JP2003022638A

JP2003022638A - 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法

Info

Publication number: JP2003022638A
Application number: JP2001204971A
Authority: JP
Inventors: Hitoshi Sato; 仁佐藤
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 2001-07-05
Filing date: 2001-07-05
Publication date: 2003-01-24

Abstract

(57)【要約】【課題】ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）等の記録
及び／又は再生装置に備える薄膜磁気ヘッドを、ハード
ディスク等の記録媒体に接触した際の耐衝撃性が向上す
るように形成する。【解決手段】薄膜磁気ヘッド３０において、ブロック
状にハイト加工した基板３１のスライダー面３１ａにス
ライダー形状に合わせてレジスト３４のパターニングを
行い、レジスト３４の熱硬化による収縮によりレジスト
面の角部をＲ形状に形成し、この状態でドライエッチン
グすることにより、レジスト面の形状をスライダー面３
１ａに転写し、レジスト３４を剥離することにより、ス
ライダー面３１ａを各角部がＲ形状で各辺は角の取れた
形状に形成された薄膜磁気ヘッド３０を得る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えばハードディ
スクドライブ（ＨＤＤ）等に備える浮上型ヘッドを構成
する薄膜磁気ヘッド及びその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）に
は、ヘッドを記録媒体であるハードディスク（ＨＤ）の
ディスク面に対して微小な間隔を保って浮上させる浮上
型ヘッドが備えられているが、近年、浮上型ヘッドとし
ては、ヘッドを小型化し、高密度を達成するためにヘッ
ド素子、コアとなる磁性体やコイルを半導体を作るプロ
セスと同じ方法で形成した薄膜磁気ヘッドが用いられ、
図１２に示すように、この薄膜磁気ヘッド１０１はサス
ペンション１０２によりハードディスクＨＤに対して接
離方向に搖動可能に支持されている。

【０００３】ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）は、複
雑で精密な機器であるため、外部からの衝撃や振動に対
して非常に敏感であり、特に、ハードディスクドライブ
（ＨＤＤ）が落下した場合、または振動を与えた場合に
発生する一般的な内部衝撃現象はヘッドストラップと呼
ばれ、磁気ヘッドがディスクの表面をバウンドする現象
である。

【０００４】すなわち、図１３に示すように、磁気ヘッ
ド１０１とこれを支持するサスペンション１０２がハー
ドディスク（ＨＤ）上で安定している状態（図１３Ａ）
で衝撃が加わるとこの衝撃によりヘッド１０１がハード
ディスク（ＨＤ）から飛跳ねる（図１３Ｂ）。この磁気
ヘッドが飛跳ねるとサスペンション１０２の反動により
ハードディスク（ＨＤ）のディスク面に衝突し（図１３
Ｃ）、この動作が繰返し行われることにより、磁気ヘッ
ド１がハードディスク（ＨＤ）のディスク面を叩くこと
になり（図１３Ｄ）、ディスク面に傷をつけ、粉塵が発
生する。

【０００５】このため、ハードディスク（ＨＤ）に記録
されている記録データに損傷が生じるおそれがあり、ま
た、磁気ヘッド１０１のコーナー部分が欠け落ちて、磁
気ヘッド１０１が損傷を受けるおそれがある。これはハ
ードディスク（ＨＤ）が回転している場合においては、
磁気ヘッド１０１はディスク回転に対して向う側（リー
ディング側）のコーナー部分がディスク面にめり込む状
態となって傷を付け易い傾向がある。

【０００６】また、磁気ヘッド１０１は、ディスク回転
に対して逃げる側（トレーディング側）のコーナー部分
はディスク面から逃げる状態になって傷を付ける可能性
が少ないものとみられているが、ヘッド素子が形成され
ている面には下地層としてアルミナ（Ａｌ₂Ｏ₃）膜が
あり、アルミナは脆いためコーナー部分が欠け易い傾向
があり、磁気ヘッド１０１が損傷を受ける一因となる。

【０００７】そこで、磁気ヘッドは耐衝撃性の向上を図
る必要があり、このため、従来の磁気ヘッドにおいて
は、耐衝撃性を向上させる構造として、磁気ヘッドの外
周縁全面または、磁気記録媒体に相対するスライダー面
であるエアーベアリングサーフェイス（ＡｉｒＢｅａ
ｒｉｎｇＳｕｒｆａｃｅ；以下ＡＢＳ面という）のパ
ターン外周縁全面を大きく面取りする構造、すなわち、
一般的にブレンド加工と呼ばれる加工が主流であった。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】ところが、この磁気ヘ
ッド構造を得るためには、図１４に示すように、ヘッド
加工工程の最終工程で磁気ヘッド１０１を１個ずつ治具
１０３にクランプし、図１５に示すように、研磨シート
１０４が貼り付けられた回転体１０５を用いて加工する
必要があり、生産性が非常に悪いという欠点があった。
また、磁気ヘッド１０１は治具１０３にクランプする
際、ハンドリングすることになるが、このハンドリング
により、欠け傷などの不良を誘発し、歩留りを低下させ
る要因にもなっていた。

【０００９】また、磁気ヘッド１０１の外周全面を大き
く面取りするため、磁気ヘッド１０１の浮上をコントロ
ールするためのＡＢＳ面デザインも制約を受けるという
欠点もあった。同時に加工中にＡＢＳ面に接触する危険
性も高く、接触した場合には保護膜としてコーティング
された例えばダイヤモンドレックカーボン（ＤＬＣ）膜
が剥離し、磁気ヘッドの信頼性が損なわれるという欠点
もあった。

【００１０】さらに、加工条件的にも寸法コントロール
が難しく、加工時間が長くかかること、磁気ヘッド加工
装置の構成が複雑になるなどの欠点もあった。

【００１１】本発明はかかる点に鑑みてなされたもの
で、耐衝撃性が向上し、また、加工工程が簡単化されて
生産効率も改善され、信頼性が高いなどの利点を有する
浮上型ヘッドとしての薄膜磁気ヘッドを提供することを
目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、サスペンションにより支持され、回転され
る磁気記録媒体の記録面に対して所要の間隔を保って浮
上して対向する浮上型ヘッドを構成する薄膜磁気ヘッド
であって、この薄膜磁気ヘッドは磁気記録媒体の記録面
に対向するスライダー面の各角部を円弧面状に形成した
構成としたものである。

【００１３】また、上記構成において、薄膜磁気ヘッド
は、スライダー面の全周縁にわたって角を取った構成と
することができる。

【００１４】そして、上記のように構成される薄膜磁気
ヘッドは、スライダー面にレジストのパターニングを行
い、このレジストの熱硬化による収縮によりレジスト面
の角を円弧面状に形成し、このレジストをマスクとして
ドライエッチングすることによりレジスト面の形状を転
写し、スライダー面の各角部又はスライダー面の全周縁
にわたって角を取った構成としたものである。この構成
において、ドライエッチングは反応性イオンエッチング
により行うことができるものである。

【００１５】以上のように構成される本発明による薄膜
磁気ヘッドは、磁気記録媒体の記録面に対向するスライ
ダー面の各角部を円弧面状に形成した構成としたことに
より、外的衝撃により、薄膜磁気ヘッドが磁気記録媒体
に接触した際の耐衝撃性が向上されて、磁気記録媒体の
傷発生、記録データの損傷及び薄膜磁気ヘッド自体の損
傷が防止される。

【００１６】特に、ヘッドスライダー面の磁気記録媒体
回転方向に向かう側の角部分の角を取ることにより、磁
気記録媒体に対する衝撃が緩和されて磁気記録媒体の傷
発生が防止され、また、ヘッドスライダー面の磁気記録
媒体回転に対して逃げる側の角部の角を取る構成とする
ことにより、この角部分の欠けが防止されて磁気ヘッド
素子の損傷が防止される。

【００１７】そして、ヘッドスライダー面にレジストの
パターニングを行い、レジストの熱硬化による収縮によ
りレジスト面の角部を円弧面状に形成し、このレジスト
をマスクとして反応性イオンエッチング等のドライエッ
チングすることによりレジスト面の形状を転写してスラ
イダー面の各角部又はスライダー面の全周縁にわたって
角を取った構成とするので、スライダー面の全ての角部
又は全周縁を同時に角を取った形状に正確にかつ容易に
形成できて一連のバー状態での加工も可能で生産効率が
大幅に改善できる。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図１
〜図１１を参照して説明する。

【００１９】この実施の形態はハードディスクドライブ
（ＨＤＤ）用薄膜ヘッドスライダーに適用する薄膜磁気
ヘッドを構成するものである。

【００２０】先ず、本発明を適用する薄膜磁気ヘッドの
概略構成図を図１に示し、磁気記録媒体に相対するスラ
イダー面、いわゆるエアーベアリングサーフェイス（Ａ
ｉｒＢｅａｒｉｎｇＳｕｒｆａｃｅ；以下ＡＢＳ面と
いう）に垂直な面による断面図として示している。この
薄膜磁気ヘッド１０は、再生専用の磁気抵抗効果型ヘッ
ド（ＭＲヘッド）１と記録専用のインダクティブ型ヘッ
ド２とを一体に積層形成して成る複合型薄膜磁気ヘッド
である。

【００２１】ＭＲヘッド１は、磁気抵抗効果素子（ＧＭ
Ｒ素子又はＭＲ素子；以下ＭＲ素子という）１４が磁気
記録媒体に相対するＡＢＳ面側に配置され、かつ一方の
端面が磁気記録媒体に対して露出するように構成され
る。具体的には、例えばアルチック（Ａｌ₂Ｏ₃Ｔｉ
Ｃ）等から成る基板１１上に、アルミナ（Ａｌ₂Ｏ₃）
等の軟磁性膜による下層シールド１２が形成されて下部
磁性磁極を構成している。この下層シールド１２の上に
下層ギャップ膜１３を介して磁気抵抗効果を有するＭＲ
素子１４を配置している。このＭＲ素子１４の後方には
ＭＲ素子１４の段着を埋める例えばＡｌ₂Ｏ₃から成る
絶縁膜１５が埋め込まれている。

【００２２】ＭＲ素子１４上には、上層ギャップ膜１６
を介して、軟磁性膜による中間シールド１７が設けられ
ている。この中間シールド１７が上部磁性磁極を構成し
ており、下層ギャップ膜１３及び上層ギャップ膜１６に
より、ＭＲヘッド１のギャップが形成されている。

【００２３】一方、インダクティブ型ヘッド２は、軟磁
性膜からなり、ＭＲヘッド１を構成する中間シールド１
７を下層磁性コアとして、この中間シールド１７上に、
例えばＳｉＯ₂又はＡｌ₂Ｏ₃から成る記録ギャップ膜
１８を有する。この記録ギャップ膜１８上の磁気記録媒
体に相対する先端側には、磁性膜から成る上層ポール１
９が形成されている。この上層ポール１９の後方には、
絶縁層２０が埋め込まれて表面が平坦化されている。こ
の平坦化された面上に導体から成るコイル２１が形成さ
れ、このコイル２１を覆って絶縁膜２２が形成されてい
る。このコイル２１は、図示しないが平面形状がスパイ
ラル状に形成される。そして、このコイル２１を用い
て、インダクティブ型ヘッド２に電磁変換作用によって
信号を供給する。

【００２４】さらに、絶縁膜２２の上方に、上層ポール
１９に接続して磁性膜から成る上層コア（バックヨー
ク）２３が形成されている。上層ポール１９と上層コア
（バックヨーク）２３により上部磁性コアが構成され
る。上層コア（バックヨーク）２３は後方においては中
間シールド１７と接続されて磁路を形成している。

【００２５】このように構成される薄膜磁気ヘッド１０
は、真空薄膜形成技術により形成されるため、狭トラッ
ク化や狭ギャップ化等微細寸法化が容易で、高分解能記
録再生が可能で、高密度磁気記録に対応した磁気ヘッド
となっている。

【００２６】また、このように構成される薄膜磁気ヘッ
ド１０においてコイル１０を２層に形成することができ
る。この場合は、第１のコイルを覆って絶縁膜を形成し
て表面を平坦化し、この平坦化された表面上に第２のコ
イルを第１のコイルと同様に平面形状がスパイラル状に
形成する。そして、この第２のコイルを覆って絶縁膜を
形成し、絶縁膜の平坦化された表面上に軟磁性材料から
成る上層コア（バックヨーク）を形成することにより、
コイルを２層以上に形成した薄膜磁気ヘッドが構成され
る。

【００２７】このようにコイルが２層以上の薄膜磁気ヘ
ッドの場合は、コイルが１層の薄膜磁気ヘッドに比較し
て、磁路長が短いままでコイルの巻き数を増やすことが
できて、磁気ヘッドのオーバーライト特性を向上、すな
わち、記録能力を向上させることが可能になる。

【００２８】次に、本発明の実施の形態を図２〜図１１
を参照して説明するに、この実施の形態の薄膜磁気ヘッ
ドは、ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）に備える浮上
型ヘッドとして用いるもので、外的衝撃によりヘッドが
ハードディスクに接触した際の耐衝撃性を向上させるよ
うにしたものである。

【００２９】図２は本発明の実施の形態の薄膜磁気ヘッ
ドの一例を示すもので、ヘッドがハードディスクに接触
する現象は、特にヘッドのハードディスク回転に向う側
であるリーディング側のエッジから接触することが分か
っており、これを改善する方法として第１コーナー、第
２コーナーに微小な円弧面形状（Ｒ面形状）を形成して
衝撃を緩和するヘッド構造とし更に、安全性を高めるた
めに、対面側（トレーディング側）である第３コーナ
ー、第４コーナーも同様なＲ形状に形成してスライダー
面であるＡＢＳ面の全コーナーがＲ形状のヘッド構造と
したものである。

【００３０】すなわち、図２に示す一例の薄膜磁気ヘッ
ド３０も図１に示す薄膜磁気ヘッド１０と同様に再生専
用の磁気抵抗効果素子（ＭＲ素子）１と記録専用のイン
ダクティブ型ヘッド２とを基板３１に真空薄膜形成技術
により積層形成して成る複合型薄膜磁気ヘッドである。

【００３１】この薄膜磁気ヘッド３０の基板３１は所要
の表面積を有し、この表面がハードディスクに対するエ
アーベアリングサーフェイス（ＡＢＳ面）で負圧スライ
ダー面３１ａとなっており、このスライダー面３１ａに
は浮上のための所要形状のＡＢＳパターン面３２が形成
され、基板３１の一端面３１ｂ側にＭＲ素子１とインダ
クティブ型ヘッド２から成るヘッド素子部３３が形成さ
れている。

【００３２】そして、この薄膜磁気ヘッド３０の負圧ス
ライダー部である基板３１のコーナー部分、すなわち、
スライダー面３１ａのリーディング側３１ｃの第１コー
ナー部３１ｃ₁第２コーナー部３１ｃ₂と共にハードデ
ィスク回転に対して逃げる側であるトレーディング側と
なる基板３１のヘッド素子部３３を形成した一端面３１
ｂ側の両コーナー部である第３コーナー部３１ｂ₁と第
４コーナー部３１ｂ₂を半径１０μｍ以上でヘッドの浮
上姿勢に影響しない範囲を上限とする円弧面形状（Ｒ面
形状）に形成したものである。

【００３３】この一例の薄膜磁気ヘッド３０を加工する
加工実施例を図３〜図１１を参照して説明する。

【００３４】先ず、図３に示すように、基板３１となる
ウェハーをブロック加工した後にＭＲ素子、インダクテ
ィブ型ヘッドを所定のハイトに加工する。

【００３５】次に、図４のＡに示すように、基板ブロッ
ク３１の表面にスライダー形状に合わせたレジスト３４
のパターニングを行う。このレジスト３４の膜厚は、ス
ライダー角部の円弧面形状の半径×レジスト選択比×
１．２の式により決定され、このレジスト膜厚により後
述するスライダー面の角部が円弧面状に最良の状態で形
成される。

【００３６】例えば、基板ブロック３１のスライダー角
部のＲ形状を２５μｍの半径で形成する場合は、使用す
るレジスト３４がＲ形状加工に用いるエッチング条件で
選択比がレジスト３４の６に対してスライダーを形成す
る基板３１となるようにウェハー材Ａｌ₂Ｏ₃−ＴｉＣ
が１だとすると、レジスト３４の膜厚は、２５×６×
１．２＝１８０μｍとなる。

【００３７】このように基板ブロック３１のスライダー
形状に合わせたレジスト３４のパターン面の角部の形状
は図４のＢに示すように各面が直角に交わった形状にな
る。

【００３８】このように基板ブロック３１のスライダー
形状に合わせたレジスト３４のパターニングを行った
後、図５のＡに示すようにレジスト３４を約２００℃で
熱硬化する。このレジスト３４を熱硬化することによ
り、レジスト３４は、図５のＢに示すように収縮してレ
ジスト３４のパターン面の角部３４ａが円弧面状にな
る。

【００３９】この状態でレジスト３４のパターン面を図
６および図７に示すようにドライエッチングである反応
性イオンエッチングによりエッチングしてレジスト３４
のパターン面の形状をＡｌ₂Ｏ₃−ＴｉＣの基板ブロッ
ク３１の表面に転写する。

【００４０】この後、図８および図９のＡに示すように
基板ブロック３１からレジスト３４を剥離すると、図９
のＢに示すように、熱硬化で角が円弧面状（Ｒ形状）に
なったレジスト３４のパターンが転写され、レジスト３
４が存在していた部分の下地部面すなわちスライダー面
３１ａは４辺の角部３１ｃ₁，３１ｃ₂，３１ｂ₁，３
１ｂ₂の角が取れたＲ形状になる。

【００４１】このように形成された基板ブロック３１の
スライダー面３１ａに図１０に示すように、通常のＡＢ
Ｓパターン３２の形成のためのレジスト３５をグルーブ
パターンでパターニングを行い、その後、エッチングす
る。

【００４２】このレジスト３５のグルーブパターンによ
りエッチングを行った後、レジスト３５を剥離すれば、
図１１に示すように、ＡＢＳパターン面３２が形成され
たスライダー面３１ａが形成される。このスライダー面
３１ａの形成においていわゆる２段堀りが現在主流であ
るため、この２段堀りを行うには、もう一段の溝が必要
となるので、この場合は、前述したレジスト３５による
グルーブパターンでのパターニングとエッチングを行
い、その後のレジスト３５の剥離動作をもう一度繰り返
して行う。

【００４３】以上のようにして前述した図２に示すよう
な所要形状のＡＢＳパターン３２を有するスライダー面
３１ａを持つ薄膜磁気ヘッド３０が形成される。

【００４４】以上の薄膜磁気ヘッド３０の製作工程にお
いて、基板ブロック３１のスライダー面３１ａの角部を
Ｒ形状に形成する工程におけるエッチングの条件は、例
えば、ワークプリベークを７５℃で２０分間行う。レジストを塗布する。露光は０．７ｓｅｃ／Ｓｈｏｔで行う。現像を１％炭酸カルシウム溶液中で行う。ポストベークを２００℃で２０分間行う。エッチングをエッチングパワー７５０Ｖ／６００ｍ
Ａ（エッチングレート２８μｍ／Ｍｉｎ）でエッチング
時間１分で行う。レジスト剥離をエタノール超音波洗浄により１０分
間行う。

【００４５】以上のようにして形成する薄膜磁気ヘッド
３０は、基板ブロック３１のスライダー面３１ａの角部
のみＲ形状を形成するため、基板ブロック３１の前述し
た加工は、各ブロック毎に行うことなく、一連のバー状
態での加工も可能で、生産効率が大幅に改善できる。

【００４６】以上のように形成される薄膜磁気ヘッド３
０は、基板３１のスライダー面３１ａの角部のみＲ形状
に形成するので、スライダー面３１ａのＡＢＳパターン
面３２の形状への影響が小さく、浮上設計への制約が少
くない。また、この薄膜磁気ヘッド３０の加工中は、ス
ライダー面３１ａのＡＢＳパターン面３２に接触する危
険性が少なく、ヘッド信頼性が向上できて、耐衝撃性が
要求されるリムーバブル型ＨＤＤなどへの搭載において
有利である。

【００４７】また、この薄膜磁気ヘッド３０は、基板３
１のスライダー面３１ａの角部がＲ形状となるため、後
工程であるヘッドサスペンションへの取り付け工程、す
なわち、ヘッドジンバル・アセンブリ（ＨＧＡ）やヘッ
ドサスペンション・アセンブリ（ＨＳＡ）でのハンドリ
ングにおいて欠けなどの不良発生を防ぐことができる。
また、外的衝撃によりヘッドが損傷する危険性がないな
どの効果を有する。

【００４８】以上、本発明の実施の形態を説明したが、
本発明はこの実施の形態に限定されるものではなく、本
発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々変更できるものであ
る。

【００４９】例えば、基板ブロックの形状およびスライ
ダー面のＡＢＳパターンは任意に変更できるものであ
る。また、ＭＲヘッド、インダクティブ型ヘッドの構成
も任意に変更できるものである。

【００５０】そして、基板のブロックは一連のバー形状
の基板を所要の大きさに切断して形成する場合、複数の
カッターを備えた旋盤機械等の切削機により一連のバー
形状の基板を複数のブロックに同時に切断分割すること
ができる。この基板ブロックの形成には、各種の切削機
を用いることができる。

【００５１】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、薄膜磁気
ヘッドの基板のスライダー面は、エッチング加工によっ
て角部をＲ形状に形成するので、加工中にスライダー面
のＡＢＳ面に接触する危険性が少なく、基板のスライダ
ー面を、ＡＢＳ面を含む全面を正確に形成できて、薄膜
磁気ヘッドの信頼性が向上される。

【００５２】また、薄膜磁気ヘッドの基板のスライダー
面の角部はＲ形状に形成されることにより、耐衝撃性が
要求されるリムーバブル型ＨＤＤなどへの搭載において
有利である。また、基板のスライダー面の角部はＲ形状
となるため、後工程であるヘッドサスペンションへの取
り付け工程、すなわち、ヘッドジンバル・アセンブリ
（ＨＧＡ）やヘッドサスペンション・アセンブル（ＨＳ
Ａ）でのハンドリングにおいて欠けなどの不良発生を防
ぐことができ、また、外的衝撃によりヘッド基板が損傷
する危険性がない。

【００５３】そして、基板スライダー面の角部のＲ形状
形成は、一連のバー状態での加工も可能で、生産効率が
大幅に改善できる等の効果を有する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に適用できる薄膜磁気ヘッドの概略構成
図（断面図）である。

【図２】本発明の一例の薄膜磁気ヘッドのスライダー面
側斜視図である。

【図３】図２に示す薄膜磁気ヘッドの加工工程における
ハイト加工終了後の基板ブロックの概念斜視図である。

【図４】Ａは図３に示す基板ブロックにスライダー形状
に合わせたレジストのパターニングを行った状態の概念
斜視図、Ｂは一部分の拡大斜視図である。

【図５】Ａは図４に示すレジストのパターニングを行っ
た基板ブロックのレジストを熱硬化した状態の基板ブロ
ックの概念斜視図、Ｂは一部分の拡大斜視図である。

【図６】Ａは図５に示すレジストを熱硬化した基板ブロ
ックをイオンエッチングした状態を示す基板ブロックの
概念斜視図である。

【図７】図６に示すイオンエッチング状態における１個
の基板ブロックの概念斜視図である。

【図８】図６に示すイオンエッチング後の基板ブロック
のレジストを剥離した状態の概念斜視図である。

【図９】Ａは図８に示すレジストを剥離した状態におけ
る１個の基板ブロックの概念斜視図、Ｂは一部分の拡大
斜視図である。

【図１０】図８、図９に示す基板ブロックにグルーブパ
ターンのレジストのパターニングを行った状態の基板ブ
ロックの概念斜視図である。

【図１１】図１０に示すレジストのパターニングを行っ
た基板ブロックをイオンエッチングした後、レジストを
剥離し、ＡＢＳパターンを形成した基板ブロックの概念
斜視図である。

【図１２】薄膜磁気ヘッドとハードディスクとの配置関
係を示す斜視図である。

【図１３】薄膜磁気ヘッドとハードディスクの接触関係
を示す概略図である。

【図１４】従来の薄膜磁気ヘッドの加工工程の概略図で
ヘッドチップを加工軸にクランプする状態を示す。

【図１５】従来の薄膜磁気ヘッドの加工工程の概略図で
ヘッドチップを研磨する状態を示す。

【符号の説明】

３０‥‥薄膜磁気ヘッド、３１‥‥基板、３１ａ‥‥ス
ライダー面、３１ｂ₁，３１ｂ₂，３１ｃ₁，３１ｃ₂
‥‥円弧面状角部、３２‥‥ＡＢＳパターン面、３４，
３５‥‥レジスト

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】サスペンションにより支持され、回転さ
れる磁気記録媒体の記録面に対して所要の間隔を保って
浮上して対向する浮上型ヘッドを構成する薄膜磁気ヘッ
ドであって、上記薄膜磁気ヘッドは、上記磁気記録媒体の記録面に対
向するスライダー面の各角部を円弧面形状に形成したこ
とを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
【請求項２】請求項１記載の薄膜磁気ヘッドにおい
て、上記薄膜磁気ヘッドは、上記磁気記録媒体の記録面
に対向するスライダー面の全周縁にわたって角を取った
構成としたことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
【請求項３】請求項１又は２記載の薄膜磁気ヘッドに
おいて、上記薄膜磁気ヘッドは、上記磁気記録媒体の記録面に対
向するスライダー面にレジストのパターニングを行い、
このレジストの熱硬化による収縮によりレジスト面の角
部を円弧面形状に形成し、このレジスト面をマスクとし
てドライエッチングすることによりレジスト面の形状を
転写し、上記スライダー面の各角部又はスライダー面の
全周縁にわたって角を取った構成としたことを特徴とす
る薄膜磁気ヘッドの製造方法。
【請求項４】請求項３記載の薄膜磁気ヘッドの製造方
法において、上記スライダー面にパターニングを行ったレジストをマ
スクとしてエッチングするドライエッチングは反応性イ
オンエッチングであることを特徴とする薄膜磁気ヘッド
の製造方法。
【請求項５】請求項３記載の薄膜磁気ヘッドの製造方
法において、上記スライダー面にパターニングを行うレジストの膜厚
は、スライダー面角部の円弧面形状の半径×レジスト選択比
×１．２の式により決定したことを特徴とする薄膜磁気
ヘッドの製造方法。