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JP2003092239A - Semiconductor product production system - Google Patents

Semiconductor product production system

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JP2003092239A
JP2003092239A JP2001285367A JP2001285367A JP2003092239A JP 2003092239 A JP2003092239 A JP 2003092239A JP 2001285367 A JP2001285367 A JP 2001285367A JP 2001285367 A JP2001285367 A JP 2001285367A JP 2003092239 A JP2003092239 A JP 2003092239A
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JP
Japan
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factory
semiconductor product
semiconductor
production system
production
Prior art date
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JP2001285367A
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Japanese (ja)
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卓哉 元砂
Takeshi Kimura
毅 木村
Masamichi Harada
昌道 原田
Tomohiko Yoshida
智彦 吉田
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Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Publication date
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    • Y02P90/30Computing systems specially adapted for manufacturing

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  • Management, Administration, Business Operations System, And Electronic Commerce (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 製品の歩留まりの維持または向上をより確実
に行うことができる半導体製品の生産システムを提供す
る。 【解決手段】 複数の組み立て工程と特性検査工程とを
経て生産され、第1工場1で複数の組み立て工程のうち
の前半工程が実施されて得られた半完成品が第2工場2
に出荷され、この第2工場2で組み立て工程のうちの後
半工程と特性検査工程27とが実施されることにより生
産される半導体製品の生産システムであって、第1工場
1と第2工場2とこれらの第1工場1および第2工場2
の間におけるデータ転送に用いられるインターネット通
信網3とから構成されており、第2工場2で得られた生
産管理情報および検査結果情報がインターネット通信網
3を介して第1工場1に送信され、これらの生産管理情
報および検査結果情報に基づき、第1工場1で実施され
る組み立て工程の生産条件の変更が行われる。
(57) [Summary] [PROBLEMS] To provide a semiconductor product production system capable of more reliably maintaining or improving the product yield. SOLUTION: A semi-finished product produced through a plurality of assembling steps and a characteristic inspection step and obtained by performing a first half of a plurality of assembling steps in a first factory 1 is a second factory 2
And a semiconductor product production system produced by performing the latter half of the assembling process and the characteristic inspection process 27 in the second factory 2, comprising a first factory 1 and a second factory 2. And these first factory 1 and second factory 2
, And the production management information and the inspection result information obtained in the second factory 2 are transmitted to the first factory 1 via the Internet communication network 3, Based on the production management information and the inspection result information, the production conditions of the assembly process performed in the first factory 1 are changed.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、複数の組み立て工
程および特性検査工程からなる生産工程を経て生産され
る半導体製品の生産システムに係り、特に、第1工場で
所定の組み立て工程が終了した半完成品を第2工場に移
送し、残りの組み立て工程を第2工場で実施することに
より完成する半導体製品の生産システムに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor product production system produced through a production process including a plurality of assembly processes and characteristic inspection processes. The present invention relates to a semiconductor product production system that is completed by transferring finished products to a second factory and performing the remaining assembly steps in the second factory.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の半導体製品の生産工程の一例とし
ては、半導体ウエハへのエピタキシャル成長、チャンネ
ル形成および電極形成等からなるウエハ工程(以下、
「前半工程」ともいう)、このウエハ工程が終了した半
導体ウエハをチップ単位に分割する工程とダイボンド工
程とワイヤボンド工程と封止工程とからなり半導体製品
を完成させるアセンブリ工程(以下、「後半工程」とい
う)、ならびに個々の半導体製品の電気光学的特性を検
査する特性検査工程からなるものがある。
2. Description of the Related Art As an example of a conventional semiconductor product production process, a wafer process including epitaxial growth on a semiconductor wafer, channel formation, electrode formation, etc.
An assembly process (hereinafter, referred to as “second half process”) including a “first half process”, a process of dividing the semiconductor wafer after the wafer process into chips, a die bonding process, a wire bonding process, and a sealing process. )) As well as a characteristic inspection process for inspecting electro-optical characteristics of individual semiconductor products.

【0003】図4は、従来の半導体製品の生産工程の一
例を示す説明図である。なお、同図において、実線矢印
はワークの流れを示し、破線矢印は情報の流れを示して
いる。
FIG. 4 is an explanatory view showing an example of a conventional semiconductor product production process. In the figure, solid arrows indicate the flow of work, and broken arrows indicate the flow of information.

【0004】従来より、半導体レーザおよび発光ダイオ
ード等といった半導体製品の生産では、基板受入検査工
程101、エピタキシャル成長工程102、チャンネル
形成工程103および電極形成工程104からなる前半
工程と、ウエハ分割(チップ化)工程105、ダイボン
ド工程106、ワイヤボンド工程107および封止工程
108からなる後半工程と、特性検査工程109と、完
成品工程110とからなる。このうち、前半工程では、
10〜50枚の半導体ウエハを1単位とするバッチを形
成してこのバッチ単位で加工を実施している。また、後
半工程と、特性検査工程109および完成品工程110
とでは、1枚の半導体ウエハを1単位とするロット単位
で加工工程を進めている。
Conventionally, in the production of semiconductor products such as semiconductor lasers and light emitting diodes, the first half of the substrate acceptance inspection step 101, the epitaxial growth step 102, the channel formation step 103, and the electrode formation step 104, and wafer division (chip formation). A second half process including a process 105, a die bonding process 106, a wire bonding process 107, and a sealing process 108, a characteristic inspection process 109, and a finished product process 110. Of these, in the first half of the process,
A batch having 10 to 50 semiconductor wafers as one unit is formed, and processing is performed in this batch unit. Further, the latter half process, the characteristic inspection process 109 and the finished product process 110.
In, the processing steps are carried out in lot units with one semiconductor wafer as one unit.

【0005】このような半導体製品の生産システムで
は、各工程で、1つのバッチまたはロットの加工が終了
したら、新しいバッチまたはロットを投入するといった
形で、次々と加工工程をバッチまたはロット単位で進め
ていき、最初のロットが完成品になる時点では、複数の
バッチおよびロットに対して各工程が実施されている状
態になるような生産システムが採用されていた。
In such a semiconductor product production system, after the processing of one batch or lot is completed in each process, a new batch or lot is introduced, and the processing steps are successively advanced in batch or lot units. Then, when the first lot became a finished product, a production system was adopted so that each process was carried out for a plurality of batches and lots.

【0006】そして、特性検査工程109で得られた検
査データを前半工程にフィードバックして、前半工程の
特定の工程、例えばエピタキシャル成長工程102のパ
ラメータを変更することにより、歩留まりの安定および
向上を図っていた。
Then, the inspection data obtained in the characteristic inspection step 109 is fed back to the first half step to change the parameters of a specific step of the first half step, for example, the epitaxial growth step 102, in order to stabilize and improve the yield. It was

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】半導体製品の生産工程
のうち、前半工程は、例えばクラス100以下のクリー
ン度の高い第1工場114で実施され、後半工程は、ク
ラス10000程度のクリーン度のやや低い第2工場1
15で実施されることが一般的である。さらに、前半工
程は、生産効率の高い装置集約型であるのに対し、後半
工程は生産効率の低い労働集約型であることも一般的で
ある。
Among the semiconductor product production processes, the first half process is performed in the first factory 114 having a high cleanliness of class 100 or less, and the second half of the processes is a little clean with a class of 10,000 or so. Lower second factory 1
It is common to be implemented at 15. Further, the first half process is generally a device-intensive type with high production efficiency, whereas the latter half process is generally a labor-intensive type with low production efficiency.

【0008】また、従来の半導体製品の生産では、完成
品の特性値は、前半工程の特定の工程に大きく影響を受
けるため、検査データを前記特定の工程にフィードバッ
クし、この特定の工程のパラメータを変更して、完成品
の特性値が所定の値になるようにして、歩留まりの維持
向上が実施されている。
Further, in the conventional production of semiconductor products, the characteristic value of the finished product is greatly influenced by the specific process of the first half process, so the inspection data is fed back to the specific process, and the parameter of this specific process is fed back. Is changed so that the characteristic value of the finished product becomes a predetermined value, and the yield is maintained and improved.

【0009】第1工場114と第2工場115とは、相
互に離れた拠点に設置されることが多く、特に第2工場
115は海外に設置されることが多い。そのため、前記
フィードバックの方法としては、第2工場115で得ら
れた検査データをプリントアウト111して、ファクシ
ミリ等の公衆電話回線網を用いたオフライン通信112
を行っていた。
The first factory 114 and the second factory 115 are often installed at bases distant from each other, and particularly the second factory 115 is often installed overseas. Therefore, as a method of the feedback, the inspection data obtained at the second factory 115 is printed out 111, and the offline communication 112 using a public telephone line network such as a facsimile is performed.
Was going on.

【0010】このように、ファクシミリ等を用いたオフ
ライン通信112により第1工場114へ検査データを
送った場合、検査データを解析するために、第1工場1
14側のパソコンにデータを入力し、特定の工程のパラ
メータを変更する(データ入力、工程のパラメータ変更
113)必要がある。その結果、特性値に大きな影響を
もつ特定の工程のパラメータ変更をタイムリーに行うこ
とができないといった問題があった。
As described above, when the inspection data is sent to the first factory 114 by the offline communication 112 using a facsimile or the like, in order to analyze the inspection data, the first factory 1
It is necessary to input data to the personal computer on the 14th side and change the parameters of a specific process (data input, process parameter change 113). As a result, there has been a problem that it is not possible to change the parameters of a specific process, which has a great influence on the characteristic value, in a timely manner.

【0011】また、第2工場115にどれだけの仕掛品
が存在しているのかを把握するのに時間がかかり、第1
工場114で生産された半完成品を、複数あるうちのど
の第2工場115にいつどれだけ送ればよいかをタイム
リーに判断できないといった問題もあった。
In addition, it takes time to know how many work-in-process products are present in the second factory 115.
There is also a problem that it is not possible to timely determine which semi-finished product produced in the factory 114 should be sent to which second factory 115 out of a plurality of products.

【0012】本発明はこのような問題を解決すべく創案
されたものであり、タイムリーに検査データを得ること
によって、製品の歩留まりの維持または向上をより確実
に行うことができる半導体製品の生産システムを提供す
ることを目的としている。
The present invention was devised to solve such a problem, and by obtaining inspection data in a timely manner, it is possible to more surely maintain or improve the yield of the semiconductor product. The purpose is to provide a system.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体製品の生
産システムは、複数の組み立て工程と特性検査工程とを
経て生産され、第1工場で複数の組み立て工程のうちの
少なくとも一部分の工程が実施されて得られた半完成品
が1つまたは複数の第2工場に出荷され、この第2工場
で残りの組み立て工程と特性検査工程とが実施されるこ
とにより生産される半導体製品の生産システムであっ
て、第1工場と、第2工場と、これらの第1工場および
第2工場間におけるデータ転送に用いられる通信回線と
から構成されており、前記第2工場で実施された特性検
査工程により得られた生産管理情報および検査結果情報
が通信回線を介して前記第1工場に送信され、これらの
生産管理情報および検査結果情報に基づき、第1工場で
実施される組み立て工程の生産条件の変更が行われると
いったものである。
A semiconductor product production system according to the present invention is manufactured through a plurality of assembly steps and a characteristic inspection step, and at least a part of the plurality of assembly steps is carried out in a first factory. The semi-finished product thus obtained is shipped to one or a plurality of second factories, and the remaining assembly process and characteristic inspection process are carried out in this second plant to produce a semiconductor product. It is composed of a first factory, a second factory, and a communication line used for data transfer between the first factory and the second factory. According to the characteristic inspection process carried out in the second factory. The obtained production management information and inspection result information are transmitted to the first factory via a communication line, and the assembly is performed in the first factory based on the production management information and the inspection result information. Are those such as the change of the extent of the production conditions is carried out.

【0014】この発明によれば、完成した半導体製品に
対して実施された特性検査工程によって生産管理情報お
よび検査結果情報を得た後、この生産管理情報および検
査結果情報に基づき、これから実施する組み立て工程の
生産条件を常時変更して、所望の特性を有する半導体製
品を生産することができる。
According to the present invention, after the production control information and the inspection result information are obtained by the characteristic inspection process performed on the completed semiconductor product, the assembly to be performed from now on the basis of the production control information and the inspection result information. It is possible to constantly change the production conditions of the process to produce semiconductor products having desired characteristics.

【0015】また、前記第1工場と第2工場とが第1工
場および第2工場それぞれに設けられた送受用サーバコ
ンピュータによって通信回線に接続されており、これら
の送受用サーバコンピュータが、送信要求、所定の工程
管理データおよび検査結果データのみを授受するように
設定されているものであってもよい。
Further, the first factory and the second factory are connected to a communication line by a transmission / reception server computer provided in each of the first factory and the second factory, and these transmission / reception server computers send a transmission request. Alternatively, it may be set so as to exchange only predetermined process control data and inspection result data.

【0016】この場合には、ファイアウォール等の外部
からの侵入防止機能を備えた送受用サーバコンピュータ
を用いることにより、第2工場内の情報が他へ漏れる心
配なく生産管理情報および検査結果情報を第1工場へ迅
速にフィードバックすることができる。
In this case, a transmission / reception server computer having a function of preventing intrusion from the outside such as a firewall is used, so that the production management information and the inspection result information can be stored in the second factory without fear of leaking the information in the second factory to others. Quick feedback can be provided to one factory.

【0017】また、前記生産管理情報が、第1工場から
送信要求があったときに、第2工場から第1工場へ送信
されるものであってもよい。
Further, the production management information may be transmitted from the second factory to the first factory when a transmission request is issued from the first factory.

【0018】この場合には、データの送信が不定期にな
り、第三者にデータを傍受される可能性が低くなる。
In this case, the data transmission becomes irregular and the possibility that the data will be intercepted by a third party decreases.

【0019】また、前記検査結果情報が半導体製品の特
性に関するデータを含んでおり、前記生産条件の変更
が、検査結果情報に基づき、半導体製品の特性が所定の
値になるように、複数の組み立て工程のうち半導体製品
の特性に影響を与える組み立て工程のパラメータの変更
であるものであってもよい。
Further, the inspection result information includes data relating to the characteristics of the semiconductor product, and when the production conditions are changed, a plurality of assembling steps are performed so that the characteristics of the semiconductor product have predetermined values based on the inspection result information. It may be a change of a parameter of an assembling process that affects the characteristics of the semiconductor product in the process.

【0020】この場合には、所望の特性を有する半導体
製品を得ることができる。
In this case, a semiconductor product having desired characteristics can be obtained.

【0021】また、前記第2工場が複数有り、生産条件
の変更として、生産管理情報に基づき、歩留まりのより
低い第2工場へ出荷される予定の半完成品の少なくとも
一部分が歩留まりのより高い第2工場へ出荷されるよう
に、第1工場から第2工場に出荷される半完成品の数量
の変更が行われるといったものであってもよい。
Further, there are a plurality of the second factories, and as a change of the production condition, at least a part of the semi-finished products scheduled to be shipped to the second factories with a lower yield is the higher factor based on the production management information. The quantity of the semi-finished products shipped from the first factory to the second factory may be changed so as to be shipped to the two plants.

【0022】この場合には、歩留まりのより高い第2工
場を効率よく利用することができる。
In this case, the second factory having a higher yield can be efficiently used.

【0023】また、前記生産管理情報が、第2工場で実
施される各組み立て工程に対応付けて作成された、半導
体製品の機種名、半導体製品を識別する記号、数量、工
程名および工程完了日時を少なくとも含むものであって
もよい。
Further, the production management information is created in association with each assembling process carried out in the second factory, the model name of the semiconductor product, the symbol for identifying the semiconductor product, the quantity, the process name and the process completion date and time. May be included at least.

【0024】この場合には、より確実に生産管理を実施
することができる。
In this case, production control can be carried out more reliably.

【0025】また、前記半導体製品が半導体素子であっ
てもよい。
The semiconductor product may be a semiconductor device.

【0026】この場合には、半導体レーザ等といった、
製品完成時にしか特性検査を実施できない半導体製品に
関してより確実に歩留まりを向上させることができる。
In this case, such as a semiconductor laser,
It is possible to more surely improve the yield of a semiconductor product whose characteristic inspection can be performed only when the product is completed.

【0027】また、前記半導体製品の特性に影響を与え
る組み立て工程が、半導体結晶をエピタキシャル成長さ
せる工程または半導体結晶に対して不純物を拡散する工
程であってもよい。
Further, the assembling step that affects the characteristics of the semiconductor product may be a step of epitaxially growing a semiconductor crystal or a step of diffusing impurities into the semiconductor crystal.

【0028】この場合には、半導体製品の特性をより確
実に改善することができる。
In this case, the characteristics of the semiconductor product can be improved more reliably.

【0029】また、前記通信回線がインターネット通信
網であってもよい。
The communication line may be an internet communication network.

【0030】この場合には、生産管理情報および検査結
果情報の送信をより迅速に行うことができる。
In this case, the production control information and the inspection result information can be transmitted more quickly.

【0031】また、前記通信回線が専用回線であっても
よい。
Further, the communication line may be a dedicated line.

【0032】この場合には、第三者に生産管理情報およ
び検査結果情報が漏れることをより確実に防止できる。
In this case, it is possible to more reliably prevent the production management information and the inspection result information from leaking to a third party.

【0033】[0033]

【発明の実施の形態】次に、本発明の半導体製品の生産
システムの一実施の形態について説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Next, an embodiment of a semiconductor product production system of the present invention will be described.

【0034】[実施の形態1]まず、本発明の半導体製
品の生産システムの実施の形態1について図面を参照し
つつ説明する。
[First Embodiment] First, a first embodiment of a semiconductor product production system of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0035】なお、本明細書においては、生産される半
導体製品の一例として半導体レーザを用いているが、本
発明の半導体製品の生産システムを用いて生産される半
導体製品はこれに限定されるものではない。
In this specification, a semiconductor laser is used as an example of a semiconductor product to be produced, but the semiconductor product produced using the semiconductor product production system of the present invention is not limited to this. is not.

【0036】図1は、本発明の半導体製品の生産システ
ムの一実施の形態を示す説明図である。同図において、
実線矢印はワークの流れを示し、破線矢印は情報の流れ
を示している。
FIG. 1 is an explanatory diagram showing an embodiment of a semiconductor product production system of the present invention. In the figure,
The solid arrow indicates the flow of work, and the broken arrow indicates the flow of information.

【0037】この半導体製品の生産システムは、第1工
場1と、第2工場2と、これら第1工場1および第2工
場2の間におけるデータ転送に用いられるインターネッ
ト通信網3とから構成されている。さらに、第1工場1
および第2工場2それぞれには、工場内サーバコンピュ
ータ(以下、「工場内サーバ」という)11,21と送
受用サーバコンピュータ(以下、「送受用サーバ」とい
う)12,22とが設置されている。
This semiconductor product production system comprises a first factory 1, a second factory 2, and an internet communication network 3 used for data transfer between the first factory 1 and the second factory 2. There is. Furthermore, the first factory 1
In each of the second factory 2, there are installed in-factory server computers (hereinafter referred to as “in-factory server”) 11 and 21 and transmission / reception server computers (hereinafter referred to as “transmission / reception server”) 12 and 22. .

【0038】第1工場1では、半導体レーザの組み立て
工程のうちの、基板受入検査工程13、エピタキシャル
成長工程14、チャンネル形成工程15、電極形成工程
16からなる前半工程が実施され、半完成品が得られ
る。
In the first factory 1, of the semiconductor laser assembling process, the first half process including the substrate acceptance inspection process 13, the epitaxial growth process 14, the channel formation process 15, and the electrode formation process 16 is carried out to obtain a semi-finished product. To be

【0039】前半工程のうち、基板受入検査工程13で
は、半導体レーザを形成する際に基板として用いられる
半導体ウエハの検査を行う。エピタキシャル成長工程1
4では、半導体ウエハ上に半導体結晶を形成する。チャ
ンネル形成工程15では、例えば、エッチングやスパッ
タリング、および半導体結晶に対する不純物の拡散等を
実施し、その後必要に応じて、積層された薄膜の所定の
領域を除去したり、所定の領域に半導体層を形成したり
する。電極形成工程16では、積層された薄膜の所定の
位置に電極を形成した後、薄膜の露出部分を覆うように
保護膜を形成する。
In the substrate acceptance inspection step 13 of the first half steps, the semiconductor wafer used as a substrate when forming the semiconductor laser is inspected. Epitaxial growth process 1
In 4, a semiconductor crystal is formed on the semiconductor wafer. In the channel forming step 15, for example, etching, sputtering, diffusion of impurities into a semiconductor crystal, etc. are performed, and then, if necessary, a predetermined region of the stacked thin films is removed or a semiconductor layer is formed on the predetermined region. To form. In the electrode forming step 16, an electrode is formed at a predetermined position of the laminated thin films, and then a protective film is formed so as to cover the exposed portion of the thin films.

【0040】この前半工程は、第1工場1においてクリ
ーン度の非常に高い状態で実施される。その後、半完成
品は、第1工場1からクリーン度のやや低い工場である
第2工場に搬送される。
This first-half process is carried out in the first factory 1 in a very high degree of cleanliness. After that, the semi-finished product is transferred from the first factory 1 to the second factory, which is a factory with a slightly lower cleanness.

【0041】第2工場2では、半導体レーザの組み立工
程のうちの、ウエハ分割(チップ化)工程23、ダイボ
ンド工程24、ワイヤボンド工程25および封止工程2
6からなる後半工程と、特性検査工程27と、完成品工
程28とが実施され、出荷可能な状態の完成品(半導体
レーザ)が得られる。
In the second factory 2, the wafer division (chip formation) process 23, the die bonding process 24, the wire bonding process 25, and the sealing process 2 in the process of assembling the semiconductor laser.
The latter half process consisting of 6 and the characteristic inspection process 27 and the finished product process 28 are carried out to obtain a finished product (semiconductor laser) ready for shipping.

【0042】後半工程のうち、ウエハ分割工程23で
は、ダイヤモンドカッター等を用いて半導体ウエハを切
断して1枚の半導体ウエハ上に形成された個々のチップ
を分割する。ダイボンド工程24では、導電性エポキシ
樹脂または半田等を用いて、金属で形成されたフレーム
上に1つのチップをマウントする。ワイヤボンド工程2
5では、チップの電極とリードとを導電性を有する線
(例えば、金線、銅線またはアルミニウム線)で電気的
に接続する。封止工程26では、ボンディングの終わっ
たチップをフレームごと金型にセットして、熱硬化性を
有する樹脂(例えば、エポキシ樹脂)を金型に流し込ん
で成形し、さらに、フレームの不要部分をカットする。
In the latter half of the steps, in the wafer dividing step 23, the semiconductor wafer is cut using a diamond cutter or the like to divide the individual chips formed on one semiconductor wafer. In the die-bonding step 24, one chip is mounted on a frame made of metal by using a conductive epoxy resin or solder. Wire bond process 2
In 5, the electrodes of the chip and the leads are electrically connected by a conductive wire (eg, gold wire, copper wire or aluminum wire). In the sealing step 26, the chip after bonding is set in a mold together with the frame, a thermosetting resin (for example, epoxy resin) is poured into the mold to be molded, and unnecessary portions of the frame are cut. To do.

【0043】一般に、シリコンを用いて形成された半導
体集積製品は、基板の特定の部分にPN接合や絶縁物を
形成することにより素子間の電気的分離が容易であるの
で、前半工程で半完成品の電気特性を検査することによ
り、良品のチップに対してのみ後半工程を実施するとい
った生産システムを採ることができる。しかし、半導体
レーザのような半導体製品は、基板の特定の部分にPN
接合や絶縁物を設けることが困難であり、前記のような
生産システムを採ることができない。
In general, a semiconductor integrated product formed by using silicon is easy to electrically separate between elements by forming a PN junction or an insulator in a specific portion of the substrate, and thus is semi-finished in the first half step. By inspecting the electrical characteristics of the product, it is possible to adopt a production system in which the latter half process is carried out only for non-defective chips. However, semiconductor products such as semiconductor lasers have PN on certain parts of the substrate.
It is difficult to provide a joint or an insulator, and the above production system cannot be adopted.

【0044】そのため、封止工程26が終了した後の特
性検査工程27まで、製品の良否が判らず、前半工程で
作成したウエハ、即ちこのウエハを分割して作った全て
のチップをアセンブリし(後半工程を施し)、そして特
性検査工程27で良否を選別する必要がある。
Therefore, until the characteristic inspection step 27 after the end of the sealing step 26, the quality of the product is not known, and the wafer made in the first half step, that is, all the chips made by dividing this wafer are assembled ( It is necessary to perform the latter half process) and to select the quality in the characteristic inspection process 27.

【0045】そして、この特性検査工程27での検査結
果をもとに迅速にエピタキシャル成長工程14における
パラメータの変更を指示し、所定の特性値を示す完成品
をできるだけ多く生産できるような生産システムを採る
必要がある。
Then, based on the inspection result in the characteristic inspection step 27, a parameter change in the epitaxial growth step 14 is promptly instructed, and a production system is adopted so that as many finished products having predetermined characteristic values as possible can be produced. There is a need.

【0046】しかし、従来の生産システムでは、検査結
果情報の伝達がオフラインで実施されているため、第2
工場が第1工場に対して遠隔地にある場合、迅速なフィ
ードバックが困難であった。
However, in the conventional production system, since the transmission of the inspection result information is performed off-line, the second
When the factory is remote from the first factory, quick feedback was difficult.

【0047】本実施の形態の半導体製品の生産システム
では、第2工場2に工場内サーバ21を設置し、各ワー
クの特性検査値、特性検査値の平均値と分布、良否の判
定および良品率を、検査結果情報211として、特性検
査工程27で用いられるテスターから工場内サーバ21
へ転送している。なお、各ワークを識別する記号とし
て、例えば、ウエハ分割工程23から完成品工程28ま
での各工程において用いられる機種名、50〜100枚
のウエハを単位とするバッチを識別する記号およびウエ
ハ1枚を単位とするロットを識別する記号が用いられ
る。
In the semiconductor product production system of the present embodiment, the in-plant server 21 is installed in the second factory 2, and the characteristic inspection value of each work, the average value and distribution of the characteristic inspection values, the quality judgment and the non-defective rate. Is used as the inspection result information 211 from the tester used in the characteristic inspection process 27 to the factory server 21.
Are transferred to. As a symbol for identifying each work, for example, a model name used in each process from the wafer dividing process 23 to the finished product process 28, a symbol for identifying a batch of 50 to 100 wafers, and one wafer A symbol for identifying a lot is used.

【0048】さらに、工場内サーバ21には、特定の工
程における良品のワークの数量、工程完了日時等が生産
管理情報212として取り込まれる。この生産管理情報
212は、例えば、ロット単位毎に検査結果情報211
とともに管理される。
Further, the in-plant server 21 stores the quantity of non-defective works in a specific process, the process completion date and time, etc. as the production management information 212. The production management information 212 is, for example, the inspection result information 211 for each lot.
Is managed with.

【0049】これらの検査結果情報211と生産管理情
報212とは、第2工場2の送受用サーバ22から、イ
ンターネット通信網3を経由して、第1工場1の送受用
サーバ12へ送られ、第1工場1の工場内サーバ11に
取り込まれる。なお、これらの送受用サーバ12,22
は、データを送受するとともに、第三者による工場内サ
ーバ11,21への侵入を防止する役目を担っている。
The inspection result information 211 and the production management information 212 are sent from the sending / receiving server 22 of the second factory 2 to the sending / receiving server 12 of the first factory 1 via the Internet communication network 3. It is taken into the server 11 in the factory of the first factory 1. In addition, these transmission / reception servers 12, 22
Plays a role of transmitting and receiving data and preventing intrusion of the servers 11 and 21 in the factory by a third party.

【0050】そして、第1工場1の工場内サーバ11に
集められたデータ(検査結果情報211および生産管理
情報212)により、工場内サーバ11において、エピ
タキシャル成長工程14のパラメータの変更の要否を判
断し、必要な場合は工程パラメータ変更17を実施す
る。これらの検査結果情報211および生産管理情報2
12は、1つのロットの特性検査が終了するたびに第2
工場2の工場内サーバ21において集計され、第1工場
1の工場内サーバ11に即時に送信されるように生産シ
ステムが構成されている。
Then, based on the data (inspection result information 211 and production management information 212) collected in the in-plant server 11 of the first factory 1, the in-plant server 11 determines whether or not the parameters of the epitaxial growth step 14 need to be changed. Then, if necessary, the process parameter change 17 is carried out. These inspection result information 211 and production management information 2
No. 12 is the second one after the characteristic inspection of one lot is completed.
The production system is configured so that the in-plant server 21 of the factory 2 collects the data and immediately transmits it to the in-plant server 11 of the first factory 1.

【0051】さらに、第1工場1の工場内サーバ11で
は、これらの検査結果情報211および生産管理情報2
12の蓄積および更新が行われており、パラメータの更
新とその結果の関連データとが多く集まることにより適
格および迅速なフィードバックが可能である。例えば、
特性検査工程27で歩留まりの低下が検出されたら、第
1工場1の工場内サーバ11に蓄積されたデータをもと
に、エピタキシャル成長工程14に対して工程パラメー
タ変更17の指示が直ちに行われ、その結果、確実な歩
留まりの向上が可能となる。
Further, in the in-plant server 11 of the first factory 1, the inspection result information 211 and the production management information 2 are stored.
Twelve accumulations and updates have been performed, and a large amount of parameter updates and the resulting related data are collected to enable qualified and rapid feedback. For example,
When the yield decrease is detected in the characteristic inspection step 27, the epitaxial growth step 14 is immediately instructed to change the process parameter 17 based on the data accumulated in the in-plant server 11 of the first factory 1, and As a result, the yield can be surely improved.

【0052】また、インターネット通信網3を利用する
ことにより、専用の回線を設置する必要が無いので、第
2工場2の立地に関して自由度が高くなる。一方、イン
ターネット通信網3については、データのセキュリティ
ー管理が重要であるため、第1工場1および第2工場2
の間では必要最低限のデータのみを送受し、送受用サー
バ12,22では所定の情報のみにタグ(tag)をつ
けてこの所定の情報以外の情報を送ったり、受けたりし
ないようにしている。
Further, by using the Internet communication network 3, it is not necessary to install a dedicated line, so that the degree of freedom regarding the location of the second factory 2 is increased. On the other hand, regarding the Internet communication network 3, since the security management of data is important, the first factory 1 and the second factory 2
In between, only the minimum necessary data is transmitted / received, and in the transmission / reception servers 12 and 22, only predetermined information is tagged so that information other than this predetermined information is not transmitted or received. .

【0053】[実施の形態2]次に、本発明の半導体製
品の生産システムの実施の形態2について図面を参照し
つつ説明する。
[Second Embodiment] Next, a second embodiment of the semiconductor product production system of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0054】図2は、本発明の半導体製品の生産システ
ムの他の実施の形態を示す説明図である。同図におい
て、実線矢印はワークの流れを示し、破線矢印は情報の
流れを示している。
FIG. 2 is an explanatory view showing another embodiment of the semiconductor product production system of the present invention. In the figure, solid arrows indicate the flow of work, and broken arrows indicate the flow of information.

【0055】一般に、前半工程を実施する第1工場1
は、高いクリーン度が要求され、かつ、設備費用も大き
いため、1つの拠点に集約されて設置されるが、第2工
場2は、クリーン度の要求がゆるいため、完成品の消費
地までの距離、人件費および材料調達等を考慮した上
で、海外を含む複数の拠点に設置されることが多い。本
実施の形態においては、このような複数の第2工場を備
えた生産システムについて説明する。
Generally, the first factory 1 for carrying out the first half process
Is required to have a high degree of cleanliness and the equipment costs are high, so it will be installed in a single location. However, since the second factory 2 has loose requirements for the degree of cleanliness, it will not reach the consumption area of finished products. It is often installed at multiple locations, including overseas, after considering distances, personnel costs, and material procurement. In the present embodiment, a production system including a plurality of such second factories will be described.

【0056】本実施の形態の半導体製品の生産システム
は、第2工場2以外に、第2工場2と同様の設備を有し
ており、かつ、同様の工程を実施する他の第2工場2a
とさらに他の第2工場2bとを備えている。
In addition to the second factory 2, the semiconductor product production system according to the present embodiment has the same equipment as the second factory 2, and another second factory 2a that carries out the same steps.
And the other second factory 2b.

【0057】他の第2工場2aは、第2工場2と同様
に、工場内サーバ21aと送受用サーバ22aとを備え
ており、ウエハ分割(チップ化)工程23a、ダイボン
ド工程24a、ワイヤボンド工程25aおよび封止工程
26aからなる後半工程と、特性検査工程27aおよび
完成品工程28aとを実施する。また、さらに他の第2
工場2bも、第2工場2と同様に、工場内サーバ21b
と送受用サーバ22bとを備えており、ウエハ分割(チ
ップ化)工程23b、ダイボンド工程24b、ワイヤボ
ンド工程25bおよび封止工程26bからなる後半工程
と、特性検査工程27bおよび完成品工程28bとを実
施する。。
Like the second factory 2, the other second factory 2a includes an in-factory server 21a and a transmission / reception server 22a, and a wafer dividing (chip forming) step 23a, a die bonding step 24a, a wire bonding step. The latter half process including 25a and the sealing process 26a, the characteristic inspection process 27a, and the finished product process 28a are performed. In addition, another second
Like the second factory 2, the factory 2b also has a server 21b in the factory.
And a server 22b for transmission / reception, and includes a second half process including a wafer dividing (chip formation) process 23b, a die bonding process 24b, a wire bonding process 25b and a sealing process 26b, a characteristic inspection process 27b and a finished product process 28b. carry out. .

【0058】3つの第2工場、即ち第2工場2、他の第
2工場2a、さらに他の第2工場2bそれぞれで実施さ
れた特性検査工程27,27a,27bによって得られ
た各データ(検査結果情報211,211a,211
b)は、第2工場2、他の第2工場2a、さらに他の第
2工場2bそれぞれの工場内サーバ21,21a,21
bに集められ、送受用サーバ22,22a,22bか
ら、インターネット通信網3を介して、第1工場1の送
受用サーバ12へ送信され、工場内サーバ11に収集さ
れる。そして、このデータに基づき、エピタキシャル成
長工程14に対して工程パラメータ変更17の指示が行
われ、その結果、確実な歩留まりの向上が可能となる。
Each data (inspection) obtained by the characteristic inspection steps 27, 27a, 27b performed in each of the three second factories, that is, the second factories 2, the other second factories 2a, and the other second factories 2b. Result information 211, 211a, 211
b) is the in-plant server 21, 21a, 21 of each of the second factory 2, the other second factory 2a, and the other second factory 2b.
b, and is transmitted from the transmission / reception servers 22, 22a, 22b to the transmission / reception server 12 of the first factory 1 via the Internet communication network 3, and is collected by the in-plant server 11. Then, based on this data, the process parameters change 17 is instructed to the epitaxial growth process 14, and as a result, the yield can be surely improved.

【0059】これらの検査結果情報211,211a,
211bの送信はインターネット通信網3を介してオン
ラインで実施されるため、工場の場所に関係なく(例え
ば、海外に建設された場合でも)、検査結果情報21
1,211a,211bを第1工場1に常に迅速にフィ
ードバックすることができる。
These inspection result information 211, 211a,
Since the transmission of 211b is carried out online via the Internet communication network 3, the inspection result information 21 regardless of the location of the factory (for example, even when it is constructed overseas).
It is possible to always feed back 1,211a, 211b to the first factory 1 quickly.

【0060】なお、本実施の形態においては、第2工場
を3つ備えた例を示したが、第2工場の数はこれに限定
されるものではなく、3つよりも多くなってもよい。
In the present embodiment, an example in which three second factories are provided has been shown, but the number of second factories is not limited to this, and may be more than three. .

【0061】[実施の形態3]次に、本発明の半導体製
品の生産システムの実施の形態3について図面を参照し
つつ説明する。
[Third Embodiment] Next, a third embodiment of the semiconductor product production system of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0062】図3は、本発明の半導体製品の生産システ
ムのさらに他の実施の形態を示す説明図である。同図に
おいて、実線矢印はワークの流れを示し、破線矢印は情
報の流れを示している。
FIG. 3 is an explanatory view showing still another embodiment of the production system for semiconductor products of the present invention. In the figure, solid arrows indicate the flow of work, and broken arrows indicate the flow of information.

【0063】前述の実施の形態2により、複数の第2工
場を有する半導体製品の生産システムにおいて特性検査
データをエピタキシャル成長工程に迅速にフィードバッ
クすることによって、歩留まりの向上および安定が保た
れることが明らかになった。しかしながら、前述のよう
な半導体製品の生産システムを採用した場合においても
半導体製品の歩留まりのある程度の変動は避けられな
い。そのため、複数の第2工場を使って半導体製品を生
産する場合、特に同一機種を複数の第2工場で生産する
場合には、歩留まりを考慮しつつ、計画通りに生産数量
を調整することが困難であった。本実施の形態の半導体
製品の生産システムによれば、このような同一機種を複
数の第2工場で生産する場合でも、生産数量の調整が容
易になるものである。
According to the second embodiment described above, it is apparent that the yield improvement and stability can be maintained by rapidly feeding back the characteristic inspection data to the epitaxial growth process in the semiconductor product production system having a plurality of second factories. Became. However, even when the above-described semiconductor product production system is adopted, some fluctuation in the yield of semiconductor products cannot be avoided. Therefore, when semiconductor products are manufactured using a plurality of second factories, particularly when the same model is manufactured by a plurality of second factories, it is difficult to adjust the production quantity as planned while considering the yield. Met. According to the semiconductor product production system of the present embodiment, even when such an identical model is produced in a plurality of second plants, the production quantity can be easily adjusted.

【0064】本実施の形態の半導体製品の生産システム
と前述の実施の形態2の半導体製品の生産システムとの
間で異なっている箇所は、第1工場1で工場別ウエハ配
分工程18が実施される点である。
The difference between the semiconductor product production system of the present embodiment and the semiconductor product production system of the second embodiment is that the factory-specific wafer allocation step 18 is performed in the first factory 1. That is the point.

【0065】前述の実施の形態2と同様に、第1工場1
から第2工場2、他の第2工場2a、さらに他の第2工
場2bへ半完成品状態のウエハが送られ、後半工程であ
るウエハ分割(チップ化)工程23,23a,23b、
ダイボンド工程24,24a,24b、ワイヤボンド工
程25,25a,25bおよび封止工程26,26a,
26bそれぞれが実施される。これらの各工程で、機種
名、バッチを識別する記号、ロットを識別する記号、数
量、工程名および工程完了日時からなる工程管理データ
が得られ、この工程管理データが工程管理情報として各
工場内サーバ21,21a,21bに収集される。な
お、工場内サーバ21,21a,21bでの情報収集
は、各工程を実施する装置が、自動的に生産管理データ
を読み取り、LAN(Local Area Netw
ork)で工場内サーバ21,21a,21bへ送信す
るか、または生産管理者が、各工程を実施する装置によ
って読み取られた工場管理データを工場内サーバ21,
21a,21bを構成する端末機のキーボードを使って
手動でキーインプットする等いずれの方法で実施しても
よい。
Similar to the second embodiment, the first factory 1
From the second factory 2, another second factory 2a, and further another second factory 2b, the semi-finished wafers are sent, and the latter half of the wafer dividing (chip forming) steps 23, 23a, 23b,
Die bonding process 24, 24a, 24b, wire bonding process 25, 25a, 25b and sealing process 26, 26a,
26b each is carried out. In each of these processes, process management data consisting of model name, batch identifying symbol, lot identifying symbol, quantity, process name, and process completion date and time is obtained. It is collected by the servers 21, 21a and 21b. Information is collected by the in-plant servers 21, 21a, and 21b by a device that executes each process automatically reading production management data and performing LAN (Local Area Network).
ork) to the in-plant servers 21, 21a, 21b, or the production manager reads in the factory management data read by the device that executes each process.
Any method may be used, such as manual key input using the keyboard of the terminal constituting 21a, 21b.

【0066】そして、特性検査工程27,27a,27
bでは、この工程管理情報212,212a,212b
とともに、各ワークの特性検査値、特性検査値の平均値
と分布、良否の判定および良品率が、検査結果情報21
1,211a,211bとして、工場内サーバ21,2
1a,21bに収集される。さらに、完成品工程28,
28a,28bにおいても工程管理データが工場内サー
バ21,21a,21bへ送信され、工程管理情報21
2,212a,212bとして収集される。
Then, the characteristic inspection steps 27, 27a, 27
b, the process management information 212, 212a, 212b
At the same time, the inspection result information 21 indicates the characteristic inspection value of each work, the average value and distribution of the characteristic inspection values, the quality judgment and the non-defective rate.
Servers 21 and 21 in the factory as 1, 211a and 211b
Collected in 1a and 21b. In addition, the finished product process 28,
Also in 28a and 28b, the process management data is transmitted to the in-plant servers 21, 21a and 21b, and the process management information 21
2, 212a and 212b are collected.

【0067】その後、第2工場2、他の第2工場2a、
さらに他の第2工場2bそれぞれの工場内サーバ21,
21a,21bに集められた生産管理情報211,21
1a,211bと生産管理情報212,212a,21
2bとは、送受用サーバ22,22a,22bから、イ
ンターネット通信網3を介して、第1工場1の送受用サ
ーバ12へ送られ、工場内サーバ11で収集される。
After that, the second factory 2, another second factory 2a,
In-plant server 21 of each of the other second factories 2b,
Production management information 211, 21 collected in 21a, 21b
1a, 211b and production management information 212, 212a, 21
2b is sent from the transmission / reception servers 22, 22a, 22b to the transmission / reception server 12 of the first factory 1 via the Internet communication network 3 and is collected by the in-factory server 11.

【0068】収集された生産管理情報211,211
a,211bと生産管理情報212,212a,212
bとは、1000個程度を単位とするロット毎にまとめ
られ、リアルタイムで第1工場1の工場内サーバ11に
常時集められる。第1工場1では半完成品を出荷するに
あたり、第2工場2、他の第2工場2aおよびさらに他
の第2工場2bそれぞれに対して最新の生産管理情報2
11,211a,211bの送信を要求する。
The collected production management information 211, 211
a, 211b and production management information 212, 212a, 212
b is collected for each lot in units of about 1000 and is constantly collected in real time on the server 11 in the factory of the first factory 1. In shipping the semi-finished products at the first factory 1, the latest production management information 2 is sent to each of the second factory 2, another second factory 2a and still another second factory 2b.
Request the transmission of 11, 211a, 211b.

【0069】工場内サーバ11は、工場内サーバ11に
集められた第2工場2、他の第2工場2aおよびさらに
他の第2工場2bそれぞれの生産管理情報212,21
2a,212bに基づき、出荷準備をしている特定の機
種のロットが各工程にどれだけ有り、良品がどれだけ生
産されているのかを確認して、第2工場2、他の第2工
場2aおよびさらに他の第2工場2bそれぞれについ
て、特定の機種の工程の仕掛かり状況、歩留まり、完成
品数量を判断する。
The in-plant server 11 includes the production management information 212, 21 of the second factory 2, the other second factory 2a and the other second factory 2b collected in the in-plant server 11, respectively.
2a, 212b, check how many lots of a specific model that is ready for shipment are in each process, and how many good products are produced, and then check the second factory 2 and the other second factory 2a. For each of the second factory 2b and the other second factory 2b, the in-process status of the process of the specific model, the yield, and the quantity of finished products are determined.

【0070】工場別ウエハ配分工程18では、この判断
をもとに、指示された生産数量(図中では、「工場別生
産数量指示」とした)に一致するように、第1工場1か
ら第2工場2、他の第2工場2aおよびさらに他の第2
工場2bそれぞれに出荷するウエハの数量を常時調整し
ている。
In the factory-specific wafer allocation step 18, based on this judgment, the first factory 1 to the first factory 1 are arranged so as to match the instructed production quantity (in the figure, referred to as “factory-specific production quantity instruction”). 2 factories 2, another 2nd factory 2a and another 2nd factory
The number of wafers shipped to each factory 2b is constantly adjusted.

【0071】例えば、第2工場2で後半工程を実施して
いる装置にトラブルが発生し、このトラブルが原因で歩
留まりの低下が生じて、特定の工程に仕掛品が集中し、
納期遅れが発生する可能性があると生産管理情報212
から判断でき、同時に、他の第2工場2aでは、装置ト
ラブルが無く、歩留まり、製品数量ともに計画以上数値
を達成していると生産管理情報212aから判断できる
場合には、第2工場2に出荷する予定だったウエハを他
の第2工場2aに出荷するといったウエハ配分の調整が
行われる。
For example, a trouble occurs in the device that is performing the latter half process in the second factory 2, and the yield decreases due to the trouble, and the work-in-process concentrates on a specific process.
If there is a possibility of delivery delay, production control information 212
If, at the same time, the other second factory 2a has no equipment trouble and the production management information 212a can determine that the yield and the product quantity have exceeded the planned values, the product is shipped to the second factory 2. The wafer distribution is adjusted such that the wafers scheduled to be shipped are shipped to another second factory 2a.

【0072】このように、生産管理情報に基づきウエハ
配分を決定するので、ウエハ配分の調整処理が迅速に実
施でき、生産歩留まりの向上と納期の短縮とが可能にな
る。また、第1工場1から要求があったときのみ第2工
場2、他の第2工場2aおよびさらに他の第2工場2b
からデータ(生産管理情報211,211a,211
b)が送信されることにより、データの送信が不定期に
なり、第三者にデータを傍受される可能性が低くなる。
Since the wafer distribution is determined based on the production management information as described above, the adjustment processing of the wafer distribution can be executed quickly, and the production yield can be improved and the delivery time can be shortened. Further, only when there is a request from the first factory 1, the second factory 2, another second factory 2a and still another second factory 2b.
From data (production management information 211, 211a, 211
By transmitting b), the transmission of the data becomes irregular and the possibility that the data will be intercepted by a third party is reduced.

【0073】なお、本明細書においては、収集されたデ
ータに基づき工程パラメータ変更を行う工程の一例とし
てエピタキシャル成長工程をあげているが、これに限定
されることはなく、例えばチャンネル形成工程において
拡散に関する工程パラメータ変更を行った場合において
も、本明細書に記載した効果と同様の効果が得られる。
In the present specification, the epitaxial growth step is given as an example of the step of changing the process parameter based on the collected data, but the present invention is not limited to this and, for example, is related to diffusion in the channel forming step. Even when the process parameters are changed, the same effects as those described in the present specification can be obtained.

【0074】また、本明細書においては、データの伝送
にコンピュータ通信用公衆回線であるインターネット通
信網を用いているが、これに限定されることはなく、専
用回線(例えばLAN等)を用いてもよく、この専用回
線を用いた形態の方がデータの機密保持といった点で好
ましい。
In this specification, the Internet communication network, which is a public line for computer communication, is used for data transmission, but the present invention is not limited to this, and a dedicated line (for example, LAN) is used. However, it is preferable to use this dedicated line in terms of maintaining confidentiality of data.

【0075】[0075]

【発明の効果】本発明の半導体製品の生産システムは、
複数の組み立て工程と特性検査工程とを経て生産され、
第1工場で複数の組み立て工程のうちの少なくとも一部
分の工程が実施されて得られた半完成品が1つまたは複
数の第2工場に出荷され、この第2工場で残りの組み立
て工程と特性検査工程とが実施されることにより生産さ
れる半導体製品の生産システムであって、第1工場と第
2工場とこれらの第1工場および第2工場間におけるデ
ータ転送に用いられる通信回線とから構成されており、
前記第2工場で実施された特性検査工程により得られた
生産管理情報および検査結果情報が通信回線を介して前
記第1工場に送信され、これらの生産管理情報および検
査結果情報に基づき、第1工場で実施される組み立て工
程の生産条件の変更が行われるといったものであり、こ
の発明によれば、製品の歩留まりの維持または向上をよ
り確実に行うことができる。
The semiconductor product production system of the present invention comprises:
Produced through multiple assembly processes and characteristic inspection processes,
The semi-finished products obtained by performing at least a part of the plurality of assembly processes in the first factory are shipped to one or more second plants, and the remaining assembly processes and characteristic tests are performed in the second factory. And a communication line used for data transfer between the first factory and the second factory and the first factory and the second factory. And
The production control information and the inspection result information obtained by the characteristic inspection process performed in the second factory are transmitted to the first factory through a communication line, and the first control is performed based on the production control information and the inspection result information. According to the present invention, the production yield can be maintained or improved more reliably, because the production conditions of the assembly process performed in the factory are changed.

【0076】また、前記第1工場と第2工場とが第1工
場および第2工場それぞれに設けられた送受用サーバコ
ンピュータによって通信回線に接続されており、これら
の送受用サーバコンピュータが、送信要求、所定の工程
管理データおよび検査結果データのみを授受するように
設定されているものであってもよく、この場合には、よ
り安全な環境で生産管理情報および検査結果情報を第1
工場へ迅速にフィードバックすることができる。
Further, the first factory and the second factory are connected to the communication line by the transmission / reception server computers provided in the first factory and the second factory, respectively, and these transmission / reception server computers send the transmission request. It may be set so as to send and receive only predetermined process control data and inspection result data. In this case, the production control information and the inspection result information may be transferred in a safer environment.
We can provide quick feedback to the factory.

【0077】また、前記生産管理情報が、第1工場から
送信要求があったときに、第2工場から第1工場へ送信
されるものであってもよく、この場合には、第三者にデ
ータを傍受される可能性を低くすることができる。
Further, the production management information may be transmitted from the second factory to the first factory when the first factory makes a transmission request, and in this case, it may be transmitted to a third party. The possibility of intercepting data can be reduced.

【0078】また、前記検査結果情報が半導体製品の特
性に関するデータを含んでおり、前記生産条件の変更
が、検査結果情報に基づき、半導体製品の特性が所定の
値になるように、複数の組み立て工程のうち半導体製品
の特性に影響を与える組み立て工程のパラメータの変更
であるものであってもよく、この場合には、歩留まりを
より向上することができる。
Further, the inspection result information includes data relating to the characteristics of the semiconductor product, and the change of the production condition is performed based on the inspection result information so that the characteristics of the semiconductor product have a predetermined value. It may be a modification of the parameters of the assembly process that affects the characteristics of the semiconductor product in the process, and in this case, the yield can be further improved.

【0079】また、前記第2工場が複数有り、生産条件
の変更として、生産管理情報に基づき、歩留まりのより
低い第2工場へ出荷される予定の半完成品の少なくとも
一部分が歩留まりのより高い第2工場へ出荷されるよう
に、第1工場から第2工場に出荷される半完成品の数量
の変更が行われるといったものであってもよく、この場
合には、生産システム全体の歩留まりを向上することが
できる。
Further, there are a plurality of the second factories, and as a change of the production condition, at least a part of the semi-finished products scheduled to be shipped to the second factories with a lower yield is the higher factor based on the production management information. The quantity of semi-finished products shipped from the first factory to the second factory may be changed so as to be shipped to two plants. In this case, the yield of the entire production system is improved. can do.

【0080】また、前記生産管理情報が、第2工場で実
施される各組み立て工程に対応付けて作成された、半導
体製品の機種名、半導体製品を識別する記号、数量、工
程名および工程完了日時を少なくとも含むものであって
もよく、この場合には、より確実に生産管理を実施する
ことができる。
Further, the production control information is created in association with each assembling process carried out in the second factory, the model name of the semiconductor product, the symbol for identifying the semiconductor product, the quantity, the process name and the process completion date and time. May be included at least, and in this case, the production control can be performed more reliably.

【0081】また、前記半導体製品が半導体素子であっ
てもよく、この場合には、半導体レーザ等といった製品
完成時にしか特性検査を実施できない半導体製品に関し
てより確実に歩留まりの向上を行うことができる。
Further, the semiconductor product may be a semiconductor element, and in this case, the yield can be more surely improved for a semiconductor product such as a semiconductor laser whose characteristic inspection can be performed only when the product is completed.

【0082】また、前記半導体製品の特性に影響を与え
る組み立て工程が、半導体結晶をエピタキシャル成長さ
せる工程または半導体結晶に対して不純物を拡散する工
程であってもよく、この場合には、歩留まりを向上する
ことができる。
The assembling step that affects the characteristics of the semiconductor product may be a step of epitaxially growing a semiconductor crystal or a step of diffusing impurities into the semiconductor crystal. In this case, the yield is improved. be able to.

【0083】また、前記通信回線がインターネット通信
網であってもよく、この場合には、生産条件の変更をよ
り迅速に行うことができる。
Further, the communication line may be an internet communication network, in which case the production conditions can be changed more quickly.

【0084】また、前記通信回線が専用回線であっても
よく、この場合には、より安全な環境で生産管理情報お
よび検査結果情報を第1工場へ迅速にフィードバックす
ることができる。
Further, the communication line may be a dedicated line, in which case the production control information and the inspection result information can be quickly fed back to the first factory in a safer environment.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の半導体製品の生産システムの実施の形
態1を示す説明図である。
FIG. 1 is an explanatory diagram showing a first embodiment of a semiconductor product production system of the present invention.

【図2】本発明の半導体製品の生産システムの実施の形
態2を示す説明図である。
FIG. 2 is an explanatory diagram showing a second embodiment of a semiconductor product production system of the present invention.

【図3】本発明の半導体製品の生産システムの実施の形
態3を示す説明図である。
FIG. 3 is an explanatory diagram showing a third embodiment of a semiconductor product production system of the present invention.

【図4】従来の半導体製品の生産工程の一例を示す説明
図である。
FIG. 4 is an explanatory diagram showing an example of a conventional semiconductor product production process.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 第1工場 2 第2工場 3 インターネット通信網 11,21 工場内サーバ 12,22 送受用サーバ 13 基板受入検査工程 14 エピタキシャル成長工程 15 チャンネル形成工程 16 電極形成工程 23 ウエハ分割(チップ化)工程 24 ダイボンド工程 25 ワイヤボンド工程 26 封止工程 27 特性検査工程 28 完成品工程 1st factory 2nd factory 3 Internet communication network 11,21 Factory server 12,22 Server for sending and receiving 13 Board acceptance inspection process 14 Epitaxial growth process 15 Channel formation process 16 electrode formation process 23 Wafer division (chip formation) process 24 Die bond process 25 Wire bond process 26 Sealing process 27 Characteristic inspection process 28 Finished product process

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 原田 昌道 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 (72)発明者 吉田 智彦 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 Fターム(参考) 3C100 AA03 AA29 AA32 BB03 BB04 BB33 CC02 CC04 CC08 EE06   ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Masamichi Harada             22-22 Nagaikecho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka             Inside the company (72) Inventor Tomohiko Yoshida             22-22 Nagaikecho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka             Inside the company F term (reference) 3C100 AA03 AA29 AA32 BB03 BB04                       BB33 CC02 CC04 CC08 EE06

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数の組み立て工程と特性検査工程とを
経て生産され、第1工場で複数の組み立て工程のうちの
少なくとも一部分の工程が実施されて得られた半完成品
が1つまたは複数の第2工場に出荷され、この第2工場
で残りの組み立て工程と特性検査工程とが実施されるこ
とにより生産される半導体製品の生産システムであっ
て、 第1工場と、第2工場と、これらの第1工場および第2
工場間におけるデータ転送に用いられる通信回線とから
構成されており、 前記第2工場で実施された特性検査工程により得られた
生産管理情報および検査結果情報が通信回線を介して前
記第1工場に送信され、これらの生産管理情報および検
査結果情報に基づき、第1工場で実施される組み立て工
程の生産条件の変更が行われることを特徴とする半導体
製品の生産システム。
1. A semi-finished product obtained by performing a plurality of assembling steps and a characteristic inspection step, and carrying out at least a part of the plurality of assembling steps in a first factory is one or a plurality of semi-finished products. A semiconductor product production system that is shipped to a second factory and is produced by performing the remaining assembly process and characteristic inspection process in the second factory. No. 1 Factory and No. 2
It is composed of a communication line used for data transfer between factories, and production management information and inspection result information obtained by the characteristic inspection process carried out in the second factory are transmitted to the first factory through the communication line. A production system for semiconductor products, which is transmitted, and the production conditions of the assembly process performed in the first factory are changed based on the production management information and the inspection result information.
【請求項2】 前記第1工場と第2工場とが第1工場お
よび第2工場それぞれに設けられた送受用サーバコンピ
ュータによって通信回線に接続されており、これらの送
受用サーバコンピュータが、送信要求、所定の工程管理
データおよび検査結果データのみを授受するように設定
されている請求項1記載の半導体製品の生産システム。
2. The first factory and the second factory are connected to a communication line by a transmission / reception server computer provided in each of the first factory and the second factory, and these transmission / reception server computers send a transmission request. 2. The semiconductor product production system according to claim 1, wherein the production system is set so that only predetermined process control data and inspection result data are exchanged.
【請求項3】 前記生産管理情報が、第1工場から送信
要求があったときに、第2工場から第1工場へ送信され
る請求項1記載の半導体製品の生産システム。
3. The semiconductor product production system according to claim 1, wherein the production management information is transmitted from the second factory to the first factory when a transmission request is issued from the first factory.
【請求項4】 前記検査結果情報が半導体製品の特性に
関するデータを含んでおり、前記生産条件の変更が、検
査結果情報に基づき、半導体製品の特性が所定の値にな
るように、複数の組み立て工程のうち半導体製品の特性
に影響を与える組み立て工程のパラメータの変更である
請求項1記載の半導体製品の生産システム。
4. The inspection result information includes data relating to the characteristics of the semiconductor product, and a plurality of assembling steps are performed so that the change of the production condition causes the characteristics of the semiconductor product to have a predetermined value based on the inspection result information. 2. The production system for a semiconductor product according to claim 1, wherein the parameter of the assembly process that affects the characteristics of the semiconductor product among the processes is changed.
【請求項5】 前記第2工場が複数有り、前記生産条件
の変更が、生産管理情報に基づき、歩留まりのより低い
第2工場へ出荷される予定の半完成品の少なくとも一部
分が歩留まりのより高い第2工場へ出荷されるように、
第1工場から第2工場に出荷される半完成品の数量の変
更である請求項1記載の半導体製品の生産システム。
5. A plurality of the second factories are provided, and the change of the production condition is based on the production management information, and at least a part of the semi-finished products scheduled to be shipped to the second factories with lower yield is higher in yield. To be shipped to the second factory,
2. The semiconductor product production system according to claim 1, wherein the quantity of semi-finished products shipped from the first factory to the second factory is changed.
【請求項6】 前記生産管理情報が、第2工場で実施さ
れる各組み立て工程に対応付けて作成された、半導体製
品の機種名、半導体製品を識別する記号、数量、工程名
および工程完了日時を少なくとも含む請求項1、3また
は5記載の半導体製品の生産システム。
6. The production management information is created in association with each assembling process carried out at the second factory, the model name of the semiconductor product, the symbol for identifying the semiconductor product, the quantity, the process name, and the process completion date and time. The semiconductor product production system according to claim 1, 3 or 5, which includes at least.
【請求項7】 前記半導体製品が半導体素子である請求
項1、2、3、4、5または6記載の半導体製品の生産
システム。
7. The production system for a semiconductor product according to claim 1, 2, 3, 4, 5, or 6, wherein the semiconductor product is a semiconductor element.
【請求項8】 前記半導体製品の特性に影響を与える組
み立て工程が、半導体結晶をエピタキシャル成長させる
工程または半導体結晶に対して不純物を拡散する工程で
ある請求項1、2、3、4、5、6または7記載の半導
体製品の生産システム。
8. The assembly process that affects the characteristics of the semiconductor product is a process of epitaxially growing a semiconductor crystal or a process of diffusing impurities into the semiconductor crystal. Alternatively, the production system of the semiconductor product described in 7.
【請求項9】 前記通信回線がインターネット通信網ま
たは専用回線である請求項1記載の半導体製品の生産シ
ステム。
9. The semiconductor product production system according to claim 1, wherein the communication line is an Internet communication network or a dedicated line.
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