JP2002500207A - Ｔｆｐｘジクロライドの製造方法 - Google Patents
Ｔｆｐｘジクロライドの製造方法Info
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- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/093—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens
- C07C17/20—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of halogen atoms by other halogen atoms
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Abstract
(57)【要約】
ＴＦＰＸジクロライドの合成方法を開示する。本方法は、ヘキサクロロ−ｐ−キシレンを不活性有機溶媒中で無水ＨＦと反応させることを包含する。本反応は、比較的高収率のＴＦＰＸジクロライドを生産し、廃棄物をほとんど出さず、そして簡単な一工程の方法として行うという点で有利である。
Description
【０００１】
本発明は化学合成の分野の発明である。より特定的には、本発明は、１，４−
ビス−（クロロジフルオロメチル）ベンゼン（以下、ＴＦＰＸジクロライドと言
う）の製造方法に関する。
ビス−（クロロジフルオロメチル）ベンゼン（以下、ＴＦＰＸジクロライドと言
う）の製造方法に関する。
【０００２】
誘電性薄膜は、エレクトロニクス産業及びコーティング産業の両方を通じて広
く使用されている。それらの比較的高い誘電率及び融点のために、分子構造：
く使用されている。それらの比較的高い誘電率及び融点のために、分子構造：
【０００３】
【化１】
【０００４】 （Ｘは、一般的に水素原子又はフッ素原子である） を有するパリレンポリマーから誘電性層を形成することにおける関心が増してい
る。 パリレンポリマーは、通常、化学蒸着法により形成される。一つのそのような
方法は、分子構造：
る。 パリレンポリマーは、通常、化学蒸着法により形成される。一つのそのような
方法は、分子構造：
【０００５】
【化２】
【０００６】 を有するパリレンダイマーを気化させ、次いでそれらダイマー結合を開裂させて
パリレンモノマーを生じさせるＧｏｒｈａｍ法である。それらパリレンモノマー
を表面上に堆積させ、続いて重合させる。パリレンポリマーの誘電率及び融解温
度は、通常、そのポリマー内のフッ素原子の数が増加するにつれて増加するので
、分子構造：
パリレンモノマーを生じさせるＧｏｒｈａｍ法である。それらパリレンモノマー
を表面上に堆積させ、続いて重合させる。パリレンポリマーの誘電率及び融解温
度は、通常、そのポリマー内のフッ素原子の数が増加するにつれて増加するので
、分子構造：
【０００７】
【化３】
【０００８】 を有するオクタフルオロ−［２，２］パラシクロファン（以下、ＡＦ４）をパリ
レンダイマーとして使用することが望ましい。 次の構造：
レンダイマーとして使用することが望ましい。 次の構造：
【０００９】
【化４】
【００１０】 を有するＴＦＰＸジクロライドは、ＡＦ４の製造のためのひとつの好ましい出発
材料である。これまで、ＴＦＰＸジクロライドの唯一有用な製造法は、次の構造
：
材料である。これまで、ＴＦＰＸジクロライドの唯一有用な製造法は、次の構造
：
【００１１】
【化５】
【００１２】 を有するα，α，α’，α’−テトラフルオロ−ｐ−キシレン（以下、ＴＦＰＸ
）の高収率の光塩素化を経ていた。しかし、残念ながら、全ての現在利用できる
ＴＦＰＸの製造方法は、費用がかかり及び／又は望ましくない量の有害廃棄物を
もたらす。そのうえ、ＴＦＰＸの既知の生産方法は、容易に工業スケールの方法
に適合させることができない。 ＴＦＰＸを合成するための慣用的な方法は、分子構造：
）の高収率の光塩素化を経ていた。しかし、残念ながら、全ての現在利用できる
ＴＦＰＸの製造方法は、費用がかかり及び／又は望ましくない量の有害廃棄物を
もたらす。そのうえ、ＴＦＰＸの既知の生産方法は、容易に工業スケールの方法
に適合させることができない。 ＴＦＰＸを合成するための慣用的な方法は、分子構造：
【００１３】
【化６】
【００１４】 を有するテレフタルアルデヒドのフッ素化を包含する。ＳＦ4及びＭｏＦ6は、テ
レフタルアルデヒドのフッ素化に最も広く使用される試薬である。しかし、ＳＦ 4 及びＭｏＦ6は高価であり、この合成スキームの工業的有用性を減少させるもの
である。そのうえ、ＳＦ4及びＭｏＦ6は有毒な材料であるので、多量の有害廃棄
物がこれらの試薬を用いてもたらされる。 ロシア特許第２，０３２，６５４号は、分子構造：
レフタルアルデヒドのフッ素化に最も広く使用される試薬である。しかし、ＳＦ 4 及びＭｏＦ6は高価であり、この合成スキームの工業的有用性を減少させるもの
である。そのうえ、ＳＦ4及びＭｏＦ6は有毒な材料であるので、多量の有害廃棄
物がこれらの試薬を用いてもたらされる。 ロシア特許第２，０３２，６５４号は、分子構造：
【００１５】
【化７】
【００１６】 を有するα，α，α’，α’−テトラブロモ−ｐ−キシレン（以下、ＴＢＰＸ）
をＳｂＦ3と反応させてＴＦＰＸを生産するところの別のＴＦＰＸ合成方法を開 示している。この方法は、ＴＢＰＸのベンジル位のハロゲン原子をフッ素原子で
置換するための十分に確立された求電子触媒ＳN１反応機構を用いる。この方法 に従えば、ＳｂＦ3中のアンチモン原子は、ＴＢＰＸからの臭素を分離させてカ ルボカチオンを形成する求電子としてふるまう。そのカルボカチオンは、続いて
フッ素と反応してＴＦＰＸを形成する。この反応は、比較的に穏やかな反応条件
下で行う場合、よい収率を提供することが報告されているが、アンチモン含有化
合物はきわめて毒性であり、かつ高価である。そのうえ、ＳｂＦ3は触媒量では なく化学量論量で使用され、多量の有害廃棄物材料をもたらす。それゆえ、ＴＦ
ＰＸを合成するこの方法は工業的用途が限定されている。
をＳｂＦ3と反応させてＴＦＰＸを生産するところの別のＴＦＰＸ合成方法を開 示している。この方法は、ＴＢＰＸのベンジル位のハロゲン原子をフッ素原子で
置換するための十分に確立された求電子触媒ＳN１反応機構を用いる。この方法 に従えば、ＳｂＦ3中のアンチモン原子は、ＴＢＰＸからの臭素を分離させてカ ルボカチオンを形成する求電子としてふるまう。そのカルボカチオンは、続いて
フッ素と反応してＴＦＰＸを形成する。この反応は、比較的に穏やかな反応条件
下で行う場合、よい収率を提供することが報告されているが、アンチモン含有化
合物はきわめて毒性であり、かつ高価である。そのうえ、ＳｂＦ3は触媒量では なく化学量論量で使用され、多量の有害廃棄物材料をもたらす。それゆえ、ＴＦ
ＰＸを合成するこの方法は工業的用途が限定されている。
【００１７】 結局、ＴＦＰＸは、求核性フッ素分子の非フッ素化テトラハロ−ｐ−キシレン
との反応によってＳN２型求核置換反応を経て合成されている。そのような合成 においては、非フッ素化テトラハロ−ｐ−キシレンのベンジル位のハロゲン原子
は、カルボカチオン中間体を形成することなく求核性フッ素分子中のフッ素原子
により置換される。そのような反応の例は、α，α，α’，α’−テトラクロロ
−ｐ−キシレンのＣｓＦ又はＫＦとの反応を含む。この手順は、コストが低く有
害廃棄物の生成も少ないが、工業スケールで行うのが非常に難しいことが最近見
出された。
との反応によってＳN２型求核置換反応を経て合成されている。そのような合成 においては、非フッ素化テトラハロ−ｐ−キシレンのベンジル位のハロゲン原子
は、カルボカチオン中間体を形成することなく求核性フッ素分子中のフッ素原子
により置換される。そのような反応の例は、α，α，α’，α’−テトラクロロ
−ｐ−キシレンのＣｓＦ又はＫＦとの反応を含む。この手順は、コストが低く有
害廃棄物の生成も少ないが、工業スケールで行うのが非常に難しいことが最近見
出された。
【００１８】 ＴＦＰＸジクロライドの優れた前駆体であるＴＦＰＸを合成するための種々の
方法にもかかわらず、ＴＦＰＸジクロライドをつくるための簡単で環境にやさし
い方法であって、安価で容易に利用できる反応物を利用し、そして工業レベルの
生産に拡大できる方法についての必要性がなお存在する。
方法にもかかわらず、ＴＦＰＸジクロライドをつくるための簡単で環境にやさし
い方法であって、安価で容易に利用できる反応物を利用し、そして工業レベルの
生産に拡大できる方法についての必要性がなお存在する。
【００１９】
本発明は、ＴＦＰＸからではなくヘキサクロロ−ｐ−キシレン（安価で容易に
利用できる出発材料であって、高収率で消耗的なｐ−キシレンの塩素化により製
造される）からのＴＦＰＸジクロライドの合成に関する。この方法においては、
ヘキサクロロ−ｐ−キシレンを最小量の不活性溶媒に懸濁及び部分的に溶解させ
、そして無水ＨＦと反応させる。得られるＡＦ４への前駆体は、容易に利用でき
安価な反応物を用いる一工程の方法を経て、高収率及び高純度で提供される。従
って、本方法は、その全てが前駆体としてＴＦＰＸの使用を必要とするＴＦＰＸ
ジクロライドの他の製造方法よりも有意な経済上の利点をもたらす。 より特定的には、一つの好ましい態様において、本発明は、１，２−ジクロロ
エタン中のヘキサクロロ−ｐ−キシレンを室温において無水ＨＦと反応させて高
収率のＴＦＰＸジクロライドを生産する、ＴＦＰＸジクロライドの合成方法に関
する。
利用できる出発材料であって、高収率で消耗的なｐ−キシレンの塩素化により製
造される）からのＴＦＰＸジクロライドの合成に関する。この方法においては、
ヘキサクロロ−ｐ−キシレンを最小量の不活性溶媒に懸濁及び部分的に溶解させ
、そして無水ＨＦと反応させる。得られるＡＦ４への前駆体は、容易に利用でき
安価な反応物を用いる一工程の方法を経て、高収率及び高純度で提供される。従
って、本方法は、その全てが前駆体としてＴＦＰＸの使用を必要とするＴＦＰＸ
ジクロライドの他の製造方法よりも有意な経済上の利点をもたらす。 より特定的には、一つの好ましい態様において、本発明は、１，２−ジクロロ
エタン中のヘキサクロロ−ｐ−キシレンを室温において無水ＨＦと反応させて高
収率のＴＦＰＸジクロライドを生産する、ＴＦＰＸジクロライドの合成方法に関
する。
【００２０】
これまでに記述したように、本発明は、ヘキサクロロ−ｐ−キシレン及びＨＦ
を反応させることによるＴＦＰＸジクロライドの合成に関する。本反応は、比較
的少量の不活性溶媒を用いて行う。好ましい溶媒は１，２−ジクロロエタンであ
る。本反応は、容易に利用できかつ安価な出発材料を用いる一工程の方法で高収
率のＴＦＰＸジクロライドが提供されるので、特に関心が持たれる。本反応は、
望ましいＴＦＰＸジクロライドを穏やかな条件下で形成することについてきわめ
て特異的である。本反応は、塩素及びフッ素成分間の交換を望ましいレベルまで
進行させてから停止することが認められた。本反応の簡単さに加えて、本発明は
、溶媒を再利用することを可能としＨＦの化学量論量よりわずかに多いだけの量
を必要とすることから、環境的に有利である。そのうえ、反応によるあらゆる過
剰フッ素化副生成物は他の操作においては反応物として価値があるので需要があ
り、そしてあらゆるフッ素化不足の副生成物を再利用することができる。従って
、本反応は殆ど廃棄物を包含しない。 本明細書中で使用するように、“ヘキサクロロ−ｐ−キシレン”（ＨＣＰＸ）
の語は構造：
を反応させることによるＴＦＰＸジクロライドの合成に関する。本反応は、比較
的少量の不活性溶媒を用いて行う。好ましい溶媒は１，２−ジクロロエタンであ
る。本反応は、容易に利用できかつ安価な出発材料を用いる一工程の方法で高収
率のＴＦＰＸジクロライドが提供されるので、特に関心が持たれる。本反応は、
望ましいＴＦＰＸジクロライドを穏やかな条件下で形成することについてきわめ
て特異的である。本反応は、塩素及びフッ素成分間の交換を望ましいレベルまで
進行させてから停止することが認められた。本反応の簡単さに加えて、本発明は
、溶媒を再利用することを可能としＨＦの化学量論量よりわずかに多いだけの量
を必要とすることから、環境的に有利である。そのうえ、反応によるあらゆる過
剰フッ素化副生成物は他の操作においては反応物として価値があるので需要があ
り、そしてあらゆるフッ素化不足の副生成物を再利用することができる。従って
、本反応は殆ど廃棄物を包含しない。 本明細書中で使用するように、“ヘキサクロロ−ｐ−キシレン”（ＨＣＰＸ）
の語は構造：
【００２１】
【化８】
【００２２】 を有する分子を示す。 ヘキサクロロ−ｐ−キシレンのＨＦとの反応は、典型的に、室温又は室温付近
で起こる。その反応を密閉反応容器内で行うならば、その圧力は反応の進行の間
に幾分増加し続ける。圧力の増加は、残余の気体ＨＦ並びにその反応の間に形成
される気体ＨＣｌに起因する。所望のＴＦＰＸジクロライドを取り出す前に、こ
れらの気体をＮａＯＨ水溶液又は他の適する媒質中に排出して、それらを中和し
てもよい。
で起こる。その反応を密閉反応容器内で行うならば、その圧力は反応の進行の間
に幾分増加し続ける。圧力の増加は、残余の気体ＨＦ並びにその反応の間に形成
される気体ＨＣｌに起因する。所望のＴＦＰＸジクロライドを取り出す前に、こ
れらの気体をＮａＯＨ水溶液又は他の適する媒質中に排出して、それらを中和し
てもよい。
【００２３】 特定の反応温度によって限定することを意図するものではないが、この反応は
、その反応が妥当な速度で進行することを可能とするのに充分高い温度で行わな
ければならない。しかし、その反応温度があまりに高いならば、過剰フッ素化及
びタール質の物質を形成する重合反応又は脱離反応を含む望ましくない副反応も
起こり得る。かくして、その反応混合物は、望ましくない副反応をもたらすこと
なくＴＦＰＸジクロライドを形成するのに十分高い温度に理想的に維持される。
、その反応が妥当な速度で進行することを可能とするのに充分高い温度で行わな
ければならない。しかし、その反応温度があまりに高いならば、過剰フッ素化及
びタール質の物質を形成する重合反応又は脱離反応を含む望ましくない副反応も
起こり得る。かくして、その反応混合物は、望ましくない副反応をもたらすこと
なくＴＦＰＸジクロライドを形成するのに十分高い温度に理想的に維持される。
【００２４】 幾つかの他の溶媒を非相互作用性有機溶媒として本方法に使用することができ
る。これらには、塩化メチレン；１，１，２，２−テトラクロロエタン、ペンタ
ン、ヘキサン、トルエン、トリフルオロトルエン、及びヘキサフルオロ−ｐ−キ
シレンが含まれる。たいてい、これらの溶媒は選択反応を起こさせることにおい
て等しく効果を生ずることが証明された。このことは、ヘキサクロロ−ｐ−キシ
レン及びＴＦＰＸジクロライドを溶解するがＨＦと混和性でないか又は反応しな
いあらゆる溶媒を事実上使用してもよいことを示唆している。かくして、前述の
考慮に加えて、その溶媒は、単にその溶媒の沸点（すなわち、溶媒は容易にそれ
ら生成物から分離できるべきである）、そのコスト及び環境の観点から選ぶこと
ができる。
る。これらには、塩化メチレン；１，１，２，２−テトラクロロエタン、ペンタ
ン、ヘキサン、トルエン、トリフルオロトルエン、及びヘキサフルオロ−ｐ−キ
シレンが含まれる。たいてい、これらの溶媒は選択反応を起こさせることにおい
て等しく効果を生ずることが証明された。このことは、ヘキサクロロ−ｐ−キシ
レン及びＴＦＰＸジクロライドを溶解するがＨＦと混和性でないか又は反応しな
いあらゆる溶媒を事実上使用してもよいことを示唆している。かくして、前述の
考慮に加えて、その溶媒は、単にその溶媒の沸点（すなわち、溶媒は容易にそれ
ら生成物から分離できるべきである）、そのコスト及び環境の観点から選ぶこと
ができる。
【００２５】 ＳｂＣｌ3、ＳｂＣｌ5、ＳｂＦ3、ＳｂＦ5、ＨｇＦ2及びＳｎＣｌ4を含むがこ
れらに限定するものではない求電子触媒も、フッ素化されるヘキサクロロ−ｐ−
キシレンのモル数の１〜１０％の量で使用してもよい。そのような触媒の使用は
、より低い温度と短い反応時間の使用とを可能とするが、より多い量の過剰フッ
素化生成物の生成をもたらす。
れらに限定するものではない求電子触媒も、フッ素化されるヘキサクロロ−ｐ−
キシレンのモル数の１〜１０％の量で使用してもよい。そのような触媒の使用は
、より低い温度と短い反応時間の使用とを可能とするが、より多い量の過剰フッ
素化生成物の生成をもたらす。
【００２６】 その反応に１０〜４８時間の種々の時間、及び１０〜３０℃の種々の温度を用
いたが、それら結果を有意に変えるものではなかった。 このように、多種多様の不活性有機溶媒中におけるヘキサクロロ−ｐ−キシレ
ンとＨＦの使用は、比較的穏やかな反応条件下で高収率の所望のＴＦＰＸジクロ
ライド生成物を提供する。 次の実施例は、単に例示することを意図するものであり、限定するものとして
解釈されるべきではない。
いたが、それら結果を有意に変えるものではなかった。 このように、多種多様の不活性有機溶媒中におけるヘキサクロロ−ｐ−キシレ
ンとＨＦの使用は、比較的穏やかな反応条件下で高収率の所望のＴＦＰＸジクロ
ライド生成物を提供する。 次の実施例は、単に例示することを意図するものであり、限定するものとして
解釈されるべきではない。
【００２７】
【実施例】実施例１ ３５０ｇ（１．１モル）のヘキサクロロ−ｐ−キシレン（ＨＣＰＸ）を６００
ｍｌオートクレーブに入れた。１００ｍｌの１，２−ジクロロエタン（ＤＣＥ）
及び２００ｇ（１０モル）の無水ＨＦを加えた。その混合物を室温で約１０時間
攪拌すると、その間に圧力が約３気圧まで上がった。反応の完了時に、残余のＨ
Ｆ及びＨＣｌを３００ｍｌの１０％ＮａＯＨ中に排出することによって取り除い
た。次いで、残った有機相を１００ｍｌの５％ＮａＯＨで３回洗浄し、次いで、
３００ｍｌの水で３回洗浄した。続いて、その有機相をＭｇＳＯ4で乾燥させた 。簡単な蒸留により３つの留分を得た。： 留分１（７１〜９０℃）約６８％ＴＦＰＸジクロライドを含んでなる２７．５
ｇの材料を生じた。残っている材料のうち、主要な部分はペンタフルオロクロロ
生成物から構成された。 留分２（９０〜９５℃）約９７％ＴＦＰＸジクロライドを含んでなる１７４ｇ
の生成物を生じた。 留分３（９５〜１０７℃）約６９％ＴＦＰＸジクロライドを含んでなる３７ｇ
の生成物を生じた。残りの３１％の副生産物中、主要な成分はトリフルオロトリ
クロロ物質であった。 ＴＦＰＸジクロライドの理論収率は２４６．９ｇ／モルの分子量を有する１．
１モルの生成物（よって２７１．６ｇ）であるところ、この反応は２１３ｇのＴ
ＦＰＸジクロライド生成物を提供したので、上記反応からのＴＦＰＸジクロライ
ドの全収率は約７８．４％となった。
ｍｌオートクレーブに入れた。１００ｍｌの１，２−ジクロロエタン（ＤＣＥ）
及び２００ｇ（１０モル）の無水ＨＦを加えた。その混合物を室温で約１０時間
攪拌すると、その間に圧力が約３気圧まで上がった。反応の完了時に、残余のＨ
Ｆ及びＨＣｌを３００ｍｌの１０％ＮａＯＨ中に排出することによって取り除い
た。次いで、残った有機相を１００ｍｌの５％ＮａＯＨで３回洗浄し、次いで、
３００ｍｌの水で３回洗浄した。続いて、その有機相をＭｇＳＯ4で乾燥させた 。簡単な蒸留により３つの留分を得た。： 留分１（７１〜９０℃）約６８％ＴＦＰＸジクロライドを含んでなる２７．５
ｇの材料を生じた。残っている材料のうち、主要な部分はペンタフルオロクロロ
生成物から構成された。 留分２（９０〜９５℃）約９７％ＴＦＰＸジクロライドを含んでなる１７４ｇ
の生成物を生じた。 留分３（９５〜１０７℃）約６９％ＴＦＰＸジクロライドを含んでなる３７ｇ
の生成物を生じた。残りの３１％の副生産物中、主要な成分はトリフルオロトリ
クロロ物質であった。 ＴＦＰＸジクロライドの理論収率は２４６．９ｇ／モルの分子量を有する１．
１モルの生成物（よって２７１．６ｇ）であるところ、この反応は２１３ｇのＴ
ＦＰＸジクロライド生成物を提供したので、上記反応からのＴＦＰＸジクロライ
ドの全収率は約７８．４％となった。
【００２８】実施例２ ２ｋｇ（６．３モル）のＨＣＰＸを１ガロンオートクレーブに入れた。６００
ｍｌのＤＣＥ及び５４０ｇ（２８．４モル）の無水ＨＦを加えた。その混合物を
自己圧力において３０℃で２０時間攪拌し、その後、残余のＨＦ及びＨＣｌを２
リットルの１０％ＮａＯＨ中に排出することによって取り除いた。次いで、残っ
た有機相を５％ＮａＯＨ及び水で各々３回洗浄し、ＭｇＳＯ4で乾燥させ、そし て蒸留して（生成物の沸点は９０〜９５℃）９３３ｇ（６０％収率）のＴＦＰＸ
ジクロライド生成物を得た。大部分の副生成物は、主としてフッ素化不足の生成
物からなる蒸留残分中にあった。これらのフッ素化不足の生成物は再利用でき、
その後のランで使用できた。
ｍｌのＤＣＥ及び５４０ｇ（２８．４モル）の無水ＨＦを加えた。その混合物を
自己圧力において３０℃で２０時間攪拌し、その後、残余のＨＦ及びＨＣｌを２
リットルの１０％ＮａＯＨ中に排出することによって取り除いた。次いで、残っ
た有機相を５％ＮａＯＨ及び水で各々３回洗浄し、ＭｇＳＯ4で乾燥させ、そし て蒸留して（生成物の沸点は９０〜９５℃）９３３ｇ（６０％収率）のＴＦＰＸ
ジクロライド生成物を得た。大部分の副生成物は、主としてフッ素化不足の生成
物からなる蒸留残分中にあった。これらのフッ素化不足の生成物は再利用でき、
その後のランで使用できた。
【００２９】実施例３ ３５０ｇ（１．１モル）のヘキサクロロ−ｐ−キシレン（ＨＣＰＸ）及び１０
０ｍｌの塩化メチレン（ＣＨ2Ｃｌ2）を６００ｍｌオートクレーブに入れた。そ
の混合物を約２０℃で４８時間攪拌し、実施例１と同じ単離処理を行った。得ら
れた生成物は、２％のＴＦＰＸモノクロライドを伴う５２％のＴＦＰＸジクロラ
イド、１０％のＴＦＰＸトリクロライド、及び２８％のＴＦＰＸテトラクロライ
ドであった。このトリクロライド及びテトラクロライド生成物は、再利用しても
よくその後のランで使用してもよいという点で望ましい。
０ｍｌの塩化メチレン（ＣＨ2Ｃｌ2）を６００ｍｌオートクレーブに入れた。そ
の混合物を約２０℃で４８時間攪拌し、実施例１と同じ単離処理を行った。得ら
れた生成物は、２％のＴＦＰＸモノクロライドを伴う５２％のＴＦＰＸジクロラ
イド、１０％のＴＦＰＸトリクロライド、及び２８％のＴＦＰＸテトラクロライ
ドであった。このトリクロライド及びテトラクロライド生成物は、再利用しても
よくその後のランで使用してもよいという点で望ましい。
【００３０】均等の範囲 前述の本発明の特定の態様の詳細な説明から、ＴＦＰＸジクロライドの形成の
ための独特の反応が記載されたことは明らかである。特定の態様を本明細書中に
詳細に開示してきたが、これは単に例示する目的のためになされたものであり、
請求項の範囲に関して限定することを意図するものではない。特に、請求項によ
って明確にされる本発明の精神及び範囲から逸脱することなく、種々の置換、変
更、及び修飾を本発明に施してもよいことが、本発明者により意図されている。
例えば、特定の不活性有機溶媒又は特定の反応温度の選択は、当業者が本明細書
に記載された態様を認識して通常行うことと考えられる。
ための独特の反応が記載されたことは明らかである。特定の態様を本明細書中に
詳細に開示してきたが、これは単に例示する目的のためになされたものであり、
請求項の範囲に関して限定することを意図するものではない。特に、請求項によ
って明確にされる本発明の精神及び範囲から逸脱することなく、種々の置換、変
更、及び修飾を本発明に施してもよいことが、本発明者により意図されている。
例えば、特定の不活性有機溶媒又は特定の反応温度の選択は、当業者が本明細書
に記載された態様を認識して通常行うことと考えられる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4H006 AA02 AC30 AD11 AD16 BA07 BA13 BA37 BB12 BC10 BC19 BE01 4H039 CA51 CD20
Claims (23)
- 【請求項１】 （ａ）ヘキサクロロ−ｐ−キシレンを含んでなる第１反応物
を提供する工程； （ｂ）無水ＨＦを含んでなる第２反応物を提供する工程； （ｃ）ＨＦと実質上不混和性であり、ＨＦ及びヘキサクロロ−ｐ−キシレンと
実質上非反応性である有機溶媒を提供する工程；及び （ｄ）該第１及び第２反応物を該有機溶媒中で反応させて、ＴＦＰＸジクロラ
イドを含んでなる生成物を形成させる工程 を含んでなる合成方法。 - 【請求項２】 有機溶媒が、塩化メチレン、１，１，２，２−テトラクロロ
エタン、ペンタン、ヘキサン、トルエン、１，２−ジクロロエタン及びそれらの
混合物からなる群から選択される、請求項１記載の方法。 - 【請求項３】 有機溶媒が１，２−ジクロロエタンを含んでなる、請求項１
記載の方法。 - 【請求項４】 約１０℃〜約３０℃の温度で反応を行う、請求項１記載の方
法。 - 【請求項５】 反応を約１０時間〜約４８時間継続させる、請求項１記載の
方法。 - 【請求項６】 反応を約１０時間〜約４８時間継続させる、請求項５記載の
方法。 - 【請求項７】 生成物からＴＦＰＸジクロライドを単離する付加的な工程を
含む、請求項１記載の方法。 - 【請求項８】 単離が蒸留を含んでなる、請求項７記載の方法。
- 【請求項９】 単離工程の前に生成物を洗浄し乾燥させる付加的な工程を含
む、請求項７記載の方法。 - 【請求項１０】 洗浄が、生成物をＮａＯＨ水溶液ですすいでから水ですす
ぐこととを包含する、請求項９記載の方法。 - 【請求項１１】 ＴＦＰＸジクロライド生成物を反応させて、オクタフルオ
ロ−［２，２］パラシクロファンを含んでなるパリレンダイマーを形成する付加
的な工程を含む、請求項７記載の方法。 - 【請求項１２】 パリレンダイマーをＧｏｒｈａｍ法を用いて反応させて、
重合体のパリレンを形成する付加的な方法を含む、請求項１１記載の方法。 - 【請求項１３】 反応を触媒の存在下で行う、請求項１記載の方法。
- 【請求項１４】 触媒が、ＳｂＣｌ3、ＳｂＣｌ5、ＳｂＦ3、ＳｂＦ5、Ｈｇ
Ｆ2及びＳｎＣｌ4からなる群から選択される、請求項１３記載の方法。 - 【請求項１５】 触媒がヘキサクロロ−ｐ−キシレンのモル数の１〜１０％
の量で存在する、請求項１４記載の方法。 - 【請求項１６】 （ａ）ヘキサクロロ−ｐ−キシレンを含んでなる第１反応
物を提供する工程； （ｂ）無水ＨＦを含んでなる第２反応物を提供する工程； （ｃ）１，２−ジクロロエタンを含んでなる有機溶媒を提供する工程；及び （ｄ）該第１及び第２反応物を該有機溶媒中で反応させて、ＴＦＰＸジクロラ
イドを含んでなる生成物を形成させる工程 を含んでなる合成方法。 - 【請求項１７】 反応を触媒の存在下で行う、請求項１６記載の方法。
- 【請求項１８】 触媒が、ＳｂＣｌ3、ＳｂＣｌ5、ＳｂＦ3、ＳｂＦ5、Ｈｇ
Ｆ2及びＳｎＣｌ4からなる群から選択される、請求項１７記載の方法。 - 【請求項１９】 （ａ）ヘキサクロロ−ｐ−キシレンを含んでなる第１反応
物を提供する工程； （ｂ）無水ＨＦを含んでなる第２反応物を提供する工程； （ｃ）ＨＦと実質上不混和性であり、ＨＦ及びヘキサクロロ−ｐ−キシレンと
実質上非反応性である有機溶媒を提供する工程； （ｄ）該第１及び第２反応物を該有機溶媒中で反応させて、ＴＦＰＸジクロラ
イドを含んでなる生成物を形成させる工程； （ｅ）該ＴＦＰＸジクロライド生成物を反応させて、パリレンダイマーを形成
する工程；及び （ｆ）該パリレンダイマーをＧｏｒｈａｍ法を用いて反応させて、重合体のパ
リレンを形成する工程 を含んでなる合成方法。 - 【請求項２０】 有機溶媒が、塩化メチレン、１，１，２，２−テトラクロ
ロエタン、ペンタン、ヘキサン、トルエン、１，２−ジクロロエタン及びそれら
の混合物からなる群から選択される、請求項１９記載の方法。 - 【請求項２１】 有機溶媒が１，２−ジクロロエタンを含んでなる、請求項
１９記載の方法。 - 【請求項２２】 第１及び第２反応物間の反応を触媒の存在下で行う、請求
項１９記載の方法。 - 【請求項２３】 触媒が、ＳｂＣｌ3、ＳｂＣｌ5、ＳｂＦ3、ＳｂＦ5、Ｈｇ
Ｆ2及びＳｎＣｌ4からなる群から選択される、請求項２２記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US09/003,208 | 1998-01-06 | ||
| US09/003,208 US6150499A (en) | 1998-01-06 | 1998-01-06 | Process for preparation of TFPX-dichloride |
| PCT/US1999/000014 WO1999035111A1 (en) | 1998-01-06 | 1999-01-04 | Process for preparation of tfpx-dichloride |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002500207A true JP2002500207A (ja) | 2002-01-08 |
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ID=21704723
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000527515A Expired - Fee Related JP4314321B2 (ja) | 1998-01-06 | 1999-01-04 | Ｔｆｐｘジクロライドの製造方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014005213A (ja) * | 2012-06-21 | 2014-01-16 | Central Glass Co Ltd | α，α−ジフルオロ芳香族化合物の製造方法 |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6117278A (en) * | 1998-12-10 | 2000-09-12 | Occidental Chemical Corporation | Method of making α-chloroxylenes |
| US6222078B1 (en) * | 1998-12-10 | 2001-04-24 | Occidental Chemical Corporation | Method of making α-chloro-α,α-difluoro aromatic compounds |
| FR2810164A1 (fr) | 2000-06-09 | 2001-12-14 | Thomson Multimedia Sa | Perfectionnement aux antennes source d'emission/reception d'ondes electromagnetiques pour systemes de telecommunications par satellite |
| CN1127461C (zh) * | 2000-12-19 | 2003-11-12 | 中国科学院上海有机化学研究所 | α位全氟对二甲苯聚合物的合成方法 |
| TW200633958A (en) * | 2005-03-21 | 2006-10-01 | Yuan Shin Machinery Co Ltd | Method for transferring TCPX into TFPX |
| TW200633959A (en) * | 2005-03-21 | 2006-10-01 | Yuan Shin Machinery Co Ltd | Method for the synthesis of TFPX |
| US7994372B2 (en) * | 2005-10-31 | 2011-08-09 | Specialty Coating Systems, Inc. | Parylene variants and methods of synthesis and use |
| US7462750B2 (en) * | 2005-10-31 | 2008-12-09 | Specialty Coating Systems, Inc. | Parylene variants and methods of synthesis and use |
| US7544765B2 (en) * | 2006-10-12 | 2009-06-09 | University Of Florida Research Foundation, Inc. | Methods for producing thermoplastic fluoropolymers |
| US7652178B2 (en) | 2007-02-26 | 2010-01-26 | Specialty Coating Systems, Inc. | Perfluoroparacyclophane and methods of synthesis and use thereof |
| US8945307B2 (en) | 2009-12-23 | 2015-02-03 | Aeroquest Research Group Llc | Apparatus and method for vapor deposition of dielectric wire coating |
| TWI424981B (zh) | 2011-11-09 | 2014-02-01 | Chung Shan Inst Of Science | １，４－雙（氯二氟甲基）苯之簡易式高效率製備方法 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1518857A1 (de) * | 1951-01-28 | 1969-08-21 | Hoechst Ag | Verfahren zur Herstellung von Difluorchlormethylderivaten des Benzols |
| DE1215671B (de) * | 1963-09-04 | 1966-05-05 | Hoechst Ag | Verfahren zur Herstellung von Fluorchlormethanen |
| DE2548970C3 (de) * | 1975-11-03 | 1978-05-11 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren zur Herstellung von Trichlormethyl-trifluormethyl-benzolen |
| RU2032654C1 (ru) * | 1992-03-18 | 1995-04-10 | Научно-исследовательский физико-химический институт им.Л.Я.Карпова | СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ α,α,α′,α′ - ТЕТРАФТОР-П-КСИЛОЛА |
| JP3231103B2 (ja) * | 1992-10-08 | 2001-11-19 | 株式会社ヤクルト本社 | ピリジルアミノ化誘導体の処理方法 |
-
1998
- 1998-01-06 US US09/003,208 patent/US6150499A/en not_active Expired - Lifetime
-
1999
- 1999-01-04 JP JP2000527515A patent/JP4314321B2/ja not_active Expired - Fee Related
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- 1999-01-04 EP EP99901267A patent/EP1045821A1/en not_active Ceased
- 1999-01-04 WO PCT/US1999/000014 patent/WO1999035111A1/en not_active Application Discontinuation
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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