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JP2005148376A - Film and reflection preventing film - Google Patents

Film and reflection preventing film Download PDF

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JP2005148376A
JP2005148376A JP2003385241A JP2003385241A JP2005148376A JP 2005148376 A JP2005148376 A JP 2005148376A JP 2003385241 A JP2003385241 A JP 2003385241A JP 2003385241 A JP2003385241 A JP 2003385241A JP 2005148376 A JP2005148376 A JP 2005148376A
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JP
Japan
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film
fine particles
refractive index
transparent
layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP2003385241A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hirotsugu Katou
博貢 加藤
Atsushi Kishimoto
淳 岸本
Ryuta Yamaya
竜太 山屋
Takao Hirokado
孝雄 広門
Ryosuke Nakamura
亮輔 中村
Atsumi Wakabayashi
淳美 若林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Osaka Cement Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Osaka Cement Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by Sumitomo Osaka Cement Co Ltd filed Critical Sumitomo Osaka Cement Co Ltd
Priority to JP2003385241A priority Critical patent/JP2005148376A/en
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a film in which film strength and adhesion to a base material are made superior, flexibility is provided and inorganic particulates having no rainbow unevenness on the surfaces and organic binder are included and to provide a reflection preventing film in which adhesion to the base material is made superior by providing a transparent film on the above film, flexibility is provided, no rainbow unevenness is provided and a superior reflection preventing function is provided. <P>SOLUTION: The film includes inorganic particulates and organic binder and the particulates are limitedly provided in the vicinity of one main surface of the film or have a density gradient in the film thickness direction. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、膜及び反射防止膜に関し、更に詳しくは、無機微粒子と有機系バインダーとを含有した膜、及び当該膜上に透明膜を備えた反射防止膜とすることで、膜強度、基材や他の膜に対する密着性、柔軟性、屈曲性等に優れるとともに、帯電防止、電磁波遮蔽、光磁気効果、金属光沢、透明導電性、多層干渉等、様々な電気的特性や光学的特性を付与することが可能であり、特に、プラズマディスプレイ(PDP)、液晶ディスプレイ(LCD)、エレクトロルミネッセントディスプレイ(EL)、ブラウン管(CRT)、プロジェクション(PJTV)等の画像表示装置の表示面等に用いて好適な膜、及び当該膜上に透明膜を備えた反射防止膜に関するものである。   The present invention relates to a film and an antireflection film, and more specifically, a film containing inorganic fine particles and an organic binder, and an antireflection film having a transparent film on the film, thereby improving the film strength and the substrate. In addition to excellent adhesion, flexibility, flexibility, etc., various electrical and optical properties such as antistatic, electromagnetic shielding, magneto-optical effect, metallic luster, transparent conductivity, multilayer interference, etc. In particular, it is used for a display surface of an image display device such as a plasma display (PDP), a liquid crystal display (LCD), an electroluminescent display (EL), a cathode ray tube (CRT), a projection (PJTV), etc. And a suitable film, and an antireflection film having a transparent film on the film.

従来、基材に電気的特性、光学的特性等の各種特性を付与するために、一般に、この基材上に無機微粒子と有機系バインダーとを含有した膜を形成することが行われており、これらの膜においては、膜強度、基材や他の膜に対する密着性、柔軟性、屈曲性等に優れていることが要求される。
しかしながら、従来の無機微粒子と有機系バインダーとを含有した膜では、電気的特性、光学的特性等の各種特性を付与するために用いた無機微粒子が、これら膜強度、基材や他の膜に対する密着性、柔軟性、屈曲性等を低下させるという問題点があった。
Conventionally, in order to impart various characteristics such as electrical characteristics and optical characteristics to a base material, generally, a film containing inorganic fine particles and an organic binder is formed on the base material. These films are required to be excellent in film strength, adhesion to substrates and other films, flexibility, flexibility, and the like.
However, in the conventional film containing inorganic fine particles and an organic binder, the inorganic fine particles used for imparting various characteristics such as electrical characteristics and optical characteristics are affected by the film strength, the substrate and other films. There has been a problem that adhesion, flexibility, flexibility, and the like are lowered.

例えば、従来のプラズマディスプレイ(PDP)、液晶ディスプレイ(LCD)、エレクトロルミネッセントディスプレイ(EL)、ブラウン管(CRT)、プロジェクション(PJTV)等の画像表示装置の画像表示部では、静電気が帯電し易く、この静電気により埃が付着するという問題点や、上記の画像表示部に外部の光あるいは外部影像が反射し、この画像表示部の画像を不明瞭にする等の問題点があり、これらの問題点を解消するために画像表示装置の画像表示部に帯電防止、電磁波遮蔽、反射防止性等の機能を付与する必要がある。   For example, in an image display unit of an image display device such as a conventional plasma display (PDP), liquid crystal display (LCD), electroluminescent display (EL), cathode ray tube (CRT), projection (PJTV), static electricity is easily charged. There are problems such as dust adhering to the static electricity, and external light or external shadow image reflected on the image display unit to obscure the image on the image display unit. In order to eliminate the problem, it is necessary to provide the image display unit of the image display device with functions such as antistatic, electromagnetic wave shielding, and antireflection.

そこで、画像表示部を構成する透明基材の表面に、帯電防止、電磁波遮蔽、反射防止性等の機能を有する膜を形成することが行われている。膜の形成方法としては、蒸着法やスパッタリング法等により成膜する方法や塗工法により膜を形成する方法が挙げられる。いずれの場合においても、膜強度を維持し、クラックの発生等を防止するために、透明基材と膜との間に緩衝層となるハードコート層を形成する方法が採られている。   Therefore, a film having functions such as antistatic, electromagnetic wave shielding, and antireflection properties is formed on the surface of a transparent substrate constituting the image display unit. Examples of the film forming method include a method of forming a film by a vapor deposition method, a sputtering method, and the like, and a method of forming a film by a coating method. In either case, a method of forming a hard coat layer serving as a buffer layer between the transparent base material and the film is employed in order to maintain the film strength and prevent the occurrence of cracks and the like.

ハードコート層を有する構造としては、例えば、透明プラスチック基材上に透明ハードコート層を形成し、この透明ハードコート層上に、蒸着法やスパッタリング法により透明導電膜、透明反射防止膜を順次成膜した構造、あるいは、透明プラスチック基材上に透明ハードコート層を形成し、この透明ハードコート層上に、塗工法により透明導電膜、透明反射防止膜を順次形成した構造等がある。 このハードコート層は、基材上に、金属酸化物微粒子等の無機フィラーと有機系バインダーと有機溶剤等を含む塗料を塗布し、その後、乾燥・硬化させることにより形成することができる。   As a structure having a hard coat layer, for example, a transparent hard coat layer is formed on a transparent plastic substrate, and a transparent conductive film and a transparent antireflection film are sequentially formed on the transparent hard coat layer by vapor deposition or sputtering. There is a filmed structure, or a structure in which a transparent hard coat layer is formed on a transparent plastic substrate, and a transparent conductive film and a transparent antireflection film are sequentially formed on the transparent hard coat layer by a coating method. This hard coat layer can be formed by applying a paint containing an inorganic filler such as metal oxide fine particles, an organic binder, an organic solvent, etc. on a substrate, and then drying and curing.

一方、最近の平板型画像表示装置(フラット型ディスプレイ)においては、大型化、薄型化とともに、さらなる低価格化が求められ、画像表示部に反射防止機能等を付与する場合においても、製造コストのさらなる低減が求められている。そこで、画像表示部の表面に、透明樹脂フィルム等の基材の表面に反射防止膜が形成された反射防止材を貼着した構造のものが提案されている。
さらに、透明基材の表面と各種機能膜との間の密着性を高めるために、この透明基材と各種機能膜との間にハードコート膜を介在させた構造のものが提案されている(特許文献1参照)。
特開2001−21701号公報
On the other hand, recent flat panel display devices (flat displays) are required to be further reduced in price as well as larger and thinner, and the manufacturing cost is reduced even when an anti-reflection function is added to the image display unit. Further reduction is required. Therefore, a structure in which an antireflection material in which an antireflection film is formed on the surface of a base material such as a transparent resin film is attached to the surface of the image display unit has been proposed.
Furthermore, in order to improve the adhesion between the surface of the transparent substrate and the various functional films, a structure in which a hard coat film is interposed between the transparent substrate and the various functional films has been proposed ( Patent Document 1).
JP 2001-21701 A

ところで、従来の無機微粒子と有機系バインダーとを含有した膜、例えば、ハードコート膜には、優れた膜強度、基材との密着性、柔軟性が要求されているが、現在のところ、これらの特性を全て満たすハードコート膜は得られていない。
例えば、従来より用いられている金属酸化物微粒子等の無機フィラーと有機系バインダーと有機溶剤等を含む塗料の場合、さらに膜強度を高めようとすると、より多くの金属酸化物微粒子を添加する必要があるが、金属酸化物微粒子の添加量が多くなると、基材との密着性が低下し、特に基材がプラスチックフィルムやプラスチックシートの場合に密着性が低下し、さらに膜の柔軟性も低下するという問題点があった。
By the way, a film containing conventional inorganic fine particles and an organic binder, for example, a hard coat film, is required to have excellent film strength, adhesion to a substrate, and flexibility. A hard coat film satisfying all of the above characteristics has not been obtained.
For example, in the case of a paint containing a conventional inorganic filler such as metal oxide fine particles, an organic binder, an organic solvent, etc., it is necessary to add more metal oxide fine particles to further increase the film strength. However, when the amount of metal oxide fine particles added increases, the adhesion to the substrate decreases, especially when the substrate is a plastic film or plastic sheet, and the flexibility of the film also decreases. There was a problem of doing.

また、従来のハードコート膜では、この膜自体に起因する表面における色むら、すなわち「表面の虹むら」が発生し、特にディスプレイの画像表示部等に使用した場合、透過画像の視認性に影響を与えるといった問題点があった。さらに、ハードコート膜の上に帯電防止層、電磁波遮蔽層、反射防止層等を形成した場合には、反射光により画像表示部に色むらが発生するという問題点もあった。
例えば、透明プラスチック基材にポリエチレンテレフタレートフィルム(PETF)を用いた反射防止膜付き透明フィルムの場合、3波長蛍光灯下にて表面観察を行うと、強い「表面の虹むら」が生じていることが確認され、外観の品位が低下する等の問題点があった。
また、反射防止性能を発現するために透明高屈折率層、透明低屈折率層の2層からなる反射防止膜が用いられているが、通常の塗布法では、透明高屈折率層、透明低屈折率層の微細な膜厚ぶれに起因する反射防止層表面での「反射色むら」が確認され、外観の品位が低下する等の問題点があった。
In addition, in the conventional hard coat film, color unevenness on the surface due to the film itself, that is, “surface rainbow unevenness” occurs, and particularly when used in an image display part of a display, it affects the visibility of a transmitted image. There was a problem such as giving. Furthermore, when an antistatic layer, an electromagnetic wave shielding layer, an antireflection layer, or the like is formed on the hard coat film, there is a problem that uneven color occurs in the image display portion due to reflected light.
For example, in the case of a transparent film with an antireflection film using a polyethylene terephthalate film (PETF) on a transparent plastic substrate, a strong “rainbow on the surface” occurs when the surface is observed under a three-wavelength fluorescent lamp. There was a problem that the quality of the appearance was lowered.
In addition, an antireflection film consisting of two layers, a transparent high refractive index layer and a transparent low refractive index layer, is used to exhibit antireflection performance. However, in a normal coating method, a transparent high refractive index layer, a transparent low refractive index layer, There were problems such as “reflection color unevenness” on the surface of the antireflection layer due to fine film thickness fluctuation of the refractive index layer, and deterioration in appearance quality.

本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、膜強度及び基材との密着性に優れ、柔軟性を有し、しかも、表面の虹むらのない無機微粒子と有機系バインダーとを含有した膜、及び、この膜上に透明膜を備えることで基材との密着性に優れ、柔軟性を有し、表面の虹むらがなく、しかも、優れた反射防止性能を有する反射防止膜を提供することを目的とする。   The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and is excellent in film strength and adhesion with a substrate, has flexibility, and has an inorganic fine particle having no rainbow unevenness on the surface and an organic system. By including a film containing a binder and a transparent film on this film, it has excellent adhesion to the substrate, has flexibility, has no rainbow unevenness on the surface, and has excellent antireflection performance An object is to provide an antireflection film.

本発明者等は、鋭意検討を行った結果、無機微粒子と有機系バインダーとを含有する膜について、この無機微粒子を膜の一主面近傍に局在させるか、あるいは、無機微粒子が膜の厚み方向に濃度勾配を有することにより、膜強度及び基材との密着性に優れ、柔軟性を有し、しかも、表面の虹むらのない膜が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies, the present inventors have found that the inorganic fine particles are localized in the vicinity of one main surface of the film or the inorganic fine particles are in the thickness of the film. It has been found that by having a concentration gradient in the direction, a film having excellent film strength and adhesion to the substrate, flexibility, and no surface rainbow unevenness can be obtained, and the present invention has been completed. It was.

すなわち、本発明の膜は、無機微粒子と有機系バインダーとを含有してなる膜であって、前記無機微粒子は前記膜の一主面近傍に局在していることを特徴とする。   That is, the film of the present invention is a film containing inorganic fine particles and an organic binder, and the inorganic fine particles are localized near one main surface of the film.

本発明の他の膜は、無機微粒子と有機系バインダーとを含有してなる膜であって、前記無機微粒子は前記膜の厚み方向に濃度勾配を有していることを特徴とする。   Another film of the present invention is a film containing inorganic fine particles and an organic binder, wherein the inorganic fine particles have a concentration gradient in the thickness direction of the film.

これらの膜では、前記膜は塗膜であることが好ましい、
前記膜はハードコート膜であることが好ましい。
前記無機微粒子は金属酸化物微粒子であることが好ましい。
前記無機微粒子の前記膜における含有量は、5重量%以上かつ80重量%以下であることが好ましい。
前記無機微粒子の平均一次粒子径は2nm以上かつ80nm以下であり、かつ、前記膜内における平均分散粒子径は2nm以上かつ100nm以下であることが好ましい。
In these films, the film is preferably a coating film,
The film is preferably a hard coat film.
The inorganic fine particles are preferably metal oxide fine particles.
The content of the inorganic fine particles in the film is preferably 5% by weight or more and 80% by weight or less.
The average primary particle diameter of the inorganic fine particles is preferably 2 nm or more and 80 nm or less, and the average dispersed particle diameter in the film is preferably 2 nm or more and 100 nm or less.

前記膜の両面間の屈折率差は0.05以上であることが好ましい。
前記膜は基材上に形成され、当該膜の前記基材側の面と前記基材との間の屈折率差は0.1以内であることが好ましい。
前記無機微粒子の屈折率は1.45以上かつ2.7以下であることが好ましい。
前記無機微粒子の臨界表面張力と前記有機系バインダーの臨界表面張力との差は5dyne/cm以上であることが好ましい。
前記膜は導電性高分子を含有していることが好ましい。
The difference in refractive index between both surfaces of the film is preferably 0.05 or more.
The film is formed on a substrate, and the difference in refractive index between the substrate-side surface of the film and the substrate is preferably within 0.1.
The refractive index of the inorganic fine particles is preferably 1.45 or more and 2.7 or less.
The difference between the critical surface tension of the inorganic fine particles and the critical surface tension of the organic binder is preferably 5 dyne / cm or more.
The film preferably contains a conductive polymer.

本発明の反射防止膜は、本発明の膜上に1層以上の透明膜を備えてなることを特徴とする。
この反射防止膜では、前記膜の前記透明膜側の面の屈折率は1.50以上かつ1.72以下であることが好ましい。
前記透明膜の少なくとも1層に、最大吸収波長が400nm以上かつ500nm以下、または680nm以上かつ800nm以下の光吸収剤を含有してなることが好ましい。
The antireflection film of the present invention comprises one or more transparent films on the film of the present invention.
In this antireflection film, the refractive index of the surface of the film on the transparent film side is preferably 1.50 or more and 1.72 or less.
It is preferable that at least one layer of the transparent film contains a light absorber having a maximum absorption wavelength of 400 nm to 500 nm, or 680 nm to 800 nm.

前記透明膜の少なくとも1層に、その層厚の1.1倍以上かつ1.6倍以下の平均分散粒子径の球状微粒子を含有していることが好ましい。
前記球状微粒子は、最大吸収波長が400nm以上かつ500nm以下、または680nm以上かつ800nm以下の光吸収剤を含有することが好ましい。
前記球状微粒子の面密度は3個/μm以上かつ30個/μm以下であることが好ましい。
前記透明膜を複数層とし、前記複数層のうち、最も屈折率の低い層の光学膜厚を140nm±30nmの範囲内とし、最も屈折率の高い層の光学膜厚を最も屈折率の低い層の光学膜厚の1.2倍以上かつ2.5倍以下とすることが好ましい。
It is preferable that at least one layer of the transparent film contains spherical fine particles having an average dispersed particle diameter of 1.1 times or more and 1.6 times or less of the layer thickness.
The spherical fine particles preferably contain a light absorber having a maximum absorption wavelength of 400 nm to 500 nm, or 680 nm to 800 nm.
The surface density of the spherical fine particles is preferably 3 / μm 2 or more and 30 / μm 2 or less.
The transparent film has a plurality of layers, and the optical film thickness of the lowest refractive index layer in the plurality of layers is within a range of 140 nm ± 30 nm, and the optical film thickness of the highest refractive index layer is the lowest refractive index layer. The optical film thickness is preferably 1.2 times or more and 2.5 times or less.

前記透明膜の少なくとも1層に、オルガノシロキサンまたはフルオロ炭素化合物を含有していることが好ましい。
前記オルガノシロキサンまたはフルオロ炭素化合物は、アルキル基、イソシアネート基、エポキシ基、アクリル基、アルキル珪素化合物の群から選択された1種または2種以上により変性されていることが好ましい。
前記オルガノシロキサンの主鎖の珪素数は3以上かつ15以下が好ましい。
前記フルオロ炭素化合物の炭素数は3以上かつ10以下が好ましい。
It is preferable that at least one layer of the transparent film contains an organosiloxane or a fluorocarbon compound.
The organosiloxane or fluorocarbon compound is preferably modified with one or more selected from the group of alkyl groups, isocyanate groups, epoxy groups, acrylic groups, and alkyl silicon compounds.
The number of silicon atoms in the main chain of the organosiloxane is preferably 3 or more and 15 or less.
The fluorocarbon compound preferably has 3 or more and 10 or less carbon atoms.

本発明の膜によれば、無機微粒子と有機系バインダーとを含有してなる膜中の前記無機微粒子を、前記膜の一主面近傍に局在させたので、この膜の一主面近傍を除く部分においては無機微粒子が存在しなくなり、その結果、有機系バインダーのみとなる。したがって、この膜自体の柔軟性を高めることができる。
また、無機微粒子の含有量が少なくても必要な膜強度を得ることができ、また、無機微粒子の含有量が多くても優れた密着性及び柔軟性を得ることができ、さらに、表面の虹むらを無くすことができる。
According to the film of the present invention, the inorganic fine particles in the film containing the inorganic fine particles and the organic binder are localized near one main surface of the film. In the removed portion, the inorganic fine particles are not present, and as a result, only the organic binder is obtained. Therefore, the flexibility of the film itself can be increased.
Further, the required film strength can be obtained even when the content of the inorganic fine particles is small, and excellent adhesion and flexibility can be obtained even when the content of the inorganic fine particles is large. Unevenness can be eliminated.

本発明の他の膜によれば、無機微粒子と有機系バインダーとを含有してなる膜中の前記無機微粒子を、前記膜の厚み方向に濃度勾配を有することとしたので、この膜の一方の側の無機微粒子の濃度を低下させることで、相対的に有機系バインダーの含有量を高めることができる。したがって、この膜自体の柔軟性を高めることができる。
また、無機微粒子の含有量が少なくても必要な膜強度を得ることができ、また、無機微粒子の含有量が多くても優れた密着性及び柔軟性を得ることができ、さらに、表面の虹むらを無くすことができる。
According to another film of the present invention, the inorganic fine particles in the film containing the inorganic fine particles and the organic binder have a concentration gradient in the thickness direction of the film. By reducing the concentration of the inorganic fine particles on the side, the content of the organic binder can be relatively increased. Therefore, the flexibility of the film itself can be increased.
Further, the required film strength can be obtained even when the content of the inorganic fine particles is small, and excellent adhesion and flexibility can be obtained even when the content of the inorganic fine particles is large. Unevenness can be eliminated.

本発明の反射防止膜によれば、本発明の膜上に1層以上の透明膜を備えたので、基材との密着性、柔軟性に優れた上に、反射防止効果に優れたものとすることができる。   According to the antireflection film of the present invention, since one or more transparent films are provided on the film of the present invention, the film has excellent adhesion and flexibility with the substrate, and also has an excellent antireflection effect. can do.

本発明の膜及び反射防止膜を実施するための最良の形態について説明する。
なお、この形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。
The best mode for carrying out the film and the antireflection film of the present invention will be described.
This embodiment is specifically described for better understanding of the gist of the invention, and does not limit the present invention unless otherwise specified.

[膜]
本発明の膜は、無機微粒子と有機系バインダーとを含有してなる膜であって、次の(1)、(2)のいずれかからなる膜である。
(1)無機微粒子を膜の一主面近傍に局在させたもの。
(2)無機微粒子が膜の厚み方向に濃度勾配を有しているもの。
これらの膜は、塗膜、ハードコート膜のいずれかであることが好ましい。
[film]
The film of the present invention is a film containing inorganic fine particles and an organic binder, and is a film composed of any one of the following (1) and (2).
(1) Inorganic fine particles localized near one main surface of the film.
(2) The inorganic fine particles have a concentration gradient in the thickness direction of the film.
These films are preferably either a coating film or a hard coat film.

ここで、「無機微粒子を膜の一主面近傍に局在させた」とは、無機微粒子が膜内全体に存在するのではなく、膜内の上側または下側の表面部分(一主面近傍)に無機微粒子が他の部分に比べて高濃度に存在していることをいう。表面部分とは、表面から膜厚の15%以内の部分をいう。
また、表面から膜厚の15%の範囲内に無機微粒子が50%以上存在することが好ましく、表面から膜厚の10%の範囲内に無機微粒子の70%以上が存在することがさらに好ましい。
Here, “the inorganic fine particles are localized in the vicinity of one main surface of the film” means that the inorganic fine particles do not exist in the entire film, but the upper or lower surface portion in the film (near the main surface). ) Means that the inorganic fine particles are present at a higher concentration than other portions. The surface portion means a portion within 15% of the film thickness from the surface.
Further, it is preferable that 50% or more of the inorganic fine particles exist within a range of 15% of the film thickness from the surface, and more preferably 70% or more of the inorganic fine particles exist within a range of 10% of the film thickness from the surface.

さらに、表面から膜厚の15%の範囲内に全ての無機微粒子が存在することが好ましく、表面から膜厚の10%の範囲内に全ての無機微粒子が存在することがさらに好ましい。この場合、ほぼ全ての無機微粒子が上記の範囲内に存在していればよく、ごく微量の無機微粒子が上記の範囲外に存在したとしても、本発明の効果を妨げるものではない。   Furthermore, it is preferable that all inorganic fine particles exist within a range of 15% of the film thickness from the surface, and it is further preferable that all inorganic fine particles exist within a range of 10% of the film thickness from the surface. In this case, it is sufficient that almost all of the inorganic fine particles exist within the above range, and even if a very small amount of inorganic fine particles exist outside the above range, the effect of the present invention is not hindered.

また、「無機微粒子が膜の厚み方向に濃度勾配を有している」とは、膜内における無機微粒子の濃度が、当該膜の一方の主面から他方の主面に向かって連続的に、または段階的に、増加または減少している状態、あるいは、当該膜の一方の主面から他方の主面に向かって連続的に、または段階的に、変化している状態をいう。   Moreover, “the inorganic fine particles have a concentration gradient in the thickness direction of the film” means that the concentration of the inorganic fine particles in the film is continuously from one main surface of the film toward the other main surface, Or the state which is increasing or decreasing stepwise, or the state which is changing continuously from one main surface of the film to the other main surface or stepwise.

膜には、優れた膜強度、基材との密着性、柔軟性が要求されるが、本発明の膜では、無機微粒子と有機系バインダーとを含有するものとし、この無機微粒子の膜中における状態を、膜の一主面近傍に局在させるか、膜の厚み方向に濃度勾配を有することとしたので、優れた膜強度、基材との密着性、柔軟性を有するものとなる。   The film is required to have excellent film strength, adhesion to the substrate, and flexibility. However, the film of the present invention contains inorganic fine particles and an organic binder. Since the state is localized in the vicinity of one principal surface of the film or has a concentration gradient in the thickness direction of the film, the film has excellent film strength, adhesion to the substrate, and flexibility.

すなわち、本発明の膜は、無機微粒子を前記膜の一主面近傍に局在、例えば、無機微粒子を基材と反対側の面の近傍に局在させることにより、基材と膜とが接する部分は有機系バインダーのみとなり、基材と強固に密着することができる。
また、無機微粒子が前記膜の厚み方向に濃度勾配を有する場合には、例えば、基材と反対側の面から基材側の面に向かって無機微粒子の濃度を減少させることにより、基材と膜とが接する部分は有機系バインダーの割合が多くなり、基材と強固に密着することができる。
これは、特に、基材がプラスチックシートやプラスチックフィルムの場合に顕著である。
That is, in the film of the present invention, the inorganic fine particles are localized in the vicinity of one main surface of the film, for example, the inorganic fine particles are localized in the vicinity of the surface on the opposite side of the substrate, whereby the substrate and the film are in contact. The portion is only an organic binder, and can be firmly adhered to the substrate.
When the inorganic fine particles have a concentration gradient in the thickness direction of the film, for example, by reducing the concentration of the inorganic fine particles from the surface opposite to the substrate toward the substrate side, The portion in contact with the film increases the proportion of the organic binder, and can be firmly adhered to the substrate.
This is particularly noticeable when the substrate is a plastic sheet or a plastic film.

また、これらの場合、基材と反対側の面は無機微粒子の割合が多くなるため、膜の強度、表面の硬度が高くなる。また、これらの膜は、上記の様な構造をとるため、柔軟性に優れたものとなる。したがって、本発明の膜は、無機微粒子の含有量が少ない場合であっても膜強度の高いものとなり、基材との密着性、柔軟性に優れた膜となる。   In these cases, the surface on the side opposite to the base material has a higher proportion of inorganic fine particles, so that the strength of the film and the hardness of the surface are increased. Moreover, since these films have the above-described structure, they are excellent in flexibility. Therefore, the film of the present invention has high film strength even when the content of inorganic fine particles is small, and becomes a film excellent in adhesion to the substrate and flexibility.

さらに、本発明の膜をハードコート膜として用いた場合、無機微粒子の含有量が少ない場合であっても、膜強度、基材との密着性、柔軟性に優れるという特性を満たすため、ハードコート膜として非常に優れたものとなる。
また、ハードコート膜に透明性が要求される場合においても、透明性に影響を与える無機微粒子の含有量が少なくてすむので、透明性にも優れたハードコート膜となる。
Furthermore, when the film of the present invention is used as a hard coat film, even if the content of inorganic fine particles is small, the hard coat is satisfied in order to satisfy the characteristics of excellent film strength, adhesion to a substrate, and flexibility. It becomes a very excellent film.
Further, even when transparency is required for the hard coat film, the content of the inorganic fine particles that affect the transparency can be reduced, so that the hard coat film is excellent in transparency.

無機微粒子としては、例えば、金、銀、白金、銅、ニッケル、アルミニウム、錫、アンチモン、マンガン、亜鉛等の金属微粒子、炭素、ケイ素、モリブデン、タングステン等の非金属微粒子、あるいは、これらの元素の酸化物、窒化物、炭化物、ハロゲン化物等が挙げられるが、中でも、金属酸化物微粒子が好ましい。
これらの無機微粒子としては、特に膜強度を高める観点から、例えば、酸化アルミニウム、酸化アンチモン、酸化錫、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化セリウム、酸化チタン等の金属酸化物微粒子、酸化ケイ素、酸化モリブデン、酸化タングステン等の非金属酸化物微粒子等を用いることができる。また、これらの金属酸化物微粒子あるいは非金属酸化物微粒子を含む膜をハードコート層とする場合、着色することなく、透明性に優れたハードコート層を形成し得る。
Examples of inorganic fine particles include metal fine particles such as gold, silver, platinum, copper, nickel, aluminum, tin, antimony, manganese and zinc, non-metallic fine particles such as carbon, silicon, molybdenum and tungsten, or these elements. Examples include oxides, nitrides, carbides, halides, etc. Among them, metal oxide fine particles are preferable.
As these inorganic fine particles, for example, from the viewpoint of increasing the film strength, for example, metal oxide fine particles such as aluminum oxide, antimony oxide, tin oxide, zirconium oxide, tantalum oxide, cerium oxide, titanium oxide, silicon oxide, molybdenum oxide, Non-metal oxide fine particles such as tungsten oxide can be used. Further, when a film containing these metal oxide fine particles or non-metal oxide fine particles is used as a hard coat layer, a hard coat layer excellent in transparency can be formed without being colored.

無機微粒子の膜中における含有量は5重量%以上かつ80重量%以下が好ましく、さらに好ましくは5重量%以上かつ60重量%以下である。
無機微粒子の含有量が5重量%未満であると、十分な膜強度が得られない虞があり、また、その含有量が80重量%を超えると、基材との密着性や柔軟性が低下する虞があるからであり、特に、この膜をハードコート膜とした場合に透明性が要求される場合には、光の透過性が低下する虞があるからである。
The content of the inorganic fine particles in the film is preferably 5% by weight or more and 80% by weight or less, more preferably 5% by weight or more and 60% by weight or less.
If the content of the inorganic fine particles is less than 5% by weight, sufficient film strength may not be obtained. If the content exceeds 80% by weight, the adhesion and flexibility with the substrate are reduced. This is because, in particular, when the film is a hard coat film, if transparency is required, the light transmittance may be reduced.

無機微粒子の平均一次粒子径は2nm以上かつ80nm以下が好ましく、かつ、膜内における平均分散粒子径は2nm以上かつ100nm以下が好ましい。
無機微粒子の平均分散粒子径が100nmを超えると、この無機微粒子を含む膜がレイリー散乱により光を著しく散乱させることにより、白く見えるようになり、したがって、膜の透明性が低下するからである。
この無機微粒子の屈折率は1.45以上かつ2.7以下が好ましい。
その理由は、この無機微粒子を含む膜の上に他の透明膜を積層して反射防止膜とする際に、反射防止効果が得やすいからである。
The average primary particle diameter of the inorganic fine particles is preferably 2 nm or more and 80 nm or less, and the average dispersed particle diameter in the film is preferably 2 nm or more and 100 nm or less.
This is because if the average dispersed particle size of the inorganic fine particles exceeds 100 nm, the film containing the inorganic fine particles appears to be white due to the significant scattering of light by Rayleigh scattering, and thus the transparency of the film is lowered.
The refractive index of the inorganic fine particles is preferably 1.45 or more and 2.7 or less.
This is because an antireflection effect is easily obtained when another transparent film is laminated on the film containing inorganic fine particles to form an antireflection film.

有機系バインダーとしては、例えば、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂、カチオン重合系樹脂、熱硬化型樹脂等を適宜選択使用することができる。
中でも、紫外線硬化型樹脂は、安価で入手可能であり、基材、特に透明プラスチック基材との密着性に優れていることから、好適に用いられる。
この紫外線硬化型樹脂は、塗工法(ウエットコーティング法)に用いられる感光性の樹脂であればよく、例えば、アクリル系、アクリルウレタン系、シリコーン系、エポキシ系等の感光性樹脂が無機微粒子の分散性を損なうことがない等の理由により好適に用いられる。
As the organic binder, for example, an ultraviolet curable resin, an electron beam curable resin, a cationic polymerization resin, a thermosetting resin, and the like can be appropriately selected and used.
Among them, the ultraviolet curable resin is preferably used because it is available at low cost and has excellent adhesion to a substrate, particularly a transparent plastic substrate.
The ultraviolet curable resin may be a photosensitive resin used in a coating method (wet coating method). For example, an acrylic resin, an acrylic urethane resin, a silicone resin, an epoxy resin, or the like is used to disperse inorganic fine particles. It is preferably used for reasons such as not impairing the properties.

当該膜の両面間の屈折率差は0.05以上であることが好ましい。
その理由は、当該膜の上に他の透明膜を積層して反射防止膜とする場合、当該膜も反射防止効果に寄与することができるからである。
この膜は、上記(1)、(2)のいずれかの構成とすることで、優れた膜強度、基材との密着性、柔軟性、透明性を得ることができる。
The difference in refractive index between both surfaces of the film is preferably 0.05 or more.
The reason is that when another transparent film is laminated on the film to form an antireflection film, the film can also contribute to the antireflection effect.
By adopting any one of the constitutions (1) and (2), this film can obtain excellent film strength, adhesion to a substrate, flexibility, and transparency.

[膜付き基材]
上記の膜を基材上に直接形成するか、あるいは他の層を介して形成することにより、膜付き基材が得られる。
この基材としては、特に限定されず、ガラス基材、プラスチック基材等が用いられるが、プラスチックシートやプラスチックフィルム等のプラスチック基材が好ましい。このプラスチック基材としては、透明プラスチックシートや透明プラスチックフィルム等の透明プラスチック基材が好ましい。
[Substrate with film]
A substrate with a film can be obtained by forming the film directly on the substrate or through another layer.
The substrate is not particularly limited, and a glass substrate, a plastic substrate, or the like is used, but a plastic substrate such as a plastic sheet or a plastic film is preferable. The plastic substrate is preferably a transparent plastic substrate such as a transparent plastic sheet or a transparent plastic film.

このプラスチック基材の材質としては、特に限定されるものではないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート(PC)、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリアクレリート、ノルボンネン系樹脂、非晶質ポリオレフィン系樹脂等から適宜選択することができる。また、このプラスチック基材の厚みも特段限定されることなく、フィルムであれば通常50〜250μm、シートであれば10mm程度のものまでが使用される。   The material of the plastic substrate is not particularly limited. For example, polyethylene terephthalate (PET), triacetyl cellulose, polycarbonate (PC), polyethersulfone (PES), polyacrylate, norbornene resin, It can be appropriately selected from amorphous polyolefin-based resins and the like. Further, the thickness of the plastic substrate is not particularly limited, and a film having a thickness of about 50 to 250 μm is usually used for a film and a sheet having a thickness of about 10 mm is used for a sheet.

この膜付き基材においては、当該膜の基材側の面と基材との間の屈折率の差は0.1以内であることが好ましい。
これは、反射スペクトルにおいて、基材の屈折率と該基材上に形成される膜との間の屈折率差が大きい場合、リップル(反射率の振幅の差)が発生し、このリップルに起因して「表面の虹むら」が生じるからである。
この表面の虹むらは、3波長蛍光灯を用いて表面観察を行うことにより、顕著に観察される。ここで、3波長蛍光灯とは、メーカーにより若干の発光スペクトルの差があるが、色の3原色である赤色、緑色、青色の波長スペクトルを混合することで白色光を得るものである。
In this film-coated substrate, the difference in refractive index between the substrate-side surface of the film and the substrate is preferably within 0.1.
This is because when the refractive index difference between the refractive index of the substrate and the film formed on the substrate is large in the reflection spectrum, a ripple (difference in the amplitude of the reflectance) is generated. This is because “rainbow on the surface” occurs.
This surface rainbow spot is noticeable when the surface is observed using a three-wavelength fluorescent lamp. Here, the three-wavelength fluorescent lamp has a slight difference in emission spectrum depending on the manufacturer, but obtains white light by mixing the wavelength spectra of the three primary colors red, green, and blue.

この3波長蛍光灯を光源として膜の表面観察を行うと、赤色、緑色、青色の反射光が干渉し合う結果として、表面の虹むらが観察される。
この表面の虹むらを小さくする、または発生させないためには、基材と膜の屈折率を同じ値にするか、または同じ値に近づけることで、リップルの差を小さくすることが好ましい。すなわち、基材上に形成される膜の基材側の屈折率と、基材の表面における平均屈折率との差は0.1以内であることが好ましい。
When the surface of the film is observed using this three-wavelength fluorescent lamp as a light source, rainbow unevenness on the surface is observed as a result of interference of reflected light of red, green, and blue.
In order to reduce or prevent the occurrence of rainbow unevenness on the surface, it is preferable to reduce the difference in ripple by setting the refractive indexes of the substrate and the film to the same value or approaching the same value. That is, the difference between the refractive index on the substrate side of the film formed on the substrate and the average refractive index on the surface of the substrate is preferably within 0.1.

ただし、易接着層付きPET基材上に透明膜を形成した場合、このPET基材上に形成される透明膜の屈折率を、以下の式(1)にて算出される屈折率に調整する、または近づけることが好ましい。
N=Np−(Ns−Np)/2 …(1)
ただし、N:透明膜の屈折率
Np:易接着層の屈折率
Ns:PET基材の表面平均屈折率
However, when a transparent film is formed on a PET substrate with an easy adhesion layer, the refractive index of the transparent film formed on this PET substrate is adjusted to the refractive index calculated by the following formula (1). Or close.
N = Np- (Ns-Np) / 2 (1)
N: Refractive index of transparent film
Np: Refractive index of the easily adhesive layer
Ns: Average surface refractive index of PET substrate

この膜付き基材では、無機微粒子を膜の一主面近傍に局在させるか、あるいは、無機微粒子を膜の厚み方向に濃度勾配を有することにより、膜の屈折率を調整することができ、膜の屈折率を基材の屈折率に近づけることができる。さらに、この膜は、基材側から該基材と反対側に向かって屈折率が変化するため、リップルの差が小さくなり、基材の屈折率と該基材上に形成される膜の屈折率との差に起因する「表面の虹むら」を緩和、低減することができる。
例えば、基材に透明プラスチック基材を使用し、該基材上に本発明の膜、透明高屈折率層を順次形成した場合、当該膜の屈折率を透明プラスチック基材側から透明高屈折率層側へ徐々に高くすることができ、「表面の虹むら」を緩和、低減することができる。
In this film-coated substrate, the refractive index of the film can be adjusted by localizing the inorganic fine particles in the vicinity of one main surface of the film or by having a concentration gradient in the thickness direction of the inorganic fine particles. The refractive index of the film can be made close to the refractive index of the substrate. Furthermore, since the refractive index of this film changes from the base material side toward the side opposite to the base material, the difference in ripple is reduced, and the refractive index of the base material and the refraction of the film formed on the base material are reduced. “Rainbow unevenness” caused by the difference from the rate can be reduced and reduced.
For example, when a transparent plastic substrate is used as the substrate and the film of the present invention and the transparent high refractive index layer are sequentially formed on the substrate, the refractive index of the film is changed from the transparent plastic substrate side to the transparent high refractive index. It can be gradually increased to the layer side, and "rainbow on the surface" can be reduced and reduced.

この膜付き基材では、無機微粒子の臨界表面張力と有機系バインダーの臨界表面張力との差は5dyne/cm以上であることが好ましい。
膜を構成する無機微粒子の臨界表面張力を、当該膜を構成する有機系バインダーの臨界表面張力より5dyne/cm以上大きく、または5dyne/cm以上小さくすることにより、この無機微粒子は膜の表面部分に局在するか、あるいは膜の厚み方向に濃度勾配を有するようになる。
In the substrate with a film, the difference between the critical surface tension of the inorganic fine particles and the critical surface tension of the organic binder is preferably 5 dyne / cm or more.
By making the critical surface tension of the inorganic fine particles constituting the film 5 dyne / cm or more smaller than the critical surface tension of the organic binder constituting the film, the inorganic fine particles are formed on the surface portion of the film. It becomes localized or has a concentration gradient in the thickness direction of the film.

この無機微粒子の臨界表面張力は、該無機微粒子の表面を界面活性剤等の表面処理剤(あるいは表面改質剤)を用いて表面処理(あるいは表面改質)することにより調整することができる。表面処理剤(あるいは表面改質剤)としては、特に限定するわけではないが、HLB値が4以下または10以上のノニオン系界面活性剤、直鎖アルキル基を有するカチオン系界面活性剤等が挙げられる。   The critical surface tension of the inorganic fine particles can be adjusted by subjecting the surface of the inorganic fine particles to surface treatment (or surface modification) using a surface treatment agent (or surface modifier) such as a surfactant. Although it does not necessarily limit as a surface treating agent (or surface modifier), Nonionic surfactant whose HLB value is 4 or less or 10 or more, cationic surfactant which has a linear alkyl group, etc. are mentioned. It is done.

このような表面処理(あるいは表面改質)を行うことにより、塗工法で基材上に膜を形成する場合に、塗布後の乾燥時に溶媒が蒸発する際、分散系が変化し、表面処理(あるいは表面改質)を行った無機微粒子と有機系バインダーとのなじみが悪くなり、無機微粒子が有機系バインダーから押し出されるために、無機微粒子が局在または濃度勾配を有するものとなる。
ここで、無機微粒子が基材側に局在しない、あるいは基材側の濃度が低くなる理由は、基材と有機系バインダーとのなじみが良好であることにより、先に基材面に有機系バインダーのリッチな部分が形成されるからである。
By performing such surface treatment (or surface modification), when a film is formed on a substrate by a coating method, the dispersion system changes when the solvent evaporates during drying after coating, and the surface treatment ( Alternatively, the familiarity between the inorganic fine particles subjected to surface modification) and the organic binder deteriorates, and the inorganic fine particles are extruded from the organic binder, so that the inorganic fine particles have a locality or a concentration gradient.
Here, the reason why the inorganic fine particles are not localized on the substrate side or the concentration on the substrate side is low is that the familiarity between the substrate and the organic binder is good, and the organic surface is first applied to the substrate surface. This is because a rich portion of the binder is formed.

本発明の膜は、導電性高分子を含有してもよい。
当該膜が導電性高分子を含有することにより、導電性をも有することとなり、帯電防止性能、電磁波遮蔽性能をも有する膜となる。
導電性高分子としては、特に制限されないが、取り扱いの容易さ等を考慮すると、塗工法(ウエットコーティング法)に用いられる感光性の導電性樹脂、例えば、紫外線硬化型導電性樹脂が好ましい。
The film of the present invention may contain a conductive polymer.
When the film contains a conductive polymer, the film also has conductivity and becomes a film having antistatic performance and electromagnetic wave shielding performance.
Although it does not restrict | limit especially as a conductive polymer, When the ease of handling etc. are considered, the photosensitive conductive resin used for the coating method (wet coating method), for example, an ultraviolet curable conductive resin, is preferable.

この紫外線硬化型導電性樹脂としては、例えば、チオール基、ピロール基またはイオン導電性材料を含有するアクリル系、アクリルウレタン系、シリコーン系、エポキシ系等の樹脂が、透明プラスチック基材との密着性に優れ、当該膜に含まれる無機微粒子の分散性を損なうことがない等の理由から好適に用いられる。
この紫外線硬化型導電性樹脂を用いることにより、膜を形成する際においても高い温度で加熱する必要がない。また、基材に透明プラスチック基材を用いる場合には、基材に影響を与えることなく膜を形成することができる。
当該膜に導電性高分子を含有させて導電膜とした場合、この導電膜の表面抵抗値は1×1011Ω/□以下が好ましい。
この様にして得られた本発明の膜は、ハードコート膜として好適である。
As this ultraviolet curable conductive resin, for example, an acrylic, acrylurethane, silicone, or epoxy resin containing a thiol group, a pyrrole group, or an ion conductive material is used for adhesion to a transparent plastic substrate. And is preferably used for the reason that the dispersibility of the inorganic fine particles contained in the film is not impaired.
By using this ultraviolet curable conductive resin, it is not necessary to heat at a high temperature when forming a film. Moreover, when using a transparent plastic base material for a base material, a film | membrane can be formed, without affecting a base material.
When a conductive polymer is contained in the film to form a conductive film, the surface resistance value of the conductive film is preferably 1 × 10 11 Ω / □ or less.
The film of the present invention thus obtained is suitable as a hard coat film.

また、本発明の膜上に、他の透明膜を形成してもよい。
例えば、本発明の膜をハードコート膜とし、このハードコート膜上に屈折率を調整した他の透明膜を形成することにより、多層反射防止膜が得られる。
また、本発明の膜上に、反射防止機能以外の機能を付与するための透明膜を形成してもよい。例えば、本発明の膜上に「高屈折率層」、「低屈折率層」を順次形成することにより、優れた反射防止機能を有する2層構造の反射防止膜を得ることができる。
Further, another transparent film may be formed on the film of the present invention.
For example, a multilayer antireflection film can be obtained by using the film of the present invention as a hard coat film and forming another transparent film having a refractive index adjusted on the hard coat film.
Moreover, you may form the transparent film for providing functions other than an antireflection function on the film | membrane of this invention. For example, an antireflection film having a two-layer structure having an excellent antireflection function can be obtained by sequentially forming a “high refractive index layer” and a “low refractive index layer” on the film of the present invention.

[反射防止膜]
本発明の膜上に1層以上の透明膜を形成することにより、反射防止膜が得られる。
ここでは、基材上にハードコート膜を形成し、このハードコート膜上に、透明膜として、透明高屈折率層、透明低屈折率層を順次形成した反射防止膜を例にとり説明する。
[Antireflection film]
An antireflection film can be obtained by forming one or more transparent films on the film of the present invention.
Here, a description will be given by taking as an example an antireflection film in which a hard coat film is formed on a substrate and a transparent high refractive index layer and a transparent low refractive index layer are sequentially formed on the hard coat film as a transparent film.

「ハードコート膜」
ハードコート膜は、無機微粒子を該ハードコート膜の一主面近傍に局在させるか、あるいは、無機微粒子が該ハードコート膜の厚み方向に濃度勾配を有することとしたことにより、ハードコート膜の両面間に屈折率の差を設けることが可能となる。
"Hard coat film"
In the hard coat film, the inorganic fine particles are localized in the vicinity of one main surface of the hard coat film, or the inorganic fine particles have a concentration gradient in the thickness direction of the hard coat film. It is possible to provide a difference in refractive index between both surfaces.

この両面間の屈折率の差は0.05以上あることが好ましい。これは、ハードコート膜が0.05以上の屈折率の差を両面間で有することにより、反射防止効果においてハードコート膜が中屈折率層に相当する膜となるからである。
ここで、中屈折率層とは、高屈折率層の屈折率と低屈折率層の屈折率との間の屈折率を有する層のことである。この中屈折率層の屈折率は、反射防止膜の高屈折率層と低屈折率層それぞれの光学的特性にもよるが、この中屈折率層の屈折率は、これらの層の中間値を取ることが望ましい。
The difference in refractive index between both surfaces is preferably 0.05 or more. This is because the hard coat film has a refractive index difference of 0.05 or more between the both surfaces, so that the hard coat film becomes a film corresponding to the middle refractive index layer in the antireflection effect.
Here, the medium refractive index layer is a layer having a refractive index between the refractive index of the high refractive index layer and the refractive index of the low refractive index layer. The refractive index of the middle refractive index layer depends on the optical characteristics of the high refractive index layer and the low refractive index layer of the antireflection film, but the refractive index of the middle refractive index layer is an intermediate value between these layers. It is desirable to take.

例えば、ハードコート膜上に、透明高屈折率層、透明低屈折率層を順次形成した場合、ハードコート膜の基材と反対側(透明高屈折率層側)の屈折率は1.50以上かつ1.72以下が好ましい。これにより、この反射防止膜は、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層の3層構造に相当する構成となり、反射スペクトルにおいては可視光反射底部を幅広く得ることが可能となる。   For example, when a transparent high refractive index layer and a transparent low refractive index layer are sequentially formed on the hard coat film, the refractive index on the side opposite to the base material of the hard coat film (transparent high refractive index layer side) is 1.50 or more. And 1.72 or less is preferable. As a result, the antireflection film has a structure corresponding to a three-layer structure of a medium refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer, and a visible light reflection bottom can be widely obtained in the reflection spectrum.

このハードコート膜は、基材側の面の屈折率と基材との屈折率との差が0.1以内であることが好ましい。その理由は、このハードコート膜と前記基材との間の屈折率差が0.1より大きくなると、反射スペクトルを測定する際に反射率の振幅(以下、リップルと称す)が発生し、このリップルに起因する表面の虹むらが生じるからである。   In this hard coat film, the difference between the refractive index of the substrate-side surface and the refractive index of the substrate is preferably within 0.1. The reason is that when the refractive index difference between the hard coat film and the substrate is greater than 0.1, the reflectance amplitude (hereinafter referred to as ripple) occurs when measuring the reflection spectrum. This is because surface rainbow unevenness due to ripples occurs.

このハードコート膜では、上記の構成により膜内での屈折率の連続的な傾斜が生じており、このハードコート膜の基材側から透明高屈折率層側へ屈折率が徐々に高くなるため、反射スペクトルを測定するとリップルの差が小さくなり、基材とハードコート膜の屈折率差に起因する「表面の虹むら」の緩和、低減が可能になる。   In this hard coat film, the refractive index in the film has a continuous gradient due to the above configuration, and the refractive index gradually increases from the substrate side to the transparent high refractive index layer side of the hard coat film. When the reflection spectrum is measured, the difference in ripple becomes small, and “surface rainbow unevenness” caused by the difference in refractive index between the base material and the hard coat film can be reduced and reduced.

「透明高屈折率層」
透明高屈折率層は、シリコンアルコキシドおよび/またはその加水分解生成物からなる層、または、これらに由来するシリカのマトリックス中に高屈折率酸化物微粒子を固定化した層が用いられる。
"Transparent high refractive index layer"
As the transparent high refractive index layer, a layer made of silicon alkoxide and / or a hydrolysis product thereof, or a layer in which high refractive index oxide fine particles are fixed in a silica matrix derived therefrom is used.

上記のシリコンアルコキシドとしては、テトラエトキシシラン(Si(OC)、テトラメトキシシラン(Si(OCH)等のテトラアルコキシシラン系化合物、アルキルトリアルコキシシラン系化合物等が好適に用いられる。
また、高屈折率酸化物微粒子としては、アンチモン含有酸化錫(ATO)、錫含有酸化インジウム(ITO)、アルミニウム含有酸化亜鉛、アンチモン含有酸化インジウム(AIO)、酸化セリウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化タンタル等の金属酸化物微粒子が透明性に優れた透明高屈折率層を形成することができ、好適に用いられる。
Preferred examples of the silicon alkoxide include tetraalkoxysilane compounds such as tetraethoxysilane (Si (OC 2 H 5 ) 4 ) and tetramethoxysilane (Si (OCH 3 ) 4 ), alkyltrialkoxysilane compounds, and the like. Used.
The high refractive index oxide fine particles include antimony-containing tin oxide (ATO), tin-containing indium oxide (ITO), aluminum-containing zinc oxide, antimony-containing indium oxide (AIO), cerium oxide, zinc oxide, zirconium oxide, and oxidation. Metal oxide fine particles such as titanium and tantalum oxide can form a transparent high refractive index layer excellent in transparency and are preferably used.

この高屈折率酸化物微粒子の平均一次粒子径は、1nm以上かつ100nm以下であることが好ましい。その理由は、平均一次粒子径が1nm未満では、塗工法により膜を形成する際に、塗料化時に凝集を起こし易く、塗料化するための均一な分散が困難になり、さらに塗料の粘度が増大し、分散不良が生じるからであり、また、平均一次粒子径が100nmを超えると、得られる高屈折率層がレイリー散乱によって著しく光を乱反射させるため、白く見えるようになってしまい、透明性が低下するからである。   The average primary particle diameter of the high refractive index oxide fine particles is preferably 1 nm or more and 100 nm or less. The reason is that when the average primary particle size is less than 1 nm, when forming a film by a coating method, it tends to agglomerate at the time of coating, making it difficult to uniformly disperse the coating, and further increasing the viscosity of the coating. In addition, when the average primary particle diameter exceeds 100 nm, the resulting high refractive index layer remarkably diffuses light due to Rayleigh scattering, so that it appears white, and transparency is high. It is because it falls.

この透明高屈折率層における高屈折率酸化物微粒子の含有量は50重量%以上が好ましく、さらに好ましくは60〜95重量%である。その理由は、高屈折率酸化物微粒子の含有量が50重量%未満では、相対的にシリコンアルコキシドおよび/またはその加水分解生成物、またはこれらに由来するシリカの含有量が増加するために屈折率の低下が生じ、充分な高屈折率層が得られず、反射率が増大するからであり、また、高屈折率酸化物微粒子の含有量が95重量%を超えると、シリコンアルコキシドおよび/またはその加水分解生成物、またはこれらに由来するシリカのマトリックス中に高屈折率酸化物微粒子を固定化することができず、この透明高屈折率層上に透明低屈折率層を形成する際に傷が入り易くなり、外観不良を起こすことになるからである。
この透明高屈折率層の屈折率としては、1.6〜2.0が好ましい。
The content of the high refractive index oxide fine particles in the transparent high refractive index layer is preferably 50% by weight or more, more preferably 60 to 95% by weight. The reason for this is that when the content of the high refractive index oxide fine particles is less than 50% by weight, the content of silicon alkoxide and / or its hydrolysis product or silica derived therefrom is relatively increased. This is because a sufficient high refractive index layer cannot be obtained and the reflectance increases, and when the content of the high refractive index oxide fine particles exceeds 95% by weight, silicon alkoxide and / or its The high refractive index oxide fine particles cannot be fixed in the hydrolysis product or the silica matrix derived therefrom, and scratches are formed when the transparent low refractive index layer is formed on the transparent high refractive index layer. This is because it becomes easy to enter and causes appearance defects.
The refractive index of the transparent high refractive index layer is preferably 1.6 to 2.0.

ここで、基材としてプラスチック基材を用いた場合、透明高屈折率層は多量の酸化物微粒子を含み、ハードコート膜の透明高屈折率層と接する部分も比較的多量の酸化物微粒子を含む。さらに、ハードコート膜の基材と接する側は、酸化物微粒子を含まないか、ごくわずかしか含まない。
これにより、各層の表面エネルギーが増大し、各層間の濡れ性が著しく向上する。この濡れ性改善の効果により層間の密着力が高まり、従来よりも高い膜硬度を発現することができる。したがって、ハードコート膜と基材との密着力、及びハードコート膜と透明高屈折率層との密着力が向上する。
Here, when a plastic substrate is used as the substrate, the transparent high refractive index layer contains a large amount of oxide fine particles, and the portion of the hard coat film in contact with the transparent high refractive index layer also contains a relatively large amount of oxide fine particles. . Further, the side of the hard coat film that contacts the base material contains no or very little oxide fine particles.
Thereby, the surface energy of each layer increases, and the wettability between each layer improves remarkably. Due to the effect of improving the wettability, the adhesion between the layers is increased, and a higher film hardness than before can be exhibited. Therefore, the adhesion between the hard coat film and the substrate and the adhesion between the hard coat film and the transparent high refractive index layer are improved.

[透明低屈折率層]
透明低屈折率層は、シリコンアルコキシドおよび/またはその加水分解生成物からなる層、または、シリカからなる層が用いられる。この透明低屈折率層は、必要により低屈折率微粒子等を含有してもよい。
この低屈折率微粒子としては、フッ素含有アクリル系微粒子、ポリテトラフルオロエチレン(ポリ四フッ化エチレン:PTFE)微粒子、フッ化マグネシウムフィラー等の微粒子が好適に用いられる。
この透明低屈折率層の屈折率としては、1.35〜1.50が好ましい。
[Transparent low refractive index layer]
As the transparent low refractive index layer, a layer made of silicon alkoxide and / or a hydrolysis product thereof, or a layer made of silica is used. The transparent low refractive index layer may contain low refractive index fine particles and the like as necessary.
As the low refractive index fine particles, fine particles such as fluorine-containing acrylic fine particles, polytetrafluoroethylene (polytetrafluoroethylene (PTFE) fine particles), and magnesium fluoride filler are preferably used.
The refractive index of the transparent low refractive index layer is preferably 1.35 to 1.50.

この反射防止膜は、上述した透明高屈折率層、透明低屈折率層以外に屈折率の異なる他の層を形成して反射防止効果をさらに高めてもよく、その他の機能を付与する膜を形成してもよい。
また、反射色(表面の色目ともいう)を低減させる目的で反射光色を無彩色にすることもできる。無彩色にすることにより、反射防止膜特有の青、紫等の反射色を低減することができ、自然な反射光に近づき、目にやさしい反射防止膜の形成が可能になる。
This anti-reflection film may further enhance the anti-reflection effect by forming other layers having different refractive indexes in addition to the above-described transparent high refractive index layer and transparent low refractive index layer. It may be formed.
In addition, the reflected light color can be achromatic for the purpose of reducing the reflected color (also referred to as the surface color). By making the color achromatic, it is possible to reduce the reflection colors such as blue and violet, which are characteristic of the antireflection film, and it is possible to form an antireflection film that approaches natural reflected light and is easy on the eyes.

この反射光色を無彩色にするためには、透明高屈折率層、透明低屈折率層、必要に応じて形成される屈折率の異なる他の層のうち、少なくとも1層に、最大吸収波長(吸収波長ピーク)が400nm以上かつ500nm以下、または660nm以上かつ800nm以下の波長吸収剤(光吸収剤)を単独または複合して含有してもよい。
これらの波長吸収剤を用いることで、反射防止膜特有の、低波長側、および長波長側の反射スペクトルの上昇を和らげることが可能となり、反射防止膜の反射スペクトルを広範囲の波長域で低減させることが可能となり、さらには視感度反射率が低減される。
In order to make the reflected light color achromatic, at least one of the transparent high refractive index layer, the transparent low refractive index layer, and other layers having different refractive indexes formed as necessary has a maximum absorption wavelength. A wavelength absorber (light absorber) having an (absorption wavelength peak) of 400 nm or more and 500 nm or less, or 660 nm or more and 800 nm or less may be contained alone or in combination.
By using these wavelength absorbers, it is possible to moderate the increase in the reflection spectrum on the low wavelength side and the long wavelength side, which is characteristic of the antireflection film, and reduce the reflection spectrum of the antireflection film in a wide wavelength range. In addition, the visibility reflectance is reduced.

この透明高屈折率層、または透明低屈折率層、あるいは屈折率の異なる他の層に、最大吸収波長(吸収波長ピーク)が400nm以上かつ500nm以下の波長吸収剤、最大吸収波長(吸収波長ピーク)が660nm以上かつ800nm以下の波長吸収剤、の何れかを含有させてもよく、これら双方を含有させてもよい。 また、最大吸収波長(吸収波長ピーク)が400nm以上かつ500nm以下の波長吸収剤を複数種組み合わせて用いてもよく、最大吸収波長(吸収波長ピーク)が660nm以上かつ800nm以下の波長吸収剤を複数種組み合わせて用いてもよい。
これらの波長吸収剤は、透明高屈折率層に含有させることが好ましい。
In this transparent high refractive index layer, transparent low refractive index layer, or other layers having different refractive indexes, a wavelength absorber having a maximum absorption wavelength (absorption wavelength peak) of 400 nm or more and 500 nm or less, a maximum absorption wavelength (absorption wavelength peak) ) May contain either 660 nm or more and a wavelength absorber of 800 nm or less, or both of them may be contained. Further, a plurality of wavelength absorbers having a maximum absorption wavelength (absorption wavelength peak) of 400 nm or more and 500 nm or less may be used in combination, and a plurality of wavelength absorbers having a maximum absorption wavelength (absorption wavelength peak) of 660 nm or more and 800 nm or less. You may use it combining species.
These wavelength absorbers are preferably contained in the transparent high refractive index layer.

上記の波長吸収剤としては、以下に限定されるものではないが、モノアゾレーキ系、モノアゾ系、ジスアゾ系、縮合アゾ系、金属錯塩アゾ系等のアゾ顔料、フタロシアニン系、酸性染料レーキ系、塩基性染料レーキ系、アンスラキノン系、チオインヂゴ系、ベリノン系、ベリレン系、キナグリドン系、ジオキサジン系、イソインドリノン系、キノフタロン系、イソインドリン系、ニトロソ系、アリザリンレーキ系、金属錯塩アゾメチン系、アルカリブルー系、昼光蛍光顔料類等を単独、または複数種組み合わせて使用することができる。   Examples of the wavelength absorber include, but are not limited to, azo pigments such as monoazo lakes, monoazos, disazos, condensed azos, metal complex azos, phthalocyanines, acid dye lakes, basics Dye lake, anthraquinone, thioindigo, berylone, berylene, quinagridone, dioxazine, isoindolinone, quinophthalone, isoindoline, nitroso, alizarin lake, metal complex azomethine, alkali blue In addition, daylight fluorescent pigments and the like can be used alone or in combination.

上記の波長吸収剤の具体例としては、以下に限定されるものではないが、モノアゾピグメント、キナクリドン、アイアンオキサイドイエロー、ジスアゾピグメント、フタロシアニングリーン、フタロシアニンブルー、シアニンブルー、フラバンスロンイエロー、ジアンスラキノリルレッド、インダンスロンブルー、チオインディゴボルドー、ペリノンオレンジ、ぺロレンスカーレッド、ペリレンレッド178、ペリレンマルーン、ジオキサジンバイオレット、イソインドリノンエロー、キノフタロンエロー、イソインドリンエロー、ニッケルニトロソエロー、マダーレーキ、銅アゾメチンエロー、アニリンブラック等の有機顔料を挙げることができる。   Specific examples of the wavelength absorber include, but are not limited to, monoazo pigment, quinacridone, iron oxide yellow, disazo pigment, phthalocyanine green, phthalocyanine blue, cyanine blue, flavanthrone yellow, diansuraquinolyl. Red, indanthrone blue, thioindigo bordeaux, perinone orange, perelenscar red, perylene red 178, perylene maroon, dioxazine violet, isoindolinone yellow, quinophthalone yellow, isoindoline yellow, nickel nitroso yellow, madder lake, copper Examples thereof include organic pigments such as azomethine yellow and aniline black.

また、アルカリブルー、弁柄、酸化クロム、黒鉄、チタンエロー、コバルトブルー、セルリアンブルー、コバルトグリーン、ビリジアン、カドミウムエロー、カドミウムレッド、朱、リトポン、黄鉛、モリブデートオレンジ、クロム酸亜鉛、群青、マンガンバイオレット、コバルトバイオレット、エメラルドグリーン、紺青、カーボンブラック、金属粉等の無機顔料も挙げることができる。
さらに、アゾ染料、フタリシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、キノリン染料、ニトロ染料、ニトロソ染料、ベンゾキノン染料、ナフトキノン染料、ナフタルイミド染料、ベリノン染料等の染料も挙げることができる。
これらの波長吸収剤は、単独、または複数種組み合わせて使用することができる。
Also, alkali blue, petal, chromium oxide, black iron, titanium yellow, cobalt blue, cerulean blue, cobalt green, viridian, cadmium yellow, cadmium red, vermilion, lithopone, yellow lead, molybdate orange, zinc chromate, ultramarine blue, manganese Mention may also be made of inorganic pigments such as violet, cobalt violet, emerald green, bitumen, carbon black, metal powder and the like.
Furthermore, dyes such as azo dyes, phthalicyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, quinoline dyes, nitro dyes, nitroso dyes, benzoquinone dyes, naphthoquinone dyes, naphthalimide dyes, and verinone dyes can also be mentioned.
These wavelength absorbers can be used alone or in combination.

この反射防止膜では、上述した透明高屈折率層の光学膜厚は、透明低屈折率層の光学膜厚を140nm±30nmの範囲内とし、かつ、この透明低屈折率層の光学膜厚の1.2倍以上かつ2.5倍以下であることが好ましく、さらに好ましくは、1.4倍以上かつ1.9倍以下である。
この「光学膜厚」は、下記の式(2)に示すように、測定対象となる薄膜の実際の膜厚と、当該薄膜の屈折率との積で表される。
光学膜厚=n×d …(2)
但し、n:膜の屈折率
d:実際の膜厚
In this antireflection film, the optical film thickness of the transparent high refractive index layer described above is such that the optical film thickness of the transparent low refractive index layer is in the range of 140 nm ± 30 nm, and the optical film thickness of the transparent low refractive index layer is It is preferably 1.2 times or more and 2.5 times or less, and more preferably 1.4 times or more and 1.9 times or less.
This “optical film thickness” is represented by the product of the actual film thickness of the thin film to be measured and the refractive index of the thin film, as shown in the following equation (2).
Optical film thickness = n × d (2)
Where n: refractive index of the film d: actual film thickness

従来の反射防止にかかわる膜厚設計においては、透明高屈折率層、透明低屈折率層それぞれの光学膜厚を、目標とする最低反射率における波長λ(以下、ボトム波長と称する)の1/4に設定するのが一般的であるが、この膜厚設計に基づいて反射防止膜を作製した場合、ボトム波長における反射率は最も低くなるものの、それよりも長波長側および低波長側での反射率が増大するために、その部分の反射色が強くなり、きつい青紫から赤紫の反射色を呈することとなり、更には、目視での反射率の指標である視感度反射率の増大にもつながる。   In the conventional film thickness design for antireflection, the optical film thickness of each of the transparent high refractive index layer and the transparent low refractive index layer is set to 1 / wavelength λ (hereinafter referred to as the bottom wavelength) at the target minimum reflectance. Generally, when the antireflection film is produced based on this film thickness design, the reflectance at the bottom wavelength is the lowest, but at the longer wavelength side and the lower wavelength side than that, As the reflectivity increases, the reflected color of the portion becomes stronger, and it exhibits a tight blue-purple to red-purple reflected color. Furthermore, it also increases the visibility reflectivity, which is an index of visual reflectivity. Connected.

また、塗工時の微小な膜厚のぶれにより、反射スペクトルの形状が著しく変化し、膜の反射光の色目が部分的に赤色や青色の反射色むらが発生する。このことから、塗工時の膜厚を非常に狭い範囲で管理しなければならない等の問題点が発生することとなる。   Moreover, the shape of the reflection spectrum is remarkably changed due to the minute film thickness fluctuation at the time of coating, and the color of the reflected light of the film is partially uneven in red or blue. For this reason, problems such as having to manage the film thickness at the time of coating within a very narrow range occur.

そこで、これら長波長側および低波長側の反射率の増大を抑制すべく様々な検討を行った結果、上述したとおり、透明高屈折率層の光学膜厚を、透明低屈折率層の光学膜厚の1.2倍以上かつ2.5倍以下というように、これまでの膜厚設計よりも厚めに設定することで解決できることが分かった。
この手法を用いて、長波長側及び低波長側の両側の領域での反射率の増大を抑制することにより、微小な膜厚のずれによる赤色や青色といった反射色むらに対する塗工時の膜厚の管理範囲に若干の自由度を持たせることが可能になる。
Therefore, as a result of various studies to suppress the increase in the reflectance on the long wavelength side and the low wavelength side, as described above, the optical film thickness of the transparent high refractive index layer is changed to the optical film of the transparent low refractive index layer. It was found that the problem can be solved by setting the thickness to be larger than the conventional thickness design, such as 1.2 times or more and 2.5 times or less of the thickness.
Using this method, by suppressing the increase in reflectivity in both the long-wavelength side and low-wavelength side regions, the film thickness at the time of coating against reflection color unevenness such as red and blue due to a slight film thickness deviation It is possible to give some degree of freedom to the management range.

さらに、最大吸収波長(吸収波長ピーク)が400nm以上かつ500nm以下の波長吸収剤、または最大吸収波長(吸収波長ピーク)が660nm以上かつ800nm以下の波長吸収剤を、単独もしくは複数種組み合わせることで、さらに反射光色の無彩色化を図ることが可能である。   Furthermore, by combining a wavelength absorber having a maximum absorption wavelength (absorption wavelength peak) of 400 nm or more and 500 nm or less, or a wavelength absorber having a maximum absorption wavelength (absorption wavelength peak) of 660 nm or more and 800 nm or less, alone or in combination, Further, the reflected light color can be achromatic.

この反射防止膜では、透明膜の少なくとも1層、すなわち透明高屈折率層、または透明低屈折率層、あるいは屈折率の異なる他の層に、その層厚の1.1倍以上かつ1.6倍以下の平均分散粒子径の球状微粒子を含有させることが好ましい。
これらの層のうち少なくとも1層に、層厚の1.1倍以上かつ1.6倍以下の平均分散粒子径の球状微粒子を含有させることで、膜表面に微細な凹凸が付与されることとなる。したがって、界面部分にて弱い乱反射を発生させることにより、反射色の強度が低下し、さらに色むらの境界部分を不鮮明にさせることが可能となり、塗工時の微細な膜厚ぶれにより後日観察される反射色ムラの低減を図ることができる。
In this antireflection film, at least one layer of the transparent film, that is, a transparent high refractive index layer, a transparent low refractive index layer, or another layer having a different refractive index is 1.1 times or more of the layer thickness and 1.6. It is preferable to contain spherical fine particles having an average dispersed particle size of twice or less.
By adding spherical fine particles having an average dispersed particle diameter of 1.1 times or more and 1.6 times or less of the layer thickness to at least one of these layers, fine irregularities are imparted to the film surface; Become. Therefore, by generating weak diffuse reflection at the interface part, the intensity of the reflected color is lowered, and it becomes possible to blur the boundary part of the uneven color, which is observed later due to minute film thickness fluctuation at the time of coating. The reflection color unevenness can be reduced.

ここで、球状微粒子の平均分散粒径が層厚の1.1倍未満では、粒子が膜中に取り込まれてしまい、膜表面に微細な凹凸が付与され難くなるので好ましくなく、また、層厚の1.6倍を超えると、レイリー散乱によって著しく光を乱反射するため、白く見えるようになって透明性が低下するために好ましくない。   Here, when the average dispersed particle size of the spherical fine particles is less than 1.1 times the layer thickness, the particles are taken into the film, and it is difficult to provide fine irregularities on the film surface, which is not preferable. If it exceeds 1.6 times, the light is remarkably diffusely reflected by Rayleigh scattering, so that it appears white and the transparency is lowered, which is not preferable.

この球状微粒子の面密度は、3個/μm以上かつ30個/μm以下であることが好ましい。
この球状微粒子の面密度が3個/μm未満では、球状微粒子が充分に表面に分布せず、凹凸が疎になってしまい、球状微粒子の添加の効果が得られ難いからであり、また、球状微粒子の面密度が30個/μmを超えると、球状微粒子が過剰になってしまい光散乱が増大するために、膜表面が白く見えるようになってしまい、透明性が低下するからである。
The surface density of the spherical fine particles is preferably 3 / μm 2 or more and 30 / μm 2 or less.
If the surface density of the spherical fine particles is less than 3 particles / μm 2 , the spherical fine particles are not sufficiently distributed on the surface, the unevenness becomes sparse, and it is difficult to obtain the effect of adding the spherical fine particles. When the surface density of the spherical fine particles exceeds 30 particles / μm 2 , the spherical fine particles become excessive and light scattering increases, so that the film surface appears white and the transparency is lowered. .

この球状微粒子としては、透明かつ粒子径のそろっている単分散球状微粒子が好適に用いられ、この単分散球状微粒子としては、合成樹脂を主成分とする単分散球状微粒子、例えば、シリコーンビーズ、アクリルビーズ等が好適である。
この球状微粒子に、最大吸収波長が400nm以上かつ500nm以下、または660nm以上かつ800nm以下の光吸収剤を、単独もしくは複数種組み合わせて添加してもよい。この球状微粒子に上記の光吸収剤を添加することで、さらなる反射光色の無彩色化を図ることが可能になる。
As the spherical fine particles, transparent and uniform monodispersed spherical fine particles are preferably used. As the monodispersed spherical fine particles, monodispersed spherical fine particles mainly composed of a synthetic resin, for example, silicone beads, acrylic Beads and the like are preferred.
A light absorber having a maximum absorption wavelength of 400 nm or more and 500 nm or less, or 660 nm or more and 800 nm or less may be added to the spherical fine particles singly or in combination. By adding the above light absorber to the spherical fine particles, it becomes possible to further achromatic the reflected light color.

この反射防止膜においては、透明膜の少なくとも1層、すなわち透明高屈折率層、透明低屈折率層、屈折率の異なる他の層のいずれか1層に、オルガノシロキサンまたはフルオロ炭素化合物を含有させることが好ましく、特に、最外層にオルガノシロキサンまたはフルオロ炭素化合物を含有させることが好ましい。
透明膜の少なくとも1層、特に最外層にオルガノシロキサンまたはフルオロ炭素化合物を含む場合、水に対する接触角が90°を超えるので、反射防止膜に撥水性を付与することができる。
In this antireflection film, at least one layer of the transparent film, that is, any one of the transparent high-refractive index layer, the transparent low-refractive index layer, and another layer having a different refractive index contains an organosiloxane or a fluorocarbon compound. In particular, it is preferable that the outermost layer contains an organosiloxane or a fluorocarbon compound.
When organosiloxane or a fluorocarbon compound is contained in at least one layer of the transparent film, particularly the outermost layer, the contact angle with water exceeds 90 °, so that the antireflection film can be imparted with water repellency.

この撥水効果は、長時間に亘って持続可能であるから、綿布等で擦ったくらいでは効果が低下する虞がなく、したがって、従来よりも高い防汚性を得ることができる。特に、このオルガノシロキサンまたはフルオロ炭素化合物がシリカマトリックス中に取り込まれている場合には、簡単に滲み出すことがなく、防汚性が長時間に亘って持続するので、好ましい。
以上により、反射防止効果、撥水効果の点からは、透明低屈折率層を最外層とし、この透明低屈折率層にオルガノシロキサンまたはフルオロ炭素化合物を含有させるのが好ましい。
Since this water-repellent effect can be sustained for a long time, there is no risk that the effect will be reduced if it is rubbed with a cotton cloth or the like, and therefore, higher antifouling properties than before can be obtained. In particular, when the organosiloxane or fluorocarbon compound is incorporated in a silica matrix, it does not ooze out easily, and the antifouling property lasts for a long time, which is preferable.
As described above, from the viewpoint of the antireflection effect and the water repellent effect, it is preferable that the transparent low refractive index layer is the outermost layer and the transparent low refractive index layer contains an organosiloxane or a fluorocarbon compound.

上記のオルガノシロキサンとしては、ジアルキルアルコキシシラン化合物が挙げられ、中でも、オルガノポリシロキサンが好適に用いられ、特にジメチルポリシロキサン(シリコーンオイル)が好適に用いられる。
上記オルガノシロキサンの主鎖の珪素数は3以上かつ15以下であることが好ましい。
珪素数が3未満の場合には、オルガノシロキサンの分子量が小さいために添加しても十分な撥水性が得られず、また、珪素数が15を超える場合には、分子量が大きくなりすぎて分子極性が小さくなるため、塗料調整時または塗工時に油滴状になり易いからである。なお、シリカバインダーの重合反応を阻害する可能性もある。
Examples of the organosiloxane include dialkylalkoxysilane compounds. Among them, organopolysiloxane is preferably used, and dimethylpolysiloxane (silicone oil) is particularly preferably used.
The number of silicon atoms in the main chain of the organosiloxane is preferably 3 or more and 15 or less.
When the number of silicon is less than 3, sufficient water repellency cannot be obtained even if added because the molecular weight of the organosiloxane is small, and when the number of silicon exceeds 15, the molecular weight becomes too large and the molecular weight is too high. This is because the polarity is small, so that oil droplets are easily formed during coating adjustment or coating. In addition, there is a possibility of inhibiting the polymerization reaction of the silica binder.

また、上記のフルオロ炭素化合物としては、フルオロアルキルアルコキシシラン化合物が挙げられ、中でも、ジメチルポリシロキサン(シリコーンオイル)の水素の一部をフッ素で置換したフッ素オイルが好適に用いられる。
上記フルオロ炭素化合物の炭素数は3以上かつ10以下であることが好ましい。
炭素数が3未満の場合には、フルオロ炭素化合物の分子量が小さいために添加しても十分な撥水性が得られず、また、炭素数が10を超える場合には、分子量が大きくなりすぎて分子極性が小さくなるため、塗料調整時または塗工時に油滴状になり易いからである。なお、シリカバインダーの重合反応を阻害する可能性もある。
Examples of the fluorocarbon compound include a fluoroalkylalkoxysilane compound, and among these, a fluorine oil in which a part of hydrogen of dimethylpolysiloxane (silicone oil) is substituted with fluorine is preferably used.
The fluorocarbon compound preferably has 3 or more and 10 or less carbon atoms.
When the number of carbon atoms is less than 3, sufficient water repellency cannot be obtained even when added because the molecular weight of the fluorocarbon compound is small, and when the number of carbon atoms exceeds 10, the molecular weight becomes too large. This is because the molecular polarity is small, and it tends to form oil droplets when the paint is adjusted or applied. In addition, there is a possibility of inhibiting the polymerization reaction of the silica binder.

オルガノシロキサンまたはフルオロ炭素化合物の含有量は、薄膜の全重量に対して0.01重量%以上かつ5.0重量%以下が好ましい。
例えば、最外層の透明低屈折率層にオルガノシロキサンまたはフルオロ炭素化合物を0.01重量%以上かつ5.0重量%以下含有させた場合には、膜の水に対する接触角が90°以上となり、撥水性が発現するとともに滑り易くなり、反射防止膜の膜強度、特に、スチールウール強度が向上し、防汚性も付与される。
The content of organosiloxane or fluorocarbon compound is preferably 0.01% by weight or more and 5.0% by weight or less based on the total weight of the thin film.
For example, when an organosiloxane or fluorocarbon compound is contained in the outermost transparent low refractive index layer in an amount of 0.01% by weight to 5.0% by weight, the contact angle of the film with respect to water is 90 ° or more, It exhibits water repellency and becomes slippery, improves the film strength of the antireflection film, particularly steel wool, and imparts antifouling properties.

オルガノシロキサンまたはフルオロ炭素化合物の含有量を上記の様に限定した理由は、含有量が0.01重量%未満では、オルガノシロキサンまたはフルオロ炭素化合物が最外層である透明低屈折率層の表面を十分に覆うことができないために、水に対する接触角が90°未満となり、十分な撥水性が得られず、したがって、反射防止膜における膜強度の向上効果および防汚性の向上効果が得られないからである。また、含有量が5.0重量%を超えると、オルガノシロキサンまたはフルオロ炭素化合物が透明低屈折率層の表面で過剰となるために、水に対する接触角が90°を超えて十分な撥水性は得られるものの、シリコンアルコキシドおよび/またはその加水分解生成物の重合硬化反応および密着性を阻害し、反射防止膜の膜強度を低下させるからである。   The reason why the content of the organosiloxane or fluorocarbon compound is limited as described above is that when the content is less than 0.01% by weight, the surface of the transparent low refractive index layer where the organosiloxane or fluorocarbon compound is the outermost layer is sufficient. Since the contact angle with respect to water is less than 90 ° and sufficient water repellency cannot be obtained, the effect of improving the film strength and antifouling property of the antireflection film cannot be obtained. It is. Further, if the content exceeds 5.0% by weight, the organosiloxane or fluorocarbon compound becomes excessive on the surface of the transparent low refractive index layer, so that the water contact angle exceeds 90 ° and sufficient water repellency is obtained. This is because, although obtained, the polymerization curing reaction and adhesion of silicon alkoxide and / or its hydrolysis product are inhibited, and the film strength of the antireflection film is lowered.

上記のオルガノシロキサンとしては、シリカマトリックスに固定化させるために、アルキル基、イソシアネート基、エポキシ基、アクリル基、アルキル珪素化合物の群から選択された1種または2種以上により変性された変性オルガノシロキサンが好ましい。
アルキル珪素化合物は、少なくともアルキル基を1つ以上有する有機珪素化合物のことであり、シリコンアルコキシドの他、オルガノシランの一部をアルキル基で置換したオルガノアルコキシシラン等が好適に用いられる。
この変性オルガノシロキサンとしては、変性オルガノポリシロキサン、特にジメチルポリシロキサン(シリコーンオイル)を変性した変性ジメチルポリシロキサン(変性シリコーンオイル)が好適に用いられる。
The organosiloxane is a modified organosiloxane modified with one or more selected from the group of alkyl groups, isocyanate groups, epoxy groups, acrylic groups, and alkyl silicon compounds in order to be immobilized on a silica matrix. Is preferred.
The alkyl silicon compound is an organic silicon compound having at least one alkyl group. In addition to silicon alkoxide, organoalkoxysilane in which a part of organosilane is substituted with an alkyl group is preferably used.
As the modified organosiloxane, modified organopolysiloxane, particularly modified dimethylpolysiloxane (modified silicone oil) obtained by modifying dimethylpolysiloxane (silicone oil) is preferably used.

上記のフルオロ炭素化合物としては、シリカマトリックスに固定化させるために、アルキル基、イソシアネート基、エポキシ基、アクリル基、アルキル珪素化合物の群から選択された1種または2種以上により変性された変性フルオロ炭素化合物が好ましい。
この変性フルオロ炭素化合物としては、フッ素オイルを変性した変性フッ素オイルが好適に用いられる。
The fluorocarbon compound is a modified fluorocarbon modified with one or more selected from the group of alkyl groups, isocyanate groups, epoxy groups, acrylic groups, and alkyl silicon compounds in order to be immobilized on a silica matrix. Carbon compounds are preferred.
As this modified fluorocarbon compound, a modified fluorine oil obtained by modifying a fluorine oil is preferably used.

次に、本実施形態のハードコート膜及び反射防止膜の製造方法について説明する。
ここでは、基材上にハードコート膜を形成し、このハードコート膜上に、透明高屈折率層及び透明低屈折率層からなる透明膜を形成した反射防止膜を例にとり説明する。
Next, the manufacturing method of the hard coat film and antireflection film of this embodiment will be described.
Here, an explanation will be given by taking as an example an antireflection film in which a hard coat film is formed on a substrate and a transparent film comprising a transparent high refractive index layer and a transparent low refractive index layer is formed on the hard coat film.

[ハードコート膜の形成]
無機微粒子と有機系バインダーとを溶剤に溶解または分散させ、ハードコート膜形成用塗料を作製する。このハードコート膜形成用塗料には、必要に応じて分散剤等の各種添加剤を添加してもよい。得られたハードコート膜形成用塗料を透明基材の表面に塗布し、この塗料を室温(25℃)あるいはそれ以上の所定の温度にて乾燥させ、その後、この塗料に紫外線照射することにより、基材上にハードコート膜が形成される。
[Hard coat film formation]
Inorganic fine particles and an organic binder are dissolved or dispersed in a solvent to prepare a coating material for forming a hard coat film. Various additives such as a dispersant may be added to the hard coat film-forming coating as necessary. By applying the obtained coating material for forming a hard coat film on the surface of the transparent substrate, drying the coating material at a predetermined temperature of room temperature (25 ° C.) or higher, and then irradiating the coating material with ultraviolet rays, A hard coat film is formed on the substrate.

この無機微粒子は、表面を界面活性剤等により表面処理(または表面改質)することにより、臨界表面張力を調整する。表面処理剤(または表面改質剤)としては、特に限定するものではないが、HLBが4以下、または10以上のノニオン系界面活性剤、直鎖アルキル基を有するカチオン系界面活性剤等が好適に用いられる。
この表面処理(または表面改質)を行うことにより、無機微粒子の表面の臨界表面張力とハードコート膜を構成する有機系バインダーの臨界表面張力との差を、5dyne/cm以上とすることができる。
The inorganic fine particles adjust the critical surface tension by subjecting the surface to surface treatment (or surface modification) with a surfactant or the like. Although it does not specifically limit as a surface treating agent (or surface modifier), HLB is 4 or less, or 10 or more nonionic surfactant, the cationic surfactant which has a linear alkyl group, etc. are suitable. Used for.
By performing this surface treatment (or surface modification), the difference between the critical surface tension of the surface of the inorganic fine particles and the critical surface tension of the organic binder constituting the hard coat film can be 5 dyne / cm or more. .

このハードコート膜形成用塗料は、その乾燥過程において、
(a)無機微粒子を膜の一主面近傍に局在させる。
(b)無機微粒子を膜の厚み方向に偏在させ、膜中の無機微粒子に濃度勾配を付与する。
のいずれかを選択・進行させることにより、
(1)無機微粒子を膜の一主面近傍に局在させた膜。
(2)無機微粒子が膜の厚み方向に濃度勾配を有している膜。
のいずれかの膜を得ることができる。
In the drying process, this hard coat film forming paint
(A) Inorganic fine particles are localized near one main surface of the film.
(B) The inorganic fine particles are unevenly distributed in the thickness direction of the film, and a concentration gradient is imparted to the inorganic fine particles in the film.
By selecting and proceeding either
(1) A film in which inorganic fine particles are localized in the vicinity of one main surface of the film.
(2) A film in which inorganic fine particles have a concentration gradient in the thickness direction of the film.
Any of the membranes can be obtained.

この乾燥過程では、塗膜から急激に溶剤が蒸発することにより、分散系が変化し、表面処理(または表面改質)を行った無機微粒子と有機系バインダーとのなじみが悪化し、この表面処理(または表面改質)された無機微粒子が有機系バインダーから押し出されるために、この無機微粒子が膜の表面部分に局在するか、または基材側の濃度が高くなるように厚み方向に濃度勾配を有するものとなる。
ここで、無機微粒子が基材側の表面部分に局在しない、または基材側が濃度が高くならない理由は、例えば、プラスチック基材と有機系バインダーを使用した場合では、プラスチック基材と有機系バインダーとのなじみが良好であるため、無機微粒子が基材側に移動する前に、基材の表面に有機系バインダーに富んだ部分が形成されてしまうためである。
In this drying process, the solvent suddenly evaporates, the dispersion changes, and the familiarity between the inorganic fine particles that have undergone surface treatment (or surface modification) and the organic binder deteriorates. Since the inorganic fine particles (or the surface modification) are extruded from the organic binder, the inorganic fine particles are localized on the surface portion of the film, or the concentration gradient in the thickness direction so that the concentration on the substrate side becomes high. It will have.
Here, the reason why the inorganic fine particles are not localized on the surface portion on the substrate side or the concentration on the substrate side is not high is, for example, when a plastic substrate and an organic binder are used, the plastic substrate and the organic binder This is because a part rich in organic binder is formed on the surface of the base material before the inorganic fine particles move to the base material side.

このハードコート膜形成用塗料の調整は、無機微粒子、有機系バインダー及び分散剤等を溶媒に混合し、超音波分散機、ホモジナイザー、サンドミル等、通常用いられる分散手段により均一分散することにより、行うことができる。
溶媒としては、有機溶媒が好ましく、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコール、ヘキシレングリコール等のアルコール類、酢酸メチルエステル、酢酸エチルエステル等のエステル類、ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、アセト酢酸エステル等のケトン類が好適に用いられる。これらの有機溶媒は、1種のみを用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
The hard coat film-forming coating material is prepared by mixing inorganic fine particles, an organic binder, a dispersing agent, and the like in a solvent, and uniformly dispersing the mixture using an ultrasonic dispersing machine, a homogenizer, a sand mill, or the like. be able to.
The solvent is preferably an organic solvent, for example, alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, diacetone alcohol, ethylene glycol and hexylene glycol, esters such as methyl acetate and ethyl acetate, diethyl ether and ethylene. Preferable examples include ethers such as glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether and diethylene glycol monoethyl ether, and ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and acetoacetate. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more.

このハードコート膜形成用塗料をガラス基材、プラスチック基材等の透明基材の一方の面に塗布し、このハードコート膜形成用塗料に紫外線照射等を施して架橋させることにより、ハードコート膜が得られる。
このハードコート膜の厚みは、0.5μm以上かつ20μm以下が好ましく、より好ましくは0.5μm以上かつ2μm以下である。
膜厚が0.5μm以下では、充分な膜硬度を発現させることができず、また、20μmを超えると、特に、透明基材に透明プラスチック基材を用いた場合、カーリングが大きくなるからである。
A hard coat film is formed by applying the hard coat film forming paint to one surface of a transparent substrate such as a glass substrate or a plastic substrate, and then irradiating the hard coat film forming paint with an ultraviolet ray or the like to crosslink. Is obtained.
The thickness of the hard coat film is preferably 0.5 μm or more and 20 μm or less, more preferably 0.5 μm or more and 2 μm or less.
This is because when the film thickness is 0.5 μm or less, sufficient film hardness cannot be expressed, and when it exceeds 20 μm, curling increases particularly when a transparent plastic substrate is used as the transparent substrate. .

この無機微粒子の含有量については、3重量%以上かつ60重量%以下とされるが、好ましくは、この範囲で、塗工、硬化後の無機微粒子が局在する部分、あるいは濃度勾配を有する部分の光学膜厚を、目標とするボトム波長λの1/4に設定することができる含有量に調整することが望ましい。これにより、ハードコート膜としての効果を持たせるだけでなく、見かけ上ハードコート層と中屈折率層の2層コートを行った場合と同じ効果が得られ、より高性能の反射防止膜を得ることができる。
なお、塗工法としては、各種の塗工方法が可能であり、例えば、バーコート法、グラビアコート法、スリットコート法、ロールコート法、ディップコート法等から適宜選択することができる。
The content of the inorganic fine particles is 3% by weight or more and 60% by weight or less, preferably within this range, the portion where the inorganic fine particles after coating and curing are localized, or the portion having a concentration gradient It is desirable to adjust the optical film thickness to a content that can be set to ¼ of the target bottom wavelength λ. As a result, not only the effect as a hard coat film is given, but also the same effect as when two layers of a hard coat layer and a medium refractive index layer are apparently obtained is obtained, and a higher performance antireflection film is obtained. be able to.
Various coating methods can be used as the coating method, and can be appropriately selected from, for example, a bar coating method, a gravure coating method, a slit coating method, a roll coating method, and a dip coating method.

[透明膜の形成]
上記のハードコート膜上に、透明高屈折率層と透明低屈折率層とからなる2層構造の透明膜を形成する。
(1)透明高屈折率層の形成
高屈折率酸化物微粒子と、シリコンアルコキシドおよび/またはその加水分解生成物とを、溶剤に溶解または分散させ、透明高屈折率層形成用塗料とする。
この透明高屈折率層形成用塗料には、必要に応じて分散剤、波長吸収剤、球状微粒子等の各種材料を添加してもよい。
[Formation of transparent film]
A transparent film having a two-layer structure comprising a transparent high refractive index layer and a transparent low refractive index layer is formed on the hard coat film.
(1) Formation of transparent high refractive index layer High refractive index oxide fine particles and silicon alkoxide and / or a hydrolysis product thereof are dissolved or dispersed in a solvent to obtain a transparent high refractive index layer forming coating material.
Various materials such as a dispersant, a wavelength absorber, and spherical fine particles may be added to the transparent high refractive index layer-forming coating as necessary.

この透明高屈折率層形成用塗料の調整は、高屈折率酸化物微粒子と、シリコンアルコキシドおよび/またはその加水分解生成物と、場合により添加される波長吸収剤、球状粒子、分散剤等を、溶剤と混合し、超音波分散機、ホモジナイザー、サンドミル等、通常用いられる分散手段により均一分散することにより、行うことができる。
シリコンアルコキシドとしては、例えば、テトラエトキシシラン(Si(OC)、テトラメトキシシラン(Si(OCH)等のテトラアルコキシシラン系化合物、アルキルトリアルコキシシラン系化合物等から適宜選択使用することができる。また、溶剤としては、有機溶剤が好ましく、上述したアルコール類、エステル類、エーテル類、ケトン類等から適宜選択することができる。これらの有機溶剤は単1種でもよく、2種類以上の混合物として使用しても良い。
This transparent high refractive index layer-forming coating material is prepared by adding high refractive index oxide fine particles, silicon alkoxide and / or a hydrolysis product thereof, and optionally added wavelength absorbers, spherical particles, dispersants, etc. It can be carried out by mixing with a solvent and uniformly dispersing by a commonly used dispersing means such as an ultrasonic disperser, a homogenizer, or a sand mill.
The silicon alkoxide is appropriately selected from tetraalkoxysilane compounds such as tetraethoxysilane (Si (OC 2 H 5 ) 4 ) and tetramethoxysilane (Si (OCH 3 ) 4 ), alkyltrialkoxysilane compounds, and the like. Can be used. The solvent is preferably an organic solvent, and can be appropriately selected from the alcohols, esters, ethers, ketones and the like described above. These organic solvents may be used alone or as a mixture of two or more.

得られた透明高屈折率層形成用塗料をハードコート膜上に塗布し、乾燥することにより、透明高屈折率層が形成される。
この透明高屈折率層形成用塗料の塗工方法としては、例えば、バーコート法、グラビアコート法、スリットコート法、ロールコート法、ディップコート法等から適宜選択することができる。
乾燥温度については、使用する基材の熱変形が起こらない範囲が好ましい。また、透明プラスチック基材を使用する場合、例えば、70℃以上かつ130℃以下の温度範囲で乾燥することができるが、70℃未満の低温にて硬化させる場合では、硬化速度が遅くなるが、硬化時間を調整することで所望の膜硬度を得ることができる。
The obtained transparent high refractive index layer-forming coating material is applied on the hard coat film and dried to form a transparent high refractive index layer.
The coating method for the transparent high refractive index layer-forming coating material can be appropriately selected from, for example, a bar coating method, a gravure coating method, a slit coating method, a roll coating method, and a dip coating method.
The drying temperature is preferably within a range where the base material used does not undergo thermal deformation. Further, when using a transparent plastic substrate, for example, it can be dried in a temperature range of 70 ° C. or more and 130 ° C. or less. A desired film hardness can be obtained by adjusting the curing time.

(2)透明低屈折率層の形成
シリコンアルコキシドおよび/またはその加水分解生成物を溶剤に溶解または分散させ、透明低屈折率層形成用塗料とする。
この透明低屈折率層形成用塗料には、必要に応じて、波長吸収剤、オルガノシロキサン、フルオロ炭素化合物等の各種添加剤を添加してもよい。
シリコンアルコキシドとしては、例えば、テトラアルコキシシラン系化合物、アルキルトリアルコキシシラン系化合物、フッ素含有アルキルトリアルコキシシラン系化合物等から適宜選択使用することができる。
(2) Formation of Transparent Low Refractive Index Layer Silicon alkoxide and / or its hydrolysis product is dissolved or dispersed in a solvent to obtain a transparent low refractive index layer forming coating.
Various additives such as a wavelength absorber, an organosiloxane, and a fluorocarbon compound may be added to the transparent low refractive index layer-forming coating as necessary.
As the silicon alkoxide, for example, a tetraalkoxysilane compound, an alkyltrialkoxysilane compound, a fluorine-containing alkyltrialkoxysilane compound, and the like can be appropriately selected and used.

また、溶剤としては、有機溶剤が好ましく、上述したアルコール類、エステル類、エーテル類、ケトン類等から適宜選択することができる。これらの有機溶剤は単1種でもよく、2種類以上の混合物として使用しても良い。
また、オルガノシロキサンとしては、ジアルキルアルコキシシラン化合物から適宜選択使用することができ、中でも、オルガノポリシロキサン、特にジメチルポリシロキサン(シリコーンオイル)が好適である。
また、フルオロ炭素化合物としては、フルオロアルキルアルコキシシラン化合物から適宜選択使用することができ、中でも、フッ素オイルが好適である。
The solvent is preferably an organic solvent, and can be appropriately selected from the alcohols, esters, ethers, ketones and the like described above. These organic solvents may be used alone or as a mixture of two or more.
The organosiloxane can be appropriately selected from dialkylalkoxysilane compounds, among which organopolysiloxane, particularly dimethylpolysiloxane (silicone oil) is preferred.
Moreover, as a fluorocarbon compound, it can select from a fluoroalkyl alkoxysilane compound suitably, and a fluorine oil is suitable especially.

得られた透明低屈折率層形成用塗料を透明高屈折率層上に塗布し、例えば、70〜130℃にて1分間以上乾燥することにより、透明低屈折率層が形成される。
この透明低屈折率層の屈折率は、透明高屈折率層の屈折率よりも0.1以上小さいことが好ましく、このような透明低屈折率層を形成することにより、極めて優れた反射防止性を示すものとなる。
この際、乾燥後の膜厚を、光学膜厚で140nmになるように調整することで、ボトム波長が600nm付近の透明低屈折率層を形成することができる。なお、ボトム波長についても、この値に限定されるものではない。
The obtained transparent low refractive index layer-forming coating material is applied onto the transparent high refractive index layer, and dried at 70 to 130 ° C. for 1 minute or longer, for example, to form a transparent low refractive index layer.
The refractive index of the transparent low refractive index layer is preferably 0.1 or more smaller than the refractive index of the transparent high refractive index layer, and by forming such a transparent low refractive index layer, extremely excellent antireflection properties Will be shown.
At this time, by adjusting the film thickness after drying so that the optical film thickness becomes 140 nm, a transparent low refractive index layer having a bottom wavelength of around 600 nm can be formed. Note that the bottom wavelength is not limited to this value.

この透明低屈折率層形成用塗料の塗工方法としては、例えば、バーコート法、グラビアコート法、スリットコート法、ロールコート法、ディップコート法等から適宜選択することができる。
乾燥温度については、使用する基材の熱変形が起こらない範囲が好ましい。また、透明プラスチック基材を使用する場合、例えば、70〜130℃の範囲で乾燥することができるが、70℃未満の低温にて硬化させる場合では、硬化速度が遅くなるが、硬化時間を調整することで所望の膜硬度を得ることができる。
The coating method of the transparent low refractive index layer-forming coating material can be appropriately selected from, for example, a bar coating method, a gravure coating method, a slit coating method, a roll coating method, and a dip coating method.
The drying temperature is preferably within a range where the base material used does not undergo thermal deformation. Moreover, when using a transparent plastic base material, for example, it can be dried in the range of 70 to 130 ° C., but when cured at a low temperature of less than 70 ° C., the curing speed becomes slow, but the curing time is adjusted. By doing so, a desired film hardness can be obtained.

以下、実施例1〜7及び比較例1、2により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。
[実施例1]
(1)透明ハードコート層(透明導電膜)形成用塗料A1の調整
メチルエチルケトン34.47gとエタノール30gを混合し、次いで、ノニオン系表面処理剤(旭電化社製:アデカトールLA−875)を0.53g添加して混合し、さらに、酸化ジルコニウム微粒子(住友大阪セメント社製:平均一次粒子径は30nm)10.5gを添加し、超音波ホモジナイザー(セントラル科学社製:ソニファイア−450)を用いて10分間、分散処理を施し、均一な混合液とした。その後、この混合液に導電性多官能アクリレート化合物(新中村化学社製:NKオリゴ U−201PA60)を24.50g混合して攪拌し、均一な透明ハードコート層形成用塗料A1とした。
EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated concretely by Examples 1-7 and Comparative Examples 1 and 2, this invention is not limited by these Examples.
[Example 1]
(1) Preparation of coating material A1 for forming transparent hard coat layer (transparent conductive film) 34.47 g of methyl ethyl ketone and 30 g of ethanol were mixed, and then nonionic surface treatment agent (Asahi Denka Co., Ltd .: Adecatol LA-875) 53 g was added and mixed. Further, 10.5 g of zirconium oxide fine particles (manufactured by Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd .: average primary particle size is 30 nm) was added, and 10 using an ultrasonic homogenizer (manufactured by Central Science Co., Ltd .: Sonifier 450). Dispersion treatment was performed for a minute to obtain a uniform mixed solution. Thereafter, 24.50 g of a conductive polyfunctional acrylate compound (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: NK Oligo U-201PA60) was mixed and stirred in this mixed solution to obtain a uniform transparent hard coat layer forming coating material A1.

(2)透明高屈折率層形成用塗料B1の調整
テトラエトキシシラン4.16gと、1規定の硝酸0.14gと、純水1.8gと、エタノール4.05gとを混合した溶液に、酸化チタン微粒子(日本アエロジル社製:P25、平均一次粒子径は21nm)1.8gと、プロピレングリコールモノメチルエーテル10gと、エタノール78.05gを加え、上述した超音波ホモジナイザーを用いて10分間、分散させ、均一な透明高屈折率層形成用塗料B1とした。
(2) Preparation of Transparent High Refractive Index Layer Coating Material B1 Tetraethoxysilane 4.16g, 1N nitric acid 0.14g, pure water 1.8g and ethanol 4.05g were mixed in a solution. Add 1.8 g of titanium fine particles (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd .: P25, average primary particle diameter is 21 nm), 10 g of propylene glycol monomethyl ether, and 78.05 g of ethanol, and disperse for 10 minutes using the ultrasonic homogenizer described above. A uniform transparent high refractive index layer-forming coating material B1 was obtained.

(3)透明低屈折率層形成用塗料C1の調整
テトラメトキシシラン7.6gと、1規定の硝酸0.23gと、純水9.0gと、メタノール73.02gと、プロピレングリコールモノメチルエーテル10gと、シリコーンオイルをアルコールで変性した変性シリコーンオイル(東レダウコーニング社製:SF8427)0.15gとを混合し、均一な透明低屈折率層形成用塗料C1とした。
(3) Adjustment of transparent low refractive index layer-forming coating material C1 Tetramethoxysilane 7.6 g, 1 N nitric acid 0.23 g, pure water 9.0 g, methanol 73.02 g, propylene glycol monomethyl ether 10 g Then, 0.15 g of a modified silicone oil obtained by modifying silicone oil with alcohol (manufactured by Toray Dow Corning: SF8427) was mixed to obtain a uniform coating C1 for forming a transparent low refractive index layer.

(4)反射防止層付基材の作製
厚み100μmのPETフィルム(三菱化学ポリエステルフィルム社製:T−600E)の一方の面に、バーコート法により透明ハードコート層形成用塗料A1を乾燥後の膜厚が1.5μmになるように塗布し、次いで、乾燥機中で80℃にて1分間、乾燥させ、その後、365nmの波長をピークとする高圧水銀灯の紫外線照射装置を用いて紫外線を照射(250mJ)させ、PETフィルム上に透明ハードコート層を形成した。
(4) Preparation of substrate with antireflection layer After drying the coating A1 for forming a transparent hard coat layer on one surface of a PET film (Mitsubishi Chemical Polyester Film Co., Ltd .: T-600E) having a thickness of 100 μm by a bar coating method. The film was applied to a thickness of 1.5 μm, then dried in a dryer at 80 ° C. for 1 minute, and then irradiated with ultraviolet light using an ultraviolet irradiation device of a high-pressure mercury lamp peaking at a wavelength of 365 nm. (250 mJ) to form a transparent hard coat layer on the PET film.

次いで、この透明ハードコート層上に透明高屈折率層形成用塗料B1を塗布し、次いで、乾燥機中で100℃にて1分間、乾燥させ、透明ハードコート層上に透明高屈折率層を積層した。さらに、この透明高屈折率層上に透明低屈折率層形成用塗料C1を塗布し、その後、乾燥機中で100℃にて10分間、乾燥・硬化させ、実施例1の反射防止層付基材を作製した。
この透明高屈折率層の光学膜厚は200nm、透明低屈折率層の光学膜厚は130nmであった。したがって、透明高屈折率層の光学膜厚は透明低屈折率層の光学膜厚の1.54倍であった。
Next, the transparent high refractive index layer-forming coating material B1 is applied on the transparent hard coat layer, and then dried at 100 ° C. for 1 minute in a dryer, and the transparent high refractive index layer is formed on the transparent hard coat layer. Laminated. Further, a coating C1 for forming a transparent low refractive index layer was applied on the transparent high refractive index layer, and then dried and cured at 100 ° C. for 10 minutes in a dryer. A material was prepared.
The optical film thickness of this transparent high refractive index layer was 200 nm, and the optical film thickness of the transparent low refractive index layer was 130 nm. Therefore, the optical film thickness of the transparent high refractive index layer was 1.54 times the optical film thickness of the transparent low refractive index layer.

[実施例2]
透明ハードコート層(透明導電膜)形成用塗料A2の調整
メチルエチルケトン34.91gとエタノール30gを混合し、次いで、ノニオン系表面処理剤(旭電化社製:アデカトールLA−875)を0.09g添加して混合し、さらに、酸化ジルコニウム微粒子(住友大阪セメント社製:平均一次粒子径は30nm)1.75gを添加し、超音波ホモジナイザー(セントラル科学社製:ソニファイア−450)を用いて10分間、分散処理を施し、均一な混合液とした。その後、この混合液に導電性多官能アクリレート化合物(新中村化学社製:NKオリゴ U−201PA60)33.25gを混合して攪拌し、均一な透明ハードコート層形成用塗料A2とした。
この透明ハードコート層形成用塗料A2を用い、他は、実施例1に準じて実施例2の反射防止層付基材を作製した。
[Example 2]
Preparation of transparent hard coat layer (transparent conductive film) coating A2 34.91 g of methyl ethyl ketone and 30 g of ethanol were mixed, and then 0.09 g of nonionic surface treatment agent (Asahi Denka Co., Ltd .: Adecatol LA-875) was added. Furthermore, 1.75 g of zirconium oxide fine particles (manufactured by Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd .: average primary particle size is 30 nm) is added, and dispersed for 10 minutes using an ultrasonic homogenizer (manufactured by Central Science Co., Ltd .: Sonifier 450). Processing was performed to obtain a uniform mixed solution. Thereafter, 33.25 g of a conductive polyfunctional acrylate compound (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: NK Oligo U-201PA60) was mixed and stirred in this mixed solution to obtain a uniform transparent hard coat layer forming coating material A2.
A substrate with an antireflection layer of Example 2 was produced according to Example 1 except that this transparent hard coat layer-forming coating material A2 was used.

[実施例3]
透明低屈折率層形成用塗料C2の調整
テトラメトキシシラン6.08gと、フッ素含有アルキルトリメトキシシラン(GE東芝シリコーン社製:TSL8257)0.66gと、1規定の硝酸0.23gと、純水9.0gと、メタノール73.88gと、プロピレングリコールモノメチルエーテル10gと、シリコーンオイルをアルコールで変性した変性シリコーンオイル(東レダウコーニング社製:SF8427)0.15gとを混合し、均一な透明低屈折率層形成用塗料C2とした。
この透明低屈折率層形成用塗料C2を用い、他は、実施例1に準じて実施例3の反射防止層付基材を作製した。
[Example 3]
Preparation of transparent low refractive index layer-forming coating material C2 Tetramethoxysilane 6.08g, fluorine-containing alkyltrimethoxysilane (GE Toshiba Silicone Co., Ltd .: TSL8257) 0.66g, 1N nitric acid 0.23g, pure water 9.0 g, 73.88 g of methanol, 10 g of propylene glycol monomethyl ether, and 0.15 g of modified silicone oil obtained by modifying silicone oil with alcohol (SF8427 manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.) are mixed to obtain a uniform transparent low refractive index. The paint for forming the rate layer was C2.
A substrate with an antireflection layer of Example 3 was produced according to Example 1 except that this transparent low refractive index layer-forming coating material C2 was used.

[実施例4]
透明低屈折率層形成用塗料C3の調整
テトラメトキシシラン7.43gと、1規定の硝酸0.23gと、純水9.0gと、メタノール73.14gと、プロピレングリコールモノメチルエーテル10gと、シリコーンオイルをアルコールで変性した変性シリコーンオイル(東レダウコーニング社製:SF8427)0.15gとを混合して均一化させ、その後、酸化珪素微粒子(日本アエロジル社製:Aerosil TT600、平均一次粒子径は約60nm(二次凝集タイプ))0.05gを添加し、その後、超音波ホモジナイザーにて分散平均粒子径が160〜190nmになるように分散処理を行い、均一な透明低屈折率層形成用塗料C3とした。
この透明低屈折率層形成用塗料C3を用い、他は、実施例1に準じて実施例4の反射防止層付基材を作製した。
[Example 4]
Preparation of transparent low refractive index layer-forming coating material C3: 7.43 g of tetramethoxysilane, 0.23 g of 1N nitric acid, 9.0 g of pure water, 73.14 g of methanol, 10 g of propylene glycol monomethyl ether, and silicone oil And 0.15 g of modified silicone oil modified with alcohol (Toray Dow Corning: SF8427) are mixed and homogenized, and then fine silicon oxide particles (Aerosil TT600, manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd., average primary particle size is about 60 nm) (Secondary agglomeration type)) 0.05 g is added, and then a dispersion treatment is carried out with an ultrasonic homogenizer so that the dispersion average particle diameter is 160 to 190 nm. did.
A substrate with an antireflection layer of Example 4 was produced according to Example 1 except that this transparent low refractive index layer-forming coating material C3 was used.

[実施例5]
(1)透明高屈折率層形成用塗料B2の調整
テトラエトキシシラン4.16gと、1規定の硝酸0.14gと、純水1.8gと、エタノール4.05gとを混合した溶液に、酸化チタン微粒子(日本アエロジル社製:P−25、平均一次粒子径は21nm)1.8gと、プロピレングリコールモノメチルエーテル10gと、670〜720nmに吸収ピークのあるブルー顔料粉末(東洋インキ社製:CYANINE BLUE BNRS)0.15gと、エタノール77.9gとを加え、上述した超音波ホモジナイザーを用いて10分間、分散させ、均一な透明高屈折率層形成用塗料B2とした。
[Example 5]
(1) Preparation of Transparent High Refractive Index Layer Coating Material B2 Tetraethoxysilane 4.16g, 1N nitric acid 0.14g, pure water 1.8g and ethanol 4.05g were mixed in a solution. Titanium fine particles (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd .: P-25, average primary particle size is 21 nm), propylene glycol monomethyl ether 10 g, and blue pigment powder having an absorption peak at 670 to 720 nm (manufactured by Toyo Ink Co., Ltd .: CYANINE BLUE (BNRS) 0.15 g and ethanol 77.9 g were added and dispersed for 10 minutes using the above-described ultrasonic homogenizer to obtain a uniform transparent high refractive index layer-forming coating material B2.

(2)透明低屈折率層形成用塗料C4の調整
テトラメトキシシラン7.6gと、1規定の硝酸0.23gと、純水9.0gと、480nmに吸収ピークのある黄色染料(Bayer.A.G.leverkusen社製:ASTRAZON YELLOE)0.24gと、メタノール72.78gと、プロピレングリコールモノメチルエーテル10gと、シリコーンオイルをアルコールで変性した変性シリコーンオイル(東レダウコーニング社製:SF8427)0.15gとを混合し、均一な透明低屈折率層形成用塗料C4とした。
これらの透明高屈折率層形成用塗料B2及び透明低屈折率層形成用塗料C4を用い、他は、実施例1に準じて実施例5の反射防止層付基材を作製した。
(2) Preparation of transparent low refractive index layer-forming coating material C4 7.6 g of tetramethoxysilane, 0.23 g of 1N nitric acid, 9.0 g of pure water, and a yellow dye having an absorption peak at 480 nm (Bayer. AGleverkusen 0.24 g of ASTRAZON YELLOE), 72.78 g of methanol, 10 g of propylene glycol monomethyl ether, and 0.15 g of modified silicone oil obtained by modifying silicone oil with alcohol (SF8427, Toray Dow Corning) A uniform transparent low refractive index layer-forming coating material C4 was obtained.
A substrate with an antireflection layer of Example 5 was produced in the same manner as in Example 1 except that these transparent high refractive index layer forming coating B2 and transparent low refractive index layer forming coating C4 were used.

[実施例6]
透明高屈折率層形成用塗料B3の調整
テトラエトキシシラン4.16gと、1規定の硝酸0.14gと、純水1.8gと、エタノール4.05gとを混合し、得られた溶液に、酸化チタン微粒子(日本アエロジル社製:P−25、平均一次粒子径は21nm)1.8gと、プロピレングリコールモノメチルエーテル10gと、480nmと680〜720nmに吸収ピークのある波長吸収剤(みどり化学社製:MIR101)0.24gと、エタノール77.81gを加え、上述した超音波ホモジナイザーを用いて10分間、分散させ、均一な透明高屈折率層形成用塗料B3とした。
この透明高屈折率層形成用塗料B3を用い、他は、実施例1に準じて実施例6の反射防止層付基材を作製した。
[Example 6]
Preparation of Transparent High Refractive Index Layer Coating Paint B3 4.16 g of tetraethoxysilane, 0.14 g of 1N nitric acid, 1.8 g of pure water, and 4.05 g of ethanol were mixed. Titanium oxide fine particles (Nippon Aerosil Co., Ltd .: P-25, average primary particle size is 21 nm) 1.8 g, propylene glycol monomethyl ether 10 g, wavelength absorbers having absorption peaks at 480 nm and 680 to 720 nm (manufactured by Midori Chemical Co., Ltd.) : MIR101) 0.24 g and 77.81 g of ethanol were added and dispersed for 10 minutes using the above-described ultrasonic homogenizer to obtain a uniform transparent high refractive index layer-forming coating material B3.
A substrate with an antireflection layer of Example 6 was produced in the same manner as in Example 1 except that this transparent high refractive index layer-forming coating material B3 was used.

[実施例7]
通常の膜厚設計法に従い、ボトム波長を610nmに設定すべく、透明高屈折率層および透明低屈折率層それぞれの光学膜厚を150nmとし、他は、実施例1に準じて実施例7の反射防止層付基材を作製した。
[Example 7]
In order to set the bottom wavelength to 610 nm in accordance with a normal film thickness design method, the optical film thickness of each of the transparent high refractive index layer and the transparent low refractive index layer is set to 150 nm. A substrate with an antireflection layer was produced.

[比較例1]
透明ハードコート層(透明導電膜)形成用塗料A3の調整
メチルエチルケトン34.47gとトルエン30gを混合し、次いで、分散剤として硫酸ドデシルナトリウム0.53gを添加、混合し、さらに、酸化ジルコニウム微粒子(住友大阪セメント社製:平均一次粒子径は30nm)17.5gを添加し、上述した超音波ホモジナイザーを用いて10分間、分散処理を施し、均一な混合液とした。
次いで、この混合液に導電性多官能アクリレート化合物(新中村化学社製:NKオリゴ U−201PA60)17.5gを混合して攪拌し、均一な透明ハードコート層形成用塗料A3とした。
この透明ハードコート層形成用塗料A3を用い、他は、実施例1に準じて比較例1の透明ハードコート層付基材を作製した。
[Comparative Example 1]
Preparation of Transparent Hard Coat Layer (Transparent Conductive Film) Forming Coating Material A3 34.47 g of methyl ethyl ketone and 30 g of toluene were mixed, 0.53 g of sodium dodecyl sulfate was added and mixed as a dispersant, and further zirconium oxide fine particles (Sumitomo) 17.5 g of Osaka Cement Co., Ltd. (average primary particle size is 30 nm) was added, and dispersion treatment was performed for 10 minutes using the above-described ultrasonic homogenizer to obtain a uniform mixed solution.
Next, 17.5 g of a conductive polyfunctional acrylate compound (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: NK Oligo U-201PA60) was mixed and stirred in this mixed solution to obtain a uniform transparent hard coat layer forming coating material A3.
A substrate with a transparent hard coat layer of Comparative Example 1 was prepared according to Example 1 except that this transparent hard coat layer forming coating A3 was used.

[比較例2]
透明ハードコート層(透明導電膜)形成用塗料A4の調整
メチルエチルケトン34.47gとトルエン30gを混合し、次いで、分散剤として硫酸ドデシルナトリウム0.89gを添加、混合し、さらに、酸化ジルコニウム微粒子(住友大阪セメント社製:平均一次粒子径は30nm)29.75gを添加し、上述した超音波ホモジナイザーを用いて10分間、分散処理を施し、均一な混合液とした。
次いで、この混合液に導電性多官能アクリレート化合物(新中村化学社製:NKオリゴ U−201PA60)5.25gを混合して攪拌し、均一な透明ハードコート層形成用塗料A4とした。
この透明ハードコート層形成用塗料A4を用い、他は、実施例1に準じて比較例2の透明ハードコート層付基材を作製した。
[Comparative Example 2]
Preparation of Transparent Hard Coat Layer (Transparent Conductive Film) Forming Coating Material A4 34.47 g of methyl ethyl ketone and 30 g of toluene were mixed, 0.89 g of sodium dodecyl sulfate was added and mixed as a dispersant, and further zirconium oxide fine particles (Sumitomo) 29.75 g (Osaka Cement Co., Ltd .: average primary particle size is 30 nm) was added, and dispersion treatment was performed for 10 minutes using the above-described ultrasonic homogenizer to obtain a uniform mixed solution.
Next, 5.25 g of a conductive polyfunctional acrylate compound (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: NK Oligo U-201PA60) was mixed and stirred in this mixed solution to obtain a uniform transparent hard coat layer forming coating material A4.
A substrate with a transparent hard coat layer of Comparative Example 2 was produced according to Example 1 except that this transparent hard coat layer forming coating A4 was used.

[評価]
実施例1、2及び比較例1、2のPETフィルム上に透明ハードコート層を形成した透明ハードコート層付基材について、全光線透過率、ヘイズ値、表面抵抗値、スチールウール強度、密着性、膜外観の各項目の評価を行った。
また、実施例1〜7のPETフィルム上に透明ハードコート層、透明高屈折率層、透明低屈折率層を順次積層した反射防止層付基材について、全光線透過率、ヘイズ値、最低反射率、視感度反射率、表面抵抗値、鉛筆硬度、スチールウール強度、接触角、密着性、膜外観の各項目の評価を行った。
また、実施例1、5、7の各反射防止層付基材については反射スペクトルを測定した。
[Evaluation]
About the base material with a transparent hard coat layer which formed the transparent hard coat layer on the PET film of Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2, total light transmittance, haze value, surface resistance value, steel wool strength, adhesion The film appearance was evaluated for each item.
Moreover, about the base material with an antireflection layer which laminated | stacked the transparent hard-coat layer, the transparent high refractive index layer, and the transparent low refractive index layer one by one on the PET film of Examples 1-7, a total light transmittance, a haze value, minimum reflection Evaluation was made for each of the following items: rate, luminous reflectance, surface resistance, pencil hardness, steel wool strength, contact angle, adhesion, and film appearance.
Moreover, about each base material with an antireflection layer of Examples 1, 5, and 7, the reflection spectrum was measured.

さらに、実施例1及び比較例1の透明ハードコート層の透過電子顕微鏡像(TEM像)を観察した。
上記の各項目の評価結果を表1及び表2に、実施例1、5、7の反射スペクトルの測定結果を図1〜図3に、実施例1の透明ハードコート層の透過電子顕微鏡像(TEM像)を図4に、それぞれ示す。
Further, transmission electron microscope images (TEM images) of the transparent hard coat layers of Example 1 and Comparative Example 1 were observed.
The evaluation results of the above items are shown in Tables 1 and 2, the measurement results of the reflection spectra of Examples 1, 5, and 7 are shown in FIGS. 1 to 3, and the transmission electron microscope image of the transparent hard coat layer of Example 1 ( The TEM images are shown in FIG.

上記の評価方法は以下の通りである。
全光線透過率:日本工業規格「JIS K 7105」に準じ、日本電色社製ヘ
イズメータにて測定
ヘイズ値 :同上
最低反射率 :紫外・可視光分光光度計V−570(日本分光社製)を用いて
5°正反射率を測定
表面抵抗値 :ハイレスタ(ダイヤインスツルメンツ社製)にて測定
The above evaluation method is as follows.
Total light transmittance: according to Japanese Industrial Standard “JIS K 7105”
Measured with Izmeter Haze value: Same as above Minimum reflectance: Using ultraviolet / visible spectrophotometer V-570 (manufactured by JASCO Corporation)
Measures 5 ° specular reflectance Surface resistance value: Measured with Hiresta (Dia Instruments)

鉛筆硬度 :日本工業規格「JIS K 5400」に準じ、1kg荷重下で
傷がつかない鉛筆の硬度
スチールウール強度:#0000スチールウールに250g/cmの荷重を
負荷しながら10回往復させた後に発生した傷の本数を測定
密着性 :日本工業規格「JIS K 5400」に準じ、膜表面の1cm
角の各辺を1mm間隔で切り込みをいれ、その表面を粘着テー
プで3回剥離試験をした後の残存する升目の数を測定
接触角 :協和界面化学社製:動的接触角測定装置にて測定
ハードコート屈折率:ハードコート層の両面間の屈折率差をエリプソメーター
(J.A.WOOLLAM JAPAN社製)により測定
Pencil hardness: According to Japanese Industrial Standard “JIS K 5400”, under 1 kg load
Hardness steel wool strength of the pencil scratches does not stick: a load of 250g / cm 2 to # 0000 steel wool
Measures the number of scratches generated after reciprocating 10 times with load Adhesiveness: 1 cm on the surface of the membrane according to Japanese Industrial Standard “JIS K 5400”
Cut each side of the corner at 1mm intervals, and stick the surface to the adhesive tape.
Measure the number of remaining meshes after three peeling tests with a contact angle: Kyowa Interface Chemical Co., Ltd .: measured with a dynamic contact angle measurement device Hard coat refractive index: Refractive index difference between both sides of the hard coat layer Ellipsometer
(Measured by JA Woollam Japan)

Figure 2005148376
Figure 2005148376

Figure 2005148376
Figure 2005148376

「評価結果」
実施例1、2の透明ハードコート層付基材では、比較例1、2の透明ハードコート層付基材と比較して、添加する酸化物微粒子が著しく少ない場合においても導電性、膜強度、密着性及び屈曲性に優れた反射防止性透明導電膜が得られることが分かった。
また、図4に示す実施例1のハードコート層のみを塗布、硬化させた膜の断面TEM像によれば、酸化物微粒子(図中、黒色の粒状部分)がハードコート層(図中、白色部分)の表面部分のみに偏在し、ハードコート層の内部には殆ど存在していないことが確認された。これにより、酸化物微粒子がハードコート層上部に選択的に局在していることが分かった。
一方、比較例1のハードコート層では、酸化物微粒子がハードコート層全体に分散していた。
"Evaluation results"
In the substrates with transparent hard coat layers of Examples 1 and 2, compared with the substrates with transparent hard coat layers of Comparative Examples 1 and 2, even when the oxide fine particles to be added are remarkably small, conductivity, film strength, It was found that an antireflection transparent conductive film excellent in adhesion and flexibility was obtained.
Moreover, according to the cross-sectional TEM image of the film | membrane which apply | coated and hardened only the hard-coat layer of Example 1 shown in FIG. 4, oxide microparticles | fine-particles (a black granular part in a figure) are hard-coat layers (in the figure, white). It was confirmed that it was unevenly distributed only on the surface portion of (part), and hardly existed inside the hard coat layer. Thereby, it was found that the oxide fine particles were selectively localized on the upper portion of the hard coat layer.
On the other hand, in the hard coat layer of Comparative Example 1, oxide fine particles were dispersed throughout the hard coat layer.

また、実施例1〜7の反射防止層付基材では、ハードコート層の基材側の屈折率と高屈折率層側の屈折率との差は、高屈折率層側の屈折率のほうが0.12程度高くなっていることが分かった。
例えば、実施例1で作製した膜の場合、ハードコート層の層厚は約1.5μmであったが、その層の屈折率の高い部分の厚みは約0.1μm程度であり、図4の結果と一致することが確認された。
Moreover, in the base material with an antireflection layer of Examples 1-7, the difference of the refractive index by the side of the base material side of a hard-coat layer and the refractive index by the side of a high refractive index layer is the direction of the refractive index by the side of a high refractive index layer. It turned out to be about 0.12.
For example, in the case of the film produced in Example 1, the layer thickness of the hard coat layer was about 1.5 μm, but the thickness of the high refractive index portion of the layer was about 0.1 μm. It was confirmed to be consistent with the results.

さらに、実施例1〜7で使用した有機バインダーと表面処理後の酸化ジルコニウム微粒子の臨界表面張力を測定したところ、有機バインダーの臨界表面張力は32〜36dyne/cmであるのに対し、表面処理後の酸化ジルコニウム微粒子の臨界表面張力は45〜50dyne/cmとなっており、両者の臨界表面張力差が十分に大きいために、塗布後の乾燥工程において、酸化物微粒子の親溶媒が減少し、互いの表面張力差により、互いに分離しようとする力が発生し、図4に示すような酸化物微粒子がハードコート層上部に選択的に局在しているハードコート層を形成することが分かった。   Furthermore, when the critical surface tension of the organic binder used in Examples 1 to 7 and the zirconium oxide fine particles after the surface treatment was measured, the critical surface tension of the organic binder was 32 to 36 dyne / cm, whereas after the surface treatment. The critical surface tension of the zirconium oxide fine particles is 45 to 50 dyne / cm, and the difference between the critical surface tensions of both is sufficiently large. It was found that due to the difference in surface tension, forces to separate each other were generated, and a hard coat layer in which oxide fine particles as shown in FIG. 4 were selectively localized on the hard coat layer was formed.

また、実施例3、4にも示す通り、透明低屈折率層にフッ素系材料や微粒子を添加することで、視感度反射率の低減が可能であることが分かった。
特に、微粒子を添加したものについては、「反射色むら」がほとんど確認されず、微粒子添加による反射色むらに効果があることが分かった。
また、実施例1、7に示す通り、高屈折率層、低屈折率層の層厚のバランスを調整することで、ボトム波長より長波長側および低波長側の反射率の上昇を緩和する効果があることが分かった。
さらに、実施例5、6に示す通り、波長吸収剤の添加を併用することにより、ボトム波長より長波長側、低波長側の反射率の上昇をさらに和らげることが可能であることが分かった。
Further, as shown in Examples 3 and 4, it was found that the visibility reflectance can be reduced by adding a fluorine-based material or fine particles to the transparent low refractive index layer.
In particular, in the case of adding fine particles, “reflection color unevenness” was hardly confirmed, and it was found that the reflection color unevenness due to addition of fine particles was effective.
In addition, as shown in Examples 1 and 7, the effect of alleviating the increase in reflectance on the longer wavelength side and the lower wavelength side than the bottom wavelength by adjusting the balance of the layer thicknesses of the high refractive index layer and the low refractive index layer. I found out that
Furthermore, as shown in Examples 5 and 6, it was found that the combined use of the addition of the wavelength absorber can further reduce the increase in reflectance on the longer wavelength side and the lower wavelength side than the bottom wavelength.

本発明の膜及び反射防止膜は、膜強度及び基材との密着性に優れ、柔軟性を有し、しかも、表面の虹むらのないものであるから、プラズマディスプレイ(PD)、液晶ディスプレイ(LCD)、エレクトロルミネッセントディスプレイ(EL)、陰極線管(CRT)、プロジェクション(PJTV)等の各種表示装置に適用可能であることはもちろんのこと、自動車、建築物等の窓材等、様々な工業分野においても、その効果は大である。   The film and antireflection film of the present invention are excellent in film strength and adhesion to a base material, have flexibility, and have no rainbow unevenness on the surface, so that plasma displays (PD), liquid crystal displays ( It can be applied to various display devices such as LCD), electroluminescent display (EL), cathode ray tube (CRT), projection (PJTV), etc., as well as various window materials such as automobiles and buildings. The effect is also significant in the industrial field.

本発明の実施例1の反射スペクトルの測定結果を示す図である。It is a figure which shows the measurement result of the reflection spectrum of Example 1 of this invention. 本発明の実施例5の反射スペクトルの測定結果を示す図である。It is a figure which shows the measurement result of the reflection spectrum of Example 5 of this invention. 本発明の実施例7の反射スペクトルの測定結果を示す図である。It is a figure which shows the measurement result of the reflection spectrum of Example 7 of this invention. 本発明の実施例1の透明ハードコート層の透過電子顕微鏡像を示す図である。It is a figure which shows the transmission electron microscope image of the transparent hard-coat layer of Example 1 of this invention.

Claims (23)

無機微粒子と有機系バインダーとを含有してなる膜であって、
前記無機微粒子は前記膜の一主面近傍に局在してなることを特徴とする膜。
A film containing inorganic fine particles and an organic binder,
The inorganic fine particles are localized in the vicinity of one main surface of the film.
無機微粒子と有機系バインダーとを含有してなる膜であって、
前記無機微粒子は前記膜の厚み方向に濃度勾配を有していることを特徴とする膜。
A film containing inorganic fine particles and an organic binder,
The inorganic fine particles have a concentration gradient in the thickness direction of the film.
前記膜は塗膜であることを特徴とする請求項1または2記載の膜。   The film according to claim 1, wherein the film is a coating film. 前記膜はハードコート膜であることを特徴とする請求項1、2または3記載の膜。   The film according to claim 1, wherein the film is a hard coat film. 前記無機微粒子は金属酸化物微粒子であることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか1項記載の膜。   The film according to any one of claims 1 to 4, wherein the inorganic fine particles are metal oxide fine particles. 前記無機微粒子の前記膜における含有量は、5重量%以上かつ80重量%以下であることを特徴とする請求項1ないし5のいずれか1項記載の膜。   The film according to any one of claims 1 to 5, wherein the content of the inorganic fine particles in the film is not less than 5 wt% and not more than 80 wt%. 前記無機微粒子の平均一次粒子径は2nm以上かつ80nm以下であり、かつ、前記膜内における平均分散粒子径は2nm以上かつ100nm以下であることを特徴とする請求項1ないし6のいずれか1項記載の膜。   The average primary particle diameter of the inorganic fine particles is 2 nm or more and 80 nm or less, and the average dispersed particle diameter in the film is 2 nm or more and 100 nm or less. The membrane described. 前記膜の両面間の屈折率差は0.05以上であることを特徴とする請求項1ないし7のいずれか1項記載の膜。   The film according to any one of claims 1 to 7, wherein a difference in refractive index between both surfaces of the film is 0.05 or more. 前記膜は基材上に形成され、当該膜の前記基材側の面と前記基材との間の屈折率差は0.1以内であることを特徴とする請求項1ないし8のいずれか1項記載の膜。   9. The film according to claim 1, wherein the film is formed on a substrate, and a difference in refractive index between the substrate-side surface of the film and the substrate is within 0.1. 2. The membrane according to item 1. 前記無機微粒子の屈折率は1.45以上かつ2.7以下であることを特徴とする請求項1ないし9のいずれか1項記載の膜。   The film according to any one of claims 1 to 9, wherein the refractive index of the inorganic fine particles is 1.45 or more and 2.7 or less. 前記無機微粒子の臨界表面張力と前記有機系バインダーの臨界表面張力との差は5dyne/cm以上であることを特徴とする請求項1ないし10のいずれか1項記載の膜。   The film according to any one of claims 1 to 10, wherein a difference between a critical surface tension of the inorganic fine particles and a critical surface tension of the organic binder is 5 dyne / cm or more. 前記膜は導電性高分子を含有してなることを特徴とする請求項1ないし11のいずれか1項記載の膜。   The film according to claim 1, wherein the film contains a conductive polymer. 請求項1ないし12のいずれか1項記載の膜上に1層以上の透明膜を備えてなることを特徴とする反射防止膜。   An antireflection film comprising one or more transparent films on the film according to any one of claims 1 to 12. 前記膜の前記透明膜側の面の屈折率は1.50以上かつ1.72以下であることを特徴とする請求項13記載の反射防止膜。   The antireflective film according to claim 13, wherein a refractive index of a surface of the film on the transparent film side is 1.50 or more and 1.72 or less. 前記透明膜の少なくとも1層に、最大吸収波長が400nm以上かつ500nm以下、または680nm以上かつ800nm以下の光吸収剤を含有してなることを特徴とする請求項13または14記載の反射防止膜。   The antireflection film according to claim 13 or 14, wherein at least one layer of the transparent film contains a light absorber having a maximum absorption wavelength of 400 nm to 500 nm, or 680 nm to 800 nm. 前記透明膜の少なくとも1層に、その層厚の1.1倍以上かつ1.6倍以下の平均分散粒子径の球状微粒子を含有してなることを特徴とする請求項13、14または15記載の反射防止膜。   16. The spherical fine particles having an average dispersed particle diameter of 1.1 times or more and 1.6 times or less of the layer thickness are contained in at least one layer of the transparent film. Antireflection film. 前記球状微粒子は、最大吸収波長が400nm以上かつ500nm以下、または680nm以上かつ800nm以下の光吸収剤を含有してなることを特徴とする請求項16記載の反射防止膜。   The antireflection film according to claim 16, wherein the spherical fine particles contain a light absorber having a maximum absorption wavelength of 400 nm to 500 nm, or 680 nm to 800 nm. 前記球状微粒子の面密度は3個/μm以上かつ30個/μm以下であることを特徴とする請求項16または17記載の反射防止膜。 Areal density 3 / [mu] m 2 or more and 30 / [mu] m 2 claim 16 or 17 antireflection film, wherein the less is the spherical microparticles. 前記透明膜は複数層からなり、
前記複数層のうち、最も屈折率の低い層の光学膜厚は140nm±30nmの範囲内にあり、最も屈折率の高い層の光学膜厚は最も屈折率の低い層の光学膜厚の1.2倍以上かつ2.5倍以下であることを特徴とする請求項13ないし18のいずれか1項記載の反射防止膜。
The transparent film is composed of a plurality of layers,
Among the plurality of layers, the optical film thickness of the layer having the lowest refractive index is in the range of 140 nm ± 30 nm, and the optical film thickness of the layer having the highest refractive index is 1 of the optical film thickness of the layer having the lowest refractive index. The antireflection film according to any one of claims 13 to 18, wherein the antireflection film is 2 times or more and 2.5 times or less.
前記透明膜の少なくとも1層に、オルガノシロキサンまたはフルオロ炭素化合物を含有してなることを特徴とする請求項13ないし19のいずれか1項記載の反射防止膜。   20. The antireflection film according to any one of claims 13 to 19, wherein at least one layer of the transparent film contains an organosiloxane or a fluorocarbon compound. 前記オルガノシロキサンまたはフルオロ炭素化合物は、アルキル基、イソシアネート基、エポキシ基、アクリル基、アルキル珪素化合物の群から選択された1種または2種以上により変性されていることを特徴する請求項20記載の反射防止膜。   21. The organosiloxane or fluorocarbon compound is modified with one or more selected from the group consisting of an alkyl group, an isocyanate group, an epoxy group, an acrylic group, and an alkyl silicon compound. Antireflection film. 前記オルガノシロキサンの主鎖の珪素数は3以上かつ15以下であることを特徴する請求項20または21記載の反射防止膜。   The antireflection film according to claim 20 or 21, wherein the number of silicon in the main chain of the organosiloxane is 3 or more and 15 or less. 前記フルオロ炭素化合物の炭素数は3以上かつ10以下であることを特徴する請求項20、21または22記載の反射防止膜。   23. The antireflection film according to claim 20, 21 or 22, wherein the fluorocarbon compound has 3 or more and 10 or less carbon atoms.
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