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JP2006119614A - Active display device and driving method thereof - Google Patents

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JP2006119614A
JP2006119614A JP2005268688A JP2005268688A JP2006119614A JP 2006119614 A JP2006119614 A JP 2006119614A JP 2005268688 A JP2005268688 A JP 2005268688A JP 2005268688 A JP2005268688 A JP 2005268688A JP 2006119614 A JP2006119614 A JP 2006119614A
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Keisuke Miyagawa
恵介 宮川
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Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd
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Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce the occurrence of a pseudo contour which is caused when adopting a time division gray scale, by employing an interlace method to an active display device and to provide a driving circuit and a driving method for the above. <P>SOLUTION: The invention provides an active display device adopting an interlace method, where pixels of odd-numbered rows and odd-numbered columns and pixels of even-numbered rows and even numbered columns are displayed during an odd-numbered frame period and pixels of odd-numbered row and even-numbered columns and pixels of even-numbered rows and odd-numbered columns are displayed during an even-numbered frame period. As a result, the occurrence of a pseudo contour can be reduced without increasing the frame frequency. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、アクティブ型の表示装置において、擬似輪郭の発生を防止するための駆動方法に関する。またそのための駆動回路を有するアクティブ型表示装置に関する。 The present invention relates to a driving method for preventing generation of a pseudo contour in an active display device. The present invention also relates to an active display device having a driving circuit therefor.

アクティブ型表示装置の表示方式の一つであるデジタル階調の駆動方法として、時間階調と呼ばれる駆動方法がある。時間階調とは、一つのフレーム期間を複数のサブフレーム期間に分割し、それぞれのサブフレーム期間で素子の発光、非発光を制御して階調表示を行う方法である。 As a driving method of digital gradation which is one of display methods of an active display device, there is a driving method called time gradation. The time gray scale is a method of performing gray scale display by dividing one frame period into a plurality of sub-frame periods and controlling light emission and non-light emission of elements in each sub-frame period.

しかしながら、時間階調での表示を行う場合は、擬似輪郭が発生し、画質が劣化することがある。擬似輪郭とは、中間調を表示しているときに、不自然に明るい線や暗い線が混ざって見える現象である。 However, when displaying in time gradation, a pseudo contour may occur and the image quality may deteriorate. The pseudo contour is a phenomenon in which bright and dark lines appear to be mixed unnaturally when displaying a halftone.

擬似輪郭を防止する方法として、インターレース方式画像プラズマディスプレイがあり、奇数(偶数)フィールドの最終サブフィールドと、偶数(奇数)フィールドの1つあるいは複数のサブフィールドとのサスティーン数の合計により、上記奇数(偶数)フィールドの最終サブフィールドの相対的輝度を決める方法が提案されている(特許文献1参照)。 As a method of preventing false contours, there is an interlaced image plasma display, which is based on the sum of the number of sustains of the last subfield of an odd (even) field and one or more subfields of an even (odd) field. A method for determining the relative luminance of the last subfield of an odd (even) field has been proposed (see Patent Document 1).

また画面のちらつきであるフリッカーを防止する方法として、プラズマディスプレイにおいて、1フィールドを8サブフィールドに分割し、下位4ビットでは、飛び越し走査によって走査電極を1つおきにアドレスする方法が提案されている(特許文献2参照)。
特開2000−148084号公報 特開平11−24628号公報
Further, as a method for preventing flicker, which is flickering of the screen, there has been proposed a method in which one field is divided into 8 subfields in the plasma display, and every other scan electrode is addressed by interlaced scanning in the lower 4 bits. (See Patent Document 2).
JP 2000-148084 A Japanese Patent Laid-Open No. 11-24628

特許文献1、及び特許文献2に記載のプラズマディスプレイは、パッシブ型の表示装置である。パッシブ型表示装置は、画素部に複数の半導体素子を有するアクティブ型表示装置とは、駆動法が異なる。さらに、特許文献1及び特許文献2には、プラズマディスプレイにインターレース方法を採用するにあたり、詳細な駆動回路について記載されていない。 The plasma displays described in Patent Document 1 and Patent Document 2 are passive display devices. A passive display device is different in driving method from an active display device having a plurality of semiconductor elements in a pixel portion. Further, Patent Document 1 and Patent Document 2 do not describe a detailed drive circuit when adopting an interlace method for a plasma display.

そこで本発明は、アクティブ型表示装置、特に発光素子を有するアクティブ型表示装置における擬似輪郭防止を課題とし、インターレース方法を用いた新たな駆動方法を提供することを課題とする。またインターレース方法を用いたアクティブ型表示装置の、新たな駆動回路を提案することを課題とする。 In view of this, an object of the present invention is to prevent pseudo contour in an active display device, particularly an active display device having a light emitting element, and to provide a new driving method using an interlace method. Another object of the present invention is to propose a new driving circuit for an active display device using an interlace method.

上記課題を鑑み本発明は、アクティブ型表示装置、特に発光素子を有するアクティブ型表示装置にインターレース方法を用いた表示を行うことを特徴とする。さらに好ましくは、本発明は複数の画素に対して格子状に表示領域と、非表示領域を設けることを特徴とする。格子状に表示領域と、非表示領域を設けるため、駆動回路にスイッチング手段を設ける。 In view of the above problems, the present invention is characterized in that an active display device, particularly an active display device having a light emitting element, performs display using an interlace method. More preferably, the present invention is characterized in that a display area and a non-display area are provided in a grid pattern for a plurality of pixels. In order to provide a display area and a non-display area in a grid pattern, switching means is provided in the drive circuit.

具体的な本発明の形態は、マトリクス状に設けられた複数の画素を有し、奇数フレームでは、画素のうち奇数行であり且つ奇数列の画素、及び偶数行であり且つ偶数列の画素を表示し、偶数フレームでは、画素のうち奇数行であり且つ偶数列の画素、及び偶数行であり且つ奇数列の画素を表示することを特徴とするアクティブ型表示装置の駆動方法である。 A specific form of the present invention includes a plurality of pixels arranged in a matrix, and in an odd frame, pixels in an odd row and an odd column, and pixels in an even row and an even column are included in the pixels. A driving method of an active display device, characterized in that, in an even frame, pixels in odd rows and even columns and pixels in even rows and odd columns are displayed among the pixels.

また本発明の別形態は、複数の信号線と、複数の走査線との交点に複数の画素を有し、信号線に接続された半導体素子を制御する回路は、シフトレジスタ、ラッチ回路を有し、シフトレジスタは、シフトレジスタユニットを有し、ラッチ回路は、ラッチユニット、及びラッチユニットの選択を制御する反転用信号が入力される配線を有し、隣接するラッチユニットは、隣接するシフトレジスタユニット間に接続され、シフトレジスタユニットからの信号と、反転用信号により、隣接するラッチユニットのいずれかが選択されることを特徴とするアクティブ型表示装置である。 In another embodiment of the present invention, a circuit that includes a plurality of pixels at intersections of a plurality of signal lines and a plurality of scanning lines and controls a semiconductor element connected to the signal line includes a shift register and a latch circuit. The shift register includes a shift register unit, the latch circuit includes a latch unit and a wiring to which an inversion signal for controlling selection of the latch unit is input, and the adjacent latch unit is adjacent to the shift register. An active display device characterized in that one of the adjacent latch units is selected by a signal from the shift register unit and an inversion signal connected between the units.

複数の信号線と、複数の走査線との交点に複数の画素を有し、信号線に接続された半導体素子を制御する回路は、シフトレジスタ、ラッチ回路を有し、シフトレジスタは、シフトレジスタユニットを有し、ラッチ回路は、ラッチユニット、ラッチユニットの選択を制御する反転用信号が入力される配線、及び反転用信号により切り替わるスイッチング手段を有し、隣接するラッチユニットは、隣接するシフトレジスタユニット間に接続され、スイッチング手段により、隣接するラッチユニットのいずれかが選択されることを特徴とするアクティブ型表示装置である。 A circuit having a plurality of pixels at intersections of a plurality of signal lines and a plurality of scanning lines and controlling a semiconductor element connected to the signal line includes a shift register and a latch circuit. The shift register is a shift register. The latch circuit includes a latch unit, a wiring to which an inversion signal for controlling selection of the latch unit is input, and a switching unit that is switched by the inversion signal. The adjacent latch unit is an adjacent shift register. An active display device characterized in that one of adjacent latch units is selected by switching means and connected between the units.

また本発明の別形態は、複数の信号線と、複数の走査線との交点に複数の画素を有し、走査線に接続された半導体素子を制御する回路は、選択用信号が入力される配線、AND回路、シフトレジスタ、及びレベルシフタを有し、AND回路は、シフトレジスタからの信号と、選択用信号とが入力され、レベルシフタに信号を出力するように接続されることを特徴とするアクティブ型表示装置である。 In another embodiment of the present invention, a selection signal is input to a circuit that has a plurality of pixels at intersections of a plurality of signal lines and a plurality of scanning lines and controls a semiconductor element connected to the scanning lines. An active circuit characterized by having a wiring, an AND circuit, a shift register, and a level shifter, wherein the AND circuit is connected to a signal from the shift register and a selection signal and to output a signal to the level shifter. Type display device.

複数の信号線と、複数の走査線との交点に複数の画素を有し、信号線に接続された半導体素子を制御する回路は、シフトレジスタ、ラッチ回路を有し、シフトレジスタは、シフトレジスタユニットを有し、ラッチ回路は、ラッチユニット、ラッチユニットの選択を制御する反転用信号が入力される配線、及び反転用信号により切り替わるスイッチング手段を有し、ラッチユニットは、隣接するシフトレジスタユニット間に接続されることを特徴とするアクティブ型表示装置である。 A circuit having a plurality of pixels at intersections of a plurality of signal lines and a plurality of scanning lines and controlling a semiconductor element connected to the signal line includes a shift register and a latch circuit. The shift register is a shift register. The latch circuit includes a latch unit, a wiring to which an inversion signal for controlling selection of the latch unit is input, and switching means that is switched by the inversion signal. The latch unit is between adjacent shift register units. It is an active type display device characterized by being connected to.

本発明により、時間階調により階調表示するアクティブ型表示装置において、擬似輪郭を防止することができる。特に本発明を用いると、フレーム周波数を上げることなく擬似輪郭を防止できるため好ましい。 According to the present invention, it is possible to prevent a pseudo contour in an active display device that performs gradation display by time gradation. In particular, it is preferable to use the present invention because a pseudo contour can be prevented without increasing the frame frequency.

またさらに本発明により、時間階調により階調表示する、アクティブ型表示装置において、縞模様が発生するインターレース障害を防止できる。 Furthermore, according to the present invention, it is possible to prevent an interlace failure in which a stripe pattern is generated in an active display device that performs gradation display by time gradation.

以下に、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。但し、本発明は多くの異なる態様で実施することが可能であり、本発明の趣旨及びその範囲から逸脱することなくその形態及び詳細を様々に変更し得ることは当業者であれば容易に理解される。従って、本実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。なお、実施の形態を説明するための全図において、同一部分又は同様な機能を有する部分には同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. However, the present invention can be implemented in many different modes, and those skilled in the art can easily understand that the modes and details can be variously changed without departing from the spirit and scope of the present invention. Is done. Therefore, the present invention is not construed as being limited to the description of this embodiment mode. Note that in all the drawings for describing the embodiments, the same portions or portions having similar functions are denoted by the same reference numerals, and repetitive description thereof is omitted.

(実施の形態1)
本実施の形態では、時間階調により階調表示する、アクティブ型表示装置において、インターレース方式を用いた駆動方法、及びそのための駆動回路について説明する。
(Embodiment 1)
In this embodiment mode, a driving method using an interlace method and a driving circuit therefor in an active display device that performs grayscale display using time grayscales will be described.

図1には、半導体素子がマトリクス状に配置された、アクティブ型表示装置の画素部の模式図を示し、表示画素は白色表示、非表示画素は黒色表示である。このような画素部において、第1のフレームでは、奇数行の画素のみを表示し(図1(A)参照)、第2のフレームでは、偶数行の画素のみを表示する(図1(B)参照)。すなわち、画素部において、ライン状に表示領域と、非表示領域を設ける。このような第1のフレームと第2のフレームは時間階調における1サブフレームに相当し得る。 FIG. 1 is a schematic diagram of a pixel portion of an active display device in which semiconductor elements are arranged in a matrix. Display pixels are white and non-display pixels are black. In such a pixel portion, only odd-numbered pixels are displayed in the first frame (see FIG. 1A), and only even-numbered pixels are displayed in the second frame (FIG. 1B). reference). That is, in the pixel portion, a display area and a non-display area are provided in a line shape. Such a first frame and a second frame may correspond to one subframe in the time gray scale.

なお本実施の形態において、第1のフレームを奇数フレーム、第2のフレームを偶数フレームとして表記する。 In the present embodiment, the first frame is represented as an odd frame, and the second frame is represented as an even frame.

また本発明の画素部において、奇数フレームで、偶数行の画素のみを表示し、偶数フレームで奇数行の画素のみを表示しても構わない。 In the pixel portion of the present invention, only even-numbered rows of pixels may be displayed in odd-numbered frames, and only odd-numbered rows of pixels may be displayed in even-numbered frames.

図2には、このような表示を行うためのタイミングチャートを示す。図2(A)には、奇数フレームにおける、行方向の信号線(以下、走査線と表記する)を選択するための、走査線スタートパルス(GSP)、走査線クロック信号(GCK)、選択用(ENB)信号を示す。また列方向の信号線(以下、信号線と表記する)を選択するための、スタートパルス(SSP)、スタートクロック信号(SCK)を示す。そしてこれらの信号により、映像信号(DATA)のタイミングを示す。 FIG. 2 shows a timing chart for performing such display. FIG. 2A shows a scanning line start pulse (GSP), a scanning line clock signal (GCK), and a selection line for selecting a signal line in the row direction (hereinafter referred to as a scanning line) in an odd frame. (ENB) signal. In addition, a start pulse (SSP) and a start clock signal (SCK) for selecting a signal line in the column direction (hereinafter referred to as a signal line) are shown. These signals indicate the timing of the video signal (DATA).

図2(B)には、偶数フレームにおけるタイミングチャートを示す。図2(A)とは、ENB信号のHighとLowが反転しており、その他のタイミングは同様である。 FIG. 2B shows a timing chart in an even frame. In FIG. 2A, High and Low of the ENB signal are inverted, and other timings are the same.

奇数フレームでは、ENB信号がHighのときのみ、画素部の奇数行目の画素が選択される。また偶数フレームでは、ENB信号がHighのときのみ、画素部の偶数行目の画素が選択される。すなわち、本発明の画素部において、ENB信号がHighのときのみ、画素部の走査線が選択される。 In the odd-numbered frame, the odd-numbered pixels in the pixel portion are selected only when the ENB signal is High. In the even frame, the pixels in the even rows of the pixel portion are selected only when the ENB signal is High. That is, in the pixel portion of the present invention, the scanning line of the pixel portion is selected only when the ENB signal is High.

映像信号(DATA)は、SSP信号後に入力され、選択された画素に入力される。また映像信号(DATA)は、1ゲートクロック期間内に取り込めばよい。なお選択された画素とは、選択された走査線に接続された半導体素子を有する画素である。 The video signal (DATA) is input after the SSP signal and input to the selected pixel. The video signal (DATA) may be captured within one gate clock period. Note that the selected pixel is a pixel having a semiconductor element connected to the selected scanning line.

このような表示を行うための走査線を制御する、つまり走査線に接続された半導体素子のオンオフを制御するための回路(以下、走査線駆動回路と表記する)について説明する。またこのような表示を行うための信号線を制御する、つまり信号線に接続された半導体素子のオンオフを制御するための回路(以下、信号線駆動回路と表記する)について説明する。 A circuit for controlling a scanning line for performing such display, that is, for controlling on / off of a semiconductor element connected to the scanning line (hereinafter referred to as a scanning line driving circuit) will be described. A circuit for controlling a signal line for performing such display, that is, for controlling on / off of a semiconductor element connected to the signal line (hereinafter referred to as a signal line driver circuit) will be described.

図3には、シフトレジスタ301、レベルシフタ304、及びバッファ305を有する走査線駆動回路を示す。シフトレジスタ301は、SSP信号(306)が入力され、複数のシフトレジスタユニット302a〜302cを有する。シフトレジスタ301と、レベルシフタ304との間には、AND回路303a〜303cを有し、各AND回路の入力端子は、隣接するシフトレジスタユニット間と、ENB信号(307)が入力される信号線に接続され、その出力端子はレベルシフタ304に接続されている。本発明では各フレームで選択する走査線が異なるため、図3に示す走査線駆動回路では、シフトレジスタ301による選択に対して、ENB信号(307)による出力制御が行われる。 FIG. 3 illustrates a scan line driver circuit including a shift register 301, a level shifter 304, and a buffer 305. The shift register 301 receives the SSP signal (306) and includes a plurality of shift register units 302a to 302c. AND circuits 303a to 303c are provided between the shift register 301 and the level shifter 304, and the input terminals of the AND circuits are between adjacent shift register units and signal lines to which the ENB signal (307) is input. The output terminal is connected to the level shifter 304. In the present invention, since the scanning line to be selected is different in each frame, the scanning line driving circuit shown in FIG. 3 performs output control by the ENB signal (307) for selection by the shift register 301.

なお本発明において、AND回路を設ける位置は、図3に限定されず、AND回路は、ENB信号と、シフトレジスタからの信号とが入力され、AND回路の出力をレベルシフタに入力できれば、どこに設けてもよい。 In the present invention, the position where the AND circuit is provided is not limited to that in FIG. 3, and the AND circuit is provided anywhere as long as the ENB signal and the signal from the shift register are input and the output of the AND circuit can be input to the level shifter. Also good.

すなわち本発明の走査線駆動回路は、ENB信号が入力される信号線と、ENB信号とシフトレジスタからの信号とによって出力を決めるAND回路が設けられていることを特徴とする。なお本発明において、AND回路は、ENB信号による出力制御を目的としており、同様の効果が得られる論理回路であればよい。例えば、NAND回路を用いることができる。 That is, the scanning line driving circuit of the present invention is characterized in that an ENB signal is input and an AND circuit that determines an output based on the ENB signal and a signal from the shift register is provided. In the present invention, the AND circuit is intended for output control by the ENB signal, and may be a logic circuit that can obtain the same effect. For example, a NAND circuit can be used.

次に、図4を用いて、信号線駆動回路について説明する。本発明に用いる信号線駆動回路は、シフトレジスタ401、第1のラッチ回路402、第2のラッチ回路403、レベルシフタ404、及びバッファ405を有する。シフトレジスタ401は、SSP信号(408)が入力され、複数のシフトレジスタユニット406a〜406cを有する。第1のラッチ回路402は、複数のラッチユニット407a〜407fを有する。隣接するラッチユニットは、隣接するシフトレジスタユニット間に接続されている。また各ラッチユニットには、第1のデータ信号(DATA1)409、第2のデータ信号(DATA2)410のいずれかが入力されるための信号線が接続されている。本実施の形態では、複数のラッチユニットは、交互にDATA1、DATA2が入力されるよう信号線に接続され、DATA1及びDATA2に接続されるラッチユニット組は、同一の隣接するシフトレジスタユニット間に接続されている。このような各ラッチユニットでDATA1及びDATA2を取り込み、第2のラッチ回路403へ、信号が出力される。 Next, the signal line driver circuit will be described with reference to FIG. The signal line driver circuit used in the present invention includes a shift register 401, a first latch circuit 402, a second latch circuit 403, a level shifter 404, and a buffer 405. The shift register 401 receives the SSP signal (408) and includes a plurality of shift register units 406a to 406c. The first latch circuit 402 includes a plurality of latch units 407a to 407f. Adjacent latch units are connected between adjacent shift register units. Each latch unit is connected to a signal line through which either the first data signal (DATA1) 409 or the second data signal (DATA2) 410 is input. In this embodiment, a plurality of latch units are connected to signal lines so that DATA1 and DATA2 are alternately input, and a latch unit set connected to DATA1 and DATA2 is connected between the same adjacent shift register units. Has been. Each latch unit captures DATA 1 and DATA 2 and outputs a signal to the second latch circuit 403.

第2のラッチ回路403は、ラッチ信号(LAT)411が入力され、レベルシフタ404へ信号を出力している。 The second latch circuit 403 receives the latch signal (LAT) 411 and outputs a signal to the level shifter 404.

なお図1に示すインターレース法を用いる場合、全ての画素部の信号線を順次選択することができる信号線駆動回路であればよい。また本実施の形態では、DATA1とDATA2の2つの信号を並列に入力した場合を示しているが、信号線は1つでも、3つ以上でもよい。 Note that when the interlace method shown in FIG. 1 is used, any signal line driver circuit that can sequentially select the signal lines of all the pixel portions may be used. In this embodiment, two signals DATA1 and DATA2 are input in parallel. However, the number of signal lines may be one or three or more.

以上のような本発明により、時間階調を行うアクティブ型表示装置において、擬似輪郭の発生を低減することができる。 According to the present invention as described above, the occurrence of pseudo contours can be reduced in an active display device that performs time gradation.

なお擬似輪郭を防止するためには、フレーム周波数を高くする必要があった。しかしフレーム周波数を高くすると駆動回路に負担が生じたり、映像信号の情報量を多くする必要がある。そのため、駆動回路の負担、特にラッチ回路の周波数が高まり、映像信号を入力するための配線数が増加してしまう。そこで本発明の駆動方法、及び駆動回路を用いることにより、フレーム周波数を上げることなく擬似輪郭を防止でき、駆動回路の負担を増加させることがなく、好ましい。 In order to prevent false contours, it was necessary to increase the frame frequency. However, if the frame frequency is increased, the driving circuit is burdened and the information amount of the video signal needs to be increased. As a result, the burden on the drive circuit, particularly the frequency of the latch circuit, increases, and the number of wires for inputting video signals increases. Therefore, it is preferable to use the driving method and the driving circuit according to the present invention, which can prevent the false contour without increasing the frame frequency and does not increase the load on the driving circuit.

インターレース法を用いることにより、映像信号の情報量を半分にすることができる。その結果、信号線や走査線の本数を低減することができ、開口率を向上することができる。 By using the interlace method, the information amount of the video signal can be halved. As a result, the number of signal lines and scanning lines can be reduced, and the aperture ratio can be improved.

なおインターレース法を用いると、輝度低下が懸念される。しかし、本発明のアクティブ型表示装置の発光素子に有機材料を使用すれば、該発光素子は指数関数的に輝度低下を生じるため、輝度低下に伴う供給電圧の向上がさして問題とならない。すなわち、インターレース法は、プラズマディスプレイに用いるより、有機材料を有する発光素子を具備するアクティブ型表示装置に用いる方が好ましいといえる。 If the interlace method is used, there is a concern about a decrease in luminance. However, when an organic material is used for the light-emitting element of the active display device of the present invention, the light-emitting element exponentially decreases in luminance, so that there is no problem in improving the supply voltage accompanying the luminance decrease. That is, it can be said that the interlace method is preferably used for an active display device including a light-emitting element having an organic material, rather than for a plasma display.

なお本発明において、信号線や走査線に接続される半導体素子には薄膜トランジスタを用いることができる。 Note that in the present invention, a thin film transistor can be used for a semiconductor element connected to a signal line or a scan line.

(実施の形態2)
本実施の形態では、実施の形態1と異なるインターレース法を説明する。
(Embodiment 2)
In this embodiment, an interlacing method different from that in Embodiment 1 will be described.

上記特許文献1、及び2に記載の駆動方法では、縞模様が見えやすくなってしまう。そこで、本実施の形態では、擬似輪郭を防止しつつ、該縞模様の発生を防止する駆動方法を提案する。 In the driving methods described in Patent Documents 1 and 2, striped patterns are likely to be seen. Therefore, in this embodiment, a driving method for preventing the occurrence of the stripe pattern while preventing the pseudo contour is proposed.

図5には、半導体素子がマトリクス状に配置されたアクティブ型表示装置の画素部を示し、表示画素は白色表示、非表示画素は黒色表示である。このような画素部において、第1のフレームでは、奇数行であり且つ奇数列の画素、及び偶数行であり且つ偶数列の画素のみを表示し(図5(A)参照)、第2のフレームでは、奇数行であり且つ偶数列の画素、及び偶数行であり且つ奇数列の画素のみを表示する(図5(B)参照)。すなわち、画素部において、格子状に表示領域と、非表示領域を設ける。 FIG. 5 shows a pixel portion of an active display device in which semiconductor elements are arranged in a matrix. Display pixels are white and non-display pixels are black. In such a pixel portion, in the first frame, only the pixels in the odd rows and the odd columns and the pixels in the even rows and the even columns are displayed (see FIG. 5A), and the second frame is displayed. Then, only the pixels in the odd rows and even columns and the pixels in the even rows and odd columns are displayed (see FIG. 5B). That is, a display area and a non-display area are provided in a lattice shape in the pixel portion.

なお本実施の形態において、第1のフレームを奇数フレーム、第2のフレームを偶数フレームとして表記する。 In the present embodiment, the first frame is represented as an odd frame, and the second frame is represented as an even frame.

また本発明の画素部において、奇数フレームで、奇数行であり且つ偶数列の画素、及び偶数行であり且つ奇数列の画素のみを表示し、偶数フレームで、奇数行であり且つ奇数列の画素、及び偶数行であり且つ偶数列の画素のみを表示してもよい。 In the pixel portion of the present invention, only odd-numbered pixels and even-numbered columns pixels and odd-numbered rows and odd-numbered columns of pixels are displayed in odd-numbered frames, and odd-numbered rows and odd-numbered columns of pixels in even-numbered frames. Only pixels in even rows and even columns may be displayed.

図6には、このような表示を行うためのタイミングチャートを示す。図6(A)には、奇数フレームにおける、走査線を選択するための、走査線スタートパルス(GSP)、走査線クロック信号(GCK)、反転用信号(SW)を示す。また走査線を選択するための、スタートパルス(SSP)、スタートクロック信号(SCK)を示す。そしてこれらの信号により、書き込まれる映像信号(DATA)のタイミングを示す。 FIG. 6 shows a timing chart for performing such display. FIG. 6A shows a scanning line start pulse (GSP), a scanning line clock signal (GCK), and an inversion signal (SW) for selecting a scanning line in an odd frame. In addition, a start pulse (SSP) and a start clock signal (SCK) for selecting a scanning line are shown. These signals indicate the timing of the video signal (DATA) to be written.

図6(B)には、偶数フレームにおけるタイミングチャートを示しており、図6(A)とは、SW信号が反転しており、その他のタイミングは同様である。 FIG. 6B shows a timing chart in an even-numbered frame. The SW signal is inverted from FIG. 6A, and other timings are the same.

奇数フレームでは、SW信号がHighのとき奇数列の画素が選択され、Lowのときは偶数列の画素が選択される。また偶数フレームでは、SW信号がHighのとき偶数列の画素が選択され、Lowのときは奇数列の画素が選択される。 In the odd-numbered frame, when the SW signal is High, odd-numbered columns of pixels are selected, and when the SW signal is Low, even-numbered columns of pixels are selected. In the even frame, even-numbered pixels are selected when the SW signal is High, and odd-numbered pixels are selected when the SW signal is Low.

映像信号(DATA)は、SSP信号入力後に入力され、選択された画素に入力される。なお選択された画素とは、選択された走査線に接続された半導体素子を有する画素である。 The video signal (DATA) is input after the SSP signal is input, and is input to the selected pixel. Note that the selected pixel is a pixel having a semiconductor element connected to the selected scanning line.

このような表示を行うための走査線駆動回路及び信号線駆動回路について説明する。 A scan line driver circuit and a signal line driver circuit for performing such display will be described.

図7には、シフトレジスタ701、レベルシフタ704、及びバッファ705を有する走査線駆動回路を示す。シフトレジスタ701は、SSP信号(706)が入力され、複数のシフトレジスタユニット702a〜702cを有する。隣接するシフトレジスタユニット間と、レベルシフタ704が接続されている。 FIG. 7 illustrates a scan line driver circuit including a shift register 701, a level shifter 704, and a buffer 705. The shift register 701 receives the SSP signal (706) and includes a plurality of shift register units 702a to 702c. A level shifter 704 is connected between adjacent shift register units.

このような本発明の走査線駆動回路は、全ての走査線を順次選択することができる。 Such a scanning line driving circuit of the present invention can sequentially select all the scanning lines.

本実施の形態において、図3で示したような、ENB信号が入力される走査線駆動回路を用いても構わない。 In this embodiment mode, a scan line driver circuit to which an ENB signal is input as shown in FIG. 3 may be used.

次に、図8を用いて、信号線駆動回路について説明する。本発明に用いる信号線駆動回路は、シフトレジスタ801、第1のラッチ回路802、第2のラッチ回路803、レベルシフタ804、及びバッファ805を有する。シフトレジスタ801は、SSP信号(808)が入力され、複数のシフトレジスタユニット806a〜806cを有する。第1のラッチ回路802は、複数のラッチユニット807a〜807fと、複数のスイッチング手段Sw(a)〜Sw(f)を有する。隣接するラッチユニットは、隣接するシフトレジスタユニット間に接続されている。また隣接するラッチユニットのいずれかを選択するために、スイッチング手段Sw(a)〜Sw(f)は、SW信号(SW)810により制御されている。このように相反するタイミングで制御されるスイッチング手段には、極性の異なる半導体素子を用いることができる。このような各ラッチユニットでDATAを取り込み、第2のラッチ回路803へ、信号が出力される。 Next, the signal line driver circuit is described with reference to FIG. The signal line driver circuit used in the present invention includes a shift register 801, a first latch circuit 802, a second latch circuit 803, a level shifter 804, and a buffer 805. The shift register 801 receives the SSP signal (808) and includes a plurality of shift register units 806a to 806c. The first latch circuit 802 includes a plurality of latch units 807a to 807f and a plurality of switching means Sw (a) to Sw (f). Adjacent latch units are connected between adjacent shift register units. Further, in order to select one of the adjacent latch units, the switching means Sw (a) to Sw (f) are controlled by the SW signal (SW) 810. As the switching means controlled at the opposite timings as described above, semiconductor elements having different polarities can be used. Each latch unit captures DATA and outputs a signal to the second latch circuit 803.

第2のラッチ回路803は、ラッチ信号(LAT)811が入力され、レベルシフタ804へ信号を出力している。 The second latch circuit 803 receives the latch signal (LAT) 811 and outputs a signal to the level shifter 804.

なお図5に示すインターレース法を用いる場合、各フレームで、1信号線毎に、DATAを入力する画素の列が切り替わる。そのため、SW信号により、入力する対象となる画素の列を切り替えることを特徴とする。そのため、図8に示す信号線駆動回路に限定されず、各フレームで、DATAを入力する対象となる画素の列を切り替えることができればよい。 Note that when the interlace method shown in FIG. 5 is used, the column of pixels to which DATA is input is switched for each signal line in each frame. Therefore, the column of pixels to be input is switched by the SW signal. Therefore, the signal line driver circuit is not limited to the signal line driver circuit illustrated in FIG. 8, as long as the column of pixels to which DATA is input can be switched in each frame.

以上のような本発明により、時間階調を行うアクティブ型表示装置において、縞模様の発生を低減した上、擬似輪郭の発生を低減することができる。 According to the present invention as described above, in an active display device that performs time gradation, it is possible to reduce the occurrence of a stripe pattern and reduce the occurrence of a pseudo contour.

特に、本発明の駆動方法、及び駆動回路を用いることにより、実施の形態1と同様にフレーム周波数を上げることなく擬似輪郭を防止できるため好ましい。 In particular, it is preferable to use the driving method and the driving circuit of the present invention because pseudo contours can be prevented without increasing the frame frequency as in the first embodiment.

インターレース法を用いることにより、映像信号の情報量を半分にすることができる。その結果、信号線や走査線の本数を低減することができ、開口率を向上することができる。 By using the interlace method, the information amount of the video signal can be halved. As a result, the number of signal lines and scanning lines can be reduced, and the aperture ratio can be improved.

なおインターレース法を用いると、輝度低下が懸念される。しかし、本発明のアクティブ型表示装置の発光素子に有機材料を使用すれば、該発光素子は指数関数的に輝度低下を生じるため、輝度低下に伴う供給電圧の向上がさして問題とならない。すなわち、インターレース法は、プラズマディスプレイに用いるより、有機材料を有する発光素子を具備するアクティブ型表示装置に用いる方が好ましいといえる。 If the interlace method is used, there is a concern about a decrease in luminance. However, when an organic material is used for the light-emitting element of the active display device of the present invention, the light-emitting element exponentially decreases in luminance, so that there is no problem in improving the supply voltage accompanying the luminance decrease. That is, it can be said that the interlace method is preferably used for an active display device including a light-emitting element having an organic material, rather than for a plasma display.

なお本発明において、信号線や走査線に接続される半導体素子には薄膜トランジスタを用いることができる。 Note that in the present invention, a thin film transistor can be used for a semiconductor element connected to a signal line or a scan line.

(実施の形態3)
本実施の形態では、本発明の画素部、駆動回路を有するパネルの構成について説明する。
(Embodiment 3)
In this embodiment mode, a structure of a panel including a pixel portion and a driver circuit of the present invention will be described.

図9には、上記実施の形態で示した走査線駆動回路903、及び信号線駆動回路902を有する駆動回路を、画素部100の周辺に設けたパネルを示す。 FIG. 9 illustrates a panel in which a driver circuit including the scan line driver circuit 903 and the signal line driver circuit 902 described in the above embodiment is provided in the periphery of the pixel portion 100.

走査線駆動回路903は、シフトレジスタ、レベルシフタ、バッファを有する。また信号線駆動回路902は、シフトレジスタ、第1のラッチ回路、第2のラッチ回路、レベルシフタ、バッファを有する。画素部100は、複数の画素を有し、画素には発光素子が設けられている。画素の断面構造については、以下の実施の形態で説明する。 The scan line driver circuit 903 includes a shift register, a level shifter, and a buffer. The signal line driver circuit 902 includes a shift register, a first latch circuit, a second latch circuit, a level shifter, and a buffer. The pixel portion 100 includes a plurality of pixels, and each pixel is provided with a light emitting element. The cross-sectional structure of the pixel will be described in the following embodiments.

信号線駆動回路902、走査線駆動回路903、画素部100は、同一基板状に設けられた半導体素子によって形成することができる。例えば、ガラス基板に設けられた薄膜トランジスタを用いて形成することができる。また、信号線駆動回路902や走査線駆動回路903は、ICチップを用いて、ガラス基板上に実装することもできる。 The signal line driver circuit 902, the scan line driver circuit 903, and the pixel portion 100 can be formed using semiconductor elements provided over the same substrate. For example, it can be formed using a thin film transistor provided over a glass substrate. In addition, the signal line driver circuit 902 and the scan line driver circuit 903 can be mounted on a glass substrate by using an IC chip.

本実施の形態は、上記の実施の形態と自由に組み合わせることができる。 This embodiment mode can be freely combined with the above embodiment modes.

(実施の形態4)
本実施の形態では、アクティブ型表示装置が有する画素の等価回路図について、図12を用いて説明する。
(Embodiment 4)
In this embodiment, an equivalent circuit diagram of a pixel included in the active display device will be described with reference to FIGS.

図12(A)は、画素の等価回路図の一例を示したものであり、信号線6114、電源線6115、走査線6116、それらの交点に発光素子6113、トランジスタ6110、6111、容量素子6112を有する。信号線6114には信号線駆動回路によって映像信号が入力される。トランジスタ6110は、走査線6116に入力される選択信号に従って、トランジスタ6111のゲートへの、該映像信号の電位の供給を制御することができる。トランジスタ6111は、該映像信号の電位に従って、発光素子6113への電流の供給を制御することができる。容量素子6112は、トランジスタ6111のゲート・ソース間の電圧を保持することができる。なお、図12(A)では、容量素子6112を図示したが、トランジスタ6111のゲート容量や他の寄生容量で賄うことが可能な場合には、設けなくてもよい。 FIG. 12A illustrates an example of an equivalent circuit diagram of a pixel. A signal line 6114, a power supply line 6115, a scanning line 6116, a light-emitting element 6113, transistors 6110 and 6111, and a capacitor element 6112 are provided at intersections thereof. Have. A video signal is input to the signal line 6114 by a signal line driver circuit. The transistor 6110 can control supply of the potential of the video signal to the gate of the transistor 6111 in accordance with a selection signal input to the scan line 6116. The transistor 6111 can control supply of current to the light-emitting element 6113 in accordance with the potential of the video signal. The capacitor 6112 can hold the voltage between the gate and the source of the transistor 6111. Note that although the capacitor 6112 is illustrated in FIG. 12A, the capacitor 6112 is not necessarily provided when it can be covered by the gate capacitance of the transistor 6111 or other parasitic capacitance.

図12(B)は、図12(A)に示した画素に、トランジスタ6118と走査線6119を新たに設けた画素の等価回路図である。トランジスタ6118により、トランジスタ6111のゲートとソースを同電位とし、強制的に発光素子6113に電流が流れない状態を作ることができるため、全ての画素に映像信号が入力される期間よりも、サブフレーム期間の長さを短くすることができる。 FIG. 12B is an equivalent circuit diagram of a pixel in which a transistor 6118 and a scan line 6119 are newly provided in the pixel shown in FIG. The transistor 6118 can set the gate and the source of the transistor 6111 to the same potential and can forcibly prevent a current from flowing to the light-emitting element 6113; therefore, a subframe can be obtained as compared with a period in which a video signal is input to all pixels. The length of the period can be shortened.

図12(C)は、図12(B)に示した画素に、新たにトランジスタ6125と、配線6126を設けた画素の等価回路図である。トランジスタ6125は、そのゲートの電位が、配線6126によって固定されている。そして、トランジスタ6111とトランジスタ6125は、電源線6115と発光素子6113との間に直列に接続されている。よって図12(C)では、トランジスタ6125により発光素子6113に供給される電流の値が制御され、トランジスタ6111により発光素子6113への該電流の供給の有無が制御できる。 FIG. 12C is an equivalent circuit diagram of a pixel in which a transistor 6125 and a wiring 6126 are newly provided in the pixel illustrated in FIG. The potential of the gate of the transistor 6125 is fixed by the wiring 6126. The transistor 6111 and the transistor 6125 are connected in series between the power supply line 6115 and the light-emitting element 6113. Thus, in FIG. 12C, the value of the current supplied to the light-emitting element 6113 is controlled by the transistor 6125, and the presence or absence of the current supplied to the light-emitting element 6113 can be controlled by the transistor 6111.

なお、本発明の画素回路は、本実施の形態で示した構成に限定されず、時間階調表示を行う表示装置であれば、本発明を適用することができる。また本実施の形態は、上記の実施の形態と自由に組み合わせることができる。 Note that the pixel circuit of the present invention is not limited to the structure shown in this embodiment mode, and the present invention can be applied to any display device that performs time gradation display. This embodiment can be freely combined with the above embodiment.

(実施の形態5)
本実施の形態では、発光素子を有する画素の断面構造について説明する。上述したような発光素子への電流の供給を制御するトランジスタがp型薄膜トランジスタ(TFT)の場合における、画素の断面構造について、図10を用いて説明する。なお本発明では、発光素子が有する陽極と陰極の2つの電極のうち、トランジスタによって電位を制御することができる一方の電極を第1の電極、他方の電極を第2の電極とする。そして図10では、第1の電極が陽極、第2の電極が陰極の場合について説明するが、第1の電極が陰極、第2の電極が陽極であってもよい。
(Embodiment 5)
In this embodiment, a cross-sectional structure of a pixel having a light-emitting element will be described. A cross-sectional structure of a pixel in the case where a transistor for controlling supply of current to the light-emitting element as described above is a p-type thin film transistor (TFT) will be described with reference to FIGS. Note that in the present invention, of the two electrodes of the anode and the cathode included in the light-emitting element, one electrode whose potential can be controlled by a transistor is a first electrode and the other electrode is a second electrode. 10 illustrates the case where the first electrode is an anode and the second electrode is a cathode, the first electrode may be a cathode and the second electrode may be an anode.

図10(A)に、TFT6001がp型で、発光素子6003から発せられる光を第1の電極6004側から取り出す場合の、画素の断面図を示す。図10(A)では、発光素子6003の第1の電極6004と、TFT6001が電気的に接続されている。 FIG. 10A is a cross-sectional view of a pixel in the case where the TFT 6001 is p-type and light emitted from the light-emitting element 6003 is extracted from the first electrode 6004 side. In FIG. 10A, the first electrode 6004 of the light-emitting element 6003 and the TFT 6001 are electrically connected.

TFT6001は層間絶縁膜6007で覆われており、層間絶縁膜6007上には開口部を有する隔壁6008が形成されている。隔壁6008の開口部において第1の電極6004が一部露出しており、該開口部において第1の電極6004、電界発光層6005、第2の電極6006が順に積層されている。 The TFT 6001 is covered with an interlayer insulating film 6007, and a partition wall 6008 having an opening is formed over the interlayer insulating film 6007. A part of the first electrode 6004 is exposed in the opening of the partition wall 6008, and the first electrode 6004, the electroluminescent layer 6005, and the second electrode 6006 are sequentially stacked in the opening.

層間絶縁膜6007は、有機樹脂膜、無機絶縁膜またはシロキサン系材料を出発材料として形成されたSi−O−Si結合を含む絶縁膜(以下、シロキサン系絶縁膜と呼ぶ)を用いて形成することができる。なお、シロキサンとは、Si−O−Si結合を含み、シリコン(Si)と酸素(O)との結合で骨格構造が構成される。置換基として、少なくとも水素を含む有機基(例えばアルキル基、芳香族炭化水素)が用いられる。または置換基として、フルオロ基を用いてもよい。または置換基として、少なくとも水素を含む有機基と、フルオロ基とを用いてもよい。層間絶縁膜6007に、低誘電率材料(low−k材料)と呼ばれる材料を用いていても良い。 The interlayer insulating film 6007 is formed using an organic resin film, an inorganic insulating film, or an insulating film including a Si—O—Si bond (hereinafter referred to as a siloxane-based insulating film) formed using a siloxane-based material as a starting material. Can do. Note that siloxane includes a Si—O—Si bond, and a skeleton structure is formed by a bond of silicon (Si) and oxygen (O). As a substituent, an organic group containing at least hydrogen (for example, an alkyl group or an aromatic hydrocarbon) is used. Alternatively, a fluoro group may be used as a substituent. Alternatively, an organic group containing at least hydrogen and a fluoro group may be used as a substituent. A material called a low dielectric constant material (low-k material) may be used for the interlayer insulating film 6007.

隔壁6008は、有機樹脂膜、無機絶縁膜またはシロキサン系絶縁膜を用いて形成することができる。有機樹脂膜ならば、例えばアクリル、ポリイミド、ポリアミドなど、無機絶縁膜ならば酸化珪素、窒化酸化珪素などを用いることができる。特に感光性の有機樹脂膜を隔壁6008に用い、第1の電極6004上に開口部を形成し、その開口部の側壁が連続した曲率を持って形成される傾斜面となるように形成することで、第1の電極6004と第2の電極6006とが接続してしまうのを防ぐことができる。 The partition wall 6008 can be formed using an organic resin film, an inorganic insulating film, or a siloxane-based insulating film. For example, acrylic resin, polyimide, polyamide, or the like can be used for the organic resin film, and silicon oxide, silicon nitride oxide, or the like can be used for the inorganic insulating film. In particular, a photosensitive organic resin film is used for the partition wall 6008, an opening is formed on the first electrode 6004, and the side wall of the opening is formed as an inclined surface formed with a continuous curvature. Thus, the connection between the first electrode 6004 and the second electrode 6006 can be prevented.

第1の電極6004は、光を透過する材料又は光を透過する程度の膜厚で形成し、なおかつ陽極として用いるのに適する材料で形成する。例えば、酸化インジウムスズ(ITO)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化インジウム亜鉛(IZO)、ガリウムを添加した酸化亜鉛(GZO)などその他の透光性酸化物導電材料を第1の電極6004に用いることが可能である。またITO、酸化珪素を含む酸化亜鉛、酸化珪素を含む酸化インジウムスズ(以下、ITSOとする)、又はITSOにさらに2〜20%の酸化亜鉛(ZnO)を混合したものを第1の電極6004に用いても良い。また上記透光性酸化物導電材料の他に、例えばTiN、ZrN、Ti、W、Ni、Pt、Cr、Ag、Al等の1つまたは複数からなる単層膜の他、窒化チタン膜とアルミニウムを主成分とする膜との積層、窒化チタン膜とアルミニウムを主成分とする膜と窒化チタン膜との三層構造等を第1の電極6004に用いることもできる。ただし透光性酸化物導電材料以外の材料を用いる場合、光が透過する程度の膜厚(好ましくは、5nm〜30nm程度)で第1の電極6004を形成する。 The first electrode 6004 is formed with a material that transmits light or a thickness that transmits light, and a material that is suitable for use as an anode. For example, another light-transmitting oxide conductive material such as indium tin oxide (ITO), zinc oxide (ZnO), indium zinc oxide (IZO), or zinc oxide added with gallium (GZO) is used for the first electrode 6004. Is possible. In addition, ITO, zinc oxide containing silicon oxide, indium tin oxide containing silicon oxide (hereinafter referred to as ITSO), or ITSO mixed with 2 to 20% zinc oxide (ZnO) is used as the first electrode 6004. It may be used. In addition to the light-transmitting oxide conductive material, for example, a single layer film made of one or more of TiN, ZrN, Ti, W, Ni, Pt, Cr, Ag, Al, etc., titanium nitride film and aluminum Alternatively, the first electrode 6004 can be formed using a stack of a film mainly containing silicon, a three-layer structure of a titanium nitride film, a film mainly containing aluminum, and a titanium nitride film. Note that in the case where a material other than the light-transmitting oxide conductive material is used, the first electrode 6004 is formed with a thickness enough to transmit light (preferably, about 5 nm to 30 nm).

また第2の電極6006は、光を反射もしくは遮蔽する材料で形成し、なおかつ仕事関数の小さい金属、合金、電気伝導性化合物、およびこれらの混合物などで形成することができる。具体的には、LiやCs等のアルカリ金属、およびMg、Ca、Sr等のアルカリ土類金属、これらを含む合金(Mg:Ag、Al:Li、Mg:Inなど)、およびこれらの化合物(フッ化カルシウム、窒化カルシウム)の他、YbやEr等の希土類金属を用いることができる。また電子注入層を設ける場合、Alなどの他の導電層を用いることも可能である。 The second electrode 6006 can be formed using a material that reflects or shields light, and can be formed using a metal, an alloy, an electrically conductive compound, a mixture thereof, or the like with a low work function. Specifically, alkali metals such as Li and Cs, and alkaline earth metals such as Mg, Ca, and Sr, alloys containing these (Mg: Ag, Al: Li, Mg: In, etc.), and compounds thereof ( In addition to calcium fluoride and calcium nitride, rare earth metals such as Yb and Er can be used. When an electron injection layer is provided, other conductive layers such as Al can be used.

電界発光層6005は、単数または複数の層で構成されている。複数の層で構成されている場合、これらの層は、キャリア輸送特性の観点から正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層などに分類することができる。電界発光層6005が発光層の他に、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、電子注入層のいずれかを有している場合、第1の電極6004から正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層の順に積層する。なお各層の境目は必ずしも明確である必要はなく、互いの層を構成している材料が一部混合し、界面が不明瞭になっている場合もある。各層には、有機系の材料、無機系の材料を用いることが可能である。有機系の材料として、高分子系、中分子系、低分子系のいずれの材料も用いることが可能である。なお中分子系の材料とは、構造単位の繰返しの数(重合度)が2から20程度の低重合体に相当する。正孔注入層と正孔輸送層との区別は必ずしも厳密なものではなく、これらは正孔輸送性(正孔移動度)が特に重要な特性である意味において同じである。便宜上正孔注入層は陽極に接する側の層であり、正孔注入層に接する層を正孔輸送層と呼んで区別する。電子輸送層、電子注入層についても同様であり、陰極に接する層を電子注入層と呼び、電子注入層に接する層を電子輸送層と呼んでいる。発光層は電子輸送層を兼ねる場合もあり、発光性電子輸送層とも呼ばれる。 The electroluminescent layer 6005 is composed of one or more layers. When composed of a plurality of layers, these layers can be classified into a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, an electron injection layer, and the like from the viewpoint of carrier transport properties. In the case where the electroluminescent layer 6005 includes any of a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer, and an electron injection layer in addition to the light emitting layer, the first electrode 6004 to the positive hole injection layer, A hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and an electron injection layer are laminated in this order. Note that the boundaries between the layers are not necessarily clear, and there are cases where the materials constituting the layers are partially mixed and the interface is unclear. For each layer, an organic material or an inorganic material can be used. As the organic material, any of a high molecular weight material, a medium molecular weight material, and a low molecular weight material can be used. The medium molecular weight material corresponds to a low polymer having a number of repeating structural units (degree of polymerization) of about 2 to 20. The distinction between a hole injection layer and a hole transport layer is not necessarily strict, and these are the same in the sense that hole transportability (hole mobility) is a particularly important characteristic. For convenience, the hole injection layer is a layer in contact with the anode, and the layer in contact with the hole injection layer is referred to as a hole transport layer to be distinguished. The same applies to the electron transport layer and the electron injection layer. The layer in contact with the cathode is called an electron injection layer, and the layer in contact with the electron injection layer is called an electron transport layer. The light emitting layer may also serve as an electron transport layer, and is also referred to as a light emitting electron transport layer.

図10(A)に示した画素の場合、発光素子6003から発せられる光を、白抜きの矢印で示すように第1の電極6004側から取り出すことができる。 In the case of the pixel shown in FIG. 10A, light emitted from the light-emitting element 6003 can be extracted from the first electrode 6004 side as shown by a hollow arrow.

次に図10(B)に、TFT6011がp型で、発光素子6013から発せられる光を第2の電極6016側から取り出す場合の、画素の断面図を示す。図10(B)では、発光素子6013の第1の電極6014と、TFT6011が電気的に接続されている。また第1の電極6014上に電界発光層6015、第2の電極6016が順に積層されている。 Next, FIG. 10B is a cross-sectional view of a pixel in the case where the TFT 6011 is a p-type and light emitted from the light-emitting element 6013 is extracted from the second electrode 6016 side. In FIG. 10B, the first electrode 6014 of the light-emitting element 6013 and the TFT 6011 are electrically connected. In addition, an electroluminescent layer 6015 and a second electrode 6016 are sequentially stacked over the first electrode 6014.

第1の電極6014は、光を反射もしくは遮蔽する材料で形成し、なおかつ陽極として用いるのに適する材料で形成する。例えば、TiN、ZrN、Ti、W、Ni、Pt、Cr、Ag、Al等の1つまたは複数からなる単層膜の他、窒化チタンとアルミニウムを主成分とする膜との積層、窒化チタン膜とアルミニウムを主成分とする膜と窒化チタン膜との三層構造等を第1の電極6014に用いることができる。 The first electrode 6014 is formed using a material that reflects or shields light and is formed using a material that is suitable for use as an anode. For example, in addition to a single layer film made of one or more of TiN, ZrN, Ti, W, Ni, Pt, Cr, Ag, Al, etc., a laminate of titanium nitride and a film containing aluminum as a main component, a titanium nitride film A three-layer structure of a film mainly containing aluminum and aluminum and a titanium nitride film can be used for the first electrode 6014.

また第2の電極6016は、光を透過する材料または光を透過する程度の膜厚で形成し、なおかつ仕事関数の小さい金属、合金、電気伝導性化合物、およびこれらの混合物などで形成することができる。具体的には、LiやCs等のアルカリ金属、およびMg、Ca、Sr等のアルカリ土類金属、これらを含む合金(Mg:Ag、Al:Li、Mg:Inなど)、およびこれらの化合物(フッ化カルシウム、窒化カルシウム)の他、YbやEr等の希土類金属を用いることができる。また電子注入層を設ける場合、Alなどの他の導電層を用いることも可能である。そして第2の電極6016を、光が透過する程度の膜厚(好ましくは、5nm〜30nm程度)で形成する。なお、酸化インジウムスズ(ITO)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化インジウム亜鉛(IZO)、ガリウムを添加した酸化亜鉛(GZO)などその他の透光性酸化物導電材料を用いることも可能である。またITO、酸化珪素を含む酸化亜鉛、酸化珪素を含む酸化インジウムスズ(ITSO)、又はITSOにさらに2〜20%の酸化亜鉛(ZnO)を混合したものを用いても良い。透光性酸化物導電材料を用いる場合、電界発光層6015に電子注入層を設けるのが望ましい。 The second electrode 6016 can be formed using a light-transmitting material or a light-transmitting film thickness, and can be formed using a metal, an alloy, an electrically conductive compound, a mixture thereof, or the like with a low work function. it can. Specifically, alkali metals such as Li and Cs, and alkaline earth metals such as Mg, Ca, and Sr, alloys containing these (Mg: Ag, Al: Li, Mg: In, etc.), and compounds thereof ( In addition to calcium fluoride and calcium nitride, rare earth metals such as Yb and Er can be used. When an electron injection layer is provided, other conductive layers such as Al can be used. Then, the second electrode 6016 is formed with a thickness enough to transmit light (preferably, about 5 nm to 30 nm). Note that other light-transmitting oxide conductive materials such as indium tin oxide (ITO), zinc oxide (ZnO), indium zinc oxide (IZO), and zinc oxide to which gallium is added (GZO) can also be used. Alternatively, ITO, zinc oxide containing silicon oxide, indium tin oxide containing silicon oxide (ITSO), or ITSO mixed with 2 to 20% zinc oxide (ZnO) may be used. In the case of using a light-transmitting oxide conductive material, it is preferable to provide an electron injection layer in the electroluminescent layer 6015.

電界発光層6015は、図10(A)の電界発光層6005と同様に形成することができる。 The electroluminescent layer 6015 can be formed in a manner similar to that of the electroluminescent layer 6005 in FIG.

図10(B)に示した画素の場合、発光素子6013から発せられる光を、白抜きの矢印で示すように第2の電極6016側から取り出すことができる。 In the case of the pixel shown in FIG. 10B, light emitted from the light-emitting element 6013 can be extracted from the second electrode 6016 side as shown by a hollow arrow.

次に図10(C)に、TFT6021がp型で、発光素子6023から発せられる光を第1の電極6024側及び第2の電極6026側から取り出す場合の、画素の断面図を示す。図10(C)では、発光素子6023の第1の電極6024と、TFT6021が電気的に接続されている。また第1の電極6024上に電界発光層6025、第2の電極6026が順に積層されている。 Next, FIG. 10C is a cross-sectional view of a pixel in the case where the TFT 6021 is p-type and light emitted from the light-emitting element 6023 is extracted from the first electrode 6024 side and the second electrode 6026 side. In FIG. 10C, the first electrode 6024 of the light-emitting element 6023 and the TFT 6021 are electrically connected. Further, an electroluminescent layer 6025 and a second electrode 6026 are sequentially stacked over the first electrode 6024.

第1の電極6024は、図10(A)の第1の電極6004と同様に形成することができる。また第2の電極6026は、図10(B)の第2の電極6016と同様に形成することができる。電界発光層6025は、図10(A)の電界発光層6005と同様に形成することができる。 The first electrode 6024 can be formed in a manner similar to that of the first electrode 6004 in FIG. The second electrode 6026 can be formed in a manner similar to that of the second electrode 6016 in FIG. The electroluminescent layer 6025 can be formed in a manner similar to that of the electroluminescent layer 6005 in FIG.

図10(C)に示した画素の場合、発光素子6023から発せられる光を、白抜きの矢印で示すように第1の電極6024側及び第2の電極6026側から取り出すことができる。 In the case of the pixel illustrated in FIG. 10C, light emitted from the light-emitting element 6023 can be extracted from the first electrode 6024 side and the second electrode 6026 side as indicated by white arrows.

本実施の形態は、上記の実施の形態と自由に組み合わせることができる。 This embodiment mode can be freely combined with the above embodiment modes.

(実施の形態6)
本実施の形態では、発光素子への電流の供給を制御するトランジスタがn型TFTの場合における、画素の断面構造について、図11を用いて説明する。なお図11では、第1の電極が陰極、第2の電極が陽極の場合について説明するが、第1の電極が陽極、第2の電極が陰極であっても良い。
(Embodiment 6)
In this embodiment, a cross-sectional structure of a pixel in the case where an n-type TFT is used as a transistor that controls supply of current to a light-emitting element will be described with reference to FIGS. Note that although FIG. 11 illustrates the case where the first electrode is a cathode and the second electrode is an anode, the first electrode may be an anode and the second electrode may be a cathode.

図11(A)に、TFT6031がn型で、発光素子6033から発せられる光を第1の電極6034側から取り出す場合の、画素の断面図を示す。図11(A)では、発光素子6033の第1の電極6034と、TFT6031が電気的に接続されている。また第1の電極6034上に電界発光層6035、第2の電極6036が順に積層されている。 FIG. 11A is a cross-sectional view of a pixel in the case where the TFT 6031 is n-type and light emitted from the light-emitting element 6033 is extracted from the first electrode 6034 side. In FIG. 11A, the first electrode 6034 of the light-emitting element 6033 and the TFT 6031 are electrically connected. Further, an electroluminescent layer 6035 and a second electrode 6036 are sequentially stacked over the first electrode 6034.

第1の電極6034は、光を透過する材料または光を透過する程度の膜厚で形成し、なおかつ仕事関数の小さい金属、合金、電気伝導性化合物、およびこれらの混合物などで形成することができる。具体的には、LiやCs等のアルカリ金属、およびMg、Ca、Sr等のアルカリ土類金属、これらを含む合金(Mg:Ag、Al:Li、Mg:Inなど)、およびこれらの化合物(フッ化カルシウム、窒化カルシウム)の他、YbやEr等の希土類金属を用いることができる。また電子注入層を設ける場合、Alなどの他の導電層を用いることも可能である。そして第1の電極6034を、光が透過する程度の膜厚(好ましくは、5nm〜30nm程度)で形成する。さらに、光が透過する程度の膜厚を有する上記導電層の上または下に接するように、透光性酸化物導電材料を用いて透光性を有する導電層を形成し、第1の電極6034のシート抵抗を抑えるようにしても良い。なお、酸化インジウムスズ(ITO)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化インジウム亜鉛(IZO)、ガリウムを添加した酸化亜鉛(GZO)などその他の透光性酸化物導電材料を用いた導電層だけを用いることも可能である。またITO及び酸化珪素を含む酸化インジウムスズ(ITSO)や、酸化珪素を含んだ酸化インジウムに、さらに2〜20%の酸化亜鉛(ZnO)を混合したものを用いても良い。透光性酸化物導電材料を用いる場合、電界発光層6035に電子注入層を設けるのが望ましい。 The first electrode 6034 can be formed of a light-transmitting material or a light-transmitting film thickness, and can be formed of a metal, an alloy, an electrically conductive compound, a mixture thereof, or the like with a low work function. . Specifically, alkali metals such as Li and Cs, and alkaline earth metals such as Mg, Ca, and Sr, alloys containing these (Mg: Ag, Al: Li, Mg: In, etc.), and compounds thereof ( In addition to calcium fluoride and calcium nitride, rare earth metals such as Yb and Er can be used. When an electron injection layer is provided, other conductive layers such as Al can be used. Then, the first electrode 6034 is formed with a thickness enough to transmit light (preferably, about 5 nm to 30 nm). Further, a light-transmitting conductive layer is formed using a light-transmitting oxide conductive material so as to be in contact with or under the conductive layer having a thickness enough to transmit light, and the first electrode 6034 is formed. The sheet resistance may be suppressed. Note that only conductive layers using other light-transmitting oxide conductive materials such as indium tin oxide (ITO), zinc oxide (ZnO), indium zinc oxide (IZO), and zinc oxide added with gallium (GZO) should be used. Is also possible. Further, indium tin oxide containing ITO and silicon oxide (ITSO) or indium oxide containing silicon oxide mixed with 2 to 20% zinc oxide (ZnO) may be used. In the case of using a light-transmitting oxide conductive material, it is preferable to provide an electron injection layer in the electroluminescent layer 6035.

また第2の電極6036は、光を反射もしくは遮蔽する材料で形成し、なおかつ陽極として用いるのに適する材料で形成する。例えば、TiN、ZrN、Ti、W、Ni、Pt、Cr、Ag、Al等の1つまたは複数からなる単層膜の他、窒化チタンとアルミニウムを主成分とする膜との積層、窒化チタン膜とアルミニウムを主成分とする膜と窒化チタン膜との三層構造等を第2の電極6036に用いることができる。 The second electrode 6036 is formed of a material that reflects or shields light and is formed using a material that is suitable for use as an anode. For example, in addition to a single layer film made of one or more of TiN, ZrN, Ti, W, Ni, Pt, Cr, Ag, Al, etc., a laminate of titanium nitride and a film containing aluminum as a main component, a titanium nitride film A three-layer structure of a film containing aluminum and aluminum as main components and a titanium nitride film can be used for the second electrode 6036.

電界発光層6035は、図11(A)の電界発光層6005と同様に形成することができる。ただし、電界発光層6035が発光層の他に、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、電子注入層のいずれかを有している場合、第1の電極6034から、電子注入層、電子輸送層、発光層、正孔輸送層、正孔注入層の順に積層する。 The electroluminescent layer 6035 can be formed in a manner similar to that of the electroluminescent layer 6005 in FIG. However, in the case where the electroluminescent layer 6035 includes any one of a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer, and an electron injection layer in addition to the light emitting layer, the first electrode 6034 to the electron injection layer The electron transport layer, the light emitting layer, the hole transport layer, and the hole injection layer are laminated in this order.

図11(A)に示した画素の場合、発光素子6033から発せられる光を、白抜きの矢印で示すように第1の電極6034側から取り出すことができる。 In the case of the pixel shown in FIG. 11A, light emitted from the light-emitting element 6033 can be extracted from the first electrode 6034 side as shown by a hollow arrow.

次に図11(B)に、TFT6041がn型で、発光素子6043から発せられる光を第2の電極6046側から取り出す場合の、画素の断面図を示す。図11(B)では、発光素子6043の第1の電極6044と、TFT6041が電気的に接続されている。また第1の電極6044上に電界発光層6045、第2の電極6046が順に積層されている。 Next, FIG. 11B is a cross-sectional view of a pixel in the case where the TFT 6041 is an n-type and light emitted from the light-emitting element 6043 is extracted from the second electrode 6046 side. In FIG. 11B, the first electrode 6044 of the light-emitting element 6043 and the TFT 6041 are electrically connected. Further, an electroluminescent layer 6045 and a second electrode 6046 are sequentially stacked over the first electrode 6044.

第1の電極6044は、光を反射もしくは遮蔽する材料で形成し、なおかつ仕事関数の小さい金属、合金、電気伝導性化合物、およびこれらの混合物などで形成することができる。具体的には、LiやCs等のアルカリ金属、およびMg、Ca、Sr等のアルカリ土類金属、これらを含む合金(Mg:Ag、Al:Li、Mg:Inなど)、およびこれらの化合物(フッ化カルシウム、窒化カルシウム)の他、YbやEr等の希土類金属を用いることができる。また電子注入層を設ける場合、Alなどの他の導電層を用いることも可能である。 The first electrode 6044 can be formed using a material that reflects or shields light, and can be formed using a metal, an alloy, an electrically conductive compound, a mixture thereof, or the like with a low work function. Specifically, alkali metals such as Li and Cs, and alkaline earth metals such as Mg, Ca, and Sr, alloys containing these (Mg: Ag, Al: Li, Mg: In, etc.), and compounds thereof ( In addition to calcium fluoride and calcium nitride, rare earth metals such as Yb and Er can be used. When an electron injection layer is provided, other conductive layers such as Al can be used.

また第2の電極6046は、光を透過する材料または光を透過する程度の膜厚で形成し、なおかつ陽極として用いるのに適する材料で形成する。例えば、酸化インジウムスズ(ITO)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化インジウム亜鉛(IZO)、ガリウムを添加した酸化亜鉛(GZO)などその他の透光性酸化物導電材料を第2の電極6046に用いることが可能である。またITO及び酸化珪素を含む酸化インジウムスズ(ITSO)や、酸化珪素を含んだ酸化インジウムに、さらに2〜20%の酸化亜鉛(ZnO)を混合したものを第2の電極6046に用いても良い。また上記透光性酸化物導電材料の他に、例えばTiN、ZrN、Ti、W、Ni、Pt、Cr、Ag、Al等の1つまたは複数からなる単層膜の他、窒化チタンとアルミニウムを主成分とする膜との積層、窒化チタン膜とアルミニウムを主成分とする膜と窒化チタン膜との三層構造等を第2の電極6046に用いることもできる。ただし透光性酸化物導電材料以外の材料を用いる場合、光が透過する程度の膜厚(好ましくは、5nm〜30nm程度)で第2の電極6046を形成する。 The second electrode 6046 is formed using a material that transmits light or a thickness that transmits light, and a material that is suitable for use as an anode. For example, another light-transmitting oxide conductive material such as indium tin oxide (ITO), zinc oxide (ZnO), indium zinc oxide (IZO), or zinc oxide added with gallium (GZO) is used for the second electrode 6046. Is possible. Alternatively, indium tin oxide containing ITO and silicon oxide (ITSO), or indium oxide containing silicon oxide mixed with 2 to 20% zinc oxide (ZnO) may be used for the second electrode 6046. . In addition to the light-transmitting oxide conductive material, for example, a single layer film made of one or more of TiN, ZrN, Ti, W, Ni, Pt, Cr, Ag, Al, etc., titanium nitride and aluminum are used. The second electrode 6046 can be formed using a stack of a main component film, a three-layer structure including a titanium nitride film, an aluminum main component film, and a titanium nitride film. Note that in the case where a material other than the light-transmitting oxide conductive material is used, the second electrode 6046 is formed with a thickness enough to transmit light (preferably, about 5 nm to 30 nm).

電界発光層6045は、図11(A)の電界発光層6035と同様に形成することができる。 The electroluminescent layer 6045 can be formed in a manner similar to that of the electroluminescent layer 6035 in FIG.

図11(B)に示した画素の場合、発光素子6043から発せられる光を、白抜きの矢印で示すように第2の電極6046側から取り出すことができる。 In the case of the pixel shown in FIG. 11B, light emitted from the light-emitting element 6043 can be extracted from the second electrode 6046 side as shown by a hollow arrow.

次に図11(C)に、TFT6051がn型で、発光素子6053から発せられる光を第1の電極6054側及び第2の電極6056側から取り出す場合の、画素の断面図を示す。図11(C)では、発光素子6053の第1の電極6054と、TFT6051が電気的に接続されている。また第1の電極6054上に電界発光層6055、第2の電極6056が順に積層されている。 Next, FIG. 11C is a cross-sectional view of a pixel in the case where the TFT 6051 is an n-type and light emitted from the light-emitting element 6053 is extracted from the first electrode 6054 side and the second electrode 6056 side. In FIG. 11C, the first electrode 6054 of the light-emitting element 6053 and the TFT 6051 are electrically connected. Further, an electroluminescent layer 6055 and a second electrode 6056 are stacked over the first electrode 6054 in this order.

第1の電極6054は、図11(A)の第1の電極6034と同様に形成することができる。また第2の電極6056は、図11(B)の第2の電極6046と同様に形成することができる。電界発光層6055は、図11(A)の電界発光層6035と同様に形成することができる。 The first electrode 6054 can be formed in a manner similar to that of the first electrode 6034 in FIG. The second electrode 6056 can be formed in a manner similar to that of the second electrode 6046 in FIG. The electroluminescent layer 6055 can be formed in a manner similar to that of the electroluminescent layer 6035 in FIG.

図11(C)に示した画素の場合、発光素子6053から発せられる光を、白抜きの矢印で示すように第1の電極6054側及び第2の電極6056側から取り出すことができる。 In the case of the pixel shown in FIG. 11C, light emitted from the light-emitting element 6053 can be extracted from the first electrode 6054 side and the second electrode 6056 side as indicated by white arrows.

本実施の形態は、上記の実施の形態と自由に組み合わせることができる。 This embodiment mode can be freely combined with the above embodiment modes.

(実施の形態7)
本発明のアクティブ型表示装置を備えた電子機器として、テレビジョン装置(テレビ、又はテレビジョン受信機ともよぶ)、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、携帯電話装置(携帯電話機、携帯電話ともよぶ)、PDA等の携帯情報端末、携帯型ゲーム機、コンピュータ用のモニター、コンピュータ、カーオーディオ等の音響再生装置、家庭用ゲーム機等の記録媒体を備えた画像再生装置等が挙げられる。その具体例について、図13を参照して説明する。
(Embodiment 7)
As an electronic device including the active display device of the present invention, a television device (also called a television or a television receiver), a digital camera, a digital video camera, a mobile phone device (also called a mobile phone or a mobile phone), a PDA Such as portable information terminals, portable game machines, computer monitors, computers, sound reproduction apparatuses such as car audio, and image reproduction apparatuses equipped with recording media such as home game machines. A specific example thereof will be described with reference to FIG.

図13(A)に示す携帯情報端末機器は、本体9201、表示部9202等を含んでいる。表示部9202は、本発明のアクティブ型表示装置を適用することができる。その結果、擬似輪郭の発生を低減した携帯情報端末機器を提供することができる。 A portable information terminal device illustrated in FIG. 13A includes a main body 9201, a display portion 9202, and the like. The active display device of the present invention can be applied to the display portion 9202. As a result, it is possible to provide a portable information terminal device that reduces the occurrence of pseudo contours.

図13(B)に示すデジタルビデオカメラは、表示部9701、表示部9702等を含んでいる。表示部9701は本発明のアクティブ型表示装置を適用することができる。その結果、擬似輪郭の発生を低減したデジタルビデオカメラを提供することができる。 A digital video camera shown in FIG. 13B includes a display portion 9701, a display portion 9702, and the like. The active display device of the present invention can be applied to the display portion 9701. As a result, it is possible to provide a digital video camera that reduces the occurrence of pseudo contours.

図13(C)に示す携帯電話機は、本体9101、表示部9102等を含んでいる。表示部9102は、本発明のアクティブ型表示装置を適用することができる。その結果、擬似輪郭の発生を低減した携帯電話機を提供することができる。 A cellular phone shown in FIG. 13C includes a main body 9101, a display portion 9102, and the like. The active display device of the present invention can be applied to the display portion 9102. As a result, it is possible to provide a mobile phone with reduced generation of pseudo contours.

図13(D)に示す携帯型のテレビジョン装置は、本体9301、表示部9302等を含んでいる。表示部9302は、本発明のアクティブ型表示装置を適用することができる。その結果、擬似輪郭の発生を低減した携帯型のテレビジョン装置を提供することができる。またテレビジョン装置としては、携帯電話機などの携帯端末に搭載する小型のものから、持ち運びをすることができる中型のもの、また、大型のもの(例えば40インチ以上)まで、幅広いものに、本発明のアクティブ型表示装置を適用することができる。 A portable television device illustrated in FIG. 13D includes a main body 9301, a display portion 9302, and the like. The active display device of the present invention can be applied to the display portion 9302. As a result, it is possible to provide a portable television device that reduces the occurrence of pseudo contours. In addition, the present invention can be applied to a wide variety of television devices, from a small one mounted on a portable terminal such as a cellular phone to a medium-sized one that can be carried and a large one (for example, 40 inches or more). The active display device can be applied.

図13(E)に示す携帯型のコンピュータは、本体9401、表示部9402等を含んでいる。表示部9402は、本発明のアクティブ型表示装置を適用することができる。その結果、擬似輪郭の発生を低減した携帯型のコンピュータを提供することができる。 A portable computer illustrated in FIG. 13E includes a main body 9401, a display portion 9402, and the like. The active display device of the present invention can be applied to the display portion 9402. As a result, a portable computer with reduced generation of pseudo contours can be provided.

図13(F)に示すテレビジョン装置は、本体9501、表示部9502等を含んでいる。表示部9502は、本発明のアクティブ型表示装置を適用することができる。その結果、擬似輪郭の発生を低減したテレビジョン装置を提供することができる。 A television device illustrated in FIG. 13F includes a main body 9501, a display portion 9502, and the like. The active display device of the present invention can be applied to the display portion 9502. As a result, it is possible to provide a television device that reduces the occurrence of pseudo contours.

このように、本発明のアクティブ型表示装置により、擬似輪郭の発生を低減した電子機器を提供することができる。 As described above, the active display device of the present invention can provide an electronic device in which the generation of pseudo contour is reduced.

本発明の駆動方法の概念を示した図であるIt is the figure which showed the concept of the drive method of this invention. 本発明の駆動方法を用いたタイミングチャートである4 is a timing chart using the driving method of the present invention. 本発明の走査線駆動回路を示した図であるIt is the figure which showed the scanning line drive circuit of this invention 本発明の信号線駆動回路を示した図であるIt is the figure which showed the signal line drive circuit of this invention 本発明の駆動方法の概念を示した図であるIt is the figure which showed the concept of the drive method of this invention. 本発明の駆動方法を用いたタイミングチャートである4 is a timing chart using the driving method of the present invention. 本発明の走査線駆動回路を示した図であるIt is the figure which showed the scanning line drive circuit of this invention 本発明の信号線駆動回路を示した図であるIt is the figure which showed the signal line drive circuit of this invention 本発明のパネル構成を示した断面図であるIt is sectional drawing which showed the panel structure of this invention 本発明の画素部に設けられた発光素子を示した断面図であるIt is sectional drawing which showed the light emitting element provided in the pixel part of this invention 本発明の画素部に設けられた発光素子を示した断面図であるIt is sectional drawing which showed the light emitting element provided in the pixel part of this invention 本発明の画素部に適用できる画素回路を示した図であるIt is the figure which showed the pixel circuit applicable to the pixel part of this invention 本発明の電子機器を示した図であるIt is the figure which showed the electronic device of this invention

Claims (10)

マトリクス状に設けられた複数の画素を有し、
前記画素へ映像信号が入力される複数のフレームを有し、
前記フレームのうち奇数フレームでは、前記画素のうち奇数行並びに奇数列の画素、及び偶数行並びに偶数列の画素を表示し、
前記フレームのうち偶数フレームでは、前記画素のうち奇数行並びに偶数列の画素、及び偶数行並びに奇数列の画素を表示する
ことを特徴とするアクティブ型表示装置の駆動方法。
Having a plurality of pixels arranged in a matrix;
A plurality of frames in which video signals are input to the pixels;
In the odd frame of the frames, the odd rows and odd columns of pixels and the even rows and even columns of pixels are displayed.
A driving method of an active display device, wherein an odd-numbered row and even-numbered column pixel and an even-numbered row and odd-numbered column pixel among the pixels are displayed in an even-numbered frame.
マトリクス状に設けられた複数の画素を有し、
前記画素へ映像信号が入力される複数のフレームを有し、
前記フレームのうち奇数フレームでは、前記画素のうち奇数行並びに奇数列の画素、及び偶数行並びに偶数列の画素を表示し、かつ前記画素に入力される反転用信号がHighのとき、奇数列の画素に、映像信号が入力され、
前記フレームのうち偶数フレームでは、前記画素のうち奇数行並びに偶数列の画素、及び偶数行並びに奇数列の画素を表示し、かつ前記画素に入力される反転用信号がHighのとき、偶数列の画素に、映像信号が入力される
ことを特徴とするアクティブ型表示装置の駆動方法。
Having a plurality of pixels arranged in a matrix;
A plurality of frames in which video signals are input to the pixels;
In the odd-numbered frame, the odd-numbered and odd-numbered columns of pixels, and the even-numbered and even-numbered columns of pixels are displayed, and when the inversion signal input to the pixels is High, A video signal is input to the pixel,
In the even frame of the frames, the odd-numbered and even-numbered columns of pixels and the even-numbered and odd-numbered columns of pixels are displayed, and when the inversion signal input to the pixels is High, A driving method of an active display device, wherein a video signal is input to a pixel.
請求項1において、
前記奇数フレームにおいて前記画素に入力される反転用信号がHighのとき、前記偶数フレームにおいて前記画素に入力される反転用信号はLowとなることを特徴とするアクティブ型表示装置の駆動方法。
In claim 1,
The driving method of an active display device, wherein when the inversion signal input to the pixel in the odd frame is High, the inversion signal input to the pixel in the even frame is Low.
複数の信号線と、複数の走査線との交点に複数の画素を有し、
前記信号線に接続された半導体素子を制御する回路は、シフトレジスタ、ラッチ回路を有し、
前記シフトレジスタは、シフトレジスタユニットを有し、
前記ラッチ回路は、ラッチユニット、及び前記ラッチユニットの選択を制御する反転用信号が入力される配線を有し、
隣接する前記ラッチユニットは、隣接する前記シフトレジスタユニット間に接続され、
前記シフトレジスタユニットからの信号と、前記反転用信号により、前記隣接するラッチユニットのいずれかが選択される
ことを特徴とするアクティブ型表示装置。
Having a plurality of pixels at intersections of a plurality of signal lines and a plurality of scanning lines;
A circuit for controlling a semiconductor element connected to the signal line includes a shift register and a latch circuit.
The shift register includes a shift register unit;
The latch circuit includes a latch unit and a wiring to which an inversion signal for controlling selection of the latch unit is input,
Adjacent latch units are connected between adjacent shift register units;
One of the adjacent latch units is selected by a signal from the shift register unit and the inversion signal.
複数の信号線と、複数の走査線との交点に複数の画素を有し、
前記信号線に接続された半導体素子を制御する回路は、シフトレジスタ、ラッチ回路を有し、
前記シフトレジスタは、シフトレジスタユニットを有し、
前記ラッチ回路は、ラッチユニット、前記ラッチユニットの選択を制御する反転用信号が入力される配線、及び前記反転用信号により切り替わるスイッチング手段を有し、
隣接する前記ラッチユニットは、隣接する前記シフトレジスタユニット間に接続され、
前記スイッチング手段により、前記隣接するラッチユニットのいずれかが選択される
ことを特徴とするアクティブ型表示装置。
Having a plurality of pixels at intersections of a plurality of signal lines and a plurality of scanning lines;
A circuit for controlling a semiconductor element connected to the signal line includes a shift register and a latch circuit.
The shift register includes a shift register unit;
The latch circuit includes a latch unit, a wiring to which an inversion signal for controlling selection of the latch unit is input, and switching means that is switched by the inversion signal.
Adjacent latch units are connected between adjacent shift register units;
One of the adjacent latch units is selected by the switching means, and the active display device.
複数の信号線と、複数の走査線との交点に複数の画素を有し、
前記走査線に接続された半導体素子を制御する回路は、選択用信号が入力される配線、AND回路、シフトレジスタ、及びレベルシフタを有し、
前記AND回路は、前記シフトレジスタからの信号と、前記選択用信号とが入力され、前記レベルシフタに信号を出力するように接続されることを特徴とするアクティブ型表示装置。
Having a plurality of pixels at intersections of a plurality of signal lines and a plurality of scanning lines;
The circuit for controlling the semiconductor element connected to the scanning line includes a wiring for inputting a selection signal, an AND circuit, a shift register, and a level shifter.
2. The active display device according to claim 1, wherein the AND circuit is connected so that a signal from the shift register and the selection signal are input and a signal is output to the level shifter.
複数の信号線と、複数の走査線との交点に複数の画素を有し、
前記走査線に接続された半導体素子を制御する回路は、選択用信号が入力される配線、AND回路、シフトレジスタ、及びレベルシフタを有し、
前記AND回路は、前記シフトレジスタからの信号と、前記選択用信号とが入力され、前記レベルシフタに信号を出力するように接続され、
前記走査線を制御する回路により選択された画素に、映像信号が入力されるように、前記信号線と画素とが接続されることを特徴とするアクティブ型表示装置。
Having a plurality of pixels at intersections of a plurality of signal lines and a plurality of scanning lines;
A circuit for controlling the semiconductor element connected to the scanning line includes a wiring to which a selection signal is input, an AND circuit, a shift register, and a level shifter.
The AND circuit is connected so that a signal from the shift register and the selection signal are input and a signal is output to the level shifter,
An active display device, wherein the signal line and the pixel are connected so that a video signal is input to a pixel selected by a circuit that controls the scanning line.
複数の信号線と、複数の走査線との交点に複数の画素を有し、
前記信号線に接続された半導体素子を制御する回路は、シフトレジスタ、ラッチ回路を有し、
前記シフトレジスタは、シフトレジスタユニットを有し、
前記ラッチ回路は、ラッチユニット、及び前記ラッチユニットの選択を制御する反転用信号が入力される配線を有し、
前記ラッチユニットは、隣接する前記シフトレジスタユニット間に接続される
ことを特徴とするアクティブ型表示装置。
Having a plurality of pixels at intersections of a plurality of signal lines and a plurality of scanning lines;
A circuit for controlling a semiconductor element connected to the signal line includes a shift register and a latch circuit.
The shift register includes a shift register unit;
The latch circuit includes a latch unit and a wiring to which an inversion signal for controlling selection of the latch unit is input,
The active display device, wherein the latch unit is connected between adjacent shift register units.
複数の信号線と、複数の走査線との交点に複数の画素を有し、
前記信号線に接続された半導体素子を制御する回路は、シフトレジスタ、ラッチ回路を有し、
前記シフトレジスタは、シフトレジスタユニットを有し、
前記ラッチ回路は、ラッチユニット、前記ラッチユニットの選択を制御する反転用信号が入力される配線、及び前記反転用信号により切り替わるスイッチング手段を有し、
前記ラッチユニットは、隣接する前記シフトレジスタユニット間に接続される
ことを特徴とするアクティブ型表示装置。
Having a plurality of pixels at intersections of a plurality of signal lines and a plurality of scanning lines;
A circuit for controlling a semiconductor element connected to the signal line includes a shift register and a latch circuit.
The shift register includes a shift register unit;
The latch circuit includes a latch unit, a wiring to which an inversion signal for controlling selection of the latch unit is input, and switching means that is switched by the inversion signal.
The active display device, wherein the latch unit is connected between adjacent shift register units.
請求項5又は9において、
前記スイッチング手段は、第1の極性を有する半導体素子及び第2の極性を有する半導体素子を用いることを特徴とするアクティブ型表示装置。


In claim 5 or 9,
The active display device, wherein the switching means uses a semiconductor element having a first polarity and a semiconductor element having a second polarity.


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