JP2006184531A - Wavelength selective absorption film and wavelength selective absorption filter - Google Patents
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- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 title claims abstract description 208
- 239000000975 dye Substances 0.000 claims abstract description 121
- -1 salt compound Chemical class 0.000 claims abstract description 76
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 66
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 66
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 57
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 56
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims abstract description 49
- 239000000049 pigment Substances 0.000 claims description 27
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 27
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 17
- SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N benzopyrrole Natural products C1=CC=C2NC=CC2=C1 SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N indole Natural products CC1=CC=CC2=C1C=CN2 PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N indolenine Natural products C1=CC=C2CC=NC2=C1 RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- QGKVXWDADKTZHW-UHFFFAOYSA-N azaporphyrin Chemical group C1=C(N=2)C=CC=2C=C(N=2)C=CC=2C=C(N2)C=CC2=CC2=CNC1=N2 QGKVXWDADKTZHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 abstract description 17
- 238000010030 laminating Methods 0.000 abstract description 6
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 136
- 239000010408 film Substances 0.000 description 118
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 76
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 67
- 238000000034 method Methods 0.000 description 39
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 37
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 35
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 22
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 17
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 15
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 description 13
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 13
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 13
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 13
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 12
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 12
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 12
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 9
- 239000013557 residual solvent Substances 0.000 description 9
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 8
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 8
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 7
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 7
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 7
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 7
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 6
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 6
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 6
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 6
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 6
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 6
- 230000006870 function Effects 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000002475 indoles Chemical class 0.000 description 5
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 5
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 5
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 5
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 4
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 4
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 4
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 4
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 4
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 3
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 3
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 3
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 3
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 3
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 3
- 230000004807 localization Effects 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 3
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 3
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 125000001889 triflyl group Chemical group FC(F)(F)S(*)(=O)=O 0.000 description 3
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 3
- GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 6-phenyl-1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 238000007754 air knife coating Methods 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 2
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N butyl acetate Chemical compound CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BNHZZINHLCTQKT-UHFFFAOYSA-N butyl acetate;2-(2-hydroxyethoxy)ethanol Chemical compound OCCOCCO.CCCCOC(C)=O BNHZZINHLCTQKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000013036 cure process Methods 0.000 description 2
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 238000009998 heat setting Methods 0.000 description 2
- 238000007602 hot air drying Methods 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 2
- HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N isophorone Chemical compound CC1=CC(=O)CC(C)(C)C1 HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052622 kaolinite Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 238000007759 kiss coating Methods 0.000 description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N naphthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC4=CC=CC=C4C=C3C(N=C3C4=CC5=CC=CC=C5C=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=C2C(C=CC=C2)=C2)C2=C1N=C1C2=CC3=CC=CC=C3C=C2C4=N1 LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 2
- WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N pyrylium Chemical compound C1=CC=[O+]C=C1 WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007763 reverse roll coating Methods 0.000 description 2
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001923 silver oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 2
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N triphenylmethane Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 2
- XFRVVPUIAFSTFO-UHFFFAOYSA-N 1-Tridecanol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCO XFRVVPUIAFSTFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCCOCCOCCO OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SGQHDGJJZODGHE-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyethoxy)ethanol;methyl acetate Chemical compound COC(C)=O.OCCOCCO SGQHDGJJZODGHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001731 2-cyanoethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C([H])([H])C#N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- NDVWOBYBJYUSMF-UHFFFAOYSA-N 2-methylcyclohexan-1-ol Chemical compound CC1CCCCC1O NDVWOBYBJYUSMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004176 4-fluorobenzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1F)C([H])([H])* 0.000 description 1
- GJCOSYZMQJWQCA-UHFFFAOYSA-N 9H-xanthene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3OC2=C1 GJCOSYZMQJWQCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZKBCKIWHWHLXTF-UHFFFAOYSA-N C(=C)[SiH](N)C(C(O)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)=O Chemical compound C(=C)[SiH](N)C(C(O)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)=O ZKBCKIWHWHLXTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N Cu2+ Chemical compound [Cu+2] JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYVHTIWHNXTVPF-UHFFFAOYSA-N F.F.F.F.C=C Chemical compound F.F.F.F.C=C PYVHTIWHNXTVPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930192627 Naphthoquinone Natural products 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical class 0.000 description 1
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001000 anthraquinone dye Substances 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000000987 azo dye Substances 0.000 description 1
- 125000000751 azo group Chemical group [*]N=N[*] 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- LNLPZVVOYZTUNG-UHFFFAOYSA-N benzyl(ethenyl)silicon Chemical compound C=C[Si]CC1=CC=CC=C1 LNLPZVVOYZTUNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 229910000416 bismuth oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000740 bleeding effect Effects 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- 125000006226 butoxyethyl group Chemical group 0.000 description 1
- HJZGNWSIJASHMX-UHFFFAOYSA-N butyl acetate;ethane-1,2-diol Chemical compound OCCO.CCCCOC(C)=O HJZGNWSIJASHMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N butyl prop-2-enoate;methyl 2-methylprop-2-enoate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.COC(=O)C(C)=C.CCCCOC(=O)C=C QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000068 chlorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 239000000306 component Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910001431 copper ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000004925 denaturation Methods 0.000 description 1
- 230000036425 denaturation Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N dibismuth;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Bi+3].[Bi+3] TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001664 diethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- 238000001938 differential scanning calorimetry curve Methods 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 1
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- UBHZUDXTHNMNLD-UHFFFAOYSA-N dimethylsilane Chemical compound C[SiH2]C UBHZUDXTHNMNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- IFDFMWBBLAUYIW-UHFFFAOYSA-N ethane-1,2-diol;ethyl acetate Chemical compound OCCO.CCOC(C)=O IFDFMWBBLAUYIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000005448 ethoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- DBLVXHJTZIDGHE-UHFFFAOYSA-N ethyl acetate;2-(2-hydroxyethoxy)ethanol Chemical compound CCOC(C)=O.OCCOCCO DBLVXHJTZIDGHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 125000001207 fluorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 230000004313 glare Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-M iodide Chemical compound [I-] XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 1
- QDLAGTHXVHQKRE-UHFFFAOYSA-N lichenxanthone Natural products COC1=CC(O)=C2C(=O)C3=C(C)C=C(OC)C=C3OC2=C1 QDLAGTHXVHQKRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 108091057188 miR-369 stem-loop Proteins 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- KYTZHLUVELPASH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C21 KYTZHLUVELPASH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002791 naphthoquinones Chemical class 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004998 naphthylethyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)CC* 0.000 description 1
- 150000002806 neon Chemical class 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 125000003854 p-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Cl 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 125000002255 pentenyl group Chemical group C(=CCCC)* 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Chemical compound [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 125000004344 phenylpropyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920005594 polymer fiber Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- 238000011417 postcuring Methods 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical class [H]N([H])* 0.000 description 1
- 125000004368 propenyl group Chemical group C(=CC)* 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000002040 relaxant effect Effects 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 230000001846 repelling effect Effects 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical compound [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- PXQLVRUNWNTZOS-UHFFFAOYSA-N sulfanyl Chemical class [SH] PXQLVRUNWNTZOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXDNPSYEJHXKMK-UHFFFAOYSA-N sulfanylsilane Chemical compound S[SiH3] TXDNPSYEJHXKMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- OKYDCMQQLGECPI-UHFFFAOYSA-N thiopyrylium Chemical compound C1=CC=[S+]C=C1 OKYDCMQQLGECPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005809 transesterification reaction Methods 0.000 description 1
- 229940087291 tridecyl alcohol Drugs 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Chemical class 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Optical Filters (AREA)
Abstract
Description
本発明は、近赤外領域に大きくて、かつ、幅広い吸収を有し、さらにネオン光を選択的に吸収するが、他の可視光領域では光線透過率が高い光学フィルター、特にディスプレイ用フィルターとして好適な波長選択吸収フィルム及び波長選択吸収フィルターに関するものである。さらに詳しくは、近赤外領域に大きくて、かつ、幅広い吸収を有し、さらにネオン光を選択的に吸収するが、他の可視光領域では光線透過率が高く、高温・高湿度下での品質の経時変化が少なく、かつ、耐光性に優れる波長選択吸収フィルム及び波長選択吸収フィルターに関するものである。 The present invention is an optical filter that has a large and broad absorption in the near infrared region and selectively absorbs neon light, but has a high light transmittance in other visible light regions, particularly as a display filter. The present invention relates to a suitable wavelength selective absorption film and wavelength selective absorption filter. More specifically, it has a large and broad absorption in the near infrared region, and selectively absorbs neon light. However, in other visible light regions, the light transmittance is high, at high temperatures and high humidity. The present invention relates to a wavelength-selective absorption film and a wavelength-selective absorption filter that have little change in quality over time and are excellent in light resistance.
近赤外線の吸収能を有する光学フィルターは、近赤外線を遮断し、可視光を通過させる性質を有しており、各種の用途に使用されている。
近年、薄型大画面ディスプレイとしてプラズマディスプレイが注目されているが、プラズマディスプレイから放出される近赤外線により、近赤外線リモコンを使用する電子機器が誤動作を起こす問題があり、プラズマディスプレイの前面に上記の近赤外線吸収フィルムを配置し近赤外線吸収フィルターとして使用されている。
An optical filter having near-infrared absorption ability has a property of blocking near-infrared light and allowing visible light to pass therethrough, and is used in various applications.
In recent years, plasma displays have attracted attention as thin large-screen displays. However, there is a problem that electronic devices using a near-infrared remote controller may malfunction due to near infrared rays emitted from the plasma display. An infrared absorbing film is placed and used as a near infrared absorbing filter.
近赤外線吸収フィルターとしては、(1)燐酸系ガラスに、銅や鉄などの金属イオンを含有したフィルター、(2)屈折率の異なる層を積層し、透過光を干渉させることで特定の波長を透過させる干渉フィルター、(3)共重合体に銅イオンを含有するアクリル系樹脂フィルター、(4)樹脂に色素を分散又は溶解した層を積層したフィルター、が提案されている。
これらの中で(4)のフィルターは、加工性、生産性が良好で、光学設計の自由度も比較的大きく、各種の方法が提案されている(特許文献1〜9参照)。
Among these, the filter (4) has good workability and productivity, and has a relatively large degree of freedom in optical design, and various methods have been proposed (see Patent Documents 1 to 9).
これらの方法の中には、プラズマディスプレイから放出される近赤外線を十分に遮断する能力を有し、かつ、屋内での長時間の使用でも経時変化のないものがある。しかし、屋外での設置される厳しい環境下では、太陽光が直接ディスプレイに照射され、近赤外線吸収フィルターが変色する場合があった。 Some of these methods have the ability to sufficiently block near-infrared rays emitted from a plasma display and do not change over time even when used indoors for a long time. However, in a severe environment installed outdoors, sunlight is directly applied to the display, and the near-infrared absorption filter may be discolored.
近赤外線吸収フィルムの耐光性を向上させる方策としては、紫外線吸収層を積層する方法が提案されている(特許文献10参照)。しかしながら、特許文献10に記載の多層赤外線吸収フィルムは、耐光性向上の効果はあるものの不足しており、更なる耐光性の向上が必要である。
本発明の目的は、前記の従来技術の課題を解決するためになされたものであり、近赤外領域に大きくて、かつ、幅広い吸収を有し、さらにネオン光を選択的に吸収するが、他の可視光領域では光線透過率が高く、高温・高湿度下での品質の経時変化が少なく、かつ、耐光性に優れる波長選択吸収フィルム及び波長選択吸収フィルターを提供することにある。 The object of the present invention was made to solve the above-mentioned problems of the prior art, and has a large and broad absorption in the near infrared region, and further selectively absorbs neon light. Another object of the present invention is to provide a wavelength selective absorption film and a wavelength selective absorption filter that have high light transmittance in other visible light regions, little change in quality over time under high temperature and high humidity, and excellent light resistance.
本発明は、上記の背景技術に鑑みなされたものであって、上記の課題を解決することができた波長選択吸収フィルム及び波長選択吸収フィルターとは、以下の通りである。なお、本発明でいう「フィルム」は、いわゆる「シート」も含む概念である。この他、上記本発明の波長選択吸収フィルムを用いたプラズマディスプレイ用前面フィルターも、本発明に包含される。 The present invention has been made in view of the background art described above, and the wavelength selective absorption film and the wavelength selective absorption filter that have solved the above-described problems are as follows. The “film” in the present invention is a concept including a so-called “sheet”. In addition, a front filter for a plasma display using the wavelength selective absorption film of the present invention is also included in the present invention.
第1の発明は、透明基材フィルム上に、ジインモニウム塩化合物を含む2種類以上の近赤外線吸収色素、ネオンカット色素、及び樹脂から主に構成される波長選択吸収層を積層した波長選択吸収フィルムであって、波長400nmにおける透過率が30%以下であることを特徴とする波長選択吸収フィルムである。 1st invention is a wavelength selective absorption film which laminated | stacked the wavelength selective absorption layer mainly comprised from two or more types of near-infrared absorption pigment | dye containing a diimonium salt compound, a neon cut pigment | dye, and resin on the transparent base film. And it is a wavelength selective absorption film characterized by the transmittance | permeability in wavelength 400nm being 30% or less.
第2の発明は、波長400nmにおける透過率が20%以下であることを特徴とする第1の発明に記載の波長選択吸収フィルムである。 The second invention is the wavelength selective absorption film according to the first invention, wherein the transmittance at a wavelength of 400 nm is 20% or less.
第3の発明は、前記の波長選択吸収層中に波長370nm以上400nm以下の範囲に吸収ピークを有する色素をさらに含有させることを特徴とする第1または第2の発明に記載の波長選択吸収フィルムである。 3rd invention further contains the pigment | dye which has an absorption peak in the wavelength range of 370 nm or more and 400 nm or less in said wavelength selective absorption layer, The wavelength selective absorption film as described in 1st or 2nd invention characterized by the above-mentioned. It is.
第4の発明は、波長370nm以上400nm以下の範囲に吸収ピークを有する色素がインドール系化合物であることを特徴とする第3の発明に記載の波長選択吸収フィルムである。 A fourth invention is the wavelength selective absorption film according to the third invention, wherein the dye having an absorption peak in the wavelength range of 370 nm to 400 nm is an indole compound.
第5の発明は、前記のネオンカット色素がアザポルフィリン系化合物であることを特徴とする第1〜4の発明のいずれかに記載の波長選択吸収フィルムである。 A fifth invention is the wavelength selective absorption film according to any one of the first to fourth inventions, wherein the neon cut dye is an azaporphyrin-based compound.
第6の発明は、第1〜5の発明のいずれかに記載の波長選択吸収フィルムを、プラズマディスプレイの前面に設置してなることを特徴とする波長選択吸収フィルターである。 6th invention is a wavelength selective absorption filter characterized by installing the wavelength selective absorption film in any one of 1st-5th invention in the front surface of a plasma display.
本発明による波長選択吸収フィルムを波長選択吸収フィルターとしてプラズマディプレイの前面に設置した場合、従来の波長選択吸収フィルターと同様に、ディスプレイから放出される不要な近赤外線を吸収し、精密機器の誤動作を防ぐことができるだけでなく、不要なネオン光を吸収しているため画像の鮮明度が高く、かつ、経時での色調変化が少なく、特に屋外に設置された場合に色調変化の少ないディスプレイが得られる利点がある。 When the wavelength selective absorption film according to the present invention is installed on the front surface of the plasma display as a wavelength selective absorption filter, it absorbs unnecessary near infrared rays emitted from the display as in the case of the conventional wavelength selective absorption filter, and malfunctions of precision instruments. In addition to preventing unnecessary neon light, the display has high image clarity and little change in color tone over time, especially when installed outdoors. There are advantages to being
以下、本発明を詳細に説明する。
(透明基材フィルム)
本発明において、透明基材フィルムは特に限定されるものではないが、全光線透過率が80%以上で、かつヘイズが2%以下であることが好ましい。基材フィルムが透明性に劣る場合には、ディスプレイの輝度を低下させる問題がある。特に、基材フィルムのヘイズは重要で、ヘイズが高い場合には波長選択吸収層を形成させて得られる波長選択吸収フィルムのヘイズも高くなり、ディスプレイの画像のシャープさが不良となる。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
(Transparent substrate film)
In the present invention, the transparent substrate film is not particularly limited, but preferably has a total light transmittance of 80% or more and a haze of 2% or less. When the substrate film is inferior in transparency, there is a problem of reducing the luminance of the display. In particular, the haze of the base film is important. When the haze is high, the haze of the wavelength selective absorption film obtained by forming the wavelength selective absorption layer is also high, and the sharpness of the image on the display becomes poor.
このような透明基材フィルムとしては、例えばポリエステル系、アクリル系、セルロ−ス系、ポリエチレン系、ポリプロピレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリカーボネート、フェノール系、ウレタン系等のプラスチックフィルム、またはこれらの任意の2種類以上を貼り合わせたものが挙げられる。好ましくは、耐熱性、柔軟性のバランスが良好なポリエステル系フィルムであり、より好ましくはポリエチレンテレフタレートフィルムである。 Examples of such transparent substrate films include polyester-based, acrylic-based, cellulose-based, polyethylene-based, polypropylene-based, polyolefin-based, polyvinyl chloride-based, polycarbonate, phenol-based, urethane-based plastic films, and the like. The thing which bonded two or more arbitrary types of these is mentioned. A polyester film having a good balance between heat resistance and flexibility is preferable, and a polyethylene terephthalate film is more preferable.
本発明で用いる透明基材フィルムとして好適なポリエステル系フィルムとは、ジカルボン酸成分として、テレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸などの芳香族ジカルボン酸又はそのエステルと、グリコール成分として、エチレングリコール、ジエチレングリコール、1、4−ブタンジオール、ネオペンチルグリコールなどをエステル化反応又はエステル交換反応を行い、次いで重縮合反応させて得たポリエステルチップを乾燥後、押出機で溶融し、Tダイからシート状に押し出して得た未延伸シートを少なくとも1軸方向に延伸し、次いで熱固定処理、緩和処理を行うことにより製造されるフィルムである。 The polyester film suitable as a transparent substrate film used in the present invention is an aromatic dicarboxylic acid or ester thereof such as terephthalic acid, isophthalic acid or naphthalenedicarboxylic acid as a dicarboxylic acid component, and ethylene glycol or diethylene glycol as a glycol component. Polyester chips obtained by esterification or transesterification of 1,4-butanediol, neopentyl glycol, etc., and then polycondensation are dried, melted with an extruder, and extruded from a T die into a sheet. It is a film manufactured by extending | stretching the unstretched sheet obtained by carrying out at least 1 axial direction, and then performing a heat setting process and a relaxation process.
前記フィルムは、強度等の点から、二軸延伸フィルムが特に好ましい。延伸方法としては、チューブラ延伸法、同時二軸延伸法、逐次二軸延伸法等が挙げられるが、平面性、寸法安定性、厚みムラ等から逐次二軸延伸法が好ましい。逐次二軸延伸フィルムは、例えば、長手方向にポリエステルのガラス転移温度(Tg)〜(Tg+30℃)で、2.0〜5.0倍に長手方向にロール延伸し、引き続き、テンターで予熱後120〜150℃で1.2〜5.0倍に幅方向に延伸する。さらに、二軸延伸後に220℃以上(融点−10℃)以下の温度で熱固定処理を行い、次いで幅方向に3〜8%緩和させることによって製造することができる。また、フィルムの長手方向の寸法安定性をさらに改善するために、縦弛緩処理を併用してもよい。 The film is particularly preferably a biaxially stretched film from the viewpoint of strength. Examples of the stretching method include a tubular stretching method, a simultaneous biaxial stretching method, a sequential biaxial stretching method, and the like, but a sequential biaxial stretching method is preferable in view of flatness, dimensional stability, thickness unevenness, and the like. The sequential biaxially stretched film is, for example, roll-stretched in the longitudinal direction at a glass transition temperature (Tg) to (Tg + 30 ° C.) of 2.0 to 5.0 times in the longitudinal direction and then preheated with a tenter 120 Stretch in the width direction 1.2 to 5.0 times at ~ 150 ° C. Furthermore, after biaxial stretching, it can be produced by performing heat setting treatment at a temperature of 220 ° C. or higher (melting point−10 ° C.) and then relaxing by 3 to 8% in the width direction. Further, in order to further improve the dimensional stability in the longitudinal direction of the film, a longitudinal relaxation treatment may be used in combination.
フィルムには、ハンドリング性(例えば、積層後の巻取り性)を付与するために、粒子を含有させてフィルム表面に突起を形成させることが好ましい。フィルムに含有させる粒子としては、シリカ、カオリナイト、タルク、炭酸カルシウム、ゼオライト、アルミナ、等の無機粒子、アクリル、PMMA、ナイロン、ポリスチレン、ポリエステル、ベンゾグアナミン・ホルマリン縮合物、等の耐熱性高分子粒子が挙げられる。 In order to provide the film with handleability (for example, rollability after lamination), it is preferable to incorporate particles and form protrusions on the film surface. As particles to be included in the film, inorganic particles such as silica, kaolinite, talc, calcium carbonate, zeolite, alumina, etc., heat resistant polymer particles such as acrylic, PMMA, nylon, polystyrene, polyester, benzoguanamine / formalin condensate, etc. Is mentioned.
透明性の点から、フィルム中の粒子の含有量は少ないことが好ましく、例えば1ppm以上1000ppm以下であることが好ましい。さらに、透明性の点から使用する樹脂と屈折率の近い粒子を選択することが好ましく、特にシリカ粒子が好適である。また、フィルムには必要に応じて各種機能を付与するために、紫外線防止剤、色素、帯電防止剤などを含有させてもよい。 From the viewpoint of transparency, the content of particles in the film is preferably small, for example, preferably 1 ppm or more and 1000 ppm or less. Furthermore, it is preferable to select particles having a refractive index close to that of the resin used from the viewpoint of transparency, and silica particles are particularly preferable. Moreover, in order to provide various functions as needed, the film may contain an ultraviolet ray inhibitor, a dye, an antistatic agent, and the like.
本発明において、透明基材フィルム中には紫外線吸収剤を添加することが好ましい。紫外線吸収剤を含有する目的は、波長選択吸収層の外光に対する耐光性を改善することだけでなく、基材そのものの強度の低下等を抑制することが可能となる。紫外線吸収剤としては、有機系紫外線吸収剤と無機系紫外線吸収剤に大別されるが、透明性の確保の観点からは有機系紫外線吸収剤(低分子タイプ、高分子タイプ)の使用が望ましい。有機系紫外線吸収剤(低分子タイプ)としては特に限定されないが、例えばベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、環状イミノエステル系など、およびこれらの組み合わせが挙げられる。しかし、耐久性の観点からはベンゾトリアゾール系、環状イミノエステル系が特に好ましい。2種以上の紫外線吸収剤を併用した場合には、異なる波長の紫外線を同時に吸収させるように調整することができるため、紫外線吸収効果を一層改善することができる。 In the present invention, it is preferable to add an ultraviolet absorber to the transparent substrate film. The purpose of containing the ultraviolet absorber is not only to improve the light resistance of the wavelength selective absorption layer to external light, but also to suppress a decrease in the strength of the substrate itself. UV absorbers are broadly classified into organic UV absorbers and inorganic UV absorbers. From the viewpoint of ensuring transparency, it is desirable to use organic UV absorbers (low molecular type and high molecular type). . Although it does not specifically limit as an organic type ultraviolet absorber (low molecular type), For example, a benzotriazole type, a benzophenone type, a cyclic imino ester type, etc., and these combination are mentioned. However, from the viewpoint of durability, benzotriazole type and cyclic imino ester type are particularly preferable. When two or more kinds of ultraviolet absorbers are used in combination, it is possible to adjust so as to absorb ultraviolet rays having different wavelengths at the same time, so that the ultraviolet absorption effect can be further improved.
本発明で用いる透明基材フィルムは、単層フィルムであっても、表層と中心層を積層した2層以上の複合フィルムであっても構わない。複合フィルムの場合、表層と中心層の機能を独立して設計することができる利点がある。例えば、厚みの薄い表層にのみ粒子を含有させて表面に凹凸を形成することでハンドリング性を維持しながら、厚みの厚い中心層には粒子を実質上含有させないことで、複合フィルム全体として透明性をさらに向上させることができる。また、中間層に紫外線吸収剤を含有させることで、表面層への紫外線吸収剤のブリードを防止できるという利点もある。前記複合フィルムの製造方法は特に限定されるものではないが、生産性を考慮すると、表層と中心層の原料を別々の押出機から押出し、1つのダイスに導き未延伸シートを得た後、少なくとも1軸方向に配向させる、いわゆる共押出法による積層が特に好ましい。 The transparent substrate film used in the present invention may be a single layer film or a composite film having two or more layers in which a surface layer and a center layer are laminated. In the case of a composite film, there is an advantage that the functions of the surface layer and the center layer can be designed independently. For example, by containing particles only on the thin surface layer and forming irregularities on the surface, the handling property is maintained, but the thick central layer does not substantially contain particles, so that the composite film as a whole is transparent. Can be further improved. Moreover, there is an advantage that bleeding of the ultraviolet absorber into the surface layer can be prevented by containing the ultraviolet absorber in the intermediate layer. The method for producing the composite film is not particularly limited. However, in consideration of productivity, the raw material for the surface layer and the central layer are extruded from separate extruders, led to one die, and after obtaining an unstretched sheet, at least Lamination by the so-called coextrusion method that is oriented in a uniaxial direction is particularly preferable.
透明基材フィルムの厚みは素材により異なるが、ポリエステルフィルムを用いる場合には、下限は35μmが好ましく、より好ましくは50μmである。一方、厚みの上限は260μmが好ましく、より好ましくは200μmである。厚みが薄い場合には、ハンドリング性が不良となるばかりか、後述のように耐久性を向上させるために波長選択吸収層を形成する際の乾燥温度を強くした場合に、フィルムに熱シワが発生して平面性が不良となりやすい。一方、透明基材フィルムの厚みが厚い場合には、コスト面で問題があるだけでなく、ロール状に巻き取って保存した場合に巻き癖による平面性不良が発生しやすくなる。 The thickness of the transparent substrate film varies depending on the material, but when a polyester film is used, the lower limit is preferably 35 μm, more preferably 50 μm. On the other hand, the upper limit of the thickness is preferably 260 μm, more preferably 200 μm. If the thickness is thin, not only will the handling properties be poor, but the film will be wrinkled when the drying temperature is increased when forming the wavelength selective absorption layer to improve durability as will be described later. Therefore, the flatness tends to be poor. On the other hand, when the thickness of the transparent substrate film is large, not only is there a problem in cost, but flatness due to curling tends to occur when the film is wound and stored in a roll shape.
(中間層)
本発明の波長選択吸収フィルムは、透明基材フィルム上に波長選択吸収層を積層した構成になっているが、透明基材フィルムと波長選択吸収層の密着性の向上や透明基材フィルムの透明性向上を目的に、中間層を設けることが好ましい。なお、フィルム中に粒子を含有させない場合、粒子を含有する中間層をフィルム製造時に同時に設けることにより、ハンドリング性を維持しながら高度な透明性を得ることができる。
(Middle layer)
The wavelength selective absorption film of the present invention has a structure in which a wavelength selective absorption layer is laminated on a transparent base film, but the improvement in the adhesion between the transparent base film and the wavelength selective absorption layer and the transparency of the transparent base film. For the purpose of improving the properties, it is preferable to provide an intermediate layer. In addition, when not containing particle | grains in a film, high transparency can be obtained, maintaining handling property by providing the intermediate | middle layer containing particle | grains simultaneously at the time of film manufacture.
前記中間層を構成する樹脂としては、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステルウレタン樹脂、アクリル系樹脂、メラミン樹脂などが挙げられるが、基材および波長選択吸収層との密着性が良好となる樹脂を1種以上選択することが重要であり、具体的には、基材及び波長選択吸収層を構成する樹脂がエステル系であれば、類似した構造を有するポリエステル系、ポリエステルウレタン系を選定することが好ましい。 Examples of the resin constituting the intermediate layer include polyester resins, polyurethane resins, polyester urethane resins, acrylic resins, melamine resins, and the like, but resins having good adhesion to the base material and the wavelength selective absorption layer can be used. It is important to select one or more types. Specifically, if the resin constituting the base material and the wavelength selective absorption layer is an ester type, it is possible to select a polyester type or a polyester urethane type having a similar structure. preferable.
前記中間層には、密着性の向上を目的に架橋剤を含有させて架橋構造を形成させることが好ましい。架橋剤としては、尿素系、エポキシ系、メラミン系、イソシアネート系が挙げられる。特に、樹脂が高温・高湿度下での白化や強度が低下する場合には、架橋剤による効果が顕著である。なお、架橋剤を用いずに、樹脂として自己架橋性を有するグラフト共重合樹脂を用いてもよい。 The intermediate layer preferably contains a crosslinking agent for the purpose of improving adhesion to form a crosslinked structure. Examples of the crosslinking agent include urea, epoxy, melamine, and isocyanate. In particular, when the resin is whitened under high temperature and high humidity and the strength is lowered, the effect of the crosslinking agent is remarkable. In addition, you may use the graft copolymer resin which has self-crosslinking property as resin, without using a crosslinking agent.
中間層には、表面に凹凸を形成させて滑り性を改善する目的で、各種の粒子を含有させてもよい。中間層中に含有させる粒子としては、例えば、シリカ、カオリナイト、タルク、炭酸カルシウム、ゼオライト、アルミナ、等の無機粒子、アクリル、PMMA、ナイロン、スチレン、ポリエステル、ベンゾグアナミン・ホルマリン縮合物、等の有機粒子が挙げられる。なお、透明性の点から使用する樹脂と屈折率の近い粒子を選択することが好ましい。例えば、共重合ポリエステル系樹脂を樹脂成分とする中間層においては、シリカ粒子が好適である。 The intermediate layer may contain various kinds of particles for the purpose of forming irregularities on the surface and improving slipperiness. Examples of the particles to be included in the intermediate layer include inorganic particles such as silica, kaolinite, talc, calcium carbonate, zeolite, and alumina, organic materials such as acrylic, PMMA, nylon, styrene, polyester, and benzoguanamine / formalin condensate. Particles. In addition, it is preferable to select particles having a refractive index close to that of the resin used from the viewpoint of transparency. For example, silica particles are suitable for an intermediate layer having a copolymerized polyester resin as a resin component.
さらに、中間層に各種機能を付与するために、界面活性剤、帯電防止剤、色素、紫外線吸収剤等を含有させてもよい。 Furthermore, in order to give various functions to the intermediate layer, a surfactant, an antistatic agent, a dye, an ultraviolet absorber, or the like may be contained.
中間層は目的とする機能を有する場合は単層でも構わないが、必要に応じて2層以上に積層しても構わない。 The intermediate layer may be a single layer if it has the desired function, but may be laminated in two or more layers as necessary.
中間層の厚みは、目的とする機能を有すれば特に限定されるものではないが、0.01μm以上5μm以下が好ましい。厚みが薄い場合には中間層としても機能が発現し難くなり、逆に、厚い場合には透明性が不良となりやすくなる。 The thickness of the intermediate layer is not particularly limited as long as it has a desired function, but is preferably 0.01 μm or more and 5 μm or less. When the thickness is small, the function as an intermediate layer is hardly exhibited. On the contrary, when the thickness is thick, the transparency tends to be poor.
中間層を設ける方法としては、塗布法が好ましい。塗布法としては、グラビアコート方式、キスコート方式、ディップ方式、スプレイコート方式、カーテンコート方式、エアナイフコート方式、ブレードコート方式、リバースロールコート方式などの公知の塗布方法を用いて、フィルムの製造工程で塗布層を設けるインラインコート方式、フィルム製造後に塗布層を設けるオフラインコート方式により設けることができる。これらの方式のうち、インラインコート方式がコスト面で優れるだけでなく、塗布層に粒子を含有させることで、透明基材フィルムに粒子を含有させる必要がなくなるため、透明性を高度に改善することができるため好ましい。 As a method for providing the intermediate layer, a coating method is preferable. As the coating method, using a known coating method such as gravure coating method, kiss coating method, dip method, spray coating method, curtain coating method, air knife coating method, blade coating method, reverse roll coating method, etc. It can be provided by an in-line coating method in which a coating layer is provided, or an offline coating method in which a coating layer is provided after film production. Of these methods, the in-line coating method is not only excellent in terms of cost, but by adding particles to the coating layer, it is not necessary to include particles in the transparent substrate film, so the transparency is highly improved. Is preferable.
(波長選択吸収層)
本発明の波長選択吸収フィルムは、透明基材フィルム上に直接あるいは中間層を介して近赤外線吸収色素、ネオンカット色素、樹脂を主に含有する波長選択吸収層が設けられている。上記の「近赤外線吸収色素、ネオンカット色素、樹脂を主に含有」とは、前記組成物中に近赤外線吸収色素と樹脂を80質量%以上含有することを意味する。前記組成物中の近赤外線吸収色素と樹脂の含有量の総和は、85質量%以上が好ましく、特に好ましくは90質量%以上である。
(Wavelength selective absorption layer)
The wavelength selective absorption film of the present invention is provided with a wavelength selective absorption layer mainly containing a near-infrared absorbing dye, a neon cut dye, and a resin directly or via an intermediate layer on a transparent substrate film. The above-mentioned “mainly containing a near-infrared absorbing dye, a neon cut dye, and a resin” means that the composition contains 80% by mass or more of a near-infrared absorbing dye and a resin. The sum of the contents of the near-infrared absorbing dye and the resin in the composition is preferably 85% by mass or more, particularly preferably 90% by mass or more.
近赤外線吸収色素とは、波長800〜1200nmの近赤外線領域に極大吸収を有する色素であり、例えば、ジインモニウム塩系、フタロシアニン系、ジチオ−ル金属錯体系、ナフタロシアニン系、アゾ系、ポリメチン系、アントラキノン系、ナフトキノン系、ピリリウム系、チオピリリウム系、スクアリリウム系、クロコニウム系、テトラデヒドオコリン系、トリフェニルメタン系、シアニン系、アゾ系、アミニウム系等の化合物が挙げられる。これらの化合物は単独で又は2種以上を混合して使用されるが、近赤外線領域の吸収が大きく、吸収域も広く、可視光領域の透過率も高い下記一般式(I)で示されるジイモニウム塩系化合物を含むことが好ましい。 The near-infrared absorbing dye is a dye having a maximum absorption in the near-infrared region having a wavelength of 800 to 1200 nm, for example, a diimmonium salt type, a phthalocyanine type, a dithiol metal complex type, a naphthalocyanine type, an azo type, a polymethine type, Examples include anthraquinone, naphthoquinone, pyrylium, thiopyrylium, squarylium, croconium, tetradehycholine, triphenylmethane, cyanine, azo, and aminium compounds. These compounds are used alone or in admixture of two or more, but they have a large absorption in the near infrared region, a wide absorption region, and a high transmittance in the visible light region. It preferably contains a salt compound.
式中、R1〜R8は、夫々同一または異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アラルキル基、アルキニル基を表す。R9〜R12は、それぞれ同一でも、異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、アルキル基、アルコキシル基を表す。R1〜R12で、置換基を結合できるものは置換基を有してもよい。X-は陰イオンを表す。 In the formula, R 1 to R 8 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, an aralkyl group, or an alkynyl group. R 9 to R 12 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group, a cyano group, a nitro group, a carboxyl group, an alkyl group, or an alkoxyl group. R 1 to R 12 which can be bonded to a substituent may have a substituent. X − represents an anion.
上記一般式(I)のR1〜R8が、(a)アルキル基、(b)アリール基、(c)アルケニル基、(d)アラルキル基の場合、それぞれ以下の官能基が例示できる。
(a)アルキル基:メチル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、iso−ブチル基、t−ブチル基、n−アミル基、n−ヘキシル基、n−オクチル基、2−ヒドロキシエチル基、2−シアノエチル基、3−ヒドロキシプロピル基、3−シアノプロピル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、ブトキシエチル基など。
(b)アリール基:フェニル基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、トリル基、ジエチルアミノフェニル基、ナフチル基など。
(c)アルケニル基:ビニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基など。
(d)アラルキル基:ベンジル基、p−フルオロベンジル基、p−クロロフェニル基、フェニルプロピル基、ナフチルエチル基など。
When R 1 to R 8 in the general formula (I) are (a) an alkyl group, (b) an aryl group, (c) an alkenyl group, and (d) an aralkyl group, the following functional groups can be exemplified.
(A) Alkyl group: methyl group, ethyl group, n-propyl group, iso-propyl group, n-butyl group, iso-butyl group, t-butyl group, n-amyl group, n-hexyl group, n-octyl Group, 2-hydroxyethyl group, 2-cyanoethyl group, 3-hydroxypropyl group, 3-cyanopropyl group, methoxyethyl group, ethoxyethyl group, butoxyethyl group and the like.
(B) Aryl group: phenyl group, fluorophenyl group, chlorophenyl group, tolyl group, diethylaminophenyl group, naphthyl group and the like.
(C) Alkenyl group: vinyl group, propenyl group, butenyl group, pentenyl group and the like.
(D) Aralkyl group: benzyl group, p-fluorobenzyl group, p-chlorophenyl group, phenylpropyl group, naphthylethyl group and the like.
また、上記一般式(I)のR9〜R12の(e)ハロゲン原子、(f)アミノ基、(g)アルキル基、(h)アルコキシル基としては、それぞれ、以下の官能基が例示できる。
(e)ハロゲン原子:フッ素、塩素、臭素など。
(f)アミノ基:ジエチルアミノ基、ジメチルアミノ基など。
(g)アルキル基:メチル基、エチル基、プロピル基、トリフルオロメチル基など。
(h)アルコキシル基:メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基など。
Moreover, as the (e) halogen atom, (f) amino group, (g) alkyl group, and (h) alkoxyl group of R 9 to R 12 in the general formula (I), the following functional groups can be exemplified. .
(E) Halogen atom: fluorine, chlorine, bromine and the like.
(F) Amino group: diethylamino group, dimethylamino group and the like.
(G) Alkyl group: methyl group, ethyl group, propyl group, trifluoromethyl group and the like.
(H) Alkoxyl group: methoxy group, ethoxy group, propoxy group and the like.
また、上記一般式(I)におけるX-としては、例えば、フッ素イオン、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン、過塩素酸塩イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド酸イオンなどの陰イオンが挙げられる。 Examples of X − in the above general formula (I) include fluorine ion, chlorine ion, bromine ion, iodine ion, perchlorate ion, hexafluoroantimonate ion, hexafluorophosphate ion, and tetrafluoroboric acid. Anions such as ions and bis (trifluoromethanesulfonyl) imido ions.
上記一般式(I)で示されるジインモニウム塩系化合物は、市販品を用いることができる。例えば、Kayasorb IRG−022、IRG−023、IRG−024、K−1030、K−1032(以上、日本化薬社製)、CIR−1080、CIR−1081、CIR−1083、CIR−1085、CIR−RL(以上、日本カーリット社製)などが好適である。 A commercially available product can be used as the diimmonium salt compound represented by the general formula (I). For example, Kayasorb IRG-022, IRG-023, IRG-024, K-1030, K-1032 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), CIR-1080, CIR-1081, CIR-1083, CIR-1085, CIR- RL (manufactured by Nippon Carlit) is suitable.
本発明の課題である耐光性は、上記のジインモニウム塩系化合物の光による劣化が主要因であり、ジインモニウム塩系化合物が劣化することにより波長420nm付近に吸収を有する化合物に変化して、波長選択吸収フィルムが変色する。本発明では、近赤外線吸収性を良好にするために、ジインモニウム塩系化合物を用いるが、ジインモニウム塩系化合物の劣化を最小限にすることが重要である。 The light resistance, which is the subject of the present invention, is mainly due to degradation of the above diimmonium salt compound by light. When the diimmonium salt compound is deteriorated, the compound changes to a compound having an absorption around 420 nm, and wavelength selection The absorption film changes color. In the present invention, a diimmonium salt compound is used in order to improve near-infrared absorptivity. However, it is important to minimize the deterioration of the diimmonium salt compound.
本発明の波長選択吸収フィルムの波長選択吸収層には、前記の一般式(I)で示されるジイモニウム塩系化合物以外に、近赤外線領域の吸収域の拡大、色目の調整を目的として、他の近赤外線吸収色素を併用することが好ましい。 In the wavelength selective absorption layer of the wavelength selective absorption film of the present invention, in addition to the diimonium salt compound represented by the above general formula (I), for the purpose of expanding the absorption region in the near infrared region and adjusting the color tone, It is preferable to use a near infrared absorbing dye in combination.
前記のジインモニウム塩系化合物と併用し得る他の近赤外線吸収色素としては、フタロシアニン系化合物、ジチオール金属錯体系化合物、シアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、スクアリリウム塩系化合物、ピリリウム塩系化合物、チオペリリウム系化合物、クロコニウム系化合物、インドアニリンキレート系色素、インドナフトールキレート系色素、アゾ系色素、アゾキレート系色素、アミニウム塩系色素、キノン系色素、アントラキノン系色素、ポリメチン系色素、トリフェニルメタン系色素などが挙げられる。これらの中で、色素自体が高温・高湿度下で劣化の少ないフタロシアニン系化合物、ジチオール系金属錯体系化合物が好ましい。劣化しやすい色素を用いた場合には、近赤外領域の透過率の経時安定性が不良となるだけでなく、ジインモニウム塩系化合物がクエンチャーとして作用して劣化し、波長選択吸収フィルムが黄色く変色する。 Other near-infrared absorbing dyes that can be used in combination with the diimmonium salt compounds include phthalocyanine compounds, dithiol metal complex compounds, cyanine compounds, naphthalocyanine compounds, squarylium salt compounds, pyrylium salt compounds, thioperyllium compounds. Compounds, croconium compounds, indoaniline chelate dyes, indonaphthol chelate dyes, azo dyes, azo chelate dyes, aminium salt dyes, quinone dyes, anthraquinone dyes, polymethine dyes, triphenylmethane dyes, etc. Can be mentioned. Of these, phthalocyanine compounds and dithiol metal complex compounds, which are less likely to deteriorate under high temperature and high humidity, are preferable. When dyes that tend to deteriorate are used, not only does the stability of transmittance in the near-infrared region deteriorate with time, but the diimmonium salt compound deteriorates by acting as a quencher, and the wavelength selective absorption film becomes yellow. Discolor.
例えば、上記フタロシアニン系化合物は、市販品を用いることができる。具体的には、Excolor IR−1、IR−2、IR−3、IR−4、IR−10、IR−10A、IR−12、IR−14、TXEX−805K、TXEX−809K、TXEX−810K、TXEX−811K、TXEX−812K、TXEX−813K、TXEX−814K(以上、日本触媒社製)、MIR−369、MIR−389(以上、三井化学社製)などが好適である。 For example, a commercial item can be used for the phthalocyanine compound. Specifically, Excolor IR-1, IR-2, IR-3, IR-4, IR-10, IR-10A, IR-12, IR-14, TXEX-805K, TXEX-809K, TXEX-810K, TXEX-811K, TXEX-812K, TXEX-813K, TXEX-814K (manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.), MIR-369, MIR-389 (manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) and the like are suitable.
本発明において、目的とする近赤外線領域の吸収、可視光領域での透過率を制御するために、近赤外線吸収色素の量を、波長選択吸収層の厚み方向における任意の面で0.01g/m2 以上1.0g/m2 以下の範囲で存在するように調整することが好ましい。単位面積当たりの近赤外線吸収色素の量が少ない場合には、近赤外線領域での吸収能が不足しやすくなる。一方、単位面積当たりの近赤外線吸収色素の量が多い場合には、可視光領域での透明性が不足して、ディスプレイの輝度が低下しやすくなる。 In the present invention, in order to control the target absorption in the near-infrared region and the transmittance in the visible light region, the amount of the near-infrared absorbing dye is 0.01 g / in any surface in the thickness direction of the wavelength selective absorption layer. it is preferable to adjust to exist in m 2 or more 1.0 g / m 2 or less. When the amount of the near-infrared absorbing dye per unit area is small, the absorbing ability in the near-infrared region tends to be insufficient. On the other hand, when the amount of the near-infrared absorbing dye per unit area is large, the transparency in the visible light region is insufficient, and the brightness of the display tends to decrease.
波長選択吸収層における近赤外線吸収色素の含有量は、樹脂に対し1質量%以上10質量%以下であることが好ましい。近赤外線吸収色素の含有量の上限は、樹脂に対し8質量%がさらに好ましく、特に好ましくは6質量%である。また、近赤外線吸収色素の含有量の下限は、樹脂に対し2質量%がさらに好ましく、特に好ましくは3質量%である。 The near-infrared absorbing pigment content in the wavelength selective absorption layer is preferably 1% by mass or more and 10% by mass or less based on the resin. The upper limit of the content of the near-infrared absorbing dye is more preferably 8% by mass, and particularly preferably 6% by mass with respect to the resin. Further, the lower limit of the content of the near-infrared absorbing dye is more preferably 2% by mass, and particularly preferably 3% by mass with respect to the resin.
本発明において、波長選択吸収層中にはネオンカット色素を含有させることが重要である。プラズマディスプレイは、波長600nm付近を中心とするいわゆるネオンオレンジ光を発光し、赤色にオレンジ色が混ざり鮮やかな赤色が得られない欠点がある。ネオンカット色素を含有させることにより、上記の問題が解決できる。 In the present invention, it is important to include a neon cut dye in the wavelength selective absorption layer. The plasma display has a drawback that it emits so-called neon orange light centering around a wavelength of about 600 nm, and the orange color is mixed with the red color so that a bright red color cannot be obtained. By including a neon cut pigment, the above problem can be solved.
本発明においてネオンカット色素とは、550〜620nmの波長域に極大吸収を有する色素であり、具体的には、シアニン系、スクアリウム系、アザポルフィリン系、アゾメチン系、キサンテン系、オキソノール系、アゾ系、フタロシアニン系、キノン系、アズレニウム系、ピリリウム系、クロコニウム系、ジチオール金属錯体系、ピロメテン系の化合物が挙げられる。これらのなかで、スクアリリウム系化合物またはアザポルフィリン系化合物が、550〜620nmの波長領域にシャープな吸収を有する点で好ましい。 In the present invention, the neon cut dye is a dye having a maximum absorption in a wavelength range of 550 to 620 nm, and specifically, cyanine-based, squalium-based, azaporphyrin-based, azomethine-based, xanthene-based, oxonol-based, azo-based. Phthalocyanine, quinone, azurenium, pyrylium, croconium, dithiol metal complex, and pyromethene compounds. Among these, squarylium compounds or azaporphyrin compounds are preferable in that they have sharp absorption in the wavelength region of 550 to 620 nm.
さらに、アザポルフィリン系化合物は、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド酸イオンを対イオンとするジインモニウム塩系化合物と併用した場合に、両者の相乗効果により、耐湿熱性がさらに向上することが分かった。理由は明確ではないが、ジインモニウム塩系化合物のビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド酸イオンが、アザポルフィリン系化合物に作用し、ジインモニウム塩系化合物の高温・高湿度下における劣化を抑制しているためと考えられる。 Furthermore, it has been found that when an azaporphyrin-based compound is used in combination with a diimmonium salt-based compound having a bis (trifluoromethanesulfonyl) imido ion as a counter ion, the heat and humidity resistance is further improved due to the synergistic effect of both. The reason is not clear, but the bis (trifluoromethanesulfonyl) imido ion of the diimmonium salt compound acts on the azaporphyrin compound and suppresses the deterioration of the diimmonium salt compound under high temperature and high humidity. Conceivable.
波長選択吸収層中のネオンカット色素の含有量は、波長550〜620nmにおける極大吸収波長での光線透過率が30%以下になるように調整することが好ましい。具体的には、波長選択吸収層の厚み方向における任意の面で、0.001以上0.1g/m2の範囲で存在するように制御することが好ましい。 The content of the neon cut dye in the wavelength selective absorption layer is preferably adjusted so that the light transmittance at the maximum absorption wavelength at a wavelength of 550 to 620 nm is 30% or less. Specifically, it is preferable to control so that it exists in the range of 0.001 or more and 0.1 g / m 2 on an arbitrary surface in the thickness direction of the wavelength selective absorption layer.
波長選択吸収層におけるネオンカット色素の含有量は、樹脂に対し0.1質量%以上1.0質量%以下であることが好ましい。ネオンカット色素の含有量の上限は、樹脂に対し0.8質量%がさらに好ましく、特に好ましくは0.6質量%である。また、ネオンカット色素の含有量の下限は、樹脂に対し0.2質量%がさらに好ましく、特に好ましくは0.3質量%である。 The neon cut pigment content in the wavelength selective absorption layer is preferably 0.1% by mass or more and 1.0% by mass or less based on the resin. The upper limit of the content of the neon cut pigment is more preferably 0.8% by mass, particularly preferably 0.6% by mass, based on the resin. Further, the lower limit of the content of the neon cut pigment is more preferably 0.2% by mass, particularly preferably 0.3% by mass with respect to the resin.
本発明において、ネオンカット色素、近赤外線吸収色素は樹脂中に分散あるいは溶解した組成物として、塗布法により、透明基材フィルム上に積層される。樹脂としては、近赤外線吸収色素を均一に溶解あるいは分散できるものであれば特に限定されないが、ポリエステル系、アクリル系、ポリアミド系、ポリウレタン系、ポリオレフィン系、ポリカーボネート系樹脂を好適に用いることができる。これらの樹脂のなかでも、基材との密着性に優れる点から、ポリエステル系樹脂あるいはアクリル系樹脂が好ましい。樹脂が硬い場合には、後加工の工程で塗膜に微小なひび割れが発生する場合があるので、柔軟成分を樹脂の分子骨格に導入することが好ましい。さらに、樹脂のガラス転移温度が、利用する機器の使用保証温度以上であることが好ましい。 In the present invention, the neon cut dye and the near infrared absorbing dye are laminated on the transparent substrate film by a coating method as a composition dispersed or dissolved in the resin. The resin is not particularly limited as long as it can dissolve or disperse the near-infrared absorbing dye uniformly. Polyester, acrylic, polyamide, polyurethane, polyolefin, and polycarbonate resins can be preferably used. Among these resins, polyester resins or acrylic resins are preferable from the viewpoint of excellent adhesion to the substrate. In the case where the resin is hard, microcracking may occur in the coating film in the post-processing step, so it is preferable to introduce a flexible component into the resin molecular skeleton. Furthermore, the glass transition temperature of the resin is preferably equal to or higher than the guaranteed use temperature of the equipment to be used.
前記波長選択吸収層を形成する樹脂のガラス転移温度が機器使用温度以下であると、樹脂中に分散された色素同士が反応したり、樹脂が外気中の水分等を吸収したりして、色素やバインダ−樹脂の劣化が大きくなる。また、本発明において、前記樹脂のガラス転移温度は、機器使用温度以上であれば特に限定されないが、85℃以上160℃以下が好ましい。なお、前記のガラス転移温度は、JIS−K7121に準拠し、示差走査熱量計(セイコーインスツルメンツ株式会社製、DSC6200)を使用して、25〜300℃の温度範囲にわたって10℃/minで昇温させ、DSC曲線から得られた補外ガラス転移開始温度を意味する。 When the glass transition temperature of the resin forming the wavelength selective absorption layer is equal to or lower than the device operating temperature, the dyes dispersed in the resin react with each other, or the resin absorbs moisture or the like in the outside air. And the deterioration of the binder resin increases. Moreover, in this invention, although the glass transition temperature of the said resin will not be specifically limited if it is more than apparatus use temperature, 85 to 160 degreeC is preferable. In addition, the said glass transition temperature is made to heat up at 10 degree-C / min over the temperature range of 25-300 degreeC using a differential scanning calorimeter (the Seiko Instruments Inc. make, DSC6200) based on JIS-K7121. , Means the extrapolated glass transition onset temperature obtained from the DSC curve.
前記樹脂のガラス転移温度が85℃未満の場合、高温・高湿度下において、近赤外線吸収色素やネオンカット色素が運動し易くなるため、該色素同士あるいは色素と樹脂との相互作用により、該色素の変性が顕著となりやすい。そのため、フィルムの分光特性や色調の変化が生じ易くなる傾向にある。 When the glass transition temperature of the resin is less than 85 ° C., near-infrared absorbing dyes and neon cut dyes easily move under high temperature and high humidity. The denaturation tends to be remarkable. For this reason, the spectral characteristics and color tone of the film tend to easily change.
一方、前記樹脂のガラス転移温度が160℃を超える場合、該樹脂を溶媒に溶解し、透明基材フィルム上に塗布する時に、十分な乾燥をしようとすれば、乾燥温度を高くしなければならない。乾燥温度を高くすると、熱シワによる基材の平面性不良、更には、色素の劣化が発生する頻度が増加する。また、低温で乾燥した場合、乾燥時間が長くなり、生産性が低下する。また、塗布層(波長選択吸収層)を十分に乾燥できない場合もあり、溶媒が塗膜中に残留しやすくなる。そのため、前述のように、樹脂の見かけのガラス転移温度が低下し、色素の変性を引き起こしやすくなる。 On the other hand, when the glass transition temperature of the resin exceeds 160 ° C., if the resin is dissolved in a solvent and applied on a transparent substrate film, the drying temperature must be increased if sufficient drying is attempted. . When the drying temperature is increased, the frequency of occurrence of poor flatness of the substrate due to heat wrinkles and further deterioration of the dye increases. Moreover, when it dries at low temperature, drying time becomes long and productivity falls. Moreover, the coating layer (wavelength selective absorption layer) may not be sufficiently dried, and the solvent tends to remain in the coating film. Therefore, as described above, the apparent glass transition temperature of the resin is lowered, and the modification of the dye is likely to occur.
樹脂中の近赤外線吸収色素あるいはネオンカット色素の量が少ない場合には、目的とする近赤外線あるいはネオン光の吸収能を達成するために、波長選択吸収層の塗工量を増やす必要がある。この場合、塗膜を十分に乾燥しようとすれば、高温及び/又は長時間にする必要があり、色素の劣化や基材の平面性不良などが起こりやすくなる。特に、近赤外線吸収色素として、ジインモニウム塩系化合物を用いた場合、ジインモニウム塩系化合物が高温下や高湿下で変性し易く、近赤外線領域の吸収が小さくなったり、可視光線領域の一部の透過率が低下したりして、色調が変化し易い傾向がある。一方、樹脂中の近赤外線吸収色素やネオンカット色素の量が多い場合には、樹脂中の色素間の距離がより短くなる。そのため、色素間の相互作用が強くなり、残留溶媒が少なくしたとしても色素の経時的な変性が起こりやすくなる。 When the amount of the near-infrared absorbing dye or neon-cut dye in the resin is small, it is necessary to increase the coating amount of the wavelength selective absorbing layer in order to achieve the target near-infrared or neon light absorbing ability. In this case, if the coating film is sufficiently dried, it is necessary to increase the temperature and / or the time for a long time, and the deterioration of the pigment and the poor flatness of the base material are likely to occur. In particular, when a diimmonium salt compound is used as a near-infrared absorbing dye, the diimmonium salt compound is easily denatured at high temperatures or high humidity, and absorption in the near-infrared region is reduced or a part of the visible light region is reduced. The transmittance tends to decrease, and the color tone tends to change easily. On the other hand, when the amount of near-infrared absorbing dye or neon cut dye in the resin is large, the distance between the dyes in the resin becomes shorter. For this reason, the interaction between the dyes becomes strong, and even if the residual solvent is reduced, the dyes are likely to be denatured over time.
本発明の波長選択吸収フィルムは、波長400nmにおける透過率が0%以上30%以下であることが重要であり、好ましくは、0%以上20%以下である。波長400nmの透過率を低くすることにより、ジインモニウム塩化合物の劣化が抑制できるだけでなく、たとえ劣化した場合でも色調の変化量が少なくなる。なぜなら、波長400nm付近での光によりジインモニウム塩系化合物が特に劣化しやすいためである。そのため、波長400nmの透過率を小さくすることにより、ジインモニウム塩系化合物の劣化を防止して、色調変化を抑制することができるのである。また、ジインモニウム塩系化合物が劣化した際に、波長390〜430nm付近に吸収を有する色素に変化するが、予め波長400nm付近の透過率を小さくしておくことにより、見かけの色調変化を抑制することができる。 In the wavelength selective absorption film of the present invention, it is important that the transmittance at a wavelength of 400 nm is 0% or more and 30% or less, and preferably 0% or more and 20% or less. By reducing the transmittance at a wavelength of 400 nm, not only can the deterioration of the diimmonium salt compound be suppressed, but even if it deteriorates, the amount of change in color tone is reduced. This is because the diimmonium salt compound is particularly easily deteriorated by light in the vicinity of a wavelength of 400 nm. Therefore, by reducing the transmittance at a wavelength of 400 nm, it is possible to prevent deterioration of the diimmonium salt compound and suppress a change in color tone. In addition, when the diimmonium salt compound is deteriorated, it changes to a dye having absorption in the vicinity of a wavelength of 390 to 430 nm. Can do.
波長400nmの透過率を調整する方法としては、波長400nm付近に吸収を有する色素を波長選択吸収層中に含有させる方法により達成することができる。波長400nm付近に吸収を有する色素としては、可視領域への影響を少なくなるように、波長370nm以上400nm以下、より好ましくは波長380nm以上400nm以下に吸収ピークを有する色素が好ましい。このような色素としては、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、環状イミノエステル系、インドール系、アゾメチン系等の化合物が使用可能である。なかでも、インドール系化合物やアゾメチン系化合物がジインモニウム塩化合物の高温・高湿度下における劣化を促進しない点から好ましい。 The method for adjusting the transmittance at a wavelength of 400 nm can be achieved by a method in which a dye having absorption in the vicinity of a wavelength of 400 nm is contained in the wavelength selective absorption layer. As the dye having absorption in the vicinity of a wavelength of 400 nm, a dye having an absorption peak at a wavelength of 370 nm to 400 nm, more preferably a wavelength of 380 nm to 400 nm is preferable so as to reduce the influence on the visible region. As such a dye, compounds such as benzotriazole, benzophenone, cyclic imino ester, indole, and azomethine can be used. Of these, indole compounds and azomethine compounds are preferred because they do not promote deterioration of diimmonium salt compounds under high temperature and high humidity.
波長選択吸収層における、波長400nmの透過率を調整する色素の含有量としては、色素の吸収能により異なるが、好ましくは、ジインモニウム塩化合物に対して10質量%以上1000質量%以下である。前記色素の含有量が少ない場合には耐光性向上の効果が少なく、逆に多い場合には波長選択吸収層の強度が低下するだけでなく、フィルムが黄色に着色しやすくなる。 The content of the dye that adjusts the transmittance at a wavelength of 400 nm in the wavelength selective absorption layer is preferably 10% by mass or more and 1000% by mass or less based on the diimmonium salt compound, although it varies depending on the absorption ability of the dye. When the content of the pigment is small, the effect of improving the light resistance is small. On the other hand, when the content is large, not only the strength of the wavelength selective absorption layer is lowered but also the film is easily colored yellow.
本発明において、波長選択吸収層は、近赤外線吸収色素、ネオンカット色素、樹脂、および有機溶媒を含む塗布液を、透明基材フィルム上に塗布、乾燥させて形成される。この際に、前記塗布液中に界面活性剤を含有させること好ましい。界面活性剤を含有させることにより、波長選択吸収層の塗工外観、特に、微小な泡によるヌケ、異物等の付着より凹み、乾燥工程でのハジキが改善される。更には、界面活性剤を特定条件下で塗布乾燥することにより、界面活性剤が波長選択吸収層の表面にブリードして局在化する。その結果、波長選択吸収層の表面の耐久性が向上するだけでなく、波長選択吸収層の表面に滑り性が付与され、波長選択吸収層あるいは/及び反対面に表面凹凸を形成しなくともハンドリング性が良好となり、ロール状に巻取ることが容易になる。 In this invention, a wavelength selection absorption layer is formed by apply | coating and drying the coating liquid containing a near-infrared absorption pigment | dye, a neon cut pigment | dye, resin, and an organic solvent on a transparent base film. At this time, it is preferable to contain a surfactant in the coating solution. By containing the surfactant, the coating appearance of the wavelength selective absorption layer, in particular, dents due to minute bubbles and adhesion of foreign matter, etc., and repelling in the drying process are improved. Furthermore, the surfactant is bleed and localized on the surface of the wavelength selective absorption layer by coating and drying the surfactant under specific conditions. As a result, not only the durability of the surface of the wavelength selective absorption layer is improved, but also the surface of the wavelength selective absorption layer is slippery, and handling is possible without forming surface irregularities on the wavelength selective absorption layer or / and the opposite surface. It becomes easy to wind in a roll shape.
界面活性剤は、カチオン系、アニオン系、ノニオン系の公知のものを好適に使用できるが、近赤外線吸収色素やネオンカット色素との相互作用による近赤外線吸収色素やネオンカット色素の劣化を抑制する点から、極性基を有していないノニオン系が好ましく、更には、界面活性能に優れるシリコーン系又はフッ素系界面活性剤が好ましい。 As the surfactant, known cationic, anionic and nonionic surfactants can be suitably used, but the deterioration of the near infrared absorbing dye or neon cut dye due to the interaction with the near infrared absorbing dye or neon cut dye is suppressed. In view of this, nonionic compounds having no polar group are preferable, and silicone-based or fluorine-based surfactants having excellent surface-active ability are more preferable.
シリコーン系界面活性剤としては、ジメチルシリコーン、アミノシラン、アクリルシラン、ビニルベンジルシラン、ビニルベンジシルアミノシラン、グリシドシラン、メルカプトシラン、ジメチルシラン、ポリジメチルシロキサン、ポリアルコキシシロキサン、ハイドロジエン変性シロキサン、ビニル変性シロキサン、ビトロキシ変性シロキサン、アミノ変性シロキサン、カルボキシル変性シロキサン、ハロゲン化変性シロキサン、エポキシ変性シロキサン、メタクリロキシ変性シロキサン、メルカプト変性シロキサン、フッ素変性シロキサン、アルキル基変性シロキサン、フェニル変性シロキサン、アルキレンオキシド変性シロキサンなどが挙げられる。 Examples of silicone surfactants include dimethyl silicone, amino silane, acrylic silane, vinyl benzyl silane, vinyl benzilyl amino silane, glycid silane, mercapto silane, dimethyl silane, polydimethyl siloxane, polyalkoxy siloxane, hydrodiene modified siloxane, vinyl modified siloxane, Vitroxy modified siloxane, amino modified siloxane, carboxyl modified siloxane, halogenated modified siloxane, epoxy modified siloxane, methacryloxy modified siloxane, mercapto modified siloxane, fluorine modified siloxane, alkyl group modified siloxane, phenyl modified siloxane, alkylene oxide modified siloxane, etc. .
フッ素系界面活性剤としては、4フッ化エチレン、パーフルオロアルキルアンモニウム塩、パーフルオロアルキルスルホン酸アミド、パーフルオロアルキルスルホン酸ナトリウム、パーフルオロアルキルカリウム塩、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩、パーフルオロアルキルアミノスルホン酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステル、パーフルオロアルキルアルキル化合物、パーフルオロアルキルアルキルベタイン、パーフルオロアルキルハロゲン化物などが挙げられる。 Fluorosurfactants include ethylene tetrafluoride, perfluoroalkyl ammonium salt, perfluoroalkyl sulfonic acid amide, sodium perfluoroalkyl sulfonate, perfluoroalkyl potassium salt, perfluoroalkyl carboxylate, perfluoroalkyl sulfone. Acid salts, perfluoroalkyl ethylene oxide adducts, perfluoroalkyl trimethyl ammonium salts, perfluoroalkyl amino sulfonates, perfluoroalkyl phosphate esters, perfluoroalkyl alkyl compounds, perfluoroalkyl alkyl betaines, perfluoroalkyl halides, etc. Is mentioned.
界面活性剤の含有量は、波長選択吸収層を構成する樹脂に対して0.01質量%以上2.00質量%以下であることが好ましい。界面活性剤の含有量が少ない場合には、塗膜外観の向上や滑り性付与の効果が不足し、逆に、界面活性剤の含有量が多い場合には波長選択吸収層が水分を吸収しやすくなり、色素の劣化が促進される場合がある。 The content of the surfactant is preferably 0.01% by mass or more and 2.00% by mass or less with respect to the resin constituting the wavelength selective absorption layer. When the surfactant content is low, the effect of improving the appearance of the coating film and imparting slipperiness is insufficient. Conversely, when the surfactant content is high, the wavelength selective absorption layer absorbs moisture. In some cases, the deterioration of the pigment may be promoted.
本発明において、前記の界面活性剤のHLBは2以上12以下であることが好ましい。HLBの下限値は好ましくは3であり、特に好ましくは4である。一方、HLBの上限値は11が好ましく、特に好ましくは10である。HLBが低い界面活性剤を用いた場合には、波長選択吸収層の表面が撥水化して、高温・高湿度の環境下で長期間保管しても、近赤外線吸収色素の劣化を抑えることができ、かつ、易滑性を付与しやすくなる。一方、HLBが低すぎる界面活性剤を使用した場合には、界面活性能の不足によりレベリング性が不足する。逆に、HLBが高すぎる界面活性剤を使用した場合には、波長選択吸収層の滑り性が不足するだけでなく、波長選択吸収層が水分を吸収しやすくなり、色素の経時安定性が不良となる。 In the present invention, the HLB of the surfactant is preferably 2 or more and 12 or less. The lower limit value of HLB is preferably 3, particularly preferably 4. On the other hand, the upper limit value of the HLB is preferably 11, particularly preferably 10. When a surfactant with a low HLB is used, the surface of the wavelength selective absorption layer becomes water-repellent, and even when stored in a high temperature / high humidity environment for a long time, the deterioration of the near infrared absorbing dye can be suppressed. It is possible to easily provide slipperiness. On the other hand, when a surfactant having an HLB that is too low is used, the leveling property is insufficient due to insufficient surface activity. On the other hand, when a surfactant having an excessively high HLB is used, not only the slipping property of the wavelength selective absorption layer is insufficient, but also the wavelength selective absorption layer easily absorbs moisture, and the temporal stability of the dye is poor. It becomes.
なお、HLBとは、アメリカのAtlas Powder社のW.C.Griffinが、Hydorophil Lyophile Balanceと名付けて、界面活性剤の分子中に含まれる親水基と親油基のバランスを特性値として指標化した値である。なお、HLBは低いほど親油性が、逆に高いほど親水性が高くなることを意味する。 In addition, HLB is a value that WCGriffin of Atlas Powder, Inc. in the United States named Hydorophil Lyophile Balance and indexed the balance between hydrophilic group and lipophilic group contained in the surfactant molecule as a characteristic value. . The lower the HLB, the more lipophilic, and the higher the HLB, the higher the hydrophilicity.
波長選択吸収層の表面への界面活性剤の局在化は、用いる樹脂の種類や溶剤による異なるが、HLBが7付近で最も起こりやすく、かつ、初期の乾燥が緩やかな条件である場合に局在化しやすい。波長選択吸収層の表面への界面活性剤の局在化の程度は、例えば、波長選択吸収層中の界面活性剤の含有量と、波長選択吸収層の表面の界面活性剤量を対比することにより確認できる。例えば、シリコーン系界面活性剤であれば、化学分析により定量した波長選択吸収層中のSi量と、ESCA分析により定量した波長選択吸収層の表面のSi量を対比することにより、波長選択吸収層の表面への界面活性剤の局在化の程度確認することができる。 The localization of the surfactant on the surface of the wavelength selective absorption layer varies depending on the type of resin used and the solvent, but it is most likely to occur when HLB is most likely to occur in the vicinity of 7 and the initial drying is mild. Easy to exist. The degree of localization of the surfactant on the surface of the wavelength selective absorption layer is, for example, comparing the content of the surfactant in the wavelength selective absorption layer with the amount of the surfactant on the surface of the wavelength selective absorption layer. Can be confirmed. For example, in the case of a silicone-based surfactant, by comparing the amount of Si in the wavelength selective absorption layer quantified by chemical analysis with the amount of Si on the surface of the wavelength selective absorption layer quantified by ESCA analysis, the wavelength selective absorption layer The degree of localization of the surfactant on the surface of the surface can be confirmed.
本発明において、波長選択吸収層は、近赤外線吸収色素、ネオンカット色素、樹脂、界面活性剤、有機溶媒を含む塗布液を透明基材フィルム上に塗布・乾燥することにより積層されるが、該塗布液は、塗工性よりさらに有機溶媒により希釈することが必要である。 In the present invention, the wavelength selective absorption layer is laminated by applying and drying a coating solution containing a near-infrared absorbing dye, a neon cut dye, a resin, a surfactant, and an organic solvent on a transparent substrate film. The coating solution needs to be further diluted with an organic solvent rather than the coating property.
該有機溶媒としては、(1)メチルアルコール、エチルアルコール、n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n−ブチルアルコール、トリデシルアルコール、シクロヘキシルアルコール、2−メチルシクロヘキシルアルコール等のアルコール類、(2)エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、グリセリン等のグリコール類、(3)エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチレンエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルアセテート、エチレングリコールモノブチルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルアセテート等のグリコールエーテル類、(4)酢酸エチル、酢酸イソプロピレン、酢酸n−ブチル等のエステル類、(5)アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、イソホロン、ジアセトンアルコール等のケトン類、を例示することができ、これら単独あるいは2種以上を混合して使用することができる。 Examples of the organic solvent include (1) alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, tridecyl alcohol, cyclohexyl alcohol, 2-methylcyclohexyl alcohol, and (2) ethylene glycol. , Glycols such as diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, glycerin, (3) ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethylene ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether , Diethylene glycol butyl ether, ethylene glycol monomethyl Glycol ethers such as ether acetate, ethylene glycol monoethyl acetate, ethylene glycol monobutyl acetate, diethylene glycol monomethyl acetate, diethylene glycol monoethyl acetate, diethylene glycol monobutyl acetate, (4) ethyl acetate, isopropylene acetate, n-butyl acetate, etc. Examples include esters, (5) ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, cyclopentanone, isophorone, diacetone alcohol, etc. These may be used alone or in combination of two or more. Can do.
好ましくは、色素の溶解性に優れるケトン類を、塗布液に使用する全有機溶媒に対し、30質量%以上80質量%以下含有させ、その他の有機溶媒は、レベリング性、乾燥性を考慮して選定することが好ましい。また、有機溶媒の沸点は、60℃以上180℃以下が好ましい。沸点が低い場合には、塗工中に塗布液の固形分濃度が変化し、塗工厚みが安定化しにくい。逆に、沸点が高い場合には、塗膜中に残存する有機溶媒量が増え、経時安定性が不良となる。 Preferably, ketones having excellent dye solubility are contained in an amount of 30% by mass to 80% by mass with respect to the total organic solvent used in the coating solution, and other organic solvents are considered in view of leveling properties and drying properties. It is preferable to select. The boiling point of the organic solvent is preferably 60 ° C. or higher and 180 ° C. or lower. When the boiling point is low, the solid content concentration of the coating solution changes during coating, and the coating thickness is difficult to stabilize. On the other hand, when the boiling point is high, the amount of the organic solvent remaining in the coating film increases and the temporal stability becomes poor.
近赤外線吸収色素および樹脂を有機溶媒中に溶解あるいは分散する方法としては、加温下での攪拌、分散、または粉砕の方法が挙げられる。加温することにより色素及び樹脂の溶解性を向上することができ、未溶解物等による塗工外観の悪化を抑制することができる。また、樹脂及び色素を分散または粉砕して、大きさが0.3μm以下の微粒子状態で塗布液中に分散することにより、透明性に優れる塗布層を形成することが可能となる。分散機または粉砕機としては、公知のものを用いることができる。例えば、ボールミル、サンドミル、アトライター、ロールミル、アジテータ、コロイドミル、超音波ホモジナイザー、ホモミキサー、パールミル、湿式ジェットミル、ペイントシェーカー、バタフライミキサー、プラネタリーミキサー、ヘンシェルミキサー等が挙げられる。 Examples of the method for dissolving or dispersing the near-infrared absorbing dye and the resin in the organic solvent include stirring, dispersion, or pulverization under heating. By heating, the solubility of the pigment and the resin can be improved, and the deterioration of the coating appearance due to undissolved substances can be suppressed. Moreover, it becomes possible to form a coating layer having excellent transparency by dispersing or pulverizing the resin and the pigment and dispersing them in the coating solution in the form of fine particles having a size of 0.3 μm or less. A well-known thing can be used as a disperser or a grinder. Examples thereof include a ball mill, a sand mill, an attritor, a roll mill, an agitator, a colloid mill, an ultrasonic homogenizer, a homomixer, a pearl mill, a wet jet mill, a paint shaker, a butterfly mixer, a planetary mixer, and a Henschel mixer.
塗布液中にコンタミや大きさが1μm以上の未溶解物が存在した場合、塗布後の外観が不良になるため、塗布する前に、フィルター等で除去する必要がある。フィルターとして、各種のものが好適に使用できるが、大きさが1μmの異物を99%以上除去できる濾過性能を有するフィルターを用いることが好ましい。大きさ1μm以上のコンタミや未溶解物を含む塗布液を塗布し乾燥した場合には、その周囲に凹み等が発生し、大きさが100〜1000μmの欠点になる場合がある。 If there is contamination or undissolved material having a size of 1 μm or more in the coating solution, the appearance after coating becomes poor. Therefore, it is necessary to remove it with a filter or the like before coating. Various filters can be suitably used as the filter, but it is preferable to use a filter having a filtration performance capable of removing 99% or more of foreign matters having a size of 1 μm. When a coating solution containing contaminants and undissolved substances having a size of 1 μm or more is applied and dried, a dent or the like is generated around the coating solution, which may cause a defect of 100 to 1000 μm in size.
塗布液中に含まれる樹脂及び色素等の固形分濃度は、10質量%以上30重量%が好ましい。固形分濃度が低い場合には、塗布後の乾燥に時間が掛かり、生産性が劣るばかりか、塗膜中に残存する溶媒量が増加し、経時安定性が不良となる。逆に、固形分濃度が高い場合には、塗布液の粘度が高くなりレベリング性が不足して塗工外観が不良となる。塗布液の粘度は、10cps以上300cps以下が塗工外観の面で好ましく、この範囲になるように有機溶媒で固形分濃度を調整することが好ましい。 The solid content concentration of the resin and the pigment contained in the coating solution is preferably 10% by mass or more and 30% by weight. When the solid content concentration is low, it takes time to dry after coating, resulting in poor productivity and an increase in the amount of solvent remaining in the coating film, resulting in poor temporal stability. On the other hand, when the solid content concentration is high, the viscosity of the coating solution becomes high and the leveling property is insufficient, resulting in a poor coating appearance. The viscosity of the coating solution is preferably 10 cps or more and 300 cps or less from the viewpoint of coating appearance, and it is preferable to adjust the solid content concentration with an organic solvent so that it is in this range.
本発明で、波長選択吸収層を透明基材フィルム上に塗布する方法としては、グラビアコート方式、キスコート方式、ディップ方式、スプレイコート方式、カーテンコート方式、エアナイフコート方式、ブレードコート方式、リバースロールコート方式、バーコート方式、リップコート方式など通常用いられている方法が適用できる。これらのなかで、均一に塗布することのできるグラビアコート方式、特にリバースグラビア方式が好ましい。また、グラビアの直径は、80mm以下であることが好ましい。グラビアの直径が大きい場合には流れ方向にうねスジが発生する頻度が増える。 In the present invention, as a method for applying the wavelength selective absorption layer on the transparent substrate film, gravure coating method, kiss coating method, dip method, spray coating method, curtain coating method, air knife coating method, blade coating method, reverse roll coating Conventionally used methods such as a method, a bar coat method, and a lip coat method can be applied. Among these, a gravure coating method that can be applied uniformly, particularly a reverse gravure method is preferable. The diameter of the gravure is preferably 80 mm or less. When the diameter of the gravure is large, the frequency of undulation streaks in the flow direction increases.
波長選択吸収層の乾燥後の塗布量は特に限定されないが、下限は1g/m2 が好ましい、より好ましくは3g/m2 であり、上限は50g/m2 が好ましく、より好ましくは30g/m2 である。乾燥後の塗布量が少ない場合には、近赤外線及びネオン光の吸収力が不足しやすくなる。そのため、樹脂中の近赤外線吸収色素及びネオンカット色素の存在量を増やすと、色素間の距離が短くなるため、色素間の相互作用が強くなる。その結果、色素の劣化等が起こりやすくなり、経時安定性が不良となる。逆に、乾燥後の塗布量が多い場合には、近赤外線及びネオン光の吸収能は十分であるが、可視光領域での透明性が低下し、ディスプレイの輝度が低下する。そのため、樹脂中の近赤外線吸収色素及びネオンカット色素の存在量を低減すると、光学特性は調節できるが、乾燥が不十分になりやすなる。その結果、塗膜中の残留溶媒により色素の経時安定性が不良となる。一方、乾燥を十分にした場合には基材の平面性が不良となる。 The coating amount of the wavelength selective absorption layer after drying is not particularly limited, but the lower limit is preferably 1 g / m 2 , more preferably 3 g / m 2 , and the upper limit is preferably 50 g / m 2 , more preferably 30 g / m. 2 . When the coating amount after drying is small, the near-infrared and neon light absorption power tends to be insufficient. Therefore, when the abundance of the near-infrared absorbing dye and the neon cut dye in the resin is increased, the distance between the dyes is shortened, so that the interaction between the dyes becomes strong. As a result, the deterioration of the dye is likely to occur, and the temporal stability becomes poor. On the contrary, when the coating amount after drying is large, the absorption ability of near infrared rays and neon light is sufficient, but the transparency in the visible light region is lowered and the luminance of the display is lowered. Therefore, if the abundances of the near-infrared absorbing dye and neon cut dye in the resin are reduced, the optical characteristics can be adjusted, but drying tends to be insufficient. As a result, the temporal stability of the dye becomes poor due to the residual solvent in the coating film. On the other hand, when the drying is sufficient, the flatness of the substrate becomes poor.
塗布液を透明基材フィルム上に塗布し、乾燥する方法としては、公知の熱風乾燥、赤外線ヒーター等が挙げられるが、乾燥速度が早い熱風乾燥が好ましい。
塗布後の、初期の恒率乾燥の段階では、20℃以上80℃以下で、2m/秒以上30m/秒の熱風を用いて乾燥することが好ましい。乾燥温度の下限は30℃がさらに好ましい。初期乾燥を強く行う(熱風温度が高い、熱風の風量が大きい)場合には、界面活性剤の表面への局在化が起こりにくくなる。その結果、波長選択吸収層に耐久性向上や滑り性付与の効果がでにくいだけでなく、泡由来の微小なコートヌケ、微小なハジキ、クラック等の塗膜の微小な欠点も発生しやすくなる。逆に、初期乾燥を弱くする(熱風温度が低い、熱風の風量が小さい)場合には、塗工外観は良好になる。しかしながら、乾燥に時間を要し生産性(コスト)の点で問題があるばかりか、ブラッシング等の問題も発生する。波長選択吸収層形成用塗布液に界面活性剤を添加しない場合には、上記の微小な欠点が発生しやすく、初期乾燥をかなり弱くする必要がある。
As a method for applying the coating liquid on the transparent substrate film and drying, known hot air drying, an infrared heater and the like can be mentioned, but hot air drying with a high drying speed is preferable.
In the initial constant rate drying stage after coating, drying is preferably performed at 20 ° C. or more and 80 ° C. or less using hot air of 2 m / sec or more and 30 m / sec. The lower limit of the drying temperature is more preferably 30 ° C. When the initial drying is performed strongly (the hot air temperature is high and the hot air volume is large), the surfactant is less likely to be localized on the surface. As a result, the wavelength selective absorption layer is not only difficult to be improved in durability and imparting slipperiness, but also tends to cause minute defects of the coating film, such as fine coating from foam, fine peeling, and cracks. Conversely, when initial drying is weakened (the hot air temperature is low and the hot air volume is small), the coating appearance is good. However, it takes time to dry and there are problems in terms of productivity (cost) as well as problems such as brushing. When the surfactant is not added to the wavelength selective absorption layer forming coating solution, the above-mentioned minute defects are likely to occur, and the initial drying needs to be considerably weakened.
減率乾燥工程では、初期乾燥よりも高温し、塗膜中の溶媒量を減少させることが重要であり、好ましい温度は、120℃以上180℃以下である。特に好ましくは、下限値が140℃であり、上限値は170℃である。乾燥温度が低い場合には、塗膜中の溶媒量が減少しにくくなり、残留溶媒となって色素の経時的な安定性が不十分となる。逆に、高温で乾燥した場合には、熱シワにより基材の平面性が悪化しやすくなるだけでなく、近赤外線吸収色素、特にジインモニウム塩系化合物が熱により劣化しやすくなる。また、減率乾燥工程での塗工後のフィルムの通過時間(乾燥時間)は、5秒以上180秒以下であることが好ましい。通過時間が短い場合には、塗膜中の残留する溶媒量が多くなる。その結果、経時安定性が不良となる。一方、通過時間が長い場合には、生産性が不良となるだけでなく、基材に熱シワが発生して平面性が悪化しやすくなる。通過時間の上限は、生産性と平面性の点から、30秒とすることが特に好ましい。 In the reduction drying process, it is important to increase the temperature higher than the initial drying and reduce the amount of solvent in the coating film, and a preferable temperature is 120 ° C. or higher and 180 ° C. or lower. Particularly preferably, the lower limit is 140 ° C and the upper limit is 170 ° C. When the drying temperature is low, the amount of solvent in the coating film is difficult to decrease and becomes a residual solvent, resulting in insufficient stability of the dye over time. Conversely, when dried at a high temperature, not only the flatness of the base material is likely to deteriorate due to heat wrinkles, but also the near-infrared absorbing dye, particularly the diimmonium salt compound, is likely to be deteriorated by heat. Moreover, it is preferable that the passage time (drying time) of the film after coating in the decreasing rate drying step is 5 seconds or more and 180 seconds or less. When the passage time is short, the amount of solvent remaining in the coating film increases. As a result, the temporal stability becomes poor. On the other hand, when the passage time is long, not only the productivity is deteriorated, but heat wrinkles are generated on the base material, and the flatness is easily deteriorated. The upper limit of the passage time is particularly preferably 30 seconds from the viewpoint of productivity and flatness.
最終乾燥工程(冷却工程)では、熱風温度を、波長選択吸収層を構成する樹脂のガラス転移温度以下にし、フラットの状態で基材の実温を樹脂のガラス転移温度以下に冷却することが好ましい。波長選択吸収層を構成する樹脂のガラス転移温度を超えるような、高温の状態で乾燥炉を出た場合には、塗工面がロール表面に接触した際に滑り性が不良となり、キズ等が発生するだけでなく、カール等が発生する場合がある。 In the final drying step (cooling step), it is preferable to set the hot air temperature to be equal to or lower than the glass transition temperature of the resin constituting the wavelength selective absorption layer and to cool the actual temperature of the substrate to be equal to or lower than the glass transition temperature of the resin in a flat state. . When leaving the drying furnace at a high temperature that exceeds the glass transition temperature of the resin that constitutes the wavelength selective absorption layer, the slipperiness becomes poor when the coated surface comes into contact with the roll surface, and scratches are generated. In addition to curling, curling or the like may occur.
本発明において、透明基材フィルム上に、近赤外線吸収色素、ネオンカット色素、樹脂、有機溶媒を含む塗布液を、塗布、乾燥させた後に、ポストキュア処理を行うことが好ましい。ポストキュア処理を行うことにより、波長選択吸収フィルムの耐久性、特に高温・高湿度下における色調の変化を低減させることができる。ポストキュア処理による前記の効果は、波長選択吸収層と透明基材の間に中間層を有する場合に特に顕著であり、更には、架橋剤を有する中間層の場合に顕著に効果がある。 In this invention, it is preferable to perform a post-cure process after apply | coating and drying the coating liquid containing a near-infrared absorption pigment | dye, a neon cut pigment | dye, resin, and an organic solvent on a transparent base film. By performing the post-cure treatment, it is possible to reduce the durability of the wavelength selective absorption film, particularly the change in color tone under high temperature and high humidity. The above-mentioned effect by the post-cure treatment is particularly remarkable when an intermediate layer is provided between the wavelength selective absorption layer and the transparent substrate, and further, it is significantly effective in the case of an intermediate layer having a crosslinking agent.
高温・高湿度下における色素の劣化を詳細に解析した結果、波長選択吸収層の内部だけでなく、波長選択吸収層と透明基材あるいは中間層の界面での色素の劣化も要因であり、界面での色素劣化は波長選択吸収層内部よりも低温・低湿度の環境下で容易に起こりやすいことを見出した。ポストキュア処理を行うことにより、波長選択吸収層と透明基材フィルムの界面での色素劣化を予め起こし、実質的に高温・高湿度下の耐久性を向上させることができる。更には、波長選択吸収層中の残留溶剤を低減させて、波長選択吸収層内部の耐久性も向上させることができる。 As a result of detailed analysis of the deterioration of the dye under high temperature and high humidity, the deterioration of the dye not only inside the wavelength selective absorption layer but also at the interface between the wavelength selective absorption layer and the transparent substrate or intermediate layer is a factor. It has been found that the dye degradation at the bottom is more likely to occur in a low temperature and low humidity environment than inside the wavelength selective absorption layer. By performing the post-cure treatment, pigment deterioration at the interface between the wavelength selective absorption layer and the transparent substrate film is caused in advance, and the durability under high temperature and high humidity can be substantially improved. Furthermore, the residual solvent in the wavelength selective absorption layer can be reduced, and the durability inside the wavelength selective absorption layer can be improved.
ポストキュア処理の加熱条件としては、25℃以上70℃以下の環境下で処理し、処理温度(℃)と処理時間(hr)との積が1000(℃・hr)以上であることが重要である。処理温度が25℃未満の場合には、長時間の処理を行っても耐久性向上の効果が得られにくい。一方、処理温度が70℃を越えるより高い場合には、ロール状の形態でポストキュア処理を行うと、ブロッキングやフィルムの平面性不良が発生しやすくなる。 As heating conditions for the post-cure treatment, it is important that the treatment is performed in an environment of 25 ° C. or more and 70 ° C. or less, and the product of the treatment temperature (° C.) and the treatment time (hr) is 1000 (° C. · hr) or more. is there. When the treatment temperature is less than 25 ° C., it is difficult to obtain the effect of improving the durability even if the treatment is performed for a long time. On the other hand, when the processing temperature is higher than 70 ° C., blocking and film planarity are likely to occur when the post-curing treatment is performed in a roll form.
ポストキュア処理は、透明基材フィルム上に波長選択吸収層を積層した後に行ってもよいが、後工程で波長選択吸収層上に粘着層を積層し、反射防止フィルムや電磁波防止フィルムを貼り合せた後に行っても構わない。 The post-cure treatment may be performed after laminating the wavelength selective absorption layer on the transparent base film, but in the subsequent step, the adhesive layer is laminated on the wavelength selective absorption layer and the antireflection film or electromagnetic wave prevention film is bonded. You can go after.
(波長選択吸収フィルター)
本発明において波長選択吸収フィルターとは、波長800〜1200nmの近赤外線領域、及び波長550〜650nmのネオン光領域の光線透過率が低く、かつ、ネオン光領域を除く波長400〜800nmの可視光領域の光線透過率が高いフィルターを意味する。
(Wavelength selective absorption filter)
In the present invention, the wavelength selective absorption filter is a visible light region having a low light transmittance in the near infrared region having a wavelength of 800 to 1200 nm and a neon light region having a wavelength of 550 to 650 nm and having a wavelength of 400 to 800 nm excluding the neon light region. This means a filter having a high light transmittance.
本発明の波長選択吸収フィルターは、近赤外領域の透過率は低いほど好ましく、具体的には40%以下が好ましく、より好ましくは30%以下、さらに好ましくは20%以下、特に好ましくは10%以下である。前記の近赤外線領域の透過率が高い場合には、本発明の波長選択吸収フィルムをプラズマディスプレイの前面フィルターの構成部材として使用した場合に、プラズマディスプレイから放出される近赤外線の吸収が不足し、近赤外線リモコンを用いる電子機器の誤動作を防止することが困難となる。 The wavelength selective absorption filter of the present invention is preferably as low as possible in the near infrared region, specifically 40% or less, more preferably 30% or less, still more preferably 20% or less, particularly preferably 10%. It is as follows. When the transmittance of the near infrared region is high, when the wavelength selective absorption film of the present invention is used as a constituent member of the front filter of the plasma display, the absorption of near infrared rays emitted from the plasma display is insufficient, It becomes difficult to prevent malfunction of an electronic device using a near infrared remote controller.
また、本発明の波長選択吸収フィルターは、波長550〜620nm、更には、波長570〜600nmのネオン光領域に、シャープな吸収を有することが好ましい。前記のネオン光領域における極大吸収波長における光線透過率は、40%以下が好ましく、さらに好ましくは37%以下であり、特に好ましくは34%以下である。このネオン光領域における光線透過率が高い場合には、プラズマディスプレイから放出されるネオン光を吸収し、赤の発色を良くするという効果がなくなる。また、前記のネオン光領域の吸収が広い場合には、可視光領域の全体の平均透過率が下がるため、ディスプレイの輝度が低下しやすくなる。波長550〜620nm以外の可視光領域の透過率は、高ければ高いほどよく、好ましくは50%以上、より好ましくは60%以上である。透過率が低い場合には、ディスプレイの発色を妨げ、輝度の低い映像となる。
前記の透過率の調整は、上述の近赤外線吸収色素やネオンカット色素の種類、単位面積あたりの近赤外線吸収色素やネオンカット色素の存在量により制御することができる。
Moreover, it is preferable that the wavelength selective absorption filter of the present invention has sharp absorption in a neon light region having a wavelength of 550 to 620 nm, and further a wavelength of 570 to 600 nm. The light transmittance at the maximum absorption wavelength in the neon light region is preferably 40% or less, more preferably 37% or less, and particularly preferably 34% or less. When the light transmittance in this neon light region is high, the neon light emitted from the plasma display is absorbed and the effect of improving the color of red is lost. Further, when the neon light region has a large absorption, the average transmittance of the entire visible light region is lowered, so that the brightness of the display is likely to be lowered. The higher the transmittance in the visible light region other than the wavelength of 550 to 620 nm, the better, preferably 50% or more, and more preferably 60% or more. When the transmittance is low, the color of the display is hindered and the image has a low luminance.
The adjustment of the transmittance can be controlled by the type of the above-mentioned near infrared absorbing dye or neon cut dye and the abundance of the near infrared absorbing dye or neon cut dye per unit area.
波長選択吸収フィルターの色調をLab表色系で表現すると、a値が−10.0〜+10.0、b値が−10.0〜+10.0であることが好ましい。この範囲であれば、プラズマディスプレイの前面に設置した場合でもナチュラル色となり好ましい。 When the color tone of the wavelength selective absorption filter is expressed in the Lab color system, the a value is preferably -10.0 to +10.0 and the b value is preferably -10.0 to +10.0. If it is this range, even if it installs in the front surface of a plasma display, it becomes a natural color and is preferable.
波長選択吸収フィルターの色調の調整は、上述のネオンカット色素、近赤外線吸収色素の種類、単位面積あたりの色素の存在量、更には、他の色補正色素を混合することにより制御できる。なお、後述の波長選択吸収フィルターの前面または裏面に着色された粘着層や他の機能層(反射防止層、電磁波吸収層、紫外線吸収層など)を積層する場合には、それも含めてナチュラル色に近赤外線吸収フィルターの色調を調整することが好ましい。 The adjustment of the color tone of the wavelength selective absorption filter can be controlled by mixing the above-described neon-cut dye, the type of near-infrared absorbing dye, the amount of the dye per unit area, and other color correction dyes. In addition, when laminating a colored adhesive layer or other functional layers (antireflection layer, electromagnetic wave absorbing layer, ultraviolet absorbing layer, etc.) on the front or back of the wavelength selective absorption filter described later, the natural color is included. It is preferable to adjust the color tone of the near infrared absorption filter.
本発明の波長選択吸収層は、最大径300μm以上、より好ましくは100μmのサイズの欠点が存在しないような塗膜外観にすることが好ましい。最大径300μm以上の欠点は、プラズマディスプレイの前面に設置し、画像を表示した際に輝点として検出され、欠点が顕著化される。最大径が100μm以上300μm未満の欠点も、粘着加工等の貼り合せにより、レンズ効果により強調される場合があり、できるだけ波長選択吸収層に存在しないように制御しなければならない。また、塗工層の薄いスジ、ムラ等もディスプレイ前面では顕著化されて問題となる。 The wavelength selective absorption layer of the present invention preferably has a coating film appearance that does not have a defect of a maximum diameter of 300 μm or more, more preferably 100 μm. A defect having a maximum diameter of 300 μm or more is detected as a bright spot when it is installed on the front surface of the plasma display and an image is displayed, and the defect becomes noticeable. A defect having a maximum diameter of 100 μm or more and less than 300 μm may be emphasized by the lens effect by bonding such as adhesive processing, and must be controlled so as not to exist in the wavelength selective absorption layer as much as possible. Also, streaks, unevenness, etc. with a thin coating layer become prominent on the front surface of the display and become a problem.
波長選択吸収フィルターは、高温・高湿度下に長期間放置されても、近赤外線の透過率、可視光の透過率が変化しないことが好ましい。高温・高湿度下の経時安定性が不良の場合には、ディスプレイの映像の色調が変化するばかりか、近赤外線リモコンを用いた電子機器の誤動作を防止する本発明の効果がなくなる場合がある。 It is preferable that the near-infrared transmittance and the visible light transmittance do not change even if the wavelength selective absorption filter is left for a long period of time under high temperature and high humidity. When the temporal stability under high temperature and high humidity is poor, not only the color tone of the image on the display changes, but also the effect of the present invention for preventing malfunction of the electronic device using the near infrared remote controller may be lost.
波長選択吸収フィルターの経時安定性を良好にするには、前記のポストキュア処理以外に、波長選択吸収層形成用の塗布液で使用する有機溶媒の種類、塗布層の厚み、乾燥条件等を制御することで、波長選択吸収層中の残留溶媒量を低減する方法を併用することが好ましい。また、波長選択吸収層を構成する樹脂中の色素の含有量を調整することによっても、波長選択吸収層中の残留溶媒量を低減することができる。なお、波長選択吸収層の残留溶媒の量は、少なければ少ないほどよく、3質量%以下に制御することが好ましい。波長選択吸収層中の残留溶媒量が3質量%以下になれば、実質的に経時安定性に差がなくなる。しかしながら、さらに残留溶媒量を低下させるために、例えば、乾燥を過酷な条件とすると、フィルターの平面性不良や色素の変質などの弊害が発生する。また、減圧乾燥のような熱処理を用いない方法では、生産性が低下する。 In order to improve the temporal stability of the wavelength selective absorption filter, in addition to the post-cure treatment, the type of organic solvent used in the coating liquid for forming the wavelength selective absorption layer, the thickness of the coating layer, and the drying conditions are controlled. Thus, it is preferable to use a method for reducing the amount of residual solvent in the wavelength selective absorption layer. The residual solvent amount in the wavelength selective absorption layer can also be reduced by adjusting the content of the pigment in the resin constituting the wavelength selective absorption layer. The amount of residual solvent in the wavelength selective absorption layer is preferably as small as possible, and is preferably controlled to 3% by mass or less. When the amount of residual solvent in the wavelength selective absorption layer is 3% by mass or less, there is substantially no difference in stability over time. However, in order to further reduce the amount of residual solvent, for example, if drying is performed under severe conditions, problems such as poor planarity of the filter and alteration of the dye may occur. In addition, productivity is reduced by a method that does not use heat treatment such as drying under reduced pressure.
本発明において、ディスプレイから放出される有害電磁波を遮断する目的で、波長選択吸収層と同一面、ないしは、反対面に導電層を直接或いは粘着剤を介して設けてもよい。該導電層は金属メッシュと導電薄膜の何れを用いても良く、金属メッシュを用いた場合、開口率が50%以上の金属メッシュ導電層を有していることが好ましい。なぜなら、金属メッシュの開口率が低ければ電磁波シ−ルド性は良好となるが、光線透過率が低下しやすくなるためである。前記の金属メッシュとしては、電気電導性の高い金属箔にエッチング処理を施してメッシュ状にしたもの、金属繊維を使った織物状のメッシュ、高分子繊維の表面に金属をメッキ等の手法を用いて付着させた繊維、が挙げられる。該電磁波吸収層に使われる金属は、電気電導性が高く、安定性が良ければいかなる金属でも良く特に限定されるものではないが、加工性、コストなどの観点より、好ましくは、銅、ニッケル、タングステンなどが好ましい。 In the present invention, for the purpose of blocking harmful electromagnetic waves emitted from the display, a conductive layer may be provided directly or via an adhesive on the same surface as the wavelength selective absorption layer or on the opposite surface. The conductive layer may be either a metal mesh or a conductive thin film. When a metal mesh is used, the conductive layer preferably has a metal mesh conductive layer with an aperture ratio of 50% or more. This is because, when the aperture ratio of the metal mesh is low, the electromagnetic shielding property is good, but the light transmittance is likely to be lowered. As the metal mesh, a metal foil having a high electrical conductivity is etched to form a mesh, a woven mesh using metal fibers, or a metal plating on the surface of polymer fibers. And attached fibers. The metal used for the electromagnetic wave absorbing layer is not particularly limited as long as it has high electrical conductivity and good stability, but is not particularly limited, but from the viewpoint of workability, cost, etc., preferably copper, nickel, Tungsten or the like is preferable.
また、可視光線透過率をさらに高くするために、前記の導電層の材料に金属酸化物を用いることが好ましい。また、前記の透明導電層の導電率を向上させたい場合は、金属酸化物/金属/金属酸化物の3層以上の繰り返し構造からなる多層膜とすることが好ましい。金属を多層化することで、高い可視光線透過率を維持しながら、導電性を得ることができる。前記の金属酸化物は、導電性と可視光線透過性が高いものであれば、如何なる金属酸化物でもよい。例えば、酸化錫、インジウム酸化物、インジウム錫酸化物(ITO)、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化ビスマスなどが挙げられる。また、本発明に用いられる金属層は、導電性の観点より、金、銀、及びそれらを含む化合物が好ましい。 In order to further increase the visible light transmittance, it is preferable to use a metal oxide as the material of the conductive layer. In order to improve the electrical conductivity of the transparent conductive layer, it is preferable to use a multilayer film composed of a repeating structure of three or more layers of metal oxide / metal / metal oxide. By making the metal multi-layered, conductivity can be obtained while maintaining high visible light transmittance. The metal oxide may be any metal oxide as long as it has high conductivity and high visible light transmittance. Examples thereof include tin oxide, indium oxide, indium tin oxide (ITO), zinc oxide, titanium oxide, and bismuth oxide. The metal layer used in the present invention is preferably gold, silver, and a compound containing them from the viewpoint of conductivity.
更に、導電層を多層化した場合、例えばくり返し層数が3層の場合、銀層の厚さは50〜200Åが好ましく、より好ましくは50〜100Åである。これよりも膜厚が厚い場合は、光線透過率が低下し、薄い場合は抵抗値が高くなる傾向がある。また、金属酸化物層の厚さは、100〜1000Åが好ましく、より好ましくは100〜500Åである。金属酸化物層の厚さが、1000Åを超える場合には、着色により色調が変化しやすくなる。一方、金属酸化物層の厚さが、100Å未満の場合には、抵抗値が高くなりやすい。さらに、3層以上に多層化する場合、例えば、金属酸化物/銀/金属酸化物/銀/金属酸化物のように5層とした場合、中心の金属酸化物の厚さは、それ以外の金属酸化物層の厚さよりも厚いことが好ましい。このようにすることで、多層膜全体の光線透過率を向上させることができる。 Furthermore, when the conductive layer is multi-layered, for example, when the number of repeated layers is 3, the thickness of the silver layer is preferably 50 to 200 mm, more preferably 50 to 100 mm. When the film thickness is thicker than this, the light transmittance decreases, and when it is thin, the resistance value tends to increase. Further, the thickness of the metal oxide layer is preferably 100 to 1000 mm, more preferably 100 to 500 mm. When the thickness of the metal oxide layer exceeds 1000 mm, the color tone tends to change due to coloring. On the other hand, when the thickness of the metal oxide layer is less than 100 mm, the resistance value tends to be high. Furthermore, in the case of multi-layering to three or more layers, for example, in the case of five layers such as metal oxide / silver / metal oxide / silver / metal oxide, the thickness of the central metal oxide is other than that It is preferable that it is thicker than the thickness of the metal oxide layer. By doing in this way, the light transmittance of the whole multilayer film can be improved.
本発明では、波長選択吸収フィルムの波長選択吸収層と同一面、ないしは、反対面に反射防止層、ぎらつき防止層を直接或いは粘着剤を介して設けてもよい。 In the present invention, an antireflection layer or an antiglare layer may be provided directly or via an adhesive on the same surface as the wavelength selective absorption layer of the wavelength selective absorption film or on the opposite surface.
本発明では、波長選択吸収フィルムに、反射防止フィルムや電磁波防止フィルムを、粘着層を介して貼り合せても良い。粘着層としては、公知のものが使用可能であるが、波長選択吸収層上に積層する場合には、イソシアネート、メラミン等の架橋剤を含有しない粘着剤を用いることが好ましい。イソシアネート、メラミン等の架橋剤を含有する粘着剤を用いた場合、架橋剤により粘着層と波長選択吸収層の界面で色素劣化が起こり、耐久性が低下しやすくなる。なお、粘着層を積層後にポストキュア処理を行う場合には、粘着剤に起因する耐久性の低下を抑制することができる。 In the present invention, an antireflection film or an electromagnetic wave prevention film may be bonded to the wavelength selective absorption film via an adhesive layer. As the adhesive layer, known ones can be used, but when laminating on the wavelength selective absorption layer, it is preferable to use an adhesive that does not contain a crosslinking agent such as isocyanate or melamine. When a pressure-sensitive adhesive containing a crosslinking agent such as isocyanate or melamine is used, dye deterioration occurs at the interface between the pressure-sensitive adhesive layer and the wavelength selective absorption layer due to the crosslinking agent, and durability tends to decrease. In addition, when performing a post-cure process after laminating | stacking an adhesion layer, the fall of durability resulting from an adhesive can be suppressed.
粘着層を波長選択吸収フィルム上に設ける方法としては、離型フィルム上に粘着層を塗布乾燥した後に波長選択吸収フィルムと貼り合せて粘着層を形成する転写法、波長選択吸収フィルムに粘着剤と塗布乾燥するダイレクト法の2種類がある。好ましくは、波長選択吸収フィルムの平面性不良等の問題が発生しにくい転写法である。 As a method of providing an adhesive layer on a wavelength selective absorption film, a transfer method in which an adhesive layer is applied and dried on a release film and then bonded to a wavelength selective absorption film to form an adhesive layer, and an adhesive is applied to the wavelength selective absorption film. There are two types of direct methods, coating and drying. A transfer method that is less likely to cause problems such as poor planarity of the wavelength selective absorption film is preferable.
前記の波長選択吸収フィルターでは、耐光性を向上させる目的で、紫外線吸収能を有する層を設けてもよい。紫外線吸収能を付与するためには、波長選択吸収層、透明基材フィルム、粘着剤、反射防止層、ぎらつき防止層のいずれかに紫外線吸収剤を添加すればよい。この紫外線吸収層を有する波長選択吸収フィルターは、紫外線吸収層が波長選択吸収層よりも表面側(ディスプレイ側とは反対側)になるように、ディスプレイの前面に配設することが特に好ましい。紫外線吸収剤は、公知の有機系紫外線防止剤や無機系紫外線防止剤が使用可能である。 In the wavelength selective absorption filter, a layer having an ultraviolet absorbing ability may be provided for the purpose of improving light resistance. In order to impart ultraviolet absorbing ability, an ultraviolet absorber may be added to any of the wavelength selective absorption layer, transparent substrate film, pressure-sensitive adhesive, antireflection layer, and glare prevention layer. The wavelength selective absorption filter having this ultraviolet absorption layer is particularly preferably disposed on the front surface of the display so that the ultraviolet absorption layer is on the surface side (the side opposite to the display side) of the wavelength selective absorption layer. As the UV absorber, known organic UV inhibitors and inorganic UV inhibitors can be used.
次に本発明の実施例及び比較例を示す。また、本発明で使用した特性値の測定方法並びに効果の評価方法は次の通りである。 Next, examples and comparative examples of the present invention will be shown. The characteristic value measurement method and effect evaluation method used in the present invention are as follows.
<全光線透過率、ヘイズ>
ヘイズメータ(日本電色工業製、NDH2000)を用いて、全光線透過率およびヘイズを測定した。
<Total light transmittance, haze>
Using a haze meter (Nippon Denshoku Industries, NDH2000), the total light transmittance and haze were measured.
<透過率>
分光光度計(日立製作所製、U−3500型)を用いて測定した。なお、室内の空気を透過率の参照とした。
<Transmissivity>
It measured using the spectrophotometer (the Hitachi make, U-3500 type | mold). The indoor air was used as a reference for the transmittance.
<吸収ピーク>
吸収ピークの透過率が10〜30%の範囲になるように色素の量を調整し、色素をメチルエチルケトンとトルエンの混合溶剤(質量比で1:1)で溶解した。分光光度計(日立製作所製、U−3500型)を用いて、この溶液の光線透過率を波長1nm間隔で測定して吸収ピークを求めた。なお、室内の空気を透過率の参照とした。
<Absorption peak>
The amount of the dye was adjusted so that the transmittance of the absorption peak was in the range of 10 to 30%, and the dye was dissolved in a mixed solvent of methyl ethyl ketone and toluene (1: 1 by mass ratio). Using a spectrophotometer (manufactured by Hitachi, Ltd., U-3500 type), the light transmittance of this solution was measured at intervals of 1 nm wavelength to obtain absorption peaks. The indoor air was used as a reference for the transmittance.
<色調>
色差計(日本電色工業製、ZE−2000)を用い、波長選択吸収層側に光が照射するようにして、Lab表色系のa値、b値を、標準光としてC光源を用いて、2度視野角で測定した。
<Color tone>
Using a color difference meter (Nippon Denshoku Industries Co., Ltd., ZE-2000), the wavelength selective absorption layer side is irradiated with light, and the Lab color system a value and b value are used as standard light using a C light source. Measurements were made at a 2 degree viewing angle.
<経時安定性>
波長選択吸収フィルムを、温度80℃、湿度95%雰囲気中で48時間処理し、処理前後での色調を測定し、下式(1)より色調の変化量を測定した。
<Stability over time>
The wavelength selective absorption film was treated in an atmosphere of 80 ° C. and 95% humidity for 48 hours, the color tone before and after the treatment was measured, and the change in color tone was measured from the following formula (1).
変化量=√((処理前a値―処理後a値)2+(処理前b値―処理後b値)2)
・・・(1)
Change amount = √ ((a value before processing−a value after processing) 2 + (b value before processing−b value after processing) 2 )
... (1)
<耐光性>
JIS L−0843に準拠し、ブラックパネル温度63℃、湿度50%RHの環境下で、透明基材フィルム側から紫外線を48時間照射した。紫外線の照射前後の色調を測定し、前記の式(1)により色調の変化量を測定した。
<Light resistance>
In accordance with JIS L-0843, ultraviolet light was irradiated for 48 hours from the transparent substrate film side in an environment with a black panel temperature of 63 ° C. and a humidity of 50% RH. The color tone before and after irradiation with ultraviolet rays was measured, and the amount of change in color tone was measured according to the above equation (1).
実施例1
両面に塗布層を有する二軸延伸ポリエステルフィルム(東洋紡績製、A4300、厚さ100μm)からなる透明基材フィルムの片面に、乾燥後の塗布量が9.2g/m2になるように、下記の塗布液A(固形分濃度:21.9質量%、粘度:20cps)を直径60cmの斜線グラビアを用いてリバース方式で塗工した。次いで、塗工後のフィルムを、40℃で5m/秒の熱風で20秒間、160℃で20m/秒の熱風で20秒間、さらに、90℃で20m/秒の熱風で10秒間通過させて乾燥し、波長選択吸収層を積層した。
Example 1
The following is applied so that the coating amount after drying is 9.2 g / m 2 on one side of a transparent base film made of a biaxially stretched polyester film (Toyobo, A4300, thickness 100 μm) having coating layers on both sides. Coating solution A (solid content concentration: 21.9 mass%, viscosity: 20 cps) was applied by a reverse method using a diagonal gravure with a diameter of 60 cm. Next, the coated film is dried by passing it through hot air of 5 m / sec at 40 ° C. for 20 seconds, hot air of 20 m / sec at 160 ° C. for 20 seconds, and further for 10 seconds with hot air of 20 m / sec at 90 ° C. Then, a wavelength selective absorption layer was laminated.
(波長選択吸収層用の塗布液A)
有機溶媒、樹脂、近赤外線吸収色素、ネオンカット色素、波長370nm以上400nm以下の範囲に吸収ピークを有する色素、界面活性剤を、下記の質量比となるように調合し、公称ろ過精度1μmのフィルターで未溶解物を除去して、塗布液Aを作成した。なお、樹脂は溶解しにくいため、事前に加温下で有機溶剤に溶解し、室温下に冷却後に色素を投入して攪拌して溶解した。なお、下記のインドール系化合物の吸収ピークは波長390nmである。
・メチルエチルケトン 38.715質量%
・トルエン 38.715質量%
・アクリル系樹脂 21.000質量%
(三菱レイヨン製、BR−80)
・ジインモニウム塩系化合物 0.666質量%
(日本カーリット製、CIR−RL)
・フタロシアニン系化合物 0.371質量%
(日本触媒製、IR−10A)
・アザポルフィリン系色素 0.116質量%
(山田化成製TAP−2)
・インドール系化合物 0.360質量%
(オリエント化学製、UA−3902)
・シリコーン系界面活性剤 0.057質量%
(ダウコーニング製、ペインタッド57;HLB=6.7)
(Coating liquid A for wavelength selective absorption layer)
An organic solvent, a resin, a near-infrared absorbing dye, a neon cut dye, a dye having an absorption peak in the wavelength range of 370 nm to 400 nm, and a surfactant are prepared so as to have the following mass ratio, and a filter having a nominal filtration accuracy of 1 μm Then, undissolved material was removed to prepare a coating solution A. Since the resin is difficult to dissolve, it was dissolved in advance in an organic solvent under heating, and after cooling to room temperature, the dye was added and stirred to dissolve. The absorption peak of the following indole compounds has a wavelength of 390 nm.
・ Methyl ethyl ketone 38.715 mass%
・ Toluene 38.715% by mass
-Acrylic resin 21.000% by mass
(Made by Mitsubishi Rayon, BR-80)
・ Diimonium salt compound 0.666% by mass
(Nippon Carlit, CIR-RL)
・ Phthalocyanine compound 0.371% by mass
(Nippon Shokubai, IR-10A)
-Azaporphyrin pigment 0.116% by mass
(Yamada Kasei TAP-2)
・ Indole compound 0.360% by mass
(Orient Chemical, UA-3902)
・ Silicon surfactant 0.057% by mass
(Dow Corning, Paintad 57; HLB = 6.7)
得られた波長選択吸収フィルムは、近赤外領域とネオン光領域に吸収を有し、かつネオン光領域以外の可視光領域で透過率が高く、経時安定性、耐光性も良好であった。 The obtained wavelength selective absorption film had absorption in the near-infrared region and the neon light region, had high transmittance in the visible light region other than the neon light region, and had good temporal stability and light resistance.
実施例2
実施例1において、下記の塗布液Bを用いたこと以外は実施例1と同様にして、波長選択吸収フィルムを得た。
Example 2
In Example 1, the wavelength selective absorption film was obtained like Example 1 except having used the following coating liquid B.
(波長選択吸収層用の塗布液B)
有機溶媒、樹脂、近赤外線吸収色素、ネオンカット色素、波長370nm以上400nm以下の範囲に吸収ピークを有する色素、界面活性剤を、下記の質量比となるように調合し、公称ろ過精度1μmのフィルターで未溶解物を除去して、塗布液Bを作成した。なお、樹脂は溶解しにくいため、事前に加温下で有機溶剤に溶解し、室温下に冷却後に色素を投入して攪拌して溶解した。なお、下記のインドール系化合物の吸収ピークは波長390nmである。
・メチルエチルケトン 38.805質量%
・トルエン 38.805質量%
・アクリル系樹脂 21.000質量%
(三菱レイヨン製、BR−80)
・ジインモニウム塩系化合物 0.666質量%
(日本カーリット製、CIR−RL)
・フタロシアニン系化合物 0.371質量%
(日本触媒製、IR−10A)
・アザポルフィリン系色素 0.116質量%
(山田化成製、TAP−2)
・インドール系化合物 0.180質量%
(オリエント化学製、UA−3902)
・シリコーン系界面活性剤 0.057質量%
(ダウコーニング製、ペインタッド57;HLB=6.7)
(Coating liquid B for wavelength selective absorption layer)
An organic solvent, a resin, a near-infrared absorbing dye, a neon cut dye, a dye having an absorption peak in the wavelength range of 370 nm to 400 nm, and a surfactant are prepared so as to have the following mass ratio, and a filter having a nominal filtration accuracy of 1 μm Then, undissolved material was removed to prepare a coating solution B. Since the resin is difficult to dissolve, it was dissolved in advance in an organic solvent under heating, and after cooling to room temperature, the dye was added and stirred to dissolve. The absorption peak of the following indole compounds has a wavelength of 390 nm.
・ Methyl ethyl ketone 38.805 mass%
・ Toluene 38.805% by mass
-Acrylic resin 21.000% by mass
(Made by Mitsubishi Rayon, BR-80)
・ Diimonium salt compound 0.666% by mass
(Nippon Carlit, CIR-RL)
・ Phthalocyanine compound 0.371% by mass
(Nippon Shokubai, IR-10A)
-Azaporphyrin pigment 0.116% by mass
(Yamada Kasei TAP-2)
・ Indole compound 0.180% by mass
(Orient Chemical, UA-3902)
・ Silicon surfactant 0.057% by mass
(Dow Corning, Paintad 57; HLB = 6.7)
得られた波長選択吸収フィルムは、近赤外領域とネオン光領域に吸収を有し、かつネオン光領域以外の可視光領域で透過率が高く、経時安定性、耐光性も良好であった。 The obtained wavelength selective absorption film had absorption in the near-infrared region and the neon light region, had high transmittance in the visible light region other than the neon light region, and had good temporal stability and light resistance.
実施例3
実施例1において、下記の塗布液Cを用いたこと以外は実施例1と同様にして、波長選択吸収フィルムを得た。
Example 3
In Example 1, a wavelength selective absorption film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the following coating solution C was used.
(波長選択吸収層用の塗布液C)
有機溶媒、樹脂、近赤外線吸収色素、ネオンカット色素、波長370nm以上400nm以下の範囲に吸収ピークを有する色素、界面活性剤を、下記の質量比となるように調合し、公称ろ過精度1μmのフィルターで未溶解物を除去して、塗布液Cを作成した。なお、樹脂は溶解しにくいため、事前に加温下で有機溶剤に溶解し、室温下に冷却後に色素を投入して攪拌して溶解した。なお、下記のインドール系化合物の吸収ピークは波長390nmである。
・メチルエチルケトン 38.445質量%
・トルエン 38.445質量%
・アクリル系樹脂 21.000質量%
(三菱レイヨン製、BR−80)
・ジインモニウム塩系化合物 0.666質量%
(日本カーリット製、CIR−RL)
・フタロシアニン系化合物 0.371質量%
(日本触媒製、IR−10A)
・アザポルフィリン系色素 0.116質量%
(山田化成製、TAP−2)
・インドール系化合物 0.900質量%
(オリエント化学製、UA−3902)
・シリコーン系界面活性剤 0.057質量%
(ダウコーニング製、ペインタッド57;HLB=6.7)
(Coating liquid C for wavelength selective absorption layer)
An organic solvent, a resin, a near-infrared absorbing dye, a neon cut dye, a dye having an absorption peak in the wavelength range of 370 nm to 400 nm, and a surfactant are prepared so as to have the following mass ratio, and a filter having a nominal filtration accuracy of 1 μm Then, undissolved material was removed to prepare a coating solution C. Since the resin is difficult to dissolve, it was dissolved in advance in an organic solvent under heating, and after cooling to room temperature, the dye was added and stirred to dissolve. The absorption peak of the following indole compounds has a wavelength of 390 nm.
・ Methyl ethyl ketone 38.445% by mass
・ Toluene 38.445% by mass
-Acrylic resin 21.000% by mass
(Made by Mitsubishi Rayon, BR-80)
・ Diimonium salt compound 0.666% by mass
(Nippon Carlit, CIR-RL)
・ Phthalocyanine compound 0.371% by mass
(Nippon Shokubai, IR-10A)
-Azaporphyrin pigment 0.116% by mass
(Yamada Kasei TAP-2)
・ Indole compound 0.900% by mass
(Orient Chemical, UA-3902)
・ Silicon surfactant 0.057% by mass
(Dow Corning, Paintad 57; HLB = 6.7)
得られた波長選択吸収フィルムは、近赤外領域とネオン光領域に吸収を有し、かつネオン光領域以外の可視光領域で透過率が高く、経時安定性、耐光性も良好であった。 The obtained wavelength selective absorption film had absorption in the near-infrared region and the neon light region, had high transmittance in the visible light region other than the neon light region, and had good temporal stability and light resistance.
実施例4
実施例1において、下記の塗布液Dを用いたこと以外は実施例1と同様にして、波長選択吸収フィルムを得た。
Example 4
In Example 1, the wavelength selective absorption film was obtained like Example 1 except having used the following coating liquid D.
(波長選択吸収層用の塗布液D)
有機溶媒、樹脂、近赤外線吸収色素、ネオンカット色素、波長370nm以上400nm以下の範囲に吸収ピークを有する色素、界面活性剤を、下記の質量比となるように調合し、公称ろ過精度1μmのフィルターで未溶解物を除去して、塗布液Dを作成した。なお、樹脂は溶解しにくいため、事前に加温下で有機溶剤に溶解し、室温下に冷却後に色素を投入して攪拌して溶解した。なお、下記のインドール系化合物の吸収ピークは波長396nmである。
・メチルエチルケトン 38.715質量%
・トルエン 38.715質量%
・アクリル系樹脂 21.000質量%
(三菱レイヨン製、BR−80)
・ジインモニウム塩系化合物 0.666質量%
(日本カーリット製、CIR−RL)
・フタロシアニン系化合物 0.371質量%
(日本触媒製、IR−10A)
・アザポルフィリン系色素 0.116質量%
(山田化成製、TAP−2)
・インドール系化合物 0.360質量%
(オリエント化学製、UA−3901)
・シリコーン系界面活性剤 0.057質量%
(ダウコーニング製、ペインタッド57;HLB=6.7)
(Coating liquid D for wavelength selective absorption layer)
An organic solvent, a resin, a near-infrared absorbing dye, a neon cut dye, a dye having an absorption peak in the wavelength range of 370 nm to 400 nm, and a surfactant are prepared so as to have the following mass ratio, and a filter having a nominal filtration accuracy of 1 μm Then, undissolved material was removed to prepare a coating solution D. Since the resin is difficult to dissolve, it was dissolved in advance in an organic solvent under heating, and after cooling to room temperature, the dye was added and stirred to dissolve. The absorption peak of the following indole compounds has a wavelength of 396 nm.
・ Methyl ethyl ketone 38.715 mass%
・ Toluene 38.715% by mass
-Acrylic resin 21.000% by mass
(Made by Mitsubishi Rayon, BR-80)
・ Diimonium salt compound 0.666% by mass
(Nippon Carlit, CIR-RL)
・ Phthalocyanine compound 0.371% by mass
(Nippon Shokubai, IR-10A)
-Azaporphyrin pigment 0.116% by mass
(Yamada Kasei TAP-2)
・ Indole compound 0.360% by mass
(Orient Chemical, UA-3901)
・ Silicon surfactant 0.057% by mass
(Dow Corning, Paintad 57; HLB = 6.7)
得られた波長選択吸収フィルムは、近赤外領域とネオン光領域に吸収を有し、かつネオン光領域以外の可視光領域で透過率が高く、経時安定性、耐光性も良好であった。 The obtained wavelength selective absorption film had absorption in the near-infrared region and the neon light region, had high transmittance in the visible light region other than the neon light region, and had good temporal stability and light resistance.
比較例1
実施例1において、下記の塗布液Eを用いたこと以外は実施例1と同様にして、波長選択吸収フィルムを得た。
Comparative Example 1
In Example 1, the wavelength selective absorption film was obtained like Example 1 except having used the following coating liquid E. FIG.
(波長選択吸収層用の塗布液E)
有機溶媒、樹脂、近赤外線吸収色素、ネオンカット色素、界面活性剤を、下記の質量比となるように調合し、公称ろ過精度1μmのフィルターで未溶解物を除去して、塗布液Aを作成した。なお、樹脂は溶解しにくいため、事前に加温下で有機溶剤に溶解し、室温下に冷却後に色素を投入して攪拌して溶解した。
・メチルエチルケトン 38.895質量%
・トルエン 38.895質量%
・アクリル系樹脂 21.000質量%
(三菱レイヨン製、BR−80)
・ジインモニウム塩系化合物 0.666質量%
(日本カーリット製、CIR−RL)
・フタロシアニン系化合物 0.371質量%
(日本触媒製、IR−10A)
・アザポルフィリン系色素 0.116質量%
(山田化成製、TAP−2)
・シリコーン系界面活性剤 0.057質量%
(ダウコーニング製、ペインタッド57;HLB=6.7)
(Coating liquid E for wavelength selective absorption layer)
An organic solvent, a resin, a near-infrared absorbing dye, a neon cut dye, and a surfactant are prepared so as to have the following mass ratio, and the undissolved material is removed with a filter having a nominal filtration accuracy of 1 μm to prepare a coating liquid A. did. Since the resin is difficult to dissolve, it was dissolved in advance in an organic solvent under heating, and after cooling to room temperature, the dye was added and stirred to dissolve.
・ Methyl ethyl ketone 38.895 mass%
・ Toluene 38.895 mass%
-Acrylic resin 21.000% by mass
(Made by Mitsubishi Rayon, BR-80)
・ Diimonium salt compound 0.666% by mass
(Nippon Carlit, CIR-RL)
・ Phthalocyanine compound 0.371% by mass
(Nippon Shokubai, IR-10A)
-Azaporphyrin pigment 0.116% by mass
(Yamada Kasei TAP-2)
・ Silicon surfactant 0.057% by mass
(Dow Corning, Paintad 57; HLB = 6.7)
得られた波長選択吸収フィルムは、近赤外領域とネオン光領域に吸収を有し、かつネオン光領域以外の可視光領域で透過率が高く、経時安定性、耐光性も良好であった。
経時安定性が良好であったが、耐光性が不良であった。
The obtained wavelength selective absorption film had absorption in the near-infrared region and the neon light region, had high transmittance in the visible light region other than the neon light region, and had good temporal stability and light resistance.
The stability over time was good, but the light resistance was poor.
本発明の波長選択吸収フィルムは、全体としての可視光領域でも光線透過率が高く維持しながら、近赤外線とネオン光を選択的に吸収し、高温高湿度下による品質の経時変化が少なく、かつ耐光性に優れているため、この波長選択吸収フィルムを、プラズマディスプレイの前面に設置して近赤外線吸収フィルターとして用いることにより、近赤外線リモコンを用いて精密機器の誤動作を防止することだけでなく、画像の鮮明度が高く、品質の経時変化が少ないため、ディスプレイ用フィルター、特にプラズマディスレイの高信頼化、ハイビジョン放送による高精細化や高画質化、に大きく寄与できるという利点がある。 The wavelength selective absorption film of the present invention selectively absorbs near-infrared light and neon light while maintaining high light transmittance even in the visible light region as a whole, has little change over time in quality due to high temperature and high humidity, and Because it is excellent in light resistance, this wavelength selective absorption film is installed on the front of the plasma display and used as a near infrared absorption filter, not only to prevent malfunction of precision equipment using near infrared remote control, Since the sharpness of the image is high and the change in quality over time is small, there is an advantage that it can greatly contribute to the high reliability of the display filter, particularly the plasma display, and the high definition and high image quality by high-definition broadcasting.
Claims (6)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2004377792A JP2006184531A (en) | 2004-12-27 | 2004-12-27 | Wavelength selective absorption film and wavelength selective absorption filter |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004377792A JP2006184531A (en) | 2004-12-27 | 2004-12-27 | Wavelength selective absorption film and wavelength selective absorption filter |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2006184531A true JP2006184531A (en) | 2006-07-13 |
Family
ID=36737707
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP2004377792A Pending JP2006184531A (en) | 2004-12-27 | 2004-12-27 | Wavelength selective absorption film and wavelength selective absorption filter |
Country Status (1)
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| JP (1) | JP2006184531A (en) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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- 2004-12-27 JP JP2004377792A patent/JP2006184531A/en active Pending
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