JP2003249584A - Semiconductor element storage package and semiconductor device - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 外部リード端子とメタライズ配線層との接合
部にロウ材溜まりを形成して外部リード端子の接合強度
を向上させ、また外部電気回路基板に半導体装置を実装
した際に外部リード端子が上下しても接合部に応力が加
わりにくくなるようにして外部リード端子の外れが防止
し、さらに外部リード端子をメタライズ配線層に取り付
ける際の位置決めを容易にすること。
【解決手段】 入出力端子4は、平板部4cの上面でメ
タライズ配線層4aの外部リード端子7との接合部内に
凹部8が形成されており、外部リード端子7は、その下
面の一端部の途中から平板部4cの外側の部位にかけて
厚さが残部の0.15〜0.4倍である薄肉部7aが形成され
ているとともに一端部の下面の先端が凹部8に挿入され
てロウ付けされている。
(57) [Summary] [PROBLEMS] To improve the bonding strength of external lead terminals by forming a brazing material pool at the joint between an external lead terminal and a metallized wiring layer, and to mount a semiconductor device on an external electric circuit board. (1) To prevent the external lead terminals from coming off by preventing stress from being applied to the joint even when the external lead terminals are moved up and down, and to facilitate positioning when attaching the external lead terminals to the metallized wiring layer. An input / output terminal (4) has a concave portion (8) formed in a joint portion of a metallized wiring layer (4a) with an external lead terminal (7) on the upper surface of a flat plate portion (4c). A thin portion 7a having a thickness of 0.15 to 0.4 times the remaining portion is formed from the middle to a portion outside the flat plate portion 4c, and the lower end of one end is inserted into the recess 8 and brazed.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、入出力端子と外部
リード端子との接続構造を改良した半導体素子収納用パ
ッケージおよび半導体装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device housing package and a semiconductor device having an improved connection structure between input / output terminals and external lead terminals.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、光通信分野で使用されたりマイク
ロ波帯やミリ波帯等の高周波信号を用いる各種半導体素
子を収納する半導体素子収納用パッケージ(以下、半導
体パッケージともいう)は、半導体素子から発生する熱
を強制的に基体へ移動させて半導体素子を安定に作動さ
せるためのペルチェ素子等の熱電冷却素子を具備してい
る。例えば、半導体素子として半導体レーザ(LD)や
フォトダイオード(PD)等の光半導体素子を用い、熱
電冷却素子としてペルチェ素子を設けた半導体パッケー
ジの斜視図を図3に、入出力端子と外部リード端子との
接合部の拡大断面図を図4に示す。これらの図におい
て、21は基体、23は枠体、24は入出力端子、31は熱電冷
却素子、34はリード線である。2. Description of the Related Art Conventionally, a semiconductor element housing package (hereinafter, also referred to as a semiconductor package) for housing various semiconductor elements used in the field of optical communication or using high frequency signals such as a microwave band and a millimeter wave band is a semiconductor device. It is provided with a thermoelectric cooling element such as a Peltier element for forcibly moving the heat generated from the substrate to the substrate to stably operate the semiconductor element. For example, an optical semiconductor element such as a semiconductor laser (LD) or a photodiode (PD) is used as a semiconductor element, and a perspective view of a semiconductor package in which a Peltier element is provided as a thermoelectric cooling element is shown in FIG. 3, and an input / output terminal and an external lead terminal are shown. FIG. 4 shows an enlarged cross-sectional view of the joint portion with and. In these figures, 21 is a base, 23 is a frame, 24 is an input / output terminal, 31 is a thermoelectric cooling element, and 34 is a lead wire.
【0003】基体21は鉄(Fe)−ニッケル(Ni)−
コバルト(Co)合金等の金属や銅(Cu)−タングス
テン(W)等の焼結材から成り、その上側主面の略中央
部には、LD,PD等の光半導体素子などの半導体素子
30を搭載して成る熱電冷却素子31を載置する載置部21a
を有している。The base 21 is iron (Fe) -nickel (Ni)-
It is made of a metal such as a cobalt (Co) alloy or a sintered material such as copper (Cu) -tungsten (W), and a semiconductor element such as an optical semiconductor element such as an LD or PD is formed in a substantially central portion of an upper main surface thereof.
Mounting part 21a for mounting the thermoelectric cooling element 31 formed by mounting 30
have.
【0004】基体21の上側主面の外周部には、載置部21
aを囲繞するようにして接合され、側壁に光ファイバ32
を固定するための光ファイバ固定部材(以下、固定部材
ともいう)22および入出力端子24の取付部23aを有する
枠体23が立設されており、枠体23は基体21とともにその
内側に半導体素子30を収容する空所を形成する。この枠
体23は基体21と同様にFe−Ni−Co合金やCu−W
の焼結材等から成り、基体21と一体成形される、または
基体21に銀(Ag)ろう等のろう材を介してろう付けさ
れる、またはシーム溶接法等の溶接法により接合される
ことによって、基体21の上側主面の外周部に立設され
る。The mounting portion 21 is provided on the outer peripheral portion of the upper main surface of the base 21.
a is joined so as to surround a, and the optical fiber 32 is attached to the side wall.
An optical fiber fixing member (hereinafter, also referred to as a fixing member) 22 for fixing an optical fiber and a frame body 23 having a mounting portion 23a of the input / output terminal 24 are provided upright. A cavity is formed to house the element 30. The frame body 23 is similar to the base body 21 in that Fe-Ni-Co alloy and Cu-W.
Made of a sintered material, etc., and integrally molded with the base 21, or brazed to the base 21 via a brazing material such as silver (Ag) brazing, or joined by a welding method such as a seam welding method. Is erected on the outer peripheral portion of the upper main surface of the base 21.
【0005】固定部材22は枠体23の内側の端部がサファ
イアやガラス等の透光性材料から成る窓部材(図示せ
ず)で塞がれており、枠体23の外側の端部から光ファイ
バ32が挿入固定される。The fixing member 22 has a window member (not shown) made of a translucent material such as sapphire or glass at the inner end portion of the frame body 23. The optical fiber 32 is inserted and fixed.
【0006】入出力端子24は、アルミナ(Al2O3)、
窒化アルミニウム(AlN)、ムライト(3Al2O3・
2SiO2)等のセラミックスから成り、枠体23の取付
部23aにろう材を介して嵌着接合され、枠体23の内外を
電気的に導通する多数のメタライズ配線層24aが被着形
成されている。また、入出力端子24は枠体23の内外に突
出する平板部24cと枠体23に嵌着される立壁部24bとを
有している。The input / output terminal 24 is made of alumina (Al 2 O 3 )
Aluminum nitride (AlN), mullite (3Al 2 O 3 ·
2SiO 2 ) and other ceramics, and is fitted and joined to the mounting portion 23a of the frame body 23 via a brazing material, and a large number of metallized wiring layers 24a for electrically conducting the inside and outside of the frame body 23 are adhered and formed. There is. Further, the input / output terminal 24 has a flat plate portion 24c protruding inward and outward from the frame body 23 and a standing wall portion 24b fitted to the frame body 23.
【0007】メタライズ配線層24aの枠体23外側の部位
には、Fe−Ni−Co合金等の金属から成る外部リー
ド端子27がAgろう等のろう材を介して取着され、一方
メタライズ配線層24aの枠体23内側の部位には、半導体
素子30の各電極がボンディングワイヤ33を介して電気的
に接続されるとともに、熱電冷却素子31のリード線34の
先端部が半田付けされ電気的に接続される。メタライズ
配線層24aのリード線34の接続部は、入出力端子24のメ
タライズ配線層24aの導出方向に略垂直な側面で枠体23
内側の側面に、断面がU字状の切欠き部が設けられると
ともに、この切欠き部の内面にメタライズ配線層24aが
延設されて成る。これにより、切欠き部の内面とリード
線34との間の半田の接合面積が拡大し、入出力端子24と
リード線34との接続が強固なものになる。External lead terminals 27 made of a metal such as Fe--Ni--Co alloy are attached to a portion of the metallized wiring layer 24a outside the frame body 23 through a brazing material such as Ag brazing, while the metallized wiring layer is formed. Electrodes of the semiconductor element 30 are electrically connected to the inside of the frame body 23 of 24a through the bonding wires 33, and the tip ends of the lead wires 34 of the thermoelectric cooling element 31 are soldered and electrically connected. Connected. The connecting portion of the lead wire 34 of the metallized wiring layer 24a has a side surface substantially perpendicular to the lead-out direction of the metallized wiring layer 24a of the input / output terminal 24 on the frame 23.
A notch having a U-shaped cross section is provided on the inner side surface, and a metallized wiring layer 24a is extended on the inner surface of the notch. As a result, the joint area of the solder between the inner surface of the cutout portion and the lead wire 34 is enlarged, and the connection between the input / output terminal 24 and the lead wire 34 is strengthened.
【0008】枠体23および入出力端子24の上面には、F
e−Ni−Co合金等の金属から成るシールリング25が
Agろう等のろう材を介して接合され、シールリング25
の上面には、Fe−Ni−Co合金等の金属から成る蓋
体26がろう付け法やシームウエルド法等の溶接法で接合
され、基体21、枠体23、シールリング25および蓋体26か
ら成る容器内部に半導体素子30を収容し気密に封止す
る。On the upper surfaces of the frame 23 and the input / output terminal 24, F
A seal ring 25 made of a metal such as an e-Ni-Co alloy is joined via a brazing material such as Ag braze to form a seal ring 25.
A lid 26 made of a metal such as an Fe-Ni-Co alloy is joined to the upper surface of the substrate by a welding method such as a brazing method or a seam welding method, and the base 21, the frame 23, the seal ring 25 and the lid 26 are joined together. The semiconductor element 30 is housed in the container formed and hermetically sealed.
【0009】最後に、枠体23に設けた固定部材22に光フ
ァイバ32を溶接等によって接合させ、光ファイバ32を枠
体23に固定することによって製品としての半導体装置と
なる。この場合、光ファイバ32は、その端部に金属製フ
ランジ32aを予め取着させておき、金属製フランジ32a
を例えばレーザー溶接法によって固定部材22に溶接す
る。Finally, the optical fiber 32 is joined to the fixing member 22 provided on the frame body 23 by welding or the like, and the optical fiber 32 is fixed to the frame body 23 to obtain a semiconductor device as a product. In this case, the optical fiber 32 has a metal flange 32a attached to its end in advance, and the metal flange 32a
Are welded to the fixing member 22 by, for example, a laser welding method.
【0010】この半導体装置は、外部電気回路から供給
される電気信号によって半導体素子30に光を励起させ、
この光を光ファイバ32を介して外部に伝送することによ
って高速光通信等に使用される。または、外部から光フ
ァイバ32を介して伝送してくる光信号を、透光性部材を
透過させ半導体素子30に受光させて光信号を電気信号に
変換することによって、高速光通信等に使用される。This semiconductor device excites light in the semiconductor element 30 by an electric signal supplied from an external electric circuit,
By transmitting this light to the outside through the optical fiber 32, it is used for high-speed optical communication or the like. Alternatively, an optical signal transmitted from the outside through the optical fiber 32 is transmitted through a transparent member and received by the semiconductor element 30 to convert the optical signal into an electric signal, which is used for high-speed optical communication or the like. It
【0011】なお、この半導体装置には、半導体素子30
が作動中に発生する熱を外部に良好に放熱するために、
半導体素子30と基体21との間に熱電冷却素子31が配設さ
れている。この熱電冷却素子31には、セラミック基板
が、基体21に接合される面と半導体素子30が搭載される
面にそれぞれ設けてあり、熱電冷却素子31の基体21に接
合される面のセラミック基板の上面に電極が形成されて
いる。この電極にはリード線34の一端部が接続されてい
る。In this semiconductor device, the semiconductor element 30
In order to radiate the heat generated during operation to the outside,
A thermoelectric cooling element 31 is arranged between the semiconductor element 30 and the base 21. In this thermoelectric cooling element 31, a ceramic substrate is provided on each of the surface bonded to the base 21 and the surface on which the semiconductor element 30 is mounted, and the ceramic substrate on the surface bonded to the base 21 of the thermoelectric cooling element 31 is An electrode is formed on the upper surface. One end of a lead wire 34 is connected to this electrode.
【0012】そして、リード線34の他端部がメタライズ
配線層24aに半田付けにより電気的に接続され、外部リ
ード端子27、メタライズ配線層24aおよびリード線34を
介して外部より熱電冷却素子31に電力が供給される。即
ち、リード線34は、熱電冷却素子31に駆動電圧を供給す
ることによって、熱電冷却素子31を半導体素子30から基
体21に熱を移動させる熱ポンプとして作動させる。従っ
て、半導体素子30の熱は熱電冷却素子31を介して基体21
に強制的に伝達され、基体21から大気中に放散され、そ
の結果半導体素子30が常に定温で安定して作動すること
となる。The other end of the lead wire 34 is electrically connected to the metallized wiring layer 24a by soldering, and is externally connected to the thermoelectric cooling element 31 via the external lead terminal 27, the metallized wiring layer 24a and the lead wire 34. Power is supplied. That is, the lead wire 34 operates the thermoelectric cooling element 31 as a heat pump that transfers heat from the semiconductor element 30 to the base 21 by supplying a driving voltage to the thermoelectric cooling element 31. Therefore, the heat of the semiconductor element 30 is transferred to the base 21 via the thermoelectric cooling element 31.
Is forced to be transmitted to the atmosphere from the substrate 21, and as a result, the semiconductor element 30 always operates stably at a constant temperature.
【0013】[0013]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の半導体装置は、外部電気回路基板に実装した際に外
部リード端子27が上下動してロウ付け部に応力や外力が
加わって、外部リード端子27が外れてしまうという問題
点があった。また、外部リード端子27は幅が0.5mm程
度と小さいため位置決めが難しく、入出力端子24の平板
部24cのメタライズ配線層24a上に取り付ける際に位置
ズレが発生し易いという問題点があった。However, in the conventional semiconductor device described above, the external lead terminal 27 moves up and down when mounted on the external electric circuit board, and stress or external force is applied to the brazing portion, so that the external lead terminal is There was a problem that 27 came off. Further, since the width of the external lead terminal 27 is as small as about 0.5 mm, it is difficult to position the external lead terminal 27, and there is a problem that a positional deviation easily occurs when the external lead terminal 27 is mounted on the metallized wiring layer 24a of the flat plate portion 24c of the input / output terminal 24.
【0014】従って、本発明は上記問題点に鑑み完成さ
れたものであり、その目的は、外部リード端子とメタラ
イズ配線層との接合部にロウ材溜まりを形成して外部リ
ード端子の接合強度を向上させ、また外部リード端子が
変形を吸収し易くなるため外部電気回路基板に半導体装
置を実装した際に外部リード端子が上下しても接合部に
応力が加わりにくくなり外部リード端子の外れが防止さ
れ、さらに外部リード端子をメタライズ配線層に取り付
ける際の位置決めを容易にすることである。Therefore, the present invention has been completed in view of the above problems, and an object thereof is to form a brazing material reservoir at the joint between the external lead terminal and the metallized wiring layer to improve the joint strength of the external lead terminal. Also, because the external lead terminals are easier to absorb the deformation, when the semiconductor device is mounted on the external electric circuit board, stress is less likely to be applied to the joint even if the external lead terminals move up and down, preventing the external lead terminals from coming off. Further, it is to facilitate positioning when attaching the external lead terminal to the metallized wiring layer.
【0015】[0015]
【課題を解決するための手段】本発明の半導体素子収納
用パッケージは、上側主面に半導体素子が熱電冷却素子
を介して載置される載置部を有する基体と、該基体の前
記上側主面に前記載置部を囲繞するように取着され、側
部に貫通孔または切欠きから成る入出力端子の取付部が
形成された金属製の枠体と、上面の一辺側から対向する
他辺側にかけて形成された複数のメタライズ配線層を有
する誘電体から成る平板部および該平板部の上面に前記
複数のメタライズ配線層を間に挟んで接合された誘電体
から成る立壁部から構成されるとともに前記取付部に嵌
着された入出力端子と、前記メタライズ配線層の前記枠
体外側の部位に一端部がロウ付けされた外部リード端子
とを具備した半導体素子収納用パッケージにおいて、前
記入出力端子は、前記平板部の上面で前記メタライズ配
線層の前記外部リード端子との接合部内に凹部が形成さ
れており、前記外部リード端子は、その下面の前記一端
部の途中から前記平板部の外側の部位にかけて厚さが残
部の0.15〜0.4倍である薄肉部が形成されているととも
に前記一端部の下面の先端が前記凹部に挿入されてロウ
付けされていることを特徴とする。A package for housing a semiconductor element according to the present invention comprises a base body having a mounting portion on the upper main surface on which a semiconductor element is mounted via a thermoelectric cooling element, and the upper main body of the base body. A metal frame which is attached to the surface so as to surround the above-mentioned mounting portion, and which has an input / output terminal mounting portion consisting of a through hole or a notch on the side, and which faces from one side of the upper surface It is composed of a flat plate portion made of a dielectric material having a plurality of metallized wiring layers formed along the side and a standing wall portion made of a dielectric material bonded to the upper surface of the flat plate portion with the plurality of metallized wiring layers interposed therebetween. In the package for storing a semiconductor element, which further comprises an input / output terminal fitted to the mounting portion, and an external lead terminal having one end brazed to a portion of the metallized wiring layer outside the frame, The terminals are A concave portion is formed on the upper surface of the flat plate portion in the joint portion of the metallized wiring layer with the external lead terminal, and the external lead terminal extends from the middle of the one end portion of the lower surface to a portion outside the flat plate portion. A thin portion having a thickness of 0.15 to 0.4 times the remaining portion is formed, and the tip of the lower surface of the one end is inserted into the recess and brazed.
【0016】本発明は、上記の構成により、外部リード
端子とメタライズ配線層とのロウ付け部(接合部)にロ
ウ材溜まりが形成されるため、外部リード端子の接合強
度が向上する。また、外部リード端子の一端部付近に薄
肉部を形成することで外部リード端子が変形を吸収し易
くなり、外部電気回路基板に半導体装置を実装した際に
外部リード端子が上下動しても接合部に応力が加わりに
くくなり、外部リード端子の外れを防止できる。また、
外部リード端子の下面の先端を凹部に挿入してロウ付け
するので、外部リード端子を入出力端子の平板部に取り
付ける際の位置決めが容易になる。According to the present invention, since the brazing material reservoir is formed at the brazing portion (joint portion) between the external lead terminal and the metallized wiring layer, the joining strength of the external lead terminal is improved. In addition, by forming a thin portion near one end of the external lead terminal, the external lead terminal easily absorbs the deformation, and even if the external lead terminal moves up and down when the semiconductor device is mounted on the external electric circuit board, it is bonded. Stress is less likely to be applied to the parts, and the external lead terminals can be prevented from coming off. Also,
Since the tip of the lower surface of the external lead terminal is inserted into the recess and brazed, the positioning when mounting the external lead terminal on the flat plate portion of the input / output terminal becomes easy.
【0017】本発明の半導体装置は、上記本発明の半導
体素子収納用パッケージと、前記載置部に載置されると
ともに前記入出力端子に電気的に接続された半導体素子
と、前記枠体の上面に接合された蓋体とを具備したこと
を特徴とする。The semiconductor device of the present invention includes the above-mentioned package for accommodating a semiconductor element of the present invention, a semiconductor element mounted on the mounting portion and electrically connected to the input / output terminals, and the frame body. It has a lid joined to the upper surface.
【0018】本発明の半導体装置は、上記の構成によ
り、上記本発明の半導体素子収納用パッケージを用いた
信頼性の高いものとなる。The semiconductor device of the present invention has a high reliability by using the above-described package for accommodating a semiconductor element of the present invention because of the above-mentioned structure.
【0019】[0019]
【発明の実施の形態】本発明の半導体素子収納用パッケ
ージについて以下に詳細に説明する。図1は本発明の半
導体パッケージについて実施の形態の例を示す斜視図、
図2は図1の半導体パッケージにおける入出力端子と外
部リード端子の接合部の拡大断面図である。これらの図
において、1は基体、3は枠体、4は入出力端子、11は
熱電冷却素子、14はリード線である。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The semiconductor element housing package of the present invention will be described in detail below. FIG. 1 is a perspective view showing an example of an embodiment of a semiconductor package of the present invention,
2 is an enlarged cross-sectional view of a joint portion between the input / output terminal and the external lead terminal in the semiconductor package of FIG. In these figures, 1 is a base, 3 is a frame, 4 is an input / output terminal, 11 is a thermoelectric cooling element, and 14 is a lead wire.
【0020】本発明の基体1はFe−Ni−Co合金等
の金属やCu−Wの焼結材等から成り、そのインゴット
に圧延加工や打ち抜き加工等の従来周知の金属加工法、
または射出成形と切削加工等を施すことによって、所定
形状に製作される。また、基体1の上側主面には、L
D,PD等の光半導体素子等の半導体素子10を搭載した
ペルチェ素子等の熱電冷却素子11を載置する載置部1a
が設けられており、載置部1aには半導体素子10が熱電
冷却素子11に搭載された状態で載置固定される。The substrate 1 of the present invention is made of a metal such as Fe-Ni-Co alloy or a Cu-W sintered material, and its ingot is subjected to a well-known metal processing method such as rolling or punching.
Alternatively, it is manufactured into a predetermined shape by performing injection molding and cutting. Further, on the upper main surface of the base 1, L
A mounting portion 1a on which a thermoelectric cooling element 11 such as a Peltier element having a semiconductor element 10 such as an optical semiconductor element such as D or PD mounted thereon is mounted.
Is provided, and the semiconductor element 10 is mounted and fixed on the mounting portion 1 a in a state of being mounted on the thermoelectric cooling element 11.
【0021】また、基体1の上側主面の外周部には載置
部1aを囲繞するようにして接合されるとともに、側部
に光ファイバ12を固定する筒状の固定部材2を設けるた
めの貫通孔および入出力端子4の取付部3aを有する枠
体3が立設されており、枠体3は基体1とともにその内
側に半導体素子10を収容する空所を形成する。Further, a cylindrical fixing member 2 for fixing the optical fiber 12 is provided on the outer peripheral portion of the upper main surface of the base body 1 so as to surround the mounting portion 1a so as to surround the mounting portion 1a. A frame body 3 having a through hole and a mounting portion 3a for the input / output terminal 4 is provided upright, and the frame body 3 forms a space for accommodating the semiconductor element 10 inside the base body 1 together with the base body 1.
【0022】固定部材2は、Fe−Ni−Co合金等の
金属から成る円筒状等の筒状であり、枠体3内側の端部
がサファイアやガラス等の透光性材料から成る窓部材
(図示せず)で塞がれており、枠体3外側の端部から光
ファイバ12が挿入固定される。光ファイバ12は、その端
部に金属製フランジ12aを予め取着させておき、金属製
フランジ12aを例えばYAGレーザ溶接法で固定部材2
に溶接することにより枠体3に固定される。これによ
り、光ファイバ12を介して内部に収容される半導体素子
10と外部との光信号の授受が可能となる。The fixing member 2 has a cylindrical shape such as a cylindrical shape made of a metal such as Fe-Ni-Co alloy, and the end portion inside the frame 3 is made of a transparent material such as sapphire or glass. The optical fiber 12 is closed by an unillustrated), and the optical fiber 12 is inserted and fixed from the end portion outside the frame body 3. The optical fiber 12 has a metal flange 12a attached to the end thereof in advance, and the metal flange 12a is fixed by a YAG laser welding method, for example.
It is fixed to the frame body 3 by welding. As a result, the semiconductor element housed inside via the optical fiber 12
It becomes possible to send and receive optical signals between 10 and the outside.
【0023】枠体3は略長方形の枠状体であり、固定部
材2および入出力端子4を支持するためのものである。
また、枠体3は基体1と同様にFe−Ni−Co合金や
Cu−Wの焼結材等から成り、基体1と一体成形され
る、または基体1にAgロウ等のロウ材を介してロウ付
けされる、または基体1にシーム溶接法等の溶接法によ
り接合されることによって、基体1の上側主面の外周部
に立設される。The frame body 3 is a substantially rectangular frame body, and is for supporting the fixing member 2 and the input / output terminal 4.
Further, the frame 3 is made of a sintered material such as Fe—Ni—Co alloy or Cu—W like the base body 1, and is integrally molded with the base body 1, or is formed on the base body 1 through a brazing material such as Ag wax. By being brazed or joined to the base body 1 by a welding method such as a seam welding method, the base body 1 is erected on the outer peripheral portion of the upper main surface.
【0024】入出力端子4はAl2O3,AlN,3Al
2O3・2SiO2等のセラミックスから成る断面が逆T
字型の部材であり、枠体3の取付部3aに嵌め込むとと
もに、入出力端子4と取付部3aとの隙間に溶融したA
gロウ等のロウ材を毛細管現象により充填させることで
枠体3に嵌着接合される。入出力端子4の平板部4cの
上面には、枠体3の内外を電気的に導通する多数のメタ
ライズ配線層4aが被着形成されており、入出力端子4
は枠体3の一部となって枠体3内外を気密に仕切るとと
もに枠体3内外を導通させる導電路として機能する。The input / output terminal 4 is made of Al 2 O 3 , AlN, 3Al.
Inverted T cross-section consisting of 2 O 3 · 2SiO 2 etc. Ceramics
It is a character-shaped member and is fitted into the mounting portion 3a of the frame body 3 and melted in the gap between the input / output terminal 4 and the mounting portion 3a.
It is fitted and joined to the frame body 3 by filling a brazing material such as g wax by a capillary phenomenon. On the upper surface of the flat plate portion 4c of the input / output terminal 4, a large number of metallized wiring layers 4a for electrically conducting the inside and outside of the frame body 3 are adhered and formed.
Serves as a part of the frame body 3 to airtightly partition the inside and outside of the frame body 3 and functions as a conductive path for conducting the inside and outside of the frame body 3.
【0025】入出力端子4は、例えばAl2O3セラミッ
クスから成る場合、以下のようにして作製される。ま
ず、Al2O3,酸化珪素(SiO2),酸化カルシウム
(CaO),酸化マグネシウム(MgO)等の原料粉末
に適当な有機バインダや可塑剤,分散剤,溶剤等を添加
混合して泥漿状となす。これを従来周知のドクターブレ
ード法でシート状に成形することによって複数枚のセラ
ミックグリーンシートを得る。しかる後、これらのセラ
ミックグリーンシートに適当な打ち抜き加工を施しメタ
ライズ配線層4aとなる金属ペーストを印刷塗布して積
層する。最後に、この積層体の枠体3および後述のシー
ルリング5と接合される面に、メタライズ金属層となる
金属ペーストを印刷塗布し、還元雰囲気中で約1600℃の
温度で焼成することによって製作される。When the input / output terminal 4 is made of, for example, Al 2 O 3 ceramics, it is manufactured as follows. First, a raw material powder of Al 2 O 3 , silicon oxide (SiO 2 ), calcium oxide (CaO), magnesium oxide (MgO), etc. is mixed with an appropriate organic binder, plasticizer, dispersant, solvent, etc. And eggplant A plurality of ceramic green sheets are obtained by forming this into a sheet by a conventionally known doctor blade method. Thereafter, these ceramic green sheets are subjected to appropriate punching processing, and a metal paste to be the metallized wiring layer 4a is printed and applied to be laminated. Finally, a metal paste to be a metallized metal layer is print-coated on the surface of the laminate, which is to be joined to the frame 3 and the seal ring 5 described later, and is baked at a temperature of about 1600 ° C. in a reducing atmosphere. To be done.
【0026】なお、メタライズ配線層4aおよびメタラ
イズ金属層となる金属ペーストは、W,モリブデン(M
o),マンガン(Mn)等の高融点金属粉末に適当な有
機バインダや溶剤を添加混合してペースト状となしたも
のを従来周知のスクリーン印刷法で印刷することによ
り、セラミックグリーンシートおよびその積層体に印刷
塗布される。The metal pastes for the metallized wiring layer 4a and the metallized metal layer are W, molybdenum (M
o), high-melting-point metal powder such as manganese (Mn) and the like, mixed with an appropriate organic binder and solvent to form a paste, which is printed by a conventionally known screen printing method to obtain a ceramic green sheet and its lamination. Printed on the body.
【0027】また、入出力端子4は枠体3内外に突出す
る平板部4cと枠体3に嵌着される立壁部4bとを有し
ている。Further, the input / output terminal 4 has a flat plate portion 4c projecting in and out of the frame body 3 and a standing wall portion 4b fitted in the frame body 3.
【0028】メタライズ配線層4aの枠体3外側の部位
には、Fe−Ni−Co合金等の金属から成る外部リー
ド端子7がAgロウ等のロウ材を介して接合され、メタ
ライズ配線層4aの枠体3内側の部位には、半導体素子
10の各電極がボンディングワイヤ13を介して電気的に接
続されるとともに、熱電冷却素子11のリード線14が電気
的に接続される。External lead terminals 7 made of a metal such as Fe--Ni--Co alloy are joined to a portion of the metallized wiring layer 4a outside the frame 3 through a brazing material such as Ag solder, and the metallized wiring layer 4a is formed. A semiconductor element is provided on the inner side of the frame 3.
Each electrode of 10 is electrically connected via the bonding wire 13, and the lead wire 14 of the thermoelectric cooling element 11 is electrically connected.
【0029】本発明において、図2に示すように、入出
力端子4は、平板部4cの上面でメタライズ配線層4a
の外部リード端子7との接合部内に凹部8が形成されて
おり、外部リード端子7は、その下面の一端部の途中か
ら平板部4cの外側の部位にかけて厚さが残部の0.15〜
0.4倍である薄肉部7aが形成されているとともに一端
部の下面の先端が凹部8に挿入されてロウ付けされてい
る。In the present invention, as shown in FIG. 2, the input / output terminal 4 has the metallized wiring layer 4a on the upper surface of the flat plate portion 4c.
The recess 8 is formed in the joint with the external lead terminal 7, and the external lead terminal 7 has a thickness of 0.15 to 10% from the middle of one end of the lower surface to the outside of the flat plate portion 4c.
A 0.4-fold thin portion 7a is formed, and the tip of the lower surface of one end is inserted into the recess 8 and brazed.
【0030】外部リード端子7の薄肉部7aの厚さX
が、薄肉部7a以外の外部リード端子7の厚さの0.15倍
未満の場合、薄肉部7aが薄くなりすぎてその加工が困
難になる。0.4倍を超えると、外部リード端子7の先端
と凹部8との間に形成されるロウ材溜まり9が小さくな
り、外部リード端子7の接合強度が低下する。また、薄
肉部7aの長手方向の両端面は凹んだ曲面であるのが好
ましい。この場合、凹んだ曲面としていることにより、
薄肉部7aの長手方向の両端の角部に発生し易い応力を
分散させることができる。Thickness X of thin portion 7a of external lead terminal 7
However, when the thickness is less than 0.15 times the thickness of the external lead terminal 7 other than the thin portion 7a, the thin portion 7a becomes too thin and its processing becomes difficult. When it exceeds 0.4 times, the brazing material reservoir 9 formed between the tip of the external lead terminal 7 and the recess 8 becomes small, and the bonding strength of the external lead terminal 7 decreases. Further, it is preferable that both end surfaces in the longitudinal direction of the thin portion 7a are concave curved surfaces. In this case, by making it a concave curved surface,
It is possible to disperse the stress that tends to occur at the corners of the thin portion 7a at both ends in the longitudinal direction.
【0031】外部リード端子7の長手方向における薄肉
部7aの長さは0.25〜10mmが好ましい。0.25mm未満
では、外部リード端子7が変形を吸収しにくくなり、外
部電気回路基板に半導体装置を実装した際に外部リード
端子7が上下動して接合部に応力が加わり易くなり、外
部リード端子7の外れが発生し易くなる。10mmを超え
ると、外部リード端子7を外部電気回路基板に接続する
際に外部リード端子7と外部電気回路基板との接合面積
が小さくなるため外部リード端子7が外れ易くなる。な
お、外部リード端子7の幅は一般に0.2〜1mm程度で
ある。The length of the thin portion 7a in the longitudinal direction of the external lead terminal 7 is preferably 0.25 to 10 mm. If the thickness is less than 0.25 mm, the external lead terminal 7 is less likely to absorb the deformation, and when the semiconductor device is mounted on the external electric circuit board, the external lead terminal 7 moves up and down, and stress is easily applied to the joint portion. 7 is likely to come off. When it exceeds 10 mm, the external lead terminal 7 is easily detached because the joint area between the external lead terminal 7 and the external electric circuit board becomes small when the external lead terminal 7 is connected to the external electric circuit board. The width of the external lead terminal 7 is generally about 0.2 to 1 mm.
【0032】また平板部4cの上面でメタライズ配線層
4aの外部リード端子7の接合部内に凹部8が形成され
ていることにより、外部リード端子7を接合する際に、
確実に外部リード端子7の位置ズレを防止して容易に位
置決めできる。また、メタライズ配線層4aから隣接す
るメタライズ配線層4aにロウ材が流れ込むのを防止で
きる。凹部8の深さは0.05mm以上が好ましい。0.05m
m未満になると、凹部8にロウ材溜まり9がほとんど形
成されないため、外部リード端子7の接合強度が低下し
易くなる。また、隣接するメタライズ配線層4a同士で
ロウ材の流れ込みが発生し電気的な短絡が起き易くな
る。Further, since the concave portion 8 is formed on the upper surface of the flat plate portion 4c in the joint portion of the external lead terminal 7 of the metallized wiring layer 4a, when the external lead terminal 7 is joined,
The positional deviation of the external lead terminals 7 can be reliably prevented and the positioning can be performed easily. Further, it is possible to prevent the brazing material from flowing from the metallized wiring layer 4a to the adjacent metallized wiring layer 4a. The depth of the recess 8 is preferably 0.05 mm or more. 0.05m
If it is less than m, the brazing material pool 9 is hardly formed in the recesses 8, so that the bonding strength of the external lead terminals 7 is likely to decrease. In addition, the brazing material is caused to flow between the adjacent metallized wiring layers 4a, so that an electrical short circuit easily occurs.
【0033】枠体3および入出力端子4の上面には、F
e−Ni−Co合金等の金属から成るシールリング5を
Agロウ等のロウ材を介して接合し、シールリング5の
上面にFe−Ni−Co合金等の金属から成る蓋体6が
ロウ付け法やシームウエルド法等の溶接法で接合され
る。そして、基体1、枠体3、シールリング5および蓋
体6から成る容器内部に半導体素子10を収容し気密に封
止することにより、製品としての半導体装置となる。On the upper surfaces of the frame 3 and the input / output terminals 4, F
A seal ring 5 made of a metal such as an e-Ni-Co alloy is joined via a brazing material such as Ag braze, and a lid 6 made of a metal such as Fe-Ni-Co alloy is brazed to the upper surface of the seal ring 5. And welding methods such as seam welding. Then, the semiconductor element 10 is housed and hermetically sealed in a container composed of the base body 1, the frame body 3, the seal ring 5, and the lid body 6 to form a semiconductor device as a product.
【0034】この半導体装置は、基体1が半田付けやネ
ジ止め等によって外部電気回路基板に実装され、外部リ
ード端子7と外部電気回路とを接続することにより、内
部に収容される半導体素子10および熱電冷却素子11が外
部電気回路に電気的に接続される。そして、半導体素子
10が高周波信号で作動するとともに熱電冷却素子11が正
常に作動し、半導体素子10の熱を熱電冷却素子11を介し
て基体1に強制的に伝達し、基体1から大気中に放散す
ることによって、半導体素子10の温度を常に定温とし
て、半導体素子10が常に安定して作動する。In this semiconductor device, the base body 1 is mounted on an external electric circuit board by soldering, screwing, or the like, and the external lead terminals 7 and the external electric circuit are connected to each other. The thermoelectric cooling element 11 is electrically connected to an external electric circuit. And semiconductor device
When 10 operates with a high frequency signal and the thermoelectric cooling element 11 operates normally, the heat of the semiconductor element 10 is forcibly transferred to the base body 1 through the thermoelectric cooling element 11 and diffused from the base body 1 into the atmosphere. The temperature of the semiconductor element 10 is always kept constant and the semiconductor element 10 always operates stably.
【0035】また、この半導体装置は、例えば外部電気
回路から供給される高周波信号によって半導体素子10に
光を励起させ、この光を光ファイバ12を介して外部に伝
達することによって高速光通信等に使用される。また
は、外部から光ファイバ12を伝送してくる光信号を、透
光性部材を透過させ半導体素子10に受光させて光信号を
電気信号に変換することによって、高速光通信等に使用
される。Further, this semiconductor device excites light in the semiconductor element 10 by a high frequency signal supplied from an external electric circuit, for example, and transmits this light to the outside through the optical fiber 12 for high speed optical communication or the like. used. Alternatively, an optical signal transmitted from the outside through an optical fiber 12 is transmitted through a translucent member and received by the semiconductor element 10 to convert the optical signal into an electric signal, which is used for high-speed optical communication or the like.
【0036】[0036]
【実施例】本発明の半導体パッケージの実施例を以下に
説明する。Embodiments of the semiconductor package of the present invention will be described below.
【0037】図1,図2の半導体パッケージを以下のよ
うにして作製した。まず、入出力端子4を以下のように
して作製した。アルミナ、シリカ、カルシア、マグネシ
ア等の原料粉末にバインダー、可塑剤、溶剤等を添加混
合しペースト状と成した。次に、このペーストをドクタ
ーブレード法によって多数個取り用のセラミックグリー
ンシートと成した。次に、平板部4cとなる多数個取り
用のセラミックグリーンシートに、メタライズ層配線層
4a形成用のMo−Mnを含む金属ペーストを印刷塗布
し、また凹部8となる部分を打ち抜き加工で形成すると
ともにその凹部8の内面にメタライズ配線層4a形成用
の上記金属ペーストを印刷塗布する。次に、このセラミ
ックグリーンシートを最上層として、凹部8を形成して
いないセラミックグリーシートがその下側にくるように
複数枚積層した。また、立壁部4bとなる多数個取り用
のセラミックグリーンシートを複数枚積層した。The semiconductor package shown in FIGS. 1 and 2 was manufactured as follows. First, the input / output terminal 4 was manufactured as follows. A binder, a plasticizer, a solvent, etc. were added to and mixed with a raw material powder of alumina, silica, calcia, magnesia, etc. to form a paste. Next, this paste was made into a ceramic green sheet for multi-pickup by the doctor blade method. Next, a metal paste containing Mo-Mn for forming the metallized layer wiring layer 4a is printed and applied to the ceramic green sheet for multi-cavity forming the flat plate portion 4c, and the portion to be the concave portion 8 is formed by punching. At the same time, the metal paste for forming the metallized wiring layer 4a is applied by printing onto the inner surface of the recess 8. Next, using this ceramic green sheet as the uppermost layer, a plurality of ceramic green sheets in which the recesses 8 were not formed were laminated so that they were on the lower side thereof. Further, a plurality of ceramic green sheets for multi-piece forming, which will be the standing wall portion 4b, were laminated.
【0038】さらに、平板部4cとなるセラミックグリ
ーンシートの積層体の上に立壁部4bとなるセラミック
グリーンシートの積層体を積層して入出力端子4となる
積層体を作製した。この積層体を還元雰囲気中約1600℃
の温度で焼成し、分割して個々の入出力端子4を作製し
た。Further, a laminated body of the ceramic green sheets to be the flat plate portion 4c and a laminated body of the ceramic green sheets to be the standing wall portion 4b were laminated on the laminated body to be the input / output terminals 4. Approximately 1600 ℃ in this reducing atmosphere in a reducing atmosphere
Each of the input / output terminals 4 was manufactured by firing at the temperature of 1.
【0039】次に、入出力端子4を枠体3の上面を切り
欠いて成る取付部3aに銀ロウ等のロウ材を介して嵌着
接合した。次に、シールリング5を枠体3の上面に銀ロ
ウ等のロウ材で接合し、入出力端子4を上方より狭持す
るようにした。そして、基体1の載置部1aに熱電冷却
素子11をロウ材で接着固定し、平板部4cのメタライズ
配線層4aの枠体3外側の部位に外部リード端子7の一
端部をロウ付けして、半導体パッケージを作製した。Next, the input / output terminal 4 was fitted and joined to the mounting portion 3a formed by notching the upper surface of the frame body 3 via a brazing material such as silver brazing. Next, the seal ring 5 was joined to the upper surface of the frame body 3 with a brazing material such as silver brazing so that the input / output terminal 4 was held from above. Then, the thermoelectric cooling element 11 is adhered and fixed to the mounting portion 1a of the base body 1 with a brazing material, and one end of the external lead terminal 7 is brazed to a portion of the flat plate portion 4c outside the frame body 3 of the metallized wiring layer 4a. , A semiconductor package was manufactured.
【0040】そして、幅0.5mm、厚さ0.2mm、長さ9
mmの外部リード端子7と入出力端子4の平板部4cの
メタライズ配線層4a上との接合強度(引っ張り強度)
を測定した。Width 0.5 mm, thickness 0.2 mm, length 9
mm external lead terminal 7 and the bonding strength (tensile strength) between the flattened portion 4c of the input / output terminal 4 and the metallized wiring layer 4a
Was measured.
【0041】このとき、半導体パッケージとして、上記
のように作製した種々のタイプのサンプルを用いた。即
ち、凹部8がないとともに薄肉部7aがない外部リード
端子27(図4)を用いたもの(従来例;サンプル1)、
凹部8が形成されているとともに外部リード端子7の薄
肉部7aの厚さが残部の厚さに対して0.5であるもの
(比較例;サンプル2)、凹部8が形成されているとと
もに外部リード端子7の薄肉部7aの厚さが残部の厚さ
に対して0.15であるもの(実施例;サンプル3)、凹部
8が形成されているとともに外部リード端子7の薄肉部
7aの厚さが残部の厚さに対して0.4であるもの(実施
例;サンプル4)、を用意した。また、サンプル2〜4
の凹部8の深さは各々0.1mmとした。At this time, various types of samples manufactured as described above were used as the semiconductor package. That is, the one using the external lead terminal 27 (FIG. 4) having no recess 8 and the thin portion 7a (conventional example: sample 1),
When the recess 8 is formed and the thickness of the thin portion 7a of the external lead terminal 7 is 0.5 with respect to the thickness of the remaining portion (Comparative Example; Sample 2), the recess 8 is formed and the external lead terminal is formed. 7 has a thickness of 0.15 with respect to the thickness of the remaining portion (Example; Sample 3), the recess 8 is formed and the thickness of the thin portion 7a of the external lead terminal 7 is equal to the remaining portion. What was 0.4 with respect to thickness (Example; sample 4) was prepared. Also, samples 2-4
The depth of each recess 8 was 0.1 mm.
【0042】なお、サンプル1〜4のいずれも、外部リ
ード端子7とメタライズ配線層4a上とを接合するロウ
材のボリューム(体積)は一定とし、また各サンプルは
5個ずつ用意した。In each of Samples 1 to 4, the volume (volume) of the brazing material that joins the external lead terminal 7 and the metallized wiring layer 4a was constant, and five samples were prepared for each sample.
【0043】接合強度の測定は、外部リード端子7のメ
タライズ配線層4aに接合されていない方の端部に、プ
ッシュプルゲージ(製品名「CPU GAUGE」、ア
イコーエンジニアリング株式会社製)の先端にある補助
リード端子を溶接し、プッシュプルゲージを10mm/分
の速度で、外部リード端子7をメタライズ配線層4aか
ら平板部4cの上面に垂直な方向に引っ張って引き剥が
すことによって行なった。引き剥がす際、外部リード端
子7は最初は弾性変形を起こすため接合強度値は上昇す
るが、メタライズ配線層4aから完全に引き剥がされる
と接合強度値の上昇は止まる。その値を接合強度とし
た。The bonding strength is measured at the tip of a push-pull gauge (product name "CPU GAUGE", manufactured by Aiko Engineering Co., Ltd.) at the end of the external lead terminal 7 which is not bonded to the metallized wiring layer 4a. The auxiliary lead terminal was welded, and the push-pull gauge was pulled at a speed of 10 mm / min to pull the external lead terminal 7 from the metallized wiring layer 4a in a direction perpendicular to the upper surface of the flat plate portion 4c and peeled off. At the time of peeling, the external lead terminal 7 initially undergoes elastic deformation to increase the bonding strength value, but when completely peeled off from the metallized wiring layer 4a, the bonding strength value stops increasing. The value was defined as the bonding strength.
【0044】本発明の実施例のサンプル3は約40N(ニ
ュートン)、実施例のサンプル4は約38Nとかなり大き
な接合強度であったのに対し、従来例のサンプル1は約
25N、比較例のサンプル2は約30Nと接合強度が小さか
った。The sample 3 of the example of the present invention had a considerably high bonding strength of about 40 N (Newton) and the sample 4 of the example had a bonding strength of about 38 N, whereas the sample 1 of the conventional example had a bonding strength of about 40 N (newton).
The bonding strength was 25 N, and the comparative sample 2 was about 30 N, which was low in bonding strength.
【0045】また、サンプル1〜4のそれぞれについ
て、外部リード端子7のメタライズ配線層4aに接合さ
れていた部分を顕微鏡で20倍程度で観察すると、サンプ
ル1の場合はロウ材溜まりが形成されていなかった。サ
ンプル2の場合はロウ材溜まり9が少ししか形成されて
いなかった。サンプル3,4の場合はサンプル2に比し
て大きなロウ材溜まり9が形成されていた。Further, in each of Samples 1 to 4, when the portion of the external lead terminal 7 joined to the metallized wiring layer 4a was observed under a microscope at a magnification of about 20 times, in the case of Sample 1, a brazing material pool was formed. There wasn't. In the case of sample 2, only a small amount of brazing material reservoir 9 was formed. In the case of samples 3 and 4, a brazing material reservoir 9 larger than that of sample 2 was formed.
【0046】なお、本発明は上記実施の形態および実施
例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しな
い範囲内であれば種々の変更を施すことは何等差し支え
ない。例えば、半導体素子10はIC,LSI等の半導体
集積回路素子であってもよく、その場合固定部材2およ
び光ファイバ12は不要である。The present invention is not limited to the above-described embodiments and examples, and various modifications may be made without departing from the scope of the present invention. For example, the semiconductor element 10 may be a semiconductor integrated circuit element such as an IC or LSI, in which case the fixing member 2 and the optical fiber 12 are unnecessary.
【0047】[0047]
【発明の効果】本発明の半導体素子収納用パッケージ
は、入出力端子は、平板部の上面でメタライズ配線層の
外部リード端子との接合部内に凹部が形成されており、
外部リード端子は、その下面の一端部の途中から平板部
の外側の部位にかけて厚さが残部の0.15〜0.4倍である
薄肉部が形成されているとともに一端部の下面の先端が
凹部に挿入されてロウ付けされていることにより、外部
リード端子とメタライズ配線層との接合部にロウ材溜ま
りが形成されるため、外部リード端子の接合強度が向上
する。また、外部リード端子の一端部付近に薄肉部を形
成することで外部リード端子が変形を吸収し易くなり、
外部電気回路基板に半導体装置を実装した際に外部リー
ド端子が上下動しても接合部に応力が加わりにくくな
り、外部リード端子の外れを防止できる。また、外部リ
ード端子の下面の先端を凹部に挿入してロウ付けするの
で、外部リード端子を入出力端子の平板部に取り付ける
際の位置決めが容易になる。In the package for accommodating a semiconductor element of the present invention, the input / output terminal has the concave portion formed on the upper surface of the flat plate portion in the joint portion of the metallized wiring layer with the external lead terminal,
The external lead terminal has a thin part whose thickness is 0.15 to 0.4 times the remaining part from the middle of one end of the lower surface to the part outside the flat plate part, and the tip of the lower surface of the one end is inserted into the recess. Since the brazing material is formed at the joint between the external lead terminal and the metallized wiring layer by brazing, the bonding strength of the external lead terminal is improved. Further, by forming a thin portion near one end of the external lead terminal, the external lead terminal easily absorbs the deformation,
Even if the external lead terminal moves up and down when the semiconductor device is mounted on the external electric circuit board, stress is less likely to be applied to the joint portion, and the external lead terminal can be prevented from coming off. Moreover, since the tip of the lower surface of the external lead terminal is inserted into the recess and brazed, the positioning when mounting the external lead terminal on the flat plate portion of the input / output terminal becomes easy.
【0048】本発明の半導体装置は、上記本発明の半導
体素子収納用パッケージと、載置部に載置されるととも
に入出力端子に電気的に接続された半導体素子と、枠体
の上面に接合された蓋体とを具備したことにより、上記
本発明の半導体素子収納用パッケージを用いた信頼性の
高いものとなる。In the semiconductor device of the present invention, the semiconductor element housing package of the present invention, the semiconductor element mounted on the mounting portion and electrically connected to the input / output terminals are bonded to the upper surface of the frame. With the above-mentioned lid body, the reliability of the package for accommodating a semiconductor element of the present invention can be increased.
【図1】本発明の半導体素子収納用パッケージについて
実施の形態の例を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing an example of an embodiment of a package for housing a semiconductor element of the present invention.
【図2】図1の半導体素子収納用パッケージにおける入
出力端子および外部リード端子の接合部の部分拡大断面
図である。FIG. 2 is a partially enlarged cross-sectional view of a joint portion of an input / output terminal and an external lead terminal in the semiconductor element housing package of FIG.
【図3】従来の半導体素子収納用パッケージの斜視図で
ある。FIG. 3 is a perspective view of a conventional semiconductor element housing package.
【図4】図3の半導体素子収納用パッケージにおける入
出力端子および外部リード端子の接合部の部分拡大断面
図である。FIG. 4 is a partial enlarged cross-sectional view of a joint portion of an input / output terminal and an external lead terminal in the semiconductor element housing package of FIG.
1:基体 1a:載置部 3:枠体 4:入出力端子 4a:メタライズ配線層 4b:立壁部 4c:平板部 7:外部リード端子 7a:薄肉部 8:凹部 10:半導体素子 11:熱電冷却素子 1: Base 1a: Placement part 3: frame 4: Input / output terminal 4a: Metallized wiring layer 4b: Standing wall 4c: Flat plate part 7: External lead terminal 7a: thin portion 8: Recess 10: Semiconductor element 11: Thermoelectric cooling element
Claims (2)
介して載置される載置部を有する基体と、該基体の前記
上側主面に前記載置部を囲繞するように取着され、側部
に貫通孔または切欠きから成る入出力端子の取付部が形
成された金属製の枠体と、上面の一辺側から対向する他
辺側にかけて形成された複数のメタライズ配線層を有す
る誘電体から成る平板部および該平板部の上面に前記複
数のメタライズ配線層を間に挟んで接合された誘電体か
ら成る立壁部から構成されるとともに前記取付部に嵌着
された入出力端子と、前記メタライズ配線層の前記枠体
外側の部位に一端部がロウ付けされた外部リード端子と
を具備した半導体素子収納用パッケージにおいて、前記
入出力端子は、前記平板部の上面で前記メタライズ配線
層の前記外部リード端子との接合部内に凹部が形成され
ており、前記外部リード端子は、その下面の前記一端部
の途中から前記平板部の外側の部位にかけて厚さが残部
の0.15〜0.4倍である薄肉部が形成されているとともに
前記一端部の下面の先端が前記凹部に挿入されてロウ付
けされていることを特徴とする半導体素子収納用パッケ
ージ。1. A base having a mounting portion on which a semiconductor element is mounted via a thermoelectric cooling element on an upper main surface, and a mounting portion attached to the upper main surface of the base so as to surround the mounting portion. , A dielectric having a metal frame body in which an input / output terminal mounting portion composed of a through hole or a cutout is formed on a side portion and a plurality of metallized wiring layers formed from one side of the upper surface to the opposite side. An input / output terminal which is composed of a flat plate portion made of a body and a standing wall portion made of a dielectric material which is joined to the upper surface of the flat plate portion with the plurality of metallized wiring layers interposed therebetween, and which is fitted to the mounting portion; In a package for storing a semiconductor element, which has an external lead terminal whose one end is brazed to a portion of the metallized wiring layer outside the frame, the input / output terminals are formed on the upper surface of the flat plate portion of the metallized wiring layer. External lead A recess is formed in the joint with the terminal, and the external lead terminal has a thin portion whose thickness is 0.15 to 0.4 times the remaining portion from the middle of the one end of the lower surface to the portion outside the flat plate portion. A package for accommodating a semiconductor element, wherein the package is formed and the tip of the lower surface of the one end is inserted into the recess and brazed.
ージと、前記載置部に載置されるとともに前記入出力端
子に電気的に接続された半導体素子と、前記枠体の上面
に接合された蓋体とを具備したことを特徴とする半導体
装置。2. The semiconductor element housing package according to claim 1, the semiconductor element mounted on the mounting portion and electrically connected to the input / output terminals, and bonded to the upper surface of the frame body. A semiconductor device having a lid.
Priority Applications (1)
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| JP2002048841A JP2003249584A (en) | 2002-02-25 | 2002-02-25 | Semiconductor element storage package and semiconductor device |
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Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010153452A (en) * | 2008-12-24 | 2010-07-08 | Toshiba Corp | High-frequency circuit device |
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-
2002
- 2002-02-25 JP JP2002048841A patent/JP2003249584A/en active Pending
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