JP2005257283A

JP2005257283A - マイクロチップ

Info

Publication number: JP2005257283A
Application number: JP2004065062A
Authority: JP
Inventors: Kimiya Takasugi; 公哉高杉; Toshio Yoshida; 敏雄吉田
Original assignee: FLUIDWARE TECHNOLOGIES KK
Current assignee: FLUIDWARE TECHNOLOGIES KK
Priority date: 2004-03-09
Filing date: 2004-03-09
Publication date: 2005-09-22

Abstract

【課題】ガラス基板に代えて、合成樹脂基板を対面基板として使用してもＰＤＭＳ基板と恒久接着させることができるマイクロチップを提供する。
【解決手段】少なくとも微細流路が形成されたポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）基板と、該ＰＤＭＳ基板の微細流路形成面に接着された対面基板とからなるマイクロチップにおいて、前記対面基板がＰＤＭＳ以外の合成樹脂から形成されており、前記対面基板の貼り合わせ面には酸化シリコン膜が成膜されており、該対面基板が酸化シリコン膜を介して前記ＰＤＭＳ基板と接着されていることを特徴とするマイクロチップ。
【選択図】図１

Description

本発明はポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）とその他の合成樹脂基板とからなるマイクロチップ及び該マイクロチップの製造方法に関する。

最近、マイクロスケール・トータル・アナリシス・システムズ（μＴＡＳ）又はラブ・オン・チップ(Lab-on-Chip)などの名称で知られるように、基板内にマイクロチャネルや反応容器及びポートなどの微細構造を設け、該微細構造内で物質の化学反応、合成、精製、抽出、生成及び／又は分析など各種の操作を行うように構成されたマイクロデバイスが提案され、一部実用化されている。このような目的のために製作された、基板内にマイクロチャネル、ポート及び反応容器などの微細構造を有する構造物は総称して「マイクロチップ」又は「マイクロ流体デバイス」と呼ばれる。マイクロチップは遺伝子解析、臨床診断、薬物スクリーニングなどの化学、生化学、薬学、医学、獣医学分野のみならず、化学工業、環境計測などの幅広い用途に使用できる。常用サイズの同種の装置に比べて、マイクロチップは(1)サンプル及び試薬の使用量が著しく少ない、(2)分析時間が短い、(3)感度が高い、(4)現場に携帯し、その場で分析できる、及び(5)使い捨てできるなどの利点を有する。

従来のマイクロチップ１００は、例えば、図７Ａ及びＢに示されるように、第１の基板１０１に少なくとも１本のマイクロチャネル１０２が形成されており、このマイクロチャネル１０２の少なくとも一端には入出力ポート１０３，１０４が形成されており、基板１０１の下面側に対面基板１０５が接着されている。この対面基板１０５の存在により、ポート１０３，１０４及びマイクロチャネル１０２の底部が封止される。入出力ポート１０３，１０４の主な用途は、(a)試薬や検体サンプルの注入（分注）、(b)廃液や生成物の取り出し、(c)気体圧力の供給（主に、送液のための正圧や負圧の印加）、(d)大気開放（送液時に発生する内圧の分散や、反応で生じたガスの解放）及び(e)密閉（液体の蒸発防止や故意に内圧を発生させる目的のため）などである。

マイクロチップの材質や構造及び製造方法は例えば、特許文献１及び特許文献２などに開示されている。その中で、第１の基板の形成用素材としてエラストマータイプのシリコン樹脂であるポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）を用いたことを特徴とする一連のマイクロチップが開発されている。ＰＤＭＳはチャネルなどの微細構造を有するマスター（鋳型）に対する良好なモールド転写性や透明性、耐薬品生、生体適合性などを有し、マイクロチップの構成部材として特に優れた特徴を有している。

ＰＤＭＳ製マイクロチップの製造上の更なる利点は、ＰＤＭＳ基板と対面基板との貼り合わせに、いわゆる恒久接着（パーマネント・ボンディング）が利用できることである。第１の基板と対面基板との貼り合わせにおいては、チャネルなどの微細構造を損なうことなく、かつ、微細構造を良好に封止しなければならない。従って、一般的な接着剤を用いた貼り合わせは行うことができない。ＰＤＭＳ基板の恒久接着では、貼り合わせ面を適宜酸素プラズマなどによる表面改質処理した後、両方の基板の貼り合わせ面を密着して重ね合わせ、一定時間放置することで、容易に接着が行えるものである。

従来、ＰＤＭＳ基板と恒久接着するものは、ＰＤＭＳ基板同士かガラス基板だけであった。対面基板としてＰＤＭＳ基板を恒久接着させても、機械的強度が弱いために、取り扱いに問題があった。また、ＰＤＭＳは比較的高価であり、対面基板の材料としてＰＤＭＳを使用すると、マイクロチップ全体のコストアップを招くこととなる。一方、ガラス基板は機械的強度が高いので、取り扱い性の点では問題が無かった。しかし、ガラスからなる対面基板を有するＰＤＭＳ製マイクロチップは次のような問題点を有している。(1)使用済みマイクロチップの廃棄を行う際、恒久接着したガラス基板からＰＤＭＳ基板を引き剥がすことは非常に困難であり、各基板の分別廃棄が困難である；(2)ガラス基板は検出器などの装置に設置する場合、位置決め部分との接触が何度も起こると割れる恐れがあり、割れたガラスは鋭利な刃物と同様で、人体に怪我を及ぼし易い。従って、ガラス基板を恒久接着したマイクロチップは、取り扱いに十分な注意が必要である；(3)ガラスを厚くするため、石英ガラスなどのマイクロチップを搭載することは困難であった。なぜなら、一般市場で使用されている石英ガラス等のチップの流路を形成するシート厚は、５０μｍ〜１００μｍで、この厚さをベースに検出器の光軸を設定しているのが一般的であるためである；(4)ガラス基板への機械加工が困難で高価である。ＰＤＭＳ基板の他に、対面基板としてのガラス基板へもチップ方向を示したり、装置への誤挿入防止のためのオリエンテーション・フラットとしての切り欠きやノッチ、装置内への装着時の位置決め用スプロケットホールやピン・突起、光学読取位置基準マーク、ハンドリング用ノブ、製品番号や型式の刻印、検査情報などを記録保存したＩＣタグの埋め込みなど、各種の要件を盛り込む必要性が出てくる。このような観点から考察すると、ドリル穴加工や切削加工などの機械加工が行い難いガラスは必ずしも好ましい材料であるとは言えない。(5)ガラスは一般的に量産性が無い。ガラスは一部に低融点でモールド成形が行えるものが出てきたが、量産性や製造コスト面では合成樹脂の射出成形などと比較すると著しく見劣りがする；(6)ガラス基板は一般的に材料費が高い。ガラスは原料単価が高いばかりか、板材としての単価も高い；(7)ガラス基板は重量が重い。ＰＤＭＳ基板の比重は水とほぼ同等であるのに対し、ガラス基板はその２倍以上である。マイクロチップを一枚一枚扱う場合に、その重さは問題とはならないが、量産して大量に保存・輸送する場合には相当な重量となる。

このため、ＰＤＭＳ基板からなるマイクロチップの対面基板としてガラスに代えて、合成樹脂製の基板の使用が試みられた。しかし、ＰＤＭＳ基板と合成樹脂基板は恒久接着させることが困難である。貼り合わせ面を表面改質処理してからＰＤＭＳ基板と合成樹脂基板を貼り合わせると一時的に接着させることはできるが、数時間経過後には剥がれてしまい、実用にはならなかった。また、合成樹脂基板はガラス基板に比べて表面改質処理に対する耐性が低く、恒久接着のために必要な表面改質処理を好適に行うことができないなどの問題点も存在する。ＰＤＭＳ基板と合成樹脂基板との界面に接着剤を介在させれば、両基板を強固に接着させることはできるが、使用した接着剤が微細流路などを閉塞したり、試薬やサンプルなどにも悪影響を及ぼすことがあった。

特開２０００−２７８１３号公報特開２００１−１５７８５５号公報

従って、本発明の目的はガラス基板に代えて、合成樹脂基板を対面基板として使用してもＰＤＭＳ基板と恒久接着させることができるマイクロチップを提供することである。

前記課題を解決するための手段は、第１に、少なくとも微細流路が形成されたポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）基板と、該ＰＤＭＳ基板の微細流路形成面に接着された対面基板とからなるマイクロチップにおいて、前記対面基板がＰＤＭＳ以外の合成樹脂から形成されており、前記対面基板の貼り合わせ面には酸化シリコン膜が成膜されており、該対面基板が酸化シリコン膜を介して前記ＰＤＭＳ基板と接着されていることを特徴とするマイクロチップである。
前記課題を解決するための手段は、第２に、前記対面基板がポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリエチレン（ＰＳ）及びポリアクリロニトリル（ＰＡＮ）からなる群から選択される材料から形成されており、前記酸化シリコン膜の膜厚が１ｎｍ〜１００ｎｍの範囲内であることを特徴とする前記第１のマイクロチップである。
前記課題を解決するための手段は、第３に、前記対面基板がポリカーボネート（ＰＣ）又はポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）から形成されており、前記酸化シリコン膜の膜厚が１０ｎｍ〜４０ｎｍの範囲内であることを特徴とする前記第２ののマイクロチップである。
前記課題を解決するための手段は、第４に、少なくとも微細流路が形成されたポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）基板と、該ＰＤＭＳ基板の微細流路形成面に接着された対面基板とからなるマイクロチップの製造方法において、
(a)ＰＤＭＳ以外の合成樹脂から形成された対面基板の一方の表面に酸化シリコン膜を成膜するステップと、
(b)少なくとも微細流路が形成されたＰＤＭＳ基板を準備するステップと、
(c)前記酸化シリコン膜付き対面基板とＰＤＭＳ基板の各貼り合わせ面を表面改質処理するステップと、
(d)表面改質処理された酸化シリコン膜付き対面基板を、該酸化シリコン膜を介して、表面改質処理されたＰＤＭＳ基板の微細流路形成面に接着させるステップとからなることを特徴とするマイクロチップの製造方法である。
前記課題を解決するための手段は、第５に、前記対面基板がポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリエチレン（ＰＳ）及びポリアクリロニトリル（ＰＡＮ）からなる群から選択される材料から形成されており、前記酸化シリコン膜はスパッタ法により、１ｎｍ〜１００ｎｍの範囲内の膜厚に成膜されることを特徴とする前記第４のマイクロチップの製造方法である。

本発明のマイクロチップによれば、酸化シリコン膜を介して合成樹脂製対面基板とＰＤＭＳ基板を貼り合わせると、両基板を恒久接着させることができる。これにより、従来のガラス製対面基板を使用することに伴う前記(1)〜(7)の欠点は全て解消される。

以下、図面を参照しながら本発明の好ましい実施態様について具体的に説明する。図１は本発明によるマイクロチップ１の一例の概要断面図である。本発明のマイクロチップ１におけるＰＤＭＳ基板３には微細流路５とこの微細流路に連通し、かつ、大気に開放したポート７及び９が形成されている。このような微細流路及びポートの形成方法自体は前記特許文献１及び特許文献２などに記載されており、これ以上の説明は特に必要ないであろう。また、言うまでもなく、ＰＤＭＳ基板３には図示された微細流路５及びポート７，９の他に、必要に応じて、反応容器、逆止弁、マイクロポンプなど種々の構成要素を形成することができる。また、ＰＤＭＳ基板３は図示された単層に限らず、２枚以上を積層させた多層構造のＰＤＭＳ基板も使用できる。

本発明によるマイクロチップ１では対面基板１１として、合成樹脂製基板を使用する。この合成樹脂製対面基板１１は透明であることが好ましい。ＰＤＭＳ基板は透明であり、対面基板が透明であれば、光学的検出装置などを使用することが可能になる。しかし、場合により不透明な対面基板を使用することもできる。このような対面基板形成用の合成樹脂としては、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリエチレン（ＰＳ）、ポリアクリロニトリル（ＰＡＮ）などが好適に使用される。これらの合成樹脂はフィルム状〜シート状の何れの形態でも使用できる。例えば、合成樹脂製対面基板１１は５０μｍ程度の厚さを有するフィルムから厚さ１００μｍ〜１ｍｍ程度のシートであることができる。

本発明によるマイクロチップ１の最大の特徴は、ＰＤＭＳ基板３と合成樹脂製対面基板１１との界面に酸化シリコン（ＳｉＯ_２）膜１３が存在することである。この酸化シリコン膜１３は合成樹脂製対面基板１１の貼り合わせ面側に形成される。酸化シリコン膜１３は常用の真空蒸着法，イオンプレーテイング法，スパッタ法，常圧ＣＶＤ法、減圧ＣＶＤ法及びプラズマＣＶＤ法等の気相成長法により形成することができる。スパッタ法は膜厚均一性が優れており、基板温度が上がらないこと、ターゲットの組成通りの蒸着膜が得られるなどの利点があるので、合成樹脂基板への酸化シリコン膜はスパッタ法で成膜することが好ましい。このような気相成長法自体は当業者に周知であり、特に説明する必要はないであろう。

この酸化シリコン膜１３の膜厚は一般的に、１ｎｍ〜１００ｎｍの範囲内である。酸化シリコン膜１３の膜厚が１ｎｍ未満では均一な厚さの酸化シリコン膜を形成するのが非常に困難となるばかりか、ＰＤＭＳ基板３と合成樹脂製対面基板１１とを恒久接着させる効果が不十分となる。一方、酸化シリコン膜１３の膜厚が１００ｎｍ超になると、ＰＤＭＳ基板３と合成樹脂製対面基板１１とを恒久接着させる効果が飽和し、成膜コストが上がるだけで不経済となるばかりか、光透過性に悪影響を及ぼすので好ましくない。酸化シリコン膜の膜厚は１０ｎｍ〜４０ｎｍの範囲内であることが一層好ましい。この範囲内の膜厚であれば、ＰＤＭＳ基板３と合成樹脂製対面基板１１とを恒久接着させるのに十分であるばかり、光透過性にも殆ど悪影響を及ぼさない。

合成樹脂製対面基板を酸化シリコン膜を介してＰＤＭＳ基板と接合させると、従来のガラス基板と同等な恒久接着が得られることが発見され、本発明はこの知見に基づき完成された。しかし、酸化シリコン膜を介してＰＤＭＳ基板と合成樹脂製対面基板を接合させると恒久接着が得られる正確なメカニズムは未だ解明されていない。想像の範囲内であるが、酸化シリコン膜のシリコン原子とＰＤＭＳ基板のシリコン原子との間で何らかの結合が生成されるために恒久接着するものと思われる。

次に、本発明のマイクロチップ１の製造方法について説明する。先ず、合成樹脂製対面基板１１を準備し、この基板の酸化シリコン膜成膜面を必要に応じて清浄にするための処理を行う。その後、この基板１１を気相成長装置（例えば、スパッタ装置）内に入れ、清浄面上に酸化シリコン膜を所定の膜厚になるまで成長させ、気相成長装置から取り出す。次いで、予め微細流路５やポート７，９などが形成されたＰＤＭＳ基板３と酸化シリコン膜が成膜された合成樹脂製対面基板１１とをプラズマ装置内に入れ、酸素プラズマで表面処理する。表面改質処理は酸素雰囲気下でエキシマＵＶ光を照射することにより行うこともできる。ＰＤＭＳなどの基板表面の酸素プラズマ又はエキシマＵＶ光による表面改質処理法の具体的内容は当業者に公知である。例えば、反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）装置による酸素プラズマ処理を例にとると、ＰＤＭＳ基板及び合成樹脂対面基板に対して、酸素雰囲気下において、数十Ｗ程度の出力で、数秒未満のプラズマ発生時間で処理すると好適な改質表面が得られる。処理後、ＰＤＭＳ基板３と合成樹脂製対面基板１１を取り出し、ＰＤＭＳ基板３の微細流路形成面側と合成樹脂製対面基板１１の酸化シリコン膜成膜面側とを接合させる。この際、注意すべきことは、ＰＤＭＳ基板３の微細流路形成面及び合成樹脂製対面基板１１の酸化シリコン膜成膜面を絶対に擦らないことである。擦ると、表面に擦過傷が入り、恒久接着に悪影響が出る危険がある。また、両基板を接合させる際、必要に応じて加圧することもできる。

(1)ＰＤＭＳ基板の作製
先ず、上面に微細流路などの原型となる微細構造を有するマスター（鋳型）を準備した。このような鋳型自体は公知慣用の光リソグラフィー技術により作製することができる。次いで、このマスターの上面をフルオロカーボン（ＣＨＦ_３）の存在下で反応性イオンエッチング装置により処理し、離型膜を形成させた。この離型膜は後の工程でＰＤＭＳ基板をマスターから剥離し易くするために必要である。離型膜形成後、このマスターの上面にＰＤＭＳプレポリマーと硬化剤を１０：１の割合で混合し、脱気したＰＤＭＳプレポリマー混合液（米国のダウ・コーニング社製のSYLGARD 184 SILICONE ELASTOMER）をスピンコート法により塗布した。このマスターをオーブン中で６５℃で４時間加熱し、塗布されたＰＤＭＳプレポリマー混合液を硬化させた。オーブンから取り出し、常温に戻るまで放置した後、硬化したＰＤＭＳ基板をマスターから剥離した。厚さ１ｍｍのＰＤＭＳ基板が得られた。得られたＰＤＭＳ基板について更に外形トリミング及び入出力ポートとなる穴開け加工を施して３ｃｍ×４ｃｍのサイズのＰＤＭＳ基板を作製した。
(2)対面基板の作製
厚さ１ｍｍで５ｃｍ×６ｃｍのサイズのポリカーボネート（ＰＣ）基板を準備した。このＰＣ基板の表面に、スパッタ装置（徳田製作所（株）製ＣＦＳ・１２Ｐ・１００）を用いて厚さ２０ｎｍの酸化シリコン膜を成膜させた。成膜条件は、到達圧力：７×１０^−４Ｐａ、逆スパッタ（ＰＣ基板表面清浄化処理）：３００Ｗ／５分間（１００％Ｏ_２使用）、ターゲット：ＳｉＯ_２、雰囲気ガス：Ａｒ３０SCCM、圧力：０．２Ｐａ、電力：ＲＦ１ｋＷ、プレスパッタ（シャッターを閉じた状態でスパッタを行い装置を安定化させる）：５分間、スパッタ時間（シャッター開放時間）：３分３０秒間であった。
(3)表面改質処理
得られたＰＤＭＳ基板と酸化シリコン膜付きＰＣ基板を反応性イオンエッチング装置（サムコインターナショナル製コンパクトエッチャーモデルＦＡ−１）内で酸素プラズマにより各貼り合わせ面の表面改質処理を行った。表面改質処理条件は酸素ガス流量２６SCCM、チャンバー内圧力２０Ｐａ、ＲＦ出力２５Ｗ、プラズマ発生時間０．８秒〜１秒間であった。
(4)貼り合わせ
ＰＤＭＳ基板と酸化シリコン膜付きＰＣ基板を、反応性イオンエッチング装置から取り出し、ＰＤＭＳ基板の微細流路形成面と、ＰＣ基板の酸化シリコン膜面とを貼り合わせマイクロチップを完成させた。

対面基板の材料をポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）としたこと、及び酸化シリコン膜の膜厚を４０ｎｍとし、スパッタ時間を７分間としたこと以外は実施例１と同じ条件及び方法によりマイクロチップを作製した。

比較例１

対面基板の材料をガラスとし、このガラス基板に対して酸化シリコン膜を成膜しなかったこと以外は実施例１と同じ条件及び方法によりマイクロチップを作製した。

比較例２

対面基板の材料をＰＣとし、このＰＣ基板に対して酸化シリコン膜を成膜しなかったこと以外は実施例１と同じ条件及び方法によりマイクロチップを作製した。

前記実施例１〜２及び比較例１〜２でそれぞれ得られたマイクロチップを２４時間大気中に放置した後、剥離試験を行った。剥離試験はＰＤＭＳ基板と対面基板を指でそれぞれ掴み、引き剥がすことにより行った。その結果、実施例１、実施例２及び比較例１のマイクロチップでは、ＰＤＭＳ基板が引き千切れてしまうほどの強い接着強度を示したが、比較例２のマイクロチップではＰＤＭＳ基板がＰＣ対面基板から簡単に剥がれてしまった。これらの事実から、本発明によりＰＣやＰＭＭＡなどの合成樹脂基板でも酸化シリコン膜を介してＰＤＭＳ基板と接合させれば、従来のガラス基板（比較例１）と同等の恒久接着が得られることが確認される。

本発明の合成樹脂製対面基板と恒久接着されたＰＤＭＳ基板からなるマイクロチップにより、例えば、市場にある既存のマイクロチップを使った電気泳動装置を検出器として使用でき、電極位置と検出位置を同一とし、中間流路を自由に設計したオリジナルなカスタムオーダーチップを、作ったらすぐ実験に供することが可能になる。このことより、日本及び諸外国でマイクロ流体チップを利用した様々な新製品開発は格段に加速されることが強く期待できる。

本発明によるマイクロチップの一例の概要断面図である。（Ａ）は従来のマイクロチップの一例の概要平面図であり、（Ｂ）は（Ａ）におけるＢ−Ｂ線に沿った概要断面図である。

符号の説明

１本発明のマイクロチップ
３ＰＤＭＳ基板
５微細流路
７，９ポート
１１合成樹脂製対面基板
１３酸化シリコン膜

Claims

少なくとも微細流路が形成されたポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）基板と、該ＰＤＭＳ基板の微細流路形成面に接着された対面基板とからなるマイクロチップにおいて、
前記対面基板がＰＤＭＳ以外の合成樹脂から形成されており、前記対面基板の貼り合わせ面には酸化シリコン膜が成膜されており、該対面基板が酸化シリコン膜を介して前記ＰＤＭＳ基板と接着されていることを特徴とするマイクロチップ。
前記対面基板がポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリエチレン（ＰＳ）及びポリアクリロニトリル（ＰＡＮ）からなる群から選択される材料から形成されており、前記酸化シリコン膜の膜厚が１ｎｍ〜１００ｎｍの範囲内であることを特徴とする請求項１記載のマイクロチップ。
前記対面基板がポリカーボネート（ＰＣ）又はポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）から形成されており、前記酸化シリコン膜の膜厚が１０ｎｍ〜４０ｎｍの範囲内であることを特徴とする請求項２記載のマイクロチップ。
少なくとも微細流路が形成されたポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）基板と、該ＰＤＭＳ基板の微細流路形成面に接着された対面基板とからなるマイクロチップの製造方法において、
(a)ＰＤＭＳ以外の合成樹脂から形成された対面基板の一方の表面に酸化シリコン膜を成膜するステップと、
(b)少なくとも微細流路が形成されたＰＤＭＳ基板を準備するステップと、
(c)前記酸化シリコン膜付き対面基板とＰＤＭＳ基板の各貼り合わせ面を表面改質処理するステップと、
(d)表面改質処理された酸化シリコン膜付き対面基板を、該酸化シリコン膜を介して、表面改質処理されたＰＤＭＳ基板の微細流路形成面に接着させるステップとからなることを特徴とするマイクロチップの製造方法。
前記対面基板がポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリエチレン（ＰＳ）及びポリアクリロニトリル（ＰＡＮ）からなる群から選択される材料から形成されており、前記酸化シリコン膜はスパッタ法により、１ｎｍ〜１００ｎｍの範囲内の膜厚に成膜されることを特徴とする請求項４記載のマイクロチップの製造方法。