JP2003291549A - Method for manufacturing aluminum supporting body for planography impression, aluminum supporting body for planography impression, and planography impression - Google Patents
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Landscapes
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- Materials For Photolithography (AREA)
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- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、平版印刷版用アル
ミニウム支持体の製造方法、平版印刷版用アルミニウム
支持体、および平版印刷原版に関し、特に、コンピュー
タの印刷データに基き、レーザ光により、印刷画像を直
接に書き込んで製版する所謂デジタル刷版として好適な
支持体が得られる平版印刷版用アルミニウム支持体の製
造方法、前記製造方法で得られた平版印刷版用アルミニ
ウム支持体、および前記平版印刷版用アルミニウム支持
体の粗面化面に製版層を形成した平版印刷原版に関す
る。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate, an aluminum support for a lithographic printing plate, and a lithographic printing original plate, and particularly to printing with a laser beam based on print data of a computer. Method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate, which is suitable as a so-called digital printing plate for directly writing an image to produce a plate, a lithographic printing plate aluminum support obtained by the production method, and the lithographic printing The present invention relates to a lithographic printing original plate in which a plate making layer is formed on a roughened surface of an aluminum support for a plate.
【0002】[0002]
【従来の技術】平版印刷版用アルミニウム支持体は、一
般には、アルミニウム板の少なくとも一方の面に、機械
的粗面化、酸又はアルカリ溶液中での化学的エッチン
グ、酸性水溶液中でのデスマット処理、電気化学的な粗
面化である電解粗面化処理、酸性水溶液中での陽極酸化
処理、親水化処理、および封孔処理などから選択される
1つ以上の処理を組み合わせて粗面化処理することによ
り製造される。2. Description of the Related Art An aluminum support for a lithographic printing plate generally has at least one surface of an aluminum plate mechanically roughened, chemically etched in an acid or alkaline solution, and desmutted in an acidic aqueous solution. , Electrolytic surface-roughening treatment that is electrochemical surface-roughening, anodizing treatment in an acidic aqueous solution, hydrophilic treatment, and pore-sealing treatment in combination with one or more treatments. It is manufactured by
【0003】とくに、前記電解粗面化処理は、均一な凹
凸を得やすいことから、平版印刷版用アルミニウム支持
体の粗面化方法として一般的に用いられてきた。前記電
解粗面化処理としては、とくに、塩酸または硝酸溶液中
での電解粗面化処理が主に行なわれてきた。In particular, the electrolytic surface-roughening treatment has been generally used as a surface-roughening method for an aluminum support for a lithographic printing plate because it is easy to obtain uniform unevenness. As the electrolytic graining treatment, electrolytic graining treatment in a hydrochloric acid or nitric acid solution has been mainly performed.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】赤外線レーザ用感光性
画像形成材料で形成された製版層を有するダイレクト製
版用の平版印刷原版、または従来のポジまたはネガ型フ
ィルムを用いる平版印刷原版に使用されるアルミニウム
支持体としては、印刷枚数(耐刷力)と汚れ性能とを高
いレベルで両立させたものが望まれていた。特に、オフ
セット印刷機に装着して印刷を行い、その後印刷を休止
して長時間放置したときに製版面が汚れ難いこと、およ
び損紙の枚数に大きく影響する払い枚数が少ないことが
強く要求されるようになってきた。しかしながら、従来
の平版印刷版用アルミニウム支持体は、これらの点で十
分ではなかった。It is used as a lithographic printing plate precursor for direct plate making having a plate making layer formed of a photosensitive image forming material for infrared laser, or a lithographic printing plate precursor using a conventional positive or negative type film. As the aluminum support, one having both the number of printed sheets (printing durability) and the stain performance at a high level has been desired. In particular, it is strongly required that the plate making surface does not easily get dirty when printing is performed by mounting it on an offset printing machine, and then printing is paused and left for a long time, and that the number of paid out sheets, which greatly affects the number of damaged sheets, is small. It started to come. However, conventional aluminum supports for lithographic printing plates have not been sufficient in these respects.
【0005】本発明は、耐刷性と汚れ性能とが高いレベ
ルで両立した平版印刷版用アルミニウム支持体を製造で
きる平版印刷版用アルミニウム支持体とその製造方法、
および前記平版印刷版用アルミニウム支持体において粗
面化処理された粗面化面に製版層を積層した平版印刷原
版を提供することを目的とする。The present invention provides an aluminum support for a lithographic printing plate capable of producing an aluminum support for a lithographic printing plate which has both high printing durability and stain resistance at a high level, and a method for producing the same.
Another object of the present invention is to provide a lithographic printing original plate in which a plate-making layer is laminated on the roughened surface that has been roughened on the aluminum support for lithographic printing plates.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、アルミニウム板の少なくとも一方の面に、(1)平均
粒径が1〜60μmの研磨材を懸濁してなる研磨材スラ
リーを用いてブラシにより機械的に粗面化する機械的粗
面化処理(a)、(2)水酸化ナトリウムを主体とするアルカ
リ溶液を用い、エッチング量が2〜15g/m2になる
ようにエッチングするアルカリエッチング処理(b)、(3)
酸性溶液中でデスマット処理するデスマット処理(c)、
(4)硝酸濃度が0.2〜2重量%の硝酸溶液中で、交流
を用いて電流密度5〜50A/dm2、アノード反応時
の電気量が30〜300C/dm2になるように電解粗
面化処理を行なう電解粗面化処理(d)、(5)水酸化ナトリ
ウムを主体とするアルカリ溶液を用い、エッチング量が
0.1〜6g/m2になるようにエッチングするアルカ
リエッチング処理(e)、(6)酸性溶液中でデスマット処理
するデスマット処理(f)、(7)塩酸濃度が0.1〜2重量
%の塩酸溶液中で、交流を用いて電流密度5〜50A/
dm2、アノード時の電気量が3〜150C/dm2にな
るように電解粗面化処理を行なう電解粗面化処理(g)、
(8)水酸化ナトリウムを主体とするアルカリ溶液を用
い、エッチング量が0.001〜1g/m2になるよう
にエッチングするアルカリエッチング処理(h)、(9)酸性
溶液中でデスマット処理するデスマット処理(I)、およ
び(10)硫酸濃度が5重量%以上の硫酸溶液中で、厚さが
0.2μm以上の陽極酸化被膜を形成する陽極酸化処理
(j)を順次施す平版印刷版用アルミニウム支持体の製造
方法であって、機械的粗面化処理(a)においては、使用
される研磨材スラリーの比重に基いて前記研磨材スラリ
ー中の研磨材の濃度を制御し、アルカリエッチング処理
(b)、(e)、(h)においては、使用されるアルカリ溶液の
比重と電導度とに基いて前記アルカリ溶液中の水酸化ナ
トリウムの濃度を制御し、電解粗面化処理(d)、(g)にお
いては、使用される硝酸溶液または塩酸溶液中の音速と
電導度とに基いて前記硝酸溶液中の硝酸濃度および前記
塩酸溶液中の塩酸濃度を制御し、陽極酸化処理(j)にお
いては、使用される硫酸溶液の比重と電導度とに基いて
前記硫酸溶液中の硫酸濃度を制御することを特徴とする
平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法に関する。The invention according to claim 1 uses an abrasive slurry in which (1) an abrasive having an average particle diameter of 1 to 60 μm is suspended on at least one surface of an aluminum plate. Mechanical roughening treatment with a brush to mechanically roughen the surface (a), (2) use an alkaline solution mainly composed of sodium hydroxide, and etch it to an etching amount of 2 to 15 g / m 2. Alkaline etching treatment (b), (3)
Desmut treatment (c) of desmut treatment in an acidic solution,
(4) Electrolysis in a nitric acid solution with a nitric acid concentration of 0.2 to 2 wt% so that the current density is 5 to 50 A / dm 2 and the amount of electricity during the anode reaction is 30 to 300 C / dm 2 using alternating current. Electrolytic surface-roughening treatment (d) for performing surface-roughening treatment, (5) Alkaline etching treatment for etching using an alkaline solution mainly composed of sodium hydroxide to an etching amount of 0.1 to 6 g / m 2. (e), (6) Desmutting treatment in acidic solution (f), (7) In a hydrochloric acid solution with a hydrochloric acid concentration of 0.1 to 2% by weight, a current density of 5 to 50 A /
dm 2 , electrolytic surface-roughening treatment (g) in which electrolytic surface-roughening treatment is performed so that the amount of electricity at the time of the anode is 3 to 150 C / dm 2 .
(8) Alkaline etching treatment using an alkaline solution mainly composed of sodium hydroxide so that the etching amount is 0.001 to 1 g / m 2 (h), (9) Desmutting treatment in an acidic solution Treatment (I) and (10) Anodizing treatment to form an anodized film having a thickness of 0.2 μm or more in a sulfuric acid solution having a sulfuric acid concentration of 5% by weight or more
A method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate, which is sequentially subjected to (j), wherein in the mechanical roughening treatment (a), the polishing in the abrasive slurry is carried out based on the specific gravity of the abrasive slurry used. Alkaline etching treatment by controlling the material concentration
(b), (e), in (h), controlling the concentration of sodium hydroxide in the alkaline solution based on the specific gravity and conductivity of the alkaline solution used, electrolytic surface roughening treatment (d) , (G), controlling the nitric acid concentration in the nitric acid solution and the hydrochloric acid concentration in the hydrochloric acid solution based on the speed of sound and conductivity in the nitric acid solution or hydrochloric acid solution used, and anodizing treatment (j) Relates to a method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate, which comprises controlling the sulfuric acid concentration in the sulfuric acid solution based on the specific gravity and electric conductivity of the sulfuric acid solution used.
【0007】前記平版印刷版用アルミニウム支持体の粗
面化面には、機械的粗面化処理(a)により、大きさが1
0〜20μm程度の凹凸である大波が主に形成され、電
解粗面化処理(d)において硝酸溶液中で粗面化処理する
ことにより、大きさが0.8〜6μm程度の凹凸である
ハニカムピットが主に形成される。そして、アルカリエ
ッチング処理(e)により、粗面化面を滑らかにしつつ、
前記ハニカムピットの大きさを6〜8μm程度にする。
さらに、電解粗面化処理(g)において塩酸溶液中で電解
粗面化処理することにより、ファセット状のピットであ
って直径が0.02〜0.7μm程度の微小波が主に形
成されると考えられる。The roughened surface of the aluminum support for a lithographic printing plate has a size of 1 by the mechanical roughening treatment (a).
A large wave having unevenness of about 0 to 20 μm is mainly formed, and the electrolytic roughening treatment (d) is roughening treatment in a nitric acid solution to obtain a honeycomb having unevenness of about 0.8 to 6 μm. Pits are mainly formed. Then, by the alkali etching treatment (e), while smoothing the roughened surface,
The size of the honeycomb pit is set to about 6 to 8 μm.
Further, in the electrolytic surface-roughening treatment (g), the electrolytic surface-roughening treatment is performed in a hydrochloric acid solution, whereby a micro wave having facet-like pits and having a diameter of about 0.02 to 0.7 μm is mainly formed. it is conceivable that.
【0008】更に、前記製造方法においては、機械的粗
面化処理(a)に使用する研磨材スラリー中の研磨材濃
度、アルカリエッチング処理(b)、アルカリエッチング
処理(e)、およびアルカリエッチング処理(h)に使用する
アルカリ溶液中の水酸化ナトリウムの濃度、電解粗面化
処理(d)および電解粗面化処理(g)に使用する硝酸溶液お
よび塩酸溶液中の硝酸濃度および塩酸濃度、陽極酸化処
理(j)に使用する硫酸溶液中の硫酸濃度を高精度で制御
することにより、前記平版印刷版用アルミニウム支持体
の粗面化面には、前記大波に前記ハニカムピットと前記
微微小波とが重畳された構造の粗面化面が安定して形成
され、また、前記粗面化面上に好適なポア径分布を有す
る陽極酸化被膜が形成される。Further, in the above manufacturing method, the concentration of the abrasive in the abrasive slurry used for the mechanical surface roughening treatment (a), the alkali etching treatment (b), the alkali etching treatment (e), and the alkali etching treatment. Concentration of sodium hydroxide in alkaline solution used in (h), electrolytic surface roughening treatment (d) and electrolytic surface roughening treatment (g) in nitric acid solution and hydrochloric acid solution nitric acid concentration and hydrochloric acid concentration, anode By controlling the sulfuric acid concentration in the sulfuric acid solution used for the oxidation treatment (j) with high accuracy, the roughened surface of the lithographic printing plate aluminum support has the large wave, the honeycomb pits, and the fine wave. A roughened surface having a structure in which is overlapped is stably formed, and an anodized film having a suitable pore size distribution is formed on the roughened surface.
【0009】前記製造方法は、材料として使用できるア
ルミニウム板の組成幅が広いから、前記圧延アルミニウ
ム板や再生アルミニウム板のように厳密な組成管理が成
されていなかったり不純物が多かったりするアルミニウ
ム板からも、外観上の不良がなく、耐刷性に優れるだけ
でなく、汚れ性能にも優れ、印刷紙面に汚れを発生させ
ることのない平版印刷原版が得られる。In the above manufacturing method, since the composition width of the aluminum plate that can be used as a material is wide, an aluminum plate that does not have strict composition control or contains many impurities, such as the rolled aluminum plate and the recycled aluminum plate, is used. In addition, it is possible to obtain a lithographic printing original plate that has no poor appearance and is excellent in printing durability as well as excellent in stain performance and does not cause stains on the printing paper surface.
【0010】請求項2に記載の発明は、機械的粗面化処
理(a)、アルカリエッチング処理(b)、(e)、(h)、電解粗
面化処理(d)、(g)、および陽極酸化処理(j)の何れにお
いても、研磨材スラリーの比重、アルカリ溶液の比重と
電導度、硝酸溶液または塩酸溶液中の音速と電導度、お
よび硫酸溶液の比重と電導度のそれぞれを変動幅が±1
0%以内になるように制御する平版印刷版用アルミニウ
ム支持体の製造方法に関する。According to the second aspect of the present invention, mechanical surface roughening treatment (a), alkali etching treatment (b), (e), (h), electrolytic surface roughening treatment (d), (g), The specific gravity of the abrasive slurry, the specific gravity and conductivity of an alkaline solution, the speed of sound and conductivity in a nitric acid solution or a hydrochloric acid solution, and the specific gravity and conductivity of a sulfuric acid solution are varied in both Width is ± 1
The present invention relates to a method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate, which is controlled to be within 0%.
【0011】前記平版印刷版用アルミニウム支持体の製
造方法においては、機械的粗面化処理(a)において使用
される研磨材スラリー中の研磨材濃度、アルカリエッチ
ング処理(b)、(e)、(h)で使用されるアルカリ溶液中の
水酸化ナトリウム濃度、電解粗面化処理(d)、(g)で使用
される塩酸溶液中の塩酸濃度と硝酸溶液中の硝酸濃度、
および陽極酸化処理(j)において使用される硫酸溶液中
の硫酸濃度が安定に制御される。In the method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate, the concentration of the abrasive in the abrasive slurry used in the mechanical surface roughening treatment (a), alkali etching treatments (b), (e), Sodium hydroxide concentration in the alkaline solution used in (h), electrolytic surface roughening treatment (d), hydrochloric acid concentration in the hydrochloric acid solution used in (g) and nitric acid concentration in the nitric acid solution,
And the sulfuric acid concentration in the sulfuric acid solution used in the anodizing treatment (j) is stably controlled.
【0012】したがって、前記製造方法で得られる平版
印刷版用アルミニウム支持体および前記平版印刷版用ア
ルミニウム支持体の粗面化面に製版層を形成した平版印
刷版は品質のバラツキが少ない。Therefore, the quality of the aluminum support for lithographic printing plates obtained by the above-mentioned manufacturing method and the lithographic printing plate having a plate-making layer formed on the roughened surface of the aluminum support for lithographic printing plates is small.
【0013】請求項3に記載の発明は、請求項1または
2に記載の平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法
により製造されたことを特徴とする平版印刷版用アルミ
ニウム支持体に関する。An invention according to claim 3 relates to an aluminum support for a lithographic printing plate, which is manufactured by the method for manufacturing an aluminum support for a lithographic printing plate according to claim 1 or 2.
【0014】前記平版印刷版用アルミニウム支持体は、
大波とハニカムピットと小波とがバランス良く形成され
ているから、陽極酸化皮膜と製版層との間の密着性に優
れ、また、耐汚れ性と保水性とに優れているから、現像
後において、非画像部に製版層が残り難く、画質に優れ
た印刷物が得られる。The aluminum support for a lithographic printing plate comprises:
Since the large waves, the honeycomb pits, and the small waves are formed in a good balance, the adhesion between the anodized film and the plate-making layer is excellent, and since the stain resistance and the water retention are excellent, after development, The plate-making layer is unlikely to remain in the non-image area, and a printed matter having excellent image quality can be obtained.
【0015】請求項4に記載の発明は、請求項3に記載
の平版印刷版用アルミニウム支持体における粗面化面に
製版層を形成してなることを特徴とする平版印刷原版に
関する。The invention according to claim 4 relates to a lithographic printing plate precursor comprising a plate-making layer formed on the roughened surface of the aluminum support for lithographic printing plate according to claim 3.
【0016】前記平版印刷版を露光し、製版した印刷版
は、耐刷性に優れるだけでなく、汚れ性能にも優れ、印
刷紙面に汚れを発生させることのない点で好ましい。The printing plate produced by exposing the lithographic printing plate to light is preferable not only because it is excellent in printing durability but also because it is excellent in stain performance and does not cause stains on the printing paper surface.
【0017】[0017]
【発明の実施の形態】1.アルミニウム板
本発明に使用されるアルミニウム板は、純アルミニウム
板、アルミニウムを主成分として各種微量元素を含むア
ルミニウム合金板、およびアルミニウムがラミネートま
たは蒸着されたプラスチックフィルムの中から選ばれ
る。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION 1. Aluminum Plate The aluminum plate used in the present invention is selected from a pure aluminum plate, an aluminum alloy plate containing aluminum as a main component and various trace elements, and a plastic film laminated or vapor-deposited with aluminum.
【0018】前記アルミニウム板の形態は、帯状に連続
するアルミニウムウェブが一般的であるが、少量多品種
生産を行う場合には、予め所定の寸法に裁断されたシー
ト状のアルミニウム板も使用できる。The form of the aluminum plate is generally an aluminum web continuous in the form of a strip, but in the case of producing a large quantity of a small amount of products, a sheet-shaped aluminum plate preliminarily cut into a predetermined size can also be used.
【0019】前記アルミニウム合金板の含有する微量元
素としては、たとえば珪素、鉄、ニッケル、マンガン、
銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、チタン、
およびバナジウムなどがある。The trace elements contained in the aluminum alloy plate are, for example, silicon, iron, nickel, manganese,
Copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, titanium,
And vanadium.
【0020】珪素が多く含まれると、粗面化処理後に陽
極酸化処理を施したときに、陽極酸化皮膜の欠陥とな
り、欠陥部分の保水性が劣り、印刷時に紙が汚れやすく
なる。また、銅が多く含まれると、ハニカムピットが生
成しない部分の面積が多くなり外観故障の原因になる。
したがって、硝酸溶液および塩酸溶液中での電気化学的
粗面化処理において均一なハニカムピットを生成させる
点からは、前記微量元素の量は、0.001重量%〜
1.5重量%の範囲が好ましい。When a large amount of silicon is contained, when anodizing treatment is performed after the surface roughening treatment, the anodized film becomes a defect, the water-holding property of the defective portion is deteriorated, and the paper is easily soiled during printing. Further, when a large amount of copper is contained, the area of the portion where the honeycomb pits are not formed is large, which causes a failure in appearance.
Therefore, from the viewpoint of producing uniform honeycomb pits in the electrochemical graining treatment in the nitric acid solution and the hydrochloric acid solution, the amount of the trace elements is 0.001% by weight to
A range of 1.5% by weight is preferred.
【0021】前記アルミニウム板に使用される純アルミ
ニウムおよびアルミニウム合金としては、通常は、アル
ミニウムハンドブック第4版(1990、軽金属協会)
に記載の、例えばJIS A 1050材、JIS A
3103材、JIS A3005材、JIS A 1
100材、JIS A 3004材、および引っ張り強
度を増す目的でこれらに5重量%以下のマグネシウムを
添加した合金など、公知のアルミニウム材を用いること
ができる。As the pure aluminum and aluminum alloy used for the aluminum plate, the aluminum handbook, 4th edition (1990, Japan Light Metal Association) is usually used.
, JIS A 1050 material, JIS A
3103 material, JIS A3005 material, JIS A 1
Known aluminum materials such as 100 materials, JIS A 3004 materials, and alloys in which 5% by weight or less of magnesium is added to these materials for the purpose of increasing tensile strength can be used.
【0022】また、本発明においては、再生アルミニウ
ム板も使用できる。In the present invention, recycled aluminum plate can be used.
【0023】1−1 アルミニウム合金の説明
本発明でアルミニウム板の材料として使用できるアルミ
ニウム合金としては、具体的には以下のものが挙げられ
る。1-1 Description of Aluminum Alloy As the aluminum alloy which can be used as the material of the aluminum plate in the present invention, the followings are specifically mentioned.
【0024】(1)AL1
必須成分として、FeをO.2〜1重量%、Siを0.
05〜0.20重量%、Cuを0.006〜0.40重
量%含有し、任意成分としてMgを0.001〜0.0
3重要%、Tiを0.001〜0.04重量%含み、残
部がAlと不可避不純物とからなるアルミニウム合金で
ある。(1) AL1 Fe as an essential component is O. 2-1% by weight, and Si of 0.
0.05 to 0.20% by weight, 0.006 to 0.40% by weight of Cu, and 0.001 to 0.0% of Mg as an optional component.
An aluminum alloy containing 3% by weight, 0.001 to 0.04% by weight of Ti, and the balance being Al and inevitable impurities.
【0025】前記アルミニウム合金は、JlS A 1
050材に分類され、特に、電気化学的粗面化処理にお
けるピット径と深さとを大きくできるから、汚れ性と耐
刷性のバランスを重視した平版印刷版用支持体に適して
いる。The aluminum alloy is JlS A 1
It is classified into 050 materials, and in particular, it can be increased in pit diameter and depth in the electrochemical roughening treatment, and is therefore suitable as a support for a lithographic printing plate that places importance on the balance between stain resistance and printing durability.
【0026】(2)AL2
必須成分としてFeを0.1〜0.5重慮%、Siを
0.02−0.10重量%を含有し、任意成分として、
Cuを0.005重量%以下、Mgを0.001〜0.
03重量%、Tiを0.001−0.04重量%、Ni
を0.002〜0.005重量%、Vを0.01〜O、0
5重量%含有し、残部がAlと不可避不純物とからなる
アルミニウム合金である。(2) AL2 0.1 to 0.5% by weight of Fe and 0.02 to 0.10% by weight of Si are contained as essential components, and as optional components,
Cu is 0.005% by weight or less, and Mg is 0.001 to 0.
03 wt%, Ti 0.001-0.04 wt%, Ni
0.002 to 0.005% by weight, V 0.01 to 0, 0
It is an aluminum alloy containing 5% by weight and the balance of Al and inevitable impurities.
【0027】前記アルミニウム合金は、JlS A 1
050材〜J1S A 1070材に分類される合金で
あって、特に、電気化学的粗面化処理におけるピット径
を小さくすることにより、汚れ性を向上させることがで
き、非シリケート現像と組み合わせることにより、汚れ
性と耐刷性のバランスを両立した平版印刷版版を作製す
ることができる。The aluminum alloy is JlS A 1
It is an alloy classified into 050 material to J1S A 1070 material, and in particular, by reducing the pit diameter in the electrochemical graining treatment, the stain resistance can be improved, and by combining with non-silicate development, It is possible to produce a lithographic printing plate having a balance between stain resistance and printing durability.
【0028】(3)AL3
アルミニウムの含有量が95−99.4重量%であり、
次の元素のうち、5種類以上を以下の範囲で含むアルミ
ニウム合金板である。(3) The content of AL3 aluminum is 95-99.4% by weight,
It is an aluminum alloy plate containing 5 or more of the following elements in the following ranges.
【0029】Fe:0.3〜1重量%
Si:0.15〜1重量%
Cu:0.1〜1重量%
Mg:0.1〜1.5重量%
Mn:0.1〜1.5重量%
Zn:0.1〜0.5重量%
Cr:0.01〜0.1重量%
Ti:0.03〜0.5重量%
前記アルミニウム合金は、スクラップ材を主原料として
使用できるから、原料コストが安価である。また、前記
アルミニウム合金は、アルミニウム合金AL1およびA
L2に比ベて機械強度が優れる。したがって、アルミニ
ウム合金AL3を使用することにより、原材料コストが
安く、かつ機械強度の優れた高強度型の平版印刷版原版
が製造できる。Fe: 0.3 to 1% by weight Si: 0.15 to 1% by weight Cu: 0.1 to 1% by weight Mg: 0.1 to 1.5% by weight Mn: 0.1 to 1.5% % By weight Zn: 0.1-0.5% by weight Cr: 0.01-0.1% by weight Ti: 0.03-0.5% by weight Since the aluminum alloy can use a scrap material as a main raw material, Raw material cost is low. Further, the aluminum alloys are aluminum alloys AL1 and A
Excellent mechanical strength compared to L2. Therefore, by using the aluminum alloy AL3, it is possible to manufacture a high-strength lithographic printing plate precursor that is low in raw material cost and excellent in mechanical strength.
【0030】(4)AL4
必須成分として、Mnを0.1−1.5重量%、および
/またはMgを0.1〜1.5重量%含有するアルミニ
ウム合金である。(4) AL4 An aluminum alloy containing 0.1 to 1.5% by weight of Mn and / or 0.1 to 1.5% by weight of Mg as an essential component.
【0031】前記アルミニウム合金は、機械強度が優れ
ると共に、AL3に比べて、粗面化処理の安定性に更に
優れ、より均一な粗面化面が優れると共に、AL1より
も更に深いピットを生成させやすい。したがって、アル
ミニウム合金AL4を用いることにより、汚れ性と耐刷
生とのバランスが取れ、特に耐刷性に優れ、言い換えれ
ば印刷性能が高く、しかも機械強度の優れた高強度型の
平版印刷原版が得られる。The aluminum alloy is excellent in mechanical strength, more stable in roughening treatment than AL3, more uniform in roughening surface and more deep in pits than AL1. Cheap. Therefore, by using the aluminum alloy AL4, the stain resistance and the printing durability are well balanced, the printing durability is particularly excellent, in other words, the printing performance is high, and the high-strength type lithographic printing original plate having excellent mechanical strength is obtained. can get.
【0032】1−2 微量元素についての説明
前記アルミニウム合金に含まれる微量元素については、
以下の通りである。1-2 Description of Trace Elements Regarding the trace elements contained in the aluminum alloy,
It is as follows.
【0033】Fe:Feは、新地金においても0.1
〜0.2重量%前後含有される元素であり、アルミニウ
ム中に固溶する量は少なく、殆どが金属間化合物として
残存する。Fe: Fe is 0.1 even in new metal.
It is an element contained in about 0.2 wt%, and the amount of solid solution in aluminum is small, and most of it remains as an intermetallic compound.
【0034】Feは、機械強度を高める作用があるが、
1.0重量%より多いと圧延途中に割れが発生しやすく
なる。一方、Feの含有量を0.1重量%以下にするこ
とは現実的ではない。Fe has the effect of increasing the mechanical strength,
If it exceeds 1.0% by weight, cracks are likely to occur during rolling. On the other hand, it is not realistic to set the Fe content to 0.1% by weight or less.
【0035】前記金属間化合物としては、A13Fe、
A16Fe、AlFeSi系化合物、およびAlFeS
iMn系化含物などが代表的である。As the intermetallic compound, A1 3 Fe,
A1 6 Fe, AlFeSi-based compounds, and AlFeS
A typical example is an iMn-based inclusion.
【0036】Si:Siは、新地金においても0.0
3〜0.1重量%前麦含有される元素で、アルミニウム
製品のスクラップの中にも多く含まれ、アルミニウム中
に固溶した状態、金属間化合物、および単独の析出物と
して存在する。また、平版印刷版用支持体の製造過程で
加熱されると、固溶していたSiが単体Siとして析出
することがある。Si: Si is 0.0 even in new metal.
It is an element contained in an amount of 3 to 0.1% by weight before barley and is also contained in a large amount in scraps of aluminum products and exists as a solid solution in aluminum, an intermetallic compound, and a single precipitate. In addition, when heated in the process of manufacturing the lithographic printing plate support, solid solution Si may be precipitated as simple substance Si.
【0037】単体Siが過剰の場合、過酷インキ汚れが
低下することが知られている。また、電気化学的粗面化
性に影響する。It is known that when the amount of simple substance Si is excessive, severe ink stain is reduced. It also affects the electrochemical graining properties.
【0038】前記金属間化合物としては、AlFeSi
系化合物、AlFeSiMn系化合物、およびMg2S
iなどが代表的である。As the intermetallic compound, AlFeSi
Compounds, AlFeSiMn compounds, and Mg 2 S
i and the like are typical.
【0039】Cu:Cuは、新地金の中にも極微量含
まれる。また、JlS A 2000系およびJIS
A 4000系アルミニウム材のスクラップに多く含ま
れる元素であり、比較的アルミニウムに中に固溶しやす
い。Cuは、電気化学的粗面化性に大きな影響を及ぼす
元素である。Cu: Cu is contained in a very small amount even in new metal. Also, JLS A 2000 system and JIS
It is an element contained in a large amount of scrap of A 4000 series aluminum material, and is relatively easily solid-dissolved in aluminum. Cu is an element that has a great influence on the electrochemical roughening property.
【0040】Mg:Mgは、新馳金の中には極微量含
まれる。また、JlS A 2000系、3000系、
5000系、および7000系材料のスクラップに多く
含まれる元素である。特に缶エンド材に多く含まれるた
め、スクラツプ材に含まれる主要な不純物金属の1つで
ある。Mg: A very small amount of Mg is contained in the new gold. Also, JLS A 2000 series, 3000 series,
It is an element that is mostly contained in scraps of 5000 series and 7000 series materials. It is one of the main impurity metals contained in scrap materials, especially since it is contained in large amounts in can end materials.
【0041】Mgを添加する事で、耐熱軟化性、機械強
度を向上できる。比較的アルミニウム中に固溶しやす
く、Siと金属間化合物を形成することも知られてい
る。By adding Mg, heat softening resistance and mechanical strength can be improved. It is also known that it forms a solid solution in aluminum relatively easily and forms an intermetallic compound with Si.
【0042】Mn:Mnは、新地金の中には極微量含
まれるが、JlS A 3000系材料のスクラップに
多く含まれる元素である。特に缶ボディ材に多く含まれ
るため、スクラップ材に含まれる主要な不純物金属の1
つである。Mn: Mn is an element contained in the scrap of JlS A 3000 series material, although it is contained in a very small amount in the new metal. Since it is especially contained in can body materials, it is one of the major impurity metals contained in scrap materials.
Is one.
【0043】Mnも比較的アルミニウム中に固溶しやす
く、Al、Fe、Si等と金属間化合物を形成する。M
nは、アルミニウム合金の機械強度を向上させるが、電
気化学的粗面化性に影響を及ぼす。Mn is relatively easy to form a solid solution in aluminum and forms an intermetallic compound with Al, Fe, Si and the like. M
n improves the mechanical strength of the aluminum alloy, but affects the electrochemical roughening property.
【0044】Zn:Znは、新地金の中には極微量含
まれるが、JlS A 7000系材料のスクラップに
多く含まれる元素である。比較的アルミニウム中に固溶
しやすい。電気化学滴粗面化性に影響を及ぼす。Zn: Zn is an element contained in the scrap of JlS A 7000 series material, although it is contained in a very small amount in new metal. Relatively soluble in aluminum. Affects electrochemical drop roughening.
【0045】Cr:Crは、新地金の中にも極微量含
まれることがあり、JlS A 5000系、6000
系、および7000系材料のスクラップに少量含まれる
こともある。Cr: Cr may be contained in a very small amount even in new ingot, and JlS A 5000 series, 6000
It may be contained in a small amount in the scraps of the system and 7000 series materials.
【0046】Ti:Tiは、結晶微細化剤として通常
0.01〜0.04重量%添加される元素である。主と
して、Alとの金属間化合物、あるいはTiB2の形で
添加される。JlS A 5000系、6000系、お
よび7000系材料のスクラップには不純物金属として
比較的多めに含まれる。過剰に含まれると、電気化学的
粗面化性に影響することがある。Ti: Ti is an element usually added as a grain refining agent in an amount of 0.01 to 0.04% by weight. Mainly, it is added in the form of an intermetallic compound with Al or TiB 2 . The scraps of JLSA 5000 series, 6000 series, and 7000 series materials contain a relatively large amount of impurity metals. When contained in excess, it may affect the electrochemical roughening property.
【0047】1−3 金属間化合物の説明
アルミ原材料に含まれる元素やアルミ溶湯に添加された
元素は、鋳造工程で凝固する際、一部はアルミ中にとけ
込み(固溶)、残りは金属間化合物、または単独の晶出物
・析出物として存在する。前記元素が金属間化含物また
は単独の晶出物・析出物として残る割合は、凝固速度の
影響を大きく受ける。たとえば、前記元素は、ローラ式
連続鋳造を採った場合のように急速疑固する場合には大
部分が固溶し、DC鋳造法のように疑固速度が遅い鋳造
法を採った場合には、比較的金属間化合物または単独の
晶出物・析出物として残り易い。1-3 Description of Intermetallic Compounds Elements contained in aluminum raw materials and elements added to molten aluminum are partially melted (solid solution) in aluminum when solidified in the casting process, and the rest are metal. It exists as an intermetallic compound or a single crystallized substance / precipitate. The proportion of the element remaining as an intermetallic compound or a single crystallized substance / precipitate is greatly affected by the solidification rate. For example, most of the above elements are solid-solved in the case of rapid suspicion as in the case of roller-type continuous casting, and in the case of a casting method with a slow suspicion rate as in the DC casting method. , Relatively tends to remain as an intermetallic compound or a single crystallized substance / precipitate.
【0048】その後、均熱、焼鈍などの熱処理工程や熱
間圧延工程中に、前記元素の多くは、アルミニウムに再
固溶したり、より安定な金属間化合物に変化したりする
が、厚さ0.1−0.7mm程度の平版印刷版用のアル
ミニウム板になった時点で、前記アルミニウム板の表面
や内部に、金属間化合物または単独の晶出物・析出物と
して存在することが多い。たとえば、DC鋳造法で前記
アルミニウム板を製造した場合においてアルミニウム合
金として前記AL1合金を使用した場合には、得られる
アルミニウム板には、500−20000個/mm2程
度の密度で、金属間化含物または単独の晶出物および析
出物が存在する。一方、アルミニウム合金として前記A
L2合金を使用した場合には、得られるアルミニウム板
には、100−10000個/mm2程度の密度で金属
間化合物または単独の晶出物・析出物が存在する。AL
3合金またはAL4合金を使用した場合には、得られる
アルミニウム板には、5000−50000個/mm2
の範囲の金属間化合物または単独の晶出物・析出物が存
在する。After that, during the heat treatment process such as soaking and annealing, and the hot rolling process, many of the above-mentioned elements re-dissolve in aluminum or change into a more stable intermetallic compound. When it becomes an aluminum plate for a lithographic printing plate of about 0.1 to 0.7 mm, it often exists as an intermetallic compound or a single crystallized substance / precipitate on the surface or inside of the aluminum plate. For example, when the AL1 alloy is used as the aluminum alloy in the case where the aluminum plate is manufactured by the DC casting method, the obtained aluminum plate has a density of about 500-20000 pieces / mm 2 and contains an intermetallic compound. There are crystals or single crystals and precipitates. On the other hand, the aluminum alloy
When the L2 alloy is used, the obtained aluminum plate contains intermetallic compounds or single crystallized substances / precipitates at a density of about 100-10000 / mm 2 . AL
When 3 alloy or AL4 alloy is used, the obtained aluminum plate has 5000-50000 pieces / mm 2
There are intermetallic compounds or single crystallized substances / precipitates in the range of.
【0049】1−4 アルミニウム板の製造方法
前記アルミニウム板は、DC鋳造法、連続鋳造法、DC
鋳造法から中間焼鈍処理および均熱処理の何れかまたは
両方を省略した製造方法、および連続鋳造法から中間焼
鈍処理を省略した製造方法の何れかにより製造できる。1-4 Method of Manufacturing Aluminum Plate The aluminum plate is manufactured by DC casting method, continuous casting method, DC casting method.
It can be produced by either a casting method that omits the intermediate annealing treatment and / or the soaking treatment, or a continuous casting method that omits the intermediate annealing treatment.
【0050】2.粗面化処理
本発明の平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法に
おいては、本明細書の請求項1に記載のように、前記ア
ルミニウム板に、
(1) 機械的粗面化処理(a)
(2) アルカリエッチング処理(b)
(3) デスマット処理(c)
(4) 電解粗面化処理(d)
(5) アルカリエッチング処理(e)
(6) デスマット処理(f)
(7) 電解粗面化処理(g)
(8) アルカリエッチング処理(h)および
(9) デスマット処理(i)からなる粗面化処理を施し、次
いで
(10)陽極酸化処理(j)
を施す。2. Roughening treatment In the method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate according to the present invention, as described in claim 1 of the present specification, (1) mechanical roughening treatment (a) is applied to the aluminum plate. (2) Alkaline etching treatment (b) (3) Desmut treatment (c) (4) Electrolytic surface roughening treatment (d) (5) Alkaline etching treatment (e) (6) Desmut treatment (f) (7) Electrolytic roughening treatment Surface-roughening treatment (g) Roughening treatment consisting of (8) alkali etching treatment (h) and (9) desmutting treatment (i) is performed, and then (10) anodizing treatment (j).
【0051】以下、前記機械的粗面化処理〜陽極酸化処
理のそれぞれについて説明する。Each of the mechanical surface roughening treatment to the anodic oxidation treatment will be described below.
【0052】2−1 機械的粗面化処理(a)
機械的粗面化処理(a)においては、前記アルミニウム板
の少なくとも一方の面に、ローラ状ブラシで擦って粗面
化するブラシグレイニングを施す。2-1 Mechanical Roughening Treatment (a) In the mechanical roughening treatment (a), at least one surface of the aluminum plate is rubbed with a roller brush to roughen the surface. Give.
【0053】前記機械的粗面化処理は、処理後の粗面化
面の中心線平均粗さ(Ra)は0.3〜0.6μmの範
囲になるように行うことが好ましい。The mechanical surface roughening treatment is preferably performed so that the center line average roughness (Ra) of the roughened surface after the treatment is in the range of 0.3 to 0.6 μm.
【0054】以下、ブラシグレイニングについて説明す
る。The brush graining will be described below.
【0055】前記ブラシグレイニングを行なうに先立
ち、必要に応じて、前記アルミニウム板の表面に付着し
た圧延油を除去するための脱脂処理を行うことができ
る。前記脱脂処理としては、例えば界面活性剤による処
理、有機溶剤による処理、およびアルカリ性水溶液によ
る処理などを行うことができる。但し、圧延油の付着が
少い場合は、前記脱脂処理を省略することができる。Prior to the brush graining, if necessary, a degreasing treatment for removing rolling oil adhering to the surface of the aluminum plate can be performed. Examples of the degreasing treatment include treatment with a surfactant, treatment with an organic solvent, and treatment with an alkaline aqueous solution. However, the degreasing treatment can be omitted when the amount of rolling oil adhered is small.
【0056】引き続いて、研磨材スラリーを前記アルミ
ニウム板表面に供給しながら、1種類、または毛径が異
なる2種類以上のローラ状ブラシを用いてブラシグレイ
ニングを行う。Subsequently, while supplying the abrasive slurry to the surface of the aluminum plate, brush graining is performed using one type or two or more types of roller brushes having different bristles.
【0057】前記ブラシグレイニングは、特開平6−1
35175、特公昭50−40047に詳しく記載され
ているように、粗面化しようとするアルミニウム板を挟
んで上方にローラ状ブラシを配置して下方に支持ローラ
を配置し、前記アルミニウム板を一定速度で搬送しつ
つ、前記ローラ状ブラシと前記アルミニウム板との間に
研磨材スラリーを供給しながら前記ローラ状ブラシを回
転させることにより、行うことができる。The brush graining is described in Japanese Patent Laid-Open No. 6-1.
35175, Japanese Examined Patent Publication No. 40047/1975, a roller-shaped brush is arranged on the upper side of an aluminum plate to be roughened and a supporting roller is arranged on the lower side, and the aluminum plate is moved at a constant speed. It can be carried out by rotating the roller-shaped brush while feeding the abrasive slurry between the roller-shaped brush and the aluminum plate while being conveyed.
【0058】前記支持ローラは、前記ローラ状ブラシ1
本につき、2本づつ配置することができる。前記ローラ
状ブラシの下方に位置する1対の支持ローラは、外面の
最短距離がローラ状ブラシの外径より小さくなるように
配置することが好ましい。The support roller is the roller-shaped brush 1.
Two can be arranged for each book. It is preferable that the pair of support rollers located below the roller brush be arranged such that the shortest distance of the outer surface is smaller than the outer diameter of the roller brush.
【0059】前記ブラシグレイニング時においては、前
記アルミニウム板を、前記ローラ状ブラシにより、前記
2本の支持ローラの間に押し入れるように加圧すること
が好ましい。At the time of brush graining, it is preferable that the aluminum plate is pressed by the roller brush so as to be pressed between the two support rollers.
【0060】本発明に用いられるローラ状ブラシは、ナ
イロン、ポリプロピレン、動物毛、あるいはスチールワ
イヤなどから形成したブラシ毛を均一な毛長及び植毛分
布で円筒状の胴の側面全体に植設したもの、前記胴の表
面全体に多数の小穴を開け、前記ブラシ毛の束であるブ
ラシ毛束を前記小穴のそれぞれに植設したもの、および
チャンネルローラ型のものなどが好ましく用いられる。The roller-shaped brush used in the present invention has brush bristles formed of nylon, polypropylene, animal hair, steel wire or the like, which are planted on the entire side surface of the cylindrical body with a uniform bristle length and flock distribution. Preferably, a large number of small holes are formed on the entire surface of the body and a bristles of bristles, which are a bunch of bristles, are planted in each of the small holes, and a channel roller type is preferably used.
【0061】前記ブラシ毛の毛径は0.05mm〜0.
8mmであり、好ましくは0.15mm〜0.5mmで
ある。ブラシ毛の断面形状は円が好ましい。毛径が0.
05mm以上であれば、得られる平版印刷版のシャドウ
部での汚れ性能が良好であり、0.8mm以下であれ
ば、ブランケット汚れの生じ難い平版印刷版が得られ
る。The bristles have a diameter of 0.05 mm to 0.
It is 8 mm, preferably 0.15 mm to 0.5 mm. The cross-sectional shape of the bristles is preferably circular. Hair diameter is 0.
If it is 05 mm or more, the stain performance in the shadow portion of the obtained lithographic printing plate is good, and if it is 0.8 mm or less, a lithographic printing plate that hardly causes blanket stain is obtained.
【0062】前記ブラシ毛の植毛後の毛長は、10〜2
00mmが好ましく、特に25−100mmが好まし
い。なおローラ状ブラシに植え込む際の植毛密度は1c
m2当り30〜1000本が好ましく、さらに好ましく
は50〜300本である。The bristle length after flocking of the brush bristles is 10 to 2
00 mm is preferable, and 25-100 mm is particularly preferable. The flocking density when planted in a roller brush is 1c.
The number is preferably 30 to 1,000, and more preferably 50 to 300 per m 2 .
【0063】前記ブラシ毛の材質は、ナイロンが好まし
く、特にナイロン6、ナイロン6・6、ナイロン6・1
0などが好ましいが、引っ張り強さ、耐摩耗性、吸水に
よる寸法安定性、曲げ強さ、耐熱性、回復性などに優れ
ている点から、ナイロン6・10が最も好ましい。The material of the brush bristles is preferably nylon, especially nylon 6, nylon 6.6, nylon 6.1.
Nylon 6/10 is most preferable because it is excellent in tensile strength, wear resistance, dimensional stability due to water absorption, bending strength, heat resistance, and recovery.
【0064】ローラ状ブラシの本数は、好ましくは1本
以上10本以下であり、更に好ましくは1本以上6本以
下であり、最も好ましくは3本または4本である。特開
平6−135175号公報に記載されているように、ブ
ラシ毛の毛径が異なる2以上のローラ状ブラシを組み合
わせてもよい。The number of roller brushes is preferably 1 or more and 10 or less, more preferably 1 or more and 6 or less, and most preferably 3 or 4. As described in JP-A-6-135175, two or more roller-shaped brushes having different bristles may be combined.
【0065】ローラ状ブラシの回転数は、100〜50
0rpmの範囲が好ましい。ローラ状ブラシは、アルミ
ニウム板の搬送方向と同じ方向に回転(順転)させるこ
とが好ましいが、ローラ状ブラシが多数本の場合には、
一部のローラ状ブラシを、アルミニウム板の搬送方向と
同じ方向に回転(逆転)させてもよい。前記ローラ状ブ
ラシを3本用いるときは、アルミニウム板の搬送方向に
対して最も上流側に位置するローラ状ブラシを順転さ
せ、中央のローラ上ブラシを逆転させ、アルミニウム板
の搬送方向に対して最も下流側に位置するローラ状ブラ
シを順転させることが特に好ましい。ローラ状ブラシを
4本用いるときには、前記4本のローラ状ブラシの回転
方向は、アルミニウム板の搬送方向に対して上流側(以
下、単に「上流側」という。)からアルミニウム板の搬
送方向に対して下流側(以下、単に「下流側」とい
う。)に向かって、順転、逆転、順転、順転が好まし
い。The rotation number of the roller brush is 100 to 50.
A range of 0 rpm is preferred. The roller-shaped brush is preferably rotated (forwardly rotated) in the same direction as the aluminum plate conveying direction.
Some roller brushes may be rotated (reversed) in the same direction as the aluminum plate transport direction. When three roller-shaped brushes are used, the roller-shaped brush located on the most upstream side with respect to the conveying direction of the aluminum plate is rotated forward, the central roller brush is reversed, and the roller-shaped brush is conveyed with respect to the conveying direction of the aluminum plate. It is particularly preferable to rotate the roller brush located on the most downstream side in the forward direction. When four roller-shaped brushes are used, the rotation direction of the four roller-shaped brushes is from the upstream side (hereinafter, simply referred to as “upstream side”) of the aluminum plate conveyance direction to the aluminum plate conveyance direction. Therefore, forward rotation, reverse rotation, forward rotation, and forward rotation are preferable toward the downstream side (hereinafter, simply referred to as “downstream side”).
【0066】また、前記ローラ状ブラシを、アルミニウ
ム板の搬送方向に対して直角の方向に沿って0.000
1−1Hzの周期および10〜200mmの振幅でオシ
レートさせることにより、処理ムラのない表面を有する
平版印刷版用アルミニウム支持体が得られる。Further, the roller-shaped brush is set to 0.000 along a direction perpendicular to the conveying direction of the aluminum plate.
By oscillating at a frequency of 1-1 Hz and an amplitude of 10 to 200 mm, an aluminum support for a lithographic printing plate having a surface with no processing unevenness can be obtained.
【0067】ローラ状ブラシの押し込み量は、前記モー
タの消費電力が、1.0〜15kw、更に好ましくは2
〜10kwになるように、前記ローラ状ブラシを回転さ
せるモーターの負荷に基いて管理することが好ましい。The pushing amount of the roller brush is such that the power consumption of the motor is 1.0 to 15 kW, and more preferably 2
It is preferable to manage the roller brush based on the load of the motor that rotates the roller brush so that it becomes 10 kW.
【0068】前記ブラシグレイニングにおいて、太いブ
ラシ毛を植毛したローラ状ブラシで粗面化した後、細い
ブラシ毛を植毛したローラ状ブラシで処理することによ
り、親水性、保水性及び密着性のすべてを兼ね備えた平
版印刷版が得られるから好ましい。前記平版印刷版は、
湿し水が少ない場合のシャドー部のつぶれがないため、
水幅が広く、地汚れが発生しにくく、さらに製版層との
密着劣化がないという特長を有する。In the above-described brush graining, after the thick brush bristles are roughened with the roller-shaped brush, the fine brush bristles are treated with the roller-shaped brush to give hydrophilicity, water retention and adhesion. It is preferable because a lithographic printing plate having both of the above can be obtained. The planographic printing plate,
Since there is no collapse of the shadow part when there is little dampening water,
It has the characteristics that it has a wide water width, is unlikely to cause scumming, and does not deteriorate in adhesion with the plate-making layer.
【0069】本発明に用いられる研磨材スラリーとして
は、珪砂、水酸化アルミニウム、アルミナ粉、火山灰、
パミス粉末、カーボランダム、金剛砂等の研磨材を、比
重1.05〜1.3となるような範囲で水に分散させた
ものが好ましい。前記研磨材のの平均粒子径は1〜60
μmであり、好ましくは5〜45μmであり、更に好ま
しくは15〜45μmの範囲である。前記平均粒子径
は、スラリー液中に含まれる全研磨材の体積に対し、各
径の粒子の占める割合の累積度数をとったとき、前記累
積割合が50%となる粒子径として求められる。The abrasive slurry used in the present invention includes silica sand, aluminum hydroxide, alumina powder, volcanic ash,
It is preferable that an abrasive such as pumice powder, carborundum, and hard sand is dispersed in water in such a range that the specific gravity is 1.05 to 1.3. The average particle size of the abrasive is 1 to 60
μm, preferably 5 to 45 μm, and more preferably 15 to 45 μm. The average particle diameter is obtained as a particle diameter at which the cumulative ratio becomes 50% when the cumulative frequency of the ratio of particles of each diameter to the volume of all the abrasives contained in the slurry liquid is taken.
【0070】前記研磨材の平均粒径は、たとえば前記研
磨材スラリーをサイクロンなどの分級手段に通し、前記
研磨材スラリー中の研磨材を、粒径の大きなものと小さ
なものとに分級し、粒径の大きな方の研磨材を主に含む
研磨材スラリーを回収し、粒径の小さな方の研磨材を主
に含む研磨材スラリーを捨てることにより、制御でき
る。The average particle diameter of the abrasive is determined by, for example, passing the abrasive slurry through a classifying means such as a cyclone, and classifying the abrasive in the abrasive slurry into large particles and small particles. This can be controlled by collecting the abrasive slurry containing mainly the abrasive having the larger diameter and discarding the abrasive slurry containing mainly the abrasive having the smaller particle diameter.
【0071】前記研磨材スラリー中の研磨材濃度は、前
記研磨材スラリーの比重に基いて管理する。前記比重
は、変動幅が±10%以内になるように制御することが
好ましい。The abrasive concentration in the abrasive slurry is controlled based on the specific gravity of the abrasive slurry. The specific gravity is preferably controlled so that the fluctuation range is within ± 10%.
【0072】前記研磨材スラリーの比重は、たとえば、
前記研磨材スラリーの比重を断続的または連続的に測定
し、比重が前記範囲よりも小さい場合には前記研磨材ス
ラリーに新鮮な研磨材を補充して比重を増加させ、比重
が前記範囲よりも大きな場合には前記研磨材スラリーに
水を補充して比重を低下させることにより、制御でき
る。The specific gravity of the abrasive slurry is, for example,
The specific gravity of the abrasive slurry is measured intermittently or continuously, and when the specific gravity is smaller than the above range, the abrasive slurry is supplemented with fresh abrasive to increase the specific gravity, and the specific gravity is above the range. If it is large, it can be controlled by replenishing the abrasive slurry with water to reduce the specific gravity.
【0073】前記ブラシグレイニングにおいては、前記
範囲の中心線平均粗さ(Ra)が得られるように、ロー
ラ状ブラシの押し込み量、回転数、回転方向の組み合わ
せ、ローラ状ブラシの本数、それぞれのローラ状ブラシ
の直径、ブラシ毛の密度、アルミニウム板に加える張
力、前記研磨材スラリーに配合する研磨材の種類、平均
粒子径、粒度分布、および前記研磨材スラリーをアルミ
ニウム板に吹きつける流量・方向・角度などを選択する
ことが好ましい。In the brush graining, in order to obtain the center line average roughness (Ra) in the above range, the pressing amount of the roller brush, the number of rotations, the combination of the rotation directions, the number of roller brushes, and Roller brush diameter, brush bristle density, tension applied to the aluminum plate, type of abrasive compounded in the abrasive slurry, average particle size, particle size distribution, and flow rate / direction for spraying the abrasive slurry to the aluminum plate. -It is preferable to select an angle or the like.
【0074】2−2 アルカリエッチング処理
機械的粗面化処理(a)の後にアルカリエッチング処理を
行うことにより、前記アルミニウム板の表面に食い込ん
だ研磨材やアルミニウム屑などが除去され、その後に施
される電解粗面化処理を、より均一に、しかも効果的に
行うことができる。また、電解粗面化処理(d)および(g)
の後にアルカリエッチング処理を行うことにより、前記
電解粗面化処理においてアルミニウム板の表面に生じた
水酸化アルミニウムの被膜を除去できる。2-2 Alkaline Etching Treatment By carrying out an alkaline etching treatment after the mechanical surface roughening treatment (a), the abrasives and aluminum debris which have bitten into the surface of the aluminum plate are removed and then applied. The electrolytic surface roughening treatment can be performed more uniformly and effectively. Also, electrolytic surface roughening treatment (d) and (g)
By performing an alkali etching treatment after the above, the aluminum hydroxide film formed on the surface of the aluminum plate in the electrolytic surface roughening treatment can be removed.
【0075】前記アルカリエッチング処理においては、
前記アルミニウム板をアルカリ溶液に接触させることに
より、エッチング処理を行なう。In the alkali etching treatment,
Etching is performed by bringing the aluminum plate into contact with an alkaline solution.
【0076】アルミニウム板をアルカリ溶液に接触させ
る方法としては、例えば前記アルカリ溶液を収容する槽
中を連続的に通過させる方法、前記アルカリ溶液を収容
する槽中に浸漬する方法、および前記アルカリ溶液を前
記アルミニウム板の表面に噴霧する方法などがある。The aluminum plate may be brought into contact with the alkaline solution by, for example, continuously passing through the tank containing the alkaline solution, immersing in the tank containing the alkaline solution, and the alkaline solution. There is a method of spraying on the surface of the aluminum plate.
【0077】前記アルカリエッチング処理におけるアル
ミニウム板の溶解量、換言すればエッチング量は、機械
的粗面化処理(a)に引き続いて行なうアルカリエッチン
グ処理(b)においては2〜15g/m2であり、3〜10
g/m2の範囲が好ましい。電解粗面化処理(d)に引き続
いて行なうアルカリエッチング処理(e)においては、エ
ッチング量は0.1〜6g/m2であり、0.1〜3g
/m2の範囲が好ましい。そして、電解粗面化処理(g)に
引き続いて行なうアルカリエッチング処理(h)において
は、エッチング量は0.001〜1g/m2であり、
0.005〜0.8g/m2の範囲が好ましい。The amount of dissolution of the aluminum plate in the alkali etching treatment, in other words, the etching amount is 2 to 15 g / m 2 in the alkali etching treatment (b) that follows the mechanical surface roughening treatment (a). 3 to 10
A range of g / m 2 is preferred. In the alkaline etching treatment (e) performed subsequent to the electrolytic surface roughening treatment (d), the etching amount is 0.1 to 6 g / m 2 , and the etching amount is 0.1 to 3 g.
The range of / m 2 is preferable. Then, in the alkaline etching treatment (h) performed subsequently to the electrolytic surface roughening treatment (g), the etching amount is 0.001 to 1 g / m 2 ,
The range of 0.005 to 0.8 g / m 2 is preferable.
【0078】前記アルカリ溶液は、主要なアルカリ成分
として水酸化ナトリウムを含有する。前記アルカリ溶液
としては、アルミニウムイオンを所定量含有する水酸化
ナトリウム溶液が好ましい。The alkaline solution contains sodium hydroxide as a main alkaline component. The alkaline solution is preferably a sodium hydroxide solution containing a predetermined amount of aluminum ions.
【0079】前記アルカリ溶液中の水酸化ナトリウムお
よびアルミニウムイオンの濃度は、前記アルカリエッチ
ング処理(b)および前記アルカリエッチング処理(e)にお
いては、それぞれ20〜30重量%および5〜9重量%
の範囲が好ましく、前記アルカリエッチング処理(h)に
おいては、4〜6重量%および0.3〜0.7重量%の
範囲が好ましい。The concentrations of sodium hydroxide and aluminum ions in the alkaline solution are 20 to 30% by weight and 5 to 9% by weight in the alkali etching treatment (b) and the alkali etching treatment (e), respectively.
Is preferable, and in the alkaline etching treatment (h), the range of 4 to 6% by weight and 0.3 to 0.7% by weight is preferable.
【0080】前記アルカリ溶液の液温は、前記アルカリ
エッチング処理(b)においては40〜80℃の範囲が好
ましく、前記アルカリエッチング処理(e)においては3
0〜80℃の範囲が好ましい。そして、前記アルカリエ
ッチング処理(h)においては、25〜80℃の範囲が好
ましい。The temperature of the alkali solution is preferably in the range of 40 to 80 ° C. in the alkali etching treatment (b), and 3 in the alkali etching treatment (e).
The range of 0 to 80 ° C is preferable. And in the said alkali etching process (h), the range of 25-80 degreeC is preferable.
【0081】安定にアルカリエッチング処理を行うに
は、前記アルカリ溶液中の水酸化ナトリウム濃度を所定
の範囲に制御する必要があり、前記アルカリ溶液がアル
ミニウムイオンを含有する場合には、前記アルミニウム
イオンの濃度も所定の範囲になるように制御することが
好ましい。In order to stably carry out the alkali etching treatment, it is necessary to control the sodium hydroxide concentration in the alkali solution within a predetermined range. When the alkali solution contains aluminum ions, It is preferable to control the concentration so that it falls within a predetermined range.
【0082】前記水酸化ナトリウム濃度およびアルミニ
ウムイオン濃度は、アルカリ溶液の比重と電導度とに基
いて制御される。前記比重および電導度は、変動幅が±
10%以内になるように制御することが好ましい。The sodium hydroxide concentration and the aluminum ion concentration are controlled based on the specific gravity and electric conductivity of the alkaline solution. The fluctuation range of the specific gravity and conductivity is ±
It is preferable to control so as to be within 10%.
【0083】前記アルカリエッチング処理は、アルミニ
ウム板のエッチング処理に通常に使用されるエッチング
装置を用いて行うことができる。前記エッチング装置と
しては、アルカリ溶液を貯留する槽を有し、前記槽中に
前記アルミニウム板を浸漬する形態のもの、およびスプ
レーノズルを有し、前記スプレーノズルから前記アルミ
ニウム板に向って前記アルカリ溶液を吹き付ける形態の
ものが挙げられる。前記エッチング装置は、バッチ式で
あっても連続式であってもよい。The alkali etching treatment can be carried out by using an etching apparatus which is commonly used for etching aluminum plates. The etching apparatus has a tank for storing an alkaline solution, a method of immersing the aluminum plate in the tank, and a spray nozzle, and the alkaline solution from the spray nozzle toward the aluminum plate. The form of spraying. The etching apparatus may be a batch type or a continuous type.
【0084】前記アルカリエッチング処理が終了した後
には、処理液を次工程に持ち込まないためにニップロー
ラーによる液切りとスプレーによる水洗を行うことが好
ましい。After the alkali etching treatment is completed, it is preferable to perform draining with a nip roller and washing with spray to prevent the treatment liquid from being brought into the next step.
【0085】2−3 デスマット処理
前記アルカリエッチング処理(b)、(e)、および(h)にお
いては、前記アルミニウム板をアルカリ溶液で処理する
ので、表面にスマットが生成する。2-3 Desmut Treatment In the alkali etching treatments (b), (e) and (h), the aluminum plate is treated with an alkali solution, so that smut is generated on the surface.
【0086】そこで、前記アルカリエッチング処理
(b)、(e)、および(h)が終了する毎に、前記アルミニウ
ム板を酸性溶液に接触させてデスマット処理し、表面の
スマットを除去する。Therefore, the alkali etching treatment is performed.
After each of the steps (b), (e), and (h), the aluminum plate is brought into contact with an acidic solution for desmutting to remove surface smut.
【0087】前記デスマット処理は、前記アルミニウム
板を酸性溶液中に浸漬するか、酸性溶液中を通過させる
かして行なうことができ、また、前記酸性溶液を、スプ
レーノズルを用いて吹付けるスプレー処理により行うこ
とができるが、前記スプレー処理が好ましい。The desmutting treatment can be carried out by immersing the aluminum plate in an acidic solution or by passing it through an acidic solution. Further, the acidic solution is sprayed by using a spray nozzle. The spray treatment is preferable.
【0088】酸性溶液としては、主要な酸成分として、
硝酸、硫酸、塩酸、およびクロム酸から選択される1種
または2種以上の酸を含有する溶液が挙げられる。前記
酸性溶液における前記酸性分の濃度は0.5〜60重量
%が好ましい。前記酸性溶液中には、アルミニウムイオ
ン、および前記微量元素のうち前記アルミニウム板を形
成するアルミニウム合金中に含まれるもののイオンが0
〜5重量%溶解していても良い。具体的には、アルカリ
エッチング処理(b)の後に行なうデスマット処理(c)にお
いては、前記酸性溶液としては、硝酸を5〜15g/リ
ットル含有する硝酸溶液または硫酸を80〜300g/
リットル含有する硫酸溶液が好ましく、前記アルカリエ
ッチング処理(e)の後に行なうデスマット処理(f)および
前記アルカリエッチング処理(h)の後に行なうデスマッ
ト処理(I)においては、前記酸性溶液としては、硫酸を
80〜500g/リットル含有する硫酸溶液が好まし
い。As the acidic solution, as the main acid component,
Examples include solutions containing one or more acids selected from nitric acid, sulfuric acid, hydrochloric acid, and chromic acid. The concentration of the acidic component in the acidic solution is preferably 0.5 to 60% by weight. In the acidic solution, aluminum ions and ions of the trace elements contained in the aluminum alloy forming the aluminum plate are 0.
~ 5 wt% may be dissolved. Specifically, in the desmutting treatment (c) performed after the alkali etching treatment (b), the acid solution is a nitric acid solution containing 5 to 15 g / l of nitric acid or 80 to 300 g / l of sulfuric acid.
A sulfuric acid solution containing liter is preferable, in the desmut treatment (f) performed after the alkali etching treatment (e) and the desmut treatment (I) performed after the alkali etching treatment (h), the acidic solution is sulfuric acid. A sulfuric acid solution containing 80 to 500 g / liter is preferable.
【0089】また、前記デスマット処理(c)および(f)に
おいては、前記酸性溶液として、後述する電解粗面化処
理(d)または後述する陽極酸化処理(j)で排出される廃液
を使用すれば、前記電解粗面化処理(d)および前記陽極
酸化処理(j)において排出される廃液の量を削減できる
から好ましい。また、前記デスマット処理(I)において
は、前記酸性溶液として、前記陽極酸化処理(j)で排出
される廃液を使用すれば、廃液の量を大幅に削減できる
だけでなく、前記デスマット処理(I)後に前記アルミニ
ウム板を洗浄することなく、直ちに前記陽極酸化処理に
移行できるから、デスマット処理装置と陽極酸化処理装
置との間の洗浄設備を省略できる点でも好ましい。Further, in the desmutting treatments (c) and (f), as the acidic solution, a waste liquid discharged from the electrolytic surface-roughening treatment (d) described later or the anodizing treatment (j) described later may be used. This is preferable because the amount of waste liquid discharged in the electrolytic surface roughening treatment (d) and the anodizing treatment (j) can be reduced. In the desmutting treatment (I), if the waste liquid discharged in the anodizing treatment (j) is used as the acidic solution, not only the amount of waste liquid can be significantly reduced, but also the desmutting treatment (I). Since it is possible to immediately shift to the anodizing treatment without cleaning the aluminum plate later, it is also preferable in that the washing equipment between the desmutting apparatus and the anodizing apparatus can be omitted.
【0090】前記酸性溶液の液温は、前記デスマット処
理(c)、(f)、および(I)の何れにおいても、常温〜95
℃の範囲が好ましく、特に、25〜80℃の範囲が好ま
しい。The temperature of the acidic solution ranges from room temperature to 95 in any of the desmut treatments (c), (f), and (I).
The range of ° C is preferable, and the range of 25 to 80 ° C is particularly preferable.
【0091】処理時間は1〜30秒が好ましく、特に1
−5秒が好ましい。The processing time is preferably 1 to 30 seconds, and particularly 1
-5 seconds is preferred.
【0092】デスマット処理が終了した後には、処理液
を次工程に持ち込まないためにニップローラーによる液
切りとスプレーによる水洗を行うことが好ましいが、酸
性溶液として、次の工程で用いる液と同じ種類・組成の
液、または次の工程で排出される廃液を使用する場合に
は、廃液量を少なくすべく、前記液切りおよび水洗を省
略することができる。After the desmut treatment is completed, it is preferable to drain the treatment liquid with a nip roller and wash it with water by spraying in order to prevent the treatment liquid from being brought into the next process. When the liquid having the composition or the waste liquid discharged in the next step is used, the draining and the water washing can be omitted in order to reduce the amount of the waste liquid.
【0093】2−4 電解粗面化処理
前述のように、最初の電解粗面化処理である電解粗面化
処理(d)においては、硝酸溶液内で電解粗面化処理を行
ない、第2回目の電解粗面化処理である電解粗面化処理
(g)においては塩酸溶液中で電解粗面化処理を行なう。2-4 Electrolytic surface roughening treatment As described above, in the first electrolytic surface roughening treatment (d), the electrolytic surface roughening treatment is carried out in the nitric acid solution to obtain the second electrolytic roughening treatment. Electrolytic surface roughening treatment, which is the second electrolytic surface roughening treatment
In (g), electrolytic surface roughening treatment is performed in a hydrochloric acid solution.
【0094】(1)硝酸を主体とする水溶液
電解粗面化処理(d)で使用される硝酸溶液中の硝酸の濃
度は、0.2〜2重量%である。(1) Aqueous solution mainly containing nitric acid The concentration of nitric acid in the nitric acid solution used in the electrolytic graining treatment (d) is 0.2 to 2% by weight.
【0095】前記硝酸溶液には、更に、硝酸アルミニウ
ム、硝酸ナトリウム、硝酸アンモニウム等の硝酸塩、お
よび塩化アルミニウム、塩化ナトリウム、塩化アンモニ
ウム等の塩酸塩から選択される1種以上の塩を、1g/
リットル〜飽和濃度の範囲で添加することができる。前
記硝酸溶液には、銅と錯体を形成する化合物を1〜20
0g/リットルの濃度になるように添加することもでき
る。前記硝酸溶液中には、さらに、鉄、銅、マンガン、
ニッケル、チタン、マグネシウム、シリカ等の前記アル
ミニウム板を形成するアルミニウム合金中に含まれる微
量元素が溶解していてもよい。加えて、次亜塩素酸また
は過酸化水素を1〜100g/リットルの濃度で含有し
ていてもよい。The nitric acid solution further contains 1 g / g of one or more salts selected from nitrates such as aluminum nitrate, sodium nitrate and ammonium nitrate, and hydrochlorides such as aluminum chloride, sodium chloride and ammonium chloride.
It can be added in the range of liter to saturated concentration. The nitric acid solution contains 1 to 20 compounds that form a complex with copper.
It can also be added so as to have a concentration of 0 g / liter. Further, in the nitric acid solution, iron, copper, manganese,
A trace element contained in the aluminum alloy forming the aluminum plate, such as nickel, titanium, magnesium, or silica, may be dissolved. In addition, it may contain hypochlorous acid or hydrogen peroxide at a concentration of 1 to 100 g / liter.
【0096】前記硝酸溶液としては、硝酸を5〜15g
/リットル含有する希硝酸に、硝酸アルミニウムなどの
アルミニウム塩を添加してアルミニウムイオンの濃度を
2〜7g/リットルに調整した溶液が特に好ましい。As the nitric acid solution, 5 to 15 g of nitric acid is used.
Particularly preferred is a solution in which an aluminum salt such as aluminum nitrate is added to the dilute nitric acid contained in 1 / liter to adjust the concentration of aluminum ions to 2 to 7 g / liter.
【0097】また、硝酸溶液中で電解粗面化処理を行っ
ていると、還元反応により、前記硝酸溶液中にアンモニ
ウムイオンが生成するので、前記硝酸溶液中に、アンモ
ニウムイオン濃度が50−150ppmになるように、
予め硝酸アンモニウムを添加することがとくに好まし
い。Further, when electrolytic surface roughening treatment is carried out in a nitric acid solution, ammonium ions are produced in the nitric acid solution due to the reduction reaction, so that the ammonium ion concentration in the nitric acid solution becomes 50 to 150 ppm. So that
It is particularly preferable to add ammonium nitrate in advance.
【0098】前記硝酸溶液の液温は、30〜80℃が好
ましく、35〜60℃が特に好ましい。The liquid temperature of the nitric acid solution is preferably 30 to 80 ° C, particularly preferably 35 to 60 ° C.
【0099】前記硝酸溶液中の硝酸濃度は、硝酸溶液の
音速および電導度に基いて制御される。具体的には、先
ず、硝酸濃度の異なる複数の硝酸溶液について音速およ
び電導度を測定して硝酸濃度と音速および電導度との関
係を示す検量線を求める。次に、電解粗面化処理(d)で
実際に使用される硝酸溶液について音速および電導度を
測定し、前記音速および電導度の測定値と前記検量線と
から、前記硝酸溶液中の硝酸濃度を求める。The nitric acid concentration in the nitric acid solution is controlled based on the speed of sound and the electric conductivity of the nitric acid solution. Specifically, first, the sound velocity and the electric conductivity are measured for a plurality of nitric acid solutions having different nitric acid concentrations, and a calibration curve showing the relationship between the nitric acid concentration and the sound velocity and the electric conductivity is obtained. Next, the sonic velocity and the conductivity of the nitric acid solution actually used in the electrolytic surface roughening treatment (d) are measured, and from the measured values of the sonic velocity and the conductivity and the calibration curve, the nitric acid concentration in the nitric acid solution is measured. Ask for.
【0100】前記硝酸濃度は、音速および電導度の変動
幅が±10%の範囲内になるように制御することが好ま
しい。前記制御は、前記硝酸溶液に濃硝酸を添加したり
水を添加して希釈したりすることにより行うことができ
る。The nitric acid concentration is preferably controlled so that the fluctuation range of the sound velocity and the electric conductivity is within ± 10%. The control can be performed by adding concentrated nitric acid or adding water to dilute the nitric acid solution.
【0101】(2)塩酸を主体とする水溶液
電解粗面化処理(g)においては、塩酸溶液としては、塩
酸濃度が0.1〜2重量%、言い替えれば塩酸を1〜2
0g/リットル含有する塩酸溶液が使用される。(2) In the aqueous solution electrolytic surface roughening treatment (g) mainly containing hydrochloric acid, the hydrochloric acid solution has a hydrochloric acid concentration of 0.1 to 2% by weight, in other words, 1 to 2 hydrochloric acid.
A hydrochloric acid solution containing 0 g / l is used.
【0102】前記塩酸溶液には、塩化アルミニウム、塩
化ナトリウム、塩化アンモニウム等の塩酸塩、および硝
酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、硝酸アンモニウム等
の硝酸塩から選択された1種以上の塩を、1g/リット
ル〜飽和濃度の範囲で添加してもよい。In the hydrochloric acid solution, one or more kinds of salts selected from hydrochlorides such as aluminum chloride, sodium chloride and ammonium chloride and nitrates such as aluminum nitrate, sodium nitrate and ammonium nitrate are contained at a concentration of 1 g / liter to a saturated concentration. You may add in the range of.
【0103】前記塩酸溶液には、また、銅と錯体を形成
する化合物を1〜200g/リットルの濃度になるよう
に添加することもできる。前記塩酸溶液中には、鉄、
銅、マンガン、ニッケル、チタン、マグネシウム、珪素
等の前記アルミニウム板を形成するアルミニウム合金中
に含まれる微量元素が溶解していてもよい。加えて、次
亜塩素酸や過酸化水素を1〜100g/リットルの濃度
で含有していてもよい。A compound which forms a complex with copper may be added to the hydrochloric acid solution so as to have a concentration of 1 to 200 g / liter. In the hydrochloric acid solution, iron,
Trace elements contained in the aluminum alloy forming the aluminum plate, such as copper, manganese, nickel, titanium, magnesium, and silicon, may be dissolved. In addition, hypochlorous acid or hydrogen peroxide may be contained at a concentration of 1 to 100 g / liter.
【0104】前記塩酸溶液としては、塩酸を2〜15g
/リットル含有する希塩酸に塩化アルミニウムなどのア
ルミニウム塩を添加してアルミニウムイオンの濃度を2
〜15g/リットルに調整した溶液が特に好ましい。As the hydrochloric acid solution, 2 to 15 g of hydrochloric acid is used.
The aluminum ion concentration is adjusted to 2 by adding aluminum salt such as aluminum chloride to dilute hydrochloric acid containing
A solution adjusted to -15 g / l is particularly preferable.
【0105】前記塩酸溶液の液温は、20〜50℃が好
ましい。The liquid temperature of the hydrochloric acid solution is preferably 20 to 50 ° C.
【0106】前記塩酸溶液中の塩酸濃度は、前記硝酸溶
液と同様、塩酸溶液の音速および電導度に基いて制御さ
れる。具体的には、前記硝酸溶液と同様、塩酸溶液中の
塩酸濃度と音速および電導度との関係を示す検量線を求
め、前記電解粗面化処理 (g)で使用された塩酸溶液の音
速および電導度の測定値と前記検量線とから、前記塩酸
溶液中の塩酸濃度を求める。The concentration of hydrochloric acid in the hydrochloric acid solution is controlled based on the speed of sound and the electric conductivity of the hydrochloric acid solution, like the nitric acid solution. Specifically, as in the case of the nitric acid solution, a calibration curve showing the relationship between the hydrochloric acid concentration in the hydrochloric acid solution and the speed of sound and conductivity is obtained, and the speed of sound of the hydrochloric acid solution used in the electrolytic surface roughening treatment (g) and The concentration of hydrochloric acid in the hydrochloric acid solution is determined from the measured value of conductivity and the calibration curve.
【0107】前記塩酸溶液中の塩酸濃度もまた、音速お
よび電導度の変動幅が±10%の範囲内になるように制
御することが好ましい。前記制御は、前記塩酸溶液に濃
塩酸を添加したり水を添加して希釈したりすることによ
り行うことができる。It is preferable that the concentration of hydrochloric acid in the hydrochloric acid solution is also controlled so that the fluctuation range of the sound velocity and the electric conductivity is within the range of ± 10%. The control can be performed by adding concentrated hydrochloric acid or adding water to dilute the hydrochloric acid solution.
【0108】(3)電解粗面化処理の条件
電解粗面化処理(d)および(g)の何れにおいても、交流を
印加する。(3) Conditions for electrolytic surface roughening treatment In both electrolytic roughening treatments (d) and (g), an alternating current is applied.
【0109】電解粗面化処理(d)においては、前記アル
ミニウム板がアノード反応にあずかるときの電気量、即
ちアノード時の電気量が30〜300C/dm2、好ま
しくは100〜250C/dm2になるように前記交流
を印加する。一方、電解粗面化処理(g)においては、ア
ノード時の電気量が3〜150C/dm2、好ましくは
15〜50C/dm2になるように前記交流を印加す
る。In the electrolytic surface-roughening treatment (d), the quantity of electricity when the aluminum plate participates in the anode reaction, that is, the quantity of electricity at the time of anode is 30 to 300 C / dm 2 , preferably 100 to 250 C / dm 2 . The alternating current is applied so that On the other hand, in the electrolytic surface roughening treatment (g), the alternating current is applied so that the amount of electricity at the time of anode is 3 to 150 C / dm 2 , and preferably 15 to 50 C / dm 2 .
【0110】前記交流としては、サイン波電流、矩形波
電流、台形波電流、および三角波電流など、各種の波形
を有する交流電流を用いることができるが、矩形波電流
および台形波電流が好ましく、台形波電流が特に好まし
い。As the alternating current, an alternating current having various waveforms such as a sine wave current, a rectangular wave current, a trapezoidal wave current and a triangular wave current can be used, but a rectangular wave current and a trapezoidal wave current are preferable, and a trapezoidal wave current is preferable. Wave currents are particularly preferred.
【0111】前記交流の周波数は、0.1〜500Hz
が好ましい。The frequency of the alternating current is 0.1 to 500 Hz.
Is preferred.
【0112】前記台形波の一例を図1に示す。図1に示
す台形波を用いる場合は、電流が0からピークに達する
までの立上り時間tp(tpaまたはtpc)は0.1〜1
0msecの範囲が好ましく、0.5〜2msecの範
囲がとくに好ましい。立上り時間tpが0.1以上であ
れば、電源回路のインピーダンスの影響が小さいので、
電流波形の立ち上がり時に大きな電源電圧が不要である
から、電源回路が安価に構成できる。また、立上り時間
tpが10msec以下であれば、電解粗面化処理
(1)および(2)の何れにおいても、硝酸溶液または
塩酸溶液中の微量成分の影響を受け難いから、均一な粗
面化がおこなわれる。An example of the trapezoidal wave is shown in FIG. When the trapezoidal wave shown in FIG. 1 is used, the rise time t p (t pa or t pc ) from 0 to the peak of the current is 0.1 to 1
The range of 0 msec is preferable, and the range of 0.5 to 2 msec is particularly preferable. If the rise time t p is 0.1 or more, the influence of the impedance of the power supply circuit is small,
Since a large power supply voltage is not required at the rising of the current waveform, the power supply circuit can be constructed at low cost. Further, if the rising time t p is 10 msec or less, the electrolytic surface roughening treatments (1) and (2) are hardly affected by the trace components in the nitric acid solution or the hydrochloric acid solution, so that the uniform rough surface is obtained. Is done.
【0113】電気化学的な粗面化に用いる交流の1サイ
クルの条件が、アルミニウム板のアノード反応時間ta
が交流の周期Tに占める割合ta/Tは、0.33〜
0.66が好ましく、0.45−0.55が更に好まし
く、0.5が特に好ましい。The condition of one cycle of alternating current used for electrochemical surface roughening is that the anode reaction time t a of the aluminum plate.
But the proportion t a / T as a percentage of the period T of the alternating current, 0.33
0.66 is preferable, 0.45-0.55 is more preferable, and 0.5 is particularly preferable.
【0114】主極に対向するアルミニウム板に加わる電
気量は、アルミニウム板がカソード反応時の電気量Qc
とアノード反応時の電気量Qaの比Qc/Qaが0.9〜
1の範囲にあることが好ましい。前記電気量比は、電源
が発生する電圧を制御しておこなうことができる。図2
に示す電解槽を用いるときは、サイリスタThの点弧角
を制御して前記電気量比を調整する。The quantity of electricity applied to the aluminum plate facing the main pole is the quantity of electricity Q c during the cathode reaction of the aluminum plate.
And the ratio Q c / Q a of the quantity of electricity Q a during the anode reaction is 0.9 to
It is preferably in the range of 1. The electric quantity ratio can be controlled by controlling the voltage generated by the power source. Figure 2
When the electrolytic cell shown in (3) is used, the firing angle of the thyristor Th is controlled to adjust the electricity quantity ratio.
【0115】電解粗面化処理(d)および(g)においては、
電流密度は台形波のピーク値で電流のアノードサイクル
側Ia、カソードサイクル側Icともに5〜50A/dm
2であり、好ましくは15〜35A/dm2である。In the electrolytic graining treatments (d) and (g),
The current density is a peak value of a trapezoidal wave, and both the anode cycle side I a and the cathode cycle side I c of the current are 5 to 50 A / dm.
2 , preferably 15 to 35 A / dm 2 .
【0116】電解粗面化処理(d)および(g)の何れにおい
ても、電解槽としては、縦型、フラット型、ラジアル型
などの公知の電解槽が使用できる。In each of the electrolytic surface roughening treatments (d) and (g), a known electrolytic cell such as a vertical type, a flat type or a radial type can be used as the electrolytic cell.
【0117】図2に、前記ラジアル型電解槽の一例を示
す。FIG. 2 shows an example of the radial type electrolytic cell.
【0118】前記ラジアル型電解槽104は、図2に示
すように、硝酸溶液または塩酸溶液が貯留される電解槽
42と、電解槽42内部に、水平方向に伸びる軸線の周
りに回転可能に配設され、帯状に連続した薄板であるア
ルミニウムウェブWを矢印aの方向、即ち図1における
左方から右方に向かって送る送りローラ44とを備えて
いる。As shown in FIG. 2, the radial type electrolytic cell 104 has an electrolytic cell 42 in which a nitric acid solution or a hydrochloric acid solution is stored, and is arranged inside the electrolytic cell 42 so as to be rotatable about an axis extending horizontally. It is provided with a feed roller 44 for feeding the aluminum web W, which is a strip-shaped continuous thin plate, in the direction of arrow a, that is, from the left side to the right side in FIG.
【0119】電解槽42の内壁面は、送りローラ44を
囲むように略円筒状に形成され、前記内壁面上には、半
円筒状の対極46Aおよび46Bが送りローラ44を挟
んで設けられている。対極46Aおよび46Bは、複数
の電極に分割され、それぞれの電極の間には、絶縁性の
スペーサーが介装されている。前記電極は、例えば、グ
ラファイトや金属などを用いて形成でき、前記スペーサ
ーは、例えば塩化ビニル樹脂などにより形成できる。前
記スペーサーの厚さは、1〜10mmが好ましい。ま
た、図1では省略されているが、対極46Aおよび46
Bの何れにおいても、前記スペーサーにより分割された
前記電極のそれぞれが交流電源ACに接続されている。The inner wall surface of the electrolytic cell 42 is formed in a substantially cylindrical shape so as to surround the feed roller 44, and the semi-cylindrical counter electrodes 46A and 46B are provided on the inner wall surface so as to sandwich the feed roller 44. There is. The counter electrodes 46A and 46B are divided into a plurality of electrodes, and an insulating spacer is interposed between the respective electrodes. The electrodes can be formed of, for example, graphite or metal, and the spacers can be formed of, for example, vinyl chloride resin. The thickness of the spacer is preferably 1 to 10 mm. Although not shown in FIG. 1, the counter electrodes 46A and 46A are not shown.
In each case of B, each of the electrodes divided by the spacer is connected to the AC power supply AC.
【0120】電解槽42の上部には、交流電解粗面化処
理時において、アルミニウムウェブWが導入・導出され
る開口部42Aが形成されている。電解槽42における
開口部42Aの近傍および対極46Aと主極46Bとの
間には、それぞれ電解槽42に硝酸溶液または塩酸溶液
を補充する酸性電解液補充流路48Aおよび48Bが設
けらている。An opening 42A into / from which the aluminum web W is introduced / extracted during the AC electrolytic graining treatment is formed in the upper portion of the electrolytic cell 42. In the vicinity of the opening 42A in the electrolytic cell 42 and between the counter electrode 46A and the main electrode 46B, acidic electrolytic solution replenishing channels 48A and 48B for replenishing the electrolytic cell 42 with the nitric acid solution or the hydrochloric acid solution are provided.
【0121】電解槽42の上方における開口部42A近
傍には、アルミニウムウェブWを電解槽42内部に案内
する上流側案内ローラ50Bと、電解槽42内で電解処
理されたアルミニウム板Wを電解槽42の外部に案内す
る一群の下流側案内ローラ50Aとが配設されている。In the vicinity of the opening 42A above the electrolytic bath 42, an upstream guide roller 50B for guiding the aluminum web W into the electrolytic bath 42, and an aluminum plate W electrolytically treated in the electrolytic bath 42 are placed in the electrolytic bath 42. And a group of downstream guide rollers 50A for guiding the outside of the vehicle.
【0122】ラジアル型電解槽104には、電解槽42
の上流側に隣接して溢流槽52が設けられている。溢流
槽52は、電解槽42から溢流した硝酸溶液または塩酸
溶液を一時貯留し、電解槽42における硝酸溶液の液面
高さを一定に保持する機能を有する。The radial type electrolytic cell 104 includes an electrolytic cell 42.
An overflow tank 52 is provided adjacent to the upstream side of. The overflow tank 52 has a function of temporarily storing the nitric acid solution or the hydrochloric acid solution overflowing from the electrolysis tank 42 and keeping the liquid level of the nitric acid solution in the electrolysis tank 42 constant.
【0123】ラジアル型電解槽104においては、更
に、電解槽42の上流側に隣接して補助電解槽54が設
けられている。In the radial type electrolytic cell 104, an auxiliary electrolytic cell 54 is further provided adjacent to the upstream side of the electrolytic cell 42.
【0124】補助電解槽54は、電解槽42よりも浅
く、底面54Aが平面状に形成され、底面54A上に
は、棒状の補助電極56が複数本設けられている。The auxiliary electrolytic bath 54 is shallower than the electrolytic bath 42, and has a bottom surface 54A formed in a flat shape, and a plurality of rod-shaped auxiliary electrodes 56 are provided on the bottom surface 54A.
【0125】補助電極56は、白金などの高耐食性の金
属またはフェライトなどから形成されたものが好まし
く、また、板状であってもよい。The auxiliary electrode 56 is preferably made of a highly corrosion-resistant metal such as platinum or ferrite, or may be plate-shaped.
【0126】補助電極56は、交流電源ACにおける主
極46Bが接続される側に、主極46Bに対して並列に
接続され、中間には、サイリスタTh1が、点弧時にお
いて、交流電源ACにおける前記側から補助電極56に
向う方向に電流が流れるように接続されている。The auxiliary electrode 56 is connected in parallel to the main pole 46B on the side of the AC power supply AC to which the main pole 46B is connected, and in the middle, the thyristor Th1 is connected to the main pole 46B of the AC power supply AC during ignition. It is connected so that a current flows from the side to the auxiliary electrode 56.
【0127】また、交流電源ACにおける対極46Aが
接続された側も、サイリスタTh2を介して補助電極5
6に接続されている。サイリスタTh2は、点弧時に交
流電源ACにおける前記側から補助電極56に向う方向
に電流が流れるように接続されている。The side of the AC power source AC to which the counter electrode 46A is connected is also connected to the auxiliary electrode 5 via the thyristor Th2.
Connected to 6. The thyristor Th2 is connected so that a current flows from the side of the AC power supply AC toward the auxiliary electrode 56 at the time of ignition.
【0128】サイリスタTh1およびTh2の何れを点
弧したときも、補助電極56にはアノード電流が流れ
る。したがって、サイリスタTh1およびTh2を位相
制御することにより、補助電極56に流れるアノード電
流の電流値を制御でき、したがって、Qc/Qaも制御
できる。When either of the thyristors Th1 and Th2 is fired, the anode current flows through the auxiliary electrode 56. Therefore, by controlling the phase of the thyristors Th1 and Th2, the current value of the anode current flowing through the auxiliary electrode 56 can be controlled, and therefore Qc / Qa can also be controlled.
【0129】図2に示すラジアル型電解槽104の作用
について以下に説明する。The operation of the radial type electrolytic cell 104 shown in FIG. 2 will be described below.
【0130】図2における右方から矢印aに沿ってラジ
アル型電解槽104に案内されたアルミニウム板Wは、
まず、補助電解槽54に導入され、次いで、上流側案内
ローラ50によって電解槽42に案内される。そして、
送りローラ44によって図1における右方から左方に向
って送られ、下流側案内ローラ50Aによって電解槽4
2の外に導かれる。The aluminum plate W guided from the right side in FIG. 2 to the radial type electrolytic cell 104 along the arrow a is:
First, it is introduced into the auxiliary electrolytic bath 54, and then guided to the electrolytic bath 42 by the upstream guide roller 50. And
It is fed from the right side to the left side in FIG. 1 by the feed roller 44, and the electrolytic cell 4 is fed by the downstream guide roller 50A.
Guided out of 2.
【0131】電解層42および補助電解槽54の内部に
おいて、アルミニウム板Wは、対極46Aおよび46B
に印加された交流電流、および補助電極56に印加され
たアノード電流により、対極46Aおよび46Bに向い
た側の面が粗面化される。Inside the electrolytic layer 42 and the auxiliary electrolytic cell 54, the aluminum plate W is provided with the counter electrodes 46A and 46B.
The surface on the side facing the counter electrodes 46A and 46B is roughened by the alternating current applied to the electrode and the anode current applied to the auxiliary electrode 56.
【0132】電解槽は、1槽のみ使用してもよく、2槽
以上を直列に使用してもよいが、電解粗面化処理(d)に
おいては、1槽〜3槽を時期列に使用することが特に好
ましく、電解粗面化処理(g)においては、1槽でおこな
うことがとくに好ましい。電解粗面化処理(d)において
電解槽を2層使用するときは、第1槽目の電解槽におけ
る電流密度および電気量を第2槽目の電解槽における電
流密度および電気量よりも高くすることがとくに好まし
い。また、全ての電解槽に同一の波形の交流を印加して
もよく、電解槽毎に異なる波形の交流を印加してもよ
い。どの電解槽にどのような波形の交流を印加するか
は、所望のピット形状に応じて決定できる。Only one electrolytic cell may be used, or two or more electrolytic cells may be used in series. In electrolytic graining treatment (d), 1 to 3 cells are used in series. It is particularly preferable to carry out the electrolytic graining treatment (g) in a single tank. When using two layers of electrolytic cells in the electrolytic surface roughening treatment (d), make the current density and quantity of electricity in the first electrolytic cell higher than the current density and quantity of electricity in the second electrolytic cell. Is particularly preferable. Further, the alternating current having the same waveform may be applied to all the electrolytic cells, or the alternating current having a different waveform may be applied to each electrolytic cell. Which waveform of alternating current is applied to which electrolytic cell can be determined according to the desired pit shape.
【0133】前記電解槽の内部には、前記アルミニウム
板に交流を印加する主電極が設けられる。A main electrode for applying an alternating current to the aluminum plate is provided inside the electrolytic cell.
【0134】前記電解槽においては、内部を搬送される
アルミニウム板と前記主電極との距離が5〜100m
m、好ましくは8〜15mmになるように前記アルミニ
ウム板の走路および主電極を配置することが望ましい。
前記主電極はカーボンで形成することが好ましい。In the electrolytic cell, the distance between the aluminum plate transported inside and the main electrode is 5 to 100 m.
It is desirable to dispose the running path of the aluminum plate and the main electrode so that the length is m, preferably 8 to 15 mm.
The main electrode is preferably made of carbon.
【0135】前記電解槽内を搬送されるアルミニウム板
と前記電解槽の内部を流通する硝酸溶液または塩酸溶液
との平均相対流速は、1〜1000m/minの範囲が
好ましく、15〜300m/minの範囲が特に好まし
い。前記平均相対流速が前記範囲内である限り、前記硝
酸溶液または塩酸溶液の流通方向は、前記アルミニウム
板の搬送方向と同方向および逆方向の何れの方向であっ
てもよい。The average relative flow velocity of the aluminum plate conveyed in the electrolytic cell and the nitric acid solution or the hydrochloric acid solution flowing in the electrolytic cell is preferably in the range of 1 to 1000 m / min, and in the range of 15 to 300 m / min. Ranges are particularly preferred. As long as the average relative flow velocity is within the above range, the flow direction of the nitric acid solution or the hydrochloric acid solution may be either the same direction as the transport direction of the aluminum plate or the opposite direction.
【0136】また、前記アルミニウム板の走路と前記主
電極との距離、および前記硝酸溶液および塩酸溶液の流
速は一定に保持されていることが、均一な電解粗面化を
行う上で望ましい。Further, it is desirable that the distance between the running path of the aluminum plate and the main electrode and the flow rates of the nitric acid solution and the hydrochloric acid solution are kept constant for uniform electrolytic graining.
【0137】フラット型および縦型の電解槽において
は、特公昭61−30036号公報に記載されているよ
うに、走行するアルミニウム板が摺動できるように形成
された面を内部に設け、静圧を利用して前記アルミニウ
ム板を圧接させつつ走行させることにより、前記距離を
一定に保つことができる。また、ラジアル型の電解槽に
おいては、特開平8−300843号公報に記載されて
いるように、内部に、前記アルミニウム板を搬送する直
径の大きなローラを設け、前記ローラを取り囲むよう
に、複数の主電極を円周上に配設し、前記主電極とアル
ミニウム板の距離を一定に保つことができる。In the flat type and vertical type electrolytic cells, as described in JP-B-61-30036, a surface on which a traveling aluminum plate is slidable is provided inside and static pressure is applied. The distance can be kept constant by running the aluminum plate while pressing the aluminum plate. Further, in the radial type electrolytic cell, as described in JP-A-8-300843, a roller having a large diameter for conveying the aluminum plate is provided inside and a plurality of rollers are provided so as to surround the roller. By disposing the main electrode on the circumference, the distance between the main electrode and the aluminum plate can be kept constant.
【0138】また、前記硝酸溶液および塩酸溶液の流速
を一定にするには、電解槽の内部に液溜り室を設け、内
部を走行するアルミニウム板の巾方向に沿って幅1〜5
mmの液吹き出し用のスリットを設けた給液ノズルを用い
て前記硝酸溶液および塩酸溶液を供給すればよい。ま
た、複数の液溜り室を設け、それぞれの液溜り室を、バ
ルブと流量計とを備える管路で接続し、前記給液ノズル
のそれぞれのスリットから吹き出す液量を調整してもよ
い。Further, in order to make the flow rates of the nitric acid solution and the hydrochloric acid solution constant, a liquid pool chamber is provided inside the electrolytic cell, and a width of 1 to 5 is set along the width direction of the aluminum plate running inside.
The nitric acid solution and the hydrochloric acid solution may be supplied using a liquid supply nozzle provided with a slit for ejecting a liquid of mm. In addition, a plurality of liquid pool chambers may be provided, and the liquid pool chambers may be connected to each other by a pipe line equipped with a valve and a flow meter, and the amount of liquid discharged from each slit of the liquid supply nozzle may be adjusted.
【0139】前記電解槽内部を走行するアルミニウム板
への給電方式としては、たとえばコンダクタローラを用
いる直接給電方式と、前記コンダクタローラを用いない
液給電方式、換言すれば間接給電方式とがある。The power feeding method to the aluminum plate running inside the electrolytic cell is, for example, a direct power feeding method using a conductor roller, a liquid power feeding method not using the conductor roller, or in other words, an indirect power feeding method.
【0140】前記電解槽において、間接給電方式を用い
る場合は、変圧器および可変式誘導電圧調整器などを用
いて電流値を制御できる。When the indirect power supply method is used in the electrolytic cell, the current value can be controlled by using a transformer and a variable induction voltage regulator.
【0141】また、前記電解槽の内部に前記主電極のほ
かに、直流を印加する補助陽極を設け、前記補助電極に
流れる直流電流の強さを制御することにより、アルミニ
ウム板に加わる陽極時の電気量と陰極時の電気量の比を
調整することができる。前記補助電極は、フェライト等
により形成できる。Further, in addition to the main electrode, an auxiliary anode for applying a direct current is provided inside the electrolytic cell, and the strength of the direct current flowing through the auxiliary electrode is controlled to prevent The ratio between the quantity of electricity and the quantity of electricity at the time of the cathode can be adjusted. The auxiliary electrode can be formed of ferrite or the like.
【0142】補助陽極に流れる電流を制御する方法とし
ては、特公平6−37716号公報および特公平5−4
2520号公報に記載されているように、サイリスタお
よびGTOなどの制御整流器による位相制御、およびダ
イオードと可変抵抗器とによる制御などが挙げられる。
前記方法により、前記補助陽極に流れる電流を制御すれ
ば、変圧器の偏磁の影響を小さくすることができ、ま
た、電源装置を安価に製作できるから、コスト的に非常
に有利である。Methods for controlling the current flowing through the auxiliary anode include Japanese Patent Publication No. 6-37716 and Japanese Patent Publication No. 5-4.
As described in Japanese Patent No. 2520, phase control by a controlled rectifier such as a thyristor and GTO, control by a diode and a variable resistor, and the like can be mentioned.
If the current flowing through the auxiliary anode is controlled by the above method, the influence of the magnetic bias of the transformer can be reduced, and the power supply device can be manufactured at low cost, which is very advantageous in terms of cost.
【0143】直接給電方式を用いる場合は、コンダクタ
ローラとしては、特開昭58−177441号公報に記
載されているように、工業用アルミニウムを用いて鋳造
し、高温均質化処理を施して表面部分のAl−Fe系昌
出物をAl3Feの単一相に変化させて耐食性を向上さ
せたコンダクタローラを用いることができる。また、特
開昭56−123400に記載されているように、フラ
ット型または縦型の電解槽におけるアルミニウム板の導
入部、または前記導入部と前記アルミニウム板の導出部
との両方に前記コンダクタローラを配設した電解槽を使
用することができる。In the case of using the direct power feeding method, as the conductor roller, as described in JP-A-58-177441, industrial aluminum is used for casting and subjected to high temperature homogenizing treatment for surface portion. It is possible to use a conductor roller in which the corrosion resistance is improved by changing the Al-Fe-based compound of ( 3) to a single phase of Al 3 Fe. Further, as described in JP-A-56-123400, the conductor roller is provided at the introduction part of the aluminum plate in the flat type or vertical type electrolytic cell, or both the introduction part and the extraction part of the aluminum plate. An arranged electrolyzer can be used.
【0144】前記電解槽においては、コンダクタローラ
は、アルミニウム板の上面または下面に接触するように
設けることが可能であるが、アルミニウム板の上面に接
触するように設け、ニップ装置にてアルミニウム板に押
しつけるようにするのが特に好ましい。アルミニウム板
がコンダクタローラに接する長さは、アルミ進行方向に
対して1mm〜300mmが好ましい。アルミニウム板
を挟んでコンダクタローラに対向するパスローラはゴム
製の胴を有するゴムローラが好ましい。前記コンダクタ
ローラの押しつけ圧、およびゴムローラの胴の硬度は、
前記コンダクタローラと前記アルミニウム板との接する
箇所においてアークスポットが発生しない条件で任意に
設定できる。コンダクタローラがアルミニウム板の上面
に接触するように設置することで、コンダクタローラの
交換作業・点検作業が簡単になる。コンダクタローラに
通電するには、前記コンダクタローラの端部に同心に回
転体を設け、給電ブラシを前記回転体に摺動させながら
通電するのが好ましい。In the electrolytic cell, the conductor roller can be provided so as to come into contact with the upper surface or the lower surface of the aluminum plate. However, it is provided so as to come into contact with the upper surface of the aluminum plate, and the conductor roller is attached to the aluminum plate by the nip device. It is particularly preferable to press it. The length of contact between the aluminum plate and the conductor roller is preferably 1 mm to 300 mm in the aluminum traveling direction. The pass roller facing the conductor roller with the aluminum plate interposed therebetween is preferably a rubber roller having a rubber body. The pressing pressure of the conductor roller and the hardness of the body of the rubber roller are
It can be arbitrarily set under the condition that an arc spot does not occur at a position where the conductor roller and the aluminum plate are in contact with each other. By installing the conductor roller so that it contacts the upper surface of the aluminum plate, replacement work and inspection work of the conductor roller are simplified. In order to energize the conductor roller, it is preferable to provide a rotating body concentrically at the end of the conductor roller and energize while the power feeding brush slides on the rotating body.
【0145】前記コンダクターローラは、アークスポッ
トの発生を防止するために、前記硝酸溶液または塩酸溶
液により常に冷却することが好ましい。It is preferable that the conductor roller is always cooled with the nitric acid solution or the hydrochloric acid solution in order to prevent the generation of arc spots.
【0146】2−5 陽極酸化処理
アルミニウム板の陽極酸化処理には、硫酸を主要な酸成
分とする硫酸溶液が使用される。2-5 Anodizing Treatment For the anodizing treatment of the aluminum plate, a sulfuric acid solution containing sulfuric acid as a main acid component is used.
【0147】陽極酸化皮膜の量は、1〜5g/m2の範
囲が適当である。陽極酸化皮膜の量が1g/m2以上で
あれば、充分な耐刷性が得られるから、平版印刷版の非
画像部に傷が付き難く、したがって、傷の部分にインキ
が付着する所謂きず汚れが生じ難い。陽極酸化皮膜量が
多くなると、アルミニウム板のエッジ部分に酸化皮膜が
集中しやすくなるが、陽極酸化皮膜の量が5g/m2以
下であれば、このような問題が生じることはない。但
し、アルミニウム板のエッジの部分と中心部分の酸化皮
膜量の差は1g/m2以下であることが好ましい。The amount of the anodic oxide film is appropriately in the range of 1 to 5 g / m 2 . When the amount of the anodic oxide film is 1 g / m 2 or more, sufficient printing durability can be obtained, so that the non-image area of the lithographic printing plate is less likely to be scratched, and therefore the so-called flaw in which the ink adheres to the scratched portion. Hard to get dirty. When the amount of the anodic oxide film is large, the oxide film is likely to concentrate on the edge portion of the aluminum plate, but if the amount of the anodic oxide film is 5 g / m 2 or less, such a problem does not occur. However, the difference in the amount of oxide film between the edge portion and the central portion of the aluminum plate is preferably 1 g / m 2 or less.
【0148】前記硫酸水溶液の組成は、特開昭54−1
28453号公報および特開昭48−45303号各公
報に詳しく記載されているように、硫酸濃度が10〜3
00g/リットルであり、アルミニウムイオンの濃度が
1〜25g/リットルの硫酸水溶液が好ましく、硫酸濃
度が80〜200g/リットルであり、アルミニウムイ
オンの濃度が2−10g/リットルの範囲が特に好まし
い。液温は30〜60℃が好ましく、特に30〜55℃
の範囲が好ましい。The composition of the aqueous sulfuric acid solution is described in JP-A-54-1.
As described in detail in JP-A-28453 and JP-A-48-45303, the sulfuric acid concentration is 10 to 3
A sulfuric acid aqueous solution having a concentration of 00 g / liter and an aluminum ion concentration of 1 to 25 g / liter is preferable, a sulfuric acid concentration of 80 to 200 g / liter and an aluminum ion concentration of 2 to 10 g / liter are particularly preferable. The liquid temperature is preferably 30 to 60 ° C, particularly 30 to 55 ° C.
Is preferred.
【0149】前記硫酸濃度およびアルミニウムイオン濃
度は、比重と電導度とによって制御される。具体的に
は、前記硫酸溶液の比重および電導度を連続的または一
定時間毎に測定しつつ、前記硫酸溶液に水を補充したり
濃硫酸を補充したりすることにより制御できる。前記制
御は、前記比重および電導度の変動幅が±10%以内に
なるように行うことが好ましい。The sulfuric acid concentration and the aluminum ion concentration are controlled by the specific gravity and the electric conductivity. Specifically, it can be controlled by replenishing the sulfuric acid solution with water or replenishing concentrated sulfuric acid while measuring the specific gravity and electric conductivity of the sulfuric acid solution continuously or at regular intervals. The control is preferably performed so that the fluctuation range of the specific gravity and the electric conductivity is within ± 10%.
【0150】前記陽極酸化処理においては、通常は、前
記アルミニウム板に直流電流を印加して陽極酸化処理を
行なうが、交流を印加してもよい。In the anodizing treatment, a direct current is usually applied to the aluminum plate to perform the anodizing treatment, but an alternating current may be applied.
【0151】直流を用いて陽極酸化処理を行なうとき
は、電流密度は、1〜60A/dm2の範囲が好まし
く、特に5〜40A/dm2の範囲が好ましい。アルミ
ニウム板を連続的に陽極酸化する場合は、アルミニウム
板の焼けと呼ばれる電流集中を防ぐために、最上流側に
おいては5〜10A/dm2の低電流密度で陽極酸化処
理をおこない、下流側に向かって徐々に電流密度を高
め、30〜50A/dm2またはそれよりも高い値にま
で電流密度を高くすることが好ましい。電流密度は、5
〜15ステップで徐々に上げることが好ましく、各ステ
ップごとに独立した電源装置を設けて前記電源装置のそ
れぞれにおいて電流密度を制御することにより、下流側
に向かって徐々に電流密度を高めることができる。前記
アルミニウム板への給電方法は、コンダクタローラを用
いない後述する液給電方式が好ましい。特開2001−
11698号公報にはその一例が示されている。[0151] When performing anodic oxidation treatment using a direct current, the current density is preferably in the range of 1 to 60 A / dm 2, in particular in the range of 5 to 40 A / dm 2 is preferred. When continuously anodizing an aluminum plate, in order to prevent current concentration called burning of the aluminum plate, anodizing treatment is performed at a low current density of 5 to 10 A / dm 2 on the most upstream side, and the downstream side is subjected. It is preferable to gradually increase the current density by increasing the current density to a value of 30 to 50 A / dm 2 or higher. Current density is 5
It is preferable to gradually increase the current density in 15 to 15 steps, and by providing an independent power supply device for each step and controlling the current density in each of the power supply devices, the current density can be gradually increased toward the downstream side. . As a method for feeding power to the aluminum plate, a liquid feeding method which will be described later without using a conductor roller is preferable. Japanese Patent Laid-Open No. 2001-
An example is shown in Japanese Patent No. 11698.
【0152】アルミニウム板への給電方式としては、前
記電解粗面化処理のときと同様に、直接給電方式と液給
電方式とが挙げられる。As a method of feeding power to the aluminum plate, a direct feeding method and a liquid feeding method can be mentioned as in the case of the electrolytic surface roughening treatment.
【0153】直接給電方式は、高速・高電流密度になる
とコンダクタローラとアルミニウムウェブ間のスパーク
発生の問題が発生して不利なので、ライン速度が30m
/分以下の比較的低速・低電流密度の陽極酸化装置で用
いられることが多く、間接給電方式は、ライン速度が3
0m/minを越える高速・高電流密度の陽極酸化装置
で用いられることが多い。The direct power feeding method is disadvantageous in that a spark is generated between the conductor roller and the aluminum web at a high speed and a high current density, so that the line speed is 30 m.
It is often used in anodizing equipment with a relatively low speed and low current density of less than 1 / min.
It is often used in high-speed, high-current-density anodic oxidation equipment that exceeds 0 m / min.
【0154】間接給電方式を使用する場合には、連続表
面処理技術(総合技術センター、昭和61年9月30日
発行)の289頁にあるように、山越型またはストレー
ト型の槽レイアウトを用いることができる。When using the indirect power supply method, use the Yamakoshi type or straight type tank layout as described on page 289 of the continuous surface treatment technology (General Technology Center, issued September 30, 1986). You can
【0155】直接給電方式、間接給電方式ともに、アル
ミニウムウェブ内の電圧ドロップによるエネルギーロス
を少なくする目的で、陽極酸化処理工程は2つ以上に分
離し、それぞれの電解装置の給電槽と酸化槽、またはコ
ンダクタローラと酸化槽の間に直流電源を接続して用い
ることがとくに好ましい。In both the direct power feeding system and the indirect power feeding system, in order to reduce energy loss due to voltage drop in the aluminum web, the anodizing process is divided into two or more, and a power feeding tank and an oxidation tank of each electrolyzer, Alternatively, it is particularly preferable to use a DC power supply connected between the conductor roller and the oxidation tank.
【0156】直接給電方式を用いる場合は、コンダクタ
ローラとしては、前記「2−4 電解粗面化処理」のと
ころで述べたコンダクタローラと同様のものを使用でき
る。When the direct power feeding method is used, the same conductor roller as the conductor roller described in the above "2-4 Electrolytic surface roughening treatment" can be used as the conductor roller.
【0157】陽極酸化処理工程においては大電流を流す
ため、ブスバーに流れる電流により発生する磁界によ
り、アルミニウム板にローレンツ力が働く。その結果ウ
ェブが蛇行する問題が生じるため、特開昭57−512
90に記載のような方法を用いることが特に好ましい。Since a large current is passed in the anodizing process, a Lorentz force acts on the aluminum plate by the magnetic field generated by the current flowing through the bus bar. As a result, a problem occurs that the web meanders.
It is particularly preferable to use the method as described in 90.
【0158】また、アルミニウム板には大電流が流れる
ため、アルミニウム板自身を流れる電流による磁界によ
り、アルミニウム板の幅方向において中央に向かってロ
ーレンツ力が働く。その結果アルミニウム板に折れが発
生しやすくなるため、陽極酸化処理槽内に直径100〜
200mmのパスローラーを100〜3000mmピッ
チで複数設け、1度から15度の角度でラップさせてロ
ーレンツ力による折れを防止する方法をとることが特に
好ましい。Since a large current flows through the aluminum plate, the Lorentz force acts toward the center in the width direction of the aluminum plate due to the magnetic field generated by the current flowing through the aluminum plate itself. As a result, the aluminum plate is likely to be broken, so that the diameter of the aluminum plate is 100
It is particularly preferable to adopt a method in which a plurality of 200 mm pass rollers are provided at a pitch of 100 to 3000 mm and are wrapped at an angle of 1 to 15 degrees to prevent breakage due to Lorentz force.
【0159】また、陽極酸化被膜は、アルミニウム板の
エッジに近づくほど生成量が多くなり、厚さが厚くなる
から、巻き取り装置においてアルミニウム板をうまく巻
きとれないという問題が生じることがある。前記問題
は、特公昭62−30275公報および特公昭55−2
1840号公報に記載されているように、酸性電解液を
撹拌することにより解決できる。酸性電解液を攪拌して
も前記問題が十分に解決できない場合には、巻き取り装
置を0.1〜10Hzの周期で5〜50mmの振幅でア
ルミニウム板の幅方向にオシレートさせれば、前記アル
ミニウム板の巻取りの問題を解決できる。Further, since the amount of anodic oxide film produced increases as it gets closer to the edge of the aluminum plate, and the thickness becomes thicker, there is a problem that the aluminum plate cannot be properly wound in the winding device. The above-mentioned problems are caused by Japanese Patent Publication No. 62-30275 and Japanese Patent Publication No. 55-2.
As described in Japanese Patent No. 1840, this can be solved by stirring the acidic electrolytic solution. When the above problem cannot be sufficiently solved even by stirring the acidic electrolyte, the winding device is oscillated in the width direction of the aluminum plate with an amplitude of 5 to 50 mm at a cycle of 0.1 to 10 Hz. Can solve the problem of plate winding.
【0160】アルミニウム板に電流を通電するための陽
極としては、鉛、酸化イリジウム、白金、フェライトな
どを用いることができるが、酸化イリジウムを主体とす
るものが特に好ましい。酸化イリジウムは熱処理により
基材に被覆できる。基材としてはチタン、タンタル、ニ
オブ、ジルコニウムなどの所謂バルブ金属が用いられる
が、チタンまたはニオブが特に好ましい。前記バルブ金
属は比較的電気抵抗が大きいため、芯材に銅を用い、そ
の周囲にバルブ金属をクラッドすることが特に好まし
い。銅の芯材にバルブ金属をクラッドする場合は、あま
り複雑な形状のものは作れないので、各パーツに分割し
て作成した電極部品を、酸化イリジウムを被覆した後に
ボルト・ナット等で希望の構造となるように組み立てる
のが一般的である。As the anode for passing a current through the aluminum plate, lead, iridium oxide, platinum, ferrite or the like can be used, but those mainly containing iridium oxide are particularly preferable. The substrate can be coated with iridium oxide by heat treatment. So-called valve metals such as titanium, tantalum, niobium and zirconium are used as the base material, and titanium or niobium is particularly preferable. Since the valve metal has a relatively large electric resistance, it is particularly preferable to use copper for the core material and clad the valve metal around the core. When clad with a valve metal on a copper core material, it is not possible to make a very complicated shape, so the electrode parts made by dividing into individual parts are coated with iridium oxide, and then the desired structure with bolts, nuts, etc. It is common to assemble so that
【0161】2−6 封孔処理・親水化処理
陽極酸化処理されたアルミニウム板は、現像液への陽極
酸化皮膜の溶解および非画像部における製版層の残膜の
抑制、陽極酸化皮膜の強度、親水性、および製版層との
密着性の向上等を目的に、水洗処理した後、親水化処理
を施すことができる。2-6 Sealing / Hydrophilic Treatment Anodized aluminum plate has a property of dissolving the anodized film in the developer and suppressing the residual film of the plate-making layer in the non-image area, the strength of the anodized film, For the purpose of improving hydrophilicity and adhesion to the plate-making layer, it is possible to carry out hydrophilic treatment after washing with water.
【0162】前記親水化処理としては陽極酸化皮膜をア
ルカリ金属珪酸塩の水溶液と接触させて処理するシリケ
ート処理があげられる。Examples of the hydrophilic treatment include a silicate treatment in which the anodic oxide film is brought into contact with an aqueous solution of an alkali metal silicate for treatment.
【0163】前記シリケート処理は、アルカリ金属珪酸
塩濃度が通常0.1〜30重量%であり、好ましくは
0.5〜15重量%であり、25℃でのpHが10〜1
3.5であるアルカリ金属珪酸塩の水溶液に、前記アル
ミニウム板を、5〜80℃、好ましくは10〜70℃、
より好ましくは15〜50℃で0.5〜120秒間接触
させることにより、行なうことができる。In the silicate treatment, the alkali metal silicate concentration is usually 0.1 to 30% by weight, preferably 0.5 to 15% by weight, and the pH at 25 ° C. is 10 to 1%.
The aluminum plate is added to an aqueous solution of an alkali metal silicate of 3.5 at 5 to 80 ° C, preferably 10 to 70 ° C.
More preferably, it can be carried out by contacting at 15 to 50 ° C. for 0.5 to 120 seconds.
【0164】前記アルミニウム板を前記アルカリ金属珪
酸塩の水溶液に接触させる方法としては、浸漬およびス
プレーによる吹き付けなどが挙げられるが、これらの方
法には限定されない。Examples of the method of bringing the aluminum plate into contact with the aqueous solution of the alkali metal silicate include immersion and spraying, but are not limited to these methods.
【0165】なお、アルカリ金属珪酸塩水溶液は、pH
が10より低いとゲル化し、13.5より高いと陽極酸
化皮膜が溶解してしまうから、前記ゲル化および陽極酸
化皮膜の溶解の問題が生じないpH10〜13.5の範
囲が好ましい。The pH of the alkali metal silicate aqueous solution is
When it is less than 10, gelling occurs, and when it is more than 13.5, the anodic oxide film is dissolved.
【0166】前記アルカリ金属珪酸塩としては、珪酸ナ
トリウム、珪酸カリウム、珪酸リチウムなどが使用され
る。As the alkali metal silicate, sodium silicate, potassium silicate, lithium silicate or the like is used.
【0167】アルカリ金属珪酸塩の水溶液のpH調整に
は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウ
ムなどのアルカリ金属水酸化物が使用される。For adjusting the pH of the aqueous solution of the alkali metal silicate, an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide, potassium hydroxide or lithium hydroxide is used.
【0168】なお、前記水溶液には、アルカリ土類金属
塩または第IVB族金属塩を配合してもよい。The aqueous solution may contain an alkaline earth metal salt or a Group IVB metal salt.
【0169】アルカリ土類金属塩としては、硝酸カルシ
ウム、硝酸ストロンチウム、硝酸マグネシウム、硝酸バ
リウムのような硝酸塩や、硫酸塩、塩酸塩、燐酸塩、酢
酸塩、蓚酸酸塩、硼酸塩などの水溶性塩が挙げられる。The alkaline earth metal salts include nitrates such as calcium nitrate, strontium nitrate, magnesium nitrate and barium nitrate, and water-soluble salts such as sulfates, hydrochlorides, phosphates, acetates, oxalates and borates. Examples include salt.
【0170】第IVB族金属塩としては、四塩化チタ
ン、三塩化チタン、フッ化チタンカリウム、蓚酸チタン
カリウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタン、塩化酸化ジル
コニウムなどが挙げられる。Examples of the Group IVB metal salt include titanium tetrachloride, titanium trichloride, potassium titanium fluoride, potassium titanium oxalate, titanium sulfate, titanium tetraiodide, zirconium chloride oxide and the like.
【0171】アルカリ土類金属および第IVB族金属塩
は、単独でも、2種以上の組み合わせでも使用できる。
前記アルカリ土類金属および第IVB族金属塩の好まし
い配合量は、0.01〜10重量%であり、更に好まし
い配合量は、0.05〜5重量%である。The alkaline earth metal and Group IVB metal salts may be used alone or in combination of two or more.
A preferable blending amount of the alkaline earth metal and the group IVB metal salt is 0.01 to 10% by weight, and a further preferable blending amount is 0.05 to 5% by weight.
【0172】前記アルミニウム板には、前記親水化処理
に加え、封孔処理を施すこともできる。The aluminum plate may be subjected to a sealing treatment in addition to the hydrophilic treatment.
【0173】前記封孔処理としては、水蒸気封孔、沸騰
水(熱水)封孔、金属塩封孔(クロム酸塩/重クロム酸
塩封孔、酢酸ニッケル封孔など)、油脂含浸封孔、合成
樹脂封孔、低温封孔(赤血塩やアルカリ土類塩などによ
る)など、陽極酸化皮膜の封孔処理として公知の処理が
挙げられるが、印刷版用支持体としての性能(製版層と
の密着性や親水性)、高速処理、低コスト、低公害性等
の面から、水蒸気封孔が好ましい。The sealing treatment includes steam sealing, boiling water (hot water) sealing, metal salt sealing (chromate / dichromate sealing, nickel acetate sealing, etc.), oil-impregnated sealing. Well-known treatments for sealing the anodized film, such as synthetic resin sealing, low-temperature sealing (using red blood salt, alkaline earth salt, etc.), etc. Water vapor sealing is preferred from the viewpoints of adhesion with (and hydrophilicity with), high-speed treatment, low cost, low pollution, and the like.
【0174】水蒸気封孔としては、たとえば、加圧また
は常圧の水蒸気を連続または非連続的に、相対湿度70
%以上、蒸気温度95℃以上で2秒〜180秒程度陽極
酸化皮膜に接触させる特開平4−176690号公報に
開示された方法などが挙げられる。As the water vapor sealing, for example, pressurized or normal pressure water vapor may be continuously or discontinuously applied and the relative humidity 70
%, And the vapor temperature is 95 ° C. or higher for about 2 seconds to 180 seconds. A method disclosed in JP-A-4-176690 is used.
【0175】他の封孔処理法としては、熱水またはアル
カリ水溶液への浸漬、熱水またはアルカリ吹き付け処
理、亜硝酸塩水溶液への浸漬、および亜硝酸塩水溶液の
吹き付け処理などが挙げられる。前記亜硝酸塩水溶液へ
の浸漬および噴き付け処理は、前記熱水またはアルカリ
水溶液への浸漬および吹き付け処理に代えて行なっても
よく、前記処理に引き続いて行なってもよい。Other sealing methods include dipping in hot water or alkaline aqueous solution, hot water or alkaline spraying, dipping in aqueous nitrite solution, and spraying aqueous nitrite solution. The immersion in the nitrite aqueous solution and the spraying treatment may be performed instead of the immersion in the hot water or the alkaline aqueous solution and the spraying treatment, or may be performed subsequent to the treatment.
【0176】前記亜硝酸塩の例としては、周期律表のI
a、IIa 、IIb 、IIIb、IVb 、IVa 、VIa、VIIa、VIII族
の金属の亜硝酸塩である金属亜硝酸塩、および亜硝酸ア
ンモニウムが挙げられる。Examples of the nitrite include I of the periodic table.
Mention may be made of metal nitrites which are the nitrites of the metals of the groups a, IIa, IIb, IIIb, IVb, IVa, VIa, VIIa, VIII, and ammonium nitrite.
【0177】前記金属亜硝酸塩としては、例えばLiN
O2、NaNO2、KNO2、Mg(NO2)2、Ca(N
O2)2 、Zn(NO2)2、Al(NO2)3、Zr(N
O2) 4、Sn(NO2)3、Cr(NO2)3、Co(NO
2)2、Mn(NO2)2、Ni(NO2)2等が好ましく、
特にアルカリ金属硝酸塩が好ましい。亜硝酸塩は2種以
併用することもできる。Examples of the metal nitrite include LiN
O2, NaNO2, KNO2, Mg (NO2)2, Ca (N
O2)2 , Zn (NO2)2, Al (NO2)3, Zr (N
O2) Four, Sn (NO2)3, Cr (NO2)3, Co (NO
2)2, Mn (NO2)2, Ni (NO2)2Etc. are preferred,
Alkali metal nitrate is particularly preferable. More than 2 kinds of nitrite
It can also be used together.
【0178】処理条件は、前記アルミニウム板の状態お
よび亜硝酸塩の種類により異なるので一義的には決定で
きないが、例えば亜硝酸ナトリウムを用いた場合には、
濃度は一般的には0.001〜10重量%であり、より
好ましくは0.01〜2重量%である。浴温度は一般的
には室温から約100℃前後であり、より好ましくは6
0〜90℃である。処理時間は一般的には15〜300
秒であり、より好ましくは10〜180秒である。The treatment conditions cannot be uniquely determined because they differ depending on the state of the aluminum plate and the type of nitrite, but when sodium nitrite is used, for example,
The concentration is generally 0.001 to 10% by weight, more preferably 0.01 to 2% by weight. The bath temperature is generally from room temperature to about 100 ° C., more preferably 6
It is 0 to 90 ° C. Processing time is generally 15-300
Seconds, and more preferably 10 to 180 seconds.
【0179】亜硝酸塩水溶液のpHは8.0〜11.0
に調整されていることが好ましく、8.5〜9.5に調
整されていることが特に好ましい。亜硝酸塩水溶液のp
Hを上記の範囲に調製するには、例えばアルカリ緩衝液
等を用いて好適に調製することができる。該アルカリ緩
衝液としては、例えば炭酸水素ナトリウムと水酸化ナト
リウムの混合水溶液、炭酸ナトリウムと水酸化ナトリウ
ムの混合水溶液、炭酸ナトリウムと炭酸水素ナトリウム
の混合水溶液、塩化ナトリウムと水酸化ナトリウムの混
合水溶液、塩酸と炭酸ナトリウムの混合水溶液、四ホウ
酸ナトリウムと水酸化ナトリウムの混合水溶液等を好適
に用いることができるが、これらには限定されない。ま
た、上記アルカリ緩衝液はナトリウム以外のアルカリ金
属塩、例えばカリウム塩等も用いることができる。The pH of the nitrite aqueous solution is 8.0 to 11.0.
Is preferably adjusted to, and particularly preferably adjusted to 8.5 to 9.5. P of nitrite aqueous solution
In order to prepare H in the above range, it can be preferably prepared using, for example, an alkaline buffer solution. Examples of the alkaline buffer include a mixed aqueous solution of sodium hydrogen carbonate and sodium hydroxide, a mixed aqueous solution of sodium carbonate and sodium hydroxide, a mixed aqueous solution of sodium carbonate and sodium hydrogen carbonate, a mixed aqueous solution of sodium chloride and sodium hydroxide, and hydrochloric acid. A mixed aqueous solution of sodium carbonate and sodium carbonate, a mixed aqueous solution of sodium tetraborate and sodium hydroxide, and the like can be preferably used, but not limited thereto. In addition, an alkali metal salt other than sodium, such as potassium salt, can be used as the above alkaline buffer solution.
【0180】前記親水化処理および封孔処理の少なくと
も一方を施した後、製版層との密着性をさらに向上させ
るために、特開平5−278362号公報に開示されて
いる酸性水溶液処理と親水性下塗りを行なってもよく、
特開平4−282637号公報や特願平6−10867
8号明細書に開示されている有機層を設けてもよい。After performing at least one of the hydrophilic treatment and the pore-sealing treatment, in order to further improve the adhesion to the plate-making layer, the acidic aqueous solution treatment and hydrophilicity treatment disclosed in JP-A-5-278362 are used. You may undercoat,
JP-A-4-282637 and Japanese Patent Application No. 6-10867.
The organic layer disclosed in the specification of No. 8 may be provided.
【0181】支持体表面に以上のような処理または下塗
りなどが施された後、支持体の裏面には、必要に応じて
バックコートが設けられる。このようなバックコートと
しては特開平5−45885号公報記載の有機高分子化
合物および特願平4−189448号記載の有機または
無機金属化合物を加水分解および重縮合させて得られる
金属酸化物からなる被覆層が好ましく用いられる。前記
有機または無機金属化合物としては、Si(OC
H3)4、Si(OC2H5)4、Si(OC3H7)4、Si
(OC4H9)4などの珪素アルコキシ化合物が安価で入
手し易く、耐現像液性に優れた金属酸化物の被覆層が容
易に形成できる故に、特に好ましい。After the surface of the support is subjected to the above treatment or undercoating, a back coat is provided on the back surface of the support, if necessary. Such a back coat comprises a metal oxide obtained by hydrolyzing and polycondensing an organic polymer compound described in JP-A-5-45885 and an organic or inorganic metal compound described in Japanese Patent Application No. 4-189448. A coating layer is preferably used. Examples of the organic or inorganic metal compound include Si (OC)
H 3) 4, Si (OC 2 H 5) 4, Si (OC 3 H 7) 4, Si
A silicon alkoxy compound such as (OC 4 H 9 ) 4 is particularly preferable because it is inexpensive and easily available, and a metal oxide coating layer having excellent developer resistance can be easily formed.
【0182】2−7 水洗処理
なお、前記処理のそれぞれにおいて使用された薬液や研
磨材をアルミニウム板表面から除去すべく、前記各処理
の間に、前記アルミニウム板を水洗処理する水洗工程を
設けてもよい。2-7 Rinse Treatment In order to remove the chemicals and abrasives used in each of the above treatments from the surface of the aluminum plate, a rinsing step of rinsing the aluminum plate is provided between each treatment. Good.
【0183】前記水洗工程においては、水洗処理は、種
類および組成の異なる薬液を使用する処理槽の間におい
て行なうのが普通である。前記アルミニウム板が一の処
理槽から出て洗浄工程に入る時間、および前記洗浄工程
が終了してから前記一の洗浄槽に隣接する次の処理槽に
入るまでの時間は、10秒以下が好ましく、0.1〜1
0秒が特に好ましい。前記時間が10秒以下であれば、
前記アルミニウム板の表面の化学的な変性がそれほど進
まないから、処理ムラが発生し難い。また、前記一の処
理槽を出てから次の処理槽までのアルミニウム板の通過
時間は、15秒以下が好ましく、特に5秒以下が好まし
い。前記通過時間が15秒以下であれば、前記アルミニ
ウム板の表面の化学的な変性が進むことが殆どなく、次
工程で均一な粗面化処理を行うことができる。In the water washing step, the water washing treatment is usually carried out between treatment tanks using chemical liquids of different types and compositions. It is preferable that the time for the aluminum plate to come out of one processing tank and enter the cleaning step and the time for the aluminum plate to enter the next processing tank adjacent to the one cleaning tank be 10 seconds or less. , 0.1-1
0 second is particularly preferred. If the time is 10 seconds or less,
Since the chemical modification of the surface of the aluminum plate does not proceed so much, it is difficult for uneven processing to occur. Further, the passage time of the aluminum plate from the one treatment tank to the next treatment tank is preferably 15 seconds or less, and particularly preferably 5 seconds or less. When the passage time is 15 seconds or less, the chemical modification of the surface of the aluminum plate hardly progresses, and uniform roughening treatment can be performed in the next step.
【0184】前記アルミニウム板の水洗工程において
は、ニップローラーにて液切りした表面を、水洗槽にお
いて、スプレーチップから水を噴射して洗浄するのが一
般的である。水は下流に向かって45度〜90度の角度
で噴射することが好ましい。In the step of washing the aluminum plate with water, the surface drained by the nip roller is generally washed with water from a spray tip in a water washing tank. Water is preferably jetted downstream at an angle of 45 to 90 degrees.
【0185】水の噴射圧力は、噴射ノズル直前の圧力で
0.5〜5kg/cm2が好ましく、水温は10〜80
℃が好ましい。The water injection pressure is preferably 0.5 to 5 kg / cm 2 immediately before the injection nozzle, and the water temperature is 10 to 80.
C is preferred.
【0186】前記アルミニウム板の搬送速度は20〜2
00m/minが好ましい。The transport speed of the aluminum plate is 20 to 2
00 m / min is preferable.
【0187】アルミニウム板に吹き付ける洗浄水の量
は、洗浄工程1回当り0.1〜10リットル/m2が好
ましい。The amount of washing water sprayed on the aluminum plate is preferably 0.1 to 10 liters / m 2 per washing step.
【0188】前記水洗槽においては、アルミニウム板の
表面および裏面に、最低2本以上のスプレー管から洗浄
水を噴射することが好ましい。一つのスプレー管にはピ
ッチ50mmから200mmの間隔でスプレーチップを
5〜30本設置することが好ましい。スプレーチップの
噴霧角度は10〜150度が好ましく、アルミニウム板
とスプレーチップ噴射面の間隔は10〜250mmが好
ましい。スプレーチップの噴霧の断面形状(スプレーパ
ターン)は環状、円形、楕円形、正方形、長方形などが
あるが、円形・惰円形または正方形・長方形が好まし
い。流量分布(アルミニウム板の表面における噴霧の水
量分配状態)は環状分布、均等分布、山型分布などがあ
るが、スプレーチップをスプレー管に複数並べて使用す
るときは、幅全域での均一な流量分布を容易にする山型
分布が好ましい。流量分布は噴霧圧力とスプレーチップ
とアルミニウム板の距離により変化する。噴霧の粒子径
はスプレーチップの構造、噴霧圧力、噴霧量によって変
わるが、10μm〜10000μmの範囲が好ましく、
とくに100μm〜1000μmの範囲が好ましい。ス
プレーノズルの材質は高速で流れる液体に対して耐摩耗
性があることが好ましく、真鍮、ステンレス、セラミッ
クなどが用いられるが、セラミックノズルが特に好まし
い。In the water washing tank, it is preferable to spray the washing water on the front surface and the back surface of the aluminum plate from at least two spray pipes. It is preferable to install 5 to 30 spray tips at a pitch of 50 mm to 200 mm in one spray tube. The spray angle of the spray tip is preferably 10 to 150 degrees, and the distance between the aluminum plate and the spray tip jetting surface is preferably 10 to 250 mm. The cross-sectional shape (spray pattern) of the spray of the spray tip includes an annular shape, a circular shape, an elliptical shape, a square shape, a rectangular shape, and the like, and a circular / inert circular shape or a square / rectangular shape is preferable. The flow rate distribution (state of water distribution of spray on the surface of the aluminum plate) has an annular distribution, a uniform distribution, a mountain-shaped distribution, etc., but when using multiple spray tips arranged side by side in the spray pipe, a uniform flow distribution over the entire width. A mountain-shaped distribution that facilitates The flow rate distribution changes with the spray pressure and the distance between the spray tip and the aluminum plate. The particle size of the spray varies depending on the structure of the spray tip, the spray pressure, and the spray amount, but a range of 10 μm to 10000 μm is preferable,
Particularly, the range of 100 μm to 1000 μm is preferable. It is preferable that the material of the spray nozzle has abrasion resistance against a liquid flowing at a high speed, and brass, stainless steel, ceramic or the like is used, but a ceramic nozzle is particularly preferable.
【0189】スプレーチップを設置したスプレーノズル
は、アルミニウム板の進行方向に対して45〜90°の
角度で配置することができるが、スプレーパターンの中
心線のうち長さが長い方の中心線がアルミニウム板の進
行方向と直角になるようにすることが好ましい。The spray nozzle provided with the spray tip can be arranged at an angle of 45 to 90 ° with respect to the traveling direction of the aluminum plate. It is preferable to make it perpendicular to the traveling direction of the aluminum plate.
【0190】水洗処理の時間は、1回の水洗工程当り1
0秒以下が工業的に好ましく、特に0.5秒から5秒が
好ましい。The time of the washing process is 1 per washing process.
0 seconds or less is industrially preferable, and 0.5 second to 5 seconds is particularly preferable.
【0191】2−8 パスローラの材質
前記各処理を行なう処理槽および水洗槽においては、前
記アルミニウム板を搬送または支持するパスローラを設
けることができる。2-8 Material of Pass Roller A pass roller for carrying or supporting the aluminum plate can be provided in the treatment tank and the water washing tank for carrying out the above respective treatments.
【0192】前記パスローラとしては、鉄鋼ライン、メ
ッキライン、電解コンデンサ製造ライン、PS版製造ラ
インなどの連続生産ラインに用いる表面にメッキ処理ま
たはライニング処理された金属ローラ、樹脂ローラ、ゴ
ムローラ、不織布ローラなどを用いることができる。As the pass roller, a metal roller, a resin roller, a rubber roller, a non-woven cloth roller or the like having a surface plated or lined for use in a continuous production line such as a steel line, a plating line, an electrolytic capacitor production line, a PS plate production line, etc. Can be used.
【0193】前記パスローラの材質、表面の物性値は、
前記処理に使用される薬液やアルミニウム板の表面の状
態に応じて、要求される耐食性、耐摩耗性、耐熱性、耐
薬品性などを考慮して選定する。The material of the pass roller and the physical property value of the surface are
It is selected in consideration of the required corrosion resistance, abrasion resistance, heat resistance, chemical resistance, etc. according to the chemical solution used for the treatment and the surface condition of the aluminum plate.
【0194】金属ローラとしては、ハードクロムメッキ
ローラが一般的に用いられる。A hard chrome plated roller is generally used as the metal roller.
【0195】ゴムローラとしては、天然ゴム、イソプレ
ンゴム、スチレンブタジエンゴム、ブタジエンゴム、ブ
チルゴム、クロロプレンゴム、クロロスルホン化ポリエ
チレン、ニトリルゴム、アクリルゴム、エピクローラヒ
ヒドリンゴム、ウレタンゴム、多硫化ゴム、フッ素ゴム
などのゴム類、および前記ゴム類に微量の添加物を添加
したものから製した胴を有するローラを用いることがで
きる。ゴムローラの胴の硬度は60〜90がとくに好ま
しい。As the rubber roller, natural rubber, isoprene rubber, styrene-butadiene rubber, butadiene rubber, butyl rubber, chloroprene rubber, chlorosulfonated polyethylene, nitrile rubber, acrylic rubber, epicrawler hydrin rubber, urethane rubber, polysulfide rubber, fluorine It is possible to use a roller having a cylinder made of rubber such as rubber, and a material obtained by adding a trace amount of additives to the rubber. It is particularly preferable that the hardness of the body of the rubber roller is 60 to 90.
【0196】また、アルミニウム板が濡れて滑りやすい
箇所において、アルミニウムウェブの搬送速度を制御す
るときには、アルミニウムウェブが濡れた状態でもスリ
ップしにくい不織布ローラを用いることがとくに好まし
い。前記箇所においてゴムローラを用いるときは、ロー
ラに補助駆動用のモータを設けることがとくに好まし
い。When the aluminum web is wet and slippery, it is particularly preferable to use a non-woven fabric roller which is unlikely to slip even when the aluminum web is wet, when controlling the transport speed of the aluminum web. When a rubber roller is used at the location, it is particularly preferable to provide the roller with a motor for auxiliary driving.
【0197】3.製版層
3−1 バックコート層
現像時のアルミ溶解をなくし、製版層と平版印刷版用ア
ルミニウム支持体との擦れによるキズを無くす目的で、
特開平6−32115に記載されているように、有機高
分子化合物ならびに界面活性剤を含む厚さ0.01−8
μmのバックコート層を設けることができる。3. Plate making layer 3-1 For the purpose of eliminating dissolution of aluminum during development of the back coat layer and eliminating scratches due to rubbing between the plate making layer and the aluminum support for lithographic printing plates,
As described in JP-A-6-32115, a thickness of 0.01-8 containing an organic polymer compound and a surfactant.
A μm back coat layer can be provided.
【0198】このバックコート層の主成分としては、ガ
ラス転移点20℃以上の、飽和共重合ポリエステル樹
脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール樹脂及び塩
化ビニリデン共重合樹脂の群から選ばれる少なくとも一
種の樹脂が用いられる。As the main component of this back coat layer, at least one resin selected from the group consisting of a saturated copolymerized polyester resin, a phenoxy resin, a polyvinyl acetal resin and a vinylidene chloride copolymerized resin having a glass transition point of 20 ° C. or higher is used. To be
【0199】飽和共重合ポリエステル樹脂は、ジカルボ
ン酸ユニットとジオールユニットからなる。The saturated copolyester resin is composed of a dicarboxylic acid unit and a diol unit.
【0200】本発明に用いられるポリエステルのジカル
ボン酸ユニットとしてはフタル酸、テレフタル酸、イソ
フタル酸、テトラブロムフタル酸、テトラクロルフタル
酸などの芳香族ジカルボン酸、およびアジピン酸、アゼ
ライン酸、コハク酸、蓚酸、スベリン酸、セバチン酸、
マロン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸などの
飽和脂肪族ジカルボン酸などが挙げられる。Examples of the dicarboxylic acid unit of the polyester used in the present invention include aromatic dicarboxylic acids such as phthalic acid, terephthalic acid, isophthalic acid, tetrabromophthalic acid and tetrachlorophthalic acid, and adipic acid, azelaic acid, succinic acid, Oxalic acid, suberic acid, sebacic acid,
Examples thereof include malonic acid and saturated aliphatic dicarboxylic acids such as 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid.
【0201】バックコート層には更に、着色のための染
料や顔料、アルミニウム支持体との密着性向上のための
シランカップリング剤、ジアゾニウム塩からなるジアゾ
樹脂、有機ホスホン酸、有機リン酸およびカチオン性ポ
リマー等、更には滑り剤として通常用いられるワック
ス、高級脂肪酸、高級脂肪酸アミド、ジメチルシロキサ
ンよりなるシリコーン化合物、変性ジメチルシロキサ
ン、ポリエチレン粉末等が適宜加えられる。The back coat layer further comprises a dye or pigment for coloring, a silane coupling agent for improving adhesion to an aluminum support, a diazo resin containing a diazonium salt, an organic phosphonic acid, an organic phosphoric acid and a cation. Waxes, higher fatty acids, higher fatty acid amides, silicone compounds composed of dimethylsiloxane, modified dimethylsiloxane, polyethylene powder and the like, which are usually used as a slip agent, are appropriately added.
【0202】バックコート層をアルミニウム支持体の裏
面に被覆するには種々の方法が適用できる。このような
方法としては、たとえば、前記樹脂の溶液または乳化分
散液を塗布、乾燥する方法、予めフィルム状に成形した
前記樹脂を接着剤や熱でアルミニウム支持体に貼り合わ
せる方法、および溶融押し出し機で前記樹脂の溶融皮膜
を形成して支持体に貼り合わせる方法等が挙げられる
が、上記の塗布量を確保する上で最も好ましいのは、前
記樹脂の溶液または乳化分散液を塗布、乾燥する方法で
ある。Various methods can be applied for coating the back surface of the aluminum support with the back coating layer. As such a method, for example, a method of applying and drying a solution or emulsion dispersion of the resin, a method of adhering the resin previously formed into a film shape to an aluminum support with an adhesive or heat, and a melt extruder Examples of the method include forming a molten film of the resin and attaching it to a support. The most preferable method for securing the above coating amount is a method of applying a solution or emulsion dispersion of the resin and drying. Is.
【0203】3−2 製版層
(1)可視光露光型製版層
前記可視光露光型製版層は、感光性樹脂および必要に応
じて着色剤などを含有する組成物により形成できる。3-2 Plate Making Layer (1) Visible Light Exposure Type Plate Making Layer The visible light exposure type plate making layer can be formed of a composition containing a photosensitive resin and, if necessary, a colorant and the like.
【0204】前記感光性樹脂としては、光が当たると現
像液に溶けるようになるポジ型感光性樹脂、および光が
当たると現像液に溶解しなくなるネガ型感光性樹脂が挙
げられる。Examples of the photosensitive resin include a positive photosensitive resin which becomes soluble in a developing solution when exposed to light, and a negative photosensitive resin which becomes insoluble in a developing solution when exposed to light.
【0205】ポジ型感光性樹脂としては、キノンジアジ
ド化合物およびナフトキノンジアジド化合物等のジアジ
ド化合物と、フェノールノボラック樹脂およびクレゾー
ルノボラック樹脂等のフェノール樹脂との組み合わせ等
が挙げられる。Examples of the positive type photosensitive resin include a combination of a diazide compound such as a quinonediazide compound and a naphthoquinonediazide compound with a phenol resin such as a phenol novolac resin and a cresol novolac resin.
【0206】一方、ネガ型感光性樹脂としては、芳香族
ジアゾニウム塩とホルムアルデヒド等のアルデヒド類と
の縮合物等のジアゾ樹脂、前記ジアゾ樹脂の無機酸塩、
および前記ジアゾ樹脂の有機酸塩等のジアゾ化合物と、
(メタ)アクリレート樹脂、ポリアミド樹脂、およびポ
リウレタン等の結合剤との組み合わせ、並びに(メタ)
アクリレート樹脂およびポリスチレン樹脂等のビニルポ
リマーと、(メタ)アクリル酸エステルおよびスチレン
等のビニル重合性化合物と、ベンゾイン誘導体、ベンゾ
フェノン誘導体、およびチオキサントン誘導体等の光重
合開始剤との組み合わせ等が挙げられる。On the other hand, as the negative photosensitive resin, a diazo resin such as a condensation product of an aromatic diazonium salt and an aldehyde such as formaldehyde, an inorganic acid salt of the diazo resin,
And a diazo compound such as an organic acid salt of the diazo resin,
Combination with a binder such as (meth) acrylate resin, polyamide resin, and polyurethane, and (meth)
Examples include combinations of vinyl polymers such as acrylate resins and polystyrene resins, vinyl polymerizable compounds such as (meth) acrylic acid esters and styrene, and photopolymerization initiators such as benzoin derivatives, benzophenone derivatives, and thioxanthone derivatives.
【0207】前記着色剤としては、通常の色素のほか、
露光により発色する露光発色色素、および露光により殆
どまたは完全に無色になる露光消色色素等が使用でき
る。前記露光発色色素としては、たとえばロイコ色素等
が挙げられる。一方、前記露光消色色素としては、トリ
フェニルメタン系色素、ジフェニルメタン系色素、オキ
ザジン系色素、キサンテン系色素、イミノナフトキノン
系色素、アゾメチン系色素、およびアントラキノン系色
素等が挙げられる。As the colorant, in addition to usual dyes,
It is possible to use an exposed coloring dye that develops color upon exposure, and an exposure decolorizable dye that becomes almost or completely colorless upon exposure. Examples of the light-exposure coloring dyes include leuco dyes. On the other hand, examples of the exposure decolorizable dyes include triphenylmethane dyes, diphenylmethane dyes, oxazine dyes, xanthene dyes, iminonaphthoquinone dyes, azomethine dyes, and anthraquinone dyes.
【0208】前記可視光露光型製版層は、前記感光性樹
脂と前記着色剤とを溶剤に配合した感光性樹脂溶液を塗
布して乾燥することにより形成できる。The visible light exposure type plate making layer can be formed by applying a photosensitive resin solution containing the photosensitive resin and the colorant in a solvent and drying.
【0209】前記感光性樹脂溶液に使用される溶剤とし
ては、前記感光性樹脂を溶解し、しかも、室温である程
度の揮発性を有する溶剤が挙げられ、具体的には、たと
えばアルコール系溶剤、ケトン系溶剤、エステル系溶
剤、エーテル系溶剤、グリコールエーテル系溶剤、アミ
ド系溶剤、および炭酸エステル系溶剤等が挙げられる。Examples of the solvent used for the photosensitive resin solution include a solvent which dissolves the photosensitive resin and has some volatility at room temperature. Specific examples thereof include alcohol solvents and ketones. Examples thereof include system solvents, ester solvents, ether solvents, glycol ether solvents, amide solvents, and carbonate ester solvents.
【0210】アルコール系溶剤としては、エタノール、
プロパノール、およびブタノール等が挙げられる。ケト
ン系溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、メ
チルプロピルケトン、メチルイソプロピルケトン、およ
びジエチルケトン等が挙げられる。エステル系溶剤とし
ては、酢酸エチル、酢酸プロピル、蟻酸メチル、蟻酸エ
チル等が挙げられる。エーテル系溶剤としては、テトラ
ヒドロフランおよびジオキサン等が挙げられ、グリコー
ルエーテル系溶剤としては、エチルセロソルブ、メチル
セロソルブ、およびブチルセロソルブ等が挙げられる。
アミド系溶剤としては、ジメチルホルムアミドおよびジ
メチルアセトアミド等が挙げられる。炭酸エステル系溶
剤としては、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、炭酸ジエ
チル、および炭酸ジブチル等が挙げられる。
(2)レーザ露光型製版層
レーザ露光型製版層としては、露光・現像後に、レーザ
光を照射した部分が残存するネガ型レーザ製版層、レー
ザ光を照射した部分が除去されるポジ型レーザ製版層、
およびレーザ光を照射すると光重合する光重合型レーザ
製版層などが主なものとして挙げられる。As the alcohol solvent, ethanol,
Propanol, butanol, etc. are mentioned. Examples of the ketone solvent include acetone, methyl ethyl ketone, methyl propyl ketone, methyl isopropyl ketone, and diethyl ketone. Examples of the ester solvent include ethyl acetate, propyl acetate, methyl formate, ethyl formate and the like. Examples of the ether solvent include tetrahydrofuran and dioxane, and examples of the glycol ether solvent include ethyl cellosolve, methyl cellosolve, and butyl cellosolve.
Examples of the amide solvent include dimethylformamide and dimethylacetamide. Examples of the carbonate ester solvent include ethylene carbonate, propylene carbonate, diethyl carbonate, dibutyl carbonate and the like. (2) Laser exposure type plate making layer As the laser exposure type plate making layer, a negative type laser plate making layer in which a portion irradiated with laser light remains after exposure and development, and a positive type laser plate making in which a portion irradiated with laser light is removed layer,
The main examples thereof include a photopolymerization type laser plate making layer which undergoes photopolymerization when irradiated with a laser beam.
【0211】A.ネガ型レーザ製版層
前記ネガ型レーザ製版層は、(A)熱または光により分
解して酸を発生する酸前躯体、(B)前記酸前躯体
(A)が分解して発生した酸により架橋する酸架橋性化
合物、(C)アルカリ可溶性樹脂、(D)赤外線吸収
剤、および(E)フェノール性水酸基含有化合物を適宜
の溶剤に溶解または懸濁させたネガ型レーザ製版層形成
液から形成できる。A. Negative Laser Plate Making Layer The negative type laser plate making layer is (A) an acid precursor which decomposes by heat or light to generate an acid, (B) an acid precursor (A) which is decomposed and cross-linked by an acid. The acid-crosslinkable compound (C), the alkali-soluble resin (D), the infrared absorber (D), and the compound (E) containing a phenolic hydroxyl group can be dissolved or suspended in an appropriate solvent to form a negative laser plate-making layer forming liquid. .
【0212】酸前躯体(A)としては、例えばイミノフ
ォスフェート化合物等のように、紫外光、可視光、また
は熱により分解してスルホン酸を発生する化合物が挙げ
られる。他には、光カチオン重合開始剤、光ラジカル重
合開始剤、または光変色剤などとして一般に使用されて
いる化合物も、酸前躯体(A)として使用できる。Examples of the acid precursor (A) include compounds such as iminophosphate compounds which decompose to generate sulfonic acid by ultraviolet light, visible light, or heat. Besides, compounds generally used as a photocationic polymerization initiator, a photoradical polymerization initiator, a photochromic agent or the like can also be used as the acid precursor (A).
【0213】酸架橋性化合物(B)としては、アルコキ
シメチル基およびヒドロキシル基の少なくとも一方を有
する芳香族化合物、N−ヒドロキシメチル基、N−アル
コキシメチル基、またはN−アシルオキシメチル基を有
する化合物、およびエポキシ化合物などが挙げられる。As the acid-crosslinkable compound (B), an aromatic compound having at least one of an alkoxymethyl group and a hydroxyl group, a compound having an N-hydroxymethyl group, an N-alkoxymethyl group, or an N-acyloxymethyl group, And epoxy compounds.
【0214】アルカリ可溶性樹脂(C)としては、ノボ
ラック樹脂、およびポリ(ヒドロキシスチレン)などの
側鎖にヒドロキシアリール基を有するポリマーなどが挙
げられる。Examples of the alkali-soluble resin (C) include novolak resins and polymers having a hydroxyaryl group in the side chain such as poly (hydroxystyrene).
【0215】赤外線吸収剤(D)としては、760nm
〜1200nmの赤外線を吸収する染料および顔料が挙
げられ、具体的には、黒色顔料、赤色顔料、金属枌顔
料、フタロシアニン系顔料、および前記波長の赤外線を
吸収するアゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニ
ン染料、シアニン色素などが挙げられる。As the infrared absorber (D), 760 nm
Dyes and pigments that absorb infrared rays of up to 1200 nm are listed, and specifically, black pigments, red pigments, metal halide pigments, phthalocyanine pigments, and azo dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes that absorb infrared rays of the above wavelengths, Examples include cyanine dyes.
【0216】フェノール性水酸基含有化合物(E)とし
ては、一般式(R1−X)n−Ar−(OH)m(R1は、
炭素数6〜32のアルキル基またはアルケニル基であ
り、Xは、端結合、O、S、COO、またはCONHで
あり、Arは、芳香族炭化水素基、脂環式炭化水素基、
または複素環基であり、nおよびmは、何れも1〜3の
自然数である。)で示される化合物が挙げられる。前記
化合物としては、具体的にはノニルフェノールなどのア
ルキルフェノール類などが挙げられる。As the phenolic hydroxyl group-containing compound (E), a compound of the general formula (R 1 -X) n -Ar- (OH) m (R 1 is
It is a C6-C32 alkyl group or alkenyl group, X is an end bond, O, S, COO, or CONH, Ar is an aromatic hydrocarbon group, an alicyclic hydrocarbon group,
Alternatively, it is a heterocyclic group, and both n and m are natural numbers of 1 to 3. ). The compound shown by these is mentioned. Specific examples of the compound include alkylphenols such as nonylphenol.
【0217】前記ネガ型レーザ製版層形成液には、さら
に可塑剤なども配合できる。Further, a plasticizer and the like can be added to the negative type laser plate making layer forming liquid.
【0218】B.ポジ型レーザ製版層
前記ポジ型レーザ製版層は、(F)アルカリ可溶性高分
子、(G)アルカリ溶解阻害剤、および(H)赤外線吸
収剤を適宜の溶剤に溶解または懸濁させたポジ型レーザ
製版層形成液により形成できる。B. Positive type laser plate making layer The positive type laser plate making layer is a positive type laser plate in which (F) an alkali-soluble polymer, (G) an alkali dissolution inhibitor and (H) an infrared absorbing agent are dissolved or suspended in an appropriate solvent. It can be formed by a plate-making layer forming liquid.
【0219】アルカリ可溶性高分子(F)としては、た
とえばフェノール樹脂、クレゾール樹脂、ノボラック樹
脂、ピロガロール樹脂、およびポリ(ヒドロキシスチレ
ン)などのフェノール性水酸基を有するフェノール系ポ
リマー、少なくとも一部のモノマー単位がスルホンアミ
ド基を有するポリマーであるスルホンアミド基含有ポリ
マー、N−(p−トルエンスルホニル)(メタ)アクリ
ルアミド基などの活性イミド基を有するモノマーの単独
重合または共重合により得られる活性イミド基含有ポリ
マーなどが使用できる。As the alkali-soluble polymer (F), for example, phenol resin, cresol resin, novolac resin, pyrogallol resin, and phenolic polymer having a phenolic hydroxyl group such as poly (hydroxystyrene), at least a part of monomer units are used. Sulfonamide group-containing polymer that is a polymer having a sulfonamide group, active imide group-containing polymer obtained by homopolymerization or copolymerization of a monomer having an active imide group such as N- (p-toluenesulfonyl) (meth) acrylamide group, etc. Can be used.
【0220】アルカリ溶解阻害剤(G)としては、加熱
などによりアルカリ可溶性高分子(F)と反応してアル
カリ可溶性高分子(F)のアルカリ可溶性を低下させる
化合物が挙げられ、具体的には、スルホン化合物、アン
モニウム塩、スルホニウム塩、およびアミド化合物など
が挙げられる。たとえば、アルカリ可溶性高分子(F)
として前記ノボラック樹脂を用いる場合には、アルカリ
溶解阻害剤(G)としてスルホン化合物の一種であるシ
アニン色素が好ましい。Examples of the alkali dissolution inhibitor (G) include compounds that react with the alkali-soluble polymer (F) by heating or the like to reduce the alkali-solubility of the alkali-soluble polymer (F). Examples thereof include sulfone compounds, ammonium salts, sulfonium salts, and amide compounds. For example, alkali-soluble polymer (F)
When the above novolac resin is used as, the cyanine dye, which is one of the sulfone compounds, is preferable as the alkali dissolution inhibitor (G).
【0221】赤外線吸収剤(H)としては、スクワリリ
ウム色素、ピリリウム色素、カーボンブラック、不溶性
アゾ染料、アントラキノン系染料など、750〜120
0nmの赤外域に吸収領域があり、光/熱変換能を有す
る色素、染料、および顔料が挙げられる。Examples of the infrared absorbent (H) include squarylium dyes, pyrylium dyes, carbon black, insoluble azo dyes, anthraquinone dyes, and the like, 750 to 120.
Examples include dyes, dyes, and pigments having an absorption region in the infrared region of 0 nm and having a light / heat conversion ability.
【0222】C.光重合型レーザ製版層
光重合型レーザ製版層は、(I)分子末端にエチレン性
不飽和結合を有するビニル重合性化合物を含有する光重
合型レーザ製版層形成液により形成できる。前記光重合
型レーザ製版層形成液には、必要に応じて、(J)光重
合開始剤、および(K)増感剤などを配合できる。C. Photopolymerizable Laser Plate-Making Layer The photopolymerizable laser plate-making layer can be formed with a photopolymerizable laser plate-making layer forming liquid containing (I) a vinyl polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond at the molecular end. If necessary, the photopolymerization laser plate-making layer forming liquid may contain (J) a photopolymerization initiator and (K) a sensitizer.
【0223】ビニル重合性化合物(I)としては、(メ
タ)アクリル酸、イタコン酸、マレイン酸などのエチレ
ン性不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコールとのエス
テルであるエチレン性不飽和カルボン酸多価エステル、
前記エチレン性不飽和カルボン酸と多価アミンとからな
るメチレンビス(メタ)アクリルアミド、キシリレン
(メタ)アクリルアミドなどのエチレン性不飽和カルボ
ン酸多価アミドなどが挙げられる。Examples of the vinyl polymerizable compound (I) include an ethylenically unsaturated carboxylic acid polyester which is an ester of an ethylenically unsaturated carboxylic acid such as (meth) acrylic acid, itaconic acid and maleic acid and an aliphatic polyhydric alcohol. Valent ester,
Examples thereof include ethylenically unsaturated carboxylic acid polyvalent amides such as methylenebis (meth) acrylamide and xylylene (meth) acrylamide, which are composed of the ethylenically unsaturated carboxylic acid and polyvalent amine.
【0224】ビニル重合性化合物(I)としては、他
に、スチレン、α−メチルスチレンなどの芳香族ビニル
化合物、および(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)ア
クリル酸エチルなどのエチレン性不飽和カルボン酸モノ
エステルなども使用できる。Other examples of the vinyl polymerizable compound (I) include aromatic vinyl compounds such as styrene and α-methylstyrene, and ethylenically unsaturated carboxylic acids such as methyl (meth) acrylate and ethyl (meth) acrylate. Acid monoesters and the like can also be used.
【0225】光重合開始剤(J)としては、ビニル系モ
ノマーの光重合に通常に使用される光重合開始剤が使用
できる。As the photopolymerization initiator (J), a photopolymerization initiator usually used for photopolymerization of vinyl monomers can be used.
【0226】増感剤(K)としては、チタノセン化合
物、トリアジン化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベン
ゾイミダゾール系化合物、シアニン色素、メロシアニン
色素、キサンテン色素、クマリン色素などが挙げられ
る。Examples of the sensitizer (K) include titanocene compounds, triazine compounds, benzophenone compounds, benzimidazole compounds, cyanine dyes, merocyanine dyes, xanthene dyes and coumarin dyes.
【0227】前記ネガ型レーザ製版層形成液、ポジ型レ
ーザ製版層形成液、または光重合型レーザ製版層形成液
に使用される溶剤、および前記ネガ型レーザ製版層形成
液、ポジ型レーザ製版層形成液、または光重合型レーザ
製版層形成液の塗布方法については、「(1)可視光露
光型製版層」のところで述べた溶剤および塗布方法と同
様である。Solvents used for the negative type laser plate making layer forming liquid, the positive type laser plate making layer forming liquid, or the photopolymerization type laser plate making layer forming liquid, and the negative type laser plate making layer forming liquid, positive type laser plate making layer The coating method of the forming liquid or the photopolymerization type laser plate making layer forming liquid is the same as the solvent and the coating method described in “(1) Visible light exposure type plate making layer”.
【0228】なお、前記光重合型レーザ製版層を形成す
るときは、シラン化合物を水、アルコール、またはカル
ボン酸で部分分解して得られる部分分解型シラン化合物
などの反応性官能基を有するシリコーン化合物で平版印
刷版用支持体の粗面化面を予め処理すると、平版印刷版
用支持体と前記光重合型レーザ製版層との接着性が向上
するから好ましい。When forming the photopolymerizable laser plate-making layer, a silicone compound having a reactive functional group such as a partially decomposed silane compound obtained by partially decomposing a silane compound with water, alcohol or carboxylic acid. It is preferable to pretreat the roughened surface of the lithographic printing plate support in order to improve the adhesion between the lithographic printing plate support and the photopolymerizable laser plate making layer.
【0229】3−3 塗布方法
前記感光性樹脂溶液、ネガ型レーザ製版層形成液、ポジ
型レーザ製版層形成液、および光重合型レーザ製版層形
成液を前記平版印刷版用アルミニウム支持体の粗面化面
に塗布する方法としては、コーティングロッドを用いる
方法、エクストルージョン型コーターを用いる方法、ス
ライドビードコーターを用いる方法など、従来公知の方
法が使用でき、また公知の条件に従って行うことができ
る。3-3 Coating Method The photosensitive resin solution, the negative type laser plate making layer forming liquid, the positive type laser plate making layer forming liquid, and the photopolymerization type laser plate making layer forming liquid were applied to the aluminum support for a lithographic printing plate. As a method for applying to the surface to be surfaced, conventionally known methods such as a method using a coating rod, a method using an extrusion type coater and a method using a slide bead coater can be used, and the method can be performed according to known conditions.
【0230】前記感光性樹脂溶液、ネガ型レーザ製版層
形成液、ポジ型レーザ製版層形成液、および光重合型レ
ーザ製版層形成液を塗布後のアルミニウム板を乾燥する
装置としては、特開平6−63487号公報に記載の、
乾燥装置内にパスロールを配置し、前記パスロールで搬
送しつつ乾燥するアーチ型ドライヤー、上下からノズル
によりエアーを供給し、ウェブを浮上させながら乾燥す
るエアードライヤー、高温に加熱された媒体からの輻射
熱で乾燥する輻射熱ドライヤー、およびローラを加熱
し、前記ローラとの接触による伝導伝熱により乾燥する
ローラドライヤー等がある。As an apparatus for drying an aluminum plate after coating the photosensitive resin solution, the negative type laser plate making layer forming liquid, the positive type laser plate making layer forming liquid and the photopolymerization type laser plate making layer forming liquid, there is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. Hei 6 (1999) -58242. -63487,
Arrange a pass roll in the drying device, an arch type dryer that dries while conveying it with the pass roll, an air dryer that supplies air from the top and bottom with a nozzle and dries while floating the web, radiant heat from a medium heated to a high temperature There are a radiant heat dryer for drying and a roller dryer for heating a roller and drying it by conduction heat transfer due to contact with the roller.
【0231】[0231]
【実施例】以下、実施例を用い、本発明についてさらに
具体的に説明する。
<1.平版印刷版用支持体の作製>以下に述べる手順に
従い、表1〜表4に示す条件で、サンプル1−1〜1−
14、およびサンプル2−1〜2−14を作製した。そ
れぞれの処理の後には水洗処理をおこない、それぞれの
処理及び水洗処理の後にはニップローラに依る液切りを
おこなった。但し、一の処置に引き続いて行なう他の処
理において、前記一の処理で使用したのと同一の処理液
を使用したときは、前記一の処理と前記他の処理との間
においては、水洗を省略した。EXAMPLES The present invention will be described more specifically below with reference to examples. <1. Preparation of lithographic printing plate support> Samples 1-1 to 1-under the conditions shown in Tables 1 to 4 according to the procedure described below.
14 and Samples 2-1 to 2-14 were produced. After each treatment, water washing treatment was performed, and after each treatment and water washing treatment, drainage was performed by a nip roller. However, in the other treatment performed subsequent to the one treatment, when the same treatment liquid as that used in the one treatment is used, washing with water is performed between the one treatment and the other treatment. Omitted.
【0232】[0232]
【表1】 [Table 1]
【0233】[0233]
【表2】 [Table 2]
【0234】[0234]
【表3】 [Table 3]
【0235】[0235]
【表4】
(1)機械的粗面化処理(a)
平均粒径12μmのパミスを研磨材として含有する研磨
材スラリーをスプレー管からアルミニウム板の表面に供
給しながら、回転するローラー状ブラシにより機械的な
粗面化をおこなった。[Table 4] (1) Mechanical surface roughening treatment (a) While supplying abrasive slurry containing pumice having an average particle diameter of 12 μm as an abrasive from the spray tube to the surface of the aluminum plate, mechanical roughening is performed by a rotating roller brush. I made a face.
【0236】ローラ状ブラシにおけるブラシ毛の材質は
6・10ナイロンであった。前記ブラシ毛は、直径30
0mmのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように
植毛した。ローラ状ブラシは3本使用した。前記ローラ
状ブラシのそれぞれに2本の支持ローラを設けた。前記
支持ローラの直径は200mmであり、距離は300m
mであった。ブラシ毛の直径は0.5mmであり、毛長
は300mmであった。The material of the brush bristles in the roller-shaped brush was nylon 6.10. The brush bristles have a diameter of 30.
Holes were punched in a 0 mm stainless steel tube and hair was densely planted. Three roller brushes were used. Two support rollers were provided for each of the roller brushes. The diameter of the supporting roller is 200 mm, and the distance is 300 m.
It was m. The bristle diameter was 0.5 mm and the bristle length was 300 mm.
【0237】前記ローラ状ブラシの押し込み量は、前記
ローラ状ブラシを回転させる駆動モータの負荷の、前記
ローラ状ブラシを押し付ける前の前期駆動モータの負荷
に対する増大量が一定になり、粗面化後のアルミニウム
板の平均表面粗さが0.4〜0.5μmになるように制
御した。オシレートの振幅は100mmであった。With respect to the pushing amount of the roller-shaped brush, the increase amount of the load of the drive motor for rotating the roller-shaped brush with respect to the load of the drive motor before the pressing of the roller-shaped brush becomes constant, and after the roughening. The aluminum plate was controlled so that the average surface roughness was 0.4 to 0.5 μm. The oscillation amplitude was 100 mm.
【0238】前記機械的粗面化処理においては、前記研
磨材スラリーを一定の時間間隔で採取して比重を測定
し、前記比重の変動幅が±10%以内になるように研磨
材を補充して研磨材濃度を制御した。In the mechanical surface roughening treatment, the abrasive slurry is sampled at regular time intervals to measure the specific gravity, and the abrasive is replenished so that the fluctuation range of the specific gravity is within ± 10%. To control the concentration of the abrasive.
【0239】(2)アルカリエッチング処理(b)
機械的粗面化処理後のアルミニウム板に、スプレー管か
ら、表1〜表4に示すNaOH濃度を有し、アルミニウ
ムイオンを7.5重量%含有するアルカリ溶液を噴きつ
けて、粗面化面におけるアルミニウム溶解量が表1また
は表2に示す値になるようにアルカリエッチング処理を
行った。(2) Alkaline etching treatment (b) From the spray tube, the aluminum plate after the mechanical surface roughening treatment had the NaOH concentration shown in Tables 1 to 4 and contained 7.5% by weight of aluminum ions. Alkali solution was sprayed, and alkali etching treatment was performed so that the amount of aluminum dissolved on the roughened surface became the value shown in Table 1 or Table 2.
【0240】なお、前記アルカリ溶液の濃度の制御につ
いては、前記スプレー管に供給されるアルカリ溶液を一
定の時間間隔で採取して比重と導電度とを測定し、前記
比重および導電度の変動幅が±10%以内になるように
前記アルカリ溶液に水または水酸化ナトリウムを補充す
ることにより行った。Regarding the control of the concentration of the alkali solution, the alkali solution supplied to the spray tube is sampled at regular time intervals to measure the specific gravity and the conductivity, and the fluctuation range of the specific gravity and the conductivity is measured. Was carried out by replenishing the alkaline solution with water or sodium hydroxide so as to be within ± 10%.
【0241】(3)デスマット処理(c)
表1〜表4に示す組成および液温の酸性溶液を用いてデ
スマット処理を行った。(3) Desmutting treatment (c) Desmutting treatment was performed using an acidic solution having the composition and liquid temperature shown in Tables 1 to 4.
【0242】(4)電解粗面化処理(d)
表1〜表4に示す組成および液温の硝酸溶液中で、図2
に示す電解槽を使用し、図1に示す波形の台形波電流を
印加して電解粗面化処理を行った。前記台形波電流の周
波数は60Hzであり、前記アルミニウム板のアノード
反応時の電気量および電流密度は表1〜表4に示す通り
であった。交流のduty(ta/T)は0.5であり、立
上り時間tpaおよびtpcは0.3msecであった。カ
ーボンの主極に対向する部分でのアルミニウム板がアノ
ード反応時の電気量の総和Qaとカソード反応時の電気
量総和Qcとの比Qc/Qaは0.95であった。アルミ
ニウム板に加わる電気量として、アルミニウム板が電解
槽を通過する間にアルミニウム板に加わった電気量であ
って前記アルミニウム板がアノード反応した電気量の総
和を示した。(4) Electrolytic surface roughening treatment (d) In a nitric acid solution having the composition and the liquid temperature shown in Tables 1 to 4, FIG.
The electrolytic cell shown in FIG. 2 was used to apply the trapezoidal wave current having the waveform shown in FIG. The frequency of the trapezoidal wave current was 60 Hz, and the amount of electricity and the current density during the anode reaction of the aluminum plate were as shown in Tables 1 to 4. The AC duty (ta / T) was 0.5, and the rise times tpa and tpc were 0.3 msec. The ratio Qc / Qa of the total amount of electricity Qa during the anode reaction and the total amount of electricity Qc during the cathode reaction of the aluminum plate in the portion facing the main electrode of carbon was 0.95. As the amount of electricity applied to the aluminum plate, the total amount of electricity applied to the aluminum plate while the aluminum plate passed through the electrolytic cell and the amount of electricity subjected to the anode reaction of the aluminum plate was shown.
【0243】前記硝酸溶液中の硝酸濃度は、一定の時間
間隔で前記硝酸溶液の音速と電導度とを測定し、前記音
速と電導度との変動幅が±10%以内になるように濃硝
酸または水を補充して制御した。The concentration of nitric acid in the nitric acid solution was measured by measuring the sound velocity and the conductivity of the nitric acid solution at regular time intervals, and the concentration of nitric acid was adjusted so that the fluctuation range between the sound velocity and the conductivity was within ± 10%. Alternatively, water was added to control.
【0244】(5)アルカリエッチング処理(e)
機械的粗面化処理後のアルミニウム板に、スプレー管か
ら、表1〜表4に示すNaOH濃度を有し、アルミニウ
ムイオンを7.5重量%含有するアルカリ溶液を噴きつ
けて、粗面化面におけるアルミニウム溶解量が表1〜表
4に示す値になるようにアルカリエッチング処理を行っ
た。(5) Alkaline etching treatment (e) From the spray tube, the aluminum plate after the mechanical surface roughening treatment had the NaOH concentration shown in Tables 1 to 4 and contained 7.5% by weight of aluminum ions. Alkali solution was sprayed and alkali etching treatment was performed so that the aluminum dissolution amount on the roughened surface became the values shown in Tables 1 to 4.
【0245】アルカリエッチング処理(d)と同様の方法
で前記アルカリ溶液中の水酸化ナトリウムの濃度を制御
した。The concentration of sodium hydroxide in the alkaline solution was controlled by the same method as in the alkaline etching treatment (d).
【0246】(6)デスマット処理(f)
表1〜表4に示す組成および液温の酸性溶液を用いてデ
スマット処理を行った。(6) Desmutting treatment (f) Desmutting treatment was carried out using an acidic solution having the composition and liquid temperature shown in Tables 1 to 4.
【0247】(7)電解粗面化処理(g)
表1〜表4に示す組成および液温の塩酸水溶液中で、図
2に示す電解槽を使用し、図1に示す波形の台形波電流
を印加して電解粗面化処理を行った。、前記台形波電流
の周波数は60Hzであり、前記アルミニウム板のアノ
ード反応時の電気量および電流密度は表1〜表4に示す
通りであった。交流のduty(ta/T)は0.5であ
り、立上り時間tpaおよびtpcは0.5msecであっ
た。カーボンの主極に対向する部分でのアルミニウム板
がアノード反応時の電気量の総和Qaとカソード反応時
の電気量総和Qcとの比Qc/Qaは0.95であった。
アルミニウム板に加わる電気量として、アルミニウム板
が電解槽を通過する間にアルミニウム板に加わった電気
量であって前記アルミニウム板がアノード反応した電気
量の総和を示した。(7) Electrolytic surface roughening treatment (g) Using the electrolytic cell shown in FIG. 2 in an aqueous hydrochloric acid solution having the composition and liquid temperature shown in Tables 1 to 4, the trapezoidal wave current having the waveform shown in FIG. 1 is used. Was applied to carry out electrolytic surface roughening treatment. The frequency of the trapezoidal wave current was 60 Hz, and the amount of electricity and the current density during the anode reaction of the aluminum plate were as shown in Tables 1 to 4. The AC duty (ta / T) was 0.5, and the rise times tpa and tpc were 0.5 msec. The ratio Qc / Qa of the total amount of electricity Qa during the anode reaction and the total amount of electricity Qc during the cathode reaction of the aluminum plate in the portion facing the main electrode of carbon was 0.95.
As the amount of electricity applied to the aluminum plate, the total amount of electricity applied to the aluminum plate while the aluminum plate passed through the electrolytic cell and the amount of electricity subjected to the anode reaction of the aluminum plate was shown.
【0248】前記塩酸溶液中の塩酸濃度は、一定の時間
間隔で前記塩酸溶液の音速と電導度とを測定し、前記音
速と電導度との変動幅が±10%以内になるように濃塩
酸または水を補充して制御した。Regarding the concentration of hydrochloric acid in the hydrochloric acid solution, the sonic velocity and the conductivity of the hydrochloric acid solution are measured at regular time intervals, and concentrated hydrochloric acid is adjusted so that the fluctuation range between the sonic velocity and the conductivity is within ± 10%. Alternatively, water was added to control.
【0249】(8)アルカリエッチング処理(h)
機械的粗面化処理後のアルミニウム板に、スプレー管か
ら、表1〜表4に示すNaOH濃度のアルカリ溶液を噴
きつけて、粗面化面におけるアルミニウム溶解量が表1
または表2に示す値になるようにアルカリエッチング処
理を行った。(8) Alkaline etching treatment (h) The aluminum plate after the mechanical surface roughening treatment was sprayed with an alkaline solution having the NaOH concentration shown in Tables 1 to 4 on the roughened surface from a spray tube. Table 1 shows the amount of aluminum dissolved
Alternatively, alkali etching treatment was performed so that the values shown in Table 2 were obtained.
【0250】なお、アルカリエッチング処理(d)と同様
の方法で前記アルカリ溶液中の水酸化ナトリウムの濃度
を制御した。The concentration of sodium hydroxide in the alkaline solution was controlled by the same method as the alkaline etching treatment (d).
【0251】(9)デスマット処理(I)
表1〜表4に示す組成および液温の酸性溶液を用いてデ
スマット処理を行った。(9) Desmutting treatment (I) Desmutting treatment was carried out using an acidic solution having the composition and liquid temperature shown in Tables 1 to 4.
【0252】(10)陽極酸化処理
硫酸サンプル1−1〜1−14およびサンプル2−1〜
2−14に、硫酸濃度10重量%、液温30℃の硫酸溶
液中で直流を印加して陽極酸化処理し、表面の被膜量が
2.6g/m2になるように陽極酸化被膜を形成した。
なお、陽極酸化処理に使用した硫酸溶液を一定時間毎に
採取して比重と電導度とを測定し、前記比重および電導
度の変動幅が±10%以内になるように濃硫酸または水
を補充して前記硫酸溶液中の硫酸濃度を制御した。(10) Anodizing sulfuric acid samples 1-1 to 1-14 and samples 2-1 to 2-1
2-14 is anodized by applying direct current in a sulfuric acid solution having a sulfuric acid concentration of 10% by weight and a liquid temperature of 30 ° C. to form an anodized film so that the surface coating amount becomes 2.6 g / m 2. did.
The sulfuric acid solution used for the anodizing treatment is sampled at regular intervals to measure the specific gravity and the electric conductivity, and concentrated sulfuric acid or water is replenished so that the fluctuation range of the specific gravity and the electric conductivity is within ± 10%. Then, the sulfuric acid concentration in the sulfuric acid solution was controlled.
【0253】なお、研磨材スラリー、アルカリ溶液、硝
酸溶液、塩酸溶液、および硫酸溶液の濃度の制御を行わ
なかった以外は、前記サンプル1−1〜1−14と同様
の手順にしたがってサンプル3−1〜3−14を作製し
た。Sample 3 was prepared according to the same procedure as in Samples 1-1 to 1-14 except that the concentrations of the abrasive slurry, alkali solution, nitric acid solution, hydrochloric acid solution and sulfuric acid solution were not controlled. 1-3-14 were produced.
【0254】<2.平版印刷版の作製、評価>
(実施例A、比較例A)陽極酸化処理を施したサンプル
1−1〜1−14およびサンプル2−1〜2−14を、
液温が20℃の珪酸ナトリウム1重量%溶液中に7秒間
浸漬し、表面に4g/m2のシリケート被膜を形成し
た。以下、前記サンプルをそれぞれ1−1A〜1−14
A,および2−1A〜2−14Aとする。<2. Preparation and Evaluation of Lithographic Printing Plate> (Example A, Comparative Example A) Samples 1-1 to 1-14 and samples 2-1 to 2-14, which were anodized,
It was dipped in a 1 wt% sodium silicate solution having a liquid temperature of 20 ° C. for 7 seconds to form a 4 g / m 2 silicate film on the surface. In the following, the above samples are referred to as 1-1A to 1-14, respectively.
A and 2-1A to 2-14A.
【0255】前記シリケート被膜を形成したサンプル
に、製版層形成例1〜10に従って製版層を形成し、製
版、および印刷を行なって耐刷性、払い枚数、非画像部
の汚れ、放置後の汚れ、およびブランケットロール上の
堆積物による着肉不良の有無につき、評価した。結果を
表5に示す。A plate-making layer was formed on the above-mentioned sample on which the silicate film had been formed, according to the plate-making layer formation examples 1 to 10, and the plate-making and printing were carried out to obtain printing durability, the number of wiped sheets, stains on non-image areas, and stains after leaving. , And the presence or absence of defective inking due to deposits on the blanket rolls were evaluated. The results are shown in Table 5.
【0256】[0256]
【表5】
(実施例B、比較例B)陽極酸化処理を施したサンプル
1−1〜2−14に何らの後処理を施すことなく、製版
層形成例1〜10に従って製版層を形成し、製版、およ
び印刷を行なって耐刷性、払い枚数、非画像部の汚れ、
放置後の汚れ、およびブランケットローラ上の堆積物に
よる着肉不良の有無につき、評価した。結果を表6に示
す。[Table 5] (Example B, Comparative Example B) A plate-making layer was formed according to the plate-making layer forming examples 1 to 10 without any post-treatment on the anodized samples 1-1 to 2-14, and When printing, printing durability, number of paid sheets, non-image area stain,
The stains after standing and the presence or absence of defective inking due to deposits on the blanket roller were evaluated. The results are shown in Table 6.
【0257】[0257]
【表6】
(比較例3−1A〜3−14A)前記「実施例A、比較
例A」に記載の手順と同様の手順および条件に従ってサ
ンプル3−1A〜3−14Aを後処し、製版層を形成
し、製版、印刷を行なって耐刷性、払い枚数、非画像部
の汚れ、放置後の汚れ、およびブランケットローラ上の
堆積物による着肉不良の有無につき、評価した。結果を
表7に示す。[Table 6] (Comparative Examples 3-1A to 3-14A) Samples 3-1A to 3-14A were post-treated according to the same procedures and conditions as those described in the above "Example A, Comparative Example A" to form a plate-making layer, After plate making and printing, printing durability, the number of printed sheets, stains on non-image areas, stains after leaving, and presence or absence of inking defects due to deposits on the blanket roller were evaluated. The results are shown in Table 7.
【0258】[0258]
【表7】
耐刷性、払い枚数、非画像部の汚れ、放置後の汚れ、お
よび着肉不良は、以下の手順により評価した。[Table 7] The following procedures evaluated the printing durability, the number of paid-out sheets, the stains on the non-image area, the stains after leaving, and the defective inking.
【0259】・耐刷性:印刷紙面にインキの擦れや地汚
れが目視で明確に認められるまでの印刷用紙の通し枚数
により評価した。前記通し枚数が5万枚以下の場合には
「不良」と評価し、前記通し枚数が5万枚を超える場合
には「良好」と評価した。Printing durability: Evaluation was made by the number of sheets of printing paper through which rubbing of ink and scumming on the printing paper surface were clearly observed. When the number of passed sheets was 50,000 or less, it was evaluated as "poor", and when the number of passed sheets was more than 50,000, it was evaluated as "good".
【0260】・払い枚数:非画像部にインキの載った印
刷物が、印刷開始後どれだけの枚数印刷した時点で発生
しなくなるかを、印刷物を目視で観察して調べ、前記印
刷物の枚数が少ないものを「良好」と評価し、前記印刷
物の枚数の多いものを「不良」と評価した。-Payment number: The number of printed matter on which the ink is not printed on the non-image area is visually observed to check how many times the printed matter does not occur after the start of printing. Those having a large number of printed materials were evaluated as "poor".
【0261】・非画像部の汚れ:印刷時において、水を
絞った状態における印刷物の非画像部における汚れの状
態を目視で観察し、前記汚れの少ないものを「良好」と
評価し、前記汚れの多いものを「不良」と評価した。Stain on non-image area: At the time of printing, the state of dirt on the non-image area of the printed matter in a squeezed water condition was visually observed, and the one with less stain was evaluated as "good", and the stain Those with a large number were evaluated as “poor”.
【0262】・放置後の汚れ:一万枚印刷を行なった
後、そのままの状態で版を1時間放置し、その後印刷を
再開したときの非画像部の汚れの状態を目視で観察し、
「大変良好」、「良好」、「やや不良」、および「不
良」の4段階で評価した。Staining after leaving: After printing 10,000 sheets, leaving the plate as it is for 1 hour, and then visually observing the stain on the non-image part when printing is restarted,
It was evaluated in four grades of "very good", "good", "somewhat bad", and "poor".
【0263】・着肉不良:オフセット輪転印刷機のブラ
ンケットローラ上の堆積物による着肉不良の発生し難さ
に基き、「大変良好」、「良好」、「やや不良」、およ
び「不良」の4段階で評価した。Defects in ink thickness: "very good", "good", "slightly bad", and "poor", based on the difficulty of occurrence of inking defects due to deposits on the blanket rollers of the offset rotary printing press. It was evaluated on a 4-point scale.
【0264】(製版層形成例1)前記各後処理を施した
サンプル1−1〜1−14およびサンプル2−1〜2−
14に、下記組成の下塗り液を塗布し、80℃で30秒
間乾燥した。乾燥後の被覆量は30mg/m2であっ
た。(Plate-making layer forming example 1) Samples 1-1 to 1-14 and samples 2-1 to 2-, which have been subjected to the respective post-treatments
The undercoating liquid having the following composition was applied to 14 and dried at 80 ° C. for 30 seconds. The coating amount after drying was 30 mg / m 2.
【0265】[下塗り液] アミノエチルホスホン酸 0.10g フェニルホスホン酸 0.15g β−アラニン 0.10g メタノール 40g 純 水 60g。[Undercoat liquid] Aminoethylphosphonic acid 0.10 g Phenylphosphonic acid 0.15g β-alanine 0.10 g 40 g of methanol 60 g of pure water.
【0266】次に、前記平版印刷版用アルミニウム支持
体に、以下の組成を有する感光層形成液Aを、塗布量を
変化させて塗布し、110℃で1分間乾燥してポジ型感
光性平版印刷原版を得た。Next, a photosensitive layer forming liquid A having the following composition was coated on the aluminum support for a lithographic printing plate in various coating amounts and dried at 110 ° C. for 1 minute to prepare a positive photosensitive lithographic plate. I got the original printing plate.
【0267】 〔感光層形成液A〕 1,2−ジアゾナフトキノン−5−スルホニルクロリドとピロガロール−アセト ン樹脂とのエステル化物(米国特許第3,635,709号明細書の実施例1に記載され ているもの) … 0.45g クレゾール−ホルムアルデヒドノボラック樹脂(メタ/パラ比=6対4、重量平 均分子量3,000 、数平均分子量1,100、未反応のクレゾールを0.7%含有) … 1.1g m−クレゾール−ホルムアルデヒドノボラック樹脂(重量平均分子量1,700 、数 平均分子量600、未反応のクレゾールを1%含有) … 0.3g N−(P−アミノスルホニルフェニル)アクリルアミド−ノルマルブチルアクリ レート−ジエチレングリコールモノメチルエーテルメタクリレート共重合体(各 モノマーの仕込モル比=40:40:20、重量平均分子量40,000、数平均分子 量20,000) … 0.2g P−ノルマルオクチルフェノール−ホルムアルデヒド樹脂(米国特許第4,123,27 9 号明細書に記載されているもの) … 0.021g ナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸クロライド …0.01g テトラヒドロ無水フタル酸 … 0.1g 安息香酸 … 0.02g 4−〔p−N,N−ビス(エトキシカルボニルメチル)アミノフェニル〕−2, 6−ビス(トリクロロメチル)−S−トリアジン … 0.01g 4−〔P−N−(P−ヒドロキシベンゾイル)アミノフェニル〕−2,6−ビス (トリクロロメチル)−S−トリアジン … 0.02g 2−トリクロロメチル−5−(4−ヒドロキシスチリル)−1,3,4−オキサ ジアゾール … 0.01g ビクトリアピュアブルーBOHの対アニオンを1−ナフタレンスルホン酸に置換 した染料 … 0.02g モディパーF−200(日本油脂(株)製フッ素系界面活性剤)を30重量%含 むメチルエチルケトンとメチルイソブチルケトン混合溶剤溶液 … 0.06g メガファックF177(大日本インキ化学工業(株)製フッ素系界面活性剤)を 20重量%含むメチルイソブチルケトン溶液) … 0.02g メチルエチルケトン … 15g 1−メトキシ−2−プロパノール … 10g の組成を有するものを用いた。[0267] [Photosensitive layer forming liquid A] 1,2-diazonaphthoquinone-5-sulfonyl chloride and pyrogallol-acetate Esterification with a resin (described in Example 1 of US Pat. No. 3,635,709) That is) 0.45g Cresol-formaldehyde novolac resin (meta / para ratio = 6: 4, weight flat Average molecular weight of 3,000, number average molecular weight of 1,100, and 0.7% of unreacted cresol) 1.1 g m-cresol-formaldehyde novolak resin (weight average molecular weight 1,700, number Average molecular weight 600, containing 1% of unreacted cresol) ... 0.3 g N- (P-aminosulfonylphenyl) acrylamide-normal butyl acryl Rate-diethylene glycol monomethyl ether methacrylate copolymer (each Charged molar ratio of monomer = 40: 40: 20, weight average molecular weight 40,000, number average molecule 20,000) 0.2 g P-normal octylphenol-formaldehyde resin (US Pat. No. 4,123,27 What is described in the specification No. 9) ... 0.021 g Naphthoquinone-1,2-diazide-4-sulfonic acid chloride … 0.01 g Tetrahydrophthalic anhydride: 0.1 g Benzoic acid: 0.02g 4- [p-N, N-bis (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2, 6-bis (trichloromethyl) -S-triazine ... 0.01 g 4- [PN- (P-hydroxybenzoyl) aminophenyl] -2,6-bis (Trichloromethyl) -S-triazine ... 0.02 g 2-Trichloromethyl-5- (4-hydroxystyryl) -1,3,4-oxa Diazole ... 0.01g Substitute counter anion of Victoria Pure Blue BOH with 1-naphthalene sulfonic acid Dye ... 0.02g Contains 30% by weight of MODIPER F-200 (a fluorinated surfactant manufactured by NOF CORPORATION) Methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone mixed solvent solution … 0.06g Megafac F177 (Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd. fluorinated surfactant) Methyl isobutyl ketone solution containing 20% by weight) ... 0.02 g Methyl ethyl ketone ... 15g 1-methoxy-2-propanol ... 10 g The one having the composition of was used.
【0268】前記感光層形成液Aを塗布して乾燥した製
版層の上に、メチルメタクリレートとエチルアクリレー
トとアクリル酸ソーダとを68/20/12の仕込モル
比で共重合した共重合体の水溶液を静電スプレーしてよ
りマット層を設けた。An aqueous solution of a copolymer obtained by copolymerizing methyl methacrylate, ethyl acrylate and sodium acrylate at a charge molar ratio of 68/20/12 on the plate making layer coated with the photosensitive layer forming liquid A and dried. Was electrostatically sprayed to provide a mat layer.
【0269】得られた感光性平版印刷原版を、真空焼枠
中で、透明ポジティブフィルムを通し、1mの距離から
3kwのメタルハライドランプにより50秒間露光を行
なったのち、現像液としてSiO2/Na2Oのモル比が
1.74の珪酸ナトリウムの5.26%水溶液(pH=
12.7)を、リンス液として富士写真フィルム(株)
製FR−3(1:7)を仕込んだ富士写真フィルム
(株)製自動現像機スタブロン900Dに通して処理し
た。The obtained photosensitive lithographic printing plate precursor was passed through a transparent positive film in a vacuum baking frame and exposed for 50 seconds from a distance of 1 m by a metal halide lamp of 3 kw. Then, a mole of SiO2 / Na2O was used as a developing solution. A 5.26% aqueous solution of sodium silicate with a ratio of 1.74 (pH =
12.7) as a rinsing liquid by Fuji Photo Film Co., Ltd.
Processing was carried out by passing through an automatic processor Stablon 900D manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. charged with FR-3 (1: 7) manufactured by FR.
【0270】得られた平版印刷版について印刷性能を評
価した。印刷機としてハイデルベルグ社製SOR−Mを
使用し、湿し水として富士写真フィルム(株)製EU−
3(1:100)にイソプロパノールを10%添加した
ものを使用し、インキとしては、東洋インキ(株)製マ
ークファイブニュー墨を用いて印刷を行なった。The printing performance of the obtained lithographic printing plate was evaluated. Heidelberg SOR-M is used as the printing machine, and Fuji Photo Film Co., Ltd. EU- is used as the dampening water.
3 (1: 100) to which 10% of isopropanol was added was used, and printing was performed using Mark Five New Ink manufactured by Toyo Ink Co., Ltd. as the ink.
【0271】(製版層形成例2)前記各後処理を施した
サンプル1−1〜1−14およびサンプル2−1〜2−
14に、以下の塗布液を2g/m2の塗布量で塗布して
乾燥し、下地層を形成した。(Plate-making layer forming example 2) Samples 1-1 to 1-14 and samples 2-1 to 2-which have been subjected to each of the above-mentioned post-treatments.
The following coating liquid was applied to 14 at a coating amount of 2 g / m 2 and dried to form a base layer.
【0272】 [塗布液] 1,2−ジアゾナフトキノン−5−スルホニルクロリドと ピロガロール−アセトン樹脂のエステル化物 (重量平均分子量2500) 40重量部 フェノールホルムアルデヒド樹脂 (重量平均分子量10000,3核体以上の成分90%) 75重量部 アクリルポリマーI 35重量部 2−(p−ブトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロ ロメチル)−s−トリアジン 3重量部 オイルブルー#603 (オリエント化学工業(株)製) 1.5重量部 メガファックF−176 (大日本インキ化学工業(株)製フッ素系界面活性剤) 0.3重量部 メチルエチルケトン 1000重量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル 1000重量部 の組成を有するものを用いた。[0272] [Coating liquid] 1,2-diazonaphthoquinone-5-sulfonyl chloride Pyrogallol-acetone resin esterification product (Weight average molecular weight 2500) 40 parts by weight Phenol formaldehyde resin (Weight average molecular weight 10,000, 90% of trinuclear or more components) 75 parts by weight Acrylic Polymer I 35 parts by weight 2- (p-butoxyphenyl) -4,6-bis (trichloro) (Methyl) -s-triazine 3 parts by weight Oil blue # 603 (Orient Chemical Co., Ltd.) 1.5 parts by weight Mega Fuck F-176 (Dainippon Ink and Chemicals, Inc. Fluorine-based surfactant) 0.3 parts by weight Methyl ethyl ketone 1000 parts by weight Propylene glycol monomethyl ether 1000 parts by weight The one having the composition of was used.
【0273】前記アクリルポリマーIは、以下の手順で
合成した。The acrylic polymer I was synthesized by the following procedure.
【0274】N−(p−トルエンスルホニル)メタクリ
ルアミド60.3g、アクリロニトリル10.0gおよ
びエチルアクリレート46.0gをジメチルホルムアミ
ド232.6gに溶解し、窒素気流下、2,2′−アゾ
ビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)0.224g
を重合開始剤として用い、65℃で7時間攪拌した。反
応液を放冷した後、水5リットル中に再沈した。析出し
たポリマーを濾取し、乾燥することでアクリルポリマー
Iを110.4g(収率95%、Mw52,000)を
得た。60.3 g of N- (p-toluenesulfonyl) methacrylamide, 10.0 g of acrylonitrile and 46.0 g of ethyl acrylate were dissolved in 232.6 g of dimethylformamide, and 2,2'-azobis (2,2) was obtained under a nitrogen stream. 4-dimethylvaleronitrile) 0.224 g
Was used as a polymerization initiator, and the mixture was stirred at 65 ° C. for 7 hours. The reaction solution was allowed to cool and then reprecipitated in 5 liters of water. The precipitated polymer was collected by filtration and dried to obtain 110.4 g of acrylic polymer I (yield 95%, Mw 52,000).
【0275】さらに以下のマット形成樹脂液を吹きつけ
てマット層を形成した。マット層形成用樹脂液としてメ
チルメタクリレート/エチルアクリレート/アクリル酸
(仕込重量比65:20:15)共重合体の一部をナト
リウム塩とした12%水溶液を調製し、回転霧化静電塗
布機で霧化頭回転数25,000rpm、樹脂液の送液
量は40ml/分、霧化頭への印加電圧は−90kV、
塗布時の周囲温度は25℃、相対湿度は50%とし、塗
布後2.5秒で塗布面に蒸気を吹き付けて湿潤させ、つ
いで湿潤した3秒後に温度60℃、湿度10%の温風を
5秒間吹き付けて乾燥させた。Further, the following mat forming resin liquid was sprayed to form a mat layer. A 12% aqueous solution of methyl methacrylate / ethyl acrylate / acrylic acid (preparation weight ratio 65:20:15) copolymer as a part of sodium salt was prepared as a mat layer forming resin liquid, and a rotary atomizing electrostatic coating machine was prepared. The atomizing head rotation speed is 25,000 rpm, the resin liquid feed rate is 40 ml / min, and the voltage applied to the atomizing head is -90 kV.
The ambient temperature at the time of application is 25 ° C., the relative humidity is 50%, steam is sprayed on the application surface 2.5 seconds after application to moisten, and 3 seconds after moistening, warm air with temperature 60 ° C. and humidity 10% is applied. Sprayed for 5 seconds to dry.
【0276】このようにした作製した平版印刷原版に原
稿フィルムを通して1mの距離から3kWのメタルハラ
イドランプを用いて、60秒間露光した。The lithographic printing original plate thus prepared was exposed through a document film for 60 seconds from a distance of 1 m using a 3 kW metal halide lamp.
【0277】[現像液a(pH約12.4)] D−サッカロース 4.8 重量% 水酸化ナトリウム 0.34重量% 炭酸ナトリウム 0.70重量% テトラブチルアンモニウムブロマイド 0.03重量% 水 94.7 重量% の組成を有するものを用いた。 [現像補充液a(pH約13.0)] D−サッカロース 9.7 重量% 水酸化ナトリウム 1.5 重量% 炭酸ナトリウム 1.0 重量% テトラブチルアンモニウムブロマイド 0.07重量% 水 残 部 の組成を有するものを用いた。[Developer a (pH about 12.4)] D-sucrose 4.8% by weight Sodium hydroxide 0.34% by weight Sodium carbonate 0.70% by weight Tetrabutylammonium bromide 0.03% by weight Water 94.7% by weight The one having the composition of was used. [Development replenisher a (pH about 13.0)] D-sucrose 9.7% by weight Sodium hydroxide 1.5% by weight Sodium carbonate 1.0% by weight Tetrabutylammonium bromide 0.07% by weight Water balance The one having the composition of was used.
【0278】 〔フィニッシングガム液〕 アラビアガム 1.8 重量% 酵素変性馬鈴薯澱粉 18.3 重量% 酵素変性玉蜀黍澱粉 3.7 重量% 燐酸化ワキシー玉蜀黍澱粉 1.8 重量% ジオクチルスルホコハク酸エステルのナトリウム塩 0.91重量% 第一燐酸アンモニウム 0.27重量% 燐酸(85%) 0.37重量% EDTA−四ナトリウム塩 0.27重量% エチレングリコール 1.8 重量% ベンジルアルコール 2.3 重量% デヒドロ酢酸ナトリウム 0.04重量% エマルジョン型シリコン消泡剤 0.02重量% 水 68.4 重量% の組成を有するものを用いた。[0278] [Finishing gum solution] Gum arabic 1.8% by weight Enzyme-modified potato starch 18.3% by weight Enzyme-modified starch syrup starch 3.7% by weight Phosphorylated waxy corn starch starch 1.8% by weight Sodium salt of dioctyl sulfosuccinate 0.91% by weight Ammonium monophosphate 0.27% by weight Phosphoric acid (85%) 0.37% by weight EDTA-tetrasodium salt 0.27% by weight Ethylene glycol 1.8% by weight Benzyl alcohol 2.3% by weight Sodium dehydroacetate 0.04% by weight Emulsion type antifoaming agent 0.02% by weight Water 68.4% by weight The one having the composition of was used.
【0279】 〔リンス液〕 ドデシルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム(40重量%水溶液) …6.7 重量% ヘキサメタ燐酸ナトリウム …0.8 重量% ベンジルアルコール …1.5 重量% ポリオキシエチレン(エチレンオキシド12モル付加)ノニルフェニルエーテル …1.5 重量% ジオクチルスルホ琥珀酸ナトリウム …1.4 重量% 燐酸(85重量%) …5.2 重量% 水酸化ナトリウム …2.0 重量% シリコン消泡剤 …0.01重量% 水 …80.89重量% の組成を有するものを用いた。[0279] [Rinse solution] Sodium dodecyl diphenyl ether disulfonate (40% by weight aqueous solution) … 6.7 wt% Sodium hexametaphosphate: 0.8% by weight Benzyl alcohol: 1.5% by weight Polyoxyethylene (addition of 12 mol of ethylene oxide) nonyl phenyl ether … 1.5% by weight Sodium dioctyl sulfosuccinate: 1.4% by weight Phosphoric acid (85% by weight) ... 5.2% by weight Sodium hydroxide: 2.0% by weight Silicon antifoaming agent: 0.01% by weight Water ... 80.89% by weight The one having the composition of was used.
【0280】次に浸漬型現像槽を有する市販の自動現像
機PS−900D(富士写真フイルム(株)製)の現像
槽に、上記各現像液を20リットル仕込み、30℃に保
温した。PS−900Dの第二浴目には水道水を8リッ
トル、第三浴目にはフィニッシング液:水=1:1希釈
したフィニッシング液を8リットル仕込んだ。このPS
−900Dに前述の露光済みの平版印刷版を通し、現像
処理した。Next, 20 liters of each of the above developing solutions was placed in a developing tank of a commercially available automatic developing machine PS-900D (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) having an immersion type developing tank and kept at 30 ° C. The second bath of PS-900D was charged with 8 liters of tap water, and the third bath was charged with 8 liters of a finishing liquid: water = 1: 1 diluted. This PS
The exposed lithographic printing plate was passed through -900D and developed.
【0281】現像後の平版印刷版を、製版層形成例1と
同様の手順で印刷性能について評価した。The planographic printing plate after development was evaluated for printing performance in the same procedure as in Plate-making layer formation example 1.
【0282】(製版層形成例3)前記各後処理を施した
サンプル1−1〜1−14およびサンプル2−1〜2−
14に、下記組成Aの共重合体の1%水溶液を、ロール
コーターによつて塗布し、乾燥させて下塗り層を形成し
た。その乾燥後の塗布量は0.05g/m2であつた。(Plate-making layer forming example 3) Samples 1-1 to 1-14 and samples 2-1 to 2- which have been subjected to the above respective post-treatments
A 14% aqueous solution of a copolymer having the following composition A was applied to 14 by a roll coater and dried to form an undercoat layer. The coating amount after drying was 0.05 g / m 2.
【0283】[組成A]メチルメタクリレート/エチル
アクリレート/2−アクリルアミド−2−メチルプロパ
ンスルホン酸ナトリウム(仕込モル比=50:30:2
0)の共重合体(平均分子量約60000)。[Composition A] Methyl methacrylate / ethyl acrylate / 2-acrylamido-2-methylpropane sulfonate (molar ratio of charge = 50: 30: 2)
0) copolymer (average molecular weight of about 60,000).
【0284】この下塗り層の上に下記組成の感光層形成
液を塗布し乾燥させて、感光性平版印刷原版を得た。こ
れを試料とする。A photosensitive layer-forming liquid having the following composition was applied onto the undercoat layer and dried to obtain a photosensitive lithographic printing original plate. This is used as a sample.
【0285】 [感光層形成液] 2−ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体(米国特許第4123276号明細中の 実施例1に記載されているもの。) …0.87g p−ジアゾジフエニルアミンとパラホルムアルデヒドの縮合物の2−メトキシ− 4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルベンゼンスルホン酸塩 …0.1g “オイルブル−#603"(オリエント化学工業(株)の青色染料) …0.03g メタノール …6g 2−メトキシエタノール …6g の組成を有するものを用いた。[0285] [Photosensitive layer forming liquid] 2-hydroxyethylmethacrylate copolymer (US Pat. No. 4,123,276) What is described in Example 1. ) ... 0.87g 2-Methoxy-a condensate of p-diazodiphenylamine and paraformaldehyde 4-hydroxy-5-benzoylbenzenesulfonate ... 0.1g "Oil Bull- # 603" (blue dye from Orient Chemical Industry Co., Ltd.) … 0.03 g Methanol ... 6g 2-methoxyethanol: 6g The one having the composition of was used.
【0286】製版層の乾燥塗布量は、2.0g/m2で
あつた。The dry coating amount of the plate-making layer was 2.0 g / m 2 .
【0287】前記平版印刷原版に透明ネガ原画を真空密
着し、3kWのメタルハライド灯で1mの距離から60
秒間露光し、以下の組成を有する現像液に1分間浸漬
し、製版層の表面をスポンジで軽く擦つて現像し、市販
の不感脂化ガム液を塗布した。A transparent negative original image was vacuum-contacted to the lithographic printing plate precursor and a metal halide lamp of 3 kW was used to measure 60 m from a distance of 1 m.
After exposure for 2 seconds, the plate was immersed in a developer having the following composition for 1 minute, the surface of the plate-making layer was lightly rubbed with a sponge to develop, and a commercially available desensitizing gum solution was applied.
【0288】 の組成を有するものを用いた。[0288] The one having the composition of was used.
【0289】この平版印刷版を用いて製版層形成例1と
同様の手順で印刷した。Printing was carried out using this lithographic printing plate in the same manner as in Plate-making layer formation example 1.
【0290】
(製版層形成例4)
〔カーボンブラック分散液の作製〕
カーボンブラック 1重量部
ベンジルメタクリレートとメタクリル酸の共重合体(仕込モル比72:28、
重量平均分子量7万) 1.6重量部
シクロヘキサノン 1.6重量部
メトキシプロピルアセテート 3.8重量部
からなる組成物をガラスビーズにより10分間分散し、
カーボンブラック分散液を得た。(Plate Making Layer Formation Example 4) [Preparation of Carbon Black Dispersion] Carbon Black 1 part by weight Copolymer of benzyl methacrylate and methacrylic acid (charge molar ratio 72:28, weight average molecular weight 70,000) 1.6 parts by weight Parts cyclohexanone 1.6 parts by weight methoxypropyl acetate 3.8 parts by weight of a composition dispersed by glass beads for 10 minutes,
A carbon black dispersion was obtained.
【0291】〔ネガ型感光性平版印刷原版の作製〕前記
各後処理を施したサンプル1−1〜1−14およびサン
プル2−1〜2−14に、下記の感光層形成液を塗布
し,100℃で2分間乾燥をしてネガ型感光性平版印刷
原版を得た。乾燥後の被膜量は2.0g/m2であっ
た。[Preparation of negative photosensitive lithographic printing plate precursor] The following photosensitive layer forming liquid was applied to each of the post-treated Samples 1-1 to 1-14 and Samples 2-1 to 2-14, It was dried at 100 ° C. for 2 minutes to obtain a negative photosensitive lithographic printing original plate. The coating amount after drying was 2.0 g / m 2.
【0292】 [感光層形成液] 前記感光層形成液としては、 前記カーボンブラック分散液 10g 4ージアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドの縮合物の六フッ化燐酸塩 0.5g メタクリル酸と2ーヒドロキシエチルアクリレートとベンジルメタクリレートと アクリロニトリルのラジカル共重合体(モノマー仕込モル比15:30:40: 15、重量平均分子量10万) 5g リンゴ酸 0.05g FCー430(米国3M社製フッ素系界面活性剤) 0.05g 1ーメトキシー2ープロパノール 80g 乳酸エチル 15g 水 5g の組成を有するものを用いた。[0292] [Photosensitive layer forming liquid] As the photosensitive layer forming liquid, 10 g of the carbon black dispersion Hexafluorophosphate of a condensation product of 4-diazodiphenylamine and formaldehyde 0.5 g Methacrylic acid, 2-hydroxyethyl acrylate, benzyl methacrylate Acrylonitrile radical copolymer (molar ratio of charged monomers 15:30:40: 15, weight average molecular weight 100,000) 5g Malic acid 0.05g FC-430 (Fluorine-based surfactant manufactured by 3M Company, USA) 0.05 g 1-Methoxy-2-propanol 80g Ethyl lactate 15g 5 g of water The one having the composition of was used.
【0293】得られたネガ型感光性平版印刷原版を、版
面出力2Wに調節したYAGレーザで露光した後,富士
写真フィルム(株)製現像液,DN−3C(1:1),
ガム液FN−2(1:1)を仕込んだ自動現像機を通し
て処理したところ、ネガ画像が得られた。この平版印刷
版をハイデルSORーKZ機で印刷した。The obtained negative type photosensitive lithographic printing plate precursor was exposed with a YAG laser adjusted to a plate surface output of 2 W, and then developed by Fuji Photo Film Co., Ltd., DN-3C (1: 1),
When processed through an automatic processor equipped with gum solution FN-2 (1: 1), a negative image was obtained. This lithographic printing plate was printed on a Heidel SOR-KZ machine.
【0294】(製版層形成例5)前記各後処理を施した
サンプル1−1〜1−14およびサンプル2−1〜2−
14に、下記の下塗り液をワイヤーバーにて塗布し、温
風式乾燥装置を用いて90℃で30秒間乾燥した。乾燥
後の被膜量は20mg/m2であった。(Plate-making layer forming example 5) Samples 1-1 to 1-14 and samples 2-1 to 2-which have been subjected to the above respective post-treatments.
The following undercoat liquid was applied to 14 with a wire bar and dried at 90 ° C. for 30 seconds using a warm air dryer. The coating amount after drying was 20 mg / m 2.
【0295】 <下塗り液> ・メタクリロイルオキシエチルホスホン酸 0.2g ・メチルアクリレートとスチレンスルホン酸ナトリウム塩の仕込みモル比75 :15の共重合体 0.2g ・硝酸カルシウム 0.2g ・メタノール 20g ・イオン交換水 80g。 の組成を有するものを用いた。[0295] <Undercoat liquid> ・ Methacryloyloxyethylphosphonic acid 0.2 g ・ Mole ratio of methyl acrylate and sodium styrenesulfonate 75 : Copolymer of 15 0.2 g ・ Calcium nitrate 0.2g ・ Methanol 20g -Ion-exchanged water 80g. The one having the composition of was used.
【0296】[記録層の形成]前記下塗り層を形成した
支持体上に、下記の記録層塗布液[P−1]をワイヤー
バーで塗布し、温風式乾燥装置にて120℃で45秒間
乾燥して記録層を形成し、さらに、下記オーバーコート
層塗布液を、スライドホッパーを用いて塗布し、温風式
乾燥装置にて120℃で75秒間乾燥して平版印刷原版
[P−1]を得た。尚、記録層塗布液[P−1]の塗布
量は2.0g/m2であり、オーバーコート層塗布液の
塗布量は2.3g/m2であった。
<記録層用塗布液[P−1]>
・チタノセン型ラジカル発生剤 0.1g
(CGI−784 、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)
・重合性化合物(RM−2) 0.60g
・重合性化合物(RM−3) 0.20g
・可視光吸収剤(VR−1) 0.10g
・ポリマー(PB−1) 1.20g
・銅フタロシアニン顔料 0.04g
・重合禁止剤 0.005g
(クペロンAl、和光純薬(株)製)
・フッ素系界面活性剤 0.03g
(メガファックKF309、大日本インキ化学工業(株)製)
・メチルエチルケトン 10g
・γ−ブチロラクトン 5g
・メタノール 7g
・1−メトキシ−2−プロパノール 5g
の組成を有するものを用いた。[Formation of Recording Layer] The following recording layer coating solution [P-1] was coated on the support having the undercoat layer formed thereon with a wire bar and the mixture was dried at 120 ° C. for 45 seconds in a warm air dryer. A recording layer is formed by drying, and the following overcoat layer coating solution is applied using a slide hopper and dried at 120 ° C. for 75 seconds with a hot air dryer to obtain a lithographic printing original plate [P-1]. Got The coating amount of the recording layer coating liquid [P-1] was 2.0 g / m @ 2, and the coating amount of the overcoat layer coating liquid was 2.3 g / m @ 2. <Coating liquid for recording layer [P-1]>-Titanocene type radical generator 0.1 g (CGI-784, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)-Polymerizable compound (RM-2) 0.60 g-Polymerization Functional compound (RM-3) 0.20 g-Visible light absorber (VR-1) 0.10 g-Polymer (PB-1) 1.20 g-Copper phthalocyanine pigment 0.04 g-Polymerization inhibitor 0.005 g (cuperon Al , Wako Pure Chemical Industries, Ltd.-Fluorosurfactant 0.03 g (Megafuck KF309, Dainippon Ink and Chemicals, Inc.)-Methyl ethyl ketone 10 g-γ-butyrolactone 5 g-Methanol 7 g-1-Methoxy-2 -Propanol having a composition of 5 g was used.
【0297】なお、記録層用塗布液[P−1]の調製に
用いた重合性化合物RM−2、重合性化合物RM−3、
および可視光吸収剤VR−1は、以下の構造を有してい
る。The polymerizable compound RM-2 and the polymerizable compound RM-3 used for preparing the recording layer coating liquid [P-1] were used.
The visible light absorber VR-1 has the following structure.
【0298】[0298]
【化1】 [Chemical 1]
【0299】[0299]
【化2】 [Chemical 2]
【0300】[0300]
【化3】
また、ポリマー(PB−1)は、メタクリル酸、N−イ
ソプロピルアクリルアミドおよびエチルメタクリレート
の共重合体を合成した後、1,2−エポキシ−3−メタ
クリロイルオキシメチルシクロヘキサンと反応させるこ
とにより合成した。組成モル比は、15:30:20:
35であり、重量平均分子量は12万であった。ポリマ
ーPB−1の構造式は、以下の通りである。[Chemical 3] Moreover, the polymer (PB-1) was synthesized by synthesizing a copolymer of methacrylic acid, N-isopropylacrylamide and ethyl methacrylate, and then reacting it with 1,2-epoxy-3-methacryloyloxymethylcyclohexane. The composition molar ratio is 15:30:20:
35 and the weight average molecular weight was 120,000. The structural formula of the polymer PB-1 is as follows.
【0301】[0301]
【化4】 <オーバーコート層用塗布液> ・ポリビニルアルコール 3.0g (ケン化度98.5モル%、重合度500) ・非イオン性界面活性剤 0.05g (EMAREX NP−10 日本エマルジョン社(株)製) ・イオン交換水 96.95g の組成を有するものを用いた。[Chemical 4] <Coating liquid for overcoat layer> -Polyvinyl alcohol 3.0 g (saponification degree 98.5 mol%, polymerization degree 500) -Nonionic surfactant 0.05 g (EMEREX NP-10 manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd.) ) -Ion-exchanged water having a composition of 96.95 g was used.
【0302】[現像液組成物の評価]冨士写真フイルム
(株)製自動現像機(LP−850P2)の現像処理槽
に、下記組成の現像液組成物(V−2)を仕込み、30
℃に保温した。自動現像機の第二浴目には、水道水を仕
込み、第三浴目には、FP−2W(富士写真フイルム
(株)製):水=1:1希釈したフィニッシングガム液
を仕込んだ。なお、現像液のpHは、8.1であった。[Evaluation of developer composition] An automatic processor (LP-850P2) manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. was charged with the developer composition (V-2) having the following composition in a development tank, and
It was kept warm at ℃. The second bath of the automatic processor was charged with tap water, and the third bath was charged with FP-2W (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.): Water = 1: 1 diluted finishing gum solution. The pH of the developer was 8.1.
【0303】 <現像液組成物[V−2]> ・炭酸水素ナトリウム 26g ・エチレングリコールモノナフチルエーテル モノスルフェートのナトリウム塩 30g ・エチレングリコールモノドデシルエーテル 20g ・亜硫酸ナトリウム 3g ・エチレンジアミン4酢酸4ナトリウム 1g ・水 920g の組成を有するものを用いた。[0303] <Developer composition [V-2]> ・ Sodium hydrogen carbonate 26g ・ Ethylene glycol mononaphthyl ether Sodium monosulfate salt 30g ・ Ethylene glycol monododecyl ether 20g ・ Sodium sulfite 3g ・ Ethylenediaminetetraacetic acid tetrasodium 1g ・ Water 920g The one having the composition of was used.
【0304】次に、サイズ1030×800mmの平版
印刷原版[P−1]20枚を、405nmの紫光を発す
る30mW半導体レーザを用い、レーザビーム径12μ
m、版面エネルギー50μJ/cm2の露光条件で走査
露光し、上記の自現機を用いて現像処理した。処理後、
自動現像液を3日間そのまま放置した。その後、平版印
刷原版[P−1]1枚を、同様にレーザ露光、引き続き
現像処理した。得られた平版印刷版[P−1]を、小森
コーポレーション(株)製印刷機リスロンを用いて印刷
した。Next, 20 lithographic printing original plates [P-1] having a size of 1030 × 800 mm were used, using a 30 mW semiconductor laser emitting a 405 nm violet light, and a laser beam diameter of 12 μm.
m, the plate surface energy was 50 μJ / cm 2, and scanning exposure was performed, and development processing was performed using the above-mentioned automatic developing machine. After treatment,
The automatic developer was left for 3 days. Then, one lithographic printing original plate [P-1] was similarly laser-exposed and subsequently developed. The lithographic printing plate [P-1] thus obtained was printed using a printer Lithrone manufactured by Komori Corporation.
【0305】(製版層形成例6)前記各後処理を施した
サンプル1−1〜1−14およびサンプル2−1〜2−
14に、下記下塗り液をワイヤーバーにて塗布し、温風
式乾燥装置を用いて90℃で30秒間乾燥した。乾燥後
の被膜量は20mg/m2であった。(Example 6 of plate-making layer formation) Samples 1-1 to 1-14 and samples 2-1 to 2- which have been subjected to the above-mentioned respective post-treatments.
The following undercoat liquid was applied to 14 with a wire bar and dried at 90 ° C. for 30 seconds using a warm air dryer. The coating amount after drying was 20 mg / m 2.
【0306】 <下塗り液> ・4−ジアゾ−3メトキシジフェニルアミンとホルムアルデヒド の縮合物のジブチルナフタレンスルホン酸塩 0.3g ・2−アミノエチルホスホン酸のマグネシウム塩 0.1g ・塩化カルシウム 0.2g ・メタノール 20g ・イオン交換水 80g の組成を有するものを用いた。[0306] <Undercoat liquid> ・ 4-diazo-3methoxydiphenylamine and formaldehyde Condensation product of dibutylnaphthalene sulfonate 0.3g -Magnesium salt of 2-aminoethylphosphonic acid 0.1 g ・ Calcium chloride 0.2g ・ Methanol 20g ・ Ion-exchanged water 80g The one having the composition of was used.
【0307】[記録層の形成]下記記録層塗布液を前記
下塗り層を形成した支持体上に、ワイヤーバーで塗布
し、温風式乾燥装置にて120℃で45秒間乾燥して記
録層を形成し、実施例1の平版印刷原版[P−2]を得
た。乾燥後の塗布量は2.0g/m2であった。[Formation of Recording Layer] The following coating solution for recording layer was applied onto the support having the undercoat layer formed thereon with a wire bar and dried at 120 ° C. for 45 seconds in a warm air dryer to form a recording layer. Then, the planographic printing original plate [P-2] of Example 1 was obtained. The coating amount after drying was 2.0 g / m 2.
【0308】 <記録層用塗布液[P−2]> ・オニウム塩(KO−1) 0.25g ・重合性化合物(RM−1) 0.60g ・赤外線吸収剤(IR−1) 0.06g ・ポリマー(PB−2) 1.40g ・ビクトリアピュアブルーのナフタレンスルホン酸塩 0.04g ・N−アリルステアリン酸アミド 0.01g ・重合禁止剤 0.005g (イルガノックス1010、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) ・フッ素系界面活性剤 0.03g (メガファックKF309、大日本インキ化学工業(株)製) ・メチルエチルケトン 10g ・γ−ブチロラクトン 5g ・メタノール 7g ・1−メトキシ−3−プロパノール 5g の組成を有するものを用いた。[0308] <Coating liquid for recording layer [P-2]> -Onium salt (KO-1) 0.25g -Polymerizable compound (RM-1) 0.60 g ・ Infrared absorber (IR-1) 0.06g ・ Polymer (PB-2) 1.40 g ・ Victoria Pure Blue Naphthalene Sulfonate 0.04g ・ N-allyl stearic acid amide 0.01 g ・ Polymerization inhibitor 0.005g (Irganox 1010, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) ・ Fluorosurfactant 0.03g (Megafuck KF309, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) ・ Methyl ethyl ketone 10g ・ Γ-Butyrolactone 5 g ・ Methanol 7g ・ 1-Methoxy-3-propanol 5 g The one having the composition of was used.
【0309】なお、前記オニウム塩KO−1、重合性化
合物RM−1、および赤外線吸収剤IR−1の構造は、
以下に示す通りである。The structures of the onium salt KO-1, the polymerizable compound RM-1, and the infrared absorber IR-1 are as follows:
It is as shown below.
【0310】[0310]
【化5】 [Chemical 5]
【0311】[0311]
【化6】 [Chemical 6]
【0312】[0312]
【化7】
また、ポリマー(PB−2)は、メタクリル酸、N−ア
クリロイルモルホリンおよびベンジルメタクリレートの
共重合体を合成した後、3−クロロ−2−ヒドロキシプ
ロピルメタクリレートと、塩基およびヨウ化カリウム存
在下で反応させることにより合成した。組成モル比は、
15:30:10:45であり、重量平均分子量は10
万であった。構造式は以下の通りである[Chemical 7] The polymer (PB-2) is reacted with 3-chloro-2-hydroxypropyl methacrylate in the presence of a base and potassium iodide after synthesizing a copolymer of methacrylic acid, N-acryloylmorpholine and benzyl methacrylate. It was synthesized by The composition molar ratio is
15: 30: 10: 45 with a weight average molecular weight of 10
It was good. The structural formula is as follows
【0313】[0313]
【化8】
[現像液組成物の評価]版材供給装置(SA−L800
0)、露光装置(Luxel T−9000CTP)、
コンベア(T−9000 Conveyor)、自動現
像機(LP−1310H)、ストッカー(ST−116
0)より成る冨士写真フイルム(株)CTP出力システ
ムを用いた。自動現像機の現像処理槽に、下記組成の現
像液組成物(V−1)を仕込み、30℃に保温した。自
動現像機の第二浴目には、水道水を仕込み、第三浴目に
は、FP−2W(富士写真フイルム(株)製):水=
1:1希釈したフィニッシングガム液を仕込んだ。な
お、現像液のpHは、8.0であった。[Chemical 8] [Evaluation of Developer Composition] Plate material feeding device (SA-L800
0), an exposure apparatus (Luxel T-9000CTP),
Conveyor (T-9000 Conveyor), automatic developing machine (LP-1310H), stocker (ST-116)
0) Fuji Photo Film Co., Ltd. CTP output system was used. A developer composition (V-1) having the following composition was placed in a development processing tank of an automatic processor and kept at 30 ° C. Tap water was charged in the second bath of the automatic processor, and FP-2W (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.): water = in the third bath.
A finishing gum solution diluted 1: 1 was charged. The pH of the developing solution was 8.0.
【0314】 <現像液組成物[V−1]> ・炭酸水素カリウム 20g ・ジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム 30g ・エチレングリコールモノナフチルエーテル 20g ・亜硫酸ナトリウム 3g ・ヒドロキシエタンジホスホン酸カリウム 2g ・シリコーンSA730 0.1g (東芝シリコーン(株)製界面活性剤) ・水 924.9g の組成を有するものを用いた。[0314] <Developer composition [V-1]> ・ Potassium hydrogen carbonate 20g ・ Sodium dibutylnaphthalene sulfonate 30g ・ Ethylene glycol mononaphthyl ether 20g ・ Sodium sulfite 3g ・ Hydroxyethanediphosphonate potassium 2g ・ Silicone SA730 0.1g (Toshiba Silicone Co., Ltd. surfactant) ・ Water 924.9g The one having the composition of was used.
【0315】次に、平版印刷原版[P−2]サイズ10
30×800mmの30枚を、版材供給装置に装填し、
全自動で連続して、露光、現像処理し、ストッカーへ排
出した。処理後、自動現像液を3日間そのまま放置し
た。放置した後、平版印刷原版[P−2]1枚を、版材
供給装置に装填し、全自動で連続して、露光、現像処理
し、ストッカーへ排出した。得られた平版印刷版[P−
2]を、小森コーポレーション(株)製印刷機リスロン
を用いて印刷した。Next, lithographic printing original plate [P-2] size 10
30 pieces of 30 × 800 mm are loaded in the plate material supply device,
Exposure and development processing were carried out continuously and fully automatically and discharged to the stocker. After the processing, the automatic developing solution was left as it was for 3 days. After standing, one lithographic printing original plate [P-2] was loaded in a plate material supplying device, continuously and fully automatically exposed and developed, and discharged to a stocker. The obtained planographic printing plate [P-
2] was printed using a printing machine Lithrone manufactured by Komori Corporation.
【0316】(製版層形成例7)前記各後処理を施した
サンプル1−1〜1−14およびサンプル2−1〜2−
14に、下記組成の下塗り液を塗布し、80℃で15秒
間乾燥し、塗膜を形成させた。乾燥後の塗膜の被覆量は
15mg/m2であった。
<下塗り液組成>
・下記の化学式で示される高分子化合物 0.3g(Plate-making layer forming example 7) Samples 1-1 to 1-14 and samples 2-1 to 2- which have been subjected to the respective post-treatments
The undercoating liquid having the following composition was applied to 14 and dried at 80 ° C. for 15 seconds to form a coating film. The coating amount of the coating film after drying was 15 mg / m 2. <Undercoat composition> 0.3 g of a polymer compound represented by the following chemical formula
【0317】[0317]
【化9】 ・メタノール 100 g ・水 1 g の組成を有するものを用いた。[Chemical 9] -The thing which has a composition of 100 g of methanol and 1 g of water was used.
【0318】[製版層の形成]更に、下記組成の感光層
塗布液1を調製し、前記平版印刷版用アルミニウム支持
体の前記下塗り液を塗布した側の面に、この感光層塗布
液1を、バーコーターを用いて、乾燥後の塗布量(製版
層塗布量)が1.0g/m2になるよう塗布し、乾燥し
て製版層を形成し、平版印刷原版を得た。[Formation of plate-making layer] Further, a photosensitive layer coating solution 1 having the following composition was prepared, and the photosensitive layer coating solution 1 was applied to the surface of the aluminum support for a lithographic printing plate on the side coated with the undercoating solution. A bar coater was used so that the coating amount after drying (plate coating layer coating amount) would be 1.0 g / m @ 2, and the plate was dried to form a plate-making layer to obtain a lithographic printing original plate.
【0319】 <感光層塗布液1組成> ・カプリン酸 0.03 g ・共重合体1 0.75 g ・m,p−クレゾールノボラック(m/p比=6/4、重量平均分子量3,5 00 、未反応クレゾール0.5質量%含有) 0.25 g ・p−トルエンスルホン酸 0.003g ・テトラヒドロ無水フタル酸 0.03 g ・下記構造式で表されるシアニン染料A 0.017g[0319] <1 composition of photosensitive layer coating liquid> ・ Capric acid 0.03 g -Copolymer 1 0.75 g M, p-cresol novolac (m / p ratio = 6/4, weight average molecular weight 3,5 00, containing 0.5% by mass of unreacted cresol) 0.25 g -P-toluenesulfonic acid 0.003 g ・ Tetrahydrophthalic anhydride 0.03 g ・ 0.017 g of cyanine dye A represented by the following structural formula
【0320】[0320]
【化10】 ・ビクトリアピュアブルーBOHの対イオンを1−ナフタレンスルホン酸アニ オンにした染料 0.015g ・フッ素系界面活性剤(メガファックF−177、大日本インキ化学工業社製 ) 0.05 g ・γ−ブチルラクトン 10 g ・メチルエチルケトン 10 g ・1−メトキシ−2−プロパノール 1 g の組成を有するものを用いた。[Chemical 10] -Dye 0.015 g in which the counter ion of Victoria Pure Blue BOH is 1-naphthalene sulfonate anion-Fluorosurfactant (Megafuck F-177, Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 0.05 g-γ-butyl A lactone having a composition of 10 g, methyl ethyl ketone 10 g, and 1-methoxy-2-propanol 1 g was used.
【0321】<共重合体1>攪拌機、冷却管および滴下
ロートを備えた500mL容の三つ口フラスコに、メタ
クリル酸31.0g(0.36mol)、クロロギ酸エ
チル39.lg(0.36mol)およびアセトニトリ
ル200mLを入れ、氷水浴で冷却しながら混合物を攪
拌した。この混合物にトリエチルアミン36.4g
(0.36mol)を約1時間かけて滴下ロートにより
滴下した。滴下終了後、氷水浴を取り去り、室温下で3
0分間混合物を攪拌した。<Copolymer 1> In a 500 mL three-necked flask equipped with a stirrer, a condenser and a dropping funnel, 31.0 g (0.36 mol) of methacrylic acid and 39.39 of ethyl chloroformate were added. 1 g (0.36 mol) and 200 mL of acetonitrile were added, and the mixture was stirred while cooling with an ice water bath. 36.4 g of triethylamine was added to this mixture.
(0.36 mol) was added dropwise by a dropping funnel over about 1 hour. After completion of the dropping, remove the ice-water bath and let it stand at room temperature for 3
The mixture was stirred for 0 minutes.
【0322】この反応混合物に、p−アミノベンゼンス
ルホンアミド51.7g(0.30mol)を加え、油
浴にて70℃に温めながら混合物を1時間攪拌した。反
応終了後、この混合物を水1Lにこの水を攪拌しながら
投入し、30分間得られた混合物を攪拌した。この混合
物を濾過して析出物を取り出し、これを水500mLで
スラリーにした後、このスラリーを濾過し、得られた固
体を乾燥することによりN−(p−アミノスルホニルフ
ェニル)メタクリルアミドの白色固体が得られた(収量
46.9g)。To this reaction mixture, 51.7 g (0.30 mol) of p-aminobenzenesulfonamide was added, and the mixture was stirred for 1 hour while warming to 70 ° C. in an oil bath. After completion of the reaction, this mixture was added to 1 L of water while stirring the water, and the mixture obtained for 30 minutes was stirred. The mixture was filtered to obtain a precipitate, which was slurried with 500 mL of water, and the slurry was filtered, and the obtained solid was dried to give a white solid of N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide. Was obtained (yield 46.9 g).
【0323】つぎに、攪拌機、冷却管および滴下ロート
を備えた20mL容の三つ口フラスコに、N−(p−ア
ミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド4.61g
(0.0192mol)、メタクリル酸エチル2.94
g(0.0258mol)、アクリロニトリル0.80
g(0.015mol)およびN,N−ジメチルアセト
アミド20gを入れ、湯水浴により65℃に加熱しなが
ら混合物を攪拌した。この混合物に「V−65」(和光
純薬社製)0.15gを加え、65℃°Cに保ちながら
窒素気流下で、混合物を2時間攪拌した。この反応混合
物に更にN−(p−アミノスルホニルフェニル)メタク
リルアミド4.61g、メタクリル酸エチル2.94
g、アクリロニトリル0.80g、N,N−ジメチルア
セトアミドおよび「V−65」0.15gの混合物を2
時間かけて滴下ロートにより滴下した。滴下終了後、更
に、得られた混合物を65℃で2時間攪拌した。反応終
了後、メタノール40gを混合物に加え、冷却し、得ら
れた混合物を水2Lにこの水を攪拌しながら投入し、3
0分混合物を攪拌した後、析出物を濾過により取り出
し、乾燥することにより15gの白色固体の特定の共重
合体1を得た。Next, 4.61 g of N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide was placed in a 20 mL three-necked flask equipped with a stirrer, a condenser and a dropping funnel.
(0.0192 mol), ethyl methacrylate 2.94
g (0.0258 mol), acrylonitrile 0.80
g (0.015 mol) and 20 g of N, N-dimethylacetamide were added, and the mixture was stirred while heating to 65 ° C. with a hot water bath. To this mixture was added 0.15 g of "V-65" (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), and the mixture was stirred for 2 hours under a nitrogen stream while maintaining the temperature at 65 ° C. The reaction mixture was further charged with N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide 4.61 g, ethyl methacrylate 2.94.
g, acrylonitrile 0.80 g, N, N-dimethylacetamide and "V-65" 0.15 g 2
It dripped with the dropping funnel over time. After the dropping was completed, the obtained mixture was further stirred at 65 ° C. for 2 hours. After the reaction was completed, 40 g of methanol was added to the mixture and cooled, and the resulting mixture was added to 2 L of water while stirring the water, and 3
After stirring the mixture for 0 minutes, the precipitate was taken out by filtration and dried to obtain 15 g of a specific copolymer 1 as a white solid.
【0324】得られた特定の共重合体1の重量平均分子
量をゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測
定したところ、53,000(ポリスチレン標準)であ
った。The weight average molecular weight of the specific copolymer 1 thus obtained was measured by gel permeation chromatography and found to be 53,000 (polystyrene standard).
【0325】上記のようにして得られた平版印刷原版を
出力500mW、波長830nm、ビーム径17μm
(1/e2 )の半導体レーザを用いて、主操作速度5m
/秒で露光した後、富士写真フイルム(株)製のPS版
用現像液DP−4(1:8)水希釈液を用いて30秒間
現像した。The lithographic printing original plate obtained as described above had an output of 500 mW, a wavelength of 830 nm and a beam diameter of 17 μm.
Using a (1 / e2) semiconductor laser, the main operating speed is 5 m
After exposure for 1 second / second, development was carried out for 30 seconds using a PS plate developer DP-4 (1: 8) water dilution solution manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.
【0326】この印刷版を用い、平版オフセット印刷を
行なった。Using this printing plate, planographic offset printing was performed.
【0327】(製版層形成例8)前記各後処理を施した
サンプル1−1〜1−14およびサンプル2−1〜2−
14に、下記組成の下塗り液を塗布し、80℃で15秒
間乾燥し、塗膜を形成させた。乾燥後の塗膜の被覆量は
15mg/m2であった。(Plate-making layer forming example 8) Samples 1-1 to 1-14 and samples 2-1 to 2-which have been subjected to the above respective post-treatments.
The undercoating liquid having the following composition was applied to 14 and dried at 80 ° C. for 15 seconds to form a coating film. The coating amount of the coating film after drying was 15 mg / m 2.
【0328】<下塗り液組成> ・下記構造を有する高分子化合物 0.3g<Undercoating liquid composition> -Polymer compound having the following structure: 0.3 g
【0329】[0329]
【化11】 ・メタノール 100g ・水 1g の組成を有するものを用いた。[Chemical 11] -The thing which has a composition of 100 g of methanol and 1 g of water was used.
【0330】[製版層の形成]下記組成の感光層塗布液
1を調製し、前記下塗り液を塗布して下塗り層を形成し
た平版印刷版アルミニウム支持体に、この感光層塗布液
1を、バーコーターを用いて、乾燥後の塗布量が1.0
g/m2になるよう塗布し、乾燥して製版層を形成し、
平版印刷原版を得た。[Formation of plate-making layer] A photosensitive layer coating solution 1 having the following composition was prepared, and the photosensitive layer coating solution 1 was applied to a bar on a lithographic printing plate aluminum support on which an undercoat layer was formed by coating the above-mentioned undercoating solution. Using a coater, the applied amount after drying is 1.0
Apply to g / m2 and dry to form a plate-making layer.
A lithographic printing original plate was obtained.
【0331】 <感光層塗布液1組成> ・カプリン酸 0.03 g ・共重合体II 0.75 g ・m,p−クレゾールノボラック(m/p比=6/4、重量平均分子量3,5 00 、未反応クレゾール0.5質量%含有) 0.25 g ・p−トルエンスルホン酸 0.003g ・テトラヒドロ無水フタル酸 0.03 g ・下記構造式で表されるシアニン染料A 0.017g[0331] <1 composition of photosensitive layer coating liquid> ・ Capric acid 0.03 g -Copolymer II 0.75 g M, p-cresol novolac (m / p ratio = 6/4, weight average molecular weight 3,5 00, containing 0.5% by mass of unreacted cresol) 0.25 g -P-toluenesulfonic acid 0.003 g ・ Tetrahydrophthalic anhydride 0.03 g ・ 0.017 g of cyanine dye A represented by the following structural formula
【0332】[0332]
【化12】
・ビクトリアピュアブルーBOHの対イオンを1−ナフタレンスルホン酸アニオ
ンにした染料 0.015g
・フッ素系界面活性剤(メガファックF−177、大日本インキ化学工業社製)
0.05g
・γ−ブチルラクトン 10 g
・メチルエチルケトン 10 g
・1−メトキシ−2−プロパノール 1 g
<共重合体II>攪拌機、冷却管および滴下ロートを備え
た500mL容の三つ口フラスコに、メタクリル酸3
1.0g(0.36mol)、クロロギ酸エチル39.
lg(0.36mol)およびアセトニトリル200m
Lを入れ、氷水浴で冷却しながら混合物を攪拌した。こ
の混合物にトリエチルアミン36.4g(0.36mo
l)を約1時間かけて滴下ロートにより滴下した。滴下
終了後、氷水浴を取り去り、室温下で30分間混合物を
攪拌した。[Chemical 12] -Victoria Pure Blue BOH counter ion to 1-naphthalene sulfonate anion 0.015 g-Fluorine-based surfactant (MegaFac F-177, Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 0.05 g-γ-butyl lactone 10 g Methyl ethyl ketone 10 g 1-Methoxy-2-propanol 1 g <Copolymer II> In a 500 mL three-necked flask equipped with a stirrer, a condenser and a dropping funnel, methacrylic acid 3 was added.
1.0 g (0.36 mol), ethyl chloroformate 39.
lg (0.36 mol) and acetonitrile 200 m
L was added and the mixture was stirred while cooling with an ice-water bath. 36.4 g (0.36 mo) of triethylamine was added to this mixture.
1) was dripped with the dropping funnel over about 1 hour. After completion of dropping, the ice water bath was removed, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes.
【0333】この反応混合物に、p−アミノベンゼンス
ルホンアミド51.7g(0.30mol)を加え、油
浴にて70℃に温めながら混合物を1時間攪拌した。反
応終了後、この混合物を水1Lにこの水を攪拌しながら
投入し、30分間得られた混合物を攪拌した。この混合
物を濾過して析出物を取り出し、これを水500mLで
スラリーにした後、このスラリーを濾過し、得られた固
体を乾燥することによりN−(p−アミノスルホニルフ
ェニル)メタクリルアミドの白色固体が得られた(収量
46.9g)。To this reaction mixture, 51.7 g (0.30 mol) of p-aminobenzenesulfonamide was added, and the mixture was stirred for 1 hour while warming to 70 ° C. in an oil bath. After completion of the reaction, this mixture was added to 1 L of water while stirring the water, and the mixture obtained for 30 minutes was stirred. The mixture was filtered to obtain a precipitate, which was slurried with 500 mL of water, and the slurry was filtered, and the obtained solid was dried to give a white solid of N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide. Was obtained (yield 46.9 g).
【0334】つぎに、攪拌機、冷却管および滴下ロート
を備えた20mL容の三つ口フラスコに、N−(p−ア
ミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド4.61g
(0.0192mol)、メタクリル酸エチル2.94
g(0.0258mol)、アクリロニトリル0.80
g(0.015mol)およびN,N−ジメチルアセト
アミド20gを入れ、湯水浴により65℃に加熱しなが
ら混合物を攪拌した。この混合物に「V−65」(和光
純薬社製)0.15gを加え、65℃°Cに保ちながら
窒素気流下で、混合物を2時間攪拌した。この反応混合
物に更にN−(p−アミノスルホニルフェニル)メタク
リルアミド4.61g、メタクリル酸エチル2.94
g、アクリロニトリル0.80g、N,N−ジメチルア
セトアミドおよび「V−65」0.15gの混合物を2
時間かけて滴下ロートにより滴下した。滴下終了後、更
に、得られた混合物を65℃で2時間攪拌した。反応終
了後、メタノール40gを混合物に加え、冷却し、得ら
れた混合物を水2Lにこの水を攪拌しながら投入し、3
0分混合物を攪拌した後、析出物を濾過により取り出
し、乾燥することにより15gの白色固体の特定の共重
合体1を得た。Next, 4.61 g of N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide was placed in a 20 mL three-necked flask equipped with a stirrer, a condenser and a dropping funnel.
(0.0192 mol), ethyl methacrylate 2.94
g (0.0258 mol), acrylonitrile 0.80
g (0.015 mol) and 20 g of N, N-dimethylacetamide were added, and the mixture was stirred while heating to 65 ° C. with a hot water bath. To this mixture was added 0.15 g of "V-65" (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), and the mixture was stirred for 2 hours under a nitrogen stream while maintaining the temperature at 65 ° C. The reaction mixture was further charged with N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide 4.61 g, ethyl methacrylate 2.94.
g, acrylonitrile 0.80 g, N, N-dimethylacetamide and "V-65" 0.15 g 2
It dripped with the dropping funnel over time. After the dropping was completed, the obtained mixture was further stirred at 65 ° C. for 2 hours. After the reaction was completed, 40 g of methanol was added to the mixture and cooled, and the resulting mixture was added to 2 L of water while stirring the water, and 3
After stirring the mixture for 0 minutes, the precipitate was taken out by filtration and dried to obtain 15 g of a specific copolymer 1 as a white solid.
【0335】得られた特定の共重合体1の重量平均分子
量をゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測
定したところ、53,000(ポリスチレン標準)であ
った。The weight average molecular weight of the specific copolymer 1 thus obtained was measured by gel permeation chromatography and found to be 53,000 (polystyrene standard).
【0336】上記のようにして得られた平版印刷原版を
出力500mW、波長830nm、ビーム径17μm
(1/e2 )の半導体レーザを用いて、主操作速度5m
/秒で露光した後、下記組成の非シリケート現像液を用
いて現像した。The lithographic printing plate precursor obtained as described above had an output of 500 mW, a wavelength of 830 nm and a beam diameter of 17 μm.
Using a (1 / e2) semiconductor laser, the main operating speed is 5 m
After exposure for 1 / sec, development was performed using a non-silicate developer having the following composition.
【0337】〔現像液(非シリケート現像液)〕非還元
糖と塩基とを組み合わせたD−ソルビット/酸化カリウ
ム(K2O)よりなるカリウム塩45%水溶液1リット
ルに、両性界面活性剤パイオニンC−158G(竹本油
脂(株)製)20gと消泡剤オルフィンAK−02(日
信化学(株)製)2.0gを添加して濃縮液を作製し
た。この濃縮液を水で9倍に希釈したものを現像液とし
た。この現像液1の電導度は45mS/cmである。[Developer (non-silicate developer)] 1 L of a 45% aqueous solution of a potassium salt of D-sorbit / potassium oxide (K2O), which is a combination of a non-reducing sugar and a base, and an amphoteric surfactant Pionein C-158G. 20 g (manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd.) and 2.0 g of antifoaming agent Olfine AK-02 (manufactured by Nisshin Chemical Co., Ltd.) were added to prepare a concentrated solution. This concentrated solution was diluted 9 times with water to obtain a developing solution. The electric conductivity of this developing solution 1 is 45 mS / cm.
【0338】この印刷版を用いて平版オフセット印刷を
行なった。Lithographic offset printing was performed using this printing plate.
【0339】(製版層形成例9)
〔(A)成分共重合体の合成〕
(1)合成例1(共重合体1)
攪拌機、冷却管及び滴下ロートを備えた500ml三ツ
口フラスコにメタクリル酸31.0g(0.36モ
ル)、クロロギ酸エチル39.1g(0.36モル)及
びアセトニトリル200mlを入れ、氷水浴で冷却しな
がら混合物を攪拌した。この混合物にトリエチルアミン
36.4g(0.36モル)を約1時間かけて滴下ロー
トにより滴下した。滴下終了後、氷水浴をとり去り、室
温下で30分間混合物を攪拌した。(Plate-making layer forming example 9) [Synthesis of component (A) component copolymer] (1) Synthesis example 1 (copolymer 1) Methacrylic acid 31 was added to a 500 ml three-necked flask equipped with a stirrer, a cooling tube and a dropping funnel. 0.0 g (0.36 mol), ethyl chloroformate 39.1 g (0.36 mol) and 200 ml of acetonitrile were added, and the mixture was stirred while cooling with an ice-water bath. To this mixture, 36.4 g (0.36 mol) of triethylamine was added dropwise with a dropping funnel over about 1 hour. After the dropping was completed, the ice-water bath was removed, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes.
【0340】この反応混合物に、p−アミノベンゼンス
ルホンアミド51.7g(0.30モル)を加え、油浴
にて70℃に温めながら混合物を1時間攪拌した。反応
終了後、この混合物を水1リットルにこの水を攪拌しな
がら投入し、30分間得られた混合物を攪拌した。この
混合物を濾過して析出物を取り出し、これを水500m
lでスラリーにした後、このスラリーを濾過し、得られ
た固体を乾燥することによりN−(p−アミノスルホニ
ルフェニル)メタクリルアミドの白色固体が得られた
(収量46.9g)。To this reaction mixture was added 51.7 g (0.30 mol) of p-aminobenzenesulfonamide, and the mixture was stirred for 1 hour while warming to 70 ° C. in an oil bath. After completion of the reaction, this mixture was put into 1 liter of water while stirring the water, and the resulting mixture was stirred for 30 minutes. The mixture was filtered to remove the precipitate, which was washed with water (500 m).
After slurrying with l, the slurry was filtered, and the obtained solid was dried to obtain a white solid of N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide (yield 46.9 g).
【0341】次に攪拌機、冷却管及び滴下ロートを備え
た100ml三ツ口フラスコに、N−(p−アミノスル
ホニルフェニル)メタクリルアミド5.04g(0.0
210モル)、メタクリル酸エチル2.05g(0.0
180モル)、アクリロニトリル1.11g(0.02
1モル)及びN,N−ジメチルアセトアミド20gを入
れ、湯水浴により65℃に加熱しながら混合物を攪拌し
た。この混合物に「V−65」(和光純薬(株)製)
0.15gを加え65℃に保ちながら窒素気流下2時間
混合物を攪拌した。この反応混合物にさらにN−(p−
アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド5.04
g、メタクリル酸エチル2.05g、アクリロニトリル
1.11g、N,N−ジメチルアセトアミド20g及び
「V−65」0.15gの混合物を2時間かけて滴下ロ
ートにより滴下した。滴下終了後さらに65℃で2時間
得られた混合物を攪拌した。反応終了後メタノール40
gを混合物に加え、冷却し、得られた混合物を水2リッ
トルにこの水を攪拌しながら投入し、30分混合物を攪
拌した後、析出物を濾過により取り出し、乾燥すること
により15gの白色固体を得た。ゲルパーミエーション
クロマトグラフィーによりこの共重合体1の重量平均分
子量(ポリスチレン標準)を測定したところ53,00
0であった。Next, in a 100 ml three-necked flask equipped with a stirrer, a condenser and a dropping funnel, 5.04 g (0.0%) of N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide was obtained.
210 mol), 2.05 g of ethyl methacrylate (0.0
180 mol), acrylonitrile 1.11 g (0.02
1 mol) and 20 g of N, N-dimethylacetamide were added, and the mixture was stirred while heating to 65 ° C. in a hot water bath. Add "V-65" to this mixture (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
0.15 g was added and the mixture was stirred under a nitrogen stream for 2 hours while maintaining the temperature at 65 ° C. Further N- (p-
Aminosulfonylphenyl) methacrylamide 5.04
g, 2.05 g of ethyl methacrylate, 1.11 g of acrylonitrile, 20 g of N, N-dimethylacetamide and 0.15 g of "V-65" were added dropwise by a dropping funnel over 2 hours. After the dropping was completed, the obtained mixture was further stirred at 65 ° C. for 2 hours. After the reaction, methanol 40
g was added to the mixture, cooled, and the resulting mixture was added to 2 liters of water while stirring this water, the mixture was stirred for 30 minutes, the precipitate was taken out by filtration, and dried to obtain 15 g of a white solid. Got The weight average molecular weight (polystyrene standard) of this copolymer 1 was measured by gel permeation chromatography to be 53.0
It was 0.
【0342】(2)合成例2(共重合体2)
合成例1の重合反応において、N−(p−アミノスルホ
ニルフェニル)メタクリルアミド5.04g(0.02
10モル)をN−(p−ヒドロキシフェニル)メタクリ
ルアミド3.72g(0.0210モル)に変えた以外
は、合成例1と同様に重合反応を行い、重量平均分子量
(ポリスチレン標準)47,000の共重合体2を得
た。(2) Synthesis Example 2 (Copolymer 2) In the polymerization reaction of Synthesis Example 1, 5.04 g (0.02 g) of N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide was prepared.
Polymerization reaction was performed in the same manner as in Synthesis Example 1 except that 10 mol) was changed to 3.72 g (0.0210 mol) of N- (p-hydroxyphenyl) methacrylamide, and the weight average molecular weight (polystyrene standard) was 47,000. Copolymer 2 of was obtained.
【0343】[下塗り液の塗布]前記各後処理を施した
サンプル1−1〜1−14およびサンプル2−1〜2−
14に、下記下塗り液を塗布し、塗膜を90℃で1分乾
燥した。乾燥後の塗膜の塗布量は10mg/m2であっ
た。[Application of Undercoat Liquid] Samples 1-1 to 1-14 and Samples 2-1 to 2-which have been subjected to each of the above-mentioned post-treatments.
The following undercoat liquid was applied to 14 and the coating film was dried at 90 ° C. for 1 minute. The coating amount of the coating film after drying was 10 mg / m 2.
【0344】<下塗り液>
β−アラニン 0.5g
メタノール 95g
水 5g
[画像形成層の形成]前記平版印刷版用アルミニウム支
持体に、感光層形成液A1を塗布し、100℃で2分間
乾燥して、(A)層を形成した。乾燥後の塗布量は1.
4g/m2 であった。さらに、感光層形成液B1を塗布
し、100℃で2分間乾燥して、(B)層を形成し、平
版印刷原版を得た。乾燥後の感光層形成液A1およびB
1の合計塗布量は2.0g/m2であった。<Undercoating liquid> β-alanine 0.5 g Methanol 95 g Water 5 g [Formation of image forming layer] Photosensitive layer forming liquid A1 was applied to the above-mentioned lithographic printing plate aluminum support and dried at 100 ° C. for 2 minutes. To form a layer (A). The coating amount after drying is 1.
It was 4 g / m @ 2. Further, the photosensitive layer forming liquid B1 was applied and dried at 100 ° C. for 2 minutes to form a layer (B) to obtain a lithographic printing original plate. Photosensitive layer forming liquids A1 and B after drying
The total coating amount of No. 1 was 2.0 g / m 2 .
【0345】 <感光層形成液A1> 共重合体1 0.75g シアニン染料A 0.04g p−トルエンスルホン酸 0.002g テトラヒドロ無水フタル酸 0.05g ビクトリアピュアブルー(BOHの対アニオンを1−ナフタレン スルホン酸アニオンに置換した染料)0.015g フッ素系界面活性剤(メガファックF−177、大日本インキ化学工業(株)製 ) 0.02g γ−ブチルラクトン 8g メチルエチルケトン 7g 1−メトキシ−2−プロパノール 7g。[0345] <Photosensitive layer forming liquid A1> Copolymer 1 0.75 g Cyanine dye A 0.04g p-toluenesulfonic acid 0.002 g Tetrahydrophthalic anhydride 0.05g Victoria Pure Blue (The counter anion of BOH is 1-naphthalene Dye substituted with sulfonate anion) 0.015 g Fluorine-based surfactant (MegaFac F-177, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) ) 0.02g γ-Butyl lactone 8g Methyl ethyl ketone 7g 1-methoxy-2-propanol 7 g.
【0346】 <感光層形成液B1> m,p−クレゾールノボラック(m/p比=6/4、重量平均分子量4000) 0.25g シアニン染料A 0.05g ステアリン酸n−ドデシル 0.02g フッ素系界面活性剤(メガファックF−177、大日本インキ化学工業(株)製 ) 0.05g メチルエチルケトン 7g 1−メトキシ−2−プロパノール 7g。[0346] <Photosensitive layer forming liquid B1> m, p-cresol novolak (m / p ratio = 6/4, weight average molecular weight 4000) 0.25g Cyanine dye A 0.05g N-dodecyl stearate 0.02g Fluorine-based surfactant (MegaFac F-177, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) ) 0.05 g Methyl ethyl ketone 7g 1-methoxy-2-propanol 7 g.
【0347】〔平版印刷原版の性能評価〕前記のように
して作成した平版印刷原版について、印刷性能評価を行
った。[Evaluation of Performance of Lithographic Printing Plate] The printing performance of the lithographic printing plate prepared as described above was evaluated.
【0348】得られた平版印刷原版を、出力500m
W,波長830nm、ビーム径17μm(1/e2 )の
半導体レーザを用いて主走査速度5m/秒にて露光した
後、富士写真フイルム(株)製現像液、DP−4、リン
ス液FR−3(1:7)を仕込んだ自動現像機(富士写
真フイルム(株)製:「PSプロセッサー900V
R」)を用いて現像した。その際、DP−4は1:8で
希釈したものを用いた。Output of the obtained lithographic printing original plate was 500 m.
After exposure with a semiconductor laser having a wavelength of 830 nm and a beam diameter of 17 μm (1 / e2) at a main scanning speed of 5 m / sec, a developing solution manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., DP-4, and a rinse solution FR-3 are used. An automatic processor equipped with (1: 7) (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd .: “PS Processor 900V
R "). At that time, DP-4 used was diluted 1: 8.
【0349】この平版印刷版をハイデルベルク社製のハ
イデルKOR−D機で上質紙に印刷した。This lithographic printing plate was printed on high-quality paper with a Heidel KOR-D machine manufactured by Heidelberg.
【0350】(製版層形成例10)
[下塗り層の形成]前記各後処理を施したサンプル1−
1〜1−14およびサンプル2−1〜2−14に、下記
の下塗り液を塗布・乾燥し、下塗り層を形成した。(Formation Layer Forming Example 10) [Formation of Undercoat Layer] Sample 1 which has been subjected to each of the above-mentioned post-treatments
The following undercoat liquid was applied to 1-1 to 14 and Samples 2-1 to 2-14 and dried to form an undercoat layer.
【0351】 <下塗り液> ・下記化合物 0.3g[0351] <Undercoat liquid> ・ The following compound 0.3g
【0352】[0352]
【化13】 ・メタノール 100g ・水 1g。[Chemical 13] -Methanol 100g-Water 1g.
【0353】〔感熱層の形成〕得られた基板に、以下の
下層用塗布液を、塗布量が0.85g/m2になるよう
塗布したのち、TABAI社製、PERFECT OV
EN PH200にてWind Controlを7に
設定して140度で50秒間乾燥し、その後、感熱層用
塗布液を塗布量が0.15g/m2になるよう塗布した
のち、120度で1分間乾燥し、平版印刷原版を得た。[Formation of Heat-Sensitive Layer] The following coating solution for lower layer was applied to the obtained substrate so that the coating amount was 0.85 g / m 2, and then PERFECT OV manufactured by TABAI was used.
Wind Control is set to 7 in EN PH200 and dried at 140 ° C. for 50 seconds, and then a heat-sensitive layer coating solution is applied at a coating amount of 0.15 g / m 2 and then dried at 120 ° C. for 1 minute. , The lithographic printing original plate was obtained.
【0354】 〔下層用塗布液〕 ・N−(4−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド/アクリロニトリ ル/メタクリル酸メチル36/34/30:重量平均分子量50000) 1.896g・クレゾールノボラック(m/p=6/4 重量平均分子量4 500、残存モノマー0.8wt%) 0.237g ・シアニン染料A(下記構造) 0.109g ・4,4’−ビズヒドロキシフェニルスルホン 0.063g ・無水テトラヒドロフタル酸 0.190g ・p−トルエンスルホン酸 0.008g ・エチルバイオレットの対イオンを6−ヒイドロキシナフタレンスルホンに変 えたもの 0.05g ・フッ素系界面活性剤(メガファックF176、大日本インキ工業(株)社製 ) 0.035g ・メチルエチルケトン 26.6g ・1−メトキシ−2−プロパノール 13.6g ・γ−ブチロラクトン 13.8g 〔感熱層用塗布液〕 ・m,p−クレゾールノボラック(m/p比=6/4、重量平均分子量450 0、未反応クレゾール0.8重量%含有) 0.237g ・シアニン染料A(上記構造) 0.047g ・ステアリン酸ドデシル 0.060g ・3−メトキシ−4−ジアゾジフェニルアミンヘキサフルオロホスフェート 0.030g ・フッ素系界面活性剤(メガファックF176、大日本インキ化学工業(株) 製) 0.110g ・フッ素系界面活性剤〔メガファックMCF−312(30%)、大日本イン キ工業(株)社製〕 0.120g ・メチルエチルケトン 15.1 g ・1−メトキシ−2−プロパノール 7.7 g。[0354] [Coating liquid for lower layer] -N- (4-aminosulfonylphenyl) methacrylamide / acrylonitri / Methyl methacrylate 36/34/30: weight average molecular weight 50,000) 1.896 g-cresol novolac (m / p = 6/4 weight average molecular weight 4 500, residual monomer 0.8 wt%) 0.237 g ・ Cyanine dye A (the following structure) 0.109 g * 4,4'- bishydroxy phenyl sulfone 0.063g ・ Tetrahydrophthalic anhydride 0.190 g -P-toluenesulfonic acid 0.008 g -Change the counterion of ethyl violet to 6-hydroxynaphthalene sulfone Eat stuff 0.05g ・ Fluorosurfactant (MegaFac F176, manufactured by Dainippon Ink and Co., Ltd.) ) 0.035g ・ Methyl ethyl ketone 26.6g ・ 1-Methoxy-2-propanol 13.6 g * Γ-butyrolactone 13.8 g [Coating liquid for heat sensitive layer] -M, p-cresol novolak (m / p ratio = 6/4, weight average molecular weight 450 0, containing 0.8% by weight of unreacted cresol) 0.237 g ・ Cyanine dye A (the above structure) 0.047 g ・ Dodecyl stearate 0.060g ・ 3-Methoxy-4-diazodiphenylamine hexafluorophosphate 0.030g ・ Fluorosurfactant (MegaFac F176, Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) Made) 0.110g ・ Fluorosurfactant [Megafac MCF-312 (30%), Dainippon In Ki Industrial Co., Ltd.] 0.120 g ・ Methyl ethyl ketone 15.1 g -1-Methoxy-2-propanol 7.7 g.
【0355】得られた平版印刷原版1をCreo社製T
rendsetterにてビーム強度9w、ドラム回転
速度150rpmでテストパターンを画像状に描き込み
を行った。The lithographic printing original plate 1 thus obtained was made by Creo Co.
A test pattern was image-wise drawn with a bend setter at a beam intensity of 9 w and a drum rotation speed of 150 rpm.
【0356】書き込みを行った平版印刷原版に対して、
現像に際し、下記組成の非シリケート現像液を用いて現
像した。For the lithographic printing original plate on which writing has been performed,
Upon development, a non-silicate developer having the following composition was used for development.
【0357】〔現像液(非シリケート現像液)〕非還元
糖と塩基とを組み合わせたD−ソルビット/酸化カリウ
ムよりなるカリウム塩45%水溶液1リットルに、両性
界面活性剤パイオニンC−158G(竹本油脂(株)
製)20gと消泡剤オルフィンAK−02(日信化学
(株)製)2.0gを添加して濃縮液を作製した。この
濃縮液を水で9倍に希釈したものを現像液とした。この
現像液1の電導度は45mS/cmである。[Developer (Non-Silicate Developer)] One liter of a 45% aqueous solution of a potassium salt of D-sorbit / potassium oxide in which a non-reducing sugar and a base are combined is added to an amphoteric surfactant Pionein C-158G (Takemoto Yushi-Seiya). (stock)
20 g of antifoaming agent Olfine AK-02 (manufactured by Nisshin Chemical Co., Ltd.) was added to prepare a concentrated solution. This concentrated solution was diluted 9 times with water to obtain a developing solution. The electric conductivity of this developing solution 1 is 45 mS / cm.
【0358】この印刷版を用いてオフセット印刷を行な
った。Offset printing was performed using this printing plate.
【0359】[0359]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
耐刷力と汚れ性能とが高いレベルで両立した平版印刷版
用アルミニウム支持体が得られる平版印刷版用アルミニ
ウム支持体の製造方法、前記製造方法で製造した平版印
刷版用アルミニウム支持体、および前記平版印刷版用ア
ルミニウム支持体の粗面化面に製版層を積層した平版印
刷原版が提供される。As described above, according to the present invention,
A method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate, which provides an aluminum support for a lithographic printing plate having a high level of both printing durability and stain performance, an aluminum support for a lithographic printing plate produced by the production method, and Provided is a lithographic printing original plate in which a plate making layer is laminated on a roughened surface of an aluminum support for a lithographic printing plate.
【図1】図1は、実施例において電解粗面化処理(d)
および(g)で印加した台形波電流の波形を示す波形図
である。FIG. 1 is an electrolytic roughening treatment (d) in an example.
It is a waveform diagram which shows the waveform of the trapezoidal wave current applied by (g).
【図2】図2は、実施例において電解粗面化処理(d)
および(g)で使用した電解槽の構成の概略を示す断面
図である。FIG. 2 is an electrolytic graining treatment (d) in an example.
It is sectional drawing which shows the outline of a structure of the electrolysis cell used by (g).
40 電解槽 42 電解槽本体 44 送りローラ 46A 主極 46B 主極 48A 給液ノズル 48B 給液ノズル 54 補助電解槽 56 補助陽極 Th サイリスタ 40 electrolyzer 42 Electrolyzer body 44 feed roller 46A Main pole 46B Main pole 48A liquid supply nozzle 48B liquid supply nozzle 54 Auxiliary electrolyzer 56 Auxiliary anode Th thyristor
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C25D 11/08 C25D 11/08 11/16 301 11/16 301 C25F 3/04 C25F 3/04 B D 7/00 7/00 V G03F 7/00 503 G03F 7/00 503 7/09 501 7/09 501 Fターム(参考) 2H025 AA12 AB03 AC08 DA20 DA36 2H096 AA06 CA03 EA04 EA23 2H114 AA04 DA04 EA02 EA08 GA03 GA05 GA06 GA08 GA09 4K057 WA05 WB05 WC10 WD05 WE22 WG10 WK01 WL05 WL10 WN10─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) C25D 11/08 C25D 11/08 11/16 301 11/16 301 C25F 3/04 C25F 3/04 B D 7 / 00 7/00 V G03F 7/00 503 G03F 7/00 503 7/09 501 501 7/09 501 F Term (reference) 2H025 AA12 AB03 AC08 DA20 DA36 2H096 AA06 CA03 EA04 EA23 2H114 AA04 DA04 EA02 EA08 GA03 GA09 GA06 GA06 4K057 WA05 WB05 WC10 WD05 WE22 WG10 WK01 WL05 WL10 WN10
Claims (4)
に、(1) 平均粒径が1〜60μmの研磨材を懸濁してな
る研磨材スラリーを用いてブラシにより機械的に粗面化
する機械的粗面化処理(a)、(2) 水酸化ナトリウムを主
体とするアルカリ溶液を用い、エッチング量が2〜15
g/m2になるようにエッチングするアルカリエッチン
グ処理(b)、(3) 酸性溶液中でデスマット処理するデス
マット処理(c)、(4) 硝酸濃度が0.2〜2重量%の硝
酸溶液中で、交流を用いて電流密度5〜50A/d
m2、アノード反応時の電気量が30〜300C/dm2
になるように電解粗面化処理を行なう電解粗面化処理
(d)、(5) 水酸化ナトリウムを主体とするアルカリ溶液
を用い、エッチング量が0.1〜6g/m2になるよう
にエッチングするアルカリエッチング処理(e)、(6) 酸
性溶液中でデスマット処理するデスマット処理(f)、(7)
塩酸濃度が0.1〜2重量%の塩酸溶液中で、交流を
用いて電流密度5〜50A/dm2、アノード時の電気
量が3〜150C/dm2になるように電解粗面化処理
を行なう電解粗面化処理(g)、(8) 水酸化ナトリウムを
主体とするアルカリ溶液を用い、エッチング量が0.0
01〜1g/m2になるようにエッチングするアルカリ
エッチング処理(h)、(9) 酸性溶液中でデスマット処理
するデスマット処理(I)、および(10)硫酸濃度が5重量
%以上の硫酸溶液中で、厚さが0.2μm以上の陽極酸
化被膜を形成する陽極酸化処理(j)を順次施す平版印刷
版用アルミニウム支持体の製造方法であって、 機械的粗面化処理(a)においては、使用される研磨材ス
ラリーの比重に基いて前記研磨材スラリー中の研磨材の
濃度を制御し、 アルカリエッチング処理(b)、(e)、(h)においては、使
用されるアルカリ溶液の比重と電導度とに基いて前記ア
ルカリ溶液中の水酸化ナトリウムの濃度を制御し、 電解粗面化処理(d)、(g)においては、使用される硝酸溶
液または塩酸溶液中の音速と電導度とに基いて前記硝酸
溶液中の硝酸濃度および前記塩酸溶液中の塩酸濃度を制
御し、 陽極酸化処理(j)においては、使用される硫酸溶液の比
重と電導度とに基いて前記硫酸溶液中の硫酸濃度を制御
することを特徴とする平版印刷版用アルミニウム支持体
の製造方法。1. A mechanically roughened surface, which is mechanically roughened by a brush, using (1) an abrasive slurry in which an abrasive having an average particle size of 1 to 60 μm is suspended on at least one surface of an aluminum plate. Surface treatment (a), (2) Using alkaline solution mainly composed of sodium hydroxide, etching amount is 2 to 15
Alkaline etching treatment to achieve g / m 2 (b), (3) Desmutting treatment in acidic solution (c), (4) Nitric acid solution with nitric acid concentration of 0.2 to 2% by weight And the current density is 5 to 50 A / d using alternating current.
m 2 , the amount of electricity during the anode reaction is 30 to 300 C / dm 2
Electrolytic surface roughening treatment so that
(d), (5) Alkaline etching treatment in which an alkaline solution mainly composed of sodium hydroxide is used so that the etching amount becomes 0.1 to 6 g / m 2 (e), (6) in an acidic solution Desmut processing Desmut processing (f), (7)
Electrolytic surface roughening treatment in a hydrochloric acid solution with a hydrochloric acid concentration of 0.1 to 2 wt% so that the current density is 5 to 50 A / dm 2 and the amount of electricity at the anode is 3 to 150 C / dm 2. Electrolytic surface roughening treatment (g), (8) Using an alkaline solution mainly composed of sodium hydroxide, the etching amount is 0.0
Alkaline etching treatment (h) for etching to 1 to 1 g / m 2 , (9) Desmutting treatment (I) for desmutting in acidic solution, and (10) Sulfuric acid solution with sulfuric acid concentration of 5% by weight or more A method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate, which comprises sequentially performing anodizing treatment (j) for forming an anodized film having a thickness of 0.2 μm or more, wherein the mechanical roughening treatment (a) comprises , Controlling the concentration of the abrasive in the abrasive slurry based on the specific gravity of the abrasive slurry used, in the alkali etching treatment (b), (e), (h), the specific gravity of the alkaline solution used And controlling the concentration of sodium hydroxide in the alkaline solution based on the conductivity, in the electrolytic surface roughening treatment (d), (g), in the nitric acid solution or hydrochloric acid solution used sonic velocity and conductivity. The nitric acid concentration in the nitric acid solution and the hydrochloric acid based on A planographic printing plate characterized by controlling the concentration of hydrochloric acid in the liquid, and in the anodizing treatment (j), controlling the concentration of sulfuric acid in the sulfuric acid solution based on the specific gravity and conductivity of the sulfuric acid solution used. For manufacturing aluminum support for automobile.
チング処理(b)、(e)、(h)、電解粗面化処理(d)、(g)、
および陽極酸化処理(j)の何れにおいても、研磨材スラ
リーの比重、アルカリ溶液の比重と電導度、硝酸溶液ま
たは塩酸溶液中の音速と電導度、および硫酸溶液の比重
と電導度のそれぞれを変動幅が±10%以内になるよう
に制御する請求項1に記載の平版印刷版用アルミニウム
支持体の製造方法。2. Mechanical surface roughening treatment (a), alkali etching treatment (b), (e), (h), electrolytic surface roughening treatment (d), (g),
The specific gravity of the abrasive slurry, the specific gravity and conductivity of an alkaline solution, the speed of sound and conductivity in a nitric acid solution or a hydrochloric acid solution, and the specific gravity and conductivity of a sulfuric acid solution are varied in both The method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate according to claim 1, wherein the width is controlled to be within ± 10%.
用アルミニウム支持体の製造方法により製造されたこと
を特徴とする平版印刷版用アルミニウム支持体。3. An aluminum support for a lithographic printing plate, which is produced by the method for producing an aluminum support for a lithographic printing plate according to claim 1.
ニウム支持体における粗面化面に製版層を形成してなる
ことを特徴とする平版印刷原版。4. A lithographic printing original plate comprising a plate-making layer formed on the roughened surface of the lithographic printing plate aluminum support according to claim 3.
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018537854A (en) * | 2015-11-19 | 2018-12-20 | オーシーアイ カンパニー リミテッドOCI Company Ltd. | Copper etching composition and hydrogen peroxide-based metal etching composition |
-
2002
- 2002-03-29 JP JP2002097623A patent/JP2003291549A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018537854A (en) * | 2015-11-19 | 2018-12-20 | オーシーアイ カンパニー リミテッドOCI Company Ltd. | Copper etching composition and hydrogen peroxide-based metal etching composition |
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