JP2003241221A - Liquid crystal display device and method of manufacturing the same - Google Patents
Liquid crystal display device and method of manufacturing the sameInfo
- Publication number
- JP2003241221A JP2003241221A JP2002041637A JP2002041637A JP2003241221A JP 2003241221 A JP2003241221 A JP 2003241221A JP 2002041637 A JP2002041637 A JP 2002041637A JP 2002041637 A JP2002041637 A JP 2002041637A JP 2003241221 A JP2003241221 A JP 2003241221A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- signal supply
- scanning signal
- short ring
- supply wiring
- ring pattern
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 薄膜トランジスタのアレー部分の完成までに
剥離帯電を受けた場合にも、線欠陥不良の増加を抑え
る。
【解決手段】 この液晶表示装置の製造方法は、絶縁性
透明基板1を用意する工程と、絶縁性透明基板の上に、
導電体からなるショートリングパターン14と、該ショ
ートリングパターンと接続部18で接続する走査信号供
給配線2とを配置する工程と、絶縁性透明基板の上に、
複数の画素電極7と、該画素電極に対応するスイッチン
グ素子4とをマトリクス上に配列する工程と、スイッチ
ング素子と接続する映像信号供給配線5を配置する工程
と、ショートリングパターンと走査信号供給配線とを接
続する接続部を開口する開口パターン17を形成する工
程と、開口パターンを介して前記接続部をエッチング処
理して除去し、それぞれの走査信号供給配線を前記ショ
ートリングパターンから分離する工程とを含む。
(57) Abstract: An object of the present invention is to suppress an increase in line defect defects even when a thin film transistor receives a peeling charge before completion of an array portion. The method of manufacturing a liquid crystal display device includes a step of preparing an insulating transparent substrate, and a step of:
A step of arranging the short ring pattern 14 made of a conductor and the scanning signal supply wiring 2 connected to the short ring pattern at the connection portion 18;
A step of arranging a plurality of pixel electrodes 7 and switching elements 4 corresponding to the pixel electrodes on a matrix, a step of arranging a video signal supply wiring 5 connected to the switching elements, a short ring pattern and a scanning signal supply wiring Forming an opening pattern 17 that opens a connection portion connecting the first and second connection portions; and etching and removing the connection portion through the opening pattern to separate each scanning signal supply line from the short ring pattern. including.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、アクティブマトリ
クス方式の液晶表示装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an active matrix type liquid crystal display device.
【0002】[0002]
【従来の技術】液晶を応用した表示装置は、低電力、軽
量さと従来のディスプレイにない特徴を持つ。特に、画
素毎にスイッチング素子をもつ薄膜トランジスタ(以
下、TFTと略す)を用いたアクティブマトリクス方式
の液晶表示装置は、クロストークの少ない鮮明な画像表
示が得られることから、ノートパソコンやカーナビゲー
ションのディスプレイ等に使用されている。さらに近年
では、大型ディスプレイモニターとして急速に利用され
るようになってきた。2. Description of the Related Art A display device to which liquid crystal is applied has low power consumption, light weight, and features not found in conventional displays. In particular, an active matrix type liquid crystal display device using a thin film transistor (hereinafter, abbreviated as TFT) having a switching element for each pixel can display a clear image with less crosstalk, and is therefore a display for a notebook computer or car navigation system. It is used for etc. Furthermore, in recent years, it has been rapidly used as a large display monitor.
【0003】以下、従来のアクティブマトリクス方式の
液晶表示装置の一例について、図5及び図6を用いて説
明する。この液晶表示装置は、図5の平面図に示すよう
に、ガラス基板51上にマトリクス状に配列された薄膜
トランジスタ(TFT)を備える。また、左右に延在す
る走査信号供給配線52と、上下に延在する映像供給配
線55とが格子状に配置され、その交点付近には、薄膜
トランジスタがマトリクス状に配置されている。さら
に、薄膜トランジスタのドレイン電極59に接続された
画素電極57がマトリクス状に配置されている。この走
査信号供給配線52は、薄膜トランジスタ(TFT)の
ゲート電極を兼ね、そのゲート電極に走査信号を供給す
る。また、映像信号供給配線55は、TFTのアモルフ
ァスシリコン半導体膜54に接続したソース電極を兼
ね、ドレイン電極59を介して画素電極57に映像信号
を供給する。An example of a conventional active matrix type liquid crystal display device will be described below with reference to FIGS. As shown in the plan view of FIG. 5, this liquid crystal display device includes thin film transistors (TFTs) arranged in a matrix on a glass substrate 51. Further, the scanning signal supply wirings 52 extending left and right and the video supply wirings 55 extending vertically are arranged in a grid pattern, and thin film transistors are arranged in a matrix in the vicinity of intersections thereof. Further, pixel electrodes 57 connected to the drain electrodes 59 of the thin film transistors are arranged in a matrix. The scanning signal supply wiring 52 also serves as a gate electrode of a thin film transistor (TFT) and supplies a scanning signal to the gate electrode. The video signal supply wiring 55 also serves as a source electrode connected to the amorphous silicon semiconductor film 54 of the TFT, and supplies a video signal to the pixel electrode 57 via the drain electrode 59.
【0004】次に、この液晶表示装置の積層構造につい
て説明する。まず、透明なガラス基板51の上に走査信
号供給配線52が形成されており、その上に、TFTの
ゲート絶縁膜を兼ねている第1の絶縁体層53が積層さ
れている。このゲート絶縁膜の上には、薄膜トランジス
タ(TFT)のチャンネル領域を形成するアモルファス
シリコン半導体膜54が形成されている。一方、第1絶
縁膜53の上を覆って保護膜としてのパッシベーション
絶縁膜56を兼ねる第2絶縁膜56が形成されている。
この第2絶縁膜56には、コンタクトホール58が開け
られている。ドレイン電極59と画素電極57は、コン
タクトホール58を介して接続される。また、走査信号
供給配線52の実装端子60は、第1の絶縁体層53と
第2の絶縁体層56に開けられたコンタクトホール62
を介して走査信号供給配線52と接続されている。さら
に、映像信号供給配線61は、第2の絶縁体層56に開
けられたコンタクトホール66を介して接続されてい
る。また、画素電極57、走査信号供給配線52、映像
信号供給配線を包囲して配置されたショートリングパタ
ーン64を備える。Next, the laminated structure of the liquid crystal display device will be described. First, the scanning signal supply wiring 52 is formed on the transparent glass substrate 51, and the first insulator layer 53 which also serves as the gate insulating film of the TFT is laminated thereon. An amorphous silicon semiconductor film 54 forming a channel region of a thin film transistor (TFT) is formed on the gate insulating film. On the other hand, a second insulating film 56, which also functions as a passivation insulating film 56 as a protective film, is formed to cover the first insulating film 53.
A contact hole 58 is opened in the second insulating film 56. The drain electrode 59 and the pixel electrode 57 are connected via the contact hole 58. Further, the mounting terminal 60 of the scanning signal supply wiring 52 has a contact hole 62 formed in the first insulator layer 53 and the second insulator layer 56.
It is connected to the scanning signal supply wiring 52 via. Further, the video signal supply wiring 61 is connected through a contact hole 66 formed in the second insulator layer 56. Further, the pixel electrode 57, the scanning signal supply wiring 52, and the video signal supply wiring are surrounded by a short ring pattern 64.
【0005】また、この液晶表示装置の製造方法は、一
般的に以下の工程からなる。
(a)走査信号供給配線52を選択エッチングしてパタ
ーンニングする工程。
(b)半導体層を選択エッチングしてパターンニングす
る工程。
(c)映像信号供給配線を選択エッチングしてパターン
ニングする工程。
(d)第1の絶縁体層53と第2の絶縁体層56を同時
に選択エッチングして開口パターンニングする工程。
(e)画素電極57を選択エッチングしてパターンニン
グする工程。
その後、アレー部分とカラーフィルタ部分を重ね合わせ
て液晶表示装置を完成させる。The method of manufacturing the liquid crystal display device generally comprises the following steps. (A) A step of patterning by selectively etching the scanning signal supply wiring 52. (B) A step of patterning by selectively etching the semiconductor layer. (C) A step of patterning by selectively etching the video signal supply wiring. (D) A step of selectively etching the first insulating layer 53 and the second insulating layer 56 to perform opening patterning. (E) A step of patterning by selectively etching the pixel electrode 57. Then, the array portion and the color filter portion are overlapped with each other to complete the liquid crystal display device.
【0006】このショートリングパターン64は、アレ
ー部分の完成の後、アレー部分とカラーフィルタ部分を
貼り合せるまでにおいて、静電気によるスイッチング素
子の破壊を抑えるために設けられている。このショート
リングパターン64は、アレー部分の完成後、図6の部
分断面図に示すように、接続部65とコンタクトホール
66を介して走査信号供給配線52及び映像信号供給配
線55と接続される。The short ring pattern 64 is provided to prevent the switching elements from being damaged by static electricity after the array portion is completed and before the array portion and the color filter portion are bonded together. After the array portion is completed, the short ring pattern 64 is connected to the scanning signal supply wiring 52 and the video signal supply wiring 55 through the connecting portion 65 and the contact hole 66 as shown in the partial sectional view of FIG.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記のような
従来の液晶表示装置における構成及び製造方法では、シ
ョートリングパターン64への接続はアレー部分の完成
後、即ち、上記工程(e)の後に形成される。このた
め、アレー部分の途中段階、即ち、半導体層を選択エッ
チングしてパターンニングする工程(b)から、画素電
極57の薄膜を堆積する工程(e)までの間で、剥離帯
電などが生じた場合には、一部の走査信号供給配線52
に沿ってスイッチング素子の電気特性が変化してしまう
場合があり、結果として線欠陥不良が増加することがあ
る。However, in the structure and manufacturing method of the conventional liquid crystal display device as described above, the connection to the short ring pattern 64 is performed after the array portion is completed, that is, after the step (e). It is formed. For this reason, peeling charging or the like occurs in the middle of the array portion, that is, from the step (b) of selectively etching and patterning the semiconductor layer to the step (e) of depositing the thin film of the pixel electrode 57. In some cases, some scanning signal supply wirings 52
In some cases, the electrical characteristics of the switching element may change along the line, resulting in an increase in line defect defects.
【0008】そこで、本発明の目的は、アレー部分の完
成までにおいて、剥離帯電を受けた場合にも、線欠陥不
良の増加を抑えることである。Therefore, an object of the present invention is to suppress an increase in line defect defects even when peeling electrification is performed until the array portion is completed.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】本発明に係る液晶表示装
置の製造方法は、絶縁性透明基板を用意する工程と、前
記絶縁性透明基板の上に、導電体からなるショートリン
グパターンと、該ショートリングパターンと接続部で接
続する走査信号供給配線とを配置する工程と、前記絶縁
性透明基板の上に、複数の画素電極と、該画素電極に対
応するスイッチング素子とをマトリクス上に配列する工
程と、前記スイッチング素子と接続する映像信号供給配
線を配置する工程と、前記ショートリングパターンと前
記走査信号供給配線とを接続する前記接続部を開口する
開口パターンを形成する工程と、前記開口パターンを介
して前記接続部をエッチング処理して除去し、前記それ
ぞれの走査信号供給配線を前記ショートリングパターン
から分離する工程とを含むことを特徴とする。A method of manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention comprises a step of preparing an insulating transparent substrate, a short ring pattern made of a conductor on the insulating transparent substrate, Arranging a short ring pattern and a scanning signal supply wiring connected at a connection portion, and arranging a plurality of pixel electrodes and switching elements corresponding to the pixel electrodes on a matrix on the insulating transparent substrate. A step of arranging a video signal supply wiring connected to the switching element, a step of forming an opening pattern for opening the connection portion connecting the short ring pattern and the scanning signal supply wiring, and the opening pattern A step of etching and removing the connection part through the via to separate the respective scanning signal supply wirings from the short ring pattern. Characterized in that it comprises a.
【0010】本発明に係る液晶表示装置は、絶縁性透明
基板と、前記絶縁性透明基板の上に形成された導電体か
らなるショートリングパターンと、前記絶縁性透明基板
の上の前記ショートリングパターンに囲まれた内側に、
マトリクス状に配列された複数の画素電極及び該画素電
極に対応する複数のスイッチング素子と、前記複数のス
イッチング素子に走査信号を供給する複数の走査信号供
給配線と、前記複数の画素電極にドレイン電極を介して
映像信号を供給する複数の映像信号供給配線とを備え、
前記それぞれの走査信号供給配線は、前記ショートリン
グパターンとの間の開口パターンで前記ショートリング
パターンと分離されていることを特徴とする。The liquid crystal display device according to the present invention includes an insulating transparent substrate, a short ring pattern made of a conductor formed on the insulating transparent substrate, and the short ring pattern on the insulating transparent substrate. Inside surrounded by
A plurality of pixel electrodes arranged in a matrix, a plurality of switching elements corresponding to the pixel electrodes, a plurality of scanning signal supply wirings for supplying a scanning signal to the plurality of switching elements, and a drain electrode for the plurality of pixel electrodes. And a plurality of video signal supply wirings for supplying a video signal via
Each of the scan signal supply wirings may be separated from the short ring pattern by an opening pattern between the scan signal supply wiring and the short ring pattern.
【0011】上記のように、この液晶表示装置の製造方
法では、アレー部分を完成させるまでにおいて、走査信
号供給配線2をショートリングパターン14と同層で全
て接続している。これによって、工程途中において、剥
離帯電を受けたとしても、ショートリングパターン14
による保護を受けることができる。即ち、剥離帯電が生
じた場合にも、全ての走査信号供給配線2をショートリ
ングパターン14と接続しているので、一部の走査信号
供給配線2のみへのスイッチング素子の電気特性への変
化を抑え、液晶表示装置における線欠陥不良の増加を抑
えることができる。As described above, in this method of manufacturing a liquid crystal display device, the scanning signal supply wirings 2 are all connected in the same layer as the short ring pattern 14 until the array portion is completed. As a result, even if peeling electrification occurs during the process, the short ring pattern 14
Can be protected by. That is, even when peeling electrification occurs, all the scanning signal supply wirings 2 are connected to the short ring pattern 14, so that only some of the scanning signal supply wirings 2 are changed in the electrical characteristics of the switching element. Therefore, it is possible to suppress an increase in line defect defects in the liquid crystal display device.
【0012】[0012]
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態に係る液晶表
示装置について、添付図面を用いて説明する。なお、実
質的に同一の部材には同一の符号を付している。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION A liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. The substantially same members are designated by the same reference numerals.
【0013】(実施の形態1)本発明の実施の形態1に
係る液晶表示装置について図1から図4を用いて説明す
る。この液晶表示装置は、アクティブマトリクス方式の
液晶表示装置であり、図1の平面図に示すように、ガラ
ス基板1上に、左右に延在する走査信号供給配線2と、
上下に延在する映像供給配線5とが格子状に配置され、
その交点付近には、薄膜トランジスタ(TFT)がマト
リクス状に配置されている。さらに、薄膜トランジスタ
のドレイン電極9に接続された画素電極7がマトリクス
状に配置されている。この走査信号供給配線2は、薄膜
トランジスタ(TFT)のゲート電極を兼ね、そのゲー
ト電極に走査信号を供給する。また、映像信号供給配線
5は、TFTのアモルファスシリコン半導体膜4に接続
したソース電極を兼ね、ドレイン電極9を介して画素電
極7に映像信号を供給する。(Embodiment 1) A liquid crystal display device according to Embodiment 1 of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 4. This liquid crystal display device is an active matrix liquid crystal display device, and as shown in the plan view of FIG. 1, a scanning signal supply wiring 2 extending left and right on a glass substrate 1,
The image supply wirings 5 extending vertically are arranged in a grid pattern,
Thin film transistors (TFTs) are arranged in a matrix near the intersections. Further, pixel electrodes 7 connected to the drain electrodes 9 of the thin film transistors are arranged in a matrix. The scanning signal supply wiring 2 also serves as a gate electrode of a thin film transistor (TFT) and supplies a scanning signal to the gate electrode. The video signal supply wiring 5 also serves as a source electrode connected to the amorphous silicon semiconductor film 4 of the TFT, and supplies a video signal to the pixel electrode 7 via the drain electrode 9.
【0014】また、この液晶表示装置は、画素電極7、
走査信号供給配線2、映像信号供給配線5を包囲して配
置され、静電気によるスイッチング素子の破壊を抑える
ショートリングパターン14を備える。また、このショ
ートリングパターン14はと操作信号供給配線2とは、
図2の部分断面図に示すように、開口パターン17によ
って分離されている。なお、アレー部分の完成までの工
程においては、このショートリングパターン14は、図
4の部分断面図に示すように、走査信号供給配線2と同
層で接続部18で接続されている。また、このショート
リングパターン14は、接続部15とコンタクトホール
16を介して映像信号供給配線の実装端子11と接続さ
れている。その後、液晶表示装置として動作させるため
に、図4の部分断面図において、上記接続部18の上部
に開口された開口パターン17を介してエッチング処理
を行なって、それぞれの走査信号供給配線2はショート
リングパターン14から分離される(図2)。Further, this liquid crystal display device has a pixel electrode 7,
A short ring pattern 14 is provided which surrounds the scanning signal supply wiring 2 and the video signal supply wiring 5 and which suppresses the destruction of the switching element due to static electricity. The short ring pattern 14 and the operation signal supply wiring 2 are
As shown in the partial cross-sectional view of FIG. 2, they are separated by the opening pattern 17. In the process up to the completion of the array portion, the short ring pattern 14 is connected to the scanning signal supply wiring 2 in the same layer as the connecting portion 18 as shown in the partial sectional view of FIG. Further, the short ring pattern 14 is connected to the mounting terminal 11 of the video signal supply wiring via the connection portion 15 and the contact hole 16. Then, in order to operate as a liquid crystal display device, in the partial cross-sectional view of FIG. 4, an etching process is performed through the opening pattern 17 opened above the connection portion 18, and each scanning signal supply wiring 2 is short-circuited. It is separated from the ring pattern 14 (FIG. 2).
【0015】このような構成の液晶表示装置のアレー基
板作成方法は以下の手順からなる。
(a)絶縁性透明基板1を用意する工程。
(b)絶縁性透明基板の上に、導電体からなるショート
リングパターン14と、該ショートリングパターン14
と接続部18で接続する走査信号供給配線2とを配置す
る工程。この場合、パターニングによって、ショートリ
ングパターン14と接続する接続部18とを同時に形成
する。
(c)絶縁性透明基板1の上に、複数の画素電極7と、
該画素電極7に対応するスイッチング素子4とをマトリ
クス上に配列する工程。なお、スイッチング素子4の形
成過程では、ゲート絶縁膜として、第1絶縁膜3をパタ
ーニングしておき、スイッチング素子4の形成後は、保
護層として第2絶縁膜6を形成する。
(d)スイッチング素子4と接続する映像信号供給配線
5を配置する工程。
(e)ショートリングパターン14と走査信号供給配線
2とを接続する接続部18を開口する開口パターン17
を形成する工程。この開口にあたっては、第1の絶縁体
層3と第2の絶縁体層6を同時に選択エッチングして、
開口パターン17をパターンニングする。
以上、(a)から(e)までの工程を上記順番で行な
う。この工程間では走査信号供給配線2は、図4の部分
断面図に示すように、ショートリングパターン14と接
続部18で接続されているので、工程中で静電気が発生
した場合にもショートリングパターンで保護され、一部
の走査信号供給配線に沿ってのみスイッチング素子の電
気特性が変化することもなく、液晶表示装置における線
欠陥不良を抑制することができる。The method of making an array substrate for a liquid crystal display device having such a structure comprises the following steps. (A) A step of preparing the insulating transparent substrate 1. (B) Short ring pattern 14 made of a conductor and the short ring pattern 14 on the insulating transparent substrate
And a step of arranging the scanning signal supply wiring 2 connected by the connection portion 18. In this case, by patterning, the connecting portion 18 connected to the short ring pattern 14 is simultaneously formed. (C) a plurality of pixel electrodes 7 on the insulating transparent substrate 1,
A step of arranging the switching elements 4 corresponding to the pixel electrodes 7 on a matrix. In the process of forming the switching element 4, the first insulating film 3 is patterned as a gate insulating film, and after the switching element 4 is formed, the second insulating film 6 is formed as a protective layer. (D) A step of arranging the video signal supply wiring 5 connected to the switching element 4. (E) Opening pattern 17 for opening a connecting portion 18 for connecting the short ring pattern 14 and the scanning signal supply wiring 2
Forming step. For this opening, the first insulator layer 3 and the second insulator layer 6 are selectively etched at the same time,
The opening pattern 17 is patterned. As described above, the steps (a) to (e) are performed in the above order. As shown in the partial cross-sectional view of FIG. 4, the scanning signal supply wiring 2 is connected between the short ring pattern 14 and the connecting portion 18 between these steps, so that even if static electricity is generated during the step, the short ring pattern is formed. The electrical characteristics of the switching element are not changed only along a part of the scanning signal supply wiring, and line defect defects in the liquid crystal display device can be suppressed.
【0016】その後、液晶表示装置として機能させるた
めに、以下の工程(f)によってそれぞれの走査信号供
給配線2をショートリングパターン14から分離する。
(f)上記開口パターン17を介して接続部18をエッ
チング処理して除去し、それぞれの走査信号供給配線2
をショートリングパターン14から分離する工程。この
工程で各走査信号供給配線をショートリングパターン1
4から分離でき、液晶表示装置として機能させることが
できる。なお、その後、アレー部分とカラーフィルタ部
分を重ね合わせて液晶表示装置を完成させる。Then, in order to function as a liquid crystal display device, each scanning signal supply wiring 2 is separated from the short ring pattern 14 by the following step (f). (F) The connecting portion 18 is removed by etching through the opening pattern 17, and each scanning signal supply wiring 2 is removed.
Separating the short ring pattern 14 from the short ring pattern 14. In this process, each scan signal supply wiring is connected to the short ring pattern 1
4 and can be made to function as a liquid crystal display device. After that, the array portion and the color filter portion are overlapped with each other to complete the liquid crystal display device.
【0017】この液晶表示装置において、図5の従来の
液晶表示装置と異なるところは以下の通りである。すな
わち、従来の液晶表示装置における構成および製造方法
は、半導体層を選択エッチングしてパターンニングする
工程から画素電極の薄膜を堆積するまでの工程におい
て、走査信号供給配線が各ライン独立配備されているた
め、剥離帯電などにより、一部の走査信号供給配線に沿
ってスイッチング素子の電気特性が変化してしまい、結
果として液晶表示装置における線欠陥不良を増加させる
ことになる。This liquid crystal display device is different from the conventional liquid crystal display device of FIG. 5 in the following points. That is, in the configuration and the manufacturing method of the conventional liquid crystal display device, the scanning signal supply wirings are arranged independently for each line in the steps from the step of selectively etching and patterning the semiconductor layer to the step of depositing the thin film of the pixel electrode. Therefore, the electrical characteristics of the switching elements change along some of the scanning signal supply wirings due to peeling charging, and as a result, line defect defects in the liquid crystal display device increase.
【0018】一方、この液晶表示装置では、薄膜トラン
ジスタのアレー部分を形成する工程にわたって、走査信
号供給配線2は、ショートリングパターン14と同層で
全て接続されている。このため、剥離帯電などが生じた
場合でも、ショートリングパターン14で保護され、一
部の走査信号供給配線2に沿ってのみスイッチング素子
の電気特性が変化することもなく、液晶表示装置におけ
る線欠陥不良を抑制することができる。なお、アレー部
分を完成した後、液晶表示装置として動作させるには、
図2の断面図に示すように、第1の絶縁体層3と第2の
絶縁体層6を同時に開口した開口パターン17を介し
て、エッチング処理により各走査信号供給配線とショー
トリングパターン14との接続部18を除去し、それぞ
れの走査信号供給配線2を分離すればよい。そこで、液
晶表示装置において、走査信号供給配線2は、上記開口
パターン17でショートリングパターン14と分離され
ている。On the other hand, in this liquid crystal display device, the scanning signal supply wiring 2 is entirely connected in the same layer as the short ring pattern 14 throughout the process of forming the array portion of the thin film transistor. Therefore, even if peeling charging occurs, the short ring pattern 14 protects the switching element, and the electrical characteristics of the switching element do not change only along a part of the scanning signal supply wiring 2, and line defects in the liquid crystal display device. It is possible to suppress defects. After completing the array part, to operate as a liquid crystal display device,
As shown in the cross-sectional view of FIG. 2, each scanning signal supply wiring and short ring pattern 14 are formed by etching through the opening pattern 17 in which the first insulator layer 3 and the second insulator layer 6 are simultaneously opened. It suffices to remove the connection portion 18 and separate the respective scanning signal supply wirings 2. Therefore, in the liquid crystal display device, the scanning signal supply wiring 2 is separated from the short ring pattern 14 by the opening pattern 17.
【0019】次に、この液晶表示装置の積層構造につい
て、図2及び図3の部分断面図を用いて説明する。ま
ず、透明なガラス基板1の上に走査信号供給配線2が形
成されており、その上に、薄膜トランジスタ(TFT)
のゲート絶縁膜を兼ねている第1の絶縁体層3が積層さ
れている。このゲート絶縁膜の上には、薄膜トランジス
タ(TFT)のチャンネル領域を形成するアモルファス
シリコン半導体膜4が形成されている。一方、第1絶縁
膜3の上を覆って保護膜としてのパッシベーション絶縁
膜6を兼ねる第2絶縁膜6が形成されている。なお、保
護膜6(第2絶縁膜)としては、例えばSiNx、Si
O2、アクリル樹脂、ポリイミド、ポリアミド、ポリカ
ーボネートまたはこれらの積層膜を用いてもよい。この
第2絶縁膜6には、コンタクトホール8が開けられてい
る。ドレイン電極9と画素電極7は、コンタクトホール
8を介して接続される。また、走査信号供給配線2の実
装端子10は、第1の絶縁体層3と第2の絶縁体層6に
開けられたコンタクトホール12を介して走査信号供給
配線2と接続されている。さらに、映像信号供給配線の
実装端子11は、第2の絶縁体層6に開けられたコンタ
クトホール16を介して映像信号供給配線5と接続され
ている。Next, the laminated structure of this liquid crystal display device will be described with reference to the partial sectional views of FIGS. First, a scanning signal supply wiring 2 is formed on a transparent glass substrate 1, and a thin film transistor (TFT) is formed on the scanning signal supply wiring 2.
The first insulator layer 3 also serving as the gate insulating film is laminated. An amorphous silicon semiconductor film 4 forming a channel region of a thin film transistor (TFT) is formed on the gate insulating film. On the other hand, a second insulating film 6 which covers the first insulating film 3 and also serves as a passivation insulating film 6 as a protective film is formed. The protective film 6 (second insulating film) may be, for example, SiN x or Si.
O 2 , acrylic resin, polyimide, polyamide, polycarbonate, or a laminated film thereof may be used. A contact hole 8 is opened in the second insulating film 6. The drain electrode 9 and the pixel electrode 7 are connected via the contact hole 8. The mounting terminal 10 of the scanning signal supply wiring 2 is connected to the scanning signal supply wiring 2 via a contact hole 12 formed in the first insulating layer 3 and the second insulating layer 6. Furthermore, the mounting terminal 11 of the video signal supply wiring is connected to the video signal supply wiring 5 through a contact hole 16 formed in the second insulator layer 6.
【0020】なお、この液晶表示装置についてその動作
を説明する。
(1)まず、走査信号供給配線2に電圧が印加され、薄
膜トランジスタ(TFT)のアモルファスシリコン半導
体膜4にTFTのチャンネルが形成される。
(2)次いで、映像信号供給配線5からの映像信号がT
FTのチャンネルを通過してドレイン電極9に流れ込
み、画素電極7に伝わる。
(3)そして、画素電極7と、該画素電極7と平行に対
向するカラーフィルタ部分に設けられた対向電極(図示
せず)との間に電界が発生する。
(4)発生した電界により、画素電極7と対向電極との
間に注入された液晶の配向を任意に可変し、光透過率を
調整することによって所望の画像が作り出される。The operation of this liquid crystal display device will be described. (1) First, a voltage is applied to the scanning signal supply wiring 2 to form a TFT channel in the amorphous silicon semiconductor film 4 of the thin film transistor (TFT). (2) Next, the video signal from the video signal supply wiring 5 is T
It passes through the channel of FT, flows into the drain electrode 9, and is transmitted to the pixel electrode 7. (3) Then, an electric field is generated between the pixel electrode 7 and a counter electrode (not shown) provided in the color filter portion facing the pixel electrode 7 in parallel. (4) By the generated electric field, the orientation of the liquid crystal injected between the pixel electrode 7 and the counter electrode is arbitrarily changed, and the light transmittance is adjusted to produce a desired image.
【0021】[0021]
【発明の効果】本発明に係る液晶表示装置の製造方法に
よれば、走査信号供給配線は、前記画素電極及び走査信
号供給配線とその実装端子及び映像信号供給配線とその
実装端子を包囲するように配置されたショートリングパ
ターンと同層で全て接続されている。これによって、ア
レー基板の完成までにおいて、剥離帯電などが生じた場
合であっても、ショートリングパターンで保護され、一
部の走査信号供給配線に沿ってのみスイッチング素子の
電気特性が変化することもなく、液晶表示装置における
線欠陥不良を抑制することができる。このようなTFT
の構成を用いたTFT液晶表示装置を作成したところ、
走査信号供給配線方向に沿った静電気による線欠陥不良
は0.1%以下に低減させることができた。According to the method of manufacturing a liquid crystal display device of the present invention, the scanning signal supply wiring surrounds the pixel electrode and the scanning signal supply wiring, the mounting terminal thereof, and the video signal supply wiring and the mounting terminal thereof. All are connected in the same layer as the short ring pattern arranged in. By this, even when peeling electrification or the like occurs until the completion of the array substrate, it is protected by the short ring pattern, and the electrical characteristics of the switching element may change only along a part of the scanning signal supply wiring. Therefore, it is possible to suppress line defect defects in the liquid crystal display device. Such a TFT
When a TFT liquid crystal display device using the above configuration is created,
The line defect defect due to static electricity along the scanning signal supply wiring direction could be reduced to 0.1% or less.
【図1】 本発明の実施の形態1に係る液晶表示装置の
TFTアレー部分の構成を示す部分的平面図である。FIG. 1 is a partial plan view showing a configuration of a TFT array portion of a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention.
【図2】 図1のA−A’線に沿った一部断面図であ
る。FIG. 2 is a partial cross-sectional view taken along the line AA ′ of FIG.
【図3】 図1のB−B’線に沿った一部断面図であ
る。3 is a partial cross-sectional view taken along the line BB ′ of FIG.
【図4】 アレー基板の完成までにおける図1のA−
A’線に沿った一部断面図である。FIG. 4 A- of FIG. 1 until completion of the array substrate
It is a partial cross section figure along the A'line.
【図5】 従来の液晶表示装置のTFTアレー部分の構
成を示す部分的平面図である。FIG. 5 is a partial plan view showing a configuration of a TFT array portion of a conventional liquid crystal display device.
【図6】 図5のC−C’線に沿った一部断面図であ
る。6 is a partial cross-sectional view taken along the line CC ′ of FIG.
1 ガラス基板 2 走査信号供給配線(ゲート電極) 3 第1絶縁膜(ゲート絶縁膜) 4 アモルファスシリコン半導体層 5 映像信号供給配線(ソース電極) 6 第2絶縁膜 7 画素電極 8 コンタクトホール 9 ドレイン電極 10 実装端子 11 実装端子 12、13 コンタクトホール 14 ショートリングパターン 15 接続部 16 コンタクトホール 17 開口パターン 18 接続部 51 ガラス基板 52 走査信号供給配線(ゲート電極) 53 第1絶縁膜(ゲート絶縁膜) 54 アモルファスシリコン半導体層 55 映像信号供給配線(ソース電極) 56 第2絶縁膜 57 画素電極 58 コンタクトホール 59 ドレイン電極 60 走査信号実装端子 61 映像信号実装端子 62、63 コンタクトホール 64 ショートリングパターン 65 接続部 66 コンタクトホール 1 glass substrate 2 Scan signal supply wiring (gate electrode) 3 First insulating film (gate insulating film) 4 Amorphous silicon semiconductor layer 5 Video signal supply wiring (source electrode) 6 Second insulating film 7 pixel electrode 8 contact holes 9 Drain electrode 10 mounting terminals 11 mounting terminals 12, 13 Contact hole 14 short ring pattern 15 Connection 16 contact holes 17 opening pattern 18 Connection 51 glass substrate 52 Scan signal supply wiring (gate electrode) 53 First insulating film (gate insulating film) 54 Amorphous silicon semiconductor layer 55 Video signal supply wiring (source electrode) 56 Second insulating film 57 pixel electrodes 58 contact holes 59 drain electrode 60 Scan signal mounting terminal 61 Video signal mounting terminal 62, 63 contact holes 64 short ring pattern 65 Connection 66 contact holes
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H092 GA31 GA32 GA34 GA38 GA44 GA46 JA01 JA21 JB22 JB31 JB79 MA17 MA18 MA19 MA20 NA14 5C094 AA42 AA43 BA03 BA43 CA19 CA24 DA13 DB01 DB04 EA04 EA10 EB02 ED03 FA01 GB10 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page F-term (reference) 2H092 GA31 GA32 GA34 GA38 GA44 GA46 JA01 JA21 JB22 JB31 JB79 MA17 MA18 MA19 MA20 NA14 5C094 AA42 AA43 BA03 BA43 CA19 CA24 DA13 DB01 DB04 EA04 EA10 EB02 ED03 FA01 GB10
Claims (2)
ングパターンと、該ショートリングパターンと接続部で
接続する走査信号供給配線とを配置する工程と、 前記絶縁性透明基板の上に、複数の画素電極と、該画素
電極に対応するスイッチング素子とをマトリクス上に配
列する工程と、 前記スイッチング素子と接続する映像信号供給配線を配
置する工程と、 前記ショートリングパターンと前記走査信号供給配線と
を接続する前記接続部を開口する開口パターンを形成す
る工程と、 前記開口パターンを介して前記接続部をエッチング処理
して除去し、前記それぞれの走査信号供給配線を前記シ
ョートリングパターンから分離する工程とを含むことを
特徴とする液晶表示装置の製造方法。1. A step of preparing an insulative transparent substrate, and a short ring pattern made of a conductor and a scanning signal supply wiring connected to the short ring pattern at a connecting portion are arranged on the insulative transparent substrate. A step of arranging a plurality of pixel electrodes and switching elements corresponding to the pixel electrodes in a matrix on the insulating transparent substrate; and arranging a video signal supply wiring connected to the switching elements. A step of forming an opening pattern for opening the connection portion that connects the short ring pattern and the scanning signal supply wiring, and removing the connection portion by etching through the opening pattern, respectively. And a step of separating the scanning signal supply wiring from the short ring pattern.
ョートリングパターンと、 前記絶縁性透明基板の上の前記ショートリングパターン
に囲まれた内側に、マトリクス状に配列された複数の画
素電極及び該画素電極に対応する複数のスイッチング素
子と、 前記複数のスイッチング素子に走査信号を供給する複数
の走査信号供給配線と、 前記複数の画素電極にドレイン電極を介して映像信号を
供給する複数の映像信号供給配線とを備え、 前記それぞれの走査信号供給配線は、前記ショートリン
グパターンとの間の開口パターンで前記ショートリング
パターンと分離されていることを特徴とする液晶表示装
置。2. An insulating transparent substrate, a short ring pattern made of a conductor formed on the insulating transparent substrate, and an inner side surrounded by the short ring pattern on the insulating transparent substrate, A plurality of pixel electrodes arranged in a matrix and a plurality of switching elements corresponding to the pixel electrodes, a plurality of scanning signal supply wirings for supplying a scanning signal to the plurality of switching elements, and a drain electrode for the plurality of pixel electrodes. A plurality of video signal supply wirings for supplying a video signal via the scanning signal supply wirings, and each of the scanning signal supply wirings is separated from the short ring pattern by an opening pattern between the scan signal supply wirings. Liquid crystal display device.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002041637A JP2003241221A (en) | 2002-02-19 | 2002-02-19 | Liquid crystal display device and method of manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002041637A JP2003241221A (en) | 2002-02-19 | 2002-02-19 | Liquid crystal display device and method of manufacturing the same |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003241221A true JP2003241221A (en) | 2003-08-27 |
Family
ID=27781984
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002041637A Pending JP2003241221A (en) | 2002-02-19 | 2002-02-19 | Liquid crystal display device and method of manufacturing the same |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003241221A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6741309B2 (en) * | 2000-07-27 | 2004-05-25 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Liquid crystal display |
| CN100444011C (en) * | 2003-10-20 | 2008-12-17 | 三星电子株式会社 | Lower substrate, display device having the same, and method of manufacturing the lower substrate |
-
2002
- 2002-02-19 JP JP2002041637A patent/JP2003241221A/en active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6741309B2 (en) * | 2000-07-27 | 2004-05-25 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Liquid crystal display |
| US7170570B2 (en) | 2000-07-27 | 2007-01-30 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Liquid crystal display |
| US7477351B2 (en) | 2000-07-27 | 2009-01-13 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Liquid crystal display |
| CN100444011C (en) * | 2003-10-20 | 2008-12-17 | 三星电子株式会社 | Lower substrate, display device having the same, and method of manufacturing the lower substrate |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN1992291B (en) | Thin film transistor substrate and fabricating method thereof | |
| KR100421344B1 (en) | Semiconductor device, electro-optical device substrate, liquid crystal device substrate and manufacturing method therefor, liquid crystal device, and projection liquid crystal display device and electronic apparatus using the liquid crystal device | |
| US7102718B1 (en) | Liquid crystal display device with particular TFT structure and method of manufacturing the same | |
| JP3607016B2 (en) | Semiconductor device and manufacturing method thereof, and portable information processing terminal, head mounted display, navigation system, mobile phone, camera, and projector | |
| EP2562739B1 (en) | Active matrix substrate and display device | |
| EP2037434B1 (en) | Tft substrate, display panel and display device provided with such tft substrate, and tft substrate manufacturing method | |
| US6472256B1 (en) | Method of manufacturing a thin-film transistor with a short-circuiting pattern | |
| KR100632097B1 (en) | Liquid crystal display and fabricating the same | |
| KR100275650B1 (en) | Thin film transistor array and manufacturing method thereof | |
| KR101279189B1 (en) | Liquid crystal display device of horizontal electronic field applying type and fabricating method thereof | |
| US7417693B2 (en) | Liquid crystal display device and its manufacturing method | |
| KR100498543B1 (en) | array circuit board of LCD and fabrication method of thereof | |
| US7982837B2 (en) | Liquid crystal display device and its manufacturing method | |
| JPH0756184A (en) | Display device | |
| JP2002116712A (en) | Display device and its manufacturing method | |
| JP2010102220A (en) | Manufacturing method of liquid crystal device, and liquid crystal device | |
| WO2000014600A1 (en) | Active matrix liquid crystal device and method for producing the same | |
| US20150162354A1 (en) | Thin film transistor substrate and method of manufacturing a thin film transistor substrate | |
| JP2003241221A (en) | Liquid crystal display device and method of manufacturing the same | |
| JPH028817A (en) | Manufacture of electric device | |
| KR101186023B1 (en) | Liquid crystal display device and method for manufacturing lcd | |
| JPH11282386A (en) | Method of manufacturing active matrix substrate device, active matrix substrate device, and electro-optical panel having the same | |
| KR100583314B1 (en) | Thin film transistor substrate for display element and manufacturing method thereof | |
| JPH0261618A (en) | Formation of liquid crystal display device | |
| JP2002229480A (en) | Display device, liquid crystal display device, and semiconductor device for display device |