばポリアミド樹脂などの樹脂によ
り形成することができる。また、「電子注入阻止層」
は、電子の流れを阻止することにより、暗電流の発生を
抑制するものであり、例えば106 〜1014Ω・cm程
度の抵抗率を有する例えばエチレン系共重合体などの樹
脂により形成することができる。In the above, the “hole injection blocking layer”
The generation of dark current is suppressed by blocking the flow of holes, and can be formed of a resin such as a polyamide resin having a resistivity of, for example, about 10 6 to 10 14 Ω · cm. Also, "Electron injection blocking layer"
Is to suppress the generation of dark current by blocking the flow of electrons, and is formed of, for example, a resin such as an ethylene copolymer having a resistivity of about 10 6 to 10 14 Ω · cm. Can be.
【0031】上記において、P型CTLまたはN型CT
Lの形成方法としては、例えばバインダー樹脂と、その
100質量部に対して10〜10,000質量部のCT
Mを有機溶剤に溶解して塗布液を調製し、この塗布液を
塗布し、乾燥する方法を挙げることができる。In the above, P-type CTL or N-type CT
As a method for forming L, for example, 10 to 10,000 parts by mass of CT with respect to 100 parts by mass of a binder resin
M may be dissolved in an organic solvent to prepare a coating solution, and the coating solution may be applied and dried.
【0032】[0032]
【実施例】以下、本発明の実施例を説明するが、本発明
がこれらによって限定されるものではない。 <実施例1>チタニルフタロシアニンのY型結晶物質
(Y−TiOPc)〔山陽色素社製〕0.3gと、ポリ
カーボネート樹脂「K1300」〔帝人化成(株)製〕
1.0gとを、1,2−ジクロロエタン30ミリリット
ルに溶解することにより、光導電層形成用の塗布液を調
製した。ガラス基板の一面に、3質量%の割合で酸化ア
ルミニウムを含有する酸化亜鉛(AZO)を蒸着して膜
厚が0.2μmの透明電極を形成し、この透明電極上
に、上記のようにして調製された塗布液をバーコーター
を用いて塗布し、室温下に24時間乾燥することによ
り、乾燥膜厚が1.4μmの光導電層を形成した。次い
で、光導電層の表面にアルミニウムの真空蒸着を行うこ
とによってアルミニウム蒸着膜よりなる対向電極を形成
し、図4に示した構成を有する画像読み取り素子を製造
した。EXAMPLES Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited by these examples. <Example 1> 0.3 g of titanyl phthalocyanine Y-type crystal substance (Y-TiOPc) [manufactured by Sanyo Dyeing Co., Ltd.] and polycarbonate resin "K1300" [manufactured by Teijin Chemicals Ltd.]
1.0 g was dissolved in 30 ml of 1,2-dichloroethane to prepare a coating solution for forming a photoconductive layer. On one surface of a glass substrate, zinc oxide (AZO) containing aluminum oxide at a ratio of 3% by mass is vapor-deposited to form a transparent electrode having a thickness of 0.2 μm. The prepared coating solution was applied using a bar coater and dried at room temperature for 24 hours to form a photoconductive layer having a dry film thickness of 1.4 μm. Next, a vacuum deposition of aluminum was performed on the surface of the photoconductive layer to form a counter electrode composed of an aluminum vapor-deposited film, thereby producing an image reading device having the configuration shown in FIG.
【0033】<比較例1>AZOの代わりにITOを用
いて透明電極を形成した以外は実施例1と同様にして、
比較用の画像読み取り素子を製造した。<Comparative Example 1> The procedure of Example 1 was repeated, except that a transparent electrode was formed using ITO instead of AZO.
An image reading device for comparison was manufactured.
【0034】<実施例2>バインダーであるポリカーボ
ネート樹脂「K1300」の代わりに、「PS(ポリス
チレン)」を使用したこと以外は、実施例1と同様にし
て、比較用の画像読み取り素子を製造した。Example 2 An image reading element for comparison was manufactured in the same manner as in Example 1 except that "PS (polystyrene)" was used instead of the polycarbonate resin "K1300" as a binder. .
【0035】<比較例2>AZOの代わりにITOを用
いて透明電極を形成した以外は実施例2と同様にして、
比較用の画像読み取り素子を製造した。<Comparative Example 2> The procedure of Example 2 was repeated, except that a transparent electrode was formed using ITO instead of AZO.
An image reading device for comparison was manufactured.
【0036】<画像読み取り素子の評価>実施例1〜2
および比較例1〜2により製造された画像読み取り素子
を構成するそれぞれの構成材料について、表1に示し
た。また、実施例1〜2および比較例1〜3により製造
された画像読み取り素子の各々について、対向電極側の
極性を正として、透明電極と対向電極との間に電界強度
5V/μmが形成された状態となるように電圧を印加し
た。この状態で、図6(イ)に示したようなパルス型の
繰り返し露光(点滅周期200msec)を行い、立ち
上がり時間(Tr)および立ち下がり時間(Td)を測
定して光応答特性を評価し、3000μW/cm2 の光
量を照射したときの光電流を測定して光感度特性を評価
し、更に、光非照射時の暗電流を測定して明暗電流比を
算出した。結果を表2に示した。ここで、「立ち上がり
時間(Tr)」とは、露光を開始(ON)したときに、
信号電流の出力値が飽和値の10%から90%に至るま
での時間をいい、「立ち下がり時間(Td)」とは、露
光を停止(OFF)したときに、信号電流の出力値が飽
和値の90%から10%に至るまでの時間をいう〔図6
(ロ)参照〕。<Evaluation of Image Reading Element> Examples 1 and 2
Table 1 shows the respective constituent materials constituting the image reading devices manufactured according to Comparative Examples 1 and 2. Further, for each of the image reading elements manufactured in Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 to 3, the electric field strength of 5 V / μm was formed between the transparent electrode and the counter electrode, with the polarity on the counter electrode side being positive. Voltage was applied so as to be in a state of being closed. In this state, pulse-type repetitive exposure (blinking cycle 200 msec) as shown in FIG. 6A is performed, and the rise time (Tr) and fall time (Td) are measured to evaluate the optical response characteristics. The photocurrent when the light amount of 3000 μW / cm 2 was irradiated was measured to evaluate the photosensitivity characteristics, and the dark current without light irradiation was measured to calculate the light-dark current ratio. The results are shown in Table 2. Here, the “rise time (Tr)” means that when exposure is started (ON),
The time from when the output value of the signal current reaches 10% to 90% of the saturation value is referred to as “fall time (Td)”. It means the time from 90% to 10% of the value [FIG.
(B)).
【0037】[0037]
【表1】 [Table 1]
【0038】[0038]
【表2】 [Table 2]
【0039】上記表1および表2の結果から、実施例1
に係る画像読み取り素子は、比較例1に係る画像読み取
り素子よりも格段に暗電流が低く、高い明暗電流比を有
するものであり、光感度特性に優れていることが理解さ
れる。そして、このような優れた明暗電流比が、キャリ
ア注入阻止層を設けずに発現されることは注目に値する
ものである。しかも、実施例1に係る画像読み取り素子
は、比較例1に係る画像読み取り素子よりもTrおよび
Tdが短く、光応答速度が高いことが明らかである。From the results shown in Tables 1 and 2, from Example 1
It can be understood that the image reading device according to Comparative Example 1 has a significantly lower dark current and a higher light-dark current ratio than the image reading device according to Comparative Example 1, and has excellent light sensitivity characteristics. It is noteworthy that such an excellent light / dark current ratio is exhibited without providing a carrier injection blocking layer. Moreover, it is clear that the image reading device according to Example 1 has shorter Tr and Td and higher light response speed than the image reading device according to Comparative Example 1.
【0040】同様に、実施例2に係る画像読み取り素子
は、比較例2に係る画像読み取り素子に比較して高い明
暗電流比を有するものであり、光感度特性に優れてい
る。しかも、光応答速度が高いことが明らかである。Similarly, the image reading device according to Example 2 has a higher light-dark current ratio than the image reading device according to Comparative Example 2, and has excellent light sensitivity characteristics. Moreover, it is clear that the light response speed is high.
【0041】[0041]
【発明の効果】本発明の画像読み取り素子によれば、当
該画像読み取り素子を構成する透明電極は、AZOより
なる透明導電膜によって形成されており、この透明導電
膜は透明で仕事函数が小さく、ショットキー障壁が高い
ため、光非照射時の暗電流を低いものとすることがで
き、その結果として、高い明暗電流比が得られると共
に、光導電層においては、その透明電極側に高電界部分
が形成される結果、光導電層の光導電性物質自身が光を
吸収することによるフィルタ効果が小さいものとなり、
従って、優れた光感度特性と、高い光応答速度を共に達
成することができる。According to the image reading device of the present invention, the transparent electrode constituting the image reading device is formed of a transparent conductive film made of AZO, and this transparent conductive film is transparent and has a small work function. Since the Schottky barrier is high, the dark current when light is not irradiated can be reduced. As a result, a high light-to-dark current ratio can be obtained, and in the photoconductive layer, a high electric field portion is provided on the transparent electrode side. Is formed, the photoconductive substance itself of the photoconductive layer itself has a small filter effect by absorbing light,
Therefore, both excellent light sensitivity characteristics and high light response speed can be achieved.
【図1】イメージセンサーの構造の一例を示す概略断面
図である。FIG. 1 is a schematic sectional view showing an example of the structure of an image sensor.
【図2】画像情報が信号電流の経時的変化として出力さ
れるまでのプロセスを示す概略図である。FIG. 2 is a schematic diagram showing a process until image information is output as a temporal change of a signal current.
【図3】画像読み取り素子の基本的な構造を示す説明用
断面図である。FIG. 3 is an explanatory cross-sectional view showing a basic structure of an image reading element.
【図4】本発明の画像読み取り素子の構成の一例を示す
断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating an example of the configuration of the image reading element of the present invention.
【図5】チタニルフタロシアニンのY型結晶物質におけ
るX線回折図である。FIG. 5 is an X-ray diffraction diagram of titanyl phthalocyanine in a Y-type crystal substance.
【図6】(イ)画像読み取り素子への露光量、(ロ)画
像読み取り素子からの信号電流の経時的変化を示すチャ
ートである。FIGS. 6A and 6B are charts showing (a) the amount of exposure to the image reading element and (b) the change over time in the signal current from the image reading element.
1 透明電極 2 対向電極 3 光導電層 4 絶縁性支持体 91 画像読み取り素子 92 ロッドレンズアイ 93 光源 94 原稿 95 透明電極 96 対向電極 97 光導電層 98 透明支持体 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent electrode 2 Counter electrode 3 Photoconductive layer 4 Insulating support 91 Image reading element 92 Rod lens eye 93 Light source 94 Document 95 Transparent electrode 96 Counter electrode 97 Photoconductive layer 98 Transparent support
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4M118 AA02 AA05 AB01 BA07 CA06 CA14 CB20 FB09 5C051 AA01 BA02 DA03 DB01 DB08 DC02 DC07 5F088 AA11 AB11 BA02 BA04 BB03 FA02 FA05 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 4M118 AA02 AA05 AB01 BA07 CA06 CA14 CB20 FB09 5C051 AA01 BA02 DA03 DB01 DB08 DC02 DC07 5F088 AA11 AB11 BA02 BA04 BB03 FA02 FA05
Claims (3)
み取り素子において、 透明電極は、酸化アルミニウムを含有する酸化亜鉛より
なる透明導電膜により形成されていることを特徴とする
画像読み取り素子。1. An image reading device having a photoconductive layer and a transparent electrode, wherein the transparent electrode is formed of a transparent conductive film made of zinc oxide containing aluminum oxide.
なる光導電性物質を含有してなることを特徴とする請求
項1に記載の画像読み取り素子。2. The image reading element according to claim 1, wherein the photoconductive layer contains a photoconductive substance made of a porphyrin compound.
物質は、チタニルフタロシアニンのY型結晶物質である
ことを特徴とする請求項2に記載の画像読み取り素子。3. The image reading device according to claim 2, wherein the photoconductive substance comprising a porphyrin compound is a Y-type crystal substance of titanyl phthalocyanine.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001035754A JP2002247287A (en) | 2001-02-13 | 2001-02-13 | Image reading element |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2001035754A JP2002247287A (en) | 2001-02-13 | 2001-02-13 | Image reading element |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002247287A true JP2002247287A (en) | 2002-08-30 |
Family
ID=18899156
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP2001035754A Withdrawn JP2002247287A (en) | 2001-02-13 | 2001-02-13 | Image reading element |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002247287A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007067194A (en) * | 2005-08-31 | 2007-03-15 | Fujifilm Corp | Organic photoelectric conversion element and stacked photoelectric conversion element |
| JP2019004145A (en) * | 2017-06-13 | 2019-01-10 | 旭化成株式会社 | MSM type ultraviolet light receiving element, MSM type ultraviolet light receiving device |
-
2001
- 2001-02-13 JP JP2001035754A patent/JP2002247287A/en not_active Withdrawn
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| JP2019004145A (en) * | 2017-06-13 | 2019-01-10 | 旭化成株式会社 | MSM type ultraviolet light receiving element, MSM type ultraviolet light receiving device |
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