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JP2006150722A - Method for making lithographic printing plate, photosensitive lithographic printing plate material and lithographic printing method - Google Patents

Method for making lithographic printing plate, photosensitive lithographic printing plate material and lithographic printing method Download PDF

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JP2006150722A
JP2006150722A JP2004343745A JP2004343745A JP2006150722A JP 2006150722 A JP2006150722 A JP 2006150722A JP 2004343745 A JP2004343745 A JP 2004343745A JP 2004343745 A JP2004343745 A JP 2004343745A JP 2006150722 A JP2006150722 A JP 2006150722A
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Japan
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group
lithographic printing
printing plate
acid
compound
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Kazuhiko Hirabayashi
和彦 平林
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Konica Minolta Medical and Graphic Inc
Original Assignee
Konica Minolta Medical and Graphic Inc
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for making a lithographic printing plate which can produce an excellent lithographic printing plate with the superb ability to develop an image aboard a printing machine and recover from smudginess and high resistance to plate wear, and a photosensitive lithographic printing plate material to be used for this method and a printing method using the method for making the lithographic printing plate/the printing plate material. <P>SOLUTION: The photosensitive lithographic printing plate material has a photosensitive layer comprising (A) a photopolymerization initiator, (B) a bonding agent, (C) a polymerizable ethylenic unsaturated bond-containing compound and (D) a coloring matter with an absorption maximum in 350 to 450 nm wavelength range, formed on a support. The method for making the lithographic printing plate is to expose the lithographic printing plate material and, after this image exposure, perform an image development process aboard the lithographic printing machine to make the lithographic printing plate. The photosensitive layer contains a polyhalogen compound as (A) the photopolymerization initiator and a water-soluble polymer compound as (B) the bonding agent. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、コンピュータートゥプレートシステム(以下CTPという)に用いられるプロセスレスタイプ印刷版材料を用いた平版印刷版の製版方法、それに用いられる感光性印刷版材料及び前記平版印刷版を用いた印刷方法に関する。   The present invention relates to a lithographic printing plate making method using a processless type printing plate material used in a computer-to-plate system (hereinafter referred to as CTP), a photosensitive printing plate material used therefor, and a printing method using the lithographic printing plate. About.

近年、オフセット印刷用の印刷版の作製技術において、画像のデジタルデータをレーザー光源で直接感光性印刷版に記録するCTPが開発され、実用化が進んでいる。   In recent years, CTP recording digital image data directly on a photosensitive printing plate with a laser light source has been developed and is being put to practical use in the technology for producing printing plates for offset printing.

これらのうち、比較的高い耐刷力を要求される印刷の分野においては、重合可能な化合物を含む画像記録層を有するネガ型の感光層をアルミニウム支持体上に有する印刷版材料を用いることが知られている。   Among these, in the field of printing that requires relatively high printing durability, it is necessary to use a printing plate material having a negative photosensitive layer having an image recording layer containing a polymerizable compound on an aluminum support. Are known.

一方レーザーでデジタルデータを記録するCTP用感光性平版印刷版として、例えば、特開平9−80750号、特開平10−101719号に記載の重合開始剤であるチタノセンと特定の色素を含有する光重合系感光層を有するもの等が知られている。しかし、これらの感光性平版印刷版は、光源として比較的長波長の可視光源を使用するため印刷版作製のための製版作業を、暗い赤灯のセーフライト下で行う必要があり、作業性が悪く、より明るい黄色灯下で取り扱いが可能であること(明室化)の要求があった。   On the other hand, as a photosensitive lithographic printing plate for CTP which records digital data with a laser, for example, photopolymerization containing titanocene which is a polymerization initiator described in JP-A-9-80750 and JP-A-10-101719 and a specific dye. Those having a photosensitive layer are known. However, since these photosensitive lithographic printing plates use a relatively long-wavelength visible light source as a light source, it is necessary to perform plate-making work for preparing the printing plate under a safe light of a dark red light. There was a demand for being able to handle under a brighter yellow light (lighting room).

そして、高出力かつ小型の例えば青紫色レーザー等の短波長に発光波長を有するレーザーが比較的容易に入手できるようになり、これらのレーザー波長に適した感光性平版印刷版を開発することにより明室化がはかられてきており、350nmから450nm域でのレーザー露光に対応する光重合型の感光性平版印刷版材料が提案されている(例えば特許文献1〜3参照。)。   In addition, high-power and small-sized lasers such as blue-violet lasers having emission wavelengths at short wavelengths can be obtained relatively easily, and by developing photosensitive lithographic printing plates suitable for these laser wavelengths, The use of photopolymerization type photosensitive lithographic printing plate material corresponding to laser exposure in the 350 nm to 450 nm region has been proposed (for example, see Patent Documents 1 to 3).

しかしながら、これらの印刷版材料は露光後、例えばアルカリ水溶液などの湿式での現像処理を必要とした。   However, these printing plate materials require a wet development process such as an alkaline aqueous solution after exposure.

一方、CTPシステムに使用される印刷版材料として、特別な薬剤(例えばアルカリ、酸、溶媒など)を含む処理液による現像処理を必要とせず、従来の印刷機に適用可能である印刷版材料が求められており、例えば、印刷機上で印刷の初期段階で現像処理が行われ、画像露光後特に現像工程を必要としないプロセスレスタイプ印刷版材料と呼ばれる印刷版材料が知られている。   On the other hand, as a printing plate material used in the CTP system, there is a printing plate material that does not require a development treatment with a processing solution containing a special agent (for example, alkali, acid, solvent, etc.) and can be applied to a conventional printing press. For example, there is known a printing plate material called a processless type printing plate material that is developed at an initial stage of printing on a printing press and does not require a development step after image exposure.

上記のプロセスレスタイプの印刷版材料としては、例えば特開平8−507727号、同6−186750号、同6−199064号、同7−314934号、同10−58636号、同10−244773号に開示されるようなフィルム基材上に親水性層と親油性層とをいずれかの層を表層として積層し、表層をレーザー露光でアブレーションさせて印刷版を形成するように構成された印刷版材料あるいは、特許2938397号や特許2938398号に開示されているような、親水性層上に熱可塑性微粒子、水溶性の結合剤、光熱変換素材を含有する画像形成層を設けた印刷版材料、光硬化可能基及び酸性基を有するポリマーを含有する画像形成層を有する印刷版材料(特許文献4参照)などが知られている。   Examples of the above processless type printing plate materials include JP-A-8-507727, JP-A-6-186750, JP-A-6-199064, JP-A-7-314934, JP-A-10-58636, and JP-A-10-244773. A printing plate material configured to form a printing plate by laminating either a hydrophilic layer or a lipophilic layer as a surface layer on a film substrate as disclosed, and ablating the surface layer by laser exposure Alternatively, as disclosed in Japanese Patent No. 2938397 and Japanese Patent No. 2938398, a printing plate material provided with an image forming layer containing a thermoplastic fine particle, a water-soluble binder, and a photothermal conversion material on a hydrophilic layer, photocuring A printing plate material having an image forming layer containing a polymer having a possible group and an acidic group (see Patent Document 4) is known.

しかしながら、これらの印刷版材料は、印刷機上で現像可能でありプロセスレスCTP用の印刷版材料として用いることができ、比較的高精細な画像形成ができるものの、まだ、耐刷力が不充分な場合がある、印刷時の汚れの回復性が遅い場合があるなどの問題点があった。   However, these printing plate materials can be developed on a printing press and can be used as printing plate materials for processless CTP, and can form relatively high-definition images, but still have insufficient printing durability. In some cases, there is a problem that the recovery of stains during printing may be slow.

さらに、近年印刷業界では、環境保全の面から、印刷インキにおいては石油系の揮発性有機化合物(VOC)を使用しないインキが開発されその普及が進みつつあり、特にこのような印刷インキを使用した印刷において、上記のような問題点があった。
特開2003−21901号公報 特開2000−147763号公報 特開2002−202598号公報 特表平11−504435号公報
Furthermore, in recent years, in the printing industry, from the viewpoint of environmental protection, inks that do not use petroleum-based volatile organic compounds (VOC) have been developed and are becoming popular in printing inks. In particular, such printing inks are used. The printing has the above-mentioned problems.
JP 2003-21901 A JP 2000-147663 A JP 2002-202598 A Japanese National Patent Publication No. 11-504435

本発明の目的は、印刷機上現像が可能であり、耐刷性、汚れ回復性に優れた平版印刷版が得られる平版印刷版の製版方法、それに用いられる感光性平版印刷版材料及びこれらを用いた印刷方法を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a lithographic printing plate making method capable of developing on a printing press and obtaining a lithographic printing plate excellent in printing durability and stain recovery, a photosensitive lithographic printing plate material used therefor, and It is to provide a printing method used.

本発明の上記目的は、下記構成により達成される。   The above object of the present invention is achieved by the following configurations.

(請求項1)
支持体上に、(A)光重合開始剤、(B)結合材、(C)重合可能なエチレン性不飽和結合含有化合物及び(D)350nm〜450nmの波長範囲に吸収極大を有する色素を含有する感光層を有する感光性平版印刷版材料を、画像露光し、該画像露光後、平版印刷機上で現像処理を行い平版印刷版を作製する平版印刷版の製版方法であって、該感光層が該(A)光重合開始剤としてポリハロゲン化合物を含有し、かつ該(B)結合材として水溶性高分子化合物を含有することを特徴とする平版印刷版の製版方法。
(Claim 1)
Contains (A) a photopolymerization initiator, (B) a binder, (C) a polymerizable ethylenically unsaturated bond-containing compound, and (D) a dye having an absorption maximum in the wavelength range of 350 nm to 450 nm on the support. A method for making a lithographic printing plate, comprising: exposing a photosensitive lithographic printing plate material having a photosensitive layer to be image-exposed, developing the image on the lithographic printing machine after the image exposure; The method of making a lithographic printing plate comprises: (A) a polyhalogen compound as a photopolymerization initiator, and (B) a water-soluble polymer compound as a binder.

(請求項2)
前記水溶性高分子化合物が、非イオン性親水性基を有する水溶性高分子化合物であることを特徴とする請求項1に記載の平版印刷版の製版方法。
(Claim 2)
The lithographic printing plate making method according to claim 1, wherein the water-soluble polymer compound is a water-soluble polymer compound having a nonionic hydrophilic group.

(請求項3)
前記画像露光が、350nm〜450nmの波長を有するレーザー光を用いて行われることを特徴とする請求項1または2に記載の平版印刷版の製版方法。
(Claim 3)
The lithographic printing plate making method according to claim 1, wherein the image exposure is performed using a laser beam having a wavelength of 350 nm to 450 nm.

(請求項4)
前記水溶性高分子化合物の重量平均分子量が1,000〜50,000であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の平版印刷版の製版方法。
(Claim 4)
The lithographic printing plate making method according to any one of claims 1 to 3, wherein the water-soluble polymer compound has a weight average molecular weight of 1,000 to 50,000.

(請求項5)
前記支持体が、粗面化処理及び陽極酸化処理を施されたアルミニウム支持体であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の平版印刷版の製版方法。
(Claim 5)
The lithographic printing plate making method according to any one of claims 1 to 4, wherein the support is an aluminum support subjected to a roughening treatment and an anodizing treatment.

(請求項6)
請求項1乃至5のいずれか1項に記載の平版印刷版の製版方法に用いられることを特徴とする感光性平版印刷版材料。
(Claim 6)
A photosensitive lithographic printing plate material, which is used in the plate making method of a lithographic printing plate according to any one of claims 1 to 5.

(請求項7)
請求項1乃至5のいずれか1項に記載の平版印刷版の製版方法により作製された平版印刷版を用いて印刷することを特徴とする平版印刷方法。
(Claim 7)
A lithographic printing method comprising printing using a lithographic printing plate produced by the lithographic printing plate making method according to any one of claims 1 to 5.

本発明の構成により、印刷機上現像が可能であり、耐刷性、汚れ回復性に優れた平版印刷版が得られる平版印刷版の製版方法、それに用いられる感光性平版印刷版材料及びこれらを用いた印刷方法が提供できる。   According to the configuration of the present invention, a lithographic printing plate making method capable of developing on a printing press and obtaining a lithographic printing plate excellent in printing durability and stain recovery, a photosensitive lithographic printing plate material used therefor, and The printing method used can be provided.

以下に本発明を詳細に説明する。   The present invention is described in detail below.

本発明は、支持体上に、(A)光重合開始剤、(B)結合材、(C)重合可能なエチレン性不飽和結合含有化合物及び(D)350nm〜450nmの波長範囲に吸収極大を有する色素を含有する感光層を有する感光性平版印刷版材料を、画像露光し、該画像露光後、平版印刷機上で現像処理を行い平版印刷版を作製する平版印刷版の製版方法であって、該感光層が該(A)光重合開始剤としてポリハロゲン化合物を含有し、かつ該(B)結合材として水溶性高分子化合物を含有することを特徴とする。   The present invention provides (A) a photopolymerization initiator, (B) a binder, (C) a polymerizable ethylenically unsaturated bond-containing compound and (D) a wavelength range of 350 nm to 450 nm on a support. A photosensitive lithographic printing plate material having a photosensitive layer containing a dye having an image exposure, and after the image exposure, development processing on a lithographic printing machine to produce a lithographic printing plate The photosensitive layer contains (A) a polyhalogen compound as a photopolymerization initiator and (B) a water-soluble polymer compound as a binder.

本発明においては、特に感光層に水溶性高分子化合物とポリハロゲン化合物とを組み合わせ含有することにより、印刷機上現像が可能であり、耐刷性、汚れ回復性に優れた平版印刷版が得られる平版印刷版の製版方法が提供できる。   In the present invention, a lithographic printing plate having excellent printing durability and stain recovery can be obtained, particularly by including a combination of a water-soluble polymer compound and a polyhalogen compound in the photosensitive layer. Can be provided.

((A)光重合開始剤)
本発明に係る光重合開始剤は、画像露光により重合可能なエチレン性不飽和結合含有化合物の重合を開始しうるものであり、本発明に係る感光層は、光重合開始剤としてポリハロゲン化合物を含む。
((A) Photopolymerization initiator)
The photopolymerization initiator according to the present invention is capable of initiating polymerization of an ethylenically unsaturated bond-containing compound that can be polymerized by image exposure, and the photosensitive layer according to the present invention comprises a polyhalogen compound as a photopolymerization initiator. Including.

(ポリハロゲン化合物)
本発明に係るポリハロゲン化合物とは、トリハロゲンメチル基、ジハロゲンメチル基又はジハロゲンメチレン基を有する化合物であり、特に下記一般式(1)で表されるハロゲン化合物及び上記基がオキサジアゾール環に置換した化合物が好ましく用いられる。この中でもさらに、下記一般式(2)で表されるハロゲン化合物が特に好ましく用いられる。
(Polyhalogen compound)
The polyhalogen compound according to the present invention is a compound having a trihalogenmethyl group, a dihalogenmethyl group or a dihalogenmethylene group, and in particular, the halogen compound represented by the following general formula (1) and the above group are present in the oxadiazole ring. Substituted compounds are preferably used. Among these, a halogen compound represented by the following general formula (2) is particularly preferably used.

一般式(1) R1−CY2−(C=O)−R2
式中、R1は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アシル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、イミノスルホニル基またはシアノ基を表す。R2は一価の置換基を表す。R1とR2が結合して環を形成してもかまわない。Yはハロゲン原子を表す。
Formula (1) R 1 —CY 2 — (C═O) —R 2
In the formula, R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, an acyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, an iminosulfonyl group, or a cyano group. R 2 represents a monovalent substituent. R 1 and R 2 may be bonded to form a ring. Y represents a halogen atom.

一般式(2) CY3−(C=O)−X−R3
式中、R3は、一価の置換基を表す。Xは、−O−、−NR4−を表す。R4は、水素原子、アルキル基を表す。R3とR4が結合して環を形成してもかまわない。Yはハロゲン原子を表す。これらの中でも特にポリハロゲンアセチルアミド基を有するものが好ましく用いられる。
Formula (2) CY 3 — (C═O) —X—R 3
In the formula, R 3 represents a monovalent substituent. X represents —O— or —NR 4 —. R 4 represents a hydrogen atom or an alkyl group. R 3 and R 4 may be bonded to form a ring. Y represents a halogen atom. Among these, those having a polyhalogenacetylamide group are particularly preferably used.

一般式(1)で表される構造の具体的として、下記BR1からBR76の化合物が挙げられる。又、ポリハロゲンメチル基がオキサジアゾール環に置換した化合物も好ましく用いられ、この例をH−1〜H−14に挙げる。さらに、特開平5−34904号公報、堂−45875号公報、同8−240909号公報に記載のオキサジアゾール化合物も好ましく用いられる。   Specific examples of the structure represented by the general formula (1) include the following compounds BR1 to BR76. In addition, a compound in which a polyhalogenmethyl group is substituted with an oxadiazole ring is also preferably used, and examples thereof are listed in H-1 to H-14. Furthermore, oxadiazole compounds described in JP-A-5-34904, Do-45875, and 8-240909 are also preferably used.

尚、これらの化合物はハロゲン原子を臭素から塩素に置き換えた化合物も本発明においては好適に用いることができる。本発明に好ましく用いられる、ポリハロゲン化合物の具体例を以下に挙げる。   In addition, the compound which substituted the halogen atom from bromine to chlorine can also be used suitably for these compounds in this invention. Specific examples of polyhalogen compounds preferably used in the present invention are listed below.

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本発明に係る感光層は、光重合開始剤として、上記ポリハロゲン化合物の他に、下記のような重合開始剤を併用してもよい。   In the photosensitive layer according to the present invention, the following polymerization initiator may be used in combination with the polyhalogen compound as a photopolymerization initiator.

併用することができる光重合開始剤の好ましいものとしては、例えば、チタノセン化合物、モノアルキルトリアリールボレート化合物、鉄アレーン錯体化合物が挙げられる。   Preferred examples of the photopolymerization initiator that can be used in combination include titanocene compounds, monoalkyltriaryl borate compounds, and iron arene complex compounds.

チタノセン化合物としては、特開昭63−41483、特開平2−291に記載される化合物等が挙げられるが、更に好ましい具体例としては、ビス(シクロペンタジエニル)−Ti−ジ−クロライド、ビス(シクロペンタジエニル)−Ti−ビス−フェニル、ビス(シクロペンタジエニル)−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニル、ビス(シクロペンタジエニル)−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニル、ビス(シクロペンタジエニル)−Ti−ビス−2,4,6−トリフルオロフェニル、ビス(シクロペンタジエニル)−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェニル、ビス(シクロペンタジエニル)−Ti−ビス−2,4−ジフルオロフェニル、ビス(メチルシクロペンタジエニル)−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニル、ビス(メチルシクロペンタジエニル)−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニル、ビス(メチルシクロペンタジエニル)−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェニル(IRUGACURE727L:チバスペシャリティーケミカルズ社製)、ビス(シクロペンタジエニル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(ピリ−1−イル)フェニル)チタニウム(IRUGACURE784:チバスペシャリティーケミカルズ社製)、ビス(シクロペンタジエニル)−ビス(2,4,6−トリフルオロ−3−(ピリ−1−イル)フェニル)チタニウムビス(シクロペンタジエニル)−ビス(2,4,6−トリフルオロ−3−(2−5−ジメチルピリ−1−イル)フェニル)チタニウム等が挙げられる。   Examples of titanocene compounds include compounds described in JP-A-63-41483 and JP-A-2-291. More preferred specific examples include bis (cyclopentadienyl) -Ti-di-chloride, bis (Cyclopentadienyl) -Ti-bis-phenyl, bis (cyclopentadienyl) -Ti-bis-2,3,4,5,6-pentafluorophenyl, bis (cyclopentadienyl) -Ti-bis -2,3,5,6-tetrafluorophenyl, bis (cyclopentadienyl) -Ti-bis-2,4,6-trifluorophenyl, bis (cyclopentadienyl) -Ti-bis-2,6 -Difluorophenyl, bis (cyclopentadienyl) -Ti-bis-2,4-difluorophenyl, bis (methylcyclopentadienyl) -Ti-bis- , 3,4,5,6-pentafluorophenyl, bis (methylcyclopentadienyl) -Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophenyl, bis (methylcyclopentadienyl) -Ti-bis -2,6-difluorophenyl (IRUGACURE 727L: manufactured by Ciba Specialty Chemicals), bis (cyclopentadienyl) -bis (2,6-difluoro-3- (py-1-yl) phenyl) titanium (IRUGACURE 784: Ciba Specialty Chemicals), bis (cyclopentadienyl) -bis (2,4,6-trifluoro-3- (pyridin-1-yl) phenyl) titanium bis (cyclopentadienyl) -bis (2, 4,6-trifluoro-3- (2-5-dimethylpy-1-yl) phenyl) titanium and the like It is below.

モノアルキルトリアリールボレート化合物としては、特開昭62−150242、特開昭62−143044に記載される化合物等挙げられるが、更に好ましい具体例としては、テトラ−n−ブチルアンモニウム・n−ブチル−トリナフタレン−1−イル−ボレート、テトラ−n−ブチルアンモニウム・n−ブチル−トリフェニル−ボレート、テトラ−n−ブチルアンモニウム・n−ブチルートリ−(4−tert−ブチルフェニル)−ボレート、テトラ−n−ブチルアンモニウム・n−ヘキシル−トリ−(3−クロロ−4−メチルフェニル)−ボレート、テトラ−n−ブチルアンモニウム・n−ヘキシル−トリ−(3−フルオロフェニル)−ボレート等が挙げられる。   Examples of the monoalkyl triaryl borate compound include compounds described in JP-A-62-150242 and JP-A-62-143044, and more preferable specific examples include tetra-n-butylammonium / n-butyl- Trinaphthalen-1-yl-borate, tetra-n-butylammonium / n-butyl-triphenyl-borate, tetra-n-butylammonium / n-butyl-tri- (4-tert-butylphenyl) -borate, tetra-n -Butylammonium · n-hexyl-tri- (3-chloro-4-methylphenyl) -borate, tetra-n-butylammonium · n-hexyl-tri- (3-fluorophenyl) -borate and the like.

鉄アレーン錯体化合物としては、特開昭59−219307に記載される化合物等挙げられるが、更に好ましい具体例としては、η−ベンゼン−(η−シクロペンタジエニル)鉄ヘキサフルオロホスフェート、η−クメン−(η−シクロペンタジエニル)鉄ヘキサフルオロホスフェート、η−フルオレン−(η−シクロペンタジエニル)鉄ヘキサフルオロホスフェート、η−ナフタレン−(η−シクロペンタジエニル)鉄ヘキサフルオロホスフェート、η−キシレン−(η−シクロペンタジエニル)鉄ヘキサフルオロホスフェート、η−ベンゼン−(η−シクロペンタジエニル)鉄テトラフルオロボレート等が挙げられる。   Examples of the iron arene complex compound include compounds described in JP-A-59-219307. More preferred specific examples include η-benzene- (η-cyclopentadienyl) iron hexafluorophosphate, η-cumene. -(Η-cyclopentadienyl) iron hexafluorophosphate, η-fluorene- (η-cyclopentadienyl) iron hexafluorophosphate, η-naphthalene- (η-cyclopentadienyl) iron hexafluorophosphate, η- Examples include xylene- (η-cyclopentadienyl) iron hexafluorophosphate, η-benzene- (η-cyclopentadienyl) iron tetrafluoroborate.

その他に任意の光重合開始剤の併用が可能である。例えばJ.コーサー(J.Kosar)著「ライト・センシテイブ・システムズ」第5章に記載されるようなカルボニル化合物、有機硫黄化合物、過硫化物、レドックス系化合物、アゾ並びにジアゾ化合物、ハロゲン化合物、光還元性色素などが挙げられる。更に具体的な化合物は英国特許1,459,563号に開示されている。   In addition, any photopolymerization initiator can be used in combination. For example, J. et al. Carbonyl compounds, organic sulfur compounds, persulfides, redox compounds, azo, diazo compounds, halogen compounds, and photoreductive dyes as described in Chapter 5 of “Light Sensitive Systems” by J. Kosar Etc. More specific compounds are disclosed in British Patent 1,459,563.

即ち、併用が可能な光重合開始剤としては、次のようなものを使用することができる。   That is, the following can be used as a photopolymerization initiator that can be used in combination.

ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイン−i−プロピルエーテル、α,α−ジメトキシ−α−フェニルアセトフェノン等のベンゾイン誘導体;ベンゾフェノン、2,4−ジクロロベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、4,4′−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン等のベンゾフェノン誘導体;2−クロロチオキサントン、2−i−プロピルチオキサントン等のチオキサントン誘導体;2−クロロアントラキノン、2−メチルアントラキノン等のアントラキノン誘導体;N−メチルアクリドン、N−ブチルアクリドン等のアクリドン誘導体;α,α−ジエトキシアセトフェノン、ベンジル、フルオレノン、キサントン、ウラニル化合物の他、特公昭59−1281号、同61−9621号ならびに特開昭60−60104号記載のトリアジン誘導体;特開昭59−1504号、同61−243807号記載の有機過酸化物;特公昭43−23684号、同44−6413号、同44−6413号、同47−1604号ならびに米国特許3,567,453号記載のジアゾニウム化合物;米国特許2,848,328号、同2,852,379号ならびに同2,940,853号記載の有機アジド化合物;特公昭36−22062b号、同37−13109号、同38−18015号ならびに同45−9610号記載のo−キノンジアジド類;特公昭55−39162号、特開昭59−14023号ならびに「マクロモレキュルス(Macromolecules)」10巻,1307頁(1977年)記載の各種オニウム化合物;特開昭59−142205号記載のアゾ化合物;特開平1−54440号、ヨーロッパ特許109,851号、同126,712号ならびに「ジャーナル・オブ・イメージング・サイエンス(J.Imag.Sci.)」30巻,174頁(1986年)記載の金属アレン錯体;特願平4−56831号及び同4−89535号記載の(オキソ)スルホニウム有機硼素錯体;「コーディネーション・ケミストリー・レビュー(Coordination Chemistry Review)」84巻,85〜277頁(1988年)ならびに特開平2−182701号記載のルテニウム等の遷移金属を含有する遷移金属錯体;特開平3−209477号記載の2,4,5−トリアリールイミダゾール二量体;四臭化炭素、特開昭59−107344号記載の有機ハロゲン化合物、等。   Benzoin derivatives such as benzoin methyl ether, benzoin-i-propyl ether, α, α-dimethoxy-α-phenylacetophenone; benzophenone, 2,4-dichlorobenzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4,4′-bis (dimethyl) Benzophenone derivatives such as amino) benzophenone; thioxanthone derivatives such as 2-chlorothioxanthone and 2-i-propylthioxanthone; anthraquinone derivatives such as 2-chloroanthraquinone and 2-methylanthraquinone; N-methylacridone, N-butylacridone and the like In addition to α, α-diethoxyacetophenone, benzyl, fluorenone, xanthone and uranyl compounds, JP-B-59-1281, 61-9621 and JP-A-60-60104 Triazine derivatives; organic peroxides described in JP-A-59-1504 and JP-A-61-243807; JP-B-43-23684, JP-A-44-6413, JP-A-44-6413, JP-A-47-1604, and US patents Diazonium compounds described in US Pat. No. 3,567,453; organic azide compounds described in US Pat. Nos. 2,848,328 and 2,852,379 and 2,940,853; O-quinonediazides described in JP-A Nos. 13109, 38-18015 and 45-9610; JP-B-55-39162, JP-A-59-14023 and “Macromolecules”, Vol. 10, 1307 Various onium compounds described on page 1977; azo compounds described in JP-A-59-142205 Compound: JP-A-1-54440, European Patents 109,851, 126,712 and “Journal of Imaging Science (J. Imag. Sci.)”, Vol. 30, 174 (1986) (Oxo) sulfonium organoboron complexes described in Japanese Patent Application Nos. 4-56831 and 4-89535; "Coordination Chemistry Review", 84, 85-277 (1988) ) And transition metal complexes containing a transition metal such as ruthenium described in JP-A-2-182701; 2,4,5-triarylimidazole dimer described in JP-A-3-209477; carbon tetrabromide, JP Organic halogen compounds described in JP-A-59-107344, etc.

本発明に係る光重合開始剤の含有量は重合可能なエチレン性不飽和結合含有化合物に対して、0.1質量%〜20質量%が好ましく0.5質量%〜15質量%が特に好ましい。   The content of the photopolymerization initiator according to the present invention is preferably 0.1% by mass to 20% by mass and particularly preferably 0.5% by mass to 15% by mass with respect to the polymerizable ethylenically unsaturated bond-containing compound.

(結合材)
本発明に係る結合材は、感光層に含まれる構成成分を担持し得るものであり、感光層は結合材として水溶性高分子化合物を含む。
(Binder)
The binder according to the present invention can carry the constituent components contained in the photosensitive layer, and the photosensitive layer contains a water-soluble polymer compound as the binder.

(水溶性高分子化合物)
本発明に係る水溶性高分子化合物とは、水に対する溶解度(25℃の水100に溶解するg数)が0.1以上であり、分子量(重量平均)が500以上の化合物をいう。
(Water-soluble polymer compound)
The water-soluble polymer compound according to the present invention means a compound having a solubility in water (g number dissolved in water 100 at 25 ° C.) of 0.1 or more and a molecular weight (weight average) of 500 or more.

本発明に係る水溶性高分子化合物としては、例えば種々の鹸化度を有するポリビニルアルコール、ヒドロキシスチレンの重合体やその共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルピロリドンやビニルピロリドンの共重合体、ポリエチレンオキサイド、ポリエチレンイミン、ポリアクリル酸アミド、コーンスターチ、マンナン、ペクチン、寒天、デキストラン、プルラン、にかわ、ヒドロキシメチルセルロース、アルギン酸、カルボキシメチルセルロース、ポリアクリル酸ナトリウム、等が挙げられる。   Examples of the water-soluble polymer compound according to the present invention include polyvinyl alcohol having various saponification degrees, polymers of hydroxystyrene and copolymers thereof, polyamide resins, copolymers of polyvinyl pyrrolidone and vinyl pyrrolidone, polyethylene oxide, polyethylene Examples include imine, polyacrylic acid amide, corn starch, mannan, pectin, agar, dextran, pullulan, glue, hydroxymethylcellulose, alginic acid, carboxymethylcellulose, sodium polyacrylate, and the like.

本発明に係る水溶性高分子化合物としては、特に非イオン性親水性基を有する高分子化合物が好ましく用いられる。   As the water-soluble polymer compound according to the present invention, a polymer compound having a nonionic hydrophilic group is particularly preferably used.

分子量としては耐刷性、画像再現性の面から重量平均分子量が1,000〜100,000の範囲が好ましく特に1,000〜50,000の範囲が好ましい。   The molecular weight is preferably in the range of 1,000 to 100,000, particularly preferably in the range of 1,000 to 50,000 in terms of printing durability and image reproducibility.

本発明に係る感光層は結合材として、水溶性高分子化合物以外の化合物を含んでもよいが、結合材の内、水溶性高分子化合物の占める割合は、全結合材に対して、80〜100質量%が好ましく、90〜100%が特に好ましい。   The photosensitive layer according to the present invention may contain a compound other than the water-soluble polymer compound as a binder, but the proportion of the water-soluble polymer compound in the binder is 80 to 100 with respect to the total binder. % By mass is preferable, and 90 to 100% is particularly preferable.

本発明に係る結合材の含有量としては、感光層に対して、10質量%〜95質量%が好ましく、特に30質量%〜90質量%の範囲が好ましい。   The content of the binder according to the present invention is preferably 10% by mass to 95% by mass and particularly preferably 30% by mass to 90% by mass with respect to the photosensitive layer.

併用できる結合材としては、例えば、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、シェラック、その他の天然樹脂等が挙げられる。   Examples of the binder that can be used in combination include polyvinyl butyral resin, polyester resin, epoxy resin, phenol resin, polycarbonate resin, polyvinyl butyral resin, polyvinyl formal resin, shellac, and other natural resins.

(非イオン性親水性基を有する高分子化合物)
上記の非イオン性親水性基を有する高分子化合物の非イオン性親水性基とは、水中でイオン化することなく親水性を示す基あるいは結合であり、例えばアルコール性水酸基、芳香族性水酸基、酸アミド基、スルホンアミド基、チオール基、ピロリドン基、ポリオキシエチレン基、ポリオキシプロピレン基、糖残基などが挙げられる。
(High molecular compound having nonionic hydrophilic group)
The nonionic hydrophilic group of the polymer compound having a nonionic hydrophilic group is a group or bond that exhibits hydrophilicity without being ionized in water. For example, an alcoholic hydroxyl group, an aromatic hydroxyl group, an acid Examples include an amide group, a sulfonamide group, a thiol group, a pyrrolidone group, a polyoxyethylene group, a polyoxypropylene group, and a sugar residue.

非イオン性親水性基を有する高分子化合物としては、現像性の面から、特に非イオン性親水性基を30質量%以上含有する化合物が好ましい。   As the polymer compound having a nonionic hydrophilic group, a compound containing 30% by mass or more of the nonionic hydrophilic group is particularly preferable from the viewpoint of developability.

また、上記非イオン性親水性基を含有する化合物は現像性、画像再現性の面から重量平均分子量が1,000〜50,000のオリゴマーまたは、ポリマーが好ましく、例えば、前記した非イオン性親水性基を側鎖に有する不飽和モノマーを1種又は2種以上重合したポリマーやポリビニルアルコール系ポリマー、多糖類であるセルロース系ポリマー、グルコース系ポリマーがあげられる。   The compound containing a nonionic hydrophilic group is preferably an oligomer or polymer having a weight average molecular weight of 1,000 to 50,000 from the viewpoint of developability and image reproducibility. Examples thereof include polymers obtained by polymerizing one or more unsaturated monomers having a functional group in the side chain, polyvinyl alcohol polymers, cellulose polymers that are polysaccharides, and glucose polymers.

例えば、アミド基を側鎖に有する不飽和モノマーとしては、無置換又は置換の(メタ)アクリルアミド、イタコン酸、フマル酸、マレイン酸等の二塩基酸のアミド化モノマー、N−ビニルアセトアミド、N−ビニルホルムアミド、N−ビニルピロリドン等が挙げられる。   For example, as an unsaturated monomer having an amide group in the side chain, an amidation monomer of unsubstituted or substituted (meth) acrylamide, itaconic acid, fumaric acid, maleic acid or the like, N-vinylacetamide, N- Examples include vinylformamide and N-vinylpyrrolidone.

無置換又は置換(メタ)アクリルアミドのより具体例としては、(メタ)アクリルアミド、N−メチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N−エチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジエチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、N−イソプロピル(メタ)アクリルアミド、ダイアセトン(メタ)アクリルアミド、メチロール(メタ)アクリルアミド、メトキシメチル(メタ)アクリルアミド、ブトキシメチル(メタ)アクリルアミド、スルホン酸プロピル(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリロイルモルホリン等が挙げられる。   More specific examples of unsubstituted or substituted (meth) acrylamide include (meth) acrylamide, N-methyl (meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, N-ethyl (meth) acrylamide, N, N- Diethyl (meth) acrylamide, N, N-dimethylaminopropyl (meth) acrylamide, N-isopropyl (meth) acrylamide, diacetone (meth) acrylamide, methylol (meth) acrylamide, methoxymethyl (meth) acrylamide, butoxymethyl (meth) ) Acrylamide, propyl (meth) acrylamide, (meth) acryloylmorpholine, and the like.

また、前記イタコン酸等の二塩基酸のアミド化モノマーの場合は、一方のカルボキシル基がアミド化されたモノアミド、両方のカルボキシル基がアミド化されたジアミド、更に一方のカルボキシル基がアミド化され、他方のカルボキシル基がエステル化されたアミドエステルであってもよい。   Further, in the case of an amidation monomer of a dibasic acid such as itaconic acid, a monoamide in which one carboxyl group is amidated, a diamide in which both carboxyl groups are amidated, and further one carboxyl group is amidated, An amide ester in which the other carboxyl group is esterified may be used.

また、例えば水酸基を有する不飽和モノマーとしては、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、及び、これらの(メタ)アクリレートにエチレンオキシド、プロピレンオキシドを付加したモノマー、メチロール(メタ)アクリルアミドや該メチロール(メタ)アクリルアミドとメチルアルコールやブチルアルコールとの縮合物であるメトキシメチル(メタ)アクリルアミド、ブトキシメチル(メタ)アクリルアミド等が挙げられる。   Examples of unsaturated monomers having a hydroxyl group include hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxybutyl (meth) acrylate, and monomers obtained by adding ethylene oxide or propylene oxide to these (meth) acrylates. And methylol (meth) acrylamide, and methoxymethyl (meth) acrylamide and butoxymethyl (meth) acrylamide which are condensates of methylol (meth) acrylamide and methyl alcohol or butyl alcohol.

前記「(メタ)アクリル」、「(メタ)アクリレート」、「(メタ)アクロイル」等の記載はそれぞれアクリルまたはメタクリル、アクリレートまたはメタアクリレート、アクリロイルまたはメタアクリロイルを意味する。   The description such as “(meth) acryl”, “(meth) acrylate”, “(meth) acryloyl” means acryl or methacryl, acrylate or methacrylate, acryloyl or methacryloyl, respectively.

ポリビニルアルコール系ポリマーを更に詳細に説明すると、酢酸ビニルやプロピオン酸ビニル等の脂肪酸ビニルモノマーのホモポリマーやコポリマーを完全又は部分加水分解して得られるポリマー、及びこのポリマーの部分ホルマール化、アセタール化、ブチラール化ポリマー等が挙げられる。   The polyvinyl alcohol polymer will be described in more detail. A polymer obtained by completely or partially hydrolyzing a homopolymer or copolymer of a fatty acid vinyl monomer such as vinyl acetate or vinyl propionate, and a partial formalization or acetalization of this polymer. Examples include butyralized polymers.

非イオン性親水性基を30質量%以上含有する化合物は、架橋剤と反応する架橋性官能基を有していてもよい。架橋性官能基の具体例としては、用いる架橋剤の種類により異なるが、非イオン性のものが好ましく、例えば、水酸基、イソシアナート基、グリシジル基、オキサゾリン基等が挙げられる。これらの架橋性官能基を導入するには、これらの官能基を有する不飽和モノマー、例えば前記した水酸基を有する不飽和モノマー、グリシジル基を有する不飽和モノマーとしてグリシジル(メタ)アクリレート等を他の(メタ)アクリレートモノマーと共重合すればよい。   A compound containing 30% by mass or more of a nonionic hydrophilic group may have a crosslinkable functional group that reacts with a crosslinking agent. Specific examples of the crosslinkable functional group vary depending on the type of the crosslinking agent to be used, but nonionic ones are preferable, and examples thereof include a hydroxyl group, an isocyanate group, a glycidyl group, and an oxazoline group. In order to introduce these crosslinkable functional groups, unsaturated monomers having these functional groups, such as unsaturated monomers having a hydroxyl group described above, glycidyl (meth) acrylate, etc. as other unsaturated monomers having a glycidyl group ( What is necessary is just to copolymerize with a meth) acrylate monomer.

非イオン性親水性基を30質量%以上含有する化合物は、前記非イオン性親水性基を有する不飽和モノマー、架橋性官能基を有する不飽和モノマー以外に、本発明の効果をさらに向上させるために、その他の共重合可能な不飽和モノマーを共重合することもできる。   In order to further improve the effect of the present invention, the compound containing 30% by mass or more of the nonionic hydrophilic group is other than the unsaturated monomer having the nonionic hydrophilic group and the unsaturated monomer having a crosslinkable functional group. In addition, other copolymerizable unsaturated monomers can be copolymerized.

その他の共重合可能な不飽和モノマーとしては、例えばメチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、メトキシ(C1〜C50)エチレングリコール(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、イソポロニル(メタ)アクリレート、アダマンチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、スチレン、α−メチルスチレン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、酢酸ビニル、α−オレフィン(C4〜C30)挙げられる。   Examples of other copolymerizable unsaturated monomers include, for example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, and methoxy (C1 to C50). ) Ethylene glycol (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, isopolonyl (meth) acrylate, adamantyl (meth) acrylate, cyclohexyl ( (Meth) acrylate, styrene, α-methylstyrene, acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl acetate, and α-olefin (C4 to C30).

非イオン性親水性基を30質量%以上含有する化合物を架橋するのに用いられる架橋剤として、「架橋剤ハンドブック」(金子東助、山下晋三編、大成社、昭和56年)に記載の反応から架橋剤と官能基の組み合わせを選ぶことができる。   Reaction described in “Crosslinking agent handbook” (Tosuke Kaneko, Junzo Yamashita, Taiseisha, 1981) as a crosslinking agent used to crosslink a compound containing 30% by mass or more of a nonionic hydrophilic group A combination of a crosslinking agent and a functional group can be selected.

例えば、架橋剤として非イオン性親水性基を30質量%以上含有する化合物中の架橋性官能基である水酸基、グリシジル基、場合によってはアミド基と反応する、公知の多価アルコール化合物類、多価カルボン酸化合物やその無水物類、多価グリシジル化合物(エポキシ樹脂)類、多価アミン化合物類、ポリアミド樹脂類、多価イソシアナート化合物類(ブロックイソシアナート類を含む)、オキサゾリン樹脂、アミノ樹脂、グリオキザール等が挙げられる。   For example, known polyhydric alcohol compounds that react with a hydroxyl group, a glycidyl group, or an amide group as the crosslinkable functional group in a compound containing 30% by mass or more of a nonionic hydrophilic group as a crosslinking agent, Carboxylic acid compounds and their anhydrides, polyvalent glycidyl compounds (epoxy resins), polyvalent amine compounds, polyamide resins, polyvalent isocyanate compounds (including block isocyanates), oxazoline resins, amino resins And glyoxal.

前記した架橋剤の中でも、現像性、印刷適性などの面から公知の種々の多価グリシジル化合物(エポキシ樹脂)、オキサゾリン樹脂、アミノ樹脂、多価アミン化合物やポリアミド樹脂等のエポキシ樹脂用の硬化剤やグリオキザールが好ましい。   Among the crosslinking agents described above, various curing agents for epoxy resins such as various polyvalent glycidyl compounds (epoxy resins), oxazoline resins, amino resins, polyvalent amine compounds, and polyamide resins are known in terms of developability and printability. And glyoxal are preferred.

アミノ樹脂としては、公知のメラミン樹脂、尿素樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、グリコールウリル樹脂等や、これら樹脂の変性樹脂、例えばカルボキシ変性メラミン樹脂等が挙げられる。また、架橋反応を促進するために、前記したグリシジル化合物を用いる際には3級アミン類を、アミノ樹脂を用いる場合はパラトルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、塩化アンモニウム等の酸性化合物を併用しても良い。感光性樹脂組成物を温風過熱、熱ローラー加熱、レーザー加熱などをすることで、これらの架橋剤が反応して非イオン性親水性基を30質量%以上含有する化合物と架橋する。   Examples of amino resins include known melamine resins, urea resins, benzoguanamine resins, glycoluril resins, and modified resins of these resins, such as carboxy-modified melamine resins. In order to accelerate the crosslinking reaction, tertiary amines are used in combination with the above-described glycidyl compounds, and acidic compounds such as paratoluenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, and ammonium chloride are used in combination with amino resins. May be. When the photosensitive resin composition is heated with hot air, heated with a roller, heated with a laser, or the like, these crosslinking agents react to crosslink with a compound containing 30% by mass or more of a nonionic hydrophilic group.

非イオン性親水性基を30質量%以上含有する化合物としては、例えば以下のものが挙げられる。
1.ビニルピロリドン−酢酸ビニル共重合体(60/40)重量平均分子量34000
商品名:ルビスコール64、ビーエーエスエフジャパン社製、VP/VA=60mol%/40mol%共重合体
2.ビニルピロリドン−1・ブテン共重合体(90/10)重量平均分子量17000
商品名:GANEX P−904 LC ISPchemicals
3.ビニルピロリドン−グリシジルメタクリレート共重合体(70/30)重量平均分子量10000
4.ポリアクリルアミド平均分子量1700
商品名:三井化学アクアポリマー(株)アコフロックN104
((C)重合可能なエチレン性不飽和結合含有化合物)
本発明に係る重合可能なエチレン性不飽和結合含有化合物は、分子内に、重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物であり、一般的なラジカル重合性のモノマー類、紫外線硬化樹脂に一般的に用いられる分子内に付加重合可能なエチレン性二重結合を複数有する多官能モノマー類や、多官能オリゴマー類を用いることができる。
Examples of the compound containing 30% by mass or more of a nonionic hydrophilic group include the following.
1. Vinylpyrrolidone-vinyl acetate copolymer (60/40) weight average molecular weight 34000
Product name: Lubiscol 64, manufactured by BASF Japan, VP / VA = 60 mol% / 40 mol% copolymer Vinylpyrrolidone-1 butene copolymer (90/10) Weight average molecular weight 17000
Product Name: GANEX P-904 LC ISP chemicals
3. Vinylpyrrolidone-glycidyl methacrylate copolymer (70/30) weight average molecular weight 10,000
4). Polyacrylamide average molecular weight 1700
Product Name: Mitsui Chemicals Aqua Polymer Co., Ltd. Acoflock N104
((C) Polymerizable ethylenically unsaturated bond-containing compound)
The polymerizable ethylenically unsaturated bond-containing compound according to the present invention is a compound having a polymerizable ethylenically unsaturated bond in the molecule, and is generally used for general radical polymerizable monomers and ultraviolet curable resins. Polyfunctional monomers having a plurality of addition-polymerizable ethylenic double bonds in the molecule used, and polyfunctional oligomers can be used.

これらの重合可能なエチレン性不飽和結合含有化合物に特に限定は無いが、例えば、2−エチルヘキシルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、グリセロールアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ノニルフェノキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルオキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルオキシヘキサノリドアクリレート、1,3−ジオキサンアルコールのε−カプロラクトン付加物のアクリレート、1,3−ジオキソランアクリレート等の単官能アクリル酸エステル類、或いはこれらのアクリレートをメタクリレート、イタコネート、クロトネート、マレエートに代えたメタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸エステル、例えば、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングルコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ハイドロキノンジアクリレート、レゾルシンジアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールのジアクリレート、ネオペンチルグリコールアジペートのジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールのε−カプロラクトン付加物のジアクリレート、2−(2−ヒドロキシ−1,1−ジメチルエチル)−5−ヒドロキシメチル−5−エチル−1,3−ジオキサンジアクリレート、トリシクロデカンジメチロールアクリレート、トリシクロデカンジメチロールアクリレートのε−カプロラクトン付加物、1,6−ヘキサンジオールのジグリシジルエーテルのジアクリレート等の2官能アクリル酸エステル類、或いはこれらのアクリレートをメタクリレート、イタコネート、クロトネート、マレエートに代えたメタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸エステル、例えばトリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートのε−カプロラクトン付加物、ピロガロールトリアクリレート、プロピオン酸・ジペンタエリスリトールトリアクリレート、プロピオン酸・ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ヒドロキシピバリルアルデヒド変性ジメチロールプロパントリアクリレート等の多官能アクリル酸エステル酸、或いはこれらのアクリレートをメタクリレート、イタコネート、クロトネート、マレエートに代えたメタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸エステル等を挙げることができる。   These polymerizable ethylenically unsaturated bond-containing compounds are not particularly limited. For example, 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, glycerol acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, phenoxyethyl acrylate, nonylphenoxyethyl acrylate, tetrahydro Monofunctional acrylic acid esters such as furfuryloxyethyl acrylate, tetrahydrofurfuryloxyhexanolide acrylate, ε-caprolactone adduct of 1,3-dioxane alcohol, 1,3-dioxolane acrylate, or these acrylates. Methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid ester instead of methacrylate, itaconate, crotonate, maleate Diglycol diene, triethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, hydroquinone diacrylate, resorcin diacrylate, hexanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, neopentyl glycol hydroxypivalate Acrylate, dipentyl neopentyl glycol adipate, diacrylate of ε-caprolactone adduct of neopentyl glycol hydroxypivalate, 2- (2-hydroxy-1,1-dimethylethyl) -5-hydroxymethyl-5-ethyl- 1,3-dioxane diacrylate, tricyclodecane dimethylol acrylate, tricyclodecane dimethylol acrylate -Bifunctional acrylates such as caprolactone adduct, diglycidyl ether diacrylate of 1,6-hexanediol, or methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid in which these acrylates are replaced with methacrylate, itaconate, crotonate, maleate Maleic esters such as trimethylolpropane triacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, trimethylolethane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexa Acrylate, ε-caprolactone adduct of dipentaerythritol hexaacrylate, Multifunctional acrylic acid ester acid such as rogalol triacrylate, propionic acid / dipentaerythritol triacrylate, propionic acid / dipentaerythritol tetraacrylate, hydroxypivalylaldehyde-modified dimethylolpropane triacrylate, or acrylate of these acrylates, itaconate , Methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid ester, etc., instead of crotonate and maleate.

(光で酸化し得る基を含む重合可能なエチレン性不飽和結合含有化合物)
本発明に係る感光層に用いられる重合可能なエチレン性不飽和結合含有化合物は、少なくとも一つの、光で酸化し得る基を含む付加重合可能なエチレン性不飽和結合含有化合物であることが好ましい。
(Polymerizable ethylenically unsaturated bond-containing compound containing a group that can be oxidized by light)
The polymerizable ethylenically unsaturated bond-containing compound used in the photosensitive layer according to the present invention is preferably an addition-polymerizable ethylenically unsaturated bond-containing compound containing at least one group capable of being oxidized by light.

特に好ましいのは、少なくとも1つの光酸化性基と少なくとも1つのウレタン基とを、分子中に含む、付加重合性化合物である。適当な光酸化性基としては、特に、複素環の構成員となっていてもよいチオ基、チオエーテル基、ウレイド基、アミノ基、およびエノール基である。それらの基の例としては、トリエタノールアミノ基、トリフェニルアミノ基、チオウレイド基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、アセチルアセトニル残基、N−フェニルグリシン残基およびアスコルビン酸残基である、好ましいものは、3級アミノ基、チオエーテル基を含む付加重合性化合物である。   Particularly preferred are addition polymerizable compounds containing at least one photooxidizable group and at least one urethane group in the molecule. Suitable photooxidizable groups are in particular thio groups, thioether groups, ureido groups, amino groups and enol groups which may be members of the heterocyclic ring. Examples of these groups are triethanolamino group, triphenylamino group, thioureido group, imidazolyl group, oxazolyl group, thiazolyl group, acetylacetonyl residue, N-phenylglycine residue and ascorbic acid residue. Preference is given to addition-polymerizable compounds containing a tertiary amino group and a thioether group.

光酸化性基を含む化合物の例は、ヨーロッパ特許出願公開第287,818号、同第353,389号および同第364,735号各明細書に記載されている。そこに記載されている化合物のなかで好ましいものは、第3アミノ基に加えて、ウレイド基および(または)ウレタン基をも含むものである。   Examples of the compound containing a photooxidizable group are described in European Patent Publication Nos. 287,818, 353,389 and 364,735. Preferred among the compounds described therein are those containing a ureido group and / or a urethane group in addition to the tertiary amino group.

また、少なくとも1つの光酸化性基と少なくとも1つのウレタン基を有する化合物としては、特開昭63−260909号公報、特許2669849号公報、特開平6−35189号公報、特開2001−125255に記載のものが挙げられる。   Examples of the compound having at least one photooxidizable group and at least one urethane group are described in JP-A Nos. 63-260909, 2666949, 6-35189, and 2001-125255. Can be mentioned.

さらに本発明では、分子内に三級アミノ基を含有する多価アルコール、ジイソシアネート化合物、および分子内にヒドロキシル基と付加重合可能なエチレン性二重結合を含有する化合物の反応生成物を使用することが好ましい。   Furthermore, the present invention uses a reaction product of a polyhydric alcohol containing a tertiary amino group in the molecule, a diisocyanate compound, and a compound containing an ethylenic double bond capable of addition polymerization with a hydroxyl group in the molecule. Is preferred.

ここで言う、分子内に三級アミノ基を含有する多価アルコールとしては、トリエタノールアミン、N−メチルジエタノールアミン、N−エチルジエタノ−ルアミン、N−n−ブチルジエタノールアミン、N−tert.−ブチルジエタノ−ルアミン、N,N−ジ(ヒドロキシエチル)アニリン、N,N,N’,N’−テトラ−2−ヒドロキシプロピルエチレンジアミン、p−トリルジエタノ−ルアミン、N,N,N’,N’−テトラ−2−ヒドロキシエチルエチレンジアミン、N,N−ビス(2−ヒドロキシプロピル)アニリン、アリルジエタノールアミン、3−(ジメチルアミノ)−1,2−プロパンジオール、3−ジエチルアミノ−1,2−プロパンジオ−ル、N,N−ジ(n−プロピル)アミノ−2,3−プロパンジオール、N,N−ジ(iso−プロピル)アミノ−2,3−プロパンジオール、3−(N−メチル−N−ベンジルアミノ)−1,2−プロパンジオ−ル等が挙げられるが、これに限定されない。   Examples of the polyhydric alcohol having a tertiary amino group in the molecule include triethanolamine, N-methyldiethanolamine, N-ethyldiethanolamine, Nn-butyldiethanolamine, N-tert. -Butyldiethanolamine, N, N-di (hydroxyethyl) aniline, N, N, N ', N'-tetra-2-hydroxypropylethylenediamine, p-tolyldiethanolamine, N, N, N', N'- Tetra-2-hydroxyethylethylenediamine, N, N-bis (2-hydroxypropyl) aniline, allyldiethanolamine, 3- (dimethylamino) -1,2-propanediol, 3-diethylamino-1,2-propanediol N, N-di (n-propyl) amino-2,3-propanediol, N, N-di (iso-propyl) amino-2,3-propanediol, 3- (N-methyl-N-benzylamino) ) -1,2-propanediol and the like, but not limited thereto.

ジイソシアネート化合物としては、ブタン−1,4−ジイソシアネート、ヘキサン−1,6−ジイソシアネート、2−メチルペンタン−1,5−ジイソシアネート、オクタン−1,8−ジイソシアネート、1,3−ジイソシアナートメチル−シクロヘキサノン、2,2,4−トリメチルヘキサン−1,6−ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、1,2−フェニレンジイソシアネート、1,3−フェニレンジイソシアネート、1,4−フェニレンジイソシアネート、トリレン−2,4−ジイソシアネート、トリレン−2,5−ジイソシアネート、トリレン−2,6−ジイソシアネート、1,3−ジ(イソシアナートメチル)ベンゼン、1,3−ビス(1−イソシアナート−1−メチルエチル)ベンゼン等が挙げられるが、これに限定されない。分子内にヒドロキシル基と付加重合可能なエチレン性二重結合を含有する化合物としては、特に限定されないが、好ましくは、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピレン−1,3−ジメタクリレート、2−ヒドロキシプロピレン−1−メタクリレート−3−アクリレート等が挙げられる。   Examples of the diisocyanate compound include butane-1,4-diisocyanate, hexane-1,6-diisocyanate, 2-methylpentane-1,5-diisocyanate, octane-1,8-diisocyanate, 1,3-diisocyanate methyl-cyclohexanone. 2,2,4-trimethylhexane-1,6-diisocyanate, isophorone diisocyanate, 1,2-phenylene diisocyanate, 1,3-phenylene diisocyanate, 1,4-phenylene diisocyanate, tolylene-2,4-diisocyanate, tolylene- Examples include 2,5-diisocyanate, tolylene-2,6-diisocyanate, 1,3-di (isocyanatomethyl) benzene, 1,3-bis (1-isocyanato-1-methylethyl) benzene, and the like. Limited to Not. Although it does not specifically limit as a compound containing the ethylenic double bond which can be addition-polymerized with a hydroxyl group in a molecule | numerator, Preferably, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 2- Examples include hydroxypropylene-1,3-dimethacrylate and 2-hydroxypropylene-1-methacrylate-3-acrylate.

これらの反応は、通常のジオール化合物、ジイソシアネート化合物、ヒドロキシル基含有アクリレート化合物の反応で、ウレタンアクリレートを合成する方法と同様に行うことが出来る。   These reactions can be carried out in the same manner as a method for synthesizing urethane acrylate by a reaction of a normal diol compound, diisocyanate compound, and hydroxyl group-containing acrylate compound.

また、これらの分子内に三級アミノ基を含有する多価アルコール、ジイソシアネート化合物、および分子内にヒドロキシル基と付加重合可能なエチレン性二重結合を含有する化合物の反応生成物において具体例を以下に示す。   Specific examples of reaction products of polyhydric alcohols containing tertiary amino groups in the molecule, diisocyanate compounds, and compounds containing ethylenic double bonds capable of addition polymerization with hydroxyl groups in the molecule are shown below. Shown in

M−1:トリエタノールアミン(1モル)、ヘキサン−1,6−ジイソシアネート(3モル)、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(3モル)の反応生成物
M−2:トリエタノールアミン(1モル)、イソホロンジイソシアネート(3モル)、2−ヒドロキシエチルアクリレート(3モル)の反応生成物
M−3:N−n−ブチルジエタノールアミン(1モル)、1,3−ビス(1−イソシアナート−1−メチルエチル)ベンゼン(2モル)、2−ヒドロキシプロピレン−1−メタクリレート−3−アクリレート(2モル)の反応生成物
M−4:N−n−ブチルジエタノ−ルアミン(1モル)、1,3−ジ(イソシアナートメチル)ベンゼン(2モル)、2−ヒドロキシプロピレン−1−メタクリレート−3−アクリレート(2モル)の反応生成物
M−5:N−メチルジエタノールアミン(1モル)、トリレン−2,4−ジイソシアネート(2モル)、2−ヒドロキシプロピレン−1,3−ジメタクリレート(2モル)の反応生成物
(その他の重合可能なエチレン性不飽和結合含有化合物)
重合可能なエチレン性不飽和結合含有化合物として、プレポリマーも上記同様に使用することができる。
M-1: reaction product of triethanolamine (1 mol), hexane-1,6-diisocyanate (3 mol), 2-hydroxyethyl methacrylate (3 mol) M-2: triethanolamine (1 mol), isophorone Reaction product of diisocyanate (3 mol) and 2-hydroxyethyl acrylate (3 mol) M-3: Nn-butyldiethanolamine (1 mol), 1,3-bis (1-isocyanato-1-methylethyl) Reaction product of benzene (2 mol) and 2-hydroxypropylene-1-methacrylate-3-acrylate (2 mol) M-4: Nn-butyldiethanolamine (1 mol), 1,3-di (isocyanate) Reaction of methyl) benzene (2 mol), 2-hydroxypropylene-1-methacrylate-3-acrylate (2 mol) Product M-5: Reaction product of N-methyldiethanolamine (1 mol), tolylene-2,4-diisocyanate (2 mol), 2-hydroxypropylene-1,3-dimethacrylate (2 mol) (other polymerization) Possible compounds containing ethylenically unsaturated bonds)
As the polymerizable ethylenically unsaturated bond-containing compound, a prepolymer can also be used in the same manner as described above.

プレポリマーとしては、後述する様な化合物等が挙げることができ、また、適当な分子量のオリゴマーにアクリル酸、又はメタクリル酸を導入し、光重合性を付与したプレポリマーも好適に使用できる。   Examples of the prepolymer include compounds as described below, and a prepolymer obtained by introducing acrylic acid or methacrylic acid into an oligomer having an appropriate molecular weight and imparting photopolymerizability can be preferably used.

これらプレポリマーは、1種又は2種以上を併用してもよいし、上述の単量体及び/又はオリゴマーと混合して用いてもよい。   These prepolymers may be used alone or in combination of two or more, and may be used by mixing with the above-mentioned monomers and / or oligomers.

プレポリマーとしては、例えばアジピン酸、トリメリット酸、マレイン酸、フタル酸、テレフタル酸、ハイミック酸、マロン酸、こはく酸、グルタール酸、イタコン酸、ピロメリット酸、フマル酸、グルタール酸、ピメリン酸、セバシン酸、ドデカン酸、テトラヒドロフタル酸等の多塩基酸と、エチレングリコール、プロピレングルコール、ジエチレングリコール、プロピレンオキサイド、1,4−ブタンジオール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ソルビトール、1,6−ヘキサンジオール、1,2,6−ヘキサントリオール等の多価のアルコールの結合で得られるポリエステルに(メタ)アクリル酸を導入したポリエステルアクリレート類;例えば、ビスフェノールA・エピクロルヒドリン・(メタ)アクリル酸、フェノールノボラック・エピクロルヒドリン・(メタ)アクリル酸のようにエポキシ樹脂に(メタ)アクリル酸を導入したエポキシアクリレート類;例えば、エチレングリコール・アジピン酸・トリレンジイソシアネート・2−ヒドロキシエチルアクリレート、ポリエチレングリコール・トリレンジイソシアネート・2−ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルフタリルメタクリレート・キシレンジイソシアネート、1,2−ポリブタジエングリコール・トリレンジイソシアネート・2−ヒドロキシエチルアクリレート、トリメチロールプロパン・プロピレングリコール・トリレンジイソシアネート・2−ヒドロキシエチルアクリレートのように、ウレタン樹脂に(メタ)アクリル酸を導入したウレタンアクリレート;例えば、ポリシロキサンアクリレート、ポリシロキサン・ジイソシアネート・2−ヒドロキシエチルアクリレート等のシリコーン樹脂アクリレート類;その他、油変性アルキッド樹脂に(メタ)アクリロイル基を導入したアルキッド変性アクリレート類、スピラン樹脂アクリレート類;等のプレポリマーが挙げられる。   Examples of prepolymers include adipic acid, trimellitic acid, maleic acid, phthalic acid, terephthalic acid, hymic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, itaconic acid, pyromellitic acid, fumaric acid, glutaric acid, pimelic acid, Polybasic acids such as sebacic acid, dodecanoic acid, tetrahydrophthalic acid, and ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, propylene oxide, 1,4-butanediol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, polyethylene glycol, glycerin, trimethylol Polyester obtained by introducing (meth) acrylic acid into a polyester obtained by combining polyhydric alcohols such as propane, pentaerythritol, sorbitol, 1,6-hexanediol, 1,2,6-hexanetriol Acrylates; for example, epoxy acrylates in which (meth) acrylic acid is introduced into an epoxy resin such as bisphenol A, epichlorohydrin, (meth) acrylic acid, phenol novolac, epichlorohydrin, (meth) acrylic acid; Acid / tolylene diisocyanate / 2-hydroxyethyl acrylate, polyethylene glycol / tolylene diisocyanate / 2-hydroxyethyl acrylate, hydroxyethylphthalyl methacrylate / xylene diisocyanate, 1,2-polybutadiene glycol / tolylene diisocyanate / 2-hydroxyethyl acrylate , Trimethylolpropane, propylene glycol, tolylene diisocyanate, 2-hydroxyethyl acrylate In addition, urethane acrylates in which (meth) acrylic acid is introduced into urethane resins; for example, silicone resin acrylates such as polysiloxane acrylate, polysiloxane diisocyanate, 2-hydroxyethyl acrylate, etc .; and (meth) acryloyl in oil-modified alkyd resins Examples include prepolymers such as alkyd-modified acrylates and spirane resin acrylates having a group introduced therein.

また、本発明に係る重合可能なエチレン性不飽和結合含有化合物として、ホスファゼンモノマー・トリエチレングリコール・イソシアヌール酸EO(エチレンオキシド)変性ジアクリレート、イソシアヌール酸EO変性トリアクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート、トリメチロールプロパンアクリル酸安息香酸エステル、アルキレングリコールタイプアクリル酸変性・ウレタン変性アクリレート等の単量体及び該単量体から形成される構成単位を有する付加重合性のオリゴマー及びプレポリマーを挙げることができる。   Further, the polymerizable ethylenically unsaturated bond-containing compound according to the present invention includes phosphazene monomer, triethylene glycol, isocyanuric acid EO (ethylene oxide) -modified diacrylate, isocyanuric acid EO-modified triacrylate, dimethylol tricyclodecanedi. Mention of monomers such as acrylate, trimethylolpropane acrylic acid benzoate, alkylene glycol type acrylic acid modified / urethane modified acrylate, and addition polymerizable oligomers and prepolymers having structural units formed from the monomer Can do.

この他に特開昭58−212994号公報、同61−6649号公報、同62−46688号公報、同62−48589号公報、同62−173295号公報、同62−187092号公報、同63−67189号公報、特開平1−244891号公報等に記載の化合物などを挙げることができ、更に「11290の化学商品」化学工業日報社p.286〜p.294に記載の化合物、「UV・EB硬化ハンドブック(原料編)」高分子刊行会p.11〜65に記載の化合物なども本発明においては用いることができる。   In addition, JP-A-58-212994, 61-6649, 62-46688, 62-48589, 62-173295, 62-187092, 63- No. 67189, JP-A-1-244891, and the like. Furthermore, “11290 Chemical Products”, Chemical Industry Daily, p. 286-p. 294, “UV / EB Curing Handbook (raw material)”, Kobunshi Shuppankai, p. The compounds described in 11 to 65 can also be used in the present invention.

本発明に係る重合可能なエチレン性不飽和結合含有化合物の感光層中の含有量としては、感光層に対して、1.0〜80.0質量%の範囲が好ましく、より好ましくは3.0〜70.0質量%の範囲である。   The content of the polymerizable ethylenically unsaturated bond-containing compound according to the present invention in the photosensitive layer is preferably in the range of 1.0 to 80.0% by mass, more preferably 3.0% with respect to the photosensitive layer. It is in the range of ˜70.0% by mass.

(350nm〜450nmの波長範囲に吸収極大を有する色素)
本発明の感光層は、350〜450nmの波長範囲に吸収極大を有する増感色素を含有する。
(Dye having an absorption maximum in the wavelength range of 350 nm to 450 nm)
The photosensitive layer of the present invention contains a sensitizing dye having an absorption maximum in the wavelength range of 350 to 450 nm.

これらの色素としては、例えばシアニン、メロシアニン、ポルフィリン、スピロ化合物、フェロセン、フルオレン、フルギド、イミダゾール、ペリレン、フェナジン、フェノチアジン、アクリジン、アゾ化合物、ジフェニルメタン、トリフェニルメタン、トリフェニルアミン、クマリン誘導体、キナクリドン、インジゴ、スチリル、ピリリウム化合物、ピロメテン化合物、ピラゾロトリアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合部、バルビツール酸誘導体、チオバルビツール酸誘導体、ケトアルコールボレート錯体等が挙げられる。   Examples of these dyes include cyanine, merocyanine, porphyrin, spiro compound, ferrocene, fluorene, fulgide, imidazole, perylene, phenazine, phenothiazine, acridine, azo compound, diphenylmethane, triphenylmethane, triphenylamine, coumarin derivative, quinacridone, Examples include indigo, styryl, pyrylium compounds, pyromethene compounds, pyrazolotriazole compounds, benzothiazole compounds, barbituric acid derivatives, thiobarbituric acid derivatives, ketoalcohol borate complexes, and the like.

これらの増感色素のうち下記一般式(3)で表されるクマリン系の色素が好ましく用いられる。   Of these sensitizing dyes, a coumarin dye represented by the following general formula (3) is preferably used.

Figure 2006150722
Figure 2006150722

一般式(3)中、R1〜R6は、水素原子、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基等)、シクロアルキル基(例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、アルケニル基(例えば、ビニル基、アリル基等)、アルキニル基(例えば、エチニル基、プロパルギル基等)、アリール基(例えば、フェニル基、ナフチル基等)、ヘテロ環基(例えば、ピロリジル基、イミダゾリジル基、モルホリル基、オキサゾリジル基等)、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ基等)、シクロアルコキシ基(例えば、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、ドデシルチオ基等)、シクロアルキルチオ基(例えば、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基等)、アリールチオ基(例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(例えば、フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基等)、スルファモイル基(例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、2−ピリジルアミノスルホニル基等)、アシル基(例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、2−エチルヘキシルカルボニル基、ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等)、アミド基(例えば、メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ジメチルカルボニルアミノ基、プロピルカルボニルアミノ基、ペンチルカルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミノ基、2−エチルヘキシルカルボニルアミノ基、オクチルカルボニルアミノ基、ドデシルカルボニルアミノ基、フェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニルアミノ基等)、カルバモイル基(例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、2−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、2−ピリジルアミノカルボニル基等)、ウレイド基(例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基、ナフチルウレイド基、2−ピリジルアミノウレイド基等)、アルキルスルホニル基(例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、2−エチルヘキシルスルホニル基、ドデシルスルホニル基等)、アリールスルホニル基(フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基、2−ピリジルスルホニル基等)、アミノ基(例えば、無置換アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、2−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基、アニリノ基、ナフチルアミノ基、2−ピリジルアミノ基等)、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、等が挙げられる。これらの置換基は、上記の置換基によってさらに置換されていてもよい。また、これらの置換基は複数が互いに結合して環を形成していてもよい。 In general formula (3), R < 1 > -R < 6 > is a hydrogen atom, an alkyl group (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, dodecyl group) , Tridecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group etc.), cycloalkyl group (eg cyclopentyl group, cyclohexyl group etc.), alkenyl group (eg vinyl group, allyl group etc.), alkynyl group (eg ethynyl group, propargyl group etc.) ), Aryl group (eg, phenyl group, naphthyl group, etc.), heterocyclic group (eg, pyrrolidyl group, imidazolidyl group, morpholyl group, oxazolidyl group, etc.), alkoxy group (eg, methoxy group, ethoxy group, propyloxy group, Pentyloxy group, hexyloxy group, octyloxy group, dodecyloxy group, etc.) Cycloalkoxy groups (eg, cyclopentyloxy group, cyclohexyloxy group, etc.), aryloxy groups (eg, phenoxy group, naphthyloxy group, etc.), alkylthio groups (eg, methylthio group, ethylthio group, propylthio group, pentylthio group, hexylthio group) Octylthio group, dodecylthio group, etc.), cycloalkylthio group (eg, cyclopentylthio group, cyclohexylthio group, etc.), arylthio group (eg, phenylthio group, naphthylthio group, etc.), alkoxycarbonyl group (eg, methyloxycarbonyl group, ethyl) Oxycarbonyl group, butyloxycarbonyl group, octyloxycarbonyl group, dodecyloxycarbonyl group, etc.), aryloxycarbonyl group (for example, phenyloxycarbonyl group, naphthyloxycarbonyl) Sulfonyl groups, such as aminosulfonyl group, methylaminosulfonyl group, dimethylaminosulfonyl group, butylaminosulfonyl group, hexylaminosulfonyl group, cyclohexylaminosulfonyl group, octylaminosulfonyl group, dodecylaminosulfonyl group, phenyl Aminosulfonyl group, naphthylaminosulfonyl group, 2-pyridylaminosulfonyl group, etc.), acyl group (for example, acetyl group, ethylcarbonyl group, propylcarbonyl group, pentylcarbonyl group, cyclohexylcarbonyl group, octylcarbonyl group, 2-ethylhexylcarbonyl group) , Dodecylcarbonyl group, phenylcarbonyl group, naphthylcarbonyl group, pyridylcarbonyl group, etc.), amide group (for example, methylcarbonylamino group, Rucarbonylamino group, dimethylcarbonylamino group, propylcarbonylamino group, pentylcarbonylamino group, cyclohexylcarbonylamino group, 2-ethylhexylcarbonylamino group, octylcarbonylamino group, dodecylcarbonylamino group, phenylcarbonylamino group, naphthylcarbonylamino Group), carbamoyl group (for example, aminocarbonyl group, methylaminocarbonyl group, dimethylaminocarbonyl group, propylaminocarbonyl group, pentylaminocarbonyl group, cyclohexylaminocarbonyl group, octylaminocarbonyl group, 2-ethylhexylaminocarbonyl group, Dodecylaminocarbonyl group, phenylaminocarbonyl group, naphthylaminocarbonyl group, 2-pyridylaminocarbonyl group, etc. Ureido groups (for example, methylureido group, ethylureido group, pentylureido group, cyclohexylureido group, octylureido group, dodecylureido group, phenylureido group, naphthylureido group, 2-pyridylaminoureido group), alkylsulfonyl group ( For example, methylsulfonyl group, ethylsulfonyl group, butylsulfonyl group, cyclohexylsulfonyl group, 2-ethylhexylsulfonyl group, dodecylsulfonyl group, etc.), arylsulfonyl group (phenylsulfonyl group, naphthylsulfonyl group, 2-pyridylsulfonyl group, etc.), Amino group (for example, unsubstituted amino group, ethylamino group, dimethylamino group, butylamino group, cyclopentylamino group, 2-ethylhexylamino group, dodecylamino group, anilino group, naphthyla) Mino group, 2-pyridylamino group and the like), halogen atom (for example, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and the like), cyano group, nitro group, hydroxy group and the like. These substituents may be further substituted with the above substituents. In addition, a plurality of these substituents may be bonded to each other to form a ring.

この中で、特に好ましいのは、R5にアミノ基(無置換アミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアリールアミノ基、アルキルアリールアミノ基)を有するクマリンである。この場合、アミノ基に置換したアルキル基が、R4、R6の置換基と環を形成しているものも好ましく用いることができる。 Among these, particularly preferred are coumarins having an amino group (unsubstituted amino group, alkylamino group, dialkylamino group, arylamino group, diarylamino group, alkylarylamino group) in R 5 . In this case, an alkyl group substituted with an amino group that forms a ring with the substituents R 4 and R 6 can also be preferably used.

さらに、R1、R2のいずれか、あるいは両方が、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基等)、シクロアルキル基(例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、アルケニル基(例えば、ビニル基、アリル基等)、アリール基(例えば、フェニル基、ナフチル基等)、ヘテロ環基(例えば、ピロリジル基、イミダゾリジル基、モルホリル基、オキサゾリジル基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(例えば、フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基等)、アシル基(例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、2−エチルヘキシルカルボニル基、ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等)、カルバモイル基(例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、2−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、2−ピリジルアミノカルボニル基等)、2−エチルヘキシルスルフィニル基、ドデシルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ナフチルスルフィニル基、2−ピリジルスルフィニル基等、アルキルスルホニル基(例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、2−エチルヘキシルスルホニル基、ドデシルスルホニル基等)、アリールスルホニル基(フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基、2−ピリジルスルホニル基等)、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン化アルキル基(トリフルオロメチル基、トリブロモメチル基、トリクロロメチル基等)であると更に好ましい。 Furthermore, either or both of R 1 and R 2 are alkyl groups (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, dodecyl group, tridecyl group). Group, tetradecyl group, pentadecyl group etc.), cycloalkyl group (eg cyclopentyl group, cyclohexyl group etc.), alkenyl group (eg vinyl group, allyl group etc.), aryl group (eg phenyl group, naphthyl group etc.), Heterocyclic group (for example, pyrrolidyl group, imidazolidyl group, morpholyl group, oxazolidyl group, etc.), alkoxycarbonyl group (for example, methyloxycarbonyl group, ethyloxycarbonyl group, butyloxycarbonyl group, octyloxycarbonyl group, dodecyloxycarbonyl group) Etc.), aryloxyca Bonyl group (for example, phenyloxycarbonyl group, naphthyloxycarbonyl group, etc.), acyl group (for example, acetyl group, ethylcarbonyl group, propylcarbonyl group, pentylcarbonyl group, cyclohexylcarbonyl group, octylcarbonyl group, 2-ethylhexylcarbonyl group) , Dodecylcarbonyl group, phenylcarbonyl group, naphthylcarbonyl group, pyridylcarbonyl group, etc.), carbamoyl group (for example, aminocarbonyl group, methylaminocarbonyl group, dimethylaminocarbonyl group, propylaminocarbonyl group, pentylaminocarbonyl group, cyclohexylamino) Carbonyl group, octylaminocarbonyl group, 2-ethylhexylaminocarbonyl group, dodecylaminocarbonyl group, phenylaminocarbonyl group, naphthyla Minocarbonyl group, 2-pyridylaminocarbonyl group, etc.), 2-ethylhexylsulfinyl group, dodecylsulfinyl group, phenylsulfinyl group, naphthylsulfinyl group, 2-pyridylsulfinyl group, alkylsulfonyl groups (for example, methylsulfonyl group, ethylsulfonyl group) , Butylsulfonyl group, cyclohexylsulfonyl group, 2-ethylhexylsulfonyl group, dodecylsulfonyl group, etc.), arylsulfonyl group (phenylsulfonyl group, naphthylsulfonyl group, 2-pyridylsulfonyl group, etc.), halogen atom (eg, fluorine atom, chlorine) Atom, bromine atom, etc.), cyano group, nitro group, halogenated alkyl group (trifluoromethyl group, tribromomethyl group, trichloromethyl group, etc.).

一般式(1)で表される色素として最も好ましいものは、R5がアミノ基(無置換アミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアリールアミノ基、アルキルアリールアミノ基)であり、R1がアルコキシカルボニル基またはピリジル基でアルミニウム色素である。 The most preferable dye represented by the general formula (1) is that R 5 is an amino group (unsubstituted amino group, alkylamino group, dialkylamino group, arylamino group, diarylamino group, alkylarylamino group). , R 1 is an alkoxycarbonyl group or a pyridyl group and is an aluminum dye.

一般式(3)で表される化合物の好ましい具体例として、下記の化合物が挙げられる。   Preferable specific examples of the compound represented by the general formula (3) include the following compounds.

Figure 2006150722
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Figure 2006150722
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上記具体例の他に、特開平8−129258号公報のB−1からB−22のクマリン誘導体、特開2003−21901号公報のD−1からD−32のクマリン誘導体、特開2002−363206号公報の1から21のクマリン誘導体、特開2002−363207号公報の1から40のクマリン誘導体、特開2002−363208号公報の1から34のクマリン誘導体、特開2002−363209号公報の1から56のクマリン誘導体等も好ましく使用可能である。   In addition to the above specific examples, coumarin derivatives of B-1 to B-22 in JP-A-8-129258, coumarin derivatives of D-1 to D-32 in JP-A-2003-21901, JP-A-2002-363206 No. 1 to 21 Coumarin Derivatives, JP-A No. 2002-363207 No. 1 to 40 Coumarin Derivatives, JP-A No. 2002-363208 No. 1 to 34 Coumarin Derivatives, JP-A No. 2002-363209 No. 1 56 coumarin derivatives and the like can also be preferably used.

(各種添加剤)
本発明に係る感光層には、上記した成分の他に、感光性平版印刷版材料の製造中あるいは保存中において重合可能なエチレン性不飽和二重結合化合物の不要な重合を阻止するために、ヒンダードフェノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物およびその他の重合防止剤を添加してもよい。
(Various additives)
In the photosensitive layer according to the present invention, in addition to the above-described components, in order to prevent unnecessary polymerization of the ethylenically unsaturated double bond compound that can be polymerized during the production or storage of the photosensitive lithographic printing plate material, A hindered phenol compound, a hindered amine compound, and other polymerization inhibitors may be added.

ヒンダードフェノール系化合物の例としては、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、テトラキス−[メチレン−3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタン、ビス[3,3’−ビス−(4’−ヒドロキシ−3’−t−ブチルフェニル)ブチリックアシッド]グリコールエステル、2−t−ブチル−6−(3−t−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)−4−メチルフェニルアクリレート、2−[1−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ペンチルフェニル)エチル]−4,6−ジ−t−ペンチルフェニルアクリレート等が挙げられ、好ましくは(メタ)アクリレート基を有する2−t−ブチル−6−(3−t−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)−4−メチルフェニルアクリレート、2−[1−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ペンチルフェニル)エチル]−4,6−ジ−t−ペンチルフェニルアクリレートの等が挙げられる。   Examples of hindered phenol compounds include 2,6-di-t-butyl-p-cresol, butylated hydroxyanisole, 2,2′-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), 4,4 '-Butylidenebis (3-methyl-6-tert-butylphenol), tetrakis- [methylene-3- (3', 5'-di-tert-butyl-4'-hydroxyphenyl) propionate] methane, bis [3,3 '-Bis- (4'-hydroxy-3'-t-butylphenyl) butyric acid] glycol ester, 2-t-butyl-6- (3-t-butyl-2-hydroxy-5-methylbenzyl)- 4-methylphenyl acrylate, 2- [1- (2-hydroxy-3,5-di-t-pentylphenyl) ethyl] -4,6-di-t-pentylphene Acrylate, etc., preferably 2-t-butyl-6- (3-t-butyl-2-hydroxy-5-methylbenzyl) -4-methylphenyl acrylate having a (meth) acrylate group, 2- [ And 1- (2-hydroxy-3,5-di-t-pentylphenyl) ethyl] -4,6-di-t-pentylphenyl acrylate.

ヒンダードアミン系化合物の例としては、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、1−[2−〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ〕エチル]−4−〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ〕−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、8−アセチル−3−ドデシル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8−トリアザスピロ[4.5]デカン−2,4−ジオン等が挙げられる。   Examples of hindered amine compounds include bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, 1- [ 2- [3- (3,5-di-tert-butyl-hydroxyphenyl) propionyloxy] ethyl] -4- [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy]- 2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-benzoyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 8-acetyl-3-dodecyl-7,7,9,9-tetramethyl-1, 3,8-triazaspiro [4.5] decane-2,4-dione and the like.

その他の重合防止剤としてはハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4′−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2′−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン第一セリウム塩、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン誘導体等のヒンダードアミン類等があげられる。   Other polymerization inhibitors include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol) Hindered amines such as 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), N-nitrosophenylhydroxylamine primary cerium salt, 2,2,6,6-tetramethylpiperidine derivatives, and the like. .

重合防止剤の添加量は、感光層の質量に対して、約0.01質量%〜約5質量%が好ましい。また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加したり、塗布後の乾燥の過程で光重合性感光性層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約0.5質量%〜約10質量%が好ましい。   The addition amount of the polymerization inhibitor is preferably about 0.01% by mass to about 5% by mass with respect to the mass of the photosensitive layer. Also, if necessary, higher fatty acid derivatives such as behenic acid and behenic acid amide are added to prevent polymerization inhibition by oxygen, or unevenly distributed on the surface of the photopolymerizable photosensitive layer during the drying process after coating. You may let them. The amount of the higher fatty acid derivative added is preferably about 0.5% by mass to about 10% by mass of the total composition.

本発明に係る感光層には、上記した成分の他に、着色剤も使用することができ、着色剤としては、市販のものを含め従来公知のものが好適に使用できる。例えば、改訂新版「顔料便覧」,日本顔料技術協会編(誠文堂新光社)、カラーインデックス便覧等に述べられているものが挙げられる。   In the photosensitive layer according to the present invention, a colorant can be used in addition to the above-mentioned components. As the colorant, conventionally known ones including commercially available ones can be suitably used. Examples include those described in the revised new edition “Pigment Handbook”, edited by Japan Pigment Technology Association (Seikodo Shinkosha), Color Index Handbook, and the like.

顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、赤色顔料、褐色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料等が挙げられる。具体的には、無機顔料(二酸化チタン、カーボンブラック、グラファイト、酸化亜鉛、プルシアンブルー、硫化カドミウム、酸化鉄、ならびに鉛、亜鉛、バリウム及びカルシウムのクロム酸塩等)及び有機顔料(アゾ系、チオインジゴ系、アントラキノン系、アントアンスロン系、トリフェンジオキサジン系の顔料、バット染料顔料、フタロシアニン顔料及びその誘導体、キナクリドン顔料等)が挙げられる。   Examples of the pigment include black pigment, yellow pigment, red pigment, brown pigment, purple pigment, blue pigment, green pigment, fluorescent pigment, and metal powder pigment. Specifically, inorganic pigments (titanium dioxide, carbon black, graphite, zinc oxide, Prussian blue, cadmium sulfide, iron oxide, and lead, zinc, barium and calcium chromates) and organic pigments (azo-based, thioindigo) , Anthraquinone, anthanthrone, and triphendioxazine pigments, vat dye pigments, phthalocyanine pigments and derivatives thereof, quinacridone pigments, and the like.

これらの中でも、使用する露光レーザーに対応した分光増感色素の吸収波長域に実質的に吸収を持たない顔料を選択して使用することが好ましく、この場合、使用するレーザー波長での積分球を用いた顔料の反射吸収が0.05以下であることが好ましい。   Among these, it is preferable to select and use a pigment having substantially no absorption in the absorption wavelength region of the spectral sensitizing dye corresponding to the exposure laser to be used. In this case, an integrating sphere at the laser wavelength to be used is used. It is preferable that the reflection absorption of the used pigment is 0.05 or less.

又、顔料の添加量としては、感光層の固形分に対し0.1〜10質量%が好ましく、より好ましくは0.2〜5質量%である。   Further, the addition amount of the pigment is preferably 0.1 to 10% by mass, more preferably 0.2 to 5% by mass with respect to the solid content of the photosensitive layer.

また、感光層は支持体への接着性を向上させるために可塑剤を含有することができる。   The photosensitive layer can contain a plasticizer in order to improve adhesion to the support.

可塑剤としては、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジ−2−エチルヘキシルフタレート、ジ−n−オクチルフタレート、ジドデシルフタレート、ジイソデシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジイソノニルフタレート、エチルフタリルエチルグリコール、ジメチルイソフタレート、トリエチレングリコールジカプリレート、ジメチルグリコールフタレート、トリクレジルホスフェート、ジオクチルアジペート、ジブチルセバケート、トリアセチルグリセリンなどを挙げることができる。可塑剤の添加量は、上記塗布組成物の全固形分に対し好ましくは約0〜3質量%であり、より好ましくは0.1〜2質量%である。   Plasticizers include dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, diheptyl phthalate, di-2-ethylhexyl phthalate, di-n-octyl phthalate, didodecyl phthalate, diisodecyl phthalate, butyl benzyl phthalate, diisononyl phthalate, ethyl phthalyl ethyl Examples include glycol, dimethyl isophthalate, triethylene glycol dicaprylate, dimethyl glycol phthalate, tricresyl phosphate, dioctyl adipate, dibutyl sebacate, and triacetyl glycerin. The amount of the plasticizer added is preferably about 0 to 3% by mass, more preferably 0.1 to 2% by mass, based on the total solid content of the coating composition.

また、感光層を塗設する場合必要な界面活性剤などの塗布性改良剤を、本発明の性能を損わない範囲で、含有することができる。その中でも好ましいのはフッ素系界面活性剤である。   In addition, a coating property improving agent such as a surfactant necessary for coating the photosensitive layer can be contained within a range not impairing the performance of the present invention. Of these, fluorine-based surfactants are preferred.

また、感光層には硬化皮膜の物性を改良するために、無機充填剤やジオクチルフタレート、ジメチルフタレート、トリクレジルホスフェート等の可塑剤等の添加剤を加えてもよい。これらの添加量は感光層の全固形分の10質量%以下が好ましい。   In addition, an additive such as an inorganic filler, a plasticizer such as dioctyl phthalate, dimethyl phthalate, or tricresyl phosphate may be added to the photosensitive layer in order to improve the physical properties of the cured film. These addition amounts are preferably 10% by mass or less based on the total solid content of the photosensitive layer.

(塗布)
本発明に係る感光層は、感光層用の塗布液を調製し、これを支持体上に塗布、乾燥して得られる。
(Application)
The photosensitive layer according to the present invention is obtained by preparing a coating solution for the photosensitive layer, and applying and drying the coating solution on a support.

塗布する際に使用する溶剤としては、例えば、アルコール類:sec−ブタノール、イソブタノール、n−ヘキサノール、ベンジルアルコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、1,5−ペンタンジオール等;エーテル類:プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル等;ケトン類、アルデヒド類:ジアセトンアルコール、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等;エステル類:乳酸エチル、乳酸ブチル、シュウ酸ジエチル、安息香酸メチル等;が好ましく挙げられる。   Examples of the solvent used for coating include alcohols: sec-butanol, isobutanol, n-hexanol, benzyl alcohol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, 1,5-pentanediol, etc .; ethers: Propylene glycol monobutyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, etc .; ketones, aldehydes: diacetone alcohol, cyclohexanone, methylcyclohexanone, etc .; esters: ethyl lactate, butyl lactate, diethyl oxalate, methyl benzoate Etc. are preferred.

塗布液の塗布方法としては、例えばエアドクタコータ法、ブレードコータ法、ワイヤバー法、ナイフコータ法、ディップコータ法、リバースロールコータ法、グラビヤコータ法、キャストコーティング法、カーテンコータ法及び押し出しコータ法等を挙げることができる。   Examples of coating methods for the coating liquid include air doctor coater method, blade coater method, wire bar method, knife coater method, dip coater method, reverse roll coater method, gravure coater method, cast coating method, curtain coater method and extrusion coater method. Can be mentioned.

(支持体)
本発明に係る支持体は感光層を担持可能な板状体またはフィルム体であり、感光層が設けられる側に親水性表面を有するのが好ましい。
(Support)
The support according to the present invention is a plate or film capable of carrying a photosensitive layer, and preferably has a hydrophilic surface on the side where the photosensitive layer is provided.

本発明の支持体として、例えばアルミニウム、ステンレス、クロム、ニッケル等の金属板、また、ポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム等のプラスチックフィルムに前述の金属薄膜をラミネートまたは蒸着したもの等が挙げられる。   Examples of the support of the present invention include metal plates such as aluminum, stainless steel, chromium and nickel, and plastic films such as polyester film, polyethylene film and polypropylene film laminated or vapor-deposited with the above metal thin film.

また、ポリエステルフィルム、塩化ビニルフィルム、ナイロンフィルム等の表面に親水化処理を施したもの等が使用できるが、アルミニウム支持体が好ましく使用される。   Moreover, although what hydrophilized the surface, such as a polyester film, a vinyl chloride film, a nylon film, etc. can be used, an aluminum support body is used preferably.

アルミニウム支持体の場合、純アルミニウムまたはアルミニウム合金が用いられる。   In the case of an aluminum support, pure aluminum or an aluminum alloy is used.

支持体のアルミニウム合金としては、種々のものが使用でき、例えば、珪素、銅、マンガン、マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケル、チタン、ナトリウム、鉄等の金属とアルミニウムの合金が用いられる。又アルミニウム支持体は、保水性付与のため、表面を粗面化したものが用いられる。   Various aluminum alloys can be used as the support, and for example, alloys of metals such as silicon, copper, manganese, magnesium, chromium, zinc, lead, bismuth, nickel, titanium, sodium, iron, and aluminum are used. . Further, the aluminum support having a roughened surface is used for water retention.

粗面化(砂目立て処理)するに先立って表面の圧延油を除去するために脱脂処理を施すことが好ましい。脱脂処理としては、トリクレン、シンナー等の溶剤を用いる脱脂処理、ケシロン、トリエタノール等のエマルジョンを用いたエマルジョン脱脂処理等が用いられる。又、脱脂処理には、苛性ソーダ等のアルカリの水溶液を用いることもできる。脱脂処理に苛性ソーダ等のアルカリ水溶液を用いた場合、上記脱脂処理のみでは除去できない汚れや酸化皮膜も除去することができる。脱脂処理に苛性ソーダ等のアルカリ水溶液を用いた場合、支持体の表面にはスマットが生成するので、この場合には、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸、或いはそれらの混酸に浸漬しデスマット処理を施すことが好ましい。粗面化の方法としては、例えば、機械的方法、電解によりエッチングする方法が挙げられる。   Prior to roughening (graining treatment), it is preferable to perform a degreasing treatment in order to remove the rolling oil on the surface. As the degreasing treatment, a degreasing treatment using a solvent such as trichlene or thinner, an emulsion degreasing treatment using an emulsion such as kesilon or triethanol, or the like is used. In addition, an alkaline aqueous solution such as caustic soda can be used for the degreasing treatment. When an alkaline aqueous solution such as caustic soda is used for the degreasing treatment, dirt and oxide film that cannot be removed only by the degreasing treatment can be removed. When an alkaline aqueous solution such as caustic soda is used for the degreasing treatment, smut is generated on the surface of the support. It is preferable to perform the treatment. Examples of the roughening method include a mechanical method and a method of etching by electrolysis.

用いられる機械的粗面化法は特に限定されるものではないが、ブラシ研磨法、ホーニング研磨法が好ましい。   The mechanical roughening method used is not particularly limited, but a brush polishing method and a honing polishing method are preferable.

電気化学的粗面化法も特に限定されるものではないが、酸性電解液中で電気化学的に粗面化を行う方法が好ましい。   The electrochemical surface roughening method is not particularly limited, but a method of electrochemical surface roughening in an acidic electrolyte is preferable.

上記の電気化学的粗面化法で粗面化した後、表面のアルミニウム屑等を取り除くため、酸又はアルカリの水溶液に浸漬することが好ましい。酸としては、例えば、硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等が用いられ、塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が用いられる。これらの中でもアルカリの水溶液を用いるのが好ましい。表面のアルミニウムの溶解量としては、0.5〜5g/m2が好ましい。又、アルカリの水溶液で浸漬処理を行った後、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸或いはそれらの混酸に浸漬し中和処理を施すことが好ましい。 After the surface is roughened by the electrochemical surface roughening method, it is preferably immersed in an acid or alkali aqueous solution in order to remove aluminum scraps on the surface. Examples of the acid include sulfuric acid, persulfuric acid, hydrofluoric acid, phosphoric acid, nitric acid, hydrochloric acid, and the like. Examples of the base include sodium hydroxide and potassium hydroxide. Among these, it is preferable to use an alkaline aqueous solution. The dissolution amount of aluminum in the support surface, 0.5 to 5 g / m 2 is preferred. In addition, it is preferable that after the immersion treatment with an alkaline aqueous solution, neutralization treatment is performed by immersion in an acid such as phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid or a mixed acid thereof.

機械的粗面化処理法、電気化学的粗面化法はそれぞれ単独で用いて粗面化してもよいし、又、機械的粗面化処理法に次いで電気化学的粗面化法を行って粗面化してもよい。   The mechanical surface roughening method and the electrochemical surface roughening method may each be used alone for roughing, or the mechanical surface roughening method followed by the electrochemical surface roughening method. You may roughen.

粗面化処理の次には、陽極酸化処理を行うことができる。本発明において用いることができる陽極酸化処理の方法には特に制限はなく、公知の方法を用いることができる。陽極酸化処理を行うことにより、支持体上には酸化皮膜が形成される。   Following the roughening treatment, an anodic oxidation treatment can be performed. There is no restriction | limiting in particular in the method of the anodizing process which can be used in this invention, A well-known method can be used. By performing the anodizing treatment, an oxide film is formed on the support.

陽極酸化処理された支持体は、必要に応じ封孔処理を施してもよい。これら封孔処理は、熱水処理、沸騰水処理、水蒸気処理、珪酸ソーダ処理、重クロム酸塩水溶液処理、亜硝酸塩処理、酢酸アンモニウム処理等公知の方法を用いて行うことができる。   The anodized support may be sealed as necessary. These sealing treatments can be performed using known methods such as hot water treatment, boiling water treatment, water vapor treatment, sodium silicate treatment, dichromate aqueous solution treatment, nitrite treatment, and ammonium acetate treatment.

更に、これらの処理を行った後に、水溶性の樹脂、例えばポリビニルホスホン酸、スルホン酸基を側鎖に有する重合体および共重合体、ポリアクリル酸、水溶性金属塩(例えばホウ酸亜鉛)もしくは、黄色染料、アミン塩等を下塗りしたものも好適である。更に、特開平5−304358号公報に開示されているようなラジカルによって付加反応を起し得る官能基を共有結合させたゾル−ゲル処理基板も好適に用いられる。   Furthermore, after performing these treatments, water-soluble resins such as polyvinylphosphonic acid, polymers and copolymers having a sulfonic acid group in the side chain, polyacrylic acid, water-soluble metal salts (for example, zinc borate) or Also suitable are those coated with a yellow dye, amine salt or the like. Further, a sol-gel treated substrate in which a functional group capable of causing an addition reaction by a radical as disclosed in JP-A No. 5-304358 is covalently used.

(保護層)
本発明に係る感光層の上側には、保護層を設けてもよい。
(Protective layer)
A protective layer may be provided on the upper side of the photosensitive layer according to the present invention.

保護層を構成する素材として好ましくは、ポリビニルアルコール、ポリサッカライド、ポリビニルピロリドン、ポリエチレングリコール、ゼラチン、膠、カゼイン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシエチル澱粉、アラビアゴム、サクローズオクタアセテート、アルギン酸アンモニウム、アルギン酸ナトリウム、ポリビニルアミン、ポリエチレンオキシド、ポリスチレンスルホン酸、ポリアクリル酸、水溶性ポリアミド、ポリビニルピロリドン共重合体等が挙げられる。これらの化合物を単独又は2種以上併用し保護層塗布組成物とし用いることができる。特に好ましい化合物としてはポリビニルアルコールが挙げられる。   The material constituting the protective layer is preferably polyvinyl alcohol, polysaccharide, polyvinyl pyrrolidone, polyethylene glycol, gelatin, glue, casein, hydroxyethyl cellulose, carboxymethyl cellulose, methyl cellulose, hydroxyethyl starch, gum arabic, sucrose octaacetate, ammonium alginate , Sodium alginate, polyvinylamine, polyethylene oxide, polystyrene sulfonic acid, polyacrylic acid, water-soluble polyamide, polyvinylpyrrolidone copolymer, and the like. These compounds can be used alone or in combination of two or more as a protective layer coating composition. A particularly preferred compound is polyvinyl alcohol.

(製版方法)
本発明の平版印刷版の製版方法においては、350nm〜450nmの波長を有するレーザー光で、画像露光を行う。
(Plate making method)
In the lithographic printing plate making method of the present invention, image exposure is performed with a laser beam having a wavelength of 350 nm to 450 nm.

350〜450nmに発光波長を有する入手可能なレーザー光源としては例えば、導波型波長変換素子とAlGaAs、InGaAs半導体の組合わせ(380nm〜450nm)、導波型波長変換素子とAlGaInP、AlGaAs半導体の組合わせ(300nm〜350nm)、AlGaInN(350nm〜450nm)、その他にパルスレーザーとしてN2レーザー(337nm、パルス0.1〜10mJ)、XeF(351nm、パルス10〜250mJ)等が挙げられるが、半導体レーザーが好ましk用いられる。   Available laser light sources having an emission wavelength of 350 to 450 nm include, for example, a combination of a waveguide wavelength conversion element and AlGaAs and InGaAs semiconductors (380 to 450 nm), and a combination of a waveguide wavelength conversion element and AlGaInP and AlGaAs semiconductors. In addition, AlGaInN (350 nm to 450 nm), N2 laser (337 nm, pulse 0.1 to 10 mJ), XeF (351 nm, pulse 10 to 250 mJ), etc. may be mentioned as pulse lasers. Preferably used.

レーザーの走査方法としては、円筒外面走査、円筒内面走査、平面走査などがある。円筒外面走査では、記録材料を外面に巻き付けたドラムを回転させながらレーザー露光を行い、ドラムの回転を主走査としレーザー光の移動を副走査とする。   Laser scanning methods include cylindrical outer surface scanning, cylindrical inner surface scanning, and planar scanning. In the cylindrical outer surface scanning, laser exposure is performed while rotating a drum around which the recording material is wound, and the rotation of the drum is the main scanning and the movement of the laser light is the sub scanning.

円筒内面走査では、ドラムの内面に記録材料を固定し、レーザービームを内側から照射し、光学系の一部又は全部を回転させることにより円周方向に主走査を行い、光学系の一部又は全部をドラムの軸に平行に直線移動させることにより軸方向に副走査を行う。   In cylindrical inner surface scanning, a recording material is fixed to the inner surface of the drum, a laser beam is irradiated from the inside, and a main scanning is performed in the circumferential direction by rotating a part or all of the optical system. Sub scanning is performed in the axial direction by linearly moving all of them in parallel with the drum axis.

平面走査では、ポリゴンミラーやガルバノミラーとfθレンズ等を組み合わせてレーザー光の主走査を行い、記録媒体の移動により副走査を行う。円筒外面走査及び円筒内面走査の方が光学系の精度を高め易く、高密度記録には適している。   In plane scanning, a laser beam main scan is performed by combining a polygon mirror, a galvanometer mirror, and an fθ lens, and a sub-scan is performed by moving a recording medium. Cylindrical outer surface scanning and cylindrical inner surface scanning are easier to increase the accuracy of the optical system and are suitable for high-density recording.

(機上現像方法)
本発明の製版方法においては、画像露光された平版印刷版材料は、画像露光後、特に湿式処理工程を経ることなく、印刷機上で湿し水及び/または印刷インクにより現像処理が行われ、印刷のための画像が形成され、引き続き印刷が行われる。
(On-press development method)
In the plate-making method of the present invention, the image-exposed lithographic printing plate material is subjected to development processing with dampening water and / or printing ink on a printing machine without performing a wet processing step after image exposure, An image for printing is formed and printing is continued.

画像露光は、平版印刷版材料を印刷機に装着する前に行ってもよいし、印刷機に装着して画像露光を行い、引き続き機上現像を行ってもよい。   Image exposure may be performed before the lithographic printing plate material is mounted on the printing press, or may be mounted on the printing press to perform image exposure, and then on-press development may be performed.

本発明に係る平版印刷機上で現像処理を行うとは、印刷機上で印刷準備の段階で、平版印刷機の湿し水及び/または印刷インキを用いて非画像部を除去することであり、いわゆる現像工程を印刷装置上で行うことである。   The development processing on the lithographic printing machine according to the present invention is to remove non-image areas using dampening water and / or printing ink of the lithographic printing machine at the stage of printing preparation on the printing machine. The so-called development process is performed on the printing apparatus.

印刷機上での画像形成層の非画像部(未露光部)の除去は、版胴を回転させながら水付けローラーやインクローラーを接触させて行うことができるが、下記に挙げる例のような、もしくは、それ以外の種々のシークエンスによって行うことができる。また、その際には、印刷時に必要な湿し水水量に対して、水量を増加させたり、減少させたりといった水量調整を行ってもよく、水量調整を多段階に分けて、もしくは、無段階に変化させて行ってもよい。
(1)印刷開始のシークエンスとして、水付けローラーを接触させて版胴を1回転〜数十回転回転させ、次いで、インクローラーを接触させて版胴を1回転〜数十回転回転させ、次いで、印刷を開始する。
(2)印刷開始のシークエンスとして、インクローラーを接触させて版胴を1回転〜数十回転回転させ、次いで、水付けローラーを接触させて版胴を1回転〜数十回転回転させ、次いで、印刷を開始する。
(3)印刷開始のシークエンスとして、水付けローラーとインクローラーとを実質的に同時に接触させて版胴を1回転〜数十回転回転させ、次いで、印刷を開始する。
The removal of the non-image part (unexposed part) of the image forming layer on the printing press can be performed by contacting a watering roller or an ink roller while rotating the plate cylinder. Alternatively, it can be performed by various other sequences. In this case, the water amount may be adjusted by increasing or decreasing the amount of dampening water required for printing. The water amount adjustment may be divided into multiple stages or steplessly. You may change it to.
(1) As a sequence for starting printing, a watering roller is brought into contact with the plate cylinder to make one to several dozen rotations, then an ink roller is brought into contact with the plate cylinder to make one to several dozen rotations, and then Start printing.
(2) As a sequence for starting printing, an ink roller is contacted to rotate the plate cylinder 1 to several tens of turns, then a watering roller is contacted to rotate the plate cylinder 1 to tens of rotations, Start printing.
(3) As a sequence for starting printing, the watering roller and the ink roller are brought into contact with each other substantially simultaneously to rotate the plate cylinder 1 to several tens of times, and then printing is started.

印刷機としては、一般に公知の平版オフセット印刷機が使用される。   As the printing machine, generally known lithographic offset printing machines are used.

(湿し水)
湿し水としては、一般に平版印刷版の印刷に用いられている湿し水を適用することができる。水のみでもよいし、添加剤を含んでもよい。
(Dampening water)
As the fountain solution, a fountain solution generally used for printing on a lithographic printing plate can be used. Only water or an additive may be included.

湿し水としては、従来使用されてきたイソプロパノール、を含有しない湿し水が好ましく用いられる。この場合含有しないとは、含有量が0.5%未満のものをいう。   As the fountain solution, fountain solution containing no conventionally used isopropanol is preferably used. In this case, “not contained” means that the content is less than 0.5%.

又湿し水としては、界面活性剤を含む水溶液、が好ましく用いられる。   As the fountain solution, an aqueous solution containing a surfactant is preferably used.

湿し水の水としては、水道水、井戸水等一般に得られる水が適用できる。   As the dampening water, tap water, well water, etc., which are generally obtained, can be used.

湿し水は、微量成分として、酸類、例えば、りん酸またはその塩、クエン酸またはその塩、硝酸またはその塩、酢酸またはその塩、さらに具体的には、リン酸、リン酸アンモニウム、リン酸ナトリム等、クエン酸、クエン酸アンモニム、クエン酸ナトリウム、酢酸、酢酸アンモニウム、酢酸ナトリウム等、また、水溶性高分子化合物として、カルボキシメチルセルロース、カルボキシエチルセルロース、等を含んでもより。   The fountain solution contains, as a minor component, acids such as phosphoric acid or a salt thereof, citric acid or a salt thereof, nitric acid or a salt thereof, acetic acid or a salt thereof, and more specifically phosphoric acid, ammonium phosphate, phosphoric acid. Sodium, etc., citric acid, ammonium citrate, sodium citrate, acetic acid, ammonium acetate, sodium acetate and the like, and water-soluble polymer compounds such as carboxymethyl cellulose, carboxyethyl cellulose, etc.

これらの微量成分の含量は、0.1質量%未満、好ましくは0.05質量%以下である。   The content of these trace components is less than 0.1% by mass, preferably 0.05% by mass or less.

またさらにグリコール系化合物、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールジブチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジブチルエーテル等も含むことができる、これらグリコール系化合物の含量も少量が好ましく、0.1質量%未満、好ましくは0.05質量%以下である。   Furthermore, glycol compounds such as propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, propylene glycol propyl ether, propylene glycol dimethyl ether, propylene glycol diethyl ether, propylene glycol dibutyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, dipropylene Glycol diethyl ether, dipropylene glycol dibutyl ether and the like can also be contained, and the content of these glycol compounds is also preferably small, less than 0.1% by mass, and preferably 0.05% by mass or less.

また、界面活性剤を含むんでもよい。   Further, a surfactant may be included.

界面活性剤としては、ノニオン界面活性剤、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、またはこれら界面活性剤としては、ノニオン界面活性剤、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、またはこれらの混合した界面活性剤が好ましく用いられる。   The surfactant is a nonionic surfactant, an anionic surfactant, a cationic surfactant, or these surfactants are a nonionic surfactant, an anionic surfactant, a cationic surfactant, or a mixed interface thereof. An activator is preferably used.

アニオン型界面活性剤の具体例としては、例えば、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホ琥珀酸塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリンナトリウム塩類、N−アルキルスルホ琥珀酸モノアミド二ナトリウム塩類、石油スルホン錯塩類、硫酸化ひまし油、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル燐酸エステル塩類、スチレンと無水マレイン酸共重合物の部分鹸化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類などが挙げられる。   Specific examples of the anionic surfactant include, for example, fatty acid salts, abietic acid salts, hydroxyalkanesulfonic acid salts, alkanesulfonic acid salts, dialkylsulfosuccinic acid salts, linear alkylbenzene sulfonic acid salts, alkylnaphthalenesulfonic acid salts, Alkylphenoxy polyoxyethylene propyl sulfonates, polyoxyethylene alkyl sulfophenyl ether salts, N-methyl-N-oleyl taurine sodium salts, N-alkyl sulfosuccinic acid monoamide disodium salts, petroleum sulfone complex salts, sulfated castor oil, Sulfated tallow oil, sulfates of fatty acid alkyl esters, polyoxyethylene alkyl ether sulfates, fatty acid monoglyceride sulfates, polyoxyethylene alkylphenyl esters Sulfuric acid ester salts, polyoxyethylene styryl phenyl ether sulfuric acid ester salts, alkyl phosphoric acid ester salts, polyoxyethylene alkyl ether phosphoric acid ester salts, polyoxyethylene alkylphenyl ether phosphoric acid ester salts, partial saponification of styrene and maleic anhydride copolymer And naphthalene sulfonate formalin condensates.

非イオン型界面活性剤の具体例としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリスチリルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪酸部分エステル化物類、ソルビタン脂肪酸部分エステル化物類、ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル化物類、プロピレングリコールモノ脂肪酸エステル類、ショ糖脂肪酸部分エステル化物類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分エステル化物類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部分エステル化物類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル化物類、ポリオキシエチレン化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部分エステル化物類、脂肪酸ジエタノールアミド類、N、N−ビス−2−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリオキシエチレンアルキルアミン類、トリエタノールアミン脂肪酸エステル類、トリアルキルアミンオキシド類、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレンブロックポリマーなどが挙げられる。その他弗素系界面活性剤、シリコン系界面活性剤も使用することができる。   Specific examples of nonionic surfactants include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene polystyryl phenyl ethers, polyoxyethylene polyoxypropylene alkyl ethers, glycerin fatty acid partial esters , Sorbitan fatty acid partial esterified product, pentaerythritol fatty acid partial esterified product, propylene glycol monofatty acid ester, sucrose fatty acid partial esterified product, polyoxyethylene sorbitan fatty acid partial esterified product, polyoxyethylene sorbitol fatty acid partial ester Products, polyethylene glycol fatty acid esters, polyglycerol fatty acid partial esterified products, polyoxyethylenated castor oil, polyoxyethylene glycol Phosphorus fatty acid partial esterified products, fatty acid diethanolamides, N, N-bis-2-hydroxyalkylamines, polyoxyethylene alkylamines, triethanolamine fatty acid esters, trialkylamine oxides, polyoxyethylene-poly Examples thereof include oxypropylene block polymers. Other fluorine-based surfactants and silicon-based surfactants can also be used.

カチオン型界面活性剤の具体例としては、アルキルアミン塩類、第4級アンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体などが挙げられる。   Specific examples of the cationic surfactant include alkylamine salts, quaternary ammonium salts, polyoxyethylene alkylamine salts, polyethylene polyamine derivatives, and the like.

これら界面活性剤の使用は単独で用いても、2種以上を併用しても良い。湿し水中の界面活性剤の量は0.01質量%以下がこのましく、さらに好ましくは0.05質量%以下である。   These surfactants may be used alone or in combination of two or more. The amount of the surfactant in the fountain solution is preferably 0.01% by mass or less, and more preferably 0.05% by mass or less.

(印刷)
本発明の平版印刷版材料は、画像露光後、印刷に供せられるが、印刷機としては上記のように湿し水を用いる一般的な平版オフセット印刷機を用いることができる。印刷に用いる印刷用紙、印刷インキ、湿し水等特に限定されない。
(printing)
The lithographic printing plate material of the present invention is subjected to printing after image exposure. As a printing machine, a general lithographic offset printing machine using fountain solution as described above can be used. Printing paper, printing ink, fountain solution, etc. used for printing are not particularly limited.

近年印刷業界においても環境保全の面から、印刷インキにおいては石油系の揮発性有機化合物(VOC)を使用しないインキが開発されその普及が進みつつあるが、本発明の効果はこのような環境対応の印刷インキを使用した場合に特に大きい。   In recent years, in the printing industry, from the viewpoint of environmental protection, inks that do not use petroleum-based volatile organic compounds (VOC) have been developed and are widely used as printing inks. It is particularly large when using the printing ink.

これらのインキとしては大豆油を含むインキが好ましい。   These inks are preferably inks containing soybean oil.

大豆油を含むインキは、通常、有機・無機顔料、バインダー樹脂、大豆油、高沸点石油系溶剤を混合したものであり、その他に補助剤として可塑剤、安定剤、乾燥剤、増粘剤、分散剤、充填剤などを含んでいても良い。   The ink containing soybean oil is usually a mixture of organic / inorganic pigments, binder resin, soybean oil, high boiling petroleum solvent, and other additives such as plasticizers, stabilizers, drying agents, thickeners, It may contain a dispersant, a filler, and the like.

本発明の印刷に、好ましく用いられるインキとしては、アメリカ大豆協会(ASA)がソイシール認定制度を設けて認定したインキが挙げられる。   Inks that are preferably used for printing of the present invention include inks certified by the American Soybean Association (ASA) with a soy seal certification system.

大豆油としては、公知の大豆油を用いることがで、日本農林規格で認定した食用大豆油(精製大豆油)が特に好ましく用いられる。   As soybean oil, known soybean oil can be used, and edible soybean oil (refined soybean oil) certified by Japanese Agricultural Standards is particularly preferably used.

好ましい大豆油の添加量は、インキの種類によって異なるが、枚葉インキ、フォームインキで20〜50質量%、オフ輪ヒートセットインキで7〜20質量%、新聞インキでは、墨インキ40〜50質量%、色インキで30〜40質量%、ビジネスフォームインキでは20〜30質量%、を含有していることである。   The preferred amount of soybean oil to be added varies depending on the type of ink, but is 20 to 50% by mass for sheet-fed ink and foam ink, 7 to 20% by mass for off-ring heat set ink, and 40 to 50 mass for black ink for newspaper ink. %, 30 to 40% by mass for color ink, and 20 to 30% by mass for business foam ink.

有機・無機顔料としては、ジスアゾイエロー、ブリリアントカーミン6B、フタロシアニンブルー、レーキレッドC、カーボンブラック、酸化チタン、炭酸カルシウム等を使用することが出来る。   As organic / inorganic pigments, disazo yellow, brilliant carmine 6B, phthalocyanine blue, lake red C, carbon black, titanium oxide, calcium carbonate and the like can be used.

バインダー樹脂としては、ロジン、コーパル、ダンマル、セラック、硬化ロジン、ロジンエステル等の天然または加工樹脂、フェノール樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、100%フェノール樹脂、マレイン酸樹脂、アルキド樹脂、石油樹脂、ビニル樹脂、アクリル樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキド樹脂、ポリウレタン樹脂、アミノブラスト樹脂などが好ましい。   As binder resin, natural or processed resin such as rosin, copal, dammar, shellac, cured rosin, rosin ester, phenol resin, rosin modified phenol resin, 100% phenol resin, maleic acid resin, alkyd resin, petroleum resin, vinyl resin Acrylic resin, polyamide resin, epoxy resin, amino alkyd resin, polyurethane resin, amino blast resin and the like are preferable.

大豆油を含むインキは、各インキメーカーより販売されており容易に入手することができ、例えば、ナチュラリス100(Naturalith)枚葉インキ、ウエブワールドアドバン(WebWorldAdvan)オフ輪インキ、<以上、大日本インキ化学工業(株)>、TKハイユニティSOY枚葉インキ、TKハイエコーSOY枚葉インキ、CKウインエコーSOY枚葉インキ、WDスーパーレオエコーSOYオフ輪インキ、WDレオエコーSOYオフ輪インキ、SCRSOYビジネスフォームinki<以上、東洋インキ(株)>、ソイセルボ枚葉インキ<東京インキ(株)>等が挙げられる。   Inks containing soybean oil are available from various ink manufacturers and can be easily obtained. For example, Naturalis 100 (Naturalith) sheet-fed ink, WebWorld Advan off-wheel ink, <above, Dainippon Ink Chemical Industry Co., Ltd.>, TK High Unity SOY Sheetfed Ink, TK High Echo SOY Sheetfed Ink, CK Win Echo SOY Sheetfed Ink, WD Super Leo Echo SOY Off Wheel Ink, WD Leo Echo SOY Off Wheel Ink, SCRSOY Business Form inki <above, Toyo Ink Co., Ltd.>, Soyselvo sheet-fed ink <Tokyo Ink Co., Ltd.> and the like.

以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明の態様はこれに限定されない。尚、実施例における「部」は、特に断りない限り「質量部」を表す。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is demonstrated in detail, the aspect of this invention is not limited to this. In the examples, “parts” represents “parts by mass” unless otherwise specified.

(支持体の作製)
厚さ0.3mmのアルミニウム板(材質1052,Al:99.3%以上、Na:0.003%、Mg:0.20%、Si:0.08%、Ti:0.06%、Mn:0.004%、Fe:0.32%、Ni:0.004%、Cu:0.002%、Zn:0.015%、Ga:0.007%、Cr:0.001%を含有)を55℃に保たれた5%水酸化ナトリウム水溶液に浸漬し、15秒間の脱脂処理を行った後、水洗した。
(Production of support)
Aluminum plate with a thickness of 0.3 mm (material 1052, Al: 99.3% or more, Na: 0.003%, Mg: 0.20%, Si: 0.08%, Ti: 0.06%, Mn: 0.004%, Fe: 0.32%, Ni: 0.004%, Cu: 0.002%, Zn: 0.015%, Ga: 0.007%, Cr: 0.001%) It was immersed in a 5% sodium hydroxide aqueous solution kept at 55 ° C., degreased for 15 seconds, and then washed with water.

この脱脂アルミニウム板を、25℃に保たれた10%硝酸水溶液中に10秒間浸漬して中和した後、水洗した。   The degreased aluminum plate was neutralized by immersing it in a 10% nitric acid aqueous solution maintained at 25 ° C. for 10 seconds, and then washed with water.

次いで、60Hzの正弦波交流電源を用いて電解粗面化した。その後、60℃に保たれた100g/l燐酸水溶液中で10秒間浸漬しデスマット処理を行い、水洗した。   Next, the surface was electrolytically roughened using a 60 Hz sine wave AC power supply. Then, it was immersed in a 100 g / l phosphoric acid aqueous solution kept at 60 ° C. for 10 seconds, subjected to desmut treatment, and washed with water.

次いで、直流電源を使用し、35℃の硫酸水溶液(200g/l)中で、電流密度10A/dm2で皮膜質量20mg/dm2の陽極酸化処理を行った。 Next, using a direct current power source, an anodizing treatment was carried out in a sulfuric acid aqueous solution (200 g / l) at 35 ° C. with a current density of 10 A / dm 2 and a film mass of 20 mg / dm 2 .

次いで、0.44%のポリビニルホスホン酸水溶液に、75℃、30秒間ディップ処理を行い、次いで蒸留水で水洗し乾燥した。   Next, a 0.44% aqueous solution of polyvinylphosphonic acid was subjected to dip treatment at 75 ° C. for 30 seconds, then washed with distilled water and dried.

この時、表面の中心線平均粗さ(Ra)は0.45μmであった。   At this time, the centerline average roughness (Ra) of the surface was 0.45 μm.

(感光性平版印刷版材料の作製)
上記支持体上に、下記組成の光重合性感光層塗工液を乾燥時1.5g/m2になるようワイヤーバーで塗布し、95℃で1.5分間乾燥し光重合感光層塗布試料を得た。
(Preparation of photosensitive lithographic printing plate material)
On the above support, a photopolymerizable photosensitive layer coating solution having the following composition was coated with a wire bar so that the dried solution was 1.5 g / m 2 and dried at 95 ° C. for 1.5 minutes. Got.

さらに、光重合感光層塗布試料上に、下記組成の酸素遮断層塗工液を乾燥時1.8g/m2になるようワイヤーバーで塗布し、75℃で1.5分間乾燥して、感光層上に酸素遮断層を有する感光性平版印刷版1〜20(表1に示す)を作製した。 Further, on the photopolymerization photosensitive layer coating sample, an oxygen barrier layer coating solution having the following composition was coated with a wire bar so as to be 1.8 g / m 2 at the time of drying, and dried at 75 ° C. for 1.5 minutes. Photosensitive lithographic printing plates 1 to 20 (shown in Table 1) having an oxygen blocking layer on the layer were prepared.

(光重合性感光層塗工液1)
結合材(表−1に示す) 40.0部
重合性単量体(表−1に示す) 39.0部
色素(表−1に示す) 10.0部
ポリハロゲン化合物(表−1に示す) 10.0部
フタロシアニン顔料(MHI454:御国色素社製) 0.5部
2−t−ブチル−6−(3−t−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)−4−メチルフェニルアクリレート(スミライザーGS:住友3M社製) 0.5部
サーフィノール465(AirProducts社製) 0.5部
メタノール 75部
エタノール 75部
水 850部
(耐刷性の評価)
版面上の露光エネルギーが200μJ/cm2となる条件で、405nmの光源を備えたプレートセッター(NEWS特注品:ECRM社製)を使用し、2400dpi(dpiとは、2.54cm当たりのドット数を表す)で露光を行い平版印刷版を得た。
(Photopolymerizable photosensitive layer coating solution 1)
Binder (shown in Table-1) 40.0 parts Polymerizable monomer (shown in Table-1) 39.0 parts Dye (shown in Table-1) 10.0 parts Polyhalogen compound (shown in Table-1) ) 10.0 parts phthalocyanine pigment (MHI454: manufactured by Gokoku Color Co., Ltd.) 0.5 parts 2-t-butyl-6- (3-t-butyl-2-hydroxy-5-methylbenzyl) -4-methylphenyl acrylate ( Sumilizer GS: manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd.) 0.5 part Surfynol 465 (produced by Air Products) 0.5 part Methanol 75 parts Ethanol 75 parts Water 850 parts (Evaluation of printing durability)
Using a plate setter (NEWS custom-made product: manufactured by ECRM) with a light source of 405 nm under the condition that the exposure energy on the printing plate is 200 μJ / cm 2 , 2400 dpi (dpi is the number of dots per 2.54 cm) And a lithographic printing plate was obtained.

作製した平版印刷版を、印刷機(三菱重工業(株)製DAIYA1F−1)で、コート紙、印刷インキ(大豆油インク、NCPナチュラリス(大日本化学工業(株)))及び湿し水(東京インク(株)製H液SG−51濃度1.5%)を用いて印刷を行い、1000枚連続印刷後、クリーナーで版面をふき、ハイライト部の点細り、シャドウ部の絡み(画像部周辺の非画像部にインクが付着する)の発生する印刷枚数を耐刷力の指標とした。   The produced lithographic printing plate was coated with a printing machine (DAIYA1F-1 manufactured by Mitsubishi Heavy Industries, Ltd.), printing ink (soybean oil ink, NCP Naturalis (Dainippon Chemical Co., Ltd.)) and dampening water ( Printing was performed using Tokyo ink Co., Ltd. H liquid SG-51 density 1.5%. After 1000 sheets were printed continuously, the plate surface was wiped with a cleaner, the highlight part was thinned, and the shadow part was entangled (image part) The number of printed sheets in which ink adheres to the peripheral non-image area) was used as an index of printing durability.

耐刷性1回は1000枚連続印刷後クリーナーでふく作業を指す。多いほど好ましい。クリーナーは、ウルトラプレートクリーナー(大日精化(株)製)を使用。   The printing durability once refers to the operation of wiping with a cleaner after printing 1000 sheets continuously. The more it is, the better. The cleaner uses an ultra plate cleaner (manufactured by Dainichi Seika Co., Ltd.).

(汚れ回復の評価)
1000枚連続印刷後クリーナーでふき、1時間後に印刷を再開し、非画線部の地汚れがなくなる枚数とした。少ないほど良好。
(Evaluation of dirt recovery)
Wiping with a cleaner after 1000 sheets of continuous printing was performed, and printing was resumed after 1 hour, and the number of sheets where there was no background smudge in the non-image area was determined. Less is better.

結果を表1に示す。表1から本発明の製版方法は、印刷機上現像が可能であり、耐刷性、汚れ回復性に優れる平版印刷版が得られることが分かる。   The results are shown in Table 1. From Table 1, it can be seen that the plate making method of the present invention can be developed on a printing press, and a lithographic printing plate excellent in printing durability and stain recovery can be obtained.

Figure 2006150722
Figure 2006150722

x1:BR22(前記)
x4:BR43(前記)
p1:ポリビニルアルコール(ゴーセノールAL−06(日本合成化学工業(株)製))
p2:カルボキシメチルセルロース(CMCダイセル(ダイセル化学工業(株))製)
p3:ビニルピロリドンホモポリマー(LuvitecK30(BASF社製))
p4:ポリアクリル酸(ジュリマーAC−10H(日本純薬(株)製))
p5:メチルメタクリレート/メタクリル酸共重合体(4:1(質量比))
m1:ウレタンアクリレート(NKオリゴUA−7100(新中村化学工業(株)製))
m2:エトキシ化グリセリントリアクリレート(NKエステルA−GLY(新中村化学工業(株)製))
m3:エチル−α−(ヒドロキシメチル)アクリレート
m4:Nメチロールアクリルアミド
m5:酢酸ビニルモノマー
x1: BR22 (above)
x4: BR43 (above)
p1: Polyvinyl alcohol (Gohsenol AL-06 (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.))
p2: Carboxymethylcellulose (CMC Daicel (Daicel Chemical Industry Co., Ltd.))
p3: Vinylpyrrolidone homopolymer (LuvitecK30 (manufactured by BASF))
p4: Polyacrylic acid (Julimer AC-10H (manufactured by Nippon Pure Chemicals Co., Ltd.))
p5: Methyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (4: 1 (mass ratio))
m1: Urethane acrylate (NK Oligo UA-7100 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.))
m2: Ethoxylated glycerin triacrylate (NK ester A-GLY (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.))
m3: ethyl-α- (hydroxymethyl) acrylate m4: N methylol acrylamide m5: vinyl acetate monomer

Figure 2006150722
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Figure 2006150722
Figure 2006150722

Figure 2006150722
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Claims (7)

支持体上に、(A)光重合開始剤、(B)結合材、(C)重合可能なエチレン性不飽和結合含有化合物及び(D)350nm〜450nmの波長範囲に吸収極大を有する色素を含有する感光層を有する感光性平版印刷版材料を、画像露光し、該画像露光後、平版印刷機上で現像処理を行い平版印刷版を作製する平版印刷版の製版方法であって、該感光層が該(A)光重合開始剤としてポリハロゲン化合物を含有し、かつ該(B)結合材として水溶性高分子化合物を含有することを特徴とする平版印刷版の製版方法。 Contains (A) a photopolymerization initiator, (B) a binder, (C) a polymerizable ethylenically unsaturated bond-containing compound, and (D) a dye having an absorption maximum in the wavelength range of 350 nm to 450 nm on the support. A method for making a lithographic printing plate comprising: exposing a photosensitive lithographic printing plate material having a photosensitive layer to be image-exposed; and developing the lithographic printing plate by performing development processing on the lithographic printing machine after the image exposure; The method for making a lithographic printing plate comprises: (A) a polyhalogen compound as a photopolymerization initiator; and (B) a water-soluble polymer compound as a binder. 前記水溶性高分子化合物が、非イオン性親水性基を有する水溶性高分子化合物であることを特徴とする請求項1に記載の平版印刷版の製版方法。 The lithographic printing plate making method according to claim 1, wherein the water-soluble polymer compound is a water-soluble polymer compound having a nonionic hydrophilic group. 前記画像露光が、350nm〜450nmの波長を有するレーザー光を用いて行われることを特徴とする請求項1または2に記載の平版印刷版の製版方法。 The lithographic printing plate making method according to claim 1, wherein the image exposure is performed using a laser beam having a wavelength of 350 nm to 450 nm. 前記水溶性高分子化合物の重量平均分子量が1,000〜50,000であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の平版印刷版の製版方法。 The lithographic printing plate making method according to any one of claims 1 to 3, wherein the water-soluble polymer compound has a weight average molecular weight of 1,000 to 50,000. 前記支持体が、粗面化処理及び陽極酸化処理を施されたアルミニウム支持体であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の平版印刷版の製版方法。 The lithographic printing plate making method according to any one of claims 1 to 4, wherein the support is an aluminum support subjected to a roughening treatment and an anodizing treatment. 請求項1乃至5のいずれか1項に記載の平版印刷版の製版方法に用いられることを特徴とする感光性平版印刷版材料。 A photosensitive lithographic printing plate material, which is used in the lithographic printing plate making method according to any one of claims 1 to 5. 請求項1乃至5のいずれか1項に記載の平版印刷版の製版方法により作製された平版印刷版を用いて印刷することを特徴とする平版印刷方法。 A lithographic printing method comprising printing using a lithographic printing plate produced by the lithographic printing plate making method according to any one of claims 1 to 5.
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