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JP2002280748A - 高周波基板構造 - Google Patents

高周波基板構造

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Publication number
JP2002280748A
JP2002280748A JP2001081815A JP2001081815A JP2002280748A JP 2002280748 A JP2002280748 A JP 2002280748A JP 2001081815 A JP2001081815 A JP 2001081815A JP 2001081815 A JP2001081815 A JP 2001081815A JP 2002280748 A JP2002280748 A JP 2002280748A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
circuit
frequency
substrate
outer layer
layer pattern
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Abandoned
Application number
JP2001081815A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2002280748A5 (ja
Inventor
Masaaki Ishida
正明 石田
Koichiro Gomi
宏一郎 五味
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP2001081815A priority Critical patent/JP2002280748A/ja
Publication of JP2002280748A publication Critical patent/JP2002280748A/ja
Publication of JP2002280748A5 publication Critical patent/JP2002280748A5/ja
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Abstract

(57)【要約】 【課題】良好な特性を維持しつつ効率よく小型化を図り
得る高周波基板の構造を提供する。 【解決手段】共通の基板10にDC回路3とRF回路4
とを形成し、基板10におけるDC回路3が形成される
部分にのみ、内層パターン1を形成する。内層パターン
1を形成することにより、DC回路3の省サイズ化を図
る。RF回路4が形成される部分には、内層パターン1
を形成せず、マイクロストリップライン7を形成する。
マイクロストリップライン7により高周波信号を伝送す
ることにより、RF回路4の省サイズ化を図る。さら
に、基板10の一方の面に、スルーホール5を介してR
F回路4に接続されるグランド面6を形成し、良好なグ
ランドを確保できるようにした。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、マイクロ波帯通信
機、またはミリ波帯通信機など、特に高い周波数帯で使
用される基板の構造の改良に関する。
【0002】
【従来の技術】近年になり、無線通信における信号帯域
は広くなる傾向にあり、それに伴って搬送波の周波数も
高くなってきている。このような高周波帯で使用される
通信機器には、特別の配慮が必要とされる。特に、電源
部などが形成される直流回路(以下DC回路と称する)
と、高周波送受信部などが形成される無線回路(以下R
F回路と称する)の形成に、工夫を要する。
【0003】ところで、DC回路およびRF回路は、い
ずれも誘電体などの基板上に形成される。従来の高周波
基板構造にあっては、DC回路とRF回路とがそれぞれ
別々の基板に形成され、それらをコネクタを介して接続
する構成が主流であった。しかしながら、信号の周波数
が高くなればなるほど、配線のインピーダンス成分やイ
ンダクタンス成分の影響が大きくなり、コネクタを介し
た接続の際にインピーダンス不整合を生じ易くなる。ま
たコネクタや配線材などが必要となることから、省サイ
ズ化の面からも不利である。
【0004】一方、省サイズ化を図るため、RF回路を
多層基板構成とした高周波回路構造が知られている。し
かしながらこのような構造においては、内層にグランド
を配置したり、基板をざぐるなどの施策が必要である。
このためグランドが不充分になったり、コストがアップ
するという不具合がある。
【0005】省サイズ化を図るための別の施策として、
両面基板構造がある。しかしながらこの種の構造におい
ても、特にDC回路における部品実装や配線あるいはケ
ースの加工の点で不利な点が多く、むしろ全体としての
基板の面積が大きくなる虞がある。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】以上述べたように従来
の高周波基板構造にあっては、高周波回路部と直流回路
部とを一体形成する場合に、小型化を図ることが難しい
という不具合があった。特に、信号の周波数が高くなれ
ばなるほど、この不具合が顕著になるために、何らかの
対処が望まれている。
【0007】本発明は上記事情によりなされたもので、
その目的は、良好な特性を維持しつつ効率よく小型化を
図り得る高周波基板の構造を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明に係わる高周波基板構造は、同一基板に直流回
路と高周波回路とを形成してなる高周波基板構造であっ
て、前記基板の直流回路形成部分は外層及び内層に配線
パターンを形成する構造とし、高周波回路形成部分は外
層のみに配線パターンを形成する構造としたことを特徴
とする。また本発明に係わる高周波基板構造では、前記
高周波回路に、前記基板の外層に形成されたストリップ
ラインを備えることを特徴とする。
【0009】このような手段を講じることにより、直流
回路(DC回路)は多層基板構造となり、集積度を向上
させることが可能になり、回路の小型化を図ることが可
能になる。また、高周波回路(RF回路)には内層パタ
ーンが挿入されず、基板の表裏に基板の厚みを活かした
ストリップラインが形成される。そうして、信号ケーブ
ルなどを介することなく、ストリップラインを介した高
周波信号の伝送が可能になるため、RF回路部の省サイ
ズ化を図ることが可能になる。このようなことから、高
周波回路と直流回路を同一の多層基板に一体形成した省
サイズ化ができると共に、回路の良好な特性を維持する
ことができる。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。図1は、本発明の実施の形
態に係わる高周波基板の構造を示す断面図である。図1
において、基板10は基板11、12、13を積層し、
内層パターン1、外層パターン2、及びグランド面3と
が形成され、いわゆる多層基板構造となっている。外層
パターン2には、DC回路(直流回路)4でRF回路
(高周波回路)5の両側を挟むように形成される。DC
回路4は、RF回路5の駆動電圧などを発生するもの
で、DC回路4で発生された電圧は図示しない電源供給
線などでRF回路5に供給される。
【0011】基板10におけるDC回路4が形成される
部分には内層パターン1が設けられ、内層パターン1に
はDC回路4に係わる配線またはグランドのパターンが
形成される。外層バターン2のDC回路4部分、内層パ
ターン1及びグランド面3とは、スルーホールや端面ビ
アホール等(図示しない)により接続される。すなわち
本実施形態では、内層パターン1を形成してDC回路4
を多層構造とし、これによりDC回路部分の省サイズ化
を図るようにしている。
【0012】一方、基板10におけるRF回路5が形成
される部分には、内層パターン1を設けない代わりに、
外層パターン2のRF回路5の部分にストリップ導体6
を形成し、このストリップ導体6とグランド面3とでマ
イクロストリップライン7が形成される。RF回路5に
おいてはこのマイクロストリップライン7を介して高周
波信号が伝送される。さらに、RF回路5はスルーホー
ル8を介してグランド面3に接続されている。
【0013】このように本実施形態では、共通の基板1
0にDC回路4とRF回路5とを形成したことにより、
DC回路4とRF回路5とを接続するのにコネクタなど
を介する必要が無くなり、省サイズ化を図ることができ
るとともに、インピーダンス不整合の虞を無くすること
が可能になる。更には、基板10の最外層にグランド面
3が形成されているため、筐体ケースへの接地の際に都
合が良く、良好なグランドを確保することが可能にな
る。また、本実施の形態ではRF回路5の両側をDC回
路4で挟んだ構成になっているので、このRF回路から
発生する高周波の他の回路への影響を低減することがで
きる。
【0014】他の実施の形態に関る高周波基板の構造に
ついて図2を用いて説明する。図1の構成と同様の部分
については説明を省略する。
【0015】図1の実施の形態とは異なり、外層パター
ン2には、DC回路(直流回路)4の両側をRF回路
(高周波回路)5で挟むように形成される。このため、
省サイズ化を図ることができるとともに、インピーダン
ス不整合の虞を無くすることが可能になるだけではな
く、送受信回路を一体化した高周波基板の構造で形成で
きる。これは、送信系のRF回路と受信系のRF回路の
間にそれぞれの電源等を供給するDC回路を形成するた
め、共通の電源等を供給するDC回路を利用できると共
に、送信系のRF回路と受信系のRF回路とのアイソレ
ーションがDC回路を挟むことで実現できる。
【0016】以上のことから、本発明は良好な特性を維
持しつつ効率よく小型化を図り得る高周波基板の構造を
提供することが可能になる。
【0017】
【発明の効果】以上詳述したように本発明では、共通の
基板にDC回路部とRF回路部と一体形成している。そ
の際、DC回路部を、内層パターンを有する多層基板構
造として形成し、またRF回路部を、内層パターンの無
い単層基板構造として形成するようにした。このように
したことで、コネクタなどの接続部品を必要とせず、良
好な電気的特性を維持しつつ効率よく小型化を図り得る
高周波基板の構造を提供することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施形態に係わる高周波多層基板の
構造を示す断面図。
【図2】 本発明の他の実施形態に係わる高周波多層基
板の構造を示す断面図。
【符号の説明】
10…基板 11,12,13…積層される基板 1…内層パターン 2…外層パターン 3…グランド面 4…DC(直流)回路 5…RF(無線)回路 6…ストリップ導体 7…マイクロストリップライン 8…スルーホール

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 同一基板に直流回路と高周波回路とを形
    成してなる高周波基板構造であって、 前記基板の直流回路形成部分は外層及び内層に配線パタ
    ーンを形成する構造とし、高周波回路形成部分は外層の
    みに配線パターンを形成する構造としたことを特徴とす
    る高周波基板構造。
  2. 【請求項2】 前記直流回路形成部分の外層と前記高周
    波回路形成部分の外層を同一層としたことを特徴とする
    請求項1記載の高周波基板構造。
  3. 【請求項3】 前記基板の一方の外層側をグランド層と
    し、他方の外層側を前記直流回路形成部分及び前記高周
    波回路形成部分の各外層として用いることを特徴とする
    請求項1記載の高周波基板構造。
  4. 【請求項4】 前記高周波回路は、前記基板の外層に形
    成されたストリップラインを備えることを特徴とする請
    求項1乃至3のいずれかに記載の高周波基板構造。
  5. 【請求項5】 前記高周波回路における前記基板の両方
    の外層を、スルーホールで接続したことを特徴とする請
    求項1乃至3のいずれかに記載の高周波基板構造。
  6. 【請求項6】 前記直流回路における前記基板の各層の
    間をスルーホールで接続したことを特徴とする請求項1
    乃至3のいずれかに記載の高周波基板構造。
  7. 【請求項7】 前記高周波回路の両側に前記直流回路を
    設けたことを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記
    載の高周波基板構造。
  8. 【請求項8】 前記直流回路の両側に前記高周波回路を
    設けたことを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記
    載の高周波基板構造。
JP2001081815A 2001-03-22 2001-03-22 高周波基板構造 Abandoned JP2002280748A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8552815B2 (en) 2009-06-05 2013-10-08 Shinko Electric Industries Co., Ltd. High-frequency line structure for impedance matching a microstrip line to a resin substrate and method of making
JP2018152805A (ja) * 2017-03-15 2018-09-27 三菱電機株式会社 マイクロ波装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8552815B2 (en) 2009-06-05 2013-10-08 Shinko Electric Industries Co., Ltd. High-frequency line structure for impedance matching a microstrip line to a resin substrate and method of making
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