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JP2002373475A - Magnetic head positioning mechanism and manufacturing method therefor - Google Patents

Magnetic head positioning mechanism and manufacturing method therefor

Info

Publication number
JP2002373475A
JP2002373475A JP2001179971A JP2001179971A JP2002373475A JP 2002373475 A JP2002373475 A JP 2002373475A JP 2001179971 A JP2001179971 A JP 2001179971A JP 2001179971 A JP2001179971 A JP 2001179971A JP 2002373475 A JP2002373475 A JP 2002373475A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnetic head
bonding pad
electrode
positioning mechanism
head positioning
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001179971A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masayoshi Nakagawa
正義 中川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Alps Alpine Co Ltd
Original Assignee
Alps Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Alps Electric Co Ltd filed Critical Alps Electric Co Ltd
Priority to JP2001179971A priority Critical patent/JP2002373475A/en
Publication of JP2002373475A publication Critical patent/JP2002373475A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
  • Supporting Of Heads In Record-Carrier Devices (AREA)
  • Moving Of The Head To Find And Align With The Track (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a magnetic head positioning mechanism, where a film thickness necessary for the bonding of a piezoelectric element is secured, to facilitate joining of a wiring from a drive source to a bonding pad. SOLUTION: In the magnetic head positioning mechanism provided with an offset correction mechanism in the suspension of a magnetic head, the electrode 6 of a piezoelectric element 3 provided in the offset correction mechanism is formed by a conductive film, and a bonding pad 10 is disposed on this conductive film.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【技術分野】本発明は、磁気ヘッド位置決め機構及びそ
の製造方法に関するものである。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a magnetic head positioning mechanism and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来技術及びその問題点】磁気ヘッドは、記録デイス
クの半径方向に、ロータリアクチュエータ、またはリニ
アアクチュエータとにより往復揺動されるヘッドアーム
に支持され、記録デイスクのトラックに対してデータの
記録・再生を行なうために用いられる。
2. Description of the Related Art A magnetic head is supported by a head arm which is reciprocally oscillated by a rotary actuator or a linear actuator in a radial direction of a recording disk, and records / reproduces data to / from a track of the recording disk. Used to perform

【0003】磁気ヘッド位置決め機構は、ロータリアク
チュエータ、またはリニアアクチュエータとにより磁気
ヘッドを記録デイスクのトラックに対して位置決めを行
なっている。
A magnetic head positioning mechanism positions a magnetic head with respect to a track on a recording disk by using a rotary actuator or a linear actuator.

【0004】最近、記録デイスクの高トラック密度化に
対処するために、磁気ヘッドが記録デイスクの半径方向
にずれるオフトラックを補正する機構を磁気ヘッド位置
決め機構に備え付ける構成が開発されつつある。
Recently, in order to cope with the increase in track density of a recording disk, a configuration has been developed in which a mechanism for correcting off-track in which the magnetic head is shifted in the radial direction of the recording disk is provided in a magnetic head positioning mechanism.

【0005】前記オフトラック機構は図4に示すよう
に、磁気ヘッドのスライダー1が搭載されたサスペンシ
ョン2に対をなす圧電素子3、3が搭載されている。4
は、ロータリアクチュエータ、またはリニアアクチュエ
ータにより往復揺動されるヘッドアームに固定された電
気的接続のための結線部である。
In the off-track mechanism, as shown in FIG. 4, a pair of piezoelectric elements 3 are mounted on a suspension 2 on which a slider 1 of a magnetic head is mounted. 4
Is a connection portion for electrical connection fixed to a head arm reciprocated by a rotary actuator or a linear actuator.

【0006】前記圧電素子3、3の分極方向は各々板厚
方向に揃えられ、かつ相反する向きに設定されている。
[0006] The polarization directions of the piezoelectric elements 3, 3 are aligned in the plate thickness direction and are set in opposite directions.

【0007】前記圧電素子3は図3に示すように、圧電
材料5と圧電材料5の膜厚方向に対面する端面に電極
6、6が形成され、対をなす電極6、6間に駆動源7か
ら駆動電圧を印加することにより、長さ方向に歪が生じ
る構造に構成されている。
As shown in FIG. 3, the piezoelectric element 3 has a piezoelectric material 5 and electrodes 6, 6 formed on an end face of the piezoelectric material 5 facing the film thickness direction, and a driving source is provided between the paired electrodes 6, 6. By applying a drive voltage from 7, a structure is generated in which distortion occurs in the length direction.

【0008】そして対をなす圧電素子3が搭載されるサ
スペンション2にはスリット2aが設けられ、対をなす
圧電素子3の一方を伸張させ、かつ他方を短縮させるこ
とにより、サスペンション2の先端を記録デイスクの半
径方向に微調整することにより、オフセット補正を行な
っている。
A slit 2a is provided in the suspension 2 on which the paired piezoelectric element 3 is mounted, and one end of the paired piezoelectric element 3 is extended and the other is shortened, so that the tip of the suspension 2 is recorded. Offset correction is performed by fine adjustment in the radial direction of the disk.

【0009】前記磁気ヘッド位置決め機構において、圧
電素子3の一方の電極6に駆動源7からの配線7aがボ
ンデイングパッド8を介して接合される。なお、他方の
電極6がサスペンション2に直に導電性接着材9で接続
されるのが一般的であり、特にボンデイングパッドを用
いる必要がない。
In the magnetic head positioning mechanism, a wiring 7 a from a driving source 7 is joined to one electrode 6 of the piezoelectric element 3 via a bonding pad 8. In addition, the other electrode 6 is generally connected directly to the suspension 2 with the conductive adhesive 9, and it is not necessary to use a bonding pad.

【0010】図3において、圧電素子3の電極6及びボ
ンデイングパッド8に金材を用いる理由は次の通りであ
る。すなわち、金材の表面は自然酸化し難いため、この
金材を圧電材料5の端面に付着すると、圧電材料5の端
面が被覆されて錆止めがされる、さらに金材の電気抵抗
が極めて小さく、電極6の全面での電圧が均一になる、
また超音波を使って金ボールをボンデイングするときに
金ボールがボンデイングされる膜は金が最もよい等の理
由からである。
In FIG. 3, the reason why the gold material is used for the electrode 6 and the bonding pad 8 of the piezoelectric element 3 is as follows. That is, since the surface of the gold material is unlikely to be naturally oxidized, if the gold material is adhered to the end surface of the piezoelectric material 5, the end surface of the piezoelectric material 5 is covered and rust-proofed. The voltage on the entire surface of the electrode 6 becomes uniform,
Also, when bonding a gold ball using ultrasonic waves, gold is the best film to be bonded with the gold ball.

【0011】ここで、金材をスパッタ法により直接圧電
材料5の端面に強固に成膜することは、金の膜と圧電材
料5との密着が悪く、できないものであるため、圧電材
料5に金の電極6を形成するには、圧電材料5の端面に
Ni・Cr等の下地層を形成し、その下地層上に金の電
極6を形成する。
Here, it is impossible to firmly form a gold material directly on the end face of the piezoelectric material 5 by a sputtering method because the adhesion between the gold film and the piezoelectric material 5 is poor and cannot be achieved. In order to form the gold electrode 6, a base layer of Ni or Cr is formed on the end surface of the piezoelectric material 5, and the gold electrode 6 is formed on the base layer.

【0012】したがって、Ni・Cr下地層とスパッタ
による金薄膜とにより、電極6として必要な膜厚が得ら
れている。
Therefore, a film thickness necessary for the electrode 6 is obtained by the Ni.Cr underlayer and the gold thin film formed by sputtering.

【0013】一方、超音波を使って金ボンデイングする
場合には、金ボンデイングパッド8の膜厚がある程度厚
い必要がある。この膜厚が薄いと、金ボールが強固にボ
ンデイングされない。ボンデイングパッド8の膜厚を厚
くするには、生産性の観点からスパッタレートを高くす
る必要がある。しかしながら、スパッタレートを高くす
ると、温度が高くなり、圧電素子3を劣化させることと
なる。この圧電素子3は図6(a)に示すように一枚の
基板12に複数個を作成した後、円盤状の砥石13で図
6(b)に示す短冊状の形状に切削加工されるものであ
る。この場合、金のような延性の高い材料は砥石13等
で切削し難く、これを厚くすると、図6(b)に示すよ
うに切削加工された圧電素子3の端部切削面にバリ3a
が発生する可能性がある。この発生したバリ3aは容易
に脱落するため、その脱落したバリ3aが磁気デイスク
の表面を傷つける原因となる。
On the other hand, when gold bonding is performed using ultrasonic waves, the gold bonding pad 8 needs to have a certain thickness. If the film thickness is small, the gold ball is not firmly bonded. In order to increase the film thickness of the bonding pad 8, it is necessary to increase the sputter rate from the viewpoint of productivity. However, when the sputter rate is increased, the temperature increases, and the piezoelectric element 3 is deteriorated. As shown in FIG. 6A, a plurality of piezoelectric elements 3 are formed on a single substrate 12 and then cut into a strip shape shown in FIG. It is. In this case, a highly ductile material such as gold is hard to be cut by the grindstone 13 or the like. When the material is thickened, the burrs 3a are formed on the cut end face of the piezoelectric element 3 as shown in FIG.
May occur. Since the generated burr 3a falls off easily, the burr 3a that has fallen causes damage to the surface of the magnetic disk.

【0014】以上のことから、圧電素子の信頼性、コス
トの点からボンデイングパッド8の膜厚を厚くすること
には限度があり、ボンデイングパッド8に対する駆動源
7からの配線7aの接合がやりづらいという問題があ
る。
From the above, there is a limit to increasing the thickness of the bonding pad 8 in terms of the reliability and cost of the piezoelectric element, and it is difficult to join the wiring 7a from the driving source 7 to the bonding pad 8. There is a problem.

【0015】[0015]

【発明の目的】本発明の目的は、圧電素子のボンデイン
グパッドに必要な膜厚を確保することにより、ボンデイ
ングパッドに対する駆動源からの配線の接合を容易にし
た磁気ヘッド位置決め機構及びその製造方法を得ること
にある。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a magnetic head positioning mechanism and a method for manufacturing the same, which facilitate the joining of wiring from a driving source to the bonding pad by securing a necessary film thickness for the bonding pad of the piezoelectric element. To get.

【0016】[0016]

【発明の概要】前記目的を達成するため、本発明に係る
磁気ヘッド位置決め機構は、磁気ヘッドのサスペンショ
ンにオフセット補正機構を備えた磁気ヘッド位置決め機
構において、前記オフセット補正機構が圧電素子を備え
ており、前記圧電素子の電極が導電膜で形成され、前記
導電膜上に導電メッキによるボンデイングパッドが設け
られていることを特徴とする。
SUMMARY OF THE INVENTION To achieve the above object, a magnetic head positioning mechanism according to the present invention is a magnetic head positioning mechanism having a magnetic head suspension provided with an offset correction mechanism, wherein the offset correction mechanism has a piezoelectric element. The electrode of the piezoelectric element is formed of a conductive film, and a bonding pad formed by conductive plating is provided on the conductive film.

【0017】また前記ボンデイングパッドが、前記電極
の表面のうち、圧電素子がサスペンションに取り付けら
れた箇所側に寄せて形成されていることが望ましい。ま
た前記ボンデイングパッドが、前記電極の端縁から内側
に離間して形成されていることが望ましい。
It is preferable that the bonding pad is formed so as to be closer to a portion of the surface of the electrode where the piezoelectric element is attached to the suspension. Further, it is preferable that the bonding pad is formed to be spaced inward from an edge of the electrode.

【0018】また前記ボンデイングパッドを、金メッキ
或いは導電性樹脂で形成してもよい。また前記電極の導
電膜が透明な導電膜、特にITO膜であることが望まし
い。
Further, the bonding pad may be formed of gold plating or conductive resin. Preferably, the conductive film of the electrode is a transparent conductive film, particularly, an ITO film.

【0019】また本発明に係る磁気ヘッド位置決め機構
の製造方法は、磁気ヘッドのサスペンションにオフセッ
ト補正機構を備えた磁気ヘッド位置決め機構の製造方法
において、前記オフセット補正機構に備えた圧電素子の
電極を導電膜で形成する工程と、前記導電膜上にボンデ
イングパッドを形成する工程とを含むことを特徴とす
る。
According to a method of manufacturing a magnetic head positioning mechanism according to the present invention, there is provided a method of manufacturing a magnetic head positioning mechanism having an offset correcting mechanism in a suspension of a magnetic head, wherein electrodes of the piezoelectric element provided in the offset correcting mechanism are electrically conductive. The method includes a step of forming a film and a step of forming a bonding pad on the conductive film.

【0020】また前記ボンデイングパッドを、前記電極
の表面のうち、圧電素子がサスペンションに取り付けら
れた箇所側に寄せて形成することが望ましい。また前記
ボンデイングパッドを、前記電極の端縁から内側に離間
して形成することが望ましい。また前記ボンデイングパ
ッドを金メッキ膜で形成することが望ましい。
It is preferable that the bonding pad is formed so as to be closer to a portion of the surface of the electrode where the piezoelectric element is attached to the suspension. It is preferable that the bonding pad is formed to be spaced inward from an edge of the electrode. Preferably, the bonding pad is formed of a gold plating film.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図示
例と共に説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0022】図1(a)は、本発明の実施の形態に係る
磁気ヘッド位置決め機構のオフセット補正機構の主要部
を示す断面図、図1(b)は同平面図である。
FIG. 1A is a sectional view showing a main part of an offset correction mechanism of a magnetic head positioning mechanism according to an embodiment of the present invention, and FIG. 1B is a plan view of the same.

【0023】磁気ヘッド位置決め機構のオフセット補正
機構は図4に示すように、2つの圧電素子3、3を組で
用いているものであり、図1(a)は、サスペンション上
に搭載された一方の圧電素子を断面して図示している
が、組をなす他方の圧電素子の構造も図1(a)と同様で
ある。
As shown in FIG. 4, the offset correction mechanism of the magnetic head positioning mechanism uses two piezoelectric elements 3, 3 as a set. FIG. 1A shows one of the elements mounted on a suspension. 1 is shown in cross section, the structure of the other piezoelectric element forming the set is also the same as that of FIG.

【0024】磁気ヘッドのサスペンション2には、記録
デイスクのデータが書き込まれたトラック(円弧)方向
に沿ってスリット2aが設けられており、スリット2a
の長さ方向の両端に、圧電材料5の電極(下面側電極)
6の長さ方向の両端部がスリット2aを跨いでサスペン
ション2に導電性樹脂9で保持、固定されている。ま
た、この圧電材料5の下面側電極6が、サスペンション
2に形成された導電パターン或いはステンレス製のサス
ペンションそれ自体に導電性樹脂9を介して電気的に接
続される。
The suspension 2 of the magnetic head is provided with a slit 2a along the track (arc) direction in which the data of the recording disk is written.
Electrodes of piezoelectric material 5 (lower electrode) at both ends in the length direction
Both ends in the length direction 6 are held and fixed to the suspension 2 by a conductive resin 9 across the slits 2a. The lower electrode 6 of the piezoelectric material 5 is electrically connected to a conductive pattern formed on the suspension 2 or a stainless steel suspension itself via a conductive resin 9.

【0025】圧電素子3は、駆動源(図3参照)から対
をなす電極6、6間に駆動電圧が印加され、それに伴っ
て対をなす電極6、6間に電界が発生し、その電界に基
いて圧電材料5に歪が発生して圧電材料5が長さ方向に
変化する構造であり、対をなす圧電素子3、3の相互作
用でサスペンション2を記録デイスクの半径方向に揺動
させる働きをする。
In the piezoelectric element 3, a driving voltage is applied between a pair of electrodes 6 from a driving source (see FIG. 3), and accordingly, an electric field is generated between the pair of electrodes 6, 6, and the electric field is generated. This causes the piezoelectric material 5 to be distorted in the longitudinal direction due to distortion, and the suspension 2 is swung in the radial direction of the recording disk by the interaction of the paired piezoelectric elements 3. Work.

【0026】この実施形態の圧電素子3は、圧電材料5
の板厚方向に対向して配置した対をなす電極6、6の少
なくとも一方の電極7bを透明な導電膜で形成してい
る。図1(a)に示す圧電素子3は、圧電材料5の上面に
位置する電極6を透明な導電膜で形成しているが、圧電
材料5の下面に位置する電極6を透明な導電膜で形成す
るようにしてもよい。
The piezoelectric element 3 of this embodiment comprises a piezoelectric material 5
At least one electrode 7b of a pair of electrodes 6, 6 arranged opposite to each other in the plate thickness direction is formed of a transparent conductive film. In the piezoelectric element 3 shown in FIG. 1A, the electrode 6 located on the upper surface of the piezoelectric material 5 is formed of a transparent conductive film, but the electrode 6 located on the lower surface of the piezoelectric material 5 is formed of a transparent conductive film. It may be formed.

【0027】図1に示す実施形態では、圧電材料5の少
なくとも一方の電極(上面側の電極)6を薄膜の導電膜
で形成している。ここで、前記導電膜として透明な導電
膜であるITO膜を用いる場合には、圧電材料5の上面
に前記ITO膜をスパッタ法により成膜し、この成膜し
たITO膜を電極6の形状にパーニングすることにより
電極6を形成する。前記ITO膜は、圧電材料5の上面
にNi・Crの下地層を形成することなく、圧電材料5
の上面に直に成膜される。前記導電膜として金膜を用い
るには、圧電材料5の端面にNi・Crの下層をスパッ
タ法にて形成し、その下地層の上に金膜をスパッタ法に
より成膜する。
In the embodiment shown in FIG. 1, at least one electrode (upper electrode) 6 of the piezoelectric material 5 is formed of a thin conductive film. Here, when an ITO film that is a transparent conductive film is used as the conductive film, the ITO film is formed on the upper surface of the piezoelectric material 5 by a sputtering method, and the formed ITO film is formed into a shape of the electrode 6. The electrode 6 is formed by performing the panning. The ITO film is formed on the piezoelectric material 5 without forming a Ni / Cr underlayer on the upper surface of the piezoelectric material 5.
Is formed directly on the upper surface of the substrate. In order to use a gold film as the conductive film, a lower layer of Ni / Cr is formed on the end face of the piezoelectric material 5 by a sputtering method, and a gold film is formed on the underlying layer by a sputtering method.

【0028】さらに、この実施形態では、圧電素子3の
電極6を形成する導電膜上に導電メッキによるボンデイ
ングパッド10を設けている。
Further, in this embodiment, a bonding pad 10 made of conductive plating is provided on the conductive film forming the electrode 6 of the piezoelectric element 3.

【0029】またボンデイングパッド10をスパッタ法
で形成する場合にボンデイングパッド10の膜厚を充分
に得るためには、スパッタレートを高くする必要がある
が、スパッタレートを上げると、温度が高くなりすぎて
圧電材料5を劣化させてしまう。また、スパッタされた
金膜は硬く、金ボールがボンデイングされ難い。しか
し、この実施形態のようにボンデイングパッド10を電
解メッキ法を用いて形成することにより、ボンデイング
パッド10としての充分な膜厚を確保することができる
とともに、スパッタ法のように熱による影響を圧電材料
5に与えることがなく、ボンデイング後の接合状態も強
固、かつ良好であり、圧電素子3の信頼性を向上させる
ことができる。
When the bonding pad 10 is formed by the sputtering method, it is necessary to increase the sputtering rate in order to obtain a sufficient film thickness of the bonding pad 10, but if the sputtering rate is increased, the temperature becomes too high. As a result, the piezoelectric material 5 is deteriorated. Further, the sputtered gold film is hard, and the gold ball is not easily bonded. However, by forming the bonding pad 10 by the electrolytic plating method as in this embodiment, it is possible to secure a sufficient film thickness as the bonding pad 10 and to reduce the influence of heat as in the sputtering method. It is not given to the material 5, the bonding state after bonding is strong and good, and the reliability of the piezoelectric element 3 can be improved.

【0030】したがって、ボンデイングパッド10とし
て充分な膜厚を確保することができるため、駆動源から
の配線(図3参照)をボンデイングパッド10に確実か
つ容易に接続することができる。
Therefore, a sufficient film thickness can be ensured as the bonding pad 10, so that the wiring (see FIG. 3) from the driving source can be reliably and easily connected to the bonding pad 10.

【0031】次に圧電素子3の電極6をITO膜で形成
し、かつボンデイングパッド10を金メッキで形成した
場合について図2を用いて説明する。なお、図2では、
上面側の電極6のみを図示しているが、圧電材料5の下
面側には同様に電極6が形成されるものである。
Next, a case where the electrode 6 of the piezoelectric element 3 is formed of an ITO film and the bonding pad 10 is formed of gold plating will be described with reference to FIG. In FIG. 2,
Although only the electrode 6 on the upper surface is shown, the electrode 6 is similarly formed on the lower surface of the piezoelectric material 5.

【0032】ITO膜からなる電極6に対しては、金ボ
ールを用いた超音波ボンデイング法によりボンデイング
パッド10を形成することは不可能である。
It is impossible to form a bonding pad 10 on the electrode 6 made of an ITO film by an ultrasonic bonding method using a gold ball.

【0033】そこで、図2(a)に示すように、先ず圧電
材料5の対向する上部端面上に電極6を成膜し、さらに
電極6上に感光性レジスト11を塗布形成する。
Therefore, as shown in FIG. 2A, first, an electrode 6 is formed on the opposing upper end face of the piezoelectric material 5, and a photosensitive resist 11 is formed on the electrode 6 by coating.

【0034】次に図2(b)に示すように、前記感光性
レジスト11の感光、現像処理を行ない、該レジスト1
1に、電極6に達する開口11aを形成する。この開口
11aは、後述するボンデイングパッド10を形成する
ためのものである。さらに、この開口11aは電極6の
表面のうち、圧電素子3が導電性樹脂9でサスペンショ
ン2に取り付けられた箇所A(図1参照)の略真上に位
置するように電極6の端部に寄せて開口形成する。
Next, as shown in FIG. 2B, the photosensitive resist 11 is exposed and developed, and
1, an opening 11a reaching the electrode 6 is formed. The opening 11a is for forming a bonding pad 10 described later. Further, the opening 11a is formed at the end of the electrode 6 such that the opening 11a is located almost directly above the location A (see FIG. 1) where the piezoelectric element 3 is attached to the suspension 2 with the conductive resin 9 on the surface of the electrode 6. An opening is formed by bringing them together.

【0035】次に図2(c)に示すように、レジスト1
1をマスクとして金をボンデイングパッド10の形状に
メッキ処理することにより、金メッキからなるボンデイ
ングパッド10をレジスト11の開口11a内で電極6
上に形成する。
Next, as shown in FIG.
1 is used as a mask, and gold is plated in the shape of the bonding pad 10 so that the bonding pad 10 made of gold is
Form on top.

【0036】ここで、金メッキからなるボンデイングパ
ッド10は、マスクとしてのレジスト11の開口11a
を利用して、電極6の表面のうち、圧電素子3が導電性
樹脂9でサスペンション2に取り付けられた箇所A(図
1参照)の略真上に位置するように電極6の端部に寄せ
て形成される。
In this case, the bonding pad 10 made of gold plating is connected to the opening 11a of the resist 11 as a mask.
Of the surface of the electrode 6, the piezoelectric element 3 is moved to the end of the electrode 6 such that the piezoelectric element 3 is located almost directly above a place A (see FIG. 1) where the piezoelectric element 3 is attached to the suspension 2 with the conductive resin 9. Formed.

【0037】このように、金メッキからなるボンデイン
グパッド10を設ける位置を特定すると、圧電材料5の
変形に支障を与えることを回避することができる。も
し、ボンデイングパッド10が接合箇所Aから中央側に
寄せて形成されると、圧電材料5の変形に伴う応力がボ
ンデイングパッド10の形成箇所に集中して電極6が損
傷を受けたり、特に厚膜のメッキ処理を行なうと、膜応
力が大きく、圧電材料5に変形力を与え易いこととな
る。この問題を解消するには、この実施形態のようにボ
ンデイングパッド10の設置位置を特定する必要があ
る。
As described above, when the position where the bonding pad 10 made of gold plating is provided is specified, it is possible to prevent the deformation of the piezoelectric material 5 from being hindered. If the bonding pad 10 is formed so as to be closer to the center from the joint A, the stress caused by the deformation of the piezoelectric material 5 is concentrated on the formation of the bonding pad 10 and the electrode 6 is damaged. When the plating process is performed, the film stress is large, and a deformation force is easily applied to the piezoelectric material 5. In order to solve this problem, it is necessary to specify the installation position of the bonding pad 10 as in this embodiment.

【0038】以上のように、この実施形態では、金メッ
キからなるボンデイングパッド10を電極6に形成した
ことによる問題を生じることがない。
As described above, in this embodiment, there is no problem caused by forming the bonding pad 10 made of gold plating on the electrode 6.

【0039】またボンデイングパッド10をスパッタ法
で形成する場合に端子部10の膜厚を充分に得るために
は、スパッタレートを高くする必要があるが、スパッタ
レートを上げると、温度が高くなりすぎて圧電材料5を
劣化させてしまう。しかし、この実施形態のようにボン
デイングパッド10を金メッキ法を用いて形成すること
により、ボンデイングパッド10としての充分な膜厚を
確保することができるとともに、スパッタ法のように熱
による影響を圧電材料5に与えることがなく、圧電素子
3の信頼性を向上させることができる。
When the bonding pad 10 is formed by the sputtering method, it is necessary to increase the sputtering rate in order to obtain a sufficient film thickness of the terminal portion 10. However, if the sputtering rate is increased, the temperature becomes too high. As a result, the piezoelectric material 5 is deteriorated. However, by forming the bonding pad 10 by using the gold plating method as in this embodiment, it is possible to secure a sufficient film thickness as the bonding pad 10 and to reduce the influence of heat on the piezoelectric material as in the sputtering method. 5, the reliability of the piezoelectric element 3 can be improved.

【0040】またボンデイングパッド10として充分な
膜厚を確保することができるため、駆動源からの配線
(図3)をボンデイングパッド10に確実かつ容易に接
続することができる。
Further, since a sufficient film thickness can be secured for the bonding pad 10, the wiring (FIG. 3) from the driving source can be reliably and easily connected to the bonding pad 10.

【0041】またボンデイングパッド10を金メッキで
形成すると、ボンデイングパッド10の面積をNi・C
r下地層の存在によりボンデイングに対して必要最小限
に制限することができ、ボンデイングパッド10の面積
が小さいことは圧電材料5の変形に伴う電極6の伸縮を
阻害することがない。
When the bonding pad 10 is formed by gold plating, the area of the bonding pad 10 is reduced by Ni.C.
The bonding layer can be restricted to a necessary minimum by the presence of the r underlayer, and the small area of the bonding pad 10 does not hinder the expansion and contraction of the electrode 6 due to the deformation of the piezoelectric material 5.

【0042】また電極6の膜厚が薄いことは、圧電素子
3を個々に切出した場合に圧電素子3の端部にバリが発
生し難くなり、パテイクルとして記録デイスクの表面等
を損傷させるという事故を極力抑制することができる。
Further, the thin film thickness of the electrode 6 makes it difficult for burrs to be generated at the end of the piezoelectric element 3 when the piezoelectric element 3 is individually cut out, and damages the surface of the recording disk as a particle. Can be suppressed as much as possible.

【0043】なお、金メッキによるボンデイングパッド
10を電極6に形成したが、金メッキに限定されるもの
ではなく、半田等でもメッキによりボンデイングパッド
10を形成できる。またメッキに代えて、メタルマスク
でクリーム半田を印刷してボンデイングパッド10を電
極6上に形成してもよい。この場合、図2の製造工程で
は、レジスト11の代りにメタルマスクを用い、このメ
タルマスクでクリーム半田を印刷して半田によるボンデ
イングパッド10を電極6上に形成することとなる。
Although the bonding pad 10 is formed on the electrode 6 by gold plating, the present invention is not limited to gold plating, and the bonding pad 10 can be formed by plating with solder or the like. Instead of plating, cream solder may be printed with a metal mask to form the bonding pad 10 on the electrode 6. In this case, in the manufacturing process of FIG. 2, a metal mask is used instead of the resist 11, and cream solder is printed with the metal mask to form the bonding pad 10 of the solder on the electrode 6.

【0044】図5は本発明の実施例を示す平面図であ
る。図5に示すように、図1に示す圧電素子3は基板1
2上に縦横方向にマトリックス状に複数形成される。そ
して、切削ラインX、Yで個々に囲まれる短冊状に切削
されて複数の圧電素子3、3・・・が形成される。この
場合、各圧電素子3に形成されるボンデイングパッド1
0は、横方向の切削ラインX側の端部に寄せて形成され
る。ここに、横方向の切削ラインX側の端部は、図1に
示す電極6の表面のうち、圧電素子3が導電性樹脂9で
サスペンション2に取り付けられた箇所Aの略真上に位
置するような電極6の端部に対応する。
FIG. 5 is a plan view showing an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 5, the piezoelectric element 3 shown in FIG.
2 are formed in a matrix in the vertical and horizontal directions. Are cut into strips individually surrounded by cutting lines X and Y to form a plurality of piezoelectric elements 3, 3,.... In this case, the bonding pad 1 formed on each piezoelectric element 3
0 is formed near the end on the cutting line X side in the lateral direction. Here, the end on the side of the cutting line X in the lateral direction is located almost directly above the location A where the piezoelectric element 3 is attached to the suspension 2 with the conductive resin 9 on the surface of the electrode 6 shown in FIG. This corresponds to the end of the electrode 6.

【0045】図5に示すように、金メッキからなるボン
デイングパッド10を設ける位置を特定すると、圧電材
料5の変形に支障を与えることを回避することができ
る。また電極6の膜厚を薄くすることが可能となり、基
板12から圧電素子3を個々に切出した場合に圧電素子
3の端部にバリが発生し難くなり、パテイクルとして記
録デイスクの表面等を損傷させるという事故を極力抑制
することができる。
As shown in FIG. 5, when the position where the bonding pad 10 made of gold plating is provided is specified, it is possible to prevent the deformation of the piezoelectric material 5 from being hindered. Further, the thickness of the electrode 6 can be reduced, and when the piezoelectric elements 3 are individually cut out from the substrate 12, burrs are less likely to be generated at the ends of the piezoelectric elements 3, thereby damaging the surface of the recording disk as a particle. It is possible to minimize the occurrence of accidents.

【0046】[0046]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、圧
電素子のボンデイングパッドに必要な膜厚を確保するこ
とにより、ボンデイングパッドに対する駆動源からの配
線の接合を容易にすることができる。
As described above, according to the present invention, it is possible to easily connect the wiring from the driving source to the bonding pad by securing the necessary film thickness for the bonding pad of the piezoelectric element.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1(a)は、本発明の実施の形態に係る磁気
ヘッド位置決め機構のオフセット補正機構の主要部を示
す断面図、図1(b)は、金メッキにより電極に端子部
を形成する場合を説明する平面図である。
FIG. 1A is a cross-sectional view illustrating a main part of an offset correction mechanism of a magnetic head positioning mechanism according to an embodiment of the present invention, and FIG. 1B is a diagram illustrating a terminal portion formed on an electrode by gold plating. It is a top view explaining the case where it performs.

【図2】図2(a)〜(d)は本発明の実施形態に係る
磁気ヘッド位置決め機構の製造方法を工程順に示す断面
図である。
FIGS. 2A to 2D are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a magnetic head positioning mechanism according to an embodiment of the present invention in the order of steps.

【図3】従来例に係る磁気ヘッド位置決め機構のオフセ
ット補正機構の主要部を示す断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a main part of an offset correction mechanism of a magnetic head positioning mechanism according to a conventional example.

【図4】磁気ヘッド位置決め機構のオフセット補正機構
を示す平面図である。
FIG. 4 is a plan view showing an offset correction mechanism of the magnetic head positioning mechanism.

【図5】本発明の実施例を示す平面図である。FIG. 5 is a plan view showing an embodiment of the present invention.

【図6】図6(a)は、従来例において基板から短冊状
の圧電素子を個々に切出す状態を示す斜視図、図6
(b)は短冊状に切出した圧電素子の端部を示す斜視図
である。
FIG. 6 (a) is a perspective view showing a state in which strip-shaped piezoelectric elements are individually cut out from a substrate in a conventional example.
(B) is a perspective view showing an end portion of the piezoelectric element cut into a strip shape.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 スライダー 2 サスペンション 3 圧電素子 5 圧電材料 6 電極 10 ボンデイングパッド DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Slider 2 Suspension 3 Piezoelectric element 5 Piezoelectric material 6 Electrode 10 Bonding pad

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】磁気ヘッドのサスペンションにオフセット
補正機構を備えた磁気ヘッド位置決め機構において、 前記オフセット補正機構が圧電素子を備えており、 前記圧電素子の電極が導電膜で形成され、前記導電膜上
にボンデイングパッドが設けられていることを特徴とす
る磁気ヘッド位置決め機構。
1. A magnetic head positioning mechanism having an offset correction mechanism in a suspension of a magnetic head, wherein the offset correction mechanism includes a piezoelectric element, an electrode of the piezoelectric element is formed of a conductive film, and A magnetic pad positioning mechanism provided with a bonding pad.
【請求項2】請求項1記載の磁気ヘッド位置決め機構に
おいて、 前記ボンデイングパッドが、前記電極の表面のうち、圧
電素子がサスペンションに取り付けられた箇所側に寄せ
て形成されていることを特徴とする磁気ヘッド位置決め
機構。
2. The magnetic head positioning mechanism according to claim 1, wherein said bonding pad is formed so as to be closer to a portion of a surface of said electrode where a piezoelectric element is mounted on a suspension. Magnetic head positioning mechanism.
【請求項3】請求項2記載の磁気ヘッド位置決め機構に
おいて、 前記ボンデイングパッドが、前記電極の端縁から内側に
離間して形成されていることを特徴とする磁気ヘッド位
置決め機構。
3. The magnetic head positioning mechanism according to claim 2, wherein said bonding pad is formed to be spaced inward from an edge of said electrode.
【請求項4】請求項1記載の磁気ヘッド位置決め機構に
おいて、 前記ボンデイングパッドが、金メッキ膜で形成されてい
ることを特徴とする磁気ヘッド位置決め機構。
4. The magnetic head positioning mechanism according to claim 1, wherein said bonding pad is formed of a gold plating film.
【請求項5】請求項1記載の磁気ヘッド位置決め機構に
おいて、 前記ボンデイングパッドが、導電性樹脂で形成されてい
ることを特徴とする磁気ヘッド位置決め機構。
5. The magnetic head positioning mechanism according to claim 1, wherein said bonding pad is formed of a conductive resin.
【請求項6】請求項1記載の磁気ヘッド位置決め機構に
おいて、 前記電極の導電膜が透明な導電膜であることを特徴とす
る磁気ヘッド位置決め機構。
6. The magnetic head positioning mechanism according to claim 1, wherein the conductive film of the electrode is a transparent conductive film.
【請求項7】請求項6記載の磁気ヘッド位置決め機構に
おいて、 前記透明な導電膜がITO膜であることを特徴とする磁
気ヘッド位置決め機構。
7. The magnetic head positioning mechanism according to claim 6, wherein said transparent conductive film is an ITO film.
【請求項8】磁気ヘッドのサスペンションにオフセット
補正機構を備えた磁気ヘッド位置決め機構の製造方法に
おいて、 前記オフセット補正機構に備えた圧電素子の電極を導電
膜で形成する工程と、 前記導電膜上にボンデイングパッドを形成する工程とを
含むことを特徴とする磁気ヘッド位置決め機構の製造方
法。
8. A method for manufacturing a magnetic head positioning mechanism having an offset correction mechanism in a suspension of a magnetic head, comprising: forming an electrode of a piezoelectric element provided in the offset correction mechanism with a conductive film; Forming a bonding pad.
【請求項9】請求項8記載の磁気ヘッド位置決め機構の
製造方法において、 前記ボンデイングパッドを、前記電極の表面のうち、圧
電素子がサスペンションに取り付けられた箇所側に寄せ
て形成することを特徴とする磁気ヘッド位置決め機構の
製造方法。
9. The method for manufacturing a magnetic head positioning mechanism according to claim 8, wherein the bonding pad is formed on a surface of the electrode, at a position where a piezoelectric element is attached to a suspension. Manufacturing method of a magnetic head positioning mechanism.
【請求項10】請求項9記載の磁気ヘッド位置決め機構
の製造方法において、 前記ボンデイングパッドを、前記電極の端縁から内側に
離間して形成することを特徴とする磁気ヘッド位置決め
機構の製造方法。
10. The method of manufacturing a magnetic head positioning mechanism according to claim 9, wherein said bonding pad is formed to be spaced inward from an edge of said electrode.
【請求項11】請求項8記載の磁気ヘッド位置決め機構
の製造方法において、 前記ボンデイングパッドを金メッキ膜で形成することを
特徴とする磁気ヘッド位置決め機構の製造方法。
11. The method for manufacturing a magnetic head positioning mechanism according to claim 8, wherein said bonding pad is formed of a gold plating film.
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