JP2003162205A - Photocurable resin composition, sheet, transfer foil, fine concavo-convex pattern forming method, and optical article - Google Patents
Photocurable resin composition, sheet, transfer foil, fine concavo-convex pattern forming method, and optical articleInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 比較的低温・短時間でエンボスしても、正確
な微細凹凸パターンが形成でき、巻取体としたときにブ
ロッキングを防止できる光硬化性樹脂組成物、微細凹凸
パターン形成方法、巻取体、及び光学用物品を提供す
る。
【解決手段】 必須成分として、(1)アクリル樹脂と
(2)光重合性官能基を有するウレタンアクリレート樹
脂及び/又はポリエステルアクリレート樹脂とを含むバ
インダー樹脂と、(3)該バインダー樹脂の成膜性を高
めるための有機金属カップリング剤を含有させた、軟化
温度の低下した光硬化性樹脂組成物である。(57) [PROBLEMS] To provide a photocurable resin composition capable of forming an accurate fine concavo-convex pattern even when embossed at a relatively low temperature in a short time, and to prevent blocking when used as a wound body, and fine concavo-convex A pattern forming method, a wound body, and an optical article are provided. SOLUTION: As an essential component, a binder resin containing (1) an acrylic resin and (2) a urethane acrylate resin and / or a polyester acrylate resin having a photopolymerizable functional group, and (3) film forming properties of the binder resin. It is a photocurable resin composition having a reduced softening temperature, which contains an organic metal coupling agent for increasing the viscosity.
Description
【0001】[0001]
【発明が属する技術分野】本発明は表面にエンボス加工
により微細凹凸パターンを形成するのに適した光硬化性
樹脂組成物、該樹脂組成物を用いた微細凹凸パターン形
成方法、及び光学用物品に関し、さらに詳しくは、光重
合性官能基を有するバインダー樹脂の軟化開始温度を添
加物により低下させることを可能にした光硬化性樹脂組
成物及び微細凹凸パターン形成方法、及び光学用物品に
関し、例えば、該光硬化性樹脂組成物を用いて形成した
微細凹凸パターンを表面に有する反射、透過、散乱、偏
光、集光、干渉等の光現象の少なくとも一つを制御する
光学素子、さらに具体的には、レリーフ型ホログラム、
回折格子、反射防止性能膜、散乱板、反射板等の光学用
物品、及びその微細凹凸パターンの形成に関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a photocurable resin composition suitable for forming a fine uneven pattern on a surface by embossing, a fine uneven pattern forming method using the resin composition, and an optical article. , And more specifically, a photocurable resin composition and a fine uneven pattern forming method capable of lowering the softening start temperature of a binder resin having a photopolymerizable functional group by an additive, and an optical article, for example, An optical element for controlling at least one of optical phenomena such as reflection, transmission, scattering, polarization, focusing, and interference, which has a fine uneven pattern formed using the photocurable resin composition on its surface, and more specifically , Relief type hologram,
The present invention relates to an optical article such as a diffraction grating, an antireflection film, a scattering plate and a reflection plate, and formation of a fine concavo-convex pattern thereof.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、光硬化性樹脂組成物(塗料)を、
例えば、ポリエステルフィルム等のフィルム状支持体上
に塗工して光硬化性樹脂組成物の層を形成し、この光硬
化性樹脂組成物の層に各種微細凹凸パターンを付与した
後、紫外線や電子線等の電離放射線を照射して露光し、
該樹脂層を硬化させ、硬化した微細凹凸パターン面に金
属蒸着や屈折率の異なる層を積層し、回折格子やレリー
フホログラム等とする方法が行われている。2. Description of the Related Art Conventionally, a photocurable resin composition (paint) is
For example, a layer of a photocurable resin composition is formed by coating on a film-shaped support such as a polyester film, and various fine uneven patterns are applied to the layer of the photocurable resin composition, and then ultraviolet rays or electrons are applied. Exposure by irradiating ionizing radiation such as rays,
A method is used in which the resin layer is cured and metal vapor deposition or a layer having a different refractive index is laminated on the cured fine concavo-convex pattern surface to form a diffraction grating or a relief hologram.
【0003】前記微細凹凸パターンの付与方法として
は、例えば、レリーフホログラムを形成する場合には、
所望の微細凹凸パターンが形成されているマスターホロ
グラムから作製したプレススタンパー(以下、単にプレ
ススタンパーという)を用意しておき、このプレススタ
ンパーを上記光硬化性樹脂組成物の層に重ねて加圧(エ
ンボス加工)し、プレススタンパーの微細凹凸パターン
を樹脂層に転写させ、その状態で露光して樹脂層を硬化
させ微細凹凸パターンを固定している。このようにして
多数のレリーフホログラムを形成する場合には、1個の
プレススタンパーで多数のエンボス加工を行っている。As a method of applying the fine concavo-convex pattern, for example, in the case of forming a relief hologram,
A press stamper (hereinafter simply referred to as a press stamper) prepared from a master hologram on which a desired fine concavo-convex pattern is formed is prepared, and the press stamper is superposed on the layer of the photocurable resin composition and pressed ( The embossing process) is performed to transfer the fine concavo-convex pattern of the press stamper to the resin layer, and the state is exposed to light to cure the resin layer to fix the fine concavo-convex pattern. When a large number of relief holograms are formed in this way, a large number of embossing processes are performed with a single press stamper.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】光硬化性樹脂組成物に
エンボス加工が適用されるとき、該樹脂組成物が柔らか
いことが必要である。しかしながら、室温で軟化し易い
光硬化性樹脂組成物であるとフィルム状支持体上に光硬
化性樹脂組成物の層を形成し、巻き取って巻取体とした
ものは、貼りついたりしてブロッキングが起こり易いた
め、保管することができないという不都合がある。した
がって、室温では軟化し難い、即ち、固い光硬化性樹脂
組成物を用いることが望まれる。When embossing is applied to a photocurable resin composition, it is necessary that the resin composition be soft. However, a photocurable resin composition that is easily softened at room temperature is used to form a layer of the photocurable resin composition on a film-shaped support, and the product obtained by winding the film is stuck or stuck. Since blocking easily occurs, there is a disadvantage that it cannot be stored. Therefore, it is desirable to use a photocurable resin composition that is hard to soften at room temperature, that is, hard.
【0005】一方、室温で軟化し難い光硬化性樹脂組成
物を用いた場合にはエンボス時の加熱において熱が十分
に該光硬化性樹脂組成物の層に伝わらないため、版の微
細凹凸パターンが該光硬化性樹脂組成物の層の表面に正
確に形成されないことがあり、このような樹脂組成物に
微細凹凸パターンを付与するには温度をさらに高くし、
及び/又は支持体の供給スピードを遅くすることが必要
であるが、この場合、温度を高めることにより、版を傷
めたり、フィルム状支持体を劣化させたり、また、微細
凹凸パターン付与スピードを遅くすることにより生産効
率が落ちるので好ましくない。On the other hand, when a photocurable resin composition which is hard to be softened at room temperature is used, heat is not sufficiently transferred to the layer of the photocurable resin composition during heating during embossing, so that the fine uneven pattern of the plate is used. May not be accurately formed on the surface of the layer of the photocurable resin composition, in order to impart a fine uneven pattern to such a resin composition, further increase the temperature,
And / or it is necessary to slow down the supply speed of the support, but in this case, by increasing the temperature, the plate is damaged, the film-shaped support is deteriorated, and the fine uneven pattern application speed is slowed down. This is not preferable because it lowers the production efficiency.
【0006】そこで、本発明は、比較的低温で、比較的
短時間でエンボスしても、従来の光硬化性樹脂組成物を
用いた場合よりも正確な微細凹凸パターンが形成でき、
しかも微細凹凸パターンの複製スピードが向上でき、且
つ支持体上に光硬化性樹脂組成物の層を形成した巻取体
等のシートにおいて室温でブロッキングの発生を防止す
ることが可能な光硬化性樹脂組成物、該樹脂組成物を用
いた微細凹凸パターン形成方法、巻取体等のシート、転
写箔、及び光学用物品を提供することを目的とする。Therefore, according to the present invention, even if embossed at a relatively low temperature for a relatively short time, a finer uneven pattern can be formed more accurately than in the case of using a conventional photocurable resin composition.
Moreover, a photocurable resin capable of improving the duplication speed of the fine concavo-convex pattern and capable of preventing the occurrence of blocking at room temperature in a sheet such as a roll having a layer of the photocurable resin composition formed on a support. It is an object of the present invention to provide a composition, a method for forming a fine concavo-convex pattern using the resin composition, a sheet such as a winding body, a transfer foil, and an optical article.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】前記した問題点を解決す
るための本発明の光硬化性樹脂組成物は、必須成分とし
て、(1)アクリル樹脂と(2)光重合性官能基を有す
るウレタンアクリレート樹脂及び/又はポリエステルア
クリレート樹脂とを含むバインダー樹脂と、(3)該バ
インダー樹脂の成膜性を高めるための有機金属カップリ
ング剤を含有させてなる光硬化性樹脂組成物であって、
該光硬化性樹脂組成物は光学用物品の微細凹凸パターン
形成に使用されるものであることを特徴とする。The photocurable resin composition of the present invention for solving the above-mentioned problems has (1) an acrylic resin and (2) a urethane having a photopolymerizable functional group as essential components. A photocurable resin composition comprising a binder resin containing an acrylate resin and / or a polyester acrylate resin, and (3) an organometallic coupling agent for enhancing the film forming property of the binder resin,
The photocurable resin composition is used for forming a fine concavo-convex pattern of an optical article.
【0008】本発明の光硬化性樹脂組成物をフィルム状
支持体に塗布したものは、露光前の未硬化状態において
は、有機金属カップリング剤によって、ブロッキングが
防止される特徴がある。また、フィルム状支持体上に本
発明の光硬化性樹脂組成物の層を形成したシートは、表
面が平滑になるため、微細凹凸パターン形成工程におけ
る複製スピードが速くなる。The film-shaped support coated with the photocurable resin composition of the present invention is characterized in that blocking is prevented by the organometallic coupling agent in the uncured state before exposure. In addition, since the surface of the sheet in which the layer of the photocurable resin composition of the present invention is formed on the film-like support becomes smooth, the duplication speed in the fine concavo-convex pattern forming step is increased.
【0009】本発明の光硬化性樹脂組成物をフィルム状
支持体に塗布した後、露光によりバインダー樹脂を硬化
させたものは、耐熱性、耐久性が向上する。また、硬化
樹脂層が接触する前後の層、例えば、レリーフ型ホログ
ラムを形成するための転写箔とした場合においては、金
属蒸着層との密着性が改善され、転写性が良好となる。The photocurable resin composition of the present invention coated on a film-like support and then cured by exposure to a binder resin has improved heat resistance and durability. Further, in the case of a layer before and after contact with the cured resin layer, for example, in the case of a transfer foil for forming a relief hologram, the adhesion with the metal vapor deposition layer is improved and the transferability becomes good.
【0010】本発明の光硬化性樹脂組成物において、前
記有機金属カップリング剤を含有しないときの前記
(1)のアクリル樹脂と、前記(2)の光重合性官能基
を有するウレタンアクリレート樹脂及び/又はポリエス
テルアクリレート樹脂との混合樹脂を塗工した場合に塗
膜の表面粗さの平均(Ra)が好ましくは1.0nm以
上であるとき、さらに好ましくは3.0nm以上である
とき、最も好ましくは5.0nm以上であるときに、光
硬化性樹脂組成物中に前記有機金属カップリング剤を含
有させると前記各効果は顕著に現れる。In the photocurable resin composition of the present invention, the acrylic resin of (1) above, which does not contain the organometallic coupling agent, and the urethane acrylate resin having a photopolymerizable functional group of (2) above, Most preferably, when the average (Ra) of the surface roughness of the coating film when coated with a resin mixed with a polyester acrylate resin is preferably 1.0 nm or more, more preferably 3.0 nm or more. When it is 5.0 nm or more, when the organometallic coupling agent is contained in the photocurable resin composition, each of the above effects becomes remarkable.
【0011】本発明で使用されるアクリル樹脂は、光学
材料としての透明性、強度を発揮させ、凹凸パターンを
熱プレスで成形する場合に熱可塑性を付与するために必
要である。また、本発明で使用される光重合性を有する
ウレタンアクリレート及び/又はポリエステルアクリレ
ートは、前記アクリル樹脂の性質に加えさらに強度、耐
熱性、耐擦傷性、耐水性、耐薬品性を付与する目的で、
架橋密度を高めるために、且つ光重合性を付与するため
に添加される。The acrylic resin used in the present invention is necessary for exhibiting transparency and strength as an optical material and imparting thermoplasticity when the uneven pattern is formed by hot pressing. The photopolymerizable urethane acrylate and / or polyester acrylate used in the present invention is for the purpose of imparting strength, heat resistance, scratch resistance, water resistance and chemical resistance in addition to the properties of the acrylic resin. ,
It is added to increase the crosslink density and to impart photopolymerizability.
【0012】光硬化性樹脂組成物中に有機金属カップリ
ング剤を含まない場合において、アクリル樹脂と、光重
合性を有するウレタンアクリレート及び/又はポリエス
テルアクリレートとを混合した樹脂を塗布して塗膜を形
成してなるシートは、重ねておくと、例えば、巻き取っ
て巻取体としたものは、貼りついたりしてブロッキング
が生じやすいが、本発明の光硬化性樹脂組成物は、有機
金属カップリング剤を含有するので、本発明の光硬化性
樹脂組成物を用い上記のようにして作製したシートはブ
ロッキングの発生を防止できる。When the photocurable resin composition does not contain an organometallic coupling agent, a resin obtained by mixing an acrylic resin and a photopolymerizable urethane acrylate and / or polyester acrylate is applied to form a coating film. When the formed sheets are piled up, for example, a rolled-up rolled body is apt to stick and cause blocking, but the photocurable resin composition of the present invention has an organometallic cup. Since the sheet contains a ring agent, the sheet produced as described above using the photocurable resin composition of the present invention can prevent blocking from occurring.
【0013】本発明において有機金属カップリング剤が
上記のようなブロッキングを防止できる作用について
は、恐らくバインダー樹脂と有機金属カップリング剤が
相互作用し、分子鎖の大きいポリマー成分に分子量の小
さいオリゴマー成分を結びつけるのに有機金属カップリ
ング剤が結合成分として働き、オリゴマー成分が低温環
境で溶けだすのを防いでいるためではないかと考えられ
る。Regarding the action of the organometallic coupling agent in the present invention for preventing the blocking as described above, it is presumed that the binder resin and the organometallic coupling agent interact with each other, and a polymer component having a large molecular chain and an oligomer component having a small molecular weight are produced. It is thought that this is because the organometallic coupling agent acts as a binding component to bind the amides and prevents the oligomer component from melting in a low temperature environment.
【0014】また、本発明において有機金属カップリン
グ剤を光硬化性樹脂組成物に含有させることにより、微
細凹凸パターン形成処理前の塗膜表面が平滑になる効果
がある。該効果は、相溶性の悪い樹脂に対して有機金属
カップリング剤が相溶性を高め、塗膜の不均一性が抑制
されるためではないかと考えられる。In the present invention, the addition of the organometallic coupling agent to the photocurable resin composition has the effect of smoothing the surface of the coating film before the fine uneven pattern forming treatment. It is considered that this effect is due to the fact that the organometallic coupling agent enhances the compatibility with the poorly compatible resin and suppresses the non-uniformity of the coating film.
【0015】本発明において複製スピードが速くなる理
由は、有機金属カップリング剤を光硬化性樹脂組成物に
含有させることにより、フィルム状支持体上に形成した
光硬化性樹脂組成物の層の表面が平滑になると、固さが
均一になりスタンパーが適用しやすくなること、及び、
有機金属カップリング剤を含有させた光硬化性樹脂組成
物は軟化開始温度が低下するので、微細凹凸パターン形
成処理時のスピードを高速化させることが可能となるこ
とによるためと思われる。The reason why the duplication speed is increased in the present invention is that the surface of the layer of the photocurable resin composition formed on the film-shaped support is obtained by incorporating the organometallic coupling agent into the photocurable resin composition. Is smooth, the hardness is uniform and the stamper is easy to apply, and
It is considered that this is because the photocurable resin composition containing the organometallic coupling agent has a lower softening start temperature, which makes it possible to speed up the process of forming the fine concavo-convex pattern.
【0016】本発明の光硬化性樹脂組成物のこのような
特性を利用して、フィルム状支持体上に形成した本発明
の光硬化性樹脂組成物の層に対して表面にエンボス版に
よりエンボス加工した後に、エンボス版から光硬化性樹
脂組成物の層を形成したシートを剥離し、次いで、露光
して、表面に微細凹凸パターンを有する樹脂硬化物の層
を形成したシートを得るプロセスが可能となる。したが
って、正確な微細凹凸パターンの形成において、凹凸形
成と露光を同時に行えるように設計した大がかりな装置
を使用しなくても、本発明の光硬化性樹脂組成物を用い
れば、凹凸形成と露光について、別々に配置した装置を
用いることができる特徴がある。By utilizing such characteristics of the photocurable resin composition of the present invention, a layer of the photocurable resin composition of the present invention formed on a film-shaped support is embossed on the surface with an embossing plate. After processing, it is possible to remove the sheet with the photo-curable resin composition layer from the embossing plate, and then expose it to obtain a sheet with the resin-cured layer having a fine uneven pattern on the surface. Becomes Therefore, in the formation of an accurate fine uneven pattern, the unevenness formation and the exposure can be performed by using the photocurable resin composition of the present invention without using a large-scale device designed to simultaneously perform the uneven formation and the exposure. There is a feature that the devices arranged separately can be used.
【0017】該プロセスの採用は、エンボス加工及び露
光をほぼ同時に行い、その後にエンボス版から表面に微
細凹凸パターンを有する樹脂硬化物の層を形成したシー
トを剥離するプロセスに比べて、樹脂が未硬化の状態で
エンボス版から剥離できるので、樹脂硬化物の層を形成
したシートの剥離時に発生しやすい、樹脂硬化物の表面
の傷を抑制できる。また、光硬化性樹脂組成物の層に対
する露光は、フィルム状支持体を通して行うことなく、
光硬化性樹脂組成物の層に対して直接行えるので、露光
効率がよくなる。This process is employed in comparison with a process in which embossing and exposure are carried out almost at the same time, and thereafter, a sheet having a layer of a cured resin material having a fine uneven pattern on the surface is peeled from the embossing plate to remove the resin. Since it can be peeled off from the embossing plate in a cured state, it is possible to suppress scratches on the surface of the resin cured product, which are likely to occur when the sheet on which the resin cured product layer is formed is peeled off. Further, the exposure to the layer of the photocurable resin composition, without performing through the film-like support,
Since it can be directly applied to the layer of the photocurable resin composition, the exposure efficiency is improved.
【0018】本発明の光硬化性樹脂組成物における軟化
開始温度の低下とは、動的粘弾性測定方法によって求め
られる動的貯蔵弾性率の値から求めたときに、有機金属
カップリング剤が含有されていない場合に比べて低下す
る軟化開始温度であり、望ましくは少なくとも2℃以上
の低下である。The lowering of the softening initiation temperature in the photocurable resin composition of the present invention means that the organometallic coupling agent is contained when determined from the value of the dynamic storage elastic modulus determined by the dynamic viscoelasticity measuring method. It is a softening start temperature lower than that of the case where it is not applied, and is desirably at least 2 ° C. or more.
【0019】軟化開始温度の低下の評価に用いられる前
記動的粘弾性測定方法は次のようにして行われる。樹脂
材料を、室温で乾燥させて溶剤を揮発させた後、室温で
真空乾燥する。測定は動的粘弾性測定装置で行う。測定
装置としては、例えば、Rheogel-E400((株)ユービー
エム製)を使用することができる。測定装置の液体せん
断治具のスリット部位(間隙0.8mm、サイズ20×
20mm)に上記乾燥試料を詰めて行う。測定条件は、
基本測定周波数を10Hz として、歪み波形を正弦波、
歪み制御0.5μmとし、温度範囲を室温〜150℃、
昇温速度を3℃/mimとして測定する。測定された動
的貯蔵弾性率の値が、30℃の値よりも3%以上低下す
る点を、軟化開始温度とする。The dynamic viscoelasticity measuring method used for evaluating the decrease in the softening start temperature is performed as follows. The resin material is dried at room temperature to volatilize the solvent, and then vacuum dried at room temperature. The measurement is performed with a dynamic viscoelasticity measuring device. As the measuring device, for example, Rheogel-E400 (manufactured by UBM) can be used. Slit part of liquid shear jig of measuring device (gap 0.8mm, size 20x
20 mm) is packed with the above dried sample. The measurement conditions are
The basic measurement frequency is 10Hz, the distorted waveform is a sine wave,
Strain control is 0.5 μm, temperature range is room temperature to 150 ° C.,
The temperature rising rate is measured at 3 ° C./mim. The point at which the measured value of the dynamic storage elastic modulus is 3% or more lower than the value at 30 ° C. is defined as the softening start temperature.
【0020】本発明の光硬化性樹脂組成物は、上記成分
以外の任意成分として、非重合性透明樹脂、単官能又は
多官能モノマー及び/又は単官能又は多官能オリゴマ
ー、離型剤、有機金属カップリング剤、光重合開始剤、
重合禁止剤等を必要に応じて含有していてもよい。The photocurable resin composition of the present invention comprises a non-polymerizable transparent resin, a monofunctional or polyfunctional monomer and / or a monofunctional or polyfunctional oligomer, a release agent, an organic metal as an optional component other than the above components. Coupling agent, photopolymerization initiator,
A polymerization inhibitor and the like may be contained if necessary.
【0021】本発明のシートは、前記本発明の光硬化性
樹脂組成物をフィルム状支持体に塗布し、乾燥するか又
は乾燥しない状態のシートであることを特徴とする。一
般的には連続シートであって、巻き取られているが、枚
葉の形態であってもよい。本発明のシートは、未硬化の
光硬化性樹脂組成物の層中に有機金属カップリング剤が
含まれているので、保管中でもブロッキングが防止され
る。The sheet of the present invention is characterized in that the photocurable resin composition of the present invention is applied to a film-like support and dried or not dried. Generally, it is a continuous sheet and is wound, but it may be in the form of a single sheet. Since the sheet of the present invention contains the organometallic coupling agent in the layer of the uncured photocurable resin composition, blocking is prevented even during storage.
【0022】本発明の微細凹凸パターンの形成方法は、
前記本発明の光硬化性樹脂組成物をフィルム状支持体の
表面に塗布することにより光硬化性樹脂組成物の層を形
成し、次いで、該光硬化性樹脂組成物の層の表面をエン
ボス加工及び露光をほぼ同時に行うことにより、表面に
微細凹凸パターンを形成した硬化樹脂層とすることを特
徴とする。別の本発明の微細凹凸パターンの形成方法
は、前記本発明の光硬化性樹脂組成物をフィルム状支持
体の表面に塗布することにより光硬化性樹脂組成物の層
を形成し、該光硬化性樹脂組成物の層の表面をエンボス
加工した後、露光して硬化させることを特徴とする。The method for forming a fine concavo-convex pattern of the present invention is
The photocurable resin composition of the present invention is applied to the surface of a film-like support to form a layer of the photocurable resin composition, and then the surface of the layer of the photocurable resin composition is embossed. And the exposure is performed almost simultaneously to form a cured resin layer having a fine concavo-convex pattern formed on the surface. Another method for forming a fine concavo-convex pattern of the present invention is to form a layer of the photocurable resin composition by applying the photocurable resin composition of the present invention to the surface of a film-like support, The surface of the layer of the functional resin composition is embossed, and then exposed and cured.
【0023】本発明の微細凹凸パターンの別の形成方法
は、予め製造された前記シートを用いて形成することも
できる。即ち、シートが巻取体である場合を例にすれ
ば、巻取体の保管工程、巻取体から繰り出したフィルム
状支持体上の光硬化性樹脂組成物の層の表面をエンボス
加工及び露光をほぼ同時に行うことにより、表面に微細
凹凸パターンを形成した硬化樹脂層としてもよい。巻取
体を用いた別の本発明の微細凹凸パターンの形成方法
は、巻取体における光硬化性樹脂組成物の層の表面をエ
ンボス加工(エンボス工程)した後、微細凹凸パターン
が形成された光硬化性樹脂組成物の層へ露光(露光工
程)して光硬化性樹脂層を硬化させることにより、微細
凹凸パターンを形成してもよい。In another method of forming the fine concavo-convex pattern of the present invention, it is also possible to form using the previously manufactured sheet. That is, taking the case where the sheet is a roll as an example, the step of storing the roll, embossing and exposing the surface of the layer of the photocurable resin composition on the film-like support unwound from the roll. May be performed almost simultaneously to form a cured resin layer having a fine concavo-convex pattern formed on the surface. Another method for forming a fine concavo-convex pattern of the present invention using a winding body is that a fine concavo-convex pattern is formed after embossing the surface of the layer of the photocurable resin composition in the winding body (embossing step). A fine uneven pattern may be formed by exposing the layer of the photocurable resin composition to light (exposure step) to cure the photocurable resin layer.
【0024】本発明の微細凹凸パターンの形成方法は、
前記光硬化性樹脂組成物を用いるので、前記した通り微
細凹凸パターン形成処理を比較的低温で、高速化させて
行うことができる。The method for forming a fine concavo-convex pattern of the present invention is
Since the photocurable resin composition is used, as described above, the fine concavo-convex pattern forming process can be performed at a relatively low temperature and at a high speed.
【0025】本発明の微細凹凸パターンの形成方法にお
いて、正確に凹凸が形成可能なエンボス時の加熱温度
は、光硬化性樹脂組成物の層が形成されたフィルム状支
持体の供給スピードとの関係によって定まる。また、フ
ィルム状支持体の材質によって耐熱温度が異なるので、
材質についても考慮して、加熱温度及びフィルム状支持
体の供給スピードを適宜設定する必要がある。In the method for forming a fine concavo-convex pattern of the present invention, the heating temperature at the time of embossing capable of accurately forming concavities and convexities is related to the supply speed of the film-shaped support on which the layer of the photocurable resin composition is formed. Determined by Also, since the heat resistant temperature varies depending on the material of the film-shaped support,
It is necessary to appropriately set the heating temperature and the supply speed of the film-shaped support in consideration of the material.
【0026】露光工程を微細凹凸パターン形成工程の後
に行う場合には、エンボス装置から剥がした状態で光硬
化性樹脂組成物の層側から直接、光を照射することがで
きる。一方、本発明においては、微細凹凸パターン形成
工程と露光工程はほぼ同時に行うこともできる。しかし
ながら、露光工程を微細凹凸パターン形成工程とほぼ同
時に行う場合には、フィルム状支持体側からフィルム状
支持体を透過させて露光を行うことになるので、紫外線
等の光によりフィルム状支持体を劣化させたり、光がフ
ィルム状支持体により吸収されてしまい、光照射が効率
的でなかったりする。また、凹凸形成工程で使用する、
例えば、エンボスローラーのプレススタンパーが樹脂で
作成されている場合には、照射する紫外線等の光がプレ
ススタンパーを劣化させる恐れがある。When the exposure step is performed after the step of forming a fine concavo-convex pattern, light can be directly irradiated from the layer side of the photocurable resin composition in a state of being peeled off from the embossing device. On the other hand, in the present invention, the fine concavo-convex pattern forming step and the exposing step can be performed almost simultaneously. However, when the exposure step is performed almost simultaneously with the fine concavo-convex pattern forming step, the film support is transmitted through the film support to perform the exposure, and therefore the film support is deteriorated by light such as ultraviolet rays. Or the light is absorbed by the film-like support, and the light irradiation is not efficient. Also used in the unevenness forming step,
For example, when the press stamper of the embossing roller is made of resin, the light such as ultraviolet rays to be irradiated may deteriorate the press stamper.
【0027】本発明の光学用物品は、前記光硬化性樹脂
組成物を用いて形成された、表面が微細凹凸パターンを
有する硬化樹脂層を備えることを特徴とする。本発明の
光学用物品は、未硬化の光硬化性樹脂組成物の層がフィ
ルム状支持体上に形成されてなるシート、好ましくは巻
取体を用いて形成されていてもよい。The optical article of the present invention is characterized by comprising a cured resin layer formed by using the above-mentioned photocurable resin composition and having a fine uneven pattern on the surface. The optical article of the present invention may be formed using a sheet, preferably a winding body, in which a layer of the uncured photocurable resin composition is formed on a film-shaped support.
【0028】本発明の表面が微細凹凸パターン構造を有
する硬化樹脂層を備えた光学用物品は、反射、透過、散
乱、偏光、集光、干渉等の光現象の少なくとも一つを制
御する光学素子、具体的には、レリーフ型ホログラム、
回折格子、反射防止性能膜、散乱板、反射板等の光学用
物品とすることができる。The optical article provided with the cured resin layer having the fine uneven pattern structure on the surface of the present invention is an optical element for controlling at least one of optical phenomena such as reflection, transmission, scattering, polarization, focusing and interference. , Specifically, relief type hologram,
It can be an optical article such as a diffraction grating, an antireflection film, a scattering plate, or a reflection plate.
【0029】本発明の表面が微細凹凸パターン構造を有
する硬化樹脂層を備えた光学用物品は、該微細凹凸パタ
ーン構造を公知の手法に従って光学的に情報記録及び/
又は読取することができる光学用物品(情報記録素子)
とすることができる。The optical article provided with a cured resin layer having a fine relief pattern structure on its surface according to the present invention optically records and / or records information on the fine relief pattern structure according to a known method.
Or optical articles that can be read (information recording element)
Can be
【0030】本発明の転写箔は、前記光硬化性樹脂組成
物を剥離層を介して、フィルム状支持体に塗布して光硬
化性樹脂組成物の層を形成し、さらに光硬化性樹脂組成
物の層と屈折率の異なる層、接着層の順に形成してなる
ことを特徴とする。In the transfer foil of the present invention, the photocurable resin composition is applied to a film-shaped support through a release layer to form a layer of the photocurable resin composition. It is characterized in that a material layer, a layer having a different refractive index, and an adhesive layer are formed in this order.
【0031】転写箔を用いて本発明の光学用物品を製造
する方法は、(1)前記本発明の光硬化性樹脂組成物を
剥離層を介して、フィルム状支持体に塗布して光硬化性
樹脂組成物の層を形成し、(2)エンボス加工及び露光
をほぼ同時に行うことにより、光硬化性樹脂組成物の層
を硬化させて表面に微細凹凸パターンを形成し、(3)
さらに、光硬化性樹脂組成物の層と屈折率の異なる層を
形成し、(4)さらに、接着剤層を形成して転写箔と
し、(5)得られた転写箔を被転写体に転写することを
特徴とする。即ち、剥離層の部位でフィルム状支持体を
剥離することにより、被転写体に転写して光学用物品と
する。The method for producing an optical article of the present invention using a transfer foil is (1) photocuring by applying the photocurable resin composition of the present invention to a film-like support through a release layer. A layer of a thermosetting resin composition is formed, and (2) embossing and exposure are performed almost at the same time to cure the layer of the photocurable resin composition to form a fine uneven pattern on the surface, (3)
Further, a layer having a refractive index different from that of the photocurable resin composition layer is formed, and (4) an adhesive layer is further formed as a transfer foil, and (5) the obtained transfer foil is transferred to a transfer target. It is characterized by doing. That is, the film-like support is peeled off at the part of the peeling layer, so that the film-like support is transferred to the transfer target to obtain an optical article.
【0032】転写箔を用いて本発明の光学用物品を製造
する方法の別の態様は、(1)前記本発明の光硬化性樹
脂組成物を剥離層を介して、フィルム状支持体に塗布し
て光硬化性樹脂組成物の層を形成し、(2)エンボス加
工した後、露光することにより、光硬化性樹脂組成物の
層を硬化させて表面に微細凹凸パターンを形成し、
(3)さらに、光硬化性樹脂組成物の層と屈折率の異な
る層を形成し、(4)さらに、接着剤層を形成して転写
箔とし、(5)得られた転写箔を被転写体に転写するこ
とを特徴とする。Another aspect of the method for producing an optical article of the present invention using a transfer foil is (1) applying the photocurable resin composition of the present invention to a film-like support through a release layer. To form a layer of the photocurable resin composition, and (2) after embossing, the layer of the photocurable resin composition is cured by exposure to form a fine uneven pattern on the surface,
(3) Further, a layer having a refractive index different from that of the photocurable resin composition layer is formed, (4) Further, an adhesive layer is formed as a transfer foil, and (5) the obtained transfer foil is transferred. It is characterized by being transferred to the body.
【0033】[0033]
【発明の実施の形態】本発明の光硬化性樹脂組成物及び
微細凹凸パターンの形成方法について、好ましい実施の
形態を挙げて更に説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The photocurable resin composition and the method for forming a fine concavo-convex pattern of the present invention will be further described with reference to preferred embodiments.
【0034】有機金属カップリング剤
本発明で使用する有機金属カップリング剤は、光硬化性
樹脂組成物の層を形成し、巻き取って巻取体としたとき
のブロッキングを防止するために添加される。また、該
有機金属カップリング剤は、光硬化性樹脂組成物の軟化
温度を低下させ、微細凹凸パターン形成処理時のスピー
ドを高速化させるために添加される。 Organometallic Coupling Agent The organometallic coupling agent used in the present invention is added to form a layer of the photocurable resin composition and prevent blocking when wound into a wound body. It Further, the organometallic coupling agent is added in order to lower the softening temperature of the photocurable resin composition and speed up the process of forming the fine concavo-convex pattern.
【0035】有機金属カップリング剤は、光硬化性樹脂
組成物の全固形分に対して0.1〜20重量%であるこ
とが望ましい。有機金属カップリング剤の含有量が0.
1重量%未満であると、ブロッキングを防止する効果が
ない。20重量%を超えると、光硬化性樹脂組成物及び
光硬化性樹脂組成物の層を形成した巻取体の保存安定性
が損なわれる。The organometallic coupling agent is preferably 0.1 to 20% by weight based on the total solid content of the photocurable resin composition. The content of the organometallic coupling agent is 0.
If it is less than 1% by weight, there is no effect of preventing blocking. If it exceeds 20% by weight, the storage stability of the photocurable resin composition and the roll having the photocurable resin composition layer formed thereon is impaired.
【0036】有機金属カップリング剤として、シランカ
ップリング剤、チタンカップリング剤、ジルコニウムカ
ップリング剤、アルミニウムカップリング剤が挙げられ
るが、特に、膜表面を平滑にする効果が良好なものに
は、アルミニウムカップリング剤が挙げられる。Examples of the organometallic coupling agent include a silane coupling agent, a titanium coupling agent, a zirconium coupling agent, and an aluminum coupling agent. Particularly, those having a good effect of smoothing the film surface are An aluminum coupling agent may be used.
【0037】Ra値が1nm以下の、平滑な膜面を形成
する材料に対しては、有機金属カップリング剤による平
滑効果はかなり小さい。しかし、アルコキシ基を有する
アルミニウムカップリング剤を添加した場合は、より平
滑面を作る効果が確認される。この効果は、バインダー
としてアクリル樹脂と、ウレタンアクリレート樹脂の組
合せを選択した場合に、顕著に現れる。For a material having a Ra value of 1 nm or less and forming a smooth film surface, the smoothing effect of the organometallic coupling agent is considerably small. However, when an aluminum coupling agent having an alkoxy group is added, the effect of making a smoother surface is confirmed. This effect is prominent when a combination of acrylic resin and urethane acrylate resin is selected as the binder.
【0038】好適なシランカップリング剤としては、ビ
ニルトリクロルシラン、ビニルトリス(β−メトキシエ
トキシ)シラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルト
リメトキシシラン等のビニルシラン;γ−メタクリロキ
シ、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、
γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等
のアクリルシラン;β−(3,4−エポキシシクロへキ
シル)エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピル
メチルジエトキシシラン等のエポキシシラン;N−β−
(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシ
ラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピル
メチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメト
キシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメ
トキシシラン等のアミノシランを使用することができ
る。その他のシランカップリング剤として、γ−メルカ
プトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピル
メチルジメトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジ
エトキシシラン等を使用することができる。Suitable silane coupling agents include vinyltrichlorosilane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, vinyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane and other vinylsilanes; γ-methacryloxy, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane. ,
Acrylic silanes such as γ-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane; β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane Epoxy silane such as N-β-
(Aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, etc. Aminosilanes can be used. As other silane coupling agents, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-chloropropylmethyldimethoxysilane, γ-chloropropylmethyldiethoxysilane and the like can be used.
【0039】チタンカップリング剤としては、例えば、
イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプ
ロピルトリドデシルベンゼンスルホニルチタネート、イ
ソプロピルトリス(ジオクチルパイロホスフェート)チ
タネート、テトライソプロピルビス(ジオクチルホスフ
ァイト)チタネート、テトラオクチルビス(ジトリデシ
ルホスファイト)チタネート、テトラ(2,2−ジアリ
ルオキシメチル)ビス(ジトリデシル)ホスファイトチ
タネート、ビス(ジオクチルパイロホスフェート)オキ
シアセテートチタネート、ビス(ジオクチルパイロホス
フェート)エチレンチタネート、イソプロピルトリオク
タノイルチタネート、イソプロピルジメタクリルイソス
テアロイルチタネート、イソプロピルイソステアロイル
ジアクリルチタネート、イソプロピルトリ(ジオクチル
ホスフェート)チタネート、イソプロピルトリクミルフ
ェニルチタネート、イソプロピルトリ(N−アミノエチ
ル・アミノエチル)チタネート、ジクミルフェニルオキ
シアセテートチタネート、ジイソステアロイルエチレン
チタネート等が挙げられる。The titanium coupling agent is, for example,
Isopropyltriisostearoyl titanate, isopropyl tridodecylbenzenesulfonyl titanate, isopropyl tris (dioctyl pyrophosphate) titanate, tetraisopropyl bis (dioctyl phosphite) titanate, tetraoctyl bis (ditridecyl phosphite) titanate, tetra (2,2-diallyl) Oxymethyl) bis (ditridecyl) phosphite titanate, bis (dioctylpyrophosphate) oxyacetate titanate, bis (dioctylpyrophosphate) ethylene titanate, isopropyl trioctanoyl titanate, isopropyl dimethacryl isostearoyl titanate, isopropyl isostearoyl diacrylic titanate, Isopropyl tri (dioctyl phosphate) Titanate, isopropyl tricumylphenyl titanate, isopropyl tri (N- aminoethyl-aminoethyl) titanate, dicumyl phenyloxy acetate titanate, diisostearoyl ethylene titanate.
【0040】ジルコニウムカップリング剤としては、例
えば、テトラ−n−プロポキシジルコニウム、テトラ−
ブトキシジルコニウム、ジルコニウムテトラアセチルア
セトネート、ジルコニウムジブトキシビス(アセチルア
セトネート)、ジルコニウムトリブトキシエチルアセト
アセテート、ジルコニウムブトキシアセチルアセトネー
トビス(エチルアセトアセテート)等が挙げられる。Examples of zirconium coupling agents include tetra-n-propoxyzirconium and tetra-n-propoxyzirconium.
Examples thereof include butoxy zirconium, zirconium tetraacetylacetonate, zirconium dibutoxybis (acetylacetonate), zirconium tributoxyethyl acetoacetate, zirconium butoxyacetylacetonate bis (ethylacetoacetate).
【0041】アルミニウムカップリング剤としては、例
えば、アルミニウムイソプロピレート、モノsec−ブ
トキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウム
sec−ブチレート、アルミニウムエチレート、エチル
アセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、ア
ルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)、アルキ
ルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、
アルミニウムモノアセチルアセトネートビス(エチルア
セトアセテート)、アルミニウムトリス(アセチルアセ
トアセテート)等を挙げることができる。アルミニウム
カップリング剤の中でも、膜表面を平滑にする効果が特
に優れているものには、アルコキシ基を持つものが挙げ
られる。しかし、アルコキシ基は反応性に富み、組成物
の安定性が低下するため、いくつかはキレート化されて
いるものが好ましい。Examples of the aluminum coupling agent include aluminum isopropylate, monosec-butoxyaluminum diisopropylate, aluminum sec-butyrate, aluminum ethylate, ethyl acetoacetate aluminum diisopropylate, aluminum tris (ethylacetoacetate), Alkyl acetoacetate aluminum diisopropylate,
Aluminum monoacetyl acetonate bis (ethyl acetoacetate), aluminum tris (acetyl acetoacetate), etc. can be mentioned. Among the aluminum coupling agents, those having an alkoxy group are mentioned as particularly excellent in the effect of smoothing the film surface. However, some of the alkoxy groups are preferably chelated because the alkoxy groups are highly reactive and the stability of the composition decreases.
【0042】光重合性官能基を有するバインダー樹脂
本発明において光重合性官能基を有するバインダー樹脂
には、バインダー樹脂の少なくとも1種は、ポリスチレ
ン換算重量平均分子量が、5,000〜600,000
の範囲であることが望ましく、さらに好ましくは5,0
00〜300,000、最も好ましくは、5,000〜
200,000である。ポリスチレン換算重量平均分子
量が5,000未満であると、表面のタックを抑えるこ
とができないため好ましくなく、ポリスチレン換算重量
平均分子量が大きくなるにつれて、スタンピングして形
成された光学用物品の微細凹凸パターンの安定性が高く
なる点においては好ましいが、600,000を超える
と、バインダー樹脂の軟化開始温度が高くなりすぎ、熱
加工適性が低下するため好ましくない。上記範囲の分子
量のバインダー樹脂は、バインダー樹脂全体の20重量
%以上を占めることが好ましい。 Binder Resin Having Photopolymerizable Functional Group In the present invention, the binder resin having a photopolymerizable functional group has at least one binder resin having a polystyrene-reduced weight average molecular weight of 5,000 to 600,000.
It is desirable that it is in the range of, and more preferably 5,0
00-300,000, most preferably 5,000-
It is 200,000. If the polystyrene-equivalent weight average molecular weight is less than 5,000, the tackiness of the surface cannot be suppressed, which is not preferable, and as the polystyrene-equivalent weight average molecular weight increases, the fine unevenness pattern of the optical article formed by stamping is formed. It is preferable in that the stability becomes high, but if it exceeds 600,000, the softening start temperature of the binder resin becomes too high and the suitability for thermal processing is deteriorated, which is not preferable. The binder resin having a molecular weight in the above range preferably accounts for 20% by weight or more of the entire binder resin.
【0043】任意成分として、上記範囲外の分子量のそ
の他のバインダー樹脂成分を、必須のバインダー樹脂成
分に添加してもよく、その他のバインダー樹脂成分に
は、ポリスチレン換算重量平均分子量5,000未満の
ものを用いてもよい。分子量5,000未満のバインダ
ー樹脂は、樹脂の軟化開始温度を下げる目的で必要に応
じて添加してもよいが、光硬化性樹脂組成物を用いて形
成した巻取体に発生する恐れのあるタックを防止するこ
とを考慮すると、その他のバインダー樹脂成分の割合は
バインダー樹脂全体の80重量%以下であることが好ま
しい。As an optional component, another binder resin component having a molecular weight outside the above range may be added to the essential binder resin component, and the other binder resin component has a polystyrene reduced weight average molecular weight of less than 5,000. You may use the thing. A binder resin having a molecular weight of less than 5,000 may be added as necessary for the purpose of lowering the softening start temperature of the resin, but it may occur in a roll formed using the photocurable resin composition. Considering prevention of tack, the ratio of the other binder resin components is preferably 80% by weight or less based on the whole binder resin.
【0044】アクリル樹脂
本発明においてバインダー樹脂成分として使用されるア
クリル樹脂は、光学材料としての透明性、強度、凹凸パ
ターンを熱プレスで成形するための熱可塑性樹脂として
使用される。 Acrylic Resin The acrylic resin used as the binder resin component in the present invention is used as a thermoplastic resin for molding the transparency, strength and uneven pattern as an optical material by hot pressing.
【0045】一般的な(メタ)アクリレートモノマーを
重合させて得られるポリマー、或いは(メタ)アクリレ
ートモノマーとビニルモノマーを共重合させて得られる
ポリマーであれば、いずれも使用できる。例えば、(メ
タ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)
アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチル、2−ヒ
ドロキシエチル(メタ)アクリレート、N−メチロール
(メタ)アクリルアミド、2−ヒドロキシプロピル(メ
タ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アク
リレート、ジメチルアクリルアミド、ジメチルアミノエ
チル(メタ)アクリレート等を重合したポリマーが挙げ
られるが、これらに限定されるものではない。Any polymer can be used as long as it is a polymer obtained by polymerizing a general (meth) acrylate monomer or a polymer obtained by copolymerizing a (meth) acrylate monomer and a vinyl monomer. For example, (meth) acrylic acid, methyl (meth) acrylate, (meth)
Ethyl acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, N-methylol (meth) acrylamide, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, dimethylacrylamide, dimethyl Examples thereof include polymers obtained by polymerizing aminoethyl (meth) acrylate and the like, but are not limited thereto.
【0046】なお、本明細書で「…(メタ)アクリル
酸」とは、「…アクリル酸又は、…メタクリル酸」を、
「…(メタ)アクリレート」とは、「…アクリレート、
又は…メタクリレート」を、「…(メタ)アクリロイ
ル」とは、「…アクリロイル、又は…メタクリロイル」
をそれぞれ意味する。In the present specification, "... (meth) acrylic acid" means "... acrylic acid or ... Methacrylic acid".
"... (meth) acrylate" means "... acrylate,
Or ... "methacrylate" and "... (meth) acryloyl" means "... acryloyl or ... methacryloyl"
Mean respectively.
【0047】微細凹凸パターンを形成するためには、微
細凹凸パターンを形成したプレススタンパーによって、
樹脂層がエンボスされた後、プレススタンパーに樹脂層
が移行するのを防ぐため、離型性を付与する基を有する
モノマーを共重合させることができる。例えば、(メ
タ)アクリロイル変性シリコーンオイル(樹脂)、ビニ
ル変性シリコーンオイル(樹脂)等の重合性二重結合を
有するシリコーンオイル(樹脂)、γ−(メタ)アルコ
キシプロピルトリメトキシシラン等のケイ素を含有する
モノマー、2−(パーフルオロ−7−メチルオクチル)
エチル(メタ)アクリレート等のフッ素を含有するモノ
マー等が挙げられる。In order to form the fine concavo-convex pattern, a press stamper on which the fine concavo-convex pattern is formed is used.
After the resin layer is embossed, a monomer having a group that imparts releasability can be copolymerized in order to prevent the resin layer from migrating to the press stamper. For example, a silicone oil (resin) having a polymerizable double bond such as (meth) acryloyl-modified silicone oil (resin) or vinyl-modified silicone oil (resin), or silicon such as γ- (meth) alkoxypropyltrimethoxysilane is contained. Monomer, 2- (perfluoro-7-methyloctyl)
Examples include fluorine-containing monomers such as ethyl (meth) acrylate.
【0048】光学材料としての強度、耐熱性、耐擦傷
性、耐水性、耐薬品性を有し、加工のための柔軟性、熱
可塑性を持たせるためには、特に、シクロヘキシル(メ
タ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリ
レート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ベ
ンジル(メタ)アクリレート、スチレン、α−メチルス
チレン、4−ビニルピリジン、アクリロイルモルフォリ
ン、ビニルピロリドン、ビニルカプロラクトン等の嵩高
い構造、環状構造等を有するモノマーを共重合させたも
のが好適である。In order to have strength, heat resistance, scratch resistance, water resistance, chemical resistance as an optical material, and flexibility and thermoplasticity for processing, especially cyclohexyl (meth) acrylate, Bulky structures such as dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, styrene, α-methylstyrene, 4-vinylpyridine, acryloylmorpholine, vinylpyrrolidone and vinylcaprolactone, The thing which copolymerized the monomer which has a cyclic structure etc. is suitable.
【0049】中でも、好ましい1例として、メタクリル
酸メチル20〜90モルとイソボルニルメタクリレート
0〜80モルとメタクリル酸0〜50モルと2−ヒドロ
キシメチルメタクリレート10〜80モルとを共重合さ
せて得られるアクリル共重合が好適である。Among them, as a preferable example, it is obtained by copolymerizing 20 to 90 mol of methyl methacrylate, 0 to 80 mol of isobornyl methacrylate, 0 to 50 mol of methacrylic acid and 10 to 80 mol of 2-hydroxymethyl methacrylate. Preferred are acrylic copolymers.
【0050】しかし、このような、離型性を有する構造
や、嵩高い構造、環状構造等を導入するとそれに伴い、
塗工のための希釈溶剤に溶解し難くなったり、架橋密度
を高めたり柔軟性を付与する目的で混合するウレタンア
クリレート、ポリエステルアクリレートとの相溶性が悪
くなり、樹脂層を形成した際に、塗膜面の密度が高くな
る。その結果、樹脂の透明性が失われたり、凹凸パター
ン形成のための熱加工性が悪くなったりすることがあ
る。本発明はこのような場合に前記したとおり、有機金
属カップリング剤、特に好ましくは、アルミニウムカッ
プリング剤を光硬化性樹脂組成物中に加えることによ
り、アクリル樹脂と、光重合性官能基を有するウレタン
アクリレート樹脂及び/又はポリエステルアクリレート
樹脂との相溶性を高め、該光硬化性樹脂組成物により形
成した塗膜面を平滑にさせている。However, when such a structure having releasability, a bulky structure, a cyclic structure, etc. is introduced,
It becomes difficult to dissolve in a diluting solvent for coating, compatibility with urethane acrylate and polyester acrylate mixed for the purpose of increasing crosslink density and imparting flexibility deteriorates, and when forming a resin layer, coating The density of the film surface becomes high. As a result, the transparency of the resin may be lost, or the heat processability for forming the uneven pattern may be deteriorated. As described above in such a case, the present invention has an acrylic resin and a photopolymerizable functional group by adding an organometallic coupling agent, particularly preferably an aluminum coupling agent, to the photocurable resin composition. The compatibility with the urethane acrylate resin and / or the polyester acrylate resin is enhanced, and the coating film surface formed by the photocurable resin composition is made smooth.
【0051】光重合性官能基を有するウレタンアクリレ
ート樹脂及び/又はポリエステルアクリレート樹脂
本発明においてバインダー樹脂成分として使用されるウ
レタンアクリレート樹脂及び/又はポリエステルアクリ
レート樹脂は、前記アクリル樹脂の強度、耐熱性、耐擦
傷性、耐水性、耐薬品性の性質をさらに高めるため、及
び架橋密度を高めるために、且つ光重合性を付与するた
めに添加される。また、加工の柔軟性を付与することも
できる。 Urethane acrylate having photopolymerizable functional group
Resin and / or polyester acrylate resin The urethane acrylate resin and / or polyester acrylate resin used as the binder resin component in the present invention has strength, heat resistance, scratch resistance, water resistance and chemical resistance of the acrylic resin. It is added to further enhance the properties, to increase the crosslink density, and to impart photopolymerizability. Further, it is possible to add processing flexibility.
【0052】ウレタンアクリレートは、分子中にウレタ
ン結合と、光重合性を有する(メタ)アクリロイル基を
有するものであれば、いずれも使用できる。ウレタンア
クリレートの中では、2個以上のイソシアネート基を有
するイソシアネート化合物と、2個以上の水酸基を有す
る化合物と、1個以上の水酸基及び1個以上の(メタ)
アクリロイル基を有する化合物を反応させて得られるウ
レタンアクリレート、又は、2個以上のイソシアネート
基を有するイソシアネート化合物と、2個以上の水酸基
及び1個以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物
を反応させて得られるウレタンアクリレートが好まし
い。Any urethane acrylate can be used as long as it has a urethane bond and a photopolymerizable (meth) acryloyl group in the molecule. Among urethane acrylates, an isocyanate compound having two or more isocyanate groups, a compound having two or more hydroxyl groups, one or more hydroxyl groups and one or more (meth)
Urethane acrylate obtained by reacting a compound having an acryloyl group, or an isocyanate compound having two or more isocyanate groups, and a compound having two or more hydroxyl groups and one or more (meth) acryloyl groups The resulting urethane acrylate is preferred.
【0053】融点が40℃以上のイソシアネート化合
物、特にイソホロンジイソシアネートの3量体と、(メ
タ)アクリロイル基を有していて且つイソシアネート基
と反応し得る化合物との反応生成物が特に好ましく、例
えば、特開2001−329031に示されるウレタン
アクリレートが好ましい。Particularly preferred is a reaction product of an isocyanate compound having a melting point of 40 ° C. or higher, particularly a trimer of isophorone diisocyanate, and a compound having a (meth) acryloyl group and capable of reacting with an isocyanate group. Urethane acrylates disclosed in JP 2001-329031 A are preferred.
【0054】ウレタンアクリレートの合成に用いる2個
以上のイソシアネート基を有するイソシアネート化合物
としては、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメ
チレンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシア
ネート、2,6−トリレンジイソシアネート、4,4’
−ジフェニルメタンジイソシアネート、1,5−ナフタ
レンジイソシアネート、3,3−ジメチル−4,4−ジ
フェニレンイソシアネート、イソホロンジイソシアネー
ト、m−キシリレンジイソシアネート、p−キシリレン
ジイソシアネート、1,3−ビス(イソシアネートメチ
ル)シクロヘキサン、1,3−ビス(α,α−ジメチル
イソシアネートメチル)ベンゼン、トリメチルヘキサメ
チレンジイソシアネート、水素添加キシリレンジイソシ
アネート等が挙げられる。これらは単独で又は2種以上
を混合して使用することができる。Examples of the isocyanate compound having two or more isocyanate groups used for the synthesis of urethane acrylate include tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate and 4,4 '.
-Diphenylmethane diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, 3,3-dimethyl-4,4-diphenylene isocyanate, isophorone diisocyanate, m-xylylene diisocyanate, p-xylylene diisocyanate, 1,3-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane , 1,3-bis (α, α-dimethylisocyanate methyl) benzene, trimethylhexamethylene diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate and the like. These may be used alone or in combination of two or more.
【0055】ウレタンアクリレートの合成に用いる2個
以上の水酸基を有する化合物としては、例えば、1,3
−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、トリメチ
ロールエタン、トリメチロールプロパン、ジトリメチロ
ールエタン、ジトリメチロールプロパン、ペンタエリス
リトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリス
リトール、ジグリセロール、グリセリン、その他、数々
のポリシロキサンポリオール、ポリ(オキシアルキレ
ン)ポリオール、ポリエステルポリオール、ポリエーテ
ルポリオール、ポリエーテルポリエステルポリオール、
ポリオレフィンポリオール、ポリ(アルキルアクリレー
ト)ポリオール、ポリカーボネートポリオール等が挙げ
られる。Examples of the compound having two or more hydroxyl groups used in the synthesis of urethane acrylate include 1,3
-Butanediol, 1,4-butanediol, trimethylolethane, trimethylolpropane, ditrimethylolethane, ditrimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol, tripentaerythritol, diglycerol, glycerin, and many other polysiloxane polyols , Poly (oxyalkylene) polyols, polyester polyols, polyether polyols, polyether polyester polyols,
Examples thereof include polyolefin polyols, poly (alkyl acrylate) polyols, and polycarbonate polyols.
【0056】ウレタンアクリレートの合成に用いる1個
以上の水酸基及び1個以上の(メタ)アクリロイル基を
有する化合物としては、例えば、2−ヒドロキシエチル
(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メ
タ)アクリレート、4−ヒドロキシシクロヘキシル(メ
タ)アクリレート、5−ヒドロキシシクロオクチル(メ
タ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェニルオキ
シプロピル(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトー
ルトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタア
クリレートが挙げれらる。Examples of the compound having at least one hydroxyl group and at least one (meth) acryloyl group used for the synthesis of urethane acrylate include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxycyclohexyl (meth) acrylate, 5-hydroxycyclooctyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenyloxypropyl (meth) acrylate, pentaerythritol triacrylate, and dipentaerythritol pentaacrylate may be mentioned.
【0057】ポリエステルアクリレートは、分子中にエ
ステル結合と、光重合性を有する(メタ)アクリロイル
基を有するものであれば、いずれも使用できる。ポリエ
ステルアクリレートの中では、2個以上の水酸基を有す
る化合物又は環状エステル化合物と多塩基酸とから合成
したポリエステル化合物に、さらに(メタ)アクリロイ
ル基を持つ化合物を反応させて得られるポリエステルア
クリレートが好ましい。Any polyester acrylate can be used as long as it has an ester bond and a photopolymerizable (meth) acryloyl group in the molecule. Among the polyester acrylates, polyester acrylates obtained by further reacting a compound having two or more hydroxyl groups or a polyester compound synthesized from a cyclic ester compound and a polybasic acid with a compound having a (meth) acryloyl group are preferable.
【0058】ポリエステルアクリレートの合成に用いる
2個以上の水酸基を有する化合物としては、上記ウレタ
ンアクリレートの合成に用いるものと同じものを用いる
ことができる。As the compound having two or more hydroxyl groups used for synthesizing the polyester acrylate, the same compounds as those used for synthesizing the urethane acrylate can be used.
【0059】ポリエステルアクリレートの合成に用いる
環状エステル化合物としては、例えば、ε−カプロラク
トン、δ−バレロラクトン、γ−ブチロラクトン、γ−
バレロラクトン等のラクトン化合物、その誘導体、若し
くは該ラクトン化合物とグリシジルメタクリレート等の
エポキシ化合物との付加反応生成物を挙げることができ
る。Examples of the cyclic ester compound used in the synthesis of polyester acrylate include ε-caprolactone, δ-valerolactone, γ-butyrolactone and γ-
Examples thereof include a lactone compound such as valerolactone, a derivative thereof, or an addition reaction product of the lactone compound and an epoxy compound such as glycidyl methacrylate.
【0060】ポリエステルアクリレートの合成に用いる
多塩基酸としては、例えば、アジピン酸、コハク酸、セ
バチン酸等の飽和多塩基酸;マレイン酸、フマル酸、イ
タコン酸、シトラコン酸等の不飽和多塩基酸;フタル
酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸等の
芳香族多塩基酸を挙げることができる。Examples of the polybasic acid used in the synthesis of the polyester acrylate include saturated polybasic acids such as adipic acid, succinic acid and sebacic acid; unsaturated polybasic acids such as maleic acid, fumaric acid, itaconic acid and citraconic acid. An aromatic polybasic acid such as phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid or trimellitic acid may be mentioned.
【0061】上記したウレタン変性アクリル樹脂、ウレ
タンアクリレート樹脂、及び、ポリエステルアクリレー
ト樹脂は、硬化後において透明性、強度、耐擦傷性、耐
熱性、耐水性、耐薬品性、フィルム状支持体に対する密
着性、可撓性、フィルム状支持体の屈曲や伸縮に対する
追従性に優れると共に、フィルム状支持体上に皮膜化し
てスタンパーにより凹凸パターンを賦型し得る充分な成
膜性、柔軟性及びクリープ性を有しているので、本発明
において好ましく用いられる。The urethane-modified acrylic resin, urethane acrylate resin, and polyester acrylate resin described above are, after curing, transparency, strength, scratch resistance, heat resistance, water resistance, chemical resistance, and adhesion to a film-like support. , Flexibility, and excellent followability to flexion and expansion and contraction of the film-like support, and sufficient film-forming property, flexibility and creeping property capable of forming a film on the film-like support and imprinting an uneven pattern with a stamper. Since it has, it is preferably used in the present invention.
【0062】光重合官能性の単官能又は多官能モノマ
ー、単官能又は多官能オリゴマー
本発明の光硬化性樹脂組成物の粘度を低下させたり、硬
化後に得られる樹脂層の柔軟性や架橋密度を調整するた
めに、本発明の光硬化性樹脂組成物に単官能又は多官能
モノマー、単官能オリゴマー又は多官能オリゴマー、或
いは通常の熱可塑性樹脂を配合してもよい。例えば、単
官能ではテトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレー
ト、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ビニルピ
ロリドン、(メタ)アクリロイルオキシエチルサクシネ
ート、(メタ)アクリロイルオキシエチルフタレート等
のモノ(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)ア
クリレート、シクロヘキシニル(メタ)アクリレート、
ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペ
ンテニル(メタ)アクリレート;2官能以上では、骨格
構造で分類するとポリオール(メ夕)アクリレート(エ
ポキシ変性ポリオール(メタ)アクリレート、ラクトン
変性ポリオール(メタ)アクリレート等)、ポリエステ
ル(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレー
ト、ウレタン(メタ)アクリレート、その他ポリブタジ
エン系、イソシアヌール酸系、ヒダントイン系、メラミ
ン系、リン酸系、イミド系、フォスファゼン系、カルド
系、ビスフェノール系、ビフェニル系等の骨格を有する
ポリ(メタ)アクリレートが挙げられ、そのほか、ビニ
ル化合物、アリル化合物等の炭素間二重結合を持つ様々
な紫外線、電子線硬化性である様々なモノマー、オリゴ
マー、ポリマーが利用できる。 Photopolymerizable monofunctional or polyfunctional monomers
-, Monofunctional or polyfunctional oligomer In order to reduce the viscosity of the photocurable resin composition of the present invention, and to adjust the flexibility and crosslink density of the resin layer obtained after curing, the photocurable resin composition of the present invention A monofunctional or polyfunctional monomer, a monofunctional oligomer or a polyfunctional oligomer, or a usual thermoplastic resin may be added to the product. For example, monofunctional tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, vinylpyrrolidone, (meth) acryloyloxyethyl succinate, (meth) acryloyloxyethyl phthalate, and other mono (meth) acrylates, isobornyl (meth) ) Acrylate, cyclohexynyl (meth) acrylate,
Dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate; when bifunctional or higher, when classified by skeleton structure, polyol (meth) acrylate (epoxy-modified polyol (meth) acrylate, lactone-modified polyol (meth) acrylate, etc. ), Polyester (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, other polybutadiene type, isocyanuric acid type, hydantoin type, melamine type, phosphoric acid type, imide type, phosphazene type, cardo type, bisphenol type , Polyphenyl (meth) acrylates having a skeleton such as biphenyl, and other various ultraviolet-ray and electron-beam curable monomers, oligomers and polymers having a carbon-carbon double bond such as vinyl compounds and allyl compounds. But You can use.
【0063】更に詳しく述べると、2官能のモノマー、
オリゴマーとしてはポリエチレングリコールジ(メタ)
アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)ア
クリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリ
レート、1,6−へキサンジオールジ(メタ)アクリレ
ート等;3官能のモノマー、オリゴマー、ポリマーとし
てはトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、
脂肪族トリ(メタ)アクリレート等;4官能のモノマ
ー、オリゴマーとしてはペンタエリスリトールテトラ
(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテト
ラ(メタ)アクリレート、脂肪族テトラ(メタ)アクリ
レート等が挙げられ、5官能以上のモノマー、オリゴマ
ーとしてはジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アク
リレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アク
リレート等の他、ポリエステル骨格、ウレタン骨格、フ
ォスファゼン骨格を有する(メタ)アクリレート等が挙
げられる。More specifically, a bifunctional monomer,
Polyethylene glycol di (meth) as oligomer
Acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, etc .; trifunctional monomer, oligomer, polymer trimethylolpropane tri (meth) Acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate,
Aliphatic tri (meth) acrylate, etc .; tetrafunctional monomers and oligomers include pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, aliphatic tetra (meth) acrylate, etc. Examples of the monomer and oligomer include dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and the like, and (meth) acrylate having a polyester skeleton, a urethane skeleton, and a phosphazene skeleton.
【0064】上記モノマー或いはオリゴマーの使用量
は、バインダー樹脂100重量部当たり約30重量部以
下の範囲で使用するのが望ましい。モノマー或いはオリ
ゴマーの使用量が上記範囲を超えると表面のタックが高
くなり、ブロッキングを引き起こす傾向が生じ、ホログ
ラム等の複製時に版(プレススタンパー)に材料が一部
残る(版取られ)ことにより反復エンボス性が低下する
等の点で好ましくない。The amount of the above-mentioned monomer or oligomer used is preferably within the range of about 30 parts by weight or less per 100 parts by weight of the binder resin. If the amount of the monomer or oligomer used exceeds the above range, the tack on the surface becomes high and blocking tends to occur, and some material remains on the plate (press stamper) when the hologram is copied (pressed), resulting in repetition. It is not preferable because the embossing property is deteriorated.
【0065】フィルム状支持体
本発明のシート、特に、巻取体、或いは転写体に用いら
れる、光硬化性樹脂組成物からなる層を支持するための
フィルム状支持体には、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、
ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニ
リデン、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ナ
イロン、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド、ポ
リカーボネート、ポリノルボルネン、トリアセチルセル
ロース等のフィルムが挙げられる。 Film-like support The film-like support for supporting the layer of the photocurable resin composition used in the sheet of the present invention, particularly in the winding body or the transfer body, includes polyethylene, polypropylene, Ethylene-vinyl acetate copolymer, polyvinyl acetate,
Examples thereof include films of polyvinyl alcohol, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polystyrene, polymethyl methacrylate, nylon, polyethylene terephthalate, polyimide, polycarbonate, polynorbornene, triacetyl cellulose and the like.
【0066】離型剤
樹脂組成物のエンボスローラヘの付着を低減するために
は、離型剤を本発明の光硬化性樹脂組成物に添加しても
よい。 Release Agent In order to reduce the adhesion of the resin composition to the embossing roller, a release agent may be added to the photocurable resin composition of the present invention.
【0067】本発明で用いられる離型剤としては従来公
知の離型剤、例えば、ポリエチレンワックス、アミドワ
ックス、ポリテトラフルオロエチレンパウダー等の固形
ワックス、フッ素系、リン酸エステル系の界面活性剤、
シリコーン等が何れも使用可能である。特に好ましい離
型剤として、変性シリコーンオイル、トリメチルシロキ
シケイ酸を含有するメチルポリシロキサン、シリコーン
グラフトアクリル樹脂等が挙げられる。As the release agent used in the present invention, conventionally known release agents, for example, solid wax such as polyethylene wax, amide wax and polytetrafluoroethylene powder, fluorine-based and phosphoric acid ester-based surfactants,
Any silicone or the like can be used. Particularly preferable releasing agents include modified silicone oil, methylpolysiloxane containing trimethylsiloxysilicic acid, and silicone graft acrylic resin.
【0068】変性シリコーンオイルは、アミノ変性、エ
ポキシ変性、カルボキシ変性、カルビノール変性、メタ
クリル変性、メルカプト変性、フェノール変性、ポリエ
ーテル変性、メチルスチリル変性、アルキル変性、フッ
素変性等が挙げられる。それぞれ、ポリシロキサンの側
鎖及び/又は末端に導入される。これらのうち、2種以
上を選んで変性することもできる。Examples of the modified silicone oil include amino modification, epoxy modification, carboxy modification, carbinol modification, methacryl modification, mercapto modification, phenol modification, polyether modification, methylstyryl modification, alkyl modification and fluorine modification. Each is introduced into the side chain and / or the end of the polysiloxane. Two or more of these may be selected and modified.
【0069】上記シリコーンオイルの中でも、被膜形成
成分と反応性である基を有する種類の反応性シリコーン
オイルは、樹脂層の硬化とともに樹脂に反応して結合す
るので、後に凹凸パターンが形成された樹脂層の表面に
ブリードアウトすることがなく、特徴的な性能を付与す
ることができる。特に、蒸着工程での蒸着層との密着性
向上には有効である。Among the above silicone oils, the reactive silicone oil of the type having a group reactive with the film-forming component reacts with the resin as the resin layer hardens and binds to the resin. Characteristic performance can be imparted without bleeding out on the surface of the layer. In particular, it is effective in improving the adhesion to the vapor deposition layer in the vapor deposition step.
【0070】光重合開始剤
本発明において、光硬化性樹脂組成物を紫外線によって
硬化させる場合には、該組成物に光重合開始剤を添加す
ることが必要であり、一方、電子線によって硬化を行な
う場合には光重合開始剤は不要である。光重合開始剤と
しては、従来の紫外線硬化型塗料の光重合開始剤として
用いられている各種の光重合開始剤、例えば、ベンゾイ
ン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエー
テル、ベンゾインイソプロピルエーテル、α−メチルベ
ンゾイン、α−フェニルベンゾイン等のベンゾイン系化
合物;アントラキノン、メチルアントラキノン等のアン
トラキノン系化合物;ベンジル:ジアセチル;アセトフ
ェノン、ベンゾフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシ
ルフェニルケトン等のフェニルケトン化合物;ジフェニ
ルジスルフィド、テトラメチルチウラムスルフィド等の
スルフィド化合物;α−クロロメチルナフタレン;アン
トラセン及びヘキサクロロブタジエン、ペンタクロロブ
タジエン等のハロゲン化炭化水素、2−メチル−1−
〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノプ
ロパノン−1,2−ヒドロキシ2−メチル1−フェニル
プロパン1−オン、1−〔4−(2−ヒドロキシエトキ
シ)−フェニル〕−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−
プロパン1−オン、ビス(2,4,6−トリメチルベン
ゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド等が挙げら
れる。このような光重合開始剤はバインダー樹脂100
重量部当たり約0.5〜10重量部の範囲で使用するこ
とが好ましい。 Photopolymerization Initiator In the present invention, when the photocurable resin composition is cured by ultraviolet rays, it is necessary to add a photopolymerization initiator to the composition, while curing by an electron beam. When it is carried out, the photopolymerization initiator is unnecessary. As the photopolymerization initiator, various photopolymerization initiators used as photopolymerization initiators for conventional UV-curable coatings, for example, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, α-methylbenzoin. Benzoin compounds such as α-phenylbenzoin; anthraquinone compounds such as anthraquinone and methylanthraquinone; benzyl: diacetyl; phenylketone compounds such as acetophenone, benzophenone, 1-hydroxycyclohexylphenylketone; diphenyldisulfide, tetramethylthiuram sulfide, etc. Sulfide compounds; α-chloromethylnaphthalene; halogenated hydrocarbons such as anthracene and hexachlorobutadiene, pentachlorobutadiene, 2-methyl-1-
[4- (Methylthio) phenyl] -2-morpholinopropanone-1,2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy- 2-methyl-1-
Examples include propan 1-one and bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide. Such a photopolymerization initiator is a binder resin 100.
It is preferably used in the range of about 0.5 to 10 parts by weight per part by weight.
【0071】重合禁止剤
本発明の光硬化性樹脂組成物は、上記の各成分に加え
て、ハイドロキノン、t−ブチルハイドロキノン、カテ
コール、ハイドロキノンモノメチルエーテル等のフェノ
ール類;ベンゾキノン、ジフェニルベンゾキノン等のキ
ノン類;フェノチアジン類:銅類等の重合禁止剤を配合
すると貯蔵安定性が向上する。 Polymerization Inhibitor The photocurable resin composition of the present invention comprises, in addition to the above components, phenols such as hydroquinone, t-butylhydroquinone, catechol and hydroquinone monomethyl ether; quinones such as benzoquinone and diphenylbenzoquinone. Phenothiazines: When a polymerization inhibitor such as copper is added, storage stability is improved.
【0072】溶剤
本発明の光硬化性樹脂組成物は、適当な有機溶剤に溶解
して使用する。使用する溶剤としては、組成物のそれぞ
れが溶解する有機溶剤であればいずれも使用できるが、
例えば、トルエン、キシレン等の芳香族溶剤、アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シ
クロヘキサノン等のケトン系溶剤、メチルセロソルブ、
エチルセロソルブ等のセロソルブ系溶剤、酢酸エチル、
酢酸ブチル等のエステル系溶剤、イソプロパノール等の
アルコール溶剤等が挙げられる。塗工性、乾燥性、溶剤
性を考慮して、必要に応じてこれらの溶剤を混合して使
用することができる。 Solvent The photocurable resin composition of the present invention is used by dissolving it in a suitable organic solvent. As the solvent to be used, any organic solvent can be used as long as each of the composition is soluble,
For example, toluene, aromatic solvents such as xylene, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, ketone solvents such as cyclohexanone, methyl cellosolve,
Cellosolve solvent such as ethyl cellosolve, ethyl acetate,
Examples thereof include ester solvents such as butyl acetate and alcohol solvents such as isopropanol. In consideration of coatability, drying property and solvent property, these solvents can be mixed and used as necessary.
【0073】ホログラム複製装置
図1は本発明の微細凹凸パターン形成方法に用いるホロ
グラム複製装置の構成例である。図1のホログラム複製
装置10には、ベッド13に固定された一対の本体フレ
ーム12に、給紙装置20、転写装置30、照射装置5
0、巻取装置60が順次配設されている。該給紙装置2
0には、本発明の光硬化性樹脂組成物の層が支持体フィ
ルム上に形成されてなるホログラム形成用フィルム1が
巻取ローラ21に巻き取られた巻取体が装着されてい
る。該転写装置30には、給紙装置20から繰り出され
るホログラム形成用フィルム1を加熱圧着することがで
きる加熱圧着ローラ40と、表面にホログラム原版が設
けられたエンボスローラ31が装着されている。照射装
置50は、転写装置30から送り出されるホログラム形
成用フィルム1に紫外線又は電子線を照射してホログラ
ム層を硬化させることができる。巻取装置60はホログ
ラム層の硬化が完了したホログラムシートを巻き取るこ
とができる。 Hologram Duplicating Device FIG. 1 shows an example of the configuration of a hologram duplicating device used in the method for forming a fine concavo-convex pattern of the present invention. The hologram duplication device 10 of FIG. 1 includes a pair of main body frames 12 fixed to a bed 13, a paper feeding device 20, a transfer device 30, and an irradiation device 5.
0 and the winding device 60 are sequentially arranged. The paper feeding device 2
At 0, a winding body in which a hologram forming film 1 having a layer of the photocurable resin composition of the present invention formed on a support film is wound around a winding roller 21 is mounted. The transfer device 30 is equipped with a thermocompression bonding roller 40 capable of thermocompression bonding the hologram forming film 1 fed from the paper feeding device 20, and an embossing roller 31 having a hologram original plate provided on the surface thereof. The irradiation device 50 can irradiate the hologram forming film 1 sent from the transfer device 30 with ultraviolet rays or electron beams to cure the hologram layer. The winding device 60 can wind up the hologram sheet with the cured hologram layer.
【0074】ホログラム複製装置10のエンボスローラ
31には、レーザー光を用いて作ったマスターホログラ
ムから引続き作成したプレススタンパーが装着されてい
る。プレススタンパーには、樹脂製版にマスターホログ
ラムから複製ホログラムを作製し、これをシリンダー上
に貼り付けたものも使用できる。The embossing roller 31 of the hologram duplicating apparatus 10 is equipped with a press stamper which is subsequently produced from a master hologram produced by using a laser beam. For the press stamper, it is also possible to use a resin plate in which a duplicate hologram is prepared from a master hologram and is stuck on a cylinder.
【0075】露光に用いる光
本発明の光硬化性樹組成物の硬化に用いる光としては、
紫外線や電子線の、電離放射線が挙げられる。例えば、
コッククロフト型加速器、ハンデグラーフ型加速器、リ
ニヤーアクセレータ、ベータトロン、サイクロトロン等
の加速によって加速さた電子線、γ線、X線、α線、中
性子性、陽子線等の放射線、紫外線蛍光灯、低圧水銀
灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノン等、炭素アー
ク等、太陽灯等が挙げられる。 Light used for exposure As light used for curing the photocurable resin composition of the present invention,
Examples include ionizing radiation such as ultraviolet rays and electron beams. For example,
Electron beam, γ-ray, X-ray, α-ray, neutron, proton beam, etc. radiation accelerated by acceleration of Cockcroft type accelerator, Handegraaf type accelerator, linear accelerator, betatron, cyclotron, ultraviolet fluorescent lamp, low pressure Examples include mercury lamps, high-pressure mercury lamps, ultra-high-pressure mercury lamps, xenon, carbon arcs, and sun lamps.
【0076】微細凹凸パターンの形成された光学用物品
本発明の光硬化性樹脂組成物(塗料)を、例えば、ポリ
エステルフイルム等の支持体上に塗工して光硬化性樹脂
組成物の層を形成し、この光硬化性樹脂組成物の層にエ
ンボス加工により各種凹凸パターンを付与した後、或い
は付与しながら、紫外線や電子線の電離放射線を露光す
ることにより硬化させて硬化樹脂層とし、その後形成さ
れた凹凸パターン面に金属蒸着や屈折率の異なる層を積
層し、全光線及び/又は特定の波長の光反射、透過、散
乱、偏光、集光又は干渉の少なくとも一つを制御する光
学素子、例えば、回折格子やレリーフホログラム等の本
発明の光学用物品を作製することができる。 Optical article on which a fine concavo-convex pattern is formed The photocurable resin composition (paint) of the present invention is coated on a support such as a polyester film to form a layer of the photocurable resin composition. After forming, after imparting various concave-convex patterns to the layer of the photocurable resin composition by embossing, or while imparting, it is cured by exposing to ionizing radiation of ultraviolet rays or electron beams to form a cured resin layer, and then An optical element for controlling at least one of total light and / or light reflection, transmission, scattering, polarization, light collection or interference of a total light ray and / or a specific wavelength by laminating a metal vapor deposition or a layer having a different refractive index on the formed uneven pattern surface. For example, the optical article of the present invention such as a diffraction grating or a relief hologram can be produced.
【0077】ホログラムは一般的には透過型であるた
め、凹凸パターンを形成した面に反射膜として屈折率の
異なる層を設ける必要がある。反射膜として、光を反射
する膜を用いると不透明タイプのホログラムとなり、透
明な物質でホログラム層と屈折率差がある反射膜を設け
る場合は透明タイプとなる。Since a hologram is generally a transmission type, it is necessary to provide a layer having a different refractive index as a reflective film on the surface on which the concavo-convex pattern is formed. When a film that reflects light is used as the reflective film, an opaque type hologram is obtained, and when a reflective film having a difference in refractive index from the hologram layer is provided using a transparent substance, it is a transparent type.
【0078】反射膜として用いられる金属薄膜は、昇
華、真空蒸着、スパッタリング、反応性スパッタリン
グ、イオンプレーティング、電気メッキ等の公知の方法
で形成可能である。The metal thin film used as the reflective film can be formed by a known method such as sublimation, vacuum deposition, sputtering, reactive sputtering, ion plating, electroplating and the like.
【0079】金属薄膜としては、例えば、Cr、Ti、
Fe、Co、Ni、Cu、Au、Ge、Al、Mg、S
b、Pb、Pd、Cd、Bi、Sn、Se、In、G
a、Rb等の金属及びその酸化物、窒化物、硫化物等を
単独もしくは2種以上を組み合わせて形成される薄膜を
用いることができる。As the metal thin film, for example, Cr, Ti,
Fe, Co, Ni, Cu, Au, Ge, Al, Mg, S
b, Pb, Pd, Cd, Bi, Sn, Se, In, G
A thin film formed of a metal such as a or Rb and its oxide, nitride, sulfide or the like alone or in combination of two or more kinds can be used.
【0080】また、高屈折率材料のコーティングによっ
ても金属薄膜を形成することが可能で、例えば、高屈折
率フィラーを分散した塗工液の塗工、金や銀のコロイド
溶液の塗工、ゾルゲル反応に代表される有機金属化合物
の加水分解重縮合反応による塗膜形成等が挙げられる。It is also possible to form a metal thin film by coating with a high refractive index material. For example, coating with a coating liquid in which a high refractive index filler is dispersed, coating with a colloidal solution of gold or silver, sol gel. Examples include coating film formation by a hydrolysis polycondensation reaction of an organometallic compound represented by a reaction.
【0081】本発明の光学用物品を作製には、予め作製
しておいた前記シート、例えば、巻取体を使用して作製
することもできる。このような巻取体は、本発明の光硬
化性樹脂組成物をフィルム状支持体に塗布し、乾燥する
か又は乾燥しないで巻き取られている巻取体とすること
により、ブロッキングが防止されているものであり、該
巻取体の未硬化の光硬化性樹脂組成物の層の表面にエン
ボス加工により各種凹凸パターンを付与した後、或いは
付与しながら、露光することにより硬化させて、表面に
微細凹凸パターンを形成した硬化樹脂層とした本発明の
光学用物品とすることができる。In order to produce the optical article of the present invention, it is possible to produce it by using the previously produced sheet, for example, a winding body. Such a winding body is coated with the photocurable resin composition of the present invention on a film-like support, and is dried or not dried, whereby blocking is prevented. The surface of the layer of the uncured photocurable resin composition of the roll is cured by exposure to light after applying various uneven patterns by embossing or while applying the pattern. The optical article of the present invention can be a cured resin layer on which a fine concavo-convex pattern is formed.
【0082】塗布及び乾燥時に塗布層の表面側に局在す
るような溶剤系を用いて塗布及び乾燥することもブロッ
キング防止には更に有効であり、又、複製時の反復エン
ボス性を高めるためにも有効である。Coating and drying using a solvent system which is localized on the surface side of the coating layer during coating and drying is more effective for preventing blocking, and in order to enhance repetitive embossability during replication. Is also effective.
【0083】転写箔
本発明の転写箔の層構成に用いられる、剥離層には、ア
クリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル共重合体、セルロース樹脂、シリコーン樹脂、塩化
ゴム、カゼイン、各種界面活性剤、金属酸化物等を1種
又は2種以上組合せたものを用いて形成する。該剥離層
を設けることにより被転写体に転写箔を圧着した場合
に、剥離層においてフィルム状支持体を剥離除去するこ
とができる。 Transfer Foil The release layer used in the layer structure of the transfer foil of the present invention includes an acrylic resin, a polyvinyl chloride resin, a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, a cellulose resin, a silicone resin, a rubber chloride, casein, It is formed by using one kind or a combination of two or more kinds of various surfactants and metal oxides. By providing the peeling layer, when the transfer foil is pressure-bonded to the transfer target, the film-shaped support can be peeled and removed in the peeling layer.
【0084】本発明の転写箔の層構成に用いられる、接
着層としては、公知の接着剤、感熱性接着剤、感圧性接
着剤、硬化性接着剤を使用することができる。例えば、
感熱性接着剤としては、ポリイソプレンゴム、ポリイソ
ブチレンゴム、スチレンブタジエンゴム等のゴム系、ポ
リメチル(メタ)アクリレート、ポリエチル(メタ)ア
クリレート、ポリプロピル(メタ)アクリレート、ポリ
ブチル(メタ)アクリレート等のアルキルアクリレート
系、ポリイソブチルエーテル等のポリビニルエーテル
系、ポリアクリルアミド、ポリメチロールアクリルアミ
ド等のポリアミド系、その他、ポリ塩化ビニル、ポリ塩
化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルブチラー
ル、ポリスチレン、またはこれらの共重合体が挙げら
れ、これらの中から1種又は2種以上を組み合わせて用
いることができる。As the adhesive layer used in the layer structure of the transfer foil of the present invention, known adhesives, heat-sensitive adhesives, pressure-sensitive adhesives and curable adhesives can be used. For example,
Examples of heat-sensitive adhesives include rubber-based materials such as polyisoprene rubber, polyisobutylene rubber, and styrene-butadiene rubber, alkyls such as polymethyl (meth) acrylate, polyethyl (meth) acrylate, polypropyl (meth) acrylate, and polybutyl (meth) acrylate. Acrylate-based, polyvinyl ether-based such as polyisobutyl ether, polyamide-based such as polyacrylamide and polymethylolacrylamide, and others, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl acetate, polyvinyl butyral, polystyrene, or copolymers thereof. These can be used alone or in combination of two or more.
【0085】本発明の転写箔は、硬化樹脂層が、硬化樹
脂層と接する金属蒸着層や、前後層と十分に密着するの
で、転写時に硬化樹脂層が接するこれらの層において剥
がれるような剥離不良が起こらず、良好に転写すること
が可能である。また本発明の転写箔は、転写物の耐熱
性、耐久性が高くなるため、例えば、クレジットカード
やIDカード等のセキュリティに使用される場合や、ホ
ログラムに情報を記録した場合、光学素子として利用す
る場合に求められる耐熱性、耐久性に耐えるものが得ら
れる。In the transfer foil of the present invention, the cured resin layer sufficiently adheres to the metal vapor deposition layer in contact with the cured resin layer and the front and rear layers, so that peeling defects such as peeling occur in those layers in contact with the cured resin layer during transfer. It does not occur, and good transfer is possible. Further, since the transfer foil of the present invention has high heat resistance and durability of the transferred product, it is used as an optical element when used for security of credit cards, ID cards, etc., or when information is recorded on holograms. In this case, it is possible to obtain a material that withstands the heat resistance and durability required.
【0086】[0086]
【実施例】〔実施例1〕
1.アクリル樹脂の合成
冷却器、滴下ロート及び温度計付きの2リットル四つ口
フラスコに、トルエン40g及びメチルエチルケトン4
0gをアゾ系の開始剤とともに仕込み、2−ヒドロキシ
エチルメタクリレート20.8g、メチルメタクリレー
ト39.0g、イソボルニルメタクリレート45.0
g、トルエン20g及びメチルエチルケトン20gの混
合液を滴下ロートから、約2時間かけて滴下させながら
100〜110℃の温度下で8時間反応させた後、室温
まで冷却した。得られた樹脂溶液の固形分は45.0重
量%、ポリスチレン換算重量平均分子量は26000で
あった。[Example] [Example 1] 1. Acrylic resin synthetic condenser In a 2 liter four-necked flask equipped with a dropping funnel and a thermometer, 40 g of toluene and 4 of methyl ethyl ketone
0 g was charged with an azo-based initiator, 2-hydroxyethyl methacrylate 20.8 g, methyl methacrylate 39.0 g, isobornyl methacrylate 45.0.
g, 20 g of toluene, and 20 g of methyl ethyl ketone were added dropwise from a dropping funnel over a period of about 2 hours to react at 100 to 110 ° C. for 8 hours, and then cooled to room temperature. The solid content of the obtained resin solution was 45.0% by weight, and the polystyrene-converted weight average molecular weight was 26000.
【0087】2.樹脂組成物の調製
組成物A及び組成物Bについて下記の各成分を用意し
た。2. Preparation of Resin Composition For Composition A and Composition B, the following components were prepared.
【0088】組成物Aの成分
前記「1.アクリル樹脂の合成」で得られた樹脂溶液
(固形分基準) 75重量部
多官能ウレタンアクリレート(紫光UV−1700B:
商品名、日本合成化学工業製) 25重量部
トリメチルシロキシケイ酸含有メチルポリシロキサン
(X−21−5766:商品名、信越化学工業製) 1
重量部
光重合開始剤(イルガキュア907:商品名、チバスペ
シャルティケミカルズ製) 4重量部 Ingredients of Composition A 75 parts by weight of the resin solution (based on solid content) obtained in “1. Synthesis of Acrylic Resin” polyfunctional urethane acrylate (Violet UV-1700B:
Trade name, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry) 25 parts by weight trimethylsiloxysilicic acid-containing methylpolysiloxane (X-21-5766: trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 1
Photopolymerization initiator (Irgacure 907: trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 4 parts by weight
【0089】組成物Bの成分
前記「1.アクリル樹脂の合成」で得られた樹脂溶液
(固形分基準) 70重量部
多官能ウレタンアクリレート(紫光UV−1700B:
商品名、日本合成化学工業製) 30重量部
トリメチルシロキシケイ酸含有メチルポリシロキサン
(X−21−5766:商品名、信越化学工業製) 1
重量部
光重合開始剤(イルガキュア907:商品名、チバスペ
シャルティケミカルズ製) 4重量部 Component of Composition B 70 parts by weight of the resin solution (based on solid content) obtained in “1. Synthesis of Acrylic Resin” polyfunctional urethane acrylate (Shikko UV-1700B:
(Trade name, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry) 30 parts by weight trimethylsiloxysilicic acid-containing methylpolysiloxane (X-21-5766: trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 1
Photopolymerization initiator (Irgacure 907: trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 4 parts by weight
【0090】光硬化性樹脂組成物A−1及びB−1の調
製
前記組成物A及びBを各々メチルエチルケトンで固形分
を20重量%に調製したもの、即ち、アルミニウムカッ
プリング剤を添加していないものを光硬化性樹脂組成物
A−1、B−1とした。Preparation of Photocurable Resin Compositions A-1 and B-1
The compositions A and B prepared above were each prepared with methyl ethyl ketone to a solid content of 20% by weight, that is, compositions containing no aluminum coupling agent were designated as photocurable resin compositions A-1 and B-1. .
【0091】光硬化性樹脂組成物A−2及びB−2の調
製
前記組成物A及びBに対し各々アルミニウムキレート
(S−75P:商品名、川研ファインケミカル製)を固
形分基準で5重量%添加し、全体をメチルエチルケトン
で固形分20重量%に調製して、光硬化性樹脂組成物A
−2及びB−2を得た。Preparation of Photocurable Resin Compositions A-2 and B-2
Ltd. The composition A and respectively the aluminum chelate to B (S-75P: trade name, manufactured by Kawaken Fine Chemicals) was added 5% by weight on a solids basis, to prepare a whole solid content of 20 wt% in methyl ethyl ketone, Photocurable resin composition A
-2 and B-2 were obtained.
【0092】光硬化性樹脂組成物A−3及びB−3の調
製
前記組成物A及びBに対し各々アルミニウムキレート
(ALCH−TR:商品名、川研ファインケミカル製)
を固形分基準で5重量%添加し、全体をメチルエチルケ
トンで固形分20重量%に調製して、光硬化性樹脂組成
物A−3及びB−3を得た。Preparation of Photocurable Resin Compositions A-3 and B-3
Each aluminum chelate to manufacturing the compositions A and B (ALCH-TR: trade name, manufactured by Kawaken Fine Chemicals)
5% by weight based on the solid content was added, and the whole was adjusted to a solid content of 20% by weight with methyl ethyl ketone to obtain photocurable resin compositions A-3 and B-3.
【0093】3.複製用フィルムの作製
前記工程で得られた各光硬化性樹脂組成物を、厚さ50
μmの片面易接着処理ポリエチレンテレフタレートフィ
ルム(ルミラー50T85S:商品名、東レ製)の易接
着処理面上にバーコーターで塗工し、100℃で乾燥さ
せて、乾燥後の膜厚が2g/m2 となるようにして、複
製用フィルムA−1、A−2、A−3、B−1、B−
2、B−3を得た。得られた各複製用フィルムは、常温
でべとつかないものであった。3. Preparation of film for replication Each of the photocurable resin compositions obtained in the above step was applied to a thickness of 50
A single-sided easy-adhesion-treated polyethylene terephthalate film (Lumirror 50T85S: trade name, manufactured by Toray) having a thickness of μm was coated with a bar coater and dried at 100 ° C., and the film thickness after drying was 2 g / m 2 And the film for replication A-1, A-2, A-3, B-1, B-
2 and B-3 were obtained. Each of the obtained reproduction films was non-sticky at room temperature.
【0094】4.ブロッキングテスト
前記工程で作製した複製用フィルムA−1、A−2、A
−3、B−1、B−2、B−3をブロッキングテスター
に、5kg/cm2 になるように荷重をかけ、30℃の
環境で24時間保管した。取り出して膜面に荒れを確認
した。膜面が透明で変化のないものを○、荷重をかけて
いた部分に白く形が残っているものを△、荷重をかけて
いた部分に樹脂が溶け出した跡が全面に生じていたり、
荷重をかけていない部分にまで膜面の荒れが確認できる
ものを×とした。その結果を下記の表1に示す。4. Blocking test Duplication films A-1, A-2, A produced in the above process
-3, B-1, B-2, and B-3 were loaded on the blocking tester so as to have a load of 5 kg / cm 2, and stored in an environment of 30 ° C for 24 hours. The film was taken out and confirmed to be rough on the film surface. If the film surface is transparent and does not change, ○, if there is a white shape on the part where the load is applied △, if there is a trace of resin melted out on the part where the load is applied,
When the roughness of the film surface could be confirmed even in the part where no load was applied, it was marked with x. The results are shown in Table 1 below.
【0095】表1によれば、アルミニウムカップリング
剤を添加したものは ブロッキングを防止する効果が認
められる。According to Table 1, the addition of the aluminum coupling agent has the effect of preventing blocking.
【0096】5.光硬化性樹脂組成物の軟化開始温度測
定
前記工程2で調製した各光硬化性樹脂組成物B−1、B
−2、B−3、B−4、B−5 を一旦60℃に上げて軟
化させてから動的粘弾性測定装置の測定治具にセットし
た。動的粘弾性測定方法の測定条件は、前記[課題を解
決するための手段]の欄に詳述した測定方法に従った。
得られた軟化開始温度を下記の表1に示す。5. Measurement of softening start temperature of photocurable resin composition Each photocurable resin composition B-1, B prepared in the above step 2
-2, B-3, B-4, and B-5 were once raised to 60 ° C. to be softened, and then set on a measuring jig of a dynamic viscoelasticity measuring device. The measurement conditions of the dynamic viscoelasticity measuring method were in accordance with the measuring method described in detail in the section [Means for solving the problem].
The obtained softening start temperature is shown in Table 1 below.
【0097】表1によれば、アルミニウムカップリング
剤を添加したものでは、多く添加すると軟化温度が高く
なるのに対し、アルミニウムカップリング剤を添加した
ものでは、多く添加すると軟化温度が低くなり、より低
温加工性に優れていることが分かる。According to Table 1, when the aluminum coupling agent is added in a large amount, the softening temperature is increased, whereas in the aluminum coupling agent added, a large amount is added, the softening temperature is lowered. It can be seen that the low temperature processability is excellent.
【0098】6.樹脂シートの膜面観察
前記「3.複製用フィルムの作製」で得られた複製用フ
ィルムA−1、A−2、A−3、B−1、B−2、B−
3の樹脂層の表面粗さをAFM(原子間力顕微鏡)によ
りタッピングモードで測定した。本測定に用いた装置
は、デジタルインスツルメンツ社製のNano Sco
pe IIIa型で、走査モードはタッピングモードとし
た。走査範囲は10μm×10μm、走査速度は0.5
Hzで、深さ方向の凹凸の表面粗さ平均Raを求めた。6. Observation of film surface of resin sheet Duplication films A-1, A-2, A-3, B-1, B-2, B- obtained in "3. Production of duplication film" above
The surface roughness of the resin layer 3 was measured by an AFM (atomic force microscope) in a tapping mode. The device used for this measurement is Nano Sco manufactured by Digital Instruments.
The pe IIIa type, and the scanning mode was the tapping mode. Scan range is 10μm × 10μm, scan speed is 0.5
The surface roughness average Ra of the unevenness in the depth direction was determined at Hz.
【0099】図2に複製用フィルムA−1のAFM像の
写真、図3に複製用フィルムA−2のAFM像の写真、
図4に複製用フィルムA−3のAFM像の写真をそれぞ
れ示す。有機金属カップリング剤を添加しない複製用フ
ィルムA−1では、Raは5.904nmであったのに
対して、有機金属カップリング剤を固形分基準で5重量
%添加した複製用フィルムA−2及びA−3について
は、A−2がRaが0.335nmであり、またA−3
ではRaが1.304nmであった。FIG. 2 is a photograph of the AFM image of the duplication film A-1, and FIG. 3 is a photograph of the AFM image of the duplication film A-2.
FIG. 4 shows photographs of AFM images of the duplication film A-3. Ra was 5.904 nm in the duplication film A-1 to which the organometallic coupling agent was not added, whereas the duplication film A-2 to which the organometallic coupling agent was added in an amount of 5% by weight based on the solid content. And A-3, A-2 has Ra of 0.335 nm, and A-3
Then, Ra was 1.304 nm.
【0100】これらの結果から、有機金属カップリング
剤を添加することにより、樹脂間や樹脂と有機溶剤間の
相溶性を高くして均一な膜面を作る効果が認められる。From these results, it is recognized that the addition of the organometallic coupling agent enhances the compatibility between the resins and between the resin and the organic solvent to form a uniform film surface.
【0101】7.微細凹凸パターンシートの作製
次に、複製装置のエンボスローラーに、微細凹凸パター
ンを形成したプレススタンパーを設置し、複製フィルム
をセットして、加熱プレスして微細な凹凸パターンを形
成させた。加熱条件は以下の通りである。7. Production of Fine Concavo-Convex Pattern Sheet Next, a press stamper having a fine concavo-convex pattern was set on the embossing roller of the duplication device, the duplication film was set, and heat-pressed to form a fine concavo-convex pattern. The heating conditions are as follows.
【0102】(条件1)プレススタンパーの表面温度を
150℃に設定して、所定の速度でプレス加工した。(Condition 1) The surface temperature of the press stamper was set to 150 ° C., and press working was performed at a predetermined speed.
【0103】(条件2)プレススタンパーの表面温度を
130℃に設定して、所定の速度でプレス加工した。(Condition 2) The surface temperature of the press stamper was set to 130 ° C., and press working was performed at a predetermined speed.
【0104】(条件3)プレススタンパーの表面温度を
150℃に設定し、(1)の速度よりも2倍のスピード
でプレス加工した。つまり、フィルムとプレススタンパ
ーの接している時間は1/2である。(Condition 3) The surface temperature of the press stamper was set to 150 ° C., and press working was performed at a speed twice as fast as the speed of (1). That is, the contact time between the film and the press stamper is 1/2.
【0105】プレス加工を行った後、プレススタンパー
からフィルムを剥がし、紫外線を照射して硬化させた。After press working, the film was peeled off from the press stamper and irradiated with ultraviolet rays to be cured.
【0106】8.微細凹凸パターンの形状観察
微細凹凸パターンシートの表面形状および凹凸の深さを
AFM(原子間力顕微鏡)のタッピングモード像で比較
した。表面形状の像を目視で比較し、形状の整っている
ものを○、形状が丸みを帯びているものを×と判断し
た。凹凸の深さは一番深い部分と浅い部分の深さの差を
求めた。凹凸深さと形状観察の結果を下記の表2に示
す。8. Observation of the shape of the fine concavo-convex pattern The surface shape of the fine concavo-convex pattern sheet and the depth of the concavo-convex pattern were compared by tapping mode images of an AFM (atomic force microscope). The images of the surface shapes were visually compared, and those with a regular shape were evaluated as ◯, and those with a rounded shape were evaluated as x. As for the depth of the unevenness, the difference in depth between the deepest part and the shallowest part was obtained. The unevenness depth and the result of shape observation are shown in Table 2 below.
【0107】〔実施例2〕1.高分子量タイプの光硬化
性樹脂組成物の調製
組成物C及び組成物Dについて下記の各成分を用意し
た。[Embodiment 2] 1. Preparation of high molecular weight type photocurable resin composition The following components were prepared for composition C and composition D.
【0108】組成物Cの成分
ポリメチルメタクリレート(BR−85:商品名、三菱
レイヨン製、分子量28万) 75重量部
多官能ウレタンアクリレート(紫光UV−1700B:
商品名、日本合成化学工業製) 25重量部
トリメチルシロキシケイ酸含有ポリメチルシロキサン
(X−21−3056:商品名、信越化学工業製) 1
重量部
光重合開始剤(イルガキュア907:商品名、チバスペ
シャルティケミカルズ製) 5重量部 Ingredients of composition C Polymethylmethacrylate (BR-85: trade name, manufactured by Mitsubishi Rayon, molecular weight 280,000) 75 parts by weight polyfunctional urethane acrylate (Shikoku UV-1700B:
25 parts by weight of trimethylsiloxysilicic acid-containing polymethylsiloxane (X-21-3056: trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 1
Photopolymerization initiator (Irgacure 907: trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 5 parts by weight
【0109】組成物Dの成分
ポリメチルメタクリレート(BR−88:商品名、三菱
レイヨン製、分子量48万) 70重量部
多官能ウレタンアクリレート(紫光UV−1700B:
商品名、日本合成化学工業製) 30重量部
トリメチルシロキシケイ酸含有ポリメチルシロキサン
(X−21−3056:商品名、信越化学工業製) 1
重量部
光重合開始剤(イルガキュア907:商品名、チバスペ
シャルティケミカルズ製) 5重量部 Component of Composition D Polymethylmethacrylate (BR-88: trade name, manufactured by Mitsubishi Rayon, molecular weight 480,000) 70 parts by weight polyfunctional urethane acrylate (Shikko UV-1700B:
Trade name, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry) 30 parts by weight trimethylsiloxysilicic acid-containing polymethylsiloxane (X-21-3056: trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 1
Photopolymerization initiator (Irgacure 907: trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 5 parts by weight
【0110】光硬化性樹脂組成物C−1及びD−1の調
製
前記組成物C及びDを各々メチルエチルケトンで固形分
を10重量%に調製したもの、即ち、アルミニウムカッ
プリング剤を添加していないものを光硬化性樹脂組成物
C−1、D−1とした。Preparation of Photocurable Resin Compositions C-1 and D-1
The compositions C and D prepared above were each prepared with methyl ethyl ketone to a solid content of 10% by weight, that is, the compositions containing no aluminum coupling agent were designated as photocurable resin compositions C-1 and D-1. .
【0111】光硬化性樹脂組成物C−2及びD−2の調
製
前記組成物C及びDに対し各々アルミニウムキレート
(S−75P:商品名、川研ファインケミカル製、アル
コキシ基を有し、その一部がキレート化されている)を
固形分基準で5重量%添加し、全体をメチルエチルケト
ンで固形分10重量%に調製して、光硬化性樹脂組成物
C−2及びD−2を得た。Preparation of Photocurable Resin Compositions C-2 and D-2
Ltd. The compositions C and D each aluminum chelate to (S-75P: trade name, manufactured by Kawaken Fine Chemicals Co., Ltd., having an alkoxy group, a part of it has been chelated) added 5% by weight on a solids basis of Then, the whole was adjusted to a solid content of 10% by weight with methyl ethyl ketone to obtain photocurable resin compositions C-2 and D-2.
【0112】光硬化性樹脂組成物C−3及びD−3の調
製
前記組成物C及びDに対し各々アルミニウムキレート
(ALCH−TR:商品名、川研ファインケミカル製、
アルコキシ基を有し、全てのアルコキシ基がキレート化
されている)を固形分基準で5重量%添加し、全体をメ
チルエチルケトンで固形分10重量%に調製して、光硬
化性樹脂組成物C−3及びD−3を得た。Preparation of Photocurable Resin Compositions C-3 and D-3
Ltd. The compositions C and D to each aluminum chelate (ALCH-TR: trade name, manufactured by Kawaken Fine Chemicals Co.,
5% by weight based on the solid content of an alkoxy group having all the alkoxy groups chelated) is added, and the whole is adjusted to 10% by weight with methyl ethyl ketone to prepare a photocurable resin composition C- 3 and D-3 were obtained.
【0113】2.複製用フィルムの作製
前記実施例1の3.と同様にして複製用フィルムC−
1、C−2、C−3、D−1、D−2、D−3を得た。2. Production of film for replication 3. of Example 1 above. Duplicate film C-
1, C-2, C-3, D-1, D-2, D-3 were obtained.
【0114】3.ブロッキングテスト
前記実施例1の4.と同様にして、複製用フィルムC−
1、C−2、C−3、D−1、D−2、D−3について
ブロッキングテストを行った。その結果を下記の表1に
示す。3. Blocking test 4. In the same manner as above, the film for reproduction C-
A blocking test was performed on 1, C-2, C-3, D-1, D-2, and D-3. The results are shown in Table 1 below.
【0115】4.光硬化性樹脂組成物の軟化開始温度測
定
前記実施例1の5.と同様にして、複製用フィルムC−
1、C−2、C−3、D−1、D−2、D−3について
軟化開始温度を測定した。その結果を下記の表1に示
す。4. 4. Measurement of softening start temperature of photocurable resin composition In the same manner as above, the film for reproduction C-
The softening start temperatures of 1, C-2, C-3, D-1, D-2 and D-3 were measured. The results are shown in Table 1 below.
【0116】表1によれば、硬化後のガラス転移温度
は、アルミニウムカップリング剤を添加することによっ
て高くなることが分かる。転写性については、アルミニ
ウムカップリング剤を添加することによって改善される
ことが分かる。Table 1 shows that the glass transition temperature after curing is increased by adding the aluminum coupling agent. It can be seen that transferability is improved by adding an aluminum coupling agent.
【0117】5.樹脂シートの膜面観察
前記実施例1の6.と同様にして、複製用フィルムC−
1、C−2、D−1、D−2について膜面観察を行っ
た。5. Observation of film surface of resin sheet 6. In the same manner as above, the film for reproduction C-
The film surface was observed for 1, C-2, D-1, and D-2.
【0118】その結果、有機金属カップリング剤を添加
しない複製用フィルムC−1では、Raは0.521n
mであったのに対して、有機金属カップリング剤を固形
分基準で5重量%添加した複製用フィルムC−2はRa
が0.391nmであった。また、有機金属カップリン
グ剤を添加しない複製用フィルムD−1では、Raは
0.620nmであったのに対して、有機金属カップリ
ング剤を固形分基準で5重量%添加した複製用フィルム
D−2はRaが0.427nmであった。As a result, Ra was 0.521 n in the replicating film C-1 containing no organometallic coupling agent.
In contrast, the replication film C-2 containing the organometallic coupling agent in an amount of 5% by weight based on the solid content was Ra.
Was 0.391 nm. Further, in the duplication film D-1 to which the organometallic coupling agent was not added, Ra was 0.620 nm, whereas the duplication film D to which the organometallic coupling agent was added in an amount of 5% by weight based on the solid content. -2 had Ra of 0.427 nm.
【0119】6.微細凹凸パターンシートの作製
前記実施例1の7.と同様にして、複製用フィルムC−
1、C−2、C−3、D−1、D−2、D−3について
微細凹凸パターンシートを作製した。6. Preparation of fine uneven pattern sheet 7. In the same manner as above, the film for reproduction C-
The fine concavo-convex pattern sheet was produced about 1, C-2, C-3, D-1, D-2, and D-3.
【0120】7.微細凹凸パターンの形状観察
本実施例2の6.で作製した微細凹凸パターンシートに
ついて、前記実施例1の8.と同様にして、微細凹凸パ
ターンの形状観察を行った。その結果を下記の表2に示
す。7. Observation of the shape of the fine concavo-convex pattern 6. Regarding the fine concavo-convex pattern sheet manufactured in [8], The shape of the fine concavo-convex pattern was observed in the same manner as in. The results are shown in Table 2 below.
【0121】[0121]
【表1】 [Table 1]
【0122】[0122]
【表2】 [Table 2]
【0123】[0123]
【発明の効果】本発明の光硬化性樹脂組成物をフィルム
状支持体に塗布したものは、露光前の未硬化状態におい
ては、有機金属カップリング剤によって、ブロッキング
が防止される特徴がある。また、フィルム状支持体上に
本発明の光硬化性樹脂組成物の層を形成したシートは、
表面が平滑になるため、微細凹凸パターン形成工程にお
ける複製スピードが速くなる。The photo-curable resin composition of the present invention coated on a film-like support is characterized in that blocking is prevented by the organometallic coupling agent in the uncured state before exposure. Further, a sheet having a layer of the photocurable resin composition of the present invention formed on a film-shaped support,
Since the surface becomes smooth, the duplication speed in the fine concavo-convex pattern forming step is increased.
【0124】本発明の光硬化性樹脂組成物をフィルム状
支持体に塗布した後、露光によりバインダー樹脂を硬化
させたものは、耐熱性、耐久性が向上する。また、硬化
樹脂層が接触する前後の層、例えば、レリーフ型ホログ
ラムを形成するための転写箔とした場合においては、金
属蒸着層との密着性が改善され、転写性が良好となる。Heat resistance and durability are improved when the photocurable resin composition of the present invention is applied to a film-like support and then the binder resin is cured by exposure. Further, in the case of a layer before and after contact with the cured resin layer, for example, in the case of a transfer foil for forming a relief hologram, the adhesion with the metal vapor deposition layer is improved and the transferability becomes good.
【0125】本発明の光硬化性樹脂組成物によれば、比
較的低温で、比較的短時間でエンボスしても、従来の光
硬化性樹脂組成物を用いた場合よりも正確な微細凹凸パ
ターンが形成でき、しかも支持体上に光硬化性樹脂組成
物の層を形成したシート、例えば、巻取体において室温
でブロッキングの発生を防止することができる。According to the photocurable resin composition of the present invention, even if it is embossed at a relatively low temperature for a relatively short period of time, it is more accurate than the case of using the conventional photocurable resin composition. It is possible to prevent the occurrence of blocking at room temperature in a sheet in which a layer of a photocurable resin composition is formed on a support, for example, a winding body.
【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]
【図1】本発明の微細凹凸パターン形成方法に用いるホ
ログラム複製装置の構成例を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a configuration example of a hologram duplication device used in a method of forming a fine concavo-convex pattern of the present invention.
【図2】複製用フィルムA−1のAFM像(原子間力顕
微鏡)の写真である。FIG. 2 is a photograph of an AFM image (atomic force microscope) of the replication film A-1.
【図3】複製用フィルムA−2のAFM像(原子間力顕
微鏡)の写真である。FIG. 3 is a photograph of an AFM image (atomic force microscope) of the replication film A-2.
【図4】複製用フィルムA−3のAFM像(原子間力顕
微鏡)の写真である。FIG. 4 is a photograph of an AFM image (atomic force microscope) of the replication film A-3.
1 ホログラム形成用フィルム 10 ホログラム複製装置 12 本体フレーム 13 ベッド 20 給紙装置 21 巻取ローラ 30 転写装置 31 エンボスローラ 40 加熱圧着ローラ 50 照射装置 60 巻取装置 1 Hologram forming film 10 Hologram duplicator 12 body frame 13 beds 20 Paper feeder 21 winding roller 30 transfer device 31 Embossing roller 40 Hot pressing roller 50 irradiation device 60 winding device
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G02B 5/18 G02B 5/18 5/32 5/32 G03H 1/18 G03H 1/18 1/20 1/20 // B29L 11:00 B29L 11:00 C08L 101:00 C08L 101:00 Fターム(参考) 2H049 AA03 AA07 AA13 AA25 AA40 CA05 CA15 CA22 CA28 CA30 2K008 FF13 FF14 GG01 GG05 4F006 AA02 AA12 AA13 AA15 AA17 AA19 AA20 AA22 AA35 AA36 AA38 AA39 AB24 AB69 BA11 BA12 DA04 4F204 AA21K AD05 AD08 AF01 AG03 AG05 AH73 EA03 EA04 EB02 EB11 EF01 EF23 EK17 EK18 4J027 AB03 AB06 AB07 AB08 AB23 AB24 AB25 AB26 AB29 AC06 AG03 AG04 AG14 AG15 AG23 AG24 AG27 AG36 BA05 BA07 BA08 BA13 BA15 BA16 BA24 BA26 BA28 CA21 CB10 CC05─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) G02B 5/18 G02B 5/18 5/32 5/32 G03H 1/18 G03H 1/18 1/20 1 / 20 // B29L 11:00 B29L 11:00 C08L 101: 00 C08L 101: 00 F Term (reference) 2H049 AA03 AA07 AA13 AA25 AA40 CA05 CA15 CA22 CA28 CA30 2K008 FF13 FF14 GG01 GG05 4F006 AA02 AA12 AA13 A19 A35 A20 A20 A20 AA36 AA38 AA39 AB24 AB69 BA11 BA12 DA04 4F204 AA21K AD05 AD08 AF01 AG03 AG05 AH73 EA03 EA04 EB02 EB11 EF01 EF23 EK17 EK18 4J027 AB03 AB06 AB07 AB08 BA24 BA15 BA16 BA15 BA07 BA08 BA15 BA07 AG24 BA15 BA27 AG24 AG14 AG27 AG14 AG14 AG15 AG14 AG15 AG14 AG15 AG27 BA26 BA28 CA21 CB10 CC05
Claims (20)
脂及び/又はポリエステルアクリレート樹脂とを含むバ
インダー樹脂と、 (3)該バインダー樹脂の成膜性を高めるための有機金
属カップリング剤を含有させてなる光硬化性樹脂組成物
であって、該光硬化性樹脂組成物は光学用物品の微細凹
凸パターン形成に使用されるものであることを特徴とす
る光硬化性樹脂組成物。1. A binder resin containing (1) an acrylic resin, (2) a urethane acrylate resin and / or a polyester acrylate resin having a photopolymerizable functional group as essential components, and (3) a composition of the binder resin. A photocurable resin composition containing an organometallic coupling agent for enhancing film property, the photocurable resin composition being used for forming a fine concavo-convex pattern of an optical article. A photocurable resin composition comprising:
ニウムカップリング剤であることを特徴とする請求項1
記載の光硬化性樹脂組成物。2. The organic metal coupling agent is an aluminum coupling agent.
The photocurable resin composition described.
分に対して0.1〜20重量%であることを特徴とする
請求項1又は2記載の光硬化性樹脂組成物。3. The photocurable resin composition according to claim 1, wherein the organometallic coupling agent is 0.1 to 20% by weight based on the total solid content.
1種のポリスチレン換算重量平均分子量が、5,000
〜600,000の範囲であることを特徴とする請求項
1乃至3の何れか1項記載の光硬化性樹脂組成物。4. At least one of the binder resins has a polystyrene-reduced weight average molecular weight of 5,000.
It is a range of -600,000, The photocurable resin composition in any one of Claim 1 thru | or 3 characterized by the above-mentioned.
オリゴマーを、さらに含有することを特徴とする請求項
1乃至4の何れか1項記載の光硬化性樹脂組成物。5. The photocurable resin composition according to claim 1, further comprising a monomer or oligomer having a photopolymerizable functional group.
る請求項1乃至5の何れか1項記載の光硬化性樹脂組成
物。6. The photocurable resin composition according to claim 1, further comprising a releasing agent.
化性樹脂組成物を用いて形成された、表面が微細凹凸パ
ターン構造を有する硬化樹脂層を備えることを特徴とす
る光学用物品。7. An optical device, characterized by comprising a cured resin layer formed by using the photocurable resin composition according to any one of claims 1 to 6 and having a fine uneven pattern structure on its surface. Goods.
化性樹脂組成物を、直接又は他の層を介して、フィルム
状支持体に塗布し、乾燥するか又は乾燥しないシートで
あって、ブロッキングが防止されていることを特徴とす
るシート。8. A sheet in which the photocurable resin composition according to any one of claims 1 to 6 is applied to a film-like support directly or through another layer and dried or not dried. A sheet that is characterized by being blocked.
あることを特徴とする請求項8記載のシート。9. The sheet according to claim 8, wherein the sheet is a wound body in which the sheet is wound.
硬化性樹脂組成物を剥離層を介して、フィルム状支持体
に塗布して光硬化性樹脂組成物の層を形成し、さらに光
硬化性樹脂組成物の層と屈折率の異なる層、接着層の順
に形成してなることを特徴とする転写箔。10. The photocurable resin composition according to claim 1 is applied to a film-shaped support through a release layer to form a layer of the photocurable resin composition, Further, a transfer foil comprising a photocurable resin composition layer, a layer having a different refractive index, and an adhesive layer in that order.
ス加工及び露光を行って形成された、表面が微細凹凸パ
ターン構造を有する硬化樹脂層を備えることを特徴とす
る光学用物品。11. An optical article comprising a cured resin layer formed on the sheet according to claim 8 or 9 by embossing and exposure, the surface having a fine relief pattern structure.
学用物品が、全光線及び/又は特定の波長の光反射、透
過、散乱、偏光、集光又は干渉の少なくとも一つを制御
する光学素子であることを特徴とする、請求項7又は1
1記載の光学用物品。12. The optical article having the fine concavo-convex pattern structure is an optical element for controlling at least one of total light and / or light reflection, transmission, scattering, polarization, condensing or interference of a specific wavelength. Claim 7 or 1 characterized by the above.
1. The optical article according to 1.
学用物品が、レリーフ型ホログラム、回折格子、反射防
止性能膜、散乱板又は反射板から選ばれたものである請
求項7又は11記載の光学用物品。13. The optical article according to claim 7, wherein the optical article having the fine concavo-convex pattern structure is selected from a relief hologram, a diffraction grating, an antireflection film, a scattering plate or a reflecting plate. Goods.
学用物品が、微細凹凸パターン構造において光学的に情
報を記録及び/又は読取することが可能である請求項7
又は11記載の光学用物品。14. The optical article having the fine concavo-convex pattern structure is capable of optically recording and / or reading information in the fine concavo-convex pattern structure.
Or the optical article according to item 11.
載の光硬化性樹脂組成物をフィルム状支持体の表面に塗
布し、乾燥するか又は乾燥しないで光硬化性樹脂組成物
の層を形成し、 (2)該光硬化性樹脂組成物の層の表面をエンボス加工
及び露光をほぼ同時に行うことにより、表面に微細凹凸
パターンを形成した硬化樹脂層とすることを特徴とする
微細凹凸パターンの形成方法。15. (1) The photocurable resin composition according to any one of claims 1 to 6 is applied to the surface of a film-like support and dried or not dried. (2) The surface of the layer of the photocurable resin composition is subjected to embossing and exposure substantially at the same time to form a cured resin layer having a fine uneven pattern formed on the surface. Method of forming fine concavo-convex pattern.
載の光硬化性樹脂組成物をフィルム状支持体の表面に塗
布し、乾燥するか又は乾燥しないで光硬化性樹脂組成物
の層を形成し、 (2)該光硬化性樹脂組成物の層の表面をエンボス加工
した後、露光して硬化させることを特徴とする微細凹凸
パターンの形成方法。16. (1) The photocurable resin composition according to any one of claims 1 to 6 is applied to the surface of a film-shaped support and dried or not dried. And (2) embossing the surface of the layer of the photocurable resin composition, and then exposing and curing it to form a fine concavo-convex pattern.
光硬化性樹脂組成物の層の表面をエンボス加工及び露光
をほぼ同時に行うことにより、表面に微細凹凸パターン
を形成した硬化樹脂層とすることを特徴とする微細凹凸
パターンの形成方法。17. A cured resin layer having a fine concavo-convex pattern formed on the surface of the photocurable resin composition layer of the sheet according to claim 8 or 9 by performing embossing and exposure substantially at the same time. And a method for forming a fine concavo-convex pattern.
光硬化性樹脂組成物の層の表面をエンボス加工した後、
露光して光硬化性樹脂組成物の層を硬化させることを特
徴とする微細凹凸パターンの形成方法。18. After embossing the surface of the layer of the photocurable resin composition in the sheet according to claim 8 or 9,
A method for forming a fine concavo-convex pattern, which comprises exposing and curing the layer of the photocurable resin composition.
載の光硬化性樹脂組成物を剥離層を介して、フィルム状
支持体に塗布して光硬化性樹脂組成物の層を形成し、 (2)エンボス加工及び露光をほぼ同時に行うことによ
り、光硬化性樹脂組成物の層を硬化させて表面に微細凹
凸パターンを形成し、 (3)さらに、光硬化性樹脂組成物の層と屈折率の異な
る層を形成し、 (4)さらに、接着剤層を形成して転写箔とし、 (5)得られた転写箔を被転写体に転写することを特徴
とする光学用物品の製造方法。(1) A photocurable resin composition according to any one of claims 1 to 6 is applied to a film-like support through a release layer to form a layer of the photocurable resin composition. And (2) embossing and exposing are performed almost at the same time to cure the layer of the photocurable resin composition to form a fine concavo-convex pattern on the surface. (3) Further, to form the photocurable resin composition A layer having a refractive index different from that of the layer, and (4) further forming an adhesive layer to form a transfer foil, and (5) transferring the obtained transfer foil to a transfer target. Manufacturing method.
載の光硬化性樹脂組成物を剥離層を介して、フィルム状
支持体に塗布して光硬化性樹脂組成物の層を形成し、 (2)エンボス加工した後、露光することにより、光硬
化性樹脂組成物の層を硬化させて表面に微細凹凸パター
ンを形成し、 (3)さらに、光硬化性樹脂組成物の層と屈折率の異な
る層を形成し、 (4)さらに、接着剤層を形成して転写箔とし、 (5)得られた転写箔を被転写体に転写することを特徴
とする光学用物品の製造方法。(1) A photocurable resin composition according to any one of claims 1 to 6 is applied to a film-like support through a release layer to form a layer of the photocurable resin composition. And (2) after embossing, it is exposed to cure the layer of the photocurable resin composition to form a fine concavo-convex pattern on the surface. (3) Further, the layer of the photocurable resin composition And (4) further forming an adhesive layer to form a transfer foil, and (5) transferring the obtained transfer foil to a transfer target. Production method.
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