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JP2006179122A - Thin optical disk manufacturing method and manufacturing apparatus - Google Patents

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JP2006179122A
JP2006179122A JP2004371577A JP2004371577A JP2006179122A JP 2006179122 A JP2006179122 A JP 2006179122A JP 2004371577 A JP2004371577 A JP 2004371577A JP 2004371577 A JP2004371577 A JP 2004371577A JP 2006179122 A JP2006179122 A JP 2006179122A
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JP
Japan
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substrate sheet
pattern
optical disk
identifier
thin optical
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Withdrawn
Application number
JP2004371577A
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Japanese (ja)
Inventor
Takeshi Tottori
猛志 鳥取
Masashi Yoshihiro
昌史 吉弘
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Maxell Ltd
Original Assignee
Hitachi Maxell Ltd
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Publication date
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Abstract

【課題】 シートを巻き出しながら片面又は両面にパターン及び記録膜を形成し、ディスクの打ち抜きを連続的に行う薄型光ディスクの製造方法及び製造装置においてディスクの偏心量を効果的に抑制する技術を提供する。
【解決手段】 基板シートの各面にパターン形成と同時に位置合わせ用の識別子(マーカー)を形成しておき、打ち抜き工程の直前に各面の識別子を読み取って各面に形成されたパターンの中心位置を求め、ディスク両面の偏心量がなるべく小さくなるような打ち抜き位置を設定する製造方法及び製造装置。
【選択図】 図1
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a technique for effectively suppressing the eccentric amount of a disk in a thin optical disk manufacturing method and manufacturing apparatus in which a pattern and a recording film are formed on one or both surfaces while a sheet is unwound and the disk is continuously punched out. To do.
An identifier (marker) for alignment is formed on each surface of a substrate sheet simultaneously with pattern formation, and the center position of the pattern formed on each surface is read immediately before the punching process. And a manufacturing method and apparatus for setting a punching position so that the eccentricity on both sides of the disk is as small as possible.
[Selection] Figure 1

Description

本発明は、可撓性を有する薄型光ディスクの製造方法及び製造装置に関し、特に、シートを巻き出しながら片面又は両面にパターン及び記録膜を形成し、ディスクの打ち抜きを連続的に行う製造方法においてディスクの偏心量を効果的に抑制する技術に関するものである。   The present invention relates to a method and apparatus for manufacturing a flexible thin optical disk, and in particular, in a manufacturing method in which a pattern and a recording film are formed on one or both sides while a sheet is unwound, and the disk is continuously punched. The present invention relates to a technique for effectively suppressing the amount of eccentricity.

情報化社会が進み膨大な量の情報を記憶する必要となるにつれて、外部記憶装置の記録密度が著しく向上されてきた。光ディスクに関しては、レーザーを短波長化し、対物レンズの高開口数化により集光した光スポットサイズを小さくし、あるいは記録層の透過率を上げて多層化するなどして記録密度を向上する研究が盛んに行われている。また、ホログラム記録や体積記録密度の向上による記録密度向上の研究が盛んになってきている。ところが、いわゆる多層記録方式では各層で光が吸収されるので、現実的には数層程度が多層化の限界であると見られており、ホログラム記録方式では狭スポット化による記録密度向上が見込まれないため、これらの記録方式ではテラバイトクラスの記録容量を実現することは極めて難しい状況にある。一方、磁気テープでは、既にテラバイトクラスの記録容量が実現されている。ところが、磁気テープは光ディスクのようなランダムアクセスができない記録媒体であり、大容量の情報を読み書きするには、アクセス時間が非常に長くなってしまうという欠点がある。   As the information society advances and it becomes necessary to store a huge amount of information, the recording density of the external storage device has been remarkably improved. Regarding optical discs, there are studies to improve the recording density by shortening the laser wavelength and reducing the size of the focused light spot by increasing the numerical aperture of the objective lens, or increasing the transmittance of the recording layer to increase the recording density. It is actively done. In addition, research on improving recording density by improving hologram recording and volume recording density has become active. However, since light is absorbed by each layer in the so-called multilayer recording method, it is considered that the number of layers is practically the limit of multilayering, and the recording density is expected to be improved by narrowing the spot in the hologram recording method. Therefore, it is extremely difficult to realize a terabyte-class recording capacity with these recording methods. On the other hand, magnetic tape has already achieved a terabyte-class recording capacity. However, a magnetic tape is a recording medium that cannot be randomly accessed, such as an optical disk, and has a drawback that an access time becomes very long in order to read and write a large amount of information.

このような状況を打破し、ランダムアクセス可能で、アクセス時間が短く、小型かつ低コストで製造可能なテラバイトクラスの記録媒体として、従来の光記録媒体や磁気記録媒体に用いられる基板よりも薄型の光ディスクや磁気ディスクを複数収容したディスクカートリッジが提案されている。その一例として、特許文献1及び2には、フレキシブル基板の一面に記録層を形成した複数枚の光ディスクを積載して収容した光ディスクカートリッジが記載されている。   As a terabyte-class recording medium that can overcome such a situation, can be accessed randomly, has a short access time, and can be manufactured in a small size and at a low cost, it is thinner than a substrate used in conventional optical recording media and magnetic recording media. A disk cartridge containing a plurality of optical disks and magnetic disks has been proposed. As an example, Patent Documents 1 and 2 describe an optical disc cartridge in which a plurality of optical discs each having a recording layer formed on one surface thereof are stacked and accommodated.

薄型光ディスクの製造方法についても様々な技術が提案されている。特許文献3には、複数枚のフレキシブルシートからディスク状の基板を1枚ずつ打ち抜いたものを重ね合わせた後に、記録膜を形成する枚葉式の薄型光ディスク製造工程が記載されている。一方で、ロール状のシートを巻き出しながら連続的に基板を打ち抜く製造方法も実施されている。この製造方法では、シートの片面又は両面においてパターン及び記録層を形成した後に、ディスク形状に打ち抜くことにより薄型光ディスクを作製する。   Various techniques for manufacturing a thin optical disk have also been proposed. Patent Document 3 describes a single-wafer thin optical disc manufacturing process in which a recording film is formed after stacking a plurality of flexible sheets punched out from each other in the form of a disk. On the other hand, a manufacturing method in which a substrate is continuously punched while unwinding a roll-shaped sheet has also been implemented. In this manufacturing method, a thin optical disk is manufactured by forming a pattern and a recording layer on one or both sides of a sheet and then punching it into a disk shape.

特開2004−134019号公報。Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-134019. 特開2001−35008号公報。JP 2001-35008 A. 特開2003−228890公報。JP2003-228890A.

ロール状のシートを巻き出しながら連続的に基板を打ち抜く製造方法は、製造コストが小さく、高速であるという利点がある。しかしながら、その反面、シートの片面又は両面に形成されるパターン及び記録層には偏心が生じる可能性があるので、歩留まり低下を防止すべく、製造工程において偏心の発生を抑制する技術が不可欠である。例えば、両面記録式の薄型光ディスクを製造する場合には、片面側のみを基準にしていると他方の面との間でディスクの中心が大きくずれてしまう可能性がある。また、片面記録式の薄型光ディスクを製造する場合であっても、連続的に打ち抜かれる基板間で偏心が生じないようにしなければならない。   The manufacturing method in which the substrate is continuously punched while unwinding the roll-shaped sheet has the advantages of low manufacturing cost and high speed. However, on the other hand, there is a possibility that the pattern and recording layer formed on one or both sides of the sheet may be eccentric. Therefore, a technique for suppressing the occurrence of eccentricity in the manufacturing process is indispensable in order to prevent a decrease in yield. . For example, in the case of manufacturing a double-sided recording type thin optical disk, if only one side is used as a reference, the center of the disk may be largely shifted from the other side. Further, even when a single-sided recording type thin optical disk is manufactured, it is necessary to prevent eccentricity between substrates that are continuously punched.

本発明は、このような実情に鑑みてなされたものであり、シートを巻き出しながら片面又は両面にパターン及び記録膜を形成し、ディスクの打ち抜きを連続的に行う薄型光ディスクの製造方法及び製造装置においてディスクの偏心量を効果的に抑制する技術を提供しようとするものである。   The present invention has been made in view of such circumstances, and a method and an apparatus for manufacturing a thin optical disk in which a pattern and a recording film are formed on one side or both sides while a sheet is unwound and the disc is continuously punched out. Therefore, it is intended to provide a technique for effectively suppressing the eccentricity of the disk.

上記解決課題に鑑みて鋭意研究の結果、本発明者は、基板シートの各面にパターン形成と同時に位置合わせ用の識別子(マーカー)を形成しておき、打ち抜き工程の直前に各面の識別子をセンサ等で読み取って各面に形成されたパターンの中心位置を求め、ディスク両面の偏心量がなるべく小さくなるような打ち抜き位置を設定する製造方法及び製造装置に想到した。   As a result of diligent research in view of the above problems, the inventor formed an identifier (marker) for alignment at the same time as pattern formation on each surface of the substrate sheet, and the identifier of each surface was immediately before the punching process. The inventors have come up with a manufacturing method and a manufacturing apparatus that determine the center position of the pattern formed on each surface by reading with a sensor or the like and set the punching position so that the eccentricity on both sides of the disk is as small as possible.

すなわち、本発明は、基板シート両面にパターンを形成する工程と、基板シート両面に記録膜を形成する工程と、基板シート両面にオーバーコートを形成する工程と、基板シートからディスクを打ち抜く工程とを含んだ薄型光ディスクの製造方法であって、前記パターン形成工程において、パターンの位置を識別するための識別子を基板シート各面に形成しておき、前記パターン形成工程後であって前記打ち抜き工程前に(好ましくは前記打ち抜き工程の直前に)、基板シート各面から前記識別子を読み取り、前記識別子から認識される基板シート各面に形成されたパターンの位置に基づいて、両パターン間の偏心が一定範囲内となるようディスクの打ち抜き位置を決定することを特徴とする薄型光ディスクの製造方法を提供するものである。   That is, the present invention includes a step of forming a pattern on both sides of a substrate sheet, a step of forming a recording film on both sides of the substrate sheet, a step of forming an overcoat on both sides of the substrate sheet, and a step of punching a disk from the substrate sheet. A method for manufacturing a thin optical disk, comprising: forming an identifier for identifying a position of a pattern on each surface of the substrate sheet in the pattern forming step; and after the pattern forming step and before the punching step. (Preferably immediately before the punching step) The identifier is read from each surface of the substrate sheet, and the eccentricity between the two patterns is within a certain range based on the position of the pattern formed on each surface of the substrate sheet recognized from the identifier. The present invention provides a method for manufacturing a thin optical disk, wherein the punching position of the disk is determined so as to be inside.

本発明の薄型光ディスクの製造方法では、前記パターン形成工程において、パターンの中心から一定長さ離れた位置に3つ以上の識別子を形成しておき、前記識別子を読み取った際に、各識別子の位置からパターンの中心位置を認識することを特徴とする。基板シート各面に形成されたパターンの中心位置同士の位置関係に基づいて、両パターン間の偏心量が少なくなるようなディスクの打ち抜き位置を決定することができる。その具体的な方法は以下の通りである。   In the method for producing a thin optical disk of the present invention, in the pattern forming step, three or more identifiers are formed at a position away from the center of the pattern by a certain length, and when the identifier is read, the position of each identifier is determined. From this, the center position of the pattern is recognized. Based on the positional relationship between the center positions of the patterns formed on each surface of the substrate sheet, it is possible to determine the punching position of the disk so that the amount of eccentricity between both patterns is reduced. The specific method is as follows.

(1)前記読み取った識別子から認識される基板シート各面に形成されたパターンの中心位置同士を結んだ線分上にディスクの打ち抜き位置の中心点をとる。   (1) The center point of the punching position of the disc is set on the line segment connecting the center positions of the patterns formed on the respective surfaces of the substrate sheet recognized from the read identifier.

(2)前記読み取った識別子から認識される基板シート各面に形成されたパターンの中心位置同士を結んだ線分のほぼ中点をディスクの打ち抜き位置の中心点とする。   (2) The substantially midpoint of the line segment connecting the center positions of the patterns formed on each surface of the substrate sheet recognized from the read identifier is set as the center point of the disc punching position.

(3)前記読み取った識別子から認識される基板シート各面に形成されたパターンの中心位置を中心として描かれる一定半径の円同士が重畳する領域内にディスクの打ち抜き位置の中心点をとる。   (3) The center point of the punching position of the disk is set in an area where circles of a certain radius drawn around the center position of the pattern formed on each surface of the substrate sheet recognized from the read identifier overlap.

本発明は、また、基板シート両面にパターン及びパターンの位置を識別するための識別子を形成する手段と、基板シート両面に記録膜を形成する手段と、基板シート両面にオーバーコートを形成する手段と、基板シート各面から前記識別子を読み取り、前記識別子から認識される基板シート各面に形成されたパターンの位置に基づいて、両パターン間の偏心が一定範囲内となるようディスクの打ち抜き位置を決定する手段と、前記打ち抜き位置において基板シートからディスクを打ち抜く手段とを含んだ薄型光ディスクの製造装置を提供するものである。   The present invention also includes means for forming a pattern and an identifier for identifying the position of the pattern on both sides of the substrate sheet, means for forming a recording film on both sides of the substrate sheet, and means for forming an overcoat on both sides of the substrate sheet. The identifier is read from each surface of the substrate sheet, and the disc punching position is determined based on the position of the pattern formed on each surface of the substrate sheet recognized from the identifier so that the eccentricity between the two patterns is within a certain range. An apparatus for producing a thin optical disk, comprising: a means for carrying out the process; and a means for punching a disk from a substrate sheet at the punching position.

本発明の薄型光ディスクの製造装置において、前記パターン形成手段は、パターンの中心から一定長さ離れた位置に3つ以上の識別子を形成し、前記ディスク打ち抜き位置決定手段は、前記識別子を読み取った際に、各識別子の位置からパターンの中心位置を認識することを特徴とする。前記ディスク打ち抜き位置決定手段は、基板シート各面に形成されたパターンの中心位置同士の位置関係に基づいて、両パターン間の偏心量が少なくなるようなディスクの打ち抜き位置を決定することができる。その具体的な方法は以下の通りである。   In the thin optical disk manufacturing apparatus of the present invention, the pattern forming unit forms three or more identifiers at a position away from the center of the pattern by a certain length, and the disk punching position determining unit reads the identifiers. Further, the center position of the pattern is recognized from the position of each identifier. The disk punching position determining means can determine a disk punching position that reduces the amount of eccentricity between both patterns based on the positional relationship between the center positions of the patterns formed on each surface of the substrate sheet. The specific method is as follows.

(1)前記読み取った識別子から認識される基板シート各面に形成されたパターンの中心位置同士を結んだ線分上にディスクの打ち抜き位置の中心点をとる。   (1) The center point of the punching position of the disc is set on the line segment connecting the center positions of the patterns formed on the respective surfaces of the substrate sheet recognized from the read identifier.

(2)前記読み取った識別子から認識される基板シート各面に形成されたパターンの中心位置同士を結んだ線分のほぼ中点をディスクの打ち抜き位置の中心点とする。   (2) The substantially midpoint of the line segment connecting the center positions of the patterns formed on each surface of the substrate sheet recognized from the read identifier is set as the center point of the disc punching position.

(3)前記読み取った識別子から認識される基板シート各面に形成されたパターンの中心位置を中心として描かれる一定半径の円同士が重畳する領域内にディスクの打ち抜き位置の中心点をとる。   (3) The center point of the punching position of the disk is set in an area where circles of a certain radius drawn around the center position of the pattern formed on each surface of the substrate sheet recognized from the read identifier overlap.

以上、説明したように、本発明によれば、シートを巻き出しながら片面又は両面にパターン及び記録膜を形成し、ディスクの打ち抜きを連続的に行う薄型光ディスクの製造方法及び製造装置においてディスクの偏心量を効果的に抑制する技術が提供される。これにより、良質で安価な薄型光ディスクを量産することが可能となる。   As described above, according to the present invention, a disk and an eccentricity of a thin optical disk are continuously formed by forming a pattern and a recording film on one or both surfaces while unwinding a sheet, and continuously punching the disk. Techniques for effectively reducing the amount are provided. This makes it possible to mass-produce high-quality and inexpensive thin optical disks.

以下、添付図面を参照しながら、本発明の薄型光ディスクの製造方法及び製造装置を実施するための最良の形態を詳細に説明する。図1〜図8は、本発明の実施の形態を例示する図であり、これらの図において、同一の符号を付した部分は同一物を表わし、基本的な構成及び動作は同様であるものとする。   Hereinafter, the best mode for carrying out a method and apparatus for manufacturing a thin optical disk according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. 1 to 8 are diagrams illustrating embodiments of the present invention. In these drawings, the same reference numerals denote the same components, and the basic configuration and operation are the same. To do.

図1は、本実施形態の薄型光ディスクの各製造工程を概略的に示す図である。図1において、薄型光ディスクは、パターン形成工程、記録膜形成工程、オーバーコート形成工程、及び打ち抜き工程を連続的に経て製造されている。本実施形態では、薄型光ディスクの両面に対して、それぞれ上記各工程が施されて、両面記録式の薄型光ディスクが製造されるようになっている。   FIG. 1 is a diagram schematically showing each manufacturing process of the thin optical disk of the present embodiment. In FIG. 1, a thin optical disk is manufactured through a pattern forming process, a recording film forming process, an overcoat forming process, and a punching process. In the present embodiment, the above-described steps are performed on both sides of a thin optical disk, and a double-sided recording type thin optical disk is manufactured.

薄型光ディスクの基板には、100μm厚のPET(ポリエチレンテレフタレート)からなるシート材を用いている。パターン形成工程では、基板の両表面を同時に加熱押圧して、トラックピッチ0.65μm、深さ54nm、半値ランド280nm、半値グルーブ370nmのパターン形状を形成する。トラック偏心は50μmとしている。記録膜形成工程では、スパッタ法等により、MAMMOS(Magnetic AMplifying Magneto-Optical System)膜等の記録膜を基板の両表面に形成する。オーバーコート形成工程では、UV樹脂層等からなる15μm厚程度のオーバーコートを基板の両表面に形成する。最後に、打ち抜き工程では、パターン、記録膜及びオーバーコートが形成された基板シート材から円盤状の薄型光ディスクを打ち抜く。薄型光ディスクの内径は15mm、外径は100mmとしており、内周側と外周側とは同時に打ち抜くものとする。   A sheet material made of PET (polyethylene terephthalate) having a thickness of 100 μm is used for a thin optical disk substrate. In the pattern forming process, both surfaces of the substrate are simultaneously heated and pressed to form a pattern shape having a track pitch of 0.65 μm, a depth of 54 nm, a half-value land of 280 nm, and a half-value groove of 370 nm. The track eccentricity is 50 μm. In the recording film forming step, a recording film such as a MAMMOS (Magnetic AMplifying Magneto-Optical System) film is formed on both surfaces of the substrate by sputtering or the like. In the overcoat forming step, an overcoat made of a UV resin layer or the like having a thickness of about 15 μm is formed on both surfaces of the substrate. Finally, in the punching process, a disk-shaped thin optical disk is punched from the substrate sheet material on which the pattern, the recording film, and the overcoat are formed. The thin optical disk has an inner diameter of 15 mm and an outer diameter of 100 mm, and the inner and outer peripheral sides are punched simultaneously.

本実施形態では、図1に示すように、打ち抜き工程における薄型光ディスク各面に対する打ち抜き位置をそれぞれ調整する一対の打ち抜き位置制御装置を備えていることを特徴としている。各打ち抜き位置制御装置は、打ち抜き工程直前における基板シート上のパターンに含まれる識別子(以下、「マーカー」という)を光学式センサ等により読み取り、読み取った識別子の位置情報に合わせて、打ち抜き位置を制御する。図2は、この打ち抜き位置の制御を含んだ、本実施形態の薄型光ディスクの製造工程の流れを示すフローチャートである。図2に示すように、本実施形態では、基板シートの両面にパターンを形成し(ステップS21)、記録層を形成し(ステップS22)、オーバーコートを形成した後に(ステップS23)、打ち抜き直前の状態において基板シート各面上のマーカー位置を読み取り(ステップS24)、読み取ったマーカー位置情報に合わせて打ち抜き位置を調整し(ステップS25)、打ち抜きを行うようになっている(ステップS26)。   As shown in FIG. 1, the present embodiment is characterized in that a pair of punching position control devices for adjusting the punching positions with respect to each surface of the thin optical disk in the punching process are provided. Each punching position control device reads an identifier (hereinafter referred to as a “marker”) included in the pattern on the substrate sheet immediately before the punching process using an optical sensor or the like, and controls the punching position according to the position information of the read identifier. To do. FIG. 2 is a flowchart showing the flow of the manufacturing process of the thin optical disk according to the present embodiment including the punching position control. As shown in FIG. 2, in the present embodiment, a pattern is formed on both surfaces of the substrate sheet (step S21), a recording layer is formed (step S22), an overcoat is formed (step S23), and immediately before punching. In the state, the marker position on each surface of the substrate sheet is read (step S24), the punching position is adjusted according to the read marker position information (step S25), and punching is performed (step S26).

図3は、薄型光ディスクの各面に形成されるマーカーの配置例を示す図である。図3(a)では、薄型光ディスクの打ち抜き部分外周の外側に4つのマーカーが配置されており、図3(b)では、薄型光ディスクの打ち抜き部分外周の内側に3つのマーカーが配置されている。また、ここに示す以外のマーカー配置も可能である。マーカーはその上に記録層が形成されていても読み取り可能であるので、記録層中に形成することもできる。3つ以上の任意の数のマーカーが形成され、各マーカーは薄型光ディスクに形成されるパターンの中心から等距離の位置に配置されるものとする。   FIG. 3 is a diagram illustrating an arrangement example of markers formed on each surface of the thin optical disk. In FIG. 3A, four markers are arranged outside the outer periphery of the punched portion of the thin optical disc, and in FIG. 3B, three markers are arranged inside the outer periphery of the punched portion of the thin optical disc. Also, marker arrangements other than those shown here are possible. Since the marker can be read even if the recording layer is formed thereon, it can also be formed in the recording layer. Three or more arbitrary numbers of markers are formed, and each marker is arranged at an equidistant position from the center of the pattern formed on the thin optical disk.

上記した打ち抜き位置制御装置による薄型光ディスクの打ち抜き位置の制御は、薄型光ディスク各面に形成されたパターン間の偏心量を最小限に抑えるようにして行われるものである。以下、その制御方法について説明する。   The punching position control of the thin optical disk by the punching position control device described above is performed so as to minimize the amount of eccentricity between patterns formed on each surface of the thin optical disk. Hereinafter, the control method will be described.

第1の方法
薄型光ディスクの打ち抜き位置を決定する第1の方法について、図4を参照しながら説明する。以下、薄型光ディスクの一方の面をSide0、他方の面をSide1と記載する。まず、打ち抜き位置制御装置は、薄型光ディスクのSide0及びSide1それぞれに形成されたマーカーの位置を読み取り、各マーカーの位置からSide0及びSide1それぞれに形成されたパターンの中心位置D0c及びD1cを求める。薄型光ディスク各面上には3つ以上のマーカーが配置されているので、各マーカーから等距離となる点をパターンの中心位置とすることができる。図4に示す例では、Side0の3つのマーカーから等距離d0となる点D0c、Side1の3つのマーカーから等距離d1となる点D1cがそれぞれ求められる。
First Method A first method for determining the punching position of a thin optical disk will be described with reference to FIG. Hereinafter, one surface of the thin optical disk is referred to as Side0, and the other surface is referred to as Side1. First, the punching position control device reads the positions of the markers formed on the Side 0 and Side 1 of the thin optical disc, and obtains the center positions D 0c and D 1c of the patterns formed on the Side 0 and Side 1 from the positions of the markers. Since three or more markers are arranged on each surface of the thin optical disk, a point equidistant from each marker can be set as the center position of the pattern. In the example shown in FIG. 4, three of the three D 1c point equal distance d1 from marker D 0c, Side1 point equal distance d0 from markers Side0 are obtained, respectively.

薄型光ディスクのSide0及びSide1におけるパターンの中心位置D0c及びD1cが求められると、D0c及びD1cを結ぶ線分の中点を打ち抜き位置の中心に設定する。この位置を中心として薄型光ディスクを打ち抜くことにより、各面に形成されたパターン間の偏心量が最小限となるからである。尚、実際には、打ち抜きの中心位置にばらつきが生じる場合もあるが、そのような場合であっても、ばらつきのパターンを調べた上で、打ち抜き中心位置がなるべく線分D0cD1c上になるように制御すれば、可能な限りで薄型光ディスクの各面に形成されたパターン間の偏心量を抑制することができる。 When the center positions D 0c and D 1c of the patterns in Side 0 and Side 1 of the thin optical disk are obtained, the midpoint of the line segment connecting D 0c and D 1c is set as the center of the punching position. This is because the amount of eccentricity between the patterns formed on each surface is minimized by punching the thin optical disk around this position. Actually, there may be variations in the center position of the punching. Even in such a case, the punching center position is as much as possible on the line segment D 0c D 1c after examining the variation pattern. If it controls so that it may become, it can suppress the amount of eccentricity between the patterns formed in each surface of a thin optical disk as much as possible.

尚、図4は、説明を分かりやすくするためにD0cとD1cとの距離を大きくとっているが、実際には、図5に示すように、D0cとD1cとの距離はほとんど離れておらず、数十μm程度が許容範囲である。このとき、2つの円がほぼ重なり合った状態になってしまうが、d0とd1の値をある程度相違させておけば、D0cを中心とする円とD1cを中心とする円とを判別するのが容易となる。 In FIG. 4, the distance between D 0c and D 1c is set large for easy understanding, but in practice, the distance between D 0c and D 1c is almost as shown in FIG. The allowable range is about several tens of μm. At this time, the two circles are almost overlapped. However, if the values of d0 and d1 are different from each other to some extent, it is easy to distinguish a circle centered on D0c and a circle centered on D1c. It becomes.

第2の方法
薄型光ディスクの打ち抜き位置を決定する第2の方法について、図6及び図7を参照しながら説明する。第2の方法は、Side0及びSide1それぞれにおいて許容される偏心の範囲を設定しておき、それに基づいて打ち抜き位置の中心を設定するものである。まず、打ち抜き位置制御装置は、薄型光ディスクのSide0及びSide1それぞれに形成されたマーカーの位置を読み取り、各マーカーの位置からSide0及びSide1それぞれに形成されたパターンの中心位置D0c及びD1cを求める。
Second Method A second method for determining the punching position of the thin optical disk will be described with reference to FIGS. In the second method, an allowable eccentricity range is set for each of Side0 and Side1, and the center of the punching position is set based on the range. First, the punching position control device reads the positions of the markers formed on the Side 0 and Side 1 of the thin optical disc, and obtains the center positions D 0c and D 1c of the patterns formed on the Side 0 and Side 1 from the positions of the markers.

今、Side0及びSide1それぞれにおいて、D0c及びD1cを中心とした直径Rの円に含まれる領域を許容される偏心の範囲と設定しているものとする。このとき、Side0及びSide1ともに偏心の許容範囲内となる打ち抜き中心位置は、D0c及びD1cをそれぞれ中心とした直径Rの2つの円の重畳する領域であることが分かる。したがって、この重畳領域内に打ち抜き中心位置を設定することにより、薄型光ディスクの各面に形成されたパターン間の偏心量を許容範囲内に収めることができる。尚、実際には、打ち抜きの中心位置にばらつきが生じる場合もあるが、そのような場合であっても、ばらつきのパターンを調べた上で、打ち抜き中心位置がなるべく2つの円の重畳領域内に収まるように制御すれば、可能な限りで薄型光ディスクの各面に形成されたパターン間の偏心量を抑制することができる。 Now, in each of Side0 and Side1, assumed to be set in the range of eccentricity is allowed area included in a circle with a diameter R around the D 0c, and D 1c. In this case, punching the center position where the Side0 and Side1 both within the allowable range of the eccentric, it is understood that the region overlapping the two circles of diameter R was respectively around the D 0c, and D 1c. Therefore, by setting the punching center position in this overlapping region, the amount of eccentricity between the patterns formed on each surface of the thin optical disk can be kept within an allowable range. In practice, there may be variations in the punching center position. Even in such a case, the punching center position is within the overlapping region of two circles as much as possible after examining the variation pattern. If the control is performed so as to fit, the amount of eccentricity between patterns formed on each surface of the thin optical disk can be suppressed as much as possible.

図6及び図7から明らかなように、D0c及びD1cを中心とする2つの円が重畳する領域が存在するためには、線分D0cD1cがRよりも短くなければならない。この条件を満たさないものについては、欠陥品として排除するのが好ましい。 As apparent from FIGS. 6 and 7, the line segment D 0c D 1c must be shorter than R in order to have a region where two circles centering on D 0c and D 1c overlap. Those that do not satisfy this condition are preferably excluded as defective products.

ここで、許容される偏心量を規定するRの値について、具体的な例を挙げて説明する。例えば、市販のDVD−Rの仕様では、トラックピッチが0.8±0.04μmであり、許容されるトラック偏心の最大値が50μmとなっている。今後、さらなる高密度記録を実現するために、トラックピッチをさらに小さくした仕様が出現すると考えられる。例えば、トラックピッチを0.5μmとすると、隣接トラック間のクロストークや誤書き込みなどを避けて記録再生を安定に行うために必要となるトラック追随精度は、一般的にトラックピッチの1/10以下、すなわち0.05μmとなる。0.05μmの精度でトラック追随が可能であり、サーボゲインの値を60dBとすると、一般的にトラックピッチの1000倍までの偏心量を許容することができる。そこで、薄型光ディスクにおいて許容される偏心量は、最大でR=50μmとなる範囲であることが分かる。しかしながら、記録媒体の高密度化がさらに進むと、このR値もさらに小さくする必要がある。   Here, the value of R that defines the allowable amount of eccentricity will be described with a specific example. For example, in the specification of a commercially available DVD-R, the track pitch is 0.8 ± 0.04 μm, and the maximum allowable track eccentricity is 50 μm. In the future, in order to realize higher density recording, it is considered that specifications with a further reduced track pitch will appear. For example, when the track pitch is 0.5 μm, the track tracking accuracy required to stably perform recording and reproduction by avoiding crosstalk or erroneous writing between adjacent tracks is generally 1/10 or less of the track pitch, That is, 0.05 μm. The track can be followed with an accuracy of 0.05 μm, and if the servo gain value is 60 dB, an eccentric amount up to 1000 times the track pitch can be generally allowed. Therefore, it can be seen that the allowable eccentricity in the thin optical disk is in a range where R = 50 μm at the maximum. However, as the recording medium is further increased in density, this R value needs to be further reduced.

以上、本発明の薄型光ディスクの製造方法及び製造装置について、具体的な実施の形態を示して説明したが、本発明はこれらに限定されるものではない。当業者であれば、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において、上記各実施形態又は他の実施形態にかかる発明の構成及び機能に様々な変更・改良を加えることが可能である。   As mentioned above, although the specific embodiment was shown and demonstrated about the manufacturing method and manufacturing apparatus of the thin optical disk of this invention, this invention is not limited to these. A person skilled in the art can make various changes and improvements to the configurations and functions of the invention according to the above-described embodiments or other embodiments without departing from the gist of the present invention.

例えば、記録膜の材料はMAMMOSに限られるわけではなく、相変化膜や色素膜などを記録膜として用いてもよい。また、パターンの形状、ディスクの内径及び外径も適宜変更することができる。また、図1では、基板シート状に1列の製造ラインを含んだ製造工程を示しているが、例えば、図8に示すように、基板シート状に複数列の製造ラインを含んだ製造工程としてもよい。この場合、打ち抜き位置制御装置は、基板各面各列の打ち抜き位置を個別に制御することになる。また、打ち抜き位置制御装置のセンサは、打ち抜き位置制御の精度向上の観点からは打ち抜き工程の直前に設置するのが最も好ましいが、パターン形成工程後から打ち抜き工程前までの任意の位置に設置することができる。   For example, the material of the recording film is not limited to MAMMOS, and a phase change film or a dye film may be used as the recording film. Further, the shape of the pattern, the inner diameter and the outer diameter of the disk can be changed as appropriate. Further, FIG. 1 shows a manufacturing process including one row of manufacturing lines in a substrate sheet shape. For example, as shown in FIG. 8, as a manufacturing process including a plurality of manufacturing lines in a substrate sheet shape, Also good. In this case, the punching position control device individually controls the punching positions of each row on each side of the substrate. The sensor of the punching position control device is most preferably installed immediately before the punching process from the viewpoint of improving the accuracy of the punching position control, but it should be installed at an arbitrary position from the pattern forming process to before the punching process. Can do.

本発明の薄型光ディスクの各製造工程を概略的に示す図である。It is a figure which shows roughly each manufacturing process of the thin optical disk of this invention. 本発明の薄型光ディスクの製造工程の流れを示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the flow of the manufacturing process of the thin optical disk of this invention. 薄型光ディスクの各面に形成されるマーカーの配置例を示す図である。It is a figure which shows the example of arrangement | positioning of the marker formed in each surface of a thin optical disk. 薄型光ディスクの打ち抜き位置を決定する第1の方法を概念的に示す図である。It is a figure which shows notionally the 1st method of determining the punching position of a thin optical disk. 薄型光ディスクの打ち抜き位置を決定する第1の方法を概念的に示す図である。It is a figure which shows notionally the 1st method of determining the punching position of a thin optical disk. 薄型光ディスクの打ち抜き位置を決定する第2の方法を概念的に示す図である。It is a figure which shows notionally the 2nd method of determining the punching position of a thin optical disk. 薄型光ディスクの打ち抜き位置を決定する第2の方法を概念的に示す図である。It is a figure which shows notionally the 2nd method of determining the punching position of a thin optical disk. 本発明の薄型光ディスクの各製造工程の変形例を概略的に示す図である。It is a figure which shows roughly the modification of each manufacturing process of the thin optical disk of this invention.

Claims (10)

基板シート両面にパターンを形成する工程と、
基板シート両面に記録膜を形成する工程と、
基板シート両面にオーバーコートを形成する工程と、
基板シートからディスクを打ち抜く工程とを含んだ薄型光ディスクの製造方法であって、
前記パターン形成工程において、パターンの位置を識別するための識別子を基板シート各面に形成しておき、前記パターン形成工程後であって前記打ち抜き工程前に、基板シート各面から前記識別子を読み取り、前記識別子から認識される基板シート各面に形成されたパターンの位置に基づいて、両パターン間の偏心が一定範囲内となるようディスクの打ち抜き位置を決定することを特徴とする薄型光ディスクの製造方法。
Forming a pattern on both sides of the substrate sheet;
Forming a recording film on both sides of the substrate sheet;
Forming an overcoat on both sides of the substrate sheet;
A method of manufacturing a thin optical disk including a step of punching a disk from a substrate sheet,
In the pattern forming step, an identifier for identifying the position of the pattern is formed on each surface of the substrate sheet, and after the pattern forming step and before the punching step, the identifier is read from each surface of the substrate sheet, A method of manufacturing a thin optical disk, wherein the punching position of the disk is determined based on the position of the pattern formed on each surface of the substrate sheet recognized from the identifier so that the eccentricity between both patterns is within a certain range. .
前記パターン形成工程において、パターンの中心から一定長さ離れた位置に3つ以上の識別子を形成しておき、前記識別子を読み取った際に、各識別子の位置からパターンの中心位置を認識することを特徴とする請求項1に記載の薄型光ディスクの製造方法。   In the pattern forming step, three or more identifiers are formed at a position away from the center of the pattern by a predetermined length, and when the identifier is read, the center position of the pattern is recognized from the position of each identifier. 2. The method of manufacturing a thin optical disk according to claim 1, wherein 前記読み取った識別子から認識される基板シート各面に形成されたパターンの中心位置同士を結んだ線分上にディスクの打ち抜き位置の中心点をとることを特徴とする請求項2に記載の薄型光ディスクの製造方法。   3. A thin optical disk according to claim 2, wherein the center point of the punching position of the disk is taken on a line segment connecting the center positions of the patterns formed on each surface of the substrate sheet recognized from the read identifier. Manufacturing method. 前記読み取った識別子から認識される基板シート各面に形成されたパターンの中心位置同士を結んだ線分のほぼ中点をディスクの打ち抜き位置の中心点とすることを特徴とする請求項2に記載の薄型光ディスクの製造方法。   The center point of the punching position of the disc is defined as a substantially midpoint of a line segment connecting the center positions of the patterns formed on each surface of the substrate sheet recognized from the read identifier. Of manufacturing a thin optical disk. 前記読み取った識別子から認識される基板シート各面に形成されたパターンの中心位置を中心として描かれる一定半径の円同士が重畳する領域内にディスクの打ち抜き位置の中心点をとることを特徴とする請求項2に記載の薄型光ディスクの製造方法。   The center point of the punching position of the disc is taken in a region where circles of a certain radius drawn around the center position of the pattern formed on each surface of the substrate sheet recognized from the read identifier overlap. The method for producing a thin optical disk according to claim 2. 基板シート両面にパターン及びパターンの位置を識別するための識別子を形成する手段と、
基板シート両面に記録膜を形成する手段と、
基板シート両面にオーバーコートを形成する手段と、
基板シート各面から前記識別子を読み取り、前記識別子から認識される基板シート各面に形成されたパターンの位置に基づいて、両パターン間の偏心が一定範囲内となるようディスクの打ち抜き位置を決定する手段と、
前記打ち抜き位置において基板シートからディスクを打ち抜く手段とを含んだ薄型光ディスクの製造装置。
Means for forming an identifier for identifying the pattern and the position of the pattern on both sides of the substrate sheet;
Means for forming a recording film on both sides of the substrate sheet;
Means for forming an overcoat on both sides of the substrate sheet;
The identifier is read from each surface of the substrate sheet, and the disc punching position is determined based on the position of the pattern formed on each surface of the substrate sheet recognized from the identifier so that the eccentricity between both patterns is within a certain range. Means,
An apparatus for producing a thin optical disk, comprising means for punching a disk from a substrate sheet at the punching position.
前記パターン形成手段は、パターンの中心から一定長さ離れた位置に3つ以上の識別子を形成し、
前記ディスク打ち抜き位置決定手段は、前記識別子を読み取った際に、各識別子の位置からパターンの中心位置を認識することを特徴とする請求項6に記載の薄型光ディスクの製造装置。
The pattern forming means forms three or more identifiers at a position away from the center of the pattern by a certain length,
7. The apparatus for manufacturing a thin optical disk according to claim 6, wherein the disk punching position determining means recognizes the center position of the pattern from the position of each identifier when the identifier is read.
前記ディスク打ち抜き位置決定手段は、前記読み取った識別子から認識される基板シート各面に形成されたパターンの中心位置同士を結んだ線分上にディスクの打ち抜き位置の中心点をとることを特徴とする請求項7に記載の薄型光ディスクの製造装置。   The disk punching position determining means takes the center point of the disk punching position on a line segment connecting the center positions of the patterns formed on the respective surfaces of the substrate sheet recognized from the read identifier. The apparatus for manufacturing a thin optical disk according to claim 7. 前記ディスク打ち抜き位置決定手段は、前記読み取った識別子から認識される基板シート各面に形成されたパターンの中心位置同士を結んだ線分のほぼ中点をディスクの打ち抜き位置の中心点とすることを特徴とする請求項7に記載の薄型光ディスクの製造装置。   The disk punching position determining means uses a substantially midpoint of a line segment connecting the center positions of the patterns formed on each surface of the substrate sheet recognized from the read identifier as a center point of the disk punching position. 8. The apparatus for manufacturing a thin optical disk according to claim 7, 前記ディスク打ち抜き位置決定手段は、前記読み取った識別子から認識される基板シート各面に形成されたパターンの中心位置を中心として描かれる一定半径の円同士が重畳する領域内にディスクの打ち抜き位置の中心点をとることを特徴とする請求項7に記載の薄型光ディスクの製造装置。   The disk punching position determining means is configured to determine the center of the disk punching position in a region where circles of a certain radius drawn around the center position of the pattern formed on each surface of the substrate sheet recognized from the read identifier overlap. The apparatus for manufacturing a thin optical disk according to claim 7, wherein a point is taken.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2023190052A1 (en) * 2022-03-29 2023-10-05 富士フイルム株式会社 Optical sheet manufacturing method and optical sheet manufacturing apparatus

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