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JP2002359321A - Power amplifying module, circuit element aggregate substrate and method for regulating circuit element characteristics - Google Patents

Power amplifying module, circuit element aggregate substrate and method for regulating circuit element characteristics

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Publication number
JP2002359321A
JP2002359321A JP2001165649A JP2001165649A JP2002359321A JP 2002359321 A JP2002359321 A JP 2002359321A JP 2001165649 A JP2001165649 A JP 2001165649A JP 2001165649 A JP2001165649 A JP 2001165649A JP 2002359321 A JP2002359321 A JP 2002359321A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
dielectric layer
measurement
circuit
power amplification
electrode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001165649A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2002359321A5 (en
Inventor
Takeshi Yokoyama
健 横山
Minoru Takatani
稔 高谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by TDK Corp filed Critical TDK Corp
Priority to JP2001165649A priority Critical patent/JP2002359321A/en
Publication of JP2002359321A publication Critical patent/JP2002359321A/en
Publication of JP2002359321A5 publication Critical patent/JP2002359321A5/ja
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a small-sized power amplifying module. SOLUTION: An impedance matching circuit 211 or 215 has capacitors C1 to C6, and is connected to an input side or an output side of an MMIC 20. A multilayer substrate 7 has a dielectric layer 72 or 73 and supports the MMIC 20 and the matching circuit 211 or 215. At least, one of the capacitors C1 to C6 included in the matching circuit 211 or 215 is constituted of a pair of capacitor electrodes disposed on both surfaces of the layer 72 or 73.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、マイクロ波帯を利
用した通信機器等において、主に、送信回路部に用いら
れる電力増幅モジュール、その製造に用いられる回路要
素集合基板及び回路要素特性調整方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a power amplifier module mainly used for a transmission circuit section, a circuit element assembly substrate used for manufacturing the same, and a method of adjusting circuit element characteristics in communication equipment utilizing a microwave band. About.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、携帯電話などのデジタル移動体通
信機器の普及によりマイクロ波帯の送信部に用いられる
電力増幅モジュールへの需要が高まっている。電力増幅
モジュールは移動体通信機器の1部品であり、近年、通
信機器、特に携帯電話の形状の小型化、高機能化と共
に、低電圧動作化、高効率化及び軽量化の要望が強くな
っている。
2. Description of the Related Art In recent years, with the spread of digital mobile communication devices such as portable telephones, demand for a power amplification module used for a transmitter in a microwave band has been increased. The power amplification module is a component of mobile communication devices. In recent years, demands for low voltage operation, high efficiency, and light weight have been increasing along with the miniaturization and high functionality of communication devices, particularly mobile phones. I have.

【0003】デジタル移動体通信機器では、アンテナで
受信された信号は、ローノイズアンプ部へ伝達され、ロ
ーノイズアンプ部からミキサ部へ供給されて、変調さ
れ、更にIF部を経てベースバンド部へ送られる。ま
た、ベースバンド部で生成された送信信号は、ミキサ部
で変調され、電力増幅モジュールへ伝えられ、電力増幅
モジュールにて増幅された信号が、デュプレクサ(Dupl
exer)を経て送信用アンテナヘ伝えられる。電力増幅モ
ジュールでは、ミキサ部から供給された信号を、必要な
電力レベルまで増幅する。電力増幅モジュールから出力
された信号は、非可逆回路部へ供給される。
In a digital mobile communication device, a signal received by an antenna is transmitted to a low noise amplifier, supplied from the low noise amplifier to a mixer, modulated, and further transmitted to a baseband through an IF. . The transmission signal generated in the baseband unit is modulated by the mixer unit, transmitted to the power amplification module, and the signal amplified by the power amplification module is converted into a duplexer (Dupl).
exer) and transmitted to the transmitting antenna. The power amplification module amplifies a signal supplied from the mixer unit to a required power level. The signal output from the power amplification module is supplied to the non-reciprocal circuit unit.

【0004】非可逆回路部から出力された信号は、通
常、電力検出部を通過させ、その電力レベルが検出され
る。そして、電力制御部から電力増幅モジュールに送信
される電力が常に一定となるように、自動電力制御(AP
C、Auto Power Contro1)が加わる。このため、電力増幅
モジュールからの出力信号が、必要以上に増加したり、
必要以下に減少したりすることなく、必要とされる電力
レベルに常に制御される。電力検出部を通過した信号
は、ローパスフィルタにより、高次高調波成分が除去さ
れ、デュプレクサへ伝えられ、更に送信アンテナに伝達
される。
A signal output from the non-reciprocal circuit section normally passes through a power detection section, and the power level is detected. Then, automatic power control (AP) is performed so that the power transmitted from the power control unit to the power amplification module is always constant.
C, Auto Power Contro1) is added. For this reason, the output signal from the power amplification module may increase more than necessary,
It is constantly controlled at the required power level without diminishing below the need. The high-order harmonic component of the signal that has passed through the power detection unit is removed by a low-pass filter, transmitted to a duplexer, and further transmitted to a transmission antenna.

【0005】一般的な構成として、電力増幅モジュール
は、入力インピーダンス整合回路、MMIC(Microwav
e Monolithic IC)、直流バイアス回路及び出力インピ
ーダンス整合回路を含む。MMICは増幅回路を構成
し、直流バイアス回路はMMICに直流バイアスを印加
する。
As a general configuration, a power amplification module includes an input impedance matching circuit, an MMIC (Microwav
e Monolithic IC), DC bias circuit and output impedance matching circuit. The MMIC forms an amplification circuit, and the DC bias circuit applies a DC bias to the MMIC.

【0006】入力インピーダンス整合回路は、キャパシ
タ及びインダクタによるLC回路で構成され、MMIC
の入力側に接続され、MMICと入力側前段の回路との
間のインピーダンス整合をとる。
[0006] The input impedance matching circuit is composed of an LC circuit composed of a capacitor and an inductor.
, And impedance matching between the MMIC and the circuit on the input side.

【0007】出力インピーダンス整合回路は、キャパシ
タ及びインダクタによるLC回路で構成され、MMIC
の出力側に接続され、MMICと負荷との間のインピー
ダンス整合をとる。
[0007] The output impedance matching circuit is composed of an LC circuit composed of a capacitor and an inductor.
To provide impedance matching between the MMIC and the load.

【0008】入力インピーダンス整合回路、MMIC、
直流バイアス回路及び出力インピーダンス整合回路は、
多層基板によって支持されている。入力インピーダンス
整合回路では、例えば、1個の接地キャパシタが用いら
れ、出力インピーダンス整合回路で、例えば、3個の接
地キャパシタが用いられる。
An input impedance matching circuit, an MMIC,
DC bias circuit and output impedance matching circuit,
It is supported by a multilayer substrate. In the input impedance matching circuit, for example, one ground capacitor is used, and in the output impedance matching circuit, for example, three ground capacitors are used.

【0009】入力インピーダンス整合回路及び出力イン
ピーダンス整合回路で用いられる接地キャパシタは容量
が大きい。そこで、従来は、積層セラミックコンデンサ
を用い、これを、多層基板の表面上に搭載していた。
A ground capacitor used in an input impedance matching circuit and an output impedance matching circuit has a large capacitance. Therefore, conventionally, a multilayer ceramic capacitor has been used and mounted on the surface of a multilayer substrate.

【0010】この種の電力増幅モジュールが用いられる
携帯電話などのデジタル移動体通信機器は、高密度集積
機器であり、電力増幅モジュールに許容された占有スペ
ースは極めて小さく、今後、更に縮小されることは避け
られない。従って、電力増幅モジュールは、特に、平面
形状を小さくしなければならない。
A digital mobile communication device such as a cellular phone using this type of power amplification module is a high-density integrated device, and the occupied space allowed for the power amplification module is extremely small and will be further reduced in the future. Is inevitable. Therefore, the power amplification module must have a particularly small planar shape.

【0011】ところが、多層基板の表面には、既に、M
MIC等が搭載されており、更に、入力インピーダンス
整合回路のインダクタ、出力インピーダンス整合回路の
インダクタ、直流バイアス回路のキャパシタ、入出力結
合キャパシタ等が搭載されている。
However, the surface of the multi-layer substrate already has M
An MIC and the like are mounted, and further, an inductor of an input impedance matching circuit, an inductor of an output impedance matching circuit, a capacitor of a DC bias circuit, an input / output coupling capacitor, and the like are mounted.

【0012】このため、入力出力インピーダンス整合回
路の接地キャパシタに積層セラミックコンデンサを用
い、これを、多層基板の表面上に搭載する従来構造で
は、多層基板の表面の平面積を縮小することが困難で、
小型化の要求に対応できなくなりつつある。
For this reason, in the conventional structure in which a multilayer ceramic capacitor is used as the ground capacitor of the input / output impedance matching circuit and mounted on the surface of the multilayer substrate, it is difficult to reduce the plane area of the surface of the multilayer substrate. ,
It is becoming impossible to meet the demand for miniaturization.

【0013】[0013]

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、小型
の電力増幅モジュールを提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a small power amplifier module.

【0014】本発明のもう一つの課題は、上述した電力
増幅モジュールの製造に適した回路要素集合基板を提供
することである。
Another object of the present invention is to provide a circuit element assembly board suitable for manufacturing the power amplification module described above.

【0015】本発明の更にもう一つの課題は、上述した
回路要素集合基板に含まれる個々の回路要路の特性調整
に適した回路要素特性調整方法を提供することである。
Still another object of the present invention is to provide a circuit element characteristic adjusting method suitable for adjusting characteristics of individual circuit paths included in the circuit element assembly board described above.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】上述した課題を解決する
ため、本発明に係る電力増幅モジュールは、MMIC(M
icrowave Monolithic IC)と、インピーダンス整合回路
と、多層基板とを含む。前記MMICは、増幅回路を構
成している。前記インピーダンス整合回路は、キャパシ
タを含み、前記MMICの入力側または出力側の少なく
とも一方に接続されている。
In order to solve the above-mentioned problems, a power amplification module according to the present invention comprises an MMIC (M
icrowave Monolithic IC), impedance matching circuit, and multilayer substrate. The MMIC constitutes an amplifier circuit. The impedance matching circuit includes a capacitor, and is connected to at least one of an input side and an output side of the MMIC.

【0017】前記多層基板は、誘電体層を含み、前記M
MIC及び前記インピーダンス整合回路を支持してい
る。前記インピーダンス整合回路に含まれる前記キャパ
シタのうち、少なくとも一つは、前記誘電体層の両面に
配置された対のキャパシタ電極によって構成される。
The multi-layer substrate includes a dielectric layer,
The MIC and the impedance matching circuit are supported. At least one of the capacitors included in the impedance matching circuit is constituted by a pair of capacitor electrodes disposed on both surfaces of the dielectric layer.

【0018】本発明に係る電力増幅モジュールにおい
て、MMICは増幅回路を構成しており、MMICの入
力側または出力側に接続されたインピーダンス整合回路
により、MMICと負荷との間のインピーダンス整合を
とる。従って、MMICへの信号入力、及び、MMIC
から負荷への信号伝送を高効率で行うことができる。
In the power amplification module according to the present invention, the MMIC constitutes an amplification circuit, and an impedance matching circuit connected to an input side or an output side of the MMIC performs impedance matching between the MMIC and the load. Therefore, the signal input to the MMIC and the MMIC
Signal transmission from the load to the load can be performed with high efficiency.

【0019】MMIC及びインピーダンス整合回路は多
層基板によって支持されており、多層基板によって、M
MIC及びインピーダンス整合回路を一体化した電力増
幅モジュールが得られる。
The MMIC and the impedance matching circuit are supported by a multilayer substrate.
A power amplification module in which the MIC and the impedance matching circuit are integrated can be obtained.

【0020】多層基板は、誘電体層を含む。インピーダ
ンス整合回路に含まれるキャパシタのうち、少なくとも
一つは、前記誘電体層の両面に配置された対のキャパシ
タ電極によって構成される。このため、多層基板の表面
に搭載する回路要素の個数を低減させ、電力増幅モジュ
ールの平面積を縮小することが可能になる。または、多
層基板の表面に搭載する他はない他の回路部品のための
スペースを拡大することができる。
[0020] The multilayer substrate includes a dielectric layer. At least one of the capacitors included in the impedance matching circuit is constituted by a pair of capacitor electrodes disposed on both surfaces of the dielectric layer. For this reason, the number of circuit elements mounted on the surface of the multilayer substrate can be reduced, and the plane area of the power amplification module can be reduced. Alternatively, it is possible to increase the space for other circuit components to be mounted on the surface of the multilayer substrate.

【0021】次に、本発明は、上述した電力増幅モジュ
ールの製造に適した回路要素集合基板を開示する。この
回路要素集合基板は、誘電体層と、多数のキャパシタ電
極と、測定電極とを含む。
Next, the present invention discloses a circuit element assembly board suitable for manufacturing the above-described power amplification module. This circuit element assembly substrate includes a dielectric layer, a number of capacitor electrodes, and measurement electrodes.

【0022】前記キャパシタ電極は、前記誘電体層の両
面の相対向する位置に設けられ、前記両面に間隔を隔て
て配列されている。
The capacitor electrodes are provided at opposing positions on both surfaces of the dielectric layer, and are arranged at intervals on the both surfaces.

【0023】前記測定電極は、第1の測定電極と、第2
の測定電極とを含んでいる。前記第1の測定電極は、前
記誘電体層の一面に設けられている。前記第2の測定電
極は、前記誘電体層の他面に設けられ、前記第1の測定
電極と対向し、前記誘電体層を貫通するリード導体によ
り、前記誘電体層の前記一面に導出されている。
The measuring electrode includes a first measuring electrode and a second measuring electrode.
And a measuring electrode. The first measurement electrode is provided on one surface of the dielectric layer. The second measurement electrode is provided on the other surface of the dielectric layer, is opposed to the first measurement electrode, and is led out to the one surface of the dielectric layer by a lead conductor penetrating the dielectric layer. ing.

【0024】上述した回路要素集合基板によれば、第1
の測定電極と第2の測定電極との間に生じるキャパシタ
ンスを測定し、その測定値に基づいて、キャパシタ電極
のトリミング量を決定する特性調整方法を採用すること
ができる。
According to the circuit element assembly board described above, the first
A characteristic adjustment method of measuring the capacitance generated between the measurement electrode and the second measurement electrode and determining the trimming amount of the capacitor electrode based on the measured value can be adopted.

【0025】即ち、第1及び第2の測定電極は誘電体層
の表面及び裏面に設けられているから、第1の測定電極
と第2の測定電極との間に生じるキャパシタンスを測定
することにより、予め解っている第1及び第2の測定電
極の面積、誘電体層の誘電率から、誘電体層の厚みを算
出することができる。
That is, since the first and second measurement electrodes are provided on the front surface and the back surface of the dielectric layer, the capacitance generated between the first measurement electrode and the second measurement electrode is measured. The thickness of the dielectric layer can be calculated from the areas of the first and second measurement electrodes and the dielectric constant of the dielectric layer, which are known in advance.

【0026】そして、算出された誘電体層の厚みと、予
め解っているキャパシタ電極の面積、誘電体層の誘電率
とから、現在の電極面積(設計値)で得られる容量を算
出し、算出容量値が設計容量値と等しくなるように、誘
電体層の表面に設けられたキャパシタ電極をトリミング
し、容量値を所定値に合わせ込むことができる。
From the calculated thickness of the dielectric layer, the area of the capacitor electrode and the dielectric constant of the dielectric layer which are known in advance, the capacitance obtained by the current electrode area (design value) is calculated and calculated. By trimming the capacitor electrode provided on the surface of the dielectric layer so that the capacitance value becomes equal to the design capacitance value, the capacitance value can be adjusted to a predetermined value.

【0027】[0027]

【発明の実施の形態】図1はデジタル移動体通信機器
(W−CDMA対応)における高周波回路部の構成を示
すブロック図である。受信アンテナANT2で受信され
た信号は、ローノイズアンプ部AMPへ伝達され、ミキ
サ部MIXRで変調され、更にIF部を経由してベース
バンド部BSBへ送られる。
FIG. 1 is a block diagram showing the configuration of a high-frequency circuit section in a digital mobile communication device (compatible with W-CDMA). The signal received by the receiving antenna ANT2 is transmitted to the low noise amplifier AMP, modulated by the mixer MIXR, and sent to the baseband BSB via the IF.

【0028】また、ベースバンド部BSBで生成された
送信信号は、ミキサ部MIXTで変調される。ミキサ部
MIXTによる変調は、フェーズロックループPLLか
らミキサ部MIXTに供給される信号に基づいて行われ
る。送信信号は、ミキサ部MIXTで変調された後、電
力増幅部回路部PWAへ供給される。電力増幅部回路部
PWAは、送信用アンテナANT1から出力される送信
信号を、受信者に届く電力になるまで増幅する役割を担
う。電力増幅部回路部PWAにて増幅された信号は、デ
ュプレクサDUPを経て送信用アンテナANT1ヘ伝え
られ、送信用アンテナANT1から空中に放射される。
The transmission signal generated by the baseband section BSB is modulated by the mixer section MIXT. Modulation by the mixer MIXT is performed based on a signal supplied from the phase locked loop PLL to the mixer MIXT. After the transmission signal is modulated by the mixer section MIXT, it is supplied to the power amplification section circuit section PWA. The power amplifier circuit unit PWA plays a role of amplifying the transmission signal output from the transmission antenna ANT1 until the power reaches the receiver. The signal amplified by the power amplifier circuit unit PWA is transmitted to the transmitting antenna ANT1 via the duplexer DUP, and is radiated from the transmitting antenna ANT1 into the air.

【0029】図2は電力増幅部回路部PWAの詳細を示
すブロック図である。図示された電力増幅部回路部PW
Aは、バンドパスフィルタ1、電力増幅モジュール2、
電力検出部31、ローパスフィルタ32、及び、非可逆
回路部33を含んでいる。ミキサ部MIXTから電力増
幅部回路部PWAへ供給された変調信号は、バンドパス
フィルタ1により、必要な周波数成分のみが抽出され、
電力増幅モジュール2ヘ伝えられる。バンドパスフィル
タ1を通過した信号は、電力増幅モジュール2に供給さ
れる。
FIG. 2 is a block diagram showing details of the power amplifier circuit section PWA. Illustrated power amplifier circuit section PW
A is a bandpass filter 1, a power amplification module 2,
It includes a power detection unit 31, a low-pass filter 32, and a non-reciprocal circuit unit 33. From the modulation signal supplied from the mixer section MIXT to the power amplification section circuit section PWA, only necessary frequency components are extracted by the band-pass filter 1,
The power is transmitted to the power amplification module 2. The signal that has passed through the bandpass filter 1 is supplied to the power amplification module 2.

【0030】電力増幅モジュール2では、バンドパスフ
ィルタ1を通過した信号を増幅する。電力増幅モジュー
ル2から出力された信号は、電力検出部31に供給され
る。そして、電力検出部31を通過するとき、信号の電
力レペルが検出される。電力検出信号は、電力制御部3
4に供給される。電力制御部34は電力検出部31から
供給される電力検出信号に基づき、電力増幅モジュール
2にAPC制御を加え、出力電力を一定化する。
The power amplification module 2 amplifies the signal passing through the band-pass filter 1. The signal output from the power amplification module 2 is supplied to the power detection unit 31. Then, when passing through the power detection unit 31, the power level of the signal is detected. The power detection signal is transmitted to the power control unit 3
4 is supplied. The power control section 34 applies APC control to the power amplification module 2 based on the power detection signal supplied from the power detection section 31 to make the output power constant.

【0031】電力検出部31を通過した信号は、ローパ
スフィルタ32により、高次高調波成分が除去され、非
可逆回路部33へ供給される。
The high-order harmonic component of the signal that has passed through the power detection unit 31 is removed by a low-pass filter 32 and supplied to a nonreciprocal circuit unit 33.

【0032】非可逆回路部33は、アイソレータを構成
し、電力増幅モジュール2から供給された信号を送信用
アンテナANT1側へは伝達するが、送信用アンテナA
NT1側から電力増幅モジュール2ヘ戻る信号をカット
する。非可逆回路部33がないと、動作環境等に起因し
て出力側負荷インピーダンスが変化した場合、電力増幅
モジュール2で増幅された電力が反射され、電力増幅モ
ジュール2ヘ戻り、電力増幅モジュール2から出力され
る信号の品質劣化(ノイズレベルの増加)、効率劣化、
電力増幅モジュール2の内部回路の破壊等を招く。非可
逆回路部33は、このような反射による不具合を防止す
るために備えられている。
The non-reciprocal circuit section 33 constitutes an isolator, and transmits the signal supplied from the power amplification module 2 to the transmitting antenna ANT1.
The signal returning from the NT1 to the power amplification module 2 is cut. Without the non-reciprocal circuit section 33, when the output-side load impedance changes due to the operating environment or the like, the power amplified by the power amplification module 2 is reflected, returned to the power amplification module 2, and returned from the power amplification module 2. Output signal quality degradation (noise level increase), efficiency degradation,
The internal circuit of the power amplification module 2 may be destroyed. The non-reciprocal circuit section 33 is provided to prevent such a problem due to reflection.

【0033】非可逆回路部33を通過した信号は、デュ
プレクサDUPへ伝えられ、更に、送信用アンテナAN
T1に伝達される。そして、送信用アンテナANT1か
ら、空中へ信号が放射される。
The signal passing through the nonreciprocal circuit section 33 is transmitted to a duplexer DUP, and further transmitted to a transmitting antenna AN.
It is transmitted to T1. Then, a signal is radiated from the transmitting antenna ANT1 into the air.

【0034】図1、図2に示す例は、W−CDMA対応
のもであり、電力増幅モジュール2に要求される主な特
性は以下のとおりである。
The examples shown in FIGS. 1 and 2 are compatible with W-CDMA, and the main characteristics required of the power amplification module 2 are as follows.

【0035】 周波数(fin)=1920〜1980MHz 出力電力(Pout)=27dBm 電力付加効率(PAE)=40%以上 隣接チャンネル漏洩電力比(ACPR) ACPR1=−38dBc以下(at 5MHz) ACPR2=−48d8c以下(at 10MHz) 隣接チャンネル漏洩電力比(ACPR)とは、送信信号
の中心周波数から5.0MHz、または、10.0MH
z離れた周波数におけるノイズレベルを、中心周波数の
電力レベルに対する相対比で表した値である。電力付加
効率(PAE)とは、出力電力と消費電力との割合をパ
ーセントで表示したもので、高いほど好ましい。
Frequency (fin) = 1920 to 1980 MHz Output power (Pout) = 27 dBm Power added efficiency (PAE) = 40% or more Adjacent channel leakage power ratio (ACPR) ACPR1 = −38 dBc or less (at 5 MHz) ACPR2 = −48d8c or less (At 10 MHz) The adjacent channel power ratio (ACPR) is 5.0 MHz or 10.0 MHz from the center frequency of the transmission signal.
This is a value representing the noise level at a frequency z away from the power level of the center frequency as a relative ratio. The power added efficiency (PAE) is a ratio of output power to power consumption expressed as a percentage, and a higher value is more preferable.

【0036】電力増幅モジュール2は、その出力負荷イ
ンピーダンスZIoが50Ωの場合に、上記特性が得ら
れるように設計される。実際には、50Ωの状態が定常
的に持続することはなく、アンテナの角度や、温度条件
などにより30〜70Ω程度は充分に変化しえる。電力
増幅モジュール2は非可逆回路部を含むことができる。
The power amplifier module 2 is designed so that the above characteristics can be obtained when the output load impedance ZIo is 50Ω. Actually, the state of 50 Ω does not constantly remain, and the value of about 30 to 70 Ω can sufficiently change depending on the angle of the antenna, temperature conditions, and the like. The power amplification module 2 can include a non-reciprocal circuit unit.

【0037】図3は電力増幅モジュール2のブロック図
を示している。図示実施例において、電力増幅モジュー
ル2は、入力インピーダンス整合回路211、前段の電
力増幅素子212、後段の電力増幅素子214、出力イ
ンピーダンス整合回路215及び直流バイアス回路21
6を含んでいる。電力増幅モジュール2は電力増幅モジ
ュール2の他にも、追加的、または、付加的な回路部分
を有する。
FIG. 3 shows a block diagram of the power amplification module 2. In the illustrated embodiment, the power amplification module 2 includes an input impedance matching circuit 211, a previous-stage power amplification element 212, a rear-stage power amplification element 214, an output impedance matching circuit 215, and a DC bias circuit 21.
6 is included. The power amplifier module 2 has additional or additional circuit parts in addition to the power amplifier module 2.

【0038】電力増幅素子212、214は例えばHB
T(ヘテロジャンクション・バイポーラ・トランジス
タ)やFET(電界効果型トランジスタ)から構成され
る。
The power amplifying elements 212 and 214 are, for example, HB
It is composed of T (heterojunction bipolar transistor) and FET (field effect transistor).

【0039】直流バイアス回路216は、Vcc端子に
供給される直流電圧Vcc、及び、Vreg端子に供給
される信号Vregに基づき、電力増幅素子212に直
流バイアスを印加する。
The DC bias circuit 216 applies a DC bias to the power amplifier 212 based on the DC voltage Vcc supplied to the Vcc terminal and the signal Vreg supplied to the Vreg terminal.

【0040】バンドパスフィルタ1(図2参照)に接続
されたPin端子から、入力インピーダンス整合回路2
11を経て、電力増幅素子212に供給された信号は、
電力増幅素子212によって電力増幅される。電力増幅
素子212によって電力増幅された信号は、電力増幅素
子214に供給され、更に電力増幅作用を受ける。
From the Pin terminal connected to the band-pass filter 1 (see FIG. 2), the input impedance matching circuit 2
11, the signal supplied to the power amplification element 212 is
The power is amplified by the power amplification element 212. The signal whose power has been amplified by the power amplifying element 212 is supplied to the power amplifying element 214 and further subjected to a power amplifying operation.

【0041】電力増幅素子214によって電力増幅を受
けた信号は、出力インピーダンス整合回路215を経
て、Pout端子に供給される。出力インピーダンス整
合回路215は、MMIC20の出力インピーダンスを
非可逆回路部33の入力インピーダンス(10〜30
Ω)に変換する。
The signal amplified by the power amplifying element 214 is supplied to the Pout terminal via the output impedance matching circuit 215. The output impedance matching circuit 215 converts the output impedance of the MMIC 20 to the input impedance (10 to 30) of the non-reciprocal circuit unit 33.
Ω).

【0042】図3に示された回路において、電力増幅素
子212及び電力増幅素子214は、1パッケージ化さ
れたMMIC20を構成する。MMIC20の出力イン
ピーダンスは、出力インピーダンス整合回路215及び
非可逆回路部33によって、負荷インピーダンスである
50Ωに変換される。
In the circuit shown in FIG. 3, the power amplifying element 212 and the power amplifying element 214 constitute the MMIC 20 packaged in one package. The output impedance of the MMIC 20 is converted into a load impedance of 50Ω by the output impedance matching circuit 215 and the non-reciprocal circuit unit 33.

【0043】入力インピーダンス整合回路211は、P
in端子からバンドパスフィルタ1(図2参照)の側を
見たときのインピーダンス50Ωを、MMIC20の入
力インピーダンスに整合させるもので、インダクタL1
及びキャパシタC1、C2を含むLC回路より構成され
る。Pin端子に供給された信号は、理想的には、無反
射にてMMIC20に入力される。
The input impedance matching circuit 211
The impedance of 50Ω when the side of the bandpass filter 1 (see FIG. 2) is viewed from the in terminal is matched with the input impedance of the MMIC 20.
And an LC circuit including capacitors C1 and C2. The signal supplied to the Pin terminal is ideally input to the MMIC 20 without reflection.

【0044】MMIC20に入力された信号は、電力増
幅素子212及び電力増幅素子214により、所望の電
力まで増幅される。
The signal input to the MMIC 20 is amplified to a desired power by the power amplifier 212 and the power amplifier 214.

【0045】MMIC20の出力側に備えられた出力イ
ンピーダンス整合回路215は、インダクタL2及びキ
ャパシタC3のL型回路と、キャパシタC4、インダク
タL3及びキャパシタC5のπ型回路と、直流阻止用キ
ャパシタC6とを含んでいる。
An output impedance matching circuit 215 provided on the output side of the MMIC 20 includes an L-type circuit including an inductor L2 and a capacitor C3, a π-type circuit including a capacitor C4, an inductor L3 and a capacitor C5, and a DC blocking capacitor C6. Contains.

【0046】直流バイアス回路216は、電力増幅素子
212、214を動作させるための直流バイアスを印加
し、かつ、増幅電力を外部に漏洩させるのを防ぐ役割を
もつ。従って、直流バイアス回路216に含まれるイン
ダクタL5、L6には、電力増幅素子212、214で
増幅された信号をVcc端子へ漏洩させないよう、理想
的にはインピーダンスを無限大にすることが求められ
る。このため、インダクタL5、L6は、波長λに関し
て、(λ/4)長パターン、または、(λ/4)長パタ
ーンに相当するインピーダンスを持つインダクタ素子に
より構成される。
The DC bias circuit 216 has a function of applying a DC bias for operating the power amplifying elements 212 and 214 and preventing leakage of the amplified power to the outside. Therefore, the inductors L5 and L6 included in the DC bias circuit 216 are ideally required to have an infinite impedance so that the signals amplified by the power amplifying elements 212 and 214 do not leak to the Vcc terminal. For this reason, the inductors L5 and L6 are configured by an inductor element having an impedance corresponding to the (λ / 4) length pattern or the (λ / 4) length pattern with respect to the wavelength λ.

【0047】図4は本発明に係る電力増幅モジュールの
層構成の一例を示す部分断面図である。図示された電力
増幅モジュールは、多層基板7と、MMIC20を含ん
でいる。MMIC20は、既に述べたように、電力増幅
素子212及び電力増幅素子214を含んでいる(図
2、3参照)。
FIG. 4 is a partial cross-sectional view showing an example of the layer configuration of the power amplification module according to the present invention. The illustrated power amplification module includes a multilayer substrate 7 and an MMIC 20. The MMIC 20 includes the power amplification element 212 and the power amplification element 214 as described above (see FIGS. 2 and 3).

【0048】MMIC20及び出力インピーダンス整合
回路215は多層基板7によって支持されており、多層
基板7によって、MMIC20及び出力インピーダンス
整合回路215を一体化した電力増幅モジュールが得ら
れる。実施例では、入力インピーダンス回路211及び
直流バイアス回路216も、多層基板7によって支持さ
れている。
The MMIC 20 and the output impedance matching circuit 215 are supported by the multilayer substrate 7, and the multilayer substrate 7 provides a power amplification module in which the MMIC 20 and the output impedance matching circuit 215 are integrated. In the embodiment, the input impedance circuit 211 and the DC bias circuit 216 are also supported by the multilayer substrate 7.

【0049】多層基板7は、誘電体層71〜73、コア
層74及び誘電体層75〜77を積層した構造となって
いる。これらの層71〜77は、シート積層法または塗
布法によって形成される。
The multilayer substrate 7 has a structure in which dielectric layers 71 to 73, a core layer 74, and dielectric layers 75 to 77 are laminated. These layers 71 to 77 are formed by a sheet laminating method or a coating method.

【0050】図5は図4に示した電力増幅モジュールに
用いられている多層基板の積層構造を概略的に示す図、
図6〜図13は多層基板7の隣接面のパターンを示す図
である。次に、図5と、図6〜図13を参照しながら、
多層基板7の積層構造について詳説する。
FIG. 5 is a diagram schematically showing a laminated structure of a multilayer substrate used in the power amplification module shown in FIG.
6 to 13 are diagrams showing patterns on adjacent surfaces of the multilayer substrate 7. FIG. Next, referring to FIG. 5 and FIGS.
The laminated structure of the multilayer substrate 7 will be described in detail.

【0051】まず、図6は、多層基板7の最上層を構成
する誘電体層71を表面からみた平面図である。誘電体
層71の表面には、入力インピーダンス整合回路211
のインダクタL1を構成する導体パターン、及び、キャ
パシタC2が備えられている。また、直流バイアス回路
216のキャパシタC7〜C9、及び、インダクタL4
を構成する導体パターン、並びに、出力インピーダンス
回路215のキャパシタC6及びインダクタL2、L3
を構成する導体パターンが備えられている。
First, FIG. 6 is a plan view of the dielectric layer 71 constituting the uppermost layer of the multilayer substrate 7 as viewed from the surface. An input impedance matching circuit 211 is provided on the surface of the dielectric layer 71.
And a capacitor C2. The capacitors C7 to C9 of the DC bias circuit 216 and the inductor L4
And the capacitor C6 and the inductors L2 and L3 of the output impedance circuit 215.
Is provided.

【0052】図7は誘電体層71と隣接する誘電体層7
2の表面を示す平面図である。誘電体層72には、グラ
ンドパターンGND1が形成されている。
FIG. 7 shows the dielectric layer 71 adjacent to the dielectric layer 71.
FIG. 4 is a plan view showing a surface of a second example. The ground pattern GND1 is formed on the dielectric layer 72.

【0053】図8は誘電体層72との隣接面となる誘電
体層73の表面を示す平面図である。誘電体層73に
は、入力インピーダンス整合回路211のキャパシタC
1を構成するキャパシタ電極C11と、出力インピーダ
ンス回路215のキャパシタC3、C4、C5を構成す
るキャパシタ電極C31、C41、51が形成されてい
る。
FIG. 8 is a plan view showing the surface of the dielectric layer 73 which is adjacent to the dielectric layer 72. FIG. The dielectric layer 73 includes a capacitor C of the input impedance matching circuit 211.
1 and the capacitor electrodes C31, C41, 51 forming the capacitors C3, C4, C5 of the output impedance circuit 215 are formed.

【0054】図9は誘電体層73との隣接面となるコア
層74の表面を示す平面図である。コア層74にはグラ
ンドパターンGND2が形成されている。コア層74
は、ガラス繊維を含有する有機質層である。コア層74
は、具体的には、ガラス繊維入りコア基板であり、例え
ば厚みが160μm、比誘電率εrが10程度である。
FIG. 9 is a plan view showing the surface of the core layer 74 which is adjacent to the dielectric layer 73. A ground pattern GND2 is formed on the core layer 74. Core layer 74
Is an organic layer containing glass fibers. Core layer 74
Is a glass fiber-containing core substrate having a thickness of, for example, 160 μm and a relative permittivity εr of about 10.

【0055】上述したように、多層基板7は、互いに隣
接する2つの誘電体層72、73を含み、2つの誘電体
層72、73は隣接する面とは反対側の面にそれぞれ接
地電極GND1、GND2を有する。出力インピーダン
ス整合回路215に含まれるキャパシタC3〜C6のう
ち、一端が接地されるキャパシタC3〜C5は、誘電体
層72、73の隣接面に設けられたキャパシタ電極C3
1、C41、C51を含み、キャパシタ電極キャパシタ
電極C31、C41、C51と第1及び第2の接地電極
GND1、GND2との間で容量Ca1、Ca2、Cb
1、Cb2(図5参照)を取得する。
As described above, the multilayer substrate 7 includes two dielectric layers 72 and 73 adjacent to each other, and the two dielectric layers 72 and 73 are respectively provided on the surface opposite to the adjacent surface to the ground electrode GND1. , GND2. Among the capacitors C3 to C6 included in the output impedance matching circuit 215, the capacitors C3 to C5 whose one ends are grounded are the capacitor electrodes C3 provided on the adjacent surfaces of the dielectric layers 72 and 73.
1, C41, C51, and capacitors Ca1, Ca2, Cb between the capacitor electrodes C31, C41, C51 and the first and second ground electrodes GND1, GND2.
1 and Cb2 (see FIG. 5).

【0056】このため、従来との対比では、キャパシタ
電極C31、C41、C51の面積、及び、誘電体層7
2、73の厚みが同じであれば、略2倍の容量を取得で
き、容量が同じであれば、キャパシタ電極C31、C4
1、C51の平面積を半分にすることができる。
Therefore, in comparison with the related art, the area of the capacitor electrodes C31, C41, C51 and the dielectric layer 7
If the thicknesses of the electrodes 2 and 73 are the same, approximately twice the capacity can be obtained. If the capacities are the same, the capacitor electrodes C31 and C4
1. The plane area of C51 can be halved.

【0057】このため、出力インピーダンス整合回路2
15に備えられるキャパシタC3〜C5を、多層基板7
の内に配置し、多層基板7の表面に搭載する回路要素の
個数を低減させ、電力増幅モジュールの平面積を縮小す
ることが可能になる。電力増幅モジュールの平面積をそ
のままとすれば、多層基板7の表面に搭載する回路要
素、例えば、インダクタL1〜L3を構成する導体パタ
ーンのためのスペースを拡大することができる。
Therefore, the output impedance matching circuit 2
15 are connected to the multilayer substrate 7
And the number of circuit elements mounted on the surface of the multilayer substrate 7 can be reduced, and the plane area of the power amplification module can be reduced. If the plane area of the power amplification module is kept as it is, the space for circuit elements mounted on the surface of the multilayer substrate 7, for example, conductor patterns constituting the inductors L1 to L3 can be increased.

【0058】実施例では、誘電体層72、73の隣接面
には、入力インピーダンス整合回路211(図3参照)
に含まれるキャパシタC1を構成するキャパシタ電極C
11も設けられている。キャパシタ電極C11も、接地
電極GND1、GND2と対向しており、従って、大き
な容量を取得できる共に、多層基板7の平面積を縮小す
ることができる。
In the embodiment, an input impedance matching circuit 211 (see FIG. 3) is provided on the adjacent surfaces of the dielectric layers 72 and 73.
Electrode C constituting capacitor C1 included in
11 is also provided. The capacitor electrode C11 also faces the ground electrodes GND1 and GND2, so that a large capacitance can be obtained and the plane area of the multilayer substrate 7 can be reduced.

【0059】更に、図5、図8に示すように、キャパシ
タ電極C31を、要求される容量値を得るのに必要な面
積よりも大きな面積S1となるように形成しておき、ト
リミングStrmすることにより、所定の容量値に正確
に合わせ込むことができる。他のキャパシタ電極C1
1、C41、C51でも同様である。
Further, as shown in FIGS. 5 and 8, the capacitor electrode C31 is formed so as to have an area S1 larger than an area required to obtain a required capacitance value, and trimming is performed. Thereby, it is possible to accurately adjust to a predetermined capacitance value. Other capacitor electrode C1
The same applies to 1, C41 and C51.

【0060】図10はコア層74との隣接面となる誘電
体層75の表面を示す平面図である。誘電体層75に
は、直流バイアス回路216のインダクタL5及びL6
を構成するストリップラインが形成されている。インダ
クタL5、L6の他端は互いに接続され、Vcc端子に
導かれる。
FIG. 10 is a plan view showing the surface of the dielectric layer 75 which is adjacent to the core layer 74. The dielectric layers 75 include inductors L5 and L6 of the DC bias circuit 216.
Are formed. The other ends of the inductors L5 and L6 are connected to each other and guided to the Vcc terminal.

【0061】図11は誘電体層75との隣接面となる誘
電体層76の表面を示す平面図、図12は誘電体層76
との隣接面となる誘電体層77の表面を示す平面図、図
13は誘電体層77の裏面図である。誘電体層77の裏
面には、グランドパターンGND3が形成されている。
FIG. 11 is a plan view showing the surface of a dielectric layer 76 adjacent to the dielectric layer 75, and FIG.
FIG. 13 is a plan view showing the surface of the dielectric layer 77 which is adjacent to the dielectric layer 77. FIG. On the back surface of the dielectric layer 77, a ground pattern GND3 is formed.

【0062】誘電体層71〜73は、好ましくは、有機
樹脂材料と誘電体粉末とを混合した混合材料する。誘電
体層71〜73は、コア層74と異なって、ガラス繊維
を含んでおらず、選択された有機樹脂材料と誘電体粉末
との混合層で構成されている。誘電体層71〜73にお
いて、一例であるが、最上層に位置する誘電体層71
は、厚みが40μm以下、比誘電率εrが3程度、中間
に位置する誘電体層72は、厚みが40μm以下、比誘
電率εrが10程度、最下層に位置する誘電体層73は
厚みが40μm以下、比誘電率εrが10程度に選定す
る。比誘電率εrは有機樹脂材料及び誘電体粉末の選
択、並びに、それらの含有量をコントロールすることに
よって、所望の値に設定できる。
The dielectric layers 71 to 73 are preferably made of a mixed material obtained by mixing an organic resin material and a dielectric powder. Unlike the core layer 74, the dielectric layers 71 to 73 do not include glass fibers, and are composed of a mixed layer of a selected organic resin material and a dielectric powder. In the dielectric layers 71 to 73, as an example, the dielectric layer 71 located at the uppermost layer
Has a thickness of 40 μm or less, a relative dielectric constant εr of about 3, a middle dielectric layer 72 has a thickness of 40 μm or less, a relative dielectric constant of about 10 and a lowermost dielectric layer 73 has a thickness of It is selected to be 40 μm or less and the relative dielectric constant εr to be about 10. The relative dielectric constant εr can be set to a desired value by selecting the organic resin material and the dielectric powder and controlling their contents.

【0063】誘電体層75〜77も、好ましくは、有機
樹脂材料と誘電体粉末とを混合した混合材料で構成す
る。誘電体層75〜77において、一例として、誘電体
層75は、厚みが40μm以下、比誘電率εrが10程
度、中間に位置する誘電体層76は、厚みが40μm以
下、比誘電率εrが10程度、最下層に位置する誘電体
層77は厚みが40μm以下、比誘電率εrが3程度と
なるように選定する。比誘電率εrは有機樹脂材料及び
誘電体粉末の選択、並びに、それらの含有量のコントロ
ールによって、所望の相対に設定できることは、誘電体
層71〜73の場合と同様である。
The dielectric layers 75 to 77 are also preferably made of a mixed material obtained by mixing an organic resin material and a dielectric powder. In the dielectric layers 75 to 77, as an example, the dielectric layer 75 has a thickness of 40 μm or less and a relative dielectric constant εr of about 10, and the intermediate dielectric layer 76 has a thickness of 40 μm or less and a relative dielectric constant εr of The dielectric layer 77 located at the lowermost layer is selected to have a thickness of about 40 μm or less and a relative dielectric constant εr of about 3. The relative permittivity εr can be set to a desired relative value by selecting the organic resin material and the dielectric powder and controlling the contents thereof as in the case of the dielectric layers 71 to 73.

【0064】上述した実施例の場合、多層基板7の全体
厚みは、最大0.5mmとなり、従来の0.7mmより
も薄型化できる。
In the case of the above-described embodiment, the overall thickness of the multilayer board 7 is at most 0.5 mm, which can be made thinner than the conventional 0.7 mm.

【0065】誘電体層71〜73及び誘電体層75〜7
7は、有機樹脂材料と誘電体粉末とを混合した混合材料
からなり、ガラス繊維等の補強成分を含まないから、例
えば、一層当り、40μm以下まで、著しく薄くするこ
とができる。誘電体層71〜73及び誘電体層75〜7
7は、セラミック粉末を含むから、誘電率の高い誘電体
セラミック粉末を選択し、有機樹脂多層基板7に比較し
て、優れた電気的特性を確保することができる。
The dielectric layers 71 to 73 and the dielectric layers 75 to 7
Reference numeral 7 is made of a mixed material in which an organic resin material and a dielectric powder are mixed, and does not include a reinforcing component such as glass fiber. Therefore, the thickness of each layer can be remarkably reduced to 40 μm or less, for example. Dielectric layers 71-73 and dielectric layers 75-7
7 includes a ceramic powder, so that a dielectric ceramic powder having a high dielectric constant can be selected, and excellent electrical characteristics can be secured as compared with the organic resin multilayer substrate 7.

【0066】実施例の場合、誘電体層71〜73、75
〜77は、有機樹脂材料と誘電体粉末とを混合した混合
材料からなるから、セラミック多層基板と異なって、反
りを発生することがなく、曲げ強度が大きく、破損、割
れ等を生じにくい。従って、薄型化が可能であると共
に、信頼性向上にも寄与し得る。
In the case of the embodiment, the dielectric layers 71 to 73, 75
Since No. 77 are made of a mixed material in which an organic resin material and a dielectric powder are mixed, unlike a ceramic multilayer substrate, they do not generate warpage, have high bending strength, and are unlikely to cause breakage, cracking, and the like. Therefore, the thickness can be reduced, and the reliability can be improved.

【0067】また、多層基板7は、ガラス繊維を含有す
る有機質層であるコア層74を有しており、コア層74
の一面に誘電体層71〜73を隣接させ、コア層74の
他面に誘電体層75〜77を隣接させてあるから、誘電
体層71〜73及び誘電体層75〜77の層厚を薄くし
て薄型化を図りつつ、コア層74により機械的強度を確
保し、全体として、薄型で、機械的強度の大きな高信頼
度の電力増幅モジュールを得ることができる。
The multilayer substrate 7 has a core layer 74 which is an organic layer containing glass fibers.
Since the dielectric layers 71 to 73 are adjacent to one surface and the dielectric layers 75 to 77 are adjacent to the other surface of the core layer 74, the thicknesses of the dielectric layers 71 to 73 and the dielectric layers 75 to 77 are reduced. The mechanical strength is ensured by the core layer 74 while the thickness is reduced and the thickness is reduced, so that a highly reliable power amplifier module which is thin and has a large mechanical strength can be obtained as a whole.

【0068】例えば、曲げ強度を例にとると、セラミッ
ク多層基板の場合は、曲げ強度は30〜40kg/mm
2であるが、ガラスエポキシ多層基板の曲げ強度は45
〜52kg/mm2である。本発明に係る多層基板は、
有機樹脂材料と誘電体粉末とを混合したハイブリッド誘
電体層71〜73、75〜77と、ガラス繊維入りのコ
ア層74との組み合わせになるから、セラミック多層基
板とガラスエポキシ多層基板の約中間の曲げ強度を確保
することができる。
For example, taking the bending strength as an example, in the case of a ceramic multilayer substrate, the bending strength is 30 to 40 kg / mm.
2 , but the bending strength of the glass epoxy multilayer substrate is 45.
5252 kg / mm 2 . The multilayer substrate according to the present invention,
Since the hybrid dielectric layers 71 to 73 and 75 to 77 in which the organic resin material and the dielectric powder are mixed and the core layer 74 containing the glass fiber are combined, about a middle of the ceramic multilayer substrate and the glass epoxy multilayer substrate. Bending strength can be ensured.

【0069】誘電体層71〜73、75〜77を構成す
るのに用いられる誘電体粉末は、比誘電率が5〜100
0の範囲にあり、誘電正接が0.00002〜0.01
の範囲にあるセラミック材料から選択することができ
る。具体例としては、チタン−バリウム−ネオジウム系
セラミックス、チタン−バリウム−スズ系セラミックス
等を挙げることができる。
The dielectric powder used to form the dielectric layers 71 to 73 and 75 to 77 has a relative dielectric constant of 5 to 100.
0, and the dielectric loss tangent is 0.00002 to 0.01.
Can be selected from ceramic materials in the range of Specific examples include titanium-barium-neodymium-based ceramics and titanium-barium-tin-based ceramics.

【0070】有機樹脂材料は、成形性、加工性、積層接
着性、及び電気特性に優れた材料の中から、適宜選択し
て用いることができる。有機樹脂材料の含有量は20〜
70vol%の範囲であることが好ましい。有機樹脂材
料の具体例としては、熱硬化性樹脂または熱可塑性樹脂
等を挙げることができる。更に具体的には、エポキシ樹
脂、フェノール樹脂、低誘電率エポキシ樹脂、ポリブタ
ジエン樹脂、BTレジン等を挙げることができる。これ
らの樹脂は、単独で用いてもよいし、2種以上を混合し
て用いてもよい。2種以上を混合して用いる場合、混合
比は任意である。
The organic resin material can be appropriately selected from materials having excellent moldability, workability, lamination adhesiveness, and electrical properties. Organic resin material content is 20 ~
It is preferably in the range of 70 vol%. Specific examples of the organic resin material include a thermosetting resin and a thermoplastic resin. More specifically, examples thereof include an epoxy resin, a phenol resin, a low dielectric constant epoxy resin, a polybutadiene resin, and a BT resin. These resins may be used alone or as a mixture of two or more. When two or more kinds are used as a mixture, the mixing ratio is arbitrary.

【0071】有機樹脂材料の好ましい一例は、ポリビニ
ルベンジルエーテル化合物である。図6〜図13に示し
た積層構造において、誘電体層71〜73はキャパシタ
形成層であり、高誘電率、低誘電正接であることが好ま
しい。誘電体層75〜77は、インダクタ形成層であ
り、低誘電正接であることが好ましい。誘電体層75〜
77は、高誘電率であることは必要でないが、波長短縮
のために、高誘電率とすることもある。
One preferred example of the organic resin material is a polyvinyl benzyl ether compound. In the laminated structure shown in FIGS. 6 to 13, the dielectric layers 71 to 73 are capacitor forming layers, and preferably have a high dielectric constant and a low dielectric loss tangent. The dielectric layers 75 to 77 are inductor forming layers and preferably have a low dielectric loss tangent. Dielectric layer 75-
77 does not need to have a high dielectric constant, but may have a high dielectric constant in order to shorten the wavelength.

【0072】これらの層を構成する有機樹脂材料とし
て、ポリビニルベンジルエーテル化合物を用いることが
できる。ポリビニルベンジルエーテル化合物としては、
比誘電率が2.5〜3.5の範囲にあり、誘電正接が
0.0025〜0.005の範囲にあるものを用いるこ
とが好ましい。
As the organic resin material constituting these layers, a polyvinyl benzyl ether compound can be used. As a polyvinyl benzyl ether compound,
It is preferable to use one having a relative dielectric constant in the range of 2.5 to 3.5 and a dielectric loss tangent in the range of 0.0025 to 0.005.

【0073】この場合、ポリビニルベンジルエーテル化
合物の含有率をa(vol%)とし、セラミックス粉末
の含有率をb(vol%)としたとき、a+b=100
(vol%)として、40(vol%)≦b≦60(v
ol%)を満たすように混合する。この混合材料によれ
ば、比誘電率7〜14、誘電正接0.01〜0.002
を実現することができる。
In this case, when the content of the polyvinyl benzyl ether compound is a (vol%) and the content of the ceramic powder is b (vol%), a + b = 100
(Vol%), 40 (vol%) ≦ b ≦ 60 (v
ol%). According to this mixed material, the relative dielectric constant is 7 to 14, and the dielectric loss tangent is 0.01 to 0.002.
Can be realized.

【0074】誘電体層71〜73、75〜77におい
て、更に、難燃剤を添加してもよい。難燃剤の具体例と
しては、テトラプロモジフェノールA変成ポリビニルベ
ンジルエーテル化合物を挙げることができる。
In the dielectric layers 71 to 73 and 75 to 77, a flame retardant may be further added. Specific examples of the flame retardant include a tetrabromodiphenol A modified polyvinyl benzyl ether compound.

【0075】次に、コア層74に用いられるガラスクロ
ス材料は、SiO2を主成分とするもので、多層基板7
の骨格を形成する役割を担う。コア層74は、このガラ
スクロス材を核とし、これに上述した有機樹脂材料を含
浸させて構成することができる。利用できるガラスクロ
スの組成例を下に示す。
Next, the glass cloth material used for the core layer 74 is mainly composed of SiO 2.
Plays a role in forming the skeleton. The core layer 74 can be configured by using the glass cloth material as a core and impregnating the core with the above-described organic resin material. Examples of glass cloth compositions that can be used are shown below.

【0076】<ガラスクロスの組成例> SiO2:56vol% MgB23:10vol% Al23:17vol% CaO:17vol% コア層74においても、難燃剤を添加することができ
る。難燃剤の具体例としては、上述したテトラプロモジ
フェノールA変成ポリビニルベンジルエーテル化合物を
挙げることができる。
<Example of Composition of Glass Cloth> SiO 2 : 56 vol% MgB 2 O 3 : 10 vol% Al 2 O 3 : 17 vol% CaO: 17 vol% A flame retardant can also be added to the core layer 74. Specific examples of the flame retardant include the above-mentioned tetrabromodiphenol A-modified polyvinyl benzyl ether compound.

【0077】図14は上述した電力増幅モジュールの製
造に適した回路要素集合基板の斜視図、図15は図14
に図示した回路要素集合基板の平面図、図16は図15
の16ー16線に沿った部分断面図である。図におい
て、先に示された図面に現れた構成部分と同一の構成部
分については、同一の参照符号を付してある。
FIG. 14 is a perspective view of a circuit element assembly board suitable for manufacturing the above-described power amplification module, and FIG.
FIG. 16 is a plan view of the circuit element assembly substrate shown in FIG.
FIG. 17 is a partial sectional view taken along line 16-16 of FIG. In the drawings, the same components as those shown in the drawings previously described are denoted by the same reference numerals.

【0078】図示された回路要素集合基板は、誘電体層
73と、多数のキャパシタ電極C11、C31、C4
1、C51(図15、16参照)と、測定電極8とを含
む。
The illustrated circuit element assembly substrate comprises a dielectric layer 73 and a number of capacitor electrodes C11, C31, C4.
1, C51 (see FIGS. 15 and 16) and the measurement electrode 8.

【0079】誘電体層73は、図5において、上から3
番目の誘電体層であり、その下に、コア層74及び4番
目の誘電体層75が順次に積層されている。その積層構
造の詳細は、図5〜図13を参照して説明した通りであ
る。多層基板の完成品としては、誘電体層73の上に2
番目の誘電体層72及び最上層の誘電体層71が積層さ
れ、4番目の誘電体層75に、5番目及び6番目の誘電
体層76、77が順次に積層されるので、図14〜図1
6に示した回路要素集合基板は、中間品としての性格を
持つ。
In FIG. 5, the dielectric layer 73 is
A fourth dielectric layer, under which a core layer 74 and a fourth dielectric layer 75 are sequentially laminated. The details of the laminated structure are as described with reference to FIGS. As a finished product of the multilayer substrate, two
Since the fifth dielectric layer 72 and the uppermost dielectric layer 71 are laminated, and the fifth and sixth dielectric layers 76 and 77 are sequentially laminated on the fourth dielectric layer 75, FIGS. FIG.
The circuit element assembly board shown in FIG. 6 has a character as an intermediate product.

【0080】誘電体層73は、表面層を構成しており、
キャパシタ電極(C11、C31、C41、C51)は
誘電体層73の表面に形成されている。誘電体層73の
裏面には、キャパシタ電極C11、C31、C41、C
51に対して、対のキャパシタ電極となる接地電極GN
D2が間隔を隔てて配列されている。誘電体層73の裏
面がコア層74の表面と隣接することは、既に述べた通
りである。
The dielectric layer 73 constitutes a surface layer,
The capacitor electrodes (C11, C31, C41, C51) are formed on the surface of the dielectric layer 73. On the back surface of the dielectric layer 73, the capacitor electrodes C11, C31, C41, C
51, a ground electrode GN serving as a pair of capacitor electrodes
D2 are arranged at intervals. As described above, the back surface of the dielectric layer 73 is adjacent to the front surface of the core layer 74.

【0081】キャパシタ電極(C11、C31、C4
1、C51)と接地電極GND2とは、図5、図8、図
9に図示したように、1組の対向電極群を構成してお
り、各組が、電力増幅モジュール1個毎の1つの回路要
素を構成する。図示実施例では、キャパシタ電極(C1
1、C31、C41、C51)と接地電極GND2との
組でなる回路要素Q11〜Q58を行列状に配置した構
成となっている。
The capacitor electrodes (C11, C31, C4
1, C51) and the ground electrode GND2 constitute a set of opposed electrode groups as shown in FIGS. 5, 8, and 9, and each set includes one set of one power amplification module. Configure circuit elements. In the illustrated embodiment, the capacitor electrode (C1
1, C31, C41, C51) and the ground electrode GND2. The circuit elements Q11 to Q58 are arranged in a matrix.

【0082】測定電極8は、第1の測定電極81と、第
2の測定電極82(図16参照)とを含んでいる。測定
電極8は、回路要素Q11〜Q58を配置した領域Qの
外側のスペースに、領域Qを取り囲むように、適当な間
隔を隔てて複数配置されている。
The measuring electrode 8 includes a first measuring electrode 81 and a second measuring electrode 82 (see FIG. 16). A plurality of measurement electrodes 8 are arranged at appropriate intervals so as to surround the region Q in a space outside the region Q where the circuit elements Q11 to Q58 are arranged.

【0083】図17は測定電極8の1つを拡大して示す
平面図、図18は図17の18ー18線に沿った部分断
面図である。図17、図18には測定方法をも併せて示
してある。
FIG. 17 is an enlarged plan view showing one of the measurement electrodes 8, and FIG. 18 is a partial sectional view taken along the line 18-18 in FIG. 17 and 18 also show the measuring method.

【0084】第1の測定電極81は、誘電体層73の表
面に設けられている。第2の測定電極82は誘電体層7
3の裏面、即ち、誘電体層73とコア層74との隣接面
に設けられ、第1の測定電極81と対向し、誘電体層7
3を貫通するリード導体85により、誘電体層73の表
面に導出されている。
The first measurement electrode 81 is provided on the surface of the dielectric layer 73. The second measurement electrode 82 is provided on the dielectric layer 7.
3, that is, on the surface adjacent to the dielectric layer 73 and the core layer 74, facing the first measurement electrode 81,
3 is led out to the surface of the dielectric layer 73 by a lead conductor 85 penetrating through the third dielectric layer 73.

【0085】図示実施例では、第1の測定端子83と、
第2の測定端子84とを含んでいる。第1の測定端子8
3は誘電体層73の表面に設けられ、第1の測定電極8
1と導通している。第2の測定端子84は、誘電体層7
3の表面に設けられ、リード導体85を介して第2の測
定電極82と導通している。
In the illustrated embodiment, a first measuring terminal 83 and
And a second measuring terminal 84. First measurement terminal 8
3 is provided on the surface of the dielectric layer 73, and the first measurement electrode 8
Conducted with 1. The second measurement terminal 84 is connected to the dielectric layer 7.
3 and is electrically connected to the second measurement electrode 82 via the lead conductor 85.

【0086】上述した回路要素集合基板によれば、第1
の測定端子83と第2の測定端子84とに、容量測定装
置9のプローブ91、92を当て、第1の測定電極81
と第2の測定電極82との間に生じるキャパシタンスを
測定し、その測定値に基づいて、キャパシタ電極(C1
1、C31、C41、C51)のトリミング量を決定す
る特性調整方法を採用することができる。
According to the above-described circuit element assembly board, the first
The probes 91 and 92 of the capacitance measuring device 9 are applied to the measurement terminal 83 and the second measurement terminal 84 of the first measurement electrode 81, respectively.
And the second measurement electrode 82 are measured for a capacitance generated therebetween, and based on the measured value, the capacitance of the capacitor electrode (C1) is measured.
1, C31, C41, C51) can be employed.

【0087】即ち、第1及び第2の測定電極81、82
は誘電体層73の表面及び裏面に設けられているから、
第1の測定電極81と第2の測定電極82との間に生じ
るキャパシタンスを測定することにより、予め解ってい
る第1及び第2の測定電極81、82の面積、誘電体層
73の誘電率から、誘電体層73の厚みを算出すること
ができる。
That is, the first and second measurement electrodes 81 and 82
Are provided on the front and back surfaces of the dielectric layer 73,
By measuring the capacitance generated between the first measurement electrode 81 and the second measurement electrode 82, the areas of the first and second measurement electrodes 81 and 82, which are known in advance, and the permittivity of the dielectric layer 73 are known. From this, the thickness of the dielectric layer 73 can be calculated.

【0088】そして、算出された誘電体層73の厚み
と、予め解っているキャパシタ電極(C11、C31、
C41、C51)の面積、誘電体層73の誘電率とか
ら、現在の電極面積(設計値)で得られる容量を算出
し、図19に示すように、容量値が設計容量値と等しく
なるように、誘電体層73の表面に設けられたキャパシ
タ電極(C11、C31、C41、C51)をトリミン
グする。
Then, the calculated thickness of the dielectric layer 73 and the capacitor electrodes (C11, C31,
The capacitance obtained at the current electrode area (design value) is calculated from the area of C41, C51) and the dielectric constant of the dielectric layer 73 so that the capacitance value becomes equal to the design capacitance value as shown in FIG. Next, the capacitor electrodes (C11, C31, C41, C51) provided on the surface of the dielectric layer 73 are trimmed.

【0089】図19はトリミング方法の具体的な一例を
示す図である。図を参照するに、CCDカメラ等の撮像
装置12を用いてキャパシタ電極(C11、C31、C
41、C51)を撮像し、コンピュータ13で処理し
て、モニタ画面14に映し出し、モニタ画面14で見た
面積比の変化量に応じた所定の面積となるように、コン
ピュータ13からの指令によって、トリミング手段10
を駆動することにより、容量値を所定値に合わせ込む。
FIG. 19 is a diagram showing a specific example of the trimming method. As shown in the figure, capacitor electrodes (C11, C31, C
41, C51) are imaged, processed by the computer 13, projected on the monitor screen 14, and instructed by the computer 13 so as to have a predetermined area corresponding to the change amount of the area ratio viewed on the monitor screen 14. Trimming means 10
Is driven to adjust the capacitance value to a predetermined value.

【0090】この特性調整方法によれば、回路要素集合
基板に含まれる個々の回路要素の特性を容易、かつ、高
精度に調整することができる。
According to this characteristic adjusting method, the characteristics of the individual circuit elements included in the circuit element assembly board can be easily and accurately adjusted.

【0091】図20は本発明に係る回路要素集合基板の
別の態様を示す斜視図、図21は図20に図示した回路
要素集合基板の平面図、図22は図21の22ー22線
に沿った部分断面図である。図示実施例は、キャパシタ
C1、C3、C4、C5が多層構造を採る場合の例を示
している。図において、先に示された図面に現れた構成
部分と同一の構成部分については、同一の参照符号を付
してある。
FIG. 20 is a perspective view showing another embodiment of the circuit element assembly board according to the present invention, FIG. 21 is a plan view of the circuit element assembly board shown in FIG. 20, and FIG. It is the fragmentary sectional view which met. The illustrated embodiment shows an example in which the capacitors C1, C3, C4, and C5 have a multilayer structure. In the drawings, the same components as those shown in the drawings previously described are denoted by the same reference numerals.

【0092】図示された回路要素集合基板は、誘電体層
72と、多数の接地電極GND1と、測定電極80とを
含んでいる。
The illustrated circuit element assembly substrate includes a dielectric layer 72, a number of ground electrodes GND1, and a measurement electrode 80.

【0093】誘電体層72は、図5において、上から2
番目の誘電体層であり、第3番目の誘電体層73の上に
設けられている。第3番目の誘電体層73は、図14〜
図19に図示した容量調整作業の終了したものである。
この第3番目の誘電体層73はコア層74の一面側に積
層されており、コア層74の他面側には、第4番目の誘
電体層75及び第5番目の誘電体層76が順次に積層さ
れている。その積層構造の詳細は、図5〜図13を参照
して説明した通りである。
In FIG. 5, the dielectric layer 72 is
The third dielectric layer is provided on the third dielectric layer 73. The third dielectric layer 73 is shown in FIGS.
The capacity adjustment work shown in FIG. 19 has been completed.
The third dielectric layer 73 is laminated on one surface of the core layer 74, and a fourth dielectric layer 75 and a fifth dielectric layer 76 are formed on the other surface of the core layer 74. They are sequentially stacked. The details of the laminated structure are as described with reference to FIGS.

【0094】誘電体層72は、表面層を構成しており、
接地電極GND1は誘電体層72の表面に形成されてい
る。誘電体層72の裏面には、トリミング処理(図14
〜図19参照)の済んだキャパシタ電極C11、C3
1、C41、C51が配列されている。
The dielectric layer 72 constitutes a surface layer,
The ground electrode GND1 is formed on the surface of the dielectric layer 72. A trimming process is performed on the back surface of the dielectric layer 72 (FIG. 14).
To FIG. 19), the finished capacitor electrodes C11 and C3
1, C41 and C51 are arranged.

【0095】接地電極GND1のそれぞれは、キャパシ
タ電極(C11、C31、C41、C51)と共通に対
向して1組の対向電極を構成し、各組が、電力増幅モジ
ュール1個毎の1つの回路要素を構成する。図示実施例
では、接地電極GND1とキャパシタ電極(C11、C
31、C41、C51)との組でなる回路要素Q11〜
Q58を行列状に配置した構成となっている。
Each of the ground electrodes GND1 is opposed to the capacitor electrodes (C11, C31, C41, C51) in common and constitutes a set of opposed electrodes. Each set includes one circuit for each power amplification module. Make up the element. In the illustrated embodiment, the ground electrode GND1 and the capacitor electrodes (C11, C
31, C41, and C51).
Q58 is arranged in a matrix.

【0096】測定電極80は、第3の測定電極801
と、図14〜図19において、誘電体層73の上に設け
られた第1の測定電極81によって構成された第4の測
定電極とを含んでいる。以下、測定電極80の第4の測
定電極には参照符号81を付する。測定電極80は、回
路要素Q11〜Q58を配置した領域Qの外側のスペー
スに、領域Qを取り囲むように、適当な間隔を隔てて複
数配置されている。
The measuring electrode 80 is a third measuring electrode 801.
14 to 19, a fourth measurement electrode constituted by a first measurement electrode 81 provided on the dielectric layer 73 is included. Hereinafter, the reference numeral 81 is assigned to the fourth measurement electrode of the measurement electrode 80. A plurality of measurement electrodes 80 are arranged at appropriate intervals in a space outside the area Q where the circuit elements Q11 to Q58 are arranged so as to surround the area Q.

【0097】図23は測定電極80の1つを拡大して示
す平面図、図24は図23の24ー24線に沿った部分
断面図である。図23、図24には測定方法をも併せて
示してある。
FIG. 23 is an enlarged plan view showing one of the measuring electrodes 80, and FIG. 24 is a partial sectional view taken along line 24-24 in FIG. 23 and 24 also show the measurement method.

【0098】第3の測定電極801は、誘電体層72の
表面に設けられている。第4の測定電極81は、誘電体
層73と誘電体層72との隣接面に設けられ、第3の測
定電極801と対向し、誘電体層72を貫通するリード
導体805により、誘電体層72の表面に導出されてい
る。
[0098] The third measurement electrode 801 is provided on the surface of the dielectric layer 72. The fourth measurement electrode 81 is provided on the adjacent surface between the dielectric layer 73 and the dielectric layer 72, and is opposed to the third measurement electrode 801 by the lead conductor 805 penetrating through the dielectric layer 72. 72 surface.

【0099】図示実施例では、第3の測定端子803
と、第4の測定端子804とを含んでいる。第3の測定
端子803は誘電体層72の表面に設けられ、第3の測
定電極801と導通している。第4の測定端子804
は、誘電体層72の表面に設けられ、リード導体805
を介して第4の測定電極81と導通している。
In the illustrated embodiment, the third measuring terminal 803
And a fourth measurement terminal 804. The third measurement terminal 803 is provided on the surface of the dielectric layer 72 and is electrically connected to the third measurement electrode 801. Fourth measurement terminal 804
Are provided on the surface of the dielectric layer 72, and the lead conductors 805
Through the fourth measurement electrode 81.

【0100】上述した回路要素集合基板によれば、第3
の測定端子803と第4の測定端子804とに、容量測
定装置9のプローブ91、92を当て、第3の測定電極
801と第4の測定電極81との間に生じるキャパシタ
ンスを測定し、その測定値に基づいて、接地電極GND
1のトリミング量を決定する特性調整方法を採用するこ
とができる。
According to the circuit element assembly board described above, the third
The probes 91 and 92 of the capacitance measuring device 9 are applied to the measurement terminal 803 and the fourth measurement terminal 804, and the capacitance generated between the third measurement electrode 801 and the fourth measurement electrode 81 is measured. Based on the measured value, the ground electrode GND
A characteristic adjustment method for determining the amount of trimming can be adopted.

【0101】即ち、第3及び第4の測定電極801、8
1は誘電体層72の表面及び裏面に設けられているか
ら、第3の測定電極801と第4の測定電極81との間
に生じるキャパシタンスを測定することにより、予め解
っている第3及び第4の測定電極801、81の面積、
誘電体層72の誘電率から、誘電体層72の厚みを算出
することができる。
That is, the third and fourth measurement electrodes 801 and 8
Since 1 is provided on the front surface and the back surface of the dielectric layer 72, by measuring the capacitance generated between the third measurement electrode 801 and the fourth measurement electrode 81, the third and fourth values that are known in advance are measured. 4, the area of the measurement electrodes 801 and 81,
From the dielectric constant of the dielectric layer 72, the thickness of the dielectric layer 72 can be calculated.

【0102】そして、算出された誘電体層72の厚み
と、図19のプロセスで調整されたキャパシタ電極C1
1、C31、C41、C51と、接地電極GND1との
対向面積、誘電体層72の誘電率とから、現在の電極面
積(設計値)で得られる容量を算出し、容量値が設計容
量値と等しくなるように、誘電体層72の表面に設けら
れた接地電極GND1を、レーザ等のトリミング手段に
よってトリミングする。
Then, the calculated thickness of the dielectric layer 72 and the capacitor electrode C1 adjusted by the process of FIG.
The capacitance obtained at the current electrode area (design value) is calculated from the area of the ground electrode GND1 and C1, C31, C41, and C51, and the dielectric constant of the dielectric layer 72. The ground electrode GND1 provided on the surface of the dielectric layer 72 is trimmed by a trimming means such as a laser so as to be equal.

【0103】トリミングの具体的調整手段としては、図
19に示した構成が採用できる。図19に戻って説明す
ると、CCDカメラ等の撮像装置12を用いて接地電極
GND1を撮像し、コンピュータ13で処理して、モニ
タ画面14に映し出し、モニタ画面14で見た面積比の
変化量に応じた所定の面積となるように、コンピュータ
13からの指令によって、トリミング手段10を駆動す
ることにより、容量値を所定値に合わせ込む。
As a specific trimming means, the configuration shown in FIG. 19 can be employed. Returning to FIG. 19, the ground electrode GND1 is imaged using the imaging device 12 such as a CCD camera, processed by the computer 13, projected on the monitor screen 14, and the amount of change in the area ratio viewed on the monitor screen 14 is calculated. The capacitance value is adjusted to a predetermined value by driving the trimming means 10 according to a command from the computer 13 so as to have a predetermined predetermined area.

【0104】この特性調整方法によれば、回路要素集合
基板に含まれる個々の回路要素の特性を容易、かつ、高
精度に調整することができる。
According to this characteristic adjusting method, the characteristics of the individual circuit elements included in the circuit element assembly board can be easily and accurately adjusted.

【0105】調整が終了した後、誘電体層72の上に誘
電体層71を積層し、第5の誘電体層76の上に、第6
の誘電体層77を積層する。これにより、図25に図示
した回路要素集合基板の完成品が得られる。
After the adjustment is completed, the dielectric layer 71 is laminated on the dielectric layer 72, and the sixth dielectric layer is placed on the fifth dielectric layer 76.
Are laminated. As a result, a completed product of the circuit element assembly board shown in FIG. 25 is obtained.

【0106】次に、図25に図示した回路要素集合基板
の最上層を構成する誘電体層71の表面に必要な電子部
品を搭載し、または、導体パターンを形成した後、回路
要素集合基板を、回路要素Q11〜Q58の境界で切断
する分割工程に付することにより、個々の電力増幅モジ
ュールを得ることができる。
Next, after necessary electronic components are mounted on the surface of the dielectric layer 71 constituting the uppermost layer of the circuit element assembly board shown in FIG. 25 or a conductor pattern is formed, the circuit element assembly board is removed. By performing the dividing step at the boundary between the circuit elements Q11 to Q58, individual power amplification modules can be obtained.

【0107】[0107]

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、次
のような効果を得ることができる。 (a)小型の電力増幅モジュールを提供することができ
る。 (b)電力増幅モジュールの製造に適した回路要素集合
基板を提供することができる。 (c)回路要素集合基板に含まれる個々の回路要路の特
性調整に適した性調整方法を提供することができる。
As described above, according to the present invention, the following effects can be obtained. (A) A small power amplification module can be provided. (B) A circuit element assembly board suitable for manufacturing a power amplification module can be provided. (C) It is possible to provide a property adjusting method suitable for adjusting the characteristics of the individual circuit paths included in the circuit element assembly board.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る電力増幅モジュールが用いられる
デジタル移動体通信機器(W−CDMA対応)おける高
周波回路部の構成を示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a high-frequency circuit unit in a digital mobile communication device (W-CDMA compatible) using a power amplification module according to the present invention.

【図2】本発明に係る電力増幅モジュールが用いられる
電力増幅部回路部PWAの詳細を示すブロック図であ
る。
FIG. 2 is a block diagram showing details of a power amplification circuit section PWA in which the power amplification module according to the present invention is used.

【図3】本発明に係る電力増幅モジュールの具体的な回
路構成を示す回路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a specific circuit configuration of the power amplification module according to the present invention.

【図4】図2、3に示した電力増幅モジュールの構成を
示す部分断面図である。
FIG. 4 is a partial cross-sectional view showing a configuration of the power amplification module shown in FIGS.

【図5】図4に示した電力増幅モジュールに用いられる
多層基板の断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view of a multilayer substrate used in the power amplification module shown in FIG.

【図6】図4に示した電力増幅モジュールにおいて、上
から1番目(最上層)の誘電体層を表面からみた平面図
である。
FIG. 6 is a plan view of a first (uppermost) dielectric layer from the top in the power amplification module shown in FIG. 4;

【図7】図4に示した電力増幅モジュールにおいて、2
番目の誘電体層の表面を示す平面図である。
FIG. 7 is a circuit diagram of the power amplification module shown in FIG.
FIG. 9 is a plan view showing a surface of a third dielectric layer.

【図8】図4に示した電力増幅モジュールにおいて、3
番目の誘電体層の表面を示す平面図である。
FIG. 8 shows the power amplification module shown in FIG.
FIG. 9 is a plan view showing a surface of a third dielectric layer.

【図9】図4に示した電力増幅モジュールにおいて、4
番目のコア層の表面を示す平面図である。
FIG. 9 shows the power amplification module shown in FIG.
FIG. 9 is a plan view showing the surface of a third core layer.

【図10】図4に示した電力増幅モジュールにおいて、
5番目の誘電体層の表面を示す平面図である。
FIG. 10 shows a power amplification module shown in FIG.
It is a top view showing the surface of the 5th dielectric layer.

【図11】図4に示した電力増幅モジュールにおいて、
6番目の誘電体層の表面を示す平面図である。
FIG. 11 shows the power amplification module shown in FIG.
It is a top view showing the surface of the 6th dielectric layer.

【図12】図4に示した電力増幅モジュールにおいて、
7番目の誘電体層の表面を示す平面図である。
FIG. 12 is a diagram illustrating the power amplifying module shown in FIG.
It is a top view showing the surface of the 7th dielectric layer.

【図13】図4に示した電力増幅モジュールにおいて、
7番目の誘電体層の裏面を示す平面図である。
FIG. 13 shows the power amplification module shown in FIG.
It is a top view showing the back of the 7th dielectric layer.

【図14】電力増幅モジュールの製造に適した回路要素
集合基板の斜視図である。
FIG. 14 is a perspective view of a circuit element assembly board suitable for manufacturing a power amplification module.

【図15】図14に図示した回路要素集合基板の平面図
である。
15 is a plan view of the circuit element assembly board shown in FIG.

【図16】図15の16ー16線に沿った部分断面図で
ある。
FIG. 16 is a partial sectional view taken along the line 16-16 in FIG. 15;

【図17】図14〜図16に示した回路要素集合基板に
含まれる測定電極の1つを拡大して示す平面図である。
FIG. 17 is an enlarged plan view showing one of measurement electrodes included in the circuit element assembly substrate shown in FIGS. 14 to 16;

【図18】図17の18ー18線に沿った部分断面図で
ある。
FIG. 18 is a partial sectional view taken along line 18-18 in FIG. 17;

【図19】本発明に係る特性調整方法の具体的な一例を
示す図である。
FIG. 19 is a diagram showing a specific example of a characteristic adjustment method according to the present invention.

【図20】本発明に係る回路要素集合基板の別の態様を
示す斜視図である。
FIG. 20 is a perspective view showing another embodiment of the circuit element assembly board according to the present invention.

【図21】図20に図示した回路要素集合基板の平面図
である。
21 is a plan view of the circuit element assembly board shown in FIG.

【図22】図21の22ー22線に沿った部分断面図で
ある。
FIG. 22 is a partial sectional view taken along the line 22-22 in FIG. 21;

【図23】測定電極の1つを拡大して示す平面図であ
る。
FIG. 23 is an enlarged plan view showing one of the measurement electrodes.

【図24】図23の24ー24線に沿った部分断面図で
ある。
FIG. 24 is a partial sectional view taken along the line 24-24 in FIG. 23;

【図25】図14〜図24に図示した特性調整方法によ
って得られた回路要素集合体の斜視図である。
FIG. 25 is a perspective view of a circuit element assembly obtained by the characteristic adjustment method shown in FIGS. 14 to 24;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2 電力増幅モジュール 71〜73 誘電体層 74 コア層 75〜77 誘電体層 2 Power amplification module 71-73 Dielectric layer 74 Core layer 75-77 Dielectric layer

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Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 MMICと、インピーダンス整合回路
と、多層基板とを含む電力増幅モジュールであって、 前記MMICは、増幅回路を構成しており、 前記インピーダンス整合回路は、キャパシタを含み、前
記MMICの入力側または出力側の少なくとも一方に接
続されており、 前記多層基板は、誘電体層を含み、前記MMIC及び前
記インピーダンス整合回路を支持しており、 前記インピーダンス整合回路に含まれる前記キャパシタ
のうち、少なくとも一つは、前記誘電体層の両面に配置
された対のキャパシタ電極によって構成される電力増幅
モジュール。
1. A power amplification module including an MMIC, an impedance matching circuit, and a multilayer substrate, wherein the MMIC constitutes an amplification circuit, the impedance matching circuit includes a capacitor, and includes a capacitor. Connected to at least one of an input side or an output side, wherein the multilayer substrate includes a dielectric layer, supports the MMIC and the impedance matching circuit, and includes a capacitor included in the impedance matching circuit. At least one is a power amplification module configured by a pair of capacitor electrodes arranged on both surfaces of the dielectric layer.
【請求項2】 請求項1に記載された電力増幅モジュー
ルであって、前記対の電極の一方は、接地電極である電
力増幅モジュール。
2. The power amplification module according to claim 1, wherein one of said pair of electrodes is a ground electrode.
【請求項3】 請求項2に記載された電力増幅モジュー
ルであって、前記対のキャパシタ電極の一方または他方
の少なくとも一つは、トリミングされている電力増幅モ
ジュール。
3. The power amplification module according to claim 2, wherein at least one of one or the other of the pair of capacitor electrodes is trimmed.
【請求項4】 請求項1乃至3の何れかに記載された電
力増幅モジュールであって、 前記多層基板は、少なくとも1つのコア層と、複数の誘
電体層とを含んでおり、 前記コア層は、ガラス繊維を含有する有機質層であり、 前記誘電体層は、有機樹脂材料と誘電体粉末とを混合し
た混合材料からなり、前記電力増幅部に含まれる回路要
素の一部を構成しており、 前記誘電体層は、前記コア層の両面に隣接している電力
増幅モジュール。
4. The power amplifying module according to claim 1, wherein the multilayer substrate includes at least one core layer and a plurality of dielectric layers. Is an organic layer containing glass fiber, the dielectric layer is made of a mixed material obtained by mixing an organic resin material and a dielectric powder, and constitutes a part of a circuit element included in the power amplification unit. The power amplification module, wherein the dielectric layer is adjacent to both surfaces of the core layer.
【請求項5】 電力増幅モジュールの製造に用いられる
回路要素集合基板であって、誘電体層と、多数のキャパ
シタ電極と、測定電極とを含んでおり、 前記キャパシタ電極は、前記誘電体層の両面の相対向す
る位置に設けられ、前記両面に間隔を隔てて配列されて
おり、 前記測定電極は、第1の測定電極と、第2の測定電極と
を含んでおり、 前記第1の測定電極は、前記誘電体層の一面に設けられ
ており、 前記第2の測定電極は、前記誘電体層の他面に設けら
れ、前記第1の測定電極と対向し、前記誘電体層を貫通
するリード導体により、前記誘電体層の前記一面に導出
されている回路要素集合体。
5. A circuit element assembly substrate used for manufacturing a power amplification module, comprising: a dielectric layer, a number of capacitor electrodes, and a measurement electrode, wherein the capacitor electrode is formed of the dielectric layer. The measurement electrodes are provided at opposing positions on both surfaces and are arranged at an interval on the both surfaces, wherein the measurement electrodes include a first measurement electrode and a second measurement electrode, and the first measurement An electrode is provided on one surface of the dielectric layer, and the second measurement electrode is provided on the other surface of the dielectric layer, faces the first measurement electrode, and penetrates the dielectric layer. A circuit element assembly led to the one surface of the dielectric layer by a lead conductor to be formed.
【請求項6】 請求項5に記載された回路要素集合基板
であって、 更に、第1の測定端子と、第2の測定端子とを含んでお
り、 前記第1の測定端子は、前記誘電体層の前記一面に設け
られ、前記第1の測定電極と導通しており、 前記第2の測定端子は、前記誘電体層の前記一面に設け
られ、前記リード導体を介して、前記第2の測定電極と
導通している回路要素集合体。
6. The circuit element assembly board according to claim 5, further comprising a first measurement terminal and a second measurement terminal, wherein the first measurement terminal is a dielectric material. The second measurement terminal is provided on the one surface of the body layer and is electrically connected to the first measurement electrode. The second measurement terminal is provided on the one surface of the dielectric layer and the second measurement terminal is provided through the lead conductor. Circuit element assembly that is in conduction with the measurement electrode of FIG.
【請求項7】 回路要素集合基板上で、回路要素のそれ
ぞれの特性を調整する方法であって、 前記回路要素集合基板は、請求項5乃至6の何れかに記
載されたものでなり、 前記第1の測定電極と前記第2の測定電極との間に生じ
るキャパシタンスを測定し、 その測定値に基づいて、前記キャパシタ電極のトリミン
グ量を決定する特性調整方法。
7. A method for adjusting characteristics of each of circuit elements on a circuit element assembly board, wherein the circuit element assembly board is any one of claims 5 and 6, A characteristic adjusting method for measuring a capacitance generated between a first measurement electrode and the second measurement electrode, and determining a trimming amount of the capacitor electrode based on the measured value.
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