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JP2004272195A - Method for producing random pattern, method for producing mask, method for producing electro-optical device, and program for producing random pattern - Google Patents

Method for producing random pattern, method for producing mask, method for producing electro-optical device, and program for producing random pattern Download PDF

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JP2004272195A
JP2004272195A JP2003280855A JP2003280855A JP2004272195A JP 2004272195 A JP2004272195 A JP 2004272195A JP 2003280855 A JP2003280855 A JP 2003280855A JP 2003280855 A JP2003280855 A JP 2003280855A JP 2004272195 A JP2004272195 A JP 2004272195A
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Japan
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dot
unit area
area
random pattern
portions
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Application number
JP2003280855A
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Japanese (ja)
Inventor
Toshihiro Otake
俊裕 大竹
Mutsumi Matsuo
睦 松尾
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
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Abstract

【課題】 透光部や遮光部に対応する複数のドット部を、互いに近づけ過ぎることなく、十分に平面的にランダムな状態に配列させる。
【解決手段】 (a)単位領域A0に複数のドット部4を1次的にランダムに配置し、(b)単位領域A0と形状が同じでドット部4の配置も同じである補助領域を単位領域A0の周囲に連続して配置させ、(c)単位領域A0に含まれる複数のドット部4から1つの注目ドット部を選択し、(d)注目ドット部の周りの複数の周囲ドット部のそれぞれと注目ドット部との間の距離dを演算し、(e)演算された各d値を基準距離sと比較し、(f)複数の周囲ドット部の中でd≦sとなるものを注目ドット部から離すと同時に補助領域の対応する周囲ドットも離す演算を行い、さらに、(g)単位領域A0内の全てのドット部4について、移動が無くなるまで(c)から(f)の工程を繰り返すようにしたランダムパターンの作成方法である。
【選択図】 図1

PROBLEM TO BE SOLVED: To arrange a plurality of dot portions corresponding to a light transmitting portion and a light shielding portion in a sufficiently planar random state without being too close to each other.
(A) A plurality of dot sections 4 are randomly arranged in a unit area A0 at random, and (b) an auxiliary area having the same shape and the same arrangement of the dot sections 4 as the unit area A0 is defined as a unit. (C) selecting one attention dot from the plurality of dots 4 included in the unit area A0; and (d) selecting a plurality of surrounding dots around the attention dot. The distance d between each of them and the target dot portion is calculated, (e) each calculated d value is compared with a reference distance s, and (f) a plurality of surrounding dot portions satisfying d ≦ s An operation is performed to separate the surrounding dots corresponding to the auxiliary area at the same time as separating from the target dot section. Further, (g) Steps (c) to (f) are performed for all the dot sections 4 in the unit area A0 until there is no movement. It is a method of creating a random pattern that repeats .
[Selection diagram] Fig. 1

Description

本発明は、複数のドット部をランダムに配置させて成るランダムパターンの作成方法及びその方法を実現するプログラムに関する。また、本発明は、複数のドット部をランダムに配置させて成るマスクの製造方法、そのマスクを用いた電気光学装置の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for creating a random pattern in which a plurality of dot portions are randomly arranged, and a program for implementing the method. The present invention also relates to a method of manufacturing a mask in which a plurality of dot portions are randomly arranged, and a method of manufacturing an electro-optical device using the mask.

現在、液晶装置等といった電気光学装置は広く知られている。この電気光学装置は、液晶等といた電気光学物質の層に光を供給すると共にその電気光学物質の層に印加される電圧を表示の最小単位である表示ドット毎に制御することによって光を変調し、これにより、文字、数字、図形等といった像を表示する。   At present, electro-optical devices such as liquid crystal devices are widely known. This electro-optical device modulates light by supplying light to a layer of electro-optical material, such as liquid crystal, and controlling the voltage applied to the layer of electro-optical material for each display dot, which is the minimum unit of display. Thus, images such as characters, numerals, figures, and the like are displayed.

このような電気光学装置において、電気光学物質の層に光を供給する方法として、その電気光学物質の層と平行に光反射層を設け、太陽光、室内光等といった外部光を、一旦、電気光学装置の内部へ取り込んだ後、その光を上記光反射層で反射して電気光学物質の層へ供給する方法が知られている。さらに、この方法において、光反射層の表面が平滑面、すなわち鏡面であると、文字、数字等の背景が鏡像となってしまって表示が見難くなるので、これを防止するため、光反射層の表面に細かな凹凸模様を形成して、反射光が散乱光となるようにした方法も知られている。また、電気光学装置に関しては、上記の光反射層の表面に凹凸模様を形成する場合に限られず、各種の光学要素の表面に必要に応じて微細な凹凸模様を形成する必要が生じる場合がある。   In such an electro-optical device, as a method for supplying light to the layer of the electro-optical material, a light reflecting layer is provided in parallel with the layer of the electro-optical material, and external light such as sunlight, room light, etc. There is known a method in which, after being introduced into an optical device, the light is reflected by the light reflecting layer and supplied to a layer of an electro-optical material. Furthermore, in this method, if the surface of the light reflecting layer is a smooth surface, that is, a mirror surface, the background of characters, numbers, etc. becomes a mirror image and the display becomes difficult to see. There is also known a method in which a fine uneven pattern is formed on the surface of the device so that reflected light becomes scattered light. In addition, the electro-optical device is not limited to the case where an uneven pattern is formed on the surface of the light reflection layer, and may need to form a fine uneven pattern as needed on the surface of various optical elements. .

このように、光反射層、あるいはその他の光学要素の表面に凹凸模様を形成する場合、その凹凸模様が平面的に規則的な配列状態で設けられていると、反射光に干渉縞が発生して表示が見難くなるおそれがある。このことを防止するため、従来、凹凸模様の平面的な配列状態をランダム、すなわち不規則にする技術が提案されている。   As described above, when forming a concavo-convex pattern on the surface of the light reflecting layer or other optical elements, if the concavo-convex pattern is provided in a regularly arranged state in a plane, interference fringes occur in reflected light. Display may be difficult to see. In order to prevent this, conventionally, a technique has been proposed in which the planar arrangement state of the uneven pattern is made random, that is, irregular.

また、そのようなランダムな配列状態を実現する具体的な方法の1つとして、従来、フォトリソグラフィ処理を用いて光反射層等を形成することにした上で、そのフォトリソグラフィ処理で用いる露光用マスクに形成する透光部又は遮光部、すなわちドット部の配置パターンを不規則、すなわちランダムにする方法が知られている(例えば、特許文献1参照)。このように、複数のドット部がランダムに配列された構造の露光用マスクを作製するに際しては、複数のドット部がXY座標上でランダムに配置された状態を表示する座標データ、すなわちランダムパターンのデータが予め決められている必要がある。   In addition, as one of specific methods for realizing such a random arrangement state, conventionally, a light reflection layer or the like is formed by using a photolithography process, and then a light exposure layer used in the photolithography process is formed. There is known a method in which the arrangement pattern of the light-transmitting portions or the light-shielding portions formed on the mask, that is, the dot portions is made irregular, that is, random (for example, see Patent Document 1). As described above, when manufacturing an exposure mask having a structure in which a plurality of dot portions are randomly arranged, coordinate data indicating a state in which a plurality of dot portions are randomly arranged on XY coordinates, that is, a random pattern Data must be predetermined.

このようなランダムパターンの作成方法として、従来、例えば、内径5mm程度の多数、例えば2000個程度のリング部材をXY座標が描かれた平面上にばら撒くことにより、それらのリング部材をXY座標上にランダムに配置させた上で、各リング部材のXY座標を読み取ることにより、ランダムな配列のデータをXY座標によって規定するようにした方法が知られている。   As a method of creating such a random pattern, conventionally, for example, a large number of ring members having an inner diameter of about 5 mm, for example, about 2000 ring members are scattered on a plane on which XY coordinates are drawn, so that those ring members are There is known a method in which the XY coordinates of each ring member are read after being arranged at random, and data of a random arrangement is defined by the XY coordinates.

特開2002−258278号公報JP-A-2002-258278

しかしながら、上記のような従来のランダムパターンの作成方法では、複数のドット部の配列を完全にランダムにすることができず、その配列が意に反して部分的に規則性が増加してしまうことがあった。このようなランダムパターンに従って光反射層の表面に凹凸を形成する場合を考えると、その光反射層で反射した光に関して干渉縞の発生を防止することは不十分であった。   However, in the conventional method of creating a random pattern as described above, the arrangement of a plurality of dot portions cannot be made completely random, and the arrangement may be partially increased in an unexpected manner. was there. Considering the case where irregularities are formed on the surface of the light reflecting layer according to such a random pattern, it has been insufficient to prevent the generation of interference fringes with respect to the light reflected by the light reflecting layer.

また、上記のような従来のランダムパターンの作成方法では、複数のドット部が互いに近づき過ぎてしまったり、あるいは、ドット部同士が重なったりすることがあった。このようなランダムパターンに従ってフォトリソグラフィ処理用のマスクを作製した上で、基材上に形成された樹脂膜をこのマスクを用いて露光及び現像してその樹脂膜の表面に凹凸を形成する場合を考えると、形成された凹凸の間隔が近づき過ぎたり、又は凹部同士が重なったりする状態が発生し、それらの個所において、樹脂膜が基材から剥がれ易くなるという問題があった。   Further, in the conventional method for creating a random pattern as described above, a plurality of dot portions may be too close to each other, or the dot portions may overlap each other. A mask for photolithography processing is prepared according to such a random pattern, and the resin film formed on the base material is exposed and developed using the mask to form irregularities on the surface of the resin film. Considering the above, there is a problem that the intervals between the formed concavities and convexities are too close or the concave portions overlap each other, and there is a problem that the resin film is easily peeled from the base material at those locations.

本発明は、上記の問題点に鑑みて成されたものであって、透光部や遮光部に対応する複数のドット部を、近づけ過ぎることなく、十分にランダムな状態に配列させることを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and has as its object to arrange a plurality of dot portions corresponding to light-transmitting portions and light-shielding portions in a sufficiently random state without being too close to each other. And

上記の目的を達成するため、本発明に係るランダムパターンの作成方法は、複数のドット部を不規則に配置して成るランダムパターンの作成方法において、
(a)前記ランダムパターン内の単位領域に複数のドット部をXY座標上で1次的にランダムに配置する工程と、
(b)前記単位領域と形状が同じであり前記ドット部の配置も同じである補助領域を前記単位領域の周囲に該単位領域に連続して配置させる工程と、
(c)前記単位領域に含まれる複数のドット部から1つの注目ドット部を選択する工程と、
(d)前記注目ドット部の周りに存在する複数の周囲ドット部のそれぞれと該注目ドット部との間の距離“d”を演算する工程と、
(e)演算された前記複数の距離“d”のそれぞれを基準距離“s”と比較する工程と、
(f)前記複数の周囲ドット部の中にd≦sとなるものがあるとき、当該周囲ドット部のXY座標を前記注目ドット部に対してX方向又はY方向又はX及びYの両方向へ所定距離だけ離すと同時に補助領域の対応する周囲ドットも離す演算を行う工程と、
(g)前記単位領域内の複数のドット部の全てについて前記(c)から前記(f)の工程を、前記ドット部間距離“d”の全てがd>sとなるまで繰り返す工程と、
を有することを特徴とする。
In order to achieve the above object, a method for creating a random pattern according to the present invention is a method for creating a random pattern in which a plurality of dot portions are arranged irregularly,
(A) randomly arranging a plurality of dot portions on XY coordinates in a unit area in the random pattern;
(B) a step of arranging an auxiliary area having the same shape as the unit area and the same arrangement of the dot portions around the unit area and continuously in the unit area;
(C) selecting one target dot portion from a plurality of dot portions included in the unit area;
(D) calculating a distance “d” between each of the plurality of peripheral dot portions existing around the noted dot portion and the noted dot portion;
(E) comparing each of the calculated plurality of distances “d” with a reference distance “s”;
(F) When d ≦ s among the plurality of surrounding dot portions, the XY coordinates of the surrounding dot portions are determined in the X direction, the Y direction, or both the X and Y directions with respect to the target dot portion. Performing a calculation of separating the surrounding dots corresponding to the auxiliary area at the same time as separating by a distance;
(G) repeating the steps (c) to (f) for all of the plurality of dot sections in the unit area until all of the dot section distances “d” satisfy d>s;
It is characterized by having.

このランダムパターンの作成方法によれば、ランダムパターンの単位領域及びそれを複数個つなぎ合せて形成されるランダムパターンの全面積領域にわたって、ランダムパターンを構成する複数のドット部が互いに近づき過ぎて配置されることを防止できる。従って、例えば、このようなランダムパターンに従って露光用マスク内の複数のドット部、例えば複数の穴、の配列を決定し、さらに、ガラス等から成る基材上に形成された樹脂膜に関してこの露光用マスクを用いてパターン化を行えば、この樹脂膜に十分にランダム化された凹凸模様を形成できる。しかもこのとき、凹凸模様の凹部同士は互いに近づき過ぎたり、重なったりすることがないので、当該樹脂膜が基材から剥がれ易くなることを防止できる。   According to the random pattern creation method, a plurality of dot portions constituting the random pattern are arranged so as to be too close to each other over the entire area of the unit area of the random pattern and the random pattern formed by connecting a plurality of the unit areas. Can be prevented. Therefore, for example, the arrangement of a plurality of dot portions in the exposure mask, for example, a plurality of holes, is determined in accordance with such a random pattern, and further, the resin film formed on a base material made of glass or the like is used for this exposure. If patterning is performed using a mask, a sufficiently random uneven pattern can be formed on the resin film. In addition, at this time, since the concave portions of the concave and convex pattern do not approach each other too much or overlap with each other, it is possible to prevent the resin film from being easily peeled off from the base material.

ところで、ランダムパターンの作成方法として、単位面積A0という概念を考えずに、ランダムパターンの全面領域にわたって複数のドット部をXY座標上で1次的にランダムに配置させることも考えられるが、この方法では、ランダムパターンの全面領域にわたってランダムデータを形成することに関して非常に長時間を要し、コストも非常に高くなる。また、このランダムデータに従って露光装置によって実際に描画を行うことに関して非常に長時間を要し、コストも非常に高くなる。   By the way, as a method of creating a random pattern, it is conceivable to arrange a plurality of dot portions randomly on XY coordinates over the entire area of the random pattern without considering the concept of the unit area A0. In such a case, it takes a very long time to form random data over the entire area of the random pattern, and the cost is very high. In addition, it takes a very long time to actually perform drawing by the exposure apparatus in accordance with the random data, and the cost is extremely high.

これに対し、本発明に係るランダムパターンの作成方法では、ランダムパターンの全面領域にわたってランダムデータを形成するのではなく、ランダムパターンの一部分に相当する単位領域を考え、この単位領域内に複数のドット部をランダムに配置させ、さらに、そのような単位領域を平面的に順々につなぎ合わせることにより、ランダムパターンの全面領域に関して複数のドット部をランダムに配置させるようにしている。この方法によれば、ランダムデータを形成するのは単位領域だけで済むので、データ形成のための時間も短時間で済み、コストも安くて済む。   On the other hand, in the method for creating a random pattern according to the present invention, instead of forming random data over the entire area of the random pattern, a unit area corresponding to a part of the random pattern is considered, and a plurality of dots are formed in this unit area. By randomly arranging the units and further connecting such unit regions one by one in a planar manner, a plurality of dot units are arranged at random with respect to the entire region of the random pattern. According to this method, since only the unit area needs to form the random data, the time for forming the data is short, and the cost is low.

このような単位領域をつなぎ合わせる方法によれば、そのつなぎ合わせの境界線領域において、複数のドット部が近づき過ぎたり、重なり合ったりする状態が発生するおそれが高くなるが、本発明によれば、そのような境界線領域においても、ドット間の距離を確実に所定距離以上に離すことができる。   According to such a method of connecting the unit areas, in the boundary area of the connection, a plurality of dot parts may be too close to each other, or a state in which the plurality of dot parts may overlap with each other may be increased. Even in such a boundary region, the distance between the dots can be surely separated by a predetermined distance or more.

なお、上記構成のランダムパターンの作成方法において、前記ドット部は円形部分又は多角形部分とすることができる。   In the method for creating a random pattern having the above configuration, the dot portion may be a circular portion or a polygonal portion.

次に、上記構成のランダムパターンの作成方法において、前記複数のドット部をXY座標上で1次的にランダムに配置する工程は、ランダム関数を用いて行うことが望ましい。ランダム関数を用いれば、1次的なランダムデータを非常に簡単に取得することができる。例えば、ランダム関数は、0〜1の任意の値を取るものであるが、1操作目でX座標、2操作目でY座標、……と連続に2n回繰り返せば1×1単位領域にn個の座標を取得できるため、表示ドットサイズにスケーリングすることでランダム位置座標を取得することができる。このようなランダム関数は、コンピュータのメモリにインストール可能なアプリケーションソフトとして広く一般的に提供されているものを使用できる。なお、このようなランダム関数に代えて、多数のドット要素、例えば多数の小さなリング部材を平面上に実際にばら撒いてランダムな配列を実現するという方法を用いることもできる。   Next, in the method of creating a random pattern having the above-described configuration, it is preferable that the step of randomly arranging the plurality of dot portions on the XY coordinate system be performed using a random function. If a random function is used, primary random data can be obtained very easily. For example, the random function takes an arbitrary value from 0 to 1. However, if the X coordinate is repeatedly used in the first operation, the Y coordinate is used in the second operation,... Since individual coordinates can be obtained, random position coordinates can be obtained by scaling to the display dot size. As such a random function, one widely and generally provided as application software that can be installed in a memory of a computer can be used. Instead of such a random function, a method in which a large number of dot elements, for example, a large number of small ring members are actually scattered on a plane to realize a random arrangement can be used.

次に、上記構成のランダムパターンの作成方法において、前記ドット部の最大外形寸法が約7.5μmであり、必要となるドット部の合計の面積が前記単位領域の面積の約30%であるとき、前記基準距離“s”の値は約9μmであることが望ましい。   Next, in the method of forming a random pattern having the above configuration, when the maximum outer dimension of the dot portion is about 7.5 μm and the total area of the required dot portion is about 30% of the area of the unit region. Preferably, the value of the reference distance “s” is about 9 μm.

こうすれば、複数のドット部は、少なくとも約9μm以上の距離をおいてランダムに配列されることになるので、このランダムパターンに従って光反射層の表面に凹凸を形成し、さらにその光反射層で光を反射させたとき、反射光に干渉縞が発生することを防止できる。また、このランダムパターンに従って樹脂膜に複数のドット部を形成したとき、その樹脂膜に剥がれが発生することを防止できる。   In this case, the plurality of dot portions are randomly arranged at least at a distance of about 9 μm or more. Therefore, irregularities are formed on the surface of the light reflecting layer according to the random pattern, and the light reflecting layer further forms When light is reflected, it is possible to prevent the occurrence of interference fringes in the reflected light. Further, when a plurality of dot portions are formed on the resin film according to the random pattern, it is possible to prevent the resin film from peeling off.

次に、上記構成のランダムパターンの作成方法において、前記ドット部の最大外形寸法が約10μmであり、必要となるドットの合計の面積が前記単位領域の面積の約30%であるとき、前記基準距離“s”の値は約13.5μmであることが望ましい。   Next, in the method of forming a random pattern having the above configuration, when the maximum outer dimension of the dot portion is about 10 μm and the total area of the required dots is about 30% of the area of the unit region, Desirably, the value of the distance "s" is about 13.5 μm.

こうすれば、複数のドット部は、少なくとも約13.5μm以上の距離をおいてランダムに配列されることになるので、このランダムパターンに従って光反射層の表面に凹凸を形成し、さらにその光反射層で光を反射させたとき、反射光に干渉縞が発生することを防止できる。また、このランダムパターンに従って樹脂膜に複数のドット部を形成したとき、その樹脂膜に剥がれが発生することを防止できる。   In this case, the plurality of dot portions are randomly arranged at least at a distance of about 13.5 μm or more. Therefore, irregularities are formed on the surface of the light reflecting layer according to the random pattern, and the light reflection is further performed. When light is reflected by the layer, it is possible to prevent the occurrence of interference fringes in the reflected light. Further, when a plurality of dot portions are formed on the resin film according to the random pattern, it is possible to prevent the resin film from peeling off.

次に、上記構成のランダムパターンの作成方法であって、3原色の着色要素を配列させて成るカラーフィルタに対応して前記複数のドット部を不規則に配置するようにしたランダムパターンの作成方法においては、前記単位領域は、1つの着色要素に対応する表示ドット領域又は3原色の着色要素が集まって成る1つの画素領域とほぼ同じ領域であることが望ましい。   Next, a method of creating a random pattern having the above configuration, wherein the plurality of dot portions are arranged irregularly in correspondence with a color filter formed by arranging coloring elements of three primary colors. Preferably, the unit area is substantially the same area as a display dot area corresponding to one coloring element or a single pixel area formed by collecting three primary color elements.

次に、本発明に係るマスクの製造方法は、透光部又は遮光部として機能する複数のドット部を不規則に配置して成るマスクの製造方法において、ランダムパターンのデータを作成する工程と、基材上に無パターンの遮光層を形成する工程と、前記ランダムパターンのデータに基づいて前記遮光層をパターニングして前記複数のドット部を形成する工程とを有し、前記ランダムパターンのデータを作成する工程は、以上に記載した構成のランダムパターンの作成方法によって実行されることを特徴とする。   Next, in the method for manufacturing a mask according to the present invention, in a method for manufacturing a mask in which a plurality of dot portions functioning as a light-transmitting portion or a light-shielding portion are irregularly arranged, a step of creating random pattern data; Forming a non-patterned light-shielding layer on a base material, and having the step of patterning the light-shielding layer based on the random pattern data to form the plurality of dot portions, The step of creating is performed by the method of creating a random pattern having the configuration described above.

以上に記載した構成のランダムパターンの作成方法によれば、ランダムパターンを構成する複数のドット部が互いに近づき過ぎて配置されたり、重なり合って配置されたりすることを防止できるので、このランダムパターンに従って露光用マスク内の複数のドット部、例えば複数の穴の配列を決定し、さらに、ガラス等から成る基材上に形成された樹脂膜に関してこの露光用マスクを用いてパターン化を行えば、この樹脂膜に十分にランダム化された凹凸模様を形成できる。しかもこのとき、複数のドット部に関して互いに近づき過ぎたり、重なり合ったりするものが形成されることを防止できるので、当該樹脂膜が基材から剥がれ易くなることを防止できる。   According to the method for creating a random pattern having the above-described configuration, a plurality of dot portions constituting the random pattern can be prevented from being arranged too close to each other or arranged in an overlapping manner. If a plurality of dot portions in the mask for use, for example, the arrangement of a plurality of holes is determined, and further patterning is performed using this exposure mask with respect to a resin film formed on a base material made of glass or the like, this resin A sufficiently randomized uneven pattern can be formed on the film. In addition, at this time, it is possible to prevent the plurality of dot portions from being too close to each other or overlapping, thereby preventing the resin film from being easily peeled off from the base material.

次に、本発明に係る電気光学装置の製造方法は、基材と、該基材上に形成されていてその表面に凹凸を有する樹脂層と、該樹脂層の上に形成された光反射層と、該光反射層の上に設けられた電気光学物質層とを有する電気光学装置を製造するための製造方法において、前記樹脂層の表面に凹凸を形成する工程は、上記のマスクの製造方法を用いて製造されたマスクを用いて形成されることを特徴とする。   Next, a method for manufacturing an electro-optical device according to the present invention includes a substrate, a resin layer formed on the substrate and having irregularities on its surface, and a light reflecting layer formed on the resin layer. And a method for manufacturing an electro-optical device having an electro-optical material layer provided on the light reflecting layer, wherein the step of forming irregularities on the surface of the resin layer comprises the method of manufacturing a mask described above. It is formed using a mask manufactured by using.

以上に記載した構成のマスクの製造方法を用いて製造されたマスクに関しては、複数のドット部が互いに近づき過ぎることなく、しかも十分にランダム化された状態で配置されるので、このマスクを用いて樹脂層の表面に凹凸を形成した場合、その凹凸は、互いに近づき過ぎることなく、しかも十分にランダム化された状態に形成される。樹脂層の凹凸が互いに近づき過ぎない状態に形成されれば、当該樹脂層を基材上から剥がれ難くすることができる。また、樹脂層の凹凸を十分にランダム化できれば、当該樹脂層の上に形成された光反射層で反射する光、又は当該樹脂層を透過する光に干渉縞が発生することを確実に防止できる。   With respect to a mask manufactured using the method for manufacturing a mask having the above-described configuration, a plurality of dot portions are arranged without being too close to each other and in a sufficiently randomized state. When irregularities are formed on the surface of the resin layer, the irregularities are formed in a sufficiently randomized state without approaching each other too much. If the unevenness of the resin layer is formed so as not to be too close to each other, the resin layer can be hardly peeled off from the substrate. In addition, if the irregularities of the resin layer can be sufficiently randomized, it is possible to reliably prevent the occurrence of interference fringes in light reflected by the light reflecting layer formed on the resin layer or light transmitted through the resin layer. .

上記構成の電気光学装置の製造方法において、前記電気光学物質は液晶とすることができる。こうして形成される電気光学装置は、いわゆる液晶装置である。この液晶装置は、例えば、文字、数字、図形等といった像を表示するための表示装置として用いることができる。液晶装置には、アクティブ素子を用いない単純マトリクス方式の液晶装置や、TFD(Thin Film Diode)等といった2端子型のスイッチング素子をアクティブ素子として用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置や、TFT(Thin Film Transistor)等といった3端子型のスイッチング素子をアクティブ素子として用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置や、その他種々の構成の液晶装置が考えられる。   In the method of manufacturing an electro-optical device having the above configuration, the electro-optical material may be a liquid crystal. The electro-optical device thus formed is a so-called liquid crystal device. This liquid crystal device can be used, for example, as a display device for displaying images such as characters, numbers, figures, and the like. The liquid crystal device includes a simple matrix type liquid crystal device using no active element, an active matrix type liquid crystal device using a two-terminal switching element such as a TFD (Thin Film Diode) as an active element, and a TFT (Thin Film Type). For example, an active matrix type liquid crystal device using a three-terminal switching element such as a transistor as an active element, or a liquid crystal device having various other configurations can be considered.

次に、本発明に係るランダムパターンの作成プログラムは、複数のドット部を不規則に配置して成るランダムパターンの作成プログラムであって、コンピュータを、
(a)前記ランダムパターン内の単位領域に前記複数のドット部をXY座標上で1次的にランダムに配置する手段、
(b)前記単位領域と形状が同じであり前記ドット部の配置も同じである補助領域を前記単位領域の周囲に該単位領域に連続して配置させる手段、
(c)前記単位領域に含まれる複数のドット部から1つの注目ドット部を選択する手段、
(d)前記注目ドット部の周りに存在する複数の周囲ドット部のそれぞれと該注目ドット部との間の距離“d”を演算する手段、
(e)演算された前記複数の距離“d”のそれぞれを基準距離“s”と比較する手段、
(f)前記複数の周囲ドット部の中にd≦sとなるものがあるとき、当該周囲ドット部のXY座標を前記注目ドット部に対してX方向又はY方向又はX及びYの両方向へ所定距離だけ離すと同時に補助領域の対応する周囲ドットも離す演算を行う手段、及び
(g)前記単位領域内の複数のドット部の全てについて前記(c)から前記(f)の工程を、前記ドット部間距離“d”の全てがd>sとなるまで繰り返す手段、
として機能させるためのプログラムである。
Next, a random pattern creation program according to the present invention is a random pattern creation program in which a plurality of dot portions are arranged irregularly,
(A) means for randomly arranging the plurality of dot portions on an XY coordinate in a unit area in the random pattern,
(B) means for continuously arranging an auxiliary area having the same shape as the unit area and the same arrangement of the dot portions around the unit area in the unit area;
(C) means for selecting one target dot portion from a plurality of dot portions included in the unit area;
(D) means for calculating a distance “d” between each of the plurality of surrounding dot portions existing around the noted dot portion and the noted dot portion;
(E) means for comparing each of the plurality of calculated distances “d” with a reference distance “s”;
(F) When d ≦ s is present among the plurality of surrounding dot portions, the XY coordinates of the surrounding dot portions are determined in the X direction, the Y direction, or both the X and Y directions with respect to the target dot portion. Means for performing an operation to separate the surrounding dots corresponding to the auxiliary area at the same time as the distance, and (g) performing the steps (c) to (f) for all of the plurality of dot portions in the unit area. Means to repeat until all of the inter-unit distances “d” satisfy d> s,
This is a program for functioning as

このプログラムに従って実行されるランダムパターンの作成方法によれば、ランダムパターンの単位領域及びそれを複数個つなぎ合せて形成されるランダムパターンの全面積領域にわたって、ランダムパターンを構成する複数のドット部が互いに近づき過ぎて配置されることを防止できる。従って、例えば、このようなランダムパターンに従って露光用マスク内の複数のドット部、例えば複数の穴、の配列を決定し、さらに、ガラス等から成る基材上に形成された樹脂膜に関してこの露光用マスクを用いてパターン化を行えば、この樹脂膜に十分にランダム化された凹凸模様を形成できる。しかもこのとき、凹凸模様の凹部同士は互いに近づき過ぎたり、重なったりすることがないので、当該樹脂膜が基材から剥がれ易くなることを防止できる。   According to the method of creating a random pattern executed according to this program, the plurality of dot portions constituting the random pattern are mutually connected over the unit area of the random pattern and the entire area of the random pattern formed by connecting a plurality of the unit areas. It can be prevented from being placed too close. Therefore, for example, the arrangement of a plurality of dot portions in the exposure mask, for example, a plurality of holes, is determined in accordance with such a random pattern, and further, the resin film formed on a base material made of glass or the like is used for this exposure. If patterning is performed using a mask, a sufficiently random uneven pattern can be formed on the resin film. In addition, at this time, since the concave portions of the concave and convex pattern do not approach each other too much or overlap with each other, it is possible to prevent the resin film from being easily peeled off from the base material.

次に、本発明に係る他のランダムパターンの作成方法は、3原色の着色要素を配列させて成るカラーフィルタに対応して前記複数のドット部を不規則に配置するようにしたランダムパターンの作成方法において、
(ア)1色の前記着色要素に対応する表示ドット領域を単位領域として該単位領域内のランダムパターンを決める工程と、
(イ)他の1色の前記着色要素に対応する表示ドット領域を単位領域として該単位領域内のランダムパターンを決める工程と、
(ウ)さらに他の1色の前記着色要素に対応する表示ドット領域を単位領域として該単位領域内のランダムパターンを決める工程と、
(エ)前記3種類のランダムパターンをつなぎ合わせた領域を単位領域として該単位領域内のランダムパターンを決める工程とを有し、
前記4つの工程は、それぞれ、
(a)前記単位領域に前記複数のドット部をXY座標上で1次的にランダムに配置する工程と、
(b)前記単位領域と形状が同じであり前記ドット部の配置も同じである補助領域を前記単位領域の周囲に該単位領域に連続して配置させる工程と、
(c)前記単位領域に含まれる複数のドット部から1つの注目ドット部を選択する工程と、
(d)前記注目ドット部の周りに存在する複数の周囲ドット部のそれぞれと該注目ドット部との間の距離“d”を演算する工程と、
(e)演算された前記複数の距離“d”のそれぞれを基準距離“s”と比較する工程と、
(f)前記複数の周囲ドット部の中にd≦sとなるものがあるとき、当該周囲ドット部のXY座標を前記注目ドット部に対してX方向又はY方向又はX及びYの両方向へ所定距離だけ離すと同時に補助領域の対応する周囲ドットも離す演算を行う工程と、
(g)前記単位領域内の複数のドット部の全てについて前記(c)から前記(f)の工程を、前記ドット部間距離“d”の全てがd>sとなるまで繰り返す工程とを有し、さらに
(オ)前記(エ)工程における基準距離“s”は、前記(ア)、(イ)、(ウ)の各工程における基準距離“s”のうちの最も小さい値に設定することを特徴とする。
Next, another method of creating a random pattern according to the present invention is to create a random pattern in which the plurality of dot portions are arranged irregularly in correspondence with a color filter formed by arranging coloring elements of three primary colors. In the method,
(A) determining a random pattern in the unit area using a display dot area corresponding to the one color coloring element as a unit area;
(A) determining a random pattern in the unit area using the display dot area corresponding to the other one color element as a unit area;
(C) determining a random pattern in the unit area using a display dot area corresponding to the other one color element as a unit area;
(D) determining a random pattern in the unit area using an area obtained by joining the three types of random patterns as a unit area,
The four steps are, respectively,
(A) randomly arranging the plurality of dot portions on the XY coordinates in the unit area;
(B) a step of arranging an auxiliary area having the same shape as the unit area and the same arrangement of the dot portions around the unit area and continuously in the unit area;
(C) selecting one target dot portion from a plurality of dot portions included in the unit area;
(D) calculating a distance “d” between each of the plurality of peripheral dot portions existing around the noted dot portion and the noted dot portion;
(E) comparing each of the calculated plurality of distances “d” with a reference distance “s”;
(F) When d ≦ s among the plurality of surrounding dot portions, the XY coordinates of the surrounding dot portions are determined in the X direction, the Y direction, or both the X and Y directions with respect to the target dot portion. Performing a calculation of separating the surrounding dots corresponding to the auxiliary area at the same time as separating by a distance;
And (g) repeating the steps (c) to (f) for all of the plurality of dot portions in the unit area until all of the dot portion distances “d” satisfy d> s. (E) The reference distance “s” in the step (d) is set to the smallest value of the reference distances “s” in the steps (a), (b) and (c). It is characterized by.

ここで、上記構成のランダムパターンの作成方法において、(i)1つのドット部の径、(ii)単位領域内におけるドット部の数、(iii)単位領域の面積に対する当該単位領域内に存在する複数のドット部の合計の面積密度、及び(iv)互いに隣り合う一対のドット部間の基準距離の4つの項目のうちの少なくとも1つは、前記(ア)、(イ)、(ウ)の各工程相互間で異なることが望ましい。   Here, in the method of creating a random pattern having the above configuration, (i) the diameter of one dot portion, (ii) the number of dot portions in the unit region, and (iii) the unit region exists in the unit region with respect to the area of the unit region. At least one of the four items of the total area density of the plurality of dot portions and (iv) the reference distance between a pair of dot portions adjacent to each other is one of the items (A), (A), and (C). It is desirable that each step be different.

また、上記構成のランダムパターンの作成方法において、前記3原色はR(赤)、G(緑)、B(青)の3色の組合せ、又はC(シアン)、M(マゼンタ)、Y(イエロー)の3色の組合せであることが望ましい。   In the method of creating a random pattern having the above-described configuration, the three primary colors are a combination of three colors of R (red), G (green), and B (blue), or C (cyan), M (magenta), and Y (yellow). ) Is desirable.

次に、本発明に係るさらに他のランダムパターンの作成方法は、3原色の着色要素を配列させて成るカラーフィルタに対応して前記複数のドット部を不規則に配置するようにしたランダムパターンの作成方法において、
(ア)2色の前記着色要素に対応する表示ドット領域を単位領域として該単位領域内のランダムパターンを決める工程と、
(イ)他の1色の前記着色要素に対応する表示ドット領域を単位領域として該単位領域内のランダムパターンを決める工程と、
(ウ)前記2種類のランダムパターンをつなぎ合わせた領域を単位領域として該単位領域内のランダムパターンを決める工程とを有し、
前記3つの工程は、それぞれ、
(a)前記単位領域に前記複数のドット部をXY座標上で1次的にランダムに配置する工程と、
(b)前記単位領域と形状が同じであり前記ドット部の配置も同じである補助領域を前記単位領域の周囲に該単位領域に連続して配置させる工程と、
(c)前記単位領域に含まれる複数のドット部から1つの注目ドット部を選択する工程と、
(d)前記注目ドット部の周りに存在する複数の周囲ドット部のそれぞれと該注目ドット部との間の距離“d”を演算する工程と、
(e)演算された前記複数の距離“d”のそれぞれを基準距離“s”と比較する工程と、
(f)前記複数の周囲ドット部の中にd≦sとなるものがあるとき、当該周囲ドット部のXY座標を前記注目ドット部に対してX方向又はY方向又はX及びYの両方向へ所定距離だけ離すと同時に補助領域の対応する周囲ドットも離す演算を行う工程と、
(g)前記単位領域内の複数のドット部の全てについて前記(c)から前記(f)の工程を、前記ドット部間距離“d”の全てがd>sとなるまで繰り返す工程とを有し、
(オ)前記(ウ)工程における基準距離“s”は、前記(ア)、(イ)、(ウ)の各工程における基準距離“s”のうちの最も小さい値に設定することを特徴とする。
Next, still another method of creating a random pattern according to the present invention is a method of forming a random pattern in which the plurality of dot portions are irregularly arranged in correspondence with a color filter formed by arranging coloring elements of three primary colors. In the creation method,
(A) determining a random pattern in the unit area using a display dot area corresponding to the two colored elements as a unit area;
(A) determining a random pattern in the unit area using the display dot area corresponding to the other one color element as a unit area;
(C) determining a random pattern in the unit area with an area obtained by joining the two types of random patterns as a unit area,
The three steps are, respectively,
(A) randomly arranging the plurality of dot portions on the XY coordinates in the unit area;
(B) a step of arranging an auxiliary area having the same shape as the unit area and the same arrangement of the dot portions around the unit area and continuously in the unit area;
(C) selecting one target dot portion from a plurality of dot portions included in the unit area;
(D) calculating a distance “d” between each of the plurality of peripheral dot portions existing around the noted dot portion and the noted dot portion;
(E) comparing each of the calculated plurality of distances “d” with a reference distance “s”;
(F) When d ≦ s among the plurality of surrounding dot portions, the XY coordinates of the surrounding dot portions are determined in the X direction, the Y direction, or both the X and Y directions with respect to the target dot portion. Performing a calculation of separating the surrounding dots corresponding to the auxiliary area at the same time as separating by a distance;
And (g) repeating the steps (c) to (f) for all of the plurality of dot portions in the unit area until all of the dot portion distances “d” satisfy d> s. And
(E) The reference distance "s" in the step (c) is set to the smallest value among the reference distances "s" in the steps (a), (b) and (c). I do.

ここで、上記構成のランダムパターンの作成方法において、前記3原色はR、G、Bの3色の組合せであり、前記(ア)工程はR及びGの2色に対応し、前記(イ)工程はB色に対応することが望ましい。また、上記構成のランダムパターンの作成方法において、R及びGの2色に対応する前記ドット部の径は、B色に対応する前記ドット部の径よりも小さいことが望ましい。また、上記構成のランダムパターンの作成方法において、R及びGの2色に対応する前記基準距離は、B色に対応する前記基準距離よりも小さいことが望ましい。   Here, in the method of creating a random pattern having the above configuration, the three primary colors are a combination of three colors of R, G, and B, and the step (A) corresponds to two colors of R and G; The process desirably corresponds to the B color. In the method of forming a random pattern having the above configuration, it is preferable that the diameter of the dot portion corresponding to the two colors of R and G is smaller than the diameter of the dot portion corresponding to the B color. In the method for creating a random pattern having the above configuration, it is preferable that the reference distance corresponding to two colors of R and G is smaller than the reference distance corresponding to B color.

また、上記構成のランダムパターンの作成方法において、R及びGの2色に対応する前記ドット部の径は9μmであり、B色に対応する前記ドット部の径は10μmであり、R及びGの2色に対応する前記基準距離は12μmであり、B色に対応する前記基準距離は13.5μmであることが望ましい。   Further, in the method of forming a random pattern having the above configuration, the diameter of the dot portion corresponding to two colors of R and G is 9 μm, the diameter of the dot portion corresponding to B color is 10 μm, Preferably, the reference distance corresponding to two colors is 12 μm, and the reference distance corresponding to B color is 13.5 μm.

(ランダムパターンの作成方法及びマスクの製造方法の第1実施形態)
以下、ランダムパターンの作成方法及びマスクの製造方法を説明する。その説明の前に、まず、マスクの製造方法によって製造されるマスクについて簡単に説明する。
(First Embodiment of Random Pattern Creating Method and Mask Manufacturing Method)
Hereinafter, a method of forming a random pattern and a method of manufacturing a mask will be described. Prior to the description, first, a mask manufactured by the mask manufacturing method will be briefly described.

図1(a)及び図1(b)は、マスクの一実施形態を示している。図1(a)は平面図であり、図1(b)はA−A線に従った断面図である。ここに示すマスク1は、透光性を有するガラスや透光性を有するプラスチック等によって形成された基材2と、その基材2の上に形成された遮光膜3とを有する。遮光膜3には、複数のドット部としての複数の透光用の穴4が設けられている。このマスク1を使って露光対象物、例えばレジストを露光する場合を考えれば、露光光は図1(b)において矢印Bで示すように基材2側から照射されて穴4を通過する。なお、マスク1の全面領域の大きさL1×L2は、露光装置の構造に対応して決められるものであり、例えば、450mm×550mm程度である。   1A and 1B show an embodiment of a mask. FIG. 1A is a plan view, and FIG. 1B is a sectional view taken along line AA. The mask 1 shown here has a base material 2 formed of a light-transmitting glass or a light-transmitting plastic or the like, and a light-shielding film 3 formed on the base material 2. The light shielding film 3 is provided with a plurality of light transmitting holes 4 as a plurality of dot portions. Considering the case of exposing an object to be exposed, for example, a resist, using the mask 1, the exposure light is irradiated from the substrate 2 side and passes through the hole 4 as shown by an arrow B in FIG. The size L1 × L2 of the entire area of the mask 1 is determined according to the structure of the exposure apparatus, and is, for example, about 450 mm × 550 mm.

ドット部として穴を採用する場合には、その穴を通過した光が露光対象物、例えばレジストに照射される。このレジストがポジ型であれば、その露光部分が可溶性となって現像後に穴となる。一方、レジストがネガ型であれば、その露光部分が不溶性となって現像後に実在部として突状に残る。従って、露光対象物の材質及び露光対象物の現像後の形状等に応じて、ドット部は、穴すなわち透光部とされたり、あるいは逆に、島状の実在部すなわち遮光部とされたりする。   When a hole is used as the dot portion, light that has passed through the hole is irradiated on an object to be exposed, for example, a resist. If the resist is a positive type, the exposed portion becomes soluble and becomes a hole after development. On the other hand, if the resist is a negative type, the exposed portion becomes insoluble and remains as a real portion after development in a projecting manner. Therefore, depending on the material of the object to be exposed and the shape of the object to be exposed after development, the dot portion may be a hole, that is, a light-transmitting portion, or conversely, an island-like real portion, that is, a light-shielding portion. .

上記複数の穴4は、図1(a)において平面的に不規則、すなわちランダムに並べられている。図では、穴4を分かり易く示すために、実際よりも大きく且つ少ない数で描いてあるが、実際のところ、穴4は、例えば最大外径が7〜10μm程度という非常に小さいものであり、その数も図示の状態より多数であって、より高い分布密度となっている。   In FIG. 1A, the plurality of holes 4 are irregularly arranged in a plane, that is, randomly arranged. In the figure, in order to show the holes 4 in an easy-to-understand manner, the holes 4 are drawn with a larger number and a smaller number than the actual number. However, in reality, the holes 4 have a very small maximum outer diameter of, for example, about 7 to 10 μm. The number is also larger than the state shown in the figure, resulting in a higher distribution density.

また、図では、穴4が円形となっているが、図2に示すような6角形、あるいはその他の多角形とすることができる。なお、上記のように最大外径といったときには、円形ならばその直径を示し、多角形ならば図2における対角径D1を示すものとする。以下の説明では、ドット部として穴4を例示するが、その説明はドット部が多角形である場合にも適用できる。   Further, in the figure, the hole 4 is circular, but may be a hexagon as shown in FIG. 2 or another polygon. In the case of the maximum outer diameter as described above, a circle indicates the diameter, and a polygon indicates the diagonal diameter D1 in FIG. In the following description, the hole 4 is exemplified as a dot portion, but the description can be applied to a case where the dot portion is a polygon.

図1(a)において、複数の穴4の配列パターンが平面的にランダムであることは既述の通りであるが、本発明によれば、複数の穴4の配列パターンは、まず初めに単位領域A0の中に存在する複数の穴4に関してその配列がランダムに設定された後、その単位領域A0を平面的につなぎ合せてマスク1の全面領域に複数の穴4を配列するという方法によって形成される。つまり、マスク1の全面領域の穴4の配列は、単位面積A0内の穴4のランダムな配列の繰り返しによって形成される。   In FIG. 1A, as described above, the arrangement pattern of the plurality of holes 4 is random in a plane, but according to the present invention, the arrangement pattern of the plurality of holes 4 After the arrangement of the plurality of holes 4 existing in the area A0 is randomly set, the unit areas A0 are connected in a plane to form the plurality of holes 4 in the entire area of the mask 1. Is done. That is, the arrangement of the holes 4 in the entire area of the mask 1 is formed by repeating the random arrangement of the holes 4 in the unit area A0.

単位面積A0の面積は、希望に応じて任意に設定できるが、このマスク1を表示装置における光反射層の表面に凹凸模様を形成するためのマスクとして用いる場合を考えれば、この単位面積A0は、表示の最小単位である表示ドットと関連させて設定することが望ましい。例えば、単位面積A0をその表示ドットとほぼ同じ面積に設定することができる。また、R(赤),G(緑),B(青)やC(シアン),M(マゼンタ),Y(イエロー)等といったカラー表示のための3原色に対応する3色の着色要素を用いてカラー表示を行う場合を考えれば、単位面積A0は、3色の着色要素に対応する3つの表示ドットの集まりによって構成される1つの画素とほぼ同じ面積に設定することもできる。   The area of the unit area A0 can be arbitrarily set as desired. However, considering the case where the mask 1 is used as a mask for forming a concavo-convex pattern on the surface of a light reflection layer in a display device, the unit area A0 is It is desirable to set in association with a display dot which is a minimum unit of display. For example, the unit area A0 can be set to substantially the same area as the display dot. Also, three color elements corresponding to the three primary colors for color display, such as R (red), G (green), B (blue), C (cyan), M (magenta), and Y (yellow), are used. Considering the case where color display is performed, the unit area A0 can be set to be substantially the same as the area of one pixel formed by a group of three display dots corresponding to three color elements.

以下、図1(a)及び図1(b)に示したマスク1の製造方法について説明する。図3は、マスクの製造方法を実施するための製造装置の一例を示している。
この製造装置は、ランダムパターンを作成するための一連の演算を行うCPU11と、書き換えが不要である固定情報が記憶されたROM12と、各種データを一時的に記憶するRAM13と、キーボードやマウス等といった入力装置14と、CRT(Cathode Ray Tube)やフラットパネルディスプレイ等といった映像表示装置16と、第1ファイル18a及び第2ファイル18bを格納したメモリ17と、露光光R0によって露光対象物19の表面に適宜のパターン、すなわち模様を描画する露光装置21とを有する。以上の各要素はバス20によって互いに接続されている。
Hereinafter, a method of manufacturing the mask 1 shown in FIGS. 1A and 1B will be described. FIG. 3 shows an example of a manufacturing apparatus for performing the method of manufacturing a mask.
The manufacturing apparatus includes a CPU 11 for performing a series of calculations for creating a random pattern, a ROM 12 for storing fixed information that does not need to be rewritten, a RAM 13 for temporarily storing various data, a keyboard, a mouse, and the like. An input device 14, a video display device 16 such as a CRT (Cathode Ray Tube) or a flat panel display, a memory 17 storing a first file 18a and a second file 18b, and a surface of an exposure object 19 by an exposure light R0. An exposure device 21 for drawing an appropriate pattern, that is, a pattern. The above components are connected to each other by a bus 20.

第1ファイル18aには、上記の各要素をランダムパターンの作成のために機能させるプログラム22と、ランダムパターンの元データ23と、単位領域A0(図1(a)参照)をどのようにつなぎ合わせるかのデータである配列条件データ24とが記憶されている。配列条件データ24は、例えば、単位領域A0を図4(a)のようにつなぎ合わせるか、あるいは、図4(b)のようにつなぎ合わせるか、あるいはその他のつなぎ合せ方を採用するか等を表示するデータである。   In the first file 18a, a program 22 for making each of the above-described elements function for creating a random pattern, the original data 23 of the random pattern, and how the unit area A0 (see FIG. 1A) is connected. The array condition data 24 as such data is stored. The array condition data 24 indicates, for example, whether to connect the unit areas A0 as shown in FIG. 4A, to connect them as shown in FIG. 4B, or to adopt another connecting method. This is the data to be displayed.

元データ23は、ランダム関数を用いたり、複数のドット部材を座標メモリ上にばら撒いたりすることによって、適宜の大きさの面積の中に複数のドット部を1次的にランダムに配置させた状態をXY座標値として表示したデータである。
この元データはある程度ランダムなドット配置データであるが、場合によってはその中に規則的なドット配列が含まれてしまうことがあるようなデータである。
In the original data 23, a plurality of dot portions are randomly arranged in an area of an appropriate size by using a random function or dispersing a plurality of dot members on a coordinate memory. This is data indicating the state as XY coordinate values.
The original data is a certain degree of random dot arrangement data, but in some cases a regular dot arrangement is included in the data.

また、この元データは、図1(a)に示す単位領域A0の2つを平面内でつなぎ合わせたときに、それらの領域の境界線の近傍領域内にドット間距離が狭すぎる複数のドット部が形成されたり、互いに重なり合ったりしてしまうような、ランダムパターンのデータである。   Further, when the two unit areas A0 shown in FIG. 1A are connected in a plane, the original data includes a plurality of dots in which the distance between dots is too small in the area near the boundary line between the areas. This is data of a random pattern in which parts are formed or overlap each other.

第2ファイル18bには、図1(a)の単位領域A0の大きさを記憶するための領域26や、ドット部の大きさを記憶するための領域27や、ドット部の数を記憶するための領域28や、ドット部間の距離の基準値“s”を記憶する領域29等が設定されている。   In the second file 18b, an area 26 for storing the size of the unit area A0 in FIG. 1A, an area 27 for storing the size of the dot part, and the number of the dot part are stored. , An area 29 for storing a reference value “s” of the distance between the dot parts, and the like.

以下、図3の装置によって行われるマスクの製造処理を図5に示すフローチャートを参照しながら説明する。なお、以下の説明ではドット部として穴を形成する場合を例示する。   Hereinafter, the mask manufacturing process performed by the apparatus shown in FIG. 3 will be described with reference to the flowchart shown in FIG. In the following description, a case where a hole is formed as a dot portion will be exemplified.

図5の工程P1において、図3の基材2の表面にCr等といった遮光材料を一様な厚さに積層して遮光層3を形成する。ここで、基材2は、矢印C方向から見て正方形、長方形、その他希望の平面形状に形成されている。次に、図5の工程P2において、遮光層3の上にレジスト(図示せず)を塗布する。次に、工程P3において、図3のCPU11は、メモリ17内の所定の記憶場所に記憶されているランダムパターンのデータ、すなわち複数の穴をランダムに配置させたデータ、を穴の中心の座標値(X0,Y0),(X1,Y1),……(Xn,Yn)として露光装置21内のメモリ内へ供給して記憶させる。   In a process P1 of FIG. 5, a light-shielding material 3 such as Cr is laminated on the surface of the base material 2 of FIG. Here, the base material 2 is formed in a square, a rectangle, or any other desired planar shape when viewed from the direction of arrow C. Next, in a process P2 in FIG. 5, a resist (not shown) is applied on the light shielding layer 3. Next, in step P3, the CPU 11 of FIG. 3 stores the random pattern data stored in a predetermined storage location in the memory 17, that is, the data in which a plurality of holes are randomly arranged, at the coordinate value of the center of the hole. (X0, Y0), (X1, Y1),... (Xn, Yn) are supplied to and stored in the memory of the exposure apparatus 21.

次に、工程P4において、露光装置21によって、座標位置(X0,Y0),(X1,Y1),……(Xn,Yn)の所に露光、すなわち光書き込みを行い、さらに現像を行って、レジストの内部にドット部としての複数の穴をランダムに形成する。そして、このレジストをマスクとして、工程P5において遮光層3をエッチングすることにより遮光層3の内部にドット部としての複数の穴を形成する。このときに形成される複数の穴も平面的に見てランダムに配置されている。   Next, in step P4, the exposure device 21 performs exposure, that is, optical writing, at the coordinate positions (X0, Y0), (X1, Y1),... (Xn, Yn), and further performs development. A plurality of holes as dot portions are randomly formed in the resist. Then, using the resist as a mask, the light shielding layer 3 is etched in the process P5 to form a plurality of holes as dot portions inside the light shielding layer 3. The plurality of holes formed at this time are also randomly arranged in a plan view.

次に、工程P6において、レジストを除去することにより、図1に示すような、複数の穴4がランダムに配置された状態の遮光層3が基材2の表面に形成されて成るマスク1が作製される。こうして作製されたマスク1において、ドット部としての複数の穴4が完全にランダムな状態で形成されているかどうかは、図5の工程P4における露光装置21を用いた露光処理において光の書き込み処理が完全にランダムに行われるかどうか、換言すれば、工程P3において露光装置21に供給されるランダムパターンのデータ(X0,Y0),(X1,Y1),……(Xn,Yn)が完全にランダムであるかどうかに依存する。   Next, in step P6, by removing the resist, the mask 1 in which the light shielding layer 3 in which the plurality of holes 4 are randomly arranged is formed on the surface of the base material 2 as shown in FIG. It is made. Whether or not the plurality of holes 4 as dot portions are formed in a completely random state in the mask 1 thus manufactured is determined by the light writing process in the exposure process using the exposure apparatus 21 in the process P4 in FIG. Whether the random pattern data is completely randomized, in other words, the random pattern data (X0, Y0), (X1, Y1),... (Xn, Yn) supplied to the exposure apparatus 21 in the process P3 is completely random. Depends on whether

仮に、図1に示すように形成されたマスク1において、複数の穴4の配列状態が完全にはランダムではなくて、一部に規則的な配列ができていると、当該マスク1を用いて光反射層の表面に凹凸模様を形成したときに当該光反射層で反射した光に干渉縞が発生して光学的特性が低下するおそれがある。また、複数の穴4の中に穴同士の間隔が小さくなり過ぎるものが存在すると、当該マスク1を用いて樹脂膜の表面に凹凸を形成したとき、凹部同士の間隔が小さくなり過ぎて、その部分で樹脂膜が剥がれるおそれがある。   If, in the mask 1 formed as shown in FIG. 1, the arrangement state of the plurality of holes 4 is not completely random but partially regular, the mask 1 is used. When an uneven pattern is formed on the surface of the light reflecting layer, interference fringes may be generated in light reflected by the light reflecting layer, and optical characteristics may be degraded. Further, if there is a plurality of holes 4 in which the interval between the holes is too small, when the mask 1 is used to form irregularities on the surface of the resin film, the interval between the concave portions becomes too small. There is a possibility that the resin film may be peeled off at the portion.

これらの問題を解消するため、工程P3において露光装置21に供給されるランダムパターンのデータは十分にランダムなデータ、すなわち、複数の穴が互いに近付き過ぎず、且つ重なり合うこともなく配列されていることが必要である。
以下、そのような十分にランダムなパターンを作成するための方法について図6に示すフローチャートを参照しながら説明する。
In order to solve these problems, the data of the random pattern supplied to the exposure apparatus 21 in the process P3 is sufficiently random data, that is, a plurality of holes are arranged so as not to be too close to each other and without overlapping. is necessary.
Hereinafter, a method for generating such a sufficiently random pattern will be described with reference to the flowchart shown in FIG.

作業者は、まず、図1(a)の単位領域A0のサイズや、ドット部としての穴の径や、穴の数や、穴間距離の基準値“s”等といった各データを入力装置14を通して入力する。図3のCPU11は、図6のステップS11において、上記の各データを図3の第2ファイル18b内の所定記憶場所に記憶する。   First, the operator inputs each data such as the size of the unit area A0 in FIG. 1A, the diameter of a hole as a dot portion, the number of holes, the reference value “s” of the distance between holes, and the like. Input through The CPU 11 of FIG. 3 stores the above data in a predetermined storage location in the second file 18b of FIG. 3 in step S11 of FIG.

次に、ステップS12において、図3の第1ファイル18a内の元データ23から穴数及び単位領域サイズ分を切り出して、1つの単位領域A0分の1次ランダムデータを決める。このとき、元データのどの部分を切り出すかは、自由に決定できる。以上により、単位領域A0内に複数の穴4が1次的にランダムに配置される。   Next, in step S12, the number of holes and the unit area size are cut out from the original data 23 in the first file 18a in FIG. 3 to determine primary random data for one unit area A0. At this time, which part of the original data is cut out can be freely determined. As described above, the plurality of holes 4 are linearly and randomly arranged in the unit area A0.

次に、ステップS13において、1つの単位領域A0の周囲に補助領域をつなぎ合わせる。例えば、図4(a)又は図4(b)に示すように、注目する単位領域31の周囲に補助領域32をつなぎ合わせる。このとき、補助領域32の形状は単位領域A0と同じであり、また、補助領域32内における複数の穴の配列状態も単位領域A0と同じである。このときのつなぎ合わせの態様は、図3の第1ファイル18a内の配列条件データ24の中から選択する。また、どの配列を選択するかは、作業者が入力装置14を通して指示しても良いし、CPU11がプログラム22に従って自動的に選択しても良い。   Next, in step S13, auxiliary areas are joined around one unit area A0. For example, as shown in FIG. 4A or FIG. 4B, the auxiliary area 32 is connected around the unit area 31 of interest. At this time, the shape of the auxiliary region 32 is the same as the unit region A0, and the arrangement state of the plurality of holes in the auxiliary region 32 is the same as the unit region A0. The joining mode at this time is selected from the array condition data 24 in the first file 18a in FIG. The operator may specify which arrangement to select through the input device 14 or the CPU 11 may automatically select the arrangement according to the program 22.

以上のようにしてつなぎ合わされたデータは、図3のRAM13内にXY座標のデータとして記憶、すなわち描画される。また、この描画データは必要に応じてメモリ17内の所定の記憶場所に記憶しても良い。また、このときの複数の穴4の配置状態を映像表示装置16の画面上に映像として表示するようにしても良い。   The data connected as described above is stored as XY coordinate data in the RAM 13 in FIG. 3, that is, drawn. The drawing data may be stored in a predetermined storage location in the memory 17 as needed. Further, the arrangement state of the plurality of holes 4 at this time may be displayed as an image on the screen of the image display device 16.

次に、ステップS14において、CPU11は、単位領域31に含まれる複数の穴から注目する穴を選択する。そして、ステップS15において、その注目穴とその注目穴の周囲に存在する穴との間の距離“d”を1つずつ演算する。そして、演算された距離“d”が予め決められている基準距離“s”と比較される。   Next, in step S14, the CPU 11 selects a hole of interest from a plurality of holes included in the unit area 31. Then, in step S15, the distance “d” between the target hole and the holes existing around the target hole is calculated one by one. Then, the calculated distance “d” is compared with a predetermined reference distance “s”.

その比較の結果、d≦sであると判定された周囲穴が存在したときには(ステップS16でYES)、ステップS17へ進んで、当該周囲穴のXY座標値をX及びYの両方向へ所定距離ずつ、例えば0.5μmずつ、d>sとなるように注目穴から離す。このときの離す方向は、X方向だけ、又はY方向だけとすることもできる。同時に、ステップS18では、移動した周囲穴に対応する補助領域32内の穴も同様に移動する。ステップS16でd>sと判定された周囲穴に関しては(ステップS16でNO)、位置修正を行わずにそのままの位置に保持する。   As a result of the comparison, when there is a peripheral hole determined to satisfy d ≦ s (YES in step S16), the process proceeds to step S17, and the XY coordinate values of the peripheral hole are determined by a predetermined distance in both the X and Y directions. , For example, 0.5 μm at a time, so that d> s. At this time, the separating direction may be only the X direction or only the Y direction. At the same time, in step S18, the hole in the auxiliary area 32 corresponding to the moved peripheral hole also moves. Regarding the peripheral hole determined as d> s in step S16 (NO in step S16), the position is maintained without being corrected.

その後、ステップS19において、注目する単位領域31内に存在する全ての穴を注目穴として選択して、その注目穴の周りに存在する複数の周囲穴に関して上述した位置修正処理を行う。そして、全ての穴に関する処理が終わったとき(ステップS19でYES)、注目する単位領域31内における全ての穴の配列状態がランダムになったものと決められる(ステップS20)。   Thereafter, in step S19, all holes existing in the unit area 31 of interest are selected as holes of interest, and the above-described position correction processing is performed on a plurality of peripheral holes existing around the hole of interest. When the processing for all holes is completed (YES in step S19), it is determined that the arrangement state of all holes in the unit area 31 of interest is random (step S20).

その後、そのようにして決められた単位領域31内のランダムデータを、ステップS21において、平面的につなぎ合わせることにより、希望の大きさのランダムパターンの全面領域に関するランダムデータがXY座標上の座標値として決められる。こうして形成されたランダムパターンのデータに従って複数の穴4を配列させれば、それらの穴4は完全にランダムに配置された状態となり、しかも、穴間の距離が小さくなり過ぎるような穴の存在もなくなる。特に、図1(a)の単位領域A0をつなぎ合わせたときに、それらの単位領域の境界線近傍においては穴間隔が狭くなり過ぎる個所が発生するおそれがあるが、図6に示したプログラムによれば、単位領域だけではなくて、その周囲の領域である補助領域内の穴位置も考慮に入れているので、単位領域の境界線近傍におけるランダム配列も望ましいものとなる。   Thereafter, the random data in the unit area 31 determined in this manner is connected in a plane in step S21, so that the random data relating to the entire area of the random pattern having the desired size is coordinated on the XY coordinates. Is determined as By arranging a plurality of holes 4 according to the data of the random pattern thus formed, the holes 4 are completely arranged at random, and there is also a case where the distance between the holes becomes too small. Gone. In particular, when the unit areas A0 in FIG. 1A are connected, there is a possibility that a portion where the hole interval becomes too narrow may occur near the boundary of the unit areas, but the program shown in FIG. According to this, not only the unit area, but also the hole positions in the surrounding area, that is, the auxiliary area, are taken into consideration, so that a random arrangement near the boundary of the unit area is also desirable.

(電気光学装置の製造方法の実施形態)
以下、本発明に係る電気光学装置の製造方法の一実施形態を説明する。特に、電気光学装置としての液晶装置内に設けられる光反射層の表面に乱反射用の凹凸形状を形成する際に用いられる露光用マスクを、本発明に係るランダムパターンの作成プログラムを用いて製造する場合を例に挙げて説明する。
(Embodiment of manufacturing method of electro-optical device)
Hereinafter, an embodiment of a method for manufacturing an electro-optical device according to the present invention will be described. In particular, an exposure mask used for forming irregular reflection irregularities on the surface of a light reflection layer provided in a liquid crystal device as an electro-optical device is manufactured using the random pattern creation program according to the present invention. The case will be described as an example.

まず、液晶装置について簡単に説明する。本実施形態では、反射型表示と透過型表示の両方を実現できる、いわゆる半透過反射型の液晶装置であって、アクティブ素子としてTFD(Thin Film Diode)素子を用いるアクティブマトリクス方式の液晶装置を例示することにするが、本発明を適用できる液晶装置はその実施形態に限定されるものでないことは、もちろんである。   First, a liquid crystal device will be briefly described. In the present embodiment, a so-called transflective liquid crystal device capable of realizing both a reflective display and a transmissive display, and an active matrix type liquid crystal device using a TFD (Thin Film Diode) element as an active element is exemplified. However, it goes without saying that the liquid crystal device to which the present invention can be applied is not limited to the embodiment.

図7において、液晶装置41は、液晶パネル42と、それに組みつけられる照明装置43とを有する。液晶パネル42は、第1基板44aと第2基板44bとを環状のシール材46によって貼り合わせることによって形成されている。第1基板44aと第2基板44bとの間には、図8に示すように、スペーサ54によって維持される隙間、いわゆるセルギャップ52が形成され、このセルギャップ52内に液晶が封入されて液晶層53が形成されている。   In FIG. 7, the liquid crystal device 41 has a liquid crystal panel 42 and a lighting device 43 attached thereto. The liquid crystal panel 42 is formed by bonding a first substrate 44a and a second substrate 44b with an annular seal member 46. As shown in FIG. 8, a gap maintained by a spacer 54, a so-called cell gap 52, is formed between the first substrate 44a and the second substrate 44b. A layer 53 is formed.

図8において、第1基板44aは、透光性のガラス、透光性のプラスチック等によって形成された第1基材51aを有する。その第1基材51aの液晶側表面には樹脂層55が形成され、その上に反射層56が形成される。また、反射層56の上には遮光層57が形成され、その遮光層57の間にR,G,Bの各色着色要素58が矢印H方向から見て所定の平面的な配列で形成される。そして、これら複数の着色要素58によってカラーフィルタ60が構成されている。また、遮光層57及び着色要素58の上にはオーバーコート層59が形成され、その上に帯状の透明電極61aが形成され、その上に配向膜62aが形成される。配向膜62aには配向処理、例えばラビング処理が施され、これにより、その配向膜62aの近傍の液晶分子の配向が決められる。また、第1基材51aの外側表面には、図7において偏光板63aが貼着等によって装着されている。   In FIG. 8, the first substrate 44a has a first base member 51a formed of light-transmitting glass, light-transmitting plastic, or the like. A resin layer 55 is formed on the liquid crystal side surface of the first base material 51a, and a reflective layer 56 is formed thereon. A light-shielding layer 57 is formed on the reflective layer 56, and R, G, and B color elements 58 are formed in a predetermined planar arrangement between the light-shielding layers 57 when viewed in the direction of arrow H. . A color filter 60 is constituted by the plurality of coloring elements 58. An overcoat layer 59 is formed on the light-shielding layer 57 and the coloring elements 58, a strip-shaped transparent electrode 61a is formed thereon, and an alignment film 62a is formed thereon. The alignment film 62a is subjected to an alignment process, for example, a rubbing process, whereby the alignment of the liquid crystal molecules near the alignment film 62a is determined. In addition, a polarizing plate 63a in FIG. 7 is attached to the outer surface of the first base member 51a by bonding or the like.

図8において、樹脂層55は第1層55a及びその上に積層された第2層55bを有する。これらの層は同じ材料によって形成できる。第1層55aの表面にはドット部としての複数の凹部64が矢印H方向から見て平面的に不規則、すなわちランダムに配置されている。このため、第1層55aの上に積層された第2層55bの表面には、これらの凹部64及びそれに隣接する凸部に対応して凹凸が形成されている。第1層55aの表面に形成される凹凸は粗い状態であり、これに第2層55bを積層することにより滑らかな凹凸が得られる。第2層55bの表面、すなわち樹脂層55の表面に凹凸を設けたことにより、その樹脂層55に積層された反射層56の表面にも凹凸が形成される。この凹凸の存在により、反射層56に入射した光は散乱光となって反射する。   In FIG. 8, the resin layer 55 has a first layer 55a and a second layer 55b laminated thereon. These layers can be formed of the same material. On the surface of the first layer 55a, a plurality of concave portions 64 as dot portions are irregularly arranged in a plane as viewed in the direction of arrow H, that is, randomly arranged. Therefore, irregularities are formed on the surface of the second layer 55b stacked on the first layer 55a, corresponding to the concave portions 64 and the convex portions adjacent thereto. The irregularities formed on the surface of the first layer 55a are in a rough state, and smooth irregularities can be obtained by laminating the second layer 55b thereon. By providing the unevenness on the surface of the second layer 55b, that is, the surface of the resin layer 55, the unevenness is also formed on the surface of the reflective layer 56 laminated on the resin layer 55. Due to the presence of the unevenness, the light incident on the reflection layer 56 is reflected as scattered light.

1本の帯状の透明電極61aは、図8の紙面垂直方向へ延びており、隣り合う電極61aの間には遮光層57の幅にほぼ一致する間隔が設けられている。これにより、複数の電極61aは、矢印H方向から見てストライプ状に形成されている。   One strip-shaped transparent electrode 61a extends in the direction perpendicular to the paper surface of FIG. 8, and an interval substantially equal to the width of the light shielding layer 57 is provided between adjacent electrodes 61a. Thus, the plurality of electrodes 61a are formed in a stripe shape when viewed from the arrow H direction.

着色要素58は、カラー表示の3原色であるR(赤),G(緑),B(青)の3色によって構成されている。これらの各色の着色要素58は、矢印H方向から見たときに所定の平面配列、例えば図10に示す縦ストライプ配置や、図14に示すモザイク配置や、図18に示すデルタ配置等に形成されている。   The coloring element 58 is composed of three primary colors of color display, R (red), G (green), and B (blue). The coloring elements 58 of these colors are formed in a predetermined plane arrangement, for example, a vertical stripe arrangement shown in FIG. 10, a mosaic arrangement shown in FIG. 14, a delta arrangement shown in FIG. ing.

図10の縦ストライプ配置は、図の縦方向に同じ色の着色要素58が並べられる配列である。また、図14のモザイク配置は、図の縦方向及び横方向の両方向で着色要素58の色が順々に循環的に変化する配列である。そして、図18のデルタ配置は、着色要素58が三角形の頂点に位置するように配列されると共に横方向の色が順々に循環的に変化する配列である。なお、各色着色要素58の配列の仕方に関しては、上記の3種類以外にも種々に提案されているので、必要に応じて、適宜の配列が選択される。   The vertical stripe arrangement in FIG. 10 is an arrangement in which coloring elements 58 of the same color are arranged in the vertical direction in the figure. Further, the mosaic arrangement in FIG. 14 is an arrangement in which the color of the coloring elements 58 sequentially and cyclically changes in both the vertical and horizontal directions in the figure. The delta arrangement in FIG. 18 is an arrangement in which the coloring elements 58 are arranged so as to be located at the vertices of a triangle, and the colors in the horizontal direction sequentially and cyclically change. Note that various arrangements of the coloring elements 58 have been proposed in addition to the above three types, and an appropriate arrangement is selected as necessary.

図8において、第1基板44aに対向する第2基板44bは、透光性のガラス、透光性のプラスチック等によって形成された第2基材51bを有する。その第2基材51bの液晶側表面には、線状のライン配線66、アクティブ素子としてのTFD素子67及び透明なドット電極61bが形成される。さらに、それらの要素の上に配向膜62bが形成され、その配向膜62bに配向処理、例えばラビング処理が施され、これにより、その配向膜62bの近傍の液晶分子の配向が決められる。第1基板44a側の配向膜62aのラビング方向と第2基板44b側の配向膜62bのラビング方向は、液晶の特性に応じて適宜の角度で交差するようになっている。また、第2基材51bの外側表面には、図7において偏光板63bが貼着等によって装着されている。   In FIG. 8, a second substrate 44b facing the first substrate 44a has a second base member 51b formed of light-transmitting glass, light-transmitting plastic, or the like. On the liquid crystal side surface of the second substrate 51b, a linear line wiring 66, a TFD element 67 as an active element, and a transparent dot electrode 61b are formed. Further, an alignment film 62b is formed on these elements, and an alignment process, for example, a rubbing process is performed on the alignment film 62b, whereby the alignment of the liquid crystal molecules near the alignment film 62b is determined. The rubbing direction of the alignment film 62a on the first substrate 44a side and the rubbing direction of the alignment film 62b on the second substrate 44b side intersect at an appropriate angle according to the characteristics of the liquid crystal. Further, a polarizing plate 63b in FIG. 7 is attached to the outer surface of the second base member 51b by bonding or the like.

図8のドット電極61bは、図7(a)に示すように、正方形又は長方形に近いドット形状に形成されており、TFD素子67を介してライン配線66に接続されている。なお、図7(a)では、第2基板44b側に形成されるドット電極61b等を実線で示し、第1基板44a側に形成される帯状電極61aを鎖線で示している。また、図8は、図7(a)のE−E線に従った断面図に相当する。   As shown in FIG. 7A, the dot electrode 61b in FIG. 8 is formed in a dot shape close to a square or a rectangle, and is connected to the line wiring 66 via the TFD element 67. In FIG. 7A, the dot electrodes 61b and the like formed on the second substrate 44b side are indicated by solid lines, and the strip-shaped electrodes 61a formed on the first substrate 44a side are indicated by chain lines. FIG. 8 corresponds to a cross-sectional view taken along line EE in FIG.

図7(a)に示すように、第1基板44a側の帯状電極61aは、第2基板44b側のライン配線66と直角の方向に延在し、且つそれと直角な方向に互いに間隔をおいて平行に、すなわち全体としてストライプ状に形成されている。また、個々の帯状電極61aは、ライン配線66と直角の方向に列状に並ぶ複数のドット電極61bに対向するように形成される。そして、ドット電極61bと帯状電極61aとが重なる領域が、表示の最小単位である表示ドットDを構成する。   As shown in FIG. 7A, the strip electrodes 61a on the first substrate 44a extend in a direction perpendicular to the line wiring 66 on the second substrate 44b, and are spaced apart from each other in a direction perpendicular thereto. They are formed in parallel, that is, as stripes as a whole. Each strip-shaped electrode 61a is formed so as to face a plurality of dot electrodes 61b arranged in a row in a direction perpendicular to the line wiring 66. An area where the dot electrode 61b and the strip electrode 61a overlap constitutes a display dot D which is a minimum unit of display.

図8において、反射層56には、個々の表示ドットDに対応して光通過用の開口68が設けられている。これらの開口68は、反射層56に光を透過させる機能を持たせるための構成であるが、この開口68を設ける代わりに反射層56の厚さを薄くして、光を反射する機能と光を透過させる機能の両方を持たせるようにすることもできる。   In FIG. 8, openings 68 for light passage are provided in the reflection layer 56 corresponding to the individual display dots D. The openings 68 are configured to allow the reflection layer 56 to have a function of transmitting light. Instead of providing the openings 68, the thickness of the reflection layer 56 is reduced, and the function of reflecting light and the light May be provided with both functions of transmitting light.

また、個々の着色要素58は表示ドットDに対応して設けられている。着色要素58を用いない白黒表示の場合は1つの表示ドットDによって1つの画素が形成されるが、本実施形態のように3色の着色要素58を用いてカラー表示を行う構造の場合には、R,G,Bの3色の着色要素58の集まりによって1つの画素が形成される。   Each coloring element 58 is provided corresponding to the display dot D. In the case of monochrome display without using the coloring elements 58, one pixel is formed by one display dot D. However, in the case of a structure in which color display is performed using the three coloring elements 58 as in the present embodiment, , R, G and B form one pixel.

TFD素子67は、図9に示すように、第1TFD要素67aと第2TFD要素67bとを直列に接続することによって形成されている。このTFD素子67は、例えば、次のようにして形成される。すなわち、まず、TaW(タンタルタングステン)によってライン配線66の第1層66a及びTFD素子67の第1金属71を形成する。次に、陽極酸化処理によってライン配線66の第2層66b及びTFD素子67の絶縁膜72を形成する。次に、例えばCr(クロム)によってライン配線66の第3層66c及びTFD素子67の第2金属73を形成する。   As shown in FIG. 9, the TFD element 67 is formed by connecting a first TFD element 67a and a second TFD element 67b in series. The TFD element 67 is formed, for example, as follows. That is, first, the first layer 66a of the line wiring 66 and the first metal 71 of the TFD element 67 are formed by TaW (tantalum tungsten). Next, the second layer 66b of the line wiring 66 and the insulating film 72 of the TFD element 67 are formed by anodizing. Next, the third layer 66c of the line wiring 66 and the second metal 73 of the TFD element 67 are formed by, for example, Cr (chromium).

第1TFD要素67aの第2金属73はライン配線66の第3層66cから延びている。また、第2TFD要素67bの第2金属73の先端に重なるように、ドット電極61bが形成される。ライン配線66からドット電極61bへ向けて電気信号が流れることを考えれば、その電流方向に沿って、第1TFD要素67aでは第2電極73→絶縁膜72→第1金属71の順に電気信号が流れ、一方、第2TFD要素67bでは第1金属71→絶縁膜72→第2金属73の順に電気信号が流れる。   The second metal 73 of the first TFD element 67a extends from the third layer 66c of the line wiring 66. Further, the dot electrode 61b is formed so as to overlap the tip of the second metal 73 of the second TFD element 67b. Considering that an electric signal flows from the line wiring 66 to the dot electrode 61b, the electric signal flows in the first TFD element 67a in the order of the second electrode 73 → the insulating film 72 → the first metal 71 along the current direction. On the other hand, in the second TFD element 67b, an electric signal flows in the order of the first metal 71 → the insulating film 72 → the second metal 73.

つまり、第1TFD要素67aと第2TFD要素67bとの間では電気的に逆向きの一対のTFD要素が互いに直列に接続されている。このような構造は、一般に、バック・ツー・バック(Back-to-Back)構造と呼ばれており、この構造のTFD素子は、TFD素子を1個のTFD要素だけによって構成する場合に比べて、安定した特性を得られることが知られている。   That is, a pair of electrically opposite TFD elements is connected in series between the first TFD element 67a and the second TFD element 67b. Such a structure is generally called a back-to-back structure, and a TFD element having this structure has a larger structure than a structure in which a TFD element includes only one TFD element. It is known that stable characteristics can be obtained.

図7において、第2基板44bは第1基板44aの外側に張り出す張出し部47を有し、その張出し部47の第1基板44a側の表面には配線39及び端子38が形成されている。これらの配線39及び端子38が集まる領域に1つの駆動用IC37a及び2つの駆動用IC37bが図示しないACF(Anisotropic Conductive Film:異方性導電膜)によって実装されている。   In FIG. 7, the second substrate 44b has an overhang 47 extending outside the first substrate 44a, and wirings 39 and terminals 38 are formed on the surface of the overhang 47 on the first substrate 44a side. One driving IC 37a and two driving ICs 37b are mounted in an area where these wirings 39 and terminals 38 are gathered by an ACF (Anisotropic Conductive Film) (not shown).

配線39及び端子38は第2基板44b上にライン配線66やドット電極61bを形成するときに同時に形成される。なお、ライン配線66は張出し部47の上にそのまま延び出て配線39となって、駆動用IC37aに接続されている。
また、第1基板44aと第2基板44bとを接着するシール材46の内部には球形又は円筒形の導通材(図示せず)が混入されている。第1基板44a上に形成された帯状電極61aは第1基板44aの上でシール材46の所まで引き回された後、シール材46中の導通材を介して第2基板44b上の配線39に接続されている。これにより、第1基板44a上の帯状電極61aは第2基板44b上の駆動用IC37bに接続されている。
The wiring 39 and the terminal 38 are formed simultaneously when the line wiring 66 and the dot electrode 61b are formed on the second substrate 44b. The line wiring 66 extends as it is over the overhanging portion 47 to form a wiring 39, which is connected to the driving IC 37a.
Further, a spherical or cylindrical conductive material (not shown) is mixed in the seal material 46 for bonding the first substrate 44a and the second substrate 44b. After the strip-shaped electrode 61a formed on the first substrate 44a is routed to the sealing material 46 on the first substrate 44a, the wiring 39 on the second substrate 44b is passed through the conductive material in the sealing material 46. It is connected to the. Thus, the strip electrode 61a on the first substrate 44a is connected to the driving IC 37b on the second substrate 44b.

図7において、液晶パネル42を構成する第1基板44aの外側表面に対向して配設された照明装置43は、例えば、透明なプラスチックによって形成された方形状で板状の導光体81と、点状光源としてのLED82とを有する。導光体81のうち液晶パネル42と反対側の面には光反射シート(図示せず)を装着することができる。また、導光体81のうち液晶パネル42に対向する面には光拡散シート(図示せず)を装着することができる。また、光拡散シートの上に、さらに、プリズムシート(図示せず)を装着することもできる。   In FIG. 7, a lighting device 43 disposed opposite to an outer surface of a first substrate 44 a constituting the liquid crystal panel 42 includes, for example, a rectangular plate-shaped light guide 81 formed of transparent plastic. , And an LED 82 as a point light source. A light reflection sheet (not shown) can be attached to the surface of the light guide 81 opposite to the liquid crystal panel 42. Further, a light diffusion sheet (not shown) can be attached to a surface of the light guide 81 facing the liquid crystal panel 42. Further, a prism sheet (not shown) can be further mounted on the light diffusion sheet.

LED82は本実施形態では3個使用されているが、LED82は必要に応じて1個とすることもでき、あるいは、3個以外の複数個とすることもできる。また、LED等といった点状光源に代えて、冷陰極管等といった線状光源を用いることも出来る。   Although three LEDs 82 are used in the present embodiment, one LED 82 may be used as needed, or a plurality of LEDs 82 other than three may be used. Further, a linear light source such as a cold cathode tube can be used instead of a point light source such as an LED.

以下、上記構成より成る液晶装置に関してその動作を説明する。   Hereinafter, the operation of the liquid crystal device having the above configuration will be described.

太陽光、室内光等といった外部光が十分な場合、図8に矢印Fで示すように、外部光が第2基板44bを通して液晶パネル42の内部へ取り込まれ、この外部光が液晶層53を通過した後に反射膜56で反射して液晶層53へ供給される。   When the external light such as sunlight or indoor light is sufficient, the external light is taken into the liquid crystal panel 42 through the second substrate 44b as shown by an arrow F in FIG. After that, the light is reflected by the reflection film 56 and supplied to the liquid crystal layer 53.

他方、外部光が不十分である場合には、照明装置43を構成するLED82(図7参照)を点灯する。このとき、LED82から点状に出た光は導光体81の入光面81aから該導光体81の内部へ導入され、その後、液晶パネル42に対向する面、すなわち光出射面81bから面状に出射する。このようにして光出射面81bの各所から出射する光が、図8において矢印Gで示すように反射膜56に形成した開口68を通って面状の光として液晶層53へ供給される。   On the other hand, when the external light is insufficient, the LED 82 (see FIG. 7) constituting the lighting device 43 is turned on. At this time, the light emitted from the LED 82 in the form of dots is introduced from the light entrance surface 81a of the light guide 81 into the inside of the light guide 81, and thereafter, the surface facing the liquid crystal panel 42, that is, the surface from the light exit surface 81b. It emits in a shape. In this way, the light emitted from various parts of the light emitting surface 81b is supplied to the liquid crystal layer 53 as planar light through the opening 68 formed in the reflection film 56 as shown by an arrow G in FIG.

以上のようにして液晶層53へ光が供給される間、液晶パネル42に関しては、駆動用IC37a及び37b(図7参照)によって制御されて、ライン配線66に例えば走査信号が供給され、同時に、帯状電極61aに例えばデータ信号が供給される。このとき、走査信号とデータ信号との電位差に応じて特定表示ドットに付属するTFD素子67が選択状態(すなわち、オン状態)になると、その表示ドット内の液晶容量に映像信号が書き込まれ、その後、当該TFD素子67が非選択状態(すなわち、オフ状態)になると、その信号は当該表示ドットに蓄えられて当該表示ドット内の液晶層を駆動する。   While light is supplied to the liquid crystal layer 53 as described above, the liquid crystal panel 42 is controlled by the driving ICs 37a and 37b (see FIG. 7), and for example, a scanning signal is supplied to the line wiring 66, and at the same time, For example, a data signal is supplied to the strip electrode 61a. At this time, when the TFD element 67 attached to the specific display dot is selected (that is, turned on) according to the potential difference between the scanning signal and the data signal, the video signal is written to the liquid crystal capacitance in the display dot, and When the TFD element 67 is in a non-selected state (that is, in an off state), the signal is stored in the display dot and drives the liquid crystal layer in the display dot.

こうして、液晶層53内の液晶分子が表示ドットごとに制御され、それ故、液晶層53を通過する光が表示ドットDごとに変調される。そして、このように変調された光が第2基板44b側の偏光板63bを通過することにより、液晶パネル42の有効表示領域内に文字、数字、図形等といった像が表示される。反射層56で反射する外部光を利用して行われる表示が反射型表示である。また、照明装置43からの光を利用して行われる表示が透過型表示である。本実施形態では、それらの反射型表示及び透過型表示を使用者の希望に応じて、あるいは外部環境の変化に応じて自動的に選択する。   In this way, the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer 53 are controlled for each display dot, and therefore, the light passing through the liquid crystal layer 53 is modulated for each display dot D. The light thus modulated passes through the polarizing plate 63b on the second substrate 44b side, so that an image such as a character, a numeral, a figure, or the like is displayed in the effective display area of the liquid crystal panel 42. Display performed using external light reflected by the reflective layer 56 is a reflective display. In addition, a display performed using light from the illumination device 43 is a transmissive display. In the present embodiment, the reflection type display and the transmission type display are automatically selected according to the user's request or according to a change in the external environment.

図8の反射層56を用いて上記の反射型表示を行うとき、反射層56の表面に設けられた凹凸は矢印H方向から見て平面的に十分にランダムに配置されていることが望ましい。何故ならば、この凹凸の配置に関して一部分でも規則的な配列が存在すると、反射光に干渉縞が発生して、表示が見難くなるおそれがあるからである。   When performing the above-mentioned reflective display using the reflective layer 56 of FIG. 8, it is desirable that the unevenness provided on the surface of the reflective layer 56 be sufficiently randomly arranged in a plane as viewed in the direction of arrow H. This is because, if there is a regular arrangement even in a part with respect to the arrangement of the unevenness, interference fringes are generated in the reflected light, and the display may be difficult to see.

また、反射層56の表面に設けられた凹凸のうち凹部同士間の距離は狭過ぎないことが望ましい。すなわち、樹脂層55の凹凸のうち凹部同士間の距離は狭過ぎないことが望ましい。何故ならば,凹部同士間の距離が狭過ぎると、その部分において樹脂層55が基材51aから剥がれ易くなるからである。   In addition, it is desirable that the distance between the concave portions among the irregularities provided on the surface of the reflective layer 56 is not too small. That is, it is desirable that the distance between the concave portions among the concave and convex portions of the resin layer 55 is not too small. This is because if the distance between the concave portions is too small, the resin layer 55 is likely to peel off from the base material 51a at that portion.

以下、上記構成の電気光学装置の製造方法について、図22のフローチャートを参照して説明する。図22において、工程P31から工程P34が図7の第2基板44bを形成するための工程である。また、工程P41から工程P48が図7の第1基板44aを形成するための工程である。また、工程P51から工程P58がそれらの基板を組み合わせて液晶装置を完成させるための工程である。   Hereinafter, a method of manufacturing the electro-optical device having the above-described configuration will be described with reference to a flowchart of FIG. In FIG. 22, steps P31 to P34 are steps for forming the second substrate 44b of FIG. Steps P41 to P48 are steps for forming the first substrate 44a of FIG. Steps P51 to P58 are steps for completing the liquid crystal device by combining those substrates.

なお、本実施形態の製造方法では、図7に示す第1基板44a及び第2基板44bを1つずつ形成するのではなく、第1基板44aに関しては、複数の第1基板44aを形成できる大きさの面積を有する第1マザー基板を用いて複数の第1基板44aを同時に形成する。また、第2基板44bに関しては、複数の第2基板44bを形成できる大きさの面積を有する第2マザー基板を用いて複数の第2基板44bを同時に形成する。第1マザー基板及び第2マザー基板は、例えば、透明なガラス、透明なプラスチック等によって形成される。   In the manufacturing method according to the present embodiment, the first substrate 44a and the second substrate 44b shown in FIG. 7 are not formed one by one, but the first substrate 44a is large enough to form a plurality of first substrates 44a. A plurality of first substrates 44a are simultaneously formed using a first mother substrate having a large area. As for the second substrate 44b, a plurality of second substrates 44b are simultaneously formed using a second mother substrate having an area large enough to form the plurality of second substrates 44b. The first mother substrate and the second mother substrate are formed of, for example, transparent glass, transparent plastic, or the like.

まず、図22の工程P31において、第2マザー基板の表面に図7(a)のTFD素子67及びライン配線66を形成する。次に、工程P32において、図7(a)のドット電極61bをITOを材料としてフォトリソグラフィ処理及びエッチング処理によって形成する。次に、工程P33において、図8の配向膜62bを塗布や印刷等によって形成し、さらに工程P34において、その配向膜62bに配向処理、例えばラビング処理を施す。以上により、第2マザー基材の上に複数の第2基板44bが形成される。   First, in step P31 of FIG. 22, the TFD element 67 and the line wiring 66 of FIG. 7A are formed on the surface of the second mother substrate. Next, in step P32, the dot electrode 61b of FIG. 7A is formed by photolithography and etching using ITO as a material. Next, in Step P33, the alignment film 62b of FIG. 8 is formed by coating, printing, or the like, and in Step P34, the alignment film 62b is subjected to an alignment process, for example, a rubbing process. As described above, a plurality of second substrates 44b are formed on the second mother base material.

次に、図22の工程P41において、第1マザー基板の表面上に図8の樹脂層55の第1層55aを、例えば感光性樹脂を材料としてフォトリソグラフィ処理によって形成する。その第1層55aの表面には微細な凹凸が形成される。その後、第1層55aの上に同じ材料の第2層55bを薄く塗布して、樹脂層55を形成する。   Next, in step P41 in FIG. 22, the first layer 55a of the resin layer 55 in FIG. 8 is formed on the surface of the first mother substrate by photolithography using, for example, a photosensitive resin as a material. Fine irregularities are formed on the surface of the first layer 55a. Thereafter, a second layer 55b of the same material is thinly applied on the first layer 55a to form a resin layer 55.

次に、図22の工程P42において、図8の反射層56を、例えばAlやAl合金等を材料としてフォトリソグラフィ処理及びエッチング処理によって形成する。このとき、表示ドットDごとに開口68を形成することにより、光反射部Rと透光部Tを形成する。次に、工程P43において、図8の遮光層57を、例えばCrを材料としてフォトリソグラフィ処理及びエッチング処理によって所定のパターン(例えば、複数の表示ドットDの周りを埋めるような格子状パターン)に形成する。   Next, in step P42 of FIG. 22, the reflection layer 56 of FIG. 8 is formed by photolithography and etching using, for example, Al or an Al alloy. At this time, by forming an opening 68 for each display dot D, a light reflecting portion R and a light transmitting portion T are formed. Next, in step P43, the light-shielding layer 57 of FIG. 8 is formed in a predetermined pattern (for example, a lattice pattern that fills the periphery of the plurality of display dots D) by photolithography and etching using, for example, Cr as a material. I do.

次に、図22の工程P44において、図8の着色要素58をR,G,Bの各色ごとに順々に形成する。例えば、各色の顔料や染料を感光性樹脂に分散させて成る着色材料をフォトリソグラフィ処理によって所定の配列に形成する。次に、工程P45において、図8のオーバーコート層59を、例えばアクリル樹脂、ポリイミド樹脂等といった感光性樹脂を材料としてフォトリソグラフィ処理によって形成する。   Next, in a process P44 of FIG. 22, the coloring elements 58 of FIG. 8 are sequentially formed for each of R, G, and B colors. For example, a coloring material formed by dispersing a pigment or dye of each color in a photosensitive resin is formed in a predetermined arrangement by photolithography. Next, in Step P45, the overcoat layer 59 in FIG. 8 is formed by photolithography using a photosensitive resin such as an acrylic resin or a polyimide resin.

次に、図22の工程P46において、図8の帯状電極61aをITOを材料としてフォトリソグラフィ処理及びエッチング処理によって形成し、さらに工程P47において図8の配向膜62aを形成し、さらに工程P48において配向処理としてのラビング処理を行う。以上により、第1マザー基材の上に複数の第1基板44aが形成される。   Next, in step P46 of FIG. 22, the band-shaped electrode 61a of FIG. 8 is formed by photolithography and etching using ITO as a material. Further, in step P47, an alignment film 62a of FIG. 8 is formed. A rubbing process is performed. As described above, a plurality of first substrates 44a are formed on the first mother substrate.

その後、図22の工程P51において、第1マザー基板と第2マザー基板とを貼り合わせる。これにより、第1マザー基板と第2マザー基板とが個々の液晶装置の領域において図7のシール材46を挟んで貼り合わされた構造の大面積のパネル構造体が形成される。   Then, in a process P51 in FIG. 22, the first mother substrate and the second mother substrate are bonded. As a result, a large-area panel structure having a structure in which the first mother substrate and the second mother substrate are bonded to each other in the region of the liquid crystal device with the seal member 46 of FIG. 7 interposed therebetween is formed.

次に、以上のようにして形成された大面積のパネル構造体に含まれるシール材46(図7参照)を、工程P52において硬化させて両マザー基板を接着する。
次に、工程P53において、パネル構造体を1次切断、すなわち1次ブレイクして、図7の液晶パネル42の複数が1列に並んだ状態で含まれる中面積のパネル構造体、いわゆる短冊状のパネル構造体を複数形成する。シール材46には予め適所に開口46aが形成されており、上記の1次ブレイクによって短冊状のパネル構造体が形成されると、そのシール材46の開口46aが外部に露出する。
Next, the sealing material 46 (see FIG. 7) included in the large-area panel structure formed as described above is cured in step P52 to bond the two mother substrates.
Next, in step P53, the panel structure is subjected to primary cutting, that is, a primary break, so that a medium-area panel structure including a plurality of liquid crystal panels 42 in FIG. Are formed. An opening 46a is formed in an appropriate place in the sealing material 46 in advance, and when the strip-shaped panel structure is formed by the primary break, the opening 46a of the sealing material 46 is exposed to the outside.

次に、図22の工程P54において、上記のシール材の開口46aを通して各液晶パネル部分の内部へ液晶を注入し、その注入の完了後、その開口46aを樹脂によって封止する。次に、工程P55において、2回目の切断、すなわち2次ブレイクを行い、短冊状のパネル構造体から図7に示す個々の液晶パネル42を切り出す。   Next, in step P54 of FIG. 22, liquid crystal is injected into each liquid crystal panel through the opening 46a of the sealing material, and after the injection is completed, the opening 46a is sealed with resin. Next, in step P55, a second cutting, that is, a secondary break is performed, and individual liquid crystal panels 42 shown in FIG. 7 are cut out from the strip-shaped panel structure.

次に、図22の工程P56において、図7の液晶パネル42に偏光板63a及び63bを貼着によって装着する。次に、工程P57において、図7の駆動用IC37a及び37bを実装し、さらに工程P58において、図7の照明装置43を取り付ける。これにより、液晶装置41が完成する。   Next, in a process P56 in FIG. 22, the polarizing plates 63a and 63b are attached to the liquid crystal panel 42 in FIG. 7 by sticking. Next, in step P57, the driving ICs 37a and 37b in FIG. 7 are mounted, and in step P58, the lighting device 43 in FIG. 7 is attached. Thus, the liquid crystal device 41 is completed.

以上のような液晶装置の製造方法において、工程P41の樹脂層形成工程では、図8の樹脂層55の第1層55aの表面にドット部としての複数の凹部64を平面的にランダムな配置で形成するために、図1に示す露光用マスク1を用いて第1層55aを露光及び現像する。このとき、マスク1のドット部すなわち穴4に対応して第1層55aの表面に凹部64が形成される。   In the method of manufacturing a liquid crystal device as described above, in the resin layer forming step of step P41, a plurality of concave portions 64 as dot portions are randomly arranged in a plane on the surface of the first layer 55a of the resin layer 55 of FIG. For formation, the first layer 55a is exposed and developed using the exposure mask 1 shown in FIG. At this time, a concave portion 64 is formed on the surface of the first layer 55a corresponding to the dot portion of the mask 1, that is, the hole 4.

マスク1に形成される複数の穴4は、既述の通り、図3に示すマスクの製造装置に含まれる露光装置21の描画処理によって形成される。また、露光装置21に供給されるランダムパターンのデータ(X0,Y0),(X1,Y1),……(Xn,Yn)は、図6に示した制御によって十分にランダム化され、しかも全ての穴4に関して隣接するもの同士が近づき過ぎないように配置される。   As described above, the plurality of holes 4 formed in the mask 1 are formed by the drawing process of the exposure device 21 included in the mask manufacturing apparatus shown in FIG. The random pattern data (X0, Y0), (X1, Y1),... (Xn, Yn) supplied to the exposure device 21 are sufficiently randomized by the control shown in FIG. The holes 4 are arranged so that adjacent ones do not get too close to each other.

なお、本実施形態に係る液晶装置の製造方法で用いるマスクに関しては、図1における単位領域A0を、図10、図14及び図18のそれぞれに例示したような、R,G,Bの各色着色要素58の配置の仕方との関連で決めるようにしてある。具体的には、単位領域A0の面積は、R,G,Bの3色に対応した3個の着色要素58の集まりである1つの画素とほぼ同じ面積に設定される。   Regarding the mask used in the method of manufacturing the liquid crystal device according to the present embodiment, the unit area A0 in FIG. 1 is colored in each of R, G, and B as illustrated in FIG. 10, FIG. 14, and FIG. It is determined in relation to the arrangement of the element 58. Specifically, the area of the unit area A0 is set to be substantially the same as the area of one pixel which is a group of three coloring elements 58 corresponding to the three colors of R, G, and B.

従って、図6のステップS11では、単位領域サイズとして上記のような1画素の面積が読み込まれる。また、ステップS12では、ランダムパターンの元データから1画素サイズ分を切り出して1次ランダムデータとして設定する。また、ステップS13では、採用されている着色要素58の配置の仕方に対応させて、注目する画素の周囲に補助領域をつなぎ合わせる。   Therefore, in step S11 in FIG. 6, the area of one pixel as described above is read as the unit area size. In step S12, one pixel size is cut out from the original data of the random pattern and set as primary random data. In step S13, the auxiliary area is joined around the pixel of interest in accordance with the arrangement of the coloring elements 58 employed.

例えば、図10の縦ストライプ配置が採用される場合には、図11に示すように、R,G,Bの3つの着色要素58から成る1つの画素に対応して注目する単位領域31が設定される。また、図12に示すように1つの画素分の1次ランダムデータ、すなわち1次的にランダムに配置されたデータとしての穴4、が元データから1画素分だけ切り出されて単位領域31に割り当てられる。さらに、図13に示すようにその注目する画素31の周囲に、画素31と同じ形状及び同じ穴配置の複数の補助領域32がR,G,Bを1つのユニットとしてつなぎ合わされる。   For example, when the vertical stripe arrangement of FIG. 10 is adopted, as shown in FIG. 11, a unit area 31 of interest is set corresponding to one pixel composed of three coloring elements 58 of R, G, and B. Is done. Also, as shown in FIG. 12, the primary random data of one pixel, that is, the hole 4 as the data randomly arranged in the first order, is cut out by one pixel from the original data and assigned to the unit area 31. Can be Further, as shown in FIG. 13, a plurality of auxiliary regions 32 having the same shape and the same hole arrangement as the pixel 31 are connected around the pixel 31 of interest as one unit of R, G, and B.

そして、ステップS14で、注目画素31内の複数の穴4の中から1つの注目穴4が選択され、さらにステップS15で、その注目穴4とそれの周囲に存在する複数の周囲穴4のそれぞれとの間の距離“d”が演算される。そして、そのd値が基準距離“s”と比較される。   Then, in step S14, one attention hole 4 is selected from the plurality of holes 4 in the attention pixel 31, and in step S15, each of the attention hole 4 and the plurality of surrounding holes 4 around the attention hole 4 is selected. Is calculated. Then, the d value is compared with the reference distance “s”.

d≦sとなる周囲穴4が存在すれば(ステップS16でYES)、その注目画素31及び補助領域32内の周囲穴4のデータが注目穴4から離れる方向へ修正され(ステップS17とステップS18)、全ての穴4がd≦sの条件を満足するまでその処理が繰り返される。これにより、最終的に得られる注目画素31についての穴4の配置データは、穴間距離が必ず基準値“s”よりも大きく、しかも注目画素31と補助領域32との間の境界線近傍でも穴間距離は基準値“s”よりも大きく維持される。   If there is a surrounding hole 4 where d ≦ s (YES in step S16), the data of the surrounding pixel 4 in the target pixel 31 and the auxiliary region 32 is corrected in a direction away from the target hole 4 (steps S17 and S18). ), The process is repeated until all holes 4 satisfy the condition of d ≦ s. As a result, the finally obtained arrangement data of the holes 4 for the target pixel 31 indicates that the distance between the holes is always greater than the reference value “s” and that the vicinity of the boundary line between the target pixel 31 and the auxiliary region 32 The distance between the holes is maintained larger than the reference value “s”.

このようにして作成された1つの画素に関するランダムデータを、必要となる面積分だけつなぎ合わせることにより、図1のマスク1の全面積に対応する大きさのランダムパターンのデータが作成される。   The random data for one pixel created in this way is connected by a required area, whereby random pattern data having a size corresponding to the entire area of the mask 1 in FIG. 1 is created.

なお、着色要素58の配置の仕方として図14に示すようなモザイク配置が採用された場合には、図15に示すように、R,G,Bの3色の着色要素58によって形成される1画素によって単位領域31及び補助領域32が決められる。また、図16に示すように1つの画素分の1次ランダムデータとしての穴4が切り出される。さらに、図17に示すようにその注目する画素31の周囲に、画素31と同じ形状及び同じ穴配置の複数の補助領域32がR,G,Bを1つのユニットとしてつなぎ合わされる。   When the mosaic arrangement as shown in FIG. 14 is adopted as a method of arranging the coloring elements 58, as shown in FIG. 15, one of the R, G, and B coloring elements 58 is formed. The unit area 31 and the auxiliary area 32 are determined by the pixel. Further, as shown in FIG. 16, a hole 4 is cut out as primary random data for one pixel. Further, as shown in FIG. 17, a plurality of auxiliary regions 32 having the same shape and the same hole arrangement as the pixel 31 are connected to each other around the pixel 31 of interest as a unit of R, G, and B.

また、着色要素58の配置の仕方として図18に示すようなデルタ配置が採用された場合には、図19に示すように、R,G,Bの3色の着色要素58によって形成される1画素によって単位領域31及び補助領域32が決められる。また、図20に示すように1つの画素分の1次ランダムデータとしての穴4が切り出される。さらに、図21に示すようにその注目する画素31の周囲に、画素31と同じ形状及び同じ穴配置の複数の補助領域32がR,G,Bを1つのユニットとしてつなぎ合わされる。   When a delta arrangement as shown in FIG. 18 is employed as a method of arranging the coloring elements 58, as shown in FIG. 19, one of the R, G, and B coloring elements 58 is used. The unit area 31 and the auxiliary area 32 are determined by the pixel. In addition, as shown in FIG. 20, a hole 4 as primary random data for one pixel is cut out. Further, as shown in FIG. 21, a plurality of auxiliary regions 32 having the same shape and the same hole arrangement as the pixel 31 are connected around the pixel 31 of interest as R, G, and B as one unit.

以上のように、ランダムパターンの単位領域を、着色要素58によって形成されるカラーフィルタの1画素分に対応させて設定すれば、すなわち、単位領域の境界線が遮光層57によって構成されるブラックマスクの中に含まれるように設定すれば、ランダムパターンによる光反射特性と着色要素58によるカラー表示特性との間に画素ごとにバラツキが生じることを防止できる。   As described above, if the unit area of the random pattern is set so as to correspond to one pixel of the color filter formed by the coloring element 58, that is, the black mask in which the boundary of the unit area is formed by the light shielding layer 57. , It is possible to prevent a variation from occurring for each pixel between the light reflection characteristic of the random pattern and the color display characteristic of the coloring element 58.

なお、以上の説明から明らかなことであるが、ランダムパターン内に設ける複数のドット部と言う場合には、このドット部というのは概念的なものであって、具体的な穴とか、具体的なドット状の実在部分ということではない。そして、このランダムパターンに基づいて露光装置によってマスクを製造した場合には、複数のドット部に対応する位置には、透光用の穴や、遮光用のドット状実在部分が形成されることになる。   It is clear from the above description that when referring to a plurality of dot portions provided in a random pattern, the dot portion is conceptual, and is not a specific hole or a specific hole. It is not a real dot-shaped real part. When a mask is manufactured by an exposure apparatus based on this random pattern, holes for light transmission and dot-like real portions for light shielding are formed at positions corresponding to the plurality of dot portions. Become.

また、以上の実施形態ではドット部4として円形部分を考えたが、ドット部4としては、図2に示すような6角形部分や、その他の多角形部分を考えることもできる。   In the above-described embodiment, a circular portion is considered as the dot portion 4. However, a hexagonal portion as shown in FIG. 2 or another polygonal portion can be considered as the dot portion 4.

また、ランダムパターンの設計や、マスクの設計を行う際には、ドット部4の大きさや数が重要な設計要素となる。ドット部4の大きさを規定する場合にはその最大外形寸法を規定すれば良く、この最大外形寸法は、ドット部4が円形部分である場合にはその直径であり、多角形部分である場合には図2に符号D1で示す対角寸法である。   When designing a random pattern or a mask, the size and number of the dot portions 4 are important design factors. When the size of the dot portion 4 is specified, its maximum outer size may be specified. The maximum outer size is the diameter of the dot portion 4 if it is a circular portion, and the maximum outer size if it is a polygonal portion. Has a diagonal dimension indicated by reference numeral D1 in FIG.

ドット部4として図2の6角形状部分を採用した場合、そのドット部4の最大外形寸法D1=7.5μm、幅寸法D2=6μmとすれば、その面積は約33μmとなる。ランダムパターンの作成に際して、単位領域A0内に切り出すべきドット部4の数を幾つにするかを決定するときには、必要なドット部4の全面積が図1のマスク1の単位領域A0の面積の何%にすれば良いかを設定する。例えば、ドット部4の必要な合計面積を単位領域A0の約30%、具体的には31%又は32%であると設定すれば、ドット部4の1つの面積は上記の通りに約33μmであるから、ドット部4の必要数は計算によって求めることができる。 When the hexagonal portion shown in FIG. 2 is adopted as the dot portion 4, if the maximum outer dimension D1 of the dot portion 4 is 7.5 μm and the width D2 is 6 μm, the area is about 33 μm 2 . When deciding how many dot sections 4 to cut out in the unit area A0 when creating a random pattern, the total area of the necessary dot sections 4 is determined by what is the area of the unit area A0 of the mask 1 in FIG. Set whether it should be%. For example, if the required total area of the dot section 4 is set to be about 30% of the unit area A0, specifically, 31% or 32%, one area of the dot section 4 is about 33 μm 2 as described above. Therefore, the required number of dot portions 4 can be obtained by calculation.

発明者の実験によれば、図8に示すように、樹脂層55を第1層55a及び第2層55bから成る2層構造とした場合には、(1)ドット部4としては図2の6角形状部分を採用し、(2)D1=7.5μm、D2=6μm、そしてドット部4の必要合計面積を単位領域A0の31%に設定し、さらに、(3)ドット間距離の基準値をs=9μmと設定することが、複数のドット部4を互いに近づき過ぎることなく、しかも十分にランダムに配置させることに関して有効であることが分かった。   According to the experiment of the inventor, as shown in FIG. 8, when the resin layer 55 has a two-layer structure including the first layer 55a and the second layer 55b, (1) the dot portion 4 is formed as shown in FIG. A hexagonal portion is adopted, (2) D1 = 7.5 μm, D2 = 6 μm, the required total area of the dot section 4 is set to 31% of the unit area A0, and (3) a reference for the distance between dots It has been found that setting the value to s = 9 μm is effective in arranging the plurality of dot portions 4 randomly without being too close to each other.

ところで、図8に示す樹脂層55は、2層構造に限られず、1層構造にすることもできる。発明者の実験によれば、この1層構造を採用する場合には、(1)ドット部4としては図2の6角形状部分を採用し、(2)D1=10μm、D2=9μm、そしてドット部4の必要合計面積を単位領域A0の32%に設定し、さらに、(3)ドット間距離の基準値をs=13.5μmと設定することが、複数のドット部4を互いに近づき過ぎることなく、しかも十分にランダムに配置させることに関して有効であることが分かった。   By the way, the resin layer 55 shown in FIG. 8 is not limited to a two-layer structure, and may have a one-layer structure. According to the experiment of the inventor, when this one-layer structure is adopted, (1) the hexagonal portion of FIG. 2 is adopted as the dot part 4, (2) D1 = 10 μm, D2 = 9 μm, and Setting the required total area of the dot portions 4 to 32% of the unit area A0 and (3) setting the reference value of the distance between dots to s = 13.5 μm causes the plurality of dot portions 4 to be too close to each other. It has been found to be effective without any, yet sufficiently random arrangement.

(その他の実施形態)
以上の実施形態では、R,G,Bの3色の着色要素58から成る1画素をランダムパターンの単位領域としたが、この単位領域はその他の任意の面積領域とすることができる。例えば、表示の最小単位である表示ドットDの1つを最小単位とすることができる。
(Other embodiments)
In the above embodiment, one pixel including the three color elements 58 of R, G, and B is used as the unit area of the random pattern. However, the unit area may be any other area. For example, one of the display dots D, which is the minimum unit of display, can be set as the minimum unit.

また、以上の実施形態では、着色要素58をR,G,Bの3色としたが、着色要素58はC(シアン),M(マゼンタ),Y(イエロー)の組合せとすることもできる。   Further, in the above embodiment, the coloring element 58 has three colors of R, G, and B, but the coloring element 58 may be a combination of C (cyan), M (magenta), and Y (yellow).

また、以上の実施形態では、着色要素58を用いてカラー表示を行う液晶装置に対して本発明を適用したが、本発明は、単色カラー表示の液晶装置や、着色要素58を用いない白黒表示を行う液晶装置に対しても適用できる。   In the above embodiments, the present invention is applied to a liquid crystal device that performs color display using the coloring element 58. However, the present invention is directed to a liquid crystal device that performs single color display and a monochrome display that does not use the coloring element 58. The present invention can also be applied to a liquid crystal device that performs.

また、以上に示した液晶装置は、TFD素子をアクティブ素子とするアクティブマトリクス方式の液晶装置であるが、本発明は、アクティブ素子を用いない単純マトリクス方式の液晶装置や、TFT等といった3端子型のスイッチング素子をアクティブ素子として用いるアクティブマトリクス方式の液晶装置にも適用できる。   Although the liquid crystal device described above is an active matrix type liquid crystal device using a TFD element as an active element, the present invention relates to a simple matrix type liquid crystal device not using an active element and a three-terminal type such as a TFT. The present invention can also be applied to an active matrix type liquid crystal device using the switching element as an active element.

また、以上の実施形態では、電気光学装置として液晶装置を例示したが、電気光学装置としては液晶装置以外に、EL(Electro Luminescence)装置、プラズマディスプレイ装置、EPD(Electrophoretic Display:電気泳動ディスプレイ)、FED(Field Emission Display:電界放出表示装置)等も考えられる。   In the above embodiments, the liquid crystal device is exemplified as the electro-optical device. However, as the electro-optical device, in addition to the liquid crystal device, an EL (Electro Luminescence) device, a plasma display device, an EPD (Electrophoretic Display), An FED (Field Emission Display: field emission display) and the like are also conceivable.

(ランダムパターンの作成方法及びマスクの製造方法の第2実施形態)
次に、本発明に係るランダムパターンの作成方法及びマスクの製造方法の他の実施形態を説明する。以上に記載した実施形態では、図6を用いて説明したように、R,G,BやC,M,Y等といった3色の表示ドットの集まりである1画素を単位領域としてランダムパターンを作成した。これから説明する実施形態は、単位領域として1画素以外の大きさを選定してランダムパターンを作成するものである。
(Second Embodiment of Random Pattern Creating Method and Mask Manufacturing Method)
Next, another embodiment of the method for producing a random pattern and the method for producing a mask according to the present invention will be described. In the embodiment described above, as described with reference to FIG. 6, a random pattern is created using one pixel, which is a group of display dots of three colors such as R, G, B, C, M, and Y, as a unit area. did. In the embodiment described below, a random pattern is created by selecting a size other than one pixel as a unit area.

図23は、そのようなランダムパターンの作成方法をコンピュータ、例えば図3に示すコンピュータを用いて実施する場合のフローチャートを示している。また、このランダムパターンの作成方法では、図24に示すように、R,G,Bの各色着色要素58が縦ストライプ状に配列されて成るカラーフィルタ60に対応してランダムパターンを作成するものとする。なお、以下の説明では、R,G,Bの各色着色要素に対応する表示ドットを、それぞれ、R表示ドット、G表示ドット、B表示ドットと呼ぶことにする。また、以下の実施形態では、ランダムパターンのドット部として穴を形成するものとする。   FIG. 23 shows a flowchart in the case where such a random pattern creating method is implemented using a computer, for example, the computer shown in FIG. Further, in this method of creating a random pattern, as shown in FIG. 24, a random pattern is created corresponding to a color filter 60 in which R, G, and B color elements 58 are arranged in a vertical stripe. I do. In the following description, the display dots corresponding to the R, G, and B color components will be referred to as R display dots, G display dots, and B display dots, respectively. In the following embodiments, holes are formed as dot portions of a random pattern.

図23に戻って、ステップS31において、R表示ドットを単位領域と設定した上でそのR表示ドット内におけるランダムパターンを決定する。具体的には、R表示ドットを単位領域と設定して図6のステップS11〜ステップS20の処理を実行する。より詳細に説明すれば、まず、図6のステップS11において1つの表示ドットに対応するサイズを単位領域のサイズとして読み込む。また、ドット部としての穴の穴径を“a1”、単位領域内の穴数を“m1”、面積密度を“n1”、穴間の基準距離を“s1”として読み込む。ここで、面積密度とは、1つの穴の面積を「a」とし、単位領域内の穴数を「m」とし、単位領域の面積を「A」とするとき、
a×m/A
によって表される数値である。
Returning to FIG. 23, in step S31, a random pattern in the R display dot is determined after setting the R display dot as a unit area. Specifically, the R display dot is set as a unit area, and the processing of steps S11 to S20 in FIG. 6 is executed. More specifically, first, in step S11 in FIG. 6, the size corresponding to one display dot is read as the size of the unit area. Also, the hole diameter of the hole as the dot portion is read as “a1”, the number of holes in the unit area is “m1”, the area density is “n1”, and the reference distance between the holes is “s1”. Here, the area density means that the area of one hole is “a”, the number of holes in a unit area is “m”, and the area of the unit area is “A”.
a × m / A
Is a numerical value represented by

次に、図6のステップS12で、ランダムパターンの元データから1表示ドット分を切り出して1次ランダムデータとして設定する。また、ステップS13で、図24のR表示ドットに対応する単位領域31を注目する単位領域と設定し、さらにその注目単位領域の周囲に補助領域32をつなぎ合わせる。また、図25に示すように、1つの表示ドット分の1次ランダムデータ、すなわち1次的にランダムに配置されたデータとしての穴4、が元データから1表示ドット分だけ切り出されて単位領域31に割り当てられる。さらに、図26に示すように、その注目する単位領域31の周囲に、単位領域31と同じ形状及び同じ穴配置の複数の補助領域32がつなぎ合わされる。   Next, in step S12 of FIG. 6, one display dot is cut out from the original data of the random pattern and set as primary random data. In step S13, the unit area 31 corresponding to the R display dot in FIG. 24 is set as the unit area of interest, and the auxiliary area 32 is connected around the unit area of interest. Further, as shown in FIG. 25, primary random data for one display dot, that is, holes 4 as data randomly arranged in the first order, are cut out from the original data by one display dot to form a unit area. 31. Further, as shown in FIG. 26, a plurality of auxiliary regions 32 having the same shape and the same hole arrangement as the unit region 31 are joined around the unit region 31 of interest.

次に、図6のステップS14で、注目単位領域31内の複数の穴4の中から1つの注目穴4が選択され、さらにステップS15で、その注目穴4とそれの周囲に存在する複数の周囲穴4のそれぞれとの間の距離“d”が演算される。そして、そのd値が基準距離“s1”と比較される。   Next, in step S14 of FIG. 6, one attention hole 4 is selected from the plurality of holes 4 in the attention unit area 31, and further in step S15, the attention hole 4 and the plurality of The distance “d” between each of the peripheral holes 4 is calculated. Then, the d value is compared with the reference distance “s1”.

d≦s1となる周囲穴4が存在すれば(ステップS16でYES)、その注目単位領域31及び補助領域32内の周囲穴4のデータが注目穴4から離れる方向へ修正され(ステップS17とステップS18)、全ての穴4がd≦sの条件を満足するまでその処理が繰り返される。これにより、最終的に得られる注目単位領域31についての穴4の配置データは、穴間距離が必ず基準値“s1”よりも大きく、しかも注目単位領域31と補助領域32との間の境界線近傍でも穴間距離は基準値“s1”よりも大きく維持される。以上により、R表示ドットに対応する1つの表示ドット分のランダムデータが適正に作成されて、図23のステップS31が終了する。作成されたランダムデータはコンピュータの記憶部に記憶される。   If there is a surrounding hole 4 that satisfies d ≦ s1 (YES in step S16), the data of the surrounding hole 4 in the attention unit area 31 and the auxiliary area 32 is corrected in a direction away from the attention hole 4 (step S17 and step S17). S18) The process is repeated until all the holes 4 satisfy the condition of d ≦ s. As a result, the finally obtained arrangement data of the holes 4 for the attention unit area 31 is such that the distance between the holes is always larger than the reference value “s1” and the boundary line between the attention unit area 31 and the auxiliary area 32 Even in the vicinity, the distance between the holes is maintained larger than the reference value “s1”. Thus, the random data for one display dot corresponding to the R display dot is properly created, and the step S31 in FIG. 23 ends. The created random data is stored in the storage unit of the computer.

次に、図23のステップS32において、図24のG表示ドットを単位領域と設定した上でそのG表示ドット内におけるランダムパターンを決定する。具体的には、G表示ドットの1つを単位領域と設定して図6のステップS11〜ステップS20の処理を実行する。この一連の処理は、上述したステップS31における処理と同じであるので詳細な説明は省略する。   Next, in step S32 of FIG. 23, the G display dot of FIG. 24 is set as a unit area, and a random pattern within the G display dot is determined. Specifically, one of the G display dots is set as a unit area, and the processing of steps S11 to S20 in FIG. 6 is executed. This series of processing is the same as the processing in step S31 described above, and thus detailed description is omitted.

なお、このG表示ドットに対する処理においてコンピュータの処理部に読み込まれるデータについては、ドット部としての穴の穴径を“a2”、単位領域内の穴数を“m2”、面積密度を“n2”、そして穴間の基準距離を“s2”とする。これらの穴径“a2”、穴数“m2”、面積密度“n2”、基準距離“s2”の数値は、ステップS31におけるR表示ドットの場合の穴径“a1”、穴数“m1”、面積密度“n1”、基準距離“s1”の数値と全て同じとすることもできるし、あるいは、それらの一部を異なる値とすることもできる。   The data read into the processing unit of the computer in the process for the G display dots is as follows: the hole diameter of the hole as the dot portion is “a2”, the number of holes in the unit area is “m2”, and the area density is “n2”. , And the reference distance between the holes is “s2”. The numerical values of the hole diameter “a2”, the number of holes “m2”, the area density “n2”, and the reference distance “s2” are the hole diameter “a1”, the number of holes “m1”, The numerical values of the area density “n1” and the reference distance “s1” can all be the same, or some of them can be different values.

ステップS32において図6のステップS11〜ステップS20までの一連の処理が終了すると、図24のG表示ドットに対応する1つの表示ドット分のランダムデータが適正に作成され、記憶部に記憶される。   When a series of processing from step S11 to step S20 in FIG. 6 is completed in step S32, random data for one display dot corresponding to the G display dot in FIG. 24 is appropriately created and stored in the storage unit.

次に、図23のステップS33において、図24のB表示ドットを単位領域と設定した上でそのB表示ドット内におけるランダムパターンを決定する。具体的には、B表示ドットの1つを単位領域と設定して図6のステップS11〜ステップS20の処理を実行する。この一連の処理は、上述したステップS31及びステップS32における処理と同じであるので詳細な説明は省略する。   Next, in step S33 of FIG. 23, the B display dot of FIG. 24 is set as a unit area, and a random pattern within the B display dot is determined. Specifically, one of the B display dots is set as a unit area, and the processing of steps S11 to S20 in FIG. 6 is executed. This series of processing is the same as the processing in step S31 and step S32 described above, and a detailed description thereof will be omitted.

なお、このB表示ドットに対する処理においてコンピュータの処理部に読み込まれるデータについては、ドット部としての穴の穴径を“a3”、単位領域内の穴数を“m3”、面積密度を“n3”、そして穴間の基準距離を“s3”とする。これらの穴径“a3”、穴数“m3”、面積密度“n3”、基準距離“s3”の数値は、ステップS31におけるR表示ドットの場合の穴径“a1”、穴数“m1”、面積密度“n1”、基準距離“s1”や、ステップS32におけるG表示ドットの場合の穴径“a2”、穴数“m2”、面積密度“n2”、基準距離“s2”の数値と全て同じとすることもできるし、あるいは、それらの一部を異なる値とすることもできる。   The data read into the processing unit of the computer in the process for the B display dot is as follows: the hole diameter of the hole as the dot portion is “a3”, the number of holes in the unit area is “m3”, and the area density is “n3”. , And the reference distance between the holes is “s3”. The numerical values of the hole diameter “a3”, the number of holes “m3”, the area density “n3”, and the reference distance “s3” are the hole diameter “a1”, the number of holes “m1”, The area density “n1”, the reference distance “s1”, and the numerical values of the hole diameter “a2”, the number of holes “m2”, the area density “n2”, and the reference distance “s2” in the case of the G display dot in step S32 are all the same. Or some of them can have different values.

ステップS33において図6のステップS11〜ステップS20までの一連の処理が終了すると、図24のB表示ドットに対応する1つの表示ドット分のランダムデータが適正に作成され、記憶部に記憶される。   When the series of processing from step S11 to step S20 in FIG. 6 is completed in step S33, random data for one display dot corresponding to the B display dot in FIG. 24 is properly created and stored in the storage unit.

以上により、R,G,Bの各表示ドットに対応するランダムデータが個別に作成されると、次に、図23のステップS34に進んで、R,G,Bの各表示ドットをつなぎ合わせた領域、すなわち1画素に相当する領域を単位領域と設定した上でその1画素内におけるランダムパターンを決定する。具体的には、1画素に相当する領域を単位領域と設定して図6のステップS11〜ステップS20の処理を実行する。この一連の処理は、上述したステップS31及びステップS32における処理と同じであるので詳細な説明は省略する。   As described above, when the random data corresponding to each of the R, G, and B display dots is individually created, the process proceeds to step S34 in FIG. 23, where the R, G, and B display dots are connected. An area, that is, an area corresponding to one pixel is set as a unit area, and a random pattern in one pixel is determined. Specifically, an area corresponding to one pixel is set as a unit area, and the processing of steps S11 to S20 in FIG. 6 is executed. This series of processing is the same as the processing in step S31 and step S32 described above, and a detailed description thereof will be omitted.

図23のステップ34において図6のステップS20が終了すると、R,G,Bの各表示ドットのつなぎ合わせによって構成される1画素内のランダムデータが決定する。その後、図23のステップ35において、図6のステップS21と同じ処理、すなわち、作成された1画素分のランダムデータを平面的につなぎ合わせることにより、希望する全面積分のランダムパターンを決定する。   When step S20 in FIG. 6 is completed in step S34 in FIG. 23, random data in one pixel formed by joining R, G, and B display dots is determined. Thereafter, in step 35 of FIG. 23, the desired processing of the whole integration is determined by the same processing as in step S21 of FIG. 6, that is, by combining the created random data of one pixel two-dimensionally.

なお、図23のステップ34において図6のステップS16の判断処理を行う場合、ステップS31〜S33の各ステップにおける穴間の基準距離s1〜s3が全て同じに設定されているときには、ステップ34における基準距離s4もそれらs1〜s3の値と同じ値を選定することが望ましい。   In the case where the determination processing of step S16 of FIG. 6 is performed in step 34 of FIG. 23, when the reference distances s1 to s3 between the holes in each of the steps S31 to S33 are all set to be the same, the reference of step 34 It is desirable that the same value as the values of s1 to s3 be selected for the distance s4.

一方、ステップS31〜S33の各ステップにおける穴間の基準距離s1〜s3は互いに異なる値に設定されることがある。この場合には、ステップ34における基準距離s4は、それらs1〜s3のうち最も小さい値に設定されることが望ましい。仮に、基準距離s4をs1〜s3のうちの最も小さい値以外の値に設定すると、コンピュータの演算過程において穴間隔を広く開け過ぎてしまう場合が生じ、そのため、適正な演算結果が得られなるおそれがある。また、コンピュータの演算処理に大きな負荷がかかるおそれもある。これらの結果、ランダムデータの作成に関して汎用性が低下するおそれがある。これに対し、本実施形態のように基準距離s4をs1〜s3のうち最も小さい値に設定すれば、ランダムデータの作成がより一般的になり、汎用性が増大する。   On the other hand, the reference distances s1 to s3 between the holes in each of the steps S31 to S33 may be set to different values. In this case, it is desirable that the reference distance s4 in step 34 be set to the smallest value among those s1 to s3. If the reference distance s4 is set to a value other than the smallest value among s1 to s3, a hole interval may be excessively widened in the calculation process of the computer, so that an appropriate calculation result may not be obtained. There is. Further, there is a possibility that a large load is applied to the arithmetic processing of the computer. As a result, there is a possibility that the versatility regarding the creation of random data is reduced. On the other hand, when the reference distance s4 is set to the smallest value among s1 to s3 as in the present embodiment, creation of random data becomes more general and versatility is increased.

(ランダムパターンの作成方法及びマスクの製造方法の第3実施形態)
次に、本発明に係るランダムパターンの作成方法及びマスクの製造方法のさらに他の実施形態を説明する。以上に記載した実施形態では、図23を用いて説明したように、R,G,BやC,M,Y等といった3色の表示ドットの1つずつを単位領域としてランダムパターンを作成した。これから説明する実施形態は、単位領域の選定の仕方に改変を加えたものである。
(Third Embodiment of Random Pattern Creating Method and Mask Manufacturing Method)
Next, still another embodiment of the method for producing a random pattern and the method for producing a mask according to the present invention will be described. In the embodiment described above, as described with reference to FIG. 23, a random pattern is created using each of the three colors of display dots such as R, G, B, C, M, and Y as a unit area. In the embodiment described below, the method of selecting the unit area is modified.

図27は、そのようなランダムパターンの作成方法をコンピュータ、例えば図3に示すコンピュータを用いて実施する場合のフローチャートを示している。また、このランダムパターンの作成方法では、図28に示すように、R,G,Bの各色着色要素58が縦ストライプ状に配列されて成るカラーフィルタ60に対応してランダムパターンを作成するものとする。この実施形態においても、ランダムパターンのドット部として穴を形成する場合を考える。   FIG. 27 shows a flowchart in a case where such a random pattern creating method is implemented using a computer, for example, the computer shown in FIG. Further, in the method of creating a random pattern, as shown in FIG. 28, a random pattern is created corresponding to a color filter 60 in which R, G, and B color elements 58 are arranged in a vertical stripe. I do. Also in this embodiment, a case is considered where holes are formed as dot portions of a random pattern.

図27に戻って、ステップS41において、R表示ドット及びG表示ドットの2つの表示ドット分の領域を単位領域と設定した上で、その単位領域内におけるランダムパターンを決定する。具体的には、R表示ドット及びG表示ドットの合計の領域を単位領域と設定して図6のステップS11〜ステップS20の処理を実行する。より詳細に説明すれば、まず、図6のステップS11において2つの表示ドットに対応するサイズを単位領域のサイズとして読み込む。   Returning to FIG. 27, in step S41, an area corresponding to two display dots of R display dots and G display dots is set as a unit area, and a random pattern in the unit area is determined. Specifically, the area of the total of the R display dots and the G display dots is set as a unit area, and the processing of steps S11 to S20 of FIG. 6 is executed. More specifically, first, in step S11 of FIG. 6, the size corresponding to two display dots is read as the size of the unit area.

また、本実施形態では、R表示ドット内及びG表示ドット内の両方に同じ形状の穴を同じ数及び同じ面積密度で形成するものとする。従って、ステップS11において、ドット部としての穴の穴径を“a1”、単位領域内の穴数を“m1”、面積密度を“n1”、穴間の基準距離を“s1”として読み込む。   In the present embodiment, the same number of holes and the same area density are formed in both the R display dots and the G display dots. Therefore, in step S11, the hole diameter of the hole as the dot portion is read as "a1", the number of holes in the unit area is "m1", the area density is "n1", and the reference distance between holes is "s1".

次に、図6のステップS12で、ランダムパターンの元データから2表示ドット分を切り出して1次ランダムデータとして設定する。また、ステップS13で、図28のR表示ドット及びG表示ドットの2つに対応する単位領域31を注目する単位領域と設定し、さらにその注目単位領域の周囲に補助領域32をつなぎ合わせる。また、図29に示すように、2つの表示ドット分の1次ランダムデータ、すなわち1次的にランダムに配置されたデータとしての穴4、が元データから2表示ドット分だけ切り出されて単位領域31に割り当てられる。さらに、図30に示すように、その注目する単位領域31の周囲に、単位領域31と同じ形状及び同じ穴配置の複数の補助領域32が2つの表示ドットを1つのユニットとしてつなぎ合わされる。   Next, in step S12 of FIG. 6, two display dots are cut out from the original data of the random pattern and set as primary random data. In step S13, the unit area 31 corresponding to the two R display dots and the G display dots in FIG. 28 is set as the unit area of interest, and the auxiliary area 32 is connected around the unit area of interest. Further, as shown in FIG. 29, primary random data for two display dots, that is, holes 4 as data randomly arranged in the first order, are cut out from the original data by two display dots to form a unit area. 31. Further, as shown in FIG. 30, a plurality of auxiliary areas 32 having the same shape and the same hole arrangement as the unit area 31 are connected around the unit area 31 of interest as two units of two display dots.

次に、図6のステップS14で、注目単位領域31内の複数の穴4の中から1つの注目穴4が選択され、さらにステップS15で、その注目穴4とそれの周囲に存在する複数の周囲穴4のそれぞれとの間の距離“d”が演算される。そして、そのd値が基準距離“s1”と比較される。   Next, in step S14 of FIG. 6, one attention hole 4 is selected from the plurality of holes 4 in the attention unit area 31, and further in step S15, the attention hole 4 and the plurality of The distance “d” between each of the peripheral holes 4 is calculated. Then, the d value is compared with the reference distance “s1”.

d≦s1となる周囲穴4が存在すれば(ステップS16でYES)、その注目単位領域31及び補助領域32内の周囲穴4のデータが注目穴4から離れる方向へ修正され(ステップS17とステップS18)、全ての穴4がd≦sの条件を満足するまでその処理が繰り返される。これにより、最終的に得られる注目単位領域31についての穴4の配置データは、穴間距離が必ず基準値“s1”よりも大きく、しかも注目画素31と補助領域32との間の境界線近傍でも穴間距離は基準値“s1”よりも大きく維持される。以上により、R表示ドット及びG表示ドットに対応する2つの表示ドット分のランダムデータが適正に作成されて、図27のステップS41が終了する。作成されたランダムデータはコンピュータの記憶部に記憶される。   If there is a surrounding hole 4 that satisfies d ≦ s1 (YES in step S16), the data of the surrounding hole 4 in the attention unit area 31 and the auxiliary area 32 is corrected in a direction away from the attention hole 4 (step S17 and step S17). S18) The process is repeated until all the holes 4 satisfy the condition of d ≦ s. As a result, the finally obtained arrangement data of the holes 4 in the unit area of interest 31 indicates that the distance between the holes is always larger than the reference value “s1” and that the vicinity of the boundary between the pixel of interest 31 and the auxiliary area 32 However, the distance between the holes is maintained larger than the reference value “s1”. As described above, the random data for the two display dots corresponding to the R display dot and the G display dot is properly created, and the step S41 in FIG. 27 ends. The created random data is stored in the storage unit of the computer.

次に、図27のステップS42において、図28のB表示ドットを単位領域と設定した上でそのB表示ドット内におけるランダムパターンを決定する。具体的には、B表示ドットの1つを単位領域と設定して図6のステップS11〜ステップS20の処理を実行する。この一連の処理は、上述したステップS41における処理と同じであるので詳細な説明は省略する。なお、このB表示ドットに対する処理においてコンピュータの処理部に読み込まれるデータについては、ドット部としての穴の穴径を“a2”、単位領域内の穴数を“m2”、面積密度を“n2”、そして穴間の基準距離を“s2”とする。   Next, in step S42 of FIG. 27, after setting the B display dot of FIG. 28 as a unit area, a random pattern in the B display dot is determined. Specifically, one of the B display dots is set as a unit area, and the processing of steps S11 to S20 in FIG. 6 is executed. This series of processing is the same as the processing in step S41 described above, and a detailed description thereof will be omitted. The data read into the processing unit of the computer in the process for the B display dot is as follows: the hole diameter of the hole as the dot portion is “a2”, the number of holes in the unit area is “m2”, and the area density is “n2”. , And the reference distance between the holes is “s2”.

一般に、R色とG色との間の光散乱特性は近似しているのに対し、B色の光散乱特性はR色やG色に比べて大きく異なっている。具体的には、B色は、R色及びG色に比べて散乱角度が狭いことが知られている。このような散乱特性の違いを補償するため、本実施形態では、穴径に関してa2>a1となるようにa2を設定し、面積密度に関してn2=n1となるように穴数m2を設定する。また、穴径をa2>a1に設定したことに関連して、穴間距離s2をs2<s1となるように設定する。例えば、R及びG表示ドットに関して、a1=9μm(直径)とし、s1=12μmとする。また、G表示ドットに関して、a2=10μm(直径)として、s2=13.5μmとする。   In general, the light scattering characteristics of the R and G colors are similar, while the light scattering characteristics of the B color are significantly different from those of the R and G colors. Specifically, it is known that the B color has a smaller scattering angle than the R color and the G color. In order to compensate for such a difference in scattering characteristics, in the present embodiment, a2 is set so that a2> a1 with respect to the hole diameter, and the number m2 of holes is set so that n2 = n1 with respect to the area density. Further, in relation to the setting of the hole diameter as a2> a1, the distance s2 between the holes is set to satisfy s2 <s1. For example, regarding R and G display dots, a1 = 9 μm (diameter) and s1 = 12 μm. For the G display dots, a2 = 10 μm (diameter) and s2 = 13.5 μm.

ステップS42において図6のステップS11〜ステップS20までの一連の処理が終了すると、図28のB表示ドットに対応する1つの表示ドット分のランダムデータが適正に作成され、記憶部に記憶される。以上により、R及びG表示ドットに対応するランダムデータ、並びにB表示ドットに対応するランダムデータが個別に作成されると、次に、図27のステップS43に進んで、R,G,Bの各表示ドットをつなぎ合わせた領域、すなわち1画素に相当する領域を単位領域と設定した上でその1画素分の領域内におけるランダムパターンを決定する。具体的には、1画素に相当する領域を単位領域と設定して図6のステップS11〜ステップS20の処理を実行する。この一連の処理は、上述したステップS41及びステップS42における処理と同じであるので詳細な説明は省略する。   When the series of processes from step S11 to step S20 in FIG. 6 is completed in step S42, random data for one display dot corresponding to the B display dot in FIG. 28 is appropriately created and stored in the storage unit. As described above, when the random data corresponding to the R and G display dots and the random data corresponding to the B display dot are individually created, the process proceeds to step S43 in FIG. A region where display dots are connected, that is, a region corresponding to one pixel is set as a unit region, and then a random pattern in the region of one pixel is determined. Specifically, an area corresponding to one pixel is set as a unit area, and the processing of steps S11 to S20 in FIG. 6 is executed. This series of processing is the same as the processing in step S41 and step S42 described above, and a detailed description thereof will be omitted.

図27のステップ43において図6のステップS20が終了すると、R,G,Bの各表示ドットのつなぎ合わせによって構成される1画素内のランダムデータが決定する。その後、図27のステップ44において、図6のステップS21と同じ処理、すなわち、作成された1画素分のランダムデータを平面的につなぎ合わせる処理を行うことにより、希望する全面積分のランダムパターンを決定する。   When step S20 in FIG. 6 is completed in step 43 in FIG. 27, random data in one pixel formed by joining R, G, and B display dots is determined. Then, in step 44 of FIG. 27, the same process as step S21 of FIG. 6, that is, a process of connecting the created random data of one pixel in a plane, is performed to determine a desired random pattern of the overall integration. I do.

なお、本実施形態では、R,Gに対する穴間距離s1及びBに対する穴間距離s2が、s2>s1に設定されるので、図27のステップ43において図6のステップS16の判断処理を行う際、ステップ43における基準距離sは、それらs1、s2のうちの小さい値に設定されることが望ましい。これにより、ランダムデータの作成がより一般的になり、汎用性が増大する。   In the present embodiment, the distance between holes s1 for R and G and the distance between holes s2 for B are set to satisfy s2> s1. Therefore, when performing the determination process of step S16 of FIG. 6 in step 43 of FIG. , 43, the reference distance s is desirably set to the smaller value of s1 and s2. This makes the creation of random data more common and increases versatility.

(変形例)
図27では、R及びG表示ドットに関する処理(ステップS41)をB表示ドットに関する処理(ステップS42)に先立って行ったが、これとは逆に、B表示ドットに関する処理を先に行っても良い。
(Modification)
In FIG. 27, the processing relating to the R and G display dots (step S41) is performed prior to the processing relating to the B display dots (step S42). Conversely, the processing relating to the B display dots may be performed first. .

本発明に係るランダムパターンの作成方法は、マスクにランダムパターンを形成する再に好適に用いられる。また、本発明のマスクの製造方法は、マスク内にランダムパターンを形成する際に好適に用いられる。また、本発明に係る電気光学装置の製造方法は、液晶装置、有機EL装置、電子放出素子(Field Emission Display及びSurface-Conduction Electron-Emitter Display等)等といった電気光学装置を製造する際に好適に用いられる。また、本発明に係るランダムパターンの作成プログラムは、コンピュータを用いてランダムパターンを作成する際に好適に用いられる。   The method for forming a random pattern according to the present invention is suitably used for forming a random pattern on a mask. Further, the mask manufacturing method of the present invention is suitably used when forming a random pattern in a mask. In addition, the method for manufacturing an electro-optical device according to the present invention is suitable for manufacturing an electro-optical device such as a liquid crystal device, an organic EL device, and an electron-emitting device (such as a field emission display and a surface-conduction electron-emitter display). Used. The program for creating a random pattern according to the present invention is suitably used when creating a random pattern using a computer.

本発明に係るマスクの製造方法によって製造されるマスクの一例を示す図であり、(a)は平面図であり、(b)は断面図である。It is a figure which shows an example of the mask manufactured by the manufacturing method of the mask which concerns on this invention, (a) is a top view, (b) is sectional drawing. ドット部の一例を示す図である。It is a figure showing an example of a dot part. 本発明に係るマスクの製造方法を実施できる装置の一例を示すブロック図である。It is a block diagram showing an example of an apparatus which can perform a manufacturing method of a mask concerning the present invention. 図3の装置によって行われる演算を模式的に示す図であって、単位領域のつなぎ合わせ方を示す図である。FIG. 4 is a diagram schematically illustrating an operation performed by the apparatus in FIG. 3, and is a diagram illustrating a method of connecting unit areas. 本発明に係るマスクの製造方法の一実施形態を示す工程図である。It is a flowchart showing one embodiment of a manufacturing method of a mask concerning the present invention. 本発明に係るランダムパターンの作成方法の一実施形態を示すフローチャートである。5 is a flowchart illustrating an embodiment of a method for creating a random pattern according to the present invention. 本発明に係る電気光学装置の製造方法によって製造される電気光学装置の一例である液晶装置を示す図である。FIG. 2 is a diagram illustrating a liquid crystal device which is an example of an electro-optical device manufactured by a method of manufacturing an electro-optical device according to the invention. 図7の液晶装置の断面構造を示す断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view illustrating a cross-sectional structure of the liquid crystal device of FIG. 7. 図7の液晶装置で用いられるアクティブ素子の一例であるTFD素子の一例を示す斜視図である。FIG. 8 is a perspective view illustrating an example of a TFD element that is an example of an active element used in the liquid crystal device of FIG. 7. カラーフィルタの一例を示す平面図である。FIG. 3 is a plan view illustrating an example of a color filter. 図10のカラーフィルタと単位領域との関係を示す図である。FIG. 11 is a diagram illustrating a relationship between the color filter of FIG. 10 and a unit area. 図10のカラーフィルタに対応して単位領域に1次ランダムデータを割り当てた状態を示す図である。FIG. 11 is a diagram illustrating a state in which primary random data is assigned to a unit area corresponding to the color filter of FIG. 10. 図10のカラーフィルタに対応して単位領域に補助領域をつなぎ合わせた状態を示す図である。FIG. 11 is a diagram illustrating a state in which an auxiliary area is connected to a unit area corresponding to the color filter of FIG. 10. カラーフィルタの他の一例を示す平面図である。It is a top view which shows another example of a color filter. 図14のカラーフィルタと単位領域との関係を示す図である。FIG. 15 is a diagram illustrating a relationship between the color filter of FIG. 14 and a unit area. 図14のカラーフィルタに対応して単位領域に1次ランダムデータを割り当てた状態を示す図である。FIG. 15 is a diagram illustrating a state where primary random data is allocated to a unit area corresponding to the color filter of FIG. 14. 図14のカラーフィルタに対応して単位領域に補助領域をつなぎ合わせた状態を示す図である。FIG. 15 is a diagram illustrating a state in which an auxiliary area is connected to a unit area corresponding to the color filter of FIG. 14. カラーフィルタのさらに他の一例を示す平面図である。It is a top view which shows another example of a color filter. 図18のカラーフィルタと単位領域との関係を示す図である。FIG. 19 is a diagram showing a relationship between the color filter of FIG. 18 and a unit area. 図18のカラーフィルタに対応して単位領域に1次ランダムデータを割り当てた状態を示す図である。FIG. 19 is a diagram showing a state in which primary random data is assigned to a unit area corresponding to the color filter of FIG. 図18のカラーフィルタに対応して単位領域に補助領域をつなぎ合わせた状態を示す図である。FIG. 19 is a diagram illustrating a state in which an auxiliary region is connected to a unit region corresponding to the color filter of FIG. 18. 本発明に係る電気光学装置の製造方法の一実施形態を示す工程図である。FIG. 4 is a process chart showing one embodiment of a method for manufacturing an electro-optical device according to the present invention. 本発明に係るランダムパターンの作成方法の他の実施形態を示すフローチャートである。9 is a flowchart illustrating another embodiment of a method for creating a random pattern according to the present invention. カラーフィルタと単位領域との関係の他の例を示す図である。FIG. 9 is a diagram illustrating another example of the relationship between the color filter and the unit area. 図24の単位領域に1次ランダムデータを割り当てた状態を示す図である。25 is a diagram illustrating a state where primary random data is allocated to the unit area in FIG. 24. FIG. 図25の単位領域に補助領域をつなぎ合わせた状態を示す図である。FIG. 26 is a diagram illustrating a state in which an auxiliary area is connected to the unit area in FIG. 25. 本発明に係るランダムパターンの作成方法のさらに他の実施形態を示すフローチャートである。9 is a flowchart illustrating still another embodiment of the method for creating a random pattern according to the present invention. カラーフィルタと単位領域との関係のさらに他の例を示す図である。FIG. 11 is a diagram illustrating still another example of the relationship between the color filter and the unit area. 図28の単位領域に1次ランダムデータを割り当てた状態を示す図である。FIG. 29 is a diagram showing a state where primary random data is allocated to the unit area of FIG. 28. 図29の単位領域に補助領域をつなぎ合わせた状態を示す図であるFIG. 30 is a diagram illustrating a state in which an auxiliary area is connected to the unit area in FIG. 29.

符号の説明Explanation of reference numerals

1:マスク、2:基材、3:遮光層、4:穴(ドット部)、17:メモリ、18a,18b:ファイル、19:露光対象物、31:単位領域、32:補助領域、41:液晶装置(電気光学装置)、42:液晶パネル、43:照明装置、44a,44b:基板、46:シール材、51a,51b:基材、53:液晶層、55:樹脂層、55a:第1層、55b:第2層、56:反射層、57:遮光層、58:着色要素、59:オーバーコート層、60:カラーフィルタ、61a,61b:電極、64:凹部(ドット部、66:ライン配線、67:TFD素子、A0:単位領域


1: mask, 2: base material, 3: light shielding layer, 4: hole (dot portion), 17: memory, 18a, 18b: file, 19: exposure object, 31: unit area, 32: auxiliary area, 41: Liquid crystal device (electro-optical device), 42: liquid crystal panel, 43: lighting device, 44a, 44b: substrate, 46: sealing material, 51a, 51b: base material, 53: liquid crystal layer, 55: resin layer, 55a: first Layer, 55b: second layer, 56: reflective layer, 57: light shielding layer, 58: coloring element, 59: overcoat layer, 60: color filter, 61a, 61b: electrode, 64: recess (dot portion, 66: line) Wiring, 67: TFD element, A0: unit area


Claims (18)

複数のドット部を不規則に配置して成るランダムパターンの作成方法において、
(a)前記ランダムパターン内の単位領域に前記複数のドット部をXY座標上で1次的にランダムに配置する工程と、
(b)前記単位領域と形状が同じであり前記ドット部の配置も同じである補助領域を前記単位領域の周囲に該単位領域に連続して配置させる工程と、
(c)前記単位領域に含まれる複数のドット部から1つの注目ドット部を選択する工程と、
(d)前記注目ドット部の周りに存在する複数の周囲ドット部のそれぞれと該注目ドット部との間の距離“d”を演算する工程と、
(e)演算された前記複数の距離“d”のそれぞれを基準距離“s”と比較する工程と、
(f)前記複数の周囲ドット部の中にd≦sとなるものがあるとき、当該周囲ドット部のXY座標を前記注目ドット部に対してX方向又はY方向又はX及びYの両方向へ所定距離だけ離すと同時に補助領域の対応する周囲ドットも離す演算を行う工程と、
(g)前記単位領域内の複数のドット部の全てについて前記(c)から前記(f)の工程を、前記ドット部間距離“d”の全てがd>sとなるまで繰り返す工程と、
を有することを特徴とするランダムパターンの作成方法。
In a method of creating a random pattern formed by arranging a plurality of dot portions irregularly,
(A) randomly arranging the plurality of dot portions on XY coordinates in a unit area in the random pattern;
(B) a step of arranging an auxiliary area having the same shape as the unit area and the same arrangement of the dot portions around the unit area and continuously in the unit area;
(C) selecting one target dot portion from a plurality of dot portions included in the unit area;
(D) calculating a distance “d” between each of the plurality of peripheral dot portions existing around the noted dot portion and the noted dot portion;
(E) comparing each of the calculated plurality of distances “d” with a reference distance “s”;
(F) When d ≦ s among the plurality of surrounding dot portions, the XY coordinates of the surrounding dot portions are determined in the X direction, the Y direction, or both the X and Y directions with respect to the target dot portion. Performing a calculation of separating the surrounding dots corresponding to the auxiliary area at the same time as separating by a distance;
(G) repeating the steps (c) to (f) for all of the plurality of dot sections in the unit area until all of the dot section distances “d” satisfy d>s;
A method for creating a random pattern, comprising:
請求項1において、前記ドット部は円形部分又は多角形部分であることを特徴とするランダムパターンの作成方法。 2. The method according to claim 1, wherein the dot portion is a circular portion or a polygonal portion. 請求項1又は請求項2において、前記複数のドット部をXY座標上で1次的にランダムに配置する工程は、ランダム関数を用いて行うことを特徴とするランダムパターンの作成方法。 3. The method according to claim 1, wherein the step of randomly arranging the plurality of dot portions on the XY coordinates at random is performed using a random function. 請求項1から請求項3の少なくともいずれか1つにおいて、前記ドット部の最大外形寸法が約7.5μmであり、必要となるドット部の合計の面積が前記単位領域の面積の約30%であるとき、前記基準距離“s”の値は約9μmであることを特徴とするランダムパターンの作成方法。 4. The device according to claim 1, wherein a maximum outer dimension of the dot portion is about 7.5 μm, and a total area of the required dot portion is about 30% of an area of the unit region. In one embodiment, the value of the reference distance “s” is about 9 μm. 請求項1から請求項3の少なくともいずれか1つにおいて、前記ドット部の最大外形寸法が約10μmであり、必要となるドット部の合計の面積が前記単位領域の面積の約30%であるとき、前記基準距離“s”の値は約13.5μmであることを特徴とするランダムパターンの作成方法。 4. The at least one of claims 1 to 3, wherein a maximum outer dimension of the dot part is about 10 μm, and a total area of the required dot part is about 30% of an area of the unit region. , Wherein the value of the reference distance “s” is about 13.5 μm. 請求項1から請求項5の少なくともいずれか1つに記載のランダムパターンの作成方法であって、
3原色の着色要素を配列させて成るカラーフィルタに対応して前記複数のドット部を不規則に配置するようにしたランダムパターンの作成方法において、
前記単位領域は、1つの着色要素に対応する表示ドット領域又は3原色の着色要素が集まって成る1つの画素領域とほぼ同じ領域であることを特徴とするランダムパターンの作成方法。
A method for creating a random pattern according to at least one of claims 1 to 5, wherein
In a method of creating a random pattern, the plurality of dot portions are arranged irregularly in correspondence with a color filter in which coloring elements of three primary colors are arranged,
The method according to claim 1, wherein the unit area is substantially the same as a display dot area corresponding to one coloring element or one pixel area formed by collecting three primary color elements.
透光部又は遮光部として機能する複数のドット部を不規則に配置して成るマスクの製造方法において、
ランダムパターンのデータを作成する工程と、
基材上に無パターンの遮光層を形成する工程と、
前記ランダムパターンのデータに基づいて前記遮光層をパターニングして前記複数のドット部を形成する工程とを有し、
前記ランダムパターンのデータを作成する工程は、請求項1から請求項6の少なくともいずれか1つに記載のランダムパターンの作成方法によって実行されることを特徴とするマスクの製造方法。
In a method for manufacturing a mask in which a plurality of dot portions functioning as a light transmitting portion or a light shielding portion are arranged irregularly,
Creating random pattern data;
A step of forming a pattern-free light-shielding layer on the substrate,
Patterning the light shielding layer based on the data of the random pattern to form the plurality of dot portions,
7. A method of manufacturing a mask, wherein the step of creating data of the random pattern is performed by the method of creating a random pattern according to at least one of claims 1 to 6.
基材と、該基材上に形成されていてその表面に凹凸を有する樹脂層と、該樹脂層の上に形成された光反射層と、該光反射層の上に設けられた電気光学物質層とを有する電気光学装置を製造するための製造方法において、
前記樹脂層の表面に凹凸を形成する工程は、請求項7に記載のマスクの製造方法を用いて製造されたマスクを用いて行われる
ことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
A substrate, a resin layer formed on the substrate and having irregularities on its surface, a light reflection layer formed on the resin layer, and an electro-optical material provided on the light reflection layer A manufacturing method for manufacturing an electro-optical device having a layer and
A method for manufacturing an electro-optical device, wherein the step of forming irregularities on the surface of the resin layer is performed using a mask manufactured using the method for manufacturing a mask according to claim 7.
請求項8において、前記電気光学物質は液晶であることを特徴とする電気光学装置の製造方法。 9. The method according to claim 8, wherein the electro-optical material is a liquid crystal. 複数のドット部を不規則に配置して成るランダムパターンの作成プログラムであって、コンピュータを、
(a)前記ランダムパターン内の単位領域に前記複数のドット部をXY座標上で1次的にランダムに配置する手段、
(b)前記単位領域と形状が同じであり前記ドット部の配置も同じである補助領域を前記単位領域の周囲に該単位領域に連続して配置させる手段、
(c)前記単位領域に含まれる複数のドット部から1つの注目ドット部を選択する手段、
(d)前記注目ドット部の周りに存在する複数の周囲ドット部のそれぞれと該注目ドット部との間の距離“d”を演算する手段、
(e)演算された前記複数の距離“d”のそれぞれを基準距離“s”と比較する手段、
(f)前記複数の周囲ドット部の中にd≦sとなるものがあるとき、当該周囲ドット部のXY座標を前記注目ドット部に対してX方向又はY方向又はX及びYの両方向へ所定距離だけ離すと同時に補助領域の対応する周囲ドットも離す演算を行う手段、及び
(g)前記単位領域内の複数のドット部の全てについて前記(c)から前記(f)の工程を、前記ドット部間距離“d”の全てがd>sとなるまで繰り返す手段、
として機能させるためのランダムパターンの作成プログラム。
A program for creating a random pattern formed by arranging a plurality of dot portions irregularly, comprising:
(A) means for randomly arranging the plurality of dot portions on an XY coordinate in a unit area in the random pattern,
(B) means for continuously arranging an auxiliary area having the same shape as the unit area and the same arrangement of the dot portions around the unit area in the unit area;
(C) means for selecting one target dot portion from a plurality of dot portions included in the unit area;
(D) means for calculating a distance “d” between each of the plurality of peripheral dot portions existing around the noted dot portion and the noted dot portion;
(E) means for comparing each of the plurality of calculated distances “d” with a reference distance “s”;
(F) When d ≦ s among the plurality of surrounding dot portions, the XY coordinates of the surrounding dot portions are determined in the X direction, the Y direction, or both the X and Y directions with respect to the target dot portion. Means for performing an operation to separate the surrounding dots corresponding to the auxiliary area at the same time as the distance, and (g) performing the steps (c) to (f) for all of the plurality of dot portions in the unit area. Means for repeating until all the inter-unit distances “d” satisfy d> s,
A program for creating a random pattern to function as.
3原色の着色要素を配列させて成るカラーフィルタに対応して前記複数のドット部を不規則に配置するようにしたランダムパターンの作成方法において、
(ア)1色の前記着色要素に対応する表示ドット領域を単位領域として該単位領域内のランダムパターンを決める工程と、
(イ)他の1色の前記着色要素に対応する表示ドット領域を単位領域として該単位領域内のランダムパターンを決める工程と、
(ウ)さらに他の1色の前記着色要素に対応する表示ドット領域を単位領域として該単位領域内のランダムパターンを決める工程と、
(エ)前記3種類のランダムパターンをつなぎ合わせた領域を単位領域として該単位領域内のランダムパターンを決める工程とを有し、
前記4つの工程は、それぞれ、
(a)前記単位領域に前記複数のドット部をXY座標上で1次的にランダムに配置する工程と、
(b)前記単位領域と形状が同じであり前記ドット部の配置も同じである補助領域を前記単位領域の周囲に該単位領域に連続して配置させる工程と、
(c)前記単位領域に含まれる複数のドット部から1つの注目ドット部を選択する工程と、
(d)前記注目ドット部の周りに存在する複数の周囲ドット部のそれぞれと該注目ドット部との間の距離“d”を演算する工程と、
(e)演算された前記複数の距離“d”のそれぞれを基準距離“s”と比較する工程と、
(f)前記複数の周囲ドット部の中にd≦sとなるものがあるとき、当該周囲ドット部のXY座標を前記注目ドット部に対してX方向又はY方向又はX及びYの両方向へ所定距離だけ離すと同時に補助領域の対応する周囲ドットも離す演算を行う工程と、
(g)前記単位領域内の複数のドット部の全てについて前記(c)から前記(f)の工程を、前記ドット部間距離“d”の全てがd>sとなるまで繰り返す工程とを有し、さらに
(オ)前記(エ)工程における基準距離“s”は、前記(ア)、(イ)、(ウ)の各工程における基準距離“s”のうちの最も小さい値に設定する
ことを特徴とするランダムパターンの作成方法。
In a method of creating a random pattern, the plurality of dot portions are arranged irregularly in correspondence with a color filter in which coloring elements of three primary colors are arranged,
(A) determining a random pattern in the unit area using a display dot area corresponding to the one color coloring element as a unit area;
(A) determining a random pattern in the unit area using the display dot area corresponding to the other one color element as a unit area;
(C) determining a random pattern in the unit area using a display dot area corresponding to the other one color element as a unit area;
(D) determining a random pattern in the unit area using an area obtained by joining the three types of random patterns as a unit area,
The four steps are, respectively,
(A) randomly arranging the plurality of dot portions on the XY coordinates in the unit area;
(B) a step of arranging an auxiliary area having the same shape as the unit area and the same arrangement of the dot portions around the unit area and continuously in the unit area;
(C) selecting one target dot portion from a plurality of dot portions included in the unit area;
(D) calculating a distance “d” between each of the plurality of peripheral dot portions existing around the noted dot portion and the noted dot portion;
(E) comparing each of the calculated plurality of distances “d” with a reference distance “s”;
(F) When d ≦ s among the plurality of surrounding dot portions, the XY coordinates of the surrounding dot portions are determined in the X direction, the Y direction, or both the X and Y directions with respect to the target dot portion. Performing a calculation of separating the surrounding dots corresponding to the auxiliary area at the same time as separating by a distance;
And (g) repeating the steps (c) to (f) for all of the plurality of dot portions in the unit area until all of the dot portion distances “d” satisfy d> s. (E) The reference distance “s” in the step (d) is set to the smallest value of the reference distances “s” in the steps (a), (b) and (c). A method for creating a random pattern characterized by the following.
請求項11において、
(i)1つのドット部の径、
(ii)単位領域内におけるドット部の数、
(iii)単位領域の面積に対する当該単位領域内に存在する複数のドット部の合計の面積密度、及び
(iv)互いに隣り合う一対のドット部間の基準距離
の4つの項目のうちの少なくとも1つは、前記(ア)、(イ)、(ウ)の各工程相互間で異なることを特徴とするランダムパターンの作成方法。
In claim 11,
(I) diameter of one dot portion,
(Ii) the number of dot parts in the unit area,
(Iii) at least one of four items of a total area density of a plurality of dot parts existing in the unit area with respect to an area of the unit area, and (iv) a reference distance between a pair of adjacent dot parts. Is a method for creating a random pattern, which is different among the steps (A), (A) and (C).
請求項11又は請求項12において、前記3原色はR(赤)、G(緑)、B(青)の3色の組合せ、又はC(シアン)、M(マゼンタ)、Y(イエロー)の3色の組合せであることを特徴とするランダムパターンの作成方法。 13. The device according to claim 11, wherein the three primary colors are a combination of three colors of R (red), G (green), and B (blue), or a combination of three colors of C (cyan), M (magenta), and Y (yellow). A method for creating a random pattern, which is a combination of colors. 3原色の着色要素を配列させて成るカラーフィルタに対応して前記複数のドット部を不規則に配置するようにしたランダムパターンの作成方法において、
(ア)2色の前記着色要素に対応する表示ドット領域を単位領域として該単位領域内のランダムパターンを決める工程と、
(イ)他の1色の前記着色要素に対応する表示ドット領域を単位領域として該単位領域内のランダムパターンを決める工程と、
(ウ)前記2種類のランダムパターンをつなぎ合わせた領域を単位領域として該単位領域内のランダムパターンを決める工程とを有し、
前記3つの工程は、それぞれ、
(a)前記単位領域に前記複数のドット部をXY座標上で1次的にランダムに配置する工程と、
(b)前記単位領域と形状が同じであり前記ドット部の配置も同じである補助領域を前記単位領域の周囲に該単位領域に連続して配置させる工程と、
(c)前記単位領域に含まれる複数のドット部から1つの注目ドット部を選択する工程と、
(d)前記注目ドット部の周りに存在する複数の周囲ドット部のそれぞれと該注目ドット部との間の距離“d”を演算する工程と、
(e)演算された前記複数の距離“d”のそれぞれを基準距離“s”と比較する工程と、
(f)前記複数の周囲ドット部の中にd≦sとなるものがあるとき、当該周囲ドット部のXY座標を前記注目ドット部に対してX方向又はY方向又はX及びYの両方向へ所定距離だけ離すと同時に補助領域の対応する周囲ドットも離す演算を行う工程と、
(g)前記単位領域内の複数のドット部の全てについて前記(c)から前記(f)の工程を、前記ドット部間距離“d”の全てがd>sとなるまで繰り返す工程とを有し、
(オ)前記(ウ)工程における基準距離“s”は、前記(ア)、(イ)、(ウ)の各工程における基準距離“s”のうちの最も小さい値に設定する
ことを特徴とするランダムパターンの作成方法。
In a method of creating a random pattern, the plurality of dot portions are arranged irregularly in correspondence with a color filter in which coloring elements of three primary colors are arranged,
(A) determining a random pattern in the unit area using a display dot area corresponding to the two colored elements as a unit area;
(A) determining a random pattern in the unit area using the display dot area corresponding to the other one color element as a unit area;
(C) determining a random pattern in the unit area with an area obtained by joining the two types of random patterns as a unit area,
The three steps are, respectively,
(A) randomly arranging the plurality of dot portions on the XY coordinates in the unit area;
(B) a step of arranging an auxiliary area having the same shape as the unit area and the same arrangement of the dot portions around the unit area and continuously in the unit area;
(C) selecting one target dot portion from a plurality of dot portions included in the unit area;
(D) calculating a distance “d” between each of the plurality of peripheral dot portions existing around the noted dot portion and the noted dot portion;
(E) comparing each of the calculated plurality of distances “d” with a reference distance “s”;
(F) When d ≦ s among the plurality of surrounding dot portions, the XY coordinates of the surrounding dot portions are determined in the X direction, the Y direction, or both the X and Y directions with respect to the target dot portion. Performing a calculation of separating the surrounding dots corresponding to the auxiliary area at the same time as separating by a distance;
And (g) repeating the steps (c) to (f) for all of the plurality of dot portions in the unit area until all of the dot portion distances “d” satisfy d> s. And
(E) The reference distance "s" in the step (c) is set to the smallest value among the reference distances "s" in the steps (a), (b) and (c). To create random patterns.
請求項14において、前記3原色はR、G、Bの3色の組合せであり、前記(ア)工程はR及びGの2色に対応し、前記(イ)工程はB色に対応することを特徴とするランダムパターンの作成方法。 15. The method according to claim 14, wherein the three primary colors are a combination of three colors of R, G, and B, wherein the step (A) corresponds to two colors of R and G, and the step (A) corresponds to B color. A method for creating a random pattern characterized by the following. 請求項15において、R及びGの2色に対応する前記ドット部の径は、B色に対応する前記ドット部の径よりも小さいことを特徴とするランダムパターンの作成方法。 16. The method according to claim 15, wherein a diameter of the dot portion corresponding to two colors of R and G is smaller than a diameter of the dot portion corresponding to B color. 請求項16において、穴密度が同一でR及びGの2色に対応する前記基準距離は、B色に対応する前記基準距離よりも小さいことを特徴とするランダムパターンの作成方法。 17. The method according to claim 16, wherein the reference distance corresponding to two colors of R and G having the same hole density is smaller than the reference distance corresponding to B color. 請求項17において、
R及びGの2色に対応する前記ドット部の径は9μmであり、B色に対応する前記ドット部の径は10μmであり、
R及びGの2色に対応する前記基準距離は12μmであり、B色に対応する前記基準距離は13.5μmである
ことを特徴とするランダムパターンの作成方法。

In claim 17,
The diameter of the dot portion corresponding to two colors of R and G is 9 μm, the diameter of the dot portion corresponding to B color is 10 μm,
A method for creating a random pattern, wherein the reference distance corresponding to two colors of R and G is 12 μm, and the reference distance corresponding to B color is 13.5 μm.

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