JP2002279798A - Semiconductor integrated circuit and method for measuring transistor thereof - Google Patents
Semiconductor integrated circuit and method for measuring transistor thereofInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 DRAM等に内蔵される差動型センスアンプ
のトランジスタ特性の測定において測定TEGを用いる
のではなく、実デバイス上のトランジスタ自体を測定す
る。
【解決手段】 ビット線対のイコライズ回路2とビット
線BL、/BL間に介在するトランジスタN6乃至N
9、センスアンプ駆動線106、107の電圧を制御す
るトランジスタP3及びN3、センスアンプ駆動線をイ
コライズするトランジスタN10をオフする手段を具備
し、データ線対DQ、/DQ及びセンスアンプ駆動線に
電圧を外部から強制的に印加できる外部入出力端PAT
1乃至PAT4を用いることによって直接半導体集積回
路のトランジスタ特性の測定が可能となる。
[PROBLEMS] To measure a transistor itself in an actual device, instead of using a measurement TEG in measuring transistor characteristics of a differential sense amplifier built in a DRAM or the like. SOLUTION: Transistors N6 to N interposed between a bit line pair equalizing circuit 2 and bit lines BL and / BL are provided.
9, means for turning off the transistors P3 and N3 for controlling the voltages of the sense amplifier drive lines 106 and 107, and the transistor N10 for equalizing the sense amplifier drive lines, and applying a voltage to the data line pair DQ, / DQ and the sense amplifier drive lines. External input / output terminal PAT that can forcibly apply
By using 1 to PAT4, it is possible to directly measure the transistor characteristics of the semiconductor integrated circuit.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】 本発明は、半導体集積回路
上のトランジスタの特性測定、特に半導体記憶装置にお
ける差動型センスアンプを構成するトランジスタの測定
に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to measurement of characteristics of transistors on a semiconductor integrated circuit, and more particularly to measurement of transistors forming a differential sense amplifier in a semiconductor memory device.
【0002】[0002]
【従来の技術】 トランジスタの微細化が急速に進んで
いる現在、チップ間のトランジスタ特性がばらつくこと
はもとより、同形状の隣接トランジスタ間でさえも製造
ばらつきに起因してそのトランジスタ特性がばらつくこ
とがある。2. Description of the Related Art With the rapid progress in miniaturization of transistors, transistor characteristics between chips vary, and even between adjacent transistors having the same shape, transistor characteristics may vary due to manufacturing variations. is there.
【0003】そのため、実デバイス上で隣接トランジス
タを実測して特性を評価できるようにすることはばらつ
きの起因を早期に特定させるためにも重要である。For this reason, it is important to measure the characteristics of adjacent transistors on an actual device so that the characteristics can be evaluated.
【0004】特に、DRAMやSRAMのメモリセルア
レイにより読み出される微小電位の差を増幅し、データ
線を介してデータ線バッファへと信号を受け渡す役割を
なす差動型センスアンプでは、そのトランジスタの特性
を揃えることが極めて重要である。In particular, in a differential sense amplifier which amplifies a small potential difference read by a memory cell array of a DRAM or an SRAM and transfers a signal to a data line buffer via a data line, the characteristic of the transistor is used. Is very important.
【0005】一般にトランジスタの特性を測定すると
き、例えば図3のようなNMOSトランジスタにおいて
ソース電位Vs及びバックバイアスVbにVSSを、ドレ
イン電位VdにVCC等の外部電位を与え、ゲート電位
VgにはVSSからVCCまでの電位Vgを与えることに
より、ドレイン-ソース間に流れるドレイン電流Idを測
定しトランジスタの特性を得ることができる。[0005] Generally when measuring the characteristics of the transistors, for example, the source voltage V s and a back bias V b to VSS in the NMOS transistor as shown in FIG. 3, applying an external potential of VCC and the like to the drain potential V d, the gate potential V the g by applying a potential V g from VSS to VCC, the drain - measuring the drain current I d flowing between the source can be obtained characteristics of the transistor.
【0006】このようなトランジスタ特性を実デバイス
上で測定するには、測定専用のTEGを用い、測定を行
っている。In order to measure such transistor characteristics on an actual device, measurement is performed using a TEG dedicated to measurement.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】 しかし、上述したよ
うに同形状の隣接トランジスタ間でさえも製造ばらつき
が生じることを考慮すると、製品として使用される測定
対象デバイス以外のTEGについてトランジスタ特性の
測定を行っても真に求めたい特性とはずれている可能性
が極めて高い。However, in consideration of the fact that manufacturing variations occur even between adjacent transistors having the same shape as described above, it is necessary to measure the transistor characteristics of a TEG other than the device to be measured used as a product. Even if it is performed, there is a very high possibility that the characteristic is not exactly what is desired.
【0008】また、TEGとして作成されるトランジス
タと製品上に作成されるトランジスタとでは周辺回路の
状況や製造条件等が異なる場合もあり、実デバイス内の
センスアンプトランジスタのペア性を測定しないことに
は実際のトランジスタ特性を見極めることが困難であ
る。In addition, the situation of peripheral circuits, manufacturing conditions, and the like may differ between a transistor formed as a TEG and a transistor formed on a product, so that the pairing of a sense amplifier transistor in an actual device is not measured. It is difficult to determine the actual transistor characteristics.
【0009】そこで、本発明の目的はTEGによるトラ
ンジスタ特性の測定ではなく、製品として使用される実
デバイスを直接測定するため、実デバイスの外部入出力
端を用いてのトランジスタ特性の測定が可能な半導体集
積回路及びそのトランジスタの測定方法を提供すること
にある。Therefore, the object of the present invention is not to measure the transistor characteristics by TEG but to directly measure the actual device used as a product, so that the transistor characteristics can be measured by using the external input / output terminals of the actual device. An object of the present invention is to provide a method for measuring a semiconductor integrated circuit and a transistor thereof.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】 差動型センスアンプ
と、前記差動型センスアンプと接続された第1及び第2の
ビット線と、前記第1のビット線と信号を授受する第1の
データ線と、前記第2のビット線と信号を授受する第2の
データ線と、前記差動型センスアンプの高電位電源供給
ノードに接続された第1の外部入出力端と、前記差動型
センスアンプの低電位電源供給ノードに接続された第2
の外部入出力端と、前記第1のデータ線に接続された第
3の外部入出力端と、前記第2のデータ線に接続された
第4の外部入出力端と、前記第1のデータ線と前記第1
のビット線との間に介在された第1のカラム選択ゲート
トランジスタと、前記第2のデータ線と前記第2のビッ
ト線との間に介在された第2のカラム選択ゲートトラン
ジスタと、前記差動型センスアンプのトランジスタの測
定に際して、前記第1及び第2のカラム選択ゲートトラ
ンジスタをオンさせるとともに、前記トランジスタのゲ
ート、ドレイン及びソースに対する前記第1乃至第4の外
部入出力端以外の電位供給経路を遮断するテスト回路と
を具備することを特徴とした半導体集積回路により解決
する。[MEANS FOR SOLVING THE PROBLEMS] A differential sense amplifier, first and second bit lines connected to the differential sense amplifier, and a first bit line for transmitting and receiving signals to and from the first bit line. A data line, a second data line for transmitting and receiving signals to and from the second bit line, a first external input / output terminal connected to a high potential power supply node of the differential sense amplifier, Connected to the low potential power supply node of the sense amplifier
An external input / output terminal, a third external input / output terminal connected to the first data line, a fourth external input / output terminal connected to the second data line, and the first data input / output terminal. Line and the first
A first column select gate transistor interposed between the second data line and the second bit line; and a second column select gate transistor interposed between the second data line and the second bit line. In measuring the transistor of the dynamic sense amplifier, the first and second column select gate transistors are turned on, and the potential supply to the gate, drain and source of the transistor other than the first to fourth external input / output terminals is performed. The problem is solved by a semiconductor integrated circuit having a test circuit for interrupting a path.
【0011】上記課題は、前記半導体集積回路におい
て、前記テスト回路を制御し、前記第1乃至第4の外部
入出力端より、前記差動型センスアンプの測定対象のト
ランジスタにゲート電位、ドレイン電位及びソース電位
を与える過程を具備することを特徴とする半導体集積回
路のトランジスタ測定方法を用いることにより解決す
る。In the semiconductor integrated circuit, the test circuit is controlled, and a gate potential and a drain potential are applied to a transistor to be measured by the differential sense amplifier from the first to fourth external input / output terminals. And a step of applying a source potential to the semiconductor integrated circuit.
【0012】本発明によれば、実デバイス上でセンスア
ンプ回路を構成しているトランジスタ自体を直接外部入
出力端を介して特性を測定することが可能であり、半導
体集積回路のトランジスタの特性を正確に測定すること
ができる。According to the present invention, it is possible to measure the characteristics of a transistor constituting a sense amplifier circuit directly on an actual device via an external input / output terminal, and to determine the characteristics of a transistor of a semiconductor integrated circuit. It can be measured accurately.
【0013】[0013]
【発明の実施の形態】 [第1の実施例]本発明の第1の
実施例を図1に示す。[First Embodiment] FIG. 1 shows a first embodiment of the present invention.
【0014】センスアンプ領域内のビット線対BL及び
/BLは信号線MUXL(テスト回路1で制御される制
御信号線101)により駆動されるNMOSトランジス
タN6、N7を介して、図1中の左側のメモリセルアレ
イ領域のビット線対BLL、/BLLにそれぞれ接続さ
れている。そして、前記ビット線対BLL、/BLLに
は信号線EQLLにより制御されるイコライズ回路2が
接続されている。The bit line pairs BL and BL in the sense amplifier region
/ BL is connected to the bit line pair BLL, / BLL in the memory cell array region on the left side in FIG. 1 via NMOS transistors N6, N7 driven by the signal line MUXL (the control signal line 101 controlled by the test circuit 1). Each is connected. An equalizing circuit 2 controlled by a signal line EQLL is connected to the bit line pair BLL and / BLL.
【0015】また、前記ビット線対BL及び/BLは信
号線MUXR(テスト回路1で制御される制御信号線1
01)により駆動されるNMOSトランジスタN8、N
9を介して、図1中の右側のメモリセルアレイ領域のビ
ット線対BLR、/BLRにそれぞれ接続されている。
そして左側ビット線対と同様に右側ビット線対BLR、
/BLRにも信号線EQLRにより制御されるイコライ
ズ回路2が接続されている。The bit line pair BL and / BL is connected to a signal line MUXR (a control signal line 1 controlled by the test circuit 1).
01) driven by the NMOS transistors N8, N
9 are connected to bit line pairs BLR and / BLR in the memory cell array region on the right side in FIG.
Then, like the left bit line pair, the right bit line pair BLR,
The equalizing circuit 2 controlled by the signal line EQLR is also connected to / BLR.
【0016】さらに、ビット線対BL、/BLはカラム
選択線CSL(テスト回路1で制御される制御信号線1
05)により駆動されるNMOSトランジスタN4及び
N5を介してデータ線対DQ、/DQにそれぞれ接続さ
れ、データ線対DQ、/DQ上の微小な電位差は図示し
ないデータ線増幅回路により論理振幅まで増幅される。Further, a bit line pair BL, / BL is connected to a column selection line CSL (a control signal line 1 controlled by the test circuit 1).
05) are connected to the data line pair DQ and / DQ via NMOS transistors N4 and N5 driven by N5, respectively, and the minute potential difference on the data line pair DQ and / DQ is amplified to a logical amplitude by a data line amplifier circuit (not shown). Is done.
【0017】本実施例の差動型センスアンプは、NMO
SトランジスタN1及びN2からなるNチャネルセンス
アンプと、PMOSトランジスタP1及びP2からなる
Pチャネルセンスアンプとから構成されている。The differential sense amplifier of this embodiment is an NMO
It comprises an N-channel sense amplifier composed of S transistors N1 and N2, and a P-channel sense amplifier composed of PMOS transistors P1 and P2.
【0018】ここで、Nチャネルセンスアンプの駆動線
107は信号線SEN(テスト回路1で制御される制御
信号線104)により駆動されるNMOSトランジスタ
N3を介し、低電位側電源が接続されている。Here, the drive line 107 of the N-channel sense amplifier is connected to a low-potential-side power supply via an NMOS transistor N3 driven by a signal line SEN (the control signal line 104 controlled by the test circuit 1). .
【0019】また、Pチャネルセンスアンプの駆動線1
06は信号線SEP(テスト回路1で制御される制御信
号線102)により駆動されるPMOSトランジスタP
3を介し、高電位側電源が接続されている。The driving line 1 of the P-channel sense amplifier
06 is a PMOS transistor P driven by the signal line SEP (the control signal line 102 controlled by the test circuit 1).
3, a high-potential-side power supply is connected.
【0020】さらに、Nチャネルセンスアンプの駆動線
107とPチャネルセンスアンプの駆動線106はイコ
ライズされるが、このイコライズを制御するために駆動
線107と駆動線106との間にはセンスアンプイコラ
イズ信号線EQLSA(テスト回路1で制御される制御
信号線103)により制御されるNMOSトランジスタ
N10を介している。Further, the drive line 107 of the N-channel sense amplifier and the drive line 106 of the P-channel sense amplifier are equalized. To control the equalization, a sense amplifier equalize is provided between the drive lines 107 and 106. The NMOS transistor N10 is controlled by a signal line EQLSA (the control signal line 103 controlled by the test circuit 1).
【0021】そして、Pチャネルセンスアンプの駆動線
106、Nチャネルセンスアンプの駆動線107、デー
タ線対DQ、/DQはそれぞれ外部入出力端PAT1乃
至PAT4と接続されている。The drive line 106 for the P-channel sense amplifier, the drive line 107 for the N-channel sense amplifier, and the data line pair DQ, / DQ are connected to external input / output terminals PAT1 to PAT4, respectively.
【0022】また、信号線MUXL、カラム選択線CS
L、信号線MUXR、センスアンプイコライズ信号線E
QLSA、信号線SEN、信号線SEPは、テスト回路
1によって制御される。The signal line MUXL and the column selection line CS
L, signal line MUXR, sense amplifier equalize signal line E
The QLSA, the signal line SEN, and the signal line SEP are controlled by the test circuit 1.
【0023】次に、図1の半導体集積回路の差動型セン
スアンプに用いられているトランジスタの測定方法につ
いて説明する。Next, a method of measuring the transistors used in the differential sense amplifier of the semiconductor integrated circuit of FIG. 1 will be described.
【0024】NMOSトランジスタN6乃至N9を非導
通とするため、テスト回路1において制御信号線101
(信号線MUXL及び信号線MUXR)をVSSとし
て、ビット線対BL、/BLと左右のビット線対BL
L、/BLL及びBLR、/BLR並びにこれらのビット
線対のイコライズ回路とを切り離す。In order to make the NMOS transistors N6 to N9 non-conductive, the test signal 1
(The signal line MUXL and the signal line MUXR) are set to VSS, and the bit line pair BL, / BL and the left and right bit line pair BL
L, / BLL and BLR, / BLR and these bit line pairs are separated from the equalizing circuit.
【0025】また、NMOSトランジスタN10を非導
通とするため、テスト回路1において制御信号線103
(信号線EQLSA)をVSSにする。In order to make the NMOS transistor N10 non-conductive, the test signal 1
(Signal line EQLSA) is set to VSS.
【0026】また、PMOSトランジスタP3とNMO
SトランジスタN3を非導通にするため、テスト回路1
において制御信号線102(信号線SEP)をVCC、
制御信号線104(信号線SEN)をVSSとして、差
動型センスアンプを駆動するために供給される電源を遮
断する。The PMOS transistor P3 and the NMO
To make the S transistor N3 non-conductive, the test circuit 1
, The control signal line 102 (signal line SEP) is connected to VCC,
With the control signal line 104 (signal line SEN) set to VSS, power supplied to drive the differential sense amplifier is cut off.
【0027】また、NMOSトランジスタN4及びN5
をオンさせるため、テスト回路1において制御信号線1
05(信号線CSL)をVCCとして、データ線対DQ
及び/DQとビット線対BL及び/BLを導通させる。The NMOS transistors N4 and N5
In order to turn on the control signal line 1 in the test circuit 1,
05 (signal line CSL) as VCC and the data line pair DQ
And / DQ to the bit line pair BL and / BL.
【0028】以上により、半導体集積回路のトランジス
タ特性の測定には関連しない電位供給経路を遮断するこ
とによって、外部入出力端を用いて直接トランジスタ特
性の測定が可能となる。As described above, by cutting off the potential supply path not related to the measurement of the transistor characteristics of the semiconductor integrated circuit, the transistor characteristics can be directly measured using the external input / output terminals.
【0029】次に、具体的に図1の半導体集積回路にお
いて差動型センスアンプを構成するNMOSトランジス
タN2のトランジスタ特性を測定する場合を例示する。Next, a specific example of measuring the transistor characteristics of the NMOS transistor N2 forming the differential sense amplifier in the semiconductor integrated circuit of FIG. 1 will be exemplified.
【0030】NMOSトランジスタN2において、外部
入出力端PAT2はN2のドレイン、外部入出力端PA
T4はN2のソース、そして外部入出力端PAT3はN
2のゲートに該当する。In the NMOS transistor N2, the external input / output terminal PAT2 is connected to the drain of N2 and the external input / output terminal PA.
T4 is the source of N2, and external input / output terminal PAT3 is N
2 corresponds to the gate.
【0031】したがって、外部入出力端PAT2にはド
レイン電位(例えばVCC)、外部入出力端PAT4に
はソース電位(例えばVSS)を与え、外部入出力端P
AT3へ与えるゲート電位Vgを変動させ、それに伴い
変位したドレイン電流Idを外部入出力端PAT2で測
定することによって、トランジスタN2のVg−Id特性
を測定することが可能となる。なお、ここで外部入出力
端PAT1にはVSSを印加する。Therefore, a drain potential (eg, VCC) is applied to the external input / output terminal PAT2, and a source potential (eg, VSS) is applied to the external input / output terminal PAT4.
Varying the gate potential V g which gives to AT3, by measuring the external input and output terminals PAT2 the drain current I d displaced with it, it is possible to measure the V g -I d characteristics of the transistors N2. Here, VSS is applied to the external input / output terminal PAT1.
【0032】ここで、測定対象のNMOSトランジスタ
N2以外のMOSトランジスタN1、P1、P2につい
ては、NMOSトランジスタN1とPMOSトランジス
タP2のゲート電位はそれぞれのトランジスタがオフす
るような電位が与えられているため、N2の測定には影
響を与えない。また、PMOSトランジスタP1はNM
OSトランジスタN2測定時にオンしているが、外部入
出力端PAT1にはVSSを印加しているので、最も重
要なしきい値付近の測定には影響を与えることがなく、
N2の測定に特に影響を及ぼすものではない。Here, as for the MOS transistors N1, P1 and P2 other than the NMOS transistor N2 to be measured, the gate potentials of the NMOS transistor N1 and the PMOS transistor P2 are such that the respective transistors are turned off. , N2 are not affected. The PMOS transistor P1 is NM
Although turned on when measuring the OS transistor N2, VSS is applied to the external input / output terminal PAT1, so that the measurement near the most important threshold value is not affected.
It does not particularly affect the measurement of N2.
【0033】次に、Nチャネルセンスアンプを構成して
いるもう一つのNMOSトランジスタN1を測定する場
合、外部入出力端PAT2にはドレイン電位(例えばV
CC)、外部入出力端PAT3にはソース電位(例えばV
SS)を与え、外部入出力端PAT4へ与えるゲート電
位Vgを変動させ、それに伴い変位したドレイン電流Id
を外部入出力端PAT2で測定することによって、トラ
ンジスタN1のVg−Id特性を測定することが可能とな
る。Next, when measuring another NMOS transistor N1 constituting the N-channel sense amplifier, the drain potential (for example, V
CC), a source potential (for example, V
SS) giving, varying the gate potential V g which gives to the external input and output terminals PAT4, the drain current I d displaced with it
By measuring the external input and output ends PAT2, it is possible to measure the V g -I d characteristics of the transistors N1.
【0034】また、Pチャネルセンスアンプの測定も前
記Nチャネルトランジスタと同様である。The measurement of the P-channel sense amplifier is the same as that of the N-channel transistor.
【0035】PMOSトランジスタP2を測定する場
合、外部入出力端PAT1にはドレイン電位(例えばV
SS)、外部入出力端PAT4にはソース電位(例えばV
CC)を与え、外部入出力端PAT3へ与えるゲート電
位Vgを変動させ、それに伴い変位したドレイン電流Id
を外部入出力端PAT1で測定することによって、Nチ
ャネルトランジスタと同様に測定できる。Pチャネルセ
ンスアンプを構成するもう一つのPMOSトランジスタ
P1も同じく同様の手法により測定可能である。When measuring the PMOS transistor P2, the drain potential (for example, V
SS), and a source potential (for example, V
CC) give, varying the gate potential V g which gives to the external input and output terminals PAT3, the drain current I d displaced with it
Is measured at the external input / output terminal PAT1, so that it can be measured similarly to the N-channel transistor. Another PMOS transistor P1 constituting the P-channel sense amplifier can be measured in the same manner.
【0036】また、外部入出力端PAT1乃至PAT4
をリード電極にボンディングさせることによって、アセ
ンブリ後のパッケージ状態においてもこれらの半導体集
積回路のトランジスタ測定は可能となる。The external input / output terminals PAT1 to PAT4
Is bonded to the lead electrodes, so that the transistors of these semiconductor integrated circuits can be measured even in a package state after assembly.
【0037】[第2の実施例]本発明の第2の実施例を図
2に示す。[Second Embodiment] FIG. 2 shows a second embodiment of the present invention.
【0038】センスアンプ領域内のビット線対BL及び
/BLは信号線MUXLにより駆動されるNMOSトラ
ンジスタN6、N7を介して、図2中の左側のメモリセ
ルアレイ領域のビット線対BLL、/BLLにそれぞれ
接続されている。そして、前記ビット線対BLL、/B
LLには信号線EQLLにより制御されるイコライズ回
路2が接続されている。The bit lines BL and BL in the sense amplifier area
/ BL is connected to a pair of bit lines BLL and / BLL in the memory cell array region on the left side in FIG. 2 via NMOS transistors N6 and N7 driven by a signal line MUXL. Then, the bit line pair BLL, / B
The equalizer circuit 2 controlled by the signal line EQLL is connected to LL.
【0039】また、ビット線対BL、/BLは信号線M
UXRにより駆動されるNMOSトランジスタN8、N
9を介して、図2中の右側のメモリセルアレイ領域のビ
ット線対BLR、/BLRにそれぞれ接続されている。
そして左側ビット線対と同様に右側ビット線対BLR、
/BLRにも信号線EQLRにより制御されるイコライ
ズ回路2が接続されている。The bit line pair BL, / BL is connected to the signal line M
NMOS transistors N8 and N driven by UXR
9 are connected to the bit line pairs BLR and / BLR in the memory cell array region on the right side in FIG.
Then, like the left bit line pair, the right bit line pair BLR,
The equalizing circuit 2 controlled by the signal line EQLR is also connected to / BLR.
【0040】さらに、ビット線対BL、/BLはカラム
選択線CSLにより駆動されるNMOSトランジスタN
4及びN5を介してデータ線対DQ、/DQにそれぞれ
接続され、データ線対DQ、/DQ上の微小な電位差は
図示しないデータ線増幅回路により論理振幅まで増幅さ
れる。Further, the bit line pair BL, / BL is an NMOS transistor N driven by a column selection line CSL.
4 and N5 are connected to the data line pair DQ and / DQ, respectively, and a minute potential difference on the data line pair DQ and / DQ is amplified to a logical amplitude by a data line amplifier circuit (not shown).
【0041】本実施例の差動型センスアンプは、NMO
SトランジスタN1及びN2からなるNチャネルセンス
アンプと、PMOSトランジスタP1及びP2からなる
Pチャネルセンスアンプとから構成されている。The differential sense amplifier of the present embodiment is an NMO
It comprises an N-channel sense amplifier composed of S transistors N1 and N2, and a P-channel sense amplifier composed of PMOS transistors P1 and P2.
【0042】ここで、Nチャネルセンスアンプの駆動線
107は信号線SENにより駆動されるNMOSトラン
ジスタN3を介し、低電位側電源が接続されている。Here, the drive line 107 of the N-channel sense amplifier is connected to a low potential side power supply via an NMOS transistor N3 driven by the signal line SEN.
【0043】また、Pチャネルセンスアンプの駆動線1
06は信号線SEPにより駆動されるPMOSトランジ
スタP3を介し、高電位側電源が接続されている。The driving line 1 of the P-channel sense amplifier
Reference numeral 06 is connected to a high-potential-side power supply via a PMOS transistor P3 driven by a signal line SEP.
【0044】さらに、Nチャネルセンスアンプの駆動線
107とPチャネルセンスアンプの駆動線106はイコ
ライズされるが、このイコライズを制御するために駆動
線107と駆動線106との間にはセンスアンプイコラ
イズ信号線EQLSAにより制御されるNMOSトラン
ジスタN10を介している。Further, the drive line 107 of the N-channel sense amplifier and the drive line 106 of the P-channel sense amplifier are equalized. In order to control the equalization, a sense amplifier equalizer is provided between the drive lines 107 and 106. This is via an NMOS transistor N10 controlled by the signal line EQLSA.
【0045】そして、Pチャネルセンスアンプの駆動線
106、Nチャネルセンスアンプの駆動線107、デー
タ線対DQ、/DQはそれぞれ外部入出力端PAT1乃
至PAT4と接続されている。The drive line 106 of the P-channel sense amplifier, the drive line 107 of the N-channel sense amplifier, and the pair of data lines DQ and / DQ are connected to external input / output terminals PAT1 to PAT4, respectively.
【0046】また、信号線MUXL、カラム選択線CS
L、信号線MUXR、センスアンプイコライズ信号線E
QLSA、信号線SEN、信号線SEPはそれぞれ外部
入力端PAT5乃至PAT10と接続されている。The signal line MUXL and the column selection line CS
L, signal line MUXR, sense amplifier equalize signal line E
The QLSA, the signal line SEN, and the signal line SEP are connected to external input terminals PAT5 to PAT10, respectively.
【0047】次に、図2の半導体集積回路の差動型セン
スアンプに用いられているトランジスタの測定方法につ
いて説明する。Next, a method of measuring the transistors used in the differential sense amplifier of the semiconductor integrated circuit of FIG. 2 will be described.
【0048】外部入力端PAT5及びPAT7にVSS
を印加してNMOSトランジスタN6乃至N9を非導通
とし、ビット線対BL、/BLと左右のビット線対BL
L、/BLL及びBLR、/BLR並びにこれらのビット
線対のイコライズ回路とを切り離す。VSS is applied to the external input terminals PAT5 and PAT7.
Is applied to make the NMOS transistors N6 to N9 non-conductive, and the bit line pair BL, / BL and the left and right bit line pair BL
L, / BLL and BLR, / BLR and these bit line pairs are separated from the equalizing circuit.
【0049】また、外部入力端PAT8にVSSを印加
してNMOSトランジスタN10を非導通にする。Further, VSS is applied to the external input terminal PAT8 to turn off the NMOS transistor N10.
【0050】また、外部入力端PAT10にVCCを印
加してPMOSトランジスタP3を非導通にし、また、
外部入力端PAT9にVSSを印加してNMOSトラン
ジスタN3を非導通にして、差動型センスアンプを駆動
するために供給される電源を遮断する。Further, VCC is applied to the external input terminal PAT10 to make the PMOS transistor P3 non-conductive.
VSS is applied to the external input terminal PAT9 to turn off the NMOS transistor N3 and cut off the power supplied to drive the differential sense amplifier.
【0051】また、外部入力端PAT6にVCCを印加
してNMOSトランジスタN4及びN5をオンさせ、デ
ータ線対DQ及び/DQとビット線対BL及び/BLを導
通させる。Further, VCC is applied to the external input terminal PAT6 to turn on the NMOS transistors N4 and N5, thereby making the data line pairs DQ and / DQ and the bit line pairs BL and / BL conductive.
【0052】以上により、半導体集積回路のトランジス
タ特性測定には関連しない電位供給経路を遮断すること
によって、外部入出力端PAT1乃至PAT4を用いて
直接トランジスタ特性の測定が可能となる。As described above, the transistor characteristics can be directly measured using the external input / output terminals PAT1 to PAT4 by cutting off the potential supply path not related to the transistor characteristic measurement of the semiconductor integrated circuit.
【0053】実施例1ではトランジスタ測定に関連しな
い電位供給経路を遮断する制御信号をテスト回路1で制
御しているのに対して、実施例2ではこれらの制御信号
も外部入力端PAT5乃至PAT10から供給するもの
とし、外部から強制的に電位を加えることによって半導
体集積回路のトランジスタ特性の測定が可能となる。In the first embodiment, the control signal for cutting off the potential supply path not related to the transistor measurement is controlled by the test circuit 1, whereas in the second embodiment, these control signals are also transmitted from the external input terminals PAT5 to PAT10. The transistor characteristics of the semiconductor integrated circuit can be measured by forcibly applying a potential from the outside.
【0054】以後の具体的なトランジスタの測定方法
は、実施例1と同様である。The specific method of measuring the transistor thereafter is the same as in the first embodiment.
【0055】また、本実施例においても外部入出力端P
AT1乃至PAT4並びに外部入力端PAT5乃至PA
T10をリード電極にボンディングさせることによっ
て、アセンブリ後のパッケージ状態においても半導体集
積回路のトランジスタの測定は可能となる。In this embodiment, the external input / output terminal P
AT1 to PAT4 and external input terminals PAT5 to PA
By bonding T10 to the lead electrode, it is possible to measure the transistors of the semiconductor integrated circuit even in the package state after assembly.
【0056】さらに、外部入出力端PAT3及びPAT
4から供給される電位のしきい値落ちを防ぐためNMO
SトランジスタN4及びN5のゲートに接続されている
外部入力端PAT6には電源電圧より高い電圧を印加す
ることにより、より精度の高いトランジスタ特性の測定
が可能となる。Further, external input / output terminals PAT3 and PAT3
NMO to prevent the threshold of the potential supplied from 4 from dropping
By applying a voltage higher than the power supply voltage to the external input terminal PAT6 connected to the gates of the S transistors N4 and N5, it is possible to measure the transistor characteristics with higher accuracy.
【0057】なお、上述ではトランジスタの測定として
Vg−Id特性を例に挙げたが、本発明によりVd−Id特
性は当然に測定できる。In the above description, the V g -I d characteristic is taken as an example of measurement of a transistor. However, the V d -I d characteristic can be naturally measured by the present invention.
【0058】また、実施例1及び実施例2においては、
センスアンプ回路は図4に示すようなDRAM全体の構
成の中で2つのメモリセルアレイに挟まれる構成であっ
て、1つの差動型センスアンプが両側の2つのメモリセ
ルアレイに対して機能する例について説明をした。In the first and second embodiments,
The sense amplifier circuit is configured to be sandwiched between two memory cell arrays in the entire configuration of the DRAM as shown in FIG. 4, and an example in which one differential sense amplifier functions for two memory cell arrays on both sides. Explained.
【0059】しかし、1つの差動型センスアンプが1つ
のメモリセルアレイに対してのみ機能するように構成さ
れたセンスアンプ回路にも当然実施可能である。However, the present invention can be naturally applied to a sense amplifier circuit configured so that one differential sense amplifier functions only for one memory cell array.
【0060】また、差動型センスアンプのトランジスタ
特性を測定するに際して関連しない電位供給経路を遮断
するために用いる制御信号は、実施例1では全てテスト
回路1で制御し、また、実施例2では全て外部入力端よ
り強制的に印加させているが、これらの制御信号の一部
がテスト回路で制御され、一部が外部入力端より強制的
に印加できるように構成しても実施可能である。Further, in the first embodiment, all the control signals used to cut off the potential supply paths which are not related when measuring the transistor characteristics of the differential sense amplifier are controlled by the test circuit 1, and in the second embodiment, Although all of the control signals are forcibly applied from the external input terminal, a part of these control signals is controlled by the test circuit, and a part of the control signals can be forcibly applied from the external input terminal. .
【0061】したがって、本発明は係る実施例限定され
るものではなく、特許請求の範囲に記載した要旨内にお
いて様々な変形・変更が可能である。Therefore, the present invention is not limited to the embodiment, and various modifications and changes can be made within the scope of the claims.
【0062】[0062]
【発明の効果】 上述の如く本発明によれば、半導体集
積回路のトランジスタのドレイン、ソース、ゲートに対
して外部から強制的に電位を入出力できるようにし、ま
た、測定には関連しない電位供給経路を遮断させること
によって、実デバイス上の半導体集積回路のトランジス
タ特性を直接測定することが可能となる。As described above, according to the present invention, it is possible to forcibly input / output a potential from the outside to a drain, a source, and a gate of a transistor of a semiconductor integrated circuit, and supply a potential not related to measurement. By blocking the path, the transistor characteristics of the semiconductor integrated circuit on the actual device can be directly measured.
【0063】その結果、製品としてのデバイス上の半導
体集積回路回路のトランジスタ特性を正確に測定でき、
本発明はデバイスの解析に適している。As a result, the transistor characteristics of the semiconductor integrated circuit on the device as a product can be measured accurately.
The present invention is suitable for device analysis.
【0064】また、半導体集積回路のトランジスタに繋
がる外部入出力端をリード電極とボンディングすること
によってアセンブリ後も測定可能となるため、製品の戻
入解析においても本発明の測定は有効に活用できる。Further, since the external input / output terminal connected to the transistor of the semiconductor integrated circuit can be measured after assembly by bonding the lead electrode to the external input / output terminal, the measurement of the present invention can be effectively used even in the analysis of product reversion.
【図1】 本発明の第1の実施例による半導体集積回路
の構成を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a semiconductor integrated circuit according to a first embodiment of the present invention.
【図2】 本発明の第2の実施例による半導体集積回路
の構成を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing a configuration of a semiconductor integrated circuit according to a second embodiment of the present invention.
【図3】 NMOSトランジスタを示す図である。FIG. 3 is a diagram showing an NMOS transistor.
【図4】 半導体記憶装置(DRAM)の読み出しにお
ける全体の概略構成を示すブロック図である。FIG. 4 is a block diagram showing an overall schematic configuration in reading from a semiconductor memory device (DRAM).
1… テスト回路、2… イコライズ回路、PAT1乃至
PAT4… 外部入出力端、PAT5乃至PAT10…
外部入力端、N1乃至N10… NMOSトランジス
タ、P1乃至P3… PMOSトランジスタ、101乃
至105… 制御信号線、106… Pチャネルセンスア
ンプの駆動線、107… Nチャネルセンスアンプの駆
動線、BL及び/BL… センスアンプ領域内のビット線
対、BLL、/BLL… 左側メモリセル領域のビット線
対、BLR、/BLR… 右側メモリセル領域のビット線
対、DQ、/DQ… データ線対DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Test circuit, 2 ... Equalization circuit, PAT1-PAT4 ... External input / output terminal, PAT5-PAT10 ...
External input terminals, N1 to N10 NMOS transistors, P1 to P3 PMOS transistors, 101 to 105 control signal lines, 106 drive lines for P-channel sense amplifiers, 107 drive lines for N-channel sense amplifiers, BL and / BL ... bit line pairs in the sense amplifier area, BLL, / BLL ... bit line pairs in the left memory cell area, BLR, / BLR ... bit line pairs in the right memory cell area, DQ, / DQ ... data line pairs
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2G132 AA08 AE22 AG09 AK11 AK22 AL11 5F083 GA30 LA03 LA10 ZA20 5L106 AA01 AA02 DD00 DD31 EE02 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2G132 AA08 AE22 AG09 AK11 AK22 AL11 5F083 GA30 LA03 LA10 ZA20 5L106 AA01 AA02 DD00 DD31 EE02
Claims (4)
ト線と、 前記第1のビット線と信号を授受する第1のデータ線と、 前記第2のビット線と信号を授受する第2のデータ線と、 前記差動型センスアンプの高電位電源供給ノードに接続
された第1の外部入出力端と、 前記差動型センスアンプの低電位電源供給ノードに接続
された第2の外部入出力端と、 前記第1のデータ線に接続された第3の外部入出力端
と、 前記第2のデータ線に接続された第4の外部入出力端
と、 前記第1のデータ線と前記第1のビット線との間に介在
された第1のカラム選択ゲートトランジスタと、 前記第2のデータ線と前記第2のビット線との間に介在
された第2のカラム選択ゲートトランジスタと、 前記差動型センスアンプのトランジスタの測定に際し
て、前記第1及び第2のカラム選択ゲートトランジスタ
をオンさせるとともに、 前記トランジスタのゲート、ドレイン及びソースに対す
る前記第1乃至第4の外部入出力端以外の電位供給経路を
遮断するテスト回路とを具備することを特徴とした半導
体集積回路。A differential sense amplifier; first and second bit lines connected to the differential sense amplifier; a first data line for transmitting and receiving signals to and from the first bit line; A second data line for transmitting and receiving signals to and from the second bit line; a first external input / output terminal connected to a high potential power supply node of the differential sense amplifier; A second external input / output terminal connected to the low potential power supply node; a third external input / output terminal connected to the first data line; and a fourth external input / output terminal connected to the second data line. An external input / output terminal, a first column selection gate transistor interposed between the first data line and the first bit line, and a second data line and the second bit line. A second column select gate transistor interposed therebetween, and the differential sense amplifier In the measurement of the transistor, the first and second column selection gate transistors are turned on, and the potential supply paths other than the first to fourth external input / output terminals to the gate, drain and source of the transistor are cut off. A semiconductor integrated circuit, comprising: a test circuit.
ト線と、 前記第1のビット線と信号を授受する第1のデータ線と、 前記第2のビット線と信号を授受する第2のデータ線と、 前記差動型センスアンプの高電位電源供給ノードに接続
された第1の外部入出力端と、 前記差動型センスアンプの低電位電源供給ノードに接続
された第2の外部入出力端と、 前記第1のデータ線に接続された第3の外部入出力端
と、 前記第2のデータ線に接続された第4の外部入出力端
と、 前記第1のデータ線と前記第1のビット線との間に介在
された第1のカラム選択ゲートトランジスタと、 前記第2のデータ線と前記第2のビット線との間に介在
された第2のカラム選択ゲートトランジスタと、 前記第1及び第2のビット線をイコライズするイコライ
ズ回路と前記差動型センスアンプの間の領域で、前記第
1及び第2のビット線に各々設けられるトランスファー
ゲートと、 前記トランスファーゲートを駆動させる第1の制御信号
線と、 前記差動型センスアンプの高電位電源供給ノードと高電
位側電源との間に介在される第1のセンスアンプ活性化
トランジスタを駆動させる第2の制御信号線と、 前記差動型センスアンプの低電位電源供給ノードと低電
位側電源との間に介在される第2のセンスアンプ活性化
トランジスタを駆動させる第3の制御信号線と、 前記差動型センスアンプの高電位電源供給ノードと低電
位電源供給ノードとの間に介在され、両電源供給ノード
をイコライズするセンスアンプイコライズトランジスタ
を駆動させる第4の制御信号線と、 前記第1及び第2のカラム選択ゲートトランジスタを駆
動させる第5の制御信号線と、 前記第1乃至第5の制御信号線を制御するテスト回路と
を具備することを特徴とする半導体集積回路。2. A differential sense amplifier, first and second bit lines connected to the differential sense amplifier, a first data line for transmitting and receiving signals to and from the first bit line, A second data line for transmitting and receiving a signal to and from the second bit line; a first external input / output terminal connected to a high potential power supply node of the differential sense amplifier; A second external input / output terminal connected to the low potential power supply node; a third external input / output terminal connected to the first data line; and a fourth external input / output terminal connected to the second data line. An external input / output terminal, a first column select gate transistor interposed between the first data line and the first bit line, and a second data line and the second bit line. A second column select gate transistor interposed between the first and second transistors; A transfer gate provided on each of the first and second bit lines in a region between an equalizing circuit for equalizing a read line and the differential sense amplifier; and a first control signal line for driving the transfer gate. A second control signal line for driving a first sense amplifier activating transistor interposed between a high-potential power supply node of the differential sense amplifier and a high-potential power supply; and the differential sense amplifier A third control signal line for driving a second sense amplifier activating transistor interposed between the low potential power supply node and the low potential side power supply, and a high potential power supply node of the differential sense amplifier. A fourth control signal line interposed between the low-potential power supply node and driving a sense amplifier equalizing transistor for equalizing the two power supply nodes; The semiconductor integrated circuit characterized by comprising a fifth control signal line for driving the first and second column selection gate transistors, and a test circuit for controlling the first to fifth control signal line.
スアンプ活性化トランジスタと、前記センスアンプイコ
ライズトランジスタとを各々オフする電位を強制的に与
えるために前記第1乃至第4の制御信号線を制御する過
程と、 前記第1及び第2のカラム選択ゲートトランジスタをオ
ンする電位を強制的に与えるために前記第5の制御信号
線を制御する過程と、 前記第1乃至第4の外部入出力端より、前記差動型セン
スアンプの測定対象のトランジスタにゲート電位、ドレ
イン電位及びソース電位を与える過程とを具備すること
を特徴とする請求項2記載の半導体集積回路のトランジ
スタ測定方法。3. The first test circuit for forcibly applying a potential to turn off the transfer gate, the first and second sense amplifier activating transistors, and the sense amplifier equalize transistor, respectively, by the test circuit. Controlling a fifth control signal line to forcibly apply a potential for turning on the first and second column select gate transistors; and controlling the fifth control signal line to forcibly apply a potential for turning on the first and second column selection gate transistors. 3. The semiconductor integrated circuit according to claim 2, further comprising a step of applying a gate potential, a drain potential, and a source potential to a transistor to be measured of said differential sense amplifier from first to fourth external input / output terminals. How to measure transistors in a circuit.
ト線と、 前記第1のビット線と信号を授受する第1のデータ線と、 前記第2のビット線と信号を授受する第2のデータ線と、 前記差動型センスアンプの高電位電源供給ノードに接続
された第1の外部入出力端と、 前記差動型センスアンプの低電位電源供給ノードに接続
された第2の外部入出力端と、 前記第1のデータ線に接続された第3の外部入出力端
と、 前記第2のデータ線に接続された第4の外部入出力端
と、 前記第1のデータ線と前記第1のビット線との間に介在
された第1のカラム選択ゲートトランジスタと、 前記第2のデータ線と前記第2のビット線との間に介在
された第2のカラム選択ゲートトランジスタと、 前記第1及び第2のビット線をイコライズするイコライ
ズ回路と前記差動型センスアンプの間の領域で、前記第
1及び第2のビット線に各々設けられるトランスファー
ゲートと、 前記トランスファーゲートを駆動させる第1の制御信号
線と接続された第5の外部入力端と、 前記差動型センスアンプの高電位電源供給ノードと高電
位側電源との間に介在される第1のセンスアンプ活性化
トランジスタを駆動させる第2の制御信号線と接続され
た第6の外部入力端と、 前記差動型センスアンプの低電位電源供給ノードと低電
位側電源との間に介在される第2のセンスアンプ活性化
トランジスタを駆動させる第3の制御信号線と接続され
た第7の外部入力端と、 前記差動型センスアンプの高電位電源供給ノードと低電
位電源供給ノードとの間に介在され、両電源供給ノード
をイコライズするセンスアンプイコライズトランジスタ
を駆動させる第4の制御信号線と接続された第8の外部
入力端と、 前記第1及び第2のカラム選択ゲートトランジスタを駆
動させる第5の制御信号線と接続された第9の外部入力
端とを具備する半導体集積回路のトランジスタの測定に
おいて、 前記トランスファーゲートと、前記第1及び第2のセン
スアンプ活性化トランジスタと、前記センスアンプイコ
ライズトランジスタとを各々オフするため前記第5乃至
第8の外部入力端から電位を強制的に与える過程と、 前記第1及び第2のカラム選択ゲートトランジスタをオ
ンするため前記第9の外部入力端から電位を強制的に与
える過程と、 前記第1乃至第4の外部入出力端より、前記差動型セン
スアンプの測定対象のトランジスタにゲート電位、ドレ
イン電位及びソース電位を与える過程とを具備すること
を特徴とする半導体集積回路のトランジスタ測定方法。4. A differential sense amplifier; first and second bit lines connected to the differential sense amplifier; a first data line for transmitting and receiving signals to and from the first bit line; A second data line for transmitting and receiving signals to and from the second bit line; a first external input / output terminal connected to a high potential power supply node of the differential sense amplifier; A second external input / output terminal connected to the low potential power supply node; a third external input / output terminal connected to the first data line; and a fourth external input / output terminal connected to the second data line. An external input / output terminal, a first column selection gate transistor interposed between the first data line and the first bit line, and a second data line and the second bit line. A second column select gate transistor interposed between the first and second transistors; A transfer gate provided on each of the first and second bit lines in a region between the equalizing circuit for equalizing the read line and the differential sense amplifier; and a first control signal line for driving the transfer gate. A second control for driving a first sense amplifier activation transistor interposed between a fifth external input terminal connected thereto and a high-potential power supply node of the differential sense amplifier and a high-potential power supply; A sixth external input terminal connected to the signal line, and a second drive terminal for driving a second sense amplifier activating transistor interposed between a low potential power supply node of the differential sense amplifier and a low potential power supply. A third external input terminal connected to the control signal line No. 3 and a high potential power supply node and a low potential power supply node of the differential sense amplifier. An eighth external input terminal connected to a fourth control signal line for driving a sense amplifier equalizing transistor for equalizing a gate, a fifth control signal line for driving the first and second column selection gate transistors, In measuring a transistor of a semiconductor integrated circuit having a ninth external input terminal connected thereto, the transfer gate, the first and second sense amplifier activation transistors, and the sense amplifier equalize transistor are each turned off. To forcibly apply a potential from the fifth to eighth external input terminals, and forcibly apply a potential from the ninth external input terminal to turn on the first and second column select gate transistors. Providing a transistor to be measured by the differential sense amplifier from the first to fourth external input / output terminals. The gate potential, the drain potential and the transistor measuring method of a semiconductor integrated circuit, characterized by comprising the steps of providing a source potential.
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