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JP2005268935A - Lc共振子 - Google Patents

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JP2005268935A
JP2005268935A JP2004074804A JP2004074804A JP2005268935A JP 2005268935 A JP2005268935 A JP 2005268935A JP 2004074804 A JP2004074804 A JP 2004074804A JP 2004074804 A JP2004074804 A JP 2004074804A JP 2005268935 A JP2005268935 A JP 2005268935A
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Masayuki Yoneda
昌行 米田
Katsuji Matsuda
勝治 松田
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Murata Manufacturing Co Ltd
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Murata Manufacturing Co Ltd
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Abstract

【課題】 コンデンサ用導体パターンに誘起される渦電流に起因した問題発生を防止する。
【解決手段】 コンデンサ部を構成するコンデンサ用導体パターン3,4と、インダクタ部を構成するコイルパターン7とが絶縁層6を介して対向する態様でもって、インダクタ部とコンデンサ部を積層配置してLC共振子を構成する。コンデンサ部を構成する複数のコンデンサ用導体パターンのうち、少なくとも、絶縁層を介してコイルパターン7と隣り合っているコンデンサ用導体パターン3には、コイルパターン7の巻回中心部分に対向させて、コイルパターン7の最内巻き形状に応じた形状の透孔部20を設ける。また、透孔部20の周端縁が閉ループを形成することを避けるためのループカット部21を透孔部20からコンデンサ用導体パターン3の外端縁に掛けて伸長形成する。
【選択図】 図1

Description

本発明は、フィルタ回路や発振回路等の回路に組み込まれるLC共振子に関するものである。
図4(a)にはLC共振子の一外観例が簡略化されて示され、図4(b)にはそのLC共振子の分解図が模式的に示されている。このLC共振子1は誘電体又は磁性体から成る基板2を有し、この基板2の表裏両面には、それぞれ、当該基板2を介して対向し合うコンデンサ用導体パターン3,4が形成されている。これらコンデンサ用導体パターン3,4はコンデンサ部(C)を構成している。
それらコンデンサ用導体パターン3,4のうちの一方側(図4(b)の例では、コンデンサ用導体パターン4)は絶縁層5により覆われ当該絶縁層5により保護されている。また、他方側のコンデンサ用導体パターン3の表面側には、絶縁層6(6a,6b)と、コイルパターン7(7a,7b)とが交互に積層形成され、最も外側のコイルパターン7bは絶縁層8により覆われ当該絶縁層8により保護されている。コイルパターン7a,7bの巻回内側端部同士は、コイルパターン7a,7b間の絶縁層6bに形成されたビアホール10を介して電気的に直列に接続されており、当該コイルパターン7a,7bはインダクタ部(L)を構成している。
基板2とコンデンサ用導体パターン3,4と絶縁層5,6,8とコイルパターン7とが積層形成されて成る積層体11には、例えば図4(a)に示す左右両側の側面に、それぞれ、外部接続用電極12,13が表面側から底面側に渡って形成されている。図4(b)の例では、コンデンサ用導体パターン3,4のうちの一方側3は外部接続用電極12に接続され、他方側4は外部接続用電極13に接続されている。また、コイルパターン7a,7bのうちの一方側7bの巻回外側端部は外部接続用電極12に接続され、他方側7aの巻回外側端部は外部接続用電極13に接続されている。つまり、コンデンサ用導体パターン3,4から成るコンデンサCと、コイルパターン7a,7bから成るインダクタLとは、外部接続用電極12,13によって、図4(c)の等価回路図に示されるように、並列接続されてLC並列回路を構成している。このLC並列回路は外部接続用電極12,13を介して外部の回路と電気的に接続することができる。
特開平3−253013号公報 特許第2734232号公報
ところで、近年、図4に示されるようなLC共振子部品は、小型化の要求に応じてサイズが小さくなってきている。このため、必然的に、コンデンサ用導体パターン3と、コイルパターン7との間の間隔が狭くなってきている。このコンデンサ用導体パターン3とコイルパターン7の近接配置によって、コイルパターン7の巻回中心部分を通る強い磁束がコンデンサ用導体パターン3を貫き通ることとなって、次に示すような問題が発生する。
例えば、図5には、図4(b)から絶縁層5,6,8を省略した図が示されている。この図に示されるように、外部接続用電極13からコイルパターン7a,7bを順に通って外部接続用電極12に向かう方向の電流Iiが通電している場合には、コイルパターン7a,7bの巻回中心部分を通る磁束Biは、例えば、図5に示されるような上向きとなる。コンデンサ用導体パターン3とコイルパターン7が近接配置されていると、そのコイルパターン7a,7bの巻回中心部分を通る強い磁束Biは、コンデンサ用導体パターン3を貫き通ることとなるために、コンデンサ用導体パターン3には、その強い磁束Biに起因して、大きな渦電流Isが誘起される。
このように、渦電流Isが誘起されると、当該渦電流Isに基づいて磁束Bcが発生する。この渦電流Isに基づいた磁束Bcは、コイルパターン7の磁束Biとは逆向きであることから、磁束Bcは磁束Biの一部を打ち消してしまう。これに起因して、コイルパターン7から成るインダクタLのインダクタンス値が低下したり、Q値が低下する等の問題が発生し、LC共振子1は、例えば仕様により定められている要求に合ったLC共振特性を得ることができない等の問題が発生してしまう。
そこで、特許文献1には、図6(b)に示されるように、コンデンサ用導体パターン3にスリット15を設ける構成が提案されている。この構成では、コンデンサ用導体パターン3に誘起される渦電流Isの経路をカットするようにスリット15を設けることで、渦電流Isが誘起されることを防止しようとするものである。
しかしながら、スリット15は、コイルパターン7の磁束Biが通るコンデンサ用導体パターン部分(例えば図6(b)の斜線部分Z)を分断するだけのものである。このため、スリット15を設けてもコイルパターン7の巻回中心部分を通る強い磁束Biの殆どがコンデンサ用導体パターン3を通るので、スリット15の形成によって、図6(b)に示されるような大きい渦電流Isの発生を抑制することはできるが、コンデンサ用導体パターン3には、図6(a)に示されるような小さい渦電流Is'が発生してしまう。この渦電流Is'も、渦電流Isと同様に、コイルパターン7の磁束Biとは逆向きの磁束Bcを発生させる。このため、前記同様に、磁束Bcの発生によりコイルパターン7の磁束Biが減少し、これにより、インダクタLのインダクタンス値の低下およびQ値の低下が生じて、要求に合ったLC共振特性を得ることができないという問題が発生する。
この発明は上記課題を解決するために成されたものであり、その目的は、コイルパターンの磁束に起因した渦電流がコンデンサ用導体パターンに発生することを抑制して、渦電流に起因した問題を防止することができるLC共振子を提供することにある。
上記目的を達成するために、この発明は次に示す構成をもって前記課題を解決するための手段としている。すなわち、この発明は、絶縁層を介して対向配置された対を成すコンデンサ用導体パターンを有するコンデンサ部と、1つのコイルパターンを備えるか、又は、複数のコイルパターンが絶縁層を介して積層配置され当該複数のコイルパターンが電気的に直列に接続されている構成を備えるインダクタ部とを有し、コンデンサ部のコンデンサ用導体パターンと、インダクタ部のコイルパターンとが絶縁層を介して対向する形態でもってコンデンサ部とインダクタ部が積層配置されている構成を有するLC共振子であって、コンデンサ部を構成する複数のコンデンサ用導体パターンのうち、少なくとも、絶縁層を介してコイルパターンと隣り合っているコンデンサ用導体パターンには、隣のコイルパターンの巻回中心部分に対向させて、コイルパターンの最内巻き形状に応じた形状を持つ透孔部が設けられ、また、その透孔部の周端縁が閉ループを形成することを避けるためのループカット部が透孔部からコンデンサ用導体パターンの外端縁に掛けて伸びる分断スリット状の形態でもって設けられていることを特徴としている。また、この発明は、コンデンサ用導体パターンに形成されている透孔部の開口面積が、隣のコイルパターンの最内巻き部分により囲まれている内側部分の面積以上の広い面積を有していることをも特徴としている。
この発明によれば、コンデンサ部を構成する複数のコンデンサ用導体パターンのうち、少なくとも、絶縁層を介してコイルパターンと隣り合っているコンデンサ用導体パターンには、隣のコイルパターンの巻回中心部分に対向させて、コイルパターンの最内巻き形状に応じた形状を持つ透孔部が設けられている構成とした。このため、コイルパターンの巻回中心部分を通る強い磁束の多くがコンデンサ用導体パターンの透孔部を通ることとなり、コンデンサ用導体パターン自体に、コイルパターンの強い磁束が貫き通ることを回避できる。
その上、この発明では、透孔部の周端縁が閉ループを形成することを避けるためのループカット部が設けられているので、コイルパターンの強い磁束が透孔部を通ることによって透孔部の周端縁部に渦電流が誘起されようとしても、透孔部の周端縁は閉ループを形成していないので、渦電流の発生を阻止することができる。
よって、この発明の構成を備えることによって、コイルパターンの巻回中心部分を通る強い磁束に起因した大きな渦電流がコンデンサ用導体パターンに誘起されることを抑制することができて、渦電流に起因したインダクタ部のインダクタンス値の低下やQ値の低下を防止することができる。これにより、LC共振子に、要求に合ったLC共振特性を持たせることが容易となり、LC共振子の性能の信頼性を向上させることができる。
コンデンサ用導体パターンに形成されている透孔部の開口面積が、コイルパターンの最内巻き部分により囲まれている内側部分の面積以上の広い面積を有している場合には、コイルパターンの巻回中心部分を通る強い磁束のほぼ全てがコンデンサ用導体パターンの透孔部を通ることとなるので、より確実に、コイルパターンの強い磁束に起因した大きな渦電流がコンデンサ用導体パターンに誘起されることを抑制できる。これにより、渦電流に起因した問題発生をより一層確実に防止できる。
以下に、この発明に係る実施形態例を図面に基づいて説明する。なお、以下に説明する実施形態例の説明において、図4に示すLC共振子と同一構成部分には同一符号を付し、その共通部分の重複説明は省略する。
図1には本発明に係るLC共振子の一実施形態例が分解状態により模式的に示されている。この実施形態例では、絶縁層としての基板2の表裏両面に、それぞれ、コンデンサ用導体パターン3,4が形成されてコンデンサ部が構成されている。また、複数のコイルパターン7(7a,7b)が絶縁層6を介して積層形成され当該コイルパターン7a,7bが電気的に直列に接続されてインダクタ部が構成されている。コンデンサ用導体パターン3,4やコイルパターン7(7a,7b)は、それぞれ、例えばAgやCu等の導体材料により構成されている。AgやCuは導体材料の中でも抵抗率の低い材料であるので、AgやCuによりコンデンサ用導体パターン3,4やコイルパターン7を構成することによって、電流の導通損失を抑制することができる。
この実施形態例では、コンデンサ用導体パターン3,4には、それぞれ、コイルパターン7(7a,7b)の巻回中心部分に対向する位置に、透孔部20が設けられている。この透孔部20は、コイルパターン7の最内巻き形状に応じた形状を有するものであり、図1に示す例では、コイルパターン7の最内巻き形状に近い形状である略円形状と成している。また、当該透孔部20の開口面積は、コイルパターン7aの最内巻き部分により囲まれている内側部分の面積と同程度の面積を有している。
ところで、図2に示されるように、コンデンサ用導体パターン3に透孔部20を形成しただけの構成であると、透孔部20の周端縁は閉ループを形成している。このために、コイルパターン7の巻回中心部分を通る強い磁束Biに起因して、透孔部20の閉ループの周端縁部には、当該周端縁に沿って通電する渦電流Isが誘起されてしまう。この渦電流Isに起因して前述したような問題が発生してしまう。
そこで、この実施形態例では、透孔部20の周端縁部に渦電流Isが発生する事態を回避するために、図1に示されるように、コンデンサ用導体パターン3,4には、透孔部20の周端縁が閉ループを形成することを避けるためのループカット部21が設けられている。このループカット部21は、透孔部20からコンデンサ用導体パターン3,4の外端縁に掛けて伸びる分断スリット状の形態と成している。
この実施形態例では、上記以外の構成は図4に示されるLC共振子1と同様である。この実施形態例では、コンデンサ用導体パターン3,4には、コイルパターン7の巻回中心部分に対向させて、コイルパターン7の最内巻き形状に応じた形状を持つ透孔部20が設けられ、かつ、その透孔部20の周端縁をカットして周端縁が閉ループを形成することを避けるためのループカット部21が設けられているので、コイルパターン7の巻回中心部分を通る強い磁束Biに起因してコンデンサ用導体パターン3,4に誘起される渦電流Isの発生量を小さく抑制することができる。よって、渦電流Isに起因した問題を防止できる。
この実施形態例のLC共振子1は以上のように構成されている。以下に、このLC共振子1の製造工程の一例を説明する。
例えば、基板2を用意し、この基板2の表裏両面にそれぞれコンデンサ用導体パターン3,4を形成する。ここでは、コンデンサ用導体パターン3,4を高精度に形成するために、フォトリソグラフィ工法を利用して次に示すようにコンデンサ用導体パターン3,4を形成する。
例えば、基板2の表面と裏面のうちの一方側の面(ここでは説明を容易にするために裏面とする)の全面に、感光性の例えば銀(Ag)等の導体ペーストを例えばスクリーン印刷等の印刷技術により塗布形成する。そして、その塗布された導体ペーストに対向させてコンデンサ用導体パターン形成用のフォトマスクを配置する。その後、そのフォトマスクを介して感光性の導体ペーストに紫外線等の光を照射し露光させて、コンデンサ用導体パターン4となる部分を硬化させる。この露光工程の後に、未硬化の導体ペースト部分を除去する現像工程を行う。これにより、コンデンサ用導体パターン4が形作られる。その後、焼成することにより、コンデンサ用導体パターン4を作製することができる。
然る後に、基板2の表面上にも上記同様のフォトリソグラフィ工法に基づいた形成手順でもってコンデンサ用導体パターン3を形成する。
なお、フォトリソグラフィ工法を利用してコンデンサ用導体パターン3,4を作製する手法としては、次に示すような手法もある。例えば、スパッタや蒸着等の真空成膜技術や、スピンコート等を利用して、基板2の表面と裏面のうちの一方側の面(ここでは裏面とする)の全面に導体膜を形成する。その後、その導体膜上の全面にフォトレジストを積層形成する。
そして、そのフォトレジストと対向する位置に、コンデンサ用導体パターン形成用のフォトマスクを配置し、このフォトマスクを介してコンデンサ用導体パターン4の形成領域のフォトレジスト部分に光を照射し露光させて硬化させる。然る後に、現像処理により、未硬化なフォトレジスト部分を除去する。次に、フォトレジストが除去された部分に形成されている導体膜部分を例えばエッチング等により除去し、その後、フォトレジストを剥離する。このようにして、コンデンサ用導体パターン4を形成することができる。このコンデンサ用導体パターン4の形成後には、基板2の表面上に上記同様のフォトリソグラフィ工法に基づいた形成手順でもってコンデンサ用導体パターン3を形成する。
このようにフォトリソグラフィ工法を利用してコンデンサ用導体パターン3,4を形成することができる。このコンデンサ用導体パターン3,4の形成後には、コンデンサ用導体パターン3の上側に、例えば、ペースト状のガラス等の絶縁材料を例えば印刷技術等により形成し、その後、焼成する。このようにして絶縁層6aを形成する。
この絶縁層6aの上側には、コンデンサ用導体パターン3,4の形成手法と同様にフォトリソグラフィ工法を利用して、コイルパターン7aを形成する。
その導体パターン7aの形成後には、当該導体パターン7aの上側全面に、例えば、感光性のペースト状の例えばガラス等の絶縁材料を例えば印刷技術等により積層形成する。そして、その絶縁材料の層に対向させてビアホール形成用のフォトマスクを配置し、このフォトマスクを介してビアホール10となる部分以外の絶縁材料ペースト部分に光を照射し露光させて硬化させる。そして、現像処理によって、未硬化な絶縁材料ペースト部分を除去する。これにより、ビアホール形成用の孔部が形作られる。然る後に焼成する。このようにしてビアホール形成用の孔部が設けられた絶縁層6bを形成することができる。
絶縁層6bの上側には、コンデンサ用導体パターン3,4の形成手法と同様にフォトリソグラフィ工法を利用してコイル導体パターン7bを形成する。この工程で、導体パターン7bを構成する導体材料の一部が、絶縁層6bに形成されているビアホール形成用の孔部に入り込んでビアホール10が形成される。
その後、基板2の表面側と裏面側の両側に、例えば、ペースト状のガラス等の絶縁材料を例えば印刷技術等により塗布形成して焼成することにより、保護層としての絶縁層5,8が形成される。
なお、この実施形態例では、ここまでの工程は、複数の基板2を切り出すための親基板の状態のままで行われており、親基板に複数のLC共振子1の積層体11を同時に製造する構成となっている。絶縁層(保護層)5,8の形成の後には、例えばダイシングやスクライブやレーザ切断等の切断加工によって各LC共振子1の積層体11毎に分離分割する作業が行われる。そして、この分離分割工程の後に、各LC共振子1の積層体11毎に外部接続用電極12,13を形成する。この外部接続用電極12,13の形成工程では、例えば、まず、積層体11の、外部接続用電極12,13が形成される側面に例えばペースト状の銀等の導体材料を塗布形成して焼成する。このようにして下地電極を形成する。その後、その下地電極の上側にNiとSnを電解めっきにより形成することにより外部接続用電極12,13を形成する。
以上のようにして、この実施形態例のLC共振子1を作製することができる。なお、この製造工程では、コンデンサ用導体パターン3,4やコイルパターン7は、フォトリソグラフィ工法を利用して形成されていたが、例えば、厚膜印刷工法を利用して形成してもよい。
なお、この発明はこの実施形態例の形態に限定されるものではなく、様々な実施の形態を採り得る。例えば、この実施形態例では、コンデンサ用導体パターン3,4に設ける透孔部20は略円形状と成していたが、透孔部20の形状は、コイルパターン7の最内巻き形状と同じ形状、又は、コイルパターン7の最内巻き形状に近い形状であればよく、コイルパターン7の最内巻きの形状に応じて、略四角形状であってもよいし、五角以上の多角形状と成していてもよい。
また、この実施形態例では、コンデンサ用導体パターン3,4の両方に透孔部20およびループカット部21が設けられていたが、例えば、サイズに対する規制が緩くて、コイルパターン7とコンデンサ用導体パターン4との間の間隔を広げてコンデンサ用導体パターン4に誘起される渦電流を低減することができる場合には、コンデンサ用導体パターン3だけに透孔部20およびループカット部21を設ける構成とし、コンデンサ用導体パターン4には透孔部20およびループカット部21を設けない構成としてもよい。
さらに、この実施形態例では、絶縁層としての基板2の表裏両面にそれぞれコンデンサ用導体パターンが形成される構成であったが、例えば、基板2の表面上にコンデンサ用導体パターン3,4が絶縁層を介しながら積層形成され、さらに、その上側にコイルパターン7(7a,7b)が絶縁層を介しながら積層形成される構成としてもよい。
さらに、この実施形態例では、インダクタ部は2つのコイルパターン7(7a,7b)を有して構成されていたが、例えば、インダクタ部に対して要求されているインダクタンス値が低くてコイルパターン7の巻回数が少なくて済む場合や、コイルパターン7の形成可能な面積が広くて1つのコイルパターン7の巻回数を多くすることができる場合には、例えば、インダクタ部は1つのコイルパターン7のみで形成される構成としてもよい。また、インダクタ部は、必要に応じて、3つ以上のコイルパターン7により構成してもよい。この場合には、インダクタ部を構成する3つ以上のコイルパターン7は、絶縁層を介しながら積層形成され当該複数のコイルパターン7は電気的に直列に接続される。
さらに、この実施形態例では、インダクタ部(L)とコンデンサ部(C)はLC並列回路を構成していたが、例えば、図3(b)の等価回路図に示されるようなLC直列回路を構成してもよい。つまり、この場合には、例えば、図3(a)の分解図に示されるような構成とすることによって、LC直列回路を構成することができる。つまり、コイルパターン7aの巻回外側端部と、コンデンサ用導体パターン3とは、それぞれ、外部接続用電極12,13に接続されるのではなく、当該コイルパターン7aの巻回外側端部と、コンデンサ用導体パターン3とは、絶縁層6aに形成されたビアホール17を介して接続されている。この構成以外の構成は、図1に示される構成と同様である。
さらに、この実施形態例では、インダクタ部とコンデンサ部がそれぞれ1つずつ設けられる構成であったが、インダクタ部とコンデンサ部とのうちの少なくとも一方側は複数設けられる構成としてもよい。例えば、2つのインダクタ部と、1つのコンデンサ部とが設けられる場合には、2つのインダクタ部はコンデンサ部を表裏両側から挟持するように配置する。もちろん、コンデンサ部の上側に2つのインダクタ部を積層配置してもよい。インダクタ部とコンデンサ部とのうちの少なくとも一方側は複数設けられる構成である場合にも、コンデンサ部を構成する複数のコンデンサ用導体パターンのうち、少なくとも、絶縁層を介してコイルパターンと隣り合っているコンデンサ用導体パターンには、隣のコイルパターンの巻回中心部分に対向させて、コイルパターンの最内巻き形状に応じた形状を持つ透孔部が設けられ、また、その透孔部の周端縁が閉ループを形成することを避けるためのループカット部が設けられる構成とする。
本発明に係るLC共振子の一実施形態例を分解状態により表したモデル図である。 LC共振子を構成するコンデンサ用導体パターンに設けた透孔部の周端縁が閉ループを形成している場合の問題点を説明するための図である。 その他の実施形態例を説明するための図である。 LC共振子の一従来例を説明するための図である。 図4のLC共振子の問題点を説明するための図である。 特許文献1に記載されている構成の一つを説明するための図である。
符号の説明
1 LC共振子
3,4 コンデンサ用導体パターン
5,6,8 絶縁層
7 コイルパターン
20 透孔部
21 ループカット部

Claims (2)

  1. 絶縁層を介して対向配置された対を成すコンデンサ用導体パターンを有するコンデンサ部と、1つのコイルパターンを備えるか、又は、複数のコイルパターンが絶縁層を介して積層配置され当該複数のコイルパターンが電気的に直列に接続されている構成を備えるインダクタ部とを有し、コンデンサ部のコンデンサ用導体パターンと、インダクタ部のコイルパターンとが絶縁層を介して対向する形態でもってコンデンサ部とインダクタ部が積層配置されている構成を有するLC共振子であって、コンデンサ部を構成する複数のコンデンサ用導体パターンのうち、少なくとも、絶縁層を介してコイルパターンと隣り合っているコンデンサ用導体パターンには、隣のコイルパターンの巻回中心部分に対向させて、コイルパターンの最内巻き形状に応じた形状を持つ透孔部が設けられ、また、その透孔部の周端縁が閉ループを形成することを避けるためのループカット部が透孔部からコンデンサ用導体パターンの外端縁に掛けて伸びる分断スリット状の形態でもって設けられていることを特徴とするLC共振子。
  2. コンデンサ用導体パターンに形成されている透孔部の開口面積は、隣のコイルパターンの最内巻き部分により囲まれている内側部分の面積以上の広い面積を有していることを特徴とする請求項1記載のLC共振子。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008192757A (ja) * 2007-02-02 2008-08-21 Tdk Corp 積層コンデンサ
JP2010141643A (ja) * 2008-12-12 2010-06-24 Toko Inc 積層型電子部品
WO2013164929A1 (ja) * 2012-05-02 2013-11-07 株式会社村田製作所 高周波モジュール
WO2017057423A1 (ja) * 2015-10-02 2017-04-06 株式会社村田製作所 表面実装型lcデバイス
CN110235361A (zh) * 2017-01-31 2019-09-13 株式会社村田制作所 Lc谐振器

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000260939A (ja) * 1999-03-12 2000-09-22 Nec Corp 高周波回路装置
JP2004079973A (ja) * 2002-08-22 2004-03-11 Mitsubishi Materials Corp Lc複合部品
JP2004311734A (ja) * 2003-04-08 2004-11-04 Nec Corp 回路基板
JP2005167468A (ja) * 2003-12-01 2005-06-23 Renesas Technology Corp 電子装置および半導体装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000260939A (ja) * 1999-03-12 2000-09-22 Nec Corp 高周波回路装置
JP2004079973A (ja) * 2002-08-22 2004-03-11 Mitsubishi Materials Corp Lc複合部品
JP2004311734A (ja) * 2003-04-08 2004-11-04 Nec Corp 回路基板
JP2005167468A (ja) * 2003-12-01 2005-06-23 Renesas Technology Corp 電子装置および半導体装置

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008192757A (ja) * 2007-02-02 2008-08-21 Tdk Corp 積層コンデンサ
US7706123B2 (en) 2007-02-02 2010-04-27 Tdk Corporation Multilayer capacitor
JP2010141643A (ja) * 2008-12-12 2010-06-24 Toko Inc 積層型電子部品
WO2013164929A1 (ja) * 2012-05-02 2013-11-07 株式会社村田製作所 高周波モジュール
US9118298B2 (en) 2012-05-02 2015-08-25 Murata Manufacturing Co., Ltd. High frequency module
JP5817925B2 (ja) * 2012-05-02 2015-11-18 株式会社村田製作所 高周波モジュール
WO2017057423A1 (ja) * 2015-10-02 2017-04-06 株式会社村田製作所 表面実装型lcデバイス
JPWO2017057423A1 (ja) * 2015-10-02 2018-03-29 株式会社村田製作所 表面実装型lcデバイス
US10950381B2 (en) 2015-10-02 2021-03-16 Murata Manufacturing Co., Ltd. Surface-mounted LC device
CN110235361A (zh) * 2017-01-31 2019-09-13 株式会社村田制作所 Lc谐振器
CN110235361B (zh) * 2017-01-31 2022-12-30 株式会社村田制作所 Lc谐振器

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